JP2011124744A - Method for generating dither mask, printing apparatus, and program thereof - Google Patents

Method for generating dither mask, printing apparatus, and program thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2011124744A
JP2011124744A JP2009280085A JP2009280085A JP2011124744A JP 2011124744 A JP2011124744 A JP 2011124744A JP 2009280085 A JP2009280085 A JP 2009280085A JP 2009280085 A JP2009280085 A JP 2009280085A JP 2011124744 A JP2011124744 A JP 2011124744A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dot
dither mask
evaluation value
storage elements
stored
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009280085A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Yamazaki
郷志 山▲崎▼
Shigeaki Sumiya
繁明 角谷
Takuya Wakayama
拓也 和哥山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2009280085A priority Critical patent/JP2011124744A/en
Publication of JP2011124744A publication Critical patent/JP2011124744A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Ink Jet (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Facsimile Image Signal Circuits (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress occurrence of density unevenness of a printed image. <P>SOLUTION: In generating a dither mask 61 to be mounted on a printing apparatus 20, thresholds to be stored in a plurality of storage elements are first prepared. Then, one threshold to be stored in a blank storage element being a storage element in which a prepared threshold has not been stored yet is selected as a target threshold. Next, when the target threshold is stored in one blank storage element, a dot shape to be actually formed is assumed on the basis of a dot formation pattern expressed by the arrangement of storage elements in which the threshold has been already stored, and a coverage C is calculated for each of the blank storage elements. Then, the target threshold is stored in a blank storage element corresponding to the coverage C that is the closest to a set target value. The target value is set within a range in which the degree of dot overlapping is larger than the degree of dot overlapping assumed from the dot formation pattern in a state where a positional deviation does not occur. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、複数の格納要素の各々に閾値が格納されたディザマスクの生成方法に関する。   The present invention relates to a method for generating a dither mask in which a threshold value is stored in each of a plurality of storage elements.

シリアル方式のインクジェット式プリンターでは、複数のノズルを備えた印刷ヘッドを印刷媒体に対して主走査方向および副走査方向に相対移動させながら、当該ノズルからインクを吐出して、印刷媒体上にドットを形成して印刷を行う。かかるインクジェット式プリンターでは、印刷ヘッドのノズルから吐出されたインクの印刷媒体への着弾位置が目標位置からずれる位置ずれを起こすことがある。こうした位置ずれの要因としては、印刷ヘッドの動作精度の問題、紙送り精度の問題などが挙げられる。例えば、印刷ヘッドの往動と復動のインク吐出タイミングが厳密に一定していないと、印刷ヘッドの往動で形成されるドット群と、復動で形成されるドット群との相対的な位置関係が目標位置からずれることとなる。   In a serial inkjet printer, a print head having a plurality of nozzles is moved relative to the print medium in the main scanning direction and the sub-scanning direction, and ink is ejected from the nozzles to form dots on the printing medium. Form and print. In such an ink jet printer, the landing position of the ink ejected from the nozzles of the print head on the print medium may be displaced from the target position. As a cause of such misregistration, there are a problem of operation accuracy of the print head, a problem of paper feed accuracy, and the like. For example, if the ink ejection timings of the forward and backward movements of the print head are not strictly constant, the relative positions of the dot group formed by the forward movement of the print head and the dot group formed by the backward movement The relationship will deviate from the target position.

このような位置ずれが生じると、ドット配置の局所的な疎密の偏りを生じる。かかる疎密の偏りが大きくなれば、印刷画像の局所的な濃度ムラを招き、印刷画質が低下する。このような濃度ムラの現象は、印刷速度が高速化されるほど顕著となる。かかる濃度ムラの問題は、シリアル方式のインクジェット式プリンターに限らず、印刷ヘッドを移動させながら印字する種々のプリンター、例えば、ドットインパクト式プリンターにも共通する問題であった。また、複数の印刷ヘッドを印刷媒体の幅方向の全体に亘って配列し、隣接する印刷ヘッド同士の一部をオーバーラップさせたラインプリンターでも、印刷ヘッドの据付精度の問題から、オーバーラップ領域において位置ずれが生じ、同様の問題が生じ得た。   When such a positional deviation occurs, a local density unevenness of dot arrangement occurs. If the density unevenness is increased, local density unevenness of the print image is caused, and the print image quality is deteriorated. Such a phenomenon of density unevenness becomes more prominent as the printing speed is increased. The problem of density unevenness is a problem common to various printers that print while moving the print head, such as a dot impact printer, as well as a serial ink jet printer. Even in a line printer in which a plurality of print heads are arranged in the entire width direction of the print medium and a part of adjacent print heads overlap each other, due to the problem of print head installation accuracy, Misalignment occurred and similar problems could occur.

特開2007−49443号公報JP 2007-49443 A

上述の問題の少なくとも一部を踏まえ、本発明が解決しようとする課題は、印刷画像の濃度ムラの発生を抑制することである。   Based on at least a part of the above-described problems, a problem to be solved by the present invention is to suppress the occurrence of density unevenness in a printed image.

本発明は、上述の課題を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and can be realized as the following forms or application examples.

[適用例1]複数の格納要素の各々に閾値が格納されたディザマスクの生成方法であって、
前記ディザマスクは、画像の所定の階調値に対して、前記閾値が格納された格納要素の配置に基づいて、印刷媒体上に所定の形成パターンでドットを生じさせるハーフトーン処理に用いられ、
前記ドットの形成パターンから想定される前記印刷媒体上のドットの重なりの程度を指標として、前記閾値の少なくとも一部が格納される前記格納要素の配置を決定する
ディザマスクの生成方法。
Application Example 1 A method for generating a dither mask in which a threshold value is stored in each of a plurality of storage elements,
The dither mask is used for halftone processing for generating dots in a predetermined formation pattern on a print medium based on an arrangement of storage elements in which the threshold value is stored with respect to a predetermined gradation value of an image.
A dither mask generation method for determining an arrangement of the storage elements in which at least a part of the threshold value is stored, using as an index the degree of dot overlap on the print medium assumed from the dot formation pattern.

かかるディザマスクの生成方法は、ディザマスクのドット形成パターンから想定されるドットの重なりの程度を指標として、閾値を格納する格納要素の配置を決定する。したがって、ドットの形成位置が目標位置から局所的にずれた場合に生じる、ドットの重なりの程度の変動を抑制するように、ディザマスクを生成することができる。ドットの重なりの程度の変動が抑制されると、上述のずれに伴うドットの疎密の偏りが抑制されるので、かかる方法により生成したディザマスクを用いてハーフトーン処理を行えば、ドットの形成位置が目標位置からずれた場合でも、ドットの疎密の偏りが抑制された印刷画像を得ることができ、濃度ムラの発生を抑制することができる。   In such a dither mask generation method, the arrangement of storage elements for storing threshold values is determined using the degree of dot overlap assumed from the dot formation pattern of the dither mask as an index. Therefore, the dither mask can be generated so as to suppress fluctuations in the degree of dot overlap that occur when the dot formation position is locally deviated from the target position. If fluctuations in the degree of dot overlap are suppressed, the uneven density of dots due to the above-described deviation is suppressed. Therefore, if halftone processing is performed using a dither mask generated by such a method, the dot formation position Even when the position is deviated from the target position, it is possible to obtain a printed image in which the uneven density of dots is suppressed, and the occurrence of density unevenness can be suppressed.

[適用例2]適用例1記載のディザマスクの生成方法であって、前記複数の格納要素の少なくとも一部に対応して、該少なくとも一部の格納要素に格納する閾値を用意する第1の工程と、前記用意した閾値が未だ格納されていない格納要素である空白格納要素に格納すべき前記閾値の1つを着目閾値として選択する第2の工程と、前記空白格納要素の1つに対して前記着目閾値を格納したとした場合に、前記閾値が既に格納された格納要素の配置が表す前記ドットの形成パターンから想定される、前記ドットの重なりの程度に関する所定の評価値を、前記指標として、前記空白格納要素の各々について算出する第3の工程と、前記算出した所定の評価値に基づいて、前記着目閾値を格納する前記空白格納要素を決定する第4の工程とを備え、前記第2ないし第4の工程を所定回数繰り返して、前記ディザマスクを生成するディザマスクの生成方法。 [Application Example 2] A dither mask generation method according to Application Example 1, wherein a first threshold value corresponding to at least a part of the plurality of storage elements is prepared. A step, a second step of selecting one of the thresholds to be stored in a blank storage element that is a storage element in which the prepared threshold is not yet stored as a target threshold, and one of the blank storage elements When the target threshold value is stored, a predetermined evaluation value regarding the degree of dot overlap assumed from the dot formation pattern represented by the arrangement of storage elements in which the threshold value has already been stored is used as the index. A third step of calculating for each of the blank storage elements, and a fourth step of determining the blank storage element for storing the target threshold value based on the calculated predetermined evaluation value, Serial The second to fourth steps are repeated for a predetermined number of times, a method of generating a dither mask for generating the dither mask.

かかるディザマスクの生成方法は、用意した閾値の1つを着目閾値として選択し、空白格納要素の1つに対して着目閾値を格納したとした場合に、閾値が既に格納された格納要素の配置が表すドットの形成パターンから想定される、ドットの重なりの程度に関する所定の評価値を用いて、着目閾値を格納する空白格納要素を決定する。したがって、ドットの重なりの程度を評価して、ドットの重なりの程度の変動を抑制したディザマスクを好適に生成することができる。   Such a dither mask generation method selects one of the prepared threshold values as a target threshold value, and stores the threshold value already stored when one of the blank storage elements stores the target threshold value. A blank storage element for storing the target threshold value is determined using a predetermined evaluation value regarding the degree of dot overlap assumed from the dot formation pattern represented by. Therefore, the degree of dot overlap can be evaluated, and a dither mask that suppresses fluctuations in the dot overlap can be suitably generated.

[適用例3]前記所定の評価値は、前記ドットの形成パターンから想定される、実際に形成されるドットが前記印刷媒体を覆う割合を示すドット被覆率に基づいて算出される適用例2記載のディザマスクの生成方法。 Application Example 3 In the application example 2, the predetermined evaluation value is calculated based on a dot coverage that indicates a ratio of the actually formed dots covering the print medium, which is assumed from the dot formation pattern. Dither mask generation method.

かかるディザマスクの生成方法は、着目閾値を格納する空白格納要素を決定するための所定の評価値を、実際に形成されるドットが印刷媒体を覆う割合に基づいて算出する。ドットが印刷媒体を覆う割合は、ドットの重なりの程度により変化するので、この方法によれば、ドットの重なりの程度を好適に評価することができる。また、ドットが印刷媒体を覆う割合は、容易に算出することができるので、効率的である。   In such a dither mask generation method, a predetermined evaluation value for determining a blank storage element for storing a target threshold value is calculated based on a ratio of dots that are actually formed to cover a print medium. Since the ratio of the dots covering the print medium varies depending on the degree of dot overlap, this method can favorably evaluate the degree of dot overlap. In addition, the ratio of the dots covering the print medium can be easily calculated, which is efficient.

[適用例4]適用例2または適用例3記載のディザマスクの生成方法であって、前記ディザマスクは、前記印刷媒体上にインクを吐出して前記ドットを形成する印刷装置で印刷を行うための前記ハーフトーン処理に用いられ、前記第3の工程は、前記インクが前記印刷媒体上に着弾した際の、該インクの該印刷媒体上での広がりを想定し、該想定した広がりを前記ドットの形成パターンに反映させて、前記所定の評価値を算出するディザマスクの生成方法。 [Application Example 4] The method for generating a dither mask according to Application Example 2 or Application Example 3, wherein the dither mask is used for printing by a printing apparatus that ejects ink onto the print medium to form the dots. And the third step assumes the spread of the ink on the print medium when the ink has landed on the print medium, and the assumed spread is the dot. A dither mask generation method for calculating the predetermined evaluation value by reflecting it in the formation pattern.

かかるディザマスクの生成方法は、インクが印刷媒体上に着弾した際の、インクの印刷媒体上での広がりを反映して、所定の評価値を算出するので、より実際に近い状態でドットの重なりの程度を評価することができる。かかる方法で生成したディザマスクを用いてハーフトーン処理を行って印刷を行えば、濃度ムラの抑制効果を高めることができる。   In such a dither mask generation method, a predetermined evaluation value is calculated by reflecting the spread of ink on the print medium when the ink has landed on the print medium. Can be evaluated. If printing is performed by performing halftone processing using the dither mask generated by such a method, the effect of suppressing density unevenness can be enhanced.

[適用例5]前記インクの広がりを、該広がりがないと仮定した場合のドットサイズよりも高い解像度で想定する適用例4記載のディザマスクの生成方法。 Application Example 5 The method of generating a dither mask according to Application Example 4 in which the ink spread is assumed to be higher in resolution than the dot size when it is assumed that there is no spread.

かかるディザマスクの生成方法は、インクの広がりを、広がりがないと仮定した場合のドットサイズよりも高い解像度で想定するので、ドットの重なりの程度の評価精度を高めることができる。かかる方法で生成したディザマスクを用いてハーフトーン処理を行って印刷を行えば、濃度ムラの抑制効果を高めることができる。   Such a dither mask generation method assumes that the ink spread is at a resolution higher than the dot size when it is assumed that there is no spread, so that the evaluation accuracy of the degree of dot overlap can be improved. If printing is performed by performing halftone processing using the dither mask generated by such a method, the effect of suppressing density unevenness can be enhanced.

[適用例6]適用例2ないし適用例5のいずれか記載のディザマスクの生成方法であって、前記ディザマスクは、印刷ヘッドを前記印刷媒体に対して主走査方向および副走査方向に相対移動させながら、該印刷媒体上にドットを形成して印刷を行う印刷装置で印刷を行うための前記ハーフトーン処理に用いられ、前記第3の工程は、前記ドットの形成をいずれの主走査で行うかの違いに着目して区分されるドット群の前記印刷媒体上での形成位置が、該区分されたドット群の間で、所定の方向に所定量だけずれた状態を示す、ずれパターンを複数種類想定する工程と、前記複数種類のずれパターンごとに、前記空白格納要素の1つに対して前記着目閾値を格納したとした場合に、前記閾値が既に格納された格納要素の配置が表す前記ドットの形成パターンから想定される、前記ドットの重なりの程度を示す評価値を算出する工程と、前記複数種類のずれパターンごとに算出された評価値の、該複数種類のずれパターンの間における変動を定量化した評価値を、前記所定の評価値として算出する工程とを備えたディザマスクの生成方法。 [Application Example 6] The dither mask generating method according to any one of Application Example 2 to Application Example 5, wherein the dither mask moves the print head relative to the print medium in the main scanning direction and the sub-scanning direction. In the third step, the dot is formed by any of the main scans for use in the halftone process for printing with a printing apparatus that performs printing by forming dots on the printing medium. A plurality of misalignment patterns indicating a state in which the formation positions on the print medium of the dot groups divided by paying attention to the difference are deviated by a predetermined amount in the predetermined direction between the divided dot groups. If the target threshold value is stored for one of the blank storage elements for each of the plurality of types of misalignment patterns, and the step of assuming the type, the arrangement of the storage elements in which the threshold value is already stored represents the threshold value. Dot A step of calculating an evaluation value indicating the degree of overlapping of the dots, which is assumed from the composition pattern, and quantifying the variation between the plurality of types of deviation patterns of the evaluation value calculated for each of the plurality of types of deviation patterns A dither mask generating method comprising: calculating a converted evaluation value as the predetermined evaluation value.

かかるディザマスクの生成方法は、複数種類のずれパターンを想定し、ずれパターンごとに、ドットの重なりの程度を示す評価値を算出し、当該評価値の変動を定量化した評価値によって、着目閾値を格納する空白格納要素を決定する。したがって、ずれパターンとして想定したずれが生じた場合に、ドットの重なりの程度の変動を好適に抑制することができる。かかる方法で生成したディザマスクを用いてハーフトーン処理を行って印刷を行えば、ずれパターンとして想定したずれが生じても、濃度ムラの発生を抑制することができる。   Such a dither mask generation method assumes a plurality of types of misalignment patterns, calculates an evaluation value indicating the degree of dot overlap for each misalignment pattern, and uses a target threshold value based on an evaluation value obtained by quantifying the variation of the evaluation value. Determine the blank storage element that stores. Therefore, when a deviation assumed as a deviation pattern occurs, fluctuations in the degree of dot overlap can be suitably suppressed. If printing is performed by performing a halftone process using a dither mask generated by such a method, the occurrence of density unevenness can be suppressed even if a shift assumed as a shift pattern occurs.

[適用例7]前記複数種類のずれパターンには、前記ずれが生じていない状態を含む適用例6記載のディザマスクの生成方法。 Application Example 7 The method of generating a dither mask according to Application Example 6, in which the plurality of types of shift patterns include a state in which the shift does not occur.

かかるディザマスクの生成方法は、想定する複数種類のずれパターンに、ずれが生じていない状態を含むので、ずれが生じなかった場合と、ずれが生じた場合との間で、ドットの重なりの程度が大きく変動することを抑制することができる。その結果、ずれが生じる場合と、生じない場合とのいずれの場合においても、濃度ムラを抑制した印刷結果が得られるディザマスクを生成することができる。   Such a dither mask generation method includes a state in which no misalignment occurs in the assumed plural types of misalignment patterns. Therefore, the degree of dot overlap between when no misalignment occurs and when misalignment occurs. Can be prevented from greatly fluctuating. As a result, it is possible to generate a dither mask that can obtain a printing result in which density unevenness is suppressed, regardless of whether the deviation occurs or not.

[適用例8]適用例4または適用例5記載のディザマスクの生成方法であって、前記ディザマスクは、印刷ヘッドを前記印刷媒体に対して主走査方向および副走査方向に相対移動させながら、該印刷媒体上にドットを形成して印刷を行う印刷装置で印刷を行うための前記ハーフトーン処理に用いられ、前記第3の工程は、前記空白格納要素の1つに対して前記着目閾値を格納したとした場合に、前記閾値が既に格納された格納要素の配置が表す前記ドットの形成パターンから想定される、前記ドットの重なりの程度を示す評価値を算出する工程と、印刷階調に応じた、前記ドットの重なりの程度を示す評価値の目標値を設定する工程と、前記ドットの重なりの程度を示す評価値と、前記設定した目標値との離隔の程度を示す評価値を前記所定の評価値として算出する工程とを備え、前記目標値は、前記ドットの形成をいずれの主走査で行うかの違いに着目して区分されるドット群の前記印刷媒体上での形成位置が、該区分されたドット群の間でいずれの方向にもずれていない状態における前記ドットの形成パターンから想定される前記ドットの重なりの程度よりも、該ドットの重なりの程度が大きい範囲で設定されるディザマスクの生成方法。 [Application Example 8] The dither mask generation method according to Application Example 4 or Application Example 5, wherein the dither mask moves the print head relative to the print medium in the main scanning direction and the sub-scanning direction, The third step is used for the halftone process for printing with a printing apparatus that performs printing by forming dots on the print medium, and the third step sets the target threshold value for one of the blank storage elements. In the case of storing, a step of calculating an evaluation value indicating a degree of overlap of the dots, which is assumed from the dot formation pattern represented by the arrangement of the storage elements in which the threshold is already stored, A step of setting a target value of the evaluation value indicating the degree of overlap of the dots, an evaluation value indicating the degree of overlap of the dots, and an evaluation value indicating the degree of separation between the set target value Predetermined A step of calculating as an evaluation value, and the target value is the formation position on the print medium of the dot group that is classified by focusing on the difference in which main scanning the dot is formed. Dither that is set in a range in which the degree of dot overlap is larger than the degree of dot overlap assumed from the dot formation pattern in a state that is not shifted in any direction between the divided dot groups How to generate a mask.

