JP2011150828A - Organic el device and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL device having a structure to enhance sealability without enlarging a peripheral region. <P>SOLUTION: The organic EL device includes a first substrate 110, a plurality of organic EL elements 120 arranged on the first substrate, a sealing film to cover the plurality of the organic EL elements, a second substrate arranged opposed to the first substrate with the plurality of the organic EL elements interposed, a sealing material 300 placed so as to surround the plurality of the organic EL elements in a space between the first substrate and the second substrate in a region on the first substrate where the plurality of the organic EL elements are not arranged, and a barrier rib member 220 placed in a space between the sealing film and the second substrate so as to surround at least effective organic EL elements 120e having a light emitting function out of the plurality of organic EL elements, in a region on the first substrate where the organic EL elements are arranged. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、複数の有機電界発光素子(以下、「有機EL素子」という。)を備える有機EL装置およびその製造方法に関し、特に、有機EL装置の封止構造に関する。   The present invention relates to an organic EL device including a plurality of organic electroluminescent elements (hereinafter referred to as “organic EL elements”) and a manufacturing method thereof, and particularly relates to a sealing structure of an organic EL device.

近年、研究・開発が進んでいる有機EL素子は、有機材料の電界発光現象を利用した発光素子である。同素子は、陽極及び陰極の電極対の間に、有機発光材料からなる発光層を含む有機発光層を挟んだ構造を有している。
このような有機EL素子を複数備える有機EL装置の一般的な構成について説明すると、同装置は、複数の有機EL素子を一方の面に備える第1の基板と、この第1の基板の前記一方の面に対向配置された第2の基板とを含んで構成される。
In recent years, organic EL elements that have been researched and developed are light-emitting elements that utilize the electroluminescence phenomenon of organic materials. The element has a structure in which an organic light emitting layer including a light emitting layer made of an organic light emitting material is sandwiched between an anode and a cathode electrode pair.
The general configuration of an organic EL device including a plurality of such organic EL elements will be described. The device includes a first substrate having a plurality of organic EL elements on one surface, and the one of the first substrates. And a second substrate disposed opposite to the surface.

有機EL素子内の有機発光層は、水分や、酸素、オゾン等を含むガスに触れると変質し、非発光部(ダークスポット)の発生や輝度低下を招くことがある。そのため、水分やガスが有機発光層に触れるのを防止する目的で、第1の基板に形成された複数の有機EL素子上には、封止膜が設けられている(例えば、特許文献1参照)。
さらに、周辺環境の外部雰囲気に含まれる水分やガスが有機EL装置内部に侵入するのを防止する目的で、有機EL装置では、複数の有機EL素子が形成されていない周辺領域に、第1の基板と第2の基板とを接合するシール材を配することで、両基板間を内部封止している(例えば、特許文献2参照)。
The organic light emitting layer in the organic EL element is altered when it comes into contact with a gas containing moisture, oxygen, ozone or the like, which may cause generation of a non-light emitting portion (dark spot) or luminance reduction. Therefore, a sealing film is provided on the plurality of organic EL elements formed on the first substrate for the purpose of preventing moisture and gas from touching the organic light emitting layer (see, for example, Patent Document 1). ).
Further, in order to prevent moisture and gas contained in the external atmosphere of the surrounding environment from entering the inside of the organic EL device, the organic EL device has a first region in a peripheral region where a plurality of organic EL elements are not formed. By providing a sealing material that joins the substrate and the second substrate, the space between the substrates is internally sealed (see, for example, Patent Document 2).

特開2000−223264号公報JP 2000-223264 A 特開2007−103317号公報JP 2007-103317 A

しかしながら、複数の有機EL素子上に形成された封止膜は、これらを完全に覆っているわけではなく、封止膜には、製造技術上、封止欠陥が生じる場合がある。この封止欠陥部分が水分やガスの侵入経路となり得る。
また、有機EL装置では、シール材を用いて両基板間を内部封止しているものの、このシール材は一般的には樹脂材料なので、外部からの水分やガスの浸入を許してしまう。
However, the sealing film formed on the plurality of organic EL elements does not completely cover them, and the sealing film may have a sealing defect in terms of manufacturing technology. This sealing defect portion can be an intrusion route for moisture and gas.
In addition, in the organic EL device, a sealing material is used to internally seal between both substrates. However, since this sealing material is generally a resin material, moisture and gas can enter from the outside.

したがって、周辺環境の外部雰囲気に含まれる水分やガスが有機EL装置内部に侵入し、さらに封止膜の封止欠陥部分を侵入経路として、有機発光層に入り込んでしまう恐れがある。
有機EL装置の封止性をさらに高める方法として、シール材を二重にすることが考えられるが、一般的にシール材の幅はミリ単位で形成されており、有機EL素子がミクロン単位で形成されるのに比べ、著しく大きい。そのため、できる限りシール材を用いずに封止性を高めることが求められている。
Therefore, there is a possibility that moisture and gas contained in the external atmosphere of the surrounding environment enter the organic EL device and further enter the organic light emitting layer using the sealing defect portion of the sealing film as an intrusion route.
As a method for further enhancing the sealing performance of the organic EL device, it is conceivable to double the sealing material, but generally the width of the sealing material is formed in millimeters, and the organic EL element is formed in microns. It is significantly larger than what is done. Therefore, it is required to improve the sealing performance without using a sealing material as much as possible.

本発明は、周辺領域を拡大することなく封止性を高める構造を有する有機EL装置を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide an organic EL device having a structure that enhances sealing performance without enlarging a peripheral region.

上記課題を解決するために、本発明の一態様に係る有機EL装置は、第1の基板と、前記第1の基板上に設けられた複数の有機EL素子と、前記複数の有機EL素子を被覆する封止膜と、前記第1の基板と前記複数の有機EL素子を介して対向配置された第2の基板と、前記第1の基板上における前記複数の有機EL素子が設けられていない領域において、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に前記複数の有機EL素子を取り囲むように設けられたシール材と、前記第1の基板上における前記複数の有機EL素子が設けられた領域において、前記封止膜と前記第2の基板との間隙に、前記複数の有機EL素子のうち発光機能を有する有効有機EL素子を少なくとも取り囲むように設けられた隔壁部材とを備える構成とした。   In order to solve the above problems, an organic EL device according to one embodiment of the present invention includes a first substrate, a plurality of organic EL elements provided over the first substrate, and the plurality of organic EL elements. The sealing film to be coated, the first substrate, the second substrate disposed opposite to the plurality of organic EL elements, and the plurality of organic EL elements on the first substrate are not provided. In the region, a sealing material provided to surround the plurality of organic EL elements in a gap between the first substrate and the second substrate, and the plurality of organic EL elements on the first substrate are provided. And a partition member provided in a space between the sealing film and the second substrate so as to surround at least an effective organic EL element having a light emitting function among the plurality of organic EL elements. It was.

本発明の一態様に係る有機EL装置では、前記封止膜と前記第2の基板との間隙に、前記複数の有機EL素子のうち発光機能を有する有効有機EL素子を少なくとも取り囲むように隔壁部材が形成されている。このため、有機EL装置外部からシール材を通り抜けて、有機EL装置内部に水分やガスが侵入したとしても、これらは隔壁部材により遮られることになる。よって、隔壁部材により取り囲まれている有効有機EL素子に関しては、外部から侵入した水分やガスによる劣化を遅らせることができ、有機EL素子の長寿命化が期待できる。   In the organic EL device according to one aspect of the present invention, the partition member is disposed so as to surround at least the effective organic EL element having a light emitting function among the plurality of organic EL elements in the gap between the sealing film and the second substrate. Is formed. For this reason, even if moisture or gas penetrates the inside of the organic EL device through the sealing material from the outside of the organic EL device, these are blocked by the partition member. Therefore, with respect to the effective organic EL element surrounded by the partition member, deterioration due to moisture or gas entering from the outside can be delayed, and a long life of the organic EL element can be expected.

また、この隔壁部材は、前記第1の基板上における前記複数の有機EL素子が設けられた領域に設けられるため、周辺領域を拡大する必要はない。
このように、本発明の一態様では、周辺領域を拡大することなく、封止性を高めることができる。
Further, since the partition member is provided in the region where the plurality of organic EL elements are provided on the first substrate, it is not necessary to enlarge the peripheral region.
As described above, according to one embodiment of the present invention, the sealing performance can be improved without enlarging the peripheral region.

実施の形態1の有機EL装置1の構成を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing a configuration of an organic EL device 1 according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態1の有機EL装置1の構成を示す部分断面図である。1 is a partial cross-sectional view illustrating a configuration of an organic EL device 1 according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態1の素子形成基板100の製造工程の一例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an example of a manufacturing process of the element formation substrate 100 of the first embodiment. 実施の形態1の封止基板200の製造工程の一例を示す図である。6 is a diagram illustrating an example of a manufacturing process of the sealing substrate 200 according to Embodiment 1. FIG. 変形例1−1の有機EL装置1の構成を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing the composition of organic EL device 1 of modification 1-1. 変形例1−1の封止基板200の製造工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing process of the sealing substrate 200 of the modification 1-1. 変形例1−2の有機EL装置1の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the organic electroluminescent apparatus 1 of the modification 1-2. 変形例1−3の有機EL装置1の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the organic electroluminescent apparatus 1 of the modification 1-3. 実施の形態2の有機EL装置1の構成を示す断面図である。5 is a cross-sectional view showing a configuration of an organic EL device 1 according to Embodiment 2. FIG. 変形例2−1の有機EL装置1の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the organic EL apparatus 1 of the modification 2-1. 変形例2−2の有機EL装置1の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the organic electroluminescent apparatus 1 of the modification 2-2. 実施の形態3の有機EL装置1の構成を示す部分断面図である。6 is a partial cross-sectional view showing a configuration of an organic EL device 1 according to Embodiment 3. FIG. 変形例3−1の有機EL装置1の構成を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing the composition of organic EL device 1 of modification 3-1. 表示装置1000の外観を示す外観斜視図である。2 is an external perspective view showing an external appearance of a display device 1000. FIG.

[実施の態様]
本発明の一態様である有機EL装置は、第1の基板と、前記第1の基板上に設けられた複数の有機EL素子と、前記複数の有機EL素子を被覆する封止膜と、前記第1の基板と前記複数の有機EL素子を介して対向配置された第2の基板と、前記第1の基板上における前記複数の有機EL素子が設けられていない領域において、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に前記複数の有機EL素子を取り囲むように設けられたシール材と、前記第1の基板上における前記複数の有機EL素子が設けられた領域において、前記封止膜と前記第2の基板との間隙に、前記複数の有機EL素子のうち発光機能を有する有効有機EL素子を少なくとも取り囲むように設けられた隔壁部材とを備える構成とした。
[Aspect]
An organic EL device according to one embodiment of the present invention includes a first substrate, a plurality of organic EL elements provided over the first substrate, a sealing film that covers the plurality of organic EL elements, In a region where the plurality of organic EL elements are not provided on the first substrate and the second substrate disposed opposite to the first substrate via the plurality of organic EL elements, the first substrate And a sealing material provided so as to surround the plurality of organic EL elements in a gap between the first substrate and the second substrate, and in the region where the plurality of organic EL elements are provided on the first substrate, the sealing In the gap between the film and the second substrate, a partition member provided so as to surround at least an effective organic EL element having a light emitting function among the plurality of organic EL elements is provided.

ここで、「前記複数の有機EL素子のうち発光機能を有する有効有機EL素子を少なくとも取り囲む」とは、前記複数の有機EL素子の全てを取り囲む場合や複数の有効有機EL素子の一部または全部を取り囲む場合を含む。
本発明の一態様に係る有機EL装置では、前記封止膜と前記第2の基板との間隙に、前記複数の有機EL素子のうち発光機能を有する有効有機EL素子を少なくとも取り囲むように隔壁部材が形成されている。このため、有機EL装置外部からシール材を通り抜けて、有機EL装置内部に水分やガスが侵入したとしても、これらは隔壁部材により遮られることになる。よって、隔壁部材により取り囲まれている有効有機EL素子に関しては、外部から侵入した水分やガスによる劣化を遅らせることができ、有機EL素子の長寿命化が期待できる。
Here, “at least surrounding the effective organic EL element having a light emitting function among the plurality of organic EL elements” means that it surrounds all of the plurality of organic EL elements or a part or all of the plurality of effective organic EL elements. Including the surrounding case.
In the organic EL device according to one aspect of the present invention, the partition member is disposed so as to surround at least the effective organic EL element having a light emitting function among the plurality of organic EL elements in the gap between the sealing film and the second substrate. Is formed. For this reason, even if moisture or gas penetrates the inside of the organic EL device through the sealing material from the outside of the organic EL device, these are blocked by the partition member. Therefore, with respect to the effective organic EL element surrounded by the partition member, deterioration due to moisture or gas entering from the outside can be delayed, and a long life of the organic EL element can be expected.

