JP2011138042A - Method of manufacturing planographic printing plate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a planographic printing plate that has high developability and suppresses the generation of development scum with time, even if alkali developing solution of a relatively low pH is used. <P>SOLUTION: The method of manufacturing the planographic printing plate includes in this order: an exposure process of image-exposing a positive planographic printing original plate including an image recording layer containing (A) alkali-soluble resin having urea bond and phenolic hydroxyl group in a side chain and (B) compound for absorbing light and generating heat; and a developing process of developing the image-exposed positive planographic printing original plate using a pH 8.5-10.8 aqueous alkali solution containing an anionic surfactant. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、平版印刷版の作製方法に関するものであり、特に、処理性に優れた平版印刷版の作製方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate, and more particularly to a method for producing a lithographic printing plate having excellent processability.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と印刷インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(感光層、画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を介して画像様の露光を行う露光工程の後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液または有機溶剤によって溶解除去する現像工程を実施し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing utilizes the property that water and printing ink repel each other, so that the oleophilic image area of the lithographic printing plate is the ink receiving area and the hydrophilic non-image area is dampened with the water receiving area (ink non-receiving area). As described above, a difference in ink adhesion is caused on the surface of a lithographic printing plate, and after ink is applied only to an image portion, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (photosensitive layer, image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Yes. Usually, after the exposure process in which the lithographic printing plate precursor is subjected to image-like exposure through an original image such as a lithographic film, the image portion of the image recording layer remains, and other unnecessary image recording layers are formed. A lithographic printing plate is obtained by carrying out a development step of dissolving and removing with an alkaline developer or an organic solvent, and performing plate making by a method of forming a non-image portion by exposing the surface of the hydrophilic support.

このように、従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、不要な画像記録層を現像液などによって溶解除去する現像工程を必要とするが、環境および安全上の観点から、現像に用いるアルカリ水溶液として、より中性域に近い水溶液を用いたり、現像工程における廃液を減少させたりすることが望まれている。特に、近年、地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事となっており、上記課題の解決の要請は一層強くなってきている。   Thus, in the plate making process of the conventional lithographic printing plate precursor, after the exposure, a developing process for dissolving and removing unnecessary image recording layers with a developer or the like is required. It is desired to use an aqueous solution closer to the neutral range as an alkaline aqueous solution used in the above, or to reduce waste liquid in the development process. In particular, in recent years, disposal of waste liquid discharged with wet processing has become a major concern for the entire industry due to consideration for the global environment, and the demand for solving the above-mentioned problems has become stronger.

一方、近年、画像情報をコンピュータで電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザ光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート(CTP)技術が注目されてきている。特に、赤外線レーザ対応の画像記録材料は、白灯下でも取り扱いが可能であるため普及してきている。このような画像記録材料として、光熱変換作用のある赤外線吸収染料とフェノール樹脂により発現する現像液に対する溶解抑止効果を利用したポジ型の画像記録材料が挙げられ、注目されている。   On the other hand, in recent years, digitization technology for electronically processing, storing, and outputting image information by a computer has become widespread, and various new image output methods corresponding to such digitization technology will be put into practical use. It is becoming. Along with this, digitized image information is carried by high-convergence radiation such as laser light, and the lithographic printing plate precursor is scanned and exposed with the light, and directly through the lithographic printing plate Computer-to-plate (CTP) technology has been attracting attention. In particular, image recording materials compatible with infrared lasers have become widespread because they can be handled even under white light. As such an image recording material, a positive type image recording material utilizing a dissolution inhibiting effect on a developing solution expressed by an infrared absorbing dye having a photothermal conversion action and a phenol resin is attracting attention.

通常、このようなポジ型の画像記録材料は、赤外線レーザ露光と、光熱変換剤により発生した熱により、露光領域において溶解抑制作用を解消して画像記録層の溶解性を向上させ、現像工程により当該領域を除去して平版印刷版を製版する。現像の後は、一般的には、水洗処理を行って余分なアルカリ現像液を除去し、その後、ガム引きを行って平版印刷版を印刷に供する。
現像処理は、通常、自動現像機中で行われるが、現像液中に溶解した画像記録層が増加すると析出し、現像カスとなる。現像カスの発生が著しい場合、製版後の平版印刷版に付着して画像故障を生じる懸念がある。特に、赤外線レーザ対応の画像記録層には、比較的高分子量の光熱変換剤が用いられていたり、高耐刷用途の平版印刷版にはポリマーバインダーとして凝集力が強く高分子量のものが用いられていたりすることから、現像カスが発生しやすい傾向にある。
Usually, such a positive type image recording material is improved by the development process by eliminating the dissolution suppressing action in the exposed area by the infrared laser exposure and the heat generated by the photothermal conversion agent, thereby improving the solubility of the image recording layer. The area is removed and a lithographic printing plate is made. After the development, generally, a water washing treatment is performed to remove excess alkali developer, and then the lithographic printing plate is subjected to printing by gumming.
The development processing is usually performed in an automatic developing machine. However, when the image recording layer dissolved in the developer increases, the image is deposited and becomes development residue. When the development debris is remarkably generated, there is a concern that it may adhere to the lithographic printing plate after plate making and cause image failure. In particular, a relatively high molecular weight photothermal conversion agent is used for the image recording layer corresponding to the infrared laser, and a lithographic printing plate for high printing durability use has a high cohesive force and a high molecular weight as a polymer binder. Therefore, there is a tendency that development waste is likely to occur.

さらに、現像工程において使用されるアルカリ現像液としては、環境の観点からpHを中性に近づけることが好ましく、種々の試みがなされている。例えば、重層構造のポジ型画像記録層を有する平版印刷版原版をpH6〜11の現像液で処理する製版方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、アルカリ現像液のpHを低く抑えるのみでは、自動現像機により繰り返し製版した場合、現像性、言い換えれば、画像記録層の可溶性の低下に起因して現像カスが増えるという問題があり、製版後の版面に現像カスが付着して画像故障を生じる懸念が生じることがわかった。
さらに、平版印刷版においては、非画像部の親水性を高め、版面を保護するため、通常、現像、水洗後の版面にガム引き処理と呼ばれる親水化処理を施すことが好ましいが、このガム引き処理も湿式処理であるため、現像工程と同様に廃液の問題を有している。
Furthermore, as an alkaline developer used in the development step, it is preferable to bring the pH close to neutral from the viewpoint of the environment, and various attempts have been made. For example, a plate making method has been proposed in which a lithographic printing plate precursor having a positive image recording layer having a multilayer structure is treated with a developer having a pH of 6 to 11 (see, for example, Patent Document 1). However, only by keeping the pH of the alkaline developer low, there is a problem in that when the plate is repeatedly made by an automatic processor, developability, in other words, development residue increases due to a decrease in solubility of the image recording layer. It has been found that there is a concern that the development residue may adhere to the plate surface and cause image failure.
Furthermore, in a lithographic printing plate, in order to increase the hydrophilicity of the non-image area and protect the plate surface, it is usually preferable to perform a hydrophilic treatment called a gumming treatment on the plate surface after development and washing with water. Since the processing is also a wet processing, there is a problem of waste liquid as in the development process.

国際公開2009/094120A1明細書International Publication 2009 / 094120A1 Specification

上記問題点を考慮してなされた本発明の目的は、比較的低pHのアルカリ現像液を使用した場合であっても、現像性に優れ、経時的な現像カスの発生が抑制された平版印刷版の作製方法を提供することにある。   The object of the present invention made in consideration of the above-mentioned problems is lithographic printing which has excellent developability and suppresses the development debris over time even when a relatively low pH alkaline developer is used. It is to provide a method for producing a plate.

本発明の平版印刷版の作製方法は、支持体上に、(A)尿素結合とフェノール性水酸基とを側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂と、(B)光を吸収して熱を発生する化合物と、を含有する画像記録層を備えるポジ型平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、画像露光したポジ型平版印刷版原版を、アニオン性界面活性剤を含有するpH8.5〜10.8のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程を、この順で含むことを特徴とする。   The method for producing a lithographic printing plate of the present invention comprises: (A) an alkali-soluble resin having a urea bond and a phenolic hydroxyl group in the side chain on a support; and (B) a compound that generates heat by absorbing light. , An exposure step for image exposure of a positive planographic printing plate precursor comprising an image recording layer, and a pH 8.5 to 10.8 containing an anionic surfactant. The development process which develops using the alkaline aqueous solution of this is included in this order.

前記アルカリ可溶性樹脂としては、尿素結合とフェノール性水酸基とを有するモノマーを重合成分として含む重合体であることが好ましく、該尿素結合とフェノール性水酸基とを有するモノマーに加え、共重合成分として、N−フェニルマレイミド誘導体又は側鎖にスルホンアミド基を有するアクリルモノマーを含む共重合体であることがより好ましい。
また、現像工程に用いられる前記アルカリ水溶液における水溶性高分子化合物の含有量が10ppm以下であることが好ましい。
The alkali-soluble resin is preferably a polymer containing a monomer having a urea bond and a phenolic hydroxyl group as a polymerization component. In addition to the monomer having a urea bond and a phenolic hydroxyl group, N -More preferred is a phenylmaleimide derivative or a copolymer containing an acrylic monomer having a sulfonamide group in the side chain.
Moreover, it is preferable that content of the water-soluble polymer compound in the said alkaline aqueous solution used for the image development process is 10 ppm or less.

また、本発明の製造方法における平版印刷版の画像記録層としては、単層のみならず、(A)尿素結合とフェノール性水酸基とを側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂と、(B)光を吸収して熱を発生する化合物と、を含有する下部画像記録層、及び、下部画像記録層上に形成された、アルカリ可溶性樹脂を含有する上部画像記録層、を備える重層型の画像記録層であってもよい。
また、前記現像工程は、アルカリ水溶液による1浴処理であることが好ましい。本発明の製造方法によれば、比較的低pHであるアルカリ水溶液を使用した現像工程の後、通常、広く行われているリンス即ち水洗工程、或いは、ガム引き工程を行うことなく、製版された平版印刷版をそのまま印刷に供することができるという利点をも有するものである。本発明の製造方法によれば、このような1浴処理であっても経時的な現像カスの発生が効果的に抑制されることから、現像システムの安定性に優れる。
Further, the image recording layer of the lithographic printing plate in the production method of the present invention is not limited to a single layer, but also (A) an alkali-soluble resin having a urea bond and a phenolic hydroxyl group in the side chain, and (B) absorbing light. A multilayer image recording layer comprising: a lower image recording layer containing a compound that generates heat; and an upper image recording layer containing an alkali-soluble resin formed on the lower image recording layer. May be.
Moreover, it is preferable that the said image development process is 1 bath process by alkaline aqueous solution. According to the production method of the present invention, after the development step using an alkaline aqueous solution having a relatively low pH, the plate was usually made without performing a widely performed rinse or water washing step or a gumming step. The lithographic printing plate can also be used for printing as it is. According to the production method of the present invention, even when such a one-bath treatment is performed, the development residue over time is effectively suppressed, so that the stability of the development system is excellent.

本発明によれば、比較的低pHのアルカリ現像液を使用した場合であっても、現像性に優れ、経時的な現像カスの発生が抑制された平版印刷版の作製方法を提供することができる。     According to the present invention, it is possible to provide a method for preparing a lithographic printing plate that is excellent in developability even when a relatively low pH alkaline developer is used, and that suppresses the development debris over time. it can.

本発明の平版印刷版の作製方法に用いうる自動現像処理機の構造の一態様を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the one aspect | mode of the structure of the automatic processor which can be used for the preparation method of the lithographic printing plate of this invention.

以下、本発明の平版印刷版の作製方法について詳細に説明する。
本発明の平版印刷版の作製方法は、支持体上に、(A)尿素結合とフェノール性水酸基とを側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂と、(B)光を吸収して熱を発生する化合物と、を含有する画像記録層を備えるポジ型平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、画像露光したポジ型平版印刷版原版を、アニオン性界面活性剤を含有するpH8.5〜10.8のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程を、この順で含む。
以下、本発明の作製方法を適用しうる平版印刷版原版の構成、露光工程、現像工程について順次説明する。
Hereinafter, a method for producing a planographic printing plate of the present invention will be described in detail.
The method for producing a lithographic printing plate of the present invention comprises: (A) an alkali-soluble resin having a urea bond and a phenolic hydroxyl group in the side chain on a support; and (B) a compound that generates heat by absorbing light. , An exposure step for image exposure of a positive planographic printing plate precursor comprising an image recording layer, and a pH 8.5 to 10.8 containing an anionic surfactant. The development process which develops using the alkaline aqueous solution of this is included in this order.
Hereinafter, the constitution of the lithographic printing plate precursor to which the production method of the present invention can be applied, the exposure process, and the development process will be described in order.

