JP2011081124A - Optical compensation film and polarizing plate - Google Patents

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正美 ▲柳▼田
Masami Yanagida
Nagahiro Masuda
長宏 桝田
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伸二 小澤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical compensation film excellent in appearance and optical properties. <P>SOLUTION: The optical compensation film has a base film, an alignment film and an optically anisotropic layer formed of a liquid crystal composition in this order. A support is formed of an acrylic resin containing at least one of a lactone ring unit, a glutaric acid anhydride unit, a glutarimide unit and an N-substituted maleimide unit, and a methylmethacrylate unit. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置、特にTNモードの光学補償フィルムとして好適に用いられる樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a resin composition suitably used as a liquid crystal display device, particularly as a TN mode optical compensation film.

近年、電子機器はますます小型化し、ノートパソコン、携帯電話、携帯情報端末に代表されるように、軽量・コンパクトという特徴を生かした液晶表示装置が多く用いられるようになってきている。しかし、現在液晶表示装置の主流であるTNモードにおいては、原理的に見る方向によって表示色やコントラストが変化する等の、所謂視野角特性の問題があった。この視野角特性を改良し、表示品位の高い液晶表示装置を実現するために、特許文献1及び特許文献2では、透明支持体上にディスティック液晶からなる光学異方性層を塗布した光学補償フィルムを、偏光膜の片面の保護フィルムとした偏光板を用いることにより、好適に視野角特性を改良しうることが記載されている。   2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices have become increasingly smaller, and liquid crystal display devices that take advantage of the features of light weight and compactness, such as notebook personal computers, mobile phones, and portable information terminals, have been increasingly used. However, in the TN mode, which is currently the mainstream of liquid crystal display devices, there has been a problem of so-called viewing angle characteristics such as a change in display color and contrast depending on the viewing direction in principle. In order to improve the viewing angle characteristics and realize a liquid crystal display device with high display quality, in Patent Document 1 and Patent Document 2, an optical compensation in which an optical anisotropic layer made of a discotic liquid crystal is coated on a transparent support is disclosed. It is described that the viewing angle characteristics can be suitably improved by using a polarizing plate in which the film is a protective film on one side of a polarizing film.

特開平7−191217号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-191217 特開2009−69821号公報JP 2009-69821 A

しかし、特許文献1または2の方法をもってしても、光学特性、外観欠陥について、近年ますます高まる市場の要求に応えることが困難になってきた。   However, even with the method of Patent Document 1 or 2, it has become difficult to meet the increasing market demand in recent years for optical characteristics and appearance defects.

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、外観や光学特性に優れた光学補償フィルムを提供する事を目的とする。   This invention is made | formed in view of said subject, Comprising: It aims at providing the optical compensation film excellent in the external appearance and the optical characteristic.

本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、ベースフィルムに特定の樹脂組成物を用いれば、外観や光学特性に優れた光学補償フィルムを提供可能であることを見出し、本発明に至った。即ち、本発明は、以下に関する。   As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventors have found that if a specific resin composition is used for the base film, it is possible to provide an optical compensation film having excellent appearance and optical characteristics, and the present invention has been achieved. It was. That is, the present invention relates to the following.

(I) ベースフィルム、配向膜及び液晶組成物から形成された光学異方性層をこの順で有する光学補償フィルムであって、前記支持体が、ラクトン環単位、無水グルタル酸単位、グルタルイミド単位、N−置換マレイミド単位の少なくとも1つとメタクリル酸メチル単位とを含有するアクリル系樹脂からなることを特徴とする、光学補償フィルム。   (I) An optical compensation film having an optically anisotropic layer formed of a base film, an alignment film and a liquid crystal composition in this order, wherein the support is a lactone ring unit, a glutaric anhydride unit, a glutarimide unit An optical compensation film comprising an acrylic resin containing at least one N-substituted maleimide unit and a methyl methacrylate unit.

(II) ベースフィルムが、下記一般式(1)で表されるグルタルイミド単位とメタクリル酸メチル単位とを含有するイミド樹脂であることを特徴とする、(I)に記載の光学補償フィルム。   (II) The optical compensation film according to (I), wherein the base film is an imide resin containing a glutarimide unit represented by the following general formula (1) and a methyl methacrylate unit.

Figure 2011081124
Figure 2011081124

(式中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素または炭素数1〜8のアルキル基を示し、R3は炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、または炭素数6〜10のアリール基を示す。)
(III) ベースフィルムのイミド化率が30〜90%であることを特徴とする、(I)〜(II)に記載の光学補償フィルム。
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 3 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or 6 carbon atoms. Represents 10 to 10 aryl groups.)
(III) The optical compensation film according to any one of (I) to (II), wherein the imidation ratio of the base film is 30 to 90%.

(IV)ベースフィルムの面内位相差(Re)が−20〜20nm、厚み方向位相差(Rth)が50〜150nmであることを特徴とする、請求項1〜3記載の光学用フィルム。   (IV) The optical film according to claim 1, wherein the in-plane retardation (Re) of the base film is −20 to 20 nm and the thickness direction retardation (Rth) is 50 to 150 nm.

(V) (IV)記載の光学補償フィルムを少なくとも1枚含むことを特徴とする、偏光板。   (V) A polarizing plate comprising at least one optical compensation film according to (IV).

本発明によれば、外観や光学特性に優れた光学補償フィルムを提供することが可能となり、極めて有用である。   According to the present invention, it is possible to provide an optical compensation film excellent in appearance and optical characteristics, which is extremely useful.

本発明の一実施形態について以下、説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   An embodiment of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to this.

本発明に係る光学補償フィルムは、ベースフィルム、配向膜及び液晶組成物から形成された光学異方性層をこの順で有する光学補償フィルムであって、前記支持体が、ラクトン環単位、無水グルタル酸単位、グルタルイミド単位、N−置換マレイミド単位の少なくとも1つとメタクリル酸メチル単位とを含有するアクリル系樹脂からなることを特徴とする。   An optical compensation film according to the present invention is an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed of a base film, an alignment film and a liquid crystal composition in this order, wherein the support comprises a lactone ring unit, anhydrous glutar It consists of an acrylic resin containing at least one of an acid unit, a glutarimide unit, and an N-substituted maleimide unit and a methyl methacrylate unit.

(ベースフィルムの製造)
本発明に係るベースフィルムは、ラクトン環単位、無水グルタル酸単位、グルタルイミド単位、N−置換マレイミド単位の少なくとも1つとメタクリル酸メチル単位とを含有するアクリル系樹脂であることが必須である。環構造を有する上記樹脂は、高い耐熱性と低い透湿度を有することから光学材料として特に好ましく、本発明のベースフィルムとして特に適している。その中でも、光学特性を好適に制御可能な点、耐熱性に優れていることから、下記一般式(1)で表されるグルタルイミド単位とメタクリル酸メチル単位とを含有するアクリル系樹脂であることが好ましい。
(Manufacture of base film)
The base film according to the present invention is essentially an acrylic resin containing at least one of a lactone ring unit, a glutaric anhydride unit, a glutarimide unit, an N-substituted maleimide unit, and a methyl methacrylate unit. The resin having a ring structure is particularly preferable as an optical material because it has high heat resistance and low moisture permeability, and is particularly suitable as a base film of the present invention. Among them, it is an acrylic resin containing a glutarimide unit and a methyl methacrylate unit represented by the following general formula (1) because it has excellent heat resistance in terms of suitably controlling optical characteristics. Is preferred.

Figure 2011081124
Figure 2011081124

式中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素または炭素数1〜8のアルキル基を示し、R3は炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、または炭素数6〜10のアリール基を示す。R1として好ましくはメチル基であり、R2として好ましくは水素であり、R3として好ましくはメチル基である。   In the formula, R1 and R2 each independently represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R3 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or 6 to 6 carbon atoms. 10 aryl groups are shown. R1 is preferably a methyl group, R2 is preferably hydrogen, and R3 is preferably a methyl group.

以下、グルタルイミド単位とメタクリル酸メチル単位とを含有するアクリル系樹脂からなるベースフィルムの製造方法について記載する。   Hereinafter, it describes about the manufacturing method of the base film which consists of acrylic resin containing a glutarimide unit and a methyl methacrylate unit.

まず、メタクリル酸メチルを重合させることにより、ポリメタクリル酸メチル樹脂を製造する。   First, a polymethyl methacrylate resin is produced by polymerizing methyl methacrylate.

この工程において、メタクリル酸メチル以外にも、例えば、アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシルなども併用しても良いが、これらを併用する場合はアクリル酸エステル単位が1重量%未満である。アクリル酸メチル単位が0.5重量%未満であることがより好ましい。   In this step, in addition to methyl methacrylate, for example, methyl acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, (meth) Benzyl acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate and the like may be used in combination, but when these are used in combination, the acrylate unit is less than 1% by weight. More preferably, the methyl acrylate units are less than 0.5% by weight.

また上記モノマー以外にも、スチレン、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のニトリル系単量体、マレイミド、N−メチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系単量体を共重合することも可能である。   In addition to the above monomers, copolymerize styrene, nitrile monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile, and maleimide monomers such as maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide. Is also possible.

上記ポリメタクリル酸メチル樹脂の構造は、特に限定されるものではなく、リニアー(線状)ポリマー、ブロックポリマー、コアシェルポリマー、分岐ポリマー、ラダーポリマー、および架橋ポリマー等のいずれであってもよい。   The structure of the polymethyl methacrylate resin is not particularly limited, and may be any of linear (linear) polymer, block polymer, core-shell polymer, branched polymer, ladder polymer, and crosslinked polymer.

ブロックポリマーの場合、A−B型、A−B−C型、A−B−A型、およびこれら以外のタイプのブロックポリマーのいずれであってもよい。コアシェルポリマーの場合、ただ一層のコアおよびただ一層のシェルのみからなるものであってもよいし、それぞれが多層からなるものであってもよい。   In the case of a block polymer, it may be any of AB type, ABC type, ABA type, and other types of block polymers. In the case of the core-shell polymer, it may be composed of only one core and only one shell, or each may be composed of multiple layers.