また、この隔壁部材は、前記第1の基板上における前記複数の有機EL素子が設けられた領域に設けられるため、周辺領域を拡大する必要はない。
ここで、本発明の別の態様として、前記隔壁部材の外側に位置する各有機EL素子が、ダミー有機EL素子であり、前記ダミー有機EL素子は、発光機能を有しない有機EL素子であるとしてもよい。
Further, since the partition member is provided in the region where the plurality of organic EL elements are provided on the first substrate, it is not necessary to enlarge the peripheral region.
Here, as another aspect of the present invention, each organic EL element located outside the partition member is a dummy organic EL element, and the dummy organic EL element is an organic EL element having no light emitting function. Also good.

本態様の有機EL装置では、前記隔壁部材の外側に位置する各有機EL素子が、ダミー有機EL素子であるので、たとえ周辺環境から水分やガスが有機EL装置内部に侵入してきたとしても、劣化が生じうる有機EL素子は、ダミー有機EL素子である。したがって、周辺環境から水分やガスが有機EL装置内部に侵入してきた場合に、有効有機EL素子が真っ先に劣化する可能性を低減することができる。   In the organic EL device of this aspect, since each organic EL element located outside the partition member is a dummy organic EL element, even if moisture or gas enters the inside of the organic EL device from the surrounding environment, the organic EL device deteriorates. The organic EL element that can generate is a dummy organic EL element. Therefore, when moisture or gas enters the organic EL device from the surrounding environment, it is possible to reduce the possibility that the effective organic EL element is first deteriorated.

ここで、本発明の別の態様として、前記ダミー有機EL素子は、前記有効有機EL素子と同一構成であるとしてもよい。
本態様の有機EL装置では、前記有効有機EL素子及び前記ダミー有機EL素子を含む全ての有機EL素子を一括で形成することができるので、製造上のメリットがある。
ここで、本発明の別の態様として、前記隔壁部材はさらに、前記ダミー有機EL素子が形成されているダミー領域において、前記ダミー有機EL素子毎に区画するように形成されているとしてもよい。
Here, as another aspect of the present invention, the dummy organic EL element may have the same configuration as the effective organic EL element.
In the organic EL device of this aspect, since all the organic EL elements including the effective organic EL element and the dummy organic EL element can be formed at once, there is a merit in manufacturing.
Here, as another aspect of the present invention, the partition member may be further formed so as to be divided for each dummy organic EL element in a dummy region where the dummy organic EL element is formed.

本態様の有機EL装置では、前記ダミー有機EL素子が形成されているダミー領域において、前記ダミー有機EL素子毎に区画するように隔壁部材がさらに形成されているので、発光には関係のないダミー領域で、段階的に、周辺環境から浸入した水分やガスを減衰させることができる。
ところで、有機EL素子は、有機材料を含んで構成される。したがって、有機EL素子の劣化の原因となる水分等は、有機EL装置の外部からだけでなく、有機EL素子内部からも発生しうる。有機EL素子上には封止膜が存在するので、発生した水分等が他の有機EL素子に与える影響は極めて小さい。ただし、上述したように、封止膜に封止欠陥部分が存在すれば、それを通路として、水分等が他の有機EL素子に拡散しうる。その結果、一つの有機EL素子から発生した水分等が原因で、この有機EL素子に隣接する他の有機EL素子まで劣化する恐れがある。
In the organic EL device according to this aspect, since the partition member is further formed so as to partition for each dummy organic EL element in the dummy region in which the dummy organic EL element is formed, the dummy that is not related to light emission. In the region, it is possible to attenuate the moisture and gas that have entered from the surrounding environment step by step.
By the way, an organic EL element is comprised including an organic material. Accordingly, moisture or the like that causes deterioration of the organic EL element can be generated not only from the outside of the organic EL device but also from the inside of the organic EL element. Since the sealing film is present on the organic EL element, the influence of the generated water or the like on the other organic EL elements is extremely small. However, as described above, if a sealing defect portion exists in the sealing film, moisture or the like can diffuse into other organic EL elements using the sealing defect portion as a passage. As a result, there is a possibility that other organic EL elements adjacent to the organic EL element may be deteriorated due to moisture generated from one organic EL element.

そこで、本発明の別の態様として、前記隔壁部材はさらに、前記複数の有機EL素子を所定数毎に区画するように形成されているとしてもよい。
本態様の有機EL装置では、前記複数の有機EL素子を所定数毎に区画するように隔壁部材がさらに形成されているので、一の区画内の有機EL素子から発生する水分等が他の区画内の有機EL素子に拡散するのを防止することができる。したがって、周辺環境の外部雰囲気に含まれる水分やガスの侵入を防止するのに加え、有機EL素子内部から発生する水分等が拡散するのを防止することができる。
Therefore, as another aspect of the present invention, the partition member may be further formed so as to partition the plurality of organic EL elements every predetermined number.
In the organic EL device of this aspect, since the partition member is further formed so as to partition the plurality of organic EL elements at every predetermined number, moisture generated from the organic EL elements in one partition is separated from the other partitions. It is possible to prevent diffusion into the organic EL element. Therefore, in addition to preventing intrusion of moisture and gas contained in the external atmosphere of the surrounding environment, it is possible to prevent diffusion of moisture generated from the inside of the organic EL element.

ここで、本発明の別の態様として、前記所定数は、1であるとしてもよい。
本態様の有機EL装置では、有機EL素子毎に隔壁部材が設けられているので、当該有機EL素子内部から発生する水分等による素子の劣化を最小限に留めることができる。
したがって、ダークスポットや輝度低下部分が少ない高品質の有機EL装置を提供することができる。
Here, as another aspect of the present invention, the predetermined number may be 1.
In the organic EL device according to this aspect, since the partition member is provided for each organic EL element, the deterioration of the element due to moisture generated from the inside of the organic EL element can be minimized.
Therefore, it is possible to provide a high-quality organic EL device with few dark spots and luminance reduction portions.

ここで、本発明の別の態様として、前記隔壁部材は、土台部材と当該土台部材を被覆する被覆部材とを含み、当該被覆部材が封止性を有する材料からなるとしてもよい。封止性を有する材料からなる被覆部材は、例えば後述する封止層222により実現することができる。
本態様の有機EL装置では、土台部材と当該土台部材を被覆する被覆部材とを含み、当該被覆部材が封止性を有する材料からなるので、封止性能を一層高めることができる。
Here, as another aspect of the present invention, the partition member may include a base member and a covering member that covers the base member, and the covering member may be made of a material having a sealing property. A covering member made of a material having a sealing property can be realized by, for example, a sealing layer 222 described later.
In the organic EL device according to this aspect, the sealing performance can be further enhanced because the organic EL device includes a base member and a covering member that covers the base member, and the covering member is made of a material having a sealing property.

ここで、本発明の別の態様として、前記隔壁部材における、前記封止膜と接する部分の弾性率が、前記封止膜の弾性率より小さいとしてもよい。
本態様の有機EL装置では、前記隔壁部材における、前記封止膜と接する部分の弾性率が、前記封止膜の弾性率より小さいので、この部分が封止膜に接する際に変形し、より密着した形態で前記封止膜と前記隔壁部材とが接することになる。その結果、隔壁部材による封止性が一層向上し、高い封止性を実現することができる。
Here, as another aspect of the present invention, an elastic modulus of a portion of the partition member that contacts the sealing film may be smaller than an elastic modulus of the sealing film.
In the organic EL device according to this aspect, since the elastic modulus of the portion in contact with the sealing film in the partition member is smaller than the elastic modulus of the sealing film, the portion is deformed when contacting the sealing film. The sealing film and the partition member are in contact with each other in a close contact state. As a result, the sealing performance by the partition member is further improved, and high sealing performance can be realized.

ここで、本発明の別の態様として、前記隔壁部材は、積層構造を有しており、前記封止膜と接する層が有機材料からなり、その膜厚が20nm以上で、かつ、100nm以下であり、前記隔壁部材における他の層が有機材料より封止性の高い材料からなり、その膜厚が前記封止膜と接する層の膜厚よりも厚いとしてもよい。
本態様の有機EL装置では、前記隔壁部材において封止性の低い層である、前記封止膜と接する層が、隔壁部材における他の層よりも厚みが薄いので、封止性が低い層の面積を小さくでき、封止性能を高めることができる。
Here, as another aspect of the present invention, the partition member has a laminated structure, and the layer in contact with the sealing film is made of an organic material, and the film thickness is 20 nm or more and 100 nm or less. In addition, the other layer in the partition member may be made of a material having a higher sealing property than the organic material, and the film thickness may be larger than the film thickness of the layer in contact with the sealing film.
In the organic EL device according to this aspect, the layer in contact with the sealing film, which is a layer having a low sealing property in the partition member, is thinner than the other layers in the partition member. The area can be reduced and the sealing performance can be improved.

ここで、本発明の別の態様として、前記第1の基板、前記第2の基板、及び前記シール材により形成される閉空間、並びに前記第1の基板、前記第2の基板、及び前記隔壁部材により形成される閉空間が大気圧よりも低圧であるとしてもよい。
本態様の有機EL装置では、前記閉空間が大気圧よりも低圧であるので、閉空間内の気圧と大気圧との差圧による圧縮力が、隔壁部材と封止膜との接合部分に加えられることになる。そのため、より密着した形態で前記封止膜と前記隔壁部材とが接することになり、より一層封止性を向上させることができる。
Here, as another aspect of the present invention, a closed space formed by the first substrate, the second substrate, and the sealing material, the first substrate, the second substrate, and the partition wall The closed space formed by the member may be lower than the atmospheric pressure.
In the organic EL device of this aspect, since the closed space is lower than the atmospheric pressure, a compressive force due to the pressure difference between the atmospheric pressure and the atmospheric pressure in the closed space is applied to the junction between the partition wall member and the sealing film. Will be. Therefore, the sealing film and the partition member are in contact with each other in a more closely contacted form, and the sealing performance can be further improved.

ここで、本発明の別の態様として、前記第1の基板、前記第2の基板、及び前記シール材により形成される閉空間、並びに前記第1の基板、前記第2の基板、及び前記隔壁部材により形成される閉空間には、不活性ガスが充填されているとしてもよい。
本態様の有機EL装置では、前記閉空間が不活性ガスで充填されているので、有機EL装置外部からの水分やガスの侵入に対しての遮断だけでなく、閉空間に残留している、水分や酸化性ガスの分圧を低減させることができる。そのため、より一層有機EL素子の劣化を抑制できる。
Here, as another aspect of the present invention, a closed space formed by the first substrate, the second substrate, and the sealing material, the first substrate, the second substrate, and the partition wall The closed space formed by the member may be filled with an inert gas.
In the organic EL device of this aspect, since the closed space is filled with an inert gas, the organic EL device remains in the closed space as well as blocking moisture and gas intrusion from the outside of the organic EL device. The partial pressure of moisture and oxidizing gas can be reduced. Therefore, the deterioration of the organic EL element can be further suppressed.

ここで、本発明の別の態様として、前記封止膜が、少なくとも、SiO,SiON,SiN,SiC,SiOC,AlN,Al2O3の何れかからなるとしてもよい。
ここで、本発明の別の態様として、前記隔壁部材が、封止部材と、当該封止部材を被覆し前記封止膜と接する被覆部材とを含み、前記封止部材が、少なくともSiO,SiON,SiN,SiC,SiOC,AlN,Al2O3の何れかからなり、前記被覆部材が、有機材料からなるとしてもよい。封止部材は、例えば後述する封止層222により実現することができ、当該封止部材を被覆し前記封止膜と接する被覆部材は、例えば後述する低弾性層223により実現することができる。
Here, as another aspect of the present invention, the sealing film may be made of at least one of SiO, SiON, SiN, SiC, SiOC, AlN, and Al2O3.
Here, as another aspect of the present invention, the partition member includes a sealing member and a covering member that covers the sealing member and contacts the sealing film, and the sealing member includes at least SiO, SiON , SiN, SiC, SiOC, AlN, Al2O3, and the covering member may be made of an organic material. The sealing member can be realized by, for example, a sealing layer 222 described later, and the covering member that covers the sealing member and is in contact with the sealing film can be realized by, for example, a low elastic layer 223 described later.

