JP2011039135A - Display device and electronic apparatus - Google Patents

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JP2011039135A JP2009184185A JP2009184185A JP2011039135A JP 2011039135 A JP2011039135 A JP 2011039135A JP 2009184185 A JP2009184185 A JP 2009184185A JP 2009184185 A JP2009184185 A JP 2009184185A JP 2011039135 A JP2011039135 A JP 2011039135A
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Yutaka Kobashi
裕 小橋
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve such a problem that when a display property having high speed response and high contrast is desired to obtain, the size of holding capacity is too large to achieve higher definition. <P>SOLUTION: A write-in transistor is separated from a drive transistor, electric charges are supplied stably to pixel electrodes by supplying an applied voltage to the pixel electrodes directly from either of a scanning line or a capacity line. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、表示装置、及び当該表示装置を備える電子機器に関する。   The present invention relates to a display device and an electronic apparatus including the display device.

電気泳動ディスプレー(Electrophoresis Display、以下「EPD」と表記)などのメモリー性(記憶性)を有する表示素子を用いた表示装置は、応答速度は遅いものの、電源を切ったあとも同じ表示状態を保持し続けるため、紙の印刷物にかわる画像の表示手段として、電子ブック・電子ポスター・電子チラシなどの分野で普及が始まっている。これらの表示装置において、コントラストなどの表示性能を高めるためには、画素ごとに配置形成され、薄膜トランジスターなどのアクティブ素子を用いた画素回路で表示素子を駆動することが有効である。本明細書では、このような画素回路が形成された基板をアクティブマトリックス基板と称する。   Display devices using memory elements (memory) such as an electrophoretic display (hereinafter referred to as “EPD”) have a slow response speed but retain the same display state even after the power is turned off. Therefore, as an image display means replacing a printed matter on paper, it has begun to spread in the fields of electronic books, electronic posters, electronic leaflets, and the like. In these display devices, in order to improve display performance such as contrast, it is effective to drive the display element with a pixel circuit that is arranged and formed for each pixel and uses an active element such as a thin film transistor. In this specification, a substrate on which such a pixel circuit is formed is referred to as an active matrix substrate.

アクティブマトリックス基板に形成される画素回路の具体的な構成としては、例えば前述した特許文献1における図5に記載されているように、1トランジスター1コンデンサーの画素回路を用いるのが一般的である。しかしながら、このような画素回路が形成されたアクティブマトリックス基板によって、応答速度の遅い表示素子を駆動する場合、高精細化の妨げとなった。すなわち、表示シーケンスで画素電極に所望の電圧(電位)を印加しても、アクティブ素子がオフ(OFF)して高インピーダンス状態となった後、表示素子内の電荷の移動によって画素電極の電圧(電位)が低下するため、本来の表示状態まで至らない書込み不足となってコントラストの低下をまねく。この電圧(電位)低下(書込み不足)を防止するためには、コンデンサーの容量(保持容量)を大きくする必要がある。その結果、コンデンサーの面積を大きくしなければならず、高精細化の妨げとなっているのである。   As a specific configuration of the pixel circuit formed on the active matrix substrate, for example, as described in FIG. 5 in Patent Document 1 described above, a pixel circuit having one transistor and one capacitor is generally used. However, when a display element having a slow response speed is driven by an active matrix substrate on which such a pixel circuit is formed, high definition is hindered. That is, even if a desired voltage (potential) is applied to the pixel electrode in the display sequence, the active element is turned off (OFF) to enter a high impedance state, and then the pixel electrode voltage ( (Potential) is reduced, writing becomes insufficient to reach the original display state, resulting in a decrease in contrast. In order to prevent this voltage (potential) drop (writing shortage), it is necessary to increase the capacity of the capacitor (retention capacity). As a result, the area of the capacitor must be increased, which hinders high definition.

この課題の解決策として、例えば、特許文献2に開示されているように画素回路にCMOSのSRAM構成を用いたメモリー回路を設け、表示シーケンス中、画素電極に対して所望の電位が安定して供給されるように構成すれば、画素電極の電圧(電位)低下を防止でき、このような不具合は生じない。   As a solution to this problem, for example, as disclosed in Patent Document 2, a memory circuit using a CMOS SRAM configuration is provided in the pixel circuit, and a desired potential is stabilized with respect to the pixel electrode during the display sequence. If configured to be supplied, the voltage (potential) drop of the pixel electrode can be prevented, and such a problem does not occur.

特許第3719172号公報Japanese Patent No. 3719172 特開2003−84314号公報JP 2003-84314 A

しかしながら、このようなメモリー回路を設けると、トランジスターの数が多くなるため、やはり高精細化が難しくなるという課題がある。また、CMOSプロセスを必要とするので、NMOSまたはPMOSのいずれかのプロセスで製造する場合と比較して、コストが高くなるという課題がある。従って、メモリー性を有する表示素子を用いた表示装置(例えば、EPD)において、高精細であってコントラストなどの表示性能の低下が抑制された表示装置を、できるだけコストの上昇が抑制された技術で提供することが望まれていた。   However, when such a memory circuit is provided, the number of transistors increases, so that there is still a problem that high definition is difficult. In addition, since a CMOS process is required, there is a problem that the cost becomes higher as compared with the case of manufacturing by either NMOS or PMOS processes. Therefore, in a display device using a display element having a memory property (for example, EPD), a display device that has high definition and suppresses a decrease in display performance such as contrast is achieved by a technique that suppresses an increase in cost as much as possible. It was desired to provide.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following application examples.

[適用例1]複数の走査線と、前記複数の走査線と交差する複数のデータ線と、前記走査線と前記データ線の各交差部に対応して設けられた画素毎に配置された画素回路と、を備えた表示装置であって、前記画素回路は、前記走査線に沿って設けられた容量線と、画素電極と、第1トランジスターと、第2トランジスターとを有し、前記第1トランジスターは、ゲート電極が前記走査線に、ソース電極またはドレイン電極のうち一方が前記データ線に、他方が前記第2トランジスターのゲート電極に、それぞれ電気的に接続され、前記第2トランジスターのソース電極またはドレイン電極のうち、一方が前記走査線または前記容量線に、他方が前記画素電極に、それぞれ電気的に接続されていることを特徴とする。   Application Example 1 Pixels arranged for each of a plurality of scanning lines, a plurality of data lines intersecting with the plurality of scanning lines, and a pixel provided corresponding to each intersection of the scanning lines and the data lines The pixel circuit includes a capacitor line provided along the scanning line, a pixel electrode, a first transistor, and a second transistor, and the first circuit includes a first transistor and a second transistor. In the transistor, a gate electrode is electrically connected to the scanning line, one of a source electrode or a drain electrode is electrically connected to the data line, and the other is electrically connected to the gate electrode of the second transistor, and the source electrode of the second transistor Alternatively, one of the drain electrodes is electrically connected to the scanning line or the capacitor line, and the other is electrically connected to the pixel electrode.

この構成によれば、第1トランジスターによってオンオフが制御される第2トランジスターによって、走査線または容量線から画素電極に対して電圧を印加することができる。この結果、画素電極に対して安定した電圧を印加することができるので、書き込み不足などの不具合が生じる確率が低くなる。従って、コントラストなどの表示性能の低下が抑制された表示装置を提供することができる。また、第2トランジスターのための電源配線を別に必要としないため、高精細な表示装置が実現できる。   According to this configuration, the voltage can be applied to the pixel electrode from the scanning line or the capacitor line by the second transistor whose on / off is controlled by the first transistor. As a result, since a stable voltage can be applied to the pixel electrode, the probability of occurrence of a problem such as insufficient writing is reduced. Therefore, it is possible to provide a display device in which a decrease in display performance such as contrast is suppressed. Further, since a separate power supply wiring for the second transistor is not required, a high-definition display device can be realized.

[適用例2]上記表示装置であって、前記画素回路において、前記第1トランジスターがオンして、前記第2トランジスターのゲート電極に前記第2トランジスターがオンする電圧が印加されたのち、前記走査線もしくは前記容量線のいずれかから、前記画素が表示する画像に応じた電圧が前記画素電極に印加されるように駆動されることを特徴とする。   Application Example 2 In the display device, in the pixel circuit, the first transistor is turned on, and a voltage for turning on the second transistor is applied to the gate electrode of the second transistor, and then the scanning is performed. The driving is performed so that a voltage corresponding to an image displayed by the pixel is applied to the pixel electrode from either the line or the capacitor line.

この構成によれば、走査線とデータ線に印加する電圧を制御することによって、第1トランジスターによって第2トランジスターのオンオフを制御するとともに、走査線または容量線の電圧を制御することによって、画素に表示する画像に応じた電圧を画素電極に対して安定して印加することができる。また、第2トランジスターのための電源配線を別に必要としないため、高精細な表示装置が実現できる。   According to this configuration, by controlling the voltage applied to the scan line and the data line, the first transistor controls the on / off of the second transistor, and by controlling the voltage of the scan line or the capacitor line, A voltage corresponding to the image to be displayed can be stably applied to the pixel electrode. Further, since a separate power supply wiring for the second transistor is not required, a high-definition display device can be realized.

[適用例3]上記表示装置であって、前記第2トランジスターを2つ備え、前記2つの第2トランジスターの一方はpチャンネルトランジスターで、他方はnチャンネルトランジスターであり、前記pチャンネルトランジスターのソース電極またはドレイン電極のうち、一方が前記容量線に他方が前記画素電極に、それぞれ電気的に接続され、前記nチャンネルトランジスターのソース電極またはドレイン電極のうち、一方が前記走査線に他方が前記画素電極に、それぞれ電気的に接続されていることを特徴とする。   Application Example 3 In the display device, the two second transistors are provided, one of the two second transistors is a p-channel transistor and the other is an n-channel transistor, and the source electrode of the p-channel transistor Alternatively, one of the drain electrodes is electrically connected to the capacitor line and the other is electrically connected to the pixel electrode, and one of the source electrode and the drain electrode of the n-channel transistor is the scanning line and the other is the pixel electrode. In addition, each is electrically connected.