ポリメタクリル酸メチル樹脂の製造方法としては特に限定されず、公知の乳化重合法、乳化−懸濁重合法、懸濁重合法、塊状重合法、溶液重合法などが適用可能であるが、光学分野に用いる場合、不純物が少ないとの観点から、塊状重合法、溶液重合法が特に好ましい。例えば、特開昭56−8404、特公平6−86492、特公平7−37482、あるいは特公昭52−32665、特公昭55−7845などに記載の方法に準じて製造できる。   The production method of the polymethyl methacrylate resin is not particularly limited, and a known emulsion polymerization method, emulsion-suspension polymerization method, suspension polymerization method, bulk polymerization method, solution polymerization method and the like can be applied. In the case of use in the bulk polymerization method, the bulk polymerization method and the solution polymerization method are particularly preferable from the viewpoint of few impurities. For example, it can be produced according to the methods described in JP-A-56-8404, JP-B-6-86492, JP-B-7-37482, JP-B-52-32665, JP-B-55-7845, and the like.

次いで、上記ポリメタクリル酸メチル樹脂を加熱溶融して、イミド化剤で処理する工程(イミド化工程)を経て、イミド樹脂を製造する。   Next, the polymethyl methacrylate resin is heated and melted and processed with an imidizing agent (imidation process) to produce an imide resin.

上記イミド化剤は、上記一般式(1)で表されるグルタルイミド単位を生成できるものであれば特に制限されず、WO2005/054311記載のもの等が挙げられる。具体的には、例えば、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、n−プロピルアミン、i−プロピルアミン、n−ブチルアミン、i−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、n−ヘキシルアミン等の脂肪族炭化水素基含有アミン、アニリン、ベンジルアミン、トルイジン、トリクロロアニリン等の芳香族炭化水素基含有アミン、シクロヘキシルアミン等などの脂環式炭化水素基含有アミンを挙げることができる。   The imidizing agent is not particularly limited as long as it can generate the glutarimide unit represented by the general formula (1), and examples thereof include those described in WO2005 / 054311. Specifically, for example, an aliphatic hydrocarbon group-containing amine such as ammonia, methylamine, ethylamine, n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, tert-butylamine, n-hexylamine, Mention may be made of aromatic hydrocarbon group-containing amines such as aniline, benzylamine, toluidine and trichloroaniline, and alicyclic hydrocarbon group-containing amines such as cyclohexylamine.

また、尿素、1,3−ジメチル尿素、1,3−ジエチル尿素、1,3−ジプロピル尿素のように、加熱により、上記例示したアミンを発生する尿素系化合物を用いることもできる。   In addition, urea-based compounds that generate amines exemplified above by heating, such as urea, 1,3-dimethylurea, 1,3-diethylurea, and 1,3-dipropylurea, can also be used.

上記例示したイミド化剤のうち、コスト、物性の面からメチルアミン、アンモニア、シクロヘキシルアミンを用いることが好ましく、メチルアミンを用いることが特に好ましい。   Of the imidizing agents exemplified above, methylamine, ammonia, and cyclohexylamine are preferably used from the viewpoint of cost and physical properties, and methylamine is particularly preferably used.

また、常温にてガス状のメチルアミンなどは、メタノールなどのアルコール類に溶解させた状態で使用してもよい。   Further, gaseous methylamine or the like at normal temperature may be used in a state dissolved in alcohols such as methanol.

このイミド化の工程において、上記イミド化剤の添加割合を調整することにより、得られるグルタルイミド系樹脂におけるグルタルイミド単位および(メタ)アクリル酸エステル単位の割合を調整することができる。   In this imidization step, by adjusting the addition ratio of the imidizing agent, the ratio of glutarimide units and (meth) acrylic acid ester units in the resulting glutarimide resin can be adjusted.

また、イミド化の程度を調整することにより、得られるアクリル系樹脂を成形してなる光学用フィルムの光学特性等を調整することができる。   Moreover, the optical characteristics etc. of the optical film formed by shape | molding the acrylic resin obtained by adjusting the degree of imidation can be adjusted.

なお、このイミド化の工程においては、上記イミド化剤に加えて、必要に応じて、閉環促進剤(触媒)を添加してもよい。   In this imidization step, a ring closure accelerator (catalyst) may be added as necessary in addition to the imidizing agent.

加熱溶融し、イミド化剤と処理する方法は、特に限定されなく、従来公知のあらゆる方法を用いることができる。例えば、押出機や、バッチ式反応槽(圧力容器)等を用いる方法により、上記ポリメタクリル酸メチル樹脂をイミド化することができる。   The method of melting by heating and treating with an imidizing agent is not particularly limited, and any conventionally known method can be used. For example, the polymethyl methacrylate resin can be imidized by a method using an extruder, a batch type reaction vessel (pressure vessel) or the like.

押出機を用いて加熱溶融し、イミド化剤と処理する場合、用いる押出機は特に限定されるものではなく、各種押出機を用いることができる。具体的には、例えば、単軸押出機、二軸押出機または多軸押出機等を用いることができる。   When heat-melting using an extruder and processing with an imidizing agent, the extruder to be used is not particularly limited, and various extruders can be used. Specifically, for example, a single screw extruder, a twin screw extruder, a multi-screw extruder, or the like can be used.

中でも、二軸押出機を用いることが好ましい。二軸押出機によれば、ポリメタクリル酸メチル樹脂に対するイミド化剤(閉環促進剤を用いる場合は、イミド化剤と閉環促進剤)の混合を促進することができる。   Among these, it is preferable to use a twin screw extruder. According to the twin screw extruder, it is possible to promote mixing of an imidizing agent (in the case where a ring closing accelerator is used) with respect to the polymethyl methacrylate resin.

二軸押出機としては、非噛合い型同方向回転式、噛合い型同方向回転式、非噛合い型異方向回転式、および噛合い型異方向回転式等を挙げることができる。中でも、噛合い型同方向回転式を用いることが好ましい。噛合い型同方向回転式の二軸押出機は、高速回転可能であるため、原料ポリマーに対するイミド化剤(閉環促進剤を用いる場合は、イミド化剤と閉環促進剤)の混合を、より一層促進することができる。   Examples of the twin-screw extruder include a non-meshing type same direction rotating type, a meshing type same direction rotating type, a non-meshing type different direction rotating type, and a meshing type different direction rotating type. Among them, it is preferable to use a meshing type co-rotating type. Since the meshing type co-rotating twin-screw extruder can rotate at a high speed, mixing of the imidizing agent (in the case of using a ring closure accelerator and an imidization agent and a ring closure accelerator) with the raw polymer is further improved. Can be promoted.

上記例示した押出機は単独で用いてもよいし、複数を直列につないで用いてもよい。例えば、特開2008−273140に記載のタンデム型反応押出機を用いることができる。   The above-exemplified extruders may be used alone, or a plurality of the extruders may be connected in series. For example, a tandem reaction extruder described in JP-A-2008-273140 can be used.

押出機中でイミド化を行う場合は、例えば、ポリメタクリル酸メチル樹脂を押出機の原料投入部から投入し、該樹脂を溶融させ、シリンダ内を充満させた後、添加ポンプを用いてイミド化剤を押出機中に注入することにより、押出機中でイミド化反応を進行させることができる。   When imidization is performed in an extruder, for example, polymethyl methacrylate resin is charged from the raw material charging part of the extruder, the resin is melted, the inside of the cylinder is filled, and then imidization is performed using an addition pump. By injecting the agent into the extruder, the imidization reaction can proceed in the extruder.

この場合、押出機中での反応ゾーンの温度(樹脂温度)を180℃〜300℃にて行うことが好ましく、さらに200〜290℃にて行うことがより好ましい。反応ゾーンの温度(樹脂温度)が180℃未満では、イミド化反応がほとんど進行せず、耐熱性が低下する傾向にある。反応ゾーン温度が300℃を超えると、樹脂の分解が著しくなることから、得られるイミド化樹脂から形成しうるフィルムの耐折曲性が低下する傾向がある。ここで、押出機中での反応ゾーンとは、押出機のシリンダにおいて、イミド化剤の注入位置から樹脂吐出口(ダイス部)までの間の領域をいう。   In this case, the reaction zone temperature (resin temperature) in the extruder is preferably 180 to 300 ° C, more preferably 200 to 290 ° C. When the temperature of the reaction zone (resin temperature) is less than 180 ° C., the imidization reaction hardly proceeds and the heat resistance tends to decrease. When the reaction zone temperature exceeds 300 ° C., the resin is significantly decomposed, so that the bending resistance of the film that can be formed from the imidized resin obtained tends to be lowered. Here, the reaction zone in the extruder refers to a region between the injection position of the imidizing agent and the resin discharge port (die part) in the cylinder of the extruder.

押出機の反応ゾーン内での反応時間を長くすることにより、イミド化をより進行させることができる。押出機の反応ゾーン内の反応時間は10秒より長くするのが好ましく、さらには30秒より長くするのがより好ましい。10秒以下の反応時間ではイミド化がほとんど進行しない可能性がある。   By increasing the reaction time in the reaction zone of the extruder, imidization can be further advanced. The reaction time in the reaction zone of the extruder is preferably longer than 10 seconds, and more preferably longer than 30 seconds. In the reaction time of 10 seconds or less, imidation may hardly proceed.

押出機での樹脂圧力は、大気圧〜50MPaの範囲内とすることが好ましく、さらには1MPa〜30MPaの範囲内が好ましい。1MPa未満ではイミド化剤の溶解性が低く、反応の進行が抑えられる傾向がある。また、50MPa以上では通常の押出機の機械耐圧の限界を越えてしまい、特殊な装置が必要となりコスト的に好ましくない。   The resin pressure in the extruder is preferably in the range of atmospheric pressure to 50 MPa, and more preferably in the range of 1 MPa to 30 MPa. If it is less than 1 MPa, the solubility of the imidizing agent is low, and the progress of the reaction tends to be suppressed. On the other hand, if it is 50 MPa or more, the mechanical pressure limit of a normal extruder is exceeded, and a special apparatus is required, which is not preferable in terms of cost.

また、押出機を使用する場合は、未反応のイミド化剤や副生物を除去するために、大気圧以下に減圧可能なベント孔を装着することが好ましい。このような構成によれば、未反応のイミド化剤、もしくはメタノール等の副生物やモノマー類を除去することができる。   Moreover, when using an extruder, in order to remove an unreacted imidizing agent and a by-product, it is preferable to attach the vent hole which can be pressure-reduced below atmospheric pressure. According to such a configuration, unreacted imidizing agent, or by-products such as methanol and monomers can be removed.