ここで、本発明の別の態様として、前記隔壁部材における、前記封止膜と接する部分の材料がポリパラキシリレン樹脂であるとしてもよい。
ここで、本発明の別の態様として、第1の基板上に複数の有機EL素子を形成する第1工程と、前記複数の有機EL素子を被覆する封止膜を形成する第2工程と、第2の基板を前記第1の基板と前記複数の有機EL素子を介して対向配置させた場合に、当該第2の基板上であって、前記第1の基板上における前記複数の有機EL素子が設けられた領域に相当する領域に隔壁部材を形成する第3工程と、前記隔壁部材が形成された第2の基板を前記第1の基板と前記複数の有機EL素子を介して対向配置させる第4工程と前記第1の基板上における前記複数の有機EL素子が設けられていない領域において、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙をシール材により接合する第5工程とを備え、前記隔壁部材が、前記封止膜と前記第2の基板との間隙に配置され、前記複数の有機EL素子のうち発光機能を有する有効有機EL素子を少なくとも取り囲むとしてもよい。
Here, as another aspect of the present invention, the material of the portion in contact with the sealing film in the partition member may be a polyparaxylylene resin.
Here, as another aspect of the present invention, a first step of forming a plurality of organic EL elements on a first substrate, a second step of forming a sealing film covering the plurality of organic EL elements, When the second substrate is disposed opposite to the first substrate via the plurality of organic EL elements, the plurality of organic EL elements on the first substrate is on the second substrate. A third step of forming a partition member in a region corresponding to the region where the partition member is provided, and a second substrate on which the partition member is formed are arranged to face each other with the first substrate interposed between the plurality of organic EL elements. A fourth step and a fifth step of bonding a gap between the first substrate and the second substrate with a sealing material in a region where the plurality of organic EL elements are not provided on the first substrate. The partition member includes the sealing film and the second substrate. Disposed in the gap may be surrounding at least an effective organic EL element having a light emitting function among the plurality of organic EL elements.

ところで、上記本発明の各態様では、封止性を高めるために隔壁部材を設けたが、次のような構成としても同様の効果を得ることができる。
本発明の別の態様として、第1の基板と、前記第1の基板上に設けられた複数の有機EL素子と、前記複数の有機EL素子を被覆する封止膜と、前記第1の基板と前記複数の有機EL素子を介して対向配置された第2の基板と、前記第1の基板上における前記複数の有機EL素子が設けられていない領域において、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に前記複数の有機EL素子を取り囲むように設けられたシール材と、前記第2の基板において前記第1の基板と対向する対向面を被覆する被覆膜とを備え、前記被覆膜は、その弾性率が前記封止膜の弾性率より低く、前記被覆膜を介して、前記封止膜と前記第2の基板とが接しているとしてもよい。
By the way, in each aspect of the present invention, the partition member is provided in order to improve the sealing performance. However, the same effect can be obtained with the following configuration.
As another aspect of the present invention, a first substrate, a plurality of organic EL elements provided on the first substrate, a sealing film covering the plurality of organic EL elements, and the first substrate In the region where the plurality of organic EL elements are not provided on the first substrate, and the second substrate disposed so as to face each other with the plurality of organic EL elements interposed therebetween. A sealing material provided so as to surround the plurality of organic EL elements in a gap with the substrate, and a coating film that covers a facing surface of the second substrate facing the first substrate, The coating film may have an elastic modulus lower than that of the sealing film, and the sealing film and the second substrate may be in contact with each other through the coating film.

本態様の有機EL装置では、前記封止膜と前記第2の基板とが、前記低弾性層を介して接している。このため、前記封止膜と前記第2の基板とが直接接する場合と比べ、前記封止膜の弾性率より弾性率が低い低弾性層が変形することにより、前記封止膜と前記第2の基板とは、前記低弾性層を介してより密着した形態で接することができる。その結果、有機EL装置外部からシール材を通り抜けて、有機EL装置内部に水分やガスが侵入したとしても、これらは密着して接している封止膜と第2の基板とにより遮られることになる。よって、外部から侵入した水分やガスによる有機EL素子の劣化を遅らせることができ、有機EL素子の長寿命化が期待できる。   In the organic EL device of this aspect, the sealing film and the second substrate are in contact with each other through the low elastic layer. For this reason, compared with the case where the sealing film and the second substrate are in direct contact with each other, the low elastic layer having an elastic modulus lower than the elastic modulus of the sealing film is deformed, so that the sealing film and the second substrate The substrate can be in close contact with the low elastic layer. As a result, even if moisture or gas penetrates the inside of the organic EL device from the outside of the organic EL device, they are blocked by the sealing film and the second substrate that are in close contact with each other. Become. Therefore, the deterioration of the organic EL element due to moisture or gas entering from the outside can be delayed, and the lifetime of the organic EL element can be expected to be extended.

また、本態様では、前記第2の基板における、前記第1の基板と対向する対向面に低弾性層を被覆するので、周辺領域を拡大する必要はない。
[実施の形態1]
<概略構成>
図1は、実施の形態1に係る有機EL装置1の断面を模式的に示す断面図(図2の一点鎖線で示した断面)とその一部拡大図である。
Moreover, in this aspect, since the low elastic layer is covered on the facing surface of the second substrate that faces the first substrate, it is not necessary to enlarge the peripheral region.
[Embodiment 1]
<Outline configuration>
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the organic EL device 1 according to the first embodiment (a cross section indicated by a one-dot chain line in FIG. 2) and a partially enlarged view thereof.

実施の形態1の有機EL装置1は、トップエミッション型の表示装置である。図1に示すように、第1の基板110上の中心領域には、複数の有機EL素子120がマトリクス状に隣接配置されている。この有機EL装置1では、RGB各色に対応する有機EL素子120(R),(G),(B)をサブピクセルとし、隣り合うRGBのサブピクセルの組み合わせを1画素(ピクセル)とする。   The organic EL device 1 of Embodiment 1 is a top emission type display device. As shown in FIG. 1, in the central region on the first substrate 110, a plurality of organic EL elements 120 are adjacently arranged in a matrix. In the organic EL device 1, the organic EL elements 120 (R), (G), and (B) corresponding to the RGB colors are set as subpixels, and a combination of adjacent RGB subpixels is set as one pixel (pixel).

複数の有機EL素子がマトリクス状に隣接配置されている領域を素子形成領域(表示領域ともいう)10と称し、素子形成領域10を取り囲む周囲の領域を周辺領域20と称する。
素子形成領域10の中心領域には、発光機能を有する複数の有効有機EL素子120eがマトリクス状に隣接配置されており、素子形成領域10の端部領域には、その構造が有効有機EL素子120eと同一であるものの、発光機能を有しない複数のダミー有機EL素子120dが隣接配置されている。なお、複数のダミー有機EL素子120dは、上述のように、その構造が有効有機EL素子120eと同一であることは必ずしも必要ではなく、例えば後述する反射陽極121をパターニングしない構造であってもよい。なお、有効有機EL素子120eと同一構造とする場合には、有機EL素子を一括で形成することができるので、製造上のメリットがある。
A region where a plurality of organic EL elements are adjacently arranged in a matrix is referred to as an element formation region (also referred to as a display region) 10, and a peripheral region surrounding the element formation region 10 is referred to as a peripheral region 20.
In the central region of the element formation region 10, a plurality of effective organic EL elements 120e having a light emitting function are arranged adjacent to each other in a matrix, and the structure of the effective organic EL element 120e is formed in an end region of the element formation region 10. A plurality of dummy organic EL elements 120d that have the same function but have no light emitting function are disposed adjacent to each other. As described above, the plurality of dummy organic EL elements 120d are not necessarily required to have the same structure as that of the effective organic EL element 120e. For example, the reflective anode 121 described later may not be patterned. . In addition, when it is set as the same structure as the effective organic EL element 120e, since an organic EL element can be formed collectively, there exists a merit on manufacture.

素子形成領域10の外周には、有効有機EL素子120eとダミー有機EL素子120dとを含む全ての有機EL素子120を取り囲むように隔壁部材220が設けられている。
また、第1の基板110の周縁部には、素子形成領域10を取り囲むように、第1の基板110と第2の基板210とを封止するシール材300が設けられている。
A partition wall member 220 is provided on the outer periphery of the element formation region 10 so as to surround all the organic EL elements 120 including the effective organic EL elements 120e and the dummy organic EL elements 120d.
In addition, a sealing material 300 that seals the first substrate 110 and the second substrate 210 is provided at the periphery of the first substrate 110 so as to surround the element formation region 10.

図2は、実施の形態1に係る有機EL装置1の一部断面を模式的に示す断面図(図1のA−A’に相当する領域の断面)である。図中、第2の基板210の上面側が表示面となる。図2に示すように、TFT基板111上に平坦化層112が形成されており、この平坦化層112上に、反射陽極121がマトリックス状にパターニングして形成されている。反射陽極121上には、ホール注入層122が形成されている。ホール注入層122上には、バンク123で区画された領域内に発光層124が積層されている。さらに、発光層124の上には、電子注入層125、透明陰極126、及び封止膜130が、それぞれバンク123で区画された領域を超えて隣接する有機EL素子のものと連続するように形成されている。   FIG. 2 is a cross-sectional view (a cross section of a region corresponding to A-A ′ in FIG. 1) schematically showing a partial cross section of the organic EL device 1 according to the first embodiment. In the drawing, the upper surface side of the second substrate 210 is a display surface. As shown in FIG. 2, a planarization layer 112 is formed on the TFT substrate 111, and a reflective anode 121 is formed on the planarization layer 112 by patterning in a matrix. A hole injection layer 122 is formed on the reflective anode 121. On the hole injection layer 122, a light emitting layer 124 is stacked in a region partitioned by the bank 123. Further, an electron injection layer 125, a transparent cathode 126, and a sealing film 130 are formed on the light emitting layer 124 so as to be continuous with those of adjacent organic EL elements beyond the area partitioned by the bank 123. Has been.

本実施の形態において有機EL素子120は、反射陽極121、ホール注入層122、発光層124、電子注入層125、透明陰極126の各機能層、及び当該有機EL素子を規定するバンク123から構成されている。有機EL素子120は、前記各機能層のうちホール注入層122、電子注入層125のいずれか、あるいは両方を欠いている、もしくは、例えばホール輸送層、電子輸送層などの他の機能層をさらに含む構成としてもよい。   In the present embodiment, the organic EL element 120 includes a reflective anode 121, a hole injection layer 122, a light emitting layer 124, an electron injection layer 125, functional layers such as a transparent cathode 126, and a bank 123 that defines the organic EL element. ing. The organic EL element 120 lacks one or both of the hole injection layer 122 and the electron injection layer 125 among the functional layers, or further includes other functional layers such as a hole transport layer and an electron transport layer. It is good also as a structure including.

また、第2の基板210における、第1の基板110に対向する対向面に、隔壁部材220と複数のフォトスペーサ230とが形成されている。隔壁部材220は、土台部材221aと、土台部材221aを被覆する封止層222と、封止層222を被覆する低弾性層223とからなる。フォトスペーサ230の内部構造も、隔壁部材220と同様とすることができる。
封止層222及び低弾性層223は、素子形成領域10に相当する領域の全域にわたって形成されている。
In addition, a partition wall member 220 and a plurality of photo spacers 230 are formed on a surface of the second substrate 210 facing the first substrate 110. The partition member 220 includes a base member 221 a, a sealing layer 222 that covers the base member 221 a, and a low elastic layer 223 that covers the sealing layer 222. The internal structure of the photo spacer 230 can be the same as that of the partition wall member 220.
The sealing layer 222 and the low elastic layer 223 are formed over the entire region corresponding to the element formation region 10.

