JP2011184662A - Resin composition and film - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition giving a film suitable for an optical film such as a polarizing plate protective film and a retardation film, and to provide a film formed from the composition. <P>SOLUTION: The resin composition contains an aliphatic polyester resin, an acrylic resin and a compound containing at least a cyclic structure having one carbodiimide group, wherein the first nitrogen and the second nitrogen thereof are bonded by bonding groups. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、偏光板保護フィルムや位相差フィルム等の光学フィルムに適したフィルムを与えることのできる樹脂組成物およびこれよりなるフィルムに関する。   The present invention relates to a resin composition capable of providing a film suitable for an optical film such as a polarizing plate protective film and a retardation film, and a film comprising the same.

近年、地球環境保全の見地から、自然環境下で分解される生分解性ポリマーが注目されており、様々な生分解性ポリマーが開発されている。なかでも、ポリ乳酸は、透明性が良好で、溶融成形可能であり、バイオマスを原料とし微生物を利用した発酵法により、経済的に製造できるようになり光学材料としての利用が期待されている。   In recent years, biodegradable polymers that are decomposed in a natural environment have attracted attention from the viewpoint of global environmental conservation, and various biodegradable polymers have been developed. Among them, polylactic acid has good transparency, can be melt-molded, can be produced economically by fermentation using biomass as a raw material, and is expected to be used as an optical material.

また最近、例えばディスプレイ市場の拡大に伴い、画像をより鮮明に見たいという要求が高まっており、単なる透明性に加え、より高度な光学特性が付与された材料が求められている。   Recently, for example, with the expansion of the display market, there is an increasing demand for a clearer image, and there is a demand for a material with higher optical properties in addition to simple transparency.

一般にポリマーは分子主鎖方向とそれに垂直な方向とで屈折率が異なるため複屈折を生じる。用途によっては、複屈折を厳密にコントロールすることが求められており、液晶の偏光板に用いられる偏光板保護フィルムの場合は、複屈折が小さいことが求められる。   In general, a polymer generates birefringence because its refractive index is different between the molecular main chain direction and the direction perpendicular thereto. Depending on the application, it is required to strictly control birefringence, and in the case of a polarizing plate protective film used for a polarizing plate of liquid crystal, low birefringence is required.

偏光板保護フィルムとして、これまでトリアセチルセルロース(TAC)フィルムが多く用いられて来た。近年、大型液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の各種ディスプレイが普及するのに伴い、必要なフィルムも大型化し、複屈折の変動の分布を小さくする必要性が大きくなって来た。このため外力による複屈折の変化が小さく、加熱時の寸法安定性が良好で、熱応力による複屈折の変化が小さい材料が求められている。即ち、光弾性係数が低く、熱収縮率が低い光学材料が求められている。   As a polarizing plate protective film, a triacetyl cellulose (TAC) film has been often used so far. In recent years, with the widespread use of various types of displays such as large liquid crystal displays and plasma displays, it has become necessary to increase the size of necessary films and reduce the distribution of fluctuations in birefringence. Therefore, there is a demand for a material that has a small change in birefringence due to an external force, good dimensional stability during heating, and a small change in birefringence due to thermal stress. That is, an optical material having a low photoelastic coefficient and a low thermal shrinkage rate is demanded.

光弾性係数の低い光学材料としては、前述のTACやメタクリル酸メチルの単独重合体(PMMA)が知られている。また、アモルファスポリオレフィン(APO)が知られている(非特許文献1)。しかしながら、これらの材料では、まだ外力による複屈折変化が大きいか、あるいは極性等が低すぎる問題がある。   As optical materials having a low photoelastic coefficient, homopolymers (PMMA) of the aforementioned TAC and methyl methacrylate are known. Further, amorphous polyolefin (APO) is known (Non-Patent Document 1). However, these materials still have a problem that the birefringence change due to external force is large or the polarity is too low.

この問題を解決するため、脂肪族ポリエステルとアクリル系樹脂とよりなる材料が提案されている。この材料よりなるフィルムの光弾性係数は−13×10−12/Paを超え12×10−12/Pa未満程度である(特許文献1参照)。 In order to solve this problem, a material comprising an aliphatic polyester and an acrylic resin has been proposed. The photoelastic coefficient of the film made of this material is more than −13 × 10 −12 / Pa and less than about 12 × 10 −12 / Pa (see Patent Document 1).

しかしながら、脂肪族ポリエステルは、高温多湿の雰囲気下での使用時に加水分解を起こしやすいという問題が知られており、このような環境下で用いる場合には、何等かの手段で耐加水分解性を向上させる必要がある。   However, aliphatic polyester is known to be prone to hydrolysis when used in a hot and humid atmosphere. When used in such an environment, the hydrolysis resistance is reduced by some means. There is a need to improve.

この、脂肪族ポリエステルの耐加水分解性を向上させるための技術として、カルボジイミド化合物を添加することが提案されている(特許文献2)。   As a technique for improving the hydrolysis resistance of the aliphatic polyester, it has been proposed to add a carbodiimide compound (Patent Document 2).

この提案において用いられているカルボジイミド化合物は、線状のカルボジイミド化合物であるが、この線上カルボジイミド化合物を高分子化合物の末端封止剤として用いると、カルボジイミド化合物が高分子化合物の末端に結合する反応に伴い、イソシアネート基を有する化合物が遊離し、イソシアネート化合物の独特の臭いを発生し、作業環境を悪化させることが問題となっている。   The carbodiimide compound used in this proposal is a linear carbodiimide compound, but when this on-line carbodiimide compound is used as a terminal blocker of a polymer compound, the carbodiimide compound binds to the terminal of the polymer compound. Along with this, there is a problem that the compound having an isocyanate group is liberated, a unique odor of the isocyanate compound is generated, and the working environment is deteriorated.

特開2006−227090号公報JP 2006-227090 A 特開2003−003052号公報JP 2003-003052 A

化学総説、No.39、1998(学会出版センター発行)Chemical Review, No. 39, 1998 (published by Academic Publishing Center)

本発明の目的は、上記従来技術が有していた問題点を解消し、作業環境を悪化させることがなく、耐加水分解性が改善され、光学用途に適したフィルムを与えることのできる樹脂組成物およびこれよりなるフィルムを提供することにある。   The object of the present invention is to eliminate the problems of the prior art, improve the hydrolysis resistance without deteriorating the working environment, and provide a resin composition that can provide a film suitable for optical applications. And a film comprising the same.

本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成した。即ち、本発明の目的は、
脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)、アクリル系樹脂(B成分)、カルボジイミド基を1個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物(C成分)とを含む樹脂組成物により達成される。
また、本発明の他の目的は、上記組成物よりなるフィルムによって達成することができる。
As a result of intensive studies, the present inventors have completed the present invention. That is, the object of the present invention is to
Aliphatic polyester resin (component A), acrylic resin (component B), compound having at least a cyclic structure in which one carbodiimide group is bonded to the first nitrogen and the second nitrogen by a bonding group (C Component).
Moreover, the other objective of this invention can be achieved by the film which consists of the said composition.

本発明によれば、作業環境を悪化させることがなく、耐加水分解性が改善され、光学用途に適したフィルムを与えることのできる樹脂組成物およびこれよりなるフィルムを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a resin composition capable of providing a film suitable for optical applications and a film comprising the resin composition, with improved hydrolysis resistance without deteriorating the working environment.

以下、本発明を詳細に説明する。
<C成分>
まず、本発明において特徴的な成分である、カルボジイミド基を1個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物(C成分)について説明する。C成分は環状構造を有する(以下、C成分を環状カルボジイミド化合物と略記することがある。)。環状カルボジイミド化合物は、環状構造を複数有していてもよい。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
<C component>
First, a compound (C component) that is a characteristic component in the present invention and includes at least a cyclic structure in which one carbodiimide group is included and the first nitrogen and the second nitrogen are bonded by a bonding group will be described. The C component has a cyclic structure (hereinafter, the C component may be abbreviated as a cyclic carbodiimide compound). The cyclic carbodiimide compound may have a plurality of cyclic structures.

ここで環状構造は、カルボジイミド基(−N=C=N−)を1個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されて形成している。一つの環状構造中には、1個のカルボジイミド基のみを有する。環状構造中の原子数は、好ましくは8〜50、より好ましくは10〜30、さらに好ましくは10〜20、特に、10〜15が好ましい。   Here, the cyclic structure has one carbodiimide group (—N═C═N—), and the first nitrogen and the second nitrogen are bonded by a bonding group. One cyclic structure has only one carbodiimide group. The number of atoms in the cyclic structure is preferably 8 to 50, more preferably 10 to 30, further preferably 10 to 20, and particularly preferably 10 to 15.

ここで、環状構造中の原子数とは、環状構造を直接構成する原子の数を意味し、例えば、8員環であれば8、50員環であれば50である。環状構造中の原子数が8より小さいと、環状カルボジイミド化合物の安定性が低下して、保管、使用が困難となる場合があるためである。また反応性の観点よりは環員数の上限値に関しては特別の制限はないが、50を超える原子数の環状カルボジイミド化合物は合成上困難となり、コストが大きく上昇する場合が発生するためである。かかる観点より環状構造中の原子数は好ましくは、10〜30、より好ましくは10〜20、特に好ましくは10〜15の範囲が選択される。   Here, the number of atoms in the cyclic structure means the number of atoms that directly constitute the cyclic structure. For example, it is 8 for an 8-membered ring and 50 for a 50-membered ring. This is because if the number of atoms in the cyclic structure is smaller than 8, the stability of the cyclic carbodiimide compound is lowered, and it may be difficult to store and use. From the viewpoint of reactivity, there is no particular restriction on the upper limit of the number of ring members, but cyclic carbodiimide compounds having more than 50 atoms are difficult to synthesize, and the cost may increase significantly. From this viewpoint, the number of atoms in the cyclic structure is preferably 10-30, more preferably 10-20, and particularly preferably 10-15.

環状構造は、下記式(1)で表される構造であることが好ましい。

Figure 2011184662
The cyclic structure is preferably a structure represented by the following formula (1).
Figure 2011184662

式中、Qは、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである2〜4価の結合基である。ヘテロ原子とはこの場合、O、N、S、Pを指す。この結合基の価のうち2つの価は環状構造を形成するために使用される。Qが3価あるいは4価の結合基である場合、単結合、二重結合、原子、原子団を介して、ポリマーあるいは他の環状構造と結合している。   In the formula, Q is a divalent to tetravalent linking group that is an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, or a combination thereof, each of which may contain a hetero atom and a substituent. A heteroatom in this case refers to O, N, S, P. Two of the valences of this linking group are used to form a cyclic structure. When Q is a trivalent or tetravalent linking group, it is bonded to a polymer or other cyclic structure via a single bond, a double bond, an atom, or an atomic group.

結合基は、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、2〜4価の炭素数1〜20の脂肪族基、2〜4価の炭素数3〜20の脂環族基、2〜4価の炭素数5〜15の芳香族基またはこれらの組み合わせであり、上記で規定される環状構造を形成するための必要炭素数を有する結合基が選択される。組み合わせの例としては、アルキレン基とアリーレン基が結合した、アルキレン−アリーレン基のような構造などが挙げられる。   The linking group may include a heteroatom and a substituent, each having a divalent to tetravalent carbon number of 1 to 20 aliphatic group, a divalent to tetravalent carbon number of 3 to 20 alicyclic group, A linking group which is a tetravalent aromatic group having 5 to 15 carbon atoms or a combination thereof and has a necessary number of carbon atoms to form the cyclic structure defined above is selected. Examples of combinations include structures such as an alkylene-arylene group in which an alkylene group and an arylene group are bonded.

結合基(Q)は、下記式(1−1)、(1−2)または(1−3)で表される2〜4価の結合基であることが好ましい。

Figure 2011184662
The linking group (Q) is preferably a divalent to tetravalent linking group represented by the following formula (1-1), (1-2) or (1-3).
Figure 2011184662

式中、ArおよびArは各々独立に、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、2〜4価の炭素数5〜15の芳香族基である。 In the formula, Ar 1 and Ar 2 are each independently a 2- to 4-valent aromatic group having 5 to 15 carbon atoms which may contain a hetero atom and a substituent.

芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数5〜15のアリーレン基、炭素数5〜15のアレーントリイル基、炭素数5〜15のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基(2価)として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基(3価)として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基(4価)として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   As an aromatic group, each of which contains a hetero atom and may have a heterocyclic structure, an arylene group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetriyl group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetetra having 5 to 15 carbon atoms Yl group. Examples of the arylene group (divalent) include a phenylene group and a naphthalenediyl group. Examples of the arenetriyl group (trivalent) include a benzenetriyl group and a naphthalenetriyl group. Examples of the arenetetrayl group (tetravalent) include a benzenetetrayl group and a naphthalenetetrayl group. These aromatic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

およびRは各々独立に、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、2〜4価の炭素数1〜20の脂肪族基、2〜4価の炭素数3〜20の脂環族基、およびこれらの組み合わせ、またはこれら脂肪族基、脂環族基と2〜4価の炭素数5〜15の芳香族基の組み合わせである。 R 1 and R 2 each independently contain a heteroatom and a substituent, each having 2 to 4 valent aliphatic groups having 1 to 20 carbon atoms and 2 to 4 valent fatty acids having 3 to 20 carbon atoms A cyclic group, and a combination thereof, or a combination of the aliphatic group, the alicyclic group, and a divalent to tetravalent aromatic group having 5 to 15 carbon atoms.

