JP2011144054A - Method for producing graphite intercalation compound - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for safely producing a graphite intercalation compound (GIC) with a metal halide intercalated between graphite layers at a temperature of ≤200°C without using any halogen gas. <P>SOLUTION: The method for producing a graphite intercalation compound comprises reacting graphite with a metal halide in at least one organic solvent selected from aliphatic halides, aromatic halides and aromatic nitro compounds. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、グラファイト層間化合物の製造方法に関し、より詳しくは、グラファイトの層間に金属ハロゲン化物が挿入された層間化合物の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a graphite intercalation compound, and more particularly to a method for producing an intercalation compound in which a metal halide is inserted between graphite layers.

グラファイトの層間に金属ハロゲン化物を挿入させたグラファイト層間化合物(以下、「GIC」と略す)は、高い導電性を示し、空気中において安定であることから導電材料や電池材料として注目されている。また、GICは、触媒や有機化グラファイトの中間原料としても有用である。   A graphite intercalation compound (hereinafter abbreviated as “GIC”) in which a metal halide is inserted between graphite layers has attracted attention as a conductive material and a battery material because it exhibits high conductivity and is stable in the air. GIC is also useful as an intermediate material for catalysts and organic graphite.

このようなGICは、従来、グラファイトと金属ハロゲン化物とを、ハロゲンガス雰囲気下において200℃以上の高温で反応させることによって合成されていた〔例えば、特開昭63−295412号公報(特許文献1)、特開平1−208308号公報(特許文献2)参照〕。しかしながら、このような合成方法は、ハロゲンガスを供給する必要があること、高温での反応であることなど、安全性の観点から工業的な製造には不向きであった。   Conventionally, such GIC has been synthesized by reacting graphite and a metal halide at a high temperature of 200 ° C. or higher in a halogen gas atmosphere [for example, Japanese Patent Laid-Open No. 63-295212 (Patent Document 1). ), JP-A-1-208308 (Patent Document 2)]. However, such a synthesis method is not suitable for industrial production from the viewpoint of safety, such as the necessity of supplying a halogen gas and the reaction at a high temperature.

また、特開昭63−277507号公報(特許文献3)には、塩素ガスを供給する代わりに塩素化合物を分解して塩素雰囲気を作りだし、GICを製造する方法が開示されている。しかしながら、この方法も塩素ガス雰囲気下、高温でグラファイトと金属ハロゲン化物とを反応させることには変わらず、安全性の観点から未だ改良の余地があった。   Japanese Patent Laid-Open No. 63-277507 (Patent Document 3) discloses a method for producing a GIC by decomposing a chlorine compound to create a chlorine atmosphere instead of supplying chlorine gas. However, this method is still the same as reacting graphite and metal halide at a high temperature in a chlorine gas atmosphere, and there is still room for improvement from the viewpoint of safety.

一方、特開昭62−41706号公報(特許文献4)および特開平2−153812号公報(特許文献5)には、ハロゲンガスを使用せず、真空下でGICを製造する方法が開示されている。特許文献4に記載の方法では、ハロゲンガスを使用しないという点で安全ではあるものの、目的とする金属塩化物以外に他の金属塩化物を共存させるため、GICに目的とするに金属塩化物以外の金属塩化物が混入するおそれがあった。また、特許文献5に記載の方法は、2種類以上の金属ハロゲン化物を挿入することを目的とする方法である。   On the other hand, Japanese Patent Laid-Open No. 62-41706 (Patent Document 4) and Japanese Patent Laid-Open No. 2-153812 (Patent Document 5) disclose a method for producing GIC under vacuum without using a halogen gas. Yes. Although the method described in Patent Document 4 is safe in that no halogen gas is used, other metal chlorides coexist in addition to the target metal chloride. There was a possibility that the metal chloride of the mixture. The method described in Patent Document 5 is a method for inserting two or more kinds of metal halides.

特開昭63−295412号公報Japanese Patent Laid-Open No. 63-295212 特開平1−208308号公報JP-A-1-208308 特開昭63−277507号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 63-277507 特開昭62−41706号公報JP-A-62-41706 特開平2−153812号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-153812

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、グラファイトの層間に金属ハロゲン化物が挿入されたグラファイト層間化合物(GIC)を、ハロゲンガスを使用せず、200℃以下の温度で安全に製造することが可能な方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art. A graphite intercalation compound (GIC) in which a metal halide is inserted between graphite layers is used at a temperature of 200 ° C. or less without using a halogen gas. An object of the present invention is to provide a method that can be manufactured safely by using a computer.

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の有機溶媒中でグラファイトと金属ハロゲン化物を反応させることによって、ハロゲンガスを使用せず、200℃以下の温度で安全にGICを製造することが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have made it safe to react at a temperature of 200 ° C. or less without using a halogen gas by reacting graphite with a metal halide in a specific organic solvent. The inventors have found that it is possible to produce GIC, and have completed the present invention.