<平版印刷版原版>
本発明の作製方法に用いられる平版印刷版原版は、支持体上に、(A)尿素結合とフェノール性水酸基とを側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂と、(B)光を吸収して熱を発生する化合物と、を含有する画像記録層を備えるポジ型平版印刷版原版である。
<Lithographic printing plate precursor>
The lithographic printing plate precursor used in the production method of the present invention comprises (A) an alkali-soluble resin having urea bonds and phenolic hydroxyl groups in the side chain on the support, and (B) absorbing heat to generate heat. And a positive lithographic printing plate precursor comprising an image recording layer containing the compound.

〔(A)尿素結合とフェノール性水酸基とを側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂〕
本発明に用いうる(A)尿素結合とフェノール性水酸基とを側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂(以下、適宜、特定アルカリ可溶性樹脂と称する)は、側鎖に尿素結合を有し、置換基としてフェノール性水酸基を有するものであれば特に制限はないが、尿素結合とフェノール性水酸基とを有するモノマーを重合成分として含む共重合体であることが、製造適性の観点から好ましく、そのようなモノマーとしては、尿素結合とフェノール性水酸基とを有するアクリルモノマーが好ましい。該アクリルモノマーとしては、例えば、下記一般式(d)で表される化合物が好適なものとして挙げられる。
[(A) Alkali-soluble resin having urea bond and phenolic hydroxyl group in side chain]
The (A) alkali-soluble resin having a urea bond and a phenolic hydroxyl group in the side chain (hereinafter referred to as a specific alkali-soluble resin as appropriate) that can be used in the present invention has a urea bond in the side chain and phenol as a substituent. There is no particular limitation as long as it has a functional hydroxyl group, but it is preferably a copolymer containing a monomer having a urea bond and a phenolic hydroxyl group as a polymerization component from the viewpoint of production suitability. An acrylic monomer having a urea bond and a phenolic hydroxyl group is preferred. As this acrylic monomer, the compound represented by the following general formula (d) is mentioned as a suitable thing, for example.

前記一般式(d)において、Rは、水素原子又はアルキル基を表す。Xは2価の連結基を表し、例えば、置換基を有してもよいアルキレン基又はフェニレン基が挙げられる。Yは、置換基を有してもよい2価の芳香族基を表し、例えば、置換基を有してもよいフェニレン基又はナフチレン基等が挙げられる。   In the general formula (d), R represents a hydrogen atom or an alkyl group. X represents a divalent linking group, and examples thereof include an alkylene group or a phenylene group which may have a substituent. Y represents a divalent aromatic group which may have a substituent, and examples thereof include a phenylene group or a naphthylene group which may have a substituent.

前記一般式(d)で表されるアクリルモノマーの具体例としては、例えば、1−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、1−(N’−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、1−(N’−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、1−(N’−(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、1−(N’−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、1−(N’−(5−ヒドロキシナフチル)ウレイド)メチルアクリレート、1−(N’−(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)ウレイド)メチルアクリレート、2−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N’−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N’−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N’−(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N’−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N’−(5−ヒドロキシナフチル)ウレイド)エチルアクリレート、2−(N’−(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)ウレイド)エチルアクリレート、4−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルアクリレート、4−(N’−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルアクリレート、4−(N’−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルアクリレート、4−(N’−(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ウレイド)ブチルアクリレート、4−(N’−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレイド)ブチルアクリレート、4−(N’−(5−ヒドロキシナフチル)ウレイド)ブチルアクリレート、4−(N’−(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)ウレイド)ブチルアクリレートの如きアクリレート誘導体;   Specific examples of the acrylic monomer represented by the general formula (d) include 1- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) methyl acrylate and 1- (N ′-(3-hydroxyphenyl) ureido. ) Methyl acrylate, 1- (N ′-(2-hydroxyphenyl) ureido) methyl acrylate, 1- (N ′-(3-hydroxy-4-methylphenyl) ureido) methyl acrylate, 1- (N ′-(2 -Hydroxy-5-methylphenyl) ureido) methyl acrylate, 1- (N '-(5-hydroxynaphthyl) ureido) methyl acrylate, 1- (N'-(2-hydroxy-5-phenylphenyl) ureido) methyl acrylate 2- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N ′-(3 Hydroxyphenyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N ′-(2-hydroxyphenyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N ′-(3-hydroxy-4-methylphenyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N '-(2-hydroxy-5-methylphenyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N'-(5-hydroxynaphthyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N '-(2-hydroxy-5-phenylphenyl) Ureido) ethyl acrylate, 4- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) butyl acrylate, 4- (N ′-(3-hydroxyphenyl) ureido) butyl acrylate, 4- (N ′-(2-hydroxyphenyl) ) Ureido) butyl acrylate, 4- (N ′-(3-hydroxy-4) Methylphenyl) ureido) butyl acrylate, 4- (N ′-(2-hydroxy-5-methylphenyl) ureido) butyl acrylate, 4- (N ′-(5-hydroxynaphthyl) ureido) butyl acrylate, 4- (N Acrylate derivatives such as'-(2-hydroxy-5-phenylphenyl) ureido) butyl acrylate;

1−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N’−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N’−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N’−(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N’−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N’−(5−ヒドロキシナフチル)ウレイド)メチルメタクリレート、1−(N’−(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)ウレイド)メチルメタクリレート、2−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N’−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N’−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N’−(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N’−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N’−(5−ヒドロキシナフチル)ウレイド)エチルメタクリレート、2−(N’−(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート、4−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N’−(3−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N’−(2−ヒドロキシフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N’−(3−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N’−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N’−(5−ヒドロキシナフチル)ウレイド)ブチルメタクリレート、4−(N’−(2−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)ウレイド)ブチルメタクリレートのようなメタクリレート誘導体等が挙げられる。
これらのなかでも、経時的な現像カスの抑制効果と画像形成性および耐刷性のバランスの観点からは、2−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレートが好ましく挙げられる。
1- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) methyl methacrylate, 1- (N ′-(3-hydroxyphenyl) ureido) methyl methacrylate, 1- (N ′-(2-hydroxyphenyl) ureido) methyl methacrylate 1- (N ′-(3-hydroxy-4-methylphenyl) ureido) methyl methacrylate, 1- (N ′-(2-hydroxy-5-methylphenyl) ureido) methyl methacrylate, 1- (N ′-( 5-hydroxynaphthyl) ureido) methyl methacrylate, 1- (N ′-(2-hydroxy-5-phenylphenyl) ureido) methyl methacrylate, 2- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N '-(3-hydroxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N'- (2-hydroxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N ′-(3-hydroxy-4-methylphenyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N ′-(2-hydroxy-5-methylphenyl) ureido) Ethyl methacrylate, 2- (N ′-(5-hydroxynaphthyl) ureido) ethyl methacrylate, 2- (N ′-(2-hydroxy-5-phenylphenyl) ureido) ethyl methacrylate, 4- (N ′-(4- Hydroxyphenyl) ureido) butyl methacrylate, 4- (N ′-(3-hydroxyphenyl) ureido) butyl methacrylate, 4- (N ′-(2-hydroxyphenyl) ureido) butyl methacrylate, 4- (N ′-(3 -Hydroxy-4-methylphenyl) ureido) butyl methacrylate, 4- (N ' (2-hydroxy-5-methylphenyl) ureido) butyl methacrylate, 4- (N ′-(5-hydroxynaphthyl) ureido) butyl methacrylate, 4- (N ′-(2-hydroxy-5-phenylphenyl) ureido) And methacrylate derivatives such as butyl methacrylate.
Among these, 2- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate is preferably mentioned from the viewpoint of the balance between the effect of suppressing development residue over time and the image forming property and printing durability.

前記一般式(d)で示されるアクリレートモノマーの製造方法については、特に制限はなく、例えば、下記一般式(e)で表されるイソシアネート化合物と、下記一般式(f)で表されるアミン化合物とを反応させる公知の製造方法等が好適に挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular about the manufacturing method of the acrylate monomer shown by the said general formula (d), For example, the isocyanate compound represented by the following general formula (e), and the amine compound represented by the following general formula (f) A well-known manufacturing method etc. which are made to react are mentioned suitably.


前記一般式(e)において、Rは、水素原子又はアルキル基を表す。Xは前記一般式(d)におけるXと同義である。
前記一般式(f)において、R’は、水素原子、又は置換基を有してもよいアルキル基を表す。Yは、前記一般式(d)におけるYと同義である。Zは、水酸基を表す。
害悪リレーとモノマーの製造方法において、前記一般式(e)の化合物と、前記一般式(f)で、Zが水酸基、R’が、水素原子である化合物とを用いることにより、前記一般式(d)で表される重合性モノマーを好適に得ることができる。
In the general formula (e), R represents a hydrogen atom or an alkyl group. X has the same meaning as X in formula (d).
In the general formula (f), R ′ represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Y has the same meaning as Y in the general formula (d). Z represents a hydroxyl group.
In the method for producing an evil relay and a monomer, by using the compound of the general formula (e) and the compound of the general formula (f) in which Z is a hydroxyl group and R ′ is a hydrogen atom, the general formula ( The polymerizable monomer represented by d) can be suitably obtained.

前記製造方法においては、一般式(f)におけるアミノ基は、水酸基、又は−NH−CO−基等に比べ、イソシアネート基に対する活性が高いため、容易に前記一般式(d)で表されるような重合性のアクリレートモノマーを得ることができる。また、所望により、前記一般式(f)で表されるアミン化合物を過剰にし、これに、徐々に前記一般式(e)で表されるイソシアネート化合物を加えることにより、より有効に反応を進めることができる。   In the said manufacturing method, since the amino group in General formula (f) has high activity with respect to an isocyanate group compared with a hydroxyl group or -NH-CO- group etc., it will be easily represented by the said General formula (d). A polymerizable acrylate monomer can be obtained. Further, if desired, the amine compound represented by the general formula (f) is made excessive, and the isocyanate compound represented by the general formula (e) is gradually added to the amine compound, thereby allowing the reaction to proceed more effectively. Can do.

前記一般式(d)で表されるアクリレートモノマーの如き、尿素結合とフェノール性水酸基とを有するモノマーを用いて、本発明に係る側鎖に尿素結合とフェノール性水酸基とを有する重合体を製造する方法には、特に制限はなく、公知の種々の方法で製造することが可能であり、例えば、尿素結合とフェノール性水酸基とを有するモノマー(重合性単量体)を、重合開始剤を用いて溶媒中で重合する方法等が挙げられる。重合性モノマーを、重合開始剤を用いて溶媒中で重合する方法において、前記重合性モノマーとしては、1分子中に1以上の尿素結合と、1以上の重合可能な不飽和結合と、置換基としてのフェノール性水酸基と、を有するモノマーであり、このようなモノマーの単独重合体であってもよいが、着肉性や塗布溶媒への溶解性の観点からは、尿素結合を含まないモノマーを重合成分として含む共重合体であることが好ましい。
例えば、前記一般式(d)で表されるアクリレートモノマーを重合成分として含む(A)特定アルカリ可溶性樹脂を合成する際には、該モノマーの含有量としては、仕込み比で10モル%〜80モル%であることが好ましく、15モル%〜70モル%がより好ましく、20モル%〜60モル%が特に好ましい。重合に際しては、一般式(d)で示されるモノマーは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
Using a monomer having a urea bond and a phenolic hydroxyl group such as the acrylate monomer represented by the general formula (d), a polymer having a urea bond and a phenolic hydroxyl group in the side chain according to the present invention is produced. The method is not particularly limited and can be produced by various known methods. For example, a monomer having a urea bond and a phenolic hydroxyl group (polymerizable monomer) is used with a polymerization initiator. The method of superposing | polymerizing in a solvent is mentioned. In the method of polymerizing a polymerizable monomer in a solvent using a polymerization initiator, the polymerizable monomer includes one or more urea bonds, one or more polymerizable unsaturated bonds, and a substituent in one molecule. A monomer having a phenolic hydroxyl group as a monomer, and may be a homopolymer of such a monomer, but from the viewpoints of walling property and solubility in a coating solvent, a monomer containing no urea bond is used. A copolymer contained as a polymerization component is preferred.
For example, when synthesizing the specific alkali-soluble resin (A) containing the acrylate monomer represented by the general formula (d) as a polymerization component, the monomer content is 10 mol% to 80 mol in a charging ratio. %, More preferably 15 mol% to 70 mol%, and particularly preferably 20 mol% to 60 mol%. In the polymerization, the monomers represented by the general formula (d) may be used alone or in combination of two or more.

前記側鎖に尿素結合とフェノール性水酸基とを有する共重合体においては、重合可能な不飽和結合を有し、かつ尿素結合を含まない化合物を共重合成分として10モル%〜80モル%含むことが好ましい。   The copolymer having a urea bond and a phenolic hydroxyl group in the side chain contains a compound having a polymerizable unsaturated bond and not containing a urea bond as a copolymerization component in an amount of 10 mol% to 80 mol%. Is preferred.

