JP2011064425A - Heat treatment device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat treatment device capable of preventing introduced gas from being mixed between regions. <P>SOLUTION: In the heat treatment device, the inside of a furnace is partitioned into a plurality of regions so that an atmosphere around a workpiece W is different in each of the regions, and the workpiece W is advanced to the partitioned regions in order, and heat treatment is applied to the workpiece W. The heat treatment device includes a gas introduction part 2 for supplying treatment gas in the respective partitioned regions, an exhausting part 3 for exhausting atmospheric gas in the plurality of the partitioned regions, and a purge gas supply part 7. The purge gas supply part 7 is disposed between the adjacent regions, and has injection ports 17a and 17b for injecting purge gas from the upper side to the lower side of the workpiece W. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、炉内を進行させながらワークを熱処理する熱処理装置に関する。   The present invention relates to a heat treatment apparatus for heat-treating a workpiece while moving in a furnace.

炉内でワークを熱処理する熱処理装置として、炉内が複数の領域に区画され、区画された領域毎でワークの周囲の雰囲気(温度やガス濃度等)を異ならせた状態で、前記各領域にワークをコンベアによって順次搬送することにより、当該ワークを熱処理する装置が知られている。
このような熱処理装置として、例えば特許文献1に示しているように、炉内で区画されたある領域におけるガス濃度を検出し、目標のガス濃度となるように、当該領域の前後に設けられた排気口の開度を制御する熱処理装置がある。
As a heat treatment apparatus for heat-treating the workpiece in the furnace, the furnace is divided into a plurality of regions, and the atmosphere (temperature, gas concentration, etc.) around the workpiece is different for each divided region. 2. Description of the Related Art An apparatus that heats a workpiece by sequentially conveying the workpiece by a conveyor is known.
As such a heat treatment apparatus, for example, as shown in Patent Document 1, the gas concentration in a certain region partitioned in the furnace is detected, and is provided before and after the region so as to be the target gas concentration. There is a heat treatment device that controls the opening degree of the exhaust port.

特開平8−60254号公報(図5参照)JP-A-8-60254 (see FIG. 5)

特許文献1に記載の装置によれば、炉内で区画された領域のガス濃度が、目標のガス濃度となるように制御されることから、当該領域の雰囲気を安定させることができる。
また、炉内でワークを熱処理する他の熱処理装置として、次のようなものが考えられる。すなわち、図6に示しているように、区画される複数の領域A1,A2・・・それぞれに所定の処理ガスを供給するガス導入部90と、区画される複数の領域A1,A2・・・それぞれからガスを排気する排気部91とを備え、ワークWの進行方向に関してガス導入部90の前後に排気部91,91が設けられている装置が考えられる。
この装置によれば、ガス導入部90によって所定の処理ガスを、例えば領域A1に供給し、この領域A1の前後から排気部91によってガスを排気することができる。この構成により、排気部91を境にして、領域毎で雰囲気が異なるように炉内を複数に区画しようとしている。
According to the apparatus described in Patent Document 1, since the gas concentration in the region partitioned in the furnace is controlled to be the target gas concentration, the atmosphere in the region can be stabilized.
Moreover, the following can be considered as another heat treatment apparatus for heat-treating the workpiece in the furnace. That is, as shown in FIG. 6, a plurality of partitioned areas A1, A2,..., A gas introduction unit 90 that supplies a predetermined processing gas to each of the partitioned areas A1, A2,. It is possible to consider an apparatus that includes an exhaust part 91 that exhausts gas from each of them, and is provided with exhaust parts 91 and 91 before and after the gas introduction part 90 in the traveling direction of the workpiece W.
According to this apparatus, a predetermined processing gas can be supplied to the region A1, for example, by the gas introduction unit 90, and the gas can be exhausted by the exhaust unit 91 from before and after the region A1. With this configuration, the inside of the furnace is divided into a plurality of regions with the exhaust portion 91 as a boundary so that the atmosphere is different for each region.

しかし、図6に示している装置の構成では、例えば領域A1のガスが、その上流側及び下流側の排気部91,91によって完全に排気されずに、領域A1のガスの一部が、上流側や下流側にある他の領域に流れてしまうおそれがある。この場合、例えば、領域A1のガスの一部が、他の領域A2のガスと混ざり、領域A2が全体として目的とする雰囲気(例えばガス種、組成、流量等)とすることができない。そうすると、ワークWに対して、領域A2で所望の熱処理を行うことができない。   However, in the configuration of the apparatus shown in FIG. 6, for example, the gas in the region A1 is not completely exhausted by the exhaust portions 91 and 91 on the upstream side and the downstream side, and a part of the gas in the region A1 is upstream. There is a risk of flowing to other regions on the side or downstream side. In this case, for example, part of the gas in the region A1 is mixed with the gas in the other region A2, and the region A2 as a whole cannot have a target atmosphere (for example, gas type, composition, flow rate, etc.). If it does so, desired heat processing cannot be performed with respect to the workpiece | work W in area | region A2.

また、図6に示しているように、処理ガスを供給するガス導入部90の導入口90aの前方及び後方に、ガスを排気するための排気部91の排気口91aが配置されているので、必要な熱処理に応じて、例えば、一つの領域A1における処理ガスの供給量を増加させると、その下流側の排気部91による排気量を増加させる必要が生じ、この排気量の増加が原因となってその下流側の領域A2の雰囲気に影響を与えてしまうおそれがある。つまり、従来の構成では、隣りの領域の影響を受けやすく、また、領域を個別に調整することができず、各領域におけるガスの導入と排気とのバランス調整、すなわち、領域毎の雰囲気の調整が難しい。   Further, as shown in FIG. 6, the exhaust port 91a of the exhaust unit 91 for exhausting the gas is disposed in front and rear of the introduction port 90a of the gas introduction unit 90 for supplying the processing gas. For example, when the supply amount of the processing gas in one region A1 is increased according to the necessary heat treatment, it is necessary to increase the exhaust amount by the exhaust unit 91 on the downstream side, and this increase in the exhaust amount is a cause. This may affect the atmosphere in the downstream area A2. In other words, the conventional configuration is easily affected by adjacent regions, and the regions cannot be individually adjusted, and the balance between the introduction and exhaust of gas in each region, that is, the adjustment of the atmosphere in each region. Is difficult.