すなわち、本発明のグラファイト層間化合物の製造方法は、脂肪族ハロゲン化物、芳香族ハロゲン化物および芳香族ニトロ化物から選択される少なくとも1種の有機溶媒中で、グラファイトと金属ハロゲン化物を反応させることを特徴とする方法である。   That is, the method for producing a graphite intercalation compound of the present invention comprises reacting graphite with a metal halide in at least one organic solvent selected from aliphatic halides, aromatic halides and aromatic nitrates. It is a characteristic method.

本発明に用いられる有機溶媒としては、炭素数1〜10の脂肪族ハロゲン化物および炭素数6〜10の芳香族ハロゲン化物から選択される少なくとも1種の有機溶媒が好ましく、また、前記有機溶媒の25℃における前記金属ハロゲン化物の飽和濃度は1g/L以上であることが好ましい。他方、本発明に用いられる金属ハロゲン化物としては塩化アルミニウムが好ましい。   The organic solvent used in the present invention is preferably at least one organic solvent selected from an aliphatic halide having 1 to 10 carbon atoms and an aromatic halide having 6 to 10 carbon atoms. The saturation concentration of the metal halide at 25 ° C. is preferably 1 g / L or more. On the other hand, aluminum chloride is preferred as the metal halide used in the present invention.

本発明のグラファイト層間化合物の製造方法において、グラファイトと金属ハロゲン化物を反応させる際の温度は200℃以下であることが好ましい。   In the method for producing a graphite intercalation compound of the present invention, the temperature at which graphite and a metal halide are reacted is preferably 200 ° C. or lower.

なお、本発明のGICの製造方法によって200℃以下の温度でグラファイトの層間に金属ハロゲン化物を挿入できる理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推察する。すなわち、本発明のGICの製造方法においては、有機溶媒に溶解した金属ハロゲン化物がグラファイトの層間に入り込むと推察される。この場合、溶解した金属ハロゲン化分子の周囲には有機溶媒分子が存在し、この有機溶媒分子がグラファイトと金属ハロゲン化物との反応を媒介するため、200℃以下の温度でもグラファイトの層間に金属ハロゲン化物を容易に挿入できると推察される。   The reason why the metal halide can be inserted between the graphite layers at a temperature of 200 ° C. or lower by the GIC manufacturing method of the present invention is not necessarily clear, but the present inventors speculate as follows. That is, in the GIC manufacturing method of the present invention, it is presumed that the metal halide dissolved in the organic solvent enters the graphite layer. In this case, organic solvent molecules exist around the dissolved metal halide molecules, and these organic solvent molecules mediate the reaction between graphite and the metal halide. It is assumed that the compound can be easily inserted.

また、本発明のGICの製造方法において特定の有機溶媒を用いることによってグラファイトの層間に金属ハロゲン化物を挿入できる理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推察する。すなわち、グラファイトの層間に挿入される金属ハロゲン化物はルイス酸であり、層間挿入(インターカレーション)の駆動力は、ルイス酸である金属ハロゲン化物とグラファイトの芳香族間との間における電荷移動錯体形成であると推察される。また、グラファイトの層間に入り込む金属ハロゲン化物は有機溶媒に溶解した金属ハロゲン化物であると推察される。本発明に用いられる脂肪族ハロゲン化物、芳香族ハロゲン化物、芳香族ニトロ化物は、金属ハロゲン化物のルイス酸性を低下させることなく、金属ハロゲン化物を溶解させることが可能な溶媒であるため、上述したような電荷移動錯体が形成しやすく、金属ハロゲン化物がグラファイトの層間に容易に挿入されると推察される。   In addition, although the reason why a metal halide can be inserted between graphite layers by using a specific organic solvent in the GIC production method of the present invention is not necessarily clear, the present inventors infer as follows. That is, the metal halide inserted between the graphite layers is a Lewis acid, and the intercalation driving force is a charge transfer complex between the metal halide which is a Lewis acid and the aromatic of the graphite. Inferred to be formation. Further, it is presumed that the metal halide entering the graphite layer is a metal halide dissolved in an organic solvent. Since the aliphatic halide, aromatic halide, and aromatic nitrate used in the present invention are solvents capable of dissolving the metal halide without reducing the Lewis acidity of the metal halide, they are described above. Such a charge transfer complex is easily formed, and it is assumed that the metal halide is easily inserted between the graphite layers.

本発明によれば、グラファイトの層間に金属ハロゲン化物が挿入されたグラファイト層間化合物(GIC)を、ハロゲンガスを使用せず、200℃以下の温度で安全に製造することが可能となる。   According to the present invention, a graphite intercalation compound (GIC) in which a metal halide is inserted between graphite layers can be safely produced at a temperature of 200 ° C. or less without using a halogen gas.