脂肪族基として、炭素数1〜20のアルキレン基、炭素数1〜20のアルカントリイル基、炭素数1〜20のアルカンテトライル基などが挙げられる。アルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基、へキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ドデカントリイル基、ヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ブタンテトライル基、ペンタンテトライル基、ヘキサンテトライル基、ヘプタンテトライル基、オクタンテトライル基、ノナンテトライル基、デカンテトライル基、ドデカンテトライル基、ヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂肪族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   Examples of the aliphatic group include an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an alkanetriyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkanetetrayl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, a heptylene group, an octylene group, a nonylene group, a decylene group, a dodecylene group, and a hexadecylene group. As the alkanetriyl group, methanetriyl group, ethanetriyl group, propanetriyl group, butanetriyl group, pentanetriyl group, hexanetriyl group, heptanetriyl group, octanetriyl group, nonanetriyl group, decantriyl group, dodecantriyl group, Examples include a hexadecantriyl group. As alkanetetrayl group, methanetetrayl group, ethanetetrayl group, propanetetrayl group, butanetetrayl group, pentanetetrayl group, hexanetetrayl group, heptanetetrayl group, octanetetrayl group, nonanetetrayl group Decanetetrayl group, dodecanetetrayl group, hexadecanetetrayl group and the like. These aliphatic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

脂環族基として、炭素数3〜20のシクロアルキレン基、炭素数3〜20のシクロアルカントリイル基、炭素数3〜20のシクロアルカンテトライル基が挙げられる。シクロアルキレン基として、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロへプチレン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基、シクロデシレン基、シクロドデシレン基、シクロへキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、シクロプロパントリイル基、シクロブタントリイル基、シクロペンタントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロヘプタントリイル基、シクロオクタントリイル基、シクロノナントリイル基、シクロデカントリイル基、シクロドデカントリイル基、シクロヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、シクロプロパンテトライル基、シクロブタンテトライル基、シクロペンタンテトライル基、シクロヘキサンテトライル基、シクロヘプタンテトライル基、シクロオクタンテトライル基、シクロノナンテトライル基、シクロデカンテトライル基、シクロドデカンテトライル基、シクロヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂環族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   Examples of the alicyclic group include a cycloalkylene group having 3 to 20 carbon atoms, a cycloalkanetriyl group having 3 to 20 carbon atoms, and a cycloalkanetetrayl group having 3 to 20 carbon atoms. Examples of the cycloalkylene group include a cyclopropylene group, a cyclobutylene group, a cyclopentylene group, a cyclohexylene group, a cycloheptylene group, a cyclooctylene group, a cyclononylene group, a cyclodecylene group, a cyclododecylene group, and a cyclohexadecylene group. As the alkanetriyl group, cyclopropanetriyl group, cyclobutanetriyl group, cyclopentanetriyl group, cyclohexanetriyl group, cycloheptanetriyl group, cyclooctanetriyl group, cyclononanetriyl group, cyclodecanetriyl group , Cyclododecanetriyl group, cyclohexadecanetriyl group and the like. As the alkanetetrayl group, cyclopropanetetrayl group, cyclobutanetetrayl group, cyclopentanetetrayl group, cyclohexanetetrayl group, cycloheptanetetrayl group, cyclooctanetetrayl group, cyclononanetetrayl group, cyclodecanetetrayl group Group, cyclododecanetetrayl group, cyclohexadecanetetrayl group and the like. These alicyclic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数5〜15のアリーレン基、炭素数5〜15のアレーントリイル基、炭素数5〜15のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基(3価)として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基(4価)として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これら芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   As an aromatic group, each of which contains a hetero atom and may have a heterocyclic structure, an arylene group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetriyl group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetetra having 5 to 15 carbon atoms Yl group. Examples of the arylene group include a phenylene group and a naphthalenediyl group. Examples of the arenetriyl group (trivalent) include a benzenetriyl group and a naphthalenetriyl group. Examples of the arenetetrayl group (tetravalent) include a benzenetetrayl group and a naphthalenetetrayl group. These aromatic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

上記式(1−1)、(1−2)においてXおよびXは各々独立に、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、2〜4価の炭素数1〜20の脂肪族基、2〜4価の炭素数3〜20の脂環族基、2〜4価の炭素数5〜15の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。 In the above formulas (1-1) and (1-2), X 1 and X 2 are each independently a divalent to tetravalent C 1-20 aliphatic optionally containing a hetero atom and a substituent. Group, a C2-C20 alicyclic group having 2 to 4 carbon atoms, a C2-C15 aromatic group having 2 to 4 carbon atoms, or a combination thereof.

脂肪族基として、炭素数1〜20のアルキレン基、炭素数1〜20のアルカントリイル基、炭素数1〜20のアルカンテトライル基などが挙げられる。アルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基、へキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ドデカントリイル基、ヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ブタンテトライル基、ペンタンテトライル基、ヘキサンテトライル基、ヘプタンテトライル基、オクタンテトライル基、ノナンテトライル基、デカンテトライル基、ドデカンテトライル基、ヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂肪族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   Examples of the aliphatic group include an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an alkanetriyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkanetetrayl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, a heptylene group, an octylene group, a nonylene group, a decylene group, a dodecylene group, and a hexadecylene group. As the alkanetriyl group, methanetriyl group, ethanetriyl group, propanetriyl group, butanetriyl group, pentanetriyl group, hexanetriyl group, heptanetriyl group, octanetriyl group, nonanetriyl group, decantriyl group, dodecantriyl group, Examples include a hexadecantriyl group. As alkanetetrayl group, methanetetrayl group, ethanetetrayl group, propanetetrayl group, butanetetrayl group, pentanetetrayl group, hexanetetrayl group, heptanetetrayl group, octanetetrayl group, nonanetetrayl group Decanetetrayl group, dodecanetetrayl group, hexadecanetetrayl group and the like. These aliphatic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

脂環族基として、炭素数3〜20のシクロアルキレン基、炭素数3〜20のシクロアルカントリイル基、炭素数3〜20のシクロアルカンテトライル基が挙げられる。シクロアルキレン基として、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロへプチレン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基、シクロデシレン基、シクロドデシレン基、シクロへキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、シクロプロパントリイル基、シクロブタントリイル基、シクロペンタントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロヘプタントリイル基、シクロオクタントリイル基、シクロノナントリイル基、シクロデカントリイル基、シクロドデカントリイル基、シクロヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、シクロプロパンテトライル基、シクロブタンテトライル基、シクロペンタンテトライル基、シクロヘキサンテトライル基、シクロヘプタンテトライル基、シクロオクタンテトライル基、シクロノナンテトライル基、シクロデカンテトライル基、シクロドデカンテトライル基、シクロヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂環族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   Examples of the alicyclic group include a cycloalkylene group having 3 to 20 carbon atoms, a cycloalkanetriyl group having 3 to 20 carbon atoms, and a cycloalkanetetrayl group having 3 to 20 carbon atoms. Examples of the cycloalkylene group include a cyclopropylene group, a cyclobutylene group, a cyclopentylene group, a cyclohexylene group, a cycloheptylene group, a cyclooctylene group, a cyclononylene group, a cyclodecylene group, a cyclododecylene group, and a cyclohexadecylene group. As the alkanetriyl group, cyclopropanetriyl group, cyclobutanetriyl group, cyclopentanetriyl group, cyclohexanetriyl group, cycloheptanetriyl group, cyclooctanetriyl group, cyclononanetriyl group, cyclodecanetriyl group , Cyclododecanetriyl group, cyclohexadecanetriyl group and the like. As the alkanetetrayl group, cyclopropanetetrayl group, cyclobutanetetrayl group, cyclopentanetetrayl group, cyclohexanetetrayl group, cycloheptanetetrayl group, cyclooctanetetrayl group, cyclononanetetrayl group, cyclodecanetetrayl group Group, cyclododecanetetrayl group, cyclohexadecanetetrayl group and the like. These alicyclic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数5〜15のアリーレン基、炭素数5〜15のアレーントリイル基、炭素数5〜15のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基(3価)として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基(4価)として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   As an aromatic group, each of which contains a hetero atom and may have a heterocyclic structure, an arylene group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetriyl group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetetra having 5 to 15 carbon atoms Yl group. Examples of the arylene group include a phenylene group and a naphthalenediyl group. Examples of the arenetriyl group (trivalent) include a benzenetriyl group and a naphthalenetriyl group. Examples of the arenetetrayl group (tetravalent) include a benzenetetrayl group and a naphthalenetetrayl group. These aromatic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

上記式(1−1)、(1−2)においてs、kは0〜10の整数、好ましくは0〜3の整数、より好ましくは0〜1の整数である。s及びkが10を超えると、環状カルボジイミド化合物は合成上困難となり、コストが大きく上昇する場合が発生するためである。かかる観点より整数は好ましくは0〜3の範囲が選択される。なお、sまたはkが2以上であるとき、繰り返し単位としてのX、あるいはXが、他のX、あるいはXと異なっていてもよい。 In the above formulas (1-1) and (1-2), s and k are integers of 0 to 10, preferably 0 to 3, more preferably 0 to 1. This is because if s and k exceed 10, the cyclic carbodiimide compound is difficult to synthesize, and the cost may increase significantly. From this viewpoint, the integer is preferably selected in the range of 0 to 3. When s or k is 2 or more, X 1 or X 2 as a repeating unit may be different from other X 1 or X 2 .

上記式(1−3)においてXは、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、2〜4価の炭素数1〜20の脂肪族基、2〜4価の炭素数3〜20の脂環族基、2〜4価の炭素数5〜15の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。 In the above formula (1-3), X 3 may contain a heteroatom and a substituent, respectively, a divalent to tetravalent aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms, and a divalent to tetravalent carbon number of 3 to 20 Are alicyclic groups, divalent to tetravalent aromatic groups having 5 to 15 carbon atoms, or combinations thereof.

脂肪族基として、炭素数1〜20のアルキレン基、炭素数1〜20のアルカントリイル基、炭素数1〜20のアルカンテトライル基などが挙げられる。アルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基、へキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ドデカントリイル基、ヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ブタンテトライル基、ペンタンテトライル基、ヘキサンテトライル基、ヘプタンテトライル基、オクタンテトライル基、ノナンテトライル基、デカンテトライル基、ドデカンテトライル基、ヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これら脂肪族基は置換基を含んでいてもよく、置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   Examples of the aliphatic group include an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an alkanetriyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkanetetrayl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, a heptylene group, an octylene group, a nonylene group, a decylene group, a dodecylene group, and a hexadecylene group. As the alkanetriyl group, methanetriyl group, ethanetriyl group, propanetriyl group, butanetriyl group, pentanetriyl group, hexanetriyl group, heptanetriyl group, octanetriyl group, nonanetriyl group, decantriyl group, dodecantriyl group, Examples include a hexadecantriyl group. As alkanetetrayl group, methanetetrayl group, ethanetetrayl group, propanetetrayl group, butanetetrayl group, pentanetetrayl group, hexanetetrayl group, heptanetetrayl group, octanetetrayl group, nonanetetrayl group Decanetetrayl group, dodecanetetrayl group, hexadecanetetrayl group and the like. These aliphatic groups may contain a substituent, such as an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, or an ester group. , Ether group, aldehyde group and the like.

脂環族基として、炭素数3〜20のシクロアルキレン基、炭素数3〜20のシクロアルカントリイル基、炭素数3〜20のシクロアルカンテトライル基が挙げられる。シクロアルキレン基として、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロへプチレン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基、シクロデシレン基、シクロドデシレン基、シクロへキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、シクロプロパントリイル基、シクロブタントリイル基、シクロペンタントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロヘプタントリイル基、シクロオクタントリイル基、シクロノナントリイル基、シクロデカントリイル基、シクロドデカントリイル基、シクロヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、シクロプロパンテトライル基、シクロブタンテトライル基、シクロペンタンテトライル基、シクロヘキサンテトライル基、シクロヘプタンテトライル基、シクロオクタンテトライル基、シクロノナンテトライル基、シクロデカンテトライル基、シクロドデカンテトライル基、シクロヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これら脂環族基は置換基を含んでいてもよく、置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリーレン基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   Examples of the alicyclic group include a cycloalkylene group having 3 to 20 carbon atoms, a cycloalkanetriyl group having 3 to 20 carbon atoms, and a cycloalkanetetrayl group having 3 to 20 carbon atoms. Examples of the cycloalkylene group include a cyclopropylene group, a cyclobutylene group, a cyclopentylene group, a cyclohexylene group, a cycloheptylene group, a cyclooctylene group, a cyclononylene group, a cyclodecylene group, a cyclododecylene group, and a cyclohexadecylene group. As the alkanetriyl group, cyclopropanetriyl group, cyclobutanetriyl group, cyclopentanetriyl group, cyclohexanetriyl group, cycloheptanetriyl group, cyclooctanetriyl group, cyclononanetriyl group, cyclodecanetriyl group , Cyclododecanetriyl group, cyclohexadecanetriyl group and the like. As the alkanetetrayl group, cyclopropanetetrayl group, cyclobutanetetrayl group, cyclopentanetetrayl group, cyclohexanetetrayl group, cycloheptanetetrayl group, cyclooctanetetrayl group, cyclononanetetrayl group, cyclodecanetetrayl group Group, cyclododecanetetrayl group, cyclohexadecanetetrayl group and the like. These alicyclic groups may contain a substituent, such as an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, and an ester. Group, ether group, aldehyde group and the like.

芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数5〜15のアリーレン基、炭素数5〜15のアレーントリイル基、炭素数5〜15のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基(3価)として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基(4価)として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜15のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。   As an aromatic group, each of which contains a hetero atom and may have a heterocyclic structure, an arylene group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetriyl group having 5 to 15 carbon atoms, an arenetetra having 5 to 15 carbon atoms Yl group. Examples of the arylene group include a phenylene group and a naphthalenediyl group. Examples of the arenetriyl group (trivalent) include a benzenetriyl group and a naphthalenetriyl group. Examples of the arenetetrayl group (tetravalent) include a benzenetetrayl group and a naphthalenetetrayl group. These aromatic groups may be substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group, and an aldehyde group.