本発明の(A)特定アルカリ可溶性樹脂に含まれる尿素結合を有しないモノマーとしては、N−フェニルマレイミド誘導体や側鎖にスルホンアミド基を有するアクリルモノマーがUVインキ印刷における耐刷性や印刷薬品に対する画像記録層の耐久性の観点から、特に好ましい。
上記N−フェニルマレイミド誘導体としては、N−フェニルマレイミド、N−2−メチルフェニルマレイミド、N−2,6−ジエチルフェニルマレイミド、N−2−クロロフェニルマレイミド、N−ヒドロキシフェニルマレイミド等があげられる。
As a monomer having no urea bond contained in the specific alkali-soluble resin (A) of the present invention, an N-phenylmaleimide derivative or an acrylic monomer having a sulfonamide group in the side chain is suitable for printing durability and printing chemicals in UV ink printing. This is particularly preferable from the viewpoint of durability of the image recording layer.
Examples of the N-phenylmaleimide derivative include N-phenylmaleimide, N-2-methylphenylmaleimide, N-2,6-diethylphenylmaleimide, N-2-chlorophenylmaleimide, N-hydroxyphenylmaleimide and the like.

側鎖にスルホンアミド基を有するアクリルモノマーとしては、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等が挙げられる。
尿素結合を含まない重合性モノマーとしては、上記N−フェニルマレイミド類や側鎖にスルホンアミド基を有するアクリルモノマー以外のモノマーを用いてもよく、(A)特定アルカリ可溶性樹脂に共重合成分として含みうるモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、クロロエチルアクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、テトラヒドロアクリレート、フェニルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、の如き(メタ)アクリル酸エステル類;
Examples of the acrylic monomer having a sulfonamide group in the side chain include m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like.
As the polymerizable monomer not containing a urea bond, a monomer other than the above N-phenylmaleimides and acrylic monomers having a sulfonamide group in the side chain may be used. Examples of the monomer that can be used include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, ethyl hexyl acrylate, octyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl acrylate, 5- Hydroxypentyl acrylate, glycidyl acrylate, benzyl acrylate, tetrahydro acrylate, phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, benzyl methacrylate, black Benzyl methacrylate, octyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, furfuryl methacrylate, such as (meth) acrylic acid esters;

N−メチルアクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−t−ブチルアクリルアミド、N−ヘプチルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N,N−ジエチルメタクリルアミド、の如き(メタ)アクリルアミド類;ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、の如きビニルエステル類;ジメチルマレート、ジブチルフマレートの如きマレイン酸あるいはフマール酸のジアルキル類;N−シクロヘキシルマレイミド、N−ラウリルマレイミドの如きマレイミド類;その他、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。これらの化合物は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
これらの化合物のうち、(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類、マレイミド類、及び、(メタ)アクリロニトリル類が特に好ましい。
N-methylacrylamide, N-methylmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, Nt-butylacrylamide, N-heptylacrylamide, N-benzylacrylamide, N-phenylacrylamide, N, (Meth) acrylamides such as N-dimethylacrylamide, N-methyl-N-phenylacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-phenylmethacrylamide, N, N-diethylmethacrylamide; vinyl butyrate, vinyl isobutyrate , Vinyl esters such as vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl acetate, vinyl benzoate, vinyl salicylate; maleic acid such as dimethyl malate, dibutyl fumarate or fumaric acid Dialkyl; N- cyclohexyl maleimide, such as maleimides of N- lauryl maleimide and the like; acrylonitrile, methacrylonitrile, and the like. These compounds may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
Of these compounds, (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylamides, maleimides, and (meth) acrylonitriles are particularly preferable.

なお、本明細書において、アクリレート及びメタアクリレートのいずれか或いは双方を指す場合、(メタ)アクリレートと、アクリル及びメタクリルのいずれか或いは双方を指す場合、(メタ)アクリルと、それぞれ記載することがある。   In addition, in this specification, when referring to either or both of acrylate and methacrylate, when referring to either or both of (meth) acrylate and acryl and methacryl, (meth) acryl may be described, respectively. .

本発明における(A)特定アルカリ可溶性樹脂の好ましい態様としては、一般式(d)で表されるモノマーを10モル%〜80モル%、N−フェニルマレイミド誘導体及び側鎖にスルホンアミド基を有するアクリルモノマーから選ばれるモノマーを10モル%〜80モル%、(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類、マレイミド類、及び、(メタ)アクリロニトリル類に代表されるその他のアクリレートモノマーを10モル%〜80モル%含んで合成される共重合体が挙げられる。
本発明に係る(A)特定アルカリ可溶性樹脂の分子量としては、重量平均分子量では、2000以上が好ましく、3000〜50万がより好ましい。また、数平均分子量では、1000以上が好ましく、2000〜40万がより好ましい。これら分子量の値は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトフラフィー)測定によりポリスチレン標品の分子量換算で算出した値を用いている。
In a preferred embodiment of the (A) specific alkali-soluble resin in the present invention, the monomer represented by the general formula (d) is 10 mol% to 80 mol%, an N-phenylmaleimide derivative and an acrylic having a sulfonamide group in the side chain. 10 mol% to 80 mol% of monomers selected from monomers, 10 mol% of other acrylate monomers represented by (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylamides, maleimides, and (meth) acrylonitriles A copolymer synthesized by containing ˜80 mol% can be mentioned.
As a molecular weight of (A) specific alkali-soluble resin which concerns on this invention, 2000 or more are preferable in a weight average molecular weight, and 3000-500,000 are more preferable. Moreover, in number average molecular weight, 1000 or more are preferable and 2000-400,000 are more preferable. As these molecular weight values, values calculated in terms of molecular weight of polystyrene standards by GPC (gel permeation chromatography) measurement are used.

〔その他のアルカリ可溶性樹脂〕
本発明に用いられる平版印刷版原版の画像記録層には、前記(A)特定アルカリ可溶性樹脂及び後述する(B)光を吸収して熱を発生する化合物に加え、前記(A)特定アルカリ可溶性樹脂に包含されない他のアルカリ可溶性樹脂を含んでいてもよい。
本発明に使用可能な他のアルカリ可溶性樹脂としては、(A)とは構造の異なる、分子内にフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。
本発明に用いうるフェノール性水酸基を有する樹脂としては、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,またはm−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂などのノボラック樹脂等が挙げられる。
[Other alkali-soluble resins]
In the image recording layer of the lithographic printing plate precursor used in the present invention, in addition to (A) the specific alkali-soluble resin and (B) a compound that generates heat by absorbing light described later, the (A) specific alkali-soluble resin is used. Other alkali-soluble resins not included in the resin may be included.
Other alkali-soluble resins that can be used in the present invention include alkali-soluble resins having a structure different from that of (A) and having a phenolic hydroxyl group in the molecule.
Examples of the resin having a phenolic hydroxyl group that can be used in the present invention include phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p Any of-and m- / p-mixing) may be mentioned, including novolak resins such as mixed formaldehyde resins.

また、米国特許第4123279号明細書に記載されているt−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂や、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂等の炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物を併用してもよい。
これらのフェノール性水酸基を有する樹脂は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(A)樹脂とは構造の異なるフェノール性水酸基を有する樹脂の分子量としては、重量平均分子量で500〜20000、数平均分子量で200〜10000が好ましい。
In addition, a t-butylphenol formaldehyde resin described in US Pat. No. 4,123,279 or a condensate of phenol and formaldehyde having an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, such as octylphenol formaldehyde resin, is used in combination. Also good.
These resins having a phenolic hydroxyl group may be used alone or in combination of two or more.
(A) The molecular weight of the resin having a phenolic hydroxyl group having a structure different from that of the resin is preferably 500 to 20000 in terms of weight average molecular weight and 200 to 10,000 in terms of number average molecular weight.

(A)樹脂とは構造の異なるフェノール性水酸基を有する樹脂を併用する場合には、(A)特定アルカリ可溶性樹脂に対する配合比としては、質量比で、1:10〜10:1が好ましく、1:5〜5:1がより好ましい。
その他のアルカリ可溶性樹脂を含有する場合の配合比が、前記数値範囲内において、併用の効果を得ることができ、例えば、(A)樹脂と、併用しうる(A)樹脂とは構造の異なるフェノール性水酸基を有する樹脂との相互作用が十分形成され、現像ラチチュードが向上するとともに、画像記録層に良好な耐薬品性を与える。
(A) When a resin having a phenolic hydroxyl group having a structure different from that of the resin is used in combination, the mixing ratio with respect to the (A) specific alkali-soluble resin is preferably 1:10 to 10: 1 in terms of mass ratio. : 5 to 5: 1 is more preferable.
The blending ratio in the case of containing other alkali-soluble resin can obtain the effect of the combined use within the above numerical range. For example, the (A) resin and the (A) resin that can be used in combination have different structures. Sufficient interaction with the resin having a functional hydroxyl group is formed, development latitude is improved, and good chemical resistance is imparted to the image recording layer.

〔(B)光を吸収して熱を発生する化合物〕
本発明に係る画像記録層には、(B)光を吸収して熱を発生する化合物(以下、適宜、光熱変換剤と称する)を含有する。本発明に用いうる(B)光熱変換剤としては、公知の種々の顔料や染料等が好適に挙げられる。
顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられる。
[(B) Compound that absorbs light and generates heat]
The image recording layer according to the present invention contains (B) a compound that absorbs light and generates heat (hereinafter, appropriately referred to as a photothermal conversion agent). As the (B) photothermal conversion agent that can be used in the present invention, various known pigments and dyes are preferably exemplified.
Examples of pigments include commercially available pigment and color index (CI) manuals, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, published in 1986), “Printing” Examples thereof include pigments described in "Ink Technology" (published by CMC Publishing, 1984).

前記顔料の種類としては、色相からは、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。
具体的には、例えば、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が挙げられる。
Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bound dyes. It is done.
Specifically, for example, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinones Pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like.

前記顔料の粒径としては、0.01〜10μmが好ましく、0.05〜1μmがより好ましく、0.1〜1μmが特に好ましい。前記顔料の粒径が上記範囲において、画像記録層塗布液中での安定性が良好となり、画像記録層内での均一性の点で好ましい。   The particle diameter of the pigment is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.05 to 1 μm, and particularly preferably 0.1 to 1 μm. When the particle diameter of the pigment is within the above range, the stability in the image recording layer coating solution is good, which is preferable in terms of uniformity in the image recording layer.

前記染料としては、市販の染料および文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが挙げられ、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。前記顔料、又は染料のうち赤外光、又は近赤外光を吸収する顔料・染料が、赤外光又は近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で、特に好ましい。   Examples of the dye include commercially available dyes and known dyes described in literature (for example, “Dye Handbook” edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970), such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azos. And dyes such as dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. Among the pigments or dyes, pigments and dyes that absorb infrared light or near infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near infrared light.

前記赤外光、又は近赤外光を吸収する顔料としては、カーボンブラックが好適に用いられる。また、前記赤外光、又は近赤外光を吸収する染料としては、例えば特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Carbon black is preferably used as the pigment that absorbs the infrared light or near infrared light. Examples of the dye that absorbs the infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, and JP-A-60-78787. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, etc., JP-A-58-112793, Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc. Examples thereof include squarylium dyes described in JP-A-58-112792, and cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、前記染料としては、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物、Epolight III−178、EpolightIII−130、Epolight III−125、EpolightV−176A等は特に好ましく用いられる。
前記染料の特に好ましい別の例として、米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料が挙げられる。
Further, as the dye, a near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (described in US Pat. No. 3,881,924) Thio) pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363 59-84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranyl compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes described in US Pat. The pentamethine thiopyrylium salt described in No. 283,475 and the pyrilylation disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 Things, Epolight III-178, EpolightIII-130, Epolight III-125, EpolightV-176A or the like is used particularly preferably.
Another particularly preferred example of the dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).

(B)光熱変換剤の画像記録層中の添加量としては、全固形分に対し0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましい。光熱変換剤として染料を用いる場合には、添加量は0.5〜10質量%が特に好ましく、顔料を用いる場合には、添加量は3.1〜10質量%が特に好ましい。
(B)光熱変換剤の添加量が上記範囲において、十分な感度向上効果が得られ、且つ、画像記録層の均一性が失われたり、記録層の耐久性が低下したりする懸念がない。
(B) As addition amount in the image recording layer of a photothermal conversion agent, 0.01-50 mass% is preferable with respect to the total solid, and 0.1-10 mass% is more preferable. When a dye is used as the photothermal conversion agent, the addition amount is particularly preferably 0.5 to 10% by mass, and when the pigment is used, the addition amount is particularly preferably 3.1 to 10% by mass.
(B) When the addition amount of the photothermal conversion agent is within the above range, there is no concern that a sufficient sensitivity improvement effect can be obtained and the uniformity of the image recording layer is lost or the durability of the recording layer is lowered.

