JP2011048918A - Plasma display panel - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、表示デバイスなどに用いるプラズマディスプレイパネルに関する。 The present invention relates to a plasma display panel used for a display device or the like.
プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと呼ぶ)は、高精細化、大画面化の実現が可能であることから、100インチクラスのテレビなどが製品化されている。近年、PDPにおいては、従来のNTSC方式に比べて走査線数が2倍以上の高精細テレビへの適用が進められており、エネルギー問題に対応してさらなる消費電力低減への取り組みや、環境問題に配慮した鉛成分を含まないPDPへの要求なども高まっている。 A plasma display panel (hereinafter referred to as a PDP) can realize a high definition and a large screen, and thus a 100-inch class television or the like has been commercialized. In recent years, PDP has been applied to high-definition televisions that have more than twice the number of scanning lines compared to the conventional NTSC system. In response to energy problems, efforts to further reduce power consumption and environmental issues There is also a growing demand for PDPs that do not contain lead components in consideration of the above.
PDPは、基本的には、前面板と背面板とで構成されている。前面板は、フロート法により製造された硼硅酸ナトリウム系ガラスのガラス基板と、ガラス基板の一方の主面上に形成されたストライプ状の透明電極とバス電極とで構成される表示電極と、表示電極を覆ってコンデンサとしての働きをする誘電体層と、誘電体層上に形成された酸化マグネシウム(MgO)とを含む保護膜とで構成されている。 A PDP basically includes a front plate and a back plate. The front plate is a glass substrate of sodium borosilicate glass produced by the float process, a display electrode composed of a striped transparent electrode and a bus electrode formed on one main surface of the glass substrate, A dielectric layer that covers the display electrode and functions as a capacitor, and a protective film that includes magnesium oxide (MgO) formed on the dielectric layer.
一方、背面板は、ガラス基板と、その一方の主面上に形成されたストライプ状のアドレス電極と、アドレス電極を覆う下地誘電体層と、下地誘電体層上に形成された隔壁と、各隔壁間に形成された赤色、緑色及び青色それぞれに発光する蛍光体層とで構成されている。 On the other hand, the back plate is a glass substrate, stripe-shaped address electrodes formed on one main surface thereof, a base dielectric layer covering the address electrodes, a partition formed on the base dielectric layer, The phosphor layer is formed between the barrier ribs and emits red, green and blue light.
前面板と背面板とはその電極形成面側を対向させて気密封着され、隔壁によって仕切られた放電空間にネオン(Ne)−キセノン(Xe)の放電ガスが400Torr〜600Torrの圧力で封入されている。PDPは、表示電極に映像信号電圧を選択的に印加することによって放電させ、その放電によって発生した紫外線が各色蛍光体層を励起して赤色、緑色、青色の発光をさせてカラー画像表示を実現している。 The front plate and the back plate are hermetically sealed with their electrode forming surfaces facing each other, and a discharge gas of neon (Ne) -xenon (Xe) is sealed at a pressure of 400 Torr to 600 Torr in a discharge space partitioned by a partition wall. ing. PDP discharges by selectively applying a video signal voltage to the display electrodes, and the ultraviolet rays generated by the discharge excite each color phosphor layer to emit red, green, and blue light, thereby realizing color image display is doing.
また、このようなPDPの駆動方法としては、書き込みをしやすい状態に壁電荷を調整する初期化期間と、入力画像信号に応じて書き込み放電を行う書き込み期間と、書き込みが行われた放電空間で維持放電を生じさせることによって表示を行う維持期間を有する駆動方法が一般的に用いられている。これらの各期間を組み合わせた期間(サブフィールド)が、画像の1コマに相当する期間(1フィールド)内で複数回繰り返されることによってPDPの階調表示を行っている。 In addition, such a PDP driving method includes an initialization period in which wall charges are adjusted so that writing is easy, a writing period in which writing discharge is performed according to an input image signal, and a discharge space in which writing is performed. A driving method having a sustain period in which display is performed by generating a sustain discharge is generally used. A period (subfield) obtained by combining these periods is repeated a plurality of times within a period (one field) corresponding to one frame of an image, thereby performing PDP gradation display.
このようなPDPにおいて、前面板の誘電体層上に形成される保護膜の役割としては、放電によるイオン衝撃から誘電体層を保護すること、アドレス放電を発生させるための初期電子を放出すること、放電中に二次電子を放出し放電を促進することなどが挙げられる。 In such a PDP, the role of the protective film formed on the dielectric layer of the front plate is to protect the dielectric layer from ion bombardment due to discharge and to emit initial electrons for generating address discharge. In this case, secondary electrons are emitted during discharge to promote discharge.
従来の技術として保護膜の材料を変更し、二次電子放出特性を向上させることで放電電圧を抑制する技術が開示されている(例えば、特許文献1)。 As a conventional technique, a technique for suppressing a discharge voltage by changing a material of a protective film and improving secondary electron emission characteristics is disclosed (for example, Patent Document 1).
しかしながら、従来技術の保護膜は、高い二次電子放出能力を維持しつつ、ガスの吸着を抑える性質(以下、ガス吸着性ともいう)を実現しないという課題があった。従来技術の保護膜のうち、二次電子放出能力の高い材料はガス吸着性が悪く(ガスが吸着しやすく)、ガス吸着性の良い(ガスが吸着しにくい)材料は二次電子放出能力が低い。 However, the conventional protective film has a problem that it does not realize the property of suppressing gas adsorption (hereinafter also referred to as gas adsorbing property) while maintaining high secondary electron emission capability. Of the protective films of the prior art, materials with high secondary electron emission ability have poor gas adsorption (gas is easily adsorbed), and materials with good gas adsorption (difficult to adsorb gas) have secondary electron emission ability. Low.
この課題に対し、発明者らは、新たなPDPを発明した。このPDPの保護膜は、特定方位面についてのX線回折分析において、前記2つの酸化物の一方の酸化物単体を分析したときにピークが発生する回折角と、他方の酸化物単体を分析したときにピークが発生する回折角との間の回折角に、ピークが存在するものであることを特徴とする。このような構成によれば、保護層における二次電子放出特性を向上させ、低電圧駆動が実現できる。また、一般的に、輝度を高めるために放電ガスのXeガス分圧を大きくすると、放電開始電圧が高くなる。しかし、上述の保護膜とXeガス分圧の大きい放電ガスとを併用し、高輝度と低電圧駆動とを実現できる。 In response to this problem, the inventors have invented a new PDP. In the protective film of this PDP, in the X-ray diffraction analysis for a specific orientation plane, a diffraction angle at which a peak is generated when one oxide simple substance of the two oxides is analyzed, and the other oxide simple substance are analyzed. It is characterized in that there is a peak at a diffraction angle between the diffraction angle at which the peak sometimes occurs. According to such a configuration, the secondary electron emission characteristics in the protective layer can be improved and low voltage driving can be realized. In general, when the Xe gas partial pressure of the discharge gas is increased in order to increase the luminance, the discharge start voltage is increased. However, high luminance and low voltage driving can be realized by using the protective film described above and a discharge gas having a large Xe gas partial pressure.