また、Ar、Ar、R、R、X、XおよびXはヘテロ原子を含有していてもよい、また、Qが2価の結合基であるときは、Ar、Ar、R、R、X、XおよびXは全て2価の基である。Qが3価の結合基であるときは、Ar、Ar、R、R、X、XおよびXの内の一つが3価の基である。Qが4価の結合基であるときは、Ar、Ar、R、R、X、XおよびXの内の一つが4価の基であるか、二つが3価の基である。 Ar 1 , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X 2 and X 3 may contain a hetero atom, and when Q is a divalent linking group, Ar 1 , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X 2 and X 3 are all divalent groups. When Q is a trivalent linking group, one of Ar 1 , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X 2 and X 3 is a trivalent group. When Q is a tetravalent linking group, one of Ar 1 , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X 2 and X 3 is a tetravalent group or two are trivalent It is a group.

本発明で用いる環状カルボジイミド化合物として、以下(a)〜(c)で表される化合物が挙げられる。
<環状カルボジイミド化合物(a)>
本発明で用いる環状カルボジイミド化合物として下記式(2)で表される化合物(以下、「環状カルボジイミド化合物(a)」ということがある。)を挙げることができる。
Examples of the cyclic carbodiimide compound used in the present invention include compounds represented by (a) to (c) below.
<Cyclic carbodiimide compound (a)>
Examples of the cyclic carbodiimide compound used in the present invention include a compound represented by the following formula (2) (hereinafter sometimes referred to as “cyclic carbodiimide compound (a)”).

Figure 2011184662
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式中、Qは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである2価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。脂肪族基、脂環族基、芳香族基は、式(1)で説明したものと同じである。但し、式(2)の化合物においては、脂肪族基、脂環族基、芳香族基は全て2価である。Qは、下記式(2−1)、(2−2)または(2−3)で表される2価の結合基であることが好ましい。 Wherein, Q a is an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group or a divalent linking group which is a combination of these, it may contain a heteroatom. The aliphatic group, alicyclic group, and aromatic group are the same as those described in Formula (1). However, in the compound of formula (2), the aliphatic group, alicyclic group, and aromatic group are all divalent. Q a is preferably a divalent linking group represented by the following formula (2-1), (2-2) or (2-3).

Figure 2011184662
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式中、Ar 、Ar 、R 、R 、X 、X 、X 、sおよびkは、各々式(1−1)〜(1−3)中のAr、Ar、R、R、X、X、X、sおよびkと同じである。但し、これらは全て2価である。 In the formula, Ar a 1 , Ar a 2 , R a 1 , R a 2 , X a 1 , X a 2 , X a 3 , s and k are represented by formulas (1-1) to (1-3), respectively. Are the same as Ar 1 , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X 2 , X 3 , s and k. However, these are all divalent.

かかる環状カルボジイミド化合物(a)としては、以下の化合物が挙げられる。   Examples of the cyclic carbodiimide compound (a) include the following compounds.

Figure 2011184662
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<環状カルボジイミド化合物(b)>
さらに、本発明で用いる環状カルボジイミド化合物として下記式(3)で表される化合物(以下、「環状カルボジイミド化合物(b)」ということがある。)を挙げることができる。
<Cyclic carbodiimide compound (b)>
Furthermore, examples of the cyclic carbodiimide compound used in the present invention include a compound represented by the following formula (3) (hereinafter sometimes referred to as “cyclic carbodiimide compound (b)”).

Figure 2011184662
Figure 2011184662

式中、Qは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基、またはこれらの組み合わせである3価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。Yは、環状構造を担持する担体である。Qにおける脂肪族基、脂環族基、芳香族基は、式(1)で説明したものと同じである。但し、式(3)の化合物においては、Qを構成する基の内一つは3価である。
は、下記式(3−1)、(3−2)または(3−3)で表される3価の結合基であることが好ましい。
Wherein, Q b is an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group or a trivalent linking group combinations thereof, and may contain a hetero atom. Y is a carrier supporting a cyclic structure. Aliphatic group in Q b, alicyclic group, aromatic group are the same as those described in formula (1). However, in the compound of formula (3), the inner one of the group constituting the Q b is trivalent.
Q b is preferably a trivalent linking group represented by the following formula (3-1), (3-2) or (3-3).

Figure 2011184662
Figure 2011184662

式中、Ar 、Ar 、R 、R 、X 、X 、X 、sおよびkは、各々式(1−1)〜(1−3)のAr、Ar、R、R、X、X、X、sおよびkと同じである。但しこれらの内の一つは3価の基である。 In the formula, Ar b 1 , Ar b 2 , R b 1 , R b 2 , X b 1 , X b 2 , X b 3 , s and k are respectively represented by the formulas (1-1) to (1-3). The same as Ar 1 , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X 2 , X 3 , s and k. However, one of these is a trivalent group.

Yは、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーであることが好ましい。Yは結合部であり、複数の環状構造がYを介して結合し、式(3)で表される構造を形成している。   Y is preferably a single bond, a double bond, an atom, an atomic group or a polymer. Y is a bonding portion, and a plurality of cyclic structures are bonded via Y to form a structure represented by the formula (3).

かかる環状カルボジイミド化合物(b)としては、下記化合物が挙げられる。   Examples of the cyclic carbodiimide compound (b) include the following compounds.

Figure 2011184662
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Figure 2011184662
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<環状カルボジイミド化合物(c)>
本発明で用いる環状カルボジイミド化合物として下記式(4)で表される化合物(以下、「環状カルボジイミド化合物(c)」ということがある。)を挙げることができる。
<Cyclic carbodiimide compound (c)>
Examples of the cyclic carbodiimide compound used in the present invention include a compound represented by the following formula (4) (hereinafter sometimes referred to as “cyclic carbodiimide compound (c)”).

Figure 2011184662
Figure 2011184662

式中、Qは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである4価の結合基であり、ヘテロ原子を保有していてもよい。ZおよびZは、環状構造を担持する担体である。ZおよびZは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。 In the formula, Q c is a tetravalent linking group which is an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, or a combination thereof, and may have a hetero atom. Z 1 and Z 2 are carriers that support a cyclic structure. Z 1 and Z 2 may be bonded to each other to form a cyclic structure.

における脂肪族基、脂環族基、芳香族基は、式(1)で説明したものと同じである。但し、式(4)の化合物において、Qは4価である。従って、これらの基の内の一つが4価の基であるか、二つが3価の基である。 Aliphatic group in Q c, alicyclic group, aromatic group are the same as those described in formula (1). However, in the compound of formula (4), Q c is tetravalent. Accordingly, one of these groups is a tetravalent group or two are trivalent groups.

は、下記式(4−1)、(4−2)または(4−3)で表される4価の結合基であることが好ましい。 Q c is preferably a tetravalent linking group represented by the following formula (4-1), (4-2) or (4-3).

Figure 2011184662
Figure 2011184662

Ar 、Ar 、R 、R 、X 、X 、X 、sおよびkは、各々式(1−1)〜(1−3)の、Ar、Ar、R、R、X、X、X、sおよびkと同じである。但し、Ar 、Ar 、R 、R 、X 、X およびX は、これらの内の一つが4価の基であるか、二つが3価の基である。ZおよびZは各々独立に、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーであることが好ましい。ZおよびZは結合部であり、複数の環状構造がZおよびZを介して結合し、式(4)で表される構造を形成している。 Ar c 1 , Ar c 2 , R c 1 , R c 2 , X c 1 , X c 2 , X c 3 , s and k are each Ar 1 in formulas (1-1) to (1-3). , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X 2 , X 3 , s and k are the same. Provided that Ar c 1 , Ar c 2 , R c 1 , R c 2 , X c 1 , X c 2 and X c 3 are one of which is a tetravalent group or two of which are trivalent It is a group. Z 1 and Z 2 are preferably each independently a single bond, a double bond, an atom, an atomic group or a polymer. Z 1 and Z 2 are bonding portions, and a plurality of cyclic structures are bonded via Z 1 and Z 2 to form a structure represented by the formula (4).

かかる環状カルボジイミド化合物(c)としては、下記化合物を挙げることができる。

Figure 2011184662
Examples of the cyclic carbodiimide compound (c) include the following compounds.
Figure 2011184662

Figure 2011184662
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Figure 2011184662
Figure 2011184662

本発明において、環状カルボジイミド化合物の製造方法は特に限定無く、従来公知の方法により製造することができる。例として、アミン体からイソシアネート体を経由して製造する方法、アミン体からイソチオシアネート体を経由して製造する方法、アミン体からトリフェニルホスフィン体を経由して製造する方法、アミン体から尿素体を経由して製造する方法、アミン体からチオ尿素体を経由して製造する方法、カルボン酸体からイソシアネート体を経由して製造する方法、ラクタム体を誘導して製造する方法などが挙げられる。   In the present invention, the production method of the cyclic carbodiimide compound is not particularly limited and can be produced by a conventionally known method. For example, a method for producing an amine body via an isocyanate body, a method for producing an amine body via an isothiocyanate body, a method for producing an amine body via a triphenylphosphine body, a urea body from an amine body The method of manufacturing via a thiourea body, the method of manufacturing via a thiourea body, the method of manufacturing from a carboxylic acid body via an isocyanate body, the method of manufacturing a lactam body, etc. are mentioned.

また、本発明の環状カルボジイミド化合物は、以下の文献に記載された方法を組み合わせ、あるいは目的とする化合物に応じて適切に改変、組み合わせすることにより製造することができる。   Moreover, the cyclic carbodiimide compound of this invention can be manufactured by combining the method described in the following literature, or changing or combining suitably according to the target compound.

Tetrahedron Letters,Vol.34,No.32,515−5158,1993.
Medium−and Large−Membered Rings from Bis(iminophosphoranes):An Efficient Preparation of Cyclic Carbodiimides, Pedro Molina etal.
Journal of Organic Chemistry,Vol.61,No.13,4289−4299,1996.
New Models for the Study of the Racemization Mechanism of Carbodiimides.Synthesis and Structure(X−ray Crystallography and 1H NMR) of Cyclic Carbodiimides, Pedro Molina etal.
Journal of Organic Chemistry,Vol.43,No8,1944−1946,1978.
Macrocyclic Ureas as Masked Isocyanates, Henri Ulrich etal.
Journal of Organic Chemistry,Vol.48,No.10,1694−1700,1983.
Synthesis and Reactions of Cyclic Carbodiimides,R.Richteretal.
Journal of Organic Chemistry,Vol.59,No.24,7306−7315,1994.
A New and Efficient Preparation of Cyclic Carbodiimides from Bis(iminophosphoranea)and the System Boc2O/DMAP,Pedro Molina etal.
Tetrahedron Letters, Vol. 34, no. 32, 515-5158, 1993.
Medium- and Large-Membered Rings from Bis (iminophosphoranes): An Efficient Preparation of Cyclic Carbidiimides, Pedro Molina et al.
Journal of Organic Chemistry, Vol. 61, no. 13, 4289-4299, 1996.
New Models for the Study of the Racemization Mechanism of Carbodiimides. Synthesis and Structure (X-ray Crystallography and 1H NMR) of Cyclic Carbodiimides, Pedro Molina et al.
Journal of Organic Chemistry, Vol. 43, No8, 1944-1946, 1978.
Macrocyclic Ureas As Masked Isocynates, Henri Ulrich et al.
Journal of Organic Chemistry, Vol. 48, no. 10, 1694-1700, 1983.
Synthesis and Reactions of Cyclic Carbodiimides, R.A. Richter et al.
Journal of Organic Chemistry, Vol. 59, no. 24, 7306-7315, 1994.
A New and Efficient Preparation of Cyclic Carboxidimids from Bis (iminophosphoranea) and the System Boc2O / DMAP, Pedro Molina et al.

製造する化合物に応じて、適切な製法を採用すればよいが、例えば、(1)下記式(a−1)で表されるニトロフェノール類、下記式(a−2)で表されるニトロフェノール類および下記式(b)で表される化合物を反応させ、下記式(c)で表されるニトロ体を得る工程、   Depending on the compound to be produced, an appropriate production method may be employed. For example, (1) nitrophenols represented by the following formula (a-1), nitrophenols represented by the following formula (a-2) And a compound represented by the following formula (b) to obtain a nitro compound represented by the following formula (c),

Figure 2011184662
Figure 2011184662

Figure 2011184662
Figure 2011184662

(2)得られたニトロ体を還元して下記式(d)で表わされるアミン体を得る工程、

Figure 2011184662
(3)得られたアミン体とトリフェニルホスフィンジブロミドを反応させ下記式(e)で表されるトリフェニルホスフィン体を得る工程、および (2) A step of reducing the obtained nitro body to obtain an amine body represented by the following formula (d);
Figure 2011184662
(3) a step of reacting the obtained amine body with triphenylphosphine dibromide to obtain a triphenylphosphine body represented by the following formula (e); and

Figure 2011184662
(4)得られたトリフェニルホスフィン体を反応系中でイソシアネート化した後、直接脱炭酸させることによって製造したものは、本願発明に用いる環状カルボジイミド化合物として好適に用いることができる。
(上記式中、ArおよびArは各々独立に、炭素数1〜6のアルキル基またはフェニル基で置換されていてもよい芳香族基である。EおよびEは各々独立に、ハロゲン原子、トルエンスルホニルオキシ基およびメタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、p−ブロモベンゼンスルホニルオキシ基からなる群から選ばれる基である。Arは、フェニル基である。Xは、下記式(i−1)から(i−3)の結合基である。)
Figure 2011184662
(4) After the obtained triphenylphosphine body is isocyanated in the reaction system and then directly decarboxylated, it can be suitably used as the cyclic carbodiimide compound used in the present invention.
(In the above formula, Ar 1 and Ar 2 are each independently an aromatic group optionally substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group. E 1 and E 2 are each independently a halogen atom. A group selected from the group consisting of an atom, a toluenesulfonyloxy group, a methanesulfonyloxy group, a benzenesulfonyloxy group, and a p-bromobenzenesulfonyloxy group, Ar a is a phenyl group, X is represented by the following formula (i -1) to (i-3).