したがって、このような熱処理装置では、区画する領域を分離(雰囲気を分離)する性能を高めることが望まれている。
そこで、本発明は、導入した処理ガスが領域間で混ざることを防止することが可能となる熱処理装置を提供することを目的とする。
Therefore, in such a heat treatment apparatus, it is desired to improve the performance of separating the partitioned areas (separating the atmosphere).
Therefore, an object of the present invention is to provide a heat treatment apparatus capable of preventing the introduced processing gas from being mixed between regions.

前記目的を達成するための本発明の熱処理装置は、ワークの周囲の雰囲気が領域毎で異なるように炉内が複数の領域に区画され、区画された各領域を順にワークが進行し当該ワークを熱処理する熱処理装置であって、区画される複数の前記領域それぞれに処理ガスを供給するガス導入部と、区画される複数の前記領域それぞれの雰囲気ガスを排気する排気部と、隣り合う前記領域間に設けられ前記ワークの上方から下方に向けてパージガスを噴出する噴出口を有しているパージガス供給部とを備えていることを特徴とする。   In order to achieve the above object, the heat treatment apparatus of the present invention is configured such that the furnace is partitioned into a plurality of regions so that the atmosphere around the workpieces is different for each region. A heat treatment apparatus for performing a heat treatment, wherein a gas introduction unit that supplies a processing gas to each of the plurality of partitioned regions, an exhaust unit that exhausts atmospheric gas of each of the plurality of partitioned regions, and the adjacent regions And a purge gas supply unit having a jet port for jetting purge gas from above to below the workpiece.

本発明によれば、パージガス供給部は、隣り合う領域間に設けられた噴出口からワークの上方から下方に向けてパージガスを噴出することにより、このパージガスによって隣り合う領域を分離して、隣り合う領域間でガスが混ざり合うことを防止することが可能となる。また、パージガスによる領域の分離は、例えばワークを載せて搬送するためのコンベアによる影響を受けずに効果的に行うことが可能となる。
そして、このようにパージガスによって分離した各領域において、ガス導入部が処理ガスを供給し、当該各領域それぞれの雰囲気ガスを排気部が排気することにより、各領域の雰囲気を所望の状態に維持することができる。
According to the present invention, the purge gas supply unit separates adjacent regions by the purge gas by ejecting the purge gas from the jet port provided between the adjacent regions from the upper side to the lower side of the workpiece, and is adjacent to the purge region. It is possible to prevent gas from being mixed between the regions. Further, the separation of the area by the purge gas can be effectively performed without being influenced by the conveyor for carrying and transferring the work, for example.
And in each area | region isolate | separated by purge gas in this way, a gas introduction part supplies process gas, and an exhaust part exhausts the atmospheric gas of each said area | region, and maintains the atmosphere of each area | region in a desired state. be able to.

また、本発明の前記構成によれば、領域毎にガス導入部及び排気部が設けられていて、前記パージガスによって分離した各領域は独立した状態とすることができ、さらに、一つの領域のガス導入部及び排気部は、他の領域のガス導入部及び排気部に対して独立して作動することにより、領域毎での処理ガスの導入と雰囲気ガスの排気とのバランス調整が可能となる。したがって、例えば必要な熱処理に応じて、一つの領域で処理ガスの供給量を変更しても、この変更に応じて当該一つの領域の排気部による雰囲気ガスの排気量を調整すればよい。このように、各領域における処理ガスの導入と雰囲気ガスの排気とのバランス調整、すなわち、領域毎の雰囲気の調整は容易となることから、一つの領域で処理ガスの供給量を変更しても、隣りの領域に与える影響を抑えることができ、各領域を分離した状態が保たれる。   Further, according to the configuration of the present invention, the gas introduction part and the exhaust part are provided for each region, and each region separated by the purge gas can be in an independent state. The introduction part and the exhaust part operate independently with respect to the gas introduction part and the exhaust part in other regions, so that it is possible to adjust the balance between the introduction of the processing gas and the exhaust of the atmospheric gas in each region. Therefore, for example, even if the supply amount of the processing gas is changed in one region according to the necessary heat treatment, the exhaust amount of the atmospheric gas by the exhaust part in the one region may be adjusted according to this change. As described above, since it is easy to adjust the balance between the introduction of the processing gas and the exhaust of the atmospheric gas in each region, that is, the adjustment of the atmosphere for each region, it is possible to change the supply amount of the processing gas in one region. The influence on adjacent regions can be suppressed, and the state where each region is separated is maintained.

また、前記ガス導入部において前記処理ガスを放出する導入口と、前記排気部において前記雰囲気ガスを吸引する排気口とは、前記ワークの進行方向に関して同じ区間に配置されているのが好ましい。
この場合、導入口から放出された処理ガスに由来する雰囲気ガスは、ワークの進行方向に関して同じ区間で、排気口から吸引されるので、当該雰囲気ガスが隣りの領域に侵入し難くなる。
Moreover, it is preferable that the introduction port for discharging the processing gas in the gas introduction unit and the exhaust port for sucking the atmospheric gas in the exhaust unit are arranged in the same section with respect to the traveling direction of the workpiece.
In this case, the atmospheric gas derived from the processing gas discharged from the inlet port is sucked from the exhaust port in the same section with respect to the traveling direction of the workpiece, so that the atmospheric gas does not easily enter the adjacent region.

また、前記ガス導入部による単位時間当たりの処理ガス供給量と、前記排気部による単位時間当たりの雰囲気ガス排気量とが、同等に設定されているのが好ましい。
例えば、雰囲気ガス排気量に比べて処理ガス供給量が多すぎると、ガスが隣りの領域に流れ込みやすくなるが、この構成によれば、この流れ込みを防ぐことが可能となる。
Further, it is preferable that the processing gas supply amount per unit time by the gas introduction unit and the atmospheric gas exhaust amount per unit time by the exhaust unit are set to be equal.
For example, if the processing gas supply amount is too large compared to the atmospheric gas exhaust amount, the gas easily flows into the adjacent region, but according to this configuration, it is possible to prevent this inflow.

