JP2011033798A - Polarizing plate, method for manufacturing the same, and liquid crystal display device using the polarizing plate - Google Patents

Polarizing plate, method for manufacturing the same, and liquid crystal display device using the polarizing plate Download PDF

Info

Publication number
JP2011033798A
JP2011033798A JP2009179447A JP2009179447A JP2011033798A JP 2011033798 A JP2011033798 A JP 2011033798A JP 2009179447 A JP2009179447 A JP 2009179447A JP 2009179447 A JP2009179447 A JP 2009179447A JP 2011033798 A JP2011033798 A JP 2011033798A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
polarizing plate
polylactic acid
acid
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009179447A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Uchiyama
昭彦 内山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP2009179447A priority Critical patent/JP2011033798A/en
Publication of JP2011033798A publication Critical patent/JP2011033798A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polarizing plate in which the adhesive force is improved and the change with time in the polarization degree is suppressed by improving an adhesive technique for adhering a polarizing film and a protection film, that causes a problem in the case when a film formed from a material containing polylactic acid is used as the protective film for a polarizing plate, and to provide a method of manufacturing the same. <P>SOLUTION: In the polarizing plate, a protection film formed from a material containing polylactic acid is laminated at least on one surface of a polarizing film through an adhesive layer, wherein, the adhesive layer is formed by curing a specified radiation curable composition. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置等に用いられる偏光板、その製造方法、およびそれを用いた液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a polarizing plate used for a liquid crystal display device and the like, a method for producing the same, and a liquid crystal display device using the same.

液晶表示装置はテレビやパソコンモニター、携帯情報端末等の表示デバイスとして広く使用されている。液晶表示装置には通常、偏光板が用いられているが、これは一般の液晶表示装置では偏光を利用しているためである。偏光板は、光源の自然偏光を直線偏光に変換するため、また、液晶セル等によって制御された偏光情報を透過率情報に変換するための偏光変換素子として使用されている。   Liquid crystal display devices are widely used as display devices such as televisions, personal computer monitors, and portable information terminals. Normally, a polarizing plate is used in a liquid crystal display device, because a general liquid crystal display device uses polarized light. The polarizing plate is used as a polarization conversion element for converting natural polarized light of a light source into linearly polarized light, and for converting polarization information controlled by a liquid crystal cell or the like into transmittance information.

この偏光板には各種の提案があるが、もっとも一般的に利用されている偏光板の形態は、2枚の保護フィルムの間に偏光変換を行う偏光膜が挟持された構造を有するものである。偏光膜としては主としてポリビニルアルコール延伸フィルム中に2色性色素が配向状態で存在しているものが好適に利用されている。一方、保護フィルムはこの偏光膜が、単体では耐熱、耐湿熱試験における寸法安定性や、耐光性、耐磨耗性等の特性を満足できないために使用される。   There are various proposals for this polarizing plate, but the most commonly used polarizing plate has a structure in which a polarizing film that performs polarization conversion is sandwiched between two protective films. . As the polarizing film, a film in which a dichroic dye is present in an oriented state mainly in a stretched polyvinyl alcohol film is preferably used. On the other hand, the protective film is used because the polarizing film alone cannot satisfy the characteristics such as the dimensional stability in the heat resistance and wet heat resistance tests, the light resistance, and the wear resistance.

保護フィルムとしてはいくつか提案があるが、トリアセチルセルロース(以下、「TAC」と略記することがある。)フィルムが最も広く利用されている。最近では保護フィルムに偏光変換素子の一種である位相差フィルムを兼ねさせる例も提案され、実用に供されている。   Although several proposals have been made as protective films, triacetyl cellulose (hereinafter sometimes abbreviated as “TAC”) films are most widely used. Recently, an example in which a protective film also serves as a retardation film which is a kind of polarization conversion element has been proposed and put into practical use.

TACは半合成樹脂であり、樹脂に関しては部分的ではあるが植物由来原料を使用しているという点において環境に配慮した材料であるといえる。しかし、そのポリマーの物性上、フィルム製造方法として溶液キャスト法を用いることが必要であり、製造時に大量のハロゲン溶媒を使用するため、環境負荷が大きく、そのフィルムは真に環境に配慮した材料とは言い難い。   TAC is a semi-synthetic resin, and it can be said that it is an environmentally-friendly material in that it uses plant-derived raw materials, although it is partially related to the resin. However, due to the physical properties of the polymer, it is necessary to use the solution casting method as a film manufacturing method, and since a large amount of halogen solvent is used at the time of manufacturing, the environmental load is large, and the film is a truly environmentally friendly material. Is hard to say.

ポリ乳酸は植物由来材料として石油系樹脂の代替と成りうる可能性をもつだけではなく、溶媒を用いない溶融押出法にてフィルム化が可能であるために環境配慮型の材料としては好適であり、さらに、結晶性であるにも関わらず高い透明性を保有するなど光学特性に特長があり、それを活かした用途展開が期待されている。実際に、ポリ乳酸を偏光板の保護フィルムとして用いようとする提案が各種されている(例えば、特許文献1、2、3等参照。)。   Polylactic acid not only has the potential to replace petroleum-based resins as plant-derived materials, but is also suitable as an environmentally friendly material because it can be formed into a film by melt extrusion without using a solvent. In addition, it is characterized by optical properties such as possessing high transparency in spite of being crystalline, and it is expected to develop applications that make use of it. In fact, various proposals have been made to use polylactic acid as a protective film for a polarizing plate (see, for example, Patent Documents 1, 2, and 3).

しかしながら、ポリ乳酸は現時点において偏光板の保護フィルムとしては実用化されていない。大きな技術的課題の1つは、保護フィルムと偏光膜との接着技術にあると考えている。   However, polylactic acid has not been put into practical use as a protective film for polarizing plates at present. One of the major technical problems is considered to be an adhesive technique between the protective film and the polarizing film.

まず、ポリ乳酸フィルムは親油性である一方、偏光膜を主として形成するポリビニルアルコールは親水性であるために、両者を強力に接着させることは、経時変化の抑制を含めて非常に難しいといった課題がある。   First, while polylactic acid film is oleophilic, polyvinyl alcohol, which mainly forms the polarizing film, is hydrophilic, it is very difficult to strongly bond them together, including suppression of changes over time. is there.

前述のTACフィルムにおいては水酸化ナトリウム水溶液等アルカリ水溶液で表面ケン化処理を施すことにより、アセチル基から水酸基に変換することで親水性を高め、偏光膜と保護フィルムをポリビニルアルコール水溶液等の水溶媒系接着剤により接着、乾燥させることで接着強度を確保する技術が利用されている。この方法では高い接着強度が得られるものの、アルカリ廃液処理等の問題や、水を溶媒とした接着剤を利用することから偏光板の乾燥長が長くなるために、設備が大型化するまたは生産速度が遅くなるといった問題、さらに長時間偏光膜が水に接している状態が続くことにより偏光度が劣化し易いといった問題がある。   In the above-mentioned TAC film, the surface is saponified with an aqueous alkali solution such as an aqueous sodium hydroxide solution to increase the hydrophilicity by converting the acetyl group to a hydroxyl group, and the polarizing film and the protective film are made into an aqueous solvent such as an aqueous polyvinyl alcohol solution. A technique for securing adhesive strength by bonding and drying with a system adhesive is used. Although this method provides high adhesive strength, problems such as alkaline waste liquid treatment and the use of an adhesive with water as a solvent increase the length of the polarizing plate, leading to an increase in equipment size or production speed. In addition, there is a problem that the polarization degree is easily deteriorated due to the problem that the polarizing film is in contact with water for a long time.

TACにおいては水蒸気透過性がポリ乳酸と比較して高いため、偏光膜と保護フィルムの接着工程において水を溶媒とした接着剤を使用しても、TACフィルムから水が透過、蒸発するために前述の問題があるものの適用可能である。   Since the water vapor permeability in TAC is higher than that in polylactic acid, even when an adhesive using water as a solvent is used in the bonding process of the polarizing film and the protective film, the water penetrates and evaporates from the TAC film. It is applicable although there are problems.

しかし、ポリ乳酸は水蒸気透過性がTACに比べて小さいため、TACと同じポリビニルアルコール水溶液等水系接着剤を利用した接着工程を用いた場合には、より長い乾燥長が必要となるか、生産速度が遅くなるといった場合があり、場合によっては偏光度劣化等の問題もより顕著となる。   However, since polylactic acid has a water vapor permeability smaller than that of TAC, a longer drying length is required or a production rate is required when an adhesion process using an aqueous adhesive such as polyvinyl alcohol aqueous solution is used. In some cases, problems such as deterioration of polarization degree become more conspicuous.

特開2002−82223号公報JP 2002-82223 A 特開2001−337201号公報JP 2001-337201 A 特開2004−252263号公報JP 2004-252263 A

本発明の目的は、ポリ乳酸を含む材料からなるフィルムを偏光板の保護フィルムとして用いた場合において問題となる、偏光膜と保護フィルムとの接着技術を改善し、接着力向上、偏光度の経時変化が抑制された偏光板を提供することにある。
本発明の他の目的は、上記偏光板の製造方法を提供することにある。
本発明の更なる他の目的は、上記偏光板を用いた液晶表示装置を提供することにある。
An object of the present invention is to improve the adhesion technique between a polarizing film and a protective film, which is a problem when a film made of a material containing polylactic acid is used as a protective film for a polarizing plate, to improve the adhesive force, and to increase the degree of polarization over time. An object of the present invention is to provide a polarizing plate in which changes are suppressed.
Another object of the present invention is to provide a method for producing the polarizing plate.
Still another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device using the polarizing plate.

本発明者は、上記従来技術に鑑み、接着剤の組成について鋭意検討を重ねた結果、本発明に到達した。   In view of the prior art, the inventor of the present invention has reached the present invention as a result of intensive studies on the composition of the adhesive.

即ち、本発明の目的は、
偏光膜の少なくとも片面にポリ乳酸を含む材料からなる保護フィルムが接着剤層を介して積層された偏光板であって、前記接着剤層が下記式(1)を含む放射線硬化型組成物を硬化させたものであることを特徴とする偏光板によって達成される。

Figure 2011033798
(式(1)中、nは1または2を表し、R20は水素原子またはメチル基を表し、R21は炭素原子数1〜10のアルキレン基(該アルキレン基中に存在する1個または2個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立に酸素原子、−CO−、−COO−又は−OCO−で置換されていても良く、該アルキレン基中に存在する1個又は2個以上の水素原子はそれぞれ水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基、アルデヒド基、リン酸基で置換されている。)を表す。) That is, the object of the present invention is to
A polarizing plate in which a protective film made of a material containing polylactic acid is laminated on at least one surface of a polarizing film via an adhesive layer, and the adhesive layer cures a radiation curable composition containing the following formula (1) It is achieved by a polarizing plate characterized by being made.
Figure 2011033798
(In the formula (1), n represents 1 or 2, R 20 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 21 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (1 or 2 present in the alkylene group). One or more methylene groups may be each independently substituted with an oxygen atom, —CO—, —COO— or —OCO—, as oxygen atoms are not directly bonded to each other, and are present in the alkylene group. 1 or 2 or more hydrogen atoms are each substituted with a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, an aldehyde group, or a phosphate group.)

本発明には以下も包含される。
1.ポリ乳酸が、ポリD−乳酸成分及びポリL−乳酸成分からなるポリ乳酸であり、ステレオコンプレックス結晶化度(S)が90%以上である、上記の偏光板。
{ステレオコンプレックス結晶化度(S)は示差走査熱量計(DSC)測定で、190℃
未満に観測されるポリ乳酸ホモ結晶融解熱(ΔHmh)、190℃以上に観測されるポリ乳酸ステレオコンプレックス結晶融解熱(ΔHmsc)より次式(i)により求めた。
(S)=〔ΔHmsc/(ΔHmh+ΔHmsc)〕×100 (i)}
2.ポリ乳酸の下記式(2)で表される末端基のバルク平均濃度が、偏光膜側の接着界面近傍における末端基濃度よりも低い、上記の偏光板。

Figure 2011033798
3.ポリ乳酸を含む材料が、ポリ乳酸を40重量%以上含有する、上記の偏光板。
4.ポリ乳酸を含む材料が、ポリメタクリル酸メチルを50重量%以下含有する、上記の偏光板。
5.接着剤層に光開始剤が含まれる、上記の偏光板。
6.光開始剤が波長380nm以上の光により重合反応開始可能な剤である、上記の偏光板。
7.偏光膜に貼り合わせた保護フィルムに紫外線吸収剤を含む、上記の偏光板。
8.放射線硬化型組成物が下記式(3)で表される、請求項1〜8のいずれか記載の偏光板。
Figure 2011033798
(式(3)中、R22は水素原子またはメチル基を表し、R23は炭素原子数2〜5のアルキレン基(該アルキレン基中に存在する1個のメチレン基は、−OCO−で置換されていても良く、該アルキレン基中に存在する1個の水素原子はそれぞれ水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基、リン酸基で置換されている。)を表す。) The present invention also includes the following.
1. The above polarizing plate, wherein the polylactic acid is a polylactic acid composed of a poly-D-lactic acid component and a poly-L-lactic acid component, and has a stereocomplex crystallinity (S) of 90% or more.
{Stereocomplex crystallinity (S) is 190 ° C measured by differential scanning calorimetry (DSC)
The polylactic acid homocrystal melting heat (ΔHmh) observed below and the polylactic acid stereocomplex crystal melting heat (ΔHmsc) observed at 190 ° C. or higher were obtained by the following formula (i).
(S) = [ΔHmsc / (ΔHmh + ΔHmsc)] × 100 (i)}
2. Said polarizing plate whose bulk average density | concentration of the terminal group represented by following formula (2) of polylactic acid is lower than the terminal group density | concentration in the vicinity of the adhesion interface by the side of a polarizing film.
Figure 2011033798
3. The polarizing plate described above, wherein the material containing polylactic acid contains 40% by weight or more of polylactic acid.
4). The polarizing plate as described above, wherein the material containing polylactic acid contains 50% by weight or less of polymethyl methacrylate.
5). The polarizing plate as described above, wherein the adhesive layer contains a photoinitiator.
6). The above polarizing plate, wherein the photoinitiator is an agent capable of initiating a polymerization reaction with light having a wavelength of 380 nm or longer.
7). The polarizing plate described above, wherein the protective film bonded to the polarizing film contains an ultraviolet absorber.
8). The polarizing plate according to claim 1, wherein the radiation curable composition is represented by the following formula (3).
Figure 2011033798
(In the formula (3), R 22 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 23 represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms (one methylene group present in the alkylene group is substituted with —OCO—). And each hydrogen atom present in the alkylene group is substituted with a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, or a phosphoric acid group.)

また、本発明の他の目的は、
ポリ乳酸を含む材料からなる保護フィルムと偏光膜とを予め形成し、下記式(1)を含む放射線硬化型組成物を介在させて貼り合わせた後、実質的に波長270nm以下の光が照射されないように放射線硬化型組成物を硬化させる、偏光板の製造方法によって達成される。

Figure 2011033798
(式(1)中、nは1または2を表し、R20は水素原子またはメチル基を表し、R21は炭素原子数1〜10のアルキレン基(該アルキレン基中に存在する1個または2個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立に酸素原子、−CO−、−COO−又は−OCO−で置換されていても良く、該アルキレン基中に存在する1個又は2個以上の水素原子はそれぞれ水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基、アルデヒド基、リン酸基で置換されている。)を表す。) Another object of the present invention is to
A protective film made of a material containing polylactic acid and a polarizing film are formed in advance and bonded together with a radiation curable composition containing the following formula (1) interposed therebetween, and substantially no light having a wavelength of 270 nm or less is irradiated. Thus, the radiation curable composition is cured by the polarizing plate manufacturing method.
Figure 2011033798
(In the formula (1), n represents 1 or 2, R 20 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 21 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (1 or 2 present in the alkylene group). One or more methylene groups may be each independently substituted with an oxygen atom, —CO—, —COO— or —OCO—, as oxygen atoms are not directly bonded to each other, and are present in the alkylene group. 1 or 2 or more hydrogen atoms are each substituted with a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, an aldehyde group, or a phosphate group.)

本発明の更に他の目的は、
上記の記載の偏光板を用いた液晶表示装置によって達成することができる。
Still another object of the present invention is to
This can be achieved by a liquid crystal display device using the polarizing plate described above.

本発明によれば、環境負荷の低いポリ乳酸を偏光板の保護フィルムの材料として用いた場合の、偏光膜と保護フィルムの接着強度が改善され、かつ偏光度劣化の少ない偏光板を提供することが可能となる。さらに、偏光板製造における生産性を向上させるとともに環境負荷を低減させることが可能である。
本発明の偏光板を液晶表示装置に用いた場合には、コントラストの経時変化が少なくかつ偏光板剥がれ等のない液晶表示装置を実現できる。
According to the present invention, when polylactic acid having a low environmental load is used as a material for a protective film of a polarizing plate, the adhesive strength between the polarizing film and the protective film is improved, and a polarizing plate with little deterioration in polarization degree is provided. Is possible. Furthermore, it is possible to improve productivity in manufacturing the polarizing plate and reduce the environmental load.
When the polarizing plate of the present invention is used in a liquid crystal display device, it is possible to realize a liquid crystal display device in which the change in contrast with time is small and the polarizing plate is not peeled off.

本発明における偏光板層構成の一態様を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows one aspect | mode of the polarizing plate layer structure in this invention. 本発明における偏光板層構成の一態様を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows one aspect | mode of the polarizing plate layer structure in this invention. 本発明における偏光板層構成の一態様を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows one aspect | mode of the polarizing plate layer structure in this invention. 本発明における液晶表示装置構成の一態様を示す模式図であるIt is a schematic diagram which shows one aspect | mode of the liquid crystal display device structure in this invention.

以下、本発明を詳細に説明する。
<偏光板および液晶表示装置の構成>
まず、偏光板および液晶表示装置の構成を図面を以って説明する。図1〜3は本発明の偏光板の一態様を示す模式図である。
図1で1,3はポリ乳酸を含む保護フィルムであり、2は接着層、3は偏光層、6は偏光板を示す。
図2において21はポリ乳酸を含む保護フィルム、25はポリ乳酸を含まない保護フィルム、23は偏光層、22、24はそれぞれ接着層、26は偏光板である。25の保護フィルムはポリ乳酸を含まない公知の保護フィルムを用いることができる。材料としてはトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、フルオレン骨格を有する共重合ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、シクロオレフィンポリマー、ポリプロピレン、ポリスチレン、マレイン酸変性ポリスチレン、アクリル樹脂等が好ましい。これらの材料からなる保護フィルムと偏光膜との接着層である24は公知の接着剤を用いることができる。例えば保護フィルム材料としてTACを用いた場合には、表面をケン化処理した上で、接着剤としてポリビニルアルコール水溶液を用いることができる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
<Configuration of polarizing plate and liquid crystal display device>
First, the structure of a polarizing plate and a liquid crystal display device will be described with reference to the drawings. 1 to 3 are schematic views showing one embodiment of the polarizing plate of the present invention.
In FIG. 1, 1 and 3 are protective films containing polylactic acid, 2 is an adhesive layer, 3 is a polarizing layer, and 6 is a polarizing plate.
In FIG. 2, 21 is a protective film containing polylactic acid, 25 is a protective film not containing polylactic acid, 23 is a polarizing layer, 22 and 24 are adhesive layers, and 26 is a polarizing plate. As the protective film 25, a known protective film containing no polylactic acid can be used. As the material, triacetyl cellulose, polycarbonate, copolymer polycarbonate having a fluorene skeleton, polyester, polysulfone, polyethersulfone, cycloolefin polymer, polypropylene, polystyrene, maleic acid-modified polystyrene, acrylic resin and the like are preferable. A known adhesive can be used for the adhesive layer 24 of the protective film and polarizing film made of these materials. For example, when TAC is used as the protective film material, an aqueous polyvinyl alcohol solution can be used as the adhesive after the surface is saponified.

図3において、31はポリ乳酸を含む保護フィルムであり、2は接着層、33は偏光層、34は偏光板である。
図4は本発明の液晶表示装置の一態様を示す模式図である。図中41、45は偏光板、42、44は粘着層、43は液晶セルである。
図3の構成の偏光板を用いる場合、図4の液晶表示装置において保護フィルム側を外側にすることが好ましい。保護フィルムが内側にあった場合には偏光層が剥き出しとなるために、偏光層の劣化が著しくなるためである。
In FIG. 3, 31 is a protective film containing polylactic acid, 2 is an adhesive layer, 33 is a polarizing layer, and 34 is a polarizing plate.
FIG. 4 is a schematic view showing an embodiment of the liquid crystal display device of the present invention. In the figure, 41 and 45 are polarizing plates, 42 and 44 are adhesive layers, and 43 is a liquid crystal cell.
When the polarizing plate having the configuration shown in FIG. 3 is used, it is preferable that the protective film side of the liquid crystal display device shown in FIG. This is because when the protective film is on the inner side, the polarizing layer is exposed and the polarizing layer is significantly deteriorated.

<保護フィルムの特性および機能>
次に保護フィルムの特性および機能について説明する。
保護フィルムは偏光膜の光学物性、機械物性等の不足を補う等の目的で設置される。
図1〜3で示す偏光板において、図4の液晶表示装置の構成から分かるように、保護フィルムは偏光膜を中心に液晶セル側に設置される場合と、その外側すなわち液晶表示装置の最表面側に設置される場合がある。それら2つの場合により必要な光学特性は異なる。
<Characteristics and functions of protective film>
Next, the characteristics and functions of the protective film will be described.
The protective film is installed for the purpose of compensating for the shortage of optical properties and mechanical properties of the polarizing film.
In the polarizing plate shown in FIGS. 1 to 3, as can be understood from the configuration of the liquid crystal display device of FIG. May be installed on the side. The required optical properties differ depending on the two cases.

保護フィルムが偏光膜を中心に液晶セル側に設置される場合には、位相差板機能を有する場合と、有さない場合とがある。
保護フィルムに位相差機能を有する場合には、保護フィルムを延伸等により分子配向させて複屈折を発現せしめた上で位相差板としてもよい。また、光学的に略等方な保護フィルム上に液晶等を塗布して位相差を発現させたものを用いてもよい。さらに保護フィルムの位相差特性とその上の液晶等塗布膜の両方に位相差を持たせ、それらの両方の組み合わせにより目的の位相差値を発現させてもよい。位相差機能を有する保護フィルム上の塗布膜としては、デイスコチック型の放射線硬化型液晶を塗布、配向させた後に放射線により硬化させたものや、高分子液晶やポリイミドを公知の方法で保護フィルム上に形成させたものを用いることができる。
When the protective film is installed on the liquid crystal cell side with the polarizing film as the center, it may or may not have a retardation plate function.
When the protective film has a retardation function, the protective film may be molecularly oriented by stretching or the like to develop birefringence and then be used as a retardation plate. Moreover, you may use what applied liquid crystal etc. on the optically substantially isotropic protective film, and expressed the phase difference. Further, both the retardation characteristics of the protective film and the coating film such as liquid crystal thereon may have a retardation, and a target retardation value may be expressed by a combination of both. As a coating film on a protective film having a retardation function, a discotic type radiation curable liquid crystal is applied, oriented, and cured by radiation, or a polymer liquid crystal or polyimide is coated on the protective film by a known method. What was formed in can be used.

液晶のモードによって必要な位相差特性が異なるが、公知の知見から最適な位相差値が決定される。液晶モードとしては垂直配向モード、インプレインスイッチングモード、ツイストネマチックモード、スーパーツイストネマチックモード、ベンドモード等公知のものを用いることができる。   Although the necessary phase difference characteristic varies depending on the mode of the liquid crystal, the optimum phase difference value is determined from known knowledge. As the liquid crystal mode, known ones such as a vertical alignment mode, an in-plane switching mode, a twist nematic mode, a super twist nematic mode, and a bend mode can be used.

位相差機能を有さない保護フィルムについては、光学等方であることが好ましい。保護フィルムの面内の位相差(Re)と厚み方向の位相差(Rth)は、それぞれ下記式(4)および(5)で定義される。
Re =(nx−ny)×d (4)
Rth=((nx+ny)/2−nz)×d (5)
The protective film having no retardation function is preferably optically isotropic. The in-plane retardation (Re) and thickness direction retardation (Rth) of the protective film are defined by the following formulas (4) and (5), respectively.
Re = (nx−ny) × d (4)
Rth = ((nx + ny) / 2−nz) × d (5)

nxは、フィルム面内の最大の屈折率を表す。nyは面内においてnx方向と直交方向の屈折率を表す。nzは厚み方向の屈折率を表す。dは厚み(nm)を表す。Reは、好ましくは10nm以下、より好ましくは7nm以下、さらに好ましくは5nm以下である。   nx represents the maximum refractive index in the film plane. ny represents the refractive index in the direction perpendicular to the nx direction in the plane. nz represents the refractive index in the thickness direction. d represents thickness (nm). Re is preferably 10 nm or less, more preferably 7 nm or less, and even more preferably 5 nm or less.

Rthは50nm以下が好ましく、40nm以下がさらに好ましく、30nm以下が最も好ましい。Reが10nmより大きい、またはRthが50nmより大きい場合には、保護フィルムは光学等方部材としての機能を果たすことが困難な場合があり、液晶表示装置の設計を困難にすることがある。なお、本発明における位相差の測定は、特に断りが無い場合には波長550nmの光で測定したものを用いるものとする。   Rth is preferably 50 nm or less, more preferably 40 nm or less, and most preferably 30 nm or less. When Re is larger than 10 nm or Rth is larger than 50 nm, the protective film may be difficult to function as an optical isotropic member, which may make it difficult to design a liquid crystal display device. In addition, the measurement of the phase difference in the present invention is performed using light having a wavelength of 550 nm unless otherwise specified.

保護フィルムが偏光膜を中心に液晶セル側に設置される場合には、ヘイズが1%以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.7%以下であり、最も好ましくは0.5%以下である。ヘイズが1%以上では偏光解消等により偏光板の偏光性能、特に偏光度が低下し、液晶表示装置のコントラストを低下させる場合がある。また、保護フィルム材料の光弾性係数の絶対値は、好ましくは10×10−12/Pa未満、より好ましくは8×10−12/Pa未満、さらに好ましくは5×10−12/Pa未満、特に好ましくは3×10−12/Pa未満である。光弾性係数が10×10−12/Pa以上においては、応力により位相差変化が見られ、その結果、液晶表示装置の透過率ムラとなって表示品位を劣化させる場合がある。 When the protective film is installed on the liquid crystal cell side centering on the polarizing film, the haze is preferably 1% or less, more preferably 0.7% or less, and most preferably 0.5% or less. is there. If the haze is 1% or more, the polarization performance of the polarizing plate, particularly the degree of polarization, decreases due to depolarization, and the contrast of the liquid crystal display device may be decreased. The absolute value of the photoelastic coefficient of the protective film material is preferably less than 10 × 10 −12 / Pa, more preferably less than 8 × 10 −12 / Pa, and even more preferably less than 5 × 10 −12 / Pa, particularly Preferably, it is less than 3 × 10 −12 / Pa. When the photoelastic coefficient is 10 × 10 −12 / Pa or more, a change in phase difference is observed due to stress, and as a result, the transmittance of the liquid crystal display device may become uneven and the display quality may be deteriorated.

保護フィルムが偏光膜に対して液晶セルの外側に設置される場合には、保護フィルムが液晶表示装置の画像を制御するのに用いられる偏光状態制御に関与していないため、画像表示のための位相差機能は不要である。しかし、位相差が大きいと干渉を生じる場合があり、位相差は小さいほうが好ましい。Reが100nm以下であることが好ましく、より好ましくは50nm以下である。ヘイズは2%以下であることが好ましく、さらに好ましくは1%以下である。   When the protective film is installed outside the liquid crystal cell with respect to the polarizing film, the protective film is not involved in the polarization state control used to control the image of the liquid crystal display device. A phase difference function is not required. However, if the phase difference is large, interference may occur, and it is preferable that the phase difference is small. Re is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less. The haze is preferably 2% or less, more preferably 1% or less.

いずれの位置に配置されても保護フィルムの厚みとしては、好ましくは5〜300μmであり、取扱い時のシワになり易さ(シワ防止)の観点からは厚い方が好ましく、より好ましくは10μm以上、さらに好ましくは20μm以上であり、30μm以上が特に好ましい。   The thickness of the protective film is preferably 5 to 300 μm regardless of the position, and is preferably thicker from the viewpoint of ease of wrinkling during handling (wrinkle prevention), more preferably 10 μm or more, More preferably, it is 20 micrometers or more, and 30 micrometers or more are especially preferable.

また透明性の観点からは薄い方が有利であり、200μm以下であることがより好ましく、150μm以下がさらに好ましく、100μm以下が特に好ましい。また、可視光で透明であることが好ましい。   Further, from the viewpoint of transparency, the thinner is advantageous, more preferably 200 μm or less, further preferably 150 μm or less, and particularly preferably 100 μm or less. Moreover, it is preferable that it is transparent with visible light.

いずれの位置に配置されても保護フィルムは可視光において吸収を生じないものが好ましい。一方、偏光膜や液晶層の保護のため紫外線は吸収することが好ましい。特に保護フィルムが偏光膜に対して液晶セルの外側に設置される場合には、紫外線吸収剤が添加されていることが好ましいが、液晶セルの内側に設置される場合には紫外線吸収剤は無くてもよい。紫外線吸収剤としては後述の公知のものが用いられる。具体的には、保護フィルムの波長380nmでの光線透過率が20%以下かつ波長375nmでの光線透過率が1%以下、波長500nmでの光線透過率が80%以上であることが好ましい。   It is preferable that the protective film does not absorb visible light regardless of the position. On the other hand, it is preferable to absorb ultraviolet rays for protecting the polarizing film and the liquid crystal layer. In particular, when the protective film is installed outside the liquid crystal cell with respect to the polarizing film, it is preferable to add an ultraviolet absorber. However, when the protective film is installed inside the liquid crystal cell, there is no ultraviolet absorber. May be. As the ultraviolet absorber, known ones described later are used. Specifically, the light transmittance at a wavelength of 380 nm of the protective film is preferably 20% or less, the light transmittance at a wavelength of 375 nm is 1% or less, and the light transmittance at a wavelength of 500 nm is preferably 80% or more.

<保護フィルムの材料>
本発明の偏光板における保護フィルムはポリ乳酸を含む材料からなるものを少なくとも一枚は用いる。ポリ乳酸は、ポリD−乳酸成分及び/またはポリL−乳酸成分からなる。保護フィルム中のポリ乳酸成分は40重量%以上であることが必要であり、好ましくは50重量%以上、より好ましくは60重量%以上、さらに好ましくは70%重量以上、最も好ましくは75重量%以上である。ポリ乳酸が40重量%未満では、ポリ乳酸の結晶化が生じにくくなり、耐熱性に問題が生じる場合等がある。ポリ乳酸以外の樹脂を含有させる場合には、フィルム成形性の観点から熱可塑性樹脂であることが好ましい。
<Material of protective film>
The protective film in the polarizing plate of the present invention is at least one made of a material containing polylactic acid. Polylactic acid consists of a poly D-lactic acid component and / or a poly L-lactic acid component. The polylactic acid component in the protective film needs to be 40% by weight or more, preferably 50% by weight or more, more preferably 60% by weight or more, still more preferably 70% by weight or more, and most preferably 75% by weight or more. It is. If the polylactic acid is less than 40% by weight, crystallization of the polylactic acid is difficult to occur, which may cause a problem in heat resistance. When a resin other than polylactic acid is contained, a thermoplastic resin is preferable from the viewpoint of film moldability.

ポリ乳酸以外の熱可塑性樹脂としては、たとえばポリ乳酸樹脂以外のポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエチレン樹脂およびポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、芳香族および脂肪族のポリケトン樹脂、フッソ樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリイミド樹脂、熱可塑性澱粉樹脂、AS樹脂、ABS樹脂、AES樹脂、ACS樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ビニルエステル系樹脂、MS樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリ−4−メチルペンテン−1、ポリエーテルイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。特に好ましくは、ポリ乳酸との相溶性が良く、また屈折率が近いという観点からポリメタクリル酸メチルである。保護フィルムにおけるポリメタクリル酸メチルの含有量としては好ましくは50重量%以下、より好ましくは40重量%以下、さらに好ましくは30重量%以下である。ポリメタクリル酸メチルが50重量%より多い場合においてはポリ乳酸を結晶化させることが困難であり、耐熱性等に問題が生じる場合がある。   Examples of thermoplastic resins other than polylactic acid include polyester resins other than polylactic acid resins, polyamide resins, polyacetal resins, polyolefin resins such as polyethylene resins and polypropylene resins, polystyrene resins, acrylic resins, polyurethane resins, chlorinated polyethylene resins, Chlorinated polypropylene resin, aromatic and aliphatic polyketone resin, fluorine resin, polyphenylene sulfide resin, polyetherketone resin, polyimide resin, thermoplastic starch resin, AS resin, ABS resin, AES resin, ACS resin, polyvinyl chloride Resin, polyvinylidene chloride resin, vinyl ester resin, MS resin, polycarbonate resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, phenoxy resin, polyphenylene oxa De resins, poly-4-methylpentene-1, polyetherimide resin, and thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol resins. Particularly preferred is polymethyl methacrylate from the viewpoint of good compatibility with polylactic acid and a close refractive index. The content of polymethyl methacrylate in the protective film is preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less, and still more preferably 30% by weight or less. When polymethyl methacrylate is more than 50% by weight, it is difficult to crystallize polylactic acid, which may cause problems in heat resistance and the like.