かかるディザマスクの生成方法は、所定の評価値の目標値を、ドットの形成をいずれの主走査で行うかの違いに着目して区分されるドット群の印刷媒体上での形成位置がずれていない状態におけるドットの形成パターンから想定されるドットの重なりの程度よりも、ドットの重なりの程度が大きい範囲で設定する。そして、ドットの重なりの程度を示す評価値と、設定した目標値との離隔の程度を示す評価値を、所定の評価値として、着目閾値を格納する空白格納要素に着目閾値を格納する。したがって、ドットの重なりの程度が目標値に近くなるように、着目閾値を空白格納要素に格納することが可能である。通常、ディザマスクは、ずれが生じていない場合に、ドットの重なりが最も少なくなるように最適化されるため、ずれが生じた場合には、ドットの重なりの程度が大きく変動する。一方、本適用例の目標値は、ドットの重なりの程度が相対的に大きいので、ずれが生じた場合のドットの重なりの程度の変動を抑制するディザマスクを生成することができる。   In such a dither mask generation method, the target position of the predetermined evaluation value is shifted from the formation position on the printing medium of the dot group that is classified by focusing on the difference in which main scan is performed for dot formation. It is set in a range where the degree of dot overlap is larger than the degree of dot overlap assumed from the dot formation pattern in the absence. Then, using the evaluation value indicating the degree of dot overlap and the evaluation value indicating the degree of separation between the set target values as the predetermined evaluation value, the target threshold value is stored in the blank storage element that stores the target threshold value. Therefore, the target threshold value can be stored in the blank storage element so that the degree of dot overlap is close to the target value. Usually, the dither mask is optimized so that the dot overlap is minimized when there is no deviation. Therefore, when the deviation occurs, the degree of dot overlap varies greatly. On the other hand, since the target value of this application example has a relatively large degree of dot overlap, it is possible to generate a dither mask that suppresses fluctuations in the degree of dot overlap when a deviation occurs.

また、本発明は、ディザマスクの生成方法のほか、適用例9の印刷装置、適用例10のプログラム、ディザマスクの生成プログラム、これらのプログラムを記録した記憶媒体等としても実現することができる。   In addition to the dither mask generation method, the present invention can also be realized as a printing apparatus according to application example 9, a program according to application example 10, a dither mask generation program, a storage medium storing these programs, and the like.

[適用例9]印刷装置であって、適用例1ないし適用例8のいずれか記載の方法によって生成したディザマスクを記憶する手段と、前記記憶したディザマスクを用いてハーフトーン処理を行う手段とを備えた印刷装置。 Application Example 9 A printing apparatus that stores a dither mask generated by the method according to any one of Application Examples 1 to 8, and a unit that performs halftone processing using the stored dither mask. Printing device with

[適用例10]適用例1ないし適用例8のいずれか記載の方法によって生成したディザマスクを用いてハーフトーン処理を行う機能をコンピューターに実現させるためのプログラム。 Application Example 10 A program for causing a computer to realize a function of performing halftone processing using the dither mask generated by the method according to any one of Application Example 1 to Application Example 8.

本発明の第1実施例としてのプリンター20の概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of a printer 20 as a first embodiment of the present invention. プリンター20における印刷処理の流れを示すフローチャートである。3 is a flowchart showing a flow of printing processing in the printer 20. プリンター20におけるドット形成の仕組みを示す説明図である。3 is an explanatory diagram illustrating a mechanism of dot formation in the printer 20. FIG. 印刷画像を構成する画素グループを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the pixel group which comprises a printing image. 印刷画像を構成する画素グループを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the pixel group which comprises a printing image. ディザマスク生成処理の手順を示す工程図である。It is process drawing which shows the procedure of a dither mask production | generation process. 第1のディザマスク評価処理の手順を示す工程図である。It is process drawing which shows the procedure of the 1st dither mask evaluation process. ディザマスク61の格納要素の一部に閾値が格納された状態等を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state etc. in which the threshold value was stored in a part of storage element of the dither mask 61. 被覆率Cの算定方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the calculation method of the coverage C. 被覆率Cの算定方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the calculation method of the coverage C. 被覆率Cの目標値を概念的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the target value of the coverage C notionally. 印刷時に位置ずれが生じた場合の被覆率Cの変動を概念的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows notionally the fluctuation | variation of the coverage C when a position shift arises at the time of printing. 第2のディザマスク評価処理の手順を示す工程図である。It is process drawing which shows the procedure of the 2nd dither mask evaluation process. ブルーノイズ特性及びグリーンノイズ特性の説明図である。It is explanatory drawing of a blue noise characteristic and a green noise characteristic. 評価値E2の算定基礎とする感度特性VTFの一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the sensitivity characteristic VTF used as the calculation base of evaluation value E2. 第2実施例としての第1のディザマスク評価処理の手順を示す工程図である。It is process drawing which shows the procedure of the 1st dither mask evaluation process as 2nd Example. 想定するずれパターンの具体例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the specific example of the shift pattern assumed. 第2実施例としての被覆率Cの算定方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the calculation method of the coverage C as 2nd Example.

A.第1実施例:
本発明の第1実施例について説明する。
A−1.装置構成:
図1は、本発明の第1実施例としてのプリンター20の概略構成図である。プリンター20は、双方向印刷を行うシリアル式インクジェットプリンタであり、図示するように、プリンター20は、紙送りモータ74によって印刷媒体Pを搬送する機構と、キャリッジモータ70によってキャリッジ80をプラテン75の軸方向に往復動させる機構と、キャリッジ80に搭載された印刷ヘッド90を駆動してインクの吐出およびドット形成を行う機構と、これらの紙送りモータ74,キャリッジモータ70,印刷ヘッド90および操作パネル99との信号のやり取りを司る制御ユニット30とから構成されている。
A. First embodiment:
A first embodiment of the present invention will be described.
A-1. Device configuration:
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a printer 20 as a first embodiment of the present invention. The printer 20 is a serial inkjet printer that performs bi-directional printing. As illustrated, the printer 20 includes a mechanism that transports the print medium P by a paper feed motor 74 and a carriage 80 that moves the carriage 80 by the carriage motor 70. A mechanism for reciprocating in the direction, a mechanism for driving the print head 90 mounted on the carriage 80 to eject ink and forming dots, and the paper feed motor 74, carriage motor 70, print head 90, and operation panel 99. The control unit 30 is responsible for exchanging signals with the control unit 30.

キャリッジ80をプラテン75の軸方向に往復動させる機構は、プラテン75の軸と平行に架設され、キャリッジ80を摺動可能に保持する摺動軸73と、キャリッジモータ70との間に無端の駆動ベルト71を張設するプーリ72等から構成されている。   A mechanism for reciprocating the carriage 80 in the axial direction of the platen 75 is installed in parallel with the axis of the platen 75, and is driven endlessly between the slide shaft 73 that holds the carriage 80 slidably and the carriage motor 70. A pulley 72 and the like for stretching the belt 71 are included.

キャリッジ80には、カラーインクとして、シアンインク(C)、マゼンタインク(M)、イエロインク(Y)、ブラックインク(K)、ライトシアンインク(Lc)、ライトマゼンタインク(Lm)をそれぞれ収容したカラーインク用のインクカートリッジ82〜87が搭載される。キャリッジ80の下部の印刷ヘッド90には、上述の各色のカラーインクに対応するノズル列が形成されている。キャリッジ80にこれらのインクカートリッジ82〜87を上方から装着すると、各カートリッジから印刷ヘッド90へのインクの供給が可能となる。   The carriage 80 accommodates, as color ink, cyan ink (C), magenta ink (M), yellow ink (Y), black ink (K), light cyan ink (Lc), and light magenta ink (Lm), respectively. Ink cartridges 82 to 87 for ink are mounted. In the print head 90 below the carriage 80, nozzle rows corresponding to the above-described color inks are formed. When these ink cartridges 82 to 87 are mounted on the carriage 80 from above, ink can be supplied from each cartridge to the print head 90.

制御ユニット30は、CPU40や、ROM51、RAM52、EEPROM60がバスで相互に接続されて構成されている。制御ユニット30は、ROM51やEEPROM60に記憶されたプログラムをRAM52に展開し、実行することにより、プリンター20の動作全般を制御するほか、入力部41、ハーフトーン処理部42、印刷部43としても機能する。これらの機能部の詳細については後述する。   The control unit 30 includes a CPU 40, a ROM 51, a RAM 52, and an EEPROM 60 that are connected to each other via a bus. The control unit 30 develops a program stored in the ROM 51 or the EEPROM 60 in the RAM 52 and executes it, thereby controlling the overall operation of the printer 20 and also functions as the input unit 41, halftone processing unit 42, and printing unit 43. To do. Details of these functional units will be described later.

EEPROM60には、ディザマスク61が記憶されている。ディザマスク61は、組織的ディザ法による、ドット分散型のハーフトーン処理に用いるものであり、複数の閾値が、同数の格納要素にそれぞれ格納されて構成される。   A dither mask 61 is stored in the EEPROM 60. The dither mask 61 is used for dot dispersion type halftone processing by a systematic dither method, and is configured by storing a plurality of threshold values in the same number of storage elements.

制御ユニット30には、メモリカードスロット98が接続されており、メモリカードスロット98に挿入したメモリカードMCから画像データORGを読み込んで入力することができる。本実施例においては、メモリカードMCから入力する画像データORGは、レッド(R)、グリーン(G)、ブルー(B)の3色の色成分からなるデータである。   A memory card slot 98 is connected to the control unit 30, and image data ORG can be read and input from the memory card MC inserted into the memory card slot 98. In this embodiment, the image data ORG input from the memory card MC is data composed of three color components of red (R), green (G), and blue (B).

以上のようなハードウェア構成を有するプリンター20は、キャリッジモータ70を駆動することによって、印刷ヘッド90を印刷媒体Pに対して主走査方向に往復動させ、また、紙送りモータ74を駆動することによって、印刷媒体Pを副走査方向に移動させる。制御ユニット30は、キャリッジ80が往復動する動き(主走査)や、印刷媒体の紙送りの動き(副走査)に合わせて、印刷データに基づいて適切なタイミングでノズルを駆動することにより、印刷媒体P上の適切な位置に適切な色のインクドットを形成する。こうすることによって、プリンター20は、印刷媒体P上にメモリカードMCから入力したカラー画像を印刷することが可能となっている。   The printer 20 having the above hardware configuration drives the carriage motor 70 to reciprocate the print head 90 with respect to the print medium P in the main scanning direction, and also drives the paper feed motor 74. Thus, the print medium P is moved in the sub-scanning direction. The control unit 30 performs printing by driving the nozzles at an appropriate timing based on the print data in accordance with the movement of the carriage 80 in the reciprocating motion (main scanning) and the paper feeding movement of the printing medium (sub scanning). Ink dots of appropriate colors are formed at appropriate positions on the medium P. By doing so, the printer 20 can print the color image input from the memory card MC on the print medium P.

A−2.印刷処理:
プリンター20における印刷処理について説明する。図2は、プリンター20における印刷処理の流れを示すフローチャートである。ここでの印刷処理は、ユーザーが操作パネル99等を用いて、メモリカードMCに記憶された所定の画像の印刷指示操作を行うことで開始される。印刷処理を開始すると、CPU40は、まず、入力部41の処理として、メモリカードスロット98を介してメモリカードMCから印刷対象であるRGB形式の画像データORGを読み込んで入力する(ステップS110)。
A-2. Printing process:
A printing process in the printer 20 will be described. FIG. 2 is a flowchart showing the flow of printing processing in the printer 20. The printing process here is started when the user performs a print instruction operation for a predetermined image stored in the memory card MC using the operation panel 99 or the like. When printing processing is started, the CPU 40 first reads and inputs RGB format image data ORG to be printed from the memory card MC via the memory card slot 98 as processing of the input unit 41 (step S110).

画像データORGを入力すると、CPU40は、EEPROM60に記憶されたルックアップテーブル(図示せず)を参照して、画像データORGについて、RGB形式をCMYKLcLm形式に色変換する(ステップS120)。   When the image data ORG is input, the CPU 40 refers to a look-up table (not shown) stored in the EEPROM 60 and performs color conversion from RGB format to CMYKLcLm format for the image data ORG (step S120).

色変換処理を行うと、CPU40は、ハーフトーン処理部42の処理として、画像データを各色のドットのON/OFFデータに変換するハーフトーン処理を行う(ステップS130)。この処理は、入力データと、ディザマスク61を構成する複数の閾値のうちの、入力データに対応する位置の格納要素に格納された閾値とを比較し、入力データが閾値よりも大きければ、ドットONと判断し、入力データが閾値未満であればドットOFFと判断するものである。ディザマスク61は、主走査方向および副走査方向に並ぶ各々の入力データに対して、主走査方向および副走査方向に繰り返し適用される。なお、ハーフトーン処理は、ドットのON/OFFの2値化処理に限らず、大ドットおよび小ドットのON/OFFなど、多値化処理であってもよい。また、ステップS130に供する画像データは、解像度変換処理やスムージング処理などの画像処理が施されたものであってもよい。   When the color conversion process is performed, the CPU 40 performs a halftone process for converting the image data into ON / OFF data of dots of each color as a process of the halftone processing unit 42 (step S130). This process compares the input data with the threshold stored in the storage element at the position corresponding to the input data among the plurality of thresholds constituting the dither mask 61. If the input data is greater than the threshold, It is determined that the dot is OFF if the input data is less than the threshold value. The dither mask 61 is repeatedly applied in the main scanning direction and the sub-scanning direction for each input data arranged in the main scanning direction and the sub-scanning direction. The halftone process is not limited to the binarization process of dot ON / OFF, and may be a multi-value process such as ON / OFF of large dots and small dots. Further, the image data provided to step S130 may be subjected to image processing such as resolution conversion processing or smoothing processing.

ハーフトーン処理を行うと、CPU40は、プリンター20のノズル配置や紙送り量などに合わせて、1回の主走査単位で印画するドットパターンデータに並び替えるインターレース処理を行う(ステップS140)。インターレース処理を行うと、CPU40は、印刷部43の処理として、印刷ヘッド90、キャリッジモータ70、モータ74等を駆動させて、印刷を実行する(ステップS150)。   When the halftone process is performed, the CPU 40 performs an interlace process for rearranging the dot pattern data to be printed in one main scanning unit in accordance with the nozzle arrangement of the printer 20 and the paper feed amount (step S140). When the interlace process is performed, the CPU 40 drives the print head 90, the carriage motor 70, the motor 74, and the like as the process of the printing unit 43, and executes printing (step S150).

かかる印刷処理におけるドット形成の仕組みについて、図3を用いて以下に説明する。本実施例における印刷ヘッド90は、インクの色ごとに、10個のノズルNzを備えている。これらのノズルNzは、ノズル1個分の間隔を有して副走査方向に1列に並んでいる。   A mechanism of dot formation in the printing process will be described below with reference to FIG. The print head 90 in this embodiment includes 10 nozzles Nz for each ink color. These nozzles Nz are arranged in a line in the sub-scanning direction with an interval of one nozzle.

印刷画像の生成は印刷ヘッド90が主走査と副走査とを行いつつ以下のように行われる。なお、以下の説明において、1つの主走査をパスともいい、各々の主走査を区別するために、バス番号を付して、パス1、パス2などともいう。また、副走査方向に沿ったドットの並びをラスターともいい、各々のラスターを区別するために、各ラスターにラスター番号を付して説明する。また、ラスターを構成する各ドットの形成位置を区別するために、各ラスターにおけるドット形成位置を、主走査方向に沿って付した画素位置番号で特定する。本実施例においては、印刷ヘッド90等の駆動制御の態様として、オーバーラップ数を「2」、ノズルピッチを「2」、紙送り量を「5」とし、印刷ヘッド90の往動時と復動時の両方でインクを吐出する双方向印刷を行うこととしている。オーバーラップ数とは、主走査方向に形成する1本のラスターをドットですべて埋めるために必要な主走査の回数のことをいう。また、ノズルピッチとは、副走査方向に隣り合うノズルの中心間のドット数であり、隣り合う2つのノズル間に存在するラスター(ドット)の数に値1を加えた数のことをいう。また、紙送り量とは、1回の主走査につき、印刷ヘッド90が副走査方向に搬送される量(ラスター数)のことをいう。   The print image is generated as follows while the print head 90 performs main scanning and sub-scanning. In the following description, one main scan is also referred to as a pass, and in order to distinguish each main scan, it is also referred to as pass 1, pass 2 or the like with a bus number. The arrangement of dots along the sub-scanning direction is also called a raster, and each raster will be described with a raster number in order to distinguish each raster. Further, in order to distinguish the formation position of each dot constituting the raster, the dot formation position in each raster is specified by the pixel position number attached along the main scanning direction. In the present embodiment, as a mode of drive control of the print head 90 and the like, the overlap number is “2”, the nozzle pitch is “2”, the paper feed amount is “5”, and the print head 90 is moved forward and backward. Bidirectional printing is performed to eject ink both during movement. The number of overlaps refers to the number of main scans necessary to fill all the rasters formed in the main scan direction with dots. The nozzle pitch is the number of dots between the centers of adjacent nozzles in the sub-scanning direction, and is a number obtained by adding 1 to the number of rasters (dots) existing between two adjacent nozzles. The paper feed amount is an amount (raster number) by which the print head 90 is conveyed in the sub-scanning direction for each main scanning.

図3に示す1回目のパスであるパス1では、ラスター番号が1、3、5、7、9、11、13、15、17、19の10本のラスターのうちで、画素位置番号が1、3、5の画素(ドット形成位置)にドットが形成される。パス1は、印刷ヘッド90の往復動のうちの往動である。図3に示す○印は、ドットの形成位置を示し、丸印の中に記載した数字は、パス番号である。   In pass 1, which is the first pass shown in FIG. 3, the pixel position number is 1 among the 10 rasters whose raster numbers are 1, 3, 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17, 19 Dots are formed at 3, 5 pixels (dot formation positions). Pass 1 is the forward movement of the reciprocating movement of the print head 90. The circles shown in FIG. 3 indicate dot formation positions, and the numbers described in the circles are pass numbers.