また、前記パージガス供給部は、前記パージガスを噴出する第一の噴出口と、当該第一の噴出口よりもワークの進行方向下流側に設けられ前記パージガスを噴出する第二の噴出口と、前記第一の噴出口と前記第二の噴出口との間に設けられ前記パージガスを吸引する吸引口とを有しているのが好ましい。
この構成によれば、パージガスを噴出する第一の噴出口と第二の噴出口との間に吸引口が設けられているので、ワークを処理する領域に供給した処理ガスに由来する雰囲気ガスが、前記吸引口から排気されるのを防ぐことができる。
Further, the purge gas supply unit includes a first jet port for jetting the purge gas, a second jet port for jetting the purge gas provided downstream of the first jet port in the moving direction of the workpiece, It is preferable to have a suction port provided between the first jet port and the second jet port for sucking the purge gas.
According to this configuration, since the suction port is provided between the first jet port for ejecting the purge gas and the second jet port, the atmospheric gas derived from the processing gas supplied to the region for processing the workpiece is The exhaust from the suction port can be prevented.

また、この場合において、前記第一の噴出口と前記第二の噴出口とから噴出される前記パージガスの単位時間当たりのパージガス噴出量と、前記吸引口から吸引する前記パージガスの単位時間当たりのパージガス吸引量とが、同等に設定されているのが好ましい。
この場合、第一の噴出口及び第二の噴出口から噴出したパージガスの全てを、吸引口によって吸引しようとすることができるので、処理ガスが導入される領域にパージガスが流れるのを防ぐことができ、パージガスが当該領域の処理ガスに混ざって当該領域の雰囲気に影響を与えることを防ぐことができる。
In this case, the purge gas ejection amount per unit time of the purge gas ejected from the first ejection port and the second ejection port, and the purge gas per unit time of the purge gas sucked from the suction port The suction amount is preferably set to be equal.
In this case, since all the purge gas ejected from the first ejection port and the second ejection port can be sucked by the suction port, it is possible to prevent the purge gas from flowing into the region where the processing gas is introduced. It is possible to prevent the purge gas from being mixed with the processing gas in the region and affecting the atmosphere in the region.

本発明の熱処理装置によれば、パージガスによって隣り合う領域を分離する性能が高まるので、隣り合う領域間でガスが混ざり合うことを防止することが可能となり、各領域の雰囲気を所望の状態に維持することができる。このため、ワークに対して領域毎で所望の熱処理を行うことができる。
また、本発明の熱処理装置によれば、領域毎にガス導入部及び排気部が設けられていて、領域毎に雰囲気の調整が可能となることから、領域毎で理想的な雰囲気を実現することができ、隣り合う領域間での干渉が防止される。
そして、本発明は、雰囲気を領域毎に厳密に分離することが必要となる場合に特に有用となる。
According to the heat treatment apparatus of the present invention, the ability to separate adjacent regions with a purge gas is enhanced, so that it is possible to prevent gas from being mixed between adjacent regions, and the atmosphere in each region is maintained in a desired state. can do. For this reason, a desired heat treatment can be performed on the workpiece for each region.
Further, according to the heat treatment apparatus of the present invention, the gas introduction part and the exhaust part are provided for each region, and the atmosphere can be adjusted for each region, so that an ideal atmosphere can be realized for each region. And interference between adjacent regions is prevented.
The present invention is particularly useful when it is necessary to strictly separate the atmosphere for each region.

本発明の熱処理装置の一部を示している縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows a part of heat processing apparatus of this invention. 図1のII−II矢視の横断面図である。It is a cross-sectional view of the II-II arrow of FIG. 図1のIII−III矢視の横断面図である。It is a cross-sectional view of the III-III arrow of FIG. 図1のIV−IV矢視の横断面図である。It is a cross-sectional view of the IV-IV arrow of FIG. 熱処理炉内におけるワークの進行方向の位置と、当該位置での雰囲気ガスとの関係を示している説明図である。It is explanatory drawing which shows the relationship between the position of the advancing direction of the workpiece | work in a heat processing furnace, and atmospheric gas in the said position. 従来の熱処理装置の一部を示している縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows a part of conventional heat processing apparatus.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の熱処理装置の一部を示している縦断面図である。この熱処理装置は、一方向に長い熱処理炉(加熱室)1を備え、この熱処理炉1内に酸素等を含む処理ガスが供給され、当該処理ガスによって炉内に形成される雰囲気中でワーク(被処理物)Wが熱処理される。熱処理炉1内には、メッシュベルト9aを有するコンベア装置9が設けられていて、ワークWはメッシュベルト9aに載置された状態で搬送されながら、熱処理が行われる。なお、ワークWの進行方向(以下、ワーク進行方向という)と熱処理炉1の長手方向とは同方向である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a part of the heat treatment apparatus of the present invention. This heat treatment apparatus includes a heat treatment furnace (heating chamber) 1 that is long in one direction, a processing gas containing oxygen or the like is supplied into the heat treatment furnace 1, and a workpiece (in a atmosphere formed in the furnace by the processing gas ( The object to be processed (W) is heat-treated. A conveyor device 9 having a mesh belt 9a is provided in the heat treatment furnace 1, and the workpiece W is heat-treated while being conveyed while being placed on the mesh belt 9a. The traveling direction of the workpiece W (hereinafter referred to as the workpiece traveling direction) and the longitudinal direction of the heat treatment furnace 1 are the same direction.