本発明における金属ハロゲン化物−グラファイト層間化合物の生成過程を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the production | generation process of the metal halide-graphite intercalation compound in this invention. 実施例1で得た塩化アルミニウム−グラファイト層間化合物のX線回折パターンを示すグラフである。2 is a graph showing an X-ray diffraction pattern of the aluminum chloride-graphite intercalation compound obtained in Example 1. FIG. 図2Aに示すX線回折パターンの2θ=20〜30°の範囲を拡大したグラフである。It is the graph which expanded the range of 2 (theta) = 20-30 degrees of the X-ray diffraction pattern shown to FIG. 2A. 実施例2で得た塩化アルミニウム−グラファイト層間化合物のX線回折パターンを示すグラフである。4 is a graph showing an X-ray diffraction pattern of the aluminum chloride-graphite intercalation compound obtained in Example 2. 図3Aに示すX線回折パターンの2θ=20〜30°の範囲を拡大したグラフである。It is the graph which expanded the range of 2 (theta) = 20-30 degrees of the X-ray diffraction pattern shown to FIG. 3A. 実施例3で得た塩化アルミニウム−グラファイト層間化合物のX線回折パターンを示すグラフである。4 is a graph showing an X-ray diffraction pattern of the aluminum chloride-graphite intercalation compound obtained in Example 3. 実施例4で得た塩化アルミニウム−グラファイト層間化合物のX線回折パターンを示すグラフである。4 is a graph showing an X-ray diffraction pattern of the aluminum chloride-graphite intercalation compound obtained in Example 4. 実施例5で得た塩化アルミニウム−グラファイト層間化合物のX線回折パターンを示すグラフである。6 is a graph showing an X-ray diffraction pattern of the aluminum chloride-graphite intercalation compound obtained in Example 5. グラファイトのX線回折パターンを示すグラフである。It is a graph which shows the X-ray-diffraction pattern of graphite. 図7Aに示すX線回折パターンの2θ=20〜30°の範囲を拡大したグラフである。It is the graph which expanded the range of 2 (theta) = 20-30 degrees of the X-ray diffraction pattern shown to FIG. 7A.

以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to preferred embodiments thereof.

本発明のGICの製造方法は、特定の有機溶媒中でグラファイトと金属ハロゲン化物を反応させることによって、グラファイトの層間に金属ハロゲン化物を挿入させる方法である。   The GIC production method of the present invention is a method in which a metal halide is inserted between graphite layers by reacting graphite with a metal halide in a specific organic solvent.

本発明に用いられる金属ハロゲン化物を構成する金属原子としては、ハロゲン化物を形成するものであれば特に制限はないが、GICを形成できるという観点から、アルミニウム原子、カルシウム原子、クロム原子、マンガン原子、鉄原子、コバルト原子、ニッケル原子、銅原子、亜鉛原子、カドミウム原子、バリウム原子、タングステン原子などが好ましく、安価で適度なルイス酸性を有し、層間挿入後に重合開始能(カチオン重合、配位重合、酸化重合)を有するという観点から、アルミニウム原子が特に好ましい。   The metal atom constituting the metal halide used in the present invention is not particularly limited as long as it forms a halide, but from the viewpoint that GIC can be formed, an aluminum atom, a calcium atom, a chromium atom, a manganese atom , Iron atom, cobalt atom, nickel atom, copper atom, zinc atom, cadmium atom, barium atom, tungsten atom, etc. are preferred, inexpensive and have appropriate Lewis acidity, polymerization initiation ability after intercalation (cation polymerization, coordination) From the viewpoint of having polymerization and oxidative polymerization, an aluminum atom is particularly preferable.

また、前記金属ハロゲン化物を構成するハロゲン原子としては特に制限はないが、金属ハロゲン化物の入手容易性と安定性の観点から、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、塩素原子が特に好ましい。   Moreover, the halogen atom constituting the metal halide is not particularly limited, but from the viewpoint of availability and stability of the metal halide, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are preferable, and a chlorine atom is preferable. Particularly preferred.

このような金属ハロゲン化物のうち、精製しやすく、安価で適度なルイス酸を有し、層間挿入後に重合開始能(カチオン重合、配位重合、酸化重合)を有するという観点から、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ化アルミニウム、塩化鉄、臭化鉄が好ましく、塩化アルミニウムが特に好ましい。   Among these metal halides, aluminum chloride, odor are easily purified, have an inexpensive Lewis acid, and have a polymerization initiation ability (cation polymerization, coordination polymerization, oxidation polymerization) after intercalation. Aluminum chloride, aluminum iodide, iron chloride and iron bromide are preferred, and aluminum chloride is particularly preferred.

本発明のGICの製造方法においては、このような金属ハロゲン化物とグラファイトを、特定の有機溶媒中で反応させる。このような有機溶媒としては、脂肪族ハロゲン化物、芳香族ハロゲン化物、芳香族ニトロ化物が挙げられる。これらの有機溶媒は1種を単独で使用しても2種以上を混合して使用してもよい。これらの有機溶媒のうち、グラファイトと金属ハロゲン化物との反応速度が速く、GICを高収率で製造でき、金属ハロゲン化物の溶解性が高いという観点から、脂肪族ハロゲン化物、芳香族ハロゲン化物が好ましく、脂肪族ハロゲン化物がより好ましい。   In the GIC production method of the present invention, such a metal halide and graphite are reacted in a specific organic solvent. Examples of such organic solvents include aliphatic halides, aromatic halides, and aromatic nitrates. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. Among these organic solvents, aliphatic halides and aromatic halides are used from the viewpoint that the reaction rate between graphite and metal halide is fast, GIC can be produced in high yield, and the solubility of metal halide is high. Preferably, an aliphatic halide is more preferable.