また、上記イミド樹脂の製造には、押出機に代えて、例えば住友重機械(株)製のバイボラックのような横型二軸反応装置やスーパーブレンドのような竪型二軸攪拌槽などの高粘度対応の反応装置も好適に用いることができる。   In addition, in the production of the imide resin, instead of an extruder, for example, a high viscosity such as a horizontal biaxial reactor such as Violac manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd. or a vertical biaxial agitation tank such as Super Blend. A corresponding reaction apparatus can also be suitably used.

上記イミド樹脂を、バッチ式反応槽(圧力容器)を用いて製造する場合、そのバッチ式反応槽(圧力容器)の構造は特に限定されるものでない。   When manufacturing the said imide resin using a batch type reaction tank (pressure vessel), the structure of the batch type reaction vessel (pressure vessel) is not specifically limited.

具体的には、ポリメタクリル酸メチル樹脂を加熱により溶融させ、攪拌することができ、イミド化剤(閉環促進剤を用いる場合は、イミド化剤と閉環促進剤)を添加することができる構造を有していればよいが、攪拌効率が良好な構造を有するものであることが好ましい。   Specifically, the polymethyl methacrylate resin can be melted by heating and stirred, and an imidizing agent (in the case of using a ring closure accelerator, an imidizing agent and a ring closure accelerator) can be added. However, it is preferable to have a structure with good stirring efficiency.

このようなバッチ式反応槽(圧力容器)によれば、反応の進行によりポリマー粘度が上昇し、撹拌が不十分となることを防止することができる。このような構造を有するバッチ式反応槽(圧力容器)としては、例えば、住友重機械(株)製の攪拌槽マックスブレンド等を挙げることができる。   According to such a batch-type reaction vessel (pressure vessel), it is possible to prevent the polymer viscosity from increasing due to the progress of the reaction and the stirring to be insufficient. As a batch type reaction tank (pressure vessel) having such a structure, for example, a stirred tank Max Blend manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd. can be exemplified.

イミド化方法の具体例としては、例えば、特開2008−273140、特開2008−274187記載の方法など公知の方法をあげることができる。   Specific examples of the imidization method include known methods such as those described in JP-A-2008-273140 and JP-A-2008-274187.

上記イミド化工程に加え、エステル化剤で処理する工程を含むことができる。このエステル化工程によって、イミド化工程で得られたイミド化樹脂の酸価を所望の範囲内に調整することができる。   In addition to the imidization step, a step of treating with an esterifying agent can be included. By this esterification step, the acid value of the imidized resin obtained in the imidization step can be adjusted within a desired range.

エステル化剤としては、例えば、ジメチルカーボネート、2,2−ジメトキシプロパン、ジメチルスルホキシド、トリエチルオルトホルメート、トリメチルオルトアセテート、トリメチルオルトホルメート、ジフェニルカーボネート、ジメチルサルフェート、メチルトルエンスルホネート、メチルトリフルオロメチルスルホネート、メチルアセテート、メタノール、エタノール、メチルイソシアネート、p−クロロフェニルイソシアネート、ジメチルカルボジイミド、ジメチル−t−ブチルシリルクロライド、イソプロペニルアセテート、ジメチルウレア、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ジメチルジエトキシシラン、テトラ−N−ブトキシシラン、ジメチル(トリメチルシラン)フォスファイト、トリメチルフォスファイト、トリメチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、ジアゾメタン、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ベンジルグリシジルエーテルなどが挙げられる。これらの中でも、コスト、反応性などの観点から、ジメチルカーボネートが好ましい。   Examples of esterifying agents include dimethyl carbonate, 2,2-dimethoxypropane, dimethyl sulfoxide, triethyl orthoformate, trimethyl orthoacetate, trimethyl orthoformate, diphenyl carbonate, dimethyl sulfate, methyl toluene sulfonate, methyl trifluoromethyl sulfonate. , Methyl acetate, methanol, ethanol, methyl isocyanate, p-chlorophenyl isocyanate, dimethylcarbodiimide, dimethyl-t-butylsilyl chloride, isopropenyl acetate, dimethylurea, tetramethylammonium hydroxide, dimethyldiethoxysilane, tetra-N-butoxy Silane, dimethyl (trimethylsilane) phosphite, trimethyl phosphite Trimethyl phosphate, tricresyl phosphate, diazomethane, ethylene oxide, propylene oxide, cyclohexene oxide, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, and benzyl glycidyl ether. Among these, dimethyl carbonate is preferable from the viewpoints of cost, reactivity, and the like.

上記エステル化剤に加え、触媒を併用することもできる。触媒の種類は特に限定されるものではないが、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン等の脂肪族3級アミンが挙げられる。これらの中でもコスト、反応性などの観点からトリエチルアミンが好ましい。   In addition to the esterifying agent, a catalyst may be used in combination. The type of the catalyst is not particularly limited, and examples thereof include aliphatic tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, and tributylamine. Among these, triethylamine is preferable from the viewpoint of cost and reactivity.

グルタルイミドを含有したアクリル系樹脂を採用する場合、イミド化率は30〜90%が好ましく、40〜80%がより好ましい。イミド化率が30%未満であると、位相差発現性が不十分である傾向があり、イミド化率が90%を超えると、フィルム成形時の溶融粘度が高くなり、加工性が悪化する傾向がある。上記したイミド樹脂中のイミド化率は、求められる光学フィルムの物性に応じて適宜設定することが可能である。   When employing an acrylic resin containing glutarimide, the imidation rate is preferably 30 to 90%, more preferably 40 to 80%. When the imidization rate is less than 30%, the retardation development property tends to be insufficient, and when the imidization rate exceeds 90%, the melt viscosity at the time of film formation becomes high and the workability tends to deteriorate. There is. The imidation rate in the imide resin described above can be appropriately set according to the required physical properties of the optical film.

イミド化率は、樹脂中のグルタルイミド基の割合を示し、大きい程、分子中にグルタルイミド基が多いことを示す。グルタルイミド基は、それ自身正の固有複屈折を与える作用を有しているため、当該範囲に設定することで、樹脂組成物ならびに当該組成物を成形して得た成形品の複屈折性を抑制することができ、本発明の樹脂組成物から形成した樹脂成形品(例えば、樹脂フィルム)の光学部材としての使用用途が拡大する。   The imidation rate indicates the ratio of glutarimide groups in the resin, and the larger the value, the more glutarimide groups in the molecule. Since the glutarimide group itself has a function of giving positive intrinsic birefringence, the birefringence of the resin composition and the molded product obtained by molding the composition can be set by setting the range. It can suppress, and the use use as an optical member of the resin molded product (for example, resin film) formed from the resin composition of this invention expands.

本発明に係るイミド化率(Im%)は、例えば以下の方法で測定できる値である。1H−NMR BRUKER AvanceIII(400MHz)を用いて、樹脂の1H−NMR測定を行う。3.5から3.8ppm付近のメタクリル酸メチルのO−CH3プロトン由来のピークの面積Aと、3.0から3.3ppm付近のグルタルイミドのN−CH3プロトン由来のピークの面積Bより、次式で求める。 The imidation ratio (Im%) according to the present invention is a value that can be measured by, for example, the following method. 1 H-NMR The 1 H-NMR measurement of the resin is performed using BRUKER Avance III (400 MHz). From the area A of the peak derived from the O-CH 3 proton of methyl methacrylate in the vicinity of 3.5 to 3.8 ppm and the area B of the peak derived from the N-CH 3 proton of glutarimide in the vicinity of 3.0 to 3.3 ppm. The following formula is used.

Im%=B/(A+B)×100   Im% = B / (A + B) × 100

(酸価)
グルタルイミドを含有したアクリル系樹脂の酸価は、イミド樹脂中でのカルボン酸単位、カルボン酸無水物単位の含有量を表す。酸価は、例えばWO2005−054311に記載の滴定法などにより算出することが可能である。
(Acid value)
The acid value of the acrylic resin containing glutarimide represents the content of carboxylic acid units and carboxylic anhydride units in the imide resin. The acid value can be calculated by, for example, a titration method described in WO2005-054311.

グルタルイミドを含有したアクリル系樹脂を採用した場合の好ましい酸価は、0.001〜0.30mmol/gであり、0.005〜0.20mmol/gであることがより好ましい。酸価が上記範囲内であれば、耐熱性、機械物性、成形加工性のバランスに優れたイミド樹脂を得ることができる。酸価が上記範囲よりも大きい場合、得られた樹脂組成物を成型した際に、発泡やゲル状物の外観欠陥が多数発生することがあるため好ましくない。発泡は、分子内で隣接するカルボキシル基同士の無水物化の際に発生する水の影響と思われる。またゲル状物は、分子間のカルボン酸同士での水素結合による擬似架橋により形成されると思われる。酸価が上記範囲よりも小さい場合、当該酸価に調整するための変性剤をより多く費やす必要があるため、コストアップになったり、変性剤の残存によるゲル状物の発生を誘発することがあるため好ましくない。本発明のイミド樹脂の酸価は、イミド樹脂中でのカルボン酸単位、カルボン酸無水物単位の含有量を表す。酸価は、例えばWO2005−054311に記載の滴定法などにより算出することが可能である。   A preferable acid value when an acrylic resin containing glutarimide is employed is 0.001 to 0.30 mmol / g, and more preferably 0.005 to 0.20 mmol / g. If the acid value is within the above range, an imide resin having an excellent balance of heat resistance, mechanical properties and molding processability can be obtained. When the acid value is larger than the above range, when the obtained resin composition is molded, many appearance defects of foaming and gel-like materials may occur, which is not preferable. Foaming is considered to be an influence of water generated when the carboxyl groups adjacent in the molecule are anhydrated. Moreover, it seems that a gel-like substance is formed by the pseudo bridge | crosslinking by the hydrogen bond between the carboxylic acids between molecules. When the acid value is smaller than the above range, it is necessary to spend more modifying agent to adjust to the acid value, which may increase the cost or induce the generation of a gel-like material due to the remaining of the modifying agent. This is not preferable. The acid value of the imide resin of the present invention represents the content of carboxylic acid units and carboxylic anhydride units in the imide resin. The acid value can be calculated by, for example, a titration method described in WO2005-054311.