本発明者らは、このようなPDPに関し、更なる研究を重ねた結果、放電時間が経過するにつれて輝度が低下するという課題を見出した。例えば、保護膜が酸化マグネシウムと酸化カルシウムからなる複合酸化物の場合、放電ガス中のネオン(Ne)に対するスパッタ率は酸化カルシウムより酸化マグネシウムの方が高く、例えば、図4に示すように放電を継続していくうちにスパッタされる量に応じて保護膜表面の酸化カルシウムの含有率が高くなる。通常放電中心部が最もスパッタされるため放電中心部が最も酸化カルシウム濃度が高くなる。その結果、放電の幅が放電時間の経過につれて減少し輝度の低下を引き起こす。一般的には、分子量が小さい酸化物ほどスパッタ率は高くなる。 As a result of further research on the PDP, the present inventors have found a problem that the luminance decreases as the discharge time elapses. For example, when the protective film is a complex oxide composed of magnesium oxide and calcium oxide, the sputtering rate for neon (Ne) in the discharge gas is higher for magnesium oxide than for calcium oxide. For example, as shown in FIG. Over time, the content of calcium oxide on the surface of the protective film increases according to the amount sputtered. Usually, the discharge center portion is most sputtered, so that the discharge center portion has the highest calcium oxide concentration. As a result, the discharge width decreases as the discharge time elapses, causing a decrease in luminance. In general, the smaller the molecular weight, the higher the sputtering rate.
本発明はこのような課題に鑑みなされたもので、低電圧駆動が可能で、輝度の低下の少ないPDPを実現することを目的としている。 The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to realize a PDP that can be driven at a low voltage and has little reduction in luminance.
上記の目的を達成するために、本発明のPDPは、第1基板と、前記第1基板に対向配置された第2基板と、を備え、前記第1基板と前記第2基板との間に放電ガスが充填された放電空間が形成されたPDPであって、
前記第1基板は、
基板と、
前記基板上に形成した表示電極と、
前記表示電極を覆うように形成された誘電体層と、
前記誘電体層上に形成され、前記放電空間に露出する保護膜と、を有し、
前記第2基板は、
前記表示電極の方向と交差する方向に形成されたアドレス電極と、
前記放電空間を区画する隔壁と、を有し、
前記保護膜は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、及び酸化バリウムのうちの2つの酸化物を含み、
前記保護膜は、特定方位面についてのX線回折分析において、前記2つの酸化物の一方の酸化物単体を分析したときにピークが発生する回折角と、他方の酸化物単体を分析したときにピークが発生する回折角との間の回折角に、ピークが存在するものであり、
前記保護膜は、前記2つの酸化物のうち分子量の大きい方の酸化物の含有率が、前記放電空間側から少なくとも所定の深さまで、順に減少するように形成されている。
In order to achieve the above object, a PDP of the present invention includes a first substrate and a second substrate disposed to face the first substrate, and the gap is between the first substrate and the second substrate. A PDP having a discharge space filled with a discharge gas,
The first substrate is
A substrate,
Display electrodes formed on the substrate;
A dielectric layer formed to cover the display electrode;
A protective film formed on the dielectric layer and exposed to the discharge space;
The second substrate is
An address electrode formed in a direction crossing the direction of the display electrode;
Partition walls that partition the discharge space,
The protective film includes two oxides of magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, and barium oxide,
In the X-ray diffraction analysis of the specific orientation plane, the protective film has a diffraction angle at which a peak is generated when one oxide simple substance of the two oxides is analyzed, and when the other oxide simple substance is analyzed. There is a peak at a diffraction angle between the diffraction angle at which the peak occurs,
The protective film is formed such that the content of the oxide having the larger molecular weight of the two oxides decreases in order from the discharge space side to at least a predetermined depth.
このような構成によれば、保護膜における二次電子放出特性を向上させ、低電圧駆動が実現でき、かつ保護膜表面の組成変化がおきにくいため、高輝度、低電圧駆動、高輝度維持率のPDPを実現することができる。 According to such a configuration, the secondary electron emission characteristics in the protective film can be improved, low voltage driving can be realized, and the composition of the protective film surface hardly changes, so that high luminance, low voltage driving, and high luminance maintenance ratio are achieved. PDP can be realized.
本発明によれば、高輝度の表示性能を備えた低電圧駆動が可能で、輝度の低下の少ないPDPを実現することができる。 According to the present invention, it is possible to realize a PDP that can be driven at a low voltage with high luminance display performance and that has little reduction in luminance.
[実施の形態1]
(PDPの構成)
以下、本発明の実施の形態におけるPDPについて図面を用いて説明する。
[Embodiment 1]
(Configuration of PDP)
Hereinafter, a PDP according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は本発明の実施の形態におけるPDPの構造を示す斜視図である。PDPの基本構造は、一般的な交流面放電型PDPと同様である。図1に示すように、PDP1は前面ガラス基板3などよりなる前面板2と、背面ガラス基板11などよりなる背面板10とが対向して配置され、その外周部をガラスフリットなどからなる封着材によって気密封着されている。封着されたPDP1内部の放電空間16には、XeとNeなどの放電ガスが400Torr〜600Torrの圧力で封入されている。
FIG. 1 is a perspective view showing the structure of a PDP according to an embodiment of the present invention. The basic structure of the PDP is the same as that of a general AC surface discharge type PDP. As shown in FIG. 1, the PDP 1 has a
前面板2の前面ガラス基板3上には、走査電極4及び維持電極5よりなる一対の帯状の表示電極6とブラックストライプ(遮光層)7が互いに平行にそれぞれ複数列配置されている。前面ガラス基板3上には表示電極6と遮光層7とを覆うように電荷を保持してコンデンサとしての働きをする誘電体層8が形成され、さらにその上に保護膜9が形成されている。
On the
また、背面板10の背面ガラス基板11上には、前面板2の走査電極4及び維持電極5の方向と直交する方向に、複数の帯状のアドレス電極12が互いに平行に配置され、これを下地誘電体層13が被覆している。さらに、アドレス電極12間の下地誘電体層13上には放電空間16を区切る所定の高さの隔壁14が形成されている。隔壁14間の溝ごとに、紫外線によって赤色、緑色及び青色にそれぞれ発光する蛍光体層15が順次形成されている。走査電極4及び維持電極5とアドレス電極12とが交差する位置に放電空間が形成され、表示電極6方向に並んだ赤色、緑色、青色の蛍光体層15を有する放電空間がカラー表示のための画素になる。
On the
図2は、本発明の実施の形態におけるPDP1の前面板2の構成を示す断面図であり、図2は図1と上下反転させて示している。図2に示すように、フロート法などにより製造された前面ガラス基板3に、走査電極4と維持電極5よりなる表示電極6と遮光層7がパターン形成されている。走査電極4と維持電極5はそれぞれインジウムスズ酸化物(ITO)や酸化スズ(SnO2)などからなる透明電極4a、5aと、透明電極4a、5a上に形成された金属バス電極4b、5bとにより構成されている。金属バス電極4b、5bは透明電極4a、5aの長手方向に導電性を付与する目的として用いられ、銀(Ag)等の材料を主成分とする導電性材料によって形成されている。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the
誘電体層8は、前面ガラス基板3上に形成されたこれらの透明電極4a、5aと金属バス電極4b、5bと遮光層7を覆って設けた第1誘電体層81と、第1誘電体層81上に形成された第2誘電体層82の少なくとも2層構成とし、さらに第2誘電体層82上に保護膜9が形成されている。
The dielectric layer 8 includes a
保護膜9は複数層から形成されるが、ここでは2層の場合について述べる。保護膜9は前記誘電体層8の第2誘電体層82上に形成する第1の保護膜91aと、この第1の保護膜91a上に形成する第2の保護膜91bとを有し、その保護膜9上に酸化マグネシウム(MgO)の結晶粒子92aが複数個凝集した凝集粒子92が付着している。ここで、前記第1の保護膜91aおよび91bは、酸化マグネシウムと酸化カルシウムからなる金属酸化物により形成されている。金属酸化物は、保護膜9面におけるX線回折分析において、酸化マグネシウム単体のピークが発生する回折角と酸化マグネシウム単体のピークと同一方位の酸化カルシウム単体のピークが発生する回折角との間にピークが存在するものである。第1の保護膜91aより第2の保護膜91bの方が酸化カルシウムの含有率が高い。なお、第1の保護膜91aは酸化カルシウムを全く含まない酸化マグネシウムであっても良い。保護膜9が1層のみの場合は、酸化カルシウムの方がXeに対するスパッタ率が低いため、放電時間経過につれて保護膜9の放電中心部の酸化カルシウム濃度が上がり、保護膜9の放電エリア内での酸化カルシウム濃度差が生じるため、放電幅が減少し、その結果放電輝度の低下を招いてしまう。しかし、本実施の形態のように保護膜9の酸化カルシウム濃度が誘電体側につれ低下する構成であれば、放電時間経過につれスパッタが進んだ領域の酸化カルシウム濃度が上がってきても、スパッタが進んだ領域から酸化カルシウム濃度の低い層に到達するため、保護膜9の放電エリア内の酸化カルシウム濃度の差は小さくなり、結果として放電幅の低下を防ぐことができ、輝度の低下を抑えることが出来る。
The
(PDPの製造方法)
次に、このようなPDP1の製造方法について説明する。
(PDP manufacturing method)
Next, a method for manufacturing such a PDP 1 will be described.