また、ポリ乳酸として特に好ましいのは、ステレオコンプレックスポリ乳酸である。ステレオコンプレックスポリ乳酸とは、ポリD−乳酸成分及びポリL−乳酸成分よりなり、ステレオコンプレックス結晶を有するものであって、次式(i)で表されるステレオ結晶化度が90%以上であることが好ましい。
{ステレオコンプレックス結晶化度(S)は示差走査熱量計(DSC)測定で、190℃
未満に観測されるポリ乳酸ホモ結晶融解熱(ΔHmh)、190℃以上に観測されるポリ乳酸ステレオコンプレックス結晶融解熱(ΔHmsc)より次式(i)により求めた。
(S)=〔ΔHmsc/(ΔHmh+ΔHmsc)〕×100 (i) }
Also particularly preferred as polylactic acid is stereocomplex polylactic acid. The stereocomplex polylactic acid is composed of a poly-D-lactic acid component and a poly-L-lactic acid component and has a stereocomplex crystal, and the stereocrystallization degree represented by the following formula (i) is 90% or more. It is preferable.
{Stereocomplex crystallinity (S) is 190 ° C measured by differential scanning calorimetry (DSC)
The polylactic acid homocrystal melting heat (ΔHmh) observed below and the polylactic acid stereocomplex crystal melting heat (ΔHmsc) observed at 190 ° C. or higher were obtained by the following formula (i).
(S) = [ΔHmsc / (ΔHmh + ΔHmsc)] × 100 (i)}

通常のポリ乳酸(ポリL乳酸単独、あるいはポリD乳酸単独)に比べて、ステレオコンプレックス結晶を有するポリ乳酸は透明性、耐熱性が高いことが知られており、偏光板の保護フィルムとしてはより好ましい。ステレオコンプレックス結晶化度(S)は好ましくは93%から100%、より好ましくは95%から100%の範囲が選択される。特に好ましくはステレオコンプレックス結晶化度(S)は100%である。   Polylactic acid having a stereocomplex crystal is known to have higher transparency and heat resistance than ordinary polylactic acid (poly L lactic acid alone or poly D lactic acid alone). preferable. The stereocomplex crystallinity (S) is preferably in the range of 93% to 100%, more preferably 95% to 100%. Particularly preferably, the stereocomplex crystallinity (S) is 100%.

さらに本発明においてポリ乳酸は、結晶性を有していることが好ましく、広角X線回折(XRD)測定による回折ピークの強度比によって、式(ii)で定義されるステレオコンプレックス結晶化率(Sc)が50%以上を有することがより好ましい。好ましくは50から100%、さらに好ましくは70から100%、とりわけ好ましくは90から100%の範囲が選択される。   Furthermore, in the present invention, the polylactic acid preferably has crystallinity, and the stereocomplex crystallization rate (Sc) defined by the formula (ii) is determined by the intensity ratio of diffraction peaks by wide-angle X-ray diffraction (XRD) measurement. ) Is more preferably 50% or more. A range of preferably 50 to 100%, more preferably 70 to 100%, particularly preferably 90 to 100% is selected.

すなわちポリ乳酸が上記Scを有することにより、保護フィルムの透明性、耐熱性、耐湿熱性をより好適に満たすことができる。特に透明性に関しては、ステレオコンプレックス結晶を有しないポリ乳酸に比べて、著しくヘイズを低減することが可能であり、保護フィルムの材料としてはより好適である。さらに、後述の表面処理を実施してもこの結晶構造のためにバルク全体の脆化を抑制し、表面にだけ好ましい官能基を発現させやすいといった特徴も有する。
Sc(%)=〔ΣISCi/(ΣISCi+IHM)〕×100 (ii)
[ここで、ΣISCi=ISC1+ISC2+ISC3、ISCi(i=1から3)はそれぞれ2θ=12.0°, 20.7°, 24.0°付近の各回折ピークの積分強度、IHMは2θ=16.5°付近に現れるホモ結晶に由来する回折ピークの積分強度IHMを表す。]
That is, when the polylactic acid has the Sc, the transparency, heat resistance, and heat and humidity resistance of the protective film can be more suitably satisfied. In particular, regarding transparency, it is possible to significantly reduce haze as compared with polylactic acid not having a stereocomplex crystal, and it is more suitable as a material for a protective film. Further, even if the surface treatment described later is performed, the crystal structure prevents the entire bulk from being embrittled, and the preferred functional group is easily developed only on the surface.
Sc (%) = [ΣI SCi / (ΣI SCi + I HM )] × 100 (ii)
[Where ΣI SCi = I SC1 + I SC2 + I SC3 and I SCi (i = 1 to 3) are integrated intensities of diffraction peaks around 2θ = 12.0 °, 20.7 °, and 24.0 °, respectively. I HM represents the integrated intensity I HM of a diffraction peak derived from a homocrystal appearing in the vicinity of 2θ = 16.5 °. ]

さらに同様の観点より、本発明において、ポリ乳酸ホモ結晶の結晶化率、とりわけXRD測定による結晶化率は少なくとも5%、好ましくは5から60%、より好ましくは7から50%、さらに好ましくは10から45%の範囲が選択される。   Further, from the same viewpoint, in the present invention, the crystallization rate of polylactic acid homocrystal, particularly the crystallization rate by XRD measurement, is at least 5%, preferably 5 to 60%, more preferably 7 to 50%, and still more preferably 10%. A range of 45% is selected.

さらにポリ乳酸ステレオコンプレックス結晶の融点は190から250℃、より好ましくは200から230℃の範囲が好適に選択され、DSC測定による結晶融解エンタルピーは、20J/g以上、好ましくは20から80J/g、より好ましくは30から80J/gの範囲が選択される。   Further, the melting point of the polylactic acid stereocomplex crystal is suitably selected in the range of 190 to 250 ° C., more preferably 200 to 230 ° C., and the crystal melting enthalpy by DSC measurement is 20 J / g or more, preferably 20 to 80 J / g, More preferably, a range of 30 to 80 J / g is selected.

ポリ乳酸ステレオコンプレックス結晶の融点が190℃未満であると、ステレオコンプレックス結晶形成の意義が小さなものとなってしまう。さらに250℃を超える場合、本発明に用いられる保護フィルムを製膜するとき、250℃以上の高温において製膜することが必要となり、樹脂の熱分解を抑制することが困難となる場合があるからである。さらに結晶融解エンタルピーの値についても同様の議論があてはまる。   If the melting point of the polylactic acid stereocomplex crystal is less than 190 ° C., the significance of stereocomplex crystal formation will be small. Furthermore, when it exceeds 250 ° C., when forming the protective film used in the present invention, it is necessary to form the film at a high temperature of 250 ° C. or higher, and it may be difficult to suppress thermal decomposition of the resin. It is. The same argument applies to the value of crystal melting enthalpy.

かかるステレオコンプレックス結晶化度、ステレオコンプレックス結晶化率、さらに上述の各種結晶性のパラメーターを好適に満たすために、ポリ乳酸において、ポリD−乳酸成分とポリL−乳酸成分の重量比は90/10から10/90であることが好ましい。   In order to suitably satisfy the stereocomplex crystallinity, stereocomplex crystallization rate, and various crystallinity parameters described above, the weight ratio of poly (D-lactic acid) component to poly (L-lactic acid) component is 90/10. To 10/90.

より好ましくは80/20から20/80、さらに好ましくは30/70から70/30、とりわけ好ましくは40/60から60/40の範囲であり、理論的には1/1にできるだけ近い方が好ましく選択される。   More preferably, it is in the range of 80/20 to 20/80, more preferably 30/70 to 70/30, particularly preferably 40/60 to 60/40, and theoretically preferably as close to 1/1 as possible. Selected.

ポリ乳酸には、耐湿熱性改善剤として特定官能基を有する化合物を含有させることが好ましい。耐湿熱性改善剤としては、カルボキシル末端基封鎖剤として主として機能するものが好ましく、カルボジイミド化合物、芳香族カルボジイミド化合物、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物を例示することができるが、効果の点で好ましくはカルボジイミド化合物である。配合量はポリ乳酸100重量部あたり、好ましくは0.001〜5重量部の範囲である。0.001重量部より少ないとカルボキシル基封止剤としてその機能を発揮することが不十分である。またこの範囲を超えて多量に適用すると剤自身の分解等の好ましくない副反応により樹脂色相の悪化あるいは可塑化がおこる懸念が大きくなり好ましくない。   The polylactic acid preferably contains a compound having a specific functional group as a heat and humidity resistance improver. As the moisture and heat resistance improver, those that mainly function as a carboxyl end group blocking agent are preferable, and examples thereof include carbodiimide compounds, aromatic carbodiimide compounds, epoxy compounds, and oxazoline compounds, but in terms of effects, carbodiimide compounds are preferred. is there. The amount is preferably in the range of 0.001 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of polylactic acid. If the amount is less than 0.001 part by weight, the function as a carboxyl group sealing agent is insufficient. Further, if it is applied in a large amount beyond this range, it is not preferred because the concern of deterioration of the resin hue or plasticization due to undesirable side reactions such as decomposition of the agent itself is increased.

カルボジイミド化合物はカルボジイミド官能基を分子内に少なくとも一個保有する化合物であり、例えば以下の化合物が例示される。特にカルボジイミド化合物は後述する下記式(6)の機構で末端二重結合と、末端カルボキシル基が発生しても、末端カルボキシル基とカルボジイミド基が反応することにより末端封鎖および高分子鎖延長が可能となり、脆化を防ぎつつ、偏光膜と保護フィルムの接着性を改善することが出来る。   The carbodiimide compound is a compound having at least one carbodiimide functional group in the molecule, and examples thereof include the following compounds. In particular, carbodiimide compounds can be end-capped and polymer chain extended by the reaction of the terminal carboxyl group and the carbodiimide group, even if a terminal double bond and a terminal carboxyl group are generated by the mechanism of the following formula (6). The adhesion between the polarizing film and the protective film can be improved while preventing embrittlement.

カルボジイミド化合物として、具体的には、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、ジイソブイチルカルボジイミド、ジオクチルカルボジイミド、オクチルデシルカルボジイミド、ジ‐tert‐ブチルカルボジイミド、ジベンジルカルボジイミド、N‐オクタデシル‐N’‐フェニルカルボジイミド、N‐ベンジル‐N’‐フェニルカルボジイミド、N‐ベンジル‐N’‐トリルカルボジイミド、N‐トリル‐N’‐シクロヘキシルカルボシイミド、p‐フェニレンビス(シクロヘキシルカルボジイミド、ヘキサメチレンビス(シクロヘキシルカルボジイミド)、エチレンビス(フェニルカルボジイミド)、エチレンビス(シクロヘキシルカルボジイミド)、などのモノまたはポリカルボジイミド化合物が例示される。   Specific examples of carbodiimide compounds include dicyclohexyl carbodiimide, diisopropyl carbodiimide, diisobutyl carbodiimide, dioctyl carbodiimide, octyl decyl carbodiimide, di-tert-butyl carbodiimide, dibenzyl carbodiimide, N-octadecyl-N'-phenyl carbodiimide, N-benzyl -N'-phenylcarbodiimide, N-benzyl-N'-tolylcarbodiimide, N-tolyl-N'-cyclohexylcarbosiimide, p-phenylenebis (cyclohexylcarbodiimide), hexamethylenebis (cyclohexylcarbodiimide), ethylenebis (phenylcarbodiimide) ), Ethylenebis (cyclohexylcarbodiimide), and other mono- or polycarbodiimide compounds It is.

芳香族カルボジイミド化合物としては例えば以下の化合物が例示される。
例えばジフェニルカルボジイミド、ジ‐o‐トルイルカルボジイミド、ジ‐p‐トルイルカルボジイミド、ビス(p‐アミノフェニル)カルボジイミド、ビス(p‐クロロフェニル)カルボジイミド、ビス(o‐クロロフェニル)カルボジイミド、ビス(o‐エチルフェニル)カルボジイミド、ビス(p‐エチルフェニル)カルボジイミドビス(o‐イソプロピルフェニル)カルボジイミド、ビス(p‐イソプロピルフェニル)カルボジイミド、ビス(o‐イソブチルフェニル)カルボジイミド、ビス(p‐イソブチルフェニル)カルボジイミド、ビス(2,5‐ジクロロフェニル)カルボジイミド、ビス(2,6‐ジメチルフェニル)カルボジイミド、ビス(2,6‐ジエチルフェニル)カルボジイミド、ビス(2‐エチル‐6‐イソプロピルフェニル)カルボジイミド、ビス(2‐ブチル‐6‐イソプロピルフェニル)カルボジイミド、ビス(2,6‐ジイソプロピルフェニル)カルボジイミド、ビス(2,6‐ジ‐tert‐ブチルフェニル)カルボジイミド、ビス(2,4,6‐トリメチルフェニル)カルボジイミド、ビス(2,4,6‐トリイソプロピルフェニル)カルボジイミド、ビス(2,4,6‐トリブチルフェニル)カルボジイミド、ジβナフチルカルボシイミド、N‐トリル‐N’‐フェニルカルボシイミド、p−フェニレンビス(o‐トルイルカルボジイミド)、p‐フェニレンンビス(p‐クロロフェニルカルボジイミド)、2,6,2’,6’‐テトライソプロピルジフェニルカルボジイミドなどのモノまたはポリカルボジイミド化合物が例示される。
Examples of the aromatic carbodiimide compound include the following compounds.
For example, diphenylcarbodiimide, di-o-toluylcarbodiimide, di-p-toluylcarbodiimide, bis (p-aminophenyl) carbodiimide, bis (p-chlorophenyl) carbodiimide, bis (o-chlorophenyl) carbodiimide, bis (o-ethylphenyl) Carbodiimide, bis (p-ethylphenyl) carbodiimide bis (o-isopropylphenyl) carbodiimide, bis (p-isopropylphenyl) carbodiimide, bis (o-isobutylphenyl) carbodiimide, bis (p-isobutylphenyl) carbodiimide, bis (2, 5-dichlorophenyl) carbodiimide, bis (2,6-dimethylphenyl) carbodiimide, bis (2,6-diethylphenyl) carbodiimide, bis (2-ethyl-6-isopropyl) Ruphenyl) carbodiimide, bis (2-butyl-6-isopropylphenyl) carbodiimide, bis (2,6-diisopropylphenyl) carbodiimide, bis (2,6-di-tert-butylphenyl) carbodiimide, bis (2,4,6 -Trimethylphenyl) carbodiimide, bis (2,4,6-triisopropylphenyl) carbodiimide, bis (2,4,6-tributylphenyl) carbodiimide, diβ-naphthylcarbosiimide, N-tolyl-N'-phenylcarbosi Examples include mono- or polycarbodiimide compounds such as imide, p-phenylenebis (o-toluylcarbodiimide), p-phenylenenebis (p-chlorophenylcarbodiimide), 2,6,2 ', 6'-tetraisopropyldiphenylcarbodiimide .

またこれらのうち工業的に入手可能なジシクロヘキシルカルボジイミド、ビス(2,6−ジイソプロピルフェニル)カルボジイミドも好適に使用できる。市販のポリカルボジイミド化合物は、合成する必要もなく利用できる利点を有する。かかる市販のポリカルボジイミド化合物として、例えば日清紡績(株)より「カルボジライト」の商品名で販売されている「カルボジライト」LA‐1、あるいはHMV‐8CA、水性タイプ「カルボジライト」V−02,同V−02−L2、同V−04,同E−01,同E−02,同E−03A、同E−04、ラインケミージャパン(株)より「スタバクゾール」の商品名で販売されている、「スタバクゾール」I、「スタバクゾール」P、「スタバクゾール」P−100などが好適に例示される。   Of these, industrially available dicyclohexylcarbodiimide and bis (2,6-diisopropylphenyl) carbodiimide can also be suitably used. Commercially available polycarbodiimide compounds have the advantage of being usable without the need for synthesis. As such a commercially available polycarbodiimide compound, for example, “Carbodilite” LA-1 sold by Nisshinbo Co., Ltd. under the trade name “Carbodilite”, or HMV-8CA, aqueous type “Carbodilite” V-02, V- 02-L2, V-04, E-01, E-02, E-03A, E-04, and Rhein Chemie Japan Co., Ltd., sold under the trade name "STABAXOL" "I", "Stabuxol" P, "Stavaxol" P-100 and the like are preferably exemplified.

なお、カルボジイミド化合物として、特に好ましくは環状構造を有するカルボジイミドであり、樹脂の溶融時等にイソシアネート等の有害ガスを放出しないので好適に用いられる。さらに、環状カルボジイミドは鎖状カルボジイミドに比べて、以下の点で有利である。すわなち、環状カルボジイミドとポリ乳酸のカルボキシル末端基とが反応した場合に、高分子鎖末端に取り込まれた上に、その末端がイソシアネート基となって、低分子のイソシアネート化合物が遊離せず、さらにこのイソシアネート基により高分子鎖の延長が可能となるからである。偏光膜と保護フィルムの接着性改善のために後述する表面処理を実施する場合があるが、この化合物の存在によりバルク全体の脆化を一層抑制することが可能である。   The carbodiimide compound is particularly preferably a carbodiimide having a cyclic structure, and is preferably used because it does not release harmful gases such as isocyanate when the resin is melted. Furthermore, the cyclic carbodiimide is advantageous in the following points as compared with the chain carbodiimide. In other words, when the cyclic carbodiimide reacts with the carboxyl end group of polylactic acid, it is incorporated into the end of the polymer chain, and then the end becomes an isocyanate group, so that the low molecular weight isocyanate compound is not liberated. Further, this isocyanate group enables the extension of the polymer chain. In order to improve the adhesion between the polarizing film and the protective film, a surface treatment described later may be performed, but the presence of this compound can further suppress the embrittlement of the entire bulk.

ここで、環状構造を有するカルボジイミドとは、カルボジイミド基(−N=C=N−)を1個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている構造を有するものである。化合物中に複数の環状構造を有する場合には、一つの環中には、1個のカルボジイミド基のみを有する。環状構造中の原子数は、好ましくは8〜50、より好ましくは10〜30、さらに好ましくは10〜20である。   Here, the carbodiimide having a cyclic structure has one carbodiimide group (-N = C = N-) and a structure in which the first nitrogen and the second nitrogen are bonded by a bonding group. . When the compound has a plurality of cyclic structures, one ring has only one carbodiimide group. The number of atoms in the cyclic structure is preferably 8 to 50, more preferably 10 to 30, and still more preferably 10 to 20.

ここで、環状構造中の原子数とは、環構造を直接構成する原子の数を意味し、例えば、8員環であれば8、50員環であれば50である。環状構造中の原子数が8より小さいと、環状カルボジイミド化合物の安定性が低下して、保管、使用が困難となる場合があるためである。また反応性の観点よりは環員数の上限値に関しては特別の制限はないが、50を超える原子数の環状カルボジイミド化合物は合成上困難となり、コストが大きく上昇する場合が発生するためである。かかる観点より環状構造中の原子数は好ましくは、10〜30、より好ましくは10〜20の範囲が選択される。   Here, the number of atoms in the ring structure means the number of atoms that directly constitute the ring structure, and is, for example, 8 for an 8-membered ring and 50 for a 50-membered ring. This is because if the number of atoms in the cyclic structure is smaller than 8, the stability of the cyclic carbodiimide compound is lowered, and it may be difficult to store and use. From the viewpoint of reactivity, there is no particular restriction on the upper limit of the number of ring members, but cyclic carbodiimide compounds having more than 50 atoms are difficult to synthesize, and the cost may increase significantly. From this viewpoint, the number of atoms in the cyclic structure is preferably selected in the range of 10-30, more preferably 10-20.

環状構造は、下記式(10)で表される構造であることが好ましい。

Figure 2011033798
The cyclic structure is preferably a structure represented by the following formula (10).
Figure 2011033798

式中、Qは、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである2〜4価の結合基である。ヘテロ原子とはこの場合、O、N、S、Pを指す。この結合基の価のうち2つの価は環状構造を形成するために使用される。Qが3価あるいは4価の結合基である場合、単結合、二重結合、原子、原子団を介して、ポリマーあるいは他の環状構造と結合している。   In the formula, Q is a divalent to tetravalent linking group that is an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, or a combination thereof, each of which may contain a hetero atom and a substituent. A heteroatom in this case refers to O, N, S, P. Two of the valences of this linking group are used to form a cyclic structure. When Q is a trivalent or tetravalent linking group, it is bonded to a polymer or other cyclic structure via a single bond, a double bond, an atom, or an atomic group.

結合基は、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、2〜4価の炭素数1〜20の脂肪族基、2〜4価の炭素数3〜20の脂環族基、2〜4価の炭素数5〜15の芳香族基またはこれらの組み合わせであり、上記で規定される環状構造を形成するための必要炭素数を有する結合基が選択される。組み合わせの例としては、アルキレン基とアリーレン基が結合した、アルキレン−アリーレン基のような構造などが挙げられる。   The linking group may include a heteroatom and a substituent, each having a divalent to tetravalent carbon number of 1 to 20 aliphatic group, a divalent to tetravalent carbon number of 3 to 20 alicyclic group, A linking group which is a tetravalent aromatic group having 5 to 15 carbon atoms or a combination thereof and has a necessary number of carbon atoms to form the cyclic structure defined above is selected. Examples of combinations include structures such as an alkylene-arylene group in which an alkylene group and an arylene group are bonded.

結合基(Q)は、下記式(10−1)、(10−2)または(10−3)で表される2〜4価の結合基であることが好ましい。

Figure 2011033798
式中、ArおよびArは各々独立に、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、2〜4価の炭素数5〜15の芳香族基である。 The linking group (Q) is preferably a divalent to tetravalent linking group represented by the following formula (10-1), (10-2) or (10-3).
Figure 2011033798
In the formula, Ar 1 and Ar 2 are each independently a 2- to 4-valent aromatic group having 5 to 15 carbon atoms which may contain a hetero atom and a substituent.

芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数5〜15のアリーレン基、炭素数5〜15のアレーントリイル基、炭素数5〜15のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基(2価)として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基(3価)として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基(4価)として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   As an aromatic group, each of which contains a hetero atom and may have a heterocyclic structure, an arylene group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetriyl group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetetra having 5 to 15 carbon atoms Yl group. Examples of the arylene group (divalent) include a phenylene group and a naphthalenediyl group. Examples of the arenetriyl group (trivalent) include a benzenetriyl group and a naphthalenetriyl group. Examples of the arenetetrayl group (tetravalent) include a benzenetetrayl group and a naphthalenetetrayl group. These aromatic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

およびRは各々独立に、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、2〜4価の炭素数1〜20の脂肪族基、2〜4価の炭素数3〜20の脂環族基、およびこれらの組み合わせ、またはこれら脂肪族基、脂環族基と2〜4価の炭素数5〜15の芳香族基の組み合わせである。 R 1 and R 2 each independently contain a heteroatom and a substituent, each having 2 to 4 valent aliphatic groups having 1 to 20 carbon atoms and 2 to 4 valent fatty acids having 3 to 20 carbon atoms A cyclic group, and a combination thereof, or a combination of the aliphatic group, the alicyclic group, and a divalent to tetravalent aromatic group having 5 to 15 carbon atoms.

脂肪族基として、炭素数1〜20のアルキレン基、炭素数1〜20のアルカントリイル基、炭素数1〜20のアルカンテトライル基などが挙げられる。アルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基、へキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ドデカントリイル基、ヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ブタンテトライル基、ペンタンテトライル基、ヘキサンテトライル基、ヘプタンテトライル基、オクタンテトライル基、ノナンテトライル基、デカンテトライル基、ドデカンテトライル基、ヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂肪族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   Examples of the aliphatic group include an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an alkanetriyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkanetetrayl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, a heptylene group, an octylene group, a nonylene group, a decylene group, a dodecylene group, and a hexadecylene group. As the alkanetriyl group, methanetriyl group, ethanetriyl group, propanetriyl group, butanetriyl group, pentanetriyl group, hexanetriyl group, heptanetriyl group, octanetriyl group, nonanetriyl group, decantriyl group, dodecantriyl group, Examples include a hexadecantriyl group. As alkanetetrayl group, methanetetrayl group, ethanetetrayl group, propanetetrayl group, butanetetrayl group, pentanetetrayl group, hexanetetrayl group, heptanetetrayl group, octanetetrayl group, nonanetetrayl group Decanetetrayl group, dodecanetetrayl group, hexadecanetetrayl group and the like. These aliphatic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

脂環族基として、炭素数3〜20のシクロアルキレン基、炭素数3〜20のシクロアルカントリイル基、炭素数3〜20のシクロアルカンテトライル基が挙げられる。シクロアルキレン基として、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロへプチレン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基、シクロデシレン基、シクロドデシレン基、シクロへキサデシレン基などが挙げられる。シクロアルカントリイル基として、シクロプロパントリイル基、シクロブタントリイル基、シクロペンタントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロヘプタントリイル基、シクロオクタントリイル基、シクロノナントリイル基、シクロデカントリイル基、シクロドデカントリイル基、シクロヘキサデカントリイル基などが挙げられる。シクロアルカンテトライル基として、シクロプロパンテトライル基、シクロブタンテトライル基、シクロペンタンテトライル基、シクロヘキサンテトライル基、シクロヘプタンテトライル基、シクロオクタンテトライル基、シクロノナンテトライル基、シクロデカンテトライル基、シクロドデカンテトライル基、シクロヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂環族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   Examples of the alicyclic group include a cycloalkylene group having 3 to 20 carbon atoms, a cycloalkanetriyl group having 3 to 20 carbon atoms, and a cycloalkanetetrayl group having 3 to 20 carbon atoms. Examples of the cycloalkylene group include a cyclopropylene group, a cyclobutylene group, a cyclopentylene group, a cyclohexylene group, a cycloheptylene group, a cyclooctylene group, a cyclononylene group, a cyclodecylene group, a cyclododecylene group, and a cyclohexadecylene group. As cycloalkanetriyl group, cyclopropanetriyl group, cyclobutanetriyl group, cyclopentanetriyl group, cyclohexanetriyl group, cycloheptanetriyl group, cyclooctanetriyl group, cyclononanetriyl group, cyclodecanetriyl group Group, cyclododecane triyl group, cyclohexadecane triyl group and the like. As cycloalkanetetrayl group, cyclopropanetetrayl group, cyclobutanetetrayl group, cyclopentanetetrayl group, cyclohexanetetrayl group, cycloheptanetetrayl group, cyclooctanetetrayl group, cyclononanetetrayl group, cyclodecanetetrayl group Yl group, cyclododecanetetrayl group, cyclohexadecanetetrayl group and the like. These alicyclic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数5〜15のアリーレン基、炭素数5〜15のアレーントリイル基、炭素数5〜15のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基(3価)として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基(4価)として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これら芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   As an aromatic group, each of which contains a hetero atom and may have a heterocyclic structure, an arylene group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetriyl group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetetra having 5 to 15 carbon atoms Yl group. Examples of the arylene group include a phenylene group and a naphthalenediyl group. Examples of the arenetriyl group (trivalent) include a benzenetriyl group and a naphthalenetriyl group. Examples of the arenetetrayl group (tetravalent) include a benzenetetrayl group and a naphthalenetetrayl group. These aromatic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

およびXは各々独立に、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、2〜4価の炭素数1〜20の脂肪族基、2〜4価の炭素数3〜20の脂環族基、2〜4価の炭素数5〜15の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。 X 1 and X 2 each independently contain a heteroatom and a substituent, each having a 2 to 4 valent aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms and a 2 to 4 valent fatty acid having 3 to 20 carbon atoms It is a cyclic group, a divalent to tetravalent aromatic group having 5 to 15 carbon atoms, or a combination thereof.

脂肪族基として、炭素数1〜20のアルキレン基、炭素数1〜20のアルカントリイル基、炭素数1〜20のアルカンテトライル基などが挙げられる。アルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基、へキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ドデカントリイル基、ヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ブタンテトライル基、ペンタンテトライル基、ヘキサンテトライル基、ヘプタンテトライル基、オクタンテトライル基、ノナンテトライル基、デカンテトライル基、ドデカンテトライル基、ヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂肪族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   Examples of the aliphatic group include an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an alkanetriyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkanetetrayl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, a heptylene group, an octylene group, a nonylene group, a decylene group, a dodecylene group, and a hexadecylene group. As the alkanetriyl group, methanetriyl group, ethanetriyl group, propanetriyl group, butanetriyl group, pentanetriyl group, hexanetriyl group, heptanetriyl group, octanetriyl group, nonanetriyl group, decantriyl group, dodecantriyl group, Examples include a hexadecantriyl group. As alkanetetrayl group, methanetetrayl group, ethanetetrayl group, propanetetrayl group, butanetetrayl group, pentanetetrayl group, hexanetetrayl group, heptanetetrayl group, octanetetrayl group, nonanetetrayl group Decanetetrayl group, dodecanetetrayl group, hexadecanetetrayl group and the like. These aliphatic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

脂環族基として、炭素数3〜20のシクロアルキレン基、炭素数3〜20のシクロアルカントリイル基、炭素数3〜20のシクロアルカンテトライル基が挙げられる。シクロアルキレン基として、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロへプチレン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基、シクロデシレン基、シクロドデシレン基、シクロへキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、シクロプロパントリイル基、シクロブタントリイル基、シクロペンタントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロヘプタントリイル基、シクロオクタントリイル基、シクロノナントリイル基、シクロデカントリイル基、シクロドデカントリイル基、シクロヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、シクロプロパンテトライル基、シクロブタンテトライル基、シクロペンタンテトライル基、シクロヘキサンテトライル基、シクロヘプタンテトライル基、シクロオクタンテトライル基、シクロノナンテトライル基、シクロデカンテトライル基、シクロドデカンテトライル基、シクロヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂環族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   Examples of the alicyclic group include a cycloalkylene group having 3 to 20 carbon atoms, a cycloalkanetriyl group having 3 to 20 carbon atoms, and a cycloalkanetetrayl group having 3 to 20 carbon atoms. Examples of the cycloalkylene group include a cyclopropylene group, a cyclobutylene group, a cyclopentylene group, a cyclohexylene group, a cycloheptylene group, a cyclooctylene group, a cyclononylene group, a cyclodecylene group, a cyclododecylene group, and a cyclohexadecylene group. As the alkanetriyl group, cyclopropanetriyl group, cyclobutanetriyl group, cyclopentanetriyl group, cyclohexanetriyl group, cycloheptanetriyl group, cyclooctanetriyl group, cyclononanetriyl group, cyclodecanetriyl group , Cyclododecanetriyl group, cyclohexadecanetriyl group and the like. As the alkanetetrayl group, cyclopropanetetrayl group, cyclobutanetetrayl group, cyclopentanetetrayl group, cyclohexanetetrayl group, cycloheptanetetrayl group, cyclooctanetetrayl group, cyclononanetetrayl group, cyclodecanetetrayl group Group, cyclododecanetetrayl group, cyclohexadecanetetrayl group and the like. These alicyclic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数5〜15のアリーレン基、炭素数5〜15のアレーントリイル基、炭素数5〜15のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基(3価)として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基(4価)として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   As an aromatic group, each of which contains a hetero atom and may have a heterocyclic structure, an arylene group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetriyl group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetetra having 5 to 15 carbon atoms Yl group. Examples of the arylene group include a phenylene group and a naphthalenediyl group. Examples of the arenetriyl group (trivalent) include a benzenetriyl group and a naphthalenetriyl group. Examples of the arenetetrayl group (tetravalent) include a benzenetetrayl group and a naphthalenetetrayl group. These aromatic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

式(10−1)、(10−2)においてs、kは0〜10の整数、好ましくは0〜3の整数、より好ましくは0〜1の整数である。sおよびkが10を超えると、環状カルボジイミド化合物は合成上困難となり、コストが大きく上昇する場合が発生するためである。かかる観点より整数は好ましくは0〜3の範囲が選択される。なお、sまたはkが2以上であるとき、繰り返し単位としてのX、あるいはXが、他のX、あるいはXと異なっていてもよい。 In the formulas (10-1) and (10-2), s and k are integers of 0 to 10, preferably 0 to 3, and more preferably 0 to 1. If s and k exceed 10, the cyclic carbodiimide compound becomes difficult to synthesize, and the cost may increase significantly. From this viewpoint, the integer is preferably selected in the range of 0 to 3. When s or k is 2 or more, X 1 or X 2 as a repeating unit may be different from other X 1 or X 2 .