<各部構成>
TFT基板111は、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、又はアルミナ等の絶縁性材料の基板本体上に、TFT、配線部材、および前記TFTを被覆するパッシベーション膜など(図示せず)を形成した構成である。また、前記基板本体は有機樹脂フィルムであってもかまわない。
<Configuration of each part>
The TFT substrate 111 is, for example, non-alkali glass, soda glass, non-fluorescent glass, phosphoric acid glass, boric acid glass, quartz, acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, epoxy resin, polyethylene, polyester, silicone type. A TFT, a wiring member, and a passivation film (not shown) for covering the TFT are formed on a substrate body of an insulating material such as resin or alumina. The substrate body may be an organic resin film.

平坦化層112は、TFT基板111の表面段差を平坦に調整するために設けられ、ポリイミド系樹脂またはアクリル系樹脂等の絶縁材料で構成されている。
本実施の形態において、第1の基板110は、TFT基板111と平坦化層112とから構成され、平坦化層112が形成されていない領域においては、TFT基板111を指すが、他の層をさらに含むとしてもよい。
The planarization layer 112 is provided to adjust the surface step of the TFT substrate 111 to be flat, and is made of an insulating material such as polyimide resin or acrylic resin.
In the present embodiment, the first substrate 110 is composed of a TFT substrate 111 and a planarization layer 112, and refers to the TFT substrate 111 in a region where the planarization layer 112 is not formed. Further, it may be included.

反射陽極121は、Ag(銀)で形成されている。なお、反射陽極121は、例えば、Al(アルミニウム)、銀とパラジウムと銅との合金、銀とルビジウムと金との合金、MoCr(モリブデンとクロムの合金)、NiCr(ニッケルとクロムの合金)等で形成されていても良い。本実施の形態1に係る有機EL装置1はトップエミッション型であるので、反射陽極121は、光反射性の材料で形成されていることが好ましい。なお、反射陽極121の表面には公知の透明導電膜を設けてもよい。透明導電膜の材料としては、例えばITO(酸化インジウムスズ)を用いることができる。   The reflective anode 121 is made of Ag (silver). The reflective anode 121 is, for example, Al (aluminum), an alloy of silver, palladium and copper, an alloy of silver, rubidium and gold, MoCr (alloy of molybdenum and chromium), NiCr (alloy of nickel and chromium), or the like. It may be formed by. Since the organic EL device 1 according to the first embodiment is a top emission type, the reflective anode 121 is preferably formed of a light reflective material. A known transparent conductive film may be provided on the surface of the reflective anode 121. As a material for the transparent conductive film, for example, ITO (indium tin oxide) can be used.

ホール注入層122は、MoOx(酸化モリブデン)、WOx(酸化タングステン)又はMoxWyOz(モリブデン−タングステン酸化物)で形成されている。なお、ホール注入層122は、ホール注入機能を果たす材料で形成されていれば良く、そのような材料としては、例えば、金属酸化物、金属窒化物又は金属酸窒化物が挙げられる。
バンク123は、樹脂等の有機材料で形成されており絶縁性を有する。有機材料の例として、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等が挙げられる。バンク123は、有機溶剤耐性を有することが好ましい。さらに、バンク123はエッチング処理、ベーク処理等がされることがあるので、それらの処理に対して過度に変形、変質などをしないような耐性の高い材料で形成されることが好ましい。
The hole injection layer 122 is made of MoOx (molybdenum oxide), WOx (tungsten oxide), or MoxWyOz (molybdenum-tungsten oxide). The hole injection layer 122 only needs to be formed of a material that performs a hole injection function, and examples of such a material include metal oxide, metal nitride, and metal oxynitride.
The bank 123 is made of an organic material such as resin and has an insulating property. Examples of organic materials include acrylic resins, polyimide resins, novolac type phenol resins, and the like. The bank 123 preferably has organic solvent resistance. Further, since the bank 123 may be subjected to an etching process, a baking process, or the like, it is preferable that the bank 123 be formed of a highly resistant material that does not excessively deform or alter the process.

発光層124は、例えば、特開平5−163488号公報に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、8−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、2−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とIII族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質で形成されることが好ましい。   The light emitting layer 124 includes, for example, an oxinoid compound, a perylene compound, a coumarin compound, an azacoumarin compound, an oxazole compound, an oxadiazole compound, a perinone compound, a pyrrolopyrrole compound, a naphthalene compound, an anthracene compound described in JP-A-5-163488. Fluorene compound, fluoranthene compound, tetracene compound, pyrene compound, coronene compound, quinolone compound and azaquinolone compound, pyrazoline derivative and pyrazolone derivative, rhodamine compound, chrysene compound, phenanthrene compound, cyclopentadiene compound, stilbene compound, diphenylquinone compound, styryl compound, Butadiene compounds, dicyanomethylenepyran compounds, dicyanomethylenethiopyran compounds, fluorescein compounds, pyridine Compounds, thiapyrylium compounds, serenapyrylium compounds, telluropyrylium compounds, aromatic aldadiene compounds, oligophenylene compounds, thioxanthene compounds, cyanine compounds, acridine compounds, metal complexes of 8-hydroxyquinoline compounds, metal complexes of 2-bipyridine compounds, It is preferably formed of a fluorescent material such as a complex of a Schiff salt and a group III metal, an oxine metal complex, or a rare earth complex.

電子注入層125は、透明陰極126から注入された電子を発光層124へ輸送する機能を有し、例えば、バリウム、フタロシアニン、フッ化リチウム、あるいはこれらの組み合わせで形成されることが好ましい。
透明陰極126は、例えば、ITO、IZO(酸化インジウム亜鉛)等で形成される。有機EL装置1はトップエミッション型であるので、透明陰極126は、光透過性の材料で形成されることが好ましい。
The electron injection layer 125 has a function of transporting electrons injected from the transparent cathode 126 to the light emitting layer 124, and is preferably formed of, for example, barium, phthalocyanine, lithium fluoride, or a combination thereof.
The transparent cathode 126 is made of, for example, ITO, IZO (indium zinc oxide) or the like. Since the organic EL device 1 is a top emission type, the transparent cathode 126 is preferably formed of a light transmissive material.

封止膜130は、発光層124、電子注入層125等が水分に晒されたり、空気に晒されたりすることを抑制する機能を有し、例えば、SiO(酸化シリコン),SiN(窒化シリコン)、SiON(酸窒化シリコン)、SiC(炭化ケイ素),SiOC(炭素含有酸化シリコン),AlN(窒化アルミニウム),Al2O3(酸化アルミニウム)等の材料で形成される。有機EL装置1はトップエミッション型であるので、封止膜130は、光透過性の材料で形成されることが好ましい。   The sealing film 130 has a function of preventing the light emitting layer 124, the electron injection layer 125, and the like from being exposed to moisture or air, for example, SiO (silicon oxide), SiN (silicon nitride). , SiON (silicon oxynitride), SiC (silicon carbide), SiOC (carbon-containing silicon oxide), AlN (aluminum nitride), Al2O3 (aluminum oxide) and the like. Since the organic EL device 1 is a top emission type, the sealing film 130 is preferably formed of a light transmissive material.

ここで、封止膜130において、所々にピンホールと呼ばれる封止欠陥部分や、封止膜130が形成される以前の工程で付着した異物(所謂パーティクル)に起因する封止欠陥部分が存在すると、これらの封止欠陥部分が水分やガスの侵入経路となり得る。
以上、説明した各構成要素(111〜130)をまとめて素子形成基板100という。
第2の基板210は、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英等のガラス系の封止材料で形成されており、第1の基板110の有機EL素子形成面に対向配置される。
Here, in the sealing film 130, there are sealing defect portions called pinholes in some places and sealing defect portions due to foreign matters (so-called particles) attached in a process before the sealing film 130 is formed. These sealing defect portions can serve as moisture and gas intrusion paths.
The above-described constituent elements (111 to 130) are collectively referred to as an element forming substrate 100.
The second substrate 210 is formed of, for example, a glass-based sealing material such as alkali-free glass, soda glass, non-fluorescent glass, phosphate glass, borate glass, or quartz. Opposing to the EL element formation surface.

隔壁部材220は、土台部材221a、封止層222、低弾性層223をこの順に積層した3層構造を有する。
土台部材221aは、例えば、メタクリル酸エステル類で形成されている。土台部材221aの厚みは、例えば5μm以上であることが好ましい。なぜなら、TFT形成工程や有機EL素子形成工程で付着する異物の大きさは、0.1〜5μm程度のものが多く、土台部材221aの厚みが5μmよりも薄い場合には、第2の基板を貼り合せる時に該異物を押しつぶし、反射陽極121と透明陰極126とが短絡して有機EL素子が滅点化してしまうことが発生しやすくなるからである。
The partition member 220 has a three-layer structure in which a base member 221a, a sealing layer 222, and a low elastic layer 223 are stacked in this order.
The base member 221a is made of, for example, methacrylic acid esters. The thickness of the base member 221a is preferably, for example, 5 μm or more. This is because the size of the foreign matter adhering in the TFT forming process and the organic EL element forming process is often about 0.1 to 5 μm, and if the thickness of the base member 221a is less than 5 μm, the second substrate is This is because the foreign matter is crushed when being bonded, and the reflective anode 121 and the transparent cathode 126 are short-circuited and the organic EL element is likely to become a dark spot.

封止層222は、封止膜130と同様に、例えば、SiN、SiON,SiON,SiC,SiOC,AlN,Al2O3等の材料で形成されている。
この封止層222が土台部材221aを覆うように形成されることで、土台部材221aが封止材として機能することになる。封止層222の厚みは、例えば100〜500nmであることが好ましい。封止層222の厚みが100nmよりも薄い場合は、封止性確保を十分に確保することが困難となりやすい。一方、封止層222の厚みが500nmよりも厚い場合は、発光層からの光の透過率が低下しやすくなる。
The sealing layer 222 is formed of a material such as SiN, SiON, SiON, SiC, SiOC, AlN, Al 2 O 3, etc., like the sealing film 130.
By forming the sealing layer 222 so as to cover the base member 221a, the base member 221a functions as a sealing material. The thickness of the sealing layer 222 is preferably 100 to 500 nm, for example. When the thickness of the sealing layer 222 is less than 100 nm, it is difficult to ensure sufficient sealing performance. On the other hand, when the thickness of the sealing layer 222 is thicker than 500 nm, the transmittance of light from the light emitting layer tends to decrease.

低弾性層223は、例えば、ポリパラキシリレン樹脂等の有機材料で形成されている。低弾性層223は有機材料で形成されているため、その弾性率は、ガラス系、或いはセラミックス系等の材料で形成される封止膜130、封止層222の弾性率と比べて小さい。この低弾性層223が封止層222を覆うように形成されることで、低弾性層223が封止膜130に接する際にはその形状が変形し、より一層密着した形態で封止膜130と接することが可能となる。これにより、封止性をより一層高めることができる。特にポリパラキシリレン樹脂は、低弾性の有機材料で最も封止性の優れている材料であるため、好適である。   The low elastic layer 223 is made of an organic material such as polyparaxylylene resin. Since the low elastic layer 223 is formed of an organic material, its elastic modulus is smaller than the elastic modulus of the sealing film 130 and the sealing layer 222 formed of a glass or ceramic material. By forming the low elastic layer 223 so as to cover the sealing layer 222, when the low elastic layer 223 comes into contact with the sealing film 130, the shape thereof is deformed, and the sealing film 130 is more closely adhered. Can be contacted. Thereby, sealing property can be improved further. In particular, polyparaxylylene resin is preferable because it is a low-elasticity organic material and has the most excellent sealing properties.

ただし、この低弾性層223は有機材料で形成されているので、封止層222に比べ封止性が低い。そのため、低弾性層223の面積が小さくなるよう、低弾性層223の厚みを薄く形成するのが好ましい。具体的には、低弾性層223の厚みは、土台部材221aの厚みよりも薄いことが好ましく、例えば20〜100nmであることが好ましい。
このように素子形成領域10の外周を取り囲むように形成された、土台部材221a、封止層222、低弾性層223からなる隔壁部材220において、その上下方向の両端は、第2の基板210と封止膜130とにそれぞれ接する。これにより、隔壁部材220と封止膜130と第2の基板210とに囲まれた空間401が封止されることになる。したがって、封止膜130に封止欠陥部分が存在するとしても、シール材300から侵入した水分やガスを、この隔壁部材200にて遮断することが可能となり、有機EL素子の劣化を遅らせることができる。
However, since the low elastic layer 223 is formed of an organic material, the sealing property is lower than that of the sealing layer 222. Therefore, it is preferable to form the low elastic layer 223 thin so that the area of the low elastic layer 223 is small. Specifically, the thickness of the low elastic layer 223 is preferably thinner than the thickness of the base member 221a, and is preferably 20 to 100 nm, for example.
In the partition member 220 composed of the base member 221 a, the sealing layer 222, and the low elastic layer 223 formed so as to surround the outer periphery of the element formation region 10 in this way, both ends in the vertical direction are connected to the second substrate 210. The sealing film 130 is in contact with each other. As a result, the space 401 surrounded by the partition member 220, the sealing film 130, and the second substrate 210 is sealed. Therefore, even if there is a sealing defect portion in the sealing film 130, it is possible to block the moisture and gas that has entered from the sealing material 300 by the partition member 200, thereby delaying the deterioration of the organic EL element. it can.