まず、前面ガラス基板3上に、走査電極4及び維持電極5と遮光層7とを形成する。走査電極4と維持電極5とを構成する透明電極4a、5aと金属バス電極4b、5bは、フォトリソグラフィ法などを用いてパターニングして形成される。透明電極4a、5aは薄膜プロセスなどを用いて形成され、金属バス電極4b、5bは銀(Ag)材料を含むペーストを所定の温度で焼成して固化している。また、遮光層7も同様に、黒色顔料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や黒色顔料をガラス基板の全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、焼成することにより形成される。
First, the scan electrode 4, the sustain
次に、走査電極4、維持電極5及び遮光層7を覆うように前面ガラス基板3上に誘電体ペーストをダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト(誘電体材料)層を形成する。誘電体ペーストを塗布した後、所定の時間放置することによって塗布された誘電体ペースト表面がレベリングされて平坦な表面になる。その後、誘電体ペースト層を焼成固化することにより、走査電極4、維持電極5及び遮光層7を覆う誘電体層8が形成される。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料、バインダ及び溶剤を含む塗料である。
Next, a dielectric paste is applied on the
次に、誘電体層8上に保護膜9を形成する。
Next, a
本実施の形態においては、保護膜9は誘電体層8上に形成する第1の保護膜91aと、この第1の保護膜91a上に形成する第2の保護膜91bとにより構成し、かつそれぞれ酸化マグネシウムと酸化カルシウムとを含む金属酸化物により形成している。そして、酸化マグネシウム(MgO)や酸化カルシウム(CaO)の単独材料のペレットや、それらの材料を混合したペレットを用いて薄膜成膜方法によって形成される。薄膜成膜方法としては、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの公知の方法が適用できる。一例として、スパッタリング法では1Pa、蒸着法の一例である電子ビーム蒸着法では0.1Paが実際上取り得る圧力の上限と考えられる。
In the present embodiment, the
また、第1の保護膜91aおよび第2の保護膜91bの成膜時の雰囲気としては、水分付着や不純物の吸着を防止するために外部と遮断された密閉状態で成膜時の雰囲気を調整することにより、所定の電子放出特性を有する金属酸化物よりなる保護膜を形成することができる。
Further, as the atmosphere during the formation of the first
次に、保護膜9上に付着形成する酸化マグネシウム(MgO)の結晶粒子92aの凝集粒子92について述べる。これらの結晶粒子92aは、以下に示す気相合成法または前駆体焼成法のいずれかで製造することができる。
Next, the aggregated particles 92 of the magnesium oxide (MgO) crystal particles 92a formed on the
気相合成法では、不活性ガスが満たされた雰囲気下で純度が99.9%以上のマグネシウム金属材料を加熱し、さらに、雰囲気に酸素を少量導入することによって、マグネシウムを直接酸化させ、酸化マグネシウム(MgO)の結晶粒子92aを作製することができる。 In the gas phase synthesis method, a magnesium metal material having a purity of 99.9% or more is heated in an atmosphere filled with an inert gas, and a small amount of oxygen is introduced into the atmosphere to directly oxidize magnesium, thereby oxidizing the material. Magnesium (MgO) crystal particles 92a can be produced.
一方、前駆体焼成法では、以下の方法によって結晶粒子92aを作製することができる。前駆体焼成法では、酸化マグネシウム(MgO)の前駆体を700℃以上の高温で均一に焼成し、これを徐冷して酸化マグネシウム(MgO)の結晶粒子92aを得ることができる。前駆体としては、例えば、マグネシウムアルコキシド(Mg(OR)2)、マグネシウムアセチルアセトン(Mg(acac)2)、水酸化マグネシウム(Mg(OH)2)、炭酸マグネシウム(MgCO2)、塩化マグネシウム(MgCl2)、硫酸マグネシウム(MgSO4)、硝酸マグネシウム(Mg(NO3)2)、シュウ酸マグネシウム(MgC2O4)の内のいずれか1種以上の化合物を選ぶことができる。なお選択した化合物によっては、通常、水和物の形態をとることもあるがこのような水和物を用いてもよい。 On the other hand, in the precursor firing method, the crystal particles 92a can be produced by the following method. In the precursor firing method, a magnesium oxide (MgO) precursor is uniformly fired at a high temperature of 700 ° C. or higher, and this is gradually cooled to obtain magnesium oxide (MgO) crystal particles 92a. Examples of the precursor include magnesium alkoxide (Mg (OR) 2 ), magnesium acetylacetone (Mg (acac) 2 ), magnesium hydroxide (Mg (OH) 2 ), magnesium carbonate (MgCO 2 ), and magnesium chloride (MgCl 2 ). ), Magnesium sulfate (MgSO 4 ), magnesium nitrate (Mg (NO 3 ) 2 ), or magnesium oxalate (MgC 2 O 4 ) can be selected. Depending on the selected compound, it may usually take the form of a hydrate, but such a hydrate may be used.
これらの化合物は、焼成後に得られる酸化マグネシウム(MgO)の純度が99.95%以上、望ましくは99.98%以上になるように調整する。これらの化合物中に、各種アルカリ金属、B、Si、Fe、Alなどの不純物元素が一定量以上混じっていると、熱処理時に不要な粒子間癒着や焼結を生じ、高結晶性の酸化マグネシウム(MgO)の結晶粒子を得にくいためである。このため、不純物元素を除去するなどにより予め前駆体を調整することが必要となる。 These compounds are adjusted so that the purity of magnesium oxide (MgO) obtained after calcination is 99.95% or more, preferably 99.98% or more. If these compounds contain a certain amount or more of various impurity elements such as alkali metals, B, Si, Fe, and Al, unnecessary interparticle adhesion and sintering occur during heat treatment, and highly crystalline magnesium oxide ( This is because it is difficult to obtain MgO) crystal particles. For this reason, it is necessary to adjust the precursor in advance by removing the impurity element.