は、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、2〜4価の炭素数1〜20の脂肪族基、2〜4価の炭素数3〜20の脂環族基、2〜4価の炭素数5〜15の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。 X 3 is a divalent to tetravalent C 1-20 aliphatic group, a divalent to tetravalent C 3-20 alicyclic group, each of which may contain a heteroatom and a substituent, A tetravalent aromatic group having 5 to 15 carbon atoms, or a combination thereof.

脂肪族基として、炭素数1〜20のアルキレン基、炭素数1〜20のアルカントリイル基、炭素数1〜20のアルカンテトライル基などが挙げられる。アルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基、へキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ドデカントリイル基、ヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ブタンテトライル基、ペンタンテトライル基、ヘキサンテトライル基、ヘプタンテトライル基、オクタンテトライル基、ノナンテトライル基、デカンテトライル基、ドデカンテトライル基、ヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これら脂肪族基は置換基を含んでいてもよく、置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   Examples of the aliphatic group include an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an alkanetriyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkanetetrayl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, a heptylene group, an octylene group, a nonylene group, a decylene group, a dodecylene group, and a hexadecylene group. As the alkanetriyl group, methanetriyl group, ethanetriyl group, propanetriyl group, butanetriyl group, pentanetriyl group, hexanetriyl group, heptanetriyl group, octanetriyl group, nonanetriyl group, decantriyl group, dodecantriyl group, Examples include a hexadecantriyl group. As alkanetetrayl group, methanetetrayl group, ethanetetrayl group, propanetetrayl group, butanetetrayl group, pentanetetrayl group, hexanetetrayl group, heptanetetrayl group, octanetetrayl group, nonanetetrayl group Decanetetrayl group, dodecanetetrayl group, hexadecanetetrayl group and the like. These aliphatic groups may contain a substituent, such as an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, or an ester group. , Ether group, aldehyde group and the like.

脂環族基として、炭素数3〜20のシクロアルキレン基、炭素数3〜20のシクロアルカントリイル基、炭素数3〜20のシクロアルカンテトライル基が挙げられる。シクロアルキレン基として、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロへプチレン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基、シクロデシレン基、シクロドデシレン基、シクロへキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、シクロプロパントリイル基、シクロブタントリイル基、シクロペンタントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロヘプタントリイル基、シクロオクタントリイル基、シクロノナントリイル基、シクロデカントリイル基、シクロドデカントリイル基、シクロヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、シクロプロパンテトライル基、シクロブタンテトライル基、シクロペンタンテトライル基、シクロヘキサンテトライル基、シクロヘプタンテトライル基、シクロオクタンテトライル基、シクロノナンテトライル基、シクロデカンテトライル基、シクロドデカンテトライル基、シクロヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これら脂環族基は置換基を含んでいてもよく、置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリーレン基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   Examples of the alicyclic group include a cycloalkylene group having 3 to 20 carbon atoms, a cycloalkanetriyl group having 3 to 20 carbon atoms, and a cycloalkanetetrayl group having 3 to 20 carbon atoms. Examples of the cycloalkylene group include a cyclopropylene group, a cyclobutylene group, a cyclopentylene group, a cyclohexylene group, a cycloheptylene group, a cyclooctylene group, a cyclononylene group, a cyclodecylene group, a cyclododecylene group, and a cyclohexadecylene group. As the alkanetriyl group, cyclopropanetriyl group, cyclobutanetriyl group, cyclopentanetriyl group, cyclohexanetriyl group, cycloheptanetriyl group, cyclooctanetriyl group, cyclononanetriyl group, cyclodecanetriyl group , Cyclododecanetriyl group, cyclohexadecanetriyl group and the like. As the alkanetetrayl group, cyclopropanetetrayl group, cyclobutanetetrayl group, cyclopentanetetrayl group, cyclohexanetetrayl group, cycloheptanetetrayl group, cyclooctanetetrayl group, cyclononanetetrayl group, cyclodecanetetrayl group Group, cyclododecanetetrayl group, cyclohexadecanetetrayl group and the like. These alicyclic groups may contain a substituent, such as an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, and an ester. Group, ether group, aldehyde group and the like.

芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数5〜15のアリーレン基、炭素数5〜15のアレーントリイル基、炭素数5〜15のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基(3価)として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基(4価)として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   As an aromatic group, each of which contains a hetero atom and may have a heterocyclic structure, an arylene group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetriyl group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetetra having 5 to 15 carbon atoms Yl group. Examples of the arylene group include a phenylene group and a naphthalenediyl group. Examples of the arenetriyl group (trivalent) include a benzenetriyl group and a naphthalenetriyl group. Examples of the arenetetrayl group (tetravalent) include a benzenetetrayl group and a naphthalenetetrayl group. These aromatic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

また、Ar、Ar、R、R、X、XおよびXはヘテロ原子を含有していてもよい、また、Qが2価の結合基であるときは、Ar、Ar、R、R、X、XおよびXは全て2価の基である。Qが3価の結合基であるときは、Ar、Ar、R、R、X、XおよびXの内の一つが3価の基である。Qが4価の結合基であるときは、Ar、Ar、R、R、X、XおよびXの内の一つが4価の基であるか、二つが3価の基である。 Ar 1 , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X 2 and X 3 may contain a hetero atom, and when Q is a divalent linking group, Ar 1 , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X 2 and X 3 are all divalent groups. When Q is a trivalent linking group, one of Ar 1 , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X 2 and X 3 is a trivalent group. When Q is a tetravalent linking group, one of Ar 1 , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X 2 and X 3 is a tetravalent group, or two are trivalent It is a group.

本発明で用いる環状カルボジイミドとして、下記式(14)で表される化合物がより好ましい。

Figure 2011033798
式中、Qcは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである4価の結合基であり、ヘテロ原子を保有していてもよい。ZおよびZは、環状構造を担持する担体である。ZおよびZは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。 As the cyclic carbodiimide used in the present invention, a compound represented by the following formula (14) is more preferable.
Figure 2011033798
In the formula, Qc is a tetravalent linking group which is an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, or a combination thereof, and may have a hetero atom. Z 1 and Z 2 are carriers that support a cyclic structure. Z 1 and Z 2 may be bonded to each other to form a cyclic structure.

脂肪族基、脂環族基、芳香族基は、式(1)で説明したものと同じである。但し、式(14)の化合物において、Qcは4価である。従って、これらの基の内の一つが4価の基であるか、二つが3価の基である。Qcは、下記式(14−1)、(14−2)または(14−3)で表される4価の結合基であることが好ましい。   The aliphatic group, alicyclic group, and aromatic group are the same as those described in Formula (1). However, in the compound of the formula (14), Qc is tetravalent. Accordingly, one of these groups is a tetravalent group or two are trivalent groups. Qc is preferably a tetravalent linking group represented by the following formula (14-1), (14-2) or (14-3).

Figure 2011033798
Arc、Arc、Rc、Rc、Xc、Xc、Xc、sおよびkは、各々式(10−1)〜(10−3)の、Ar、Ar、R、R、X、X、X、sおよびkと同じである。但し、Arc、Arc、Rc、Rc、Xc、XcおよびXcは、これらの内の一つが4価の基であるか、二つが3価の基である。
Figure 2011033798
Arc 1 , Arc 2 , Rc 1 , Rc 2 , Xc 1 , Xc 2 , Xc 3 , s and k are respectively Ar 1 , Ar 2 , R 1 , Same as R 2 , X 1 , X 2 , X 3 , s and k. However, Arc 1 , Arc 2 , Rc 1 , Rc 2 , Xc 1 , Xc 2 and Xc 3 are either a tetravalent group or two are trivalent groups.

およびZは各々独立に、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーであることが好ましい。ZおよびZは結合部であり、複数の環状構造がZおよびZを介して結合し、式(14)で表される構造を形成している。 Z 1 and Z 2 are preferably each independently a single bond, a double bond, an atom, an atomic group or a polymer. Z 1 and Z 2 are bonding parts, and a plurality of cyclic structures are bonded via Z 1 and Z 2 to form a structure represented by the formula (14).

かかる環状カルボジイミド化合物(14)としては、下記化合物を挙げることができる。

Figure 2011033798
Figure 2011033798
Figure 2011033798
Examples of the cyclic carbodiimide compound (14) include the following compounds.
Figure 2011033798
Figure 2011033798
Figure 2011033798

エポキシ化合物としては、グリシジルエーテル化合物、グリシジルエステル化合物、グリジジルアミン化合物、グリシジルイミド化合物、グリシジルアミド化合物、脂環式エポキシ化合物を好ましく使用することができる。   As an epoxy compound, a glycidyl ether compound, a glycidyl ester compound, a glycidyl amine compound, a glycidyl imide compound, a glycidyl amide compound, and an alicyclic epoxy compound can be preferably used.

グリシジルエーテル化合物の例としては例えば、ステアリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、エチレンオキシドラウリルアルコールグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングルコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、その他ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタンなどのビスフェノール類とエピクロルヒドリンとの縮合反応で得られるビスフェノールAジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂などを挙げることができ、なかでもビスフェノールAジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂が好ましい。グリシジルエステル化合物の例としては例えば安息香酸グリシジルエステル、ステアリン酸グリシジルエステル、パーサティック酸グリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジルエステル、アジピン酸ジグリシジルエステル、コハク酸ジグリシジルエステル、ドデカンジオン酸ジグリシジルエステル、ピロメリット酸テトラグリシジルエステルなどが挙げられ、なかでも安息香酸グリシジルエステル、バーサティック酸グリシジルエステルが好ましい。   Examples of glycidyl ether compounds include, for example, stearyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, ethylene oxide lauryl alcohol glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentylene glycol diglycidyl ether, Bisphenol A obtained by condensation reaction of bisphenols such as polytetramethylene glycol diglycidyl ether, glycerol triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether and other bis (4-hydroxyphenyl) methane with epichlorohydrin Diglycidyl ether type epoxy resin Etc. can be mentioned, among others bisphenol A diglycidyl ether type epoxy resin is preferable. Examples of glycidyl ester compounds include glycidyl benzoate, glycidyl stearate, persic acid glycidyl ester, terephthalic acid diglycidyl ester, phthalic acid diglycidyl ester, cyclohexanedicarboxylic acid diglycidyl ester, adipic acid diglycidyl ester, and succinic acid. Examples include acid diglycidyl ester, dodecanedioic acid diglycidyl ester, pyromellitic acid tetraglycidyl ester, and the like. Among them, benzoic acid glycidyl ester and versatic acid glycidyl ester are preferable.

グリシジルアミン化合物の例としては例えば、テトラグリシジルアミンジフェニルメタン、トリグリシジル−p−アミノフェノール、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルトルイジン、テトラグリシジルメタキシレンジアミン、トリグリシジルイソシアヌレート、などが挙げられる。   Examples of the glycidylamine compound include tetraglycidylamine diphenylmethane, triglycidyl-p-aminophenol, diglycidylaniline, diglycidyltoluidine, tetraglycidylmetaxylenediamine, triglycidyl isocyanurate, and the like.

グリシジルイミド、グリシジルアミド化合物の例としては例えば、N−グリシジルフタルイミド、N−グリシジル−4,5−ジメチルフタルイミド、N−グリシジル−3,6−ジメチルフタルイミド、N−グリシジルサクシンイミド、N−グリシジル−1,2,3,4−テトラヒドロフタルイミド、N−グリシジルマレインイミド、N−グリシジルベンズアミド、N−グリシジルステアリルアミドなどが挙げられ、なかでもN−グリシジルフタルイミドが好ましい。   Examples of glycidyl imide and glycidyl amide compounds include N-glycidyl phthalimide, N-glycidyl-4,5-dimethyl phthalimide, N-glycidyl-3,6-dimethyl phthalimide, N-glycidyl succinimide, N-glycidyl-1 , 2,3,4-tetrahydrophthalimide, N-glycidyl maleimide, N-glycidyl benzamide, N-glycidyl stearyl amide, etc., among which N-glycidyl phthalimide is preferable.

脂環式エポキシ化合物の例としては、3,4−エポキシシクロヘキシル−3,4−シクロヘキシルカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビニルシクロヘキセンジエポキシド、N−メチル−4,5−エポキシシクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸イミド、N−フェニル−4,5−エポキシシクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸イミドなどが挙げられる。さらに上記化合物をモノマー単位として含むポリエポキシ化合物とりわけエポキシ基をペンダント基として側鎖に保有するポリエポキシ化合物なども好適な剤として挙げられる。   Examples of alicyclic epoxy compounds include 3,4-epoxycyclohexyl-3,4-cyclohexylcarboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, vinylcyclohexene diepoxide, N-methyl-4,5- Examples thereof include epoxycyclohexane-1,2-dicarboxylic imide, N-phenyl-4,5-epoxycyclohexane-1,2-dicarboxylic imide and the like. Furthermore, a polyepoxy compound containing the above compound as a monomer unit, particularly a polyepoxy compound having an epoxy group as a pendant group in a side chain, and the like can be mentioned as suitable agents.

その他のエポキシ化合物としてエポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、エポキシ化鯨油などのエポキシ変性脂肪酸グリセリド、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂などを用いることができる。   As other epoxy compounds, epoxy-modified fatty acid glycerides such as epoxidized soybean oil, epoxidized linseed oil, and epoxidized whale oil, phenol novolac type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins and the like can be used.

オキサゾリン化合物としては、2−メトキシ−2−オキサゾリン、2−ブトキシ−2−オキサゾリン、2−ステアリルオキシ−2−オキサゾリン、2−シクロヘキシルオキシ−2−オキサゾリン、2−アリルオキシ−2−オキサゾリン、2−ベンジルオキシ−2−オキサゾリン、2−p−フェニルフェノキシ−2−オキサゾリン、2−メチル−2−オキサゾリン、2−シクロヘキシル−2−オキサゾリン、2−メタアリル−2−オキサゾリン、2−クロチル−2−オキサゾリン、2−フェニル−2−オキサゾリン、2−o−エチルフェニル−2−オキサゾリン、2−o−プロピルフェニル−2−オキサゾリン、2−p−フェニルフェニル−2−オキサゾリン、2,2’−ビス(2−オキサゾリン)、2,2’−ビス(4−メチル−2−オキサゾリン)2,2’−ビス(4−ブチル−2−オキサゾリン)、2,2’−m−フェニレンビス(2−オキサゾリン)、2,2’−p−フェニレンビス(4−メチル−2−オキサゾリン)、2,2’−p−フェニレンビス(4,4’−メチル−2−オキサゾリン)、2,2’−エチレンビス(2−オキサゾリン)、2,2’−テトラメチレンビス(2−オキサゾリン)、2,2’−ヘキサメチレンビス(2−オキサゾリン)、2,2’−エチレンビス(4−メチル−2−オキサゾリン)、2,2’−テトラメチレンビス(4,4’−ジメチル−2−オキサゾリン)、2,2’−シクロヘキシレンビス(2−オキサゾリン)、2,2’−ジフェニレンビス(4−メチル−2−オキサゾリン)などが挙げられる。   Examples of the oxazoline compound include 2-methoxy-2-oxazoline, 2-butoxy-2-oxazoline, 2-stearyloxy-2-oxazoline, 2-cyclohexyloxy-2-oxazoline, 2-allyloxy-2-oxazoline, 2-benzyl Oxy-2-oxazoline, 2-p-phenylphenoxy-2-oxazoline, 2-methyl-2-oxazoline, 2-cyclohexyl-2-oxazoline, 2-methallyl-2-oxazoline, 2-crotyl-2-oxazoline, 2 -Phenyl-2-oxazoline, 2-o-ethylphenyl-2-oxazoline, 2-o-propylphenyl-2-oxazoline, 2-p-phenylphenyl-2-oxazoline, 2,2'-bis (2-oxazoline) ), 2,2′-bis (4-methyl-2-oxa Phosphorus) 2,2′-bis (4-butyl-2-oxazoline), 2,2′-m-phenylenebis (2-oxazoline), 2,2′-p-phenylenebis (4-methyl-2-oxazoline) ), 2,2′-p-phenylenebis (4,4′-methyl-2-oxazoline), 2,2′-ethylenebis (2-oxazoline), 2,2′-tetramethylenebis (2-oxazoline) 2,2'-hexamethylenebis (2-oxazoline), 2,2'-ethylenebis (4-methyl-2-oxazoline), 2,2'-tetramethylenebis (4,4'-dimethyl-2-) Oxazoline), 2,2′-cyclohexylenebis (2-oxazoline), 2,2′-diphenylenebis (4-methyl-2-oxazoline), and the like.

本発明におけるポリ乳酸は、ポリD−乳酸成分は、D−乳酸単位よりなり、好ましくは90から100モル%のD−乳酸単位および0から10モル%のD−乳酸以外の共重合単位からなる。さらにポリL−乳酸成分は、L−乳酸単位よりなり、好ましくは90から100モル%のL−乳酸単位および0から10モル%のL−乳酸以外の共重合単位からなる。   In the polylactic acid in the present invention, the poly-D-lactic acid component is composed of D-lactic acid units, preferably 90 to 100 mol% of D-lactic acid units and 0 to 10 mol% of copolymerized units other than D-lactic acid. . Further, the poly-L-lactic acid component is composed of L-lactic acid units, preferably 90 to 100 mol% of L-lactic acid units and 0 to 10 mol% of copolymerized units other than L-lactic acid.

上記において、主たる繰り返し単位であるD−,L−乳酸単位は、より好ましくは95から100モル%、さらに好ましくは98から100モル%の範囲が選択される。
主たる繰り返し単位以外の共重合単位は好ましくは0から10モル%、より好ましくは0から5モル%、さらに好ましくは0から2モル%の範囲が選択される。
In the above, the D-, L-lactic acid unit, which is the main repeating unit, is more preferably selected from the range of 95 to 100 mol%, more preferably 98 to 100 mol%.
The copolymer unit other than the main repeating unit is preferably selected in the range of 0 to 10 mol%, more preferably 0 to 5 mol%, and still more preferably 0 to 2 mol%.

共重合単位は、2個以上のエステル結合形成可能な官能基を持つジカルボン酸、多価アルコール、ヒドロキシカルボン酸、ラクトン等由来の単位およびこれら種々の構成成分からなる各種ポリエステル、各種ポリエーテル、各種ポリカーボネート等由来の単位が例示される。   Copolymerized units include units derived from dicarboxylic acids, polyhydric alcohols, hydroxycarboxylic acids, lactones and the like having functional groups capable of forming two or more ester bonds, and various polyesters, various polyethers, various types composed of these various components. Examples are units derived from polycarbonate and the like.

ジカルボン酸としては、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸等が挙げられる。多価アルコールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、グリセリン、ソルビタン、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の脂肪族多価アルコール類あるいはビスフェノールにエチレンオキシドが付加させたものなどの芳香族多価アルコール等が挙げられる。ヒドロキシカルボン酸として、グリコール酸、ヒドロキシ酪酸等が挙げられる。ラクトンとしては、グリコリド、ε−カプロラクトン、β−プロピオラクトン、δ−ブチロラクトン、β−またはγ−ブチロラクトン、ピバロラクトン、δ−バレロラクトン等が挙げられる。   Examples of the dicarboxylic acid include succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, terephthalic acid, and isophthalic acid. Examples of the polyhydric alcohol include aliphatic polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, pentanediol, hexanediol, octanediol, glycerin, sorbitan, neopentyl glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol. Or aromatic polyhydric alcohol etc., such as what added ethylene oxide to bisphenol, etc. are mentioned. Examples of the hydroxycarboxylic acid include glycolic acid and hydroxybutyric acid. Examples of the lactone include glycolide, ε-caprolactone, β-propiolactone, δ-butyrolactone, β- or γ-butyrolactone, pivalolactone, and δ-valerolactone.

また本発明におけるポリL‐乳酸およびポリD‐乳酸成分の重量平均分子量は、保護フィルムの機械物性及び成形性を両立させるため、好ましくは10万から50万、より好ましくは11万から35万、さらに好ましくは12から25万の範囲が選択される。   The weight average molecular weight of the poly L-lactic acid and poly D-lactic acid component in the present invention is preferably 100,000 to 500,000, more preferably 110,000 to 350,000, in order to achieve both the mechanical properties and moldability of the protective film. More preferably, a range of 12 to 250,000 is selected.

ポリL‐乳酸およびポリD‐乳酸は、従来公知の方法で製造することができる。
例えば、L‐またはD‐ラクチドを金属含有触媒の存在下、開環重合することにより製
造することができる。また金属含有触媒を含有する低分子量のポリ乳酸を、所望により結晶化させた後、あるいは結晶化させることなく、減圧下または常圧から加圧化、不活性ガス気流の存在下、あるいは非存在下、固相重合させ製造することもできる。さらに有機溶媒の存在または非存在下、乳酸を脱水縮合させる直接重合法により製造することができる。
Poly L-lactic acid and poly D-lactic acid can be produced by a conventionally known method.
For example, it can be produced by ring-opening polymerization of L- or D-lactide in the presence of a metal-containing catalyst. In addition, low molecular weight polylactic acid containing a metal-containing catalyst is crystallized as desired or without crystallization, under reduced pressure or from normal pressure, in the presence of an inert gas stream, or absent It can also be produced by solid phase polymerization. Furthermore, it can be produced by a direct polymerization method in which lactic acid is subjected to dehydration condensation in the presence or absence of an organic solvent.

重合反応は、従来公知の反応容器で実施可能であり、例えば開環重合あるいは直接重合法においてはヘリカルリボン翼等、高粘度用撹拌翼を備えた縦型反応器あるいは横型反応器を単独、または並列して使用することができる。また、回分式あるいは連続式あるいは半回分式のいずれでも良いし、これらを組み合わせてもよい。   The polymerization reaction can be carried out in a conventionally known reaction vessel. For example, in ring-opening polymerization or direct polymerization method, a vertical reactor or a horizontal reactor equipped with a stirring blade for high viscosity, such as a helical ribbon blade, is used alone, or Can be used in parallel. Moreover, any of a batch type, a continuous type, a semibatch type may be sufficient, and these may be combined.

重合開始剤としてアルコールを用いてもよい。かかるアルコールとしては、ポリ乳酸の重合を阻害せず不揮発性であることが好ましく、例えばデカノール、ドデカノール、テトラデカノール、ヘキサデカノール、オクタデカノール、エチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスルトールなどを好適に用いることができる。   Alcohol may be used as a polymerization initiator. Such alcohol is preferably non-volatile without inhibiting the polymerization of polylactic acid, such as decanol, dodecanol, tetradecanol, hexadecanol, octadecanol, ethylene glycol, trimethylolpropane, pentaerythritol, etc. Can be suitably used.

固相重合法で使用するポリ乳酸プレポリマーは、予め結晶化させることが、樹脂ペレット融着防止の面から好ましい実施形態と言える。プレポリマーは固定された縦型或いは横型反応容器、またはタンブラーやキルンの様に容器自身が回転する反応容器(ロータリーキルン等)中、プレポリマーのガラス転移温度から融点未満の温度範囲で固体状態で重合される。   It can be said that the polylactic acid prepolymer used in the solid-phase polymerization method is preferably crystallized in advance from the viewpoint of preventing resin pellet fusion. The prepolymer is polymerized in a solid state in a fixed vertical or horizontal reaction vessel, or in a reaction vessel (such as a rotary kiln) that rotates itself like a tumbler or kiln, in the temperature range from the glass transition temperature of the prepolymer to less than the melting point. Is done.

金属含有触媒としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類、遷移金属類、アルミニウム、ゲルマニウム、スズ、アンチモン、チタン等の脂肪酸塩、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、アルコラート等が例示される。   Metal-containing catalysts include alkali metals, alkaline earth metals, rare earths, transition metals, fatty acid salts such as aluminum, germanium, tin, antimony, titanium, carbonates, sulfates, phosphates, oxides, hydroxides , Halides, alcoholates and the like.

なかでもスズ、アルミニウム、亜鉛、カルシウム、チタン、ゲルマニウム、マンガン、マグネシウムおよび稀土類元素より選択される少なくとも一種の金属を含有する脂肪酸塩、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、アルコラートが好ましい。   Among them, fatty acid salts, carbonates, sulfates, phosphates, oxides, hydroxides containing at least one metal selected from tin, aluminum, zinc, calcium, titanium, germanium, manganese, magnesium and rare earth elements Products, halides, and alcoholates are preferred.

触媒活性、副反応の少なさからスズ化合物、具体的には塩化第一スズ、臭化第一スズ、ヨウ化第一スズ、硫酸第一スズ、酸化第二スズ、ミリスチン酸スズ、オクチル酸スズ、ステアリン酸スズ、テトラフェニルスズ等のスズ含有化合物が好ましい触媒として例示でされる。   Tin compounds due to low catalytic activity and side reactions, specifically stannous chloride, stannous bromide, stannous iodide, stannous sulfate, stannic oxide, tin myristate, tin octylate Tin-containing compounds such as tin stearate and tetraphenyltin are exemplified as preferred catalysts.

なかでも、スズ(II)化合物、具体的にはジエトキシスズ、ジノニルオキシスズ、ミリスチン酸スズ(II)、オクチル酸スズ(II)、ステアリン酸スズ(II)、塩化スズ(II)などが好適に例示される。   Among these, tin (II) compounds, specifically, diethoxytin, dinonyloxytin, tin (II) myristate, tin (II) octylate, tin (II) stearate, tin (II) chloride and the like are suitable. Illustrated.

触媒の使用量は、ラクチド1Kg当たり0.42×10−4から100×10−4(モル)でありさらに反応性、得られるポリラクチド類の色調、安定性を考慮すると1.68×10−4から42.1×10−4(モル)、特に好ましくは2.53×10−4から16.8×10−4(モル)モル使用される。 The amount of the catalyst used is 0.42 × 10 −4 to 100 × 10 −4 (mol) per 1 kg of lactide, and is 1.68 × 10 −4 in consideration of reactivity, color tone and stability of the resulting polylactides. To 42.1 × 10 −4 (mol), particularly preferably 2.53 × 10 −4 to 16.8 × 10 −4 (mol) mol.

ポリ乳酸重合に使用された金属含有触媒は、ポリ乳酸使用に先立ち、従来公知の失活剤で不活性化しておくのが好ましい。
かかる失活剤としては例えばイミノ基を有し且つ重合金属触媒に配位し得るキレート配位子の群からなる有機リガンド及びジヒドリドオキソリン(I)酸、ジヒドリドテトラオキソ二リン(II,II)酸、ヒドリドトリオキソリン(III)酸、ジヒドリドペンタオキソ二リン(III)酸、ヒドリドペンタオキソ二(II,IV)酸、ドデカオキソ六リン(III)酸、ヒドリドオクタオキソ三リン(III,IV,IV)酸、オクタオキソ三リン(IV,III,IV)酸、ヒドリドヘキサオキソ二リン(III,V)酸、ヘキサオキソ二リン(IV)酸、デカオキソ四リン(IV)酸、ヘンデカオキソ四リン(IV)酸、エネアオキソ三リン(V,IV,IV)酸等の酸価数5以下の低酸化数リン酸、式 xHO・yPで表され、x/y=3のオルトリン酸、2>x/y>1であり、縮合度より二リン酸、三リン酸、四リン酸、五リン酸等と称せられるポリリン酸及びこれらの混合物、x/y=1で表されるメタリン酸、なかでもトリメタリン酸、テトラメタリン酸、1>x/y>0で表され、五酸化リン構造の一部をのこした網目構造を有するウルトラリン酸(これらを総称してメタリン酸系化合物と呼ぶことがある。)、及びこれらの酸の酸性塩、一価、多価のアルコール類、あるいはポリアルキレングリコール類の部分エステル、完全エスエテル、ホスホノ置換低級脂肪族カルボン酸誘導体などが例示される。
The metal-containing catalyst used for polylactic acid polymerization is preferably deactivated with a conventionally known deactivator prior to using polylactic acid.
Examples of such a deactivator include an organic ligand comprising a group of chelate ligands having an imino group and capable of coordinating to a polymerized metal catalyst, dihydridooxoline (I) acid, dihydridotetraoxodilin (II, II ) Acid, hydridotrioxoline (III) acid, dihydridopentaoxodiphosphorus (III) acid, hydridopentaoxodi (II, IV) acid, dodecaoxohexaphosphorus (III) acid, hydridooctaoxotriphosphate (III, IV) , IV) acid, octaoxotriphosphoric acid (IV, III, IV), hydridohexaoxodiphosphoric acid (III, V), hexaoxodiphosphoric acid (IV), decaoxotetraphosphoric acid (IV), hedecaoxotetralin (IV ) acid, Eneaokiso triphosphate (V, IV, IV) acid value 5 or less low oxidation number phosphoric acids such as acid, by the formula xH 2 O · yP 2 O 5 Orthophosphoric acid of x / y = 3, 2> x / y> 1, and polyphosphoric acid referred to as diphosphoric acid, triphosphoric acid, tetraphosphoric acid, pentaphosphoric acid and the like based on the degree of condensation, and mixtures thereof, Metaphosphoric acid represented by x / y = 1, especially trimetaphosphoric acid, tetrametaphosphoric acid, ultraphosphoric acid represented by 1> x / y> 0 and having a network structure with a part of the phosphorus pentoxide structure (These may be collectively referred to as metaphosphate compounds), and acid salts of these acids, monovalent and polyhydric alcohols, partial esters of polyalkylene glycols, fully ether, phosphono-substituted lower Examples thereof include aliphatic carboxylic acid derivatives.

触媒失活能から、式xHO・yPで表され、x/y=3のオルトリン酸、2>x/y>1であり、縮合度より二リン酸、三リン酸、四リン酸、五リン酸等と称せられるポリリン酸及びこれらの混合物、x/y=1で表されるメタリン酸、なかでもトリメタリン酸、テトラメタリン酸、1>x/y>0で表され、五酸化リン構造の一部をのこした網目構造を有するウルトラリン酸(これらを総称してメタリン酸系化合物と呼ぶことがある。)、及びこれらの酸の酸性塩、一価、多価のアルコール類、あるいはポリアルキレングリコール類の部分エステルリンオキソ酸あるいはこれらの酸性エステル類、ホスホノ置換低級脂肪族カルボン酸誘導体及び上記のメタリン酸系化合物が好適に使用される。 From the catalyst deactivation ability, it is represented by the formula xH 2 O · yP 2 O 5 , x / y = 3 orthophosphoric acid, 2> x / y> 1, and based on the degree of condensation, diphosphate, triphosphate, tetra Polyphosphoric acid called phosphoric acid, pentaphosphoric acid and the like and mixtures thereof, metaphosphoric acid represented by x / y = 1, especially trimetaphosphoric acid, tetrametaphosphoric acid, 1> x / y> 0, Ultraphosphoric acid having a network structure in which a part of the phosphorus oxide structure is extended (these may be collectively referred to as metaphosphoric acid compounds), and acid salts of these acids, monovalent and polyhydric alcohols Or partial ester phosphorus oxoacids of polyalkylene glycols or acidic esters thereof, phosphono-substituted lower aliphatic carboxylic acid derivatives and the above-mentioned metaphosphoric acid compounds are preferably used.

本発明で使用するメタリン酸系化合物は、3から200程度のリン酸単位が縮合した環状のメタリン酸あるいは立体網目状構造を有するウルトラ領域メタリン酸あるいはそれらの(アルカル金属塩、アルカリ土類金属塩、オニウム塩)を包含する。なかでも環状メタリン酸ナトリウムやウルトラ領域メタリン酸ナトリウム、ホスホノ置換低級脂肪族カルボン酸誘導体のジヘキシルホスホノエチルアセテート(以下DHPAと略称することがある)などが好適に使用される。   The metaphosphoric acid compound used in the present invention is a cyclic metaphosphoric acid in which about 3 to 200 phosphoric acid units are condensed, an ultra-regional metaphosphoric acid having a three-dimensional network structure, or an alkali metal salt or an alkaline earth metal salt thereof. Onium salts). Among them, cyclic sodium metaphosphate, ultra-region sodium metaphosphate, phosphono-substituted lower aliphatic carboxylic acid derivative dihexylphosphonoethyl acetate (hereinafter sometimes abbreviated as DHPA) and the like are preferably used.

本発明で使用するポリ乳酸は、含有ラクチド量が1から5000ppmのものが好ましい。ポリ乳酸中に含有するラクチドは溶融加工時、樹脂を劣化させ、色調を悪化させ、場合によっては製品として使用不可能にする場合がある。   The polylactic acid used in the present invention preferably has a lactide content of 1 to 5000 ppm. The lactide contained in the polylactic acid deteriorates the resin and deteriorates the color tone at the time of melt processing, and in some cases, it may be disabled as a product.