前記染料又は顔料などの(B)光熱変換剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層に添加してもよい。他の成分とは別の層に添加する場合には、熱分解性でありかつ分解しない状態では結着樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を含む層と隣接している層中に添加するのが好ましい。また、前記染料又は顔料と(A)特定アルカリ可溶性樹脂とは同一の層中に含まれるのが好ましいが、別の層に含まれていてもよい。   The (B) photothermal conversion agent such as the dye or pigment may be added to the same layer as other components or may be added to another layer. When added to a layer different from other components, it is added to the layer adjacent to the layer containing a substance that is thermally decomposable and substantially reduces the solubility of the binder resin when not decomposed. It is preferable to do this. Moreover, although it is preferable that the said dye or pigment and (A) specific alkali-soluble resin are contained in the same layer, they may be contained in another layer.

〔その他の成分〕
画像記録層には、所望により、(A)特定アルカリ可溶性樹脂、(B)光熱変換剤及び所望により添加される前記他のアルカリ可溶性樹脂に加え、目的に応じてその他の添加剤を含有させることができる。
その他の成分としては、種々の添加剤が挙げられ、例えば、オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の熱分解性であり、分解しない状態では(A)アルカリ水溶液可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質が挙げられる。前記添加剤を用いることで、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図ることができる。
[Other ingredients]
If desired, the image recording layer may contain (A) a specific alkali-soluble resin, (B) a photothermal conversion agent, and other alkali-soluble resins that are optionally added, and other additives depending on the purpose. Can do.
Examples of other components include various additives such as onium salts, o-quinonediazide compounds, aromatic sulfone compounds, aromatic sulfonic acid ester compounds, and the like (A) Examples include substances that substantially reduce the solubility of the aqueous alkali-soluble resin. By using the additive, it is possible to improve the dissolution inhibition property of the image portion in the developer.

前記オニウム塩としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等が挙げられる。
オニウム塩としては、例えば、S. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng.,18, 387(1974)、T. S. Bal et al, Polymer, 21, 423(1980) 、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055 号、同4,069,056 号、特開平3−140140号の明細書に記載のアンモニウム塩、D. C. Necker et al, Macromolecules, 17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad.Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)、米国特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記載のホスホニウム塩、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 10(6),1307 (1977)、Chem. &amp; Eng. News, Nov. 28, p31 (1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第339,049 号、同第410,201 号、特開平2−150848号、特開平2−296514号に記載のヨードニウム塩、
Examples of the onium salt include diazonium salt, ammonium salt, phosphonium salt, iodonium salt, sulfonium salt, selenonium salt, arsonium salt and the like.
Examples of onium salts include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T .; S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, JP-A-3-140140. Ammonium salts described in the specification of C. Necker et al, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. &Amp; Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, U.S. Pat. Nos. 339,049, 410,201, JP-A-2-150848, JP-A-2-296514,

J. V. Crivello et al, Polymer J. 17, 73 (1985)、J. V. Crivello et al. J. Org. Chem., 43, 3055 (1978)、W. R. Watt etal, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984) 、J. V. Crivelloet al, Polymer Bull., 14, 279 (1985) 、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 14(5) ,1141(1981)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci., PolymerChem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許第370,693 号、同233,567 号、同297,443 号、同297,442 号、米国特許第4,933,377 号、同3,902,114 号、同410,201号、同339,049 号、同4,760,013 号、同4,734,444 号、同2,833,827 号、独国特許第2,904,626 号、同3,604,580 号、同3,604,581 号に記載のスルホニウム塩、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 10(6), 1307 (1977)、J. V. Crivelloet al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979) に記載のセレノニウム塩、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988)に記載のアルソニウム塩等が好適に挙げられる。
これらのなかでも、ジアゾニウム塩が特に好ましく、該ジアゾニウム塩としては、特開平5−158230号公報に記載のものが好ましい。
J. et al. V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. , 43, 3055 (1978), W.M. R. Watt et al. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al, Polymer Bull. , 14, 279 (1985), J. et al. V. Crivello et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al, J. MoI. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 2877 (1979), European Patent Nos. 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, US Pat. Nos. 4,933,377, 3,902,114 Nos. 410, 201, 339, 049, 4, 760, 013, 4, 734, 444, 2, 833, 827, German Patent No. 2,904, 626, Sulfonium salts described in JP-A-3,604,580 and JP-A-3,604,581; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J. MoI. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Preferred examples include arsonium salts described in Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).
Among these, a diazonium salt is particularly preferable, and the diazonium salt described in JP-A-5-158230 is preferable.

オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適に挙げられる。   Counter ions of onium salts include tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfone An acid, p-toluenesulfonic acid, etc. can be mentioned. Among these, particularly preferred are alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid.

前記o−キノンジアジド化合物としては、1以上のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであれば、種々の構造の化合物が好適に挙げられる。前記o−キノンジアジドは、熱分解により結着剤の溶解抑制能を失わせる効果と、o−キノンジアジド自体が、アルカリ可溶性の物質に変化する効果との双方の効果を有するため、結着剤の溶解促進剤として作用することができる。   Examples of the o-quinonediazide compound include compounds having various structures as long as they are compounds having one or more o-quinonediazide groups and increase alkali solubility by thermal decomposition. The o-quinonediazide has both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder by thermal decomposition and the effect of the o-quinonediazide itself changing to an alkali-soluble substance. Can act as an accelerator.

o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量としては、1〜50質量%が好ましく、5〜30質量%がより好ましく、10〜30質量%が特に好ましい。前記添加剤と結着剤とは、同一層へ含有させることが好ましい。   As addition amount of additives other than an o-quinonediazide compound, 1-50 mass% is preferable, 5-30 mass% is more preferable, and 10-30 mass% is especially preferable. The additive and the binder are preferably contained in the same layer.

また、更に感度を向上させる目的で、環状酸無水物、フェノール類、有機酸類を添加することもできる。前記環状酸無水物としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが挙げられる。
前記フェノール類としては、ビスフェノールA、p−エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
Further, for the purpose of further improving sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids can be added. Examples of the cyclic acid anhydride include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, maleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride, and the like.
Examples of the phenols include bisphenol A, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 ″ -trihydroxy. Examples include triphenylmethane, 4,4 ′, 3 ″, 4 ″ -tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane.

前記酸類としては、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
前記環状酸無水物、フェノール類又は有機酸類の印刷版材料中に占める割合としては、0.05〜20質量%が好ましく、0.1〜15質量%がより好ましく、0.1〜10質量%が特に好ましい。
Examples of the acids include sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphate esters, and carboxylic acids. Specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid , Ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4- Examples include cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, and ascorbic acid.
As a ratio which occupies in the printing plate material of the said cyclic acid anhydride, phenols, or organic acids, 0.05-20 mass% is preferable, 0.1-15 mass% is more preferable, 0.1-10 mass% Is particularly preferred.

画像記録層には、塗布性を向上させるために、界面活性剤、例えば特開昭62−170950号公報に記載のフッ素系界面活性剤等を含有させることができる。該界面活性剤の含有量としては、前記画像形成材料の0.01〜1質量%が好ましく、0.05〜0.5質量%がより好ましい。また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149 号公報に記載されているような両性界面活性剤を含有させることができる。   In order to improve the coating property, the image recording layer may contain a surfactant, for example, a fluorine-based surfactant described in JP-A No. 62-170950. As content of this surfactant, 0.01-1 mass% of the said image forming material is preferable, and 0.05-0.5 mass% is more preferable. Further, in order to broaden the processing stability with respect to the developing conditions, nonionic surfactants such as those described in JP-A Nos. 62-251740 and 3-208514, JP-A No. 59-121044 are disclosed. , Amphoteric surfactants as described in JP-A-4-13149 can be contained.

非イオン界面活性剤としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。前記両面活性剤としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型等が挙げられる。
非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の前記画像形成材料中における含有量としては、0.05〜15質量%が好ましく、0.1〜5質量%がより好ましい。
Examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylphenyl ether and the like. Examples of the double-sided activator include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine type. Is mentioned.
The content of the nonionic surfactant and the amphoteric surfactant in the image forming material is preferably 0.05 to 15% by mass, and more preferably 0.1 to 5% by mass.

また、画像記録層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を含有させることができる。焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭50−36209 号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223 号、同54−74728 号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号および同63−58440 号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。   The image recording layer can contain a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image colorant. Typical examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, No. -36223, 54-74728, 60-3626, 61-143748, 61-151644 and 63-58440, and trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes Can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images.

また、画像部の視認性を向上させるため用いられる着色剤としては、種々の染料を用いることができる。好適な染料として油溶性染料と塩基性染料をあげることができる。具体的には、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などを挙げることができる。また、特開昭62−293247号公報に記載されている染料は特に好ましい。
これらの染料の含有量としては、前記画像形成材料の全固形分に対し、0.01〜10質量%が好ましく、0.1〜3質量%がより好ましい。
Various dyes can be used as the colorant used for improving the visibility of the image area. Suitable dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI 42555) ), Methyl violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI522015), and the like. The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred.
The content of these dyes is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the image forming material.

さらに、前記画像形成層には、必要に応じ、画像記録層の柔軟性等を付与するために可塑剤を加えてもよい。可塑剤としては、例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられる。   Further, if necessary, a plasticizer may be added to the image forming layer in order to impart flexibility or the like of the image recording layer. Examples of the plasticizer include butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, Acrylic acid or methacrylic acid oligomers and polymers are used.

〔平版印刷版原版の形成〕
本発明の作製方法に用いるポジ型平版印刷版原版は、前記各成分を溶媒に溶解させたて調製した画像記録層塗布液を、後述する支持体上に塗布することで形成される。
[Formation of planographic printing plate precursor]
The positive lithographic printing plate precursor used in the production method of the present invention is formed by applying an image recording layer coating solution prepared by dissolving the above components in a solvent onto a support described later.

〔支持体〕
平版印刷版原版に用いる支持体としては、寸度的に安定な板状物が好ましく、例えば、紙、プラスチックがラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルム等が含まれる。
なかでも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板である。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は多い場合であっても10質量%以下である。前記アルミニウム板の厚みとしては、およそ0.1〜0.6mm程度が好ましく、0.15〜0.4mmがより好ましく、0.2〜0.3mmが特に好ましい。
[Support]
As the support used for the lithographic printing plate precursor, a dimensionally stable plate-like material is preferable. For example, paper, paper laminated with plastic, metal plate (for example, aluminum, copper, etc.), plastic film (for example, Cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, polyethylene terephthalate, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper or plastic film on which a metal as described above is laminated or deposited.
Among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. Even if the content of the different elements in the alloy is large, it is 10% by mass or less. The thickness of the aluminum plate is preferably about 0.1 to 0.6 mm, more preferably 0.15 to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 to 0.3 mm.

アルミニウム板は、粗面化、陽極酸化処理などの種々の表面処理を施される。
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
The aluminum plate is subjected to various surface treatments such as roughening and anodizing treatment.
Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.

粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。   The roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment as necessary, and then anodized to enhance the water retention and wear resistance of the surface as desired. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

前記陽極酸化処理の条件としては、用いる電解質によって異なるため、一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温が5〜70℃、電流密度が5〜60A/dm2、電圧が1〜100V、電解時間が10秒〜5分であるのが好ましい。前記陽極酸化による、陽極酸化皮膜の量は、1.0g/m以上が好ましい。前記陽極酸化皮膜の量が、1.0g/m未満の場合には、耐刷性が不十分であったり、平版印刷版として用いた場合に、非画像部に傷が付き易くなったりして、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなることがある。 The conditions for the anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 It is preferable that it is -60A / dm2, a voltage is 1-100V, and electrolysis time is 10 second-5 minutes. The amount of the anodized film by the anodization is preferably 1.0 g / m 2 or more. When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or when used as a lithographic printing plate, the non-image area may be easily damaged. As a result, a so-called “scratch stain” in which ink adheres to a scratched part during printing may be likely to occur.

前記陽極酸化処理を施された後、前記アルミニウムの表面は、必要により親水化処理が施される。該親水化処理の方法としては、米国特許第2,714,066 号、同第3,181,461 号、第3,280,734 号および第3,902,734 号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法が挙げられる。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭36−22063 号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868 号、同第4,153,461 号、同第4,689,272 号の各明細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが挙げられる。   After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. The hydrophilization method is disclosed in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. The alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method is mentioned. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063, and U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272. And a method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in the literature.

前記溶媒としては、特に制限はなく、公知の溶媒、例えば、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等が挙げられる。これらの溶媒は1種単独で使用してもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。   The solvent is not particularly limited, and known solvents such as ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1- Methoxy-2-propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, etc. Is mentioned. These solvents may be used alone or in a combination of two or more.

画像記録層塗布液の各成分(添加剤を含む全固形分)の前記溶媒中の濃度としては、1〜50質量%が好ましい。また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に、0.5〜5.0g/mが好ましい。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録層の皮膜特性は低下する。 The concentration of each component (total solid content including additives) of the image recording layer coating solution in the solvent is preferably 1 to 50% by mass. Further, the coating amount (solid content) of the image recording layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but is generally preferably 0.5 to 5.0 g / m 2 . As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image recording layer decrease.