上記いずれかの方法で得られた酸化マグネシウム(MgO)の結晶粒子92aを、溶媒に分散させ、その分散液をスプレー法やスクリーン印刷法、静電塗布法などによって保護膜9の表面に分散散布させる。その後、乾燥・焼成工程を経て溶媒除去を図り、酸化マグネシウム(MgO)の結晶粒子92aを保護膜9の表面に定着させることができる。
The magnesium oxide (MgO) crystal particles 92a obtained by any of the above methods are dispersed in a solvent, and the dispersion is dispersed and dispersed on the surface of the
このような一連の工程により前面ガラス基板3上に所定の構成物(走査電極4、維持電極5、遮光層7、誘電体層8、保護膜9)が形成されて前面板2が完成する。
Through such a series of steps, predetermined components (scanning electrode 4, sustaining
一方、背面板10は次のようにして形成される。まず、背面ガラス基板11上に、銀(Ag)材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、金属膜を全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによりアドレス電極12用の構成物となる材料層を形成する。その後、所定の温度で焼成することによりアドレス電極12を形成する。次に、アドレス電極12が形成された背面ガラス基板11上にダイコート法などにより、アドレス電極12を覆うように誘電体ペーストを塗布して誘電体ペースト層を形成する。その後、誘電体ペースト層を焼成することにより下地誘電体層13を形成する。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料とバインダ及び溶剤を含んだ塗料である。
On the other hand, the
次に、下地誘電体層13上に隔壁材料を含む隔壁形成用ペーストを塗布し、所定の形状にパターニングすることにより隔壁材料層を形成する。その後、所定の温度で焼成することにより隔壁14を形成する。ここで、下地誘電体層13上に塗布した隔壁用ペーストをパターニングする方法としては、フォトリソグラフィ法やサンドブラスト法を用いることができる。そして、隣接する隔壁14間の下地誘電体層13上及び隔壁14の側面に蛍光体材料を含む蛍光体ペーストを塗布し、焼成することにより蛍光体層15が形成される。以上の工程により、背面ガラス基板11上に所定の構成部材を有する背面板10が完成する。
Next, a partition wall forming paste containing a partition wall material is applied on the
所定の構成部材を備えた前面板2と背面板10とを走査電極4とアドレス電極12とが直交するように対向配置し、その周囲をガラスフリットで封着して放電空間16にキセノン(Xe)とネオン(Ne)などを含む放電ガスを封入してPDP1が完成する。
A
ここで、前面板2の誘電体層8を構成する第1誘電体層81と第2誘電体層82について詳細に説明する。第1誘電体層81の誘電体材料は、次の材料組成より構成されている。すなわち、酸化ビスマス(Bi2O3)を20重量%〜40重量%、酸化カルシウム(CaO)、酸化ストロンチウム(SrO)、酸化バリウム(BaO)から選ばれる少なくとも1種を0.5重量%〜12重量%含み、酸化モリブデン(MoO3)、酸化タングステン(WO3)、酸化セリウム(CeO2)、二酸化マンガン(MnO2)から選ばれる少なくとも1種を0.1重量%〜7重量%含んでいる。
Here, the
なお、酸化モリブデン(MoO3)、酸化タングステン(WO3)、酸化セリウム(CeO2)、二酸化マンガン(MnO2)に代えて、酸化銅(CuO)、酸化クロム(Cr2O3)、酸化コバルト(Co2O3)、酸化バナジウム(V2O7)、酸化アンチモン(Sb2O3)から選ばれる少なくとも1種を0.1重量%〜7重量%含ませてもよい。 In place of molybdenum oxide (MoO 3 ), tungsten oxide (WO 3 ), cerium oxide (CeO 2 ), manganese dioxide (MnO 2 ), copper oxide (CuO), chromium oxide (Cr 2 O 3 ), cobalt oxide At least one selected from (Co 2 O 3 ), vanadium oxide (V 2 O 7 ), and antimony oxide (Sb 2 O 3 ) may be contained in an amount of 0.1 wt% to 7 wt%.
また、上記以外の成分として、酸化亜鉛(ZnO)を0重量%〜40重量%、酸化硼素(B2O3)を0重量%〜35重量%、酸化硅素(SiO2)を0重量%〜15重量%、酸化アルミニウム(Al2O3)を0重量%〜10重量%など、鉛成分を含まない材料組成が含まれていてもよい。 Further, as components other than the above, zinc oxide (ZnO) is 0 wt% to 40 wt%, boron oxide (B 2 O 3 ) is 0 wt% to 35 wt%, and silicon oxide (SiO 2 ) is 0 wt% to A material composition that does not contain a lead component, such as 15 wt% and aluminum oxide (Al 2 O 3 ) 0 wt% to 10 wt% may be included.
これらの組成成分からなる誘電体材料を、湿式ジェットミルやボールミルで粒径が0.5μm〜2.5μmとなるように粉砕して誘電体材料粉末を作製する。次にこの誘電体材料粉末55重量%〜70重量%と、バインダ成分30重量%〜45重量%とを三本ロールでよく混練してダイコート用、または印刷用の第1誘電体層81用ペーストを作製する。
A dielectric material powder is produced by pulverizing a dielectric material composed of these composition components with a wet jet mill or a ball mill so as to have a particle size of 0.5 μm to 2.5 μm. Next, 55 wt% to 70 wt% of the dielectric material powder and 30 wt% to 45 wt% of the binder component are well kneaded with three rolls to paste for the
バインダ成分はエチルセルロース、またはアクリル樹脂1重量%〜20重量%を含むターピネオール、またはブチルカルビトールアセテートである。また、ペースト中には、必要に応じて可塑剤としてフタル酸ジオクチル、フタル酸ジブチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルを添加し、分散剤としてグリセロールモノオレート、ソルビタンセスキオレヘート、ホモゲノール(Kaoコーポレーション社製品名)、アルキルアリル基のリン酸エステルなどを添加してペーストとして印刷特性を向上させてもよい。 The binder component is ethyl cellulose, terpineol containing 1% to 20% by weight of acrylic resin, or butyl carbitol acetate. In the paste, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, triphenyl phosphate, and tributyl phosphate are added as plasticizers as needed, and glycerol monooleate, sorbitan sesquioleate, and homogenol (Kao Corporation) as dispersants. The printing property may be improved as a paste by adding a phosphate ester of an alkyl allyl group, etc.
次に、この第1誘電体層用ペーストを用い、表示電極6を覆うように前面ガラス基板3にダイコート法あるいはスクリーン印刷法で印刷して乾燥させ、その後、誘電体材料の軟化点より少し高い温度の575℃〜590℃で焼成して第1誘電体層81を形成する。
Next, using this first dielectric layer paste, the
次に、第2誘電体層82について説明する。第2誘電体層82の誘電体材料は、次の材料組成より構成されている。すなわち、酸化ビスマス(Bi2O3)を11重量%〜20重量%、さらに、酸化カルシウム(CaO)、酸化ストロンチウム(SrO)、酸化バリウム(BaO)から選ばれる少なくとも1種を1.6重量%〜21重量%含み、酸化モリブデン(MoO3)、酸化タングステン(WO3)、酸化セリウム(CeO2)から選ばれる少なくとも1種を0.1重量%〜7重量%含んでいる。
Next, the
なお、酸化モリブデン(MoO3)、酸化タングステン(WO3)、酸化セリウム(CeO2)に代えて、酸化銅(CuO)、酸化クロム(Cr2O3)、酸化コバルト(Co2O3)、酸化バナジウム(V2O7)、酸化アンチモン(Sb2O3)、酸化マンガン(MnO2)から選ばれる少なくとも1種を0.1重量%〜7重量%含ませてもよい。 In place of molybdenum oxide (MoO 3 ), tungsten oxide (WO 3 ), and cerium oxide (CeO 2 ), copper oxide (CuO), chromium oxide (Cr 2 O 3 ), cobalt oxide (Co 2 O 3 ), At least one selected from vanadium oxide (V 2 O 7 ), antimony oxide (Sb 2 O 3 ), and manganese oxide (MnO 2 ) may be contained in an amount of 0.1 wt% to 7 wt%.