溶融開環重合された直後のポリL−および/またはポリD−乳酸は通常1から5重量%のラクチドを含有するが、ポリL−および/またはポリD−乳酸重合終了の時点からポリ乳酸成形までの間の任意の段階において、従来公知のラクチド減量法により、即ち一軸あるいは多軸押出機での真空脱揮法、あるいは重合装置内での高真空処理等を単独であるいは組み合わせて実施することにラクチドを好適な範囲に低減することができる。   The poly L- and / or poly D-lactic acid immediately after the melt ring-opening polymerization usually contains 1 to 5% by weight of lactide, but the poly L- and / or poly D-lactic acid molding is completed from the end of the polymerization. At any stage up to the above, a conventionally known lactide weight loss method, that is, a vacuum devolatilization method in a single or multi-screw extruder, or a high vacuum treatment in a polymerization apparatus is carried out alone or in combination. In addition, lactide can be reduced to a suitable range.

ラクチド含有量は少ないほど、樹脂の溶融安定性、耐湿熱安定性は向上するが、樹脂溶融粘度を低下させる利点もあり、所望の目的に合致した含有量にするのが合理的、経済的である。すなわち、実用的な溶融安定性が達成される1から1000ppmに設定するのが合理的である。さらに好ましくは1から700ppm、より好ましくは2から500ppm、特に好ましくは5から100ppmの範囲が選択される。   The smaller the lactide content, the better the melt stability and heat-and-moisture resistance of the resin, but there is also the advantage of lowering the resin melt viscosity, making it reasonable and economical to meet the desired purpose. is there. That is, it is reasonable to set it to 1 to 1000 ppm at which practical melt stability is achieved. More preferably, a range of 1 to 700 ppm, more preferably 2 to 500 ppm, particularly preferably 5 to 100 ppm is selected.

ポリ乳酸成分がかかる範囲のラクチド含有量を有することにより、本発明における保護フィルムの溶融製膜時の樹脂の安定性を向上せしめ、フィルムの製造を効率よく実施できる利点及びフィルムの耐湿熱安定性、低ガス性を高めることが出来る。   By having a lactide content in such a range, the polylactic acid component can improve the stability of the resin during the melt-casting of the protective film in the present invention, and the advantage that the film can be efficiently manufactured and the heat-and-moisture stability of the film , Low gas can be improved.

本発明に使用されるポリ乳酸の重量平均分子量は、成形加工性と得られる成形品の機械的、熱的物性との関係を考察して選択される。即ち、組成物の強度、伸度、耐熱性等の機械的、熱的物性を発揮させるためには重量平均分子量は好ましくは8万以上、より好ましくは10万以上、さらに好ましくは13万以上である。   The weight average molecular weight of the polylactic acid used in the present invention is selected in consideration of the relationship between the molding processability and the mechanical and thermal properties of the obtained molded product. That is, the weight average molecular weight is preferably 80,000 or more, more preferably 100,000 or more, and further preferably 130,000 or more in order to exert mechanical and thermal properties such as strength, elongation and heat resistance of the composition. is there.

しかし、重量平均分子量の上昇とともに、ポリ乳酸の溶融粘度は指数関数的に上昇し、射出成形等の溶融成形を行うとき、樹脂粘度を成形可能範囲にするため、成形温度をポリ乳酸の耐熱温度以上に高く設定しなければならない場合が発生する。
具体的には、ポリ乳酸は、300℃を超える温度で成形を行うと樹脂の熱分解のためフィルム品が着色し、商品としての価値が低いものとなってしまう可能性が高い。
However, as the weight average molecular weight increases, the melt viscosity of polylactic acid increases exponentially. When melt molding such as injection molding is performed, the molding temperature is set to the heat resistant temperature of polylactic acid so that the resin viscosity is within the moldable range. There are cases where it must be set higher than this.
Specifically, when polylactic acid is molded at a temperature exceeding 300 ° C., the film product is colored due to the thermal decomposition of the resin, and there is a high possibility that the value as a product is low.

したがってポリ乳酸組成物の重量平均分子量は、好ましくは50万以下、より好ましくは40万以下、さらに好ましくは30万以下である。従ってポリ乳酸の重量平均分子量は、好ましくは8万から50万、より好ましくは10万から40万、さらに好ましくは13万から30万である。   Therefore, the weight average molecular weight of the polylactic acid composition is preferably 500,000 or less, more preferably 400,000 or less, and still more preferably 300,000 or less. Therefore, the weight average molecular weight of polylactic acid is preferably 80,000 to 500,000, more preferably 100,000 to 400,000, and still more preferably 130,000 to 300,000.

重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比を分子量分散(Mw/Mn)という。分子量分散が大きいことは、平均分子量に比較し、大きな分子や小さな分子の割合が多いことを意味する。   The ratio between the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) is referred to as molecular weight dispersion (Mw / Mn). A large molecular weight dispersion means that there are many ratios of large molecules and small molecules compared to the average molecular weight.

即ち、例えば重量平均分子量が25万程度で、分子量分散の3以上のポリ乳酸は、分子量が25万より大きい分子の割合が大きくなる場合があり、この場合、溶融粘度が大きくなり、上記の意味で成形上好ましくない。また8万程度の比較的小さい重量平均分子量で分子量分散の大きなポリ乳酸組成物では、分子量が8万より小さい分子の割合が大きくなる場合があり、この場合、成形品の機械的物性の耐久性が小さくなり、使用上好ましくない。かかる観点より分子量分散の範囲は、好ましくは1.5から2.4、より好ましくは1.6から2.4、さらに好ましくは1.6から2.3の範囲である。   That is, for example, a polylactic acid having a weight average molecular weight of about 250,000 and a molecular weight dispersion of 3 or more may have a large proportion of molecules having a molecular weight greater than 250,000. In this case, the melt viscosity becomes large, It is not preferable in terms of molding. In addition, in a polylactic acid composition having a relatively small weight average molecular weight of about 80,000 and a large molecular weight dispersion, the proportion of molecules having a molecular weight of less than 80,000 may increase. In this case, the durability of the mechanical properties of the molded product may be increased. Is not preferable in use. From this viewpoint, the range of molecular weight dispersion is preferably 1.5 to 2.4, more preferably 1.6 to 2.4, and still more preferably 1.6 to 2.3.

本発明のポリ乳酸は前述したようにポリL−乳酸成分とポリD−乳酸成分とを重量比で10/90から90/10の範囲で接触させることにより、好ましくは溶融接触させることにより、より好ましくは溶融混練接触させることにより得ることができる。   As described above, the polylactic acid of the present invention is obtained by bringing the poly L-lactic acid component and the poly D-lactic acid component into contact with each other at a weight ratio in the range of 10/90 to 90/10, preferably by melt contact. Preferably, it can be obtained by melt-kneading contact.

このポリL−乳酸成分とポリD−乳酸成分との接触温度はポリ乳酸の溶融時の安定性及びステレオコンプレックス結晶化度の向上の観点より220から290℃、好ましくは220から280℃、さらに好ましくは225から275℃の範囲が選択される。   The contact temperature between the poly L-lactic acid component and the poly D-lactic acid component is 220 to 290 ° C., preferably 220 to 280 ° C., more preferably from the viewpoint of improving the stability of the polylactic acid when melted and the stereocomplex crystallinity. A range of 225 to 275 ° C. is selected.

溶融混練方法は特に限定されるものではないが、従来公知のバッチ式或いは連続式の溶融混合装置が好適に使用される。たとえば、溶融撹拌槽、一軸、二軸の押出し機、ニーダー、無軸籠型撹拌槽、住友重機械工業(株)製「バイボラック」、三菱重工業(株)製N−SCR,(株)日立製作所製めがね翼、格子翼あるいはケニックス式撹拌機、あるいはズルツァー式SMLXタイプスタチックミキサー具備管型重合装置などを使用できるが、生産性、ポリ乳酸の品質とりわけ色調の点でセルフクリーニング式の重合装置である無軸籠型撹拌槽、N−SCR、2軸押し出しルーダーなどが好適に使用される。   The melt kneading method is not particularly limited, but a conventionally known batch type or continuous type melt mixing apparatus is preferably used. For example, melt-stirred tanks, single- and twin-screw extruders, kneaders, non-shaft vertical stirrers, "Vibolac" manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd., N-SCR manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd., Hitachi, Ltd. You can use glass blades, lattice blades or Kenix type stirrers, or Sulzer type SMLX type static mixer equipped pipe type polymerization equipment, but it is a self-cleaning type polymerization equipment in terms of productivity, quality of polylactic acid, especially color tone. A certain non-shaft vertical stirring tank, N-SCR, twin-screw extruder, etc. are preferably used.

本発明で用いるポリ乳酸には、本発明の主旨に反しない範囲において、ステレオコンプレックスポリ乳酸結晶の形成を安定的且つ高度に進めるために特定の添加物を配合する手法が好ましく適用される。   In the polylactic acid used in the present invention, a method of blending a specific additive in order to stably and highly advance the formation of a stereocomplex polylactic acid crystal is preferably applied without departing from the gist of the present invention.

すなわち、例えば、ステレオコンプレックス結晶化促進剤として下記式(22)または(23)で表されるリン酸金属塩を添加する手法が挙げられる。   That is, for example, a method of adding a metal phosphate represented by the following formula (22) or (23) as a stereocomplex crystallization accelerator can be mentioned.

Figure 2011033798
式(22)中、R11は水素原子または炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、R12、R13はそれぞれ独立に、水素原子、または炭素原子数1〜12のアルキル基を表し、Mはアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子またはアルミニウム原子を表し、pは1または2を表し、qはMがアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子のときは0を、アルミニウム原子の時は1または2を表す。
Figure 2011033798
In formula (22), R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 12 and R 13 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, M 1 represents an alkali metal atom, an alkaline earth metal atom, a zinc atom or an aluminum atom, p represents 1 or 2, and q represents 0 when M 1 is an alkali metal atom, an alkaline earth metal atom or a zinc atom. Represents an aluminum atom, 1 or 2.

Figure 2011033798
式(23)中R14、R15およびR16は各々独立に、水素原子または炭素原子数1〜12のアルキル基を表し、Mはアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子またはアルミニウム原子を表し、pは1または2を表し、qはMがアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子のときは0を、アルミニウム原子の時は1または2を表す。
Figure 2011033798
In the formula (23), R 14 , R 15 and R 16 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and M 2 represents an alkali metal atom, an alkaline earth metal atom, a zinc atom or aluminum. P represents 1 or 2, q represents 0 when M 2 is an alkali metal atom, alkaline earth metal atom, or zinc atom, and 1 or 2 when M 2 is an aluminum atom.

式(22)または(23)で表されるリン酸金属塩のM、Mは、Na、K、Al、Mg、Ca、Liが好ましく、特に、K、Na、Al、LiなかでもLi、Alが最も好適に用いることができる。 M 1 and M 2 of the metal phosphate represented by the formula (22) or (23) are preferably Na, K, Al, Mg, Ca, Li, and in particular, Li, K, Na, Al, and Li. Al can be most preferably used.

これらのリン酸金属塩は、(株)ADEKA製の商品名、「アデカスタブ」NA−11、NA−71等が好適な剤として例示される。ポリ乳酸に対して、リン酸金属塩は0.001から2wt%、好ましくは0.005から1wt%、より好ましくは0.01から0.5wt%さらに好ましくは0.02から0.3wt%用いることが好ましい。少なすぎる場合には、ステレオコンプレックス結晶化度(S)を向上する効果が小さく、多すぎるとステレオコンプレックス結晶融点を低下させるので好ましくない。   As these metal phosphates, trade names manufactured by ADEKA Corporation, “ADEKA STAB” NA-11, NA-71 and the like are exemplified as suitable agents. The metal phosphate is used in an amount of 0.001 to 2 wt%, preferably 0.005 to 1 wt%, more preferably 0.01 to 0.5 wt%, more preferably 0.02 to 0.3 wt% with respect to polylactic acid. It is preferable. When the amount is too small, the effect of improving the stereocomplex crystallinity (S) is small, and when too large, the stereocomplex crystal melting point is lowered, which is not preferable.

さらに所望により、リン酸金属塩の作用を強化するため、以下記載する公知の結晶化核剤を併用することができる。なかでも珪酸カルシウム、タルク、カオリナイト、モンモリロナイトが好ましくは選択される。
結晶化核剤の使用量はポリ乳酸に対し0.05から5wt%、より好ましくは0.06から2wt%、さらに好ましくは0.06から1wt%の範囲が選択される。
Furthermore, if desired, a known crystallization nucleating agent described below can be used in combination in order to enhance the action of the metal phosphate. Of these, calcium silicate, talc, kaolinite, and montmorillonite are preferably selected.
The amount of crystallization nucleating agent used is selected in the range of 0.05 to 5 wt%, more preferably 0.06 to 2 wt%, and still more preferably 0.06 to 1 wt% with respect to polylactic acid.

また、ステレオコンプレックス結晶化助剤[(エポキシ基、オキサゾリン基、オキサジン基、イソシアネート基、ケテン基及びカルボジイミド基)(以下特定官能基と略称することがある)の群より選択される官能基を分子中に少なくとも1個有する化合物]の添加する手法が挙げられる。   In addition, a functional group selected from the group of stereocomplex crystallization aids [(epoxy group, oxazoline group, oxazine group, isocyanate group, ketene group and carbodiimide group) (hereinafter sometimes abbreviated as a specific functional group) is a molecule. And a method of adding a compound having at least one compound].

本発明においてステレオコンプレックス結晶化助剤とは、特定官能基がポリ乳酸の分子末端と反応して、部分的にポリL−乳酸ユニットとポリD−乳酸ユニットとを連結し、ステレオコンプレックス結晶形成を促進させているものと本発明者らが推察する剤である。   In the present invention, the stereocomplex crystallization aid means that a specific functional group reacts with the molecular end of polylactic acid to partially link a poly L-lactic acid unit and a poly D-lactic acid unit to form a stereocomplex crystal. It is an agent that the present inventors speculate that it is promoted.

ステレオコンプレックス結晶化助剤としては以下に記載する従来ポリエステルのカルボキシル末端基封鎖剤として公知の剤を好適に適用することができる。なかでも、ステレオコンプレックス結晶形成促進効果よりカルボジイミド化合物が好適に選択される。   As the stereocomplex crystallization aid, a known agent can be suitably applied as a carboxyl terminal group blocking agent for conventional polyesters described below. Especially, a carbodiimide compound is suitably selected from the stereocomplex crystal formation promotion effect.

しかしながらステレオコンプレックス結晶化助剤とりわけ、窒素を含有するステレオコンプレックス結晶化助剤は、ステレオコンプレックス結晶形成時、剤の熱分解のため悪臭による作業環境悪化、ポリ乳酸の色調悪化を引き起こす危険性が大きいため、使用しないことが好ましく、使用する場合には、ステレオコンプレックス結晶の高度形成に重点を置く場合に限定し、可能な限り少量に抑制して使用することが好ましい。   However, stereocomplex crystallization aids, especially nitrogen-containing stereocomplex crystallization aids, have a high risk of causing deterioration of the working environment due to malodor and deterioration of the color tone of polylactic acid due to thermal decomposition of the agent during stereocomplex crystal formation. Therefore, it is preferable not to use it, and when using it, it is limited to a case where emphasis is placed on the high-level formation of stereocomplex crystals, and it is preferable to use it while suppressing it as little as possible.

ステレオコンプレックス結晶化助剤の使用量は上記と同じ基準において1wt%以下、好ましくは、0から0.5wt%、より好ましくは0から0.3wt%、さらに好ましくは0から0.1wt%の範囲が選択される。   The amount of the stereocomplex crystallization aid used is not more than 1 wt%, preferably 0 to 0.5 wt%, more preferably 0 to 0.3 wt%, still more preferably 0 to 0.1 wt% in the same standard as above. Is selected.

すなわち上記ステレオ化促進剤の手法は単独に適用することが好ましく、ステレオコンプレックス結晶形成により重点をおく場合にステレオコンプレックス結晶化助剤の手法と組み合わせて適用することが好ましく選択される。   That is, it is preferable to apply the above-described stereogenic accelerator method alone, and when emphasizing stereocomplex crystal formation, it is preferably selected to be applied in combination with the stereocomplex crystallization aid method.

本発明においては、ポリ乳酸のカルボキシル末端基濃度は0.01から10(当量/10g)、{以下(当量/10g)を(当量/ton)と略称することがある。}が好ましい。より好ましくは0.02から2(当量/ton)、さらに好ましくは0.02から1(当量/ton)の範囲が好適に選択される。 In the present invention, the carboxyl end group concentration of polylactic acid is 0.01 to 10 (equivalent / 10 6 g), and {hereinafter (equivalent / 10 6 g) may be abbreviated as (equivalent / ton). } Is preferred. The range of 0.02 to 2 (equivalent / ton) is more preferable, and the range of 0.02 to 1 (equivalent / ton) is more preferably selected.

カルボキシル末端基濃度がこの範囲内にある時には、溶融安定性、湿熱安定性を良好なものとすることができる。ポリ乳酸のカルボキシル末端基濃度を10(当量/ton)以下にするには、ポリエステル組成物で従来公知のカルボキシル末端基濃度の低減方法を好適に適用することができ、例えばアルコール、アミンによってエステルまたはアミド化することもできる。   When the carboxyl end group concentration is within this range, the melt stability and wet heat stability can be improved. In order to reduce the carboxyl end group concentration of polylactic acid to 10 (equivalent / ton) or less, a conventionally known method for reducing the carboxyl end group concentration in the polyester composition can be suitably applied. It can also be amidated.

本発明に使用される保護フィルムには、ポリ乳酸以外の熱可塑性樹脂、安定剤、紫外線吸収剤、結晶化促進剤、充填剤、離型剤、帯電防止剤、可塑剤および耐衝撃性安定剤からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有することができる。本発明に用いられるポリ乳酸は、安定剤を含有することが好ましい。安定剤としては通常の熱可塑性樹脂の安定剤に使用されるものを用いることができる。例えば酸化防止剤、光安定剤等を挙げることができる。これらの剤を配合することで機械的特性、成形性、耐熱性および耐久性に優れた保護フィルムを得ることができる。   The protective film used in the present invention includes thermoplastic resins other than polylactic acid, stabilizers, ultraviolet absorbers, crystallization accelerators, fillers, mold release agents, antistatic agents, plasticizers and impact stabilizers. At least one selected from the group consisting of: The polylactic acid used in the present invention preferably contains a stabilizer. As a stabilizer, what is used for the stabilizer of a normal thermoplastic resin can be used. For example, an antioxidant, a light stabilizer, etc. can be mentioned. By blending these agents, a protective film excellent in mechanical properties, moldability, heat resistance and durability can be obtained.

酸化防止剤としてはヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、ホスファイト系化合物、チオエーテル系化合物等を挙げることができる。
ヒンダードフェノール系化合物としては、n−オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、n−オクタデシル−3−(3’−メチル−5’−tert−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、n−テトラデシル−3−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、1,6−ヘキサンジオ−ル−ビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]、1,4−ブタンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]、2,2’−メチレン−ビス(4−メチル−tert−ブチルフェノール)、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]、テトラキス[メチレン−3−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、3,9−ビス[2−{3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}−1,1−ジメチルエチル]2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン等が挙げられる。ヒンダードアミン系化合物として、N,N’−ビス−3−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオニルヘキサメチレンジアミン、N,N’−テトラメチレン−ビス[3−(3’−メチル−5’−tert−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ジアミン、N,N’−ビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオニル]ヒドラジン、N−サリチロイル−N’−サリチリデンヒドラジン、3−(N−サリチロイル)アミノ−1,2,4―トリアゾール、N,N’−ビス[2−{3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]オキシアミド等を挙げることができる。好ましくは、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]、およびテトラキス[メチレン−3−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン等が挙げられる。
Examples of the antioxidant include hindered phenol compounds, hindered amine compounds, phosphite compounds, thioether compounds, and the like.
Examples of hindered phenol compounds include n-octadecyl-3- (3 ′, 5′-di-tert-butyl-4′-hydroxyphenyl) -propionate, n-octadecyl-3- (3′-methyl-5 ′). -Tert-butyl-4'-hydroxyphenyl) -propionate, n-tetradecyl-3- (3 ', 5'-di-tert-butyl-4'-hydroxyphenyl) -propionate, 1,6-hexanediol- Bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate], 1,4-butanediol-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) ) -Propionate], 2,2′-methylene-bis (4-methyl-tert-butylphenol), triethylene glycol-bis [3- (3-tert -Butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) -propionate], tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane, 3,9-bis [ 2- {3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} -1,1-dimethylethyl] 2,4,8,10-tetraoxaspiro (5,5) undecane, etc. Is mentioned. As a hindered amine compound, N, N′-bis-3- (3 ′, 5′-di-tert-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionylhexamethylenediamine, N, N′-tetramethylene-bis [3- (3′-Methyl-5′-tert-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionyl] diamine, N, N′-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionyl ] Hydrazine, N-salicyloyl-N′-salicylidenehydrazine, 3- (N-salicyloyl) amino-1,2,4-triazole, N, N′-bis [2- {3- (3,5-di) -Tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy} ethyl] oxyamide and the like. Preferably, triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) -propionate] and tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-tert-butyl) -4-hydroxyphenyl) propionate] methane and the like.

ホスファイト系化合物としては、少なくとも1つのP−O結合が芳香族基に結合しているものが好ましく、具体的には、トリス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)4,4’−ビフェニレンホスファイト、ビス(2,6―ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェニル−ジ−トリデシル)ホスファイト、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ジトリデシルホスファイト−5−tert−ブチルフェニル)ブタン、トリス(ミックスドモノおよびジ−ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、4,4’−イソプロピリデンビス(フェニル−ジアルキルホスファイト)等が挙げられる。   As the phosphite compound, those in which at least one P—O bond is bonded to an aromatic group are preferable. Specifically, tris (2,6-di-tert-butylphenyl) phosphite, tetrakis ( 2,6-di-tert-butylphenyl) 4,4′-biphenylene phosphite, bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol di-phosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-tert-butylphenyl) octyl phosphite, 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenyl-di-tridecyl) phosphite, 1,1,3-tris (2-methyl-4-ditridecyl phosphite-5-tert-butylphenyl) butane, tris (mixed mono and di-no Butylphenyl) phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, 4,4'-isopropylidene-bis (phenyl - dialkyl phosphite), and the like.

なかでもトリス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、テトラキス(2,6―ジ−tert−ブチルフェニル)4,4’−ビフェニレンホスファイト等が好ましく使用できる。   Among them, tris (2,6-di-tert-butylphenyl) phosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-tert-butylphenyl) octyl phosphite, bis (2,6-di-tert-butyl) -4-Methylphenyl) pentaerythritol-di-phosphite, tetrakis (2,6-di-tert-butylphenyl) 4,4'-biphenylene phosphite and the like can be preferably used.

チオエーテル系化合物の具体例として、ジラウリルチオジプロピオネート、ジトリデシルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、ペンタエリスリトール−テトラキス(3−ドデシルチオプロピオネート)、ペンタエリスリトール−テトラキス(3−オクタデシルチオプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−ミリスチルチオプロピオネート)、ペンタエリスリトール−テトラキス(3−ステアリルチオプロピオネート)等が挙げられる。   Specific examples of thioether compounds include dilauryl thiodipropionate, ditridecyl thiodipropionate, dimyristyl thiodipropionate, distearyl thiodipropionate, pentaerythritol-tetrakis (3-lauryl thiopropionate), Pentaerythritol-tetrakis (3-dodecylthiopropionate), pentaerythritol-tetrakis (3-octadecylthiopropionate), pentaerythritol tetrakis (3-myristylthiopropionate), pentaerythritol-tetrakis (3-stearylthio) Propionate) and the like.

光安定剤としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、環状イミノエステル系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ヒンダードアミン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることが出来る。光安定剤としては、紫外線吸収剤と光酸化で生成するラジカルを捕捉するものの組み合わせにて用いても良い。   Examples of the light stabilizer include oxybenzophenone compounds, cyclic imino ester compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, hindered amine compounds, nickel complex compounds, and the like. I can do it. As a light stabilizer, you may use in combination with the ultraviolet absorber and what capture | acquires the radical produced | generated by photooxidation.

紫外線吸収剤としては、環状イミノエステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物が可視光における吸収を最小化できる点で好ましい。また、偏光膜や液晶の劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ液晶表示性能の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。   As the ultraviolet absorber, a cyclic imino ester compound, a benzophenone compound, and a benzotriazole compound are preferable in that absorption in visible light can be minimized. In addition, from the viewpoint of preventing deterioration of the polarizing film and the liquid crystal, those having excellent absorption ability of ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and less visible light absorption having a wavelength of 400 nm or more are preferable from the viewpoint of liquid crystal display performance.

有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−(3’’,4’’,5’’,6’’−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることが出来るが、これらに限定されない。また、市販品として、チヌビン(TINUVIN)109、チヌビン(TINUVIN)171、チヌビン(TINUVIN)326、チヌビン(TINUVIN)328(何れもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製)を好ましく使用出来る。   Specific examples of useful benzotriazole ultraviolet absorbers include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl). ) Benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-tert-butyl-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl)- 5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′-(3 ″, 4 ″, 5 ″, 6 ″ -tetrahydrophthalimidomethyl) -5′-methylphenyl) benzotriazole, 2, 2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2- (2 ′ Hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy Examples include, but are not limited to, a mixture of -5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate. As commercially available products, TINUVIN 109, TINUVIN 171, TINUVIN 326, and TINUVIN 328 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals) can be preferably used.

環状イミノエステル系化合物の具体例としては、2,2’−ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−p−フェニレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−m−フェニレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−(4,4’−ジフェニレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−(2,6−ナフタレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−(1,5−ナフタレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−(2−メチル−p−フェニレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−(2−ニトロ−p−フェニレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)および2,2’−(2−クロロ−p−フェニレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)などが例示される。なかでも2,2’−p−フェニレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−(4,4’−ジフェニレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)および2,2’−(2,6−ナフタレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)が好適であり、特に2,2’−p−フェニレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)が好適である。環状イミノエステルは単独であるいは2種以上を併用して用いることができる。   Specific examples of the cyclic imino ester compound include 2,2′-bis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2′-p-phenylenebis (3,1-benzoxazin-4-one). ), 2,2′-m-phenylenebis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2 ′-(4,4′-diphenylene) bis (3,1-benzoxazin-4-one) 2,2 ′-(2,6-naphthalene) bis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2 ′-(1,5-naphthalene) bis (3,1-benzoxazine-4-one) ON), 2,2 ′-(2-methyl-p-phenylene) bis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2 ′-(2-nitro-p-phenylene) bis (3,1 -Benzoxazin-4-one) and 2,2 '-(2-chloro-p- Eniren) bis (3,1-benzoxazin-4-one) is illustrated. Among them, 2,2′-p-phenylenebis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2 ′-(4,4′-diphenylene) bis (3,1-benzoxazin-4-one) And 2,2 ′-(2,6-naphthalene) bis (3,1-benzoxazin-4-one) are preferred, especially 2,2′-p-phenylenebis (3,1-benzoxazine-4 -On) is preferred. Cyclic iminoesters can be used alone or in combination of two or more.

当該環状イミノエステルは、WO03/035735号パンフレットに開示された各種の方法によって製造することができる。すなわち原料として無水イサト酸を利用する方法(殊に再結晶化された無水イサト酸を利用する方法)、並びにアントラニル酸を利用する方法のいずれも利用可能である。これらの酸化合物とカルボン酸クロライド化合物とを反応させて、環状イミノエステル化合物を得ることができる。これらは特公昭62−31027号公報に開示された如く、生成後に再結晶化処理を行ってもよい。かかる化合物は竹本油脂(株)からCEi−P(商品名)、およびCYTEC社からCYASORB UV−3638(商品名)として市販されており、容易に利用できる。   The cyclic imino ester can be produced by various methods disclosed in the pamphlet of WO 03/035735. That is, any of a method using isatoic anhydride as a raw material (in particular, a method using recrystallized isatoic anhydride) and a method using anthranilic acid can be used. A cyclic imino ester compound can be obtained by reacting these acid compounds with a carboxylic acid chloride compound. These may be recrystallized after production as disclosed in JP-B-62-31027. Such compounds are commercially available from Takemoto Yushi Co., Ltd. as CEi-P (trade name) and from CYTEC as CYASORB UV-3638 (trade name) and can be easily used.

ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ−5−スルホベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、5−クロロ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2’−カルボキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−メチル−アクリロキシイソプロポキシ)ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸水和物、2−ヒドロキシ−4−オクチロキシベンゾフェノン、4−ベンジロキシ−2−ハイドロキシベンゾフェノン、1,4−ビス(4−ベンゾイル−3−ヒドロキシフェノキシ)−ブタン等が挙げられる。   Examples of benzophenone compounds include benzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxybenzophenone, 2,2'4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'- Dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxy-5-sulfobenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, 5-chloro-2-hydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy- 2 ' Carboxybenzophenone, 2-hydroxy-4- (2-hydroxy-3-methyl-acryloxyisopropoxy) benzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid hydrate, 2-hydroxy-4-octyloxy Examples include benzophenone, 4-benzyloxy-2-hydroxybenzophenone, 1,4-bis (4-benzoyl-3-hydroxyphenoxy) -butane, and the like.

本発明における保護フィルムには、有機若しくは無機の結晶化促進剤を含有することができる。結晶化促進剤を含有することで、ステレオコンプレックス結晶促進剤の作用を一層増強することができ、機械的特性、耐熱性、および成形性に優れた成形品を得ることができる。   The protective film in the present invention can contain an organic or inorganic crystallization accelerator. By containing the crystallization accelerator, the action of the stereocomplex crystal accelerator can be further enhanced, and a molded product having excellent mechanical properties, heat resistance, and moldability can be obtained.

本発明で使用する結晶化促進剤は一般に結晶性樹脂の結晶核剤として用いられるものを用いることができ、無機系の結晶核剤および有機系の結晶核剤のいずれをも使用することができる。   As the crystallization accelerator used in the present invention, those generally used as crystal nucleating agents for crystalline resins can be used, and both inorganic crystal nucleating agents and organic crystal nucleating agents can be used. .

無機系の結晶核剤として、タルク、カオリン、シリカ、合成マイカ、クレイ、ゼオライト、グラファイト、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、硫化カルシウム、窒化ホウ素、モンモリロナイト、酸化ネオジム、酸化アルミニウム、フェニルフォスフォネート金属塩等が挙げられる。   As inorganic crystal nucleating agents, talc, kaolin, silica, synthetic mica, clay, zeolite, graphite, carbon black, zinc oxide, magnesium oxide, titanium oxide, calcium carbonate, calcium sulfate, barium sulfate, calcium sulfide, boron nitride, Examples thereof include montmorillonite, neodymium oxide, aluminum oxide, and phenylphosphonate metal salt.

これらの無機系の結晶核剤は組成物中での分散性およびその効果を高めるために、各種分散助剤で処理され、一次粒子径が0.01から0.5μm程度の高度に分散状態にあるものが好ましい。   These inorganic crystal nucleating agents are treated with various dispersion aids in order to enhance the dispersibility in the composition and the effect thereof, and the primary particle diameter becomes a highly dispersed state of about 0.01 to 0.5 μm. Some are preferred.

有機系の結晶核剤としては、安息香酸カルシウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸リチウム、安息香酸カリウム、安息香酸マグネシウム、安息香酸バリウム、蓚酸カルシウム、テレフタル酸ジナトリウム、テレフタル酸ジリチウム、テレフタル酸ジカリウム、ラウリン酸ナトリウム、ラウリン酸カリウム、ミリスチン酸ナトリウム、ミリスチン酸カリウム、ミリスチン酸カルシウム、ミリスチン酸バリウム、オクタコ酸ナトリウム、オクタコ酸カルシウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸バリウム、モンタン酸ナトリウム、モンタン酸カルシウム、トルイル酸ナトリウム、サリチル酸ナトリウム、サリチル酸カリウム、サリチル酸亜鉛、アルミニウムジベンゾエート、β−ナフトエ酸ナトリウム、β−ナフトエ酸カリウム、シクロヘキサンカルボン酸ナトリウム等の有機カルボン酸金属塩、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、スルホイソフタル酸ナトリウム等の有機スルホン酸金属塩が挙げられる。   Organic nucleating agents include calcium benzoate, sodium benzoate, lithium benzoate, potassium benzoate, magnesium benzoate, barium benzoate, calcium oxalate, disodium terephthalate, dilithium terephthalate, dipotassium terephthalate, lauric acid Sodium phosphate, potassium laurate, sodium myristate, potassium myristate, calcium myristate, barium myristate, sodium octacolate, calcium octacolate, sodium stearate, potassium stearate, lithium stearate, calcium stearate, magnesium stearate, Barium stearate, sodium montanate, calcium montanate, sodium toluate, sodium salicylate, potassium salicylate, salicylate Examples include organic carboxylic acid metal salts such as zinc, aluminum dibenzoate, sodium β-naphthoate, potassium β-naphthoate, and sodium cyclohexanecarboxylate, and organic sulfonic acid metal salts such as sodium p-toluenesulfonate and sodium sulfoisophthalate. It is done.