グルタルイミドを含有したアクリル系樹脂を採用した場合、好ましいアクリル酸エステル単位の比率は、1重量%未満である。0.5重量%未満であることさらに好ましい。   When an acrylic resin containing glutarimide is employed, a preferable ratio of the acrylate unit is less than 1% by weight. More preferably, it is less than 0.5% by weight.

アクリル酸エステル単位が上記範囲内であれば、イミド樹脂は熱安定性に優れたものになるが、上記範囲を超えると熱安定性が悪くなり、樹脂製造時あるいは成形加工時に樹脂の分子量や粘度低下が低下して物性が悪化する傾向がある。   If the acrylate unit is within the above range, the imide resin will have excellent thermal stability, but if it exceeds the above range, the thermal stability will deteriorate, and the resin molecular weight and viscosity during resin production or molding will be reduced. There exists a tendency for a fall to fall and for a physical property to deteriorate.

上記イミド樹脂には、必要に応じ、グルタルイミド単位、メタクリル酸メチル単位、カルボン酸もしくはカルボン酸無水物単位、アクリル酸エステル単位以外のその他の単位がさらに共重合されていてもよい。   If necessary, the imide resin may further be copolymerized with other units other than glutarimide units, methyl methacrylate units, carboxylic acid or carboxylic anhydride units, and acrylate units.

その他の単位としては、例えば、スチレン等の芳香族ビニル系単量体、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のニトリル系単量体、マレイミド、N−メチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系単量体を共重合してなる構成単位を挙げることができる。   Examples of other units include aromatic vinyl monomers such as styrene, nitrile monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile, maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide. A structural unit obtained by copolymerizing a maleimide monomer can be exemplified.

これらのその他の単位は、上記イミド樹脂中に、直接共重合していてもよいし、グラフト共重合していてもよい。   These other units may be directly copolymerized or graft-copolymerized in the imide resin.

上記樹脂の重量平均分子量は特に限定されるものではないが、1×104〜5×105であることが好ましく、5×104〜3×105であることがさらに好ましい。上記範囲内であれば、成形加工性が低下したり、フィルム加工時の機械的強度が不足したりすることがない。 The weight average molecular weight of the resin is not particularly limited, but is preferably 1 × 10 4 to 5 × 10 5 , and more preferably 5 × 10 4 to 3 × 10 5 . If it is in the said range, moldability will not fall or the mechanical strength at the time of film processing will not be insufficient.

一方、重量平均分子量が上記範囲よりも小さいと、フィルムにした場合の機械的強度が不足する傾向がある。また、上記範囲よりも大きいと、溶融押出時の粘度が高く、成形加工性が低下し、成形品の生産性が低下する傾向がある。   On the other hand, when the weight average molecular weight is smaller than the above range, the mechanical strength when formed into a film tends to be insufficient. Moreover, when larger than the said range, the viscosity at the time of melt-extrusion is high, there exists a tendency for the moldability to fall and the productivity of a molded article to fall.

また、上記イミド樹脂のガラス転移温度は特に限定されるものではないが、120℃以上であることが好ましく、125℃以上であることがより好ましく、130℃以上であることが特に好ましい。この範囲を下回ると、フィルム状に成形した場合の耐熱性が劣るため、高温時の物性変化が大きくなり、適用範囲が狭くなる。   The glass transition temperature of the imide resin is not particularly limited, but is preferably 120 ° C. or higher, more preferably 125 ° C. or higher, and particularly preferably 130 ° C. or higher. Below this range, the heat resistance when formed into a film is inferior, so the change in physical properties at high temperatures becomes large and the application range becomes narrow.

なお、本発明に係るベースフィルムは、一軸延伸した一軸延伸フィルムであってもよいし、さらに延伸工程を組み合わせて行って得られる二軸延伸フィルムであってもよい。   The base film according to the present invention may be a uniaxially stretched film, or may be a biaxially stretched film obtained by combining stretching processes.

本発明に係るベースフィルムの厚みは、特に限定されるものではないが、10μm〜200μmであることが好ましく、20μm〜150μmであることがより好ましく、30μm〜100μmであることがさらに好ましい。   The thickness of the base film according to the present invention is not particularly limited, but is preferably 10 μm to 200 μm, more preferably 20 μm to 150 μm, and further preferably 30 μm to 100 μm.

フィルムの厚みが上記範囲内であれば、光学特性が均一で、ヘーズが良好な光学用フィルムとすることができる。   When the thickness of the film is within the above range, an optical film having uniform optical characteristics and good haze can be obtained.

一方、ベースフィルムの厚みが上記範囲を越えると、フィルムの冷却が不均一になり、光学的特性が不均一になる傾向がある。また、ベースフィルムの厚みが上記範囲を下回ると、延伸倍率が過大になり、ヘーズが悪化する傾向がある。   On the other hand, when the thickness of the base film exceeds the above range, the cooling of the film becomes non-uniform and the optical characteristics tend to be non-uniform. Moreover, when the thickness of a base film is less than the said range, a draw ratio will become excessive and there exists a tendency for haze to deteriorate.

本発明に係るベースフィルムは、ヘーズが1%以下であることが好ましく、0.7%以下であることがより好ましく、0.5%以下であることがさらに好ましい。   The base film according to the present invention preferably has a haze of 1% or less, more preferably 0.7% or less, and further preferably 0.5% or less.

本発明に係るベースフィルムは、全光線透過率が85%以上であることが好ましく、88%以上であることがより好ましい。   The base film according to the present invention preferably has a total light transmittance of 85% or more, and more preferably 88% or more.

全光線透過率が、上記範囲内であれば、フィルムの透明性を高いものとすることができる。それゆえ、本発明に係るベースフィルムを、透明性が要求される用途に好適に用いることができる。   If the total light transmittance is within the above range, the transparency of the film can be increased. Therefore, the base film according to the present invention can be suitably used for applications requiring transparency.

また、本発明に係るベースフィルムは、最終的に得られる光学補償フィルムの位相差と光学異方性層の位相差を鑑みると、波長550nmの面内レターデーションRe(550)が0〜10nmであり、波長550nmの厚さ方向のレターデーションRth(550)が30〜150nmであることが好ましい。   In addition, the base film according to the present invention has an in-plane retardation Re (550) of 0 to 10 nm at a wavelength of 550 nm in view of the retardation of the optical compensation film finally obtained and the retardation of the optically anisotropic layer. The retardation Rth (550) in the thickness direction at a wavelength of 550 nm is preferably 30 to 150 nm.

このような光学特性を有する構成とすれば、本発明に係るベースフィルムを、液晶表示装置の偏光板に備える光学補償フィルムとして用いることができる。   If it is set as the structure which has such an optical characteristic, the base film which concerns on this invention can be used as an optical compensation film with which the polarizing plate of a liquid crystal display device is equipped.

一方、ベースフィルムのRe及びRthが上記範囲を超えると、得られる光学補償フィルムを液晶表示装置に組み込んだ場合、液晶表示装置においてコントラストが低下するなどの問題が発生する場合がある。   On the other hand, if the Re and Rth of the base film exceed the above ranges, problems such as a decrease in contrast may occur in the liquid crystal display device when the obtained optical compensation film is incorporated in the liquid crystal display device.

なお、面内位相差(Re)および厚み方向位相差(Rth)は、それぞれ、以下の式により算出することができる。つまり、3次元方向について完全光学等方である理想的なフィルムでは、面内位相差Re、厚み方向位相差Rthともに0となる。   The in-plane retardation (Re) and the thickness direction retardation (Rth) can be calculated by the following equations, respectively. That is, in an ideal film that is completely optically isotropic in the three-dimensional direction, both the in-plane retardation Re and the thickness direction retardation Rth are zero.

Re=(nx−ny)×d
Rth=|(nx+ny)/2−nz|×d
なお、上記式中において、nx、ny、およびnzは、それぞれ、面内屈折率が最大となる方向をX軸、X軸に垂直な方向をY軸、フィルムの厚さ方向をZ軸とし、それぞれの軸方向の屈折率を表す。また、dはフィルムの厚さ、||は絶対値を表す。
Re = (nx−ny) × d
Rth = | (nx + ny) / 2−nz | × d
In the above formula, nx, ny, and nz are respectively the direction in which the in-plane refractive index is the maximum as the X axis, the direction perpendicular to the X axis as the Y axis, and the thickness direction of the film as the Z axis. Represents the refractive index in each axial direction. D represents the thickness of the film, and || represents an absolute value.

本発明に係るベースフィルムは、光弾性係数の絶対値が、20×10-122/N以下であることが好ましく、10×10-122/N以下であることがより好ましく、5×10-122/N以下であることがさらに好ましい。 In the base film according to the present invention, the absolute value of the photoelastic coefficient is preferably 20 × 10 −12 m 2 / N or less, more preferably 10 × 10 −12 m 2 / N or less. It is more preferable that it is not more than × 10 −12 m 2 / N.

光弾性係数が上記範囲内であれば、本発明に係るフィルムを液晶表示装置に用いても、位相差ムラが発生したり、表示画面周辺部のコントラストが低下したり、光漏れが発生したりすることがない。   If the photoelastic coefficient is within the above range, even if the film according to the present invention is used in a liquid crystal display device, phase difference unevenness occurs, contrast in the periphery of the display screen decreases, or light leakage occurs. There is nothing to do.

一方、光弾性係数の絶対値が20×10-122/Nより大きいと、本発明に係るフィルムを液晶表示装置に用いた場合、位相差ムラが発生したり、表示画面周辺部のコントラストが低下したり、光漏れが発生しやすくなったりする傾向がある。この傾向は、高温多湿環境下において、特に顕著となる。 On the other hand, if the absolute value of the photoelastic coefficient is larger than 20 × 10 −12 m 2 / N, when the film according to the present invention is used for a liquid crystal display device, phase difference unevenness occurs or the contrast of the peripheral portion of the display screen is increased. Tends to decrease or light leakage tends to occur. This tendency becomes particularly remarkable in a high temperature and high humidity environment.

なお、等方性の固体に外力を加えて応力(△F)を発生させると、一時的に光学異方性を呈し、複屈折(△n)を示すようになるが、本明細書において、「光弾性係数」とは、その応力と複屈折との比が意図される。すなわち、光弾性係数(c)は、以下の式により算出される。   In addition, when an external force is applied to an isotropic solid to generate stress (ΔF), it temporarily exhibits optical anisotropy and exhibits birefringence (Δn). By “photoelastic coefficient” is intended the ratio of stress to birefringence. That is, the photoelastic coefficient (c) is calculated by the following equation.

c=△n/△F
ただし、本発明において、光弾性係数はセナルモン法により、波長515nmにて、23℃、50%RHにおいて測定した値である。
c = △ n / △ F
However, in the present invention, the photoelastic coefficient is a value measured at 23 ° C. and 50% RH at a wavelength of 515 nm by the Senarmon method.