また、上記以外の成分として、酸化亜鉛(ZnO)を0重量%〜40重量%、酸化硼素(B2O3)を0重量%〜35重量%、酸化硅素(SiO2)を0重量%〜15重量%、酸化アルミニウム(Al2O3)を0重量%〜10重量%など、鉛成分を含まない材料組成が含まれていてもよい。 Further, as components other than the above, zinc oxide (ZnO) is 0 wt% to 40 wt%, boron oxide (B 2 O 3 ) is 0 wt% to 35 wt%, and silicon oxide (SiO 2 ) is 0 wt% to A material composition that does not contain a lead component, such as 15 wt% and aluminum oxide (Al 2 O 3 ) 0 wt% to 10 wt% may be included.
これらの組成成分からなる誘電体材料を、湿式ジェットミルやボールミルで粒径が0.5μm〜2.5μmとなるように粉砕して誘電体材料粉末を作製する。次にこの誘電体材料粉末55重量%〜70重量%と、バインダ成分30重量%〜45重量%とを三本ロールでよく混練してダイコート用、または印刷用の第2誘電体層用ペーストを作製する。バインダ成分はエチルセルロース、またはアクリル樹脂1重量%〜20重量%を含むターピネオール、またはブチルカルビトールアセテートである。また、ペースト中には、必要に応じて可塑剤としてフタル酸ジオクチル、フタル酸ジブチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルを添加し、分散剤としてグリセロールモノオレート、ソルビタンセスキオレヘート、ホモゲノール(Kaoコーポレーション社製品名)、アルキルアリル基のリン酸エステルなどを添加して印刷性を向上させてもよい。 A dielectric material powder is produced by pulverizing a dielectric material composed of these composition components with a wet jet mill or a ball mill so as to have a particle size of 0.5 μm to 2.5 μm. Next, 55 wt% to 70 wt% of the dielectric material powder and 30 wt% to 45 wt% of the binder component are well kneaded with three rolls to obtain a second dielectric layer paste for die coating or printing. Make it. The binder component is ethyl cellulose, terpineol containing 1% to 20% by weight of acrylic resin, or butyl carbitol acetate. In addition, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, triphenyl phosphate and tributyl phosphate are added to the paste as needed, and glycerol monooleate, sorbitan sesquioleate, homogenol (Kao Corporation) as a dispersant. The printability may be improved by adding a phosphoric ester of an alkyl allyl group or the like.
次にこの第2誘電体層用ペーストを用いて第1誘電体層81上にスクリーン印刷法あるいはダイコート法で印刷して乾燥させ、その後、誘電体材料の軟化点より少し高い温度の550℃〜590℃で焼成する。
Next, using this second dielectric layer paste, printing is performed on the
なお、誘電体層8の膜厚としては、可視光透過率を確保するために第1誘電体層81と第2誘電体層82とを合わせ41μm以下とすることが好ましい。また、第1誘電体層81は、金属バス電極4b、5bの銀(Ag)との反応を抑制するために酸化ビスマス(Bi2O3)の含有量を第2誘電体層82の酸化ビスマス(Bi2O3)の含有量よりも多くして20重量%〜40重量%としている。そのため、第1誘電体層81の可視光透過率が第2誘電体層82の可視光透過率よりも低くなるので、第1誘電体層81の膜厚を第2誘電体層82の膜厚よりも薄くしている。
The film thickness of the dielectric layer 8 is preferably set to 41 μm or less in total of the
なお、第2誘電体層82においては、酸化ビスマス(Bi2O3)の含有量が11重量%以下であると着色は生じにくくなるが、第2誘電体層82中に気泡が発生しやすくなるため好ましくない。一方、含有率が40重量%を超えると着色が生じやすくなるために透過率が低下する。
The
また、誘電体層8の膜厚が小さいほど輝度の向上と放電電圧を低減するという効果は顕著になるので、絶縁耐圧が低下しない範囲内であればできるだけ膜厚を小さく設定するのが望ましい。このような観点から、本発明の実施の形態では、誘電体層8の膜厚を41μm以下に設定し、第1誘電体層81を5μm〜15μm、第2誘電体層82を20μm〜36μmとしている。
In addition, the smaller the film thickness of the dielectric layer 8, the more remarkable the effect of improving the luminance and reducing the discharge voltage. Therefore, it is desirable to set the film thickness as small as possible within the range where the withstand voltage does not decrease. From such a viewpoint, in the embodiment of the present invention, the thickness of the dielectric layer 8 is set to 41 μm or less, the
このようにして製造されたPDPは、表示電極6にAg材料を用いても、前面ガラス基板3の着色現象(黄変)が少なくて、なおかつ、誘電体層8中に気泡の発生などがなく、絶縁耐圧性能に優れた誘電体層8を実現することを確認している。
The PDP manufactured in this way has little coloring phenomenon (yellowing) of the
次に、本発明の実施の形態におけるPDPにおいて、これらの誘電体材料によって第1誘電体層81において黄変や気泡の発生が抑制される理由について考察する。すなわち、酸化ビスマス(Bi2O3)を含む誘電体ガラスに酸化モリブデン(MoO3)、または酸化タングステン(WO3)を添加することによって、Ag2MoO4、Ag2Mo2O7、Ag2Mo4O13、Ag2WO4、Ag2W2O7、Ag2W4O13といった化合物が580℃以下の低温で生成しやすいことが知られている。本実施の形態では、誘電体層8の焼成温度が550℃〜590℃であることから、焼成中に誘電体層8中に拡散した銀イオン(Ag+)は誘電体層8中の酸化モリブデン(MoO)、酸化タングステン(WO)、酸化セリウム(CeO2)、酸化マンガン(MnO2)と反応し、安定な化合物を生成して安定化する。すなわち、銀イオン(Ag+)が還元されることなく安定化されるために、凝集してコロイドを生成することがない。したがって、銀イオン(Ag+)が安定化することによって、銀(Ag)のコロイド化に伴う酸素の発生も少なくなるため、誘電体層8中への気泡の発生も少なくなる。
Next, in the PDP according to the embodiment of the present invention, the reason why yellowing and generation of bubbles in the
一方、これらの効果を有効にするためには、酸化ビスマス(Bi2O3)を含む誘電体ガラス中に酸化モリブデン(MoO3)、酸化タングステン(WO3)、酸化セリウム(CeO2)、酸化マンガン(MnO2)の含有量を0.1重量%以上にすることが好ましいが、0.1重量%以上7重量%以下がさらに好ましい。特に、0.1重量%未満では黄変を抑制する効果が少なく、7重量%を超えるとガラスに着色が起こり好ましくない。 On the other hand, in order to make these effects effective, in a dielectric glass containing bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), molybdenum oxide (MoO 3 ), tungsten oxide (WO 3 ), cerium oxide (CeO 2 ), oxidation The content of manganese (MnO 2 ) is preferably 0.1% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more and 7% by weight or less. In particular, when the amount is less than 0.1% by weight, the effect of suppressing yellowing is small.