また、ステアリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸アミド、エルカ酸アミド、トリメシン酸トリス(t−ブチルアミド)等の有機カルボン酸アミド、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリイソプロピレン、ポリブテン、ポリ−4−メチルペンテン、ポリ−3−メチルブテン−1、ポリビニルシクロアルカン、ポリビニルトリアルキルシラン、高融点ポリ乳酸、エチレン−アクリル酸コポマーのナトリウム塩、スチレン−無水マレイン酸コポリマーのナトリウム塩(いわゆるアイオノマー)、ベンジリデンソルビトールおよびその誘導体、例えばジベンジリデンソルビトール等が挙げられる。   In addition, stearic acid amide, ethylene bislauric acid amide, palmitic acid amide, hydroxy stearic acid amide, erucic acid amide, trimesic acid tris (t-butylamide) and other organic carboxylic acid amides, low density polyethylene, high density polyethylene, polyiso Propylene, polybutene, poly-4-methylpentene, poly-3-methylbutene-1, polyvinylcycloalkane, polyvinyltrialkylsilane, high melting point polylactic acid, sodium salt of ethylene-acrylic acid copolymer, sodium of styrene-maleic anhydride copolymer Examples thereof include salts (so-called ionomers), benzylidene sorbitol and derivatives thereof such as dibenzylidene sorbitol.

これらのなかでタルク、および有機カルボン酸金属塩から選択された少なくとも1種が好ましく使用される。本発明の保護フィルムで使用する結晶核剤は1種のみでもよく、2種以上を併用しても良い。
結晶化促進剤の含有量は、ポリ乳酸100重量部当たり、好ましくは0.01から30重量部、より好ましくは0.05から20重量部である。
Among these, at least one selected from talc and metal organic carboxylic acid salts is preferably used. Only one type of crystal nucleating agent may be used in the protective film of the present invention, or two or more types may be used in combination.
The content of the crystallization accelerator is preferably 0.01 to 30 parts by weight, more preferably 0.05 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of polylactic acid.

本発明で使用される帯電防止剤として、(β−ラウラミドプロピオニル)トリメチルアンモニウムスルフェート、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の第4級アンモニウム塩系、スルホン酸塩系化合物、アルキルホスフェート系化合物等が挙げられる。   Examples of the antistatic agent used in the present invention include (β-lauramidopropionyl) trimethylammonium sulfate, quaternary ammonium salts such as sodium dodecylbenzenesulfonate, sulfonate compounds, and alkyl phosphate compounds. It is done.

本発明の保護フィルムにおいて帯電防止剤は1種類で用いても良いし2種以上を組み合わせて用いても良い。帯電防止剤の含有量は、ポリ乳酸100重量部に対し、好ましくは0.05から5重量部、より好ましくは0.1から5重量部である。   In the protective film of the present invention, the antistatic agent may be used singly or in combination of two or more. The content of the antistatic agent is preferably 0.05 to 5 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of polylactic acid.

本発明で使用する可塑剤としては一般に公知のものを使用することができる。例えば、ポリエステル系可塑剤、グリセリン系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、ポリアルキレングリコール系可塑剤、およびエポキシ系可塑剤、等が挙げられる。   As the plasticizer used in the present invention, generally known plasticizers can be used. Examples include polyester plasticizers, glycerin plasticizers, polycarboxylic acid ester plasticizers, phosphate ester plasticizers, polyalkylene glycol plasticizers, and epoxy plasticizers.

ポリエステル系可塑剤として、アジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸等の酸成分とエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール等のジオール成分からなるポリエステルやポリカプロラクトン等のヒドロキシカルボン酸からなるポリエステル等が挙げられる。これらのポリエステルは単官能カルボン酸または単官能アルコールで末端封止されていても良い。   As a polyester plasticizer, acid components such as adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, diphenyldicarboxylic acid and ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, Examples thereof include polyesters composed of diol components such as 1,6-hexanediol and diethylene glycol, and polyesters composed of hydroxycarboxylic acids such as polycaprolactone. These polyesters may be end-capped with a monofunctional carboxylic acid or a monofunctional alcohol.

グリセリン系可塑剤として、グリセリンモノステアレート、グリセリンジステアレート、グリセリンモノアセトモノラウレート、グリセリンモノアセトモノステアレート、グリセリンジアセトモノオレート、グリセリンモノアセトモノモンタネート等が挙げられる。   Examples of the glycerol plasticizer include glycerol monostearate, glycerol distearate, glycerol monoacetomonolaurate, glycerol monoacetomonostearate, glycerol diacetomonooleate, and glycerol monoacetomonomontanate.

多価カルボン酸系可塑剤として、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジベンジル、フタル酸ブチルベンジル等のフタル酸エステル、トリメリット酸トリブチル、トリメリット酸トリオクチル、トリメリット酸トリヘキシル等のトリメリット酸エステル、アジピン酸イソデシル、アジピン酸−n−デシル−n−オクチル等のアジピン酸エステル、アセチルクエン酸トリブチル等のクエン酸エステル、アゼライン酸ビス(2−エチルヘキシル)等のアゼライン酸エステル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ビス(2−エチルヘキシル)等のセバシン酸エステルが挙げられる。   Polyvalent carboxylic acid plasticizers include dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, dibenzyl phthalate, butyl benzyl phthalate, trimellitic acid tributyl, trimellitic acid trioctyl, Trimellitic acid esters such as trihexyl meritate, isodecyl adipate, adipic acid esters such as adipate-n-decyl-n-octyl, citrate esters such as tributyl acetylcitrate, bis (2-ethylhexyl) azelate, etc. Examples include sebacic acid esters such as azelaic acid ester, dibutyl sebacate, and bis (2-ethylhexyl) sebacate.

リン酸エステル系可塑剤として、リン酸トリブチル、リン酸トリス(2−エチルヘキシル)、リン酸トリオクチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸ジフェニル−2−エチルヘキシル等が挙げられる。   Examples of the phosphate ester plasticizer include tributyl phosphate, tris phosphate (2-ethylhexyl), trioctyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, diphenyl-2-ethylhexyl phosphate, and the like.

ポリアルキレングリコール系可塑剤として、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリ(エチレンオキシド.プロピレンオキシド)ブロックおよびまたはランダム共重合体、ビスフェノール類のエチレンオキシド付加重合体、ビスフェノール類のテトラヒドロフラン付加重合体等のポリアルキレングリコールあるいはその末端エポキシ変性化合物、末端エステル変性化合物および末端エーテル変性化合物等の末端封鎖剤化合物等が挙げられる。   Polyalkylene glycol plasticizers such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, poly (ethylene oxide.propylene oxide) block and / or random copolymers, ethylene oxide addition polymers of bisphenols, tetrahydrofuran addition polymers of bisphenols, etc. And end-capping compounds such as a terminal epoxy-modified compound, a terminal ester-modified compound and a terminal ether-modified compound.

エポキシ系可塑剤として、エポキシステアリン酸アルキルと大豆油とからなるエポキシトリグリセリド、およびビスフェノールAとエピクロルヒドリンを原料とするエポキシ樹脂が挙げられる。   Examples of the epoxy plasticizer include an epoxy triglyceride composed of alkyl epoxy stearate and soybean oil, and an epoxy resin using bisphenol A and epichlorohydrin as raw materials.

その他の可塑剤の具体的な例としては、ネオペンチルグリコールジベンゾエート、ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコール−ビス(2−エチルブチレート)等の脂肪族ポリオールの安息香酸エステル、ステアリン酸アミド等の脂肪酸アミド、オレイン酸ブチル等の脂肪酸エステル、アセチルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブチル等のオキシ酸エステル、ペンタエリスリトール、各種ソルビトール、ポリアクリル酸エステル、シリコーンオイル、およびパラフィン類等が挙げられる。   Specific examples of other plasticizers include benzoic acid esters of aliphatic polyols such as neopentyl glycol dibenzoate, diethylene glycol dibenzoate, triethylene glycol-bis (2-ethylbutyrate), and fatty acids such as stearamide. Examples thereof include fatty acid esters such as amide and butyl oleate, oxyacid esters such as methyl acetylricinoleate and butyl acetylricinoleate, pentaerythritol, various sorbitols, polyacrylic acid esters, silicone oils, and paraffins.

可塑剤として、特にポリエステル系可塑剤およびポリアルキレン系可塑剤から選択された少なくとも1種よりなるものが好ましく使用でき、1種のみでも良くまた2種以上を併用することもできる。   As the plasticizer, at least one selected from polyester-type plasticizers and polyalkylene-type plasticizers is preferably used, and only one type may be used or two or more types may be used in combination.

可塑剤の含有量は、保護フィルム100重量部当たり、好ましくは0.01から30重量部、より好ましくは0.05から20重量部、さらに好ましくは0.1から10重量部である。本発明においては結晶核剤と可塑剤を各々単独で使用してもよいし、両者を併用して使用することがさらに好ましい。   The content of the plasticizer is preferably 0.01 to 30 parts by weight, more preferably 0.05 to 20 parts by weight, and further preferably 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the protective film. In the present invention, each of the crystal nucleating agent and the plasticizer may be used alone, or more preferably used in combination.

<保護フィルムの製膜、延伸方法>
前述の方法等で得られたポリ乳酸を含む樹脂組成物を製膜するには、押し出し成形、キャスト成形等の公知の成形手法を用いることができる。例えば、Tダイ、Iダイ、円形ダイ等が装着された押出機等を用いて、製膜することができる。
<Formation of protective film, stretching method>
In order to form a resin composition containing polylactic acid obtained by the above-described method, a known molding technique such as extrusion molding or cast molding can be used. For example, the film can be formed using an extruder equipped with a T die, an I die, a circular die and the like.

押し出し成形により未延伸フィルムを得る場合は、事前にポリ乳酸および他の成分を溶融混練した材料を用いることもできれば、押し出し成形時に溶融混練を経て成形することもできる。未延伸フィルムは、溶融フィルムを冷却ドラム上に押し出しついで該フィルムを回転する冷却ドラムに密着させ冷却することによって製造することができる。このとき溶融フィルムにはスルホン酸四級ホスホニウム塩等の静電密着剤を配合し、電極よりフィルム溶融面に非接触的に電荷を容易に印加し、それによってフィルムを、回転する冷却ドラムに密着させることにより表面欠陥の少ない未延伸フィルムを得てもよい。   When an unstretched film is obtained by extrusion molding, a material in which polylactic acid and other components are previously melt-kneaded can be used, or it can be molded through melt-kneading at the time of extrusion molding. An unstretched film can be produced by extruding a molten film onto a cooling drum and then bringing the film into close contact with a rotating cooling drum and cooling. At this time, the molten film is blended with an electrostatic adhesion agent such as quaternary phosphonium salt of sulfonic acid, and an electric charge is easily applied from the electrode to the film melting surface in a non-contact manner, whereby the film is adhered to the rotating cooling drum. By making it, you may obtain an unstretched film with few surface defects.

その際、押出し用ダイのリップ開度と冷却ドラム上に押出されたシートとの厚みとの比(ドラフト比)が2以上、80以下であることが好ましい。ドラフト比が2より小さくなると押出しダイリップからの引取り速度が遅くなり過ぎ、ダイリップからのポリマーの離れ速度が遅いため、ダイリップスジ欠点などの欠点が多くなり好ましくない場合がある。この観点からドラフト比は3以上が好ましく、5以上がより好ましく、9以上が更に好ましく、15以上が特に好ましい。また、ドラフト比が80より大きくなるとポリマーがダイリップから離れる時の変形が大きすぎるためか流動が不安定となり厚み変動(厚み斑)が悪くなり、好ましくない場合がある。この観点からはドラフト比は60以下であることが好ましく、40以下であることがより好ましく、30以下であることが特に好ましい。   At that time, the ratio (draft ratio) between the lip opening of the extrusion die and the thickness of the sheet extruded on the cooling drum is preferably 2 or more and 80 or less. If the draft ratio is less than 2, the take-off speed from the extrusion die lip becomes too slow, and the speed of separation of the polymer from the die lip becomes slow, which may increase the number of defects such as die lip stripe defects, which may be undesirable. From this viewpoint, the draft ratio is preferably 3 or more, more preferably 5 or more, still more preferably 9 or more, and particularly preferably 15 or more. On the other hand, if the draft ratio is greater than 80, the deformation when the polymer leaves the die lip may be too large, or the flow may become unstable, resulting in poor thickness variation (thickness unevenness), which may be undesirable. From this viewpoint, the draft ratio is preferably 60 or less, more preferably 40 or less, and particularly preferably 30 or less.

未延伸フィルムの延伸としては、公知の縦一軸延伸、横一軸延伸、同時二軸延伸等により行うことができる。さらに該フィルムは、結晶性を高めるため、また、熱収縮性などの抑制のため延伸後、熱固定処理を行うことが好ましい。
延伸倍率は目的の位相差値によって適宜決定される。
The unstretched film can be stretched by known longitudinal uniaxial stretching, lateral uniaxial stretching, simultaneous biaxial stretching, or the like. Further, the film is preferably subjected to a heat setting treatment after stretching in order to enhance crystallinity and to suppress heat shrinkability.
The draw ratio is appropriately determined depending on the target retardation value.

保護フィルムを光学等方性にするためには、面積延伸倍率(縦倍率×横倍率)は、好ましくは3.0倍以下、より好ましくは2.0倍以下、さらに好ましくは1.7倍以下の範囲であり、好ましくは1.02倍以上、さらに好ましくは1.05倍以上の範囲である。面積延伸倍率を3.0倍以上とした場合には、光学等方性を満足させることが困難な場合があり、また、1.02倍未満では次の工程である熱固定工程において結晶化させることが困難となる場合がある。   In order to make the protective film optically isotropic, the area stretch ratio (longitudinal magnification x lateral magnification) is preferably 3.0 times or less, more preferably 2.0 times or less, and even more preferably 1.7 times or less. The range is preferably 1.02 times or more, more preferably 1.05 times or more. When the area stretch ratio is 3.0 times or more, it may be difficult to satisfy the optical isotropy, and when it is less than 1.02, it is crystallized in the next heat setting step. May be difficult.

延伸温度は、樹脂組成物のガラス転移温度(Tg)から結晶化温度(Tc)の範囲が好適に選択される。さらにRe、Rthの抑制のためTgより高温で、出来るだけTcに近いがポリ乳酸の結晶化が進まない温度範囲がより好適に採用される。   The stretching temperature is preferably selected from the glass transition temperature (Tg) to the crystallization temperature (Tc) of the resin composition. Furthermore, a temperature range higher than Tg and as close to Tc as possible but not causing crystallization of polylactic acid is more suitably employed to suppress Re and Rth.

Tgより低い温度では分子鎖が固定されているので、延伸操作を好適に進めることが困難であるとともに、またTc以上ではポリ乳酸の結晶化が進み、この場合も延伸工程を良好に進行させることが困難となる。
従って延伸温度としては、Tg−5℃以上がより好ましく、Tg−10℃以上がさらに好ましく、Tc+5℃以下がより好ましく、Tc+10℃以下がさらに好ましい。
Since the molecular chain is fixed at a temperature lower than Tg, it is difficult to suitably proceed the stretching operation, and the crystallization of polylactic acid proceeds at Tc or higher, and in this case, the stretching process should proceed well. It becomes difficult.
Accordingly, the stretching temperature is more preferably Tg-5 ° C or higher, further preferably Tg-10 ° C or higher, more preferably Tc + 5 ° C or lower, and further preferably Tc + 10 ° C or lower.

フィルム物性、延伸工程安定化の両立の観点より、延伸温度は上記の温度範囲より好適に設定される。延伸温度の上限値に関しては、フィルム物性と延伸工程安定化が相反する挙動をとるので、装置特性を勘案して、適宜設定すべきである。   From the viewpoint of achieving both physical properties of the film and stabilization of the stretching process, the stretching temperature is preferably set from the above temperature range. The upper limit of the stretching temperature should be set as appropriate in consideration of the apparatus characteristics because the film properties and the stabilization of the stretching process are in conflict.

ポリ乳酸を含む保護フィルムは、樹脂組成物の結晶化温度(Tc)からステレオコンプレックス相ポリ乳酸の結晶融解開始温度(Tm*)の温度範囲で熱固定処理することが好ましい。この熱固定処理をすることにより、ステレオコンプレックス相ポリ乳酸の結晶化を進め、熱収縮率を好適に低下させるとともに、動的粘弾性(DMA)測定で貯蔵弾性率E’が常温(25℃)から150℃の温度範囲において極小値を発現することなく、0.5×10Paより大きな値を保つことができる。 The protective film containing polylactic acid is preferably heat-set in the temperature range from the crystallization temperature (Tc) of the resin composition to the crystal melting start temperature (Tm *) of the stereocomplex phase polylactic acid. By performing this heat setting treatment, crystallization of the stereocomplex phase polylactic acid is promoted, and the heat shrinkage rate is suitably reduced, and the storage elastic modulus E ′ is measured at a room temperature (25 ° C.) by dynamic viscoelasticity (DMA) measurement. Can be maintained at a value greater than 0.5 × 10 8 Pa without exhibiting a minimum value in the temperature range of 1 to 150 ° C.

熱処理温度は、好ましくは90〜Tm*(℃)、より好ましくは100〜(Tm*−30)(℃)、さらに好ましくは105〜(Tm*−40)(℃)である。
熱処理は1秒から30分の範囲で実施することが好ましい。熱処理温度が高いときは相対的に短い時間で、熱固定処理温度が低いときは相対的に長い時間の熱処理を要する。
The heat treatment temperature is preferably 90 to Tm * (° C), more preferably 100 to (Tm * -30) (° C), and still more preferably 105 to (Tm * -40) (° C).
The heat treatment is preferably performed in the range of 1 second to 30 minutes. When the heat treatment temperature is high, a relatively short time is required, and when the heat setting temperature is low, a relatively long time is required.

<保護フィルムの表面状態、表面処理および放射線硬化型組成物>
本発明の偏光板は前記した保護フィルムと後述する偏光膜を、接着剤である放射線硬化型組成物を硬化させることにより接着させる。
<Surface condition of protective film, surface treatment and radiation curable composition>
In the polarizing plate of the present invention, the above-described protective film and a polarizing film described later are bonded by curing a radiation curable composition as an adhesive.

ポリ乳酸を含む材料からなる保護フィルムと偏光膜の接着性を向上させるためには、保護フィルムを形成するポリ乳酸の下記式(2)で表される末端基のバルク平均濃度が、偏光膜側の接着界面近傍における末端基濃度よりも低いことが好ましい。
なお、本発明において、「界面近傍」とは、界面から中心方向に向かって2μmまでの厚みの部分を意味する。
In order to improve the adhesion between the protective film made of a material containing polylactic acid and the polarizing film, the bulk average concentration of the terminal group represented by the following formula (2) of the polylactic acid forming the protective film is It is preferably lower than the end group concentration in the vicinity of the adhesion interface.
In the present invention, “near the interface” means a portion having a thickness of 2 μm from the interface toward the center.

Figure 2011033798
Figure 2011033798

上記式(2)の末端基があると接着性が向上する理由であるが、本発明における放射線硬化型組成物である下記式(1)が重合する際に、式(2)と共有結合を形成することがプロトンNMRの測定結果から分かっており、これにより接着力が著しく向上すると思われる。   When the terminal group of the above formula (2) is present, the adhesiveness is improved. When the following formula (1) which is a radiation curable composition in the present invention is polymerized, the covalent bond is formed with the formula (2). The formation is known from the measurement results of proton NMR, and it seems that the adhesive force is remarkably improved.

しかしながら、末端基(2)濃度の増大はフィルムの脆化をもたらす場合があるので、偏光膜との接着界面近傍のみにおいて末端構造(2)が存在することが理想である。したがって、上記式(2)で表される末端基のバルク平均濃度が、偏光膜側の接着界面近傍における末端基濃度よりも低いことが好ましい。   However, since the increase in the concentration of the terminal group (2) may cause embrittlement of the film, it is ideal that the terminal structure (2) exists only in the vicinity of the adhesive interface with the polarizing film. Therefore, it is preferable that the bulk average concentration of the terminal group represented by the above formula (2) is lower than the terminal group concentration in the vicinity of the adhesive interface on the polarizing film side.

上記式(2)の末端基のバルク平均濃度と偏光膜側の接着界面近傍における末端基濃度との比は1/2〜1/300であることが好ましく、より好ましくは1/3〜1/200、さらに好ましくは1/4〜1/100である。   The ratio of the end group bulk average concentration of the above formula (2) to the end group concentration in the vicinity of the adhesive interface on the polarizing film side is preferably 1/2 to 1/300, more preferably 1/3 to 1 /. 200, more preferably 1/4 to 1/100.

ポリ乳酸末端基である上記式(2)の生成機構としては、いくつか考えられるが、例えば紫外線照射による下記式(6)の機構が考えられる。

Figure 2011033798
There are several possible generation mechanisms of the above-mentioned formula (2) which is a polylactic acid end group. For example, a mechanism of the following formula (6) by ultraviolet irradiation is considered.
Figure 2011033798

上記式(2)の末端基の濃度はプロトンNMRにより定量化されるが、保護フィルムを形成する樹脂1トンあたりの当量、すなわち、当量/tonで定義される。ここで、バルク平均濃度とは保護フィルム全体における上記式(2)の末端基のバルク平均濃度であり、重クロロホルム等の適当な溶媒に溶解させてプロトンNMRにより評価される。一方、偏光膜側の接着界面近傍における上記式(2)の末端基濃度であるが、界面から中心方向に向かって2μmの樹脂をナイフ等で切り出し、バルク同様に適当な溶媒にて溶解させてプロトンNMRにより評価する。   The concentration of the end group of the above formula (2) is quantified by proton NMR, but is defined as equivalent per ton of resin forming the protective film, that is, equivalent / ton. Here, the bulk average concentration is the bulk average concentration of the end group of the above formula (2) in the entire protective film, and is evaluated by proton NMR after being dissolved in an appropriate solvent such as deuterated chloroform. On the other hand, the concentration of the terminal group of the above formula (2) in the vicinity of the adhesive interface on the polarizing film side is cut out with a knife or the like from the interface toward the center, and dissolved in an appropriate solvent as in the bulk. Evaluated by proton NMR.

上記式(2)の末端基バルク平均濃度は0〜10当量/tonであることが好ましく、より好ましくは1〜9当量/ton、さらに好ましくは1.5〜8当量/ton、最も好ましくは2.5〜7当量/tonである。末端基バルク濃度が10当量/tonを超えるとフィルム全体が脆化する場合があり好ましくない。   The end group bulk average concentration of the above formula (2) is preferably 0 to 10 equivalents / ton, more preferably 1 to 9 equivalents / ton, further preferably 1.5 to 8 equivalents / ton, and most preferably 2. .5-7 equivalents / ton. If the end group bulk concentration exceeds 10 equivalents / ton, the entire film may become brittle, which is not preferable.

一方、接着界面近傍における末端基濃度は3〜300当量/tonであることが好ましく、より好ましくは5〜200当量/ton、さらに好ましくは7〜100当量/ton、最も好ましくは10〜60当量/tonである。接着界面近傍における末端基濃度が3当量/ton未満では十分な接着性が得られない場合があり、また、300当量/tonを超えると表面の脆化が著しくなり、同様に接着性が得られない場合がある。   On the other hand, the terminal group concentration in the vicinity of the adhesive interface is preferably 3 to 300 equivalents / ton, more preferably 5 to 200 equivalents / ton, further preferably 7 to 100 equivalents / ton, and most preferably 10 to 60 equivalents / ton. ton. If the terminal group concentration in the vicinity of the adhesion interface is less than 3 equivalents / ton, sufficient adhesion may not be obtained, and if it exceeds 300 equivalents / ton, surface embrittlement will be significant, and adhesion will be obtained as well. There may not be.

主として表面にのみ上記式(2)の末端基を適当量にする方法としては、公知の紫外線オゾン処理、コロナ放電処理、常圧プラズマ処理等を用いることができる。しかしながら、単純にこれらの処理をすれば接着に最適な界面が生じるというものではなく、上記式(2)の官能基濃度を最適にするためには処理条件やポリマー組成、製法等含めて最適化する必要がある。   As a method for adjusting the terminal group of the above formula (2) to an appropriate amount mainly only on the surface, known ultraviolet ozone treatment, corona discharge treatment, atmospheric pressure plasma treatment and the like can be used. However, simply performing these treatments does not result in an optimum interface for adhesion. To optimize the functional group concentration of the above formula (2), optimization including treatment conditions, polymer composition, production method, etc. There is a need to.

これらの表面処理条件の目安としては、これら表面処理実施前の水の接触角をC、表面処理実施後の水の接触角をCとした場合、両者の関係が下記式(7)で表されることが好ましい。
1°< C −C< 60° (7)
より好ましくは、
2°<C −C< 45° (8)
さらに好ましくは、
3°<C −C< 40° (9)
最も好ましくは
4°<C −C< 35° (10)
である。
As a guideline for these surface treatment conditions, when the contact angle of water before the surface treatment is C B and the contact angle of water after the surface treatment is C A , the relationship between them is expressed by the following formula (7). It is preferably represented.
1 ° <C B -C A <60 ° (7)
More preferably,
2 ° <C B -C A <45 ° (8)
More preferably,
3 ° <C B -C A <40 ° (9)
Most preferably 4 ° <C B -C A <35 ° (10)
It is.

上記式(7)の範囲よりもC−Cが小さい場合には末端基(2)を十分に増やすことが困難で接着性確保が出来ない場合があり、また、大きい場合には保護フィルムの表面または全体の脆化が進みすぎて接着性が得られない場合がある。これらの接触角は必ずしも接着性とは関連しない場合がある。接触角は公知の方法で測定し得る。 When C B -C A is smaller than the range of the above formula (7), it may be difficult to sufficiently increase the terminal group (2), and adhesion may not be secured. In some cases, the surface or the whole becomes too brittle and adhesion cannot be obtained. These contact angles may not necessarily be related to adhesion. The contact angle can be measured by a known method.

本発明においては、偏光膜とポリ乳酸を含む材料からなる保護フィルムの接着剤としては、下記式(1)の放射線硬化型組成物を硬化させたものを用いる。

Figure 2011033798
(式(1)中、nは1または2を表し、R20は水素原子またはメチル基を表し、R21は炭素原子数1〜10のアルキレン基(該アルキレン基中に存在する1個または2個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立に酸素原子、−CO−、−COO−又は−OCO−で置換されていても良く、該アルキレン基中に存在する1個又は2個以上の水素原子はそれぞれ水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基、アルデヒド基、リン酸基で置換されている。)を表す。) In this invention, what hardened | cured the radiation-curable composition of following formula (1) is used as an adhesive agent of the protective film which consists of a material containing a polarizing film and polylactic acid.
Figure 2011033798
(In the formula (1), n represents 1 or 2, R 20 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 21 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (1 or 2 present in the alkylene group). One or more methylene groups may be each independently substituted with an oxygen atom, —CO—, —COO— or —OCO—, as oxygen atoms are not directly bonded to each other, and are present in the alkylene group. 1 or 2 or more hydrogen atoms are each substituted with a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, an aldehyde group, or a phosphate group.)

式(1)のR21には芳香環を含まないことが好ましい。R21に芳香環を含むとポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜、ポリ乳酸を主成分とする保護フィルムとの接着性が悪くなる傾向にある。R21に含まれる水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基、アルデヒド基、リン酸基は、ポリビニルアルコールの水酸基との間で、水素結合、酸塩基性の相互作用等の力が働くと考えられるため、接着界面間にファンデルワールス力のみが存在する場合に比べて接着力が増すものと考えられる。R21は水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基、アルデヒド基、リン酸基のいずれか少なくとも1つ以上存在することが必要であるが、4つ以上存在すると立体障害等でラジカル重合が十分に進行せずに接着力が低下する場合があることから、好ましくは3つ以下である。 R 21 in formula (1) preferably does not contain an aromatic ring. When R 21 contains an aromatic ring, the adhesion with a polarizing film containing polyvinyl alcohol as a main component and a protective film containing polylactic acid as a main component tends to be poor. Since hydroxyl group contained in R 21, a carboxyl group, an isocyanate group, an aldehyde group, a phosphoric acid group, which between hydroxyl groups of polyvinyl alcohol, hydrogen bonding is believed that the force of interaction such as the acid-base properties works, adhesive It is considered that the adhesive force is increased as compared with the case where only van der Waals force exists between the interfaces. R 21 must be at least one of a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, an aldehyde group, and a phosphoric acid group, but if four or more are present, radical polymerization does not proceed sufficiently due to steric hindrance or the like. In some cases, the adhesive strength may be reduced, so that the number is preferably 3 or less.

上記式R21のアルキレン基中の炭素原子数は1〜10である必要がある。該炭素原子基が0では硬化後の組成物が硬すぎて硬化後にクラック等が発生する等の問題があり、また、該炭素原子数が11以上では組成物が柔軟すぎて十分な接着力が得られない。アルキレン基数として好ましくは、2〜6であり、より好ましくは2〜5である。 The number of carbon atoms in the alkylene groups of formula R 21 is required to be 1 to 10. If the carbon atom group is 0, the composition after curing is too hard and cracks and the like are generated after curing, and if the number of carbon atoms is 11 or more, the composition is too flexible and has sufficient adhesive strength. I cannot get it. The number of alkylene groups is preferably 2 to 6, and more preferably 2 to 5.

上記式(1)としてより好ましくは、下記式(3)を満足することである。

Figure 2011033798
(式(3)中、R22は水素原子またはメチル基を表し、R23は炭素原子数2〜5のアルキレン基(該アルキレン基中に存在する1個のメチレン基は、−OCO−で置換されていても良く、該アルキレン基中に存在する1個の水素原子はそれぞれ水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基、リン酸基で置換されている。)を表す。)
上記式(3)を満足することで放射線硬化型組成物においてより良好な接着性が確保できる。 More preferably, the above formula (1) satisfies the following formula (3).
Figure 2011033798
(In the formula (3), R 22 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 23 represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms (one methylene group present in the alkylene group is substituted with —OCO—). And each hydrogen atom present in the alkylene group is substituted with a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, or a phosphoric acid group.)
By satisfying the above formula (3), better adhesiveness can be secured in the radiation curable composition.