この構成によれば、pチャンネルとnチャンネルのトランジスターによってインバーター回路を構成し、画素に表示する電圧を、走査線または容量線から画素電極に対して安定して印加することができる。   According to this configuration, an inverter circuit is configured by p-channel and n-channel transistors, and a voltage to be displayed on the pixel can be stably applied to the pixel electrode from the scanning line or the capacitor line.

[適用例4]上記表示装置であって、前記第2トランジスターのゲート電極と前記容量線との間に保持容量が電気的に接続されていることを特徴とする。   Application Example 4 In the display device, a storage capacitor is electrically connected between the gate electrode of the second transistor and the capacitor line.

この構成によれば、第1トランジスターのリークによるゲート電圧の低下を抑制して、第2トランジスターの動作状態を維持することが可能となる。   According to this configuration, it is possible to maintain the operation state of the second transistor while suppressing a decrease in the gate voltage due to the leakage of the first transistor.

[適用例5]上記表示装置であって、記憶性表示素子を備え、前記画素電極は、前記記憶性表示素子に対して電圧を印加するための電極であることを特徴とする。   Application Example 5 The display device includes a memory display element, and the pixel electrode is an electrode for applying a voltage to the memory display element.

記憶性表示素子は、容量を有して電荷が移動することから表示動作において安定した電圧の供給を必要とする。したがって上記表示装置は画素電極に安定して電圧を供給するので、記憶性表示素子に対して印加される電圧の低下が生じないように電荷を供給することができる。   Since the memory-type display element has a capacity and charges move, a stable voltage supply is required in the display operation. Therefore, since the display device stably supplies a voltage to the pixel electrode, the charge can be supplied so as not to decrease the voltage applied to the memory display element.

[適用例6]上記表示装置であって、前記記憶性表示素子は、電気泳動素子であることを特徴とする。   Application Example 6 In the display device, the memory display element is an electrophoretic element.

電気泳動素子は薄くまた消費電力が少ないことから、薄型で低消費電力の表示素子となる。従って、記憶性表示素子として電気泳動素子を備えた上記表示装置は、高精細・高品質でかつコスト上昇が抑制された表示装置を実現することができる。   Since the electrophoretic element is thin and consumes little power, the display element is thin and has low power consumption. Therefore, the display device including an electrophoretic element as a memory display element can realize a display device with high definition, high quality, and cost increase suppressed.

[適用例7]上記表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。   Application Example 7 Electronic equipment including the display device.

この構成によれば、画素に表示する画像に応じた電圧が書込み不足になることなく、安定した高品質の画像を表示する電子機器を提供することができる。   According to this configuration, it is possible to provide an electronic device that displays a stable and high-quality image without causing insufficient writing of the voltage corresponding to the image displayed on the pixel.

実施形態に係る表示装置を示す図で、(a)は斜視構成図、(b)は部分断面図。It is a figure which shows the display apparatus which concerns on embodiment, (a) is a perspective block diagram, (b) is a fragmentary sectional view. 実施形態に係るアクティブマトリックス基板の構成図。1 is a configuration diagram of an active matrix substrate according to an embodiment. 実施形態に係る電子機器を説明するブロック図。1 is a block diagram illustrating an electronic device according to an embodiment. 従来例のアクティブマトリックス基板の画素回路図。The pixel circuit diagram of the active matrix substrate of a prior art example. 第1実施例のアクティブマトリックス基板の画素回路図。1 is a pixel circuit diagram of an active matrix substrate of a first embodiment. FIG. 第1実施例での消去シーケンスを説明するためのタイミングチャート。6 is a timing chart for explaining an erase sequence in the first embodiment. 第1実施例での表示シーケンスを説明するためのタイミングチャート。The timing chart for demonstrating the display sequence in 1st Example. 第1実施例の画素回路において、保持容量素子を取り除いた回路図。FIG. 3 is a circuit diagram in which a storage capacitor element is removed from the pixel circuit of the first embodiment. 第2実施例のアクティブマトリックス基板の画素回路図。The pixel circuit diagram of the active matrix board | substrate of 2nd Example. 第2実施例での消去シーケンスを説明するためのタイミングチャート。The timing chart for demonstrating the erase sequence in 2nd Example. 第2実施例での表示シーケンスを説明するためのタイミングチャート。The timing chart for demonstrating the display sequence in 2nd Example. 第2実施例の画素回路において、保持容量素子を取り除いた回路図。FIG. 6 is a circuit diagram in which a storage capacitor element is removed from a pixel circuit according to a second embodiment.

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に基づいて説明する。なお、以降の説明において使用する図面は、説明の都合上構成要素の寸法を誇張して図示している場合もあり、必ずしも実際の大きさを示すものでないことは勿論である。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings used in the following description may exaggerate the dimensions of the constituent elements for convenience of description, and of course do not necessarily indicate the actual size.

(表示装置)
図1は本実施形態に係る表示装置910を示す図で、(a)は斜視構成図であり、(b)は部分断面図である。図示するように、表示装置910は、画素電極を有し、この画素電極にトランジスターを介して電位を印加するように構成された画素回路が配置形成されたアクティブマトリックス基板101と、記憶性表示素子である電気泳動素子921と、保護シート922とを備えている。電気泳動素子921は、アクティブマトリックス基板101と保護シート922との間に挟持された構造を有している。
(Display device)
1A and 1B are diagrams showing a display device 910 according to the present embodiment, in which FIG. 1A is a perspective configuration diagram, and FIG. As shown in the figure, a display device 910 has a pixel electrode, and an active matrix substrate 101 in which a pixel circuit configured to apply a potential to the pixel electrode via a transistor is disposed, and a memory display element The electrophoretic element 921 and the protective sheet 922 are provided. The electrophoretic element 921 has a structure sandwiched between the active matrix substrate 101 and the protective sheet 922.

ここで電気泳動素子921は50μm程度の粒径を有し、光透過可能な高分子樹脂によって形成されたカプセルを、隙間無く一層に充填したものである。カプセルの内部には、有機溶剤と水と界面活性剤からなる分散剤と、分散質として負に帯電した白色顔料粒子WRと、正に帯電した黒色顔料粒子BRとが封入されている。   Here, the electrophoretic element 921 has a particle diameter of about 50 μm, and is filled with capsules made of a polymer resin capable of transmitting light without gaps. Inside the capsule, a dispersant composed of an organic solvent, water and a surfactant, white pigment particles WR negatively charged as dispersoids, and black pigment particles BR positively charged are encapsulated.

また保護シート922は厚さ300μm程度のPET(Poly Ethylene Terephthalate)樹脂よりなり、電気泳動素子921との接触面にはITO(Indium Tin Oxide)薄膜よりなる共通電極COMが形成されている。保護シート922は電気泳動素子921より1辺が長くなっており、電気泳動素子921が存在しない突き出し部位に導電ペースト931が塗布され、共通電極COMとアクティブマトリックス基板101上の共通電極パット(後述の図2、共通電極パット330参照)と電気的に接続(短絡)されている。   The protective sheet 922 is made of PET (Poly Ethylene Terephthalate) resin having a thickness of about 300 μm, and a common electrode COM made of an ITO (Indium Tin Oxide) thin film is formed on the contact surface with the electrophoretic element 921. The protective sheet 922 has one side longer than the electrophoretic element 921, and a conductive paste 931 is applied to a protruding portion where the electrophoretic element 921 does not exist, and the common electrode COM and a common electrode pad (described later) on the active matrix substrate 101. 2 (see FIG. 2, common electrode pad 330).

また、アクティブマトリックス基板101は電気泳動素子921及び保護シート922よりも面積が広くなっており、この広くなった張り出し部に可撓性基板としての第1のFPC951と可撓性基板としての第2のFPC961が実装されている。第1のFPC951上にはゲートドライバー952が、第2のFPC961上にはソースドライバー962が、それぞれCOF(Chip On Film)実装されている。   Further, the active matrix substrate 101 has a larger area than the electrophoretic element 921 and the protective sheet 922, and a first FPC 951 as a flexible substrate and a second FPC as a flexible substrate are formed in the widened protruding portion. FPC961 is installed. A gate driver 952 is mounted on the first FPC 951, and a source driver 962 is mounted on the second FPC 961, respectively.

なお、本実施形態では第1のFPC951、ゲートドライバー952、第2のFPC961、ソースドライバー962を各1個で構成したが、それぞれ複数個であっても構わないし、ゲートドライバー952とソースドライバー962を一つのICに統合したワンチップドライバーを用いてもよい。また、ゲートドライバー952やソースドライバー962をアクティブマトリックス基板101上に形成する駆動回路内蔵型アクティブマトリックス基板を用いても良い。   In the present embodiment, the first FPC 951, the gate driver 952, the second FPC 961, and the source driver 962 are each constituted by one, but a plurality of them may be provided, and the gate driver 952 and the source driver 962 may be provided. A one-chip driver integrated into one IC may be used. Alternatively, an active matrix substrate with a built-in driving circuit in which the gate driver 952 and the source driver 962 are formed on the active matrix substrate 101 may be used.