すなわち、本発明の実施の形態におけるPDPの誘電体層8は、Ag材料よりなる金属バス電極4b、5bと接する第1誘電体層81では黄変現象と気泡発生を抑制し、第1誘電体層81上に設けた第2誘電体層82によって高い光透過率を実現している。その結果、誘電体層8全体として、気泡や黄変の発生が極めて少なく透過率の高いPDPを実現することが可能となる。
That is, the dielectric layer 8 of the PDP in the embodiment of the present invention suppresses the yellowing phenomenon and the generation of bubbles in the
(保護膜の詳細)
次に本実施の形態における保護膜9の詳細について説明する。
(Details of protective film)
Next, the detail of the
本実施の形態では、第1の保護膜91aおよび第2の保護膜91bを、酸化マグネシウム(MgO)と酸化カルシウム(CaO)とを原材料として電子ビーム蒸着法で形成した金属酸化物で構成している。さらに保護膜9は、X線回折分析において、酸化マグネシウム(MgO)単体を分析したときにピークが発生する回折角と、酸化マグネシウム(MgO)単体のピークと同一方位の酸化カルシウム(CaO)単体を分析したときにピークが発生する回折角との間に、ピークが存在する。
In the present embodiment, the first
図3は、本実施の形態において、第1の保護膜91aもしくは第2の保護膜91bのX線回折結果と、酸化マグネシウム(MgO)単体と酸化カルシウム(CaO)単体のX線回折分析の結果を示す図である。
FIG. 3 shows the results of X-ray diffraction analysis of the first
図3において、横軸はブラッグの回折角(2θ)であり、縦軸はX線回折波の強度である。回折角の単位は1周を360度とする度で示し、強度は任意単位(arbitrary unit)で示している。また、図中にはそれぞれの結晶方位面を括弧付けで示している。図3に示すように、結晶方位面の(111)面を例にとると、酸化カルシウム(CaO)単体の回折角は32.2度にピークを有し、また、酸化マグネシウム(MgO)単体の回折角は36.9度にピークを有していることがわかる。 In FIG. 3, the horizontal axis represents the Bragg diffraction angle (2θ), and the vertical axis represents the intensity of the X-ray diffraction wave. The unit of the diffraction angle is shown in degrees when one round is 360 degrees, and the intensity is shown in an arbitrary unit. In the figure, each crystal orientation plane is shown in parentheses. As shown in FIG. 3, taking the (111) plane of the crystal orientation as an example, the diffraction angle of calcium oxide (CaO) alone has a peak at 32.2 degrees, and the magnesium oxide (MgO) alone It can be seen that the diffraction angle has a peak at 36.9 degrees.
同様に、結晶方位面(200)面では、酸化カルシウム(CaO)単体は37.3度にピークを有し、酸化マグネシウム(MgO)単体は42.8度にピークを有していることがわかる。 Similarly, in the crystal orientation plane (200) plane, calcium oxide (CaO) simple substance has a peak at 37.3 degrees, and magnesium oxide (MgO) simple substance has a peak at 42.8 degrees. .
一方、酸化マグネシウム(MgO)や酸化カルシウム(CaO)の単独材料のペレットや、それらの材料を混合したペレットを用いて薄膜成膜方法によって形成した本実施の形態における保護膜9のX線回折結果は、図3のA点とB点である。
On the other hand, an X-ray diffraction result of the
すなわち、本発明の実施の形態である第1の保護膜91aもしくは第2の保護膜91bを構成する金属酸化物のX線回折結果は、結晶方位面(111)面では、それぞれ単体の回折角の間のA点である回折角36.1度にピークが存在し、結晶方位面(200)面では、それぞれ単体の回折角の間のB点である回折角41.1度にピークが存在している。
That is, the X-ray diffraction results of the metal oxides constituting the first
なお、第1の保護膜91aおよび第2の保護膜91bの結晶方位面は、成膜条件や酸化マグネシウム(MgO)と酸化カルシウム(CaO)の割合によって決定されるが、いずれにしても本実施の形態においては、それぞれ単独材料のピークの間にピークが存在する。
Note that the crystal orientation planes of the first
このような特性を有する金属酸化物のエネルギー準位も酸化マグネシウム(MgO)単体と酸化カルシウム(CaO)単体との間に存在する。その結果、保護膜9は、酸化マグネシウム(MgO)単体と比較して、良好な二次電子放出特性を発揮する。そして、放電維持電圧が低くなる。そのため、特に輝度を高めるために放電ガスとしてのキセノン(Xe)分圧を高めた場合に、放電電圧を低減し、低電圧で高輝度のPDPを実現することが可能となる。
The energy level of the metal oxide having such characteristics also exists between magnesium oxide (MgO) and calcium oxide (CaO). As a result, the
例えば、放電ガスとしてキセノン(Xe)とネオン(Ne)の混合ガスを用いた場合、キセノン(Xe)の分圧を10%から15%とした場合には、輝度が約30%上昇する。しかしながら、酸化マグネシウム(MgO)単体の保護膜9を用いた場合には、同時に放電維持電圧が約10%上昇する。一方、本実施の形態では、上述した特性を有する保護膜9とすることにより、放電維持電圧を約10%減少させることが可能となる。
For example, when a mixed gas of xenon (Xe) and neon (Ne) is used as the discharge gas, the luminance increases by about 30% when the partial pressure of xenon (Xe) is changed from 10% to 15%. However, when the
また、放電ガスとして全てキセノン(Xe)とした場合、すなわちキセノン(Xe)分圧を100%とした場合には、輝度が180%程度上昇するが、同時に放電維持電圧は35%程度上昇して、通常の動作電圧範囲を超える。しかしながら、本実施の形態における保護膜9を用いると、放電維持電圧を約20%減少させることができる。そのため、通常動作範囲内の放電維持電圧とすることができる。その結果、高輝度で低電圧駆動のPDPを実現することができる。
When the discharge gas is all xenon (Xe), that is, when the partial pressure of xenon (Xe) is 100%, the luminance increases by about 180%, but at the same time, the discharge sustaining voltage increases by about 35%. Exceeding normal operating voltage range. However, when the
なお、本実施の形態における保護膜9が放電維持電圧を低減できる理由は、それぞれの金属酸化物のバンド構造によると考えられる。
Note that the reason why the
すなわち、酸化カルシウム(CaO)の価電子帯の真空準位からの深さは酸化マグネシウム(MgO)と比較して浅い領域に存在する。そのため、PDPを駆動する場合において、酸化カルシウム(CaO)のエネルギー準位に存在する電子がキセノン(Xe)イオンの基底状態に遷移する際に、オージェ効果により放出される電子数が酸化マグネシウム(MgO)の場合と比較して多くなると考えられる。 That is, the depth from the vacuum level of the valence band of calcium oxide (CaO) exists in a shallower region than that of magnesium oxide (MgO). Therefore, when driving the PDP, the number of electrons emitted by the Auger effect when the electrons present at the energy level of calcium oxide (CaO) transition to the ground state of the xenon (Xe) ion is magnesium oxide (MgO ) Is expected to increase compared to
また、本実施の形態における保護膜9は、酸化マグネシウム(MgO)と酸化カルシウム(CaO)とを主成分とし、なおかつ、X線回折分析において、これら主成分である酸化マグネシウム(MgO)単体と酸化カルシウム(CaO)単体の回折角の間にピークが存在するものである。
In addition, the
上記金属酸化膜のエネルギー準位に関しては酸化マグネシウム(MgO)と酸化カルシウム(CaO)との合成された性質を有することとなる。したがって、保護膜9のエネルギー準位も酸化マグネシウム(MgO)単体と酸化カルシウム(CaO)単体との間に存在し、オージェ効果により他の電子が獲得するエネルギー量が真空準位を超えて放出されるに十分な量とすることができる。その結果、保護膜9では、酸化マグネシウム(MgO)単体と比較して、良好な二次電子放出特性が発揮することができ、結果として、放電維持電圧を低減することができる。
Regarding the energy level of the metal oxide film, it has a synthesized property of magnesium oxide (MgO) and calcium oxide (CaO). Therefore, the energy level of the
なお、酸化カルシウム(CaO)単体を保護膜とした場合、反応が高いために酸化カルシウムが不純物と反応しやすく、そのために電子放出性能が低下してしまうと言う課題を有していた。しかしながら、本実施の形態のように、酸化マグネシウム(MgO)と酸化カルシウム(CaO)との金属酸化物の構成とすることにより、反応性を低減してこれらの課題を解決することもできる。 In addition, when calcium oxide (CaO) single-piece | unit was used as the protective film, since reaction was high, calcium oxide was easy to react with an impurity, and had the subject that electron emission performance fell for it. However, as described in this embodiment, the metal oxide structure of magnesium oxide (MgO) and calcium oxide (CaO) can reduce the reactivity and solve these problems.