なお、本発明に係る平版印刷版原版においては、上記単層構造の画像記録層のみならず、重層構造の画像記録層の態様をとってもよい。重層構造を取る場合には、支持体に近い側に前記(A)特定アルカリ可溶性樹脂と(B)光熱変換剤とを含有する画像記録層(下部画像記録層)を設け、その表面に、第2の画像記録層(上部画像記録層)を設ける態様を取ることが好ましい。第2の画像記録層としては、ポジ型の感光性を有する画像記録層であっても、感光層を有しない層であってもよく、ポジ型感光性の画像記録層である場合、その処方には特に制限はないが、アルカリ可溶性樹脂としてウレタン系の樹脂を含有することが好ましい。また、上部画像記録層が感光性を有しない場合、下部画像記録層で発生した熱を利用する設計とすることが、露光時のアブレーションカス飛散抑制の観点から好ましい態様である。
本発明に係る平版印刷版原版の画像記録層が重層構造を取る場合、その塗布量としては、支持体に近い側に設けられる下部画像記録層の乾燥後の塗布量は、耐刷性確保と現像時における残膜発生抑制の観点から、0.5〜1.5g/m2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは0.7〜1.2g/m2の範囲である。
また、上部画像記録層の乾燥後の塗布量は、0.05〜1.0g/m2の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは0.07〜0.7g/m2の範囲である。
The lithographic printing plate precursor according to the invention may take the form of an image recording layer having not only a single layer structure but also a multilayer structure. When taking a multi-layer structure, an image recording layer (lower image recording layer) containing the (A) specific alkali-soluble resin and (B) a photothermal conversion agent is provided on the side close to the support, It is preferable to take an embodiment in which two image recording layers (upper image recording layers) are provided. The second image recording layer may be an image recording layer having a positive photosensitive property or a layer having no photosensitive layer. In the case of a positive photosensitive image recording layer, the prescription thereof is used. Although there is no restriction | limiting in particular, It is preferable to contain urethane type resin as alkali-soluble resin. Further, when the upper image recording layer does not have photosensitivity, a design using heat generated in the lower image recording layer is a preferred embodiment from the viewpoint of suppressing ablation scattering during exposure.
When the image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention has a multi-layer structure, the coating amount after drying of the lower image recording layer provided on the side close to the support is to ensure printing durability. in terms of residual film suppressing generation during development it is preferably in the range of 0.5 to 1.5 g / m 2, more preferably in the range of 0.7 to 1.2 g / m 2.
The coating amount after drying of the upper image recording layer is preferably in the range of 0.05 to 1.0 g / m 2, more preferably in the range of 0.07~0.7g / m 2.

前記塗布の方法としては、特に制限はなく、公知の塗布方法、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等が挙げられる。   The coating method is not particularly limited, and examples thereof include known coating methods such as bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

本発明に係る平版印刷版原版においては、支持体と画像記録層との間に、所望により、下塗層を設けることができる。下塗層の成分としては、種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が挙げられる。これらは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an undercoat layer can be provided between the support and the image recording layer as desired. As the component of the undercoat layer, various organic compounds are used. For example, phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, and optionally substituted phenyl Organic phosphonic acids such as phosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, optionally substituted phenylphosphoric acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glyceroline Organic phosphoric acid such as acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acid such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and triethanolamine Hydride such as hydrochloride Hydrochloride salts of amines having a carboxy group. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

下塗層は以下のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に前記有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法や、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に前記有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して前記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して設ける方法等である。   The undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is applied on an aluminum plate and dried to provide a solution, or water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like. For example, an aluminum plate is immersed in a solution in which the organic compound is dissolved in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the compound, and then washed and dried with water or the like.

前者の方法においては、前記有機化合物を溶解させた溶液中の該有機化合物の濃度は、0.005〜10質量%が好ましい。また後者の方法においては、前記有機化合物を溶解させた溶液中の該有機化合物の濃度は、0.01〜20質量%が好ましく、0.05〜5質量%がより好ましく、また、前記浸漬の温度は、20〜90℃が好ましく、25〜50℃がより好ましく、前記浸漬の時間は、0.1秒〜20分が好ましく、2秒〜1分がより好ましい。   In the former method, the concentration of the organic compound in the solution in which the organic compound is dissolved is preferably 0.005 to 10% by mass. In the latter method, the concentration of the organic compound in the solution in which the organic compound is dissolved is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.05 to 5% by mass, The temperature is preferably 20 to 90 ° C, more preferably 25 to 50 ° C, and the immersion time is preferably 0.1 second to 20 minutes, and more preferably 2 seconds to 1 minute.

前記有機化合物を溶解させた溶液には、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質を含有させて、pHを1〜12に調整することもできる。また、画像形成材料の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。
有機下塗層の被覆量としては、2〜200mg/mが好ましく、5〜100mg/mがより好ましい。前記被覆量が、前記数値範囲外である場合には、十分な耐刷性能が得られないことがある。
The solution in which the organic compound is dissolved may contain a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid to adjust the pH to 1 to 12. A yellow dye can also be added to improve the tone reproducibility of the image forming material.
The coating amount of the organic undercoat layer is preferably 2 to 200 mg / m 2 and more preferably 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is out of the numerical range, sufficient printing durability may not be obtained.

本発明に係る平版印刷版原版においては、前記画像記録層の上に、所望により、オーバーコートを設けることができる。前記オーバーコートの成分としては、アルカリ可溶性のポリウレタン樹脂が好ましく、中でもイソシアネート化合物とカルボキシル基を有するジオール化合物との反応生成物であるポリマー主鎖にカルボキシル基を有するポリウレタン樹脂が挙げられる。上記ポリウレタン樹脂を作成するイソシアネートとしてはトリレンジイソシアネートのような芳香族ジイソシアネートが、ジオールとしては、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、が好ましい。
このようにして、本発明の平版印刷版の作製方法に用いられる平版印刷版原版が得られる。
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an overcoat can be provided on the image recording layer as desired. As the component of the overcoat, an alkali-soluble polyurethane resin is preferable, and among them, a polyurethane resin having a carboxyl group in the polymer main chain which is a reaction product of an isocyanate compound and a diol compound having a carboxyl group can be mentioned. The isocyanate for producing the polyurethane resin is preferably an aromatic diisocyanate such as tolylene diisocyanate, and the diol is preferably 3,5-dihydroxybenzoic acid or 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid.
In this way, a lithographic printing plate precursor used in the lithographic printing plate preparation method of the present invention is obtained.

<平版印刷版の作製方法>
前記の如くして得られた平版印刷版原版は、通常、像露光、現像処理を施されて平版印刷版が作製される。即ち、所望の画像様に露光されたネガ型平版印刷版原版では、露光領域のアルカリ現像液に対する溶解性が向上し、現像により除去されて非画像部を形成し、残存した未露光部の画像記録層が平版印刷版の画像部となる。
〔露光工程〕
露光に用いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。放射線としては、電子線、X線、イオンビーム、遠赤外線などがある。またg線、i線、Deep−UV光、高密度エネルギービーム(レーザービーム)も使用される。レーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキシマレーザー等が挙げられる。
画像様露光は、リスフィルム等のマスクを介する露光により行われてもよく、走査露光により行われてもよい。
本発明においては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。
<Preparation method of lithographic printing plate>
The lithographic printing plate precursor obtained as described above is usually subjected to image exposure and development treatment to produce a lithographic printing plate. That is, in a negative lithographic printing plate precursor exposed to a desired image quality, the solubility of the exposed area in an alkaline developer is improved, and it is removed by development to form a non-image area. The recording layer becomes the image portion of the lithographic printing plate.
[Exposure process]
Examples of the active light source used for exposure include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, and a carbon arc lamp. Examples of radiation include electron beams, X-rays, ion beams, and far infrared rays. Also, g-line, i-line, deep-UV light, and high-density energy beam (laser beam) are used. Examples of the laser beam include a helium / neon laser, an argon laser, a krypton laser, a helium / cadmium laser, and a KrF excimer laser.
The image-like exposure may be performed by exposure through a mask such as a lith film, or may be performed by scanning exposure.
In the present invention, a light source having a light emission wavelength from the near infrared region to the infrared region is preferable, and a solid laser or a semiconductor laser is particularly preferable.

〔現像工程〕
次に、現像工程について詳述する。
(特定現像液)
現像工程に使用される処理液(以下、特定現像液とも称する)は、アニオン系界面活性剤を含有するpH8.5〜10.8のアルカリ水溶液である。アニオン系界面活性剤は処理性の向上に寄与する。
[Development process]
Next, the development process will be described in detail.
(Specific developer)
A processing solution (hereinafter also referred to as a specific developing solution) used in the developing step is an alkaline aqueous solution having a pH of 8.5 to 10.8 containing an anionic surfactant. An anionic surfactant contributes to the improvement of processability.

本発明における特定現像液に用いられるアニオン性界面活性剤は処理性の向上に寄与する。
アニオン系界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類、芳香族スルホン酸塩類、芳香族置換ポリオキシエチレンスルホン酸塩類等が挙げられる。
これらの中でもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類およびアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。
The anionic surfactant used in the specific developer in the present invention contributes to the improvement of the processability.
Anionic surfactants include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates. , Alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salts, petroleum sulfonates, sulfated castor oil , Sulfated beef tallow oil, fatty acid alkyl ester sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates Tell salt, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfate ester salt, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfate ester salt, alkyl phosphate ester salt, polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester salt, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphate ester salt, styrene-anhydrous Partially saponified products of maleic acid copolymer, partially saponified products of olefin-maleic anhydride copolymer, naphthalene sulfonate formalin condensates, aromatic sulfonates, aromatic substituted polyoxyethylene sulfonates, etc. Is mentioned.
Among these, dialkyl sulfosuccinates, alkyl sulfate esters and alkyl naphthalene sulfonates are particularly preferably used.

本発明の処理液に用いられるアニオン性界面活性剤としては、スルホン酸又はスルホン酸塩を含有するアニオン系界面活性剤が特に好ましい。
アニオン性界面活性剤は単独もしくは組み合わせて使用することができる。
現像液中におけるアニオン性界面活性剤の含有量は、0.5〜15質量%が好ましく、1〜10質量%がより好ましく、2〜10質量%が最も好ましい。
As the anionic surfactant used in the treatment liquid of the present invention, an anionic surfactant containing a sulfonic acid or a sulfonate is particularly preferable.
Anionic surfactants can be used alone or in combination.
The content of the anionic surfactant in the developer is preferably 0.5 to 15% by mass, more preferably 1 to 10% by mass, and most preferably 2 to 10% by mass.

本発明に係る特定現像液はpHが8.5以上10.8以下であることを要する。現像液のpHを上記範囲に保つには、緩衝剤として炭酸イオン、炭酸水素イオンが存在することが好ましい。炭酸イオン、炭酸水素イオンの機能により、現像液を長期間使用してもpHの変動を抑制でき、pHの変動による現像性低下、現像カス発生等を抑制できるものと考えられる。炭酸イオン、炭酸水素イオンを現像液中に存在させるには、炭酸塩と炭酸水素塩を現像液に加えてもよいし、炭酸塩又は炭酸水素塩を加えた後にpHを調整することで、炭酸イオンと炭酸水素イオンを発生させてもよい。
pHの調製に用いうる炭酸塩及び炭酸水素塩としては、特に限定されないが、アルカリ金属塩であることが好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。これらは単独でも、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
現像液のpHは、緩衝作用を生じるpHであればよく、具体的には、pH8.5〜10.8の範囲であることを要する。pH8.5を下回ると非画像部の現像性が低下し、pH10.8を上回ると空気中の炭酸ガスの影響により処理能力が低下する。
The specific developer according to the present invention needs to have a pH of 8.5 to 10.8. In order to keep the pH of the developer in the above range, it is preferable that carbonate ions and hydrogen carbonate ions exist as buffering agents. Due to the functions of carbonate ions and hydrogen carbonate ions, it is considered that the change in pH can be suppressed even when the developer is used for a long period of time, and the development loss due to the change in pH, the development of development residue, and the like can be suppressed. In order to allow carbonate ions and hydrogen carbonate ions to be present in the developer, carbonate and hydrogen carbonate may be added to the developer, or by adjusting the pH after adding carbonate or bicarbonate, Ions and bicarbonate ions may be generated.
The carbonate and hydrogen carbonate that can be used for adjusting the pH are not particularly limited, but are preferably alkali metal salts. Examples of the alkali metal include lithium, sodium, and potassium, and sodium is particularly preferable. These may be used alone or in combination of two or more.
The pH of the developer may be any pH that causes a buffering action, and specifically needs to be in the range of pH 8.5 to 10.8. When the pH is less than 8.5, the developability of the non-image area is lowered.