上記式(1)として好ましくは、ヒドロキシメチルメタクリレート、ジヒドロキシメチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ジヒドロキシエチルメタクリレート、トリヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、1−ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ジヒドロキシプロピルメタクリレート、トリヒドロキシプロピルメタクリレート、1−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート、ジヒドロキシブチルメタクリレート、トリヒドロキシブチルメタクリレート、1−ヒドロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、3−ヒドロキシブチルメタクリレート、4−ヒドロキシルブチルメタクリレート、カルボキシメチルメタクリレート、ジカルボキシメチルメタクリレート、カルボキシエチルメタクリレート、ジカルボキシエチルメタクリレート、トリカルボキシエチルメタクリレート、2−カルボキシエチルメタクリレート、1−カルボキシエチルメタクリレート、カルボキシプロピルメタクリレート、ジカルボキシプロピルメタクリレート、トリカルボキシプロピルメタクリレート、1−カルボキシプロピルメタクリレート、2−カルボキシプロピルメタクリレート、3−カルボキシプロピルアクリレート、カルボキシブチルメタクリレート、ジカルボキシブチルメタクリレート、トリカルボキシブチルメタクリレート、1−カルボキシブチルメタクリレート、2−カルボキシブチルメタクリレート、3−カルボキシブチルメタクリレート、4−カルボキシルブチルメタクリレート、メタクリロイロキシエチル−コハク酸、2−メタクリロイロキシエチル−コハク酸、メタクリロイロキシメチル−コハク酸、メタクリロイロキシブチル−コハク酸、メタクリロイロキシプロピル−コハク酸、2−メタクリロイロキシエチルアッシドホスフェート、メタクリロイロキシエチルアッシドホスフェート、メタクリロイロキシメチルアッシドホスフェート、メタクリロイロキシブチルアッシドホスフェート、メタクリロイロキシプロピルアッシドホスフェート、メタクリロイロキシメチルイソシアネート、メタクリロイロキシエチルイソシアネート、2−メタクリロイロキシエチルイソシアネート、ヒドロキシメチルアクリレート、ジヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ジヒドロキシエチルアクリレート、トリヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、1−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ジヒドロキシプロピルアクリレート、トリヒドロキシプロピルアクリレート、1−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、ジヒドロキシブチルアクリレート、トリヒドロキシブチルアクリレート、1−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、3−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシルブチルアクリレート、カルボキシメチルアクリレート、ジカルボキシメチルアクリレート、カルボキシエチルアクリレート、ジカルボキシエチルアクリレート、トリカルボキシエチルアクリレート、2−カルボキシエチルアクリレート、1−カルボキシエチルアクリレート、カルボキシプロピルアクリレート、ジカルボキシプロピルアクリレート、トリカルボキシプロピルアクリレート、1−カルボキシプロピルアクリレート、2−カルボキシプロピルアクリレート、3−カルボキシプロピルアクリレート、カルボキシブチルアクリレート、ジカルボキシブチルアクリレート、トリカルボキシブチルアクリレート、1−カルボキシブチルアクリレート、2−カルボキシブチルアクリレート、3−カルボキシブチルアクリレート、4−カルボキシルブチルアクリレート、アクリロイロキシエチル−コハク酸、2−アクリロイロキシエチル−コハク酸、アクリロイロキシメチル−コハク酸、アクリロイロキシブチル−コハク酸、アクリロイロキシプロピル−コハク酸、2−アクリロイロキシエチルアッシドホスフェート、アクリロイロキシエチルアッシドホスフェート、アクリロイロキシメチルアッシドホスフェート、アクリロイロキシブチルアッシドホスフェート、アクリロイロキシプロピルアッシドホスフェート、アクリロイロキシメチルイソシアネート、アクリロイロキシエチルイソシアネート、2−アクリロイロキシエチルイソシアネート、ヒドロキシメタ(ア)クリロイロキシプロピルメタ(ア)クリレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシメタ(ア)クリロイロキシエチルメタ(ア)クリレート、ヒドロキシメタ(ア)クリロイロキブチルメタ(ア)クリレート、ヒドロキシメタ(ア)クリロイロキペンチルメタ(ア)クリレート等である。   As the above formula (1), preferably hydroxymethyl methacrylate, dihydroxymethyl methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, dihydroxyethyl methacrylate, trihydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 1-hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl methacrylate, dihydroxypropyl methacrylate, Trihydroxypropyl methacrylate, 1-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, hydroxybutyl methacrylate, dihydroxybutyl methacrylate, trihydroxybutyl methacrylate, 1-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3 Hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxylbutyl methacrylate, carboxymethyl methacrylate, dicarboxymethyl methacrylate, carboxyethyl methacrylate, dicarboxyethyl methacrylate, tricarboxyethyl methacrylate, 2-carboxyethyl methacrylate, 1-carboxyethyl methacrylate, carboxypropyl methacrylate, di Carboxypropyl methacrylate, tricarboxypropyl methacrylate, 1-carboxypropyl methacrylate, 2-carboxypropyl methacrylate, 3-carboxypropyl acrylate, carboxybutyl methacrylate, dicarboxybutyl methacrylate, tricarboxybutyl methacrylate, 1-carboxybutyl methacrylate 2-carboxybutyl methacrylate, 3-carboxybutyl methacrylate, 4-carboxylbutyl methacrylate, methacryloyloxyethyl-succinic acid, 2-methacryloyloxyethyl-succinic acid, methacryloyloxymethyl-succinic acid, methacryloyloxybutyl- Succinic acid, methacryloyloxypropyl-succinic acid, 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, methacryloyloxyethyl acid phosphate, methacryloyloxymethyl acid phosphate, methacryloyloxybutyl acid phosphate, methacryloyloxypropyl acid Dophosphate, methacryloyloxymethyl isocyanate, methacryloyloxyethyl isocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, hydroxy Cymethyl acrylate, dihydroxymethyl acrylate, hydroxyethyl acrylate, dihydroxyethyl acrylate, trihydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 1-hydroxyethyl acrylate, hydroxypropyl acrylate, dihydroxypropyl acrylate, trihydroxypropyl acrylate, 1-hydroxypropyl Acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, hydroxybutyl acrylate, dihydroxybutyl acrylate, trihydroxybutyl acrylate, 1-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxylbutyl acrylate , Cal Xymethyl acrylate, dicarboxymethyl acrylate, carboxyethyl acrylate, dicarboxyethyl acrylate, tricarboxyethyl acrylate, 2-carboxyethyl acrylate, 1-carboxyethyl acrylate, carboxypropyl acrylate, dicarboxypropyl acrylate, tricarboxypropyl acrylate, 1 -Carboxypropyl acrylate, 2-carboxypropyl acrylate, 3-carboxypropyl acrylate, carboxybutyl acrylate, dicarboxybutyl acrylate, tricarboxybutyl acrylate, 1-carboxybutyl acrylate, 2-carboxybutyl acrylate, 3-carboxybutyl acrylate, 4 -Carboxyl butyl acrylate, Acryloyloxyethyl-succinic acid, 2-acryloyloxyethyl-succinic acid, acryloyloxymethyl-succinic acid, acryloyloxybutyl-succinic acid, acryloyloxypropyl-succinic acid, 2-acryloyloxyethyl acid Phosphate, acryloyloxyethyl acid phosphate, acryloyloxymethyl acid phosphate, acryloyloxy butyl acid phosphate, acryloyloxypropyl acid phosphate, acryloyloxymethyl isocyanate, acryloyloxyethyl isocyanate, 2-acryloyl Loxyethyl isocyanate, hydroxymeth (acrylicyloxypropyl) methacrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate, 2-hydroxy-3-actyl Liloyloxypropyl acrylate, hydroxymeta (a) acryloyloxyethyl meta (a) acrylate, hydroxy meta (a) acryloyl butyl meta (a) acrylate, hydroxy meta (a) acryloyloxypentyl meta (a) acrylate, etc. It is.

重合速度および接着性の観点から上記式(1)、(3)においてはアクリレートであることがより好ましく、上記式(1)、(3)のアクリレートを用いることにより、偏光板の生産速度を向上させることができる。また、上記式(1)において、接着性の観点でnは1であることがより好ましい。   From the viewpoints of polymerization rate and adhesiveness, acrylates are more preferable in the above formulas (1) and (3), and the production rate of the polarizing plate is improved by using the acrylates of the above formulas (1) and (3). Can be made. In the above formula (1), n is more preferably 1 from the viewpoint of adhesiveness.

放射線硬化型組成物においては上記式(1)の含有量は60%重量以上であることが必要であるが、好ましくは70%以上、さらに好ましくは80%以上、最も好ましくは90%以上である。上記式(1)以外には、光開始剤、光開始助剤、架橋剤、上記式(1)以外の(メタ)アクリレート等を含有しても良い。   In the radiation curable composition, the content of the above formula (1) needs to be 60% by weight or more, preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and most preferably 90% or more. . In addition to the above formula (1), a photoinitiator, a photoinitiator assistant, a crosslinking agent, a (meth) acrylate other than the above formula (1), and the like may be contained.

特に、放射線硬化型組成物を紫外線等の光により硬化させる場合に光開始剤が含有されている方が好ましい。放射線硬化型組成物100重量%に対して、光開始剤量としては0.1〜10重量%であることが好ましく、より好ましくは0.2〜7重量%、さらに好ましくは0.5〜5重量%、最も好ましくは1〜4重量%である。   In particular, it is preferable that a photoinitiator is contained when the radiation curable composition is cured by light such as ultraviolet rays. The amount of photoinitiator is preferably 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.2 to 7% by weight, and still more preferably 0.5 to 5% with respect to 100% by weight of the radiation curable composition. % By weight, most preferably 1 to 4% by weight.

光開始剤としては、この分野で通常用いられているものを用いることができ、例えばアセトフェノン系開始剤、ベンゾイン系開始剤、ベンゾフェノン系開始剤、チオキサントン系開始剤、s−トリアジン系開始剤、その他の開始剤などが挙げられる。   As the photoinitiator, those usually used in this field can be used. For example, acetophenone initiator, benzoin initiator, benzophenone initiator, thioxanthone initiator, s-triazine initiator, etc. Initiators and the like.

ここで、光開始剤の具体例としては、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕プロパン−1−オンのオリゴマー、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’−テトラ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシナフチル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−ピペロニル−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシスチリル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(フラン−2−イル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−ジエチルアミノ−2−メチルスチリル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(3,4−ジメトキシスチリル)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキシド、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、10−ブチル−2−クロロアクリドン、2−エチルアントラキノン、ベンジル、9,10−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、フェニルグリオキシリックアッシドメチルエステル、2−ジメチルアミノ−2−(4−メチル−ベンジル)−1−(4−モリフォリン−4−イル−フェニル)−ブタン−1−オン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド等が好適に用いられる。   Here, specific examples of the photoinitiator include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, Benzyldimethyl ketal, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4 -(1-Methylvinyl) phenyl] propan-1-one oligomer, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether Ter, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-butyl) Peroxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2, 4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5- Triazine, 2, -Bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4- Bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan- 2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-diethylamino-2-methylstyryl) -1,3,5-triazine, 2,4- Bis (trichloromethyl) -6- (3,4-dimethoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) ) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphor Quinone, methyl phenylglyoxylate, titanocene compound, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -phenyl} -2-methyl-propan-1-one, Phenylglyoxylic acid methyl ester, 2-dimethylamino-2- (4-methyl-benzyl) -1- (4-morpholin-4-yl-phenyl) -butan-1-one, bis (2,6- Dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide is preferably used.

保護フィルムの偏光膜を接着させない面には、ハードコート層や反射防止処理、スティッキング防止や、拡散ないしアンチグレアを目的とした処理を施したものがあってもよい。   The surface of the protective film to which the polarizing film is not adhered may have a hard coat layer, an antireflection treatment, an antisticking treatment, or a treatment for diffusion or antiglare.

ハードコート処理は偏光板表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばアクリル系、シリコーン系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を保護フィルムの表面に付加する方式などにて形成することができる。反射防止処理は偏光板表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、従来に準じた反射防止膜などの形成により達成することができる。また、スティッキング防止処理は隣接層(例えば、バックライト側の拡散板)との密着防止を目的に施される。   Hard coat treatment is performed for the purpose of preventing scratches on the surface of the polarizing plate. For example, a cured film having excellent hardness and slipping properties with an appropriate ultraviolet curable resin such as acrylic or silicone is applied to the protective film. It can be formed by a method of adding to the surface. The antireflection treatment is performed for the purpose of preventing reflection of external light on the surface of the polarizing plate, and can be achieved by forming an antireflection film or the like according to the conventional art. In addition, the sticking prevention treatment is performed for the purpose of preventing adhesion with an adjacent layer (for example, a backlight-side diffusion plate).

またアンチグレア処理は偏光板の表面で外光が反射して偏光板透過光の視認を阻害することの防止等を目的に施されるものであり、例えばサンドブラスト方式やエンボス加工方式による粗面化方式や透明微粒子の配合方式などの適宜な方式にて保護フィルムの表面に微細凹凸構造を付与することにより形成することができる。前記表面微細凹凸構造の形成に含有させる微粒子としては、例えば平均粒径が0.5〜20μmのシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等からなる導電性のこともある無機系微粒子、架橋又は未架橋のポリマー等からなる有機系微粒子などの透明微粒子が用いられる。表面微細凹凸構造を形成する場合、微粒子の使用量は、表面微細凹凸構造を形成する透明樹脂100重量部に対して一般的に2〜70重量部程度であり、5〜50重量部が好ましい。アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角などを拡大するための拡散層(視角拡大機能など)を兼ねるものであってもよい。   The anti-glare treatment is applied for the purpose of preventing the outside light from being reflected on the surface of the polarizing plate and obstructing the visibility of the light transmitted through the polarizing plate. For example, the surface is roughened by a sandblasting method or an embossing method. It can be formed by imparting a fine concavo-convex structure to the surface of the protective film by an appropriate method such as a blending method of transparent fine particles. Examples of the fine particles to be included in the formation of the surface fine concavo-convex structure include conductive materials made of silica, alumina, titania, zirconia, tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, antimony oxide, and the like having an average particle diameter of 0.5 to 20 μm. In some cases, transparent fine particles such as inorganic fine particles, organic fine particles composed of a crosslinked or uncrosslinked polymer, and the like are used. When forming the surface fine uneven structure, the amount of fine particles used is generally about 2 to 70 parts by weight, preferably 5 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the transparent resin forming the surface fine uneven structure. The antiglare layer may also serve as a diffusion layer (viewing angle expanding function or the like) for diffusing the light transmitted through the polarizing plate to expand the viewing angle.

なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、拡散層やアンチグレア層等は、保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途光学層として保護フィルムとは別体のものとして設けることもできる。   The antireflection layer, antisticking layer, diffusion layer, antiglare layer, and the like can be provided on the protective film itself, or can be provided separately from the protective film as an optical layer.

<偏光膜の製造方法>
偏光膜は、公知の方法により作製することができる。偏光膜は主としてポリビニルアルコール系樹脂から形成される。偏光膜は、ポリビニルアルコール樹脂フィルムを二色性物質(代表的には、ヨウ素、二色性染料)で染色して一軸延伸したものが用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを構成するポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、好ましくは100〜5000、さらに好ましくは1400〜4000である。重合度が低すぎると、所定の延伸を行う際に延伸切れしやすく、また重合度が高すぎると、延伸する際に張力が異常に必要となり、機械的に延伸できなくなるおそれがある。
<Production method of polarizing film>
The polarizing film can be produced by a known method. The polarizing film is mainly formed from a polyvinyl alcohol resin. The polarizing film is a uniaxially stretched film obtained by dyeing a polyvinyl alcohol resin film with a dichroic substance (typically iodine or a dichroic dye). The polymerization degree of the polyvinyl alcohol resin constituting the polyvinyl alcohol resin film is preferably 100 to 5000, and more preferably 1400 to 4000. If the degree of polymerization is too low, the film tends to be stretched when performing predetermined stretching, and if the degree of polymerization is too high, tension may be abnormally required for stretching, and mechanical stretching may not be possible.

偏光膜を構成するポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、任意の適切な方法(例えば樹脂を水または有機溶剤に溶解した溶液を流延製膜する流延法、キャスト法、押出法)で成形され得る。偏光膜の厚みは偏光板が用いられる液晶表示装置の目的や用途に応じて適宜設定されるが、通常、5〜80μm程度である。   The polyvinyl alcohol-based resin film constituting the polarizing film can be formed by any appropriate method (for example, a casting method in which a solution obtained by dissolving a resin in water or an organic solvent is cast, a casting method, an extrusion method). Although the thickness of a polarizing film is suitably set according to the objective and use of the liquid crystal display device in which a polarizing plate is used, it is about 5-80 micrometers normally.

偏光膜の製造方法としては、目的、使用材料および条件などに応じて任意の適切な方法が採用される。例えば、上記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、通常、膨潤、染色、架橋、延伸、水洗および乾燥工程を含む一連の製造工程に供する方式が採用される。乾燥工程を除く各処理工程においては、それぞれの工程に用いられる溶液を含む液中にポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬することにより処理を行う。膨潤、染色、架橋、延伸、水洗および乾燥の各処理の順番、回数および実施の有無は、目的、使用材料および条件などに応じて適亘設定されえる。例えば、いくつかの処理を1つの工程で同時に行ってもよく、膨潤処理、染色処理および架橋処理を同時に行ってもよい。また例えば、架橋処理を延伸処理の前後に行うことが、好適に採用され得る。また例えば、水洗処理は、全ての処理の後に行ってもよく、特定の処理の後のみに行ってもよい。   As a manufacturing method of the polarizing film, any appropriate method is adopted depending on the purpose, material used, conditions and the like. For example, the system which uses the said polyvinyl alcohol-type resin film for a series of manufacturing processes including a swelling, dyeing | staining, bridge | crosslinking, extending | stretching, a water washing, and a drying process is employ | adopted normally. In each processing step except the drying step, the treatment is performed by immersing the polyvinyl alcohol-based resin film in a liquid containing a solution used in each step. The order, number of times, and presence / absence of each treatment of swelling, dyeing, crosslinking, stretching, washing and drying can be appropriately set according to the purpose, materials used and conditions. For example, several processes may be performed simultaneously in one step, and the swelling process, the dyeing process, and the crosslinking process may be performed simultaneously. Further, for example, it can be suitably employed to perform the crosslinking treatment before and after the stretching treatment. For example, the water washing process may be performed after all the processes, or may be performed only after a specific process.

膨潤工程は、代表的には、上記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水で満たした処理浴中に浸漬することより行われる。この処理により、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄すると共に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させることで染色ムラ等の不均一性を防止できる。膨潤浴には、グリセリンやヨウ化カリウム等が適宜に添加される。膨潤浴の温度は、通常20〜60℃程度であり、膨潤浴への浸漬時間は、通常0.1〜10分間程度である。   The swelling step is typically performed by immersing the polyvinyl alcohol resin film in a treatment bath filled with water. By this treatment, dirt on the surface of the polyvinyl alcohol-based resin film and an anti-blocking agent can be washed, and unevenness such as uneven dyeing can be prevented by swelling the polyvinyl alcohol-based resin film. Glycerin, potassium iodide or the like is appropriately added to the swelling bath. The temperature of the swelling bath is usually about 20 to 60 ° C., and the immersion time in the swelling bath is usually about 0.1 to 10 minutes.

染色工程は、代表的には、上記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、ヨウ素等の二色性物質を含む処理浴中に浸漬することにより行われる。染色浴の溶液に用いられる溶媒は、水が一般的に使用されるが、水と相溶性を有する有機溶媒が適量添加されていてもよい。二色性物質は、溶媒100重量部に対して、通常、0.1〜1重量部の割合で用いられる。二色性物質としてヨウ素を用いる場合は、染色浴の溶液はヨウ化物等の助剤をさらに含有することが好ましい。染色効率が改善されるからである。助剤は、溶媒100重量部に対して、好ましくは0.02〜20重量部、さらに好ましくは2〜10重量部の割合で用いられる。ヨウ化物の具体例としては、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタンなどがあげられる。染色浴の温度は、通常、20〜70℃程度であり、染色浴への浸漬時間は、通常、1〜20分間程度である。   The dyeing process is typically performed by immersing the polyvinyl alcohol resin film in a treatment bath containing a dichroic substance such as iodine. As the solvent used for the dye bath solution, water is generally used, but an appropriate amount of an organic solvent compatible with water may be added. A dichroic substance is normally used in the ratio of 0.1-1 weight part with respect to 100 weight part of solvents. When iodine is used as the dichroic substance, the dye bath solution preferably further contains an auxiliary agent such as iodide. This is because the dyeing efficiency is improved. The auxiliary is preferably used in a proportion of 0.02 to 20 parts by weight, more preferably 2 to 10 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the solvent. Specific examples of iodide include potassium iodide, lithium iodide, sodium iodide, zinc iodide, aluminum iodide, lead iodide, copper iodide, barium iodide, calcium iodide, tin iodide, and iodide. Examples include titanium. The temperature of the dyeing bath is usually about 20 to 70 ° C., and the immersion time in the dyeing bath is usually about 1 to 20 minutes.

架橋工程は、代表的には、上記染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、架橋剤を含む処理浴(以下、架橋浴と略記することがある。)中に浸漬することによって行われる。架橋剤としては任意の適切な架橋剤が採用される。架橋剤の具体例としては、ホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物、グリオキザール、グルタルアルデヒド等があげられる。これらは、単独で、または組み合わせて使用される。架橋浴の溶液に用いられる溶媒は、水が一般的に使用されるが、水と相溶性を有する有機溶媒が適量添加されていてもよい。架橋剤は、溶媒100重量部に対して、通常、1〜10重量部の割合で用いられる。架橋剤の濃度が1重量部未満の場合は、十分な光学特性を得ることができない。架橋剤の濃度が10重量部を超える場合は、延伸時にフィルムに発生する応力が大きくなり、得られる偏光板が収縮してしまう可能性がある。架橋浴の溶液は、ヨウ化物等の助剤をさらに含有することが望ましい。面内に均一な特性が得られやすいからである。助剤の濃度は好ましくは0.05〜15重量%、さらに好ましくは0.5〜8重量%である。ヨウ化物の具体例は、染色工程の場合と同様である。架橋浴の温度は、通常、20〜70℃程度、好ましく40〜60℃である。架橋浴への浸漬時間は、通常、1秒間〜15分間程度、好ましくは5秒間〜10分間である。   The crosslinking step is typically performed by immersing the dyed polyvinyl alcohol-based resin film in a treatment bath containing a crosslinking agent (hereinafter sometimes abbreviated as a crosslinking bath). Arbitrary appropriate crosslinking agents are employ | adopted as a crosslinking agent. Specific examples of the crosslinking agent include boron compounds such as boric acid and borax, glyoxal, and glutaraldehyde. These may be used alone or in combination. As the solvent used for the solution of the crosslinking bath, water is generally used, but an appropriate amount of an organic solvent having compatibility with water may be added. A crosslinking agent is normally used in the ratio of 1-10 weight part with respect to 100 weight part of solvents. When the concentration of the crosslinking agent is less than 1 part by weight, sufficient optical properties cannot be obtained. When the concentration of the cross-linking agent exceeds 10 parts by weight, the stress generated in the film during stretching increases, and the resulting polarizing plate may shrink. It is desirable that the solution of the crosslinking bath further contains an auxiliary agent such as iodide. This is because it is easy to obtain uniform characteristics in the plane. The concentration of the auxiliary agent is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.5 to 8% by weight. Specific examples of iodide are the same as those in the dyeing process. The temperature of the crosslinking bath is usually about 20 to 70 ° C, preferably 40 to 60 ° C. The immersion time in the crosslinking bath is usually about 1 second to 15 minutes, preferably 5 seconds to 10 minutes.

偏光膜の延伸工程は、上記のようにいずれの段階で行ってもよい。具体的には、染色処理の後に行ってもよく、染色処理の前に行ってもよく、膨潤処理、染色処理および架橋処理と同時に行ってもよく、架橋処理の後に行ってもよい。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの累積延伸倍率は、通常、5倍以上にする。好ましくは5〜7倍、さらに好ましくは5〜6.5倍である。累積延伸倍率が5倍未満の場合には、高偏光度の偏光板を得ることが困難となる。累積延伸倍率が7倍を超える場合はポリビニルアルコール系樹脂フィルムが破断しやすくなる場合がある。延伸の具体的な方法としては、任意の適切な方法が採用される。例えば、湿式延伸法を採用した場合には、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを処理浴中で所定の倍率に延伸する。延伸浴の溶液としては、水または有機溶媒(例えばエタノール)などの溶媒中に、各種金属塩、ヨウ素、ホウ素または亜鉛の化合物を添加した溶液が好適に用いられる。   The polarizing film stretching step may be performed at any stage as described above. Specifically, it may be performed after the dyeing process, may be performed before the dyeing process, may be performed simultaneously with the swelling process, the dyeing process, and the crosslinking process, or may be performed after the crosslinking process. The cumulative draw ratio of the polyvinyl alcohol-based resin film is usually 5 times or more. Preferably it is 5 to 7 times, more preferably 5 to 6.5 times. When the cumulative draw ratio is less than 5 times, it is difficult to obtain a polarizing plate having a high degree of polarization. When the cumulative draw ratio exceeds 7 times, the polyvinyl alcohol-based resin film may be easily broken. Arbitrary appropriate methods are employ | adopted as a specific method of extending | stretching. For example, when a wet stretching method is employed, a polyvinyl alcohol resin film is stretched at a predetermined magnification in a treatment bath. As the stretching bath solution, a solution in which various metal salts, iodine, boron or zinc compounds are added to a solvent such as water or an organic solvent (for example, ethanol) is preferably used.

水洗工程は、代表的には、上記各種処理を施されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを処理浴中に浸漬することによって行われる。水洗工程によりポリビニルアルコール系樹脂フィルムの不要残存物を洗い流すことができる。水洗浴は、純水であってもよく、ヨウ化物(例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム等)の水溶液であってもよい。ヨウ化物水溶液の濃度は、好ましくは0.1〜10重量%である。ヨウ化物水溶液には硫酸亜鉛、塩化亜鉛などの助剤を添加してもよい。水洗浴の温度は好ましくは10〜60℃、さらに好ましくは30〜40℃である。浸漬時間は1秒間〜1分間である。水洗工程は1回だけでもよく、必要に応じて複数回行ってもよい。複数回実施される場合は、各処理に用いられる水洗浴に含まれる添加剤の種類や濃度は適宜に調整される。例えば、水洗工程は上記各種処理を施されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをヨウ化カリウム水溶液(0.1〜10重量%、10〜60℃)に1秒間〜1分間程度浸漬する工程と、純水ですすぐ工程とを含む。また、水洗工程において、偏光膜の表面改質や、偏光膜の乾燥効率を上げるために、水と相溶性を有する有機溶媒(例えば、エタノ−ルなど)を適宜添加してもよい。   The water washing step is typically performed by immersing the polyvinyl alcohol-based resin film subjected to the above-described various treatments in a treatment bath. The unnecessary residue of the polyvinyl alcohol-based resin film can be washed away by the water washing step. The washing bath may be pure water or an aqueous solution of iodide (eg, potassium iodide, sodium iodide, etc.). The concentration of the aqueous iodide solution is preferably 0.1 to 10% by weight. An auxiliary agent such as zinc sulfate or zinc chloride may be added to the aqueous iodide solution. The temperature of the water washing bath is preferably 10 to 60 ° C, more preferably 30 to 40 ° C. The immersion time is 1 second to 1 minute. The washing step may be performed only once, or may be performed a plurality of times as necessary. When implemented several times, the kind and density | concentration of the additive contained in the washing bath used for each process are adjusted suitably. For example, the water washing step includes a step of immersing the polyvinyl alcohol resin film subjected to the above various treatments in an aqueous potassium iodide solution (0.1 to 10% by weight, 10 to 60 ° C.) for about 1 second to 1 minute, and pure water. Including rinsing process. Further, in the water washing step, an organic solvent (for example, ethanol) having compatibility with water may be appropriately added in order to improve the surface of the polarizing film and increase the drying efficiency of the polarizing film.

乾燥工程は、任意の適切な方法(例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥)が採用されうる。例えば、加熱乾燥の場合の乾燥温度は、通常、20〜80℃程度であり、乾燥時間は、通常、1〜10分間程度である。以上のようにして偏光膜が得られる。   Arbitrary appropriate methods (For example, natural drying, ventilation drying, heat drying) may be employ | adopted for a drying process. For example, the drying temperature in the case of heat drying is usually about 20 to 80 ° C., and the drying time is usually about 1 to 10 minutes. A polarizing film is obtained as described above.

本発明において用いる偏光膜は、水分率が好ましくは15重量%以下、より好ましくは0〜14重量%、さらに好ましくは1〜14重量%である。水分率が15重量%より大きいいと、得られた偏光板の寸法変化が大きくなり、高温下あるいは高温高湿下における寸法変化が大きくなってしまうという問題が生じるおそれがある。
本発明の、偏光膜の水分率は、任意の適切な方法で調整すればよい。例えば偏光膜の製工程における乾燥工程の条件を調整することにより制御する方法があげられる。
The polarizing film used in the present invention has a moisture content of preferably 15% by weight or less, more preferably 0 to 14% by weight, and further preferably 1 to 14% by weight. When the moisture content is larger than 15% by weight, the dimensional change of the obtained polarizing plate becomes large, and there may be a problem that the dimensional change under high temperature or high temperature and high humidity becomes large.
What is necessary is just to adjust the moisture content of the polarizing film of this invention by arbitrary appropriate methods. For example, there is a method of controlling by adjusting the conditions of the drying step in the production process of the polarizing film.

<偏光板の製造方法>
本発明の偏光板は、保護フィルムと偏光膜を、前記放射線硬化型組成物を介在させて貼り合わせることにより製造する。当該製造方法は、前記放射線硬化型組成物を、偏光膜の前記接着剤層を形成する面および/または保護フィルムの前記接着剤層を形成する面に塗工する工程;偏光膜と保護フィルムとを、前記放射線硬化型組成物を介して貼り合わせる工程;および前記放射線硬化型組成物を介して貼り合わせた、偏光膜と保護フィルムに対して、放射線を照射して硬化させ、接着剤層とする工程、を含むことが好ましい。偏光板の製造はバッチでもロールツウロールでも良いが、生産性を考慮するとロールツウロールが好ましい。
<Production method of polarizing plate>
The polarizing plate of the present invention is produced by bonding a protective film and a polarizing film with the radiation curable composition interposed therebetween. The manufacturing method includes a step of applying the radiation curable composition to a surface of the polarizing film on which the adhesive layer is formed and / or a surface of the protective film on which the adhesive layer is formed; a polarizing film and a protective film; Are bonded to each other via the radiation curable composition; and the polarizing film and the protective film bonded together via the radiation curable composition are cured by irradiation with radiation, It is preferable to include the process to do. The polarizing plate may be produced by batch or roll-to-roll, but roll-to-roll is preferable in consideration of productivity.

接着剤の塗工方式は、接着剤の粘度や目的とする厚みによって適宜に選択される。塗工方式の例として、例えば、リバースコーター、グラビアコーター(ダイレクト,リバースやオフセット)、バーリバースコーター、ロールコーター、ダイコーター、バーコーター、ロッドコーターなどがあげられる。その他、塗工には、デイッピング方式などの方式を適宜に使用することができる。
上記のように塗工した接着剤を介して、偏光膜と保護フィルムとを貼り合わせる。偏光膜と保護フィルムの貼り合わせは、ロールラミネーター等により行う事ができる。
The adhesive coating method is appropriately selected depending on the viscosity of the adhesive and the target thickness. Examples of the coating method include a reverse coater, a gravure coater (direct, reverse or offset), a bar reverse coater, a roll coater, a die coater, a bar coater, a rod coater, and the like. In addition, for coating, a method such as a dapping method can be appropriately used.
The polarizing film and the protective film are bonded together via the adhesive applied as described above. The polarizing film and the protective film can be bonded together using a roll laminator or the like.

偏光膜と保護フィルムを貼り合わせた後に、放射線を照射して、接着剤を硬化させる。放射線としては紫外線および/または電子線が好ましく用いられるが、好ましくは紫外線である。
放射線硬化型接着剤組成物の粘度としては、0.1〜5000mPa・sであることが好ましく、より好ましくは0.5〜1000mPa・s、さらに好ましくは1〜500mPa・sである。
After laminating the polarizing film and the protective film, radiation is irradiated to cure the adhesive. As radiation, ultraviolet rays and / or electron beams are preferably used, and ultraviolet rays are preferred.
The viscosity of the radiation curable adhesive composition is preferably 0.1 to 5000 mPa · s, more preferably 0.5 to 1000 mPa · s, and still more preferably 1 to 500 mPa · s.

硬化後の接着剤の厚みとしては、0.1〜10μmが好ましく、より好ましくは0.3〜7μm、さらに好ましくは0.5〜5μmである。接着剤の厚みが0.1μmより薄い場合では十分な接着強度が得られない場合があり、また、10μmより大きい場合には均質に塗布することが困難で、偏光板の外観不良が発生する場合がある。   As thickness of the adhesive after hardening, 0.1-10 micrometers is preferable, More preferably, it is 0.3-7 micrometers, More preferably, it is 0.5-5 micrometers. When the adhesive thickness is less than 0.1 μm, sufficient adhesive strength may not be obtained, and when it is greater than 10 μm, it is difficult to apply uniformly, resulting in poor appearance of the polarizing plate. There is.

紫外線を用いる場合の光源としては、公知の低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプ、発光ダイオード等が好適に用いられる。ポリ乳酸は波長250nm以下において光吸収を生じるが、この波長領域において強度の強い光を照射した場合、前記式(6)の反応機構により分解が生じる場合がある。したがって、好ましくは波長270nm以下の紫外光はカットして放射線硬化型組成物を硬化させることが好ましい。より好ましくは波長280nm以下、さらに好ましくは波長280nm以下、最も好ましくは波長300nm以下をカットすることである。紫外線のカットは公知の方法で達成可能であり、例えば紫外線光源の適切な選択や紫外線カットフィルターを用いることができる。   As a light source in the case of using ultraviolet rays, a known low-pressure mercury lamp, high-pressure mercury lamp, ultrahigh-pressure mercury lamp, xenon lamp, metal halide lamp, excimer lamp, light-emitting diode, or the like is preferably used. Polylactic acid absorbs light at a wavelength of 250 nm or less, but when irradiated with intense light in this wavelength region, decomposition may occur due to the reaction mechanism of the formula (6). Therefore, it is preferable to cut the ultraviolet light having a wavelength of 270 nm or less to cure the radiation curable composition. More preferably, the wavelength is 280 nm or less, more preferably the wavelength is 280 nm or less, and most preferably, the wavelength is 300 nm or less. The ultraviolet ray can be cut by a known method. For example, an appropriate selection of an ultraviolet light source or an ultraviolet ray cut filter can be used.