さらに、本実施の形態における保護膜9の各層は、酸化カルシウム(CaO)と酸化マグネシウム(MgO)を主成分にするとともに、X線回折分析において、これら主成分である酸化マグネシウム(MgO)単体と酸化カルシウム(CaO)単体の回折角の間にピークが存在するため、不純物の混入や酸素欠損の少ない結晶構造で形成されている。そのため、PDPの駆動時に電子が過剰放出されるのが抑制され、低電圧駆動と二次電子放出性能の両立効果に加えて、適度な電子保持特性の効果も発揮される。この電荷保持特性は、特に初期化期間に貯めた壁電荷を保持しておき、書込期間において書込不良を防止して確実な書込放電を行う上で有効である。
Furthermore, each layer of the
(実験結果)
次に、本実施の形態において、第1の保護膜91aおよび第2の保護膜91bのCaO含有率差の作用効果を確認するために行った実験結果について説明する。
(Experimental result)
Next, a description will be given of the results of an experiment conducted to confirm the effect of the CaO content difference between the first
(実施例1)
第1の保護膜91aとして、モル比がMgO:CaO=0.95:0.05であるMgOとCaOの混合ペレットを電子ビームで蒸発させて保護膜91bとしてMg0.95Ca0.05O膜を500nmの厚さに形成した。その後、電子ビーム蒸着装置のハースを移動させ、モル比がMgO:CaO=0.85:0.15であるMgOとCaOの混合ペレットを電子ビームで蒸発させて保護膜91bとしてMg0.85Ca0.15O膜を300nm形成して前面板を完成させた。第1の保護膜91aおよび第2の保護膜92bの成膜時、蒸着室に酸素を100sccm導入し、蒸着室の圧力は0.04Paであった。また第1の保護膜91aおよび第2の保護膜92bの成膜時の基板温度は300℃であった。この前面板と背面板をフリットガラスで封着し、内部の放電空間にNe10%,Xe90%の混合ガスを50kPaの圧力で封入してPDPを作製した。
Example 1
As the first
(実施例2)
第1の保護膜91aとして、MgOを用い、CaOを含まなかった。それ以外は上記実施例1と同様にしてPDPを作製した。
(Example 2)
As the first
(比較例1)
保護膜9は単層であり、モル比がMgO:CaO=0.85:0.15であるMgOとCaOの混合ペレットを電子ビームで蒸発させてMg0.85Ca0.15O膜を800nm形成して前面板を完成させた。それ以外は上記実施例1と同様にしてPDPを作製した。
(Comparative Example 1)
The
(評価)
これらの実施例1〜2および比較例1で作製したPDPを、同一の放電維持電圧(200V・100kHzの矩形波)を印加して、8000時間連続点灯させた後、輝度の変化率を測定した。放電輝度変化率は、上述の連続点灯前の輝度に対する連続点灯後の輝度の割合とした。その後、PDPを割断し、前面板の中央部の小片を切り出し、その切り出した小片の保護膜9の放電エリア内の酸化カルシウム含有率をX線光電子分光法 (アルバック・ファイ株式会社製 Quantera SXM)を用いて測定し、放電エリア内の酸化カルシウム濃度が最大となる部分の濃度(最大値)と最小となる部分の濃度(最小値)の比(最大値/最小値)の値を求めた。この測定結果を表1に示す。
(Evaluation)
The PDPs produced in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 were continuously lit for 8000 hours by applying the same discharge sustaining voltage (rectangular waves of 200 V and 100 kHz), and then the luminance change rate was measured. . The rate of change in discharge luminance was the ratio of the luminance after continuous lighting to the luminance before continuous lighting described above. Thereafter, the PDP is cleaved, a small piece in the center of the front plate is cut out, and the calcium oxide content in the discharge area of the
この表1の結果から明らかなように、実施例1,2のように保護膜9の酸化カルシウム濃度が誘電体側ほど低下する構成であれば、放電時間経過につれスパッタが進んだ領域の酸化カルシウム濃度が上がってきても、スパッタが進んだ領域では酸化カルシウム濃度の低い層に到達するため、保護膜の放電エリア内の酸化カルシウム濃度の差は小さくなり、輝度の低下を抑えることが出来た。なお、発明者らは、比較例1において輝度の低下が大きかった理由を分析した。すると、実施例1,2に比較して、放電幅が低下していることが分かった。具体的には、比較例1は、実施例1,2に比べ、印加したパルス電圧に対し、流れる電流の値が小さいことが分かった。発明者らは、輝度の低下は、この放電幅の低下によるものと推測している。
As is apparent from the results in Table 1, if the calcium oxide concentration of the
[他の実施形態]
本発明は、前述の実施形態に限られず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の修正および変更が可能である。
[Other Embodiments]
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications and changes can be made without departing from the spirit of the present invention.
(1)
上述の実施形態では、保護膜9は、酸化マグネシウムと酸化カルシウムとから形成されるものであった。しかし、これに限られず、保護膜は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、及び酸化バリウムのうちの任意の2つの酸化物を含むものでもよい。このとき、保護膜は、特定方位面についてのX線回折分析において、前記2つの酸化物の一方の酸化物単体を分析したときにピークが発生する回折角と、他方の酸化物単体を分析したときにピークが発生する回折角との間の回折角に、ピークが存在するものであると、実施形態と同じように、放電維持電圧を低下させることができる。
(1)
In the above-described embodiment, the
また、このとき、保護膜は、前記2つの酸化物のうち分子量の大きい方の酸化物の含有率が、前記放電空間側から少なくとも所定の深さまで、順に減少するように形成されていると、実施形態と同じように、スパッタによる輝度の低下を抑制することができる。 Further, at this time, when the protective film is formed so that the content of the oxide having the larger molecular weight of the two oxides decreases in order from the discharge space side to at least a predetermined depth, As in the embodiment, it is possible to suppress a decrease in luminance due to sputtering.