炭酸塩及び炭酸水素塩の総量は、アルカリ水溶液の質量に対して0.3〜20質量%が好ましく、0.5〜10質量%がより好ましく、1〜5質量%が特に好ましい。総量が0.3質量%以上であると現像性、処理能力が低下せず、20質量%以下であると沈殿や結晶を生成し難くなり、さらに現像液の廃液処理時、中和の際にゲル化し難くなり、廃液処理に支障をきたさない。   0.3-20 mass% is preferable with respect to the mass of alkaline aqueous solution, and, as for the total amount of carbonate and hydrogencarbonate, 0.5-10 mass% is more preferable, and 1-5 mass% is especially preferable. When the total amount is 0.3% by mass or more, developability and processing capacity do not decrease, and when it is 20% by mass or less, it becomes difficult to form precipitates and crystals. It becomes difficult to gel and does not interfere with waste liquid treatment.

また、アルカリ濃度の微少な調整、非画像部感光層の溶解を補助する目的で、補足的に他のアルカリ剤、例えば有機アルカリ剤を併用してもよい。有機アルカリ剤としては、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等を挙げることができる。無機塩としては、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムなどが挙げられる。
これらの他のアルカリ剤は、単独もしくは2種以上を組み合わせて用いられる。本発明の処理液には上記の他に、湿潤剤、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、有機溶剤、無機酸、無機塩などを含有することができる。
但し、特定現像液に水溶性高分子化合物を含有すると、特に処理液が疲労した際に版面がベトツキやすくなる懸念があるため、本発明に係る特定現像液における水溶性高分子化合物の含有量は10ppm以下であることが好ましく、5ppm以下であることがより好ましく、最も好ましくは含有しないことである。ここでいう「水溶性高分子化合物」とは、例えば、水溶性バインダーポリマーとして用いられる高分子化合物が挙げられ、例えば、分子内に、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホ基、及び、リン酸基等から選択される親水性基を有する高分子化合物が挙げられる。
具体例としては、例えば、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロース及びそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60mol%以上、好ましくは80mol%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等を指す。
Further, for the purpose of assisting the fine adjustment of the alkali concentration and the dissolution of the non-image area photosensitive layer, another alkali agent such as an organic alkali agent may be supplementarily used together. Examples of the organic alkali agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, Examples thereof include diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, tetramethylammonium hydroxide and the like. Examples of inorganic salts include primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, primary potassium phosphate, secondary potassium phosphate, sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, and the like.
These other alkaline agents are used alone or in combination of two or more. In addition to the above, the treatment liquid of the present invention may contain a wetting agent, preservative, chelate compound, antifoaming agent, organic acid, organic solvent, inorganic acid, inorganic salt, and the like.
However, if the specific developer contains a water-soluble polymer compound, there is a concern that the plate surface is likely to be sticky especially when the processing solution is fatigued, so the content of the water-soluble polymer compound in the specific developer according to the present invention is It is preferably 10 ppm or less, more preferably 5 ppm or less, and most preferably not contained. Examples of the “water-soluble polymer compound” herein include polymer compounds used as a water-soluble binder polymer. For example, a hydroxyl group, carboxyl group, carboxylate group, hydroxyethyl group, Hydrophilic group selected from oxyethyl group, hydroxypropyl group, polyoxypropyl group, amino group, aminoethyl group, aminopropyl group, ammonium group, amide group, carboxymethyl group, sulfo group, phosphate group, etc. The polymer compound having
Specific examples include, for example, gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and the like. Salts, polymethacrylic acids and their salts, hydroxyethyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxyethyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxypyrrole methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl Methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl acrylate homopolymers and copolymers, polyesters Lenglycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohol, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, homopolymers and copolymers of acrylamide having a hydrolysis degree of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more, methacryl Homopolymers and copolymers of amides, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, polyethers of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. .

防腐剤としては、フェノールまたはその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、4−イソチアゾリン−3−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3ジオール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−エタノール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−プロパノール等が好ましく使用できる。種々のカビ、殺菌に対して効力のあるように2種以上の防腐剤を併用することが好ましい。防腐剤の添加量は、細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、処理液に対して0.01〜4質量%の範囲が好ましい。   Preservatives include phenol or derivatives thereof, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivatives, benzoisothiazolin-3-one, 2-methyl-4-isothiazolin-3-one, benztriazole derivatives Amiding anidine derivatives, quaternary ammonium salts, derivatives such as pyridine, quinoline, guanidine, diazine, triazole derivatives, oxazole, oxazine derivatives, nitrobromoalcohol-based 2-bromo-2-nitropropane-1,3diol, 1, 1-dibromo-1-nitro-2-ethanol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-propanol and the like can be preferably used. It is preferable to use two or more kinds of preservatives in combination so as to be effective against various molds and sterilization. The addition amount of the preservative is an amount that stably exerts an effect on bacteria, mold, yeast, etc., and varies depending on the type of bacteria, mold, yeast, but 0.01 to 4 relative to the treatment liquid. A range of mass% is preferred.

キレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類あるいはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることができる。上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代りに有機アミンの塩も有効である。キレート剤は処理液組成中に安定に存在し、印刷性を阻害しないものが選ばれる。添加量は処理液に対して0.001〜1.0質量%が好適である。   Examples of the chelate compound include ethylenediaminetetraacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; diethylenetriaminepentaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; triethylenetetraminehexaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid Nitrilotriacetic acid, sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt, sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt, sodium salt And organic phosphonic acids and phosphonoalkanetricarboxylic acids. Organic amine salts are also effective in place of the sodium and potassium salts of the chelating agents. A chelating agent is selected that is stably present in the treatment liquid composition and does not impair the printability. The addition amount is preferably 0.001 to 1.0% by mass with respect to the treatment liquid.

消泡剤としては一般的なシリコン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、ノニオン系のHLBの5以下等の化合物を使用することができる。シリコン消泡剤が好ましい。その中で乳化分散型および可溶化等がいずれも使用できる。消泡剤の含有量は、処理液に対して0.001〜1.0質量%の範囲が好適である。   As the antifoaming agent, a general silicon-based self-emulsifying type, emulsifying type, nonionic HLB 5 or less compound can be used. Silicon antifoaming agents are preferred. Among them, emulsification dispersion type and solubilization can be used. The content of the antifoaming agent is preferably in the range of 0.001 to 1.0 mass% with respect to the treatment liquid.

有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、サリチル酸、カプリル酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、p−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フィチン酸、有機ホスホン酸などが挙げられる。有機酸は、そのアルカリ金属塩またはアンモニウム塩の形で用いることもできる。有機酸の含有量は処理液に対して0.01〜0.5質量%が好ましい。   Examples of organic acids include citric acid, acetic acid, succinic acid, malonic acid, salicylic acid, caprylic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, levulinic acid, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, phytic acid, and organic phosphonic acid. . The organic acid can also be used in the form of its alkali metal salt or ammonium salt. The content of the organic acid is preferably 0.01 to 0.5% by mass with respect to the treatment liquid.

有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、”アイソパーE、H、G”(エッソ化学(株)製)あるいはガソリン、灯油等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、あるいはハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等)や、極性溶剤が挙げられる。   Examples of the organic solvent include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (produced by Esso Chemical Co., Ltd.) or gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.) ) Or halogenated hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichrene, monochlorobenzene, etc.) and polar solvents.

極性溶剤としては、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチルフタレート、レブリン酸ブチル等)、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、N−フェニルエタノールアミン、N−フェニルジエタノールアミン等)等が挙げられる。
無機酸および無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケルなどが挙げられる。無機塩の含有量は処理液の全質量に基づいて0.01〜0.5質量%の量が好ましい。
Polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, benzyl alcohol, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, ethylene Glycol monophenyl ether, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methyl amyl alcohol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, benzyl acetate, methyl lactate, Propylene glycol monomethyl ether acetate, diethyl phthalate, butyl levulinate, etc. Other (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N- phenylethanolamine, N- phenyldiethanolamine, etc.) and the like.
Examples of inorganic acids and inorganic salts include phosphoric acid, metaphosphoric acid, primary ammonium phosphate, secondary ammonium phosphate, magnesium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate, ammonium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate, sodium sulfite, ammonium sulfite, Examples thereof include sodium hydrogen sulfate and nickel sulfate. The content of the inorganic salt is preferably 0.01 to 0.5% by mass based on the total mass of the treatment liquid.

また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。現像液が有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は40質量%未満が望ましい。   When the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. When the developer contains an organic solvent, the concentration of the solvent is preferably less than 40% by mass from the viewpoint of safety and flammability.

(現像条件)
現像の温度は、通常60℃以下、好ましくは15〜40℃程度である。自動現像機を用いる現像処理においては、処理量に応じて現像液が疲労してくることがあるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。
通常の現像処理工程においては、アルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを除去し、ガム引き工程でガム処理を行い、乾燥工程で乾燥するのに対して、本発明においては、炭酸イオン、炭酸水素イオン及びアニオン性界面活性剤を含有する水溶液を用いることにより、前水洗、現像及びガム引きを同時に行うことを特徴としている。よって前水洗工程は特に必要とせず、一液を用いるだけで、更には一浴で前水洗、現像及びガム引きを行ったのち、乾燥工程を行うことができる。現像の後は、スクイズローラ等を用いて余剰の処理液を除去してから乾燥を行うことが好ましい。
(Development conditions)
The development temperature is usually 60 ° C. or lower, preferably about 15 to 40 ° C. In the developing process using an automatic developing machine, the developing solution may be fatigued depending on the amount of processing, and thus the processing capability may be restored by using a replenishing solution or a fresh developing solution.
In the normal development processing step, alkali development is performed, alkali is removed in the post-water washing step, gum processing is performed in the gumming step, and drying is performed in the drying step. By using an aqueous solution containing hydrogen ions and an anionic surfactant, pre-water washing, development and gumming are performed simultaneously. Therefore, the pre-water washing step is not particularly required, and the drying step can be performed only by using one liquid, and further after performing pre-water washing, development and gumming in one bath. After development, it is preferable to dry after removing excess processing liquid using a squeeze roller or the like.

現像工程は、擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例えば、画像露光後の平版印刷版原版を搬送しながら擦り処理を行う、特開平2−220061号公報、特開昭60−59351号公報に記載の自動処理機や、シリンダー上にセットされた画像露光後の平版印刷版原版を、シリンダーを回転させながら擦り処理を行う、米国特許5148746号、同5568768号、英国特許2297719号に記載の自動処理機等が挙げられる。なかでも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。   The development process can be preferably carried out by an automatic processor equipped with a rubbing member. As an automatic processor, for example, an automatic processor described in JP-A-2-220061 and JP-A-60-59351, which performs a rubbing process while conveying a lithographic printing plate precursor after image exposure, or a cylinder Examples thereof include an automatic processor described in US Pat. Nos. 5,148,746, 5,568,768 and British Patent 2,297,719, which rub the lithographic printing plate precursor after image exposure set above while rotating a cylinder. Among these, an automatic processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable.

本発明に使用する回転ブラシロールは、画像部の傷つき難さ、さらには、平版印刷版原版の支持体の腰の強さ等を考慮して適宜選択することができる。回転ブラシロールとしては、ブラシ素材をプラスチックまたは金属のロールに植え付けて形成された公知のものが使用できる。例えば、特開昭58−159533号公報、特開平3−100554号公報に記載のものや、実公昭62−167253号公報に記載されているような、ブラシ素材を列状に植え込んだ金属またはプラスチックの溝型材を芯となるプラスチックまたは金属のロールに隙間なく放射状に巻き付けたブラシロールが使用できる。
ブラシ素材としては、プラスチック繊維(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン6.6、ナイロン6.10等のポリアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ(メタ)アクリル酸アルキル等のポリアクリル系、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維)を使用することができ、例えば、繊維の毛の直径は20〜400μm、毛の長さは5〜30mmのものが好適に使用できる。
回転ブラシロールの外径は30〜200mmが好ましく、版面を擦るブラシの先端の周速は0.1〜5m/secが好ましい。回転ブラシロールは、複数本用いることが好ましい。
The rotating brush roll used in the present invention can be appropriately selected in consideration of the difficulty of scratching the image area and the stiffness of the support of the lithographic printing plate precursor. As the rotating brush roll, a known one formed by planting a brush material on a plastic or metal roll can be used. For example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 58-159533 and 3-100554, or as disclosed in Japanese Utility Model Publication No. 62-167253, metal or plastic in which brush materials are implanted in rows A brush roll can be used in which the groove mold material is radially wound around a plastic or metal roll as a core without a gap.
Examples of brush materials include plastic fibers (for example, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyamides such as nylon 6.6 and nylon 6.10, polyacrylics such as polyacrylonitrile and poly (meth) acrylate). , Polyolefin synthetic fibers such as polypropylene and polystyrene). For example, fibers having a hair diameter of 20 to 400 μm and a hair length of 5 to 30 mm can be preferably used.
The outer diameter of the rotating brush roll is preferably 30 to 200 mm, and the peripheral speed at the tip of the brush rubbing the plate surface is preferably 0.1 to 5 m / sec. It is preferable to use a plurality of rotating brush rolls.