前記脂肪族ハロゲン化物としては、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ジクロロエチレン、トリクレン、クロロプロパン、ジクロロプロパン、クロロブタン、クロロペンタン、クロロヘキサンといった脂肪族塩化物;ブロモエタン、ブロモプロパン、ブロモヘキサンといった脂肪族臭化物;ヨードメタン、ヨードエタンといった脂肪族ヨウ化物などが挙げられる。中でも、金属ハロゲン化物との相互作用が強く、金属ハロゲン化物がグラファイトの層間に入り込みやすくなるという観点から、炭素数1〜10の脂肪族ハロゲン化物が好ましく、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタンがより好ましい。   Examples of the aliphatic halide include aliphatic chlorides such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, dichloroethylene, trichlene, chloropropane, dichloropropane, chlorobutane, chloropentane, and chlorohexane; aliphatics such as bromoethane, bromopropane, and bromohexane. Examples include bromides; aliphatic iodides such as iodomethane and iodoethane. Among these, aliphatic halides having 1 to 10 carbon atoms are preferred from the viewpoint that the interaction with the metal halide is strong and the metal halide easily enters the graphite layer, and dichloromethane, chloroform, and 1,2-dichloroethane are preferred. More preferred.

前記芳香族ハロゲン化物としては、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン(o−体、m−体、p−体、およびこれらの混合物)、トリクロロベンゼンといった芳香族塩化物;ブロモベンゼン、ジブロモベンゼンといった芳香族臭化物;ヨードベンゼンに代表される芳香族ヨウ化物などが挙げられる。中でも、金属ハロゲン化物との相互作用が強く、金属ハロゲン化物がグラファイトの層間に入り込みやすくなるという観点から、炭素数6〜10の芳香族ハロゲン化物が好ましく、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン(o−体、m−体、p−体、およびこれらの混合物)がより好ましい。   Examples of the aromatic halide include chlorobenzene, dichlorobenzene (o-isomer, m-isomer, p-isomer, and mixtures thereof), aromatic chlorides such as trichlorobenzene; aromatic bromides such as bromobenzene and dibromobenzene; iodo Aromatic iodides such as benzene are listed. Of these, aromatic halides having 6 to 10 carbon atoms are preferred from the viewpoint that the interaction with the metal halide is strong and the metal halide easily enters the interlayer of graphite, and chlorobenzene, dichlorobenzene (o-form, m -Forms, p-forms, and mixtures thereof) are more preferred.

前記芳香族ニトロ化物としては、ニトロベンゼン、ニトロトルエン(o−体、m−体、p−体)などが挙げられる。中でも、工業的な入手のし易さ、精製のし易さ、融点という観点から、炭素数6の芳香族ニトロ化物が好ましく、ニトロベンゼン、ニトロトルエンがより好ましい。   Examples of the aromatic nitrate include nitrobenzene, nitrotoluene (o-isomer, m-isomer, p-isomer) and the like. Among these, from the viewpoint of industrial availability, ease of purification, and melting point, aromatic nitrates having 6 carbon atoms are preferable, and nitrobenzene and nitrotoluene are more preferable.

また、本発明に用いられる有機溶媒においては、使用する金属ハロゲン化物の飽和濃度が25℃において1g/L以上であることが好ましく、10g/L以上であることがより好ましい。使用する金属ハロゲン化物の飽和濃度が前記下限未満になると、有機溶媒に溶解している金属ハロゲン化物の量が少なく、十分な量の金属酸化物をグラファイトの層間に挿入するのが困難となる傾向にある。このような25℃における金属ハロゲン化物の飽和濃度が1g/L以上の有機溶媒としては、クロロヘキサン、クロロブタン、クロロペンタン、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,2−ジクロロエチレン、クロロベンゼンが挙げられ、10g/L以上の有機溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,2−ジクロロエチレン、クロロベンゼンが挙げられる。   In the organic solvent used in the present invention, the saturation concentration of the metal halide to be used is preferably 1 g / L or more at 25 ° C., more preferably 10 g / L or more. When the saturation concentration of the metal halide used is less than the lower limit, the amount of metal halide dissolved in the organic solvent is small, and it is difficult to insert a sufficient amount of metal oxide between the graphite layers. It is in. Examples of the organic solvent having a metal halide saturation concentration of 1 g / L or more at 25 ° C. include chlorohexane, chlorobutane, chloropentane, dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, 1,2-dichloroethylene, and chlorobenzene. Examples of the organic solvent of 10 g / L or more include dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, 1,2-dichloroethylene, and chlorobenzene.