次に、アクティブマトリックス基板101について説明する。図2はアクティブマトリックス基板101の構成図である。アクティブマトリックス基板101上には480本の走査線201(201−1〜201−480)と1920本のデータ線202(202−1〜202−1920)が交差して形成されており、480本の容量線203(203−1〜203−480)は走査線201に沿う方向で、かつ走査線201と交互に配置されている。容量線203−1〜203−480は配線335を介して実装端子320と接続され、共通電極パット330は共通電位配線336を介して実装端子321と接続される。なお、図2において二点鎖線で示した領域は、表示装置として構成した時に図1で示した電気泳動素子921が平面的に重なる領域であり、表示領域Aに相当する。   Next, the active matrix substrate 101 will be described. FIG. 2 is a configuration diagram of the active matrix substrate 101. On the active matrix substrate 101, 480 scanning lines 201 (201-1 to 201-480) and 1920 data lines 202 (202-1 to 202-1920) are formed to intersect with each other. The capacitor lines 203 (203-1 to 203-480) are arranged along the scanning lines 201 and alternately with the scanning lines 201. The capacitor lines 203-1 to 203-480 are connected to the mounting terminal 320 via the wiring 335, and the common electrode pad 330 is connected to the mounting terminal 321 via the common potential wiring 336. 2 is a region in which the electrophoretic element 921 shown in FIG. 1 overlaps in plan view when configured as a display device, and corresponds to the display region A.

走査線201−1〜201−480はそれぞれ、実装端子301−1〜301−480に接続され、第1のFPC951を介してゲートドライバー952に接続されて、所定のタイミングで電圧信号が供給される。同様にデータ線202−1〜202−1920はそれぞれ、実装端子302−1〜302−1920に接続され、第2のFPC961を介してソースドライバー962に接続されて、画像信号に応じた電圧信号が供給される。実装端子320および実装端子321も同様に第2のFPC961を介してソースドライバー962と接続されて、所定の電圧信号が供給される。   The scanning lines 201-1 to 201-480 are respectively connected to the mounting terminals 301-1 to 301-480, connected to the gate driver 952 via the first FPC 951, and a voltage signal is supplied at a predetermined timing. . Similarly, the data lines 202-1 to 202-1920 are connected to the mounting terminals 302-1 to 302-1920, respectively, and connected to the source driver 962 via the second FPC 961, so that a voltage signal corresponding to the image signal is received. Supplied. Similarly, the mounting terminal 320 and the mounting terminal 321 are connected to the source driver 962 via the second FPC 961 and supplied with a predetermined voltage signal.

さらに、本実施形態の表示装置910は、ゲートドライバー952やソースドライバー962に供給する電圧と、この電圧が画素回路に供給されるタイミングとを制御する制御回路が備えられている。制御回路は、第1のFPC951および第2のFPC961と電気的に接続された別基板(不図示)に形成されている。なお、制御回路は、アクティブマトリックス基板101上に形成されることとしてもよい。   Further, the display device 910 of this embodiment includes a control circuit that controls a voltage supplied to the gate driver 952 and the source driver 962 and a timing at which the voltage is supplied to the pixel circuit. The control circuit is formed on a separate substrate (not shown) that is electrically connected to the first FPC 951 and the second FPC 961. Note that the control circuit may be formed on the active matrix substrate 101.

(電子機器)
図3は本実施形態に係る電子機器1000の具体的な構成を示すブロック図である。電子機器1000は、電圧生成回路784、画像処理回路780、中央演算回路781、外部I/F(インターフェイス)回路782、および入出力機器783を備えている。なお、表示装置910は図1で説明した表示装置である。
(Electronics)
FIG. 3 is a block diagram showing a specific configuration of the electronic apparatus 1000 according to the present embodiment. The electronic device 1000 includes a voltage generation circuit 784, an image processing circuit 780, a central processing circuit 781, an external I / F (interface) circuit 782, and an input / output device 783. The display device 910 is the display device described in FIG.

画像処理回路780は画像信号を、電圧生成回路784は生成した電圧信号を、第1のFPC951を介してゲートドライバー952に、および第2のFPC961を介してソースドライバー962に、それぞれ供給する。中央演算回路781は、外部I/F回路782を介して入出力機器783からの入力データ(表示データ)を取得する。ここで入出力機器783とは、例えば、キーボード、マウス、トラックボール、タッチパネル、LED、スピーカー、アンテナなどである。   The image processing circuit 780 supplies the image signal, and the voltage generation circuit 784 supplies the generated voltage signal to the gate driver 952 through the first FPC 951 and to the source driver 962 through the second FPC 961. The central processing circuit 781 acquires input data (display data) from the input / output device 783 via the external I / F circuit 782. Here, the input / output device 783 is, for example, a keyboard, a mouse, a trackball, a touch panel, an LED, a speaker, an antenna, or the like.

中央演算回路781が外部I/F回路782を介して入力された表示データをもとに各種演算処理を行い、結果をコマンドとして画像処理回路780へ転送する。そして画像処理回路780が中央演算回路781からのコマンドに基づき画像情報を更新し、ゲートドライバー952およびソースドライバー962に対して画像情報に応じた新しい画像信号を供給する。この結果、画素回路に供給される電圧が制御されることによって、表示装置910の表示領域Aにおける電気泳動素子921(図1参照)に印加される電圧が制御され、表示装置910は表示画像が変化する。   The central arithmetic circuit 781 performs various arithmetic processes based on the display data input via the external I / F circuit 782, and transfers the result to the image processing circuit 780 as a command. Then, the image processing circuit 780 updates the image information based on the command from the central processing circuit 781 and supplies a new image signal corresponding to the image information to the gate driver 952 and the source driver 962. As a result, by controlling the voltage supplied to the pixel circuit, the voltage applied to the electrophoretic element 921 (see FIG. 1) in the display area A of the display device 910 is controlled, and the display device 910 displays a display image. Change.

電子機器1000の具体例としては、図示しないが、例えば、携帯ドキュメントリーダー、電子ブック、電子ポスター、電子チラシ、モニター、TV、ノートパソコン、PDA、デジタルカメラ、ビデオカメラ、携帯電話、携帯フォトビューワー、携帯ビデオプレイヤー、携帯DVDプレイヤー、携帯オーディオプレイヤーなどがあげられる。   As a specific example of the electronic device 1000, although not shown, for example, a portable document reader, an electronic book, an electronic poster, an electronic flyer, a monitor, a TV, a notebook computer, a PDA, a digital camera, a video camera, a mobile phone, a portable photo viewer, Examples include portable video players, portable DVD players, and portable audio players.

ここで、表示装置910の表示原理について説明する。図1に示すように、電気泳動素子921中には分散質として負に帯電した白色顔料粒子WRと、正に帯電した黒色顔料粒子BRとが封入されている。従って、共通電極COMの電位が画素電極の電位より高ければ白色顔料粒子WRが保護シート922側に、黒色顔料粒子BRがアクティブマトリックス基板101側に移動し、保護シート922側からみると白表示になる。共通電極COMの電位が画素電極の電位より低ければ逆に各顔料粒子が動き、保護シート922側からみると黒表示になる。各顔料粒子の移動速度は共通電極COMの電位と画素電極の電位との差に比例する。また、共通電極COMの電位と画素電極の電位が等しければ各顔料粒子の移動はないように調整されているので、直前の表示状態を保持する。   Here, the display principle of the display device 910 will be described. As shown in FIG. 1, the electrophoretic element 921 encloses negatively charged white pigment particles WR and positively charged black pigment particles BR as dispersoids. Therefore, if the potential of the common electrode COM is higher than the potential of the pixel electrode, the white pigment particles WR move to the protective sheet 922 side, and the black pigment particles BR move to the active matrix substrate 101 side, and white display appears when viewed from the protective sheet 922 side. Become. Conversely, if the potential of the common electrode COM is lower than the potential of the pixel electrode, each pigment particle moves, and when viewed from the protective sheet 922 side, black is displayed. The moving speed of each pigment particle is proportional to the difference between the potential of the common electrode COM and the potential of the pixel electrode. Further, if the potential of the common electrode COM and the potential of the pixel electrode are equal, the adjustment is made so that the pigment particles do not move, so the previous display state is maintained.

従って、例えば共通電極COMを0Vに保ち、各画素電極にプラスの電位を与えれば黒表示、マイナス電位を与えれば白表示を行うことができる。また、その際に共通電極COMと各画素電極の電位差が低下せず保持されていれば顔料粒子の移動は遅くならず、かつ最終的な表示コントラストも高くなる。なお、本実施形態では白黒表示の電気泳動素子921を用いたが、画素ごとに異なる色の顔料を封入したカプセルを用いてカラー表示を行う電気泳動素子921を用いることとしても差し支えない。   Therefore, for example, when the common electrode COM is kept at 0 V and a positive potential is applied to each pixel electrode, black display can be performed, and when a negative potential is applied, white display can be performed. At this time, if the potential difference between the common electrode COM and each pixel electrode is maintained without being lowered, the movement of the pigment particles is not slowed and the final display contrast is also increased. In this embodiment, the monochrome display electrophoretic element 921 is used. However, an electrophoretic element 921 that performs color display using a capsule in which a pigment of a different color is sealed for each pixel may be used.

また、本実施形態では現在の表示している画像を白で塗りつぶして画像の表示領域A全面を白表示状態にする消去シーケンスと、表示したい画像が黒に相当する画素を白表示から黒表示に書き換える表示シーケンスを連続して行うことで画像表示を行う。このように消去シーケンスと表示シーケンスを別々にすることで、耐圧の低いトランジスターでも十分な電位を印加し、応答速度とコントラストを高めることができることについては特許文献1などに記載されている通りである。   In the present embodiment, the currently displayed image is filled with white to erase the entire display area A of the image, and the pixel corresponding to the image to be displayed is changed from white display to black display. The image display is performed by continuously performing the display sequence to be rewritten. As described in Patent Document 1 and the like, by separating the erase sequence and the display sequence in this manner, a sufficient potential can be applied even to a transistor with a low breakdown voltage, and the response speed and contrast can be increased. .