図1に示している熱処理装置では、熱処理炉1の左側にワークWの投入口(図示せず)が設けられていて、右側にワークWの排出口(図示せず)が設けられている。ワークWは投入口から次々と投入され、これらワークWは熱処理炉1内で熱処理される。すなわち、この熱処理装置は連続式である。
熱処理炉1は、その内部が複数の領域A0,A1,A2・・・に区画されていて、領域A0,A1,A2・・・毎でワークWの周囲の温度と処理ガスによって領域内に形成される雰囲気とが異なるように調整可能として構成されている。そして、区画された各領域を順に前記コンベア装置9によってワークWが進行し、当該ワークWは各領域の温度と雰囲気とに応じた熱処理が施される。
In the heat treatment apparatus shown in FIG. 1, a work W inlet (not shown) is provided on the left side of the heat treatment furnace 1, and a work W discharge port (not shown) is provided on the right side. The workpieces W are sequentially loaded from the loading port, and these workpieces W are heat-treated in the heat treatment furnace 1. That is, this heat treatment apparatus is a continuous type.
The inside of the heat treatment furnace 1 is divided into a plurality of regions A0, A1, A2,..., And is formed in the region by the temperature around the workpiece W and the processing gas in each region A0, A1, A2,. It is configured to be adjustable so as to be different from the atmosphere to be performed. And the workpiece | work W advances in order by the said conveyor apparatus 9 in each divided area, and the said workpiece | work W is heat-processed according to the temperature and atmosphere of each area | region.

また、熱処理装置は、区画される複数の領域A0,A1,A2・・・それぞれに処理ガスを供給するガス導入部2と、区画される複数の領域A0,A1,A2・・・それぞれに存在している雰囲気ガスを外部に排気する排気部3とを更に備えている。
ガス導入部2は区画される領域毎に設けられていて、各ガス導入部2は、ワークWを熱処理するための処理ガス源、圧力調整弁及び流量計等を有する送出装置21と、熱処理炉1内に設置され送出装置21から処理ガスが供給される導入管22とを備えている。そして、この導入管22から処理ガスが熱処理炉1内に供給される。
各ガス導入部2の送出装置21は、他の領域に設けられている送出装置21と独立して作動することができる。そして、複数の領域それぞれには、異なる組成や流量に設定された処理ガスが供給可能とされている。
Further, the heat treatment apparatus is present in each of the plurality of divided areas A0, A1, A2,... And an exhaust section 3 for exhausting the atmospheric gas being discharged to the outside.
The gas introduction unit 2 is provided for each partitioned region, and each gas introduction unit 2 includes a processing gas source for heat-treating the workpiece W, a pressure adjusting valve, a flow meter and the like, a heat treatment furnace, and a heat treatment furnace. 1 and an introduction pipe 22 to which a processing gas is supplied from a delivery device 21. Then, a processing gas is supplied from the introduction pipe 22 into the heat treatment furnace 1.
The delivery device 21 of each gas introduction unit 2 can operate independently of the delivery device 21 provided in another area. Then, it is possible to supply a processing gas set to a different composition and flow rate to each of the plurality of regions.

図2は、図1のII−II矢視の横断面図である。導入管22は、熱処理炉1の横断方向に長い管状の部材であり、ワークWの載置面(メッシュベルト9aの上面)に対向して配置され、かつ、導入管22の長手方向は、当該載置面に投影するとワーク進行方向に直交する方向となる。そして、導入管22には、下方に開口し処理ガスをワークWの上方から下方に向かって放出する導入口23が形成されている。なお、図1に示している各ガス導入部2は、送出装置21から分岐した複数の導入管22を有している。すなわち、複数で一組となる導入管22により、一つの処理ガス用管ユニット25が構成されている。導入管22同士は平行の配置にある。   2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG. The introduction pipe 22 is a tubular member that is long in the transverse direction of the heat treatment furnace 1, and is disposed so as to face the placement surface of the workpiece W (the upper surface of the mesh belt 9 a). When projected onto the placement surface, the direction is orthogonal to the workpiece traveling direction. The introduction pipe 22 is formed with an introduction port 23 that opens downward and discharges the processing gas from above the workpiece W downward. Each gas introduction unit 2 shown in FIG. 1 has a plurality of introduction pipes 22 branched from the delivery device 21. That is, one processing gas pipe unit 25 is constituted by a plurality of sets of introduction pipes 22. The introduction pipes 22 are in a parallel arrangement.

前記排気部3は区画される領域毎に設けられていて、各排気部3は、各領域に存在していた雰囲気ガスを外部へと排気する際に通過させる排気管32と、各領域に存在していた雰囲気ガスを排気管32を通じて外部へ排気する機能を備えたエジェクター等を有する排気装置31とを備えている。図2において、排気管32は、各領域の幅方向両側に設置されていて、排気管32には、各領域の幅方向中央に向かって開口し、雰囲気ガスを吸引する排気口(排気孔)33が複数形成されている。各排気部3の排気装置31は、他の領域に設けられている排気装置31と独立して作動することができる。   The exhaust part 3 is provided for each partitioned area, and each exhaust part 3 exists in each area, and an exhaust pipe 32 through which the atmospheric gas existing in each area passes when exhausted to the outside. And an exhaust device 31 having an ejector or the like having a function of exhausting the atmospheric gas that has been discharged to the outside through the exhaust pipe 32. In FIG. 2, the exhaust pipe 32 is installed on both sides in the width direction of each region, and the exhaust pipe 32 opens toward the center in the width direction of each region, and exhaust ports (exhaust holes) for sucking atmospheric gas. A plurality of 33 are formed. The exhaust device 31 of each exhaust unit 3 can operate independently of the exhaust devices 31 provided in other regions.

そして、図1に示しているように、ガス導入部2が有している導入口23と、排気部3が有している排気口33とは、ワーク進行方向に関して同じ区間に配置されている。すなわち、各区間内の領域において、導入口23はワークWの上方に位置し、排気口33はワークWの側方に位置しているが、ワーク進行方向に関して、排気口33が存在している範囲内に、導入口23が配置されている。各領域において、一つの排気部3に対して一つのガス導入部2が設けられていて、相互で専用のガス導入部2及び排気部3の関係にある。   And as shown in FIG. 1, the inlet 23 which the gas introduction part 2 has, and the exhaust port 33 which the exhaust part 3 has are arrange | positioned in the same area regarding the workpiece advancing direction. . That is, in the area in each section, the introduction port 23 is located above the workpiece W and the exhaust port 33 is located on the side of the workpiece W, but the exhaust port 33 exists in the workpiece traveling direction. The introduction port 23 is disposed within the range. In each region, one gas introduction part 2 is provided for one exhaust part 3, and there is a relationship between the gas introduction part 2 and the exhaust part 3 dedicated to each other.