(配向膜)
本発明に係る配向膜は、従来既知の無機または有機の配向膜を好適に用いることが可能である。無機の配向膜としてはSiO斜方蒸着膜が、また有機の配向膜としてはラビングされたポリイミド膜が代表的なものであるが、その他ラビングした変性ポバールやラビングしたシリル化剤で処理したガラス基板またはラビングしたゼラチン膜などを用いても良い。
(Alignment film)
As the alignment film according to the present invention, a conventionally known inorganic or organic alignment film can be suitably used. Typical examples of inorganic alignment films are SiO oblique deposition films, and organic alignment films are rubbed polyimide films, but other glass substrates treated with rubbed modified poval or rubbed silylating agents. Alternatively, a rubbed gelatin film or the like may be used.

(液晶組成物)
本発明に係る液晶組成物は、低分子液晶物質、高分子液晶物質を問わず広い範囲から選定することができる。さらに液晶物質の分子形状は、棒状であるか円盤状であるかを問わない。例えば、ディスコティックネマチック液晶性を示すディスコティック液晶化合物も使用することができる。また、当該液晶組成物は、架橋による高分子化などの後処理を行っても良い。
(Liquid crystal composition)
The liquid crystal composition according to the present invention can be selected from a wide range regardless of a low molecular liquid crystal material or a high molecular liquid crystal material. Furthermore, the molecular shape of the liquid crystal substance may be a rod shape or a disk shape. For example, a discotic liquid crystal compound exhibiting a discotic nematic liquid crystal property can also be used. In addition, the liquid crystal composition may be subjected to post-treatment such as polymerization by cross-linking.

本発明に係る液晶組成物の液晶相としては、ネマチック相、ねじれネマチック相、コレステリック相、スメクチック相、ディスコティックネマチック相等が挙げられる。また、配向状態としては、配向基板に水平に配向するホモジニアス配向や垂直に配向するホメオトロピック配向、両者の中間状態と考えられるチルト配向やハイブリッド配向が例示される。   Examples of the liquid crystal phase of the liquid crystal composition according to the present invention include a nematic phase, a twisted nematic phase, a cholesteric phase, a smectic phase, and a discotic nematic phase. Examples of the alignment state include a homogeneous alignment that is horizontally aligned on the alignment substrate, a homeotropic alignment that is aligned vertically, and a tilt alignment and a hybrid alignment that are considered to be an intermediate state therebetween.

低分子液晶物質としては、飽和ベンゼンカルボン酸類、不飽和ベンゼンカルボン酸類、ビフェニルカルボン酸類、芳香族オキシカルボン酸類、シッフ塩基型類、ビスアゾメチン化合物類、アゾ化合物類、アゾキシ化合物類、シクロヘキサンエステル化合物類、ステロール化合物類などの末端に前記反応性官能基を導入した液晶性を示す化合物や前記化合物類のなかで液晶性を示す化合物に架橋性化合物を添加した組成物などが挙げられる。   Low molecular liquid crystal substances include saturated benzene carboxylic acids, unsaturated benzene carboxylic acids, biphenyl carboxylic acids, aromatic oxycarboxylic acids, Schiff base types, bisazomethine compounds, azo compounds, azoxy compounds, cyclohexane ester compounds Examples thereof include a compound exhibiting liquid crystallinity in which the reactive functional group is introduced at the terminal, such as sterol compounds, and a composition obtained by adding a crosslinkable compound to a compound exhibiting liquid crystallinity among the compounds.

また、ディスコティック液晶化合物としては、トリフェニレン系、トルクセン系等が挙げられる。   Examples of the discotic liquid crystal compound include triphenylene and torquesen.

高分子液晶物質としては、各種の主鎖型高分子液晶物質、側鎖型高分子液晶物質、またはこれらの混合物(組成物)を用いることができる。   As the polymer liquid crystal substance, various main chain type polymer liquid crystal substances, side chain type polymer liquid crystal substances, or a mixture (composition) thereof can be used.

(光学補償フィルム)
本発明に係る光学補償フィルムは、ベースフィルム、配向膜及び液晶組成物から形成された光学異方性層をこの順で積層されていることが必須である。
(Optical compensation film)
In the optical compensation film according to the present invention, it is essential that an optically anisotropic layer formed of a base film, an alignment film, and a liquid crystal composition is laminated in this order.

ここで、本発明に係るベースフィルムを製造する方法の一実施形態について説明するが、本発明はこれに限定されない。つまり、本発明に係る熱可塑性樹脂組成物を成形してフィルムを製造できる方法であれば、従来公知のあらゆる方法を用いることができる。   Here, although one Embodiment of the method to manufacture the base film which concerns on this invention is described, this invention is not limited to this. That is, any conventionally known method can be used as long as it is a method capable of producing a film by molding the thermoplastic resin composition according to the present invention.

具体的には、例えば、射出成形、溶融押出フィルム成形、インフレーション成形、ブロー成形、圧縮成形、紡糸成形等を挙げることができる。   Specific examples include injection molding, melt extrusion film molding, inflation molding, blow molding, compression molding, and spinning molding.

また、本発明に係る熱可塑性樹脂組成物を溶解可能な溶剤に溶解させた後、成形させる溶液流延法やスピンコート法によって、本発明に係るベースフィルムを製造することができる。   Further, the base film according to the present invention can be produced by a solution casting method or a spin coating method in which the thermoplastic resin composition according to the present invention is dissolved in a soluble solvent and then molded.

中でも、溶剤を使用しない溶融押出法を用いることが好ましい。溶融押出法によれば、製造コストや溶剤による地球環境や作業環境への負荷を低減することができる。   Among them, it is preferable to use a melt extrusion method that does not use a solvent. According to the melt extrusion method, it is possible to reduce the burden on the global environment and the working environment due to manufacturing costs and solvents.

また、本発明に係る熱可塑性樹脂組成物を用いるため、Tダイ製膜を用いるような高温での成形条件下でも、紫外線吸収剤の飛散による成形機の汚染やフィルム欠陥を発生させることなく、ベースフィルムを製造することができる。   In addition, because the thermoplastic resin composition according to the present invention is used, even under molding conditions at high temperatures such as using T-die film formation, without causing contamination of the molding machine or film defects due to scattering of the UV absorber, A base film can be produced.

以下、本発明に係るフィルムの製造方法の一実施形態として、本発明に係る熱可塑性樹脂組成物を溶融押出法により成形してフィルムを製造する方法について詳細に説明する。なお、以下の説明では、溶融押出法で成形されたフィルムを、溶液流延法等の他の方法で成形されたフィルムと区別して、「溶融押出フィルム」と称する。   Hereinafter, as an embodiment of the method for producing a film according to the present invention, a method for producing a film by molding the thermoplastic resin composition according to the present invention by a melt extrusion method will be described in detail. In the following description, a film formed by the melt extrusion method is distinguished from a film formed by another method such as a solution casting method and is referred to as a “melt extrusion film”.

本発明に係る熱可塑性樹脂組成物を溶融押出法によりフィルムに成形する場合、まず、本発明に係る熱可塑性樹脂組成物を、押出機に供給し、該熱可塑性樹脂組成物を加熱溶融させる。   When the thermoplastic resin composition according to the present invention is formed into a film by a melt extrusion method, first, the thermoplastic resin composition according to the present invention is supplied to an extruder, and the thermoplastic resin composition is heated and melted.

熱可塑性樹脂組成物は、押出機に供給する前に、予備乾燥することが好ましい。このような予備乾燥を行うことにより、押出機から押し出される樹脂の発泡を防ぐことができる。   The thermoplastic resin composition is preferably pre-dried before being supplied to the extruder. By performing such preliminary drying, foaming of the resin extruded from the extruder can be prevented.

予備乾燥の方法は特に限定されるものではないが、例えば、原料(すなわち、本発明に係る熱可塑性樹脂組成物)をペレット等の形態にして、熱風乾燥機等を用いて行うことができる。   Although the method of preliminary drying is not particularly limited, for example, the raw material (that is, the thermoplastic resin composition according to the present invention) can be formed into pellets and the like and can be performed using a hot air dryer or the like.

次に、押出機内で加熱溶融された熱可塑性樹脂組成物を、ギアポンプやフィルターを通して、Tダイに供給する。このとき、ギアポンプを用いれば、樹脂の押出量の均一性を向上させ、厚みムラを低減させることができる。一方、フィルターを用いれば、熱可塑性樹脂組成物中の異物を除去し、欠陥の無い外観に優れたフィルムを得ることができる。   Next, the thermoplastic resin composition heated and melted in the extruder is supplied to the T die through a gear pump and a filter. At this time, if a gear pump is used, the uniformity of the extrusion amount of the resin can be improved and thickness unevenness can be reduced. On the other hand, if a filter is used, the foreign material in a thermoplastic resin composition can be removed and the film excellent in the external appearance without a defect can be obtained.

次に、Tダイに供給された熱可塑性樹脂組成物を、シート状の溶融樹脂として、Tダイから押し出す。そして、該シート状の溶融樹脂を2つの冷却ロールで挟み込んで冷却し、フィルムを成膜する。   Next, the thermoplastic resin composition supplied to the T die is extruded from the T die as a sheet-like molten resin. Then, the sheet-like molten resin is sandwiched between two cooling rolls and cooled to form a film.

上記シート状の溶融樹脂を挟み込む2つの冷却ロールの内、一方は、表面が平滑な剛体性の金属ロールであり、もう一方は、表面が平滑な弾性変形可能な金属製弾性外筒を備えたフレキシブルロールであることが好ましい。   One of the two cooling rolls sandwiching the sheet-like molten resin is a rigid metal roll having a smooth surface, and the other has a metal elastic outer cylinder having a smooth surface and capable of elastic deformation. A flexible roll is preferred.