パス1の主走査が終了すると、副走査方向に紙送り量Ls(ここでは5)だけ、印刷媒体を移動させる(かかる移動を、副走査送りともいう)。なお、図3では、図示の都合上、印刷ヘッド90が副走査方向に移動したように示している。副走査送りが終了すると、1回目のパスであるパス2を行う。パス2では、ラスター番号が6、8、10、12、14、16、18、20、22、24の10本のラスターのうちで、画素位置番号が1、3、5の画素にドットが形成される。パス2は、印刷ヘッド90の往復動のうちの復動である。なお、ラスター番号が22、24の2本のラスターは、図示を省略している。   When the pass 1 main scan is completed, the print medium is moved in the sub-scanning direction by the paper feed amount Ls (here, 5) (this movement is also referred to as sub-scan feed). In FIG. 3, for convenience of illustration, the print head 90 is illustrated as moved in the sub-scanning direction. When the sub-scan feed is completed, pass 2 as the first pass is performed. In pass 2, dots are formed in the pixels with pixel position numbers 1, 3, and 5 among the 10 rasters with raster numbers 6, 8, 10, 12, 14, 16, 18, 20, 22, 24. Is done. Pass 2 is a reciprocal movement of the reciprocating movement of the print head 90. The two rasters with raster numbers 22 and 24 are not shown.

パス2が終了すると、前述と同様の副走査送りを行った後に、パス3を行う。パス3では、ラスター番号が11、13、15、17、19の主走査ラインを含む10本の主走査ラインのうちで、画素位置番号が2、4、6の画素にドットが形成される。パス3は、印刷ヘッド90の往復動のうちの往動である。   When pass 2 is completed, pass 3 is performed after performing the sub-scan feed similar to that described above. In pass 3, dots are formed on the pixels with pixel position numbers 2, 4, and 6 among the 10 main scanning lines including the main scanning lines with raster numbers 11, 13, 15, 17, and 19. Pass 3 is the forward movement of the reciprocating movement of the print head 90.

パス3が終了すると、前述と同様の副走査送りが行われた後に、パス4を行う。パス4では、ラスター番号が16、18、20の3本の主走査ラインを含む10本の主走査ラインのうちで、画素位置番号が2、4、6の画素にドットが形成される。パス4は、印刷ヘッド90の往復動のうちの復動である。   When pass 3 is completed, pass 4 is performed after sub-scan feed similar to that described above is performed. In pass 4, dots are formed on the pixels with pixel position numbers 2, 4, and 6 among 10 main scanning lines including three main scanning lines with raster numbers 16, 18, and 20. Pass 4 is the reciprocal movement of the reciprocating movement of the print head 90.

このようにして、印刷ヘッド90の往動と復動とを繰り返しながら、紙送りを行ってドットを形成すれば、ラスター番号が15以降の副走査位置に隙間なくドットを形成可能である。   In this way, if dots are formed by feeding paper while repeating the forward and backward movements of the print head 90, dots can be formed without gaps at the sub-scanning positions with the raster number of 15 or later.

このようにして生成される印刷画像を一定の領域に着目して観察する。例えば、ラスター番号が15〜20で画素位置番号が1〜6の領域を着目領域とし、当該着目領域を、いずれのパスによってドットが形成されるかの観点から観察すれば、着目領域の印刷画像は、図4に示すように、パス番号1〜4に対応する第1〜第4の画素グループが相互に組み合わされることによって形成されている。かかるパスの違いに基づいて区分された画素群(ドット群)の各々を総称してパスグループともいう。   The print image generated in this way is observed by paying attention to a certain area. For example, if a region having a raster number of 15 to 20 and a pixel position number of 1 to 6 is set as a region of interest, and the region of interest is observed from the viewpoint of which dot is formed, a printed image of the region of interest As shown in FIG. 4, the first to fourth pixel groups corresponding to the pass numbers 1 to 4 are combined with each other. Each of the pixel groups (dot groups) divided based on such a difference in pass is collectively referred to as a pass group.

同様に、着目領域を、往動と復動のうちのいずれによってドットが形成されるかの観点から観察すれば、着目領域の印刷画像は、図5に示すように、往動に対応する往動画素グループと、復動に対応する復動画素グループとにより形成されている。かかる往動と復動との違いに基づいて区分された画素群(ドット群)の各々を総称して往復動グループともいう。パスグループおよび往復動グループは、大きな視点で見れば、ドットの形成をいずれの主走査で行うかの違いに着目して区分されるグループ(ドット群)である。   Similarly, if the region of interest is observed from the viewpoint of whether dots are formed by forward movement or backward movement, the print image of the region of interest corresponds to the forward movement corresponding to the forward movement as shown in FIG. The moving picture element group and the backward moving pixel group corresponding to the backward movement are formed. Each pixel group (dot group) divided based on the difference between the forward movement and the backward movement is collectively referred to as a reciprocating movement group. From a large viewpoint, the pass group and the reciprocating group are groups (dot groups) that are classified by paying attention to the difference in which main scanning is performed to form dots.

このように画素グループの区分方法を示したのは、以下に説明するディザマスク61の生成方法で用いるためである。なお、上述の例では、オーバーラップ数を「2」、ノズルピッチを「2」としたが、パス番号の観点から区分した画素グループは、オーバーラップ数とノズルピッチとの積に相当する数のグループに区分することができる。また、オーバーラップ数、ノズルピッチ、紙送り量は、上述の例に限らず、適宜設定すればよい。   The reason for dividing the pixel group in this way is that it is used in the dither mask 61 generation method described below. In the above example, the overlap number is “2” and the nozzle pitch is “2”. However, the pixel group divided from the viewpoint of the pass number has a number corresponding to the product of the overlap number and the nozzle pitch. Can be divided into groups. Further, the number of overlaps, the nozzle pitch, and the paper feed amount are not limited to the above example, and may be set as appropriate.

A−3.ディザマスク61の生成方法:
上述したディザマスク61の生成方法について説明する。ディザマスク61は、そのサイズ(閾値の数)に対応する格納要素を有している。格納要素とは、ディザマスク61を構成する閾値を格納する要素である。これらの格納要素の全てに1つずつ閾値を格納することで、ディザマスク61は生成される。以下に説明する生成方法は、メインフレーム等のCPUによって、ディザマスク61を生成する処理である。なお、以下に説明する工程の一部または全部をユーザーが手計算等によって行っても差し支えない。
A-3. Generation method of the dither mask 61:
A method for generating the above-described dither mask 61 will be described. The dither mask 61 has storage elements corresponding to the size (the number of threshold values). The storage element is an element that stores a threshold value constituting the dither mask 61. The dither mask 61 is generated by storing threshold values one by one in all of these storage elements. The generation method described below is a process for generating the dither mask 61 by a CPU such as a main frame. It should be noted that some or all of the steps described below may be performed manually by the user.

ディザマスク61のサイズは、例えば、256画素×256画素、512画素×512画素などとされる場合が多いが、以下の説明においては、ディザマスク61のサイズは、説明を簡単にするために、縦方向サイズ、横方向サイズともに6画素、つまり合計36画素(=6×6)の画像データに適用するサイズとして説明する。なお、ディザマスク61のサイズは、パスグループおよび往復動グループの繰り返し単位の倍数とすることが望ましい。例えば、図4および図5に示した画素グループを前提とすれば、ディザマスク61の縦方向のサイズは、2M(Mは1以上の整数)画素、横方向のサイズは、2N(Nは1以上の整数)画素である。このようなサイズのディザマスク61を、画像データに対して、主走査方向および副走査方向に繰り返し適用すれば、各々の画素グループとディザマスク61を構成する閾値との対応関係を一定に保つことができ、効率的に所望のハーフトーン処理を行えるからである。   In many cases, the size of the dither mask 61 is, for example, 256 pixels × 256 pixels, 512 pixels × 512 pixels, etc. In the following description, the size of the dither mask 61 is set to simplify the description. The description will be made assuming that the vertical size and the horizontal size are 6 pixels, that is, a size applied to a total of 36 pixels (= 6 × 6) image data. Note that the size of the dither mask 61 is preferably a multiple of the repeat unit of the pass group and the reciprocating group. For example, assuming the pixel groups shown in FIGS. 4 and 5, the dither mask 61 has a vertical size of 2M (M is an integer of 1 or more) pixels and a horizontal size of 2N (N is 1). This is an integer) pixel. If the dither mask 61 having such a size is repeatedly applied to the image data in the main scanning direction and the sub scanning direction, the correspondence between each pixel group and the threshold value constituting the dither mask 61 can be kept constant. This is because the desired halftone process can be efficiently performed.

ディザマスク61の生成方法の手順を示す工程図を図6に示す。ディザマスク61の生成においては、図示するように、まず、ディザマスク61のサイズに応じた閾値を用意する(ステップS200)。本実施例においては、ディザマスク61が36個の格納要素を有するので、これと同数の0〜35の閾値を用意するものとした。   FIG. 6 is a process chart showing a procedure of a method for generating the dither mask 61. In the generation of the dither mask 61, as shown in the drawing, first, a threshold corresponding to the size of the dither mask 61 is prepared (step S200). In the present embodiment, since the dither mask 61 has 36 storage elements, the same number of threshold values 0 to 35 are prepared.

閾値を用意すると、次に、着目閾値選択処理を行う(ステップS300)。着目閾値選択処理とは、用意した0〜35の閾値のうちの、未だ格納要素に格納されていない閾値のうちから1つの閾値を着目閾値として選択する処理である。本実施例においては、用意した閾値のうちの小さい閾値から順に、着目閾値を選択することとした。図8に示すように、ディザマスク61を構成する格納要素に、後述する工程によって値0〜4の閾値が既に格納要素に格納されている場合には、次にステップS300において選択される着目閾値は値5である。   Once the threshold value is prepared, a target threshold value selection process is performed (step S300). The target threshold value selection process is a process of selecting one threshold value as a target threshold value from among the prepared threshold values 0 to 35 that are not yet stored in the storage element. In this embodiment, the threshold value of interest is selected in order from the smallest threshold value of the prepared threshold values. As shown in FIG. 8, when threshold values 0 to 4 are already stored in the storage element in the storage element constituting the dither mask 61 by the process described later, the threshold value of interest selected in step S300 is next selected. Is the value 5.

着目閾値を選択すると、次に、第1のディザマスク評価処理を行う(ステップS400)。第1のディザマスク評価処理とは、用意した閾値が未だ格納されていない格納要素(以下、空白格納要素ともいう)の1つに対して着目閾値を格納したとした場合に、閾値が既に格納された格納要素(以下、決定格納要素ともいう)の配置が表すドットの形成パターンに基づいて想定する、ドットの重なりの程度に関する評価値E1を、空白格納要素の各々について算出する処理である。この評価値E1の算出方法については後述するが、本実施例では、評価値E1は、ドットの重なりの程度の変動の指標であり、その値が小さいほど当該変動が小さくなり、濃度ムラの抑制の観点から優れているといえる。   Once the target threshold value is selected, first dither mask evaluation processing is performed (step S400). In the first dither mask evaluation process, when a threshold value of interest is stored for one storage element for which a prepared threshold value is not yet stored (hereinafter also referred to as a blank storage element), the threshold value is already stored. This is a process of calculating, for each blank storage element, an evaluation value E1 related to the degree of dot overlap, which is assumed based on the dot formation pattern represented by the arrangement of the stored storage elements (hereinafter also referred to as “decision storage elements”). Although the calculation method of the evaluation value E1 will be described later, in this embodiment, the evaluation value E1 is an index of fluctuation of the degree of dot overlap, and the smaller the value, the smaller the fluctuation and the suppression of density unevenness. It can be said that it is excellent from the viewpoint.

第1のディザマスク評価処理を行うと、次に、第2のディザマスク評価処理を行う(ステップS500)。第2のディザマスク評価処理とは、空白格納要素の1つに対して着目閾値を格納したとした場合に、決定格納要素の配置が表すドットの形成パターンについての、ドットの分散の程度を示す評価値E2を、空白格納要素の各々について算出する処理である。この評価値E2の算出方法については後述するが、本実施例では、評価値E2は、ドットの分散の程度についての指標であり、その値が小さいほどドットの分散性が良好となり、印刷画像の粒状性の観点から優れているといえる。   Once the first dither mask evaluation process is performed, a second dither mask evaluation process is then performed (step S500). The second dither mask evaluation process indicates the degree of dot dispersion for the dot formation pattern represented by the arrangement of the determined storage elements when the target threshold value is stored for one of the blank storage elements. This is a process of calculating the evaluation value E2 for each blank storage element. A method for calculating the evaluation value E2 will be described later. In this embodiment, the evaluation value E2 is an index for the degree of dot dispersion. The smaller the value, the better the dot dispersibility. It can be said that it is excellent in terms of graininess.

第2のディザマスク評価処理を行うと、次に、格納要素決定処理を行う(ステップS600)。ここでの格納要素決定処理とは、第1のディザマスク評価処理で算出した評価値E1と、第2のディザマスク評価処理で算出した評価値E2とに基づいて、着目閾値を格納する空白格納要素を決定する処理である。具体的には、候補格納要素(空白格納要素)ごとに算出した評価値E1および評価値E2を用いて、次式(1)により、候補格納要素ごとに総合評価値CEを算出する。そして、その中で最も小さい値の総合評価値CEに対応する候補格納要素を、着目閾値を格納すべき候補格納要素として決定し、当該格納要素に着目閾値を格納する。次式(1)において、α,βは、重み付け係数である。これらの重み付け係数は、良好な印刷画質が得られるように、一定値として、実験的に定められる。 CE=θ×E1+ι×E2・・・(1)   Once the second dither mask evaluation process is performed, a storage element determination process is then performed (step S600). The storage element determination process here is a blank storage that stores a threshold value of interest based on the evaluation value E1 calculated in the first dither mask evaluation process and the evaluation value E2 calculated in the second dither mask evaluation process. This is a process for determining an element. Specifically, using the evaluation value E1 and the evaluation value E2 calculated for each candidate storage element (blank storage element), the overall evaluation value CE is calculated for each candidate storage element by the following equation (1). Then, the candidate storage element corresponding to the comprehensive evaluation value CE having the smallest value is determined as a candidate storage element that should store the target threshold value, and the target threshold value is stored in the storage element. In the following equation (1), α and β are weighting coefficients. These weighting factors are experimentally determined as constant values so that good print image quality can be obtained. CE = θ × E1 + ι × E2 (1)

格納要素決定処理を行うと、ステップS200で用意した閾値を、ディザマスク61を構成する全ての格納要素に格納するまで、上記ステップS300〜S600の工程を繰り返す(ステップS700)。こうして、全ての格納要素に閾値を格納すると(ステップS700:YES)、ディザマスク61は完成となり、ディザマスク生成処理は終了となる。   When the storage element determination process is performed, the above steps S300 to S600 are repeated until the threshold value prepared in step S200 is stored in all the storage elements constituting the dither mask 61 (step S700). Thus, when threshold values are stored in all the storage elements (step S700: YES), the dither mask 61 is completed, and the dither mask generation process ends.

上述した第1のディザマスク評価処理の詳細について説明する。第1のディザマスク評価処理では、まず、図7に示すように、決定格納要素のドットをONにする(ステップS410)。このようにドットをONにした様子をシングルハッチングで図8に示す。   Details of the first dither mask evaluation process described above will be described. In the first dither mask evaluation process, first, as shown in FIG. 7, the dot of the decision storage element is turned ON (step S410). FIG. 8 shows a state where dots are turned on in this way by single hatching.

決定格納要素のドットをONにすると、次に、候補格納要素選択処理を行う(ステップS420)。候補格納要素選択処理とは、着目閾値を格納すべき格納要素の候補である候補格納要素を選択する処理である。空白格納要素の各々には、着目閾値を格納することが可能であるから、ここでは、空白格納要素のうちの1つを、候補格納要素として選択する。候補格納要素選択処理を行うと、次に、候補格納要素のドットをONにする(ステップS430)。図8では、空白格納要素の1つを候補格納要素として選択し、当該候補格納要素のドットをONにした様子を、クロスハッチングで示している。   When the dot of the determined storage element is turned ON, candidate storage element selection processing is then performed (step S420). The candidate storage element selection process is a process of selecting a candidate storage element that is a candidate for a storage element in which a target threshold value is to be stored. Since it is possible to store the target threshold value in each of the blank storage elements, one of the blank storage elements is selected as a candidate storage element here. Once the candidate storage element selection process is performed, the dot of the candidate storage element is then turned ON (step S430). In FIG. 8, a state where one of the blank storage elements is selected as a candidate storage element and the dot of the candidate storage element is turned ON is shown by cross hatching.

候補格納要素のドットをONにすると、次に、評価値算出処理を行う(ステップS440)。ここで算出する評価値は、ドットが印刷媒体を覆う割合を示すドット被覆率C(以下、単に被覆率Cともいう)である。この被覆率Cは、空白格納要素の1つに着目閾値を格納したとした場合の、決定格納要素の配置、つまり、ステップS430でドットをONにした格納要素の配置が表すドットの形成パターン(以下、ドット形成パターンともいう)に基づいて、実際に形成されるドットを想定し、当該想定したドットに基づいて算出する。なお、ハーフトーン処理においては、ディザマスク61の閾値が入力階調値よりも小さくなる画素でドットがONとなるので、全ての画素の階調値が同一のベタ画像を入力する場合において、当該階調値を徐々に大きくしていけば、ディザマスク61における閾値の配置に応じたドットの形成パターンが現れることとなる。本実施例では、このようなドット発生特性に基づくドット形状をドット形成パターンと呼んでいる。   If the dot of the candidate storage element is turned on, next, an evaluation value calculation process is performed (step S440). The evaluation value calculated here is a dot coverage C (hereinafter also simply referred to as a coverage C) indicating the ratio of dots covering the print medium. This coverage ratio C is the dot formation pattern (the dot formation pattern represented by the arrangement of the determined storage element, that is, the arrangement of the storage element in which the dot is turned ON in step S430) when the threshold value of interest is stored in one of the blank storage elements. Hereinafter, the dots that are actually formed are assumed based on the dot formation pattern), and the calculation is performed based on the assumed dots. In the halftone process, since the dot is turned on at a pixel whose threshold value of the dither mask 61 is smaller than the input gradation value, when a solid image having the same gradation value of all the pixels is input, If the gradation value is gradually increased, a dot formation pattern corresponding to the arrangement of threshold values in the dither mask 61 appears. In this embodiment, the dot shape based on such dot generation characteristics is called a dot formation pattern.

被覆率Cの算出については、図9を用いてさらに詳しく説明する。図9(A)は、ステップS430で求めた決定格納要素のドット形成パターンを示している。なお、図9(A)に示す格納要素には、以下の説明の便のため、1〜6の行番号および列番号を付している。被覆率Cの算出にあたっては、まず、実際のドット形状を想定し、定義する。ここで定義するドット形状は、インクが印刷媒体に着弾した際に、実際に形成されるドットの形状である。インクジェット式プリンターにおいては、印刷媒体に着弾したインクは、所定範囲に広がって定着する。このようなことから、インクの印刷媒体上での広がりを反映したドット形状を定義するのである。   The calculation of the coverage ratio C will be described in more detail with reference to FIG. FIG. 9A shows the dot formation pattern of the decision storage element obtained in step S430. Note that the storage elements shown in FIG. 9A are given row numbers and column numbers 1 to 6 for convenience of the following description. In calculating the coverage ratio C, first, an actual dot shape is assumed and defined. The dot shape defined here is the shape of a dot that is actually formed when ink lands on the print medium. In an ink jet printer, ink that has landed on a print medium spreads over a predetermined range and is fixed. For this reason, the dot shape reflecting the spread of the ink on the print medium is defined.