そして、熱処理炉1内を複数の領域に区画し、各領域でワークWの周囲における処理ガスの組成や流量等による雰囲気の混合を防止するために、熱処理装置は、更に、隣り合う(雰囲気の混合を防止させる)領域間に設けられた噴出口17a,17bを有し、当該噴出口17a,17bから当該領域間にパージガスを噴出するパージガス供給部7を備えている。パージガスは例えば窒素ガスである。すなわち、パージガスは、噴出口17a,17bから、ワークWの上方から下方に向かって噴出される。   Then, in order to divide the inside of the heat treatment furnace 1 into a plurality of regions and prevent mixing of the atmosphere due to the composition and flow rate of the processing gas around the workpiece W in each region, the heat treatment apparatus is further adjacent (atmosphere of the atmosphere). A purge gas supply unit 7 is provided which has jet ports 17a and 17b provided between regions (to prevent mixing) and jets purge gas from the jet ports 17a and 17b to the regions. The purge gas is, for example, nitrogen gas. That is, the purge gas is ejected from the upper side to the lower side of the workpiece W from the jet ports 17a and 17b.

パージガス供給部7は、パージガス源、圧力調整弁及び流量計等を有する供給装置11と、熱処理炉1内に設置され供給装置11からパージガスが供給される第一の供給管部12aと第二の供給管部12bとを備えている。そして、第一の供給管部12aには、下方となるワークWの載置面へパージガスを噴出する第一の噴出口17aが形成され、第二の供給管部12bには、下方となるワークWの載置面へパージガスを噴出する第二の噴出口17bが形成されている。   The purge gas supply unit 7 includes a supply device 11 having a purge gas source, a pressure regulating valve, a flow meter, and the like, a first supply pipe unit 12a installed in the heat treatment furnace 1 and supplied with purge gas from the supply device 11, and a second supply pipe unit 12a. And a supply pipe portion 12b. The first supply pipe portion 12a is formed with a first jet port 17a for jetting purge gas to the lower surface of the work W, and the second supply pipe portion 12b has a lower work piece. A second jet port 17b for jetting purge gas to the W mounting surface is formed.

さらに、パージガス供給部7は、前記噴出口17a,17bから噴出されたパージガスを吸入して外部へと排気する際に通過させる吸入管部13と、当該パージガスを吸入管部13を通じて外部へ排気する機能を備えたエジェクター等を有する排出装置14とを備えている。そして、吸入管部13には、下方に開口していて、パージガスを吸引する吸引口18が形成されている。
各供給装置11及び各排出装置14は、他の領域に設けられている供給装置11及び排出装置14と独立して作動することができる。
Further, the purge gas supply unit 7 sucks the purge gas ejected from the jet outlets 17a and 17b and allows the purge gas to pass therethrough and exhausts the purge gas to the outside through the suction pipe unit 13. And a discharge device 14 having an ejector or the like having a function. The suction pipe portion 13 is formed with a suction port 18 that opens downward and sucks the purge gas.
Each supply device 11 and each discharge device 14 can operate independently of the supply device 11 and the discharge device 14 provided in other areas.

図3は、図1のIII−III矢視の横断面図であり、図4は、図1のIV−IV矢視の横断面図である。各パージガス供給部7が備えている第一の供給管部12aと第二の供給管部12bと吸入管部13とは、熱処理炉1の横断方向に長い管状の部材であり、図1の実施形態では、これら管部12a,12b,13は一体として形成され、これら管部12a,12b,13によってパージガス用管ユニット15を構成している。このパージガス用管ユニット15は、処理ガス用の前記導入管22と平行の配置にある。   3 is a cross-sectional view taken along the line III-III in FIG. 1, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. The first supply pipe section 12a, the second supply pipe section 12b, and the suction pipe section 13 provided in each purge gas supply section 7 are tubular members that are long in the transverse direction of the heat treatment furnace 1, and are shown in FIG. In the embodiment, these pipe portions 12a, 12b, and 13 are integrally formed, and the pipe portions 12a, 12b, and 13 constitute a purge gas pipe unit 15. The purge gas pipe unit 15 is arranged in parallel with the introduction pipe 22 for the processing gas.

図1において、前記パージガス用管ユニット15では、第二の供給管部12bの第二の噴出口17bは、第一の供給管部12aの第一の噴出口17aよりもワーク進行方向下流側に設けられ、第一の噴出口17aと第二の噴出口17bとの間に吸引口18が設けられている。
また、第一の噴出口17a、第二の噴出口17b及び吸引口18は、高さ方向について同一レベルに設けられていて、さらに、処理ガス用の前記導入管22の導入口23よりも低い位置に設けられている。
In FIG. 1, in the purge gas pipe unit 15, the second jet port 17b of the second supply pipe part 12b is located downstream of the first jet port 17a of the first supply pipe part 12a in the workpiece traveling direction. A suction port 18 is provided between the first jet port 17a and the second jet port 17b.
Further, the first jet port 17a, the second jet port 17b, and the suction port 18 are provided at the same level in the height direction, and are lower than the introduction port 23 of the introduction pipe 22 for processing gas. In the position.