回転ブラシロールの回転方向は、平版印刷版原版の搬送方向に対し、同一方向であっても、逆方向であってもよいが、2本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、少なくとも1本の回転ブラシロールが同一方向に回転し、少なくとも1本の回転ブラシロールが逆方向に回転することが好ましい。これにより、非画像部の感光層の除去がさらに確実となる。さらに、回転ブラシロールをブラシロールの回転軸方向に揺動させることも効果的である。   The rotating direction of the rotating brush roll may be the same or opposite to the conveying direction of the lithographic printing plate precursor. However, when two or more rotating brush rolls are used, at least one rotating brush roll is used. It is preferred that the rotating brush rolls rotate in the same direction and at least one rotating brush roll rotates in the opposite direction. This further ensures the removal of the photosensitive layer in the non-image area. It is also effective to swing the rotating brush roll in the direction of the rotation axis of the brush roll.

現像工程のあと、連続的又は不連続的に乾燥工程を設けることが好ましい。乾燥は熱風、赤外線、遠赤外線等によって行う。   It is preferable to provide a drying step continuously or discontinuously after the development step. Drying is performed by hot air, infrared rays, far infrared rays, or the like.

本発明の平版印刷版の作製方法において好適に用いられる自動処理機の構造の1例を図1に模式的に示す。図1の自動処理機は、基本的に現像部6と乾燥部10からなり、平版印刷版原版4は現像槽20で、現像とガム引きを行い、乾燥部10で乾燥される。   An example of the structure of an automatic processor suitably used in the method for producing a lithographic printing plate of the present invention is schematically shown in FIG. The automatic processor shown in FIG. 1 basically includes a developing unit 6 and a drying unit 10, and the lithographic printing plate precursor 4 is developed and gummed in the developing tank 20 and dried in the drying unit 10.

以上のようにして得られた平版印刷版は印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062 号、特開昭62−31859 号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。整面液が塗布された平版印刷版は、必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の温度で1〜20分間程度行われるのが好ましい。加熱条件は、使用される平版印刷版原版の種類により適宜選択されるが、一般に、温度が低すぎる場合、加熱時間が不充分な場合には、十分な画像強化作用が得られず、温度が高すぎる場合や加熱時間が長すぎる場合には、支持体の劣化、画像部の熱分解等の問題を生じる虞がある。
このようにして得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing process. However, when it is desired to obtain a lithographic printing plate having a higher printing durability, a burning process is performed. In the case of burning a lithographic printing plate, the preparation as described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859, and JP-A-61-159655 is performed before burning. It is preferable to treat with a surface liquid. The lithographic printing plate coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary, and then heated to a high temperature with a burning processor (for example, burning processor “BP-1300” sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). Is done. The heating temperature and time in this case are preferably about 1 to 20 minutes at a temperature of 180 to 300 ° C., although it depends on the type of components forming the image. The heating conditions are appropriately selected depending on the type of the lithographic printing plate precursor to be used. In general, when the temperature is too low, when the heating time is insufficient, sufficient image strengthening action cannot be obtained, and the temperature is If it is too high or if the heating time is too long, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area may occur.
The lithographic printing plate thus obtained is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.

以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

[(A)特定アルカリ可溶性樹脂の合成]
<合成例1:(A)特定アルカリ可溶性樹脂1の合成>
1−1.重合性モノマーを含む高分子化合物の合成
メタクリロイルオキシエチルイソシアネート15.5gと、4−アミノフェノールを12.0gとをジオキサン溶媒150gに加えて溶解させた後、これを2時間攪拌して、下記構成単位を有する2−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート25.0gを得た。
[(A) Synthesis of specific alkali-soluble resin]
<Synthesis Example 1: (A) Synthesis of specific alkali-soluble resin 1>
1-1. Synthesis of Polymer Compound Containing Polymerizable Monomer After adding 15.5 g of methacryloyloxyethyl isocyanate and 12.0 g of 4-aminophenol to 150 g of dioxane solvent, this was stirred for 2 hours, and the following constitution 25.0 g of 2- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate having units was obtained.

1−2.(A)特定アルカリ可溶性樹脂1の合成−
得られた2−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレートと、N−フェニルマレイミド(尿素結合を含まないモノマー)とを、質量比〔2−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート/N−フェニルマレイミド)〕が75/25の割合で重合させ、(A)特定アルカリ可溶性樹脂1(重量平均分子量(Mw)=16,000)を20g得た。
1-2. (A) Synthesis of specific alkali-soluble resin 1
The obtained 2- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate and N-phenylmaleimide (monomer not containing a urea bond) were mixed in a mass ratio [2- (N ′-(4-hydroxyphenyl). ) Ureido) ethyl methacrylate / N-phenylmaleimide)] was polymerized at a ratio of 75/25 to obtain 20 g of (A) specific alkali-soluble resin 1 (weight average molecular weight (Mw) = 16,000).

<合成例2:(A)特定アルカリ可溶性樹脂2の合成>
前記合成例1における(A)特定アルカリ可溶性樹脂1の合成において、共重合成分として用いた尿素結合を含まないモノマーであるN−フェニルマレイミドに代えて、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミドを用い、質量比〔2−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート/N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド〕が75/25の割合で重合させた以外は、合成例1と同様にして、(A)特定アルカリ可溶性樹脂2(重量平均分子量(Mw)=34,000)を20g得た。
<Synthesis Example 2: (A) Synthesis of specific alkali-soluble resin 2>
In the synthesis of (A) the specific alkali-soluble resin 1 in Synthesis Example 1, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide is used instead of N-phenylmaleimide, which is a monomer not containing a urea bond, used as a copolymerization component. Except that the mass ratio [2- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate / N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide] was polymerized at a ratio of 75/25. In the same manner as in Example 1, 20 g of (A) specific alkali-soluble resin 2 (weight average molecular weight (Mw) = 34,000) was obtained.

<合成例3:(A)特定アルカリ可溶性樹脂3の合成>
前記合成例1における(A)特定アルカリ可溶性樹脂1の合成において、共重合成分として用いた尿素結合を含まないモノマーであるN−フェニルマレイミドに代えて、メタクリル酸メチル及びメタクリルアミドを用い、質量比〔2−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート/メタクリル酸メチル/メタクリルアミド)〕が72/14/14の割合で重合させた以外は、合成例1と同様にして、(A)特定アルカリ可溶性樹脂3(重量平均分子量(Mw)=68,000)を20g得た。
<Synthesis Example 3: (A) Synthesis of specific alkali-soluble resin 3>
In the synthesis of (A) the specific alkali-soluble resin 1 in Synthesis Example 1, instead of N-phenylmaleimide, which is a monomer not containing a urea bond, used as a copolymerization component, methyl methacrylate and methacrylamide were used, and the mass ratio was Except that [2- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate / methyl methacrylate / methacrylamide] was polymerized at a ratio of 72/14/14, the same as in Synthesis Example 1 ( A) 20 g of the specific alkali-soluble resin 3 (weight average molecular weight (Mw) = 68,000) was obtained.

<合成例4:(A)特定アルカリ可溶性樹脂4の合成>
前記合成例1における(A)特定アルカリ可溶性樹脂1の合成において、共重合成分として用いた尿素結合を含まないモノマーであるN−フェニルマレイミドに代えて、アクリロニトリル及びメタクリルアミドを用い、質量比〔2−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルメタクリレート/メタクリル酸メチル/メタクリルアミド〕が65/20/15の割合で重合させた以外は、合成例1と同様にして、(A)特定アルカリ可溶性樹脂4 重量平均分子量(Mw)=45,000)を20g得た。
<Synthesis Example 4: (A) Synthesis of specific alkali-soluble resin 4>
In the synthesis of (A) the specific alkali-soluble resin 1 in Synthesis Example 1, acrylonitrile and methacrylamide were used instead of N-phenylmaleimide which is a monomer not containing a urea bond used as a copolymerization component, and the mass ratio [2 -(N '-(4-hydroxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate / methyl methacrylate / methacrylamide] was polymerized in a ratio of 65/20/15 in the same manner as in Synthesis Example 1, except that (A) specified 20 g of alkali-soluble resin 4 weight average molecular weight (Mw) = 45,000) was obtained.

<合成例5:比較アルカリ可溶性樹脂Aの合成>
イソシアン酸フェニル11.9gと4−アミノフェノール12.0gとをジオキサン溶媒120gに加えて溶解させた後、2時間攪拌させて、4−(N’−フェニルウレイド)フェノール22.0gを得た。
得られた4−(N’−フェニルウレイド)フェノール18.3gと、パラホルムアルデヒド2.40gとを、しゅう酸100gに溶解させ、これを攪拌した後、100℃に加熱して、下記構造式で表される側鎖に尿素結合を有するが、置換基としてのフェノール性水酸基を有しない比較アルカリ可溶性樹脂 (重量平均分子量(Mw)=2,000)を20g得た。
<Synthesis Example 5: Synthesis of Comparative Alkali-soluble Resin A>
After 11.9 g of phenyl isocyanate and 12.0 g of 4-aminophenol were added to 120 g of dioxane solvent and dissolved, the mixture was stirred for 2 hours to obtain 22.0 g of 4- (N′-phenylureido) phenol.
18.3 g of the obtained 4- (N′-phenylureido) phenol and 2.40 g of paraformaldehyde were dissolved in 100 g of oxalic acid, stirred and heated to 100 ° C. 20 g of a comparative alkali-soluble resin (weight average molecular weight (Mw) = 2,000) having a urea bond in the represented side chain but not having a phenolic hydroxyl group as a substituent was obtained.

前記構造式中、nは、1〜15であり、( )内のPhは、ベンゼン環である。
<比較アルカリ可溶性樹脂B>
比較アルカリ可溶性樹脂Bとして、N−フェニルマレイミド/メタクリル酸/メタクリルアミド(60/15/25)重量平均分子量44,000を用いた。
In said structural formula, n is 1-15, Ph in () is a benzene ring.
<Comparison alkali-soluble resin B>
As comparative alkali-soluble resin B, N-phenylmaleimide / methacrylic acid / methacrylamide (60/15/25) weight average molecular weight 44,000 was used.

<実施例1〜5及び比較例1〜3>
[支持体Aの作製]
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/mであった。次にこの板を、7%硫酸を電解液として電流密度15A/dm2で3g/mの直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥し、さらに、下記下塗り液を塗布し、塗膜を90℃で1分乾燥し、下塗り層が設けられた支持体Aを得た。乾燥後の塗膜の塗布量は10mg/mであった。
<Examples 1-5 and Comparative Examples 1-3>
[Preparation of Support A]
An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm was washed with trichlorethylene and degreased, and then the surface was grained using a nylon brush and a 400 mesh pumice-water suspension and thoroughly washed with water. This plate was etched by being immersed in a 25% aqueous sodium hydroxide solution at 45 ° C. for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20% nitric acid for 20 seconds, and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 . Next, this plate was provided with a direct current anodic oxide coating of 3 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 7% sulfuric acid as an electrolyte, then washed with water, dried, and further coated with the following undercoat solution. Was dried at 90 ° C. for 1 minute to obtain a support A provided with an undercoat layer. The coating amount after drying was 10 mg / m 2 .