さて、本実施形態の表示装置910では、画像表示に際して、コントラストなどの表示性能の低下を抑制する電気泳動素子921の駆動が行われるが、この駆動技術を説明する前に、従来例の駆動技術について説明する。これは、表示装置910において、後述する本実施形態における駆動技術の第1実施例および第2実施例が奏する効果についての理解を容易にするためである。   In the display device 910 of the present embodiment, the electrophoretic element 921 that suppresses a decrease in display performance such as contrast is driven during image display. Prior to describing this driving technique, the driving technique of the conventional example is performed. Will be described. This is for the purpose of facilitating understanding of the effects of the first and second examples of the driving technique in the present embodiment, which will be described later, in the display device 910.

(従来例)
図4は、従来の画素回路を示す回路図で、一例として、m番目のデータ線202−m(m=1〜1920の整数)とn番目の走査線201−n(n=1〜480の整数)の交差部付近に配置形成された画素回路を示している。走査線201−nとデータ線202−mの交点にはnチャンネル電界効果型トランジスターよりなる書込みトランジスター401−n−mが形成されており、そのゲート電極は走査線201−nに接続される。また、ソース電極はデータ線202−mと、ドレイン電極は第1の保持容量素子403−n−mの一端と画素電極405−n−mとに接続される。第1の保持容量素子403−n−mの他端は容量線203−nに接続される。また、画素電極405−n−mと保護シート922上の共通電極COMは電気泳動素子921を介して対向し、容量を形成する。
(Conventional example)
FIG. 4 is a circuit diagram showing a conventional pixel circuit. As an example, the m-th data line 202-m (m = 1 to 1920) and the n-th scan line 201-n (n = 1 to 480). The pixel circuit arranged and formed in the vicinity of the intersection of (integer) is shown. A write transistor 401-nm, which is an n-channel field effect transistor, is formed at the intersection of the scan line 201-n and the data line 202-m, and its gate electrode is connected to the scan line 201-n. The source electrode is connected to the data line 202-m, and the drain electrode is connected to one end of the first storage capacitor element 403-nm and the pixel electrode 405-nm. The other end of the first storage capacitor element 403-n-m is connected to the capacitor line 203-n. Further, the pixel electrode 405-nm and the common electrode COM on the protective sheet 922 are opposed to each other through the electrophoretic element 921 to form a capacitor.

このように構成された従来の画素回路において、前述したように書込み不足が生ずる。これを表示シーケンスにおける黒表示の書込み動作を例に挙げ説明する。表示シーケンスでは、各走査線201−1〜201−480はゲートドライバー952により順次選択される。すなわち、本実施形態では、走査線201−nは30μ秒間+20Vになった(選択された)後、0Vに戻る電圧信号が供給される。このとき、共通電極COMの電位は0Vを保ち、容量線203−nの電位は0Vである。   In the conventional pixel circuit configured as described above, insufficient writing occurs as described above. This will be described by taking a black display write operation in the display sequence as an example. In the display sequence, the scanning lines 201-1 to 201-480 are sequentially selected by the gate driver 952. In other words, in the present embodiment, the scanning line 201-n is supplied with a voltage signal that returns to 0 V after having been +20 V (selected) for 30 μsec. At this time, the potential of the common electrode COM is kept at 0V, and the potential of the capacitor line 203-n is 0V.

走査線201−nが選択された際、黒表示に対応する場合はデータ線202−mには15Vが供給され、画素電極405−n−mに15Vが書き込まれる。このとき、書き込まれた画素電極405−n−mの電位15Vは容量線203−nとの間に挿入された第1の保持容量素子403−n−mによって保持される。   When the scanning line 201-n is selected, 15V is supplied to the data line 202-m and 15V is written to the pixel electrode 405-n-m when corresponding to black display. At this time, the written potential 15 V of the pixel electrode 405 -n-m is held by the first holding capacitor element 403 -n-m inserted between the capacitor line 203 -n.

すると、共通電極COMの電位<画素電極405−n−mの電位となるので粒子の移動が発生し、黒表示状態へと変化する。その後、書込みトランジスター401−n−mはオフして高インピーダンス状態になるためデータ線202−mから電荷が供給されない状態となるが、第1の保持容量素子403−n−mに保持された電荷が画素電極405−n−mに供給される。   Then, since the potential of the common electrode COM <the potential of the pixel electrode 405-nm, particle movement occurs, and the state changes to a black display state. After that, the write transistor 401-nm is turned off to be in a high impedance state, so that no charge is supplied from the data line 202-m. However, the charge held in the first storage capacitor element 403-nm Is supplied to the pixel electrode 405-nm.

しかしながら、第1の保持容量素子403−n−mに保持された電荷は有限であることから、粒子の移動に伴って画素電極405−n−mの電位低下が発生し、コントラストの低下やさらに顔料粒子の移動速度つまり応答速度が低下する。従って、このような電位低下を抑制するためには、第1の保持容量素子403−n−mに保持された電荷が多くなるように容量を大きくすればよいことは明らかであるが、第1の保持容量素子403−n−mの形成領域(平面積)が大きくなるため、高精細化ができなくなってしまう。   However, since the electric charge held in the first holding capacitor element 403-nm is finite, the potential of the pixel electrode 405-nm is lowered with the movement of the particles, and the contrast is lowered. The moving speed of pigment particles, that is, the response speed decreases. Therefore, in order to suppress such a potential drop, it is obvious that the capacitance should be increased so that the charge held in the first storage capacitor element 403-nm is increased. Since the formation region (planar area) of the storage capacitor element 403-nm is large, high definition cannot be achieved.

そこで、本実施形態では顔料粒子の移動による電位低下防止のため、安定した電圧の供給を第1の保持容量素子403−n−mからではなく、走査線201−nあるいは、容量線203−nから行えるようにする。こうすることによって、電荷が安定して画素電極405−n−mに供給されるようになるので、画素電極405−n−mの電圧低下が抑制され、応答速度の低下が抑制された高い応答速度を可能とする表示装置が提供できる。従って、第1の保持容量素子403−n−mの容量を大きくすることなく、従来の1トランジスター・1コンデンサー構成の場合と比べ、高コントラストの表示が可能な表示装置が提供できる。さらに、電源の供給のために新たな配線を必要としないため、高精細な表示装置とすることができる。   Therefore, in this embodiment, in order to prevent a potential drop due to the movement of the pigment particles, a stable voltage is not supplied from the first holding capacitor element 403-n-m, but the scanning line 201-n or the capacitor line 203-n. To be able to. By doing so, the charge is stably supplied to the pixel electrode 405-nm, so that a voltage drop of the pixel electrode 405-nm is suppressed, and a high response in which a decrease in response speed is suppressed. A display device capable of speed can be provided. Accordingly, it is possible to provide a display device capable of displaying a high contrast without increasing the capacitance of the first storage capacitor element 403-nm as compared with the conventional one-transistor / one-capacitor configuration. Further, since no new wiring is required for power supply, a high-definition display device can be obtained.

(第1実施例)
次に図5〜図7を用いて第1実施例の駆動技術を説明する。なお、図5は本実施例の画素回路図であり、図6は本実施例の消去シーケンスのタイミングチャートである。また、図7は本実施例の表示シーケンスのタイミングチャートである。
(First embodiment)
Next, the driving technique of the first embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a pixel circuit diagram of this embodiment, and FIG. 6 is a timing chart of the erase sequence of this embodiment. FIG. 7 is a timing chart of the display sequence of this embodiment.

図5に示した画素回路は、m番目のデータ線202−m(m=1〜1920の整数)とn番目の走査線201−n(n=1〜480の整数)の交差部付近の画素回路である。走査線201−nとデータ線202−mの各交点にはnチャンネル電界効果型トランジスターよりなる書込みトランジスター401−n−mが形成されており、そのゲート電極は走査線201−nに、ソース・ドレイン電極はそれぞれデータ線202−mと中間電極402−n−mに接続される。なお、書込みトランジスター401−n−mは適用例に記載の第1トランジスターに相当する。   The pixel circuit shown in FIG. 5 is a pixel near the intersection of the mth data line 202-m (m = 1 to 1920) and the nth scanning line 201-n (n = 1 to 480). Circuit. A write transistor 401-nm, which is an n-channel field effect transistor, is formed at each intersection of the scanning line 201-n and the data line 202-m, and its gate electrode is connected to the scanning line 201-n, the source The drain electrodes are connected to the data line 202-m and the intermediate electrode 402-nm, respectively. Note that the writing transistor 401-nm corresponds to the first transistor described in the application example.

中間電極402−n−mはnチャネル電界効果型トランジスターよりなる第1の駆動トランジスター404−n−mのゲート電極とpチャンネル電界効果型トランジスターよりなる第2の駆動トランジスター406−n−mのゲート電極と第1の保持容量素子403−n−mの一端に接続され、第1の駆動トランジスター404−n−mと第2の駆動トランジスター406−n−mのドレイン電極は画素電極405−n−mに接続される。なお、第1の駆動トランジスター404−n−mと第2の駆動トランジスター406−n−mは、適用例に記載の第2トランジスターに相当する。   The intermediate electrode 402-nm is a gate electrode of a first driving transistor 404-nm that is an n-channel field effect transistor and a gate of a second driving transistor 406-nm that is a p-channel field effect transistor. The electrode is connected to one end of the first storage capacitor element 403-nm, and the drain electrodes of the first driving transistor 404-nm and the second driving transistor 406-nm are pixel electrodes 405-n- connected to m. Note that the first driving transistor 404-nm and the second driving transistor 406-nm correspond to the second transistor described in the application example.