Figure 2011184662
(式中、nは1〜6の整数である。)
Figure 2011184662
(In the formula, n is an integer of 1 to 6.)

Figure 2011184662
(式中、mおよびnは各々独立に0〜3の整数である。)
Figure 2011184662
(In the formula, m and n are each independently an integer of 0 to 3.)

Figure 2011184662
(式中、RおよびRは各々独立に、炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基を表す。)
Figure 2011184662
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group.)

なお、環状カルボジイミド化合物は、高分子化合物の酸性基を有効に封止することができるが、本発明の主旨に反しない範囲において、所望により、例えば、従来公知のポリマーのカルボキシル基封止剤を併用することができる。かかる従来公知のカルボキシル基封止剤としては、特開2005−2174号公報記載の剤、例えば、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、オキサジン化合物、などが例示される。   In addition, the cyclic carbodiimide compound can effectively seal the acidic group of the polymer compound. However, as long as it does not contradict the gist of the present invention, for example, a conventionally known polymer carboxyl group sealing agent may be used. Can be used together. Examples of such conventionally known carboxyl group-capping agents include agents described in JP-A-2005-2174, such as epoxy compounds, oxazoline compounds, and oxazine compounds.

<脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)>
本発明において、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)としては、脂肪族ヒドロキシカルボン酸を主たる構成成分とする重合体、脂肪族多価カルボン酸またはそのエステル形成性誘導体と脂肪族多価アルコールを主成分として重縮合してなる重合体やそれらの共重合体が例示される。
<Aliphatic polyester resin (component A)>
In the present invention, the aliphatic polyester-based resin (component A) is mainly composed of a polymer mainly composed of an aliphatic hydroxycarboxylic acid, an aliphatic polycarboxylic acid or an ester-forming derivative thereof, and an aliphatic polyhydric alcohol. Examples thereof include polymers formed by polycondensation as a component and copolymers thereof.

脂肪族ヒドロキシカルボン酸を主たる構成成分とする重合体としては、グリコール酸、乳酸、ヒドロキシプロピオン酸、ヒドロキシ酪酸、ヒドロキシ吉草酸、ヒドロキシカプロン酸などの重縮合体、もしくは共重合体などを例示することができ、なかでもポリグリコール酸、ポリ乳酸、ポリ3−ヒドロキシカルボン酪酸、ポリ4−ポリヒドロキシ酪酸、ポリ3−ヒドロキシヘキサン酸またはポリカプロラクトン、ならびにこれらの共重合体などが挙げられ特にポリL−乳酸、ポリD−乳酸および、ステレオコンプレックス結晶を形成しているステレオコンプレックスポリ乳酸、ラセミポリ乳酸に好適に用いることができる。   Examples of the polymer having aliphatic hydroxycarboxylic acid as a main constituent component include polycondensates such as glycolic acid, lactic acid, hydroxypropionic acid, hydroxybutyric acid, hydroxyvaleric acid, hydroxycaproic acid, and copolymers. Among them, polyglycolic acid, polylactic acid, poly-3-hydroxycarboxylic butyric acid, poly-4-polyhydroxybutyric acid, poly-3-hydroxyhexanoic acid or polycaprolactone, and copolymers thereof may be mentioned. It can be suitably used for lactic acid, poly-D-lactic acid, stereocomplex polylactic acid forming a stereocomplex crystal, and racemic polylactic acid.

ポリ乳酸としては、L−乳酸及び/又はD−乳酸を主たる繰り返し単位とするものを用いればよいが、とくに融点が150℃以上であるものであることが好ましい(ここで、主たるとは、全体の50%以上を該成分が占めていることを意味する。)。融点が150℃よりも低い場合には、フィルムの寸法安定性、高温機械特性等を高いものとすることができない。   The polylactic acid may be one having L-lactic acid and / or D-lactic acid as the main repeating unit, and particularly preferably has a melting point of 150 ° C. or higher (here, the main is Means that the component occupies 50% or more). When the melting point is lower than 150 ° C., the dimensional stability, high temperature mechanical properties, etc. of the film cannot be improved.

ポリL一乳酸およびポリD−乳酸は、従来公知の方法で製造することができる。例えば、L−またはD−ラクチドを金属含有触媒の存在下加熱し、開環重合により製造することができる。また、金属含有触媒を含有する低分子量のポリ乳酸を結晶化させた後、減圧下または加圧化、不活性ガス気流下の存在下、あるいは非存在下、加熱.固相重合させ製造することもできる。さらに、有機溶媒の存在/非存在下で、乳酸を脱水縮合させる直接重合法で製造することができる。   Poly L monolactic acid and poly D-lactic acid can be produced by a conventionally known method. For example, L- or D-lactide can be heated in the presence of a metal-containing catalyst and produced by ring-opening polymerization. In addition, after crystallizing a low molecular weight polylactic acid containing a metal-containing catalyst, it is heated under reduced pressure or pressure, in the presence or absence of an inert gas stream. It can also be produced by solid phase polymerization. Further, it can be produced by a direct polymerization method in which lactic acid is subjected to dehydration condensation in the presence / absence of an organic solvent.

重合反応は、従来公知の反応容器で実施可能であり、例えばヘリカルリボン翼等、高粘度用撹拝翼を備えた縦型反応器あるいは横型反応器を単独、または並列して使用することができる。また、回分式あるいは連続式あるいは半回分式のいずれでも良いし、これらを組み合わせてもよい。   The polymerization reaction can be carried out in a conventionally known reaction vessel. For example, a vertical reactor or a horizontal reactor having a high-viscosity stirring blade such as a helical ribbon blade can be used alone or in parallel. . Moreover, any of a batch type, a continuous type, a semibatch type may be sufficient, and these may be combined.

重合開始剤としてアルコールを用いてもよい。かかるアルコールとしては、ポリ乳酸の重合を阻害せず不揮発性であることが好ましく、例えばデカノール、ドデカノール、テトラデカノール、ヘキサデカノール、オクタデカノール等を好適に用いることができる。   Alcohol may be used as a polymerization initiator. Such alcohol is preferably non-volatile without inhibiting the polymerization of polylactic acid. For example, decanol, dodecanol, tetradecanol, hexadecanol, octadecanol and the like can be suitably used.

固相重合法では、前述した開環重合法や乳酸の直接重合法によって得られた比較的低分子量(おおよそ15〜200程度)のポリ乳酸をプレポリマーとして使用する。プレポリマーは、そのガラス転移温度以上融点未満の温度範囲で予め結晶化させることが、樹脂ペレット融着防止の面から好ましい。結晶化させたプレポリマーは固定された縦型あるいは横型反応容器、またはタンブラーやキルンの様に容器自身が回転する反応容器(ロータリーキルン等)中に充填され、プレポリマーのガラス転移温度以上融点未満の温度範囲に加熱される。重合温度は、重合の進行に伴い段階的に昇湿させても何ら問題はない。また、固相重合中に生成する水を効率的に除去する目的で前記反応容器類の内部を減圧することや、加熱された不活性ガス気流を流通する方法も好適に併用される。   In the solid phase polymerization method, polylactic acid having a relatively low molecular weight (about 15 to 200) obtained by the above-described ring-opening polymerization method or direct polymerization method of lactic acid is used as a prepolymer. The prepolymer is preferably crystallized in advance in the temperature range of the glass transition temperature or higher and lower than the melting point from the viewpoint of preventing resin pellet fusion. The crystallized prepolymer is filled in a fixed vertical or horizontal reaction vessel, or a reaction vessel (such as a rotary kiln) in which the vessel itself rotates, such as a tumbler or kiln. Heated to a temperature range. There is no problem even if the polymerization temperature is increased in stages as the polymerization proceeds. In addition, for the purpose of efficiently removing water generated during solid phase polymerization, a method of reducing the pressure inside the reaction vessels or circulating a heated inert gas stream is also preferably used.

ポリ乳酸の重合時に使用された金属含有触媒は、使用に先立ち従来公知の失活剤で不活性化しておくことが、ポリ乳酸および樹脂組成物の熱、水分に対する安定性を向上できるため好ましい。
かかる失活剤としてはイミノ基を有し且つ重合金属触媒に配位し得るキレート配位子の群からなる有機リガンドが挙げられる。
It is preferable to inactivate the metal-containing catalyst used during the polymerization of polylactic acid with a conventionally known deactivator prior to use, because the stability of polylactic acid and the resin composition to heat and moisture can be improved.
Examples of such a deactivator include an organic ligand having a group of chelate ligands having an imino group and capable of coordinating with a polymerized metal catalyst.

またジヒドリドオキソリン(I)酸、ジヒドリドテトラオキソ二リン(II,II)酸、ヒドリドトリオキソリン(III)酸、ジヒドリドペンタオキソ二リン(III)酸、ヒドリドペンタオキソ二(II,IV)酸、ドデカオキソ六リン(III)酸、ヒドリドオクタオキソ三リン(III,IV,IV)酸、オクタオキソ三リン(IV,III,IV)酸、ヒドリドヘキサオキソ二リン(III,V)酸、ヘキサオキソ二リン(IV)酸、デカオキソ四リン(IV)酸、へンデカオキソ四リン(IV)酸、エネアオキソ三リン(V,IV,IV)酸等の酸価数5以下の低酸化数リン酸が挙げられる。   Also, dihydridooxoline (I) acid, dihydridotetraoxodiphosphorus (II, II) acid, hydridotrioxoline (III) acid, dihydridopentaoxodiphosphoric acid (III), hydridopentaoxodi (II, IV) Acid, dodecaoxohexaphosphoric acid (III), hydridooctaoxotriphosphoric acid (III, IV, IV) acid, octaoxotriphosphoric acid (IV, III, IV) acid, hydridohexaoxodiphosphoric acid (III, V) acid, hexaoxodiacid Low oxidation number phosphoric acid having an acid number of 5 or less, such as phosphoric acid (IV), decaoxotetraphosphoric acid (IV), hedecaoxotetraphosphoric acid (IV), and eneoxooxophosphoric acid (V, IV, IV). .

また、式xHO・yPで表され、x/y=3のオルトリン酸、2>x/y>1であり、縮合度より二リン酸、三リン酸、四リン酸、五リン酸等と称せられるポリリン酸およびこれらの混合物が挙げられる。 Further, orthophosphoric acid represented by the formula xH 2 O · yP 2 O 5 , x / y = 3, 2> x / y> 1, and diphosphoric acid, triphosphoric acid, tetraphosphoric acid, five Examples thereof include polyphosphoric acid called phosphoric acid and a mixture thereof.

また、x/y=1で表されるメタリン酸、なかでもトリメタリン酸、テトラメタリン酸、1>x/y>0で表され、五酸化リン構造の一部を残した網目構造を有するウルトラリン酸(これらを総称してメタリン酸系化合物と呼ぶことがある。)が挙げられる。
またこれらの酸の酸性塩、一価、多価のアルコール類、あるいはポリアルキレングリコール類の部分エステル、完全エステル、ホスホノ置換低級脂肪族カルボン酸誘導体等が挙げられる。
Further, metaphosphoric acid represented by x / y = 1, in particular, trimetaphosphoric acid, tetrametaphosphoric acid, 1> x / y> 0, and ultralin having a network structure in which a part of the phosphorus pentoxide structure is left. Acid (these may be collectively referred to as metaphosphoric acid compounds).
Moreover, acidic salts of these acids, monovalent and polyhydric alcohols, partial esters of polyalkylene glycols, complete esters, phosphono-substituted lower aliphatic carboxylic acid derivatives and the like can be mentioned.

メタリン酸系化合物は、3〜200程度のリン酸単位が縮合した環状のメタリン酸あるいは立体網目状構造を有するウルトラ領域メタリン酸あるいはそれらの(アルカル金属塩、アルカリ土類金属塩、オニウム塩)を包含する。なかでも環状メタリン酸ナトリウムやウルトラ領域メタリン酸ナトリウム、ホスホノ置換低級脂肪族カルボン酸誘導体のジへキシルホスホノエチルアセテート(以下DHPAと略称することがある)等が好適に使用される。   Metaphosphoric acid compounds include cyclic metaphosphoric acid condensed with about 3 to 200 phosphoric acid units, ultra-regional metaphosphoric acid having a three-dimensional network structure, or their (alkal metal salt, alkaline earth metal salt, onium salt). Include. Of these, cyclic sodium metaphosphate, ultra-region sodium metaphosphate, phosphono-substituted lower aliphatic carboxylic acid derivative dihexylphosphonoethyl acetate (hereinafter sometimes abbreviated as DHPA) and the like are preferably used.

好ましくはポリ乳酸の融点は170℃以上であり、さらに好ましくは融点が200℃以上である。ここで融点とは、DSC測定によって得られた溶融ピークのピーク温度を意味する。とくに耐熱性を付与するためにはポリ乳酸がステレオコンプレックス相結晶を形成していることが好ましい。   Preferably, the melting point of polylactic acid is 170 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher. Here, the melting point means the peak temperature of the melting peak obtained by DSC measurement. In particular, in order to impart heat resistance, it is preferable that polylactic acid forms a stereocomplex phase crystal.

ここで、ステレオコンプレックスポリ乳酸とは、ポリL乳酸セグメントとポリD乳酸セグメントが形成する共晶である。   Here, the stereocomplex polylactic acid is a eutectic formed by a poly L lactic acid segment and a poly D lactic acid segment.