紫外光の強度としては、10〜1000mW/cmが好ましく、より好ましくは20〜700mW/cm、さらに好ましくは30〜500mW/cmである。10mW/cm未満では硬化させるのに時間がかかり過ぎ、生産性が良くなく、また1000mW/cmより大きい場合には、熱により偏光膜の偏光性能が劣化する場合がある。また、積算光量としては、100〜10000mJ/cmが好ましく、より好ましくは200〜5000mJ/cm、さらに好ましくは300〜3000mJ/cmである。100mJ/cm未満では硬化不十分となる場合があり、また10000mJ/cmより大きい場合には、熱により偏光膜の偏光性能が劣化する場合がある。紫外光の照射方向は偏光板の片側からでも、両側からでも良い。 As an intensity | strength of ultraviolet light, 10-1000 mW / cm < 2 > is preferable, More preferably, it is 20-700 mW / cm < 2 >, More preferably, it is 30-500 mW / cm < 2 >. If it is less than 10 mW / cm 2 , it takes too much time to cure, resulting in poor productivity. If it is greater than 1000 mW / cm 2 , the polarizing performance of the polarizing film may be deteriorated by heat. Further, as the integrated light quantity is preferably from 100~10000mJ / cm 2, more preferably 200~5000mJ / cm 2, more preferably from 300~3000mJ / cm 2. Is less than 100 mJ / cm 2 may become insufficient curing, and when greater than 10000 mJ / cm 2 may polarization performance of the polarizing film is deteriorated by heat. The irradiation direction of the ultraviolet light may be from one side or both sides of the polarizing plate.

放射線硬化型組成物を紫外線等の光により硬化させる場合において、保護フィルムに紫外線吸収剤を含有し、かつ、当該保護フィルム側から紫外線を照射する場合においては、放射線硬化型組成物の光開始剤の光開始反応波長は、保護フィルムの紫外線吸収波長領域よりも長波長側にあるものを適宜選択することが好ましい。すなわち、放射線硬化型組成物において波長380nm以上の光により開始反応を行う光開始剤を含有することが好ましい。これは前記したように保護フィルムに紫外線吸収剤を加える必要がある場合の好ましい光線透過率が、波長380nmにおいて20%以下であり、波長375nmでの光線透過率が1%以下であるからである。例えば、前述の光開始剤のうち、波長405nmにおける吸光係数(ml/(g・cm))が1以上、好ましくは10以上、さらに好ましくは100以上あるものを好ましく用いることができる。この吸光係数は例えばメタノール溶媒等に光開始剤を溶解させ、分光器により測定することができる。   When the radiation curable composition is cured with light such as ultraviolet rays, the protective film contains an ultraviolet absorber and when the ultraviolet rays are irradiated from the protective film side, the photoinitiator of the radiation curable composition It is preferable to appropriately select the photoinitiation reaction wavelength of which is longer than the ultraviolet absorption wavelength region of the protective film. That is, the radiation curable composition preferably contains a photoinitiator that performs an initiation reaction with light having a wavelength of 380 nm or longer. This is because, as described above, a preferable light transmittance when it is necessary to add an ultraviolet absorber to the protective film is 20% or less at a wavelength of 380 nm, and a light transmittance at a wavelength of 375 nm is 1% or less. . For example, among the aforementioned photoinitiators, those having an extinction coefficient (ml / (g · cm)) at a wavelength of 405 nm of 1 or more, preferably 10 or more, more preferably 100 or more can be preferably used. This extinction coefficient can be measured by, for example, a spectroscope after dissolving a photoinitiator in a methanol solvent or the like.

このような光開始剤として好ましくは、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイドと1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンの混合物、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキシドと2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オンの混合物等である。   Such photoinitiators are preferably bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, 2 , 4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, mixture of bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,4,6 A mixture of trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and the like.

放射線として電子線を用いる場合の電子線の照射方向は、任意の適切な方向から照射することができる。好ましくは、保護フィルム側から照射する。偏光膜側から照射すると、偏光膜が電子線によって劣化するおそれがある。   In the case of using an electron beam as radiation, the irradiation direction of the electron beam can be applied from any appropriate direction. Preferably, it irradiates from the protective film side. When irradiated from the polarizing film side, the polarizing film may be deteriorated by the electron beam.

電子線の照射条件は、前記接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。例えば、電子線照射は、加速電圧が好ましくは5kV〜300kVであり、さらに好ましくは10kV〜250kVである。加速電圧が5kV未満の場合、電子線が接着剤まで届かず硬化不足となるおそれがあり、加速電圧が300kVを超えると、試料を通る浸透力が強すぎて電子線が跳ね返り、保護フィルムや偏光膜にダメージを与えるおそれがある。照射線量としては、5〜100kGy、さらに好ましくは10〜75kGyである。照射線量が5kGy未満の場合は、接着剤が硬化不足となり、100kGyを超えると、保護フィルムや偏光膜にダメージを与え、機械的強度の低下や黄変を生じ、所定の光学特性を得ることができない。   Any appropriate condition can be adopted as the electron beam irradiation condition as long as the adhesive can be cured. For example, in the electron beam irradiation, the acceleration voltage is preferably 5 kV to 300 kV, and more preferably 10 kV to 250 kV. If the acceleration voltage is less than 5 kV, the electron beam may not reach the adhesive and may be insufficiently cured. If the acceleration voltage exceeds 300 kV, the penetrating force through the sample is too strong and the electron beam bounces off, causing a protective film or polarized light. There is a risk of damaging the membrane. The irradiation dose is 5 to 100 kGy, more preferably 10 to 75 kGy. When the irradiation dose is less than 5 kGy, the adhesive becomes insufficiently cured, and when it exceeds 100 kGy, the protective film and the polarizing film are damaged, resulting in a decrease in mechanical strength and yellowing, thereby obtaining predetermined optical characteristics. Can not.

前記製造方法を連続ラインで行う場合、ライン速度は、接着剤の硬化時間にもよるが、好ましくは1〜500m/min、より好ましくは5〜300m/min、さらに好ましくは10〜100m/minである。ライン速度が小さすぎる場合は、生産性が乏しい。ライン速度が大きすぎる場合は、接着剤の硬化が不十分となり、目的とする接着性が得られない場合がある。   When performing the said manufacturing method with a continuous line, although depending on the hardening time of an adhesive agent, Preferably it is 1-500 m / min, More preferably, it is 5-300 m / min, More preferably, it is 10-100 m / min. is there. If the line speed is too low, productivity is poor. When the line speed is too high, the adhesive is not sufficiently cured, and the target adhesiveness may not be obtained.

接着工程後に熱処理工程を設けても良いが、熱処理温度としては40〜100℃が好ましく、より好ましくは50〜85℃である。40℃未満では熱処理工程としては効果が少なく、100℃を超えると偏光膜が劣化する可能性がある。熱処理時間としては5秒から10分程度が好ましい。5秒未満では熱処理の効果が期待できず、10分を超えると生産性に問題が生じる場合がある。   Although a heat treatment step may be provided after the bonding step, the heat treatment temperature is preferably 40 to 100 ° C, more preferably 50 to 85 ° C. If it is less than 40 degreeC, there is little effect as a heat treatment process, and if it exceeds 100 degreeC, a polarizing film may deteriorate. The heat treatment time is preferably about 5 seconds to 10 minutes. If it is less than 5 seconds, the effect of heat treatment cannot be expected, and if it exceeds 10 minutes, there may be a problem in productivity.

偏光膜と保護フィルムの接着剥離強度は90°剥離試験で2N/25mm以上であることが好ましく、より好ましくは3N/25mm以上、さらに好ましくは4N/25mm以上、最も好ましくは5N/25mm以上である。90℃剥離強度が2N/25mm未満では、偏光板の実使用上問題が生じる場合がある。本発明では特に断りの無い限り剥離強度評価における剥離速度は200mm/分、フィルムの幅を25mmとして評価した。   The adhesive peel strength between the polarizing film and the protective film is preferably 2 N / 25 mm or more in the 90 ° peel test, more preferably 3 N / 25 mm or more, still more preferably 4 N / 25 mm or more, and most preferably 5 N / 25 mm or more. . When the 90 ° C. peel strength is less than 2 N / 25 mm, there may be a problem in practical use of the polarizing plate. In the present invention, unless otherwise specified, the peel rate in the peel strength evaluation was 200 mm / min, and the film width was 25 mm.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明は、これにより何ら限定を受けるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention does not receive any limitation by this.

(評価方法)
(1)ポリマーの重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn):
ポリマーの重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定、標準ポリスチレンに換算した。GPC測定機器は、検出器;示差屈折計((株)島津製作所製)RID−6Aカラム;東ソ−(株)TSKgelG3000HXL、TSKgelG4000HXL,TSKgelG5000HXLとTSKguardcokumnHXL−Lを直列に接続したもの、あるいは東ソ−(株)TSKgelG2000HXL、TSKgelG3000HXLとTSKguardcokumnHXL−Lを直列に接続したものを使用した。
クロロホルムを溶離液とし温度40℃、流速1.0ml/minにて、濃度1mg/ml(1%ヘキサフルオロイソプロパノールを含むクロロホルム)の試料を10μl注入し測定した。
(Evaluation methods)
(1) Weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of the polymer:
The weight average molecular weight and number average molecular weight of the polymer were measured by gel permeation chromatography (GPC) and converted to standard polystyrene. GPC measuring instrument is detector; differential refractometer (manufactured by Shimadzu Corporation) RID-6A column; Toso-Co., Ltd. TSKgel G3000HXL, TSKgel G4000HXL, TSKgel G5000HXL and TSKguardcocumHXL-L TSKgel G2000HXL, TSKgelG3000HXL, and TSKguardcocumHXL-L connected in series were used.
Chloroform was used as an eluent, 10 μl of a sample having a concentration of 1 mg / ml (chloroform containing 1% hexafluoroisopropanol) was injected at a temperature of 40 ° C. and a flow rate of 1.0 ml / min.

(2)ステレオ化度〔S(%)〕,結晶融解温度などのDSC測定:
DSC(TAインストルメント社製,TA−2920)を用いて試料を、第一サイクルにおいて、窒素気流下、10℃/分で250℃まで昇温し、ガラス転移温度(Tg)、ステレオコンプレックス相ポリ乳酸結晶融解温度(Tm*)およびステレオコンプレックス相ポリ乳酸結晶融解エンタルピー(ΔHms)およびホモ相ポリ乳酸結晶融解エンタルピー(ΔHmh)を測定した。
また結晶化開始温度(Tc*)、結晶化温度(Tc)は上記測定試料を急速冷却し、さらに引き続き、同じ条件で第二サイクル測定を行い測定した。ステレオ化度は上記測定で得られたステレオコンプレックス相およびホモ相ポリ乳酸結晶融解エンタルピーより、下記式(ii)により求めた値である。
S=[ΔHms/(ΔHmh+ΔHms)]×100 (ii)
(但し、ΔHmsはコンプレックス相結晶の融解エンタルピー、ΔHmhはホモ相ポリ乳酸結晶の融解エンタルピー)
(2) DSC measurement such as degree of stereo [S (%)], crystal melting temperature, etc .:
Using DSC (TA Instrument, TA-2920), the sample was heated to 250 ° C. at 10 ° C./min under a nitrogen stream in the first cycle, and the glass transition temperature (Tg), stereocomplex phase poly Lactic acid crystal melting temperature (Tm *), stereocomplex phase polylactic acid crystal melting enthalpy (ΔHms) and homophase polylactic acid crystal melting enthalpy (ΔHmh) were measured.
In addition, the crystallization start temperature (Tc *) and the crystallization temperature (Tc) were measured by rapidly cooling the measurement sample and then performing a second cycle measurement under the same conditions. The degree of stereogenicity is a value determined by the following formula (ii) from the stereocomplex phase and homophase polylactic acid crystal melting enthalpy obtained by the above measurement.
S = [ΔHms / (ΔHmh + ΔHms)] × 100 (ii)
(However, ΔHms is the melting enthalpy of complex phase crystals, ΔHmh is the melting enthalpy of homophase polylactic acid crystals)

(3)前記式(2)の末端基濃度測定:
500MHzの高分解能核磁気共鳴装置(H−NMR:設備名 日本電子(株)製ECA−500)を用いて前記式(2)の末端基濃度を測定した。重クロロホルムを溶媒としてサンプルを溶解させ、ケミカルシフト5.8〜6.5付近のピーク強度より当該官能基の当量/tonを求めた。バルク平均濃度とは保護フィルム全体における上記式(2)の末端基のバルク平均濃度である。一方、偏光膜側の接着界面近傍における上記式(2)の末端基濃度であるが、界面から中心方向に向かって2μmの樹脂をナイフ等で切り出し、バルク同様に評価した。表2に結果を示すが、表中、『表面』とはこの表面の上記式(2)の末端基濃度であり、『バルク』とはこのバルク平均濃度を示す。
(3) End group concentration measurement of formula (2):
The terminal group concentration of the formula (2) was measured using a 500 MHz high resolution nuclear magnetic resonance apparatus ( 1 H-NMR: equipment name ECA-500 manufactured by JEOL Ltd.). The sample was dissolved using deuterated chloroform as a solvent, and the equivalent / ton of the functional group was determined from the peak intensity around the chemical shift of 5.8 to 6.5. A bulk average density | concentration is a bulk average density | concentration of the end group of the said Formula (2) in the whole protective film. On the other hand, regarding the concentration of the terminal group of the above formula (2) in the vicinity of the adhesive interface on the polarizing film side, a 2 μm resin was cut out from the interface toward the center with a knife or the like and evaluated in the same manner as the bulk. The results are shown in Table 2. In the table, “surface” is the concentration of the end group of the above formula (2) on this surface, and “bulk” indicates this bulk average concentration.

(4)厚み測定:
アンリツ(株)製の電子マイクロメーターで測定した。
(4) Thickness measurement:
The measurement was made with an electronic micrometer manufactured by Anritsu Corporation.

(5)位相差値(Re)と厚み方向の位相差値(Rth)の測定:
複屈折Δnと膜厚dの積である位相差Re値及びRthは、分光エリプソメータである日本分光(株)製の商品名「M150」により測定した。Re値は入射光線とフィルム表面が直交する状態で測定した。また、Rth値(nm)は入射光線とフィルム表面の角度を変えることにより、各角度での位相差値を測定し、公知の屈折率楕円体の式でカーブフィッチングすることにより三次元屈折率であるnx,ny,nzを求めた。
(5) Measurement of retardation value (Re) and thickness direction retardation value (Rth):
The phase difference Re value and Rth, which are products of birefringence Δn and film thickness d, were measured by a trade name “M150” manufactured by JASCO Corporation, which is a spectroscopic ellipsometer. The Re value was measured with the incident light beam and the film surface orthogonal. The Rth value (nm) is a three-dimensional refractive index obtained by measuring the phase difference value at each angle by changing the angle between the incident light beam and the film surface, and curve fitting with a known refractive index ellipsoid equation. Nx, ny, and nz were obtained.

(6)偏光度測定:
偏光板を2枚(3cm×4cm)切り出し、2枚の偏光板の平行透過率Y//、直交透過率Yを分光器である(株)日立製作所製の商品名「U−4000」にて測定し、下記式(11)を用いて偏光度(P(%))を求めた。なお、ここで言う透過率は平行光線透過率であり、2°視野C光源におけるCIE XYZ表色系のY値を用いた。

Figure 2011033798
(6) Polarization degree measurement:
Two polarizing plates (3 cm × 4 cm) are cut out, and the parallel transmittance Y /// and the orthogonal transmittance Y 直交 of the two polarizing plates are changed to a product name “U-4000” manufactured by Hitachi, Ltd. which is a spectroscope. The degree of polarization (P (%)) was determined using the following formula (11). The transmittance referred to here is parallel light transmittance, and the Y value of the CIE XYZ color system in a 2 ° visual field C light source was used.
Figure 2011033798

(7)接着性剥離強度試験
偏光膜と保護フィルム間の接着力を評価するために、インストロン社製の引張り試験機の商品名「5500R」を用いて90°剥離試験を行った。剥離速度は200mm/分とした。また、剥離面は表裏2箇所存在するが、後掲の剥離強度(表4)は両者の平均値を記載した。ただし、実施例15のみは保護フィルム2と偏光膜との剥離強度のみを記載している。測定においてはガラス板に粘着剤を介して偏光板を貼り合せ、測定する側の接着層をガラス板と反対側にし、最表面にある保護フィルムをガラス基板に対して90°に保ちながら剥離強度を測定した。
(7) Adhesive Peel Strength Test In order to evaluate the adhesive force between the polarizing film and the protective film, a 90 ° peel test was performed using a product name “5500R” of a tensile tester manufactured by Instron. The peeling speed was 200 mm / min. Moreover, although the peeling surface exists in two places, front and back, the peeling strength (Table 4) mentioned later described the average value of both. However, only Example 15 describes only the peel strength between the protective film 2 and the polarizing film. In the measurement, a polarizing plate is attached to a glass plate with an adhesive, the adhesive layer on the side to be measured is on the side opposite to the glass plate, and the peel strength is maintained while maintaining the protective film on the outermost surface at 90 ° to the glass substrate. Was measured.

(8)保護フィルムの平行光線透過率の測定:
保護フィルムの平行光線透過率は分光器である(株)日立製作所製の商品名「U−4000」にて測定した。表1に波長380、405、500nmの平行光線透過率T380,T405,T500を記す。
(8) Measurement of parallel light transmittance of protective film:
The parallel light transmittance of the protective film was measured with a trade name “U-4000” manufactured by Hitachi, Ltd., which is a spectroscope. Table 1 shows the parallel light transmittances T 380 , T 405 , and T 500 at wavelengths of 380 , 405 , and 500 nm.

(9)光開始剤の吸光係数の測定:
光開始剤の405nmにおける吸光係数は、溶媒をアセトニトリルとし、光路長1cmの石英セルを用いて(株)日立製作所製の商品名「U−4000」にて評価した。結果は表3に記す。本発明においては、チバガイギー社製の商品名「イルガキュア184」、「イルガキュア819」、「イルガキュア1870」をそれぞれI184,I819,I1870と称する。I819、I1870は400nm以上の光でも吸収し、重合開始反応を起こす。
(9) Measurement of extinction coefficient of photoinitiator:
The extinction coefficient at 405 nm of the photoinitiator was evaluated under the trade name “U-4000” manufactured by Hitachi, Ltd. using a quartz cell with a solvent of acetonitrile and an optical path length of 1 cm. The results are shown in Table 3. In the present invention, trade names “Irgacure 184”, “Irgacure 819”, and “Irgacure 1870” manufactured by Ciba Geigy are referred to as I184, I819, and I1870, respectively. I819 and I1870 absorb even light having a wavelength of 400 nm or more to cause a polymerization initiation reaction.

(10)全光線透過率およびヘイズ測定:
日本電色工業(株)製の商品名「COH−300A」を用いて全光線透過率(%)、ヘイズ値(%)を評価した。
(10) Total light transmittance and haze measurement:
The total light transmittance (%) and haze value (%) were evaluated using the brand name “COH-300A” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.

(11)環状カルボジイミド構造の核磁気共鳴法(NMR)による同定およびポリエステル組成物中の環状カルボジイミドの定量:
合成した環状カルボジイミド化合物はH−NMR、13C−NMRによって確認した。NMRは日本電子(株)製の商品名「JNR−EX270」を使用した。溶媒は重クロロホルムを用いた。
(11) Identification of cyclic carbodiimide structure by nuclear magnetic resonance (NMR) and determination of cyclic carbodiimide in polyester composition:
The synthesized cyclic carbodiimide compound was confirmed by 1 H-NMR and 13 C-NMR. For NMR, a trade name “JNR-EX270” manufactured by JEOL Ltd. was used. Deuterated chloroform was used as the solvent.

(12)環状カルボジイミドのカルボジイミド骨格の赤外分光法(IR)による同定:
合成した環状カルボジイミド化合物のカルボジイミド骨格の有無は、FT−IRによりカルボジイミドに特徴的な2100〜2200cm−1の確認を行った。FT−IRはサーモニコレー(株)製の商品名「Magna−750」を使用した。
(12) Identification of carbodiimide skeleton of cyclic carbodiimide by infrared spectroscopy (IR):
The presence or absence of the carbodiimide skeleton of the synthesized cyclic carbodiimide compound was confirmed by FT-IR at 2100-2200 cm −1 characteristic of carbodiimide. For FT-IR, a trade name “Magna-750” manufactured by Thermo Nicolay Co., Ltd. was used.

[参考例]
<環状カルボジイミド(TX−1)の製造>
o−ニトロフェノール(0.11mol)とペンタエリトリチルテトラブロミド(0.025mol)、炭酸カリウム(0.33mol)、N,N−ジメチルホルムアミド200mlを撹拌装置及び加熱装置を設置した反応装置にN雰囲気下仕込み、130℃で12時間反応後、DMFを減圧により除去し、得られた固形物をジクロロメタン200mlに溶かし、水100mlで3回分液を行った。有機層を硫酸ナトリウム5gで脱水し、ジクロロメタンを減圧により除去し、中間生成物D(ニトロ体)を得た。
[Reference example]
<Production of cyclic carbodiimide (TX-1)>
o- nitrophenol (0.11 mol) and pentaerythrityl tetra bromide (0.025 mol), potassium carbonate (0.33mol), N, N- N 2 dimethylformamide 200ml in reactor installed with a stirrer and a heating device After charging in an atmosphere and reacting at 130 ° C. for 12 hours, DMF was removed under reduced pressure, and the resulting solid was dissolved in 200 ml of dichloromethane and separated three times with 100 ml of water. The organic layer was dehydrated with 5 g of sodium sulfate, and dichloromethane was removed under reduced pressure to obtain an intermediate product D (nitro form).

次に中間生成物D(0.1mol)と5%パラジウムカーボン(Pd/C)(2g)、エタノール/ジクロロメタン(70/30)400mlを、撹拌装置を設置した反応装置に仕込み、水素置換を5回行い、25℃で水素を常に供給した状態で反応させ、水素の減少がなくなったら反応を終了した。Pd/Cを回収し、混合溶媒を除去すると中間生成物E(アミン体)が得られた。   Next, intermediate product D (0.1 mol), 5% palladium carbon (Pd / C) (2 g), and 400 ml of ethanol / dichloromethane (70/30) were charged into a reactor equipped with a stirrer, and 5 hydrogen substitution was performed. The reaction was performed in a state where hydrogen was constantly supplied at 25 ° C., and the reaction was terminated when there was no decrease in hydrogen. When Pd / C was recovered and the mixed solvent was removed, an intermediate product E (amine body) was obtained.

次に撹拌装置及び加熱装置、滴下ロートを設置した反応装置に、N雰囲気下、トリフェニルホスフィンジブロミド(0.11mol)と1,2−ジクロロエタン150mlを仕込み撹拌させた。そこに中間生成物E(0.025mol)とトリエチルアミン(0.25mol)を1,2−ジクロロエタン50mlに溶かした溶液を25℃で徐々に滴下した。滴下終了後、70℃で5時間反応させる。その後、反応溶液をろ過し、ろ液を水100mlで5回分液を行った。有機層を硫酸ナトリウム5gで脱水し、1,2−ジクロロエタンを減圧により除去し、中間生成物F(トリフェニルホスフィン体)が得られた。 Next, triphenylphosphine dibromide (0.11 mol) and 150 ml of 1,2-dichloroethane were charged and stirred in a reactor equipped with a stirring device, a heating device, and a dropping funnel in an N 2 atmosphere. A solution prepared by dissolving the intermediate product E (0.025 mol) and triethylamine (0.25 mol) in 50 ml of 1,2-dichloroethane was gradually added dropwise thereto at 25 ° C. After completion of dropping, the reaction is carried out at 70 ° C. for 5 hours. Thereafter, the reaction solution was filtered, and the filtrate was separated 5 times with 100 ml of water. The organic layer was dehydrated with 5 g of sodium sulfate, and 1,2-dichloroethane was removed under reduced pressure to obtain an intermediate product F (triphenylphosphine compound).

次に、撹拌装置及び滴下ロートを設置した反応装置に、N雰囲気下、ジ−tert−ブチルジカーボネート(0.11mol)とN,N−ジメチル−4−アミノピリジン(0.055mol)、ジクロロメタン150mlを仕込み撹拌させる。そこに、25℃で中間生成物F(0.025mol)を溶かしたジクロロメタン100mlをゆっくりと滴下させた。滴下後、12時間反応させる。その後、ジクロロメタンを除去し得られた固形物を、精製することで、下記に示す構造を有する環状カルボジイミド化合物(TX−1と略記)、(分子量:516)を得た。TX−1の構造はNMR、IRにより確認した。 Next, in a reactor equipped with a stirrer and a dropping funnel, di-tert-butyl dicarbonate (0.11 mol), N, N-dimethyl-4-aminopyridine (0.055 mol), dichloromethane under N 2 atmosphere. 150 ml is charged and stirred. Thereto, 100 ml of dichloromethane in which the intermediate product F (0.025 mol) was dissolved was slowly added dropwise at 25 ° C. After dropping, react for 12 hours. Then, the solid substance obtained by removing dichloromethane was purified to obtain a cyclic carbodiimide compound (abbreviated as TX-1) having a structure shown below (molecular weight: 516). The structure of TX-1 was confirmed by NMR and IR.

Figure 2011033798
Figure 2011033798

<ポリ乳酸の製造>
ポリ乳酸は、以下の通りに調製した。
(1)ポリL−乳酸(PLLA1)の製造:
L−ラクチド((株)武蔵野化学研究所製、光学純度100%)100重量部に対し、オクチル酸スズを0.005重量部加え、窒素雰囲気下、撹拌翼のついた反応機にて180℃で2時間反応させ、オクチル酸スズに対し1.2倍当量のリン酸を添加しその後、13.3Paで残存するラクチドを減圧除去し、チップ化し、ポリL−乳酸(PLLA1)を得た。
得られたポリL−乳酸(PLLA1)の重量平均分子量は15.2万、ガラス転移点(Tg)は55℃、融点は175℃であった。
<Manufacture of polylactic acid>
Polylactic acid was prepared as follows.
(1) Production of poly L-lactic acid (PLLA1):
To 100 parts by weight of L-lactide (manufactured by Musashino Chemical Laboratory, Inc., optical purity 100%), 0.005 part by weight of octylate is added, and 180 ° C. in a reactor equipped with a stirring blade in a nitrogen atmosphere. Then, 1.2 times equivalent of phosphoric acid with respect to tin octylate was added, and then the remaining lactide at 13.3 Pa was removed under reduced pressure to form a chip to obtain poly L-lactic acid (PLLA1).
The obtained poly L-lactic acid (PLLA1) had a weight average molecular weight of 152,000, a glass transition point (Tg) of 55 ° C., and a melting point of 175 ° C.

(2)ポリD−乳酸(PDLA1)の製造:
PLLA1の製造において、L−ラクチドをD−ラクチド((株)武蔵野化学研究所製、光学純度100%)に変更したこと以外は同じ条件で重合を行い、ポリD−乳酸(PDLA1)を得た。
得られたポリD−乳酸(PDLA1)の重量平均分子量(Mw)は15.1万、ガラス転移点(Tg)は55℃、融点は175℃であった。
(2) Production of poly-D-lactic acid (PDLA1):
In the production of PLLA1, polymerization was carried out under the same conditions except that L-lactide was changed to D-lactide (manufactured by Musashino Chemical Laboratory, Inc., optical purity 100%) to obtain poly D-lactic acid (PDLA1). .
The obtained poly-D-lactic acid (PDLA1) had a weight average molecular weight (Mw) of 151,000, a glass transition point (Tg) of 55 ° C., and a melting point of 175 ° C.

(3)ステレオコンプレックスポリ乳酸(SCPLA1)の製造:
上記操作で得られたPLLA1とPDLA1とを各50重量部およびリン酸金属塩((株)ADEKA製「アデカスタブ」NA−71:0.1重量部)を、2軸混練装置の第一供給口より供給、シリンダー温度250℃で溶融混練し、ステレオコンプレックスポリ乳酸(SCPLA1)を得た。ガラス転移点(Tg)は55℃、融点は216℃であった。
(3) Production of stereocomplex polylactic acid (SCPLA1):
50 parts by weight of PLLA1 and PDLA1 obtained by the above operation and a metal phosphate (“ADEKA STAB” NA-71: 0.1 part by weight, manufactured by ADEKA Corporation) are supplied to the first supply port of the biaxial kneader. The mixture was melted and kneaded at a cylinder temperature of 250 ° C. to obtain stereocomplex polylactic acid (SCPLA1). The glass transition point (Tg) was 55 ° C. and the melting point was 216 ° C.

(4)ステレオコンプレックスポリ乳酸とポリメチルメタクリレート(PMMA)のブレンド樹脂(SP1)の製造:
上記操作で得られたSCPLA1と三菱レイヨン(株)製のPMMAである商品名「アクリペットVH001」をそれぞれ80重量部、20重量部をブレンダーで混合、110°、5時間真空乾燥した後、混練機の第一供給口より、シリンダー温度230℃、ベント圧13.3Paで真空排気しながら溶融混練し、水槽中にストランド押し出し、チップカッターにてチップ化してSCPLA1とPMMAのブレンド組成物(SP1)を得た。ガラス転移点(Tg)は59℃、融点は216℃であった。
(4) Production of blend resin (SP1) of stereocomplex polylactic acid and polymethyl methacrylate (PMMA):
After blending 80 parts by weight and 20 parts by weight of a product name “Acrypet VH001” which is SPLLA1 obtained by the above operation and PMMA made by Mitsubishi Rayon Co., Ltd. with a blender, 110 ° C. and vacuum drying for 5 hours, kneading From the first supply port of the machine, melt kneading while evacuating at a cylinder temperature of 230 ° C. and a vent pressure of 13.3 Pa, extruding the strand into a water tank, chipping with a chip cutter, and blending composition of SPLLA1 and PMMA (SP1) Got. The glass transition point (Tg) was 59 ° C. and the melting point was 216 ° C.

(5)ステレオコンプレックスポリ乳酸、ポリメチルメタクリレート(PMMA)および環状カルボジイミド(TX−1)のブレンド樹脂(SPT1)の製造:
上記操作で得られたSCPLA1、三菱レイヨン(株)製のPMMAである商品名「アクリペットVH001」、環状カルボジイミド(TX1)をそれぞれ80重量部、20重量部、1重量部をブレンダーで混合、110°、5時間真空乾燥した後、混練機の第一供給口より供給し、シリンダー温度230℃、ベント圧13.3Paで真空排気しながら溶融混練し、水槽中にストランド押し出し、チップカッターにてチップ化してブレンド組成物(SPT1)を得た。ガラス転移点(Tg)は59℃、融点は216℃であった。
(5) Production of blend resin (SPT1) of stereocomplex polylactic acid, polymethyl methacrylate (PMMA) and cyclic carbodiimide (TX-1):
SCPLA1 obtained by the above operation, PMMA made by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., trade name “Acrypet VH001”, and cyclic carbodiimide (TX1) are mixed by 80 parts by weight, 20 parts by weight, and 1 part by weight with a blender, 110 ° After vacuum drying for 5 hours, supply from the first supply port of the kneading machine, melt kneading while evacuating at a cylinder temperature of 230 ° C and a vent pressure of 13.3 Pa, extruding the strand into a water tank, and tipping with a chip cutter To obtain a blend composition (SPT1). The glass transition point (Tg) was 59 ° C. and the melting point was 216 ° C.

(6)ステレオコンプレックスポリ乳酸、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、環状カルボジイミド(TX1)、紫外線吸収剤(UV1)のブレンド樹脂(SPTV1)の製造:
上記操作で得られたSCPLA1、三菱レイヨン(株)製のPMMAである商品名「アクリペットVH001」、環状カルボジイミド(TX−1)、シプロ化成(株)製の商品名「シーソーブ107」である紫外線吸収剤2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノンをそれぞれ80重量部、20重量部、0.8重量部、0.9重量部をブレンダーで混合、110°、5時間真空乾燥した後、混練機の第一供給口より供給し、シリンダー温度230℃、ベント圧13.3Paで真空排気しながら溶融混練し、水槽中にストランド押し出し、チップカッターにてチップ化してブレンド組成物(SPTV1)を得た。ガラス転移点(Tg)は58℃、融点は215℃であった。
(6) Production of blend resin (SPTV1) of stereocomplex polylactic acid, polymethyl methacrylate (PMMA), cyclic carbodiimide (TX1), and UV absorber (UV1):
SPLLA 1 obtained by the above operation, trade name “Acrypet VH001” which is PMMA made by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., cyclic carbodiimide (TX-1), ultraviolet light which is trade name “Seesorb 107” made by Cypro Kasei Co., Ltd. The absorbent 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone was mixed with 80 parts by weight, 20 parts by weight, 0.8 parts by weight and 0.9 parts by weight, respectively, and dried in a vacuum at 110 ° C. for 5 hours. Thereafter, the mixture is supplied from the first supply port of the kneading machine, melted and kneaded while evacuating at a cylinder temperature of 230 ° C. and a vent pressure of 13.3 Pa, extruded into a water tank, chipped with a chip cutter, and blended composition (SPTV1 ) The glass transition point (Tg) was 58 ° C. and the melting point was 215 ° C.