画素電極405−n−mと保護シート922上の共通電極COMは電気泳動素子921を介して対向し、容量を形成する。第1の駆動トランジスター404−n−mのソース電極は走査線201−nに接続され、第2の駆動トランジスター406−n−mのソース電極は容量線203−nに接続される。第1の保持容量素子403−n−mの他端も容量線203−nに接続される。   The pixel electrode 405-nm and the common electrode COM on the protective sheet 922 face each other through the electrophoretic element 921 to form a capacitor. The source electrode of the first driving transistor 404-nm is connected to the scanning line 201-n, and the source electrode of the second driving transistor 406-nm is connected to the capacitor line 203-n. The other end of the first storage capacitor element 403-nm is also connected to the capacitor line 203-n.

次に、このような構成を有する本実施例の画素回路によって行われる消去シーケンスと表示シーケンスについて、説明する。本実施例の消去シーケンスおよび表示シーケンスによって、高いコントラストの表示が得られ、また応答速度の低下を抑制する表示装置910が得られるのである。   Next, an erasing sequence and a display sequence performed by the pixel circuit of this embodiment having such a configuration will be described. According to the erasing sequence and the display sequence of this embodiment, a display with high contrast is obtained, and a display device 910 that suppresses a decrease in response speed is obtained.

まず消去シーケンスについて図6を用いて説明する。図示するように、本実施例の消去シーケンスでは、全ての走査線201−1〜201−480に、同時に+20Vが20μ秒間印加されその後0Vを保つ電圧信号が、ゲートドライバー952より供給される。共通電極COM及び全てのデータ線202−1〜202−1920には、走査線201−1〜201−480が+20Vになるのと同時に+15Vになり、約200m秒後(詳しくは200.02m秒後)に0Vとなる電圧信号が、ソースドライバー962より供給される。この間、容量線203−1〜480には0Vの電位を保つ電圧信号が供給される。   First, the erase sequence will be described with reference to FIG. As shown in the figure, in the erasing sequence of this embodiment, a voltage signal is applied from all the scanning lines 201-1 to 201-480 by a gate driver 952 that simultaneously applies + 20V for 20 μs and then maintains 0V. The common electrode COM and all the data lines 202-1 to 202-1920 have + 15V at the same time as the scanning lines 201-1 to 201-480 become + 20V, and after about 200 msec (specifically, 200.02 msec later). ) Is supplied from the source driver 962 to a voltage signal of 0V. During this period, a voltage signal that maintains a potential of 0 V is supplied to the capacitor lines 203-1 to 480.

このように電圧信号が供給されて画素回路が駆動すると、走査線201−1〜201−480に+20Vが20μ秒間印加される間、全ての書込みトランジスター401−n−mはONして全ての中間電極402−n−mに15Vが書き込まれる。すると、全ての第1の駆動トランジスター404−n−mはONし、全ての第2の駆動トランジスター406−n−mはOFFする。この結果、画素電極405−n−mの電位は走査線201−1〜201−480が0Vに反転した以降は0Vが書き込まれて200m秒間保持される。   When the voltage signal is supplied in this way and the pixel circuit is driven, all the writing transistors 401-nm are turned on and all intermediate states are applied while + 20V is applied to the scanning lines 201-1 to 201-480 for 20 μsec. 15V is written to the electrode 402-nm. Then, all the first drive transistors 404-nm are turned on, and all the second drive transistors 406-nm are turned off. As a result, after the scanning lines 201-1 to 201-480 are inverted to 0 V, 0 V is written and held for 200 m seconds as the potential of the pixel electrode 405-nm.

つまり、共通電極COMの電位より全画素電極405−n−mの電位が15V小さくなるので、表示領域全体で白色顔料粒子WRが保護シート922側に、黒色顔料粒子BRがアクティブマトリックス基板101側に移動を始める。このとき、第1の駆動トランジスター404−n−mを介して走査線201−nより電荷が常に供給されるので、顔料粒子の移動に伴って画素電極405−n−mの電位(電圧)が変化することが無く、コントラストや応答速度が低下しない。本実施例ではこの状態を200m秒間保持することで、顔料粒子が十分移動するように駆動するのである。この結果、表示領域全体で白となって消去が完了する。なお、本実施例では、画素電極405−n−mの電圧保持時間を200m秒としたが、もとより電圧保持時間は、顔料粒子が実際に十分移動する時間に応じて設定することが好ましい。   That is, since the potentials of all the pixel electrodes 405-nm are 15V lower than the potential of the common electrode COM, the white pigment particles WR are on the protective sheet 922 side and the black pigment particles BR are on the active matrix substrate 101 side in the entire display region. Start moving. At this time, since the electric charge is always supplied from the scanning line 201-n via the first driving transistor 404-nm, the potential (voltage) of the pixel electrode 405-nm is changed with the movement of the pigment particles. There is no change, and contrast and response speed do not decrease. In this embodiment, by holding this state for 200 msec, the pigment particles are driven so as to move sufficiently. As a result, the entire display area becomes white and erasure is completed. In this embodiment, the voltage holding time of the pixel electrode 405-nm is set to 200 milliseconds, but it is preferable to set the voltage holding time according to the time during which the pigment particles actually move sufficiently.

次に表示シーケンスについて図7を用いて説明する。表示シーケンスは消去シーケンスに引き続いて実施される。図示するように、表示シーケンスでは各走査線201−1〜201−480を順次選択する電圧信号が、ゲートドライバー952より供給される。すなわち、走査線201−1は30μ秒間+20Vになった(選択された)後、0Vに戻る。走査線201−2は走査線201−1より34.6μ秒だけ遅れたタイミングで同様に30μ秒間選択される。以下、全ての走査線201−nが34.6μ秒ずつ位相をかえて順次選択される。また、共通電極COMには、電位が0Vを保つ電圧信号が供給され、容量線203−1〜203−480には、最初の走査線201−1が選択されるのと同時に電位が15Vになって、この電位を走査線201−480がOFFしてから200m秒間保った後、0Vに戻る電圧信号が供給される。   Next, the display sequence will be described with reference to FIG. The display sequence is performed subsequent to the erase sequence. As shown in the drawing, a voltage signal for sequentially selecting the scanning lines 201-1 to 201-480 is supplied from the gate driver 952 in the display sequence. That is, the scanning line 201-1 becomes +20 V for 30 μsec (selected), and then returns to 0 V. Similarly, the scanning line 201-2 is selected for 30 μs at a timing delayed by 34.6 μs from the scanning line 201-1. Thereafter, all the scanning lines 201-n are sequentially selected with a phase shift of 34.6 μsec. In addition, the common electrode COM is supplied with a voltage signal that maintains the potential of 0V, and the capacitance lines 203-1 to 203-480 have the potential of 15V at the same time as the first scanning line 201-1 is selected. After this potential is maintained for 200 m seconds after the scanning lines 201-480 are turned off, a voltage signal that returns to 0 V is supplied.

走査線201−nが選択される際、データ線202−1〜202−1920には、画素電極405−n−1〜405−n−1920の画像電位の反極性に対応する電位がソースドライバー962によって供給される。すなわち、画素電極405−n−mが白表示に対応する場合はデータ線202−mに15Vを供給する。すると中間電極402−n−mには15Vが印加され、第1の駆動トランジスター404−n−mはONし、第2の駆動トランジスター406−n−mはOFFする。この状態で、走査線201−nが0Vに戻った後は画素電極405−n−mには0V電位が印加され、共通電極COMの電位=画素電極405−n−mの電位=0Vとなるので、直前の表示状態、すなわち白表示状態を保持する。なお、走査線201−nが選択される間、画素電極405−n−mは+15Vへと近づくが、期間が短いので粒子はほとんど移動せず、表示には影響しない。   When the scanning line 201-n is selected, the data line 202-1 to 202-1920 has a potential corresponding to the opposite polarity of the image potential of the pixel electrodes 405-n-1 to 405-n-1920 to the source driver 962. Supplied by That is, when the pixel electrode 405-nm corresponds to white display, 15V is supplied to the data line 202-m. Then, 15V is applied to the intermediate electrode 402-nm, the first driving transistor 404-nm is turned on, and the second driving transistor 406-nm is turned off. In this state, after the scanning line 201-n returns to 0V, the 0V potential is applied to the pixel electrode 405-nm, and the potential of the common electrode COM = the potential of the pixel electrode 405-nm = 0V. Therefore, the previous display state, that is, the white display state is maintained. Note that while the scanning line 201-n is selected, the pixel electrode 405-nm approaches + 15V, but since the period is short, the particles hardly move and do not affect the display.

一方、画素電極405−n−mが黒表示に対応する場合は、データ線202−mに0Vの電圧信号を供給する。すると第1の駆動トランジスター404−n−mはOFFし、第2の駆動トランジスター406−n−mはONするから、画素電極405−n−mには容量線203−mを介して+15Vの電位が印加され、共通電極COMの電位<画素電極405−n−mの電位となって粒子の移動が発生し、黒表示状態へと変化する。このとき、第2の駆動トランジスター406−n−mを介して容量線203−mより電荷が常に供給されるので、顔料粒子の移動に伴って画素電極405−n−mの電位が下がることが無く、コントラストや応答速度が低下しない。このようにして200m秒後には所望の画像が表示される。   On the other hand, when the pixel electrode 405-nm corresponds to black display, a voltage signal of 0V is supplied to the data line 202-m. Then, since the first driving transistor 404-nm is turned off and the second driving transistor 406-nm is turned on, the pixel electrode 405-nm has a potential of + 15V via the capacitor line 203-m. Is applied, the potential of the common electrode COM <the potential of the pixel electrode 405-nm, and the movement of particles occurs to change to a black display state. At this time, since the electric charge is always supplied from the capacitor line 203-m via the second driving transistor 406-nm, the potential of the pixel electrode 405-nm may decrease as the pigment particles move. And contrast and response speed do not decrease. In this way, a desired image is displayed after 200 milliseconds.