ステレオコンプレックス相結晶は通常ポリL乳酸やポリD乳酸が単独で形成するホモ相結晶よりも融点が高いので、若干でも含まれることによって耐熱性を上げる効果が期待できるが、特にその効果は全体の結晶量に対するステレオコンプレックス相結晶の量が多い場合に顕著に発揮される。下記式に従うステレオコンプレックス結晶化度(S)において、95%以上であることが好ましく、さらに好ましくは100%である。   Stereocomplex phase crystals usually have a higher melting point than homophase crystals formed solely by poly L lactic acid or poly D lactic acid, so that even if they are contained in a slight amount, the effect of increasing heat resistance can be expected. This is remarkably exhibited when the amount of stereocomplex phase crystals is large relative to the amount of crystals. The stereocomplex crystallinity (S) according to the following formula is preferably 95% or more, and more preferably 100%.

S=[ΔHms/(ΔHmh+ΔHms)] × 100
(但し、ΔHmsはステレオコンプレックス相結晶の融解エンタルピー、ΔHmhはホモ相ポリ乳酸結晶の融解エンタルピー。)
ステレオコンプレックスポリ乳酸結晶の形成を安定的且つ高度に進めるために特定の添加物を配合する手法が好ましく適用される。
S = [ΔHms / (ΔHmh + ΔHms)] × 100
(However, ΔHms is the melting enthalpy of stereocomplex phase crystals, and ΔHmh is the melting enthalpy of homophase polylactic acid crystals.)
In order to stably and highly advance the formation of stereocomplex polylactic acid crystals, a method of blending specific additives is preferably applied.

すなわち、例えば、ステレオコンプレックス結晶化促進剤として下記式で表されるリン酸金属塩を添加する手法が挙げられる。

Figure 2011184662
That is, for example, a technique of adding a metal phosphate metal salt represented by the following formula as a stereocomplex crystallization accelerator can be mentioned.
Figure 2011184662

式中、R11は水素原子または炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、R12、R13はそれぞれ独立に、水素原子、または炭素原子数1〜12のアルキル基を表し、Mはアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子またはアルミニウム原子を表し、tは1または2を表し、uはMがアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子のときは0を、アルミニウム原子の時は1または2を表す。 In the formula, R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 12 and R 13 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and M 1 represents Represents an alkali metal atom, alkaline earth metal atom, zinc atom or aluminum atom, t represents 1 or 2, u represents 0 when M 1 is an alkali metal atom, alkaline earth metal atom or zinc atom; When it is an atom, it represents 1 or 2.

Figure 2011184662
Figure 2011184662

式中R14、R15およびR16は各々独立に、水素原子または炭素原子数1〜12のアルキル基を表し、Mはアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子またはアルミニウム原子を表し、tは1または2を表し、uはMがアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子のときは0を、アルミニウム原子の時は1または2を表す。 In the formula, each of R 14 , R 15 and R 16 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and M 2 represents an alkali metal atom, an alkaline earth metal atom, a zinc atom or an aluminum atom. , T represents 1 or 2, u represents 0 when M 2 is an alkali metal atom, alkaline earth metal atom, or zinc atom, and represents 1 or 2 when M 2 is an aluminum atom.

上記二つの式において表されるリン酸金属塩のM、Mは、Na、K、Al、Mg、Ca、Liが好ましく、特に、K、Na、Al、LiなかでもLi、Alが最も好適に用いることができる。 M 1 and M 2 of the metal phosphate represented by the above two formulas are preferably Na, K, Al, Mg, Ca and Li, and in particular, Li, Al is the most among K, Na, Al and Li. It can be used suitably.

これらのリン酸金属塩は、(株)ADEKA製の商品名、「アデカスタブ」NA−11、NA−71等が好適な剤として例示される。   As these metal phosphates, trade names manufactured by ADEKA Corporation, “ADEKA STAB” NA-11, NA-71 and the like are exemplified as suitable agents.

ポリ乳酸に対して、リン酸金属塩は0.001〜2wt%、好ましくは0.005〜1wt%、より好ましくは0.01〜0.5wt%さらに好ましくは0.02〜0.3wt%用いることが好ましい。少なすぎる場合には、ステレオコンプレックス結晶化度(S)を向上する効果が小さく、多すぎるとステレオコンプレックス結晶融点を低下させるので好ましくない。   The metal phosphate is used in an amount of 0.001 to 2 wt%, preferably 0.005 to 1 wt%, more preferably 0.01 to 0.5 wt%, still more preferably 0.02 to 0.3 wt% with respect to polylactic acid. It is preferable. When the amount is too small, the effect of improving the stereocomplex crystallinity (S) is small, and when too large, the stereocomplex crystal melting point is lowered, which is not preferable.

さらに所望により、リン酸金属塩の作用を強化するため、公知の結晶化核剤を併用することができる。なかでも珪酸カルシウム、タルク、カオリナイト、モンモリロナイトが好ましくは選択される。   Further, if desired, a known crystallization nucleating agent can be used in combination to enhance the action of the metal phosphate. Of these, calcium silicate, talc, kaolinite, and montmorillonite are preferably selected.

結晶化核剤の使用量はポリ乳酸に対し0.05〜5wt%、より好ましくは0.06〜2wt%、さらに好ましくは0.06〜1wt%の範囲が選択される。   The amount of the crystallization nucleating agent used is selected in the range of 0.05 to 5 wt%, more preferably 0.06 to 2 wt%, and still more preferably 0.06 to 1 wt% with respect to polylactic acid.

ポリ乳酸はいずれの製法によって得られたものであってもよい。たとえば、ポリ乳酸の製造方法には、L−乳酸及び/又はD−乳酸を原料として一旦環状二量体であるラクチドを生成せしめ、その後開環重合を行う二段階のラクチド法と、L−乳酸及び/又はD−乳酸を原料として溶媒中で直接脱水縮合を行う一段階の直接重合法など、一般に知られている重合法によって好適に得ることができる。   Polylactic acid may be obtained by any manufacturing method. For example, a polylactic acid production method includes a two-stage lactide method in which L-lactic acid and / or D-lactic acid is used as a raw material to form lactide, which is a cyclic dimer, and then ring-opening polymerization is performed. In addition, it can be suitably obtained by a generally known polymerization method such as a one-step direct polymerization method in which dehydration condensation is directly performed in a solvent using D-lactic acid as a raw material.

ポリ乳酸にはその製造上、カルボン酸基が含まれてくることがあるが、その含まれるカルボン酸基の量は少ないほどよい。そのような理由から、たとえばラクチドから水以外の開始剤を用いて開環重合したものや、重合後に化学的に処理をしてカルボン酸基を低減したポリマーを用いることは好ましい。   In the production of polylactic acid, carboxylic acid groups may be contained, but the smaller the amount of carboxylic acid groups contained, the better. For these reasons, it is preferable to use, for example, ring-opened polymerization from lactide using an initiator other than water, or a polymer that has been chemically treated after polymerization to reduce carboxylic acid groups.

ポリ乳酸の重量平均分子量は、通常少なくとも5万、好ましくは少なくとも10万、好ましくは10〜30万である。平均分子量が5万よりも低い場合にはフィルムの強度物性が低下するため好ましくない。30万を越える場合には溶融粘度が高くなりすぎ、溶融製膜が困難になる場合がある。   The weight average molecular weight of polylactic acid is usually at least 50,000, preferably at least 100,000, preferably 100,000 to 300,000. When the average molecular weight is lower than 50,000, the strength properties of the film are lowered, which is not preferable. If it exceeds 300,000, the melt viscosity becomes too high and melt film formation may be difficult.

また、本発明におけるポリ乳酸は、L−乳酸、D−乳酸の他にエステル形成能を有するその他の成分を共重合した共重合ポリ乳酸であってもよい。共重合可能な成分としては、グリコール酸、3−ヒドロキシ酪酸、4−ヒドロキシ酪酸、4−ヒドロキシ吉草酸、6−ヒドロキシカプロン酸などのヒドロキシカルボン酸類の他、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトール等の分子内に複数の水酸基を含有する化合物類またはそれらの誘導体、アジピン酸、セバシン酸、フマル酸等の分子内に複数のカルボン酸基を含有する化合物類またはそれらの誘導体が挙げられる。ただし、高い融点を維持するためやフィルム強度を損なわないため、この場合フィルムの70モル%以上が乳酸単位からなることが望ましい。   The polylactic acid in the present invention may be a copolymerized polylactic acid obtained by copolymerizing other components having ester forming ability in addition to L-lactic acid and D-lactic acid. The copolymerizable component includes glycolic acid, 3-hydroxybutyric acid, 4-hydroxybutyric acid, 4-hydroxyvaleric acid, hydroxycarboxylic acids such as 6-hydroxycaproic acid, ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, neo Compounds containing a plurality of hydroxyl groups in the molecule such as pentyl glycol, polyethylene glycol, glycerin and pentaerythritol or derivatives thereof, compounds containing a plurality of carboxylic acid groups in the molecule such as adipic acid, sebacic acid and fumaric acid Or derivatives thereof. However, in order to maintain a high melting point and not impair the film strength, in this case, it is desirable that 70 mol% or more of the film is composed of lactic acid units.

<アクリル系樹脂(B成分)>
本発明において用いるアクリル系樹脂(B成分)は、シクロヘキシルメタクリレート、4−tert−ブチルシクロへキシルメタクリレート、メチルメタクリレート等のメタクリル酸エステル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸−2−エチルヘキシル等のアクリル酸エステルより選ばれる1種以上の単量体を重合したものである。これらの単量体は、単独でまたは2種以上混合して用いることができる。なかでも、メタクリル酸メチルの単独重合体または他の単量体との共重合体が好ましい。
<Acrylic resin (component B)>
Acrylic resins (component B) used in the present invention are methacrylic acid esters such as cyclohexyl methacrylate, 4-tert-butylcyclohexyl methacrylate, methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, isopropyl acrylate, acrylic One or more monomers selected from acrylic acid esters such as 2-ethylhexyl acid are polymerized. These monomers can be used alone or in admixture of two or more. Of these, a homopolymer of methyl methacrylate or a copolymer with other monomers is preferable.

メタクリル酸メチルと共重合可能な単量体としては、他のメタリル酸アルキルエステル類、アクリル酸アルキルエステル類、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物類、アクリロニトリル、メタクリルニトリル等のシアン化ビニル類、N−フェニルマレイミド、N−シクロへキシルマレイミド等のマレイミド類、無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸無水物類、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸等の不飽和酸類が挙げられる。これらメタクリル酸メチルと共重合可能な単量体の中でも、特にアクリル酸アルキルエステル類は耐熱分解性に優れる。またアクリル酸アルキルエステル類を共重合させて得られるメタクリル系樹脂は成形加工時の流動性が高く好ましい。   Examples of monomers copolymerizable with methyl methacrylate include other alkyl methallylic esters, alkyl acrylates, aromatic vinyl compounds such as styrene, vinyl toluene and α-methyl styrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. Vinyl cyanides, maleimides such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide, unsaturated carboxylic acid anhydrides such as maleic anhydride, and unsaturated acids such as acrylic acid, methacrylic acid and maleic acid It is done. Among these monomers copolymerizable with methyl methacrylate, acrylic acid alkyl esters are particularly excellent in heat decomposition resistance. A methacrylic resin obtained by copolymerizing alkyl acrylates is preferable because of its high fluidity during molding.

メタクリル酸メチルにアクリル酸アルキルエステル類を共重合させる場合のアクリル酸アルキルエステル類の使用量は、耐熱分解性の観点から0.1重量%以上であることが好ましく、耐熱性の観点から15重量%以下であることが好ましい。0.2重量%以上14重量%以下であることがさらに好ましく、1重量%以上12重量%以下であることがとりわけ好ましい。   The amount of alkyl acrylates used when methyl acrylate is copolymerized with methyl methacrylate is preferably 0.1% by weight or more from the viewpoint of thermal decomposition resistance, and 15% from the viewpoint of heat resistance. % Or less is preferable. The content is more preferably 0.2% by weight or more and 14% by weight or less, and particularly preferably 1% by weight or more and 12% by weight or less.

このアクリル酸アルキルエステル類の中でも、特にアクリル酸メチルおよびアクリル酸エチルは、それを少量メタクリル酸メチルと共重合させても上記改良効果は著しく最も好ましい。上記メタクリル酸メチルと共重合可能な単量体は一種または二種以上組み合わせて使用することもできる。   Among these alkyl acrylates, methyl acrylate and ethyl acrylate are particularly most preferable in terms of the above improvement effect even when they are copolymerized with a small amount of methyl methacrylate. The said monomer which can be copolymerized with methyl methacrylate can also be used 1 type or in combination of 2 or more types.

アクリル系樹脂(B成分)の重量平均分子量は、好ましくは5万〜20万である。重量平均分子量は成形品の強度の観点から5万以上が好ましく、成形加工性、流動性の観点から20万以下が好ましい。さらに好ましい範囲は7万−15万である。また、本発明においてはアイソタクチックポリメタクリル酸エステルとシンジオタクチックポリメタクリル酸エステルを同時に用いることもできる。   The weight average molecular weight of the acrylic resin (component B) is preferably 50,000 to 200,000. The weight average molecular weight is preferably 50,000 or more from the viewpoint of the strength of the molded product, and preferably 200,000 or less from the viewpoint of molding processability and fluidity. A more preferable range is 70,000-150,000. In the present invention, isotactic polymethacrylate and syndiotactic polymethacrylate can be used simultaneously.

アクリル系樹脂を製造する方法として、例えばキャスト重合、塊状重合、懸濁重合、溶液重合、乳化重合、アニオン重合等の一般に行われている重合方法を用いることができるが、光学用途としては微小異物の混入は極力避けることが好ましく、この観点からは懸濁剤や乳化剤を用いない塊状重合や溶液重合が望ましい。溶液重合を行う場合には、単量体の混合物をトルエン、エチルベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素の溶媒に溶解して調整した溶液を用いることができる。塊状重合により重合させる場合には、通常行われるように加熱により生じる遊離ラジカルや電離性放射線照射により重合を開始させることができる。   As a method for producing an acrylic resin, for example, generally used polymerization methods such as cast polymerization, bulk polymerization, suspension polymerization, solution polymerization, emulsion polymerization, and anionic polymerization can be used. From this viewpoint, bulk polymerization or solution polymerization without using a suspending agent or an emulsifier is desirable. When solution polymerization is performed, a solution prepared by dissolving a mixture of monomers in an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene, ethylbenzene, or xylene can be used. In the case of polymerization by bulk polymerization, the polymerization can be started by irradiation with free radicals generated by heating or ionizing radiation as is usually done.