(7)ステレオコンプレックスポリ乳酸、環状カルボジイミド(TX−1)、紫外線吸収剤(UV1)のブレンド樹脂(STV1)の製造:
SCPLA1、三菱レイヨン(株)製のPMMAである商品名「アクリペットVH001」、環状カルボジイミド(TX1)、シプロ化成(株)製の商品名「シーソーブ107」である紫外線吸収剤2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノンをそれぞれ80重量部、20重量部、0.8重量部、0.9重量部をブレンダーで混合、110°、5時間真空乾燥した後、混練機の第一供給口より供給し、シリンダー温度230℃、ベント圧13.3Paで真空排気しながら溶融混練し、水槽中にストランド押し出し、チップカッターにてチップ化してブレンド組成物(STV1)を得た。ガラス転移点(Tg)は58℃、融点は215℃であった。
(7) Production of blend resin (STV1) of stereocomplex polylactic acid, cyclic carbodiimide (TX-1), and ultraviolet absorber (UV1):
Ultraviolet absorber 2,2′-dihydroxy which is SPLLA1, trade name “Acrypet VH001”, PMMA made by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., cyclic carbodiimide (TX1), trade name “Seasorb 107” made by Cypro Kasei Co., Ltd. -4,4'-dimethoxybenzophenone 80 parts by weight, 20 parts by weight, 0.8 parts by weight and 0.9 parts by weight were mixed with a blender, dried at 110 ° C. for 5 hours, and then supplied to the first kneader. It was supplied from the mouth, melted and kneaded while evacuating at a cylinder temperature of 230 ° C. and a vent pressure of 13.3 Pa, extruded into a water tank, and chipped with a chip cutter to obtain a blend composition (STV1). The glass transition point (Tg) was 58 ° C. and the melting point was 215 ° C.

<保護フィルムの製造>
(1)保護フィルム(F1)の製造:
樹脂SPT1を100℃で5時間乾燥させた後、225℃で押出機にて溶融混練し、ダイ温度225℃でTダイよりフィルム状に溶融押し出し、40℃の冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。膜厚は43μmであった。その後、この未延伸フィルムをテンター横一軸延伸機により延伸温度75℃、倍率1.05倍にて延伸した後、同設備にて115℃にて熱固定を実施することにより、厚み41μmの保護フィルム(F1)を得た。
<Manufacture of protective film>
(1) Production of protective film (F1):
The resin SPT1 was dried at 100 ° C. for 5 hours, melted and kneaded in an extruder at 225 ° C., melt-extruded in a film form from a T-die at a die temperature of 225 ° C., closely adhered to the surface of the cooling drum at 40 ° C., and solidified. A stretched film was obtained. The film thickness was 43 μm. Thereafter, this unstretched film was stretched at a stretching temperature of 75 ° C. and a magnification of 1.05 times with a tenter horizontal uniaxial stretching machine, and then heat-set at 115 ° C. with the same equipment, whereby a protective film having a thickness of 41 μm. (F1) was obtained.

(2)位相差機能付保護フィルム(F2)の製造:
フィルム製造例1と同様に樹脂SPT1を用いて未延伸フィルムを得た。膜厚は60μmであった。その後、この未延伸フィルムをテンター横一軸延伸機により延伸温度75℃、倍率1.4倍にて延伸した後、同設備にて115℃にて熱固定を実施することにより、厚み41μmの保護フィルム(F2)を得た。
(2) Production of protective film with retardation function (F2):
An unstretched film was obtained using resin SPT1 in the same manner as in Film Production Example 1. The film thickness was 60 μm. Thereafter, the unstretched film was stretched at a stretching temperature of 75 ° C. and a magnification of 1.4 times with a tenter horizontal uniaxial stretching machine, and then heat-fixed at 115 ° C. with the same equipment to obtain a protective film having a thickness of 41 μm. (F2) was obtained.

(3)保護フィルム(F3)の製造:
樹脂SP1を用いた以外はフィルム製造例1と同様に厚み41μmの保護フィルム(F3)を得た。
(3) Production of protective film (F3):
A protective film (F3) having a thickness of 41 μm was obtained in the same manner as in Film Production Example 1 except that the resin SP1 was used.

(4)保護フィルム(F4)の製造:
樹脂SPTV1を用いた以外はフィルム製造例1と同様に厚み41μmの保護フィルム(F2)を得た。
(4) Production of protective film (F4):
A protective film (F2) having a thickness of 41 μm was obtained in the same manner as in Film Production Example 1 except that the resin SPTV1 was used.

(5)保護フィルム(F5)の製造:
樹脂STV1を用いたこと、およびテンター横一軸延延伸機における熱固定温度を105℃とした以外はフィルム製造例1と同様に厚み41μmの保護フィルム(F5)を得た。
表1にF1〜F5の保護フィルムの光学特性を記す。
(5) Production of protective film (F5):
A protective film (F5) having a thickness of 41 μm was obtained in the same manner as in Film Production Example 1 except that the resin STV1 was used and the heat setting temperature in the tenter transverse uniaxial stretching machine was 105 ° C.
Table 1 shows the optical characteristics of the protective films F1 to F5.

Figure 2011033798
Figure 2011033798

<保護フィルムの表面処理>
保護フィルムの表面処理はコロナ処理放電または紫外線オゾン処理を用いた。コロナ放電処理は春日電機(株)製コロナ表面処理装置を用いて、70W・分/mの条件で実施した。また、紫外線オゾン処理はアイグラフィックス(株)社製の商品名「アイオゾン洗浄装置OC−2506」を用い、処理時間は30秒とした。ただし、実施例9のみ紫外線オゾン処理の時間を1分とした。表2に実施例、比較例の表面処理の有無、方法を記載した。表面処理後の上記式(2)末端基濃度も表2に記載する。
<Surface treatment of protective film>
For the surface treatment of the protective film, corona treatment discharge or ultraviolet ozone treatment was used. The corona discharge treatment was performed under the condition of 70 W · min / m 2 using a corona surface treatment apparatus manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd. In addition, the ultraviolet ozone treatment was performed using a product name “eye ozone cleaning apparatus OC-2506” manufactured by Eye Graphics Co., Ltd., and the treatment time was 30 seconds. However, only in Example 9, the time of the ultraviolet ozone treatment was 1 minute. Table 2 shows the presence / absence and method of surface treatment in Examples and Comparative Examples. The above formula (2) end group concentration after the surface treatment is also shown in Table 2.

<偏光膜の製造>
厚さ80μmのポリビニルアルコールフィルムを、5重量%(重量比:ヨウ素/ヨウ化カリウム=1/10)の30℃のヨウ素溶液中で1分間染色した。次いで、3重量%のホウ酸および2重量%の30℃のヨウ化カリウムを含む水溶液中に1分間浸漬し、さらに4重量%のホウ酸および3重量%のヨウ化カリウムを含む60℃の水溶液中で1分間浸漬しながら6倍まで延伸した後、30℃の5重量%のヨウ化カリウム水溶液に1分間浸漬した。その後、80℃のオーブンで3分間乾燥を行い、厚さ30μmの偏光膜を得た。
<Manufacture of polarizing film>
A polyvinyl alcohol film having a thickness of 80 μm was dyed in an iodine solution of 5% by weight (weight ratio: iodine / potassium iodide = 1/10) at 30 ° C. for 1 minute. Then, it is immersed in an aqueous solution containing 3% by weight boric acid and 2% by weight 30 ° C. potassium iodide for 1 minute, and further an aqueous solution at 60 ° C. containing 4% by weight boric acid and 3% by weight potassium iodide. The film was stretched up to 6 times while immersed in the medium for 1 minute, and then immersed in a 5 wt% potassium iodide aqueous solution at 30 ° C. for 1 minute. Then, it dried for 3 minutes in 80 degreeC oven, and obtained the polarizing film of thickness 30 micrometers.

[実施例1〜14]
各実施例において表2で示される保護フィルムを用いた。また、表2に示すように実施例10を除いてはすべて偏光膜面と当該フィルムの接着面に表面処理したものを用いた。
偏光膜の両面に、ワイヤーバーコーターを装着したコーターを用いて、表2で示された放射線硬化型組成物を塗布し、保護フィルム1、偏光膜、保護フィルム2の配置に積層されるようにラミネーターを用いて貼り合わせた。なお、放射線硬化型組成物はすべて常温(25℃)で液体であり、溶剤は使用していない。
[Examples 1 to 14]
In each Example, the protective film shown in Table 2 was used. Further, as shown in Table 2, except for Example 10, the surface of the polarizing film and the adhesive surface of the film were all subjected to surface treatment.
Using a coater equipped with a wire bar coater on both sides of the polarizing film, the radiation curable composition shown in Table 2 is applied and laminated in the arrangement of the protective film 1, the polarizing film, and the protective film 2. It bonded together using the laminator. In addition, all radiation curable compositions are liquid at normal temperature (25 degreeC), and the solvent is not used.

続いて、300nm以下の紫外線をカットするカットフィルターが設置された低圧水銀ランプを有する紫外線硬化装置中にその貼合されたフィルムを導入し、空気雰囲気下で、保護フィルム1側から光を照射し、接着硬化させた。照射した光の強度はアイグラフィック(株)社製の紫外線照度計である商品名「UVPF−36」で行った。光強度は30mW/cm、積算光量は1J/cmであった。厚さ4μmの放射線硬化型組成物の硬化物からなる層により接着されてなる、偏光板を得た。すなわち、得られた偏光板は、保護フィルム1、接着剤層、偏光膜、接着剤層、保護フィルム2がこの順に積層されてなる。
表4に示すように、いずれの実施例においても初期偏光度、剥離強度に優れ、また、80℃DRY500時間、60℃90%RH500時間後においても変化が少ないことがわかる。
Subsequently, the bonded film is introduced into an ultraviolet curing device having a low-pressure mercury lamp in which a cut filter for cutting ultraviolet rays of 300 nm or less is installed, and light is irradiated from the protective film 1 side in an air atmosphere. And cured. The intensity of the irradiated light was measured by a trade name “UVPF-36” which is an ultraviolet illuminance meter manufactured by Eye Graphic Co., Ltd. The light intensity was 30 mW / cm 2 and the integrated light amount was 1 J / cm 2 . A polarizing plate was obtained which was adhered by a layer made of a cured product of a radiation curable composition having a thickness of 4 μm. That is, the obtained polarizing plate is formed by laminating the protective film 1, the adhesive layer, the polarizing film, the adhesive layer, and the protective film 2 in this order.
As shown in Table 4, it can be seen that in any of the Examples, the initial polarization degree and the peel strength are excellent, and the change is small even after 80 ° C. DRY 500 hours and 60 ° C. 90% RH 500 hours.

[実施例15]
保護フィルム1として一方の面には、ポリ乳酸を含む材料からなるフィルムを用い、反対面にTACを用いた偏光板を下記の通りに作製した。
トリアセチルセルロース100重量部、トリフェニルホスフェート12重量部、塩化メチレン300重量部、メタノール50重量部を密閉容器に投入し、加圧下で80℃に保温し撹伴しながら完全に溶解した。次にこの溶液を濾過し、冷却して30℃に保ち、ガラス基板に貼り付けたPETフィルム上にアプリケーターで塗布した。この状態で5分間静置した後、更に100℃のオーブンで1時間乾燥を終了させ、膜厚40μmの保護フィルム(TAC1)を得た。
[Example 15]
As a protective film 1, a film made of a material containing polylactic acid was used on one surface, and a polarizing plate using TAC on the other surface was prepared as follows.
100 parts by weight of triacetyl cellulose, 12 parts by weight of triphenyl phosphate, 300 parts by weight of methylene chloride, and 50 parts by weight of methanol were put into a sealed container, kept at 80 ° C. under pressure, and completely dissolved while stirring. Next, this solution was filtered, cooled, kept at 30 ° C., and coated on a PET film attached to a glass substrate with an applicator. After leaving still in this state for 5 minutes, drying was further terminated in an oven at 100 ° C. for 1 hour to obtain a protective film (TAC1) having a film thickness of 40 μm.

続いて、TAC1を40℃の2.6mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液中に50秒間浸せきした後、水洗乾燥してケン化処理した。その後、ケン化処理した保護フィルムTAC1を、完全ケン化型ポリビニルアルコール5%水溶液を接着剤として、TAC1と偏光膜をラミネートし、80℃3分間乾燥させ偏光膜の片側に接着させた。
TAC1とは偏光膜を挟んで反対側の保護フィルムの接着については、実施例1と同様に表1、表2に記載した条件で実施して偏光板を作製した。
表4において初期偏光度、剥離強度に優れ、また、80℃DRY500時間後、60℃90%RH500時間後においても変化が少ないことがわかる。
Subsequently, TAC1 was immersed in a 2.6 mol / L aqueous sodium hydroxide solution at 40 ° C. for 50 seconds, then washed with water, dried and saponified. Thereafter, the saponified protective film TAC1 was laminated with TAC1 and the polarizing film using a completely saponified polyvinyl alcohol 5% aqueous solution as an adhesive, dried at 80 ° C. for 3 minutes, and adhered to one side of the polarizing film.
About adhesion | attachment of the protective film on the opposite side on both sides of a polarizing film with TAC1, it implemented on the conditions described in Table 1 and Table 2 similarly to Example 1, and produced the polarizing plate.
In Table 4, it can be seen that the initial polarization degree and the peel strength are excellent, and the change is small even after 80 hours of DRY 500 hours and after 60 degrees C and 90% RH 500 hours.

[比較例1、2、4〜6]
表2記載の保護フィルム、放射線硬化型組成物を用いた以外は実施例1と同様にして偏光板を作製した。表2中の保護フィルムであるCOP、PCは、それぞれ、脂環式オレフィンポリマーからなる日本ゼオン(株)製の商品名「ゼオノアZF14」、ビスフェノールA骨格を有するポリカーボネートからなる帝人化成(株)製の商品名「ピュアエース」の光学等方フィルムを示す。
表4に示すように、いずれも接着力に乏しく偏光板としては不適であることが分かった。また、実施例に比べて初期偏光度が低いことが分かった。
[Comparative Examples 1, 2, 4 to 6]
A polarizing plate was produced in the same manner as in Example 1 except that the protective film described in Table 2 and the radiation curable composition were used. COP and PC, which are protective films in Table 2, are trade names “ZEONOR ZF14” made by Nippon Zeon Co., Ltd., which is made of an alicyclic olefin polymer, and Teijin Chemicals Ltd., which is made of a polycarbonate having a bisphenol A skeleton. An optically isotropic film with a trade name of “Pure Ace” is shown.
As shown in Table 4, it was found that all of them were poor in adhesive strength and unsuitable as a polarizing plate. Moreover, it turned out that an initial stage polarization degree is low compared with an Example.

[比較例3]
放射線硬化型組成物の代わりに完全ケン化型ポリビニルアルコール5%水溶液を接着剤として用いたこと、また、接着剤の硬化方法としては熱による乾燥(80℃3分間)を用いたこと以外は実施例1と同様に偏光板を作製した。
表4に示すように、接着力に乏しく偏光板としては不適であることが分かった。また、実施例に比べて初期偏光度が低いことが分かった。
[Comparative Example 3]
Implemented except that a completely saponified polyvinyl alcohol 5% aqueous solution was used as the adhesive instead of the radiation curable composition, and that the adhesive was cured by drying with heat (80 ° C. for 3 minutes). A polarizing plate was produced in the same manner as in Example 1.
As shown in Table 4, it was found that the adhesive strength was poor and it was not suitable as a polarizing plate. Moreover, it turned out that an initial stage polarization degree is low compared with an Example.

Figure 2011033798
Figure 2011033798

なお、表2において、略号はそれぞれ以下を意味する。
コロナ放電:保護フィルム接着層側の表面処理としてコロナ放電処理を実施した。
UVオゾン:保護フィルム接着層側表面処理として紫外線オゾン処理を実施した。
ケン化:保護フィルム接着層側表面処理としてケン化処理を実施した。
表面:保護フィルム偏光膜側の接着界面近傍の式(2)の濃度(当量/ton)
バルク:保護フィルムバルクの上記式(2)の濃度(当量/ton)
HA:共栄社化学(株)製の商品名「ライトエステルHOP−A」
2−ヒドロキシプロピルアクリレートを主成分とする。
AA:昭和電工(株)製の商品名「カレンズAOI」
2−アクリロイロキシエチルイソシアネートを97%以上含有。
MM:昭和電工(株)製の商品名「カレンズMOI」
2−メタクリロイロキシエチルイソシアネートを97%以上含有。
MA:共栄社化学(株)製の商品名「HOA−MA」
2−アクリロイロキシエチル−コハク酸を主成分とする。
PA:共栄社化学(株)製の商品名「ライトアクリレートP−1A」
2−アクリロイロキシエチルアッシドフォスフェートを主成分とする。
HM:共栄社化学(株)製の商品名「ライトエステルHOP」
2−ヒドロキシプロピルメタクリレートを主成分とする。
EM:共栄社化学(株)製の商品名「ライトエステルHO−250」
2−ヒドロキシエチルメタクリレートを主成分とする。
EA:共栄社化学(株)製の商品名「ライトエステルHOA」
2−ヒドロキシエチルアクリレートを主成分とする。
BA:共栄社化学(株)製の商品名「ライトアクリレートHOB−A」
2−ヒドロキシブチルアクリレートを主成分とする。
MMA:共栄社化学(株)製の商品名「ライトエステルM」
メチルメタクリレートを主成分とする。
PHA:共栄社化学(株)製の商品名「ライトアクリレートPO−A」
フェノキシエチルアクリレートを主成分とする。
In Table 2, the abbreviations mean the following.
Corona discharge: Corona discharge treatment was performed as a surface treatment on the protective film adhesive layer side.
UV ozone: UV ozone treatment was performed as the surface treatment on the protective film adhesive layer side.
Saponification: A saponification treatment was performed as a surface treatment on the protective film adhesive layer side.
Surface: concentration (equivalent / ton) of formula (2) in the vicinity of the adhesive interface on the protective film polarizing film side
Bulk: concentration of the above formula (2) in the protective film bulk (equivalent / ton)
HA: Trade name “Light Ester HOP-A” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
The main component is 2-hydroxypropyl acrylate.
AA: Trade name “Karenz AOI” manufactured by Showa Denko KK
Contains 97% or more of 2-acryloyloxyethyl isocyanate.
MM: Trade name “Karenz MOI” manufactured by Showa Denko KK
Contains 97% or more of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate.
MA: Trade name “HOA-MA” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
The main component is 2-acryloyloxyethyl-succinic acid.
PA: Trade name “Light Acrylate P-1A” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
Mainly composed of 2-acryloyloxyethyl acid phosphate.
HM: Kyoeisha Chemical Co., Ltd. trade name “Light Ester HOP”
The main component is 2-hydroxypropyl methacrylate.
EM: Trade name “Light Ester HO-250” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
Mainly 2-hydroxyethyl methacrylate.
EA: Trade name “Light Ester HOA” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
The main component is 2-hydroxyethyl acrylate.
BA: Trade name “Light Acrylate HOB-A” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
Mainly composed of 2-hydroxybutyl acrylate.
MMA: Trade name “Light Ester M” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
Mainly methyl methacrylate.
PHA: Trade name “Light Acrylate PO-A” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
The main component is phenoxyethyl acrylate.

Figure 2011033798
Figure 2011033798

Figure 2011033798
Figure 2011033798

1 ポリ乳酸を含む材料からなる保護フィルム
2 接着層
3 偏光層
4 接着層
5 ポリ乳酸を含む材料からなる保護フィルム
6 偏光板
21 ポリ乳酸を含む材料からなる保護フィルム
22 接着層
23 偏光層
24 接着層
25 ポリ乳酸を含まない材料からなる保護フィルム
26 偏光板
31 ポリ乳酸を含む材料からなる保護フィルム
32 接着層
33 偏光層
34 偏光板
41 偏光板
42 粘着層
43 液晶セル
44 粘着層
45 偏光板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Protective film made of material containing polylactic acid 2 Adhesive layer 3 Polarizing layer 4 Adhesive layer 5 Protective film made of material containing polylactic acid 6 Polarizing plate 21 Protective film made of material containing polylactic acid 22 Adhesive layer 23 Polarizing layer 24 Adhesive Layer 25 Protective film 26 made of a material not containing polylactic acid Polarizing plate 31 Protective film 32 made of a material containing polylactic acid Adhesive layer 33 Polarizing layer 34 Polarizing plate 41 Polarizing plate 42 Adhesive layer 43 Liquid crystal cell 44 Adhesive layer 45 Polarizing plate

Claims (11)

偏光膜の少なくとも片面にポリ乳酸を含む材料からなる保護フィルムが接着剤層を介して積層された偏光板であって、前記接着剤層が下記式(1)を含む放射線硬化型組成物を硬化させたものであることを特徴とする偏光板。
Figure 2011033798
(式(1)中、nは1または2を表し、R20は水素原子またはメチル基を表し、R21は炭素原子数1〜10のアルキレン基(該アルキレン基中に存在する1個または2個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立に酸素原子、−CO−、−COO−又は−OCO−で置換されていても良く、該アルキレン基中に存在する1個又は2個以上の水素原子はそれぞれ水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基、アルデヒド基、リン酸基で置換されている。)を表す。)
A polarizing plate in which a protective film made of a material containing polylactic acid is laminated on at least one surface of a polarizing film via an adhesive layer, and the adhesive layer cures a radiation curable composition containing the following formula (1) A polarizing plate characterized by being made.
Figure 2011033798
(In the formula (1), n represents 1 or 2, R 20 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 21 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (1 or 2 present in the alkylene group). One or more methylene groups may be each independently substituted with an oxygen atom, —CO—, —COO— or —OCO—, as oxygen atoms are not directly bonded to each other, and are present in the alkylene group. 1 or 2 or more hydrogen atoms are each substituted with a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, an aldehyde group, or a phosphate group.)
ポリ乳酸が、ポリD−乳酸成分及びポリL−乳酸成分からなるポリ乳酸であり、ステレオコンプレックス結晶化度(S)が90%以上である、請求項1記載の偏光板。
{ステレオコンプレックス結晶化度(S)は示差走査熱量計(DSC)測定で、190℃
未満に観測されるポリ乳酸ホモ結晶融解熱(ΔHmh)、190℃以上に観測されるポリ乳酸ステレオコンプレックス結晶融解熱(ΔHmsc)より次式(i)により求めた。
(S)=〔ΔHmsc/(ΔHmh+ΔHmsc)〕×100 (i)}
The polarizing plate according to claim 1, wherein the polylactic acid is a polylactic acid composed of a poly-D-lactic acid component and a poly-L-lactic acid component, and the stereocomplex crystallinity (S) is 90% or more.
{Stereocomplex crystallinity (S) is 190 ° C measured by differential scanning calorimetry (DSC)
The polylactic acid homocrystal melting heat (ΔHmh) observed below and the polylactic acid stereocomplex crystal melting heat (ΔHmsc) observed at 190 ° C. or higher were obtained by the following formula (i).
(S) = [ΔHmsc / (ΔHmh + ΔHmsc)] × 100 (i)}
ポリ乳酸の下記式(2)で表される末端基のバルク平均濃度が、偏光膜側の接着界面近傍における末端基濃度よりも低い、請求項1または2記載の偏光板。
Figure 2011033798
The polarizing plate of Claim 1 or 2 whose bulk average density | concentration of the terminal group represented by following formula (2) of polylactic acid is lower than the terminal group density | concentration in the adhesive interface vicinity in the polarizing film side.
Figure 2011033798
ポリ乳酸を含む材料が、ポリ乳酸を40重量%以上含有する、請求項1〜3のいずれか記載の偏光板。   The polarizing plate according to claim 1, wherein the material containing polylactic acid contains 40% by weight or more of polylactic acid. ポリ乳酸を含む材料が、ポリメタクリル酸メチルを50重量%以下含有する、請求項1〜4のいずれか記載の偏光板。   The polarizing plate according to claim 1, wherein the material containing polylactic acid contains 50% by weight or less of polymethyl methacrylate. 接着剤層に光開始剤が含まれる、請求項1〜5のいずれか記載の偏光板。   The polarizing plate in any one of Claims 1-5 in which a photoinitiator is contained in an adhesive bond layer. 光開始剤が波長380nm以上の光により重合反応開始可能な剤である、請求項4記載の偏光板。   The polarizing plate according to claim 4, wherein the photoinitiator is an agent capable of initiating a polymerization reaction by light having a wavelength of 380 nm or more. 偏光膜に貼り合わせた保護フィルムに紫外線吸収剤を含む、請求項1〜7のいずれか記載の偏光板。   The polarizing plate according to claim 1, wherein the protective film bonded to the polarizing film contains an ultraviolet absorber. 放射線硬化型組成物が下記式(3)で表される、請求項1〜8のいずれか記載の偏光板。
Figure 2011033798
(式(3)中、R22は水素原子またはメチル基を表し、R23は炭素原子数2〜5のアルキレン基(該アルキレン基中に存在する1個のメチレン基は、−OCO−で置換されていても良く、該アルキレン基中に存在する1個の水素原子はそれぞれ水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基、リン酸基で置換されている。)を表す。)
The polarizing plate according to claim 1, wherein the radiation curable composition is represented by the following formula (3).
Figure 2011033798
(In the formula (3), R 22 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 23 represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms (one methylene group present in the alkylene group is substituted with —OCO—). And each hydrogen atom present in the alkylene group is substituted with a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, or a phosphoric acid group.)
ポリ乳酸を含む材料からなる保護フィルムと偏光膜とを予め形成し、下記式(1)を含む放射線硬化型組成物を介在させて貼り合わせた後、実質的に波長270nm以下の光が照射されないように放射線硬化型組成物を硬化させる、偏光板の製造方法。
Figure 2011033798
(式(1)中、nは1または2を表し、R20は水素原子またはメチル基を表し、R21は炭素原子数1〜10のアルキレン基(該アルキレン基中に存在する1個または2個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立に酸素原子、−CO−、−COO−又は−OCO−で置換されていても良く、該アルキレン基中に存在する1個又は2個以上の水素原子はそれぞれ水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基、アルデヒド基、リン酸基で置換されている。)を表す。)
A protective film made of a material containing polylactic acid and a polarizing film are formed in advance and bonded together with a radiation curable composition containing the following formula (1) interposed therebetween, and substantially no light having a wavelength of 270 nm or less is irradiated. The manufacturing method of a polarizing plate which cures a radiation hardening type composition like this.
Figure 2011033798
(In the formula (1), n represents 1 or 2, R 20 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 21 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (1 or 2 present in the alkylene group). One or more methylene groups may be each independently substituted with an oxygen atom, —CO—, —COO— or —OCO—, as oxygen atoms are not directly bonded to each other, and are present in the alkylene group. 1 or 2 or more hydrogen atoms are each substituted with a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, an aldehyde group, or a phosphate group.)
請求項1〜9のいずれか記載の偏光板を用いた液晶表示装置。   The liquid crystal display device using the polarizing plate in any one of Claims 1-9.
JP2009179447A 2009-07-31 2009-07-31 Polarizing plate, method for manufacturing the same, and liquid crystal display device using the polarizing plate Pending JP2011033798A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009179447A JP2011033798A (en) 2009-07-31 2009-07-31 Polarizing plate, method for manufacturing the same, and liquid crystal display device using the polarizing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009179447A JP2011033798A (en) 2009-07-31 2009-07-31 Polarizing plate, method for manufacturing the same, and liquid crystal display device using the polarizing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011033798A true JP2011033798A (en) 2011-02-17

Family

ID=43762940

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009179447A Pending JP2011033798A (en) 2009-07-31 2009-07-31 Polarizing plate, method for manufacturing the same, and liquid crystal display device using the polarizing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011033798A (en)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102269838A (en) * 2011-07-23 2011-12-07 明基材料有限公司 Polaroid and manufacturing method thereof
JP2014065806A (en) * 2012-09-25 2014-04-17 Tamura Seisakusho Co Ltd Ultraviolet curable transparent resin composition
CN104160308A (en) * 2012-03-09 2014-11-19 住友化学株式会社 Polarization plate manufacturing method
CN104714267A (en) * 2013-12-11 2015-06-17 优志旺电机株式会社 Grid polarizing element
CN104749676A (en) * 2013-12-26 2015-07-01 优志旺电机株式会社 Grid Polarizing Element, Ultraviolet Polarized Light Irradiation Method And Device, And Light Orientation Device
CN106054400A (en) * 2016-07-26 2016-10-26 上海理工大学 Terahertz polarization beam splitting silicon grating for 1THz wave band
CN106068469A (en) * 2014-03-11 2016-11-02 优志旺电机株式会社 Grid polarizer and light aligning device
CN106066505A (en) * 2015-12-29 2016-11-02 Toray化学有限公司 Complex reflex light polarizing film
CN106199813A (en) * 2016-08-30 2016-12-07 上海理工大学 A kind of preparation method of micro-nano structure modulation microsphere lens concentrating element
CN106646696A (en) * 2017-03-15 2017-05-10 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 Dual-band visible light broadband absorption structure and preparation method thereof
WO2019132009A1 (en) * 2017-12-28 2019-07-04 凸版印刷株式会社 Dimming sheet and dimming window

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102269838A (en) * 2011-07-23 2011-12-07 明基材料有限公司 Polaroid and manufacturing method thereof
CN104160308A (en) * 2012-03-09 2014-11-19 住友化学株式会社 Polarization plate manufacturing method
JP2014065806A (en) * 2012-09-25 2014-04-17 Tamura Seisakusho Co Ltd Ultraviolet curable transparent resin composition
CN104714267A (en) * 2013-12-11 2015-06-17 优志旺电机株式会社 Grid polarizing element
CN104749676B (en) * 2013-12-26 2018-08-14 优志旺电机株式会社 Grid polarizer, ultraviolet light polarizing light irradiation method and device, light orientation device
CN104749676A (en) * 2013-12-26 2015-07-01 优志旺电机株式会社 Grid Polarizing Element, Ultraviolet Polarized Light Irradiation Method And Device, And Light Orientation Device
CN106068469A (en) * 2014-03-11 2016-11-02 优志旺电机株式会社 Grid polarizer and light aligning device
CN106066505B (en) * 2015-12-29 2019-09-03 Toray化学有限公司 Complex reflex light polarizing film
CN106066505A (en) * 2015-12-29 2016-11-02 Toray化学有限公司 Complex reflex light polarizing film
CN106054400A (en) * 2016-07-26 2016-10-26 上海理工大学 Terahertz polarization beam splitting silicon grating for 1THz wave band
CN106054400B (en) * 2016-07-26 2019-01-15 上海理工大学 Terahertz polarization beam splitting silicon grating for 1THz wave band
CN106199813B (en) * 2016-08-30 2019-01-01 上海理工大学 A kind of preparation method of micro-nano structure modulation microsphere lens concentrating element
CN106199813A (en) * 2016-08-30 2016-12-07 上海理工大学 A kind of preparation method of micro-nano structure modulation microsphere lens concentrating element
CN106646696A (en) * 2017-03-15 2017-05-10 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 Dual-band visible light broadband absorption structure and preparation method thereof
CN106646696B (en) * 2017-03-15 2019-04-05 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 A kind of biobelt visible light broadband absorption structure and preparation method thereof
WO2019132009A1 (en) * 2017-12-28 2019-07-04 凸版印刷株式会社 Dimming sheet and dimming window
JPWO2019132009A1 (en) * 2017-12-28 2020-07-27 凸版印刷株式会社 Light control sheet and light control window
JP7024801B2 (en) 2017-12-28 2022-02-24 凸版印刷株式会社 Dimming sheet and dimming window
JP2022068259A (en) * 2017-12-28 2022-05-09 凸版印刷株式会社 Dimming sheet and dimming window
US11442322B2 (en) 2017-12-28 2022-09-13 Toppan Printing Co., Ltd. Light control sheet and light control window
JP7222438B2 (en) 2017-12-28 2023-02-15 凸版印刷株式会社 Light control sheet and light control window

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011033798A (en) Polarizing plate, method for manufacturing the same, and liquid crystal display device using the polarizing plate
KR101859237B1 (en) Film
JP6278947B2 (en) Laminate
US8647738B2 (en) Film
US9745446B2 (en) Resin composition
JP5647254B2 (en) Stereocomplex polylactic acid film and resin composition
WO2012140807A1 (en) Oriented laminated film
JP2011245788A (en) Multilayer film and polarizing plate using the same
JP5529456B2 (en) Polylactic acid film and method for producing the same
JP5654258B2 (en) Resin film, decorative film made of it, and decorative molded product
JP2006301047A (en) Polarizing plate protective film
JP2012101449A (en) Polylactic acid film
JP2009249583A (en) Polylactic acid composition and molding
JP5679691B2 (en) Resin film, decorative film made of it, and decorative molded product
JP2013216016A (en) Multilayer film
JP2011162713A (en) White biaxially oriented polylactic acid film
JP5662004B2 (en) Optical polylactic acid film and method for producing the same
JP5829382B2 (en) Multilayer film
JP2006276235A (en) Crosslinked polylactic acid resin composition for optical material
JP5679700B2 (en) Aliphatic polyester film for optics
JP2006243610A (en) Optical retardation film
JP6404053B2 (en) Imide structure-containing (meth) acrylic resin
JP2010181560A (en) Polylactic acid film for optical use and method for manufacturing the same
JP5710896B2 (en) Transparent conductive laminate
JP2011184662A (en) Resin composition and film

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20110704

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20110704