パージガス用管ユニット15は区画される領域間毎に設けられている。すなわち、ワーク進行方向に隣り合う前記処理ガス用管ユニット25,25の間に、一つのパージガス用管ユニット15が設けられていて、パージガス用管ユニット15は、処理ガス用管ユニット25とワーク進行方向に関して重複しないで、異なる位置に設けられている。
なお、各処理ガス用管ユニット25は、複数に区画する領域A0,A1,A2・・・毎(各領域の範囲内)に設けられている。さらに、排気部3の排気管32に形成されている排気口33も、複数に区画する領域A1,A2・・・毎に設けられていて、パージガス用管ユニット15は、排気口33ともワーク進行方向に関して重複しないで、異なる位置に設けられている。
The purge gas pipe unit 15 is provided for each divided area. That is, one purge gas pipe unit 15 is provided between the processing gas pipe units 25 and 25 adjacent to each other in the work traveling direction, and the purge gas pipe unit 15 is connected to the processing gas pipe unit 25 and the work progressing. They do not overlap with each other and are provided at different positions.
Each processing gas pipe unit 25 is provided for each of the regions A0, A1, A2,. Further, an exhaust port 33 formed in the exhaust pipe 32 of the exhaust unit 3 is also provided for each of the divided areas A1, A2,... They do not overlap with each other and are provided at different positions.

以上の構成を備えた熱処理装置によれば、図1において左側にあるパージガス供給部7の第一の供給管部12aの噴出口17a及び第二の供給管部12bの噴出口17bから、パージガスをワークWの載置面(メッシュベルト9aの上面)に対して噴出することにより、ワーク進行方向上流側の領域A0と、ワーク進行方向下流側の領域A1とを分離することができ、領域A1において導入管22から導入された処理ガスに由来する雰囲気ガスが、領域A0へ流れることを防止することができる。   According to the heat treatment apparatus having the above-described configuration, purge gas is supplied from the jet outlet 17a of the first supply pipe section 12a and the jet outlet 17b of the second supply pipe section 12b of the purge gas supply section 7 on the left side in FIG. By ejecting to the placement surface of the workpiece W (the upper surface of the mesh belt 9a), the region A0 on the upstream side in the workpiece traveling direction can be separated from the region A1 on the downstream side in the workpiece traveling direction. It is possible to prevent the atmospheric gas derived from the processing gas introduced from the introduction pipe 22 from flowing into the region A0.

さらに、図1において中央にあるパージガス供給部7の第一の供給管部12aの噴出口17a及び第二の供給管部12bの噴出口17bから、パージガスをワークWの上方から下方へと載置面に対して噴出することにより、ワーク進行方向上流側の領域A1と、ワーク進行方向下流側の領域A2とを分離することができ、領域A1と領域A2とにおいてそれぞれ導入された処理ガスが、他の領域へ流れることを防止することができ、領域A1と領域A2との間で雰囲気ガスが混ざり合うことを防止することができる。以下、同様に、領域A2と領域A3とも分離され、雰囲気ガスが混ざり合うことを防止することができる。   Further, the purge gas is placed from the upper side to the lower side of the workpiece W from the jet port 17a of the first supply pipe part 12a and the jet port 17b of the second supply pipe part 12b of the purge gas supply part 7 in the center in FIG. By ejecting to the surface, it is possible to separate the area A1 on the upstream side in the workpiece traveling direction and the area A2 on the downstream side in the workpiece traveling direction, and the processing gas introduced in each of the areas A1 and A2 It is possible to prevent the gas from flowing to another region, and it is possible to prevent the atmosphere gas from being mixed between the region A1 and the region A2. Hereinafter, similarly, the region A2 and the region A3 are separated from each other, and the atmospheric gas can be prevented from being mixed.

この結果、図5に示しているように、各領域A0,A1,A2,A3・・・で雰囲気ガスを異ならせることができ、かつ、パージガス供給部7のパージガス用管ユニット15の位置を境界として、雰囲気ガスを異ならせた領域に分離することができる。しかも、本発明によれば、領域間の分離性能が高いことから、各領域A0,A1,A2,A3・・・それぞれで、当該領域の全域にわたって、均一な雰囲気を得ることができる。   As a result, as shown in FIG. 5, the atmosphere gas can be made different in each region A0, A1, A2, A3... And the position of the purge gas pipe unit 15 of the purge gas supply unit 7 is a boundary. As described above, the regions can be separated into different atmosphere gases. Moreover, according to the present invention, since the separation performance between the regions is high, a uniform atmosphere can be obtained over the entire region in each region A0, A1, A2, A3.

このように、前記パージガス供給部7によれば、雰囲気を異ならせる領域間に設けられたパージガス用管ユニット15の噴出口17a,17bから、当該領域間にパージガスを噴出することにより、このパージガスによって隣り合う領域を分離する性能が高まり、隣り合う領域間で雰囲気ガスが混ざり合うことを防止することが可能となる。
そして、このようにパージガスによって分離した領域それぞれにおいて、ガス導入部2の導入管22から処理ガスを供給し、当該領域内の雰囲気ガスを排気部3の排気管32から外部へと排気することにより、各領域の雰囲気ガスを所望の状態に維持することができる。この結果、ワークWに対して領域毎で所望の雰囲気によって熱処理を行うことができ、不良品の発生を低減することが可能となる。さらに、ワークWの種類によれば、一つの領域において熱処理して発生したバインダーが、他の領域に流出することを防止することができる。
Thus, according to the purge gas supply unit 7, the purge gas is ejected between the regions 17A and 17b of the purge gas pipe unit 15 provided between the regions where the atmospheres are different, by the purge gas. The performance of separating adjacent regions is improved, and it is possible to prevent the atmosphere gas from being mixed between adjacent regions.
And in each area | region isolate | separated by purge gas in this way, process gas is supplied from the inlet pipe 22 of the gas introduction part 2, and the atmospheric gas in the said area | region is exhausted outside from the exhaust pipe 32 of the exhaust part 3. The atmospheric gas in each region can be maintained in a desired state. As a result, the workpiece W can be heat-treated in a desired atmosphere for each region, and the occurrence of defective products can be reduced. Furthermore, according to the type of the workpiece W, it is possible to prevent the binder generated by heat treatment in one region from flowing out to another region.