重合反応に用いられる開始剤としては、一般にラジカル重合において用いられる任意の開始剤を使用することができ、例えばアゾビスイソブチルニトリル等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物が用いられる。また、特に90℃以上の高温下で重合を行わせる場合には、溶液重合が一般的であるので、10時間半減期温度が80℃以上でかつ用いる有機溶媒に可溶である過酸化物、アゾビス開始剤等が好ましい。具体的には1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、シクロヘキサンパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、1,1−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)、2−(カルバモイルアゾ)イソプチロニトリル等を挙げることができる。これらの開始剤は0.005〜5重量%の範囲で用いられる。   As the initiator used in the polymerization reaction, any initiator generally used in radical polymerization can be used. For example, an azo compound such as azobisisobutylnitrile, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, t-butylperoxy An organic peroxide such as -2-ethylhexanoate is used. In particular, when the polymerization is carried out at a high temperature of 90 ° C. or higher, solution polymerization is common, so that the peroxide has a 10-hour half-life temperature of 80 ° C. or higher and is soluble in the organic solvent used, An azobis initiator or the like is preferable. Specifically, 1,1-bis (t-butylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, cyclohexane peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, 1,1 -Azobis (1-cyclohexanecarbonitrile), 2- (carbamoylazo) isoptyronitrile, etc. can be mentioned. These initiators are used in the range of 0.005 to 5% by weight.

重合反応に必要に応じて用いられる分子量調節剤は、一般的なラジカル重合において用いる任意のものが使用される。例えば、ブチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸2−エチルヘキシル等のメルカプタン化合物が特に好ましいものとして挙げられる。これらの分子量調節剤は、重合度が上記の範囲内に制御されるような濃度範囲で添加される。   As the molecular weight regulator used as necessary for the polymerization reaction, any one used in general radical polymerization is used. For example, mercaptan compounds such as butyl mercaptan, octyl mercaptan, dodecyl mercaptan, 2-ethylhexyl thioglycolate are particularly preferable. These molecular weight regulators are added in a concentration range such that the degree of polymerization is controlled within the above range.

<樹脂組成物>
本発明の樹脂組成物において、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)とアクリル系樹脂(B成分)との割合は、具体的なA成分、B成分と、得ようとするフィルムとの特性(光学特性、機械特性)とで適宜設定すればよいが、通常は重量比(A成分/B成分)で、(99/1)〜(1/99)の範囲で設定すればよく、好ましくは(99/1)〜(50/50)、より好ましくは(80/20)〜(50/50)、さらに好ましくは(70/30)〜(50/50)の範囲である。
<Resin composition>
In the resin composition of the present invention, the ratio between the aliphatic polyester resin (component A) and the acrylic resin (component B) is determined by the characteristics of the specific component A, component B and the film to be obtained (optical). Properties and mechanical properties), but may be set in a range of (99/1) to (1/99) in a weight ratio (A component / B component), preferably (99 / 1) to (50/50), more preferably (80/20) to (50/50), and still more preferably (70/30) to (50/50).

本発明の樹脂組成物は、DSC測定において、前述したステレオコンプレックス結晶化化度(S)が80%以上であることが好ましい。ステレオコンプレックス結晶化度が80%以上であると、これより得られるフィルムの90℃における熱収縮率を低下させることができる。樹脂組成物のステレオコンプレックス結晶化度は、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは95%以上、特に好ましくは、ステレオコンプレックス結晶化度が100%である。   The resin composition of the present invention preferably has the above-described stereocomplex crystallinity (S) of 80% or more in DSC measurement. When the stereocomplex crystallinity is 80% or more, the thermal shrinkage rate at 90 ° C. of the film obtained therefrom can be reduced. The stereocomplex crystallinity of the resin composition is more preferably 90% or more, still more preferably 95% or more, and particularly preferably the stereocomplex crystallinity is 100%.

本発明において樹脂組成物中の環状カルボジイミド化合物(C成分)の割合は、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)とアクリル系樹脂(B成分)との合計量100重量部を基準にして環状カルボジイミド化合物(C成分)が0.001〜5重量部含有されることが好ましい。C成分の量がこの範囲にあれば、樹脂組成物およびこれより得られるフィルムの、水分に対する安定性、耐加水分解安定性を好適に高めることができる。   In the present invention, the ratio of the cyclic carbodiimide compound (C component) in the resin composition is based on the total amount of 100 parts by weight of the aliphatic polyester resin (A component) and the acrylic resin (B component). (C component) is preferably contained in an amount of 0.001 to 5 parts by weight. If the amount of component C is within this range, the moisture stability and hydrolysis resistance of the resin composition and the film obtained therefrom can be suitably increased.

かかる観点より環状カルボジイミド化合物(C成分)の含有割合はより好ましくは、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)とアクリル系樹脂(B成分)との合計量100重量部あたり0.01〜5重量部、さらに好ましくは0.1〜4重量部の範囲が選択される。この範囲より少量であると環状カルボジイミド化合物(C成分)の効果が有効に認められないことがあり、また、この範囲を超えて多量に適用しても、耐加水分解安定性の更なる向上は期待されない。   From this viewpoint, the content ratio of the cyclic carbodiimide compound (component C) is more preferably 0.01 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of the total amount of the aliphatic polyester resin (component A) and the acrylic resin (component B). More preferably, the range of 0.1 to 4 parts by weight is selected. If the amount is less than this range, the effect of the cyclic carbodiimide compound (component C) may not be recognized effectively, and even if it is applied in a large amount beyond this range, the hydrolysis stability will be further improved. Not expected.

脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)がポリ乳酸を含む場合には、ラクチド含有量は、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)およびアクリル系樹脂(B成分)の合計量を基準にして、好ましくは0〜1000ppm、より好ましくは0〜200ppm、さらに好ましくは0〜100ppmの範囲である。ラクチドの含有量は少ないほうが樹脂組成物の色相、安定性等の物性の観点より好ましいが、過剰に減少操作を適用しても、更なる物性の向上は期待されずまたコスト面よりも好ましくない場合が発生する。   When the aliphatic polyester resin (component A) contains polylactic acid, the lactide content is preferably based on the total amount of the aliphatic polyester resin (component A) and the acrylic resin (component B). It is 0-1000 ppm, More preferably, it is 0-200 ppm, More preferably, it is the range of 0-100 ppm. A lower lactide content is preferable from the viewpoint of physical properties such as hue and stability of the resin composition, but even if an excessive reduction operation is applied, further improvement in physical properties is not expected and it is not preferable from the viewpoint of cost. A case occurs.

樹脂組成物のカルボキシル基濃度は、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)およびアクリル系樹脂(B成分)の合計量を基準にして、好ましくは0〜30当量/ton、より好ましくは0〜10当量/ton,さらに好ましくは0〜5当量/tonの範囲、特に好ましくは0〜1当量/tonの範囲である。カルボキシル基濃度の低減は環状カルボジイミド化合物(C成分)を使用することにより、容易に達成できる。   The carboxyl group concentration of the resin composition is preferably 0 to 30 equivalents / ton, more preferably 0 to 10 equivalents, based on the total amount of the aliphatic polyester resin (component A) and the acrylic resin (component B). / Ton, more preferably in the range of 0 to 5 equivalents / ton, particularly preferably in the range of 0 to 1 equivalent / ton. Reduction of the carboxyl group concentration can be easily achieved by using a cyclic carbodiimide compound (C component).

また本発明において、樹脂組成物には、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)、アクリル系樹脂(B成分)および環状カルボジイミド化合物(C成分)以外の他の樹脂成分を、本発明の目的を損なわない範囲で含有することができる。   In the present invention, the resin composition contains other resin components other than the aliphatic polyester-based resin (component A), the acrylic resin (component B), and the cyclic carbodiimide compound (component C). It can contain in the range which is not.

他の樹脂成分として具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリスチレン、スチレンアクリロニトリル共重合体等のスチレン系樹脂、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアセタール等の熱可塑性樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂、が挙げられる。これらは1種以上を含有させることができる。   Specific examples of other resin components include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, styrene resins such as polystyrene and styrene acrylonitrile copolymer, polyamide, polyphenylene sulfide resin, polyether ether ketone resin, polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, and polyimide. , Thermoplastic resins such as polyetherimide and polyacetal, and thermosetting resins such as phenol resin, melamine resin, silicone resin, and epoxy resin. These can contain 1 or more types.

さらに、本発明の樹脂組成物には、本発明の効果を著しく損なわない範囲内で、各種目的に応じて任意の添加剤を配合することができる。添加剤の種類は、樹脂やゴム状重合体の配合に一般的に用いられるものであれば特に制限はない。   Furthermore, arbitrary additives can be mix | blended with the resin composition of this invention according to various objectives within the range which does not impair the effect of this invention remarkably. The type of additive is not particularly limited as long as it is generally used for blending resins and rubber-like polymers.

添加剤として、無機充填剤や、酸化鉄等の顔料が挙げられる。またステアリン酸、ベヘニン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、エチレンビスステアロアミド等の滑剤や、離型剤、パラフィン系プロセスオイル、ナフテン系プロセスオイル、芳香族系プロセスオイル、パラフィン、有機ポリシロキサン、ミネラルオイル等の軟化剤・可塑剤、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系熱安定剤等の酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤、ベンゾトリアゾ−ル系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、環状イミノエステル系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤難燃剤、帯電防止剤が挙げられる。ベンゾフェノール系酸化防止剤として用いるベンゾフェノン系化合物の具体例としては、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンおよび2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノンなどが例示される。なかでも2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノンが好適である。ベンゾフェノンは単独であるいは2種以上を併用して用いることができる。かかる化合物はシプロ化成(株)からSEESORB107、SEESORB106として(商品名)として市販されており、容易に利用できる。   Examples of the additive include inorganic fillers and pigments such as iron oxide. Also, lubricants such as stearic acid, behenic acid, zinc stearate, calcium stearate, magnesium stearate, ethylene bisstearamide, mold release agent, paraffinic process oil, naphthenic process oil, aromatic process oil, paraffin, Softeners and plasticizers such as organic polysiloxanes and mineral oils, hindered phenolic antioxidants, antioxidants such as phosphorus thermal stabilizers, hindered amine light stabilizers, benzotriazole ultraviolet absorbers, benzophenone ultraviolet rays Examples include absorbents, cyclic imino ester ultraviolet absorbers, triazine ultraviolet absorber flame retardants, and antistatic agents. Specific examples of the benzophenone compound used as the benzophenol antioxidant include 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone and 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone. . Of these, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone is preferred. Benzophenone can be used alone or in combination of two or more. Such compounds are commercially available from Sipro Kasei Co., Ltd. as SEESORB107 and SEESORB106 (trade names) and can be easily used.

また、環状イミノエステル系紫外線吸収剤として用いる環状イミノエステル系化合物の具体例としては、2,2’−ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−p−フェニレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−m−フェニレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−(4,4’−ジフェニレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−(2,6−ナフタレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−(1,5−ナフタレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−(2−メチル−p−フェニレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−(2−ニトロ−p−フェニレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)および2,2’−(2−クロロ−p−フェニレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)などが例示される。なかでも2,2’−p−フェニレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−(4,4’−ジフェニレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)および2,2’−(2,6−ナフタレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)が好適であり、特に2,2’−p−フェニレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)が好適である。   Specific examples of the cyclic imino ester compound used as the cyclic imino ester ultraviolet absorber include 2,2′-bis (3,1-benzoxazin-4-one) and 2,2′-p-phenylenebis. (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2′-m-phenylenebis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2 ′-(4,4′-diphenylene) bis ( 3,1-benzoxazin-4-one), 2,2 ′-(2,6-naphthalene) bis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2 ′-(1,5-naphthalene) Bis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2 ′-(2-methyl-p-phenylene) bis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2 ′-(2- Nitro-p-phenylene) bis (3,1-benzoxa Down 4-one) and 2,2 '- (such as 2-chloro -p- phenylene) bis (3,1-benzoxazin-4-one) is illustrated. Among them, 2,2′-p-phenylenebis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2 ′-(4,4′-diphenylene) bis (3,1-benzoxazin-4-one) And 2,2 ′-(2,6-naphthalene) bis (3,1-benzoxazin-4-one) are preferred, especially 2,2′-p-phenylenebis (3,1-benzoxazine-4 -On) is preferred.

更に、有機繊維、ガラス繊維、炭素繊維、金属ウィスカ等の補強剤、着色剤、静電密着改良剤が挙げられる。また上記の混合物が挙げられる。   Further, reinforcing agents such as organic fibers, glass fibers, carbon fibers, and metal whiskers, coloring agents, and electrostatic adhesion improving agents can be used. Moreover, said mixture is mentioned.

本発明の樹脂組成物は、公知の方法で製造することができる。例えば単軸押出機、二軸押出機、バンバリーミキサー、ブラベンダー、各種ニーダー等の溶融混練機を用いて、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)、アクリル系樹脂(B成分)および環状カルボジイミド化合物(C成分)、ならびに必要に応じて、上記のその他成分を添加、溶融混練して樹脂組成物を製造することができる。   The resin composition of the present invention can be produced by a known method. For example, aliphatic polyester resins (component A), acrylic resins (component B), and cyclic carbodiimide compounds (using a single kneader, twin screw extruder, Banbury mixer, Brabender, various kneaders, etc.) Component C) and, if necessary, the above-mentioned other components can be added, melted and kneaded to produce a resin composition.