−下塗り液−
・β−アラニン 0.5g
・メタノール 95g
・水 5g
-Undercoat liquid-
・ Β-Alanine 0.5g
・ Methanol 95g
・ Water 5g

得られた下塗り済みの支持体Aに、下記成分を含む画像記録層塗布液1を、塗布量が1.2g/mとなるよう塗布し、本発明に係る平版印刷版原版1〜4及び比較用平版印刷版原版1,2を得た。
−画像記録層塗布液1−
・(A)特定アルカリ可溶性樹脂又は比較アルカリ可溶性樹脂(表1記載の化合物)
0.80g
・m,p−クレゾールノボラック(m,p比=6/ 0.20g
4、重量平均分子量=3,500、未反応クレ
ゾール0.5質量%含有)
・p−トルエンスルホン酸 0.003g
・テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g
・下記構造の染料A〔(B)光熱変換剤〕 0.017g
・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1− 0.015g
ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料
・メガファックF−177(大日本インキ化学工業 0.05g
(株)製、フッ素系界面活性剤)
・γ−ブチルラクトン 10g
・メチルエチルケトン 10g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8g
An image recording layer coating solution 1 containing the following components is applied to the obtained undercoated support A so that the coating amount is 1.2 g / m 2, and the lithographic printing plate precursors 1 to 4 and Comparative lithographic printing plate precursors 1 and 2 were obtained.
-Image recording layer coating solution 1-
(A) Specific alkali-soluble resin or comparative alkali-soluble resin (compound described in Table 1)
0.80g
・ M, p-cresol novolak (m, p ratio = 6 / 0.20 g
4, weight average molecular weight = 3,500, containing 0.5% by mass of unreacted cresol)
・ 0.003 g of p-toluenesulfonic acid
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.03g
-Dye A having the following structure [(B) photothermal conversion agent] 0.017 g
・ Victory Pure Blue BOH counter ion 1-0.015g
Dye made from naphthalene sulfonate anion, Megafac F-177 (Dainippon Ink & Chemicals, 0.05 g
(Fluorosurfactant manufactured by Co., Ltd.)
・ Γ-Butyllactone 10g
・ Methyl ethyl ketone 10g
・ 8g of 1-methoxy-2-propanol

(平版印刷版原版5の作製)
前記平版印刷版原版1と同様の画像記録層(塗布量 1.0mg/m)の上に、さらに下記組成の上層用塗布液を塗布量が0.5g/mになるようバーコーター塗布したのち、130℃で40秒間乾燥し、更に20〜26℃の風で徐冷し、重層画像記録層を有する本発明に係る平版印刷版原版5を作製した。
−上層用塗布液−
・4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート/トリレンジイソシアナート/2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸/デカンジオール=40/10/40/10との縮合ポリウレタン樹脂(重量平均分子量28,000)
30.0g
・エチルバイオレット 0.03g
・メガファックF−177 0.05g
・3−ペンタノン 60g
・プロピレングリコールモノメチルエーテル−2−アセテート 8g
(Preparation of lithographic printing plate precursor 5)
On the image recording layer (coating amount: 1.0 mg / m 2 ) similar to that of the lithographic printing plate precursor 1, a bar coater is applied so that the coating amount for the upper layer is further 0.5 g / m 2. After that, it was dried at 130 ° C. for 40 seconds and further slowly cooled by wind at 20 to 26 ° C. to prepare a lithographic printing plate precursor 5 according to the present invention having a multilayer image recording layer.
-Upper layer coating solution-
・ Condensed polyurethane resin with 4,4′-diphenylmethane diisocyanate / tolylene diisocyanate / 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid / decanediol = 40/10/40/10 (weight average molecular weight 28,000)
30.0g
・ Ethyl violet 0.03g
・ Megafuck F-177 0.05g
・ 3-Pentanone 60g
・ Propylene glycol monomethyl ether-2-acetate 8g

−評価−
(露光工程)
得られた本発明に係る平版印刷版原版1〜5及び比較用平版印刷版原版1、2を、露光器(トレンドセッターF、Kodak社製)を用いて、露光(レーザーパワー:8.5W、回転数:185rpm)した。
また、現像カス評価用としては、全面露光を行い、クリア画像を作製した。
(現像工程)
露光後の平版印刷版原版を、図1に示す自動現像処理機〔現像槽25L、版搬送速度100cm/min、ポリブチレンテレフタレート繊維(毛直径200μm、毛長17mm)を植え込んだ外径50mmのブラシロール1本が搬送方向と同一方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.52m/sec)、乾燥温度80℃〕及び表1に示す現像液を用いて、温度30℃で、処理量が20m/Lとなるまで、現像処理を行った。
-Evaluation-
(Exposure process)
The obtained lithographic printing plate precursors 1 to 5 and comparative lithographic printing plate precursors 1 and 2 according to the present invention were exposed (laser power: 8.5 W) using an exposure device (Trendsetter F, manufactured by Kodak). (Rotational speed: 185 rpm).
For evaluation of development residue, the entire surface was exposed to produce a clear image.
(Development process)
The exposed lithographic printing plate precursor is an automatic development processor shown in FIG. 1 [developing tank 25L, plate conveyance speed 100 cm / min, brush having an outer diameter of 50 mm in which polybutylene terephthalate fibers (hair diameter 200 μm, hair length 17 mm) are implanted. One roll is processed at a temperature of 30 ° C. using the developer shown in Table 1 at 200 revolutions per minute in the same direction as the conveying direction (peripheral speed 0.52 m / sec at the tip of the brush, drying temperature 80 ° C.). Development processing was performed until the amount reached 20 m 2 / L.

(特定現像液1)
水 8963.8g
炭酸ナトリウム 200g
炭酸水素ナトリウム 100g
ニューコールB4SN(61%水溶液) 656g
(ポリオキシエチレンナフチルエーテル硫酸塩、日本乳化剤(株)製アニオン系界面活性剤)
EDTA 4Na 80g
2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3ジオール 0.1g
2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 0.1g
(pH:9.7)
(Specific developer 1)
8963.8 g of water
Sodium carbonate 200g
Sodium bicarbonate 100g
New call B4SN (61% aqueous solution) 656g
(Polyoxyethylene naphthyl ether sulfate, anionic surfactant manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.)
EDTA 4Na 80g
2-Bromo-2-nitropropane-1,3-diol 0.1 g
2-Methyl-4-isothiazolin-3-one 0.1 g
(PH: 9.7)

(特定現像液2)
水 8665g
炭酸カリウム 150g
炭酸水素カリウム 80g
エレミノールMON(47%水溶液) 745g
(ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、三洋化成(株)製アニオン系界面活性剤)
燐酸第一アンモニウム 180g
ヘキサメタリン酸ソーダ 180g
(pH:9.7)
(Specific developer 2)
8665g of water
150g potassium carbonate
Potassium bicarbonate 80g
ELEMINOL MON (47% aqueous solution) 745g
(Sodium dodecyl diphenyl ether disulfonate, anionic surfactant manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.)
180g primary ammonium phosphate
180 g of sodium hexametaphosphate
(PH: 9.7)

(特定現像液3)
水 8150.8g
炭酸ナトリウム 200g
炭酸水素ナトリウム 80g
ペレックスNBL(35%水溶液) 1429g
(アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、花王(株)製アニオン系界面活性剤)
クエン酸 40g
燐酸第一アンモニウム 20g
プロピレングリコール 80g
2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3ジオール 0.1g
2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 0.1g
(pH:9.8)
(Specific developer 3)
8150.8g of water
Sodium carbonate 200g
Sodium bicarbonate 80g
Perex NBL (35% aqueous solution) 1429g
(Sodium alkylnaphthalene sulfonate, anionic surfactant manufactured by Kao Corporation)
Citric acid 40g
20g of primary ammonium phosphate
80g of propylene glycol
2-Bromo-2-nitropropane-1,3-diol 0.1 g
2-Methyl-4-isothiazolin-3-one 0.1 g
(PH: 9.8)

(比較現像液1)
水 9779.8g
炭酸ナトリウム 130g
炭酸水素ナトリウム 70g
燐酸第一アンモニウム 20g
2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3ジオール 0.1g
2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 0.1g
(pH:9.7)
(Comparative developer 1)
9779.8 g of water
Sodium carbonate 130g
Sodium bicarbonate 70g
20g of primary ammonium phosphate
2-Bromo-2-nitropropane-1,3-diol 0.1 g
2-Methyl-4-isothiazolin-3-one 0.1 g
(PH: 9.7)

〔現像カスの評価〕
前記現像カス評価用の全面露光した平版印刷版原版を自動現像機により現像処理し、現像処理後に、版に付着したカスの数を目視で計測した。結果を下記表1に示す。単位は〔個/m〕である。
[Evaluation of development residue]
The entire exposed lithographic printing plate precursor for developing debris evaluation was developed by an automatic developing machine, and the number of debris adhering to the plate was visually measured after the developing process. The results are shown in Table 1 below. The unit is [pieces / m 2 ].

〔現像性評価〕
画像様に露光し、その後、現像して得られた平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とフュージョンG(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。この時に得られた印刷物の非画像部に地汚れが発生していないか、確認した。
(Developability evaluation)
The lithographic printing plate obtained by imagewise exposure and then development is attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and dampening solution (EU-3 (Etchi solution manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / Using isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio)) and Fusion G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), printing was performed at a printing speed of 6000 sheets per hour. At this time, it was confirmed whether or not scumming occurred in the non-image area of the printed matter obtained.

表1の結果から、本発明の平版印刷版の作製方法によると、弱アルカリ性の現像液による一浴処理にも拘らず、現像槽中におけるカスの発生が抑制され、現像性に優れており、非画像部における残膜に起因する地汚れが見られなかったことから、本発明の作製方法により得られた平版印刷版によれば高画質の印刷物が得られることがわかる。
他方、特定アルカリ可溶性樹脂を含有しない比較例1及び2、本発明の範囲外の現像液を用いた比較例3はいずれも、現像カスの発生が観察され、非画像部の地汚れも観察され、実施例に比べ現像性に劣るものであった。
From the results of Table 1, according to the lithographic printing plate production method of the present invention, despite the one-bath treatment with a weak alkaline developer, the generation of debris in the developing tank is suppressed, and the developability is excellent. Since no background stains due to the remaining film in the non-image area were observed, it can be seen that a high-quality printed material can be obtained by the planographic printing plate obtained by the production method of the present invention.
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2 that do not contain a specific alkali-soluble resin, and in Comparative Example 3 that uses a developer outside the scope of the present invention, development debris is observed, and scumming of non-image areas is also observed. The developability was inferior to that of the examples.

4 平版印刷版原版
6 現像部
10 乾燥部
16 搬送ローラ
20 現像槽
22 搬送ローラ
24 ブラシローラ
26 スクイズローラ
28 バックアップローラ
36 ガイドローラ
38 串ローラ
4 Planographic printing plate precursor 6 Developing unit 10 Drying unit 16 Transport roller 20 Developing tank 22 Transport roller 24 Brush roller 26 Squeeze roller 28 Backup roller 36 Guide roller 38 Skewer roller

Claims (6)

支持体上に、(A)尿素結合とフェノール性水酸基とを側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂と、(B)光を吸収して熱を発生する化合物と、を含有する画像記録層を備えるポジ型平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、画像露光したポジ型平版印刷版原版を、アニオン性界面活性剤を含有するpH8.5〜10.8のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程を、この順で含む平版印刷版の作製方法。   A positive type comprising, on a support, an image recording layer containing (A) an alkali-soluble resin having a urea bond and a phenolic hydroxyl group in the side chain; and (B) a compound that absorbs light and generates heat. An exposure process for image exposure of the lithographic printing plate precursor, and a development process for developing the image-exposed positive lithographic printing plate precursor using an alkaline aqueous solution having a pH of 8.5 to 10.8 containing an anionic surfactant. The preparation method of the lithographic printing plate which contains in this order. 前記アルカリ可溶性樹脂が、尿素結合とフェノール性水酸基とを有するモノマーを重合成分として含む重合体である請求項1に記載の平版印刷版の作製方法。   The method for producing a lithographic printing plate according to claim 1, wherein the alkali-soluble resin is a polymer containing a monomer having a urea bond and a phenolic hydroxyl group as a polymerization component. 前記重合体が、前記尿素結合とフェノール性水酸基とを有するモノマーと、N−フェニルマレイミド誘導体又は側鎖にスルホンアミド基を有するアクリルモノマーと、を重合成分として含む共重合体である請求項2に記載の平版印刷版の作製方法。   3. The copolymer according to claim 2, wherein the polymer is a copolymer containing, as polymerization components, a monomer having the urea bond and a phenolic hydroxyl group, and an N-phenylmaleimide derivative or an acrylic monomer having a sulfonamide group in the side chain. A method for producing the described lithographic printing plate. 前記アルカリ水溶液における水溶性高分子化合物の含有量が10ppm以下である請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の平版印刷版の作製方法。   The method for preparing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 3, wherein a content of the water-soluble polymer compound in the alkaline aqueous solution is 10 ppm or less. 前記画像記録層が、(A)尿素結合とフェノール性水酸基とを側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂と、(B)光を吸収して熱を発生する化合物と、を含有する下部画像記録層、及び、下部画像記録層上に形成された、アルカリ可溶性樹脂を含有する上部画像記録層、を備える画像記録層である請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の平版印刷版の作製方法。   A lower image recording layer comprising: (A) an alkali-soluble resin having a urea bond and a phenolic hydroxyl group in the side chain; and (B) a compound that absorbs light and generates heat, and The method for producing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 4, wherein the image recording layer comprises an upper image recording layer formed on the lower image recording layer and containing an alkali-soluble resin. . 前記現像工程が、アルカリ水溶液による1浴処理である請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の平版印刷版の作製方法。   The method for preparing a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 5, wherein the developing step is a one-bath treatment with an alkaline aqueous solution.
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WO2017056596A1 (en) * 2015-09-28 2017-04-06 富士フイルム株式会社 Negative-type photosensitive resin composition, negative-type lithographic printing original plate, and method for producing lithographic printing plate

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015151632A1 (en) * 2014-03-31 2015-10-08 富士フイルム株式会社 Photosensitive resin composition, lithographic printing original plate and method for producing lithographic printing plate
JPWO2015151632A1 (en) * 2014-03-31 2017-04-13 富士フイルム株式会社 Photosensitive resin composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing plate production method
WO2017056596A1 (en) * 2015-09-28 2017-04-06 富士フイルム株式会社 Negative-type photosensitive resin composition, negative-type lithographic printing original plate, and method for producing lithographic printing plate
JPWO2017056596A1 (en) * 2015-09-28 2017-12-21 富士フイルム株式会社 Negative photosensitive resin composition, negative lithographic printing plate precursor, and lithographic printing plate production method

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