ドット形状の定義例を図9(B)に示す。図示する3画素×3画素のうちの中心の画素(Aと表示した画素)は、インクの着弾が予定されるドット形成位置を示している。また、中心の画素の上下左右に位置する画素(Bと表示した画素)は、中心の画素にインクが着弾した際に、インクの広がりにより形成されると見なし得るドットの形成位置を示している。なお、プリンター20は、印刷ヘッド90を主走査方向に移動させながらインクを吐出するので、着弾したインクは、実際には、主走査方向に広がりやすいが、ここでは、説明を簡単にするために、図9(B)に示すように、上下左右に対称な形状を定義している。   A definition example of the dot shape is shown in FIG. Of the 3 pixels × 3 pixels shown in the figure, a central pixel (a pixel indicated as A) indicates a dot formation position where ink landing is scheduled. In addition, the pixels (pixels indicated by B) positioned on the top, bottom, left, and right of the center pixel indicate dot formation positions that can be considered to be formed by spreading of the ink when the ink lands on the center pixel. . Since the printer 20 ejects ink while moving the print head 90 in the main scanning direction, the landed ink actually tends to spread in the main scanning direction, but here, for the sake of simplicity of explanation. As shown in FIG. 9B, a symmetrical shape is defined vertically and horizontally.

このようにドット形状を定義すると、次に、決定格納要素のドット形状パターンと定義したドット形状とに基づいて、被覆率算定用のドット形成パターンを求める。被覆率算定用のドット形成パターンの具体例を図9(C)に示す。このドット形成パターンは、図9(A)に示したドット形成パターンの各ドットを、図9(B)に示したドット形状に置き換えたものである。図中の行番号および列番号は、図9(A)に対応している。図9(C)において、Aと表示した画素は、インクの着弾が予定される画素に形成されるドット(図9(A)に示したドット形成パターン)を示している。B,Cと表示した画素は、インクの広がりによりドットが形成されると見なし得るドット(図9(B)においてBと表示した画素)を示している。B,Cと表示した画素のうち、Cと表示した画素は、インクの広がりにより形成されると見なし得るドットが、当該画素位置において重畳していることを示している。一方、Bと表示した画素は、インクの広がりにより形成されると見なし得るドットが、重畳することなく形成されることを示している。なお、ディザマスク61は、入力データに対して、主走査方向および副走査方向に対して繰り返し適用されるから、例えば、第1行第0列(図中にDと表示した画素)に形成されるはずのドットや、第0行第1列(図中にEと表示した画素)に形成されるはずのドットは、第1行第6列、第6行第1列にそれぞれ形成されるように扱う。   When the dot shape is defined in this way, next, a dot formation pattern for calculating coverage is obtained based on the dot shape pattern of the decision storage element and the defined dot shape. A specific example of the dot formation pattern for calculating the coverage is shown in FIG. This dot formation pattern is obtained by replacing each dot in the dot formation pattern shown in FIG. 9A with the dot shape shown in FIG. 9B. The row numbers and column numbers in the figure correspond to FIG. In FIG. 9C, a pixel indicated by A indicates a dot (dot formation pattern shown in FIG. 9A) formed in a pixel on which ink landing is scheduled. Pixels indicated as B and C indicate dots (pixels indicated as B in FIG. 9B) that can be regarded as dots formed by spreading of ink. Among the pixels displayed as B and C, the pixel displayed as C indicates that dots that can be considered to be formed by spreading of ink are overlapped at the pixel position. On the other hand, the pixel labeled B indicates that dots that can be considered to be formed by spreading of ink are formed without overlapping. Since the dither mask 61 is repeatedly applied to the input data in the main scanning direction and the sub-scanning direction, the dither mask 61 is formed, for example, in the first row and the 0th column (pixels indicated as D in the drawing). The dots that should be formed and the dots that should be formed in the 0th row and the first column (pixels indicated by E in the figure) are formed in the first row, the sixth column, and the sixth row, the first column, respectively. To deal with.

被覆率算定用ドット形成パターンを求めると、当該パターンをもとに、被覆率Cを算出する。被覆率Cは、次式(2)により求めることができる。図9(C)の例では、被覆率Cは、77.8%(=28/36×100)となる。
C=ドット形成パターンとしてドットが形成される画素数/総画素数×100・・・(2)
When the dot formation pattern for coverage calculation is obtained, the coverage C is calculated based on the pattern. The coverage C can be obtained by the following equation (2). In the example of FIG. 9C, the coverage C is 77.8% (= 28/36 × 100).
C = number of pixels in which dots are formed as a dot formation pattern / total number of pixels × 100 (2)

また、被覆率Cの別の算出方法について図10を用いて説明する。以下に説明する方法では、ドット形状の定義方法が上述の例と異なる。図10(A)は、前提となる決定格納要素のドット形成パターンであり、図9(A)に示したものと同一である。ドット形状の定義例を図10(B)に示す。この例では、実際のドット形状は、インクの広がりがないと仮定した場合のドットサイズよりも高い解像度で定義する。ここでは、主走査方向および副走査方向に、それぞれ2倍の解像度変換を行うことにより、1画素を4画素に変換した上で、ドット形状を定義している。図10(B)における各画素の背景の意味は、図9(B)と同様である。すなわち、図10(B)において、塗りつぶして示した画素は、図9(B)でAと表示した画素に該当し、ハッチングで示した画素は、図9(B)でBと表示した画素に該当する。このように解像度変換を行って、ドット形状の解像度を高めることにより、精度良く実際のドット形状を反映させることができる。また、図10(B)では、副走査方向に比べて、主走査方向に対して、より広範囲にインクが広がるように定義した例を示している。ドット形状の解像度を高めることで、このようなインクの広がりの特性をより忠実に反映しやすくなる。   Another method for calculating the coverage C will be described with reference to FIG. In the method described below, the dot shape definition method is different from the above example. FIG. 10A shows a dot formation pattern of a predetermine storage element, which is the same as that shown in FIG. A definition example of the dot shape is shown in FIG. In this example, the actual dot shape is defined with a resolution higher than the dot size assuming that there is no ink spread. Here, the dot shape is defined after converting one pixel into four by performing double resolution conversion in the main scanning direction and the sub-scanning direction, respectively. The meaning of the background of each pixel in FIG. 10B is the same as that in FIG. That is, in FIG. 10B, the pixel shown in black corresponds to the pixel indicated by A in FIG. 9B, and the pixel indicated by hatching is the pixel indicated by B in FIG. 9B. Applicable. By performing resolution conversion in this way and increasing the resolution of the dot shape, the actual dot shape can be accurately reflected. FIG. 10B shows an example in which the ink is defined so as to spread over a wider range in the main scanning direction than in the sub-scanning direction. By increasing the resolution of the dot shape, it becomes easier to faithfully reflect such ink spreading characteristics.

図10(B)に示したようにドット形状を定義した場合の、被覆率算定用のドット形成パターンを図10(C)に示す。被覆率算定用のドット形成パターンの求め方は、図10(C)について説明した方法と同様である。また、図10(C)における、各画素の背景の意味は、図9(C)と同様である。すなわち、図10(C)において、塗りつぶして示した画素は、図9(C)でAと表示した画素に該当し、シングルハッチングで示した画素は、図9(C)でBと表示した画素に該当し、クロスハッチングで示した画素は、図9(C)でCと表示した画素に該当する。かかる被覆率算定用ドット形成パターンをもとに、上式(2)により、被覆率Cを算出すれば、被覆率Cは、80.6%(=116/144×100)となる。   FIG. 10C shows a dot formation pattern for calculating the coverage when the dot shape is defined as shown in FIG. The method for obtaining the dot formation pattern for calculating the coverage is the same as the method described with reference to FIG. In addition, the meaning of the background of each pixel in FIG. 10C is the same as that in FIG. That is, in FIG. 10C, the pixel shown in black corresponds to the pixel indicated as A in FIG. 9C, and the pixel indicated in single hatching is the pixel indicated as B in FIG. 9C. The pixel indicated by cross hatching corresponds to the pixel indicated as C in FIG. If the coverage ratio C is calculated by the above formula (2) based on the dot calculation pattern for calculating the coverage ratio, the coverage ratio C is 80.6% (= 116/144 × 100).

ここで説明を図7の第1のディザマスク評価処理に戻す。上述したように被覆率Cを算出すると、次に、目標値設定処理を行う(ステップS450)。目標値設定処理とは、ハーフトーン処理の対象となる入力データの入力階調値ごとに、被覆率Cの目標値を設定する処理であり、本実施例では、ユーザーが設定した目標値をCPUが読み込むこととなる。   Here, the description returns to the first dither mask evaluation process of FIG. Once the coverage C is calculated as described above, next, a target value setting process is performed (step S450). The target value setting process is a process for setting a target value of the coverage C for each input gradation value of the input data to be subjected to the halftone process. In this embodiment, the target value set by the user is set as the CPU. Will be read.

かかる目標値を概念的に図11に示す。この例では、入力階調値を0〜255として、それぞれの階調値に対する被覆率Cの目標値を設定している。図示するラインL1は、従来のディザマスクにおける階調値ごとの被覆率を示している。ここでの従来のディザマスクとは、上述したパスグループの間および往復動グループの間で位置ずれがいずれの方向にも生じないことを前提に、所定の条件で最適化されたディザマスクをいう。所定の条件とは、例えば、印刷画像がブルーノイズ特性を有することである。一方、図示するラインL2は、設定する被覆率Cの目標値を示している。   Such a target value is conceptually shown in FIG. In this example, the input gradation value is set to 0 to 255, and the target value of the coverage C for each gradation value is set. The illustrated line L1 indicates the coverage for each gradation value in the conventional dither mask. The conventional dither mask here refers to a dither mask optimized under a predetermined condition on the assumption that no positional deviation occurs in any direction between the above-described path groups and between reciprocating groups. . The predetermined condition is, for example, that the printed image has a blue noise characteristic. On the other hand, the line L2 shown in the figure indicates the target value of the coverage C to be set.

ラインL1の特性を有するディザマスクを用いてハーフトーン処理を行って印刷を行った場合に、実際に位置ずれが生じた場合の被覆率Cの変動について、概念的に図12に示す。図示するように、印刷される印刷画像の被覆率Cは、位置ずれが生じていない場合に最大となる。そして、例えば、主走査方向に位置ずれが生じると、被覆率Cは、その位置ずれ量に応じて減少していく。この位置ずれ量が1画素分に達すると、被覆率Cは最小値となり、その後、さらに位置ずれ量が増加すると、被覆率Cは増加に転じる。そして、ずれ量が2画素分に達すると、被覆率Cは減少に転じ、ずれ量が3画素分に達すると、被覆率Cは再度、増加に転じる。   FIG. 12 conceptually shows the variation in the coverage C when a positional deviation actually occurs when printing is performed by performing a halftone process using a dither mask having the characteristics of the line L1. As shown in the figure, the coverage C of the printed image to be printed is maximized when there is no positional deviation. For example, when a positional deviation occurs in the main scanning direction, the coverage C decreases according to the positional deviation amount. When the displacement amount reaches one pixel, the coverage C becomes the minimum value, and thereafter, when the displacement amount further increases, the coverage C starts to increase. When the deviation amount reaches 2 pixels, the coverage ratio C starts to decrease, and when the deviation amount reaches 3 pixels, the coverage ratio C starts to increase again.

これは、例えば、図4に示した第1の画素グループと、第3の画素グループとの位置関係で見れば、第1の画素グループと第3の画素グループとが、主走査方向にずれると、互いの画素グループは重畳し始め、1画素分ずれた時点で完全に重畳し、さらに、ずれ量が大きくなると、重畳する部分が減少していき、2画素ずれた時点で、重畳する部分がなくなることに起因している。   For example, when the first pixel group and the third pixel group shown in FIG. 4 are viewed in the positional relationship between the first pixel group and the third pixel group, the first pixel group and the third pixel group are shifted in the main scanning direction. The pixel groups start to overlap each other and are completely overlapped when they are shifted by one pixel. Further, when the shift amount increases, the overlapped portion decreases, and when the two pixel shifts, the overlapped portion This is due to disappearance.

実際には、被覆率の変動の特性は、形成されるドットの配置によって様々であるが、概念的には、被覆率Cは、このように、ずれ量に応じて一定の周期で減少と増加とを繰り返して変動することとなる。そして、1周期における増加・減少量は、次第に収束していく。このような被覆率Cの変動の特性は、パスグループ間における位置ずれに限らず、往復動グループ間の位置ずれに対しても現れる。また、主走査方向への位置ずれに限らず、副走査方向への位置ずれ、または、主走査方向と副走査方向とに複合した位置ずれにおいても現れる。   Actually, the characteristics of the variation of the coverage ratio vary depending on the arrangement of the dots to be formed. Conceptually, the coverage ratio C decreases and increases at a constant cycle according to the shift amount. It will fluctuate repeatedly. Then, the increase / decrease amount in one cycle gradually converges. Such a variation characteristic of the coverage ratio C is not limited to the positional deviation between the path groups, but also appears for the positional deviation between the reciprocating groups. Further, not only a positional shift in the main scanning direction but also a positional shift in the sub-scanning direction or a combined positional shift in the main scanning direction and the sub-scanning direction.

上述した被覆率Cの目標値は、図11のラインL2として示すように、ラインL1よりも小さい値で設定する。つまり、ラインL2は、ドットの形成をいずれの主走査で行うかの違いに着目して区分されるドット群の印刷媒体上での形成位置が、当該区分されたドット群の間で、いずれの方向にもずれていない状態におけるドットの形成パターンよりも、ドットの重なりが大きい範囲で設定する。このような目標値を設定できるのは、上述したように、インクの広がりを定義することにより、位置ずれが生じていない場合にも、隣り合うドット同士が重畳する部分が生じえるので、ドット配置(閾値配置)を変更することより、重畳の程度が変化するからである。なお、実際のプリンターにおいては、位置ずれが生じないことを保証し得ないので、ラインL1を構成する被覆率Cの値は、シミュレーションによって求められる。   The target value of the coverage C described above is set to a value smaller than the line L1, as shown as the line L2 in FIG. That is, in the line L2, the formation position on the print medium of the dot group that is divided by focusing on the difference in which main dot is formed is the position between the divided dot groups. It is set in a range where the dot overlap is larger than the dot formation pattern in a state that is not displaced in the direction. Such a target value can be set because, as described above, by defining the spread of the ink, even when no positional deviation occurs, a portion where adjacent dots overlap can occur. This is because the degree of superposition changes by changing (threshold arrangement). Note that in an actual printer, it cannot be guaranteed that no positional deviation will occur, so the value of the coverage C constituting the line L1 is obtained by simulation.

本実施例においては、被覆率Cの目標値として、図12に示した被覆率Cの変動特性において、1周期における増加・減少量が概ね収束した段階での、当該周期における最大値を用いた。このように、収束段階の値で目標値を設定すれば、パスグループや往復動グループにおけるグループ間のドットの相関が小さくなり、後述するドットの分散の程度よりも、ドットの重なりの程度を重視したディザマスク61の生成を行うことができる。   In the present embodiment, as the target value of the coverage ratio C, the maximum value in the period when the increase / decrease amount in one period has substantially converged in the variation characteristic of the coverage ratio C shown in FIG. . In this way, if the target value is set at the convergence stage value, the correlation between dots in the pass group and the reciprocating group is reduced, and the degree of dot overlap is more important than the degree of dot dispersion described later. The generated dither mask 61 can be generated.

こうして被覆率Cの目標値を設定すると、次に、ステップS440で算出した被覆率Cと、ステップS450で設定した被覆率Cの目標値とに基づいて、次式(3)により、ドットの重なりの程度に関する評価値E1を算出する(ステップS460)。
E1=|C算出値−C目標値|・・・(3)
When the target value of the coverage ratio C is set in this way, the dot overlap is then calculated by the following equation (3) based on the coverage ratio C calculated in step S440 and the target value of the coverage ratio C set in step S450. An evaluation value E1 relating to the degree of the above is calculated (step S460).
E1 = | C calculated value−C target value | (3)

この工程で目標値となるのは、被覆率Cの目標値は階調値ごとに定められているのであるから、ラインL2を構成する各々の被覆率Cの値のうち、着目閾値から求められる階調値に対応する被覆率Cである。例えば、着目閾値が値5である場合、36個の閾値(値0〜35)のうちの6個の閾値(値0〜5)が格納要素に既に格納されたものとして、被覆率Cが算出されるのであるから、着目閾値から求められる階調値は、36階調のうちの第6階調である。CPUは、上記ステップS450において、かかる階調値に対応する目標値を読み込み、上記ステップS460を行うのである。ディザマスクを構成する格納要素の数と、ラインL2の階調数とを合わせておけば、目標値の設定が容易である。ただし、ディザマスクを構成する格納要素の数と、ラインL2の階調数とが一致しない場合にも、補間により目標値を定めることができる。もとより、ラインL2を構成する被覆率Cは、入力されるすべての階調範囲に対して設定する必要はなく、一部の階調値について被覆率Cを定めておき、設定のない階調値に対応する被覆率Cは、補間により求めてもよい。   The target value in this step is that the target value of the coverage ratio C is determined for each gradation value, and thus is determined from the target threshold value among the values of the coverage ratio C constituting the line L2. The coverage C corresponds to the gradation value. For example, when the target threshold value is 5, the coverage ratio C is calculated assuming that six threshold values (values 0 to 5) out of 36 threshold values (values 0 to 35) are already stored in the storage element. Therefore, the gradation value obtained from the threshold value of interest is the sixth gradation of the 36 gradations. In step S450, the CPU reads a target value corresponding to the gradation value and performs step S460. If the number of storage elements constituting the dither mask is combined with the number of gradations of the line L2, the target value can be easily set. However, even when the number of storage elements constituting the dither mask does not match the number of gradations of the line L2, the target value can be determined by interpolation. Of course, the coverage ratio C constituting the line L2 does not need to be set for all input gradation ranges, and the coverage ratio C is determined for a part of gradation values, and the gradation values that are not set. The coverage C corresponding to may be obtained by interpolation.

こうして評価値E1を算出すると、全ての候補格納要素(空白格納要素)について評価値E1を算出するまで、上述したステップS420〜S460の処理を繰り返す(ステップS470)。こうして、全ての候補格納要素について評価値E1を算出すると(ステップS470:YES)、第1のディザマスク評価処理は終了となる。なお、算出方法からも明らかなように、評価値E1は、算出した被覆率Cがどれほど目標値に近いかを示す指標値である。その意味で、評価値E1は、値が小さいほど、ドットの重なりの程度の観点で優れているといえる。なお、評価値E1は、換言すれば、算出した被覆率Cと目標値との離隔の程度を表す評価値ということもできる。したがって、例えば、式(3)に代えて、算出した被覆率Cと目標値との比と、値1(100%)との差分の絶対値などとすることもできる。   When the evaluation value E1 is calculated in this way, the processes of steps S420 to S460 described above are repeated until the evaluation value E1 is calculated for all candidate storage elements (blank storage elements) (step S470). When the evaluation value E1 is calculated for all candidate storage elements in this way (step S470: YES), the first dither mask evaluation process ends. As is clear from the calculation method, the evaluation value E1 is an index value indicating how close the calculated coverage C is to the target value. In that sense, it can be said that the smaller the value, the better the evaluation value E1 in terms of the degree of dot overlap. In other words, the evaluation value E1 can also be referred to as an evaluation value representing the degree of separation between the calculated coverage C and the target value. Therefore, for example, instead of the equation (3), the absolute value of the difference between the ratio of the calculated coverage C and the target value and the value 1 (100%) can be used.