(2)
上述の実施の形態では、保護膜9は、複数層91a,91bからなり、放電空間側の第2の保護膜91bの酸化カルシウムの含有率は、誘電体層側の第1の保護膜91aの酸化カルシウムの含有率よりも大きい構成とした。しかし、保護膜9は、複数層とせず、酸化カルシウムの含有率が、前記放電空間側から少なくとも所定の深さまで、順に減少するように形成されている構成でもよい。所定の深さとは、スパッタによって放電空間に露出するであろうと考えられる深さとすればよく、PDPの仕様に応じて適宜決定できる。
(2)
In the above-described embodiment, the
[実施形態の特徴]
上記実施形態において特徴的な部分を以下に列記する。なお、上記実施形態に含まれる発明は、以下に限定されるものではない。なお、各構成の後ろに括弧で記載したものは、特徴の理解を助けるために記載した、各構成の具体例である。各構成はこれらの具体例に限定されるものではない。また、各特徴について記載された効果を得るためは、記載された特徴以外の構成は変形または削除されてもよい。
[Features of the embodiment]
Characteristic parts in the above embodiment are listed below. In addition, the invention included in the said embodiment is not limited to the following. In addition, what was described in parentheses after each configuration is a specific example of each configuration described to help understanding of the features. Each configuration is not limited to these specific examples. In addition, in order to obtain the effects described for each feature, configurations other than the described features may be modified or deleted.
(C1)
第1基板(前面板2)と、前記第1基板(前面板2)に対向配置された第2基板(背面板10)と、を備え、前記第1基板(前面板2)と前記第2基板(背面板10)との間に放電ガスが充填された放電空間(16)が形成されたプラズマディスプレイパネル(1)であって、
前記第1基板(前面板2)は、
基板(前面ガラス基板3)と、
前記基板(前面板2)上に形成した表示電極(6)と、
前記表示電極(6)を覆うように形成された誘電体層(8)と、
前記誘電体層(8)上に形成され、前記放電空間に露出する保護膜(9)と、を有し、
前記第2基板(背面板10)は、
前記表示電極(6)の方向と交差する方向に形成されたアドレス電極(12)と、
前記放電空間(16)を区画する隔壁(14)と、を有し、
前記保護膜(9)は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、及び酸化バリウムのうちの2つの酸化物を含み、
前記保護膜は、特定方位面についてのX線回折分析において、前記2つの酸化物の一方の酸化物単体を分析したときにピークが発生する回折角と、他方の酸化物単体を分析したときにピークが発生する回折角との間の回折角に、ピークが存在するものであり、
前記保護膜は、前記2つの酸化物のうち分子量の大きい方の酸化物の含有率が、前記放電空間側から少なくとも所定の深さまで、順に減少するように形成されている。
(効果)低電圧駆動が可能で、輝度の低下の少ないPDPを実現することができる。
(C1)
A first substrate (front plate 2); and a second substrate (back plate 10) disposed opposite to the first substrate (front plate 2), the first substrate (front plate 2) and the second substrate. A plasma display panel (1) in which a discharge space (16) filled with a discharge gas is formed between a substrate (back plate 10) and
The first substrate (front plate 2) is
A substrate (front glass substrate 3);
Display electrodes (6) formed on the substrate (front plate 2);
A dielectric layer (8) formed to cover the display electrode (6);
A protective film (9) formed on the dielectric layer (8) and exposed to the discharge space;
The second substrate (back plate 10) is
An address electrode (12) formed in a direction crossing the direction of the display electrode (6);
Partition walls (14) partitioning the discharge space (16),
The protective film (9) includes two oxides of magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, and barium oxide,
In the X-ray diffraction analysis of the specific orientation plane, the protective film has a diffraction angle at which a peak is generated when one oxide simple substance of the two oxides is analyzed, and when the other oxide simple substance is analyzed. There is a peak at a diffraction angle between the diffraction angle at which the peak occurs,
The protective film is formed such that the content of the oxide having the larger molecular weight of the two oxides decreases in order from the discharge space side to at least a predetermined depth.
(Effect) A PDP that can be driven at a low voltage and has a small decrease in luminance can be realized.
(C2)
C1に記載のプラズマディスプレイパネルであって、
前記保護膜は、複数層からなり、前記放電空間側の層の前記含有率は、前記誘電体層側の層の前記含有率よりも大きい。
(効果)前記保護膜は、前記2つの酸化物のうち分子量の大きい方の酸化物の含有率が、前記放電空間側から少なくとも所定の深さまで、順に減少するように形成するのが容易である。
(C2)
A plasma display panel according to C1,
The protective film includes a plurality of layers, and the content of the layer on the discharge space side is larger than the content of the layer on the dielectric layer side.
(Effect) It is easy to form the protective film so that the content ratio of the oxide having the larger molecular weight of the two oxides sequentially decreases from the discharge space side to at least a predetermined depth. .
以上のように本発明は、低消費電力であり、輝度維持率の高いPDPを実現する上で有用な発明である。 As described above, the present invention is useful for realizing a PDP with low power consumption and high luminance maintenance rate.
1 PDP
2 前面板
3 前面ガラス基板
4 走査電極
4a,5a 透明電極
4b,5b 金属バス電極
5 維持電極
6 表示電極
7 ブラックストライプ(遮光層)
8 誘電体層
9 保護膜
10 背面板
11 背面ガラス基板
12 アドレス電極
13 下地誘電体層
14 隔壁
15 蛍光体層
16 放電空間
81 第1誘電体層
82 第2誘電体層
91a 第1の保護膜
91b 第2の保護膜
1 PDP
2
8
Claims (2)
前記第1基板は、
基板と、
前記基板上に形成した表示電極と、
前記表示電極を覆うように形成された誘電体層と、
前記誘電体層上に形成され、前記放電空間に露出する保護膜と、を有し、
前記第2基板は、
前記表示電極の方向と交差する方向に形成されたアドレス電極と、
前記放電空間を区画する隔壁と、を有し、
前記保護膜は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、及び酸化バリウムのうちの2つの酸化物を含み、
前記保護膜は、特定方位面についてのX線回折分析において、前記2つの酸化物の一方の酸化物単体を分析したときにピークが発生する回折角と、他方の酸化物単体を分析したときにピークが発生する回折角との間の回折角に、ピークが存在するものであり、
前記保護膜は、前記2つの酸化物のうち分子量の大きい方の酸化物の含有率が、前記放電空間側から少なくとも所定の深さまで、順に減少するように形成されている、
プラズマディスプレイパネル。 A plasma display panel, comprising: a first substrate; and a second substrate disposed opposite to the first substrate, wherein a discharge space filled with a discharge gas is formed between the first substrate and the second substrate. Because
The first substrate is
A substrate,
Display electrodes formed on the substrate;
A dielectric layer formed to cover the display electrode;
A protective film formed on the dielectric layer and exposed to the discharge space;
The second substrate is
An address electrode formed in a direction crossing the direction of the display electrode;
Partition walls that partition the discharge space,
The protective film includes two oxides of magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, and barium oxide,
In the X-ray diffraction analysis of the specific orientation plane, the protective film has a diffraction angle at which a peak is generated when one oxide simple substance of the two oxides is analyzed, and when the other oxide simple substance is analyzed. There is a peak at a diffraction angle between the diffraction angle at which the peak occurs,
The protective film is formed such that the content of the oxide having the larger molecular weight of the two oxides decreases in order from the discharge space side to at least a predetermined depth.
Plasma display panel.
請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。 The protective film is composed of a plurality of layers, and the content of the layer on the discharge space side is larger than the content of the layer on the dielectric layer side,
The plasma display panel according to claim 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009194002A JP2011048918A (en) | 2009-08-25 | 2009-08-25 | Plasma display panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009194002A JP2011048918A (en) | 2009-08-25 | 2009-08-25 | Plasma display panel |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011048918A true JP2011048918A (en) | 2011-03-10 |
Family
ID=43835074
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009194002A Pending JP2011048918A (en) | 2009-08-25 | 2009-08-25 | Plasma display panel |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2011048918A (en) |
-
2009
- 2009-08-25 JP JP2009194002A patent/JP2011048918A/en active Pending
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