また、図1に示すように、隔壁部材220は、素子形成領域10の外周に形成されるため、周辺領域を拡大することなく、封止性を高めることができる。
シール材300は、第1の基板110と第2の基板210との周囲に、両基板の内部を封止するために形成されている。シール材300は、緻密な樹脂材料で構成されており、例えばシリコーン樹脂を挙げることができる。
Further, as shown in FIG. 1, since the partition member 220 is formed on the outer periphery of the element forming region 10, the sealing property can be improved without enlarging the peripheral region.
The sealant 300 is formed around the first substrate 110 and the second substrate 210 to seal the inside of both substrates. The sealing material 300 is made of a dense resin material, and examples thereof include a silicone resin.

フォトスペーサ230は、隔壁部材220と同様に3層構造を有し、主として第1の基板110と第2の基板210との対向間隔を調整する目的で使用される。図1に示す構成では、フォトスペーサ230は、Z方向を軸方向とする円柱形に形成され、Z方向両端部がそれぞれの基板110、210に接するように配置されている。なお、形状は円柱形に限定されず、直方体や球体等であってもよい。フォトスペーサ230における土台部材の材料としては公知のものが使用でき、透明性の高い樹脂材料、例えばメタクリル酸エステル類を例示することができる。すなわち、隔壁部材220の土台部材221aと同じ材料とすることができる。   The photo spacer 230 has a three-layer structure like the partition member 220 and is used mainly for the purpose of adjusting the facing distance between the first substrate 110 and the second substrate 210. In the configuration shown in FIG. 1, the photo spacer 230 is formed in a cylindrical shape having the Z direction as an axial direction, and is disposed so that both ends in the Z direction are in contact with the respective substrates 110 and 210. The shape is not limited to a cylindrical shape, and may be a rectangular parallelepiped or a sphere. A known material can be used as the material of the base member in the photo spacer 230, and examples thereof include highly transparent resin materials such as methacrylic acid esters. That is, the same material as the base member 221a of the partition wall member 220 can be used.

なお、フォトスペーサ230は、図1の一部拡大図に示すように、第1の基板110において格子状に形成されているバンクの各交点位置に合わせて配置されているが、これに限定されない。
以上、説明した各構成要素(210〜230)をまとめて封止基板200という。
また、空間401、402は、大気圧よりも低圧であり、例えば窒素等の不活性ガスが充填されている。そのため、空間401、402内の気圧と大気圧との差圧による圧縮力が、隔壁部材230と封止膜130との当接部分に加えられることになる。その結果、より密着した形態で隔壁部材230と封止膜130とが接することになるので、より一層封止性を向上させることができる。
As shown in the partially enlarged view of FIG. 1, the photo spacers 230 are arranged in accordance with the positions of the intersections of the banks formed in a lattice pattern on the first substrate 110. However, the present invention is not limited to this. .
The constituent elements (210 to 230) described above are collectively referred to as a sealing substrate 200.
The spaces 401 and 402 have a pressure lower than the atmospheric pressure and are filled with an inert gas such as nitrogen. Therefore, a compressive force due to the differential pressure between the atmospheric pressure and the atmospheric pressure in the spaces 401 and 402 is applied to the contact portion between the partition wall member 230 and the sealing film 130. As a result, since the partition wall member 230 and the sealing film 130 are in contact with each other in a more closely contacted form, the sealing performance can be further improved.

また、空間401、402には、不活性ガスが充填されているので、有機EL装置1外部からの水分やガスの侵入に対しての遮断だけでなく、空間401、402に残留している、水分や酸化性ガスの分圧を低減させることができる。
<製造方法>
続いて、有機EL装置1の製造工程を例示する。図3は、素子形成基板100の製造工程の一例を示す図である。
In addition, since the spaces 401 and 402 are filled with an inert gas, the spaces 401 and 402 remain in the spaces 401 and 402 in addition to blocking moisture and gas intrusion from the outside of the organic EL device 1. The partial pressure of moisture and oxidizing gas can be reduced.
<Manufacturing method>
Then, the manufacturing process of the organic EL apparatus 1 is illustrated. FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a manufacturing process of the element formation substrate 100.

まず、図3(a)に示すように、TFT基板111上に形成された平坦化層112上に、例えばスパッタリングによりAg薄膜を形成し、当該Ag薄膜を例えばフォトリソグラフィでパターニングすることによりマトリックス状に反射陽極121を形成する。なお、Ag薄膜は真空蒸着等で形成しても良い。
次に、図3(b)に示すように、WOx又はMoxWyOzを含むターゲット組成物を用いて真空蒸着、スパッタリングなどの技術によりWOx又はMoxWyOzのホール注入層122を形成する。
First, as shown in FIG. 3A, an Ag thin film is formed on the planarizing layer 112 formed on the TFT substrate 111 by, for example, sputtering, and the Ag thin film is patterned by, for example, photolithography to form a matrix. The reflective anode 121 is formed on the substrate. The Ag thin film may be formed by vacuum deposition or the like.
Next, as shown in FIG. 3B, a hole injection layer 122 of WOx or MoxWyOz is formed by a technique such as vacuum deposition or sputtering using a target composition containing WOx or MoxWyOz.

次に、ホール注入層122上に絶縁性有機材料からなる膜を形成し、その上にフォトレジストを一様に塗布する。塗布したフォトレジストの上に、絶縁性有機材料層の一部を除去してホール注入層122の一部を露出させるための所定形状の開口部(形成すべきバンクのパターン)を持つマスクを重ねる。そして、マスクの上から感光させ、レジストパターンを形成する。その後は、余分な絶縁性有機材料及び未硬化のフォトレジストを水系もしくは非水系エッチング液(剥離剤)で洗い出す。これにより絶縁性有機材料のパターニングが完了する。その後、パターニングされた絶縁性有機材料の上のフォトレジスト(レジスト残渣)を純水で洗浄して除去する。以上でバンク123が完成する(図3(c)参照)。   Next, a film made of an insulating organic material is formed on the hole injection layer 122, and a photoresist is uniformly applied thereon. A mask having an opening (a pattern of a bank to be formed) with a predetermined shape for removing a part of the insulating organic material layer and exposing a part of the hole injection layer 122 is overlaid on the applied photoresist. . Then, it is exposed from above the mask to form a resist pattern. Thereafter, excess insulating organic material and uncured photoresist are washed out with an aqueous or non-aqueous etching solution (peeling agent). Thereby, patterning of the insulating organic material is completed. Thereafter, the photoresist (resist residue) on the patterned insulating organic material is removed by washing with pure water. Thus, the bank 123 is completed (see FIG. 3C).

次に、図3(d)に示すように、バンク123で区画された各領域内に例えばインクジェット法により有機EL材料を含む組成物インク(以下、単に「インク」という。)を滴下し、そのインクを乾燥させて発光層124を形成する。なお、発光層124は、ディスペンサー法、ノズルコート法、スピンコート法、凹版印刷、凸版印刷等により形成しても良い。   Next, as shown in FIG. 3D, a composition ink containing an organic EL material (hereinafter simply referred to as “ink”) is dropped into each region partitioned by the bank 123 by, for example, an ink jet method. The ink is dried to form the light emitting layer 124. The light emitting layer 124 may be formed by a dispenser method, a nozzle coating method, a spin coating method, intaglio printing, letterpress printing, or the like.

次に、図3(e)に示すように、例えば真空蒸着により電子注入層125となるバリウム薄膜を形成し、例えばスパッタリングにより透明陰極126となるITO薄膜を形成し、さらに封止膜130を形成する。以上の工程を経ることで、素子形成基板100が完成する。
続いて、封止基板200の製造工程を例示する。図4は、封止基板200の製造工程の一例を示す図である。
Next, as shown in FIG. 3E, a barium thin film to be the electron injection layer 125 is formed by, for example, vacuum deposition, an ITO thin film to be the transparent cathode 126 is formed by, for example, sputtering, and a sealing film 130 is further formed. To do. Through the above steps, the element formation substrate 100 is completed.
Then, the manufacturing process of the sealing substrate 200 is illustrated. FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a manufacturing process of the sealing substrate 200.

まず、第2の基板210上に、例えばメタクリル酸エステル類等の透明性の高い樹脂材料からなる膜を形成し、その上にフォトレジストを一様に塗布する。その後、所定形状の開口部を持つマスクを重ねる。そして、マスクの上から感光させ、レジストパターンを形成する。その後は、余分な樹脂材料及び未硬化のフォトレジストを水系もしくは非水系エッチング液(剥離剤)で洗い出す。これにより樹脂材料のパターニングが完了する。その後、パターニングされた樹脂材料の上のフォトレジスト(レジスト残渣)を純水で洗浄して除去する。これにより、図4(a)に示すように、バンクの交点に相当する位置及び素子形成領域の外周に相当する位置に土台部材221a、221bが形成される。   First, a film made of a highly transparent resin material such as methacrylic acid esters is formed on the second substrate 210, and a photoresist is uniformly applied thereon. Thereafter, a mask having an opening with a predetermined shape is overlaid. Then, it is exposed from above the mask to form a resist pattern. Thereafter, excess resin material and uncured photoresist are washed out with an aqueous or non-aqueous etching solution (peeling agent). Thereby, the patterning of the resin material is completed. Thereafter, the photoresist (resist residue) on the patterned resin material is removed by washing with pure water. As a result, as shown in FIG. 4A, base members 221a and 221b are formed at positions corresponding to bank intersections and positions corresponding to the outer periphery of the element formation region.

次に、図4(b)に示すように、第2の基板210表面の素子形成領域に相当する領域に封止層222を形成し、図4(c)に示すように、封止層222上に例えばプラズマCVD法により、低弾性層223を形成する。これにより、隔壁部材220と、離散的に配置された複数のフォトスペーサ230とが完成する。以上の工程を経ることで、封止基板200が完成する。   Next, as shown in FIG. 4B, a sealing layer 222 is formed in a region corresponding to the element formation region on the surface of the second substrate 210, and as shown in FIG. 4C, the sealing layer 222 is formed. A low elastic layer 223 is formed thereon by, for example, plasma CVD. Thereby, the partition member 220 and the plurality of photo spacers 230 arranged discretely are completed. The sealing substrate 200 is completed through the above steps.

続いて、第1の基板110もしくは第2の基板210の周囲にシール材300のペーストを塗布する。そして、第1の基板110もしくは第2の基板210の表面に紫外線硬化型樹脂を主成分とするシール材300の材料を塗布する。その後、前記塗布した材料に紫外線照射を行い、両基板を貼り合わせる。このとき、両基板を貼り合わせる工程を窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気中で実施すれば、両基板間に形成された空間に、不活性ガスを充填できる。   Subsequently, a paste of the sealing material 300 is applied around the first substrate 110 or the second substrate 210. Then, the material of the sealing material 300 whose main component is an ultraviolet curable resin is applied to the surface of the first substrate 110 or the second substrate 210. Thereafter, the applied material is irradiated with ultraviolet rays to bond both substrates together. At this time, if the step of bonding the two substrates is performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon, the space formed between the two substrates can be filled with the inert gas.

その後、両基板を焼成して封止工程を完了すると、有機EL装置1が完成する。
この製造工程によれば、フォトスペーサ230の形成と同一工程で隔壁部材220を併せて形成することができる。したがって、隔壁部材220を形成するために別途工程を増やす必要はない。
[変形例1−1]
有機EL装置1の封止基板200として、カラーフィルタ及びブラックマトリクス付きの封止基板が利用されることがある。ここでは、隔壁部材220をカラーフィルタ、ブラックマトリクス、封止層222、低弾性層223からなるものに替えた一変形例について説明する。
Then, when both substrates are baked to complete the sealing process, the organic EL device 1 is completed.
According to this manufacturing process, the partition member 220 can be formed together in the same process as the formation of the photo spacer 230. Therefore, it is not necessary to increase the number of processes for forming the partition member 220.
[Modification 1-1]
As the sealing substrate 200 of the organic EL device 1, a sealing substrate with a color filter and a black matrix may be used. Here, a description will be given of a modified example in which the partition wall member 220 is replaced with a color filter, a black matrix, a sealing layer 222, and a low elastic layer 223.