このような剛体性の金属ロールと金属製弾性外筒を備えたフレキシブルロールとで、上記シート状の溶融樹脂を挟み込んで冷却して成膜することにより、表面の微小な凹凸やダイライン等が矯正されて、表面が平滑で厚みムラが5μm以下であるフィルムを得ることができる。   With such a rigid metal roll and a flexible roll equipped with a metal elastic outer cylinder, the sheet-like molten resin is sandwiched and cooled to form a film, thereby correcting minute surface irregularities and die lines. Thus, a film having a smooth surface and thickness unevenness of 5 μm or less can be obtained.

なお、本明細書において、「冷却ロール」とは、「タッチロール」および「冷却ロール」を包含する意味で用いられる。   In this specification, “cooling roll” is used to mean “touch roll” and “cooling roll”.

上記剛体性の金属ロールとフレキシブルロールとを用いる場合であっても、何れの冷却ロールも表面が金属であるため、成膜するフィルムが薄いと、冷却ロールの面同士が接触して、冷却ロールの外面に傷が付いたり、冷却ロールそのものが破損したりすることがある。   Even when the rigid metal roll and the flexible roll are used, since the surface of each cooling roll is metal, when the film to be formed is thin, the surfaces of the cooling roll come into contact with each other. The outer surface may be scratched, or the cooling roll itself may be damaged.

そのため、上説したような2つの冷却ロールでシート状の溶融樹脂を挟み込んで成膜する場合、まず、該2つの冷却ロールで、シート状の溶融樹脂を挟み込んで冷却し、比較的厚みの厚い原料フィルムを一旦取得する。その後、該原料フィルムを、一軸延伸または二軸延伸して所定の厚みのフィルムを製造することが好ましい。   Therefore, when forming a film by sandwiching the sheet-like molten resin between the two cooling rolls as described above, first, the sheet-like molten resin is sandwiched and cooled by the two cooling rolls, and the film is relatively thick. Obtain raw material film once. Thereafter, the raw film is preferably uniaxially or biaxially stretched to produce a film having a predetermined thickness.

より具体的に説明すると、厚み40μmのフィルムを製造する場合、また、上記2つの冷却ロールで、シート状の溶融樹脂を挟み込んで冷却し、一旦、厚み150μmの原料フィルムを取得する。その後、該原料フィルムを縦横二軸延伸により延伸させ、厚み40μmのフィルムを製造すればよい。   More specifically, when a film having a thickness of 40 μm is manufactured, the sheet-like molten resin is sandwiched and cooled by the two cooling rolls, and a raw material film having a thickness of 150 μm is once obtained. Then, the raw material film may be stretched by vertical and horizontal biaxial stretching to produce a film having a thickness of 40 μm.

このように、本発明に係るフィルムが延伸フィルムである場合、本発明に係る熱可塑性樹脂組成物を一旦、未延伸状態の原料フィルムに成形し、その後、一軸延伸または二軸延伸を行うことにより、延伸フィルムを製造することができる。   Thus, when the film according to the present invention is a stretched film, the thermoplastic resin composition according to the present invention is once formed into an unstretched raw material film, and then subjected to uniaxial stretching or biaxial stretching. A stretched film can be produced.

本明細書では、説明の便宜上、本発明に係る熱可塑性樹脂組成物をフィルム状に成形した後、延伸を施す前のフィルム、すなわち未延伸状態のフィルムを「原料フィルム」と称する。なお、該原料フィルムもまた、本発明に係るフィルムの一実施形態であることを付言しておく。   In the present specification, for convenience of explanation, a film before being stretched after the thermoplastic resin composition according to the present invention is formed into a film shape, that is, an unstretched film is referred to as a “raw film”. It should be noted that the raw film is also an embodiment of the film according to the present invention.

原料フィルムを延伸する場合、原料フィルムを成形後、直ちに、該原料フィルムの延伸を連続的に行ってもよいし、原料フィルムを成形後、一旦、保管または移動させて、該原料フィルムの延伸を行ってもよい。   When stretching the raw material film, the raw material film may be stretched immediately after the raw material film is formed, or after the raw material film is molded, the raw material film is temporarily stored or moved to stretch the raw material film. You may go.

なお、原料フィルムに成形後、直ちに該原料フィルムを延伸する場合、フィルムの製造工程において、原料フィルムの状態が非常に短時間(場合によっては、瞬間
また、上記原料フィルムは、その後、延伸される場合、延伸されるのに充分な程度のフィルム状を維持していればよく、完全なフィルムの状態である必要はない。また、上記原料フィルムは、完成品であるフィルムとしての性能を有していなくてもよい。
In addition, when the raw material film is stretched immediately after being formed into the raw material film, the state of the raw material film is very short (in some cases, instantaneous in some cases). In this case, it is only necessary to maintain a film shape sufficient to be stretched, and it is not necessary to be in a complete film state, and the raw material film has performance as a film as a finished product. It does not have to be.

原料フィルムを延伸する方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の任意の延伸方法を用いればよい。具体的には、例えば、テンターを用いた横延伸、ロールを用いた縦延伸、及びこれらを逐次組み合わせた逐次二軸延伸等を用いることができる。   The method for stretching the raw material film is not particularly limited, and any conventionally known stretching method may be used. Specifically, for example, transverse stretching using a tenter, longitudinal stretching using a roll, sequential biaxial stretching in which these are sequentially combined, and the like can be used.

また、縦と横とを同時に延伸する同時二軸延伸方法を用いたり、ロール縦延伸を行った後、テンターによる横延伸を行う方法を用いたりすることもできる。   Moreover, the simultaneous biaxial stretching method which extends | stretches the length and the width | variety simultaneously can be used, or the method of performing the horizontal extending | stretching by a tenter can be used after performing roll vertical stretching.

原料フィルムを延伸するとき、原料フィルムを一旦、延伸温度より0.5℃〜5℃、好ましくは1℃〜3℃高い温度まで予熱した後、延伸温度まで冷却して延伸することが好ましい。   When the raw material film is stretched, it is preferable that the raw material film is once preheated to a temperature 0.5 to 5 ° C, preferably 1 to 3 ° C higher than the stretching temperature, and then cooled to the stretching temperature and stretched.

上記範囲内で予熱することにより、原料フィルムの厚みを精度よく保つことができ、また、延伸フィルムの厚み精度が低下したり、厚みムラが生じたりすることがない。また、原料フィルムがロールに貼り付いたり、自重で弛んだりすることがない。   By preheating within the above range, the thickness of the raw material film can be maintained with high accuracy, and the thickness accuracy of the stretched film does not decrease and thickness unevenness does not occur. Further, the raw material film does not stick to the roll and does not loosen due to its own weight.

一方、原料フィルムの予熱温度が高すぎると、原料フィルムがロールに貼り付いたり、自重で弛んだりするといった弊害が発生する傾向にある。また、原料フィルムの予熱温度と延伸温度との差が小さいと、延伸前の原料フィルムの厚み精度を維持しにくくなったり、厚みムラが大きくなったり、厚み精度が低下したりする傾向がある。   On the other hand, if the preheating temperature of the raw material film is too high, there is a tendency that the raw material film sticks to the roll or is loosened by its own weight. In addition, if the difference between the preheating temperature and the stretching temperature of the raw material film is small, it tends to be difficult to maintain the thickness accuracy of the raw material film before stretching, the thickness unevenness increases, or the thickness accuracy tends to decrease.

なお、本発明に係る熱可塑性樹脂組成物は、原料フィルムに成形後、延伸する際、ネッキング現象を利用して、厚み精度を改善することが困難である。したがって、本発明では、上記予熱温度の管理を行うことは、得られるフィルムの厚み精度を維持したり、改善したりするためには重要となる。   In addition, when the thermoplastic resin composition according to the present invention is stretched after being formed into a raw material film, it is difficult to improve the thickness accuracy by utilizing a necking phenomenon. Therefore, in the present invention, it is important to manage the preheating temperature in order to maintain or improve the thickness accuracy of the obtained film.

原料フィルムを延伸するときの延伸温度は、特に限定されるものではなく、製造する延伸フィルムに要求される機械的強度、表面性、および厚み精度等に応じて、変更すればよい。   The stretching temperature when stretching the raw material film is not particularly limited, and may be changed according to the mechanical strength, surface property, thickness accuracy, and the like required for the stretched film to be produced.

一般的には、DSC法によって求めた原料フィルムのガラス転移温度をTgとした時に、(Tg−30℃)〜(Tg+30℃)の温度範囲とすることが好ましく、(Tg−20℃)〜(Tg+20℃)の温度範囲とすることがより好ましく、(Tg)〜(Tg+20℃)の温度範囲とすることがさらに好ましい。   In general, when the glass transition temperature of the raw material film obtained by the DSC method is defined as Tg, the temperature range is preferably (Tg-30 ° C) to (Tg + 30 ° C), and (Tg-20 ° C) to ( Tg + 20 ° C. is more preferable, and a temperature range of (Tg) to (Tg + 20 ° C.) is more preferable.

延伸温度が上記温度範囲内であれば、得られる延伸フィルムの厚みムラを低減し、さらに、伸び率、引裂伝播強度、および耐揉疲労等の力学的性質を良好なものとすることができる。また、フィルムがロールに粘着するといったトラブルの発生を防止することができる。   When the stretching temperature is within the above temperature range, thickness unevenness of the obtained stretched film can be reduced, and mechanical properties such as elongation, tear propagation strength, and fatigue resistance can be improved. Moreover, generation | occurrence | production of the trouble that a film adheres to a roll can be prevented.

一方、延伸温度が上記温度範囲よりも高くなると、得られる延伸フィルムの厚みムラが大きくなったり、伸び率、引裂伝播強度、および耐揉疲労等の力学的性質が十分に改善できなかったりする傾向がある。さらに、フィルムがロールに粘着するといったトラブルが発生しやすくなる傾向がある。   On the other hand, when the stretching temperature is higher than the above temperature range, the thickness unevenness of the stretched film obtained tends to be large, and the mechanical properties such as elongation, tear propagation strength, and fatigue resistance cannot be improved sufficiently. There is. Furthermore, there is a tendency that troubles such as the film sticking to the roll tend to occur.

また、延伸温度が上記温度範囲よりも低くなると、得られる延伸フィルムのヘーズが大きくなったり、極端な場合には、フィルムが裂けたり、割れたりするといった工程上の問題が発生したりする傾向がある。   In addition, when the stretching temperature is lower than the above temperature range, the haze of the stretched film to be obtained becomes large, or in extreme cases, there is a tendency that process problems such as tearing or cracking of the film occur. is there.