また、図1の実施形態によれば、一つの領域(例えば領域A1)に設置されたガス導入部2の導入管22に形成された導入口23と、当該一つの領域に設置された排気部3の排気管32に形成された排気口33とは、ワーク進行方向に関して同じ区間に配置されているので、導入口23から放出された処理ガスは、ワーク進行方向に関して同じ区間で、排気口33から吸引される。このため、一つの領域(領域A1)に放出された処理ガスが、隣りの領域(領域A0、領域A2)に侵入し難くなり、領域の分離性能をさらに向上させることができる。   Further, according to the embodiment of FIG. 1, the inlet 23 formed in the introduction pipe 22 of the gas introduction unit 2 installed in one region (for example, the region A1), and the exhaust unit installed in the one region. Since the exhaust port 33 formed in the third exhaust pipe 32 is disposed in the same section with respect to the workpiece traveling direction, the processing gas released from the introduction port 23 is exhausted in the same section with respect to the workpiece traveling direction. Sucked from. For this reason, it becomes difficult for the processing gas released into one region (region A1) to enter the adjacent region (region A0, region A2), and the separation performance of the region can be further improved.

また、図6により説明したように従来の構成では、隣りの領域の影響を受けやすく、領域を個別に調整することができず、各領域における処理ガスの導入と排気とのバランス調整、すなわち、領域毎の雰囲気の調整が難しかった。   In addition, as described with reference to FIG. 6, the conventional configuration is easily influenced by adjacent regions, and the regions cannot be adjusted individually, and the balance adjustment between the introduction and exhaust of the processing gas in each region, that is, It was difficult to adjust the atmosphere for each area.

しかし、本発明によれば、パージガス供給部7から供給するパージガスによって分離させた各領域は独立した状態とすることができ、さらに、領域毎にガス導入部2及び排気部3が設けられているので、処理ガスの導入と雰囲気ガスの排気とのバランス調整が容易となる。なお、処理ガスの導入と雰囲気ガスの排気とのバランス調整は、前記のとおり、各ガス導入部2の送出装置21及び各排気部3の排気装置31を調整することによって実現される。また、各ガス導入部2の送出装置21及び各排気部3の排気装置31は、他の領域にある送出装置21及び他の領域にある排気装置31と独立して作動することから、処理ガスの導入と雰囲気ガスの排気とのバランス調整は容易である。   However, according to the present invention, the regions separated by the purge gas supplied from the purge gas supply unit 7 can be made independent, and the gas introduction unit 2 and the exhaust unit 3 are provided for each region. Therefore, it becomes easy to adjust the balance between the introduction of the processing gas and the exhaust of the atmospheric gas. The balance adjustment between the introduction of the processing gas and the exhaust of the atmospheric gas is realized by adjusting the delivery device 21 of each gas introduction unit 2 and the exhaust device 31 of each exhaust unit 3 as described above. Further, the delivery device 21 of each gas introduction unit 2 and the exhaust device 31 of each exhaust unit 3 operate independently of the delivery device 21 in the other region and the exhaust device 31 in the other region. It is easy to adjust the balance between the introduction of gas and the exhaust of atmospheric gas.

また、図1において、パージガス供給部7のパージガス用管ユニット15において、吸引口18の前後に、パージガスを噴出する第一の噴出口17aと第二の噴出口17bが設けられているので、ガス導入部2が供給した処理ガスが、吸引口18から排気されるのを防止することができる。すなわち、吸引口18が、ワークWを熱処理する領域の雰囲気に影響を与えることを防ぐことができる。   In FIG. 1, the purge gas pipe unit 15 of the purge gas supply unit 7 is provided with a first jet port 17 a and a second jet port 17 b for jetting purge gas before and after the suction port 18. The processing gas supplied by the introduction unit 2 can be prevented from being exhausted from the suction port 18. That is, the suction port 18 can be prevented from affecting the atmosphere of the region where the workpiece W is heat-treated.

さらに、このパージガス供給部7において、供給装置11及び排出装置14の供給量及び排出量を調整することによって、第一の噴出口17aと第二の噴出口17bとから噴出される(総計の)パージガスの単位時間当たりのパージガス噴出量と、吸引口18から吸引するパージガスの単位時間当たりのパージガス吸引量とが、同等に設定されている。
この設定によれば、第一の噴出口17a及び第二の噴出口17bから噴出したパージガスの全てを、吸引口18によって吸引しようとすることができるので、ガス導入部2によって処理ガスが導入される領域に、パージガスが流れるのを防ぐことができ、パージガスが当該領域の処理ガスに混ざって当該領域の雰囲気に影響を与えることを防ぐことができる。
Further, in the purge gas supply unit 7, the supply amount and the discharge amount of the supply device 11 and the discharge device 14 are adjusted to be ejected from the first jet port 17 a and the second jet port 17 b (total). The purge gas ejection amount per unit time of the purge gas and the purge gas suction amount per unit time of the purge gas sucked from the suction port 18 are set to be equal.
According to this setting, since all of the purge gas ejected from the first ejection port 17a and the second ejection port 17b can be sucked by the suction port 18, the processing gas is introduced by the gas introduction unit 2. The purge gas can be prevented from flowing into the region where the purge gas flows, and the purge gas can be prevented from being mixed with the processing gas in the region and affecting the atmosphere in the region.

また、処理ガス用のガス導入部2と排気部3とについても、送出装置21と排気装置31との供給量及び排出量を調整することによって、ガス導入部2による単位時間当たりの処理ガス供給量と、排気部3による単位時間当たりの雰囲気ガス排気量とが、同等に設定されている。
例えば、雰囲気ガス排気量に比べて処理ガス供給量が多すぎると、雰囲気ガスが隣りの領域に流れ込みやすくなるが、この設定によれば、この流れ込みを防ぐことが可能となる。
Further, with respect to the gas introduction part 2 and the exhaust part 3 for the processing gas, the process gas supply per unit time by the gas introduction part 2 is adjusted by adjusting the supply amount and the discharge amount of the delivery device 21 and the exhaust device 31. The amount and the atmospheric gas exhaust amount per unit time by the exhaust unit 3 are set to be equal.
For example, if the processing gas supply amount is too large compared to the atmospheric gas exhaust amount, the atmospheric gas is likely to flow into the adjacent region. However, according to this setting, this flow can be prevented.