<概略構造>
図5は、変形例1−1に係る有機EL装置1の一部断面を模式的に示す断面図である。ここでは、図2に示した有機EL装置1との差分のみ説明する。
変形例1−1の第2の基板210の一方の面には、隔壁部材220と、複数のフォトスペーサ230と、ブラックマトリクス(以下、「BM」という。)241と、カラーフィルタ(以下、「CF」という。)242(R)、(G)、(B)とが形成されている。
<Schematic structure>
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a partial cross section of the organic EL device 1 according to Modification 1-1. Here, only differences from the organic EL device 1 shown in FIG. 2 will be described.
On one surface of the second substrate 210 of Modification 1-1, a partition wall member 220, a plurality of photo spacers 230, a black matrix (hereinafter referred to as “BM”) 241, and a color filter (hereinafter referred to as “ CF ”) 242 (R), (G), and (B) are formed.

変形例1−1では、第2の基板210に形成される隔壁部材220は、BM241、CF242(R)、(G)、(B)、封止層222、低弾性層223がこの順に積層されてなる。すなわち、変形例1−1では、土台部材221aに相当する部分が、BM241とCF242(R)、(G)、(B)との積層からなる点で異なる。
各々のCF242(R)、(G)、(B)は、第1の基板110側に形成される各発光層124の位置に合わせて配設され、BM241は、第1の基板110側に形成される各有機EL素子のバンク123の位置に合わせて配設されている。
In the modified example 1-1, the partition member 220 formed on the second substrate 210 includes a BM 241, a CF 242 (R), (G), (B), a sealing layer 222, and a low elastic layer 223 in this order. It becomes. That is, the modification 1-1 is different in that the portion corresponding to the base member 221a is formed by stacking BM241 and CF242 (R), (G), (B).
Each of the CFs 242 (R), (G), and (B) is arranged in accordance with the position of each light emitting layer 124 formed on the first substrate 110 side, and the BM 241 is formed on the first substrate 110 side. The organic EL elements are arranged in accordance with the positions of the banks 123 of the organic EL elements.

<各部構成>
BM241は、有機EL装置の表示面への外光の照り返しや外光の入射を防止し、表示コントラストを向上させる目的で設けられる黒色層である。例えば光吸収性及び遮光性に優れる黒色顔料を含む紫外線硬化樹脂材料で構成される。
各々のCF242(R)、(G)、(B)は、赤色、青色、緑色に対応した各々の波長域の可視光を透過する、公知の樹脂材料で構成されている。
<Configuration of each part>
The BM 241 is a black layer provided for the purpose of preventing the reflection of external light and the incidence of external light on the display surface of the organic EL device and improving the display contrast. For example, it is comprised with the ultraviolet curable resin material containing the black pigment which is excellent in light absorptivity and light-shielding property.
Each of the CFs 242 (R), (G), and (B) is made of a known resin material that transmits visible light in each wavelength range corresponding to red, blue, and green.

<製造方法>
続いて、変形例1−1に係る封止基板200の製造工程を例示する。図6は、封止基板200の製造工程の一例を示す図である。
まず、紫外線硬化樹脂(例えば紫外線硬化アクリル樹脂)材料を主成分とし、これに黒色顔料を添加してなるBM材料を溶媒に分散させ、BMペーストを調整する。これを基板本体の一方の面に塗布する。
<Manufacturing method>
Then, the manufacturing process of the sealing substrate 200 which concerns on the modified example 1-1 is illustrated. FIG. 6 is a diagram illustrating an example of a manufacturing process of the sealing substrate 200.
First, a BM paste is prepared by dispersing a BM material in which a UV curable resin (for example, an ultraviolet curable acrylic resin) material is a main component and a black pigment is added thereto in a solvent. This is applied to one surface of the substrate body.

塗布したBMペーストを乾燥し、溶媒をある程度揮発させて形態を保持できる程度になったら、各有機EL素子のバンク123位置に対応するように所定形状の開口部を持つパターンマスクを重ねる。そして、重ねたパターンマスクの上から紫外線照射を行う。
その後、塗布・溶媒除去したBMペーストを焼成し、パターンマスク及び未硬化のBMペーストを除去して現像し、キュアすると、図6(a)に示すように、格子状に形成されたBM241が完成する。
When the applied BM paste is dried and the solvent can be volatilized to some extent to maintain the form, a pattern mask having an opening of a predetermined shape is overlaid so as to correspond to the position of the bank 123 of each organic EL element. Then, ultraviolet irradiation is performed on the superimposed pattern mask.
After that, the coated / solvent-removed BM paste is baked, the pattern mask and uncured BM paste are removed, developed, and cured, as shown in FIG. 6A, a BM 241 formed in a lattice shape is completed. To do.

次に、BM241を形成した基板表面に、紫外線硬化樹脂成分を主成分とするCF242(ここではR)の材料を溶媒に分散させ、ペースト(R)を塗布する。溶媒を一定除去した後、所定のパターンマスクを載置し、紫外線照射を行う。
その後、キュアを行い、パターンマスク及び未硬化のペースト(R)を除去して現像すると、図6(b)に示すように、CF242(R)が形成される。CF242(R)は、発光層124の位置に合わせて形成されるだけでなく、素子形成領域の外周に相当する領域にも併せて形成される。
Next, a material of CF242 (R in this case) mainly composed of an ultraviolet curable resin component is dispersed in a solvent on the surface of the substrate on which the BM241 is formed, and a paste (R) is applied. After removing the solvent to a certain extent, a predetermined pattern mask is placed and ultraviolet irradiation is performed.
Thereafter, curing is performed, and the pattern mask and the uncured paste (R) are removed and developed. As a result, CF242 (R) is formed as shown in FIG. The CF 242 (R) is formed not only in accordance with the position of the light emitting layer 124 but also in a region corresponding to the outer periphery of the element formation region.

上記CF形成工程を各色のカラーフィルタ材料について同様に繰り返すことで、CF242(G)、242(B)を形成する。これにより、各発光層124の位置に合わせてCF242(G)、242(B)が形成されるだけでなく、素子形成領域の外周に相当する領域にもCF242(G)、242(B)が併せて形成される(図6(c)、(d))。その結果、素子形成領域の外周に相当する領域には、BM241、CF242(R)、CF242(G)、242(B)がこの順で形成された積層が完成する。   CF 242 (G) and 242 (B) are formed by repeating the CF forming step in the same manner for each color filter material. Thereby, not only CF242 (G) and 242 (B) are formed in accordance with the position of each light emitting layer 124, but also CF242 (G) and 242 (B) are formed in the region corresponding to the outer periphery of the element formation region. They are also formed (FIGS. 6C and 6D). As a result, a stack in which BM241, CF242 (R), CF242 (G), and 242 (B) are formed in this order in a region corresponding to the outer periphery of the element formation region is completed.

次に、図4で説明したのと同様の方法で、図6(e)に示すように、土台部材221bを格子状に形成されたBM241の各交点位置に形成する。
次に、図6(f)に示すように、素子形成領域に相当する領域に封止層222を形成し、図6(g)に示すように、封止層222上に例えばプラズマCVD法により、低弾性層223を形成する。これにより、隔壁部材220と、離散的に配置された複数のフォトスペーサ230とが完成する。以上の工程を経ることで、変形例1−1に係る封止基板200が完成する。
Next, as shown in FIG. 6E, the base member 221b is formed at each intersection position of the BM 241 formed in a lattice shape by the same method as described in FIG.
Next, as shown in FIG. 6F, a sealing layer 222 is formed in a region corresponding to the element formation region, and as shown in FIG. 6G, the sealing layer 222 is formed by, for example, plasma CVD. The low elastic layer 223 is formed. Thereby, the partition member 220 and the plurality of photo spacers 230 arranged discretely are completed. By passing through the above process, the sealing substrate 200 which concerns on the modified example 1-1 is completed.

この製造方法によれば、BM241及びCF242(R)、(G)、(B)の積層を隔壁部材の土台部材として利用することができるので、土台部材を形成するための工程を別途増やすことなく、土台部材を形成することができる。
なお、ここでは、フォトスペーサ230の土台部材221bの形成工程を、BM241及びCF242(R)、(G)、(B)の各形成工程とは別に設けたが、BM241及びCF242(R)、(G)、(B)の各形成工程において、BM241の各交点位置にもこれらを形成することにより、BM241及びCF242(R)、(G)、(B)の積層をフォトスペーサ230の土台部材として利用してもよい。
According to this manufacturing method, the laminate of BM241 and CF242 (R), (G), (B) can be used as the base member of the partition wall member, so that the process for forming the base member is not increased separately. A base member can be formed.
Here, the formation process of the base member 221b of the photo spacer 230 is provided separately from the formation processes of BM241 and CF242 (R), (G), and (B), but BM241 and CF242 (R), ( In each of the forming steps G) and (B), the BM 241 and the CF 242 (R), (G), and (B) are used as the base member of the photo spacer 230 by forming these also at the intersections of the BM 241. May be used.

[変形例1−2]
続いて、隔壁部材220がマトリクス状に形成された複数の有機EL素子120の一部を取り囲む一変形例について説明する。
図7は、変形例1−2に係る有機EL装置1の断面を模式的に示す断面図である。ここでは、図1に示した有機EL装置1との差分のみ説明する。
[Modification 1-2]
Next, a modified example in which the partition member 220 surrounds a part of the plurality of organic EL elements 120 formed in a matrix shape will be described.
FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the organic EL device 1 according to Modification 1-2. Here, only differences from the organic EL device 1 shown in FIG. 1 will be described.

図7に示すように、隔壁部材220は、複数の有機EL素子120の一部を取り囲むように矩形状に形成されている。
隔壁部材220の内部に位置する各有機EL素子120が有効有機EL素子120eであるのに対し、隔壁部材220の外部に位置する各有機EL素子120は、ダミー有機EL素子120dである。すなわち、隔壁部材220は、有効有機EL素子120eのみを取り囲むように形成されている。
As shown in FIG. 7, the partition member 220 is formed in a rectangular shape so as to surround a part of the plurality of organic EL elements 120.
Each organic EL element 120 positioned inside the partition wall member 220 is an effective organic EL element 120e, whereas each organic EL element 120 positioned outside the partition wall member 220 is a dummy organic EL element 120d. That is, the partition member 220 is formed so as to surround only the effective organic EL element 120e.

これにより、周辺環境から水分やガスが有機EL装置内部に侵入してきた場合に、ダミー有機EL素子120dを犠牲にすることで、有効有機EL素子120eが真っ先に劣化する可能性を低減することができる。
なお、ここでは、複数の有効有機EL素子120eがマトリクス状に形成された領域の外周を取り囲むように隔壁部材220を形成したが、一部ダミー有機EL素子が含まれるように隔壁部材220を形成しても勿論よい。
This reduces the possibility that the effective organic EL element 120e is first deteriorated by sacrificing the dummy organic EL element 120d when moisture or gas enters the organic EL device from the surrounding environment. it can.
Here, the partition member 220 is formed so as to surround the outer periphery of the region where the plurality of effective organic EL elements 120e are formed in a matrix, but the partition member 220 is formed so as to partially include the dummy organic EL elements. Of course.

[変形例1−3]
続いて、隔壁部材220を二重に設けた一変形例について説明する。
図8は、変形例1−3に係る有機EL装置1の断面を模式的に示す断面図である。ここでは、図1に示した有機EL装置1との差分のみ説明する。
図8に示すように、隔壁部材220は、素子形成領域の外周に加え、さらに複数の有機EL素子120の一部を取り囲むように形成されている。これにより、より一層封止性を高めることができる。
[Modification 1-3]
Subsequently, a modification in which the partition wall member 220 is provided in a double manner will be described.
FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the organic EL device 1 according to Modification 1-3. Here, only differences from the organic EL device 1 shown in FIG. 1 will be described.
As shown in FIG. 8, the partition member 220 is formed so as to surround a part of the plurality of organic EL elements 120 in addition to the outer periphery of the element formation region. Thereby, sealing performance can be further improved.