さらに、本発明のGICの製造方法においては、金属ハロゲン化物との相互作用がより強くなり、金属ハロゲン化物がグラファイトの層間により挿入されやすくなるという観点から、挿入する金属ハロゲン化物のハロゲン原子と同じハロゲン原子を有する脂肪族ハロゲン化物および芳香族ハロゲン化物から選択される少なくとも1種の有機溶媒を使用することが特に好ましい。例えば、金属塩化物を挿入する場合には、脂肪族塩化物および芳香族塩化物から選択される少なくとも1種の有機溶媒を使用することが好ましい。   Furthermore, in the GIC production method of the present invention, the interaction with the metal halide becomes stronger, and the metal halide is the same as the halogen atom of the metal halide to be inserted from the viewpoint that the metal halide is easily inserted between the graphite layers. It is particularly preferred to use at least one organic solvent selected from aliphatic halides having a halogen atom and aromatic halides. For example, when inserting metal chloride, it is preferable to use at least one organic solvent selected from aliphatic chloride and aromatic chloride.

本発明のGICの製造方法においては、先ず、前記有機溶媒にグラファイトと金属ハロゲン化物を添加して混合物を調製する。グラファイトの添加量としては、有機溶媒1Lに対して0.1〜500gが好ましく、0.1〜100gがより好ましく、1〜10gが特に好ましい。グラファイトの添加量が前記下限未満になるとグラファイトと金属ハロゲン化物が反応しにくく、GICの収率が低下する傾向にある。他方、前記上限を超えると、撹拌が困難となるため、均一な反応が困難となる傾向にある。   In the GIC production method of the present invention, first, a mixture is prepared by adding graphite and a metal halide to the organic solvent. The amount of graphite added is preferably 0.1 to 500 g, more preferably 0.1 to 100 g, and particularly preferably 1 to 10 g with respect to 1 L of the organic solvent. If the amount of graphite added is less than the lower limit, the graphite and metal halide are less likely to react, and the yield of GIC tends to decrease. On the other hand, when the upper limit is exceeded, stirring becomes difficult, and thus a uniform reaction tends to be difficult.

また、金属ハロゲン化物の添加量としては、有機溶媒1Lに対して0.1〜500gが好ましく、0.1〜100gがより好ましく、0.1〜50gが特に好ましい。金属ハロゲン化物の添加量が前記下限未満になるとグラファイトと金属ハロゲン化物が反応しにくく、GICの収率が低下する傾向にある。他方、前記上限を超えると、撹拌が困難となるため、均一な反応が困難となる傾向にある。   Moreover, as addition amount of a metal halide, 0.1-500g is preferable with respect to 1L of organic solvents, 0.1-100g is more preferable, 0.1-50g is especially preferable. If the added amount of the metal halide is less than the lower limit, the graphite and the metal halide are difficult to react, and the yield of GIC tends to decrease. On the other hand, when the upper limit is exceeded, stirring becomes difficult, and thus a uniform reaction tends to be difficult.

次に、前記有機溶媒中においてグラファイトと金属ハロゲン化物を反応させる。反応温度としては、グラファイトと金属ハロゲン化物が反応する温度であれば特に制限はないが、安全性の観点から、200℃以下が好ましく、150℃以下がより好ましく、100℃以下が特に好ましい。他方、反応温度の下限としては、−10℃以上が好ましく、0℃以上がより好ましく、20℃以上が特に好ましい。反応温度が前記下限未満になるとグラファイトと金属ハロゲン化物の反応が十分に進行せずGICの収率が低下する傾向にある。   Next, graphite and a metal halide are reacted in the organic solvent. The reaction temperature is not particularly limited as long as it is a temperature at which graphite reacts with a metal halide, but is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower, and particularly preferably 100 ° C. or lower from the viewpoint of safety. On the other hand, the lower limit of the reaction temperature is preferably −10 ° C. or higher, more preferably 0 ° C. or higher, and particularly preferably 20 ° C. or higher. When the reaction temperature is less than the lower limit, the reaction between graphite and metal halide does not proceed sufficiently, and the yield of GIC tends to decrease.

本発明における反応時間としては、0.05〜10日間が好ましく、0.1〜5日間がより好ましく、1〜5日間が特に好ましい。反応時間が前記下限未満になるとグラファイトと金属ハロゲン化物の反応が十分に進行せず、GICの収率が低下する傾向にある。他方、前記上限を超えて反応させてもそれ以上の収率向上の効果が得られにくい傾向にある。   The reaction time in the present invention is preferably 0.05 to 10 days, more preferably 0.1 to 5 days, and particularly preferably 1 to 5 days. When the reaction time is less than the lower limit, the reaction between graphite and metal halide does not proceed sufficiently, and the yield of GIC tends to decrease. On the other hand, even if the reaction is carried out in excess of the above upper limit, it is difficult to obtain a further yield improvement effect.

また、本発明においては、グラファイトと金属ハロゲン化物の反応は前記有機溶媒中で行われるが、反応容器の気相部分は、不活性ガスで置換されていることが好ましい。これにより、生成するGICの水、CO、Oによる分解を回避させることが可能となる。前記不活性ガスとしては特に制限はなく、窒素ガス、アルゴンガス、乾燥空気、ヘリウムなどが挙げられる。 In the present invention, the reaction between graphite and metal halide is carried out in the organic solvent, but the gas phase portion of the reaction vessel is preferably replaced with an inert gas. Thus, it is possible to avoid water production to GIC, the degradation by CO 2, O 2. There is no restriction | limiting in particular as said inert gas, Nitrogen gas, argon gas, dry air, helium etc. are mentioned.