表示シーケンスが終了した時、中間電極402−n−mはフローティング状態であるので、各トランジスターのリーク電流によってゆっくりと電位が変動する。このため、白表示されている画素の第2の駆動トランジスター406−n−mが微妙にONしてしまい、ゆっくりと黒表示になっていくことがある。そこで、本実施例では、粒子の移動が凡そ終了した200m秒後に容量線203−mの電位を全て0Vに戻すことでこのような現象を防止している。   When the display sequence is completed, since the intermediate electrode 402-nm is in a floating state, the potential slowly changes due to the leakage current of each transistor. For this reason, the second drive transistor 406-nm of the pixel displaying white may be slightly turned ON, and the black display may be slowly started. Therefore, in this embodiment, such a phenomenon is prevented by returning all the potentials of the capacitance lines 203-m to 0 V 200 msec after the movement of the particles is almost completed.

このように、本実施例では顔料粒子の移動による電位低下防止のための電荷の供給を、第1の保持容量素子403−n−mからではなく、容量線203−nや走査線201−nを経由して行う。従って、第1の保持容量素子403−n−mの容量値は従来の1トランジスター・1コンデンサー構成の場合と比べ小さくすることが可能である。また、電荷を供給するための配線を容量線および走査線と共用しているため、画素回路面積は大きくならずに済む。従って高精細で高コントラスト、また応答速度の低下を抑制する表示装置が提供できるのである。   As described above, in this embodiment, the supply of electric charges for preventing the potential decrease due to the movement of the pigment particles is not performed from the first storage capacitor element 403-n-m but the capacitor line 203-n or the scanning line 201-n. To do through. Therefore, the capacitance value of the first storage capacitor element 403-nm can be made smaller than that of the conventional one-transistor / one-capacitor configuration. Further, since the wiring for supplying charge is shared with the capacitor line and the scanning line, the pixel circuit area does not need to be increased. Accordingly, it is possible to provide a display device with high definition, high contrast, and a reduction in response speed.

本実施例では説明を簡便にするため、消去シーケンスと表示シーケンスを1回ずつとしたが、それぞれ複数回行うことでより高い応答速度・高いコントラストが得られるようにしてもよい。また、消去の際に残像を消すために直前に表示されている画像の反転画像を書き込んでもよい。また、素子の耐圧が十分高い、あるいは表示素子に印加する電位差が低くてもよい場合は消去シーケンスを省略し、表示シーケンスのみを実施してもよい。例えば本実施例の表示シーケンスで走査線に印加する選択電位を35V、データ線に印加する電位振幅を0/30V、COMの電位を+15Vとすれば消去シーケンスを省略することが可能である。また例えば表示素子に印加される電位差が±7.5Vで動作する場合、本実施例の表示シーケンスで走査線・データ線に印加する電位はそのままで、COMの電位を+7.5Vとすればこの場合も消去シーケンスを省略できる。   In this embodiment, in order to simplify the explanation, the erasing sequence and the display sequence are performed once, but a higher response speed and higher contrast may be obtained by performing each of them a plurality of times. Further, in order to erase the afterimage at the time of erasing, an inverted image of the image displayed immediately before may be written. If the withstand voltage of the element is sufficiently high or the potential difference applied to the display element may be low, the erase sequence may be omitted and only the display sequence may be performed. For example, if the selection potential applied to the scanning line is 35 V, the potential amplitude applied to the data line is 0/30 V, and the COM potential is +15 V in the display sequence of this embodiment, the erase sequence can be omitted. For example, when the potential difference applied to the display element operates at ± 7.5V, the potential applied to the scanning lines and data lines in the display sequence of this embodiment remains unchanged, and the COM potential is set to + 7.5V. In this case, the erase sequence can be omitted.

なお、本実施例の画素回路では第1の保持容量素子403−n−mを用いたが、トランジスターの保持特性が良好でリーク電流が小さければ不要である。このような画素回路の構成例を図8に示す。   Note that although the first storage capacitor element 403-nm is used in the pixel circuit of this embodiment, it is not necessary if the storage characteristics of the transistor are good and the leakage current is small. A configuration example of such a pixel circuit is shown in FIG.

図8は、図5に示した本実施例の画素回路において、第1の保持容量素子403−n−mを取り除いた画素回路を示す回路図である。図8において、例えば書込みトランジスター401−n−mのソース・ドレイン間のリーク電流が小さければ、中間電極402−n−mの電位変化小さいので、第1の保持容量素子403−n−mは不要である。この結果、画素回路の占有面積は小さくできるので、高精細化できる可能性がある。また、容量の形成プロセスが不要であるので、コストの上昇も抑制できる。   FIG. 8 is a circuit diagram showing the pixel circuit in which the first storage capacitor element 403-nm is removed from the pixel circuit of this embodiment shown in FIG. In FIG. 8, for example, if the leakage current between the source and drain of the write transistor 401-nm is small, the potential change of the intermediate electrode 402-nm is small, so the first storage capacitor element 403-nm is unnecessary. It is. As a result, since the area occupied by the pixel circuit can be reduced, there is a possibility that high definition can be achieved. In addition, since a capacitance formation process is unnecessary, an increase in cost can be suppressed.

(第2実施例)
次に図9〜図11を用いて第2実施例の駆動技術を説明する。なお、図9は本実施例の画素回路図であり、図10は本実施例の消去シーケンスのタイミングチャートである。また、図11は本実施例の表示シーケンスのタイミングチャートである。なお、第1実施例の画素回路と同じ構成要素については同じ番号を付与している。
(Second embodiment)
Next, the driving technique of the second embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 9 is a pixel circuit diagram of this embodiment, and FIG. 10 is a timing chart of the erase sequence of this embodiment. FIG. 11 is a timing chart of the display sequence of this embodiment. The same numbers are assigned to the same components as those of the pixel circuit of the first embodiment.

図9に示した本実施例の画素回路は、上記第1実施例の画素回路に比べて、第2の駆動トランジスター406−n−mが存在しない。また、第1の駆動トランジスター404−n−mのソース電極は、走査線201−nではなく容量線203−nに接続される。一方、第2の保持容量素子407−n−mが追加され、一端は画素電極405−n−mに、もう一端は容量線203−nにそれぞれ接続される。それ以外の構成は第1実施例(図5)と同じであるので説明は省略する。   The pixel circuit of this embodiment shown in FIG. 9 does not include the second drive transistor 406-nm as compared with the pixel circuit of the first embodiment. The source electrode of the first driving transistor 404-nm is connected to the capacitor line 203-n instead of the scanning line 201-n. On the other hand, a second storage capacitor element 407-nm is added, and one end is connected to the pixel electrode 405-nm and the other end is connected to the capacitor line 203-n. Since the other configuration is the same as that of the first embodiment (FIG. 5), description thereof is omitted.

次に、このような構成を有する本実施例の画素回路によって行われる消去シーケンスと表示シーケンスについて説明する。上記第1実施例と同様、本実施例の消去シーケンスおよび表示シーケンスによって、高いコントラストの表示が得られ、また応答速度の低下を抑制する表示装置910が得られるのである。   Next, an erasing sequence and a display sequence performed by the pixel circuit of this embodiment having such a configuration will be described. Similar to the first embodiment, the display device 910 can obtain a display with high contrast and suppress a decrease in response speed by the erase sequence and the display sequence of the present embodiment.

まず消去シーケンスについて図10を用いて説明する。図示するように、本実施例の消去シーケンスでは、全ての走査線201−1〜201−480に、同時に+20Vが200m秒間印加される電圧信号が、ゲートドライバー952より供給される。全てのデータ線202−1〜202−1920には、走査線201−1〜201−480が+20Vになるのと同時に+15Vとなり、走査線201−1〜201−480が0Vに戻るより100μ秒早く0Vに戻る電圧信号がソースドライバー962より供給される。共通電極COMも同じタイミングで+15Vとなり、200m秒間保持される電圧信号が供給される。また容量線203−1〜203−480には、全て0Vに固定される電圧信号が供給される。   First, the erase sequence will be described with reference to FIG. As shown in the drawing, in the erase sequence of this embodiment, a voltage signal to which +20 V is simultaneously applied to all the scanning lines 201-1 to 201-480 for 200 msec is supplied from the gate driver 952. All the data lines 202-1 to 202-1920 have + 15V at the same time as the scanning lines 201-1 to 201-480 become + 20V, and 100 μs earlier than the scanning lines 201-1 to 201-480 return to 0V. A voltage signal returning to 0 V is supplied from the source driver 962. The common electrode COM also becomes + 15V at the same timing, and a voltage signal held for 200 msec is supplied. In addition, voltage signals fixed to 0 V are supplied to the capacitor lines 203-1 to 203-480.

このように電圧信号が供給されて、画素回路が駆動すると、全ての書込みトランジスター401−n−mは200m秒間ONして全ての中間電極402−n−mには15Vの電位が書き込まれる。すると、全ての第1の駆動トランジスター404−n−mはONし、画素電極405−n−mには、容量線203−1〜203−480の電位、すなわち0Vが書き込まれて200m秒間保持される。   When the voltage signal is supplied in this way and the pixel circuit is driven, all the writing transistors 401-nm are turned on for 200 m seconds, and a potential of 15 V is written to all the intermediate electrodes 402-nm. Then, all the first driving transistors 404-nm are turned on, and the potentials of the capacitor lines 203-1 to 203-480, that is, 0V are written into the pixel electrodes 405-nm, and are held for 200 msec. The

つまり共通電極COMの電位より全画素電極405−n−mの電位が15V小さくなるので、表示領域全体で白色顔料粒子が保護シート922側に、黒色顔料粒子がアクティブマトリクス基板101側に移動を始める。本実施例ではこの状態を199.9m秒間保持することで粒子が十分移動するように駆動するので、表示領域全体で白となって消去が完了する。なお、本実施例において、画素電極405−n−mの電圧保持時間を199.9mSecとしたが、上記第1実施例と同様、電圧保持時間は、顔料粒子が実際に十分移動する時間に応じて設定することが好ましい。   That is, since the potentials of all the pixel electrodes 405-nm are 15V lower than the potential of the common electrode COM, the white pigment particles start moving toward the protective sheet 922 and the black pigment particles begin moving toward the active matrix substrate 101 in the entire display region. . In this embodiment, this state is maintained for 199.9 msec so that the particles are sufficiently moved, so that the entire display area becomes white and erasure is completed. In this embodiment, the voltage holding time of the pixel electrode 405-nm is 199.9 mSec. However, as in the first embodiment, the voltage holding time depends on the time during which the pigment particles actually move sufficiently. Is preferably set.