上記原料フィルムを延伸する場合、その延伸倍率もまた、特に限定されるものではなく、製造する延伸フィルムの機械的強度、表面性、および厚み精度等に応じて、決定すればよい。延伸温度にも依存するが、延伸倍率は、一般的には、1.1倍〜3倍の範囲で選択することが好ましく、1.3倍〜2.5倍の範囲で選択することがより好ましく、1.5倍〜2.3倍の範囲で選択することがさらに好ましい。   When the raw material film is stretched, the stretch ratio is not particularly limited, and may be determined according to the mechanical strength, surface properties, thickness accuracy, and the like of the stretched film to be produced. Although it depends on the stretching temperature, the stretching ratio is generally preferably selected in the range of 1.1 to 3 times, more preferably in the range of 1.3 to 2.5 times. Preferably, it is more preferable to select in the range of 1.5 times to 2.3 times.

延伸倍率が上記範囲内であれば、フィルムの伸び率、引裂伝播強度、および耐揉疲労等の力学的性質を大幅に改善することができる。それゆえ、厚みムラが5μm以下であり、複屈折が実質的にゼロであり、さらに、ヘーズが1%以下である延伸フィルムを製造することができる。   If the draw ratio is within the above range, the mechanical properties such as the film elongation, tear propagation strength, and fatigue resistance can be greatly improved. Therefore, a stretched film having a thickness unevenness of 5 μm or less, a birefringence of substantially zero, and a haze of 1% or less can be produced.

また、本発明に係る樹脂組成物において、熱可塑性樹脂と紫外線吸収剤との混合割合を上説した範囲で調整し、適切な延伸条件を選択することにより、実質的に複屈折を生じさせることなく、かつ、ヘーズの増大を実質的に伴うことなく、厚みムラの小さなフィルムを容易に製造することができる。   Further, in the resin composition according to the present invention, the mixing ratio of the thermoplastic resin and the ultraviolet absorber is adjusted within the above-described range, and appropriate birefringence is generated by selecting appropriate stretching conditions. In addition, a film with small thickness unevenness can be easily manufactured without substantially increasing haze.

次いで、当該ベースフィルムに、配向膜を形成する。配向膜を形成する前に、ベースフィルムと配向膜の接着性を向上させる目的で、ベースフィルムに、プライマー処理、ケン化処理、コロナ処理、プラズマ処理などの表面改質手段を用いても良い。   Next, an alignment film is formed on the base film. Before the alignment film is formed, surface modification means such as primer treatment, saponification treatment, corona treatment, or plasma treatment may be used for the base film in order to improve the adhesion between the base film and the alignment film.

配向膜は、斜方蒸着、コーティング、貼合など、用いる配向膜に応じて形成する方法を選ぶことができる。また、配向膜の形成後、熱処理、光照射、ラビングなどの後処理を加えても良い。   A method for forming the alignment film can be selected according to the alignment film to be used, such as oblique vapor deposition, coating, and bonding. Further, after the alignment film is formed, a post-treatment such as heat treatment, light irradiation, or rubbing may be added.

光学異方性層は、配向膜形成後、コーティング、蒸着などの方法で形成される。形成後、光や熱による配向処理、高分子化処理などの後処理を加えることも適宜選択され得る。   The optically anisotropic layer is formed by a method such as coating or vapor deposition after forming the alignment film. After the formation, addition of post-treatment such as alignment treatment with light or heat or polymerization treatment may be appropriately selected.

本発明に係る光学補償フィルムは、偏光子に貼り合わせて、偏光板として用いることができる。上記偏光子は、特に限定されるものではなく、従来公知の任意の偏光子を用いることができる。具体的には、例えば、延伸されたポリビニルアルコールにヨウ素を含有させて得た偏光子等を挙げることができる。   The optical compensation film according to the present invention can be attached to a polarizer and used as a polarizing plate. The polarizer is not particularly limited, and any conventionally known polarizer can be used. Specific examples include a polarizer obtained by containing iodine in stretched polyvinyl alcohol.

なお本発明は、以上説示した各構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   The present invention is not limited to the configurations described above, and various modifications can be made within the scope of the claims, and the technical means disclosed in different embodiments are appropriately combined. The obtained embodiment is also included in the technical scope of the present invention.

本発明について、実施例および比較例に基づいてより具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。当業者は本発明の範囲を逸脱することなく、種々の変更、修正、および改変を行うことができる。   The present invention will be described more specifically based on examples and comparative examples, but the present invention is not limited to this. Those skilled in the art can make various changes, modifications, and alterations without departing from the scope of the present invention.

(イミド化率の算出)
1H−NMR BRUKER AvanceIII(400MHz)を用いて、樹脂の1H−NMR測定を行った。3.5から3.8ppm付近のメタクリル酸メチルのO−CH3プロトン由来のピークの面積Aと、3.0から3.3ppm付近のグルタルイミドのN−CH3プロトン由来のピークの面積Bより、次式で求めた。
(Calculation of imidization rate)
1 using a H-NMR BRUKER AvanceIII (400MHz) , result of 1 H-NMR measurement of the resin. From the area A of the peak derived from the O-CH 3 proton of methyl methacrylate in the vicinity of 3.5 to 3.8 ppm and the area B of the peak derived from the N-CH 3 proton of glutarimide in the vicinity of 3.0 to 3.3 ppm. Was obtained by the following equation.

Im%=B/(A+B)×100
なお、ここで、「イミド化率」とは全カルボニル基中のイミドカルボニル基の占める割合をいう。
Im% = B / (A + B) × 100
Here, the “imidization rate” refers to the ratio of the imide carbonyl group in the total carbonyl group.

(面内位相差Reおよび厚み方向位相差Rth測定)
フィルムから、40mm×40mmの試験片を切り出した。この試験片を、自動複屈折計(王子計測株式会社製 KOBRA−WR)を用いて、温度23±2℃、湿度50±5%において、波長590nm、入射角0゜で面内位相差Reを測定した。
(In-plane retardation Re and thickness direction retardation Rth measurement)
A 40 mm × 40 mm test piece was cut out from the film. Using an automatic birefringence meter (KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Co., Ltd.), the in-plane retardation Re was measured at a temperature of 23 ± 2 ° C. and a humidity of 50 ± 5% at a wavelength of 590 nm and an incident angle of 0 °. It was measured.

デジマティックインジケーター(株式会社ミツトヨ製)を用いて測定した試験片の厚みd、および、アッベ屈折計(株式会社アタゴ製 3T)で測定した屈折率n、自動複屈折計で測定した波長590nm、面内位相差Reおよび40°傾斜方向の位相差値から3次元屈折率nx、ny、nz、を求め、厚み方向位相差 Rth=|(nx+ny)/2−nz|×d (||は絶対値を表す)を計算した。   The thickness d of the test piece measured using a digimatic indicator (manufactured by Mitutoyo Corporation), the refractive index n measured by an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd. 3T), the wavelength 590 nm measured by an automatic birefringence meter, and the surface The three-dimensional refractive index nx, ny, nz is obtained from the internal phase difference Re and the phase difference value in the 40 ° tilt direction, and the thickness direction phase difference Rth = | (nx + ny) / 2−nz | × d (|| is the absolute value) Represents).

(酸価測定)
樹脂0.3gを塩化メチレン37.5mLに溶解し、さらにメタノール37.5mLを加えた。次に0.1mmol%の水酸化ナトリウム水溶液5mLとフェノールフタレインのエタノール溶液数滴を加えた。次に0.1mmol%の塩酸を用いて逆滴定を行い、中和に要する塩酸の量から酸価を求めた。
(Acid value measurement)
0.3 g of the resin was dissolved in 37.5 mL of methylene chloride, and 37.5 mL of methanol was further added. Next, 5 mL of 0.1 mmol% sodium hydroxide aqueous solution and several drops of ethanol solution of phenolphthalein were added. Next, back titration was performed using 0.1 mmol% hydrochloric acid, and the acid value was determined from the amount of hydrochloric acid required for neutralization.

(実施例1)
原料の樹脂としてポリメタクリル酸メチル(分子量Mw105,000)、イミド化剤としてモノメチルアミンを用いて、イミド樹脂を製造した。
Example 1
An imide resin was produced using polymethyl methacrylate (molecular weight Mw 105,000) as a raw material resin and monomethylamine as an imidizing agent.

使用した押出機は口径15mmの噛合い型同方向回転式二軸押出機である。押出機の各温調ゾーンの設定温度を230〜280℃、スクリュー回転数は150rpmとした。ポリメタクリル酸メチル(以下、「メタクリル系樹脂」とも言う)を2kg/hrで供給し、ニーディングブロックによって樹脂を溶融、充満させた後、ノズルから樹脂に対して13.5重量部のモノメチルアミン(三菱ガス化学株式会社製)を注入した。反応ゾーンの末端にはリバースフライトを入れて樹脂を充満させた。反応後の副生成物および過剰のメチルアミンをベント口の圧力を−0.092MPaに減圧して除去した。押出機出口に設けられたダイスからストランドとして出てきた樹脂を、水槽で冷却した後、ペレタイザでペレット化することにより、イミド樹脂(I)を得た。   The extruder used was a meshing type co-rotating twin screw extruder having a diameter of 15 mm. The set temperature of each temperature control zone of the extruder was 230 to 280 ° C., and the screw rotation speed was 150 rpm. Polymethyl methacrylate (hereinafter also referred to as “methacrylic resin”) is supplied at 2 kg / hr, and the resin is melted and filled with a kneading block, and then 13.5 parts by weight of monomethylamine with respect to the resin from the nozzle (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) was injected. A reverse flight was placed at the end of the reaction zone to fill the resin. By-products and excess methylamine after the reaction were removed by reducing the pressure at the vent port to -0.092 MPa. After cooling the resin which came out as a strand from the die | dye provided in the extruder exit with the water tank, the imide resin (I) was obtained by pelletizing with a pelletizer.