このようなグラファイトと金属ハロゲン化物の反応により、金属ハロゲン化物はグラファイトの層間に挿入され、GICが形成される。このGICは、従来の高温気相法により製造されたGICと同じ構造を有するものであり、この構造は、X線回折測定により得られるX線回折パターンを比較することにより確認することができる。   Due to the reaction between graphite and metal halide, the metal halide is inserted between the graphite layers, and GIC is formed. This GIC has the same structure as a GIC manufactured by a conventional high-temperature gas phase method, and this structure can be confirmed by comparing X-ray diffraction patterns obtained by X-ray diffraction measurement.

以下、実施例および比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example.

(実施例1)
塩化アルミニウムの飽和濃度(25℃)が60g/Lである1,2−ジクロロエタン7mlに塩化アルミニウム183mgとグラファイト40mgと添加して混合物を調製し、この混合物を、不活性ガス雰囲気下、耐圧反応器に密封し、80℃で加熱しながら3日間撹拌した。得られた固形分をガラス板上にキャストしてX線回折測定を行なった。その結果を図2Aおよび図2Bに示す。また、グラファイトのみのX線回折パターンを図7Aおよび図7Bに示す。
Example 1
A mixture was prepared by adding 183 mg of aluminum chloride and 40 mg of graphite to 7 ml of 1,2-dichloroethane having a saturated aluminum chloride concentration (25 ° C.) of 60 g / L, and this mixture was added to a pressure-resistant reactor in an inert gas atmosphere. And stirred for 3 days while heating at 80 ° C. The obtained solid content was cast on a glass plate and X-ray diffraction measurement was performed. The results are shown in FIGS. 2A and 2B. Further, X-ray diffraction patterns of only graphite are shown in FIGS. 7A and 7B.

図7Aおよび図7Bに示したように、グラファイトのX線回折パターンにおいては2θ=27°付近に1本の回折ピークが観察されるのに対して、前記固形分のX線回折パターンにおいては、図2Aおよび図2Bに示したように複数の回折ピークが観察された。また、図2Aおよび図2Bに示したX線回折パターンは、従来の高温気相法(220℃)により合成された塩化アルミニウム−グラファイト層間化合物のX線回折パターン(Joint Committee on Powder Diffraction Standards(JDPDS):#7−34)と一致した。   As shown in FIGS. 7A and 7B, in the X-ray diffraction pattern of graphite, one diffraction peak is observed around 2θ = 27 °, whereas in the X-ray diffraction pattern of the solid content, A plurality of diffraction peaks were observed as shown in FIGS. 2A and 2B. 2A and 2B are X-ray diffraction patterns (Joint Committee on Powder Diffraction Standards (JDPDS) of an aluminum chloride-graphite intercalation compound synthesized by a conventional high-temperature vapor phase method (220 ° C.). ): # 7-34).

このことから、1,2−ジクロロエタン中でグラファイトと塩化アルミニウムが反応し、グラファイトの層間に塩化アルミニウムが挿入された塩化アルミニウム−グラファイト層間化合物が形成されたことが確認された。また、グラファイトと塩化アルミニウムを、1,2−ジクロロエタン中、80℃で3日間撹拌して反応させると、全てのグラファイトを塩化アルミニウム−グラファイト層間化合物に変換できることが分かった。   From this, it was confirmed that graphite and aluminum chloride reacted in 1,2-dichloroethane to form an aluminum chloride-graphite intercalation compound in which aluminum chloride was inserted between the graphite layers. It was also found that when graphite and aluminum chloride were reacted in 1,2-dichloroethane with stirring at 80 ° C. for 3 days, all the graphite could be converted into an aluminum chloride-graphite intercalation compound.

(実施例2)
1,2−ジクロロエタンの代わりに塩化アルミニウムの飽和濃度(25℃)が110g/Lであるニトロベンゼン5mlを用いた以外は実施例1と同様にして塩化アルミニウムとグラファイトの混合物を撹拌した。得られた固形分のX線回折パターンを図3Aおよび図3Bに示す。
(Example 2)
A mixture of aluminum chloride and graphite was stirred in the same manner as in Example 1 except that 5 ml of nitrobenzene having a saturated aluminum chloride concentration (25 ° C.) of 110 g / L was used instead of 1,2-dichloroethane. The obtained solid X-ray diffraction patterns are shown in FIGS. 3A and 3B.

このX線回折パターンは前記JDPDS#7−34のX線回折パターンと一致した。このことから、ニトロベンゼン中においてもグラファイトと塩化アルミニウムが反応し、塩化アルミニウム−グラファイト層間化合物が形成されたことが確認された。ただし、ニトロベンゼン中においては、80℃で3日間撹拌しても未反応のグラファイトが一部残存し、塩化アルミニウム−グラファイト層間化合物は、未反応のグラファイトとの混合物として得られることが分かった。   This X-ray diffraction pattern coincided with the X-ray diffraction pattern of JDPDS # 7-34. From this, it was confirmed that graphite and aluminum chloride reacted in nitrobenzene to form an aluminum chloride-graphite intercalation compound. However, it was found that in nitrobenzene, some unreacted graphite remained even after stirring at 80 ° C. for 3 days, and the aluminum chloride-graphite intercalation compound was obtained as a mixture with unreacted graphite.