この後、データ線202−1〜202−1920は0Vに戻るので、中間電極402−n−mの電位も0Vに戻り、全ての第1の駆動トランジスター404−n−mはOFFした状態で、画素電極405−n−mの電位は0Vを保ったまま消去シーケンスを終える。   Thereafter, since the data lines 202-1 to 202-1920 return to 0V, the potential of the intermediate electrode 402-nm also returns to 0V, and all the first driving transistors 404-nm are turned off. The erase sequence ends with the potential of the pixel electrode 405-nm maintained at 0V.

次に表示シーケンスについて図11を用いて説明する。本実施例では表示シーケンスは必ず消去シーケンスに引き続いて実施される。従って、表示シーケンス開始時点において画素電極405−n−mの電位は0V以下であり(0Vより低くなる理由は後述)、全ての第1の駆動トランジスター404−n−mはOFFした状態である。図示するように、本実施例の表示シーケンスでは、容量線203−1〜203−480に供給される電圧信号が、15Vよりも低い10Vの電位が300m秒間印加される信号である以外は、図7と同様の電圧信号が供給される。ただし、データ線202−mに供給される電圧信号は第1の実施例における図6とは逆の電位関係になる。   Next, the display sequence will be described with reference to FIG. In this embodiment, the display sequence is always performed following the erase sequence. Therefore, the potential of the pixel electrode 405-nm at the start of the display sequence is 0 V or less (the reason why it becomes lower than 0 V will be described later), and all the first drive transistors 404-nm are turned off. As shown in the figure, in the display sequence of the present embodiment, the voltage signal supplied to the capacitor lines 203-1 to 203-480 is a signal except that a 10V potential lower than 15V is applied for 300 msec. A voltage signal similar to 7 is supplied. However, the voltage signal supplied to the data line 202-m has a potential relationship opposite to that in FIG. 6 in the first embodiment.

すなわち、画素電極405−n−mが白表示に対応する場合は、データ線202−mに0Vが供給される。すると中間電極402−n−mには0Vが書き込まれ、第1の駆動トランジスター404−n−mはOFFのままであるから、画素電極405−n−mの電位は第2の保持容量素子407−n−mによって保持されて消去シーケンス終了時の0Vを保っている。従って、共通電極COMの電位と画素電極405−n−mの電位は等しくなり、顔料粒子の移動は生じず、白表示のままとなる。   That is, when the pixel electrode 405-nm corresponds to white display, 0 V is supplied to the data line 202-m. Then, 0 V is written to the intermediate electrode 402-nm and the first driving transistor 404-nm remains off, so that the potential of the pixel electrode 405-nm is the second storage capacitor element 407. -N-m holds 0V at the end of the erase sequence. Accordingly, the potential of the common electrode COM and the potential of the pixel electrode 405-nm are equal, and the pigment particles do not move and remain white.

なお、実際には消去シーケンスの終わりで共通電極COMが15⇒0Vに反転することによる第2の保持容量素子407−n−mの容量結合で画素電極405−n−mの電位は0Vより低下する。また第1の保持容量素子403−n−mの容量結合で中間電極402−n−mも同様に0Vより低下する。次に表示シーケンス中に容量線203−nが0⇒10Vに反転することによる容量結合で画素電極405−n−m及び中間電極402−n−mの電位は上昇する。このとき、前者の下降分と後者の上昇分が同等になり、かつ消去と表示シーケンス間で時間をあけず連続に行うように、電圧信号の供給タイミングと第2の保持容量素子407−n−mのサイズを調整し、容量線203−nが0⇒10Vに反転したタイミングにおいて、画素電極405−n−mがおおむね0Vとなっているように設計することが好ましい。   Actually, the potential of the pixel electrode 405-nm falls below 0V due to the capacitive coupling of the second storage capacitor element 407-nm as the common electrode COM is inverted from 15⇒0V at the end of the erase sequence. To do. Further, the intermediate electrode 402-nm is similarly lowered from 0 V due to the capacitive coupling of the first storage capacitor element 403-nm. Next, the potential of the pixel electrode 405-nm and the intermediate electrode 402-nm rises due to capacitive coupling caused by the capacitance line 203-n being inverted from 0 to 10V during the display sequence. At this time, the voltage signal supply timing and the second storage capacitor element 407-n- are set so that the former decrease amount and the latter increase amount are equal, and the erasing and display sequences are continuously performed without any time interval. It is preferable to adjust the size of m and design the pixel electrode 405-nm to be approximately 0V at the timing when the capacitance line 203-n is inverted from 0 to 10V.

次に画素電極405−n−mが黒表示に対応する場合は、電位が15Vの電圧信号がデータ線202−mに供給される。すると中間電極402−n−mには15Vが書き込まれ、第1の駆動トランジスター404−n−mはONするから、画素電極405−n−mは容量線203−nと同じ電位、すなわち10Vが書き込まれる。この結果、共通電極COMの電位<画素電極405−n−mの電位となって顔料粒子の移動が発生し、黒表示状態へと変化する。   Next, when the pixel electrode 405-nm corresponds to black display, a voltage signal having a potential of 15V is supplied to the data line 202-m. Then, 15V is written to the intermediate electrode 402-nm and the first driving transistor 404-nm is turned on, so that the pixel electrode 405-nm has the same potential as the capacitor line 203-n, that is, 10V. Written. As a result, the potential of the common electrode COM <the potential of the pixel electrode 405-nm, and the movement of the pigment particles occurs to change to the black display state.

このとき、第1の駆動トランジスター404−n−mを介して容量線203−mより電荷が常に供給されるので、顔料粒子の移動に伴って画素電極405−n−mの電位が下がることが無く、コントラストや応答速度が低下しない。このようにして300m秒後には所望の画像が表示される。なお、300m秒後に容量線203−mの電位を全て0Vに戻すことで、リーク電流による画像の劣化を防ぐ。これについては、上記第1実施例における図7についての説明と同じである。   At this time, since the electric charge is always supplied from the capacitor line 203-m via the first driving transistor 404-nm, the potential of the pixel electrode 405-nm may decrease as the pigment particles move. And contrast and response speed do not decrease. In this way, a desired image is displayed after 300 milliseconds. Note that image degradation due to leakage current is prevented by returning all the potentials of the capacitor lines 203-m to 0 V after 300 milliseconds. This is the same as the description for FIG. 7 in the first embodiment.

なお、本実施例では画素電極405−n−mに電位を印加するのにnチャネル型トランジスターを用いるので、その閾値(Vth)分、画素電極405−n−mの電位が下がってしまう。ちなみに、本実施例では第1の駆動トランジスター404−n−mの閾値を5Vとし、画素電極405−n−mへの印加電位を10Vとしている。すなわち、消去シーケンスと表示シーケンスで電気泳動素子921に印加される電位差が異なるため、顔料粒子の移動速度も異なる。そこで、本実施例では、画素電極405−n−mへの印加電位が10Vのときに顔料粒子が十分移動するまでの時間を、電位差が15V印加される消去シーケンスでは200m秒とし、電位差が15V印加される消去シーケンスでは300m秒とし、それぞれのシーケンスでの画素電極405−n−mの電圧保持時間を設定している。もとより電圧保持時間は、顔料粒子が実際に十分移動する時間に応じて設定することが好ましい。   In this embodiment, since an n-channel transistor is used to apply a potential to the pixel electrode 405-nm, the potential of the pixel electrode 405-nm decreases by the threshold (Vth). Incidentally, in this embodiment, the threshold value of the first driving transistor 404-nm is 5V, and the potential applied to the pixel electrode 405-nm is 10V. That is, since the potential difference applied to the electrophoretic element 921 is different between the erase sequence and the display sequence, the moving speed of the pigment particles is also different. Therefore, in this embodiment, the time until the pigment particles sufficiently move when the applied potential to the pixel electrode 405-nm is 10V is set to 200 milliseconds in the erasing sequence in which the potential difference is 15V, and the potential difference is 15V. The applied erasing sequence is set to 300 msec, and the voltage holding time of the pixel electrode 405-nm in each sequence is set. Naturally, the voltage holding time is preferably set according to the time during which the pigment particles actually move sufficiently.

ところで、本実施例の画素回路においても、トランジスターの保持特性が十分であれば、上記第1実施例における説明と同じ理由により、第1の保持容量素子403−n−mは不要である。また第2の保持容量素子407−n−mについても同様に不要である。このような構成例を図12に示す。   By the way, also in the pixel circuit of this embodiment, the first holding capacitor element 403-nm is unnecessary for the same reason as described in the first embodiment as long as the holding characteristics of the transistor are sufficient. Similarly, the second storage capacitor element 407-nm is unnecessary. An example of such a configuration is shown in FIG.