また、隔壁部材220は二重に限らず、三重に形成されていてもよいし、それ以上でもよい。ダミー有機EL素子120dが形成されている領域に応じて、隔壁部材220を形成するとしてもよい。例えば、素子形成領域の端部から素子形成領域の中心方向に12個の有機EL素子がダミー有機EL素子である場合には、12重に隔壁部材220を形成してもよい。さらに、有効有機EL素子が形成されている領域にも隔壁部材220が形成されていてもよい。   Moreover, the partition member 220 is not limited to a double, and may be formed in a triple or more. The partition member 220 may be formed in accordance with the region where the dummy organic EL element 120d is formed. For example, when 12 organic EL elements are dummy organic EL elements from the end of the element formation region to the center direction of the element formation region, the partition wall member 220 may be formed in 12 layers. Further, the partition member 220 may be formed in a region where the effective organic EL element is formed.

[実施の形態2]
実施の形態1の有機EL装置1では、周辺環境の外部雰囲気に含まれる水分やガスの侵入を防止する目的で隔壁部材220を設けた構成としたが、有機EL素子120内部からも水分等が発生し、他の有機EL素子120に拡散する場合がある。そこで、実施の形態2の有機EL装置1では、有機EL素子120内部から発生する水分等が拡散するのを抑制するための構成を有する。
[Embodiment 2]
In the organic EL device 1 according to the first embodiment, the partition member 220 is provided for the purpose of preventing the intrusion of moisture and gas contained in the external atmosphere of the surrounding environment. May occur and diffuse to other organic EL elements 120. Therefore, the organic EL device 1 according to the second embodiment has a configuration for suppressing the diffusion of moisture generated from the inside of the organic EL element 120.

図9は、実施の形態2に係る有機EL装置1の断面を模式的に示す断面図である。ここでは、図1に示した有機EL装置1との差分のみ説明する。
図9に示すように、隔壁部材220は、素子形成領域の外周に加え、有機EL素子120毎に区画するように、各有機EL素子のバンクに相当する領域にも形成されている。
これにより、有機EL素子120内部から発生する水分等が、他の有機EL素子120に拡散するのを防止することができるので、有機EL素子120内部から発生する水分等による素子の劣化を最小限に留めることができる。
FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the organic EL device 1 according to the second embodiment. Here, only differences from the organic EL device 1 shown in FIG. 1 will be described.
As shown in FIG. 9, in addition to the outer periphery of the element formation region, the partition member 220 is also formed in a region corresponding to the bank of each organic EL element so as to be partitioned for each organic EL element 120.
Accordingly, moisture generated from the inside of the organic EL element 120 can be prevented from diffusing into other organic EL elements 120, so that deterioration of the element due to moisture generated from the inside of the organic EL element 120 is minimized. Can be stopped.

[変形例2−1]
続いて、複数の有機EL素子毎に区画するように隔壁部材220を設けた一変形例について説明する。
図10は、変形例2−1に係る有機EL装置1の断面を模式的に示す断面図である。ここでは、図1に示した有機EL装置1との差分のみ説明する。
[Modification 2-1]
Subsequently, a modified example in which the partition member 220 is provided so as to be partitioned for each of the plurality of organic EL elements will be described.
FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the organic EL device 1 according to Modification 2-1. Here, only differences from the organic EL device 1 shown in FIG. 1 will be described.

図10に示すように、隔壁部材220は、素子形成領域の外周に加え、12個の有機EL素子を一単位として区画するように、各有機EL素子のバンクに相当する領域にも形成されている。
なお、12個の有機EL素子を一単位として区画するように隔壁部材220を設けたが、例えば、1画素(3個の有機EL素子)毎に区画するように隔壁部材220を設けるとしてもよいし、不良有機EL素子をどれだけ許容できるかに応じて、区画する単位を決定してもよい。
As shown in FIG. 10, in addition to the outer periphery of the element formation region, the partition member 220 is also formed in a region corresponding to the bank of each organic EL element so as to partition 12 organic EL elements as a unit. Yes.
In addition, although the partition member 220 is provided so as to partition 12 organic EL elements as one unit, for example, the partition member 220 may be provided so as to partition for each pixel (three organic EL elements). The unit to be divided may be determined according to how much the defective organic EL element can be tolerated.

ところで、一般的には、有機EL装置を利用するユーザは、特に有機EL装置の表示領域の中心部分を注視し、表示領域の端部にはあまり注意を払わない。したがって、表示領域の中心に近い領域ほど有機EL素子の劣化が深刻な問題となり、逆に、表示領域の端部に位置する有機EL素子が劣化したとしても、ユーザの利用にあまり影響を与えるものではない。   By the way, in general, a user who uses an organic EL device pays particular attention to the center portion of the display area of the organic EL device and pays little attention to the end of the display area. Accordingly, the deterioration of the organic EL element becomes a serious problem as the area is closer to the center of the display area. Conversely, even if the organic EL element located at the end of the display area deteriorates, the use of the user is greatly affected. is not.

よって、隔壁部材220により有機EL素子を区画する区画単位は、必ずしも表示領域全体で一律である必要はなく、表示領域の端部より表示領域の中心部分の方が小さくなるように区画単位を定めてもよいし、表示領域の中心に近いほど小さくなるように定めてもよい。
[変形例2−2]
続いて、ダミー有機EL素子が形成されているダミー領域において有機EL素子毎に区画するように隔壁部材220を設けた一変形例について説明する。
Therefore, the partition unit for partitioning the organic EL element by the partition member 220 is not necessarily uniform over the entire display region, and the partition unit is determined so that the center portion of the display region is smaller than the end portion of the display region. Alternatively, it may be determined to be smaller as it is closer to the center of the display area.
[Modification 2-2]
Next, a description will be given of a modification in which the partition member 220 is provided so as to partition for each organic EL element in the dummy region where the dummy organic EL element is formed.

図11は、変形例2−2に係る有機EL装置1の断面を模式的に示す断面図である。ここでは、図1に示した有機EL装置1との差分のみ説明する。
図11に示すように、隔壁部材220は、有効有機EL素子120eを取り囲み、かつ、ダミー有機EL素子が形成されているダミー領域において、ダミー有機EL素子毎に区画するように形成されている。図11に示すように、隔壁部材220で区画されたダミー有機EL素子が、有効有機EL素子の周囲を多段に取り囲む構成が好適である。
FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the organic EL device 1 according to Modification 2-2. Here, only differences from the organic EL device 1 shown in FIG. 1 will be described.
As shown in FIG. 11, the partition member 220 surrounds the effective organic EL element 120e and is formed so as to be divided for each dummy organic EL element in the dummy region where the dummy organic EL element is formed. As shown in FIG. 11, it is preferable that the dummy organic EL elements partitioned by the partition member 220 surround the effective organic EL elements in multiple stages.

これにより、発光には関係のないダミー領域で段階的に、周辺環境から浸入した水分やガスを減衰させることができる。
[実施の形態3]
上記各実施の形態では、有機EL装置1が隔壁部材220を有する構成としたが、他の構成でも良い。図12は、実施の形態3の有機EL装置1の構成を示す部分断面図である。ここでは、図2に示した、実施の形態1に係る有機EL装置1との差分のみ説明する。図12に示す有機EL装置では、第2の基板210における、第1の基板と対向する対向面に低弾性層223が形成されている。
Accordingly, moisture and gas that have entered from the surrounding environment can be attenuated step by step in a dummy region that is not related to light emission.
[Embodiment 3]
In each of the above embodiments, the organic EL device 1 has the partition member 220. However, other configurations may be used. FIG. 12 is a partial cross-sectional view showing the configuration of the organic EL device 1 according to the third embodiment. Here, only differences from the organic EL device 1 according to Embodiment 1 shown in FIG. 2 will be described. In the organic EL device shown in FIG. 12, a low elastic layer 223 is formed on the second substrate 210 on the surface facing the first substrate.

したがって、素子形成領域の外周において封止膜130と第2の基板210とが、低弾性層223を介して接することになる。このため、封止膜130と第2の基板210とが接する際に低弾性層223が変形することにより、より密着した形態で接することができる。
その結果、有機EL装置1外部からシール材300を通り抜けて、有機EL装置1内部に水分やガスが侵入したとしても、これらは封止膜130と第2の基板210とにより遮られることになる。よって、外部から侵入した水分やガスによる有機EL素子120の劣化を遅らせることができ、有機EL素子120の長寿命化が期待できる。
Therefore, the sealing film 130 and the second substrate 210 are in contact with each other through the low elastic layer 223 in the outer periphery of the element formation region. For this reason, when the sealing film 130 and the 2nd board | substrate 210 contact, the low elastic layer 223 deform | transforms and it can contact | connect in the form which contact | adhered more closely.
As a result, even if moisture or gas enters through the sealing material 300 from the outside of the organic EL device 1 and enters the inside of the organic EL device 1, these are blocked by the sealing film 130 and the second substrate 210. . Therefore, the deterioration of the organic EL element 120 due to moisture or gas entering from the outside can be delayed, and the life of the organic EL element 120 can be expected to be extended.

また、第2の基板210における、素子形成領域の外周に相当する領域に低弾性層223を形成するだけでよいので、周辺領域を拡大する必要はない。
[変形性3−1]
また、図13に示すように、第2の基板210において、素子形成領域に相当する領域の全般にわたって低弾性層223を形成してもよい。図13は、変形例3−1の有機EL装置1の構成を示す部分断面図である。この構成により、第2の基板210と封止膜130とにより有機EL素子120毎に封止することができるので、有機EL素子120内部から発生する水分等が、他の有機EL素子120に拡散するのを防止することができる。
(補足)
以上、本発明に係る有機EL装置1について、実施の形態に基づいて説明したが、本発明は上記実施の形態に限られないことは勿論である。
(1)上記各実施の形態では、隔壁部材220における土台部材221aは、フォトスペーサ230における土台部材221bと同一材料、あるいはBM及びCFの積層であるとしたが、他の材料から形成されていてもよく、土台部材221aの形成のために、別途工程を設けてもよい。
(2)上記各実施の形態では、封止膜130と第2の基板210との間は、不活性ガスで充填された空間であるとしたが、封止膜130と第2の基板210との間には、樹脂封止層が密に充填されていてもよい。この樹脂封止層は、外部からの水分やガスの侵入を防止する目的で配設され、各種透明樹脂材料(エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂等)で構成される。
(3)上記各実施の形態の有機EL装置1では、フォトスペーサ230を有する構成としたが、必ずしも必要ではなく、第1の基板110と第2の基板210との対向間隔が十分に調整可能であれば、形成しなくてもよい。
(4)上記各実施の形態では、ホール注入層122を構成する材料としてMoOx、WOx又はMoxWyOzを用いて説明しているが、Mo(モリブデン)、W(タングステン)以外の金属を用いた場合でも本実施の形態を適用することにより同様の効果を奏することができる。
(5)上記各実施の形態では、発光層124と透明陰極126との間に電子注入層125のみが介挿されているが、これに加えて電子輸送層が介挿されていることとしてもよい。
(6)上記各実施の形態では、バンクの平面形状として、所謂、ピクセルバンクを採用したが、素子形成領域の外周部分にバンクが形成されてさえいれば、その内側が格子状に形成されている必要はなく、例えばストライプ状に形成されているとしてもよい。
(7)上記各実施の形態では、表示装置1000の外観を示さなかったが、例えば、図14に示すような外観を有するものとすることができる。
(8)上記各実施の形態及び上記各変形例をそれぞれ組み合わせるとしてもよい。
In addition, since it is only necessary to form the low elastic layer 223 in a region corresponding to the outer periphery of the element formation region in the second substrate 210, it is not necessary to enlarge the peripheral region.
[Deformability 3-1]
Further, as shown in FIG. 13, the low elastic layer 223 may be formed over the entire region corresponding to the element formation region in the second substrate 210. FIG. 13 is a partial cross-sectional view showing the configuration of the organic EL device 1 of Modification 3-1. With this configuration, each organic EL element 120 can be sealed by the second substrate 210 and the sealing film 130, so that moisture generated from the inside of the organic EL element 120 diffuses to the other organic EL elements 120. Can be prevented.
(Supplement)
As described above, the organic EL device 1 according to the present invention has been described based on the embodiment, but the present invention is not limited to the above embodiment.
(1) In each of the above-described embodiments, the base member 221a in the partition wall member 220 is the same material as the base member 221b in the photo spacer 230, or a laminate of BM and CF, but is formed from other materials. Alternatively, a separate process may be provided for forming the base member 221a.
(2) In each of the above embodiments, the space between the sealing film 130 and the second substrate 210 is a space filled with an inert gas, but the sealing film 130 and the second substrate 210 Between them, the resin sealing layer may be densely filled. This resin sealing layer is disposed for the purpose of preventing moisture and gas from entering from the outside, and is made of various transparent resin materials (epoxy resin, silicone resin, etc.).
(3) In the organic EL device 1 of each of the above embodiments, the photo spacer 230 is provided. However, this is not always necessary, and the facing distance between the first substrate 110 and the second substrate 210 can be sufficiently adjusted. If so, it may not be formed.
(4) In each of the above embodiments, MoOx, WOx or MoxWyOz is used as the material constituting the hole injection layer 122, but even when a metal other than Mo (molybdenum) or W (tungsten) is used. By applying this embodiment, the same effect can be obtained.
(5) In each of the above embodiments, only the electron injection layer 125 is interposed between the light emitting layer 124 and the transparent cathode 126. In addition to this, the electron transport layer may be interposed. Good.
(6) In each of the above embodiments, a so-called pixel bank is adopted as the planar shape of the bank. However, as long as the bank is formed in the outer peripheral portion of the element formation region, the inside is formed in a lattice shape. For example, it may be formed in a stripe shape.
(7) Although the external appearance of the display device 1000 is not shown in each of the above embodiments, for example, the external appearance can be as shown in FIG.
(8) The above embodiments and the above modifications may be combined.