(実施例3)
1,2−ジクロロエタンの代わりに塩化アルミニウムの飽和濃度(25℃)が60g/Lであるクロロホルム7mlを用い、撹拌時の温度を70℃に変更した以外は実施例1と同様にして塩化アルミニウムとグラファイトの混合物を撹拌した。得られた固形分のX線回折パターンを図4に示す。このX線回折パターンは前記JDPDS#7−34のX線回折パターンと一致した。このことから、クロロホルム中においてもグラファイトと塩化アルミニウムが反応し、塩化アルミニウム−グラファイト層間化合物が形成されたことが確認された。
(Example 3)
In place of 1,2-dichloroethane, 7 ml of chloroform having a saturated aluminum chloride concentration (25 ° C.) of 60 g / L was used, and the temperature at the time of stirring was changed to 70 ° C. The graphite mixture was stirred. The X-ray diffraction pattern of the obtained solid content is shown in FIG. This X-ray diffraction pattern coincided with the X-ray diffraction pattern of JDPDS # 7-34. From this, it was confirmed that graphite and aluminum chloride reacted in chloroform and an aluminum chloride-graphite intercalation compound was formed.

(実施例4)
1,2−ジクロロエタンの代わりに塩化アルミニウムの飽和濃度(25℃)が13g/Lであるジクロロメタン7mlを用い、撹拌時の温度を50℃に変更した以外は実施例1と同様にして塩化アルミニウムとグラファイトの混合物を撹拌した。得られた固形分のX線回折パターンを図5に示す。このX線回折パターンは前記JDPDS#7−34のX線回折パターンと一致した。このことから、ジクロロメタン中においてもグラファイトと塩化アルミニウムが反応し、塩化アルミニウム−グラファイト層間化合物が形成されたことが確認された。
Example 4
In place of 1,2-dichloroethane, 7 ml of dichloromethane having a saturated aluminum chloride concentration (25 ° C.) of 13 g / L was used, and the temperature at the time of stirring was changed to 50 ° C. The graphite mixture was stirred. The X-ray diffraction pattern of the obtained solid content is shown in FIG. This X-ray diffraction pattern coincided with the X-ray diffraction pattern of JDPDS # 7-34. From this, it was confirmed that graphite and aluminum chloride reacted in dichloromethane to form an aluminum chloride-graphite intercalation compound.

(実施例5)
1,2−ジクロロエタンの代わりに塩化アルミニウムの飽和濃度(25℃)が20g/Lであるクロロベンゼン7mlを用い、撹拌時の温度を50℃に変更した以外は実施例1と同様にして塩化アルミニウムとグラファイトの混合物を撹拌した。得られた固形分のX線回折パターンを図6に示す。
(Example 5)
In place of 1,2-dichloroethane, 7 ml of chlorobenzene having a saturation concentration of aluminum chloride (25 ° C.) of 20 g / L was used, and the temperature during stirring was changed to 50 ° C. The graphite mixture was stirred. The X-ray diffraction pattern of the obtained solid content is shown in FIG.

このX線回折パターンにおいては、2θ=10〜20°の範囲に不明な回折ピークが観察されたが、その他の範囲においては前記JDPDS#7−34のX線回折パターンと一致した。このことから、クロロベンゼン中においてもグラファイトと塩化アルミニウムが反応し、塩化アルミニウム−グラファイト層間化合物が形成されたことが確認された。なお、2θ=10〜20°の範囲の回折ピークから、前記固形分にはクロロベンゼンと塩化アルミニウムとの副反応物が含まれていることが示唆された。   In this X-ray diffraction pattern, an unknown diffraction peak was observed in the range of 2θ = 10 to 20 °, but in the other ranges, it coincided with the X-ray diffraction pattern of JDPDS # 7-34. From this, it was confirmed that graphite and aluminum chloride reacted in chlorobenzene to form an aluminum chloride-graphite intercalation compound. The diffraction peak in the range of 2θ = 10 to 20 ° suggested that the solid content contains a side reaction product of chlorobenzene and aluminum chloride.