図12は、図9に示した本実施例の画素回路において、第1の保持容量素子403−n−mおよび第2の保持容量素子407−n−mを取り除いた画素回路を示す回路図である。図12において、例えば書込みトランジスター401−n−mのソース・ドレイン間のリーク電流が小さければ、中間電極402−n−mの電位変化が小さいので、第1の保持容量素子403−n−mは不要である。また、第1の駆動トランジスター404−n−mのソース・ドレイン間のリーク電流が小さければ、画素電極405−n−mの電位変化が小さいので、第2の保持容量素子407−n−mは不要である。この結果、画素回路の占有面積を小さくすることができるので、高精細化できる可能性がある。また、容量の形成プロセスが不要であるので、コストの上昇も抑制できる。   FIG. 12 is a circuit diagram showing a pixel circuit in which the first storage capacitor element 403-nm and the second storage capacitor element 407-nm are removed from the pixel circuit of the present embodiment shown in FIG. is there. In FIG. 12, for example, if the leakage current between the source and the drain of the writing transistor 401-nm is small, the potential change of the intermediate electrode 402-nm is small, so that the first storage capacitor element 403-nm is It is unnecessary. Further, if the leakage current between the source and drain of the first driving transistor 404-nm is small, the potential change of the pixel electrode 405-nm is small, and therefore the second storage capacitor element 407-nm is It is unnecessary. As a result, since the area occupied by the pixel circuit can be reduced, there is a possibility that high definition can be achieved. In addition, since a capacitance formation process is unnecessary, an increase in cost can be suppressed.

本実施例では上記第1の実施例における画素回路(図5)で説明した構成と比較して、第2の駆動トランジスター406−n−mが存在しないことから、ますます高精細化に適する。またpチャンネル型トランジスターが画素回路において不要になるので、CMOSプロセスでなく、NMOSプロセスでアクティブマトリックス基板101を製造できる。従って、製造コストの上昇を抑制する点で上記第1実施例より優れる。なお、本実施例はnチャンネル型トランジスターで画素回路を構成したが、pチャンネル型トランジスターで画素回路を構成しても無論差し支えない。この場合、駆動信号は全て逆極性で与えられる。   In this embodiment, compared with the configuration described in the pixel circuit (FIG. 5) in the first embodiment, since the second driving transistor 406-nm is not present, it is more suitable for higher definition. In addition, since the p-channel transistor is not required in the pixel circuit, the active matrix substrate 101 can be manufactured not by the CMOS process but by the NMOS process. Therefore, it is superior to the first embodiment in that an increase in manufacturing cost is suppressed. In this embodiment, the pixel circuit is composed of n-channel transistors, but it is needless to say that the pixel circuit is composed of p-channel transistors. In this case, all the drive signals are given in reverse polarity.

一方、上記第1実施例に対して、画素電極405−n−mに電位を印加するのに常にnチャネル型トランジスターを用いるので、前述するように、その閾値(Vth)分、画素電極405−n−mの電位が下がってしまう。すなわち、本実施例において、白表示から黒表示に移る際の電位差が第1実施例より小さくなる(ちなみに本実施例では5V)ため、応答速度およびコントラストでは不利となる。従って、以上のようなメリットとデメリットを勘案して、第1実施例の画素回路あるいは第2実施例の画素回路を選択すればよい。   On the other hand, since an n-channel transistor is always used to apply a potential to the pixel electrode 405-nm in the first embodiment, as described above, the pixel electrode 405- The potential of nm decreases. That is, in this embodiment, since the potential difference when moving from white display to black display is smaller than that in the first embodiment (in this embodiment, 5 V), the response speed and contrast are disadvantageous. Therefore, the pixel circuit of the first embodiment or the pixel circuit of the second embodiment may be selected in consideration of the advantages and disadvantages described above.

以上、本発明について実施形態を用いて説明したが、本発明はこうした実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において様々な形態で実施し得ることは勿論である。   As described above, the present invention has been described using the embodiments. However, the present invention is not limited to these embodiments, and may be implemented in various forms without departing from the spirit of the present invention. is there.

例えば、上記実施形態の表示装置910は、記憶性表示素子として電気泳動素子を用いることとしたが、これに限らず、記憶性表示素子として例えば強誘電性液晶など記憶性を有する液晶素子であってもよい。さらには、応答速度が遅く、印加された電圧の保持性能が低い表示素子であれば、記憶性表示素子でなくても本発明を適用することができる。   For example, the display device 910 of the above embodiment uses an electrophoretic element as a memory display element. However, the display device 910 is not limited to this and is a liquid crystal element having a memory property such as a ferroelectric liquid crystal. May be. Furthermore, the present invention can be applied to a display element that is not a memory display element as long as the display element has a low response speed and low holding performance of an applied voltage.

101…アクティブマトリックス基板、201…走査線、202…データ線、203…容量線、301,302,320,321…実装端子、330…共通電極パット、335…配線、336…共通電位配線、401…書込みトランジスター、402…中間電極、403…第1の保持容量素子、404…第1の駆動トランジスター、405…画素電極、406…第2の駆動トランジスター、407…第2の保持容量素子、780…画像処理回路、781…中央演算回路、782…外部I/F回路、783…入出力機器、784…電圧生成回路、910…表示装置、921…電気泳動素子、922…保護シート、931…導電ペースト、951…第1のFPC、952…ゲートドライバー、961…第2のFPC、962…ソースドライバー、1000…電子機器。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 ... Active matrix board | substrate, 201 ... Scan line, 202 ... Data line, 203 ... Capacitance line, 301, 302, 320, 321 ... Mounting terminal, 330 ... Common electrode pad, 335 ... Wiring, 336 ... Common potential wiring, 401 ... Write transistor, 402 ... intermediate electrode, 403 ... first storage capacitor, 404 ... first drive transistor, 405 ... pixel electrode, 406 ... second drive transistor, 407 ... second storage capacitor, 780 ... image Processing circuit, 781... Central processing circuit, 782. External I / F circuit, 783 ... Input / output device, 784 ... Voltage generation circuit, 910 ... Display device, 921 ... Electrophoretic element, 922 ... Protection sheet, 931 ... Conductive paste, 951 ... first FPC, 952 ... gate driver, 961 ... second FPC, 962 ... source driver, 000 ... electronic devices.

Claims (7)

複数の走査線と、
前記複数の走査線と交差する複数のデータ線と、
前記走査線と前記データ線の各交差部に対応して設けられた画素毎に配置された画素回路と、
を備えた表示装置であって、
前記画素回路は、前記走査線に沿って設けられた容量線と、画素電極と、第1トランジスターと、第2トランジスターとを有し、
前記第1トランジスターは、ゲート電極が前記走査線に、ソース電極またはドレイン電極のうち一方が前記データ線に、他方が前記第2トランジスターのゲート電極に、それぞれ電気的に接続され、
前記第2トランジスターのソース電極またはドレイン電極のうち、一方の電極が前記走査線または前記容量線に、他方の電極が前記画素電極に、それぞれ電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
A plurality of scan lines;
A plurality of data lines intersecting the plurality of scanning lines;
A pixel circuit arranged for each pixel provided corresponding to each intersection of the scanning line and the data line;
A display device comprising:
The pixel circuit includes a capacitor line provided along the scanning line, a pixel electrode, a first transistor, and a second transistor,
In the first transistor, a gate electrode is electrically connected to the scanning line, one of a source electrode or a drain electrode is electrically connected to the data line, and the other is electrically connected to a gate electrode of the second transistor,
One display electrode of the second transistor is electrically connected to the scanning line or the capacitor line, and the other electrode is electrically connected to the pixel electrode. .
請求項1に記載の表示装置であって、
前記画素回路において、前記第1トランジスターがオンして、前記第2トランジスターのゲート電極に前記第2トランジスターがオンする電圧が印加されたのち、前記一方の電極に接続されている前記走査線もしくは前記容量線のいずれかから、前記画素が表示する画像に応じた電圧が前記画素電極に印加されるように駆動されることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
In the pixel circuit, after the first transistor is turned on and a voltage at which the second transistor is turned on is applied to the gate electrode of the second transistor, the scanning line connected to the one electrode or the The display device is driven so that a voltage corresponding to an image displayed by the pixel is applied to the pixel electrode from any of the capacitor lines.
請求項1または2に記載の表示装置であって、
前記第2トランジスターを2つ備え、
前記2つの第2トランジスターの一方はpチャンネルトランジスターで、他方はnチャンネルトランジスターであり、
前記pチャンネルトランジスターのソース電極またはドレイン電極のうち、一方が前記容量線に他方が前記画素電極に、それぞれ電気的に接続され、
前記nチャンネルトランジスターのソース電極またはドレイン電極のうち、一方が前記走査線に他方が前記画素電極に、それぞれ電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1, wherein
Two second transistors,
One of the two second transistors is a p-channel transistor and the other is an n-channel transistor;
Of the source or drain electrodes of the p-channel transistor, one is electrically connected to the capacitor line and the other is electrically connected to the pixel electrode.
One of the source and drain electrodes of the n-channel transistor is electrically connected to the scanning line and the other is electrically connected to the pixel electrode, respectively.
請求項1ないし3のいずれか一項に記載の表示装置であって、
前記第2トランジスターのゲート電極と前記容量線との間に保持容量が電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
A display device according to any one of claims 1 to 3,
A display device, wherein a storage capacitor is electrically connected between the gate electrode of the second transistor and the capacitor line.
請求項1ないし4のいずれか一項に記載の表示装置であって、
記憶性表示素子を備え、
前記画素電極は、前記記憶性表示素子に対して電圧を印加するための電極であることを特徴とする表示装置。
The display device according to any one of claims 1 to 4,
A memory display element;
The display device, wherein the pixel electrode is an electrode for applying a voltage to the memory display element.
請求項5に記載の表示装置であって、
前記記憶性表示素子は、電気泳動素子であることを特徴とする。
The display device according to claim 5,
The memory display element is an electrophoretic element.
請求項1ないし6のいずれか一項に記載の表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the display device according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN108140349A (en) * 2015-10-08 2018-06-08 Bsh家用电器有限公司 Matrix circuit, display equipment and household electrical appliance for the display equipment of household electrical appliance

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