次いで、口径15mmの噛合い型同方向回転式二軸押出機にて、押出機各温調ゾーンの設定温度を250℃、スクリュー回転数150rpmとした。ホッパーから得られたイミド樹脂(I)を1kg/hrで供給し、ニーディングブロックによって樹脂を溶融、充満させた後、ノズルから樹脂に対して8.0重量部の炭酸ジメチルと2.0重量部のトリエチルアミンの混合液を注入し樹脂中のカルボキシル基の低減を行った。反応ゾーンの末端にはリバースフライトを入れて樹脂を充満させた。反応後の副生成物および過剰の炭酸ジメチルをベント口の圧力を−0.092MPaに減圧して除去した。押出機出口に設けられたダイスからストランドとして出てきた樹脂を、水槽で冷却した後、ペレタイザでペレット化し、酸価を低減したイミド樹脂(II)を得た。   Next, in a meshing type co-rotating twin screw extruder having a diameter of 15 mm, the set temperature of each temperature control zone of the extruder was 250 ° C. and the screw rotation speed was 150 rpm. The imide resin (I) obtained from the hopper was supplied at 1 kg / hr, and the resin was melted and filled with a kneading block, and then 8.0 parts by weight of dimethyl carbonate and 2.0 wt. Part of the mixed solution of triethylamine was injected to reduce carboxyl groups in the resin. A reverse flight was placed at the end of the reaction zone to fill the resin. The by-product after reaction and excess dimethyl carbonate were removed by reducing the pressure at the vent port to -0.092 MPa. The resin that emerged as a strand from the die provided at the exit of the extruder was cooled in a water tank and then pelletized with a pelletizer to obtain an imide resin (II) having a reduced acid value.

さらに、イミド樹脂(II)を、口径15mmの噛合い型同方向回転式二軸押出機に、押出機各温調ゾーンの設定温度を230℃、スクリュー回転数150rpm、供給量1kg/hrの条件で投入した。ベント口の圧力を−0.095MPaに減圧して再び未反応の副原料などの揮発分を除去した。押出機出口に設けられたダイスからストランドとして出てきた脱揮したイミド樹脂を、水槽で冷却した後、ペレタイザでペレット化することにより、イミド樹脂(III)を得た。   Furthermore, the imide resin (II) is applied to a meshing type co-rotating twin-screw extruder having a diameter of 15 mm, the set temperature of each temperature control zone of the extruder is 230 ° C., the screw rotation speed is 150 rpm, and the supply amount is 1 kg / hr. I put it in. The vent port pressure was reduced to -0.095 MPa, and volatile components such as unreacted auxiliary materials were removed again. The devolatilized imide resin that emerged as a strand from the die provided at the outlet of the extruder was cooled in a water tank and then pelletized with a pelletizer to obtain an imide resin (III).

イミド樹脂(III)について、上記の方法に従って、イミド化率、ガラス転移温度、および酸価を測定した。その結果、イミド化率は50%、ガラス転移温度は145℃、酸価は0.01mmol/gであった。   For the imide resin (III), the imidization ratio, glass transition temperature, and acid value were measured according to the above-described method. As a result, the imidation ratio was 50%, the glass transition temperature was 145 ° C., and the acid value was 0.01 mmol / g.

得られたイミド樹脂を、100℃で5時間乾燥後、40mmφ単軸押出機と400mm幅のTダイとを用いて240℃で押し出すことにより得られたシート状の溶融樹脂を冷却ロールで冷却して幅300mm、厚み130μmの未延伸フィルムを得た。   The obtained imide resin was dried at 100 ° C. for 5 hours, and then the sheet-like molten resin obtained by extrusion at 240 ° C. using a 40 mmφ single-screw extruder and a 400 mm wide T-die was cooled with a cooling roll. An unstretched film having a width of 300 mm and a thickness of 130 μm was obtained.

このフィルムについて、ガラス転移温度より5℃ 高い温度で延伸倍率縦2.5倍、横2.0倍で逐次二軸延伸を行ない、ベースフィルムを作製した。   This film was successively biaxially stretched at a temperature 5 ° C. higher than the glass transition temperature at a draw ratio of 2.5 times in length and 2.0 times in width to produce a base film.

このベースフィルムの面内位相差は0nm、厚み方向位相差は100nmであった。   This base film had an in-plane retardation of 0 nm and a thickness direction retardation of 100 nm.

当該ベースフィルムの両面に放電量133w・min/m2でコロナ処理をした後、特表2008−533502号公報の実施例1−1に記載の方法で、当該フィルムに変性ポリビニルアルコールを主成分とする配向膜を設けた。次いで、配向膜にラビング処理を施した後、特表2008−533502号公報の実施例1−1第1光学異方性層Aの作製欄に記載の方法で、ディスコティック液晶組成物を主成分とする光学異方性層を設けることで、光学補償フィルムを作製した。 After corona treatment on both sides of the base film with a discharge amount of 133 w · min / m 2 , the modified polyvinyl alcohol is mainly contained in the film by the method described in Example 1-1 of JP-T-2008-533002. An alignment film was provided. Next, after the rubbing treatment is performed on the alignment film, the discotic liquid crystal composition is used as a main component by the method described in Example 1-1 Preparation of first optically anisotropic layer A in JP-T-2008-533502. An optical compensation film was prepared by providing an optically anisotropic layer.

次に、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。上記で作製した光学補償フィルムのベースフィルム側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光膜の片側に貼り付けた。次いで、富士フイルム社製Z−TACを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼付した。上述の手段で、偏光板を作製した。   Next, iodine was adsorbed on the stretched polyvinyl alcohol film to prepare a polarizing film. The base film side of the optical compensation film prepared above was attached to one side of the polarizing film using a polyvinyl alcohol-based adhesive. Next, Z-TAC manufactured by FUJIFILM Corporation was attached to the opposite side of the polarizing film using a polyvinyl alcohol-based adhesive. A polarizing plate was produced by the above-described means.

TN方式の液晶セルを装着した液晶表示装置を用意して出射光側の偏光板をはずし、代わりに上述の偏光板を、延伸フィルムが液晶セルの出射光側になるように液晶セルに貼り合わせた表示装置を作製した。表示画面を観察した結果、正面から見ても斜め方向から見ても色表示が変わることなく、良好な画像が得られた。   Prepare a liquid crystal display device equipped with a TN liquid crystal cell and remove the polarizing plate on the outgoing light side. Instead, attach the above polarizing plate to the liquid crystal cell so that the stretched film is on the outgoing light side of the liquid crystal cell. A display device was manufactured. As a result of observing the display screen, a good image was obtained without changing the color display when viewed from the front or from an oblique direction.

(実施例2)
モノメチルアミンの添加量を18部とした以外、実施例1と同様の手段でベースフィルム、偏光板、表示装置を作製した。
(Example 2)
A base film, a polarizing plate and a display device were produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of monomethylamine added was 18 parts.

イミド化率は66%、ガラス転移温度は153℃、酸価は0.01mmol/gであった。   The imidation ratio was 66%, the glass transition temperature was 153 ° C., and the acid value was 0.01 mmol / g.

表示画面を観察した結果、正面から見ても斜め方向から見ても色表示が変わることなく、良好な画像が得られた。   As a result of observing the display screen, a good image was obtained without changing the color display when viewed from the front or from an oblique direction.

(実施例3)
モノメチルアミンの添加量を10部とした以外、実施例1と同様の手段でベースフィルム、偏光板、表示装置を作製した。
(Example 3)
A base film, a polarizing plate and a display device were produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of monomethylamine added was 10 parts.

イミド化率は40%、ガラス転移温度は140℃、酸価は0.01mmol/gであった。   The imidation ratio was 40%, the glass transition temperature was 140 ° C., and the acid value was 0.01 mmol / g.

表示画面を観察した結果、正面から見ても斜め方向から見ても色表示が変わることなく、良好な画像が得られた。   As a result of observing the display screen, a good image was obtained without changing the color display when viewed from the front or from an oblique direction.

(比較例1)
実施例の光学補償フィルムの代わりに富士フイルム社製Z−TACを用いることを除いて、実施例1と同様の手段で偏光板及び当該偏光版を液晶セルに貼り合わせた表示装置を作製した。
(Comparative Example 1)
A display device in which the polarizing plate and the polarizing plate were bonded to a liquid crystal cell by the same means as in Example 1 except that Z-TAC manufactured by Fuji Film Co., Ltd. was used instead of the optical compensation film of Example was produced.

表示装置の表示画面を観察した結果、斜め方向から見た際、正面から見た時と色表示が異なっていた。   As a result of observing the display screen of the display device, when viewed from an oblique direction, the color display was different from that when viewed from the front.

Claims (5)

ベースフィルム、配向膜及び液晶組成物から形成された光学異方性層をこの順で有する光学補償フィルムであって、前記支持体が、ラクトン環単位、無水グルタル酸単位、グルタルイミド単位、N−置換マレイミド単位の少なくとも1つとメタクリル酸メチル単位とを含有するアクリル系樹脂からなることを特徴とする、光学補償フィルム。 An optical compensation film having an optically anisotropic layer formed of a base film, an alignment film and a liquid crystal composition in this order, wherein the support is a lactone ring unit, a glutaric anhydride unit, a glutarimide unit, N- An optical compensation film comprising an acrylic resin containing at least one substituted maleimide unit and a methyl methacrylate unit. ベースフィルムが、下記一般式(1)で表されるグルタルイミド単位とメタクリル酸メチル単位とを含有するイミド樹脂であることを特徴とする、請求項1に記載の光学補償フィルム。
Figure 2011081124
(式中、R1及びR2はそれぞれ独立に、水素または炭素数1〜8のアルキル基を示し、R3は炭素数1〜18のアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、または炭素数6〜10のアリール基を示す。)
The optical compensation film according to claim 1, wherein the base film is an imide resin containing a glutarimide unit represented by the following general formula (1) and a methyl methacrylate unit.
Figure 2011081124
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 3 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or 6 carbon atoms. Represents 10 to 10 aryl groups.)
ベースフィルムのイミド化率が30〜90%であることを特徴とする、請求項1〜2に記載の光学補償フィルム。 The optical compensation film according to claim 1, wherein the base film has an imidization ratio of 30 to 90%. ベースフィルムの面内位相差(Re)が−20〜20nm、厚み方向位相差(Rth)が50〜150nmであることを特徴とする、請求項1〜3記載の光学用フィルム。 The optical film according to claim 1, wherein the in-plane retardation (Re) of the base film is −20 to 20 nm and the thickness direction retardation (Rth) is 50 to 150 nm. 請求項4記載の光学補償フィルムを少なくとも1枚含むことを特徴とする、偏光板。 A polarizing plate comprising at least one optical compensation film according to claim 4.
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