(比較例1)
塩化アルミニウム183mgとグラファイト40mgを混合した。この混合物を、不活性ガス雰囲気下、耐圧反応器に密封し、80℃で加熱しながら3日間撹拌した。得られた固形分についてX線回折測定を行なったところ、X線回折パターンは図7Aおよび図7Bに示したグラファイトのX線回折パターンと一致し、塩化アルミニウム−グラファイト層間化合物の生成は認められなかった。このことから、不活性ガス雰囲気下、上記温度条件では、グラファイトと塩化アルミニウムは反応せず、塩化アルミニウムをグラファイトの層間に挿入できないことが分かった。
(Comparative Example 1)
183 mg of aluminum chloride and 40 mg of graphite were mixed. The mixture was sealed in a pressure-resistant reactor under an inert gas atmosphere and stirred for 3 days while heating at 80 ° C. When X-ray diffraction measurement was performed on the obtained solid content, the X-ray diffraction pattern coincided with the X-ray diffraction pattern of graphite shown in FIGS. 7A and 7B, and formation of an aluminum chloride-graphite intercalation compound was not observed. It was. From this, it was found that graphite and aluminum chloride do not react under the above temperature conditions in an inert gas atmosphere, and aluminum chloride cannot be inserted between the graphite layers.

(比較例2)
1,2−ジクロロエタンの代わりに二硫化炭素7mlを用いた以外は実施例1と同様にして塩化アルミニウムとグラファイトの混合物を撹拌した。得られた固形分についてX線回折測定を行なったところ、X線回折パターンは図7Aおよび図7Bに示したグラファイトのX線回折パターンと一致し、塩化アルミニウム−グラファイト層間化合物の生成は認められなかった。このことから、二硫化炭素中では、グラファイトと塩化アルミニウムは反応せず、塩化アルミニウムをグラファイトの層間に挿入できないことが分かった。
(Comparative Example 2)
A mixture of aluminum chloride and graphite was stirred in the same manner as in Example 1 except that 7 ml of carbon disulfide was used instead of 1,2-dichloroethane. When X-ray diffraction measurement was performed on the obtained solid content, the X-ray diffraction pattern coincided with the X-ray diffraction pattern of graphite shown in FIGS. 7A and 7B, and formation of an aluminum chloride-graphite intercalation compound was not observed. It was. This indicates that in carbon disulfide, graphite and aluminum chloride do not react and aluminum chloride cannot be inserted between the graphite layers.

以上説明したように、本発明によれば、グラファイトの層間に金属ハロゲン化物が挿入された金属ハロゲン化物−グラファイト層間化合物を、ハロゲンガスを使用せず、200℃以下の温度で安全に得ることができる。   As described above, according to the present invention, a metal halide-graphite intercalation compound in which a metal halide is inserted between graphite layers can be obtained safely at a temperature of 200 ° C. or less without using a halogen gas. it can.

したがって、本発明のグラファイト層間化合物の製造方法は、安全性に優れ、また液相反応であることからスケールアップも容易であるため、GICの大量生産に有用である。そして、本発明のグラファイト層間化合物の製造方法によってGICを大量に生産することが可能になると、GICを導電材料、電池材料、触媒、有機化グラファイトの中間原料など様々な用途に利用することが可能となるため、本発明のグラファイト層間化合物の製造方法は工業的に非常に有益な方法である。   Therefore, the method for producing a graphite intercalation compound of the present invention is useful for mass production of GIC because it is excellent in safety and is easy to scale up because it is a liquid phase reaction. And if it becomes possible to produce GIC in large quantities by the manufacturing method of the graphite intercalation compound of the present invention, GIC can be used for various uses such as conductive materials, battery materials, catalysts, and intermediate materials of organic graphite. Therefore, the method for producing a graphite intercalation compound of the present invention is an industrially very useful method.

Claims (5)

脂肪族ハロゲン化物、芳香族ハロゲン化物および芳香族ニトロ化物から選択される少なくとも1種の有機溶媒中で、グラファイトと金属ハロゲン化物を反応させることを特徴とするグラファイト層間化合物の製造方法。   A method for producing a graphite intercalation compound, comprising reacting graphite with a metal halide in at least one organic solvent selected from aliphatic halides, aromatic halides and aromatic nitrates. 前記有機溶媒が炭素数1〜10の脂肪族ハロゲン化物および炭素数6〜10の芳香族ハロゲン化物から選択される少なくとも1種の有機溶媒であることを特徴とする請求項1に記載のグラファイト層間化合物の製造方法。   2. The graphite layer according to claim 1, wherein the organic solvent is at least one organic solvent selected from an aliphatic halide having 1 to 10 carbon atoms and an aromatic halide having 6 to 10 carbon atoms. Compound production method. 前記有機溶媒の25℃における前記金属ハロゲン化物の飽和濃度が1g/L以上であることを特徴とする請求項1または2に記載のグラファイト層間化合物の製造方法。   The method for producing a graphite intercalation compound according to claim 1 or 2, wherein a saturation concentration of the metal halide at 25 ° C of the organic solvent is 1 g / L or more. グラファイトと金属ハロゲン化物を反応させる際の温度が200℃以下であることを特徴とする請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載のグラファイト層間化合物の製造方法。   The method for producing a graphite intercalation compound according to any one of claims 1 to 3, wherein the temperature at which the graphite and the metal halide are reacted is 200 ° C or lower. 前記金属ハロゲン化物が塩化アルミニウムであることを特徴とする請求項1〜4のうちのいずれか一項に記載のグラファイト層間化合物の製造方法。   The method for producing a graphite intercalation compound according to any one of claims 1 to 4, wherein the metal halide is aluminum chloride.
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