次に、第2のディザマスク評価処理について、図13を用いて説明する。第2のディザマスク評価処理では、まず、グループ化処理を行う(ステップS510)。グループ化処理とは、ディザマスク61を構成する複数の格納要素を、当該複数の格納要素に格納された閾値がハーフトーン処理で適用されるドット形成位置でのドットの形成をいずれの主走査で行うかの違いに着目して、複数のグループに区分する処理である。つまり、上述したパスグループや往復動グループに基づいて、格納要素のグループを設定する処理である。本実施例においては、パスグループと往復動グループとを設定するものとした。つまり、4つのグループである第1〜第4の画素グループ、2つのグループである往動画素グループと復動画素グループ、合計6つのグループを設定するものとした。ただし、設定するグループは、パスグループと往復動グループとのうちのいずれか一方であってもよい。なお、本実施例においては、ディザマスク61を構成する格納要素の数と、図4,図5に示した着目領域を構成する画素数とは同数であるから、設定した各グループは、図4に示した第1〜第4の画素グループ、図5に示した往動画素グループ、復動画素グループにそれぞれ一致する。   Next, the second dither mask evaluation process will be described with reference to FIG. In the second dither mask evaluation process, first, a grouping process is performed (step S510). In the grouping process, a plurality of storage elements constituting the dither mask 61 are used to form dots at a dot formation position where the threshold values stored in the plurality of storage elements are applied in the halftone process. This is a process of dividing into a plurality of groups by paying attention to the difference in whether or not to do so. That is, it is a process of setting a group of storage elements based on the above-described path group or reciprocating group. In this embodiment, a path group and a reciprocating group are set. That is, four groups, ie, the first to fourth pixel groups and the two groups, the forward pixel group and the backward pixel group, are set in total. However, the group to be set may be one of a path group and a reciprocating group. In this embodiment, since the number of storage elements constituting the dither mask 61 and the number of pixels constituting the region of interest shown in FIGS. 4 and 5 are the same, each set group is shown in FIG. These correspond to the first to fourth pixel groups shown in FIG. 5 and the forward pixel group and backward pixel group shown in FIG.

こうして、グループ化処理を行うと、次に、決定格納要素のドットをONにし(ステップS520)、候補格納要素選択処理を行い(ステップS530)、候補格納要素のドットをONにする(ステップS540)。ステップS520〜S540の処理は、第1のディザマスク評価処理におけるステップS410〜S430(図7参照)の処理と同様であり、詳しい説明は省略する。   When the grouping process is performed in this way, the decision storage element dot is then turned on (step S520), the candidate storage element selection process is performed (step S530), and the candidate storage element dot is turned on (step S540). . The processing in steps S520 to S540 is the same as the processing in steps S410 to S430 (see FIG. 7) in the first dither mask evaluation processing, and detailed description thereof is omitted.

候補格納要素のドットをONにすると、次に、グループ選択処理を行う(ステップS550)。グループ選択処理とは、上記ステップS510で設定したp個(pは2以上の整数、ここではp=6)のグループG1〜Gpと、ディザマスク61を構成する全ての格納要素を含むグループであるグループGp+1とのうちから、1つのグループGq(qは1以上p+1以下の整数)を選択する処理である。   When the dot of the candidate storage element is turned on, next, group selection processing is performed (step S550). The group selection processing is a group including p groups G1 to Gp (p is an integer of 2 or more, here p = 6) set in step S510 and all the storage elements constituting the dither mask 61. This is a process of selecting one group Gq (q is an integer from 1 to p + 1) from the group Gp + 1.

グループGqを選択すると、次に、グループGqに属する格納要素に対応するドット形成パターンに基づいて、ドットの分散の程度を示す評価値E2q、つまり、ドットがどの程度満遍なく分散された状態で形成されるかを示す評価値を算出する(ステップS560)。ドットを満遍なく分散された状態で形成するためには、図14に示すブルーノイズ特性やグリーンノイズ特性を有するディザマスクを生成すればよいことが知られている。本実施例においては、このような特性のディザマスクを生成するために、ドットの分散性の程度を示す評価値として、粒状性指数を用いることとした。   When the group Gq is selected, the evaluation value E2q indicating the degree of dot dispersion, that is, how much the dots are uniformly distributed is formed based on the dot formation pattern corresponding to the storage elements belonging to the group Gq. An evaluation value indicating whether or not is calculated (step S560). It is known that a dither mask having blue noise characteristics and green noise characteristics shown in FIG. 14 may be generated in order to form dots in a uniformly dispersed state. In this embodiment, in order to generate a dither mask having such characteristics, the graininess index is used as an evaluation value indicating the degree of dot dispersibility.

粒状性指数は、公知の技術であるため(例えば、特開2007−15359号公報)、詳しい説明は省略するが、画像をフーリエ変換してパワースペクトルFSを求め、得られたパワースペクトルFSを、人間が有する視覚の空間周波数に対する感度特性VTF(Visual Transfer Function)に相当する重みを付けて、各空間周波数で積分して求められる指標である。図16に、VTFの一例を示す。こうしたVTFを与える実験式には、種々の式が提案されているが、次式(4)に代表的な実験式を示す。変数Lは観察距離を表しており、変数uは空間周波数を表している。粒状性指数は、かかるVTFに基づいて、次式(5)に示す計算式によって算出することができる。係数Kは、得られた値を人間の感覚と合わせるための係数である。なお、算出方法からも明らかなように、粒状性指数は、人間がドットを目立つと感じるか否かを示す指標であるとも言える。かかる粒状性指数は、その値が小さいほど印刷画質においてドットが視認されにくく、その点において優れているといえる。   Since the granularity index is a known technique (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-15359), a detailed description is omitted, but the power spectrum FS is obtained by Fourier transforming the image to obtain the power spectrum FS, This is an index obtained by adding a weight corresponding to a sensitivity characteristic VTF (Visual Transfer Function) with respect to a visual spatial frequency possessed by a human and integrating at each spatial frequency. FIG. 16 shows an example of VTF. Various formulas have been proposed as empirical formulas for giving such VTF, and the following formula (4) shows a typical empirical formula. The variable L represents the observation distance, and the variable u represents the spatial frequency. The graininess index can be calculated based on the VTF by a calculation formula shown in the following formula (5). The coefficient K is a coefficient for matching the obtained value with human senses. As apparent from the calculation method, it can be said that the granularity index is an index indicating whether or not a human feels that dots are conspicuous. It can be said that the smaller the value of the graininess index, the more difficult it is to visually recognize dots in the print image quality, and the more excellent in that respect.

Figure 2011124744
Figure 2011124744

Figure 2011124744
Figure 2011124744

評価値E2qを算出すると、全てのグループG1〜Gp+1(ここではG1〜G7)について評価値E2qを算出するまで、上記ステップS550,S560の工程を繰り返す(ステップS570)。こうして、全てのグループG1〜G7について評価値E2qを算出すると(ステップS570:YES)、算出した評価値E21〜E27に基づいて、次式(6)により、評価値E2を算出する(ステップS580)。式(6)においてγ〜ιは重み付け係数である。これらの重み付け係数は、良好な印刷画質が得られるように、一定値として、実験的に定められる。つまり、評価値E2とは、ディザマスク61の決定格納要素の全体が表すドット形成パターンと、第1〜第4の画素グループに対応する決定格納要素が表すそれぞれのドット形成パターンと、往復動画素グループに対応する決定格納要素が表すそれぞれのドット形成パターンとについて、ドットの分散の程度を所定の重み付けで総合評価した評価値である。
E2=γ×E21+δ×E22+ε×E23+ζ×E24+η×E25+θ×E26+ι×E27・・・(6)
When the evaluation value E2q is calculated, the steps S550 and S560 are repeated until the evaluation value E2q is calculated for all the groups G1 to Gp + 1 (here, G1 to G7) (step S570). Thus, when the evaluation value E2q is calculated for all the groups G1 to G7 (step S570: YES), the evaluation value E2 is calculated by the following equation (6) based on the calculated evaluation values E21 to E27 (step S580). . In Expression (6), γ to ι are weighting coefficients. These weighting factors are experimentally determined as constant values so that good print image quality can be obtained. That is, the evaluation value E2 is the dot formation pattern represented by the entire decision storage element of the dither mask 61, the respective dot formation patterns represented by the decision storage elements corresponding to the first to fourth pixel groups, and the reciprocating pixel. This is an evaluation value obtained by comprehensively evaluating the degree of dot dispersion with a predetermined weight for each dot formation pattern represented by the determination storage element corresponding to the group.
E2 = γ × E21 + δ × E22 + ε × E23 + ζ × E24 + η × E25 + θ × E26 + ι × E27 (6)

評価値E2を算出すると、全ての候補格納要素(空白格納要素)について評価値E2を算出するまで、上記ステップS530〜S580の工程を繰り返す(ステップS590)。こうして、全ての候補格納要素について評価値E2を算出すると(ステップS590:YES)、第2のディザマスク評価処理は終了となる。なお、上記ステップS600で式(1)により算出した総合評価値CEは、評価値E1と、評価値E2を算出するもととなる評価値E21〜E27とから、1回の演算により直接的に算出してもよい。   When the evaluation value E2 is calculated, the steps S530 to S580 are repeated until the evaluation value E2 is calculated for all candidate storage elements (blank storage elements) (step S590). In this way, when the evaluation value E2 is calculated for all candidate storage elements (step S590: YES), the second dither mask evaluation process ends. Note that the overall evaluation value CE calculated by the expression (1) in step S600 is directly calculated from the evaluation value E1 and the evaluation values E21 to E27 from which the evaluation value E2 is calculated by one operation. It may be calculated.

A−4.効果:
上述したディザマスク61の生成方法は、決定格納要素の配置が表すドット形成パターンから想定されるドットの重なりの程度を指標として、閾値を格納する格納要素の配置を決定する。したがって、位置ずれにより生じる、ドットの重なりの程度の変動が抑制されるように、ディザマスク61を生成することができる。ドットの重なりの程度の変動が抑制されると、上述のずれに伴うドットの疎密の偏りが抑制されるので、かかる方法により生成したディザマスク61を用いてハーフトーン処理を行えば、位置ずれが生じた場合でも、ドットの疎密の偏りが抑制された印刷画像を得ることができ、濃度ムラの発生を抑制することができる。
A-4. effect:
The above-described generation method of the dither mask 61 determines the arrangement of the storage elements for storing the threshold value using the degree of dot overlap assumed from the dot formation pattern represented by the arrangement of the determined storage elements as an index. Therefore, the dither mask 61 can be generated so as to suppress fluctuations in the degree of dot overlap caused by positional deviation. If fluctuations in the degree of dot overlap are suppressed, the unevenness of dot density due to the above-described shift is suppressed. Therefore, if halftone processing is performed using the dither mask 61 generated by such a method, the positional shift will occur. Even if it occurs, it is possible to obtain a printed image in which the uneven density of dots is suppressed, and the occurrence of density unevenness can be suppressed.

また、ディザマスク61の生成方法は、用意した閾値の1つを着目閾値として選択し、空白格納要素の1つに対して着目閾値を格納したとした場合に、決定格納要素の配置が表すドットの形成パターンから想定される、ドットの重なりの程度に関する所定の評価値を用いて、着目閾値を格納する空白格納要素を決定する。したがって、ドットの重なりの程度を好適に評価して、ドットの重なりの程度の変動を抑制したディザマスク61を生成することができる。また、所定の評価値は、実際に形成されるドットが印刷媒体を覆う割合である被覆率Cに基づいて算出する。ドットが印刷媒体を覆う割合は、ドットの重なりの程度により変化するので、この方法によれば、ドットの重なりの程度を好適に評価することができる。また、被覆率Cは、容易に算出することができるので、効率的である。   The dither mask 61 is generated by selecting one of the prepared threshold values as the target threshold value and storing the target threshold value for one of the blank storage elements. A blank storage element for storing a target threshold value is determined using a predetermined evaluation value related to the degree of dot overlap assumed from the formation pattern. Therefore, it is possible to appropriately evaluate the degree of dot overlap and generate the dither mask 61 that suppresses fluctuations in the degree of dot overlap. The predetermined evaluation value is calculated based on the coverage C, which is the ratio of dots that are actually formed covering the print medium. Since the ratio of the dots covering the print medium varies depending on the degree of dot overlap, this method can favorably evaluate the degree of dot overlap. Moreover, since the coverage C can be easily calculated, it is efficient.

また、ディザマスク61の生成方法は、インクが印刷媒体上に着弾した際の、インクの印刷媒体上での広がりを反映して、被覆率Cを算出するので、より実際に近い状態で被覆率Cを算出して、ドットの重なりの程度を評価することができる。しかも、インクの広がりを、広がりがないと仮定した場合のドットサイズよりも高い解像度で想定するので、ドットの重なりの程度の評価精度を高めることができる。かかる方法で生成したディザマスク61を用いてハーフトーン処理を行って印刷を行えば、濃度ムラの抑制効果を高めることができる。   In addition, the generation method of the dither mask 61 calculates the coverage C by reflecting the spread of the ink on the print medium when the ink has landed on the print medium. C can be calculated to evaluate the degree of dot overlap. In addition, since the ink spread is assumed to have a resolution higher than the dot size when it is assumed that there is no spread, the evaluation accuracy of the degree of dot overlap can be increased. If printing is performed by performing a halftone process using the dither mask 61 generated by such a method, the effect of suppressing density unevenness can be enhanced.

また、ディザマスク61の生成方法は、被覆率Cの目標値を、ドットの形成をいずれの主走査で行うかの違いに着目して区分されるドット群の印刷媒体上での形成位置がずれていない状態におけるドットの形成パターンから想定されるドットの重なりの程度よりも、ドットの重なりの程度が大きい範囲で設定する。そして、被覆率Cと、設定した目標値との離隔の程度を示す評価値E1が最も小さくなる、つまり、被覆率Cが目標値に最も近くなる空白格納要素に着目閾値を格納する。通常、ディザマスクは、ずれが生じていない場合に、被覆率Cが最も小さくなるように最適化されるため、ずれが生じた場合には、被覆率Cが大きく変動する。一方、本実施例の目標値は、被覆率Cが相対的に小さいので、ずれが生じた場合の被覆率Cの変動、つまり、ドットの重なりの程度の変動を抑制するディザマスク61を生成することができる。   Further, the generation method of the dither mask 61 is such that the formation position on the print medium of the dot group divided by focusing on the difference between the target value of the coverage C and the formation of dots in which main scanning is performed is shifted. It is set in a range where the degree of dot overlap is larger than the degree of dot overlap assumed from the dot formation pattern in the non-appearing state. Then, the target threshold value is stored in the blank storage element in which the evaluation value E1 indicating the degree of separation between the coverage C and the set target value is the smallest, that is, the coverage C is closest to the target value. Normally, the dither mask is optimized so that the coverage C is minimized when there is no deviation, and therefore the coverage C varies greatly when a deviation occurs. On the other hand, since the coverage C is relatively small, the target value of this embodiment generates the dither mask 61 that suppresses the variation of the coverage C when a deviation occurs, that is, the variation of the degree of dot overlap. be able to.

また、ディザマスク61の生成方法は、ディザマスク61のドット形成パターンから想定されるドットの重なりの程度に加えて、ドットの形成パターンが表すドットの分散の程度をも指標として、閾値を格納する格納要素の配置を決定する。したがって、ドットの分散性にも優れたディザマスクを生成することができる。かかる方法により生成したディザマスクを用いてハーフトーン処理を行えば、濃度ムラの抑制に加えて、印刷画質の粒状性を抑制した良質な印刷画像を得ることができる。   In addition, the generation method of the dither mask 61 stores a threshold value using the degree of dot dispersion represented by the dot formation pattern as an index in addition to the degree of dot overlap assumed from the dot formation pattern of the dither mask 61. Determine the placement of storage elements. Therefore, it is possible to generate a dither mask having excellent dot dispersibility. If halftone processing is performed using a dither mask generated by such a method, it is possible to obtain a high-quality print image in which the graininess of the print image quality is suppressed in addition to the suppression of density unevenness.

また、ディザマスク61の生成方法は、決定格納要素の配置が表すドットの形成パターンに基づいて算出されるドットの分散の程度を示す評価値(上述の例では評価値E27)を用いて、候補格納要素を評価するので、位置ずれが生じない場合にドットの分散性に優れたディザマスクを生成することができる。   Further, the generation method of the dither mask 61 uses the evaluation value (evaluation value E27 in the above example) indicating the degree of dot dispersion calculated based on the dot formation pattern represented by the arrangement of the decision storage elements. Since the storage element is evaluated, it is possible to generate a dither mask having excellent dot dispersibility when no positional deviation occurs.

しかも、ディザマスク61の生成方法は、格納要素を、ドットの形成をいずれの主走査で行うかの違いに着目して、各々のパスグループまたは往復動グループに区分する。そして、当該グループに属する決定格納要素に対応するドットの形成パターンに基づいて算出する、ドットの分散の程度を示す評価値(上述の例では、評価値E21〜E26)も用いて、候補格納要素を評価するので、グループごとのドットの分散性を良好に確保したディザマスク61を生成することができる。かかるディザマスク61を用いてハーフトーン処理を行って、印刷を行えば、当該グループ間で位置ずれが生じた場合にも、グループごとのドットの分散性は確保されたままであるから、画像全体としてドットの分散性の低下を抑制することができ、印刷画質の粒状性を抑制した良質な印刷画像を得ることができる。このように、本実施例のディザマスク61は、濃度ムラの抑制の効果と、粒状性の悪化の抑制の効果とを両立させることができる。   In addition, in the method of generating the dither mask 61, the storage elements are divided into respective pass groups or reciprocating movement groups by paying attention to the difference in which main scanning is performed to form dots. The candidate storage element is also used by using an evaluation value indicating the degree of dot dispersion (evaluation values E21 to E26 in the above example) calculated based on the dot formation pattern corresponding to the determination storage element belonging to the group. Therefore, it is possible to generate the dither mask 61 in which the dot dispersibility for each group is ensured satisfactorily. If halftone processing is performed using the dither mask 61 and printing is performed, even if a positional deviation occurs between the groups, the dispersibility of the dots for each group remains ensured. A decrease in dot dispersibility can be suppressed, and a high-quality print image in which the granularity of the print image quality is suppressed can be obtained. Thus, the dither mask 61 of the present embodiment can achieve both the effect of suppressing density unevenness and the effect of suppressing deterioration of graininess.