なお、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)と環状カルボジイミド化合物(C成分)とを先にブレンドしたのち、アクリル系樹脂(B成分)とブレンドすることが、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)の加水分解性を早期に向上させることができるので好ましい。   In addition, after blending an aliphatic polyester-based resin (component A) and a cyclic carbodiimide compound (component C) first, blending with an acrylic resin (component B) is an aliphatic polyester-based resin (component A). Since hydrolyzability can be improved at an early stage, it is preferable.

<フィルムの製造>
本発明の樹脂組成物をフィルムとするため、押し出し成形、キャスト成形等の成形手法を用いて製膜することができる。例えば、Tダイ、円形ダイ等が装着された押出機等を用いて、製膜することができる。
<Manufacture of film>
Since the resin composition of the present invention is used as a film, it can be formed using a molding technique such as extrusion molding or cast molding. For example, the film can be formed using an extruder equipped with a T die, a circular die, or the like.

押し出し成形により未延伸フィルムを得る場合は、事前に脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)、アクリル系樹脂(B成分)および環状カルボジイミド化合物(C成分)を溶融混練した材料を用いることもできれば、押し出し成形時に溶融混練を経て成形することもできる。   When an unstretched film is obtained by extrusion molding, it is possible to use a material in which an aliphatic polyester resin (component A), an acrylic resin (component B) and a cyclic carbodiimide compound (component C) are melt-kneaded in advance. It can also be formed through melt-kneading at the time of forming.

未延伸フィルムは、溶融フィルムを冷却ドラム上に押し出し次いで該フィルムを回転する冷却ドラムに密着させ冷却することによって製造することができる。このとき溶融フィルムにはスルホン酸四級ホスホニウム塩等の静電密着剤を配合し、電極よりフィルム溶融面に非接触的に電荷を容易に印加し、それによってフィルムを、回転する冷却ドラムに密着させることにより表面欠陥の少ない未延伸フィルムを得ることができる。   An unstretched film can be produced by extruding a molten film onto a cooling drum and then bringing the film into close contact with a rotating cooling drum and cooling. At this time, the molten film is blended with an electrostatic adhesion agent such as quaternary phosphonium salt of sulfonic acid, and an electric charge is easily applied from the electrode to the film melting surface in a non-contact manner, whereby the film is adhered to the rotating cooling drum. By making it, an unstretched film with few surface defects can be obtained.

また、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)、アクリル系樹脂(B成分)および環状カルボジイミド化合物(C成分)に共通な溶媒、例えばクロロホルム,二塩化メチレン等の溶媒を用いて、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)、アクリル系樹脂(B成分)および環状カルボジイミド化合物(C成分)を溶解後、キャスト乾燥固化することにより未延伸フィルムをキャスト成形もすることができる。   In addition, a common solvent for aliphatic polyester resin (component A), acrylic resin (component B) and cyclic carbodiimide compound (component C), for example, a solvent such as chloroform, methylene dichloride, etc., aliphatic polyester resin An unstretched film can also be cast-molded by dissolving the (A component), the acrylic resin (B component) and the cyclic carbodiimide compound (C component), followed by cast drying and solidification.

<延伸>
本発明の樹脂組成物から得られた未延伸フィルムは機械的流れ方向(MD)に一軸延伸することもできるし、機械的流れ方向に直交する方向(TD)に一軸延伸することもできる。またロール延伸とテンター延伸の逐次2軸延伸法、テンター延伸による同時2軸延伸法、チューブラー延伸による2軸延伸法等によって延伸することにより2軸延伸フィルムを製造することができる。
<Extension>
The unstretched film obtained from the resin composition of the present invention can be uniaxially stretched in the mechanical flow direction (MD) or can be uniaxially stretched in the direction (TD) perpendicular to the mechanical flow direction. Further, a biaxially stretched film can be produced by stretching by a sequential biaxial stretching method of roll stretching and tenter stretching, a simultaneous biaxial stretching method by tenter stretching, a biaxial stretching method by tubular stretching, or the like.

ここで、延伸倍率としては少なくともどちらか一方向に、好ましくは0.1〜1000%以下、好ましくは0.2〜600%、さらに好ましくは0.3〜300%である。延伸倍率をこの範囲内とすることで、複屈折率、耐熱性、強度の観点で好ましい延伸フィルムを得ることができる。   Here, the stretching ratio is preferably 0.1 to 1000% or less, preferably 0.2 to 600%, more preferably 0.3 to 300% in at least one direction. By setting the draw ratio within this range, a stretched film that is preferable in terms of birefringence, heat resistance, and strength can be obtained.

延伸倍率は、面積延伸倍率(縦倍率×横倍率)で、好ましくは1〜15、より好ましくは1.01〜10、さらに好ましくは1.1〜5、特に好ましくは1.1〜3の範囲である。   The stretch ratio is an area stretch ratio (longitudinal ratio × horizontal ratio), preferably in the range of 1 to 15, more preferably 1.01 to 10, still more preferably 1.1 to 5, particularly preferably 1.1 to 3. It is.

フィルムの結晶化度を10%以上とするために熱処理をする場合には、縦倍率あるいは横倍率は、いずれも1倍超、つまり延伸されている状態であることが必須であり、未延伸フィルム(延伸倍率1倍以下)は、例えばエレクトロニクス用光学フィルム(2006年)電気、電子材料研究会編中記載の耐熱性評価、さらに該評価を発展させた本発明の耐熱性評価(90℃、5時間の熱処理)により透明性が低下することがあり、光学フィルムとしては好ましくない。   When heat treatment is performed in order to set the crystallinity of the film to 10% or more, it is essential that both the vertical magnification and the horizontal magnification exceed 1 time, that is, the film is stretched. (Stretch ratio of 1 times or less) is, for example, the heat resistance evaluation described in the edition of the electrical film for electronics (2006) electric and electronic materials study, and the heat resistance evaluation (90 ° C., 5 ° Transparency may be lowered by heat treatment for a long time, which is not preferable as an optical film.

延伸温度は、樹脂組成物のガラス転移温度(Tg)から結晶化温度(Tc)の範囲が好適に選択される。さらにRe、Rthの抑制のためTgより高温で、出来るだけTcに近く、且つ脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)の結晶化が進まない温度範囲がより好適に採用される。   The stretching temperature is preferably selected from the glass transition temperature (Tg) to the crystallization temperature (Tc) of the resin composition. In order to suppress Re and Rth, a temperature range higher than Tg, as close to Tc as possible, and in which crystallization of the aliphatic polyester resin (component A) does not proceed is more preferably employed.

Tgより低い温度では分子鎖が固定されているので、延伸操作を好適に進めることが困難であるとともにRe、Rthを各々20nm以下にすることが困難であり、またTc以上では脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)の結晶化が進み、この場合も延伸工程を良好に進行させることが困難となる。   Since the molecular chain is fixed at a temperature lower than Tg, it is difficult to suitably advance the stretching operation, and it is difficult to set Re and Rth to 20 nm or less, respectively. Crystallization of (Component A) proceeds, and in this case as well, it is difficult to make the stretching process proceed well.

従って延伸温度としては、Tg〜Tcの裾野にかけての脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)の結晶化が進行しにくい温度範囲、例えばTgから結晶化温度(Tc)を選択することが好適であり、フィルム物性、延伸工程安定化の両立の観点より、延伸温度はTg+5℃からTc℃、より好ましくはTg+10℃からTc℃、さらに好ましくはTg+20℃からTc℃の温度範囲が好適に設定される。延伸温度の上限値に関しては、フィルム物性と延伸工程安定化が相反する挙動をとるので、装置特性を勘案して、適宜設定すればよい。   Therefore, as the stretching temperature, it is preferable to select a crystallization temperature (Tc) from a temperature range in which crystallization of the aliphatic polyester resin (component A) is difficult to proceed from the base of Tg to Tc, for example, Tg. From the viewpoint of achieving both film physical properties and stabilization of the stretching process, the stretching temperature is suitably set in the temperature range of Tg + 5 ° C. to Tc ° C., more preferably Tg + 10 ° C. to Tc ° C., and even more preferably Tg + 20 ° C. to Tc ° C. The upper limit of the stretching temperature may be set as appropriate in consideration of the apparatus characteristics because the film properties and the stretching process stabilization are in conflict.

<熱処理>
延伸フィルムは、熱処理することが好ましい。この熱処理によって、延伸フィルムの熱収縮率を好適に低下させることができる。
<Heat treatment>
The stretched film is preferably heat treated. The heat shrinkage rate of the stretched film can be suitably reduced by this heat treatment.

特に、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)がステレオコンプレックスポリ乳酸を含むとき、ステレオコンプレックス相ポリ乳酸の結晶化を進めることができるとともに、動的粘弾性(DMA)測定で貯蔵弾性率E’が常温(25℃)から150℃の温度範囲において極小値を発現することなく、50MPaより大きな値を保つことができる。   In particular, when the aliphatic polyester-based resin (component A) contains stereocomplex polylactic acid, the stereocomplex phase polylactic acid can be crystallized, and the storage elastic modulus E ′ is determined by dynamic viscoelasticity (DMA) measurement. A value greater than 50 MPa can be maintained without exhibiting a minimum value in a temperature range from room temperature (25 ° C.) to 150 ° C.

結晶性樹脂であるポリ乳酸と非晶性樹脂であるアクリル系樹脂とをブレンドした場合、得られる樹脂組成物の結晶化温度Tcが高温側にシフトするため、樹脂組成物の結晶化温度Tc付近に融点を有するホモポリ乳酸は、樹脂組成物の結晶化温度で延伸フィルムの融解が始まり、結晶化させることが困難であるが、ステレオコンプレックスポリ乳酸の融点は樹脂組成物の結晶化温度を超えているので、得られた延伸フィルムを高温で熱処理することが可能であり、延伸フィルムを容易に結晶化させることができ好ましい。   When a polylactic acid that is a crystalline resin and an acrylic resin that is an amorphous resin are blended, the crystallization temperature Tc of the resulting resin composition shifts to the high temperature side, so the vicinity of the crystallization temperature Tc of the resin composition Homopolylactic acid having a melting point of 2 is difficult to crystallize because the stretched film starts melting at the crystallization temperature of the resin composition, but the melting point of stereocomplex polylactic acid exceeds the crystallization temperature of the resin composition. Therefore, the obtained stretched film can be heat-treated at a high temperature, and the stretched film can be easily crystallized, which is preferable.

熱処理温度は、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)とアクリル系樹脂(B成分)との割合およびそれぞれの具体的組成により変動するが、例えば、脂肪族ポリエステル系樹脂としてステレオコンプレックスポリ乳酸を用いる場合の熱処理温度は、ステレオコンプレックス相ポリ乳酸の結晶融解温度をTmとするとき、好ましくは90〜Tm(℃)、より好ましくは110〜(Tm−10)(℃)、さらに好ましくは120〜(Tm−20)(℃)である。 The heat treatment temperature varies depending on the ratio of the aliphatic polyester resin (component A) to the acrylic resin (component B) and the specific composition of each. For example, when stereocomplex polylactic acid is used as the aliphatic polyester resin the heat treatment temperature, when the crystal melting temperature of the stereocomplex-phase polylactic acid and Tm *, preferably 90~Tm * (℃), more preferably 110~ (Tm * -10) (℃ ), more preferably 120 ~ (Tm * -20) (° C).

熱処理は1秒間から30分間の範囲で実施することが好ましい。熱処理温度が高いときは相対的に短い時間で、熱固定処理温度が低いときは相対的に長い時間の熱処理を要する。例えばTcが140℃のフィルムでは、140℃では、少なくとも30秒間必要であるが、150℃では10秒間の熱処理で、フィルムの90℃、5時間での熱収縮率を5%未満とすることができる。   The heat treatment is preferably performed in the range of 1 second to 30 minutes. When the heat treatment temperature is high, a relatively short time is required, and when the heat setting temperature is low, a relatively long time is required. For example, a film having a Tc of 140 ° C. requires at least 30 seconds at 140 ° C., but heat treatment for 10 seconds at 150 ° C. may cause the film to have a thermal shrinkage rate of less than 5% at 90 ° C. for 5 hours. it can.

かくして得られたフィルムには、所望により従来公知の方法で、表面活性化処理、たとえばプラズマ処理、アミン処理、コロナ処理を施すことも可能である。   The film thus obtained can be subjected to surface activation treatment such as plasma treatment, amine treatment or corona treatment by a conventionally known method if desired.

(フィルムの特性)
(厚み)
本発明のフィルムの厚みは、好ましくは1〜300μm、より好ましくは10〜300μm、さらに好ましくは20〜150μmである。取扱い時のシワになりにくさ(シワ防止)の観点から10μm以上であることが好ましい。また透明性の観点から200μm以下であることが好ましい。
(光弾性係数)
本発明のフィルムの光弾性係数の絶対値は、好ましくは10×10−12/Pa未満、より好ましくは8×10−12/Pa未満、さらに好ましくは5×10−12/Pa未満、特に好ましくは3×10−12/Pa未満である。
(Characteristics of film)
(Thickness)
The thickness of the film of the present invention is preferably 1 to 300 μm, more preferably 10 to 300 μm, and still more preferably 20 to 150 μm. It is preferably 10 μm or more from the viewpoint of difficulty in wrinkling during handling (preventing wrinkles). Moreover, it is preferable that it is 200 micrometers or less from a viewpoint of transparency.
(Photoelastic coefficient)
The absolute value of the photoelastic coefficient of the film of the present invention is preferably less than 10 × 10 −12 / Pa, more preferably less than 8 × 10 −12 / Pa, still more preferably less than 5 × 10 −12 / Pa, particularly preferably. Is less than 3 × 10 −12 / Pa.