また、本発明の熱処理装置は、図示する形態に限らず本発明の範囲内において他の形態のものであってもよい。例えば、ガス導入部2の導入管22に関して、前記実施形態では複数本を備えた構成としたが、1本であってもよく、また、排気部3の排気管32に関して、前記実施形態では、各領域の左右それぞれに一つとし、当該排気管32から炉内へと通じる排気口33が複数形成されている構成としたが、排気管32を左右それぞれに複数本を設置した構成であってもよい。さらに、導入口23は、熱処理炉1の側壁や上壁に設けられていてもよい。
また、パージガス用管ユニット15に関して、それぞれの管部が独立した構成であってもよい。
また、コンベア装置9のベルトはメッシュでなくてもよく、さらには、コンベア装置9はベルト式以外にワイヤ式、ローラ式、ウォーキングビーム式等の他の方式によるものであってもよい。また、ワークWの搬送は、搬送面に直接ワークWが載った状態とする以外に、ワークWを載せたトレーを搬送面に載せてもよい。
なお、ワークWは、金属、半導体、セラミックス等の材質やその形態を問わず、熱処理の際にワークW周辺の雰囲気の管理を厳密に行う必要がある場合に、本発明を好適に使用することができる。
In addition, the heat treatment apparatus of the present invention is not limited to the illustrated form, and may be of other forms within the scope of the present invention. For example, regarding the introduction pipe 22 of the gas introduction part 2, the above-described embodiment includes a plurality of pipes. However, the number may be one, and with respect to the exhaust pipe 32 of the exhaust part 3, The number of exhaust ports 33 is one for each left and right of each region, and a plurality of exhaust ports 33 leading from the exhaust pipe 32 to the inside of the furnace are provided. Also good. Furthermore, the inlet 23 may be provided on the side wall or the upper wall of the heat treatment furnace 1.
Further, the purge gas pipe unit 15 may be configured such that each pipe part is independent.
Further, the belt of the conveyor device 9 may not be a mesh, and further, the conveyor device 9 may be of a wire type, a roller type, a walking beam type or the like other than the belt type. In addition, the work W may be transported in a state where the work W is directly placed on the transport surface, and a tray on which the work W is placed may be placed on the transport surface.
Note that the present invention is preferably used when the work W needs to strictly manage the atmosphere around the work W during heat treatment regardless of the material and form of metal, semiconductor, ceramics, etc. Can do.

1:熱処理炉、 2:ガス導入部、 3:排気部、 7:パージガス供給部、 17a:第一の噴出口、 17b:第二の噴出口、 18:吸引口、 23:導入口、 33:排気口、 W:ワーク 1: heat treatment furnace, 2: gas introduction unit, 3: exhaust unit, 7: purge gas supply unit, 17a: first jet port, 17b: second jet port, 18: suction port, 23: introduction port, 33: Exhaust port, W: Workpiece

Claims (5)

ワークの周囲の雰囲気が領域毎で異なるように炉内が複数の領域に区画され、区画された各領域を順にワークが進行し当該ワークを熱処理する熱処理装置であって、
区画された複数の前記領域それぞれに処理ガスを供給するガス導入部と、
区画された複数の前記領域それぞれの雰囲気ガスを排気する排気部と、
隣り合う前記領域間に設けられ前記ワークの上方から下方に向けてパージガスを噴出する噴出口を有しているパージガス供給部と、
を備えていることを特徴とする熱処理装置。
The furnace is partitioned into a plurality of regions so that the atmosphere around the workpiece is different for each region, and the workpiece advances in order in each partitioned region and heat-treats the workpiece,
A gas introduction part for supplying a processing gas to each of the plurality of partitioned regions;
An exhaust section for exhausting the atmosphere gas of each of the plurality of partitioned regions;
A purge gas supply unit provided between the adjacent regions and having a jet port for jetting purge gas from above to below the workpiece;
A heat treatment apparatus comprising:
前記ガス導入部が有し前記処理ガスを放出する導入口と、前記排気部が有し前記雰囲気ガスを吸引する排気口とは、前記ワークの進行方向に関して同じ区間に配置されている請求項1に記載の熱処理装置。   The introduction port that the gas introduction unit has and discharges the processing gas and the exhaust port that the exhaust unit has and sucks the atmospheric gas are arranged in the same section with respect to the traveling direction of the workpiece. The heat processing apparatus as described in. 前記ガス導入部による単位時間当たりの処理ガス供給量と、前記排気部による単位時間当たりの雰囲気ガス排気量とが、同等に設定されている請求項1又は2に記載の熱処理装置。   The heat treatment apparatus according to claim 1 or 2, wherein a processing gas supply amount per unit time by the gas introduction unit and an atmospheric gas exhaust amount per unit time by the exhaust unit are set to be equal. 前記パージガス供給部は、前記パージガスを噴出する第一の噴出口と、当該第一の噴出口よりもワークの進行方向下流側に設けられ前記パージガスを噴出する第二の噴出口と、前記第一の噴出口と前記第二の噴出口との間に設けられ前記パージガスを吸引する吸引口と、を有している請求項1〜3のいずれか一項に記載の熱処理装置。   The purge gas supply unit includes a first jet port that ejects the purge gas, a second jet port that is provided downstream of the first jet port in the traveling direction of the workpiece and ejects the purge gas, and the first jet port. The heat processing apparatus as described in any one of Claims 1-3 which has the suction port which is provided between the jet nozzle of this and the said 2nd jet nozzle, and attracts | sucks the said purge gas. 前記第一の噴出口と前記第二の噴出口とから噴出される前記パージガスの単位時間当たりのパージガス噴出量と、前記吸引口から吸引する前記パージガスの単位時間当たりのパージガス吸引量とが、同等に設定されている請求項4に記載の熱処理装置。   The purge gas ejection amount per unit time of the purge gas ejected from the first ejection port and the second ejection port is equivalent to the purge gas suction amount per unit time of the purge gas sucked from the suction port. The heat processing apparatus of Claim 4 set to these.
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