B.第2実施例:
本発明の第2実施例について説明する。第2実施例では、プリンター20の構成は第1実施例と同様であり、ディザマスク61の生成方法が第1実施例と異なる。具体的には、第1実施例として図6に示したディザマスク生成処理のうちの、第1のディザマスク評価処理(ステップS400)の内容が第1実施例と異なる。以下、第1実施例と異なる点についてのみ説明する。
B. Second embodiment:
A second embodiment of the present invention will be described. In the second embodiment, the configuration of the printer 20 is the same as that of the first embodiment, and the generation method of the dither mask 61 is different from that of the first embodiment. Specifically, the content of the first dither mask evaluation process (step S400) in the dither mask generation process shown in FIG. 6 as the first embodiment is different from that of the first embodiment. Only differences from the first embodiment will be described below.

第2実施例としての第1のディザマスク評価処理の流れを図16に示す。この処理では、図示するように、まず、グループ設定処理を行う(ステップS810)。グループ設定処理とは、ディザマスク61を構成する格納要素の各々を、ドットの形成をいずれの主走査で行うかの違いに着目して区分されるグループ(ドット群)、つまり、第1実施例で示したパスグループや往復動グループによって、グループ化する処理である。グループ設定処理では、パスグループ、往復動グループのいずれか一方と対応付けて、グループ化を行う。本実施例では、往復動グループと対応付けることとした。なお、本実施例においては、ディザマスク61を構成する格納要素の数と、図5に示した着目領域を構成する画素数とは同数であるから、各々の格納要素をグループ化した結果は、図5に示した往動画素グループと復動画素グループとの関係と一致する。   FIG. 16 shows the flow of the first dither mask evaluation process as the second embodiment. In this process, as shown in the figure, first, a group setting process is performed (step S810). The group setting process is a group (dot group) in which each of the storage elements constituting the dither mask 61 is classified by focusing on the difference in which main scanning is performed to form dots, that is, the first embodiment. This is a process of grouping by the path group and the reciprocating group shown in. In the group setting process, grouping is performed in association with either a path group or a reciprocating group. In the present embodiment, it is associated with the reciprocating group. In this embodiment, since the number of storage elements constituting the dither mask 61 and the number of pixels constituting the region of interest shown in FIG. 5 are the same, the result of grouping the storage elements is as follows: This matches the relationship between the forward pixel group and the backward pixel group shown in FIG.

このようにグループ設定処理を行うと、次に、ずれパターン設定処理を行う(ステップS820)。ずれパターン設定処理とは、ドットの形成をいずれの主走査で行うかの違いに着目して区分されるドット群の印刷媒体上での形成位置が、当該区分されたドット群の間で、所定の方向に所定量だけずれた状態を示す、ずれパターンを複数種類想定し、設定する処理である。具体的には、実際に印刷を行った際に、ステップS810でグループ化したグループ間(ここでは、往動画素グループと復動画素グループとの間)で生じる位置ずれの方向およびずれ量を複数種類想定する。なお、本実施例のステップS820は、ユーザーが設定したずれパターンをCPUが読み込む処理である。   Once the group setting process is performed as described above, a shift pattern setting process is performed (step S820). The shift pattern setting process is a process in which the formation positions on the print medium of the dot groups that are classified by focusing on the difference in which main scanning is performed are predetermined between the divided dot groups. This is a process of assuming and setting a plurality of types of shift patterns that indicate a state shifted by a predetermined amount in the direction of. Specifically, when printing is actually performed, a plurality of misregistration directions and misregistrations are generated between the groups grouped in step S810 (here, the forward pixel group and the backward pixel group). Assuming type. Note that step S820 of the present embodiment is a process in which the CPU reads the deviation pattern set by the user.

本実施例において想定するずれパターンを図17に示す。この例では、図示するように、往動画素グループに対する復動画素グループの位置ずれを、主走査方向に沿って0.5画素間隔で−2〜2画素の間で設定し、また、副走査方向に沿って0.5画素間隔で−2〜2画素の間で設定し、これらの位置ずれの組み合わせの中から、21個のずれパターンP1〜P21を想定している。本実施例においては、想定するずれパターンの中には、位置ずれが生じていないパターン(図中のパターンP5)を含んでいる。ただし、位置ずれが生じていないパターンを含むことは必須ではない。かかるずれパターンは、上述の例に限らず、プリンター20の特性を考慮して設定すればよい。例えば、プリンター20で印刷した印刷画像を分析して、実際に生じやすい位置ずれの方向やずれ量を、ずれパターンとして設定すればよい。   A shift pattern assumed in this embodiment is shown in FIG. In this example, as shown in the figure, the positional deviation of the backward pixel group with respect to the forward pixel group is set between −2 and 2 pixels at 0.5 pixel intervals along the main scanning direction, and sub-scanning is performed. It is set between −2 and 2 pixels at 0.5 pixel intervals along the direction, and 21 shift patterns P1 to P21 are assumed from combinations of these position shifts. In the present embodiment, the assumed misalignment pattern includes a pattern (pattern P5 in the figure) in which no misalignment occurs. However, it is not essential to include a pattern in which no positional deviation occurs. Such a shift pattern is not limited to the above example, and may be set in consideration of the characteristics of the printer 20. For example, a print image printed by the printer 20 is analyzed, and the direction and amount of misalignment that is likely to occur in practice may be set as a misalignment pattern.

こうして、ずれパターン設定処理を行うと、次に、決定格納要素のドットをONにし(ステップS830)、候補格納要素選択処理を行い(ステップS840)、候補格納要素のドットをONにする(ステップS850)。ステップS830〜S850の処理は、第1実施例におけるステップS410〜S430(図7参照)の処理と同様であり、詳しい説明は省略する。   When the shift pattern setting process is performed in this manner, the dot of the decision storage element is turned on (step S830), the candidate storage element selection process is performed (step S840), and the dot of the candidate storage element is turned on (step S850). ). The processing of steps S830 to S850 is the same as the processing of steps S410 to S430 (see FIG. 7) in the first embodiment, and detailed description thereof is omitted.

候補格納要素のドットをONにすると、次に、ずれパターン選択処理を行う(ステップS860)。ずれパターン選択処理とは、ステップS820で設定したn個(nは2以上の整数、ここではn=21)のずれパターンのうちから、1つのずれパターンPj(jは1以上n以下の整数)を選択する処理である。   If the dot of the candidate storage element is turned ON, then a shift pattern selection process is performed (step S860). The shift pattern selection process is one shift pattern Pj (j is an integer not smaller than 1 and not greater than n) among n shift patterns (n is an integer greater than or equal to 2, where n = 21) set in step S820. Is the process of selecting.

パターンPjを選択すると、次に、パターンPjの位置ずれを前提とした被覆率Cjを算出する(ステップS870)。被覆率Cjの算出方法の具体例について、図18を用いて詳しく説明する。この例は、図17に示したずれパターンP7(主走査方向に1.0画素、副走査方向に0.0画素のずれ)を前提とした被覆率C7を算出する例である。   If the pattern Pj is selected, next, the coverage Cj on the assumption of the positional deviation of the pattern Pj is calculated (step S870). A specific example of a method for calculating the coverage Cj will be described in detail with reference to FIG. In this example, the coverage C7 is calculated on the assumption of the shift pattern P7 shown in FIG. 17 (shift of 1.0 pixel in the main scanning direction and 0.0 pixel in the sub-scanning direction).

被覆率Cjの算出においては、まず、決定格納要素のドット形成パターンの区分を行う。図18(A)は、ステップS850で求めた決定格納要素のドット形成パターンを示している。図示するように、決定格納要素のドット形成パターンは、上記ステップS810で行われたグループ化に基づいて、往動画素グループに対応する格納要素により構成される往動ドット形成パターンと、復動画素グループに対応する格納要素により構成される復動ドット形成パターンとに区分することができる。   In calculating the coverage Cj, first, the dot formation pattern of the decision storage element is classified. FIG. 18A shows the dot formation pattern of the decision storage element obtained in step S850. As shown in the figure, the dot storage pattern of the decision storage element is based on the grouping performed in step S810, and the forward movement dot formation pattern constituted by the storage elements corresponding to the forward movement pixel group and the backward movement pixel. It is possible to classify them into backward movement dot formation patterns constituted by storage elements corresponding to groups.

決定格納要素のドット形成パターンを区分すると、次に、ドット形状を定義する。図18(B)は、第1実施例の図10(B)と同様に定義したドット形状を示している。このようにドット形状を定義すると、次に、決定格納要素のドット形状パターンと定義したドット形状とに基づいて、被覆率算定用のドット形成パターンを求める。被覆率C7の算定用のドット形成パターンを図18(C)に示す。このドット形成パターンは、図18(A)に示したドット形成パターンの各ドットを、図18(B)に示したドット形状に置き換え、さらに、復動ドット形成パターンを、ずれパターンP7の位置ずれに対応させたもの、つまり、主走査方向に1.0画素分ずらしたものである。図18(C)における各画素の表示方法は、図10(c)と同様である。ただし、●印で表示した画素は、図18(A)に示したドット形成パターンに対応するドットと、インクの広がりにより形成されると見なし得るドットとが重畳していることを示している。   When the dot formation pattern of the decision storage element is divided, the dot shape is defined next. FIG. 18B shows a dot shape defined similarly to FIG. 10B of the first embodiment. When the dot shape is defined in this way, next, a dot formation pattern for calculating coverage is obtained based on the dot shape pattern of the decision storage element and the defined dot shape. FIG. 18C shows a dot formation pattern for calculating the coverage C7. In this dot formation pattern, each dot of the dot formation pattern shown in FIG. 18 (A) is replaced with the dot shape shown in FIG. 18 (B), and the backward movement dot formation pattern is replaced by the positional deviation of the deviation pattern P7. In other words, that is shifted by 1.0 pixel in the main scanning direction. The display method of each pixel in FIG. 18C is the same as that in FIG. However, the pixels indicated by ● indicate that dots corresponding to the dot formation pattern shown in FIG. 18A overlap with dots that can be considered to be formed by spreading of ink.

こうして、被覆率算定用のドット形成パターンを求めると、第1実施例と同様に、式(2)を用いて、被覆率C7を算出する。その結果、被覆率C7は、72.9%(=105/144×100)となる。なお、上述した例では、第1実施例で説明した手法により、ドット形状の解像度を高めてドット形状を定義している。こうすれば、第1実施例と同様に、インクの広がりの特性をより忠実に反映できる効果が得られるほか、図17に示したように、位置ずれ量を小数点以下の精度で設定することが可能となる。その結果、位置ずれ量の想定を、実際に生じる位置ずれに即して、精度良く行うことができる。なお、上述した被覆率Cjの算出においては、インクの広がりを反映したドット形状を定義して被覆率Cjを求めたが、第2実施例においては、インクの広がりを反映させずに、被覆率Cjを算出してもよい。   Thus, when the dot formation pattern for calculating the coverage ratio is obtained, the coverage ratio C7 is calculated using Expression (2) as in the first embodiment. As a result, the coverage C7 is 72.9% (= 105/144 × 100). In the above-described example, the dot shape is defined by increasing the resolution of the dot shape by the method described in the first embodiment. In this way, as in the first embodiment, an effect can be obtained in which the ink spreading characteristics can be reflected more faithfully. In addition, as shown in FIG. It becomes possible. As a result, it is possible to accurately estimate the amount of misalignment in accordance with the actual misalignment. In the calculation of the coverage ratio Cj described above, the coverage ratio Cj is obtained by defining a dot shape that reflects the spread of the ink. However, in the second embodiment, the coverage ratio is not reflected without reflecting the spread of the ink. Cj may be calculated.

ここで説明を図16の第1のディザマスク評価処理に戻す。被覆率Cjを算出すると、次に、ステップS820で設定した全てのずれパターンP1〜Pnについて被覆率Cjを算出するまで、上記ステップS860,S870の工程を繰り返す(ステップS880)。こうして、全てのずれパターンP1〜Pnについて被覆率Cjを算出すると(ステップS880:YES)、算出した被覆率C1〜Cnに基づいて、評価値E1を算出する(ステップS890)。   Here, the description returns to the first dither mask evaluation process of FIG. Once the coverage Cj is calculated, the steps S860 and S870 are repeated until the coverage Cj is calculated for all the shift patterns P1 to Pn set in step S820 (step S880). When the coverage Cj is calculated for all the shift patterns P1 to Pn (step S880: YES), the evaluation value E1 is calculated based on the calculated coverages C1 to Cn (step S890).

この評価値E1は、第1実施例と同様に、ドットの重なりの程度に関する評価値であるが、ここでは、第1実施例と算出方法が異なる。具体的には、評価値E1は、被覆率C1〜Cnの、ずれパターンP1〜Pnの間における変動を定量化した評価値である。本実施例においては、位置ずれが生じていない状態を示す、ずれパターンP5を前提として算出される被覆率C5と、それ以外の被覆率C1〜C4,C6〜Cnとの差分の絶対値をそれぞれ算出し、得られた値のうちの最大値を評価値E1として採用するものとした。   The evaluation value E1 is an evaluation value related to the degree of dot overlap as in the first embodiment, but here, the calculation method is different from that in the first embodiment. Specifically, the evaluation value E1 is an evaluation value obtained by quantifying fluctuations in the coverage ratios C1 to Cn between the shift patterns P1 to Pn. In the present embodiment, the absolute values of the differences between the coverage ratio C5 calculated on the assumption of the displacement pattern P5 and the other coverage ratios C1 to C4 and C6 to Cn, which indicate a state in which no positional deviation has occurred. The maximum value of the calculated and obtained values is adopted as the evaluation value E1.

評価値E1を算出すると、全ての候補格納要素(空白格納要素)について評価値E1を算出するまで、上記ステップS840〜S890の工程を繰り返す(ステップS900)。こうして、全ての候補格納要素について評価値E1を算出すると(ステップS900:YES)、第1のディザマスク評価処理は終了となる。なお、上記ステップS810では、往復動グループと対応付けて、グループ設定処理を行ったが、パスグループと対応付けてグループ設定処理を行う場合には、ステップS820において、第1〜第4の画素グループの全ての組み合わせについて、ずれパターンを想定してもよいし、一部の組み合わせについてのみ、ずれパターンを想定してもよい。パスグループと対応付けてグループ設定処理を行う場合には、位置ずれを想定する画素グループの組み合わせの数が多数になるので、一部の組み合わせについてのみ、ずれパターンを想定し、被覆率Cjを求めれば、処理を高速化することができる。   When the evaluation value E1 is calculated, the steps S840 to S890 are repeated until the evaluation value E1 is calculated for all candidate storage elements (blank storage elements) (step S900). Thus, when the evaluation value E1 is calculated for all candidate storage elements (step S900: YES), the first dither mask evaluation process is completed. In step S810, the group setting process is performed in association with the reciprocating group. However, in the case where the group setting process is performed in association with the path group, the first to fourth pixel groups are performed in step S820. A shift pattern may be assumed for all of the combinations, or a shift pattern may be assumed for only some combinations. When group setting processing is performed in association with a pass group, the number of combinations of pixel groups that assume misalignment becomes large. Therefore, a coverage pattern Cj can be obtained by assuming a misalignment pattern for only some combinations. Thus, the processing can be speeded up.

以上の説明からも明らかなように、本実施例では、位置ずれが生じない場合の被覆率と、想定した位置ずれが生じた場合の被覆率との間での変動が小さくなるように、着目閾値を格納する格納要素を決定するために、評価値E1を設定しているのである。こうすれば、位置ずれが生じない場合を基準として、位置ずれによるドットの疎密の偏りが当該基準から小さくなるように、着目閾値を格納する格納要素を決定することができる。   As is clear from the above description, in this embodiment, attention is paid so that the variation between the coverage when no positional deviation occurs and the coverage when the assumed positional deviation occurs is small. The evaluation value E1 is set to determine the storage element for storing the threshold value. By doing this, it is possible to determine the storage element for storing the threshold value of interest so that the deviation of the density of the dots due to the positional deviation becomes smaller from the reference when the positional deviation does not occur.

かかるディザマスク61の生成方法は、複数種類のずれパターンを想定し、ずれパターンごとに、ドットの重なりの程度を示す被覆率Cを算出し、被覆率Cの変動を定量化した評価値によって、着目閾値を格納する空白格納要素を決定する。したがって、ずれパターンとして想定したずれが生じた場合に、ドットの重なりの程度の変動を好適に抑制することができる。かかる方法で生成したディザマスクを用いてハーフトーン処理を行って印刷を行えば、ずれパターンとして想定したずれが生じても、濃度ムラの発生を抑制することができる。また、想定する複数種類のずれパターンに、ずれが生じていない状態を含むので、ずれが生じなかった場合と、ずれが生じた場合との間で、ドットの重なりの程度が大きく変動することを抑制することができる。その結果、ずれが生じる場合と、生じない場合とのいずれの場合においても、濃度ムラを抑制した印刷結果が得られるディザマスク61を生成することができる。なお、第2実施例としてのディザマスク61の生成方法は、第1実施例で説明した評価値E2に基づく評価手法も含んでいるので、印刷画質の粒状性について、第1実施例と同様の効果を奏することは勿論である。   The generation method of the dither mask 61 assumes a plurality of types of misalignment patterns, calculates a coverage C indicating the degree of dot overlap for each misalignment pattern, and uses an evaluation value quantifying the variation of the coverage C. A blank storage element for storing the target threshold value is determined. Therefore, when a deviation assumed as a deviation pattern occurs, fluctuations in the degree of dot overlap can be suitably suppressed. If printing is performed by performing a halftone process using a dither mask generated by such a method, the occurrence of density unevenness can be suppressed even if a shift assumed as a shift pattern occurs. In addition, since a plurality of types of misalignment patterns to be assumed include a state in which no misalignment occurs, the degree of dot overlap varies greatly between when no misalignment occurs and when misalignment occurs. Can be suppressed. As a result, it is possible to generate a dither mask 61 that can obtain a printing result in which density unevenness is suppressed, regardless of whether the deviation occurs or not. Note that the method of generating the dither mask 61 as the second embodiment includes the evaluation method based on the evaluation value E2 described in the first embodiment, and therefore, the granularity of the print image quality is the same as that of the first embodiment. Of course, there is an effect.

C.変形例:
上述の実施形態の変形例について説明する。
C−1.変形例1:
上述の実施形態においては、ドットの重なりの程度に関する指標としての評価値E1と、ドットの分散の程度に関する指標としての評価値E2とに基づいて算出される総合評価値CEによって、着目閾値を格納する空白格納要素を決定したが、かかる決定工程において、評価値E2は必ずしも考慮しなくてもよい。つまり、第2のディザマスク評価処理(ステップS500)を省略して、評価値E1のみに基づいて、着目閾値を格納する空白格納要素を決定してもよい。こうしても、上述した濃度ムラの抑制効果を奏する。しかも、ドットの重なりの程度のみを指標としてディザマスク61を生成することから、上述した実施形態よりも、ドットの重なりの変動を抑制する効果を高めることができる。また、評価値E2の算出を省略すると、ディザマスク61の生成に係る演算速度を速くすることができる。
C. Variations:
A modification of the above embodiment will be described.
C-1. Modification 1:
In the above-described embodiment, the target threshold value is stored by the comprehensive evaluation value CE calculated based on the evaluation value E1 as an index regarding the degree of dot overlap and the evaluation value E2 as an index regarding the degree of dot dispersion. Although the blank storage element to be determined is determined, the evaluation value E2 does not necessarily have to be taken into consideration in the determination step. That is, the second dither mask evaluation process (step S500) may be omitted, and a blank storage element for storing the target threshold value may be determined based only on the evaluation value E1. Even in this case, the above-described effect of suppressing the density unevenness is exhibited. In addition, since the dither mask 61 is generated using only the degree of dot overlap as an index, the effect of suppressing fluctuations in dot overlap can be enhanced compared to the above-described embodiment. If the calculation of the evaluation value E2 is omitted, the calculation speed related to the generation of the dither mask 61 can be increased.