本発明は、例えば、家庭用もしくは公共施設、あるいは業務用の各種表示装置、テレビジョン装置、携帯型電子機器用ディスプレイ等に利用可能である。   The present invention can be used, for example, for home or public facilities, various display devices for business use, television devices, portable electronic device displays, and the like.

100 素子形成基板
110 第1の基板
111 TFT基板
112 平坦化層
120 有機EL素子
121 反射陽極
122 ホール注入層
123 バンク
124 発光層
125 電子注入層
126 透明陰極
130 封止膜
200 封止基板
210 第2の基板
220 隔壁部材
221a、221b 土台部材
222 封止層
223 低弾性層
230 フォトスペーサ
300 シール材
241 ブラックマトリクス
242 カラーフィルタ
100 element formation substrate 110 first substrate 111 TFT substrate 112 planarization layer 120 organic EL element 121 reflective anode 122 hole injection layer 123 bank 124 light emitting layer 125 electron injection layer 126 transparent cathode 130 sealing film 200 sealing substrate 210 second Substrate 220 Partition member 221a, 221b Base member 222 Sealing layer 223 Low elastic layer 230 Photo spacer 300 Sealing material 241 Black matrix 242 Color filter

Claims (16)

第1の基板と、
前記第1の基板上に設けられた複数の有機EL素子と、
前記複数の有機EL素子を被覆する封止膜と、
前記第1の基板と前記複数の有機EL素子を介して対向配置された第2の基板と、
前記第1の基板上における前記複数の有機EL素子が設けられていない領域において、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に前記複数の有機EL素子を取り囲むように設けられたシール材と、
前記第1の基板上における前記複数の有機EL素子が設けられた領域において、前記封止膜と前記第2の基板との間隙に、前記複数の有機EL素子のうち発光機能を有する有効有機EL素子を少なくとも取り囲むように設けられた隔壁部材と
を備える有機EL装置。
A first substrate;
A plurality of organic EL elements provided on the first substrate;
A sealing film covering the plurality of organic EL elements;
A second substrate disposed opposite to the first substrate via the plurality of organic EL elements;
In a region where the plurality of organic EL elements are not provided on the first substrate, a seal provided so as to surround the plurality of organic EL elements in a gap between the first substrate and the second substrate. Material,
An effective organic EL having a light emitting function among the plurality of organic EL elements in a gap between the sealing film and the second substrate in a region where the plurality of organic EL elements are provided on the first substrate. An organic EL device comprising: a partition member provided so as to surround at least the element.
前記隔壁部材の外側に位置する各有機EL素子が、ダミー有機EL素子であり、
前記ダミー有機EL素子は、発光機能を有しない有機EL素子である
請求項1記載の有機EL装置。
Each organic EL element located outside the partition member is a dummy organic EL element,
The organic EL device according to claim 1, wherein the dummy organic EL element is an organic EL element having no light emitting function.
前記ダミー有機EL素子は、前記有効有機EL素子と同一構成である
請求項2記載の有機EL装置。
The organic EL device according to claim 2, wherein the dummy organic EL element has the same configuration as the effective organic EL element.
前記隔壁部材はさらに、前記ダミー有機EL素子が形成されているダミー領域において、前記ダミー有機EL素子毎に区画するように形成されている
請求項2または3記載の有機EL装置。
The organic EL device according to claim 2, wherein the partition member is further formed so as to be divided for each dummy organic EL element in a dummy region where the dummy organic EL element is formed.
前記隔壁部材はさらに、前記複数の有機EL素子を所定数毎に区画するように形成されている
請求項1〜3の何れかに記載の有機EL装置。
The organic EL device according to claim 1, wherein the partition member is further formed so as to partition the plurality of organic EL elements every predetermined number.
前記所定数は、1である
請求項5記載の有機EL装置。
The organic EL device according to claim 5, wherein the predetermined number is one.
前記隔壁部材は、土台部材と当該土台部材を被覆する被覆部材とを含み、当該被覆部材が封止性を有する材料からなる
請求項1記載の有機EL装置。
The organic EL device according to claim 1, wherein the partition member includes a base member and a covering member that covers the base member, and the covering member is made of a material having a sealing property.
前記隔壁部材における、前記封止膜と接する部分の弾性率が、前記封止膜の弾性率より小さい
請求項1記載の有機EL装置。
The organic EL device according to claim 1, wherein an elastic modulus of a portion of the partition wall member in contact with the sealing film is smaller than an elastic modulus of the sealing film.
前記隔壁部材は、積層構造を有しており、
前記封止膜と接する層が有機材料からなり、その膜厚が20nm以上で、かつ、100nm以下であり、
前記隔壁部材における他の層が有機材料より封止性の高い材料からなり、その膜厚が前記封止膜と接する層の膜厚よりも厚い
請求項1記載の有機EL装置。
The partition member has a laminated structure,
The layer in contact with the sealing film is made of an organic material, and the film thickness is 20 nm or more and 100 nm or less,
The organic EL device according to claim 1, wherein another layer of the partition member is made of a material having a higher sealing property than an organic material, and a film thickness thereof is larger than a film thickness of a layer in contact with the sealing film.
前記第1の基板、前記第2の基板、及び前記シール材により形成される閉空間、並びに前記第1の基板、前記第2の基板、及び前記隔壁部材により形成される閉空間が大気圧よりも低圧である
請求項1記載の有機EL装置。
The closed space formed by the first substrate, the second substrate, and the sealing material, and the closed space formed by the first substrate, the second substrate, and the partition member are at atmospheric pressure. The organic EL device according to claim 1, which is also low pressure.
前記第1の基板、前記第2の基板、及び前記シール材により形成される閉空間、並びに前記第1の基板、前記第2の基板、及び前記隔壁部材により形成される閉空間には、不活性ガスが充填されている
請求項10記載の有機EL装置。
The closed space formed by the first substrate, the second substrate, and the sealing material, and the closed space formed by the first substrate, the second substrate, and the partition member are not allowed. The organic EL device according to claim 10, which is filled with an active gas.
前記封止膜が、少なくとも、SiO,SiON,SiN,SiC,SiOC,AlN,Al2O3の何れかからなる
請求項1記載の有機EL装置。
The organic EL device according to claim 1, wherein the sealing film is made of at least one of SiO, SiON, SiN, SiC, SiOC, AlN, and Al 2 O 3.
前記隔壁部材が、封止部材と、当該封止部材を被覆し前記封止膜と接する被覆部材とを含み、
前記封止部材が、少なくともSiO,SiON,SiN,SiC,SiOC,AlN,Al2O3の何れかからなり、
前記被覆部材が、有機材料からなる
請求項1記載の有機EL装置。
The partition member includes a sealing member and a covering member that covers the sealing member and contacts the sealing film,
The sealing member is made of at least one of SiO, SiON, SiN, SiC, SiOC, AlN, Al2O3,
The organic EL device according to claim 1, wherein the covering member is made of an organic material.
前記隔壁部材における、前記封止膜と接する部分の材料がポリパラキシリレン樹脂である
請求項1記載の有機EL装置。
The organic EL device according to claim 1, wherein a material of a portion of the partition member that contacts the sealing film is a polyparaxylylene resin.
第1の基板上に複数の有機EL素子を形成する第1工程と、
前記複数の有機EL素子を被覆する封止膜を形成する第2工程と、
第2の基板を前記第1の基板と前記複数の有機EL素子を介して対向配置させた場合に、当該第2の基板上であって、前記第1の基板上における前記複数の有機EL素子が設けられた領域に相当する領域に隔壁部材を形成する第3工程と、
前記隔壁部材が形成された第2の基板を前記第1の基板と前記複数の有機EL素子を介して対向配置させる第4工程と
前記第1の基板上における前記複数の有機EL素子が設けられていない領域において、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙をシール材により接合する第5工程と
を備え、
前記隔壁部材が、前記封止膜と前記第2の基板との間隙に配置され、前記複数の有機EL素子のうち発光機能を有する有効有機EL素子を少なくとも取り囲む
有機EL装置の製造方法。
A first step of forming a plurality of organic EL elements on a first substrate;
A second step of forming a sealing film covering the plurality of organic EL elements;
When the second substrate is disposed opposite to the first substrate via the plurality of organic EL elements, the plurality of organic EL elements on the first substrate is on the second substrate. A third step of forming a partition member in a region corresponding to the region provided with,
A fourth step of disposing the second substrate on which the partition wall member is formed facing the first substrate via the plurality of organic EL elements; and the plurality of organic EL elements on the first substrate. A fifth step of bonding a gap between the first substrate and the second substrate with a sealing material in a region that is not
A method of manufacturing an organic EL device, wherein the partition member is disposed in a gap between the sealing film and the second substrate, and at least surrounds an effective organic EL element having a light emitting function among the plurality of organic EL elements.
第1の基板と、
前記第1の基板上に設けられた複数の有機EL素子と、
前記複数の有機EL素子を被覆する封止膜と、
前記第1の基板と前記複数の有機EL素子を介して対向配置された第2の基板と、
前記第1の基板上における前記複数の有機EL素子が設けられていない領域において、前記第1の基板と前記第2の基板との間隙に前記複数の有機EL素子を取り囲むように設けられたシール材と、
前記第2の基板において前記第1の基板と対向する対向面を被覆する被覆膜とを備え、
前記被覆膜は、その弾性率が前記封止膜の弾性率より低く、
前記被覆膜を介して、前記封止膜と前記第2の基板とが接している
有機EL装置。
A first substrate;
A plurality of organic EL elements provided on the first substrate;
A sealing film covering the plurality of organic EL elements;
A second substrate disposed opposite to the first substrate via the plurality of organic EL elements;
In a region where the plurality of organic EL elements are not provided on the first substrate, a seal provided so as to surround the plurality of organic EL elements in a gap between the first substrate and the second substrate. Material,
A coating film that covers a facing surface of the second substrate facing the first substrate;
The coating film has an elastic modulus lower than that of the sealing film,
An organic EL device in which the sealing film is in contact with the second substrate through the coating film.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013122150A1 (en) * 2012-02-15 2013-08-22 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrode and electronic device
JPWO2013122131A1 (en) * 2012-02-15 2015-05-18 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrodes and electronic devices
WO2019167113A1 (en) * 2018-02-27 2019-09-06 シャープ株式会社 Display panel

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013122150A1 (en) * 2012-02-15 2013-08-22 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrode and electronic device
JPWO2013122131A1 (en) * 2012-02-15 2015-05-18 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrodes and electronic devices
JPWO2013122150A1 (en) * 2012-02-15 2015-05-18 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrodes and electronic devices
WO2019167113A1 (en) * 2018-02-27 2019-09-06 シャープ株式会社 Display panel

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