なお、評価値E1のみに基づいて、着目閾値を格納する空白格納要素を決定する場合、格納要素決定処理においては、評価値E1が最も小さい候補格納要素が複数存在することも考えられるが、その場合には、これら複数の候補格納要素の中から、ランダムに1つを選択してもよいし、評価値E2を算出して、ドットの分散性に優れたものを選択してもよい。あるいは、所定の設定に基づいて選択してもよい。こうした設定としては、例えば、候補格納要素を右上から主走査方向に沿ってスキャンしていき、最初の候補格納要素を選択すること、往動と復動とのうちの往動に対応する候補格納要素を優先することなどとすることができる。あるいは、所定の法則に基づいて選択してもよい。こうした法則としては、例えば、第1〜第4の画素グループに対応する候補格納要素を順番に選択することなどとすることができる。   In addition, when determining a blank storage element that stores a target threshold value based only on the evaluation value E1, there may be a plurality of candidate storage elements having the smallest evaluation value E1 in the storage element determination process. In some cases, one of the plurality of candidate storage elements may be selected at random, or an evaluation value E2 may be calculated to select an element with excellent dot dispersibility. Or you may select based on a predetermined setting. As such setting, for example, the candidate storage element is scanned along the main scanning direction from the upper right, the first candidate storage element is selected, and candidate storage corresponding to the forward movement of the forward movement and the backward movement is stored. An element can be given priority. Or you may select based on a predetermined law. As such a rule, for example, candidate storage elements corresponding to the first to fourth pixel groups can be selected in order.

C−2.変形例2:
上述の実施形態では、インクの広がりを反映したドット形状を定義して被覆率Cを算出する際、ドットのON/OFFのみに着目して、式(2)により被覆率を算出したが、各画素におけるドットの重なりの数を反映した被覆率を算出してもよい。例えば、上述した式(2)により被覆率Cを算出するために、ドットが形成される画素数を計上するにあたり、ドットの重なりのない画素(1つのドットのみが形成される画素、例えば、図9(C)では、A,Bと表示した画素)は、調整係数0.6を乗じた画素数、2つのドットが重なって形成される画素(例えば、図9(C)では、Cと表示した画素)は、調整係数0.8を乗じた画素数、3つ以上のドットが重なって形成される画素(図9(C)では、該当無し)は、調整係数1.0を乗じた画素数で計上してもよい。このように、ドットの重なりが増えるほど、重み付けを大きくしているのは、1つの画素に形成されるドットが多く重なるほど、当該画素における印刷濃度が高くなるからである。要するに、各画素の濃度差を反映した被覆率を算出するのである。印刷画像の濃度ムラは、局所的なドットの疎密の偏りに限らず、ドットの濃度の偏りによっても生じ得るので、このようにして、位置ずれに伴う濃度変動も抑制すれば、被覆率Cに基づいた濃度ムラの抑制効果を高めることができる。以上の説明からも明らかなように、ドットの重なりの程度に関する評価値は、単純なドットのON/OFFの割合に限らず、ドットの重なりに応じて算出される所定範囲の平均階調値とすることもできる。例えば、1つのドットのみが形成される画素の階調値を値128,2つのドットが重畳して形成される画素の階調値を値200として、平均階調値を算出してもよい。
C-2. Modification 2:
In the above-described embodiment, when calculating the coverage C by defining the dot shape that reflects the spread of the ink, the coverage is calculated according to Equation (2), focusing only on the ON / OFF of the dots. The coverage that reflects the number of overlapping dots in the pixel may be calculated. For example, in order to calculate the coverage ratio C according to the above-described equation (2), in calculating the number of pixels on which dots are formed, pixels without overlapping dots (pixels on which only one dot is formed, for example, FIG. 9 (C), the pixels indicated as A and B) are pixels formed by overlapping the number of pixels multiplied by the adjustment coefficient 0.6 and two dots (for example, in FIG. 9C, indicated as C). The number of pixels multiplied by the adjustment factor of 0.8 is a pixel formed by overlapping three or more dots (not applicable in FIG. 9C) is the pixel multiplied by the adjustment factor of 1.0 You may count in numbers. The reason why the weighting is increased as the dot overlap increases is that the more the dots formed in one pixel are overlapped, the higher the print density in the pixel is. In short, the coverage that reflects the density difference of each pixel is calculated. The density unevenness of the printed image is not limited to the uneven density of the dots, but can also be caused by the uneven density of the dots. Thus, if the density fluctuation due to the positional deviation is also suppressed in this way, the coverage ratio C is increased. Based on this, it is possible to enhance the effect of suppressing density unevenness. As is clear from the above description, the evaluation value related to the degree of dot overlap is not limited to the simple ON / OFF ratio of dots, but the average gradation value in a predetermined range calculated according to dot overlap. You can also For example, the average gradation value may be calculated by setting the gradation value of a pixel in which only one dot is formed to a value of 128, and the gradation value of a pixel formed by overlapping two dots to a value of 200.

また、同様の観点から、インクの広がりを反映したドット形状を定義して被覆率Cを算出する際、インクの着弾が予定される画素(例えば、図9(C)では、Aと表示した画素)は、インクの広がりによりドットが形成されると見なし得る画素(例えば、図9(C)では、B,Cと表示した画素)よりも、相対的に重み付けを大きくして、ドットが形成される画素数を計上してもよい。インクが着弾したドット形成位置においては、インクの広がりによりドットが形成されたドット形成位置よりも、インク濃度が高くなるためである。   From the same point of view, when calculating the coverage C by defining a dot shape that reflects the spread of ink, the pixel that is expected to land on the ink (for example, the pixel indicated as A in FIG. 9C). ) Is formed with a relatively higher weight than a pixel that can be regarded as a dot being formed by the spread of ink (for example, pixels shown as B and C in FIG. 9C). The number of pixels may be counted. This is because the ink density is higher at the dot formation position where the ink has landed than at the dot formation position where the dot is formed due to spreading of the ink.

C−3.変形例3:
上述の実施形態においては、インクの広がりを反映したドット形状を定義して被覆率Cを算出する際、全てのドット形状を同一の形状で定義したが、形成されるドットの特性に応じて、異なる形状でドット形状を定義してもよい。例えば、ドットを複数の大きさ、例えば、大ドット、中ドット、小ドットで打ち分ける場合には、それぞれのドットの大きさに応じて、インクの着弾が予定される画素や、インクの広がりによりドットが形成される画素の大きさを変化させてもよい。こうすれば、ドットの重なりの程度の評価をより高精度に行うことができ、その結果、濃度ムラの抑制効果を高めることができる。
C-3. Modification 3:
In the above-described embodiment, when calculating the coverage C by defining the dot shape reflecting the spread of the ink, all the dot shapes are defined as the same shape, but depending on the characteristics of the dots to be formed, You may define a dot shape by a different shape. For example, when dots are divided into a plurality of sizes, for example, a large dot, a medium dot, and a small dot, depending on the size of each dot, depending on the pixel on which the ink is expected to land or the spread of the ink You may change the magnitude | size of the pixel in which a dot is formed. In this way, the degree of dot overlap can be evaluated with higher accuracy, and as a result, the effect of suppressing density unevenness can be enhanced.

あるいは、印刷ヘッド90の往動で形成されるドットの形状と、復動で形成されるドットの形状とを異なる形状として定義してもよい。印刷ヘッド90から吐出され、印刷媒体に着弾するインクは、印刷ヘッド90の進む方向に速度成分を持つので、印刷ヘッド90の進む方向に対して、より広がりやすい特性を有するからである。こうしても、ドットの重なりの程度の評価をより高精度に行うことができ、その結果、濃度ムラの抑制効果を高めることができる。   Alternatively, the shape of the dot formed by the forward movement of the print head 90 and the shape of the dot formed by the backward movement may be defined as different shapes. This is because the ink ejected from the print head 90 and landed on the print medium has a velocity component in the direction in which the print head 90 travels, and therefore has characteristics that are more likely to spread in the direction in which the print head 90 travels. Even in this case, the degree of dot overlap can be evaluated with higher accuracy, and as a result, the effect of suppressing density unevenness can be enhanced.

C−4.変形例4:
上述の実施形態では、全ての階調において、つまり、ディザマスク61を構成する全ての閾値について、ドットの重なりの程度やドットの分散の程度を評価して、閾値を格納する格納要素を決定する態様について示したが、かかる格納要素の決定手法は、一部の階調範囲のみに適用してもよい。例えば、濃度ムラが顕著になりやすい高階調(高濃度)領域についてのみ、第1実施例、第2実施例または変形例1の手法により、閾値を格納する格納要素を決定してもよい。あるいは、階調によって、上述した手法を切り替えてもよい。例えば、中間階調(中濃度)領域では、位置ずれに伴う粒状性の悪化が生じやすいので、第1実施例や第2実施例に示した手法を用い、高階調(高濃度)領域では、位置ずれに伴う粒状性の悪化が生じにくいので、変形例1に示した手法を用いてもよい。
C-4. Modification 4:
In the above-described embodiment, the degree of dot overlap and the degree of dot dispersion are evaluated for all the gradations, that is, for all threshold values constituting the dither mask 61, and the storage elements for storing the threshold values are determined. Although the embodiment has been described, the storage element determination method may be applied to only a part of the gradation range. For example, the storage element for storing the threshold value may be determined by the method of the first embodiment, the second embodiment, or the modified example 1 only for a high gradation (high density) region in which density unevenness is likely to be remarkable. Alternatively, the above-described method may be switched depending on the gradation. For example, in the intermediate gradation (medium density) region, the graininess is likely to deteriorate due to the positional deviation. Therefore, in the high gradation (high density) region, the method shown in the first or second embodiment is used. Since the deterioration of the graininess due to the positional deviation hardly occurs, the method shown in the first modification may be used.

C−5.変形例5:
上述の実施形態においては、評価値E2として、ディザマスク61の決定格納要素の全体が表すドット形成パターンと、第1〜第4の画素グループに対応する決定格納要素が表すそれぞれのドット形成パターンと、往復動画素グループに対応する決定格納要素が表すそれぞれのドット形成パターンとについて、ドットの分散の程度を所定の重み付けで総合評価した評価値を用いたが、必ずしも、全体が表すドット形成パターンと、第1〜第4の画素グループに対応するドット形成パターンと、往復動画素グループに対応するドット形成パターンとの3つのドット形成パターンを対象とする必要はなく、これらのうちの少なくとも1つを対象とするものであってもよい。
C-5. Modification 5:
In the above-described embodiment, as the evaluation value E2, the dot formation pattern represented by the entire decision storage element of the dither mask 61, and the respective dot formation patterns represented by the decision storage elements corresponding to the first to fourth pixel groups, For each dot formation pattern represented by the decision storage element corresponding to the reciprocating pixel group, an evaluation value obtained by comprehensively evaluating the degree of dot dispersion with a predetermined weight is used. The dot formation pattern corresponding to the first to fourth pixel groups and the dot formation pattern corresponding to the reciprocating pixel group do not need to be targeted, and at least one of these is not necessary. It may be a target.

C−6.変形例6:
上述の実施形態では、式(1),式(6)に用いるα〜ιの重み付け係数を一定値としたが、これらは、印刷階調に応じて変化するように設定してもよい。例えば、位置ずれに伴い粒状性の悪化を招きやすい低階調(低濃度)〜中間階調領域においては、他の階調領域と比べて、画像を構成するドットの一部を構成するグループに対する評価値の重み付け係数γ〜θを、画像を構成する全てのドットに対する評価値の重み付け係数ιよりも大きくしてもよい。また、位置ずれにより濃度ムラが発生しやすい高階調領域においては、他の階調領域と比べて、ドットの重なりの程度に関する評価値E1の重み付け係数αを、ドットの分散の程度に関する評価値E2の重み付け係数βよりも大きくしてもよい。こうすれば、印刷階調に応じた主要な課題を解決することができ、広範囲な印刷階調にわたって、印刷画質を向上させることができる。また、このように、印刷階調に応じて重み付け係数を変化させる場合、その変化を段階的なものとしてもよい。こうすれば、わずかな階調変化によってドット形成パターンが急激に変化することがない。したがって、印刷画質をさらに向上させることができる。
C-6. Modification 6:
In the above-described embodiment, the weighting coefficients α to ι used in the expressions (1) and (6) are set to constant values, but these may be set so as to change according to the print gradation. For example, in the low gradation (low density) to intermediate gradation area, which tends to cause deterioration in graininess due to positional deviation, compared to the other gradation areas, the group constituting a part of the dots constituting the image The evaluation value weighting coefficients γ to θ may be larger than the evaluation value weighting coefficient ι for all dots constituting the image. Also, in a high gradation region where density unevenness is likely to occur due to positional deviation, the weighting coefficient α of the evaluation value E1 regarding the degree of dot overlap is set as the evaluation value E2 regarding the degree of dot dispersion compared to other gradation regions. May be larger than the weighting coefficient β. By doing this, it is possible to solve the main problem according to the print gradation, and it is possible to improve the print image quality over a wide range of print gradation. Further, in this way, when the weighting coefficient is changed according to the print gradation, the change may be made stepwise. In this way, the dot formation pattern does not change abruptly due to slight gradation changes. Therefore, the print image quality can be further improved.

C−7.変形例7:
上述の実施形態においては、ドットの分散の程度を示す評価値E2qとして、粒状性指数を用いたが、評価値E2qは、ドット配置の分散の程度を評価できるものであればよい。例えば、評価値E2qは、RMS粒状度を用いてもよい。RMS粒状度は公知の技術であるため(例えば、特開2007−174272号公報)、詳しい説明は省略するが、ドット密度値に対して、ローパスフィルターを用いてローパスフィルター処理を行うとともに、ローパスフィルター処理がなされた密度値の標準偏差を算出するものである。あるいは、ローパスフィルター処理後のドット密度を評価値E2qとしてもよい。これは、いわゆるポテンシャル法に用いられる評価値である。
C-7. Modification 7:
In the above-described embodiment, the granularity index is used as the evaluation value E2q indicating the degree of dot dispersion. However, the evaluation value E2q may be any value that can evaluate the degree of dot arrangement dispersion. For example, RMS granularity may be used as the evaluation value E2q. Since RMS granularity is a known technique (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-174272), detailed description is omitted, but the low-pass filter processing is performed on the dot density value using a low-pass filter, and the low-pass filter is used. The standard deviation of the processed density value is calculated. Alternatively, the dot density after the low-pass filter process may be used as the evaluation value E2q. This is an evaluation value used in the so-called potential method.

C−8.変形例8:
上述の第2実施例では、評価値E1として、位置ずれが生じていない状態を示す、ずれパターンP5を前提として算出される被覆率C5と、それ以外の被覆率C1〜C4,C6〜Cnとの差分の絶対値をそれぞれ算出し、得られた値のうちの最大値を用いたが、この評価値E1は、被覆率C1〜Cnの、ずれパターンP1〜Pnの間における変動を定量化した評価値であればよい。例えば、被覆率C1〜Cnの全ての組み合わせについて、当該組み合わせの差分の絶対値をそれぞれ算出し、得られた値の最大値を評価値E1としてもよい。こうしても、ドットの重なりの程度の最大の変動幅を小さくすることができるので、濃度ムラの抑制効果が得られる。また、評価値E1として、被覆率C1〜Cnの標準偏差や分散などを用いてもよい。こうすれば、被覆率C1〜Cnのばらつきの程度を小さくすることができるので、安定した濃度ムラの抑制効果が得られる。
C-8. Modification 8:
In the second embodiment described above, as the evaluation value E1, the coverage C5 calculated on the premise of the displacement pattern P5 indicating a state in which no positional displacement has occurred, and the other coverages C1 to C4 and C6 to Cn The absolute value of each difference was calculated, and the maximum value among the obtained values was used, but this evaluation value E1 quantifies the variation of the coverage ratios C1 to Cn between the shift patterns P1 to Pn. Any evaluation value may be used. For example, for all combinations of the coverages C1 to Cn, the absolute value of the difference between the combinations may be calculated, and the maximum value obtained may be used as the evaluation value E1. Even in this case, the maximum fluctuation range of the degree of dot overlap can be reduced, so that the effect of suppressing density unevenness can be obtained. Moreover, you may use the standard deviation, dispersion | distribution, etc. of the coverage C1-Cn as the evaluation value E1. In this way, the degree of variation in the coverage ratios C1 to Cn can be reduced, and a stable density unevenness suppressing effect can be obtained.

あるいは、被覆率C1〜Cnの全ての組み合わせについて、当該組み合わせの差分の絶対値をそれぞれ算出し、得られた値の各々を所定の重み付けで足し合わせた値を評価値E1としてもよい。こうした場合には、位置ずれが生じていない状態を示す、ずれパターンP5を前提として算出される被覆率C5との差分は、重み付けを大きくしてもよい。その理由は、以下の通りである。例えば、所定方向に2画素分の位置ずれが生じた第1の印刷領域と、当該所定方向に−2画素分の位置ずれが生じた第2の印刷領域との間には、位置ずれが生じていない第3の領域が存在する可能性が高い。換言すれば、第1の印刷領域と第2の印刷領域とが隣接することは少なく、多くの場合、その間に第3の印刷領域が介在する。このようなことから、第3の印刷領域の領域と第1の印刷領域との間での被覆率Cの変動と、第3の印刷領域の領域と第2の印刷領域との間での被覆率Cの変動とを抑制すれば、つまり、位置ずれが生じていない状態に対する被覆率の変動差に重きをおけば、濃度ムラは視認されにくくなるのである。   Alternatively, for all combinations of the coverage ratios C1 to Cn, the absolute value of the difference between the combinations may be calculated, and a value obtained by adding the obtained values with a predetermined weight may be used as the evaluation value E1. In such a case, the difference from the coverage C5 calculated on the assumption of the shift pattern P5 that indicates a state in which no positional shift has occurred may be increased in weight. The reason is as follows. For example, a positional deviation occurs between a first printing area in which a positional deviation of 2 pixels occurs in a predetermined direction and a second printing area in which a positional deviation of -2 pixels occurs in the predetermined direction. There is a high possibility that a third region that is not present exists. In other words, the first print area and the second print area are rarely adjacent, and in many cases, the third print area is interposed therebetween. For this reason, the coverage C varies between the third print region and the first print region, and the coverage between the third print region and the second print region. If the variation in the rate C is suppressed, that is, if the variation in the coverage with respect to a state in which no positional deviation occurs is emphasized, the density unevenness becomes difficult to be visually recognized.

C−9.変形例9:
上述した実施形態においては、空白格納要素の1つに対して着目閾値を格納したとして、空白格納要素の各々について所定の評価値を算出し、当該評価値に基づいて、着目閾値の格納場所を決定することにより、順次、閾値を空白格納要素に格納していくことで、ディザマスク61を生成する手法について示したが、ディザマスク61の生成手順はこの限りではない。例えば、以下のように、ディザマスク61を生成してもよい。(1)まず、ディザマスク61の格納要素にランダムに閾値を格納する。なお、上述した評価値E2などによって、閾値の配置を決定してもよい。次に、(2)その中から任意の2つの閾値を選択し、当該2つの閾値の格納場所を入れ替えた場合と、入れ替えない場合について、上述した総合評価値CE(または評価値E1)を算出する。そして、(3)評価値が優れた方向に変化する場合に限り、2つの閾値の格納場所を入れ替える。そして、(4)上記(2),(3)の工程を、評価値が優れた方向に収束するまで繰り返す。こうしても、上述の実施形態と同様の特性を有するディザマスク61を生成することができる。
C-9. Modification 9:
In the embodiment described above, assuming that the target threshold value is stored for one of the blank storage elements, a predetermined evaluation value is calculated for each of the blank storage elements, and the storage location of the target threshold value is determined based on the evaluation value. Although the method of generating the dither mask 61 by sequentially storing the threshold value in the blank storage element by determining it has been described, the generation procedure of the dither mask 61 is not limited to this. For example, the dither mask 61 may be generated as follows. (1) First, a threshold value is randomly stored in the storage element of the dither mask 61. Note that the arrangement of the threshold values may be determined based on the evaluation value E2 described above. Next, (2) the above-described comprehensive evaluation value CE (or evaluation value E1) is calculated for cases where two arbitrary threshold values are selected from among them and the storage locations of the two threshold values are switched and when the two threshold values are not replaced. To do. (3) The storage locations of the two threshold values are switched only when the evaluation value changes in an excellent direction. (4) The above steps (2) and (3) are repeated until the evaluation value converges in a superior direction. Even in this case, it is possible to generate the dither mask 61 having the same characteristics as those of the above-described embodiment.

C−10.変形例10:
上述した実施形態においては、シリアル方式のインクジェット式プリンターに搭載するディザマスク61の生成方法について示したが、本発明のディザマスクの生成方法や、当該方法により生成したディザマスクは、他の形式のプリンターにも適用することができる。例えば、第2実施例に示した方法は、印刷ヘッドを移動させながら印字する種々のプリンターであれば、広く適用することができ、例えば、ドットインパクト式プリンターにも適用することができる。
C-10. Modification 10:
In the above-described embodiment, the generation method of the dither mask 61 mounted on the serial type ink jet printer has been described. However, the dither mask generation method of the present invention and the dither mask generated by the method may be in other formats. It can also be applied to printers. For example, the method shown in the second embodiment can be widely applied to various printers that perform printing while moving the print head. For example, the method can also be applied to a dot impact printer.

また、本発明のディザマスクの生成方法や、当該方法により生成したディザマスクは、複数の印刷ヘッドを印刷媒体の幅方向の全体に亘って配列し、隣接する印刷ヘッド同士の一部をオーバーラップさせたラインプリンターにも適用することができる。具体的には、印刷ヘッドのオーバーラップ領域に適用するディザマスクの生成方法などとしても実現することができる。この場合、上述の実施形態で述べた位置ずれは、オーバーラップ領域を構成する印刷ヘッド間でのインクの着弾位置ずれとして捉えればよい。また、ディザマスク61は、プリンターに搭載されるものに限らず、パーソナルコンピュータなどの情報端末でハーフトーン処理が行われる場合には、情報端末に搭載するものであってもよい。   The dither mask generation method of the present invention and the dither mask generated by the method have a plurality of print heads arranged in the entire width direction of the print medium, and overlap a part of adjacent print heads. It can also be applied to a line printer. Specifically, it can also be realized as a method of generating a dither mask applied to the overlap region of the print head. In this case, the misregistration described in the above-described embodiment may be regarded as an ink landing position misalignment between the print heads constituting the overlap region. Further, the dither mask 61 is not limited to be mounted on a printer, but may be mounted on an information terminal when halftone processing is performed on an information terminal such as a personal computer.

以上、本発明の実施形態について説明したが、上述した実施形態における本発明の構成要素のうち、独立クレームに記載された要素以外の要素は、付加的な要素であり、適宜省略、または、組み合わせが可能である。また、本発明はこうした実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を脱しない範囲において、種々なる態様で実施できることは勿論である。例えば、本発明は、ディザマスクの生成方法、当該方法により生成したディザマスクを搭載した印刷装置、当該方法により生成したディザマスクによりハーフトーン処理を行うプログラム、ディザマスクの生成プログラム、これらのプログラムを記録した記憶媒体等としても実現することができる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described, elements other than the element described in the independent claim among the components of this invention in embodiment mentioned above are additional elements, and are suitably abbreviate | omitted or combined. Is possible. In addition, the present invention is not limited to such an embodiment, and it is needless to say that the present invention can be implemented in various modes without departing from the gist of the present invention. For example, the present invention provides a dither mask generation method, a printing apparatus equipped with a dither mask generated by the method, a program for performing halftone processing using a dither mask generated by the method, a dither mask generation program, It can also be realized as a recorded storage medium.

20…プリンター
30…制御ユニット
40…CPU
41…入力部
42…ハーフトーン処理部
43…印刷部
51…ROM
52…RAM
60…EEPROM
61…ディザマスク
70…キャリッジモータ
71…駆動ベルト
72…プーリ
73…摺動軸
74…紙送りモータ
75…プラテン
80…キャリッジ
82〜87…インクカートリッジ
90…印刷ヘッド
98…メモリカードスロット
99…操作パネル
P…印刷媒体
MC…メモリカード
Nz…ノズル
20 ... Printer 30 ... Control unit 40 ... CPU
41 ... Input unit 42 ... Halftone processing unit 43 ... Printing unit 51 ... ROM
52 ... RAM
60 ... EEPROM
61 ... Dither mask 70 ... Carriage motor 71 ... Drive belt 72 ... Pulley 73 ... Slide shaft 74 ... Paper feed motor 75 ... Platen 80 ... Carriage 82-87 ... Ink cartridge 90 ... Print head 98 ... Memory card slot 99 ... Operation panel P ... Print medium MC ... Memory card Nz ... Nozzle

Claims (10)

複数の格納要素の各々に閾値が格納されたディザマスクの生成方法であって、
前記ディザマスクは、画像の所定の階調値に対して、前記閾値が格納された格納要素の配置に基づいて、印刷媒体上に所定の形成パターンでドットを生じさせるハーフトーン処理に用いられ、
前記ドットの形成パターンから想定される前記印刷媒体上のドットの重なりの程度を指標として、前記閾値の少なくとも一部が格納される前記格納要素の配置を決定する
ディザマスクの生成方法。
A dither mask generation method in which a threshold value is stored in each of a plurality of storage elements,
The dither mask is used for halftone processing for generating dots in a predetermined formation pattern on a print medium based on an arrangement of storage elements in which the threshold value is stored with respect to a predetermined gradation value of an image.
A dither mask generation method for determining an arrangement of the storage elements in which at least a part of the threshold value is stored, using as an index the degree of dot overlap on the print medium assumed from the dot formation pattern.
請求項1記載のディザマスクの生成方法であって、
前記複数の格納要素の少なくとも一部に対応して、該少なくとも一部の格納要素に格納する閾値を用意する第1の工程と、
前記用意した閾値が未だ格納されていない格納要素である空白格納要素に格納すべき前記閾値の1つを着目閾値として選択する第2の工程と、
前記空白格納要素の1つに対して前記着目閾値を格納したとした場合に、前記閾値が既に格納された格納要素の配置が表す前記ドットの形成パターンから想定される、前記ドットの重なりの程度に関する所定の評価値を、前記指標として、前記空白格納要素の各々について算出する第3の工程と、
前記算出した所定の評価値に基づいて、前記着目閾値を格納する前記空白格納要素を決定する第4の工程と
を備え、
前記第2ないし第4の工程を所定回数繰り返して、前記ディザマスクを生成する
ディザマスクの生成方法。
A method of generating a dither mask according to claim 1,
A first step of preparing a threshold value to be stored in at least some of the storage elements corresponding to at least some of the plurality of storage elements;
A second step of selecting one of the thresholds to be stored in a blank storage element, which is a storage element in which the prepared threshold is not yet stored, as a target threshold;
When the target threshold value is stored for one of the blank storage elements, the degree of dot overlap assumed from the dot formation pattern represented by the arrangement of storage elements in which the threshold value is already stored A third step of calculating a predetermined evaluation value for each of the blank storage elements as the index;
A fourth step of determining the blank storage element for storing the target threshold value based on the calculated predetermined evaluation value;
A dither mask generation method for generating the dither mask by repeating the second to fourth steps a predetermined number of times.
前記所定の評価値は、前記ドットの形成パターンから想定される、実際に形成されるドットが前記印刷媒体を覆う割合を示すドット被覆率に基づいて算出される請求項2記載のディザマスクの生成方法。   The dither mask generation according to claim 2, wherein the predetermined evaluation value is calculated based on a dot coverage that indicates a ratio of dots that are actually formed to cover the print medium, which is assumed from the dot formation pattern. Method. 請求項2または請求項3記載のディザマスクの生成方法であって、
前記ディザマスクは、前記印刷媒体上にインクを吐出して前記ドットを形成する印刷装置で印刷を行うための前記ハーフトーン処理に用いられ、
前記第3の工程は、前記インクが前記印刷媒体上に着弾した際の、該インクの該印刷媒体上での広がりを想定し、該想定した広がりを前記ドットの形成パターンに反映させて、前記所定の評価値を算出する
ディザマスクの生成方法。
A method of generating a dither mask according to claim 2 or claim 3,
The dither mask is used for the halftone process for performing printing with a printing apparatus that ejects ink onto the print medium to form the dots,
The third step assumes that the ink spreads on the print medium when the ink has landed on the print medium, reflects the assumed spread on the dot formation pattern, and A dither mask generation method for calculating a predetermined evaluation value.
前記インクの広がりを、該広がりがないと仮定した場合のドットサイズよりも高い解像度で想定する請求項4記載のディザマスクの生成方法。   The dither mask generation method according to claim 4, wherein the ink spread is assumed to have a resolution higher than a dot size when it is assumed that there is no spread. 請求項2ないし請求項5のいずれか記載のディザマスクの生成方法であって、
前記ディザマスクは、印刷ヘッドを前記印刷媒体に対して主走査方向および副走査方向に相対移動させながら、該印刷媒体上にドットを形成して印刷を行う印刷装置で印刷を行うための前記ハーフトーン処理に用いられ、
前記第3の工程は、
前記ドットの形成をいずれの主走査で行うかの違いに着目して区分されるドット群の前記印刷媒体上での形成位置が、該区分されたドット群の間で、所定の方向に所定量だけずれた状態を示す、ずれパターンを複数種類想定する工程と、
前記複数種類のずれパターンごとに、前記空白格納要素の1つに対して前記着目閾値を格納したとした場合に、前記閾値が既に格納された格納要素の配置が表す前記ドットの形成パターンから想定される、前記ドットの重なりの程度を示す評価値を算出する工程と、
前記複数種類のずれパターンごとに算出された評価値の、該複数種類のずれパターンの間における変動を定量化した評価値を、前記所定の評価値として算出する工程と
を備えたディザマスクの生成方法。
A method of generating a dither mask according to any one of claims 2 to 5,
The dither mask is configured to perform printing on a printing apparatus that performs printing by forming dots on the print medium while moving the print head relative to the print medium in the main scanning direction and the sub-scanning direction. Used for tone processing,
The third step includes
Paying attention to the difference in which main scanning the dot is formed, the formation positions on the print medium of the dot groups that are divided are a predetermined amount in a predetermined direction between the divided dot groups. A process of assuming a plurality of types of misalignment patterns, showing a state of misalignment,
Assuming that the threshold of interest is stored for one of the blank storage elements for each of the plurality of types of misalignment patterns, it is assumed from the dot formation pattern represented by the arrangement of storage elements in which the threshold is already stored A step of calculating an evaluation value indicating a degree of overlap of the dots;
Generating a dither mask comprising: calculating an evaluation value obtained by quantifying a variation between the plurality of types of deviation patterns of the evaluation value calculated for each of the plurality of types of deviation patterns as the predetermined evaluation value. Method.
前記複数種類のずれパターンには、前記ずれが生じていない状態を含む請求項6記載のディザマスクの生成方法。   The dither mask generation method according to claim 6, wherein the plurality of types of shift patterns include a state in which the shift does not occur. 請求項4または請求項5記載のディザマスクの生成方法であって、
前記ディザマスクは、印刷ヘッドを前記印刷媒体に対して主走査方向および副走査方向に相対移動させながら、該印刷媒体上にドットを形成して印刷を行う印刷装置で印刷を行うための前記ハーフトーン処理に用いられ、
前記第3の工程は、
前記空白格納要素の1つに対して前記着目閾値を格納したとした場合に、前記閾値が既に格納された格納要素の配置が表す前記ドットの形成パターンから想定される、前記ドットの重なりの程度を示す評価値を算出する工程と、
印刷階調に応じた、前記ドットの重なりの程度を示す評価値の目標値を設定する工程と、
前記ドットの重なりの程度を示す評価値と、前記設定した目標値との離隔の程度を示す評価値を前記所定の評価値として算出する工程と
を備え、
前記目標値は、前記ドットの形成をいずれの主走査で行うかの違いに着目して区分されるドット群の前記印刷媒体上での形成位置が、該区分されたドット群の間でいずれの方向にもずれていない状態における前記ドットの形成パターンから想定される前記ドットの重なりの程度よりも、該ドットの重なりの程度が大きい範囲で設定される
ディザマスクの生成方法。
A method of generating a dither mask according to claim 4 or claim 5,
The dither mask is configured to perform printing on a printing apparatus that performs printing by forming dots on the print medium while moving the print head relative to the print medium in the main scanning direction and the sub-scanning direction. Used for tone processing,
The third step includes
When the target threshold value is stored for one of the blank storage elements, the degree of dot overlap assumed from the dot formation pattern represented by the arrangement of storage elements in which the threshold value is already stored A step of calculating an evaluation value indicating
A step of setting a target value of an evaluation value indicating the degree of overlap of the dots according to the print gradation;
A step of calculating an evaluation value indicating the degree of overlap of the dots and an evaluation value indicating the degree of separation from the set target value as the predetermined evaluation value,
The target value is determined based on the difference in which main scanning is performed in which the dot is formed. A method of generating a dither mask, wherein the dot overlap is set in a range in which the degree of dot overlap is larger than the degree of dot overlap assumed from the dot formation pattern in a state not shifted in the direction.
印刷装置であって、
請求項1ないし請求項8のいずれか記載の方法によって生成したディザマスクを記憶する手段と、
前記記憶したディザマスクを用いてハーフトーン処理を行う手段と
を備えた印刷装置。
A printing device,
Means for storing a dither mask generated by the method of any of claims 1 to 8;
Means for performing halftone processing using the stored dither mask.
請求項1ないし請求項8のいずれか記載の方法によって生成したディザマスクを用いてハーフトーン処理を行う機能をコンピューターに実現させるためのプログラム。   A program for causing a computer to realize a function of performing halftone processing using the dither mask generated by the method according to claim 1.
JP2009280085A 2009-12-10 2009-12-10 Method for generating dither mask, printing apparatus, and program thereof Pending JP2011124744A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009280085A JP2011124744A (en) 2009-12-10 2009-12-10 Method for generating dither mask, printing apparatus, and program thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009280085A JP2011124744A (en) 2009-12-10 2009-12-10 Method for generating dither mask, printing apparatus, and program thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011124744A true JP2011124744A (en) 2011-06-23

Family

ID=44288216

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009280085A Pending JP2011124744A (en) 2009-12-10 2009-12-10 Method for generating dither mask, printing apparatus, and program thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011124744A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013103440A (en) * 2011-11-15 2013-05-30 Seiko Epson Corp Printing apparatus, and method of producing printed matter
JP2014113819A (en) * 2012-11-16 2014-06-26 Canon Inc Dither pattern creation method, dither pattern, image recording device, and image recording method
US8767264B2 (en) 2011-03-24 2014-07-01 Seiko Epson Corporation Printing device and printing method
JP2015177206A (en) * 2014-03-13 2015-10-05 株式会社Screenホールディングス Threshold matrix generation device, image recording apparatus, threshold matrix generation method and threshold matrix

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8767264B2 (en) 2011-03-24 2014-07-01 Seiko Epson Corporation Printing device and printing method
US9132632B2 (en) 2011-03-24 2015-09-15 Seiko Epson Corporation Printing device and printing method
JP2013103440A (en) * 2011-11-15 2013-05-30 Seiko Epson Corp Printing apparatus, and method of producing printed matter
JP2014113819A (en) * 2012-11-16 2014-06-26 Canon Inc Dither pattern creation method, dither pattern, image recording device, and image recording method
JP2015177206A (en) * 2014-03-13 2015-10-05 株式会社Screenホールディングス Threshold matrix generation device, image recording apparatus, threshold matrix generation method and threshold matrix

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4635762B2 (en) Image processing apparatus and printing apparatus for bidirectional printing
JP4675296B2 (en) Printing apparatus and printing method
JP5741112B2 (en) Printing apparatus, printing method, print data generation program, and dither mask generation method
JP5056223B2 (en) Line printer, halftone processing method, printing method
US20080259361A1 (en) High quality halftone process
JP5211481B2 (en) Dither matrix generation
JP4604940B2 (en) Image processing apparatus and printing apparatus for bidirectional printing
JP5413166B2 (en) Manufacturing method of printing apparatus
JP4660439B2 (en) Printing apparatus and printing method
JP4660436B2 (en) Printing apparatus and printing method
JP5505048B2 (en) Printing device, printing method, print data generation program
JP5104913B2 (en) Image processing apparatus and printing apparatus for bidirectional printing
JP2009006510A (en) Printer, printing method, and program
JP2008162151A (en) Printer with a plurality of nozzle groups which eject ink of the same color, and printing method
JP2011124744A (en) Method for generating dither mask, printing apparatus, and program thereof
JP5703579B2 (en) Printing apparatus, printing method, print data generation program, and dither mask generation method
JP2011121250A (en) Method for forming dither mask, printing apparatus and program thereof
JP6358417B2 (en) Printing apparatus and printing method
JP2011121248A (en) Method of generating dither mask and allocation information, printing apparatus and program
JP5741461B2 (en) Printing apparatus and printing method
JP2014177128A (en) Printing device having plurality of nozzle groups for ejecting the same color ink and printing method
US20090135439A1 (en) Method And Apparatus For Printing A High Resolution Image With A Printhead In A Multi-Pass Printing Mode
JP5564771B2 (en) Printing apparatus, printing method, computer program, recording medium, printing medium, and printer
JP5884290B2 (en) Printing data generating apparatus, printing apparatus and method thereof
JP5757144B2 (en) Printing data generating apparatus, printing apparatus and method thereof