光弾性係数(CR)に関しては、種々の文献に記載があり(例えば、非特許文献1等参照)、下式により定義される値である。光弾性係数の値がゼロに近いほど外力による複屈折の変化が小さいことを示しており、各用途において設計された複屈折の変化が小さいことを意味する。   The photoelastic coefficient (CR) is described in various documents (for example, see Non-Patent Document 1 etc.) and is a value defined by the following equation. The closer the value of the photoelastic coefficient is to zero, the smaller the change in birefringence due to external force, which means that the change in birefringence designed for each application is small.

CR=Δn/σR
Δn=nx−ny
但し、CRは光弾性係数、σRは伸張応力、△nは複屈折率差、nxは伸張方向の屈折率、nyは伸張方向と直角方向の屈折率を表す。
CR = Δn / σR
Δn = nx−ny
Where CR is a photoelastic coefficient, σR is an extension stress, Δn is a birefringence difference, nx is a refractive index in the extension direction, and ny is a refractive index in a direction perpendicular to the extension direction.

(面方向の位相差(Re)と厚み方向の位相差(Rth))
本発明のフィルムの面方向の位相差(Re)と厚み方向の位相差(Rth)は、複屈折率差Δnと厚みd(nm)の積であり、ReとRthはそれぞれ下記式で定義される。
Re = (nx−ny) × d
Rth= ((nx+ny)/2−nz) × d
nxは、長手方向の屈折率を表す。nyは幅方向の屈折率を表す。nzは厚み方向の屈折率を表す。dは厚み(nm)を表す。
本発明のフィルムのReおよびRthは共に、好ましくは10nm以下、より好ましくは5nm以下、さらに4nm以下である。ReやRthの値がこの範囲にある材料は押し出し成形、キャスト成形における成形起因の配向による位相差斑が発生し難いため好ましい。
(Surface direction retardation (Re) and thickness direction retardation (Rth))
The retardation (Re) in the plane direction and the retardation (Rth) in the thickness direction of the film of the present invention are products of the birefringence difference Δn and the thickness d (nm), and Re and Rth are defined by the following equations, respectively. The
Re = (nx−ny) × d
Rth = ((nx + ny) / 2−nz) × d
nx represents the refractive index in the longitudinal direction. ny represents the refractive index in the width direction. nz represents the refractive index in the thickness direction. d represents thickness (nm).
Both Re and Rth of the film of the present invention are preferably 10 nm or less, more preferably 5 nm or less, and further 4 nm or less. A material having values of Re and Rth in this range is preferable because phase difference spots due to orientation caused by molding in extrusion molding and cast molding are unlikely to occur.

(ステレオコンプレックス結晶化度:S)
本発明のフィルムは、DSC測定において190℃以上のステレオコンプレックス相ポリ乳酸の結晶融解ピークを有することが好ましく、さらにDSC測定の結晶融解ピーク強度より下記式で定義されるステレオコンプレックス結晶化度(S)が好ましくは80%以上、より好ましくは90〜100%、さらに好ましくは97〜100%、特に好ましくは100%である。
即ち本発明のフィルムは、ポリ乳酸のステレオコンプレックス相が高度に形成されていることが好ましい。
S(%)=〔ΔHms/(ΔHmh+ΔHms)〕×100
ΔHmsはステレオコンプレックス相ポリ乳酸の結晶融解エンタルピー(J/g)を表す。△Hmhはホモ相ポリ乳酸の結晶融解エンタルピー(J/g)を表す。
ステレオコンプレックス結晶化度(S)は熱処理過程において最終的に生成するステレオコンプレックスポリ乳酸結晶の割合を示すパラメーターである。
本発明では,DSC測定において190℃以上に現れる結晶融解ピークは、ステレオコンプレックス相ポリ乳酸の融解に帰属される結晶融解ピークであり、190℃未満に現れる結晶融解ピークは、ホモ相ポリ乳酸の融解に帰属される結晶融解ピークである。
(Stereo complex crystallinity: S)
The film of the present invention preferably has a stereocomplex phase polylactic acid crystal melting peak of 190 ° C. or higher in DSC measurement, and further has a stereocomplex crystallinity (S) defined by the following formula from the crystal melting peak intensity of DSC measurement. ) Is preferably 80% or more, more preferably 90 to 100%, still more preferably 97 to 100%, and particularly preferably 100%.
That is, the film of the present invention preferably has a highly formed stereocomplex phase of polylactic acid.
S (%) = [ΔHms / (ΔHmh + ΔHms)] × 100
ΔHms represents the crystal melting enthalpy (J / g) of the stereocomplex phase polylactic acid. ΔHmh represents the crystal melting enthalpy (J / g) of homophase polylactic acid.
The stereocomplex crystallinity (S) is a parameter indicating the ratio of stereocomplex polylactic acid crystals that are finally produced in the heat treatment process.
In the present invention, the crystal melting peak appearing at 190 ° C. or higher in DSC measurement is a crystal melting peak attributed to melting of the stereocomplex phase polylactic acid, and the crystal melting peak appearing below 190 ° C. is the melting phase of homophase polylactic acid. Is a crystal melting peak attributed to.

(収縮率)
本発明のフィルムは、90℃、5時間処理時の縦方向(MD)の収縮率および横方向(TD)の収縮率が、共に好ましくは5%以下、より好ましくは4%以下であることが好ましく、A成分として、ステレオコンプレックスポリ乳酸を選択することで達成可能である。
(Shrinkage factor)
The film of the present invention has a longitudinal direction (MD) shrinkage ratio and a transverse direction (TD) shrinkage ratio of preferably 5% or less, more preferably 4% or less, at 90 ° C. for 5 hours. Preferably, this can be achieved by selecting stereocomplex polylactic acid as the component A.

(貯蔵弾性率:E’)
本発明のフィルムは、動的粘弾性(DMA)測定による貯蔵弾性率(E’)が、常温(25℃)から150℃の温度範囲で極小値を発現することがなく且つ50MPaより大きい値を有することが好ましい。
このようなフィルムは、例えば、偏光フィルムの製造工程で必要とされる150℃程度の温度範囲に加熱されたときも、E’が極小値を示すことがないため寸法安定性が良好である。
またE’が50MPaより大きい値を有するため、外力により変形が起こりにくく、位相差の変動が発生しにくく、さらに偏光フィルムの製造工程において良好な加工性を発揮することができる。
(Storage modulus: E ')
The film of the present invention has a storage elastic modulus (E ′) measured by dynamic viscoelasticity (DMA) that does not exhibit a minimum value in a temperature range from room temperature (25 ° C.) to 150 ° C. and is greater than 50 MPa. It is preferable to have.
Such a film has good dimensional stability because, for example, E ′ does not exhibit a minimum value when heated to a temperature range of about 150 ° C. required in the manufacturing process of a polarizing film.
In addition, since E ′ has a value larger than 50 MPa, deformation hardly occurs due to an external force, phase difference hardly occurs, and good workability can be exhibited in the manufacturing process of the polarizing film.

(偏光板保護フィルム)
本発明のフィルムは、偏光板保護フィルムとして有用である。偏光板保護フィルムとは、偏光板の構成部材として用いられ、偏光フィルム(例えば、高重合度のPVAベースフィルムにポリヨウ素等の二色性色素または二色性染料を含浸・吸着させたもの)の両面もしくは片面に貼り合わせて、偏光フィルムの強度向上、熱・水分からの保護、晶質劣化防止等の目的で使用されるフィルムである。
本発明のフィルムからなる偏光板保護フィルムは、偏光板の構成部材として、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、リアプロジェクションテレビ等のディスプレイに用いることができる。本発明のフィルムからなる偏光板保護フィルムは、必要に応じて、例えば反射防止処理、透明導電処理、電磁波遮蔽処理、ガスバリア処理、防汚処理等の表面機能化処理をすることもできる。
(Polarizing plate protective film)
The film of the present invention is useful as a polarizing plate protective film. A polarizing plate protective film is used as a constituent member of a polarizing plate, and is a polarizing film (for example, a high polymerization degree PVA base film impregnated with or adsorbed with a dichroic dye such as polyiodine or a dichroic dye) Is a film used for the purpose of improving the strength of the polarizing film, protecting it from heat and moisture, preventing crystal deterioration, and the like.
The polarizing plate protective film made of the film of the present invention can be used as a constituent member of a polarizing plate for displays such as liquid crystal displays, plasma displays, organic EL displays, field emission displays, rear projection televisions. The polarizing plate protective film made of the film of the present invention can be subjected to surface functionalization treatment such as antireflection treatment, transparent conductive treatment, electromagnetic wave shielding treatment, gas barrier treatment, and antifouling treatment as necessary.

(位相差フィルム)
また本発明のフィルムは、位相差フィルムとして有用である。本発明のフィルムからなる位相差フィルムは、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)とアクリル系樹脂(B成分)とのブレンド比率を変えることで、発現する位相差をコントロールすることができ、例えば、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)としてステレオコンプレックスポリ乳酸を用いるときには、ステレオコンプレックスポリ乳酸が50重量%を超え、アクリル系樹脂が50重量%未満の場合は長手方向(MD)に強い複屈折率を得ることができ、逆の場合は幅方向(TD)に強い複屈折率を得ることができる。さらに、必要な位相差によって適正なブレンド比に変えることが可能で、さらに延伸することによって位相差をコントロールすることができ、液晶パネルディスプレイの位相差板として好適に用いることができる。
(Retardation film)
The film of the present invention is useful as a retardation film. The retardation film comprising the film of the present invention can control the retardation produced by changing the blend ratio of the aliphatic polyester resin (component A) and the acrylic resin (component B), for example, When stereocomplex polylactic acid is used as the aliphatic polyester resin (component A), the birefringence strong in the longitudinal direction (MD) when the stereocomplex polylactic acid exceeds 50% by weight and the acrylic resin is less than 50% by weight. In the opposite case, a strong birefringence can be obtained in the width direction (TD). Furthermore, it can be changed to an appropriate blend ratio depending on the necessary phase difference, and the phase difference can be controlled by further stretching, and can be suitably used as a phase difference plate of a liquid crystal panel display.

以下、本発明を実施例により、更に具体的に説明するが、本発明はこれによりなんら限定を受けるものでは無い。
以下に、本発明および実施例で用いた評価法を説明する。
(1)分子量:
ポリマーの重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定、標準ポリスチレンに換算した。
GPC測定機器は、
検出器;(株)島津製作所製 示差屈折計RID−6A
カラム;東ソー(株)TSKgel G3000HXL、TSKgel G4000HXL,TSKgel G5000HXLとTSKguardcolumnHXL−Lを直列に接続したもの、あるいは東ソー(株)TSKgel G2000HXL、TSKgel G3000HXLとTSKguardcolumnHXL−Lを直列に接続したものを使用した。
クロロホルムを溶離液とし温度40℃、流速1.0ml/minにて、濃度1mg/m1(1%ヘキサフルオロイソプロパノールを含むクロロホルム)の試料を10μl注入し測定した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention does not receive limitation at all by this.
The evaluation methods used in the present invention and examples will be described below.
(1) Molecular weight:
The weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of the polymer were measured by gel permeation chromatography (GPC) and converted to standard polystyrene.
GPC measurement equipment
Detector: Differential refractometer RID-6A manufactured by Shimadzu Corporation
Column: Tosoh Corporation TSKgel G3000HXL, TSKgel G4000HXL, TSKgel G5000HXL and TSKguardcolumnHXL-L connected in series, or Tosoh Corporation TSKgel G2000HXL, TSKgel G3000HXL, TSKgel G3000HXL
10 μl of a sample having a concentration of 1 mg / m1 (chloroform containing 1% hexafluoroisopropanol) was injected at a temperature of 40 ° C. and a flow rate of 1.0 ml / min using chloroform as an eluent.

(2)カルボキシル基濃度:
試料を精製o−クレゾールに溶解、窒素気流下溶解、ブロモクレゾールブルーを指示薬とし、0.05規定水酸化カリウムのエタノール溶液で適定した。
(2) Carboxyl group concentration:
The sample was dissolved in purified o-cresol, dissolved in a nitrogen stream, and bromocresol blue was used as an indicator, and the sample was determined with an ethanol solution of 0.05 N potassium hydroxide.

(3)ステレオコンプレックス結晶化度(S)、結晶融解温度:
ステレオコンプレックス結晶化度(S)、ステレオコンプレクスポリ乳酸の結晶融解温度は、DSC(TAインスツルメント社製TA−2920)を用いて結晶融解温度、結晶融解エンタルピーを測定し、その結晶融解エンタルピーから下記式に従って求めた。
S(%) = [△Hms/(△Hmh+△Hms)] × 100
(但し、△Hmsはステレオコンプレックス相結晶の結晶融解エンタルピー、△Hmhはホモ相結晶の結晶融解エンタルピー)
(3) Stereocomplex crystallinity (S), crystal melting temperature:
The stereocomplex crystallinity (S) and the crystal melting temperature of stereocomplex polylactic acid were determined by measuring the crystal melting temperature and the crystal melting enthalpy using DSC (TA-2920 manufactured by TA Instruments). It calculated | required according to the following formula.
S (%) = [ΔHms / (ΔHmh + ΔHms)] × 100
(However, ΔHms is the crystal melting enthalpy of stereocomplex phase crystals, and ΔHmh is the crystal melting enthalpy of homophase crystals.)

(4)フィルム熱収縮率:
ASTM D1204に準じ、90℃、5時間処理した後、室温(25℃)に戻し、長さ変化より熱収縮率をもとめ、更にヘーズの値を求めた。
(4) Film heat shrinkage:
In accordance with ASTM D1204, after treatment at 90 ° C. for 5 hours, the temperature was returned to room temperature (25 ° C.), the heat shrinkage rate was determined from the change in length, and the haze value was further determined.

(5)光弾性係数:
Polymer Engineering and Science1999,39,P.2349−2357に詳細に記載された複屈折測定装置を用いた。
レーザー光の経路にフィルムの引っ張り装置を配置し、23℃で伸張応力をかけながら複屈折を測定した。伸張時の歪速度は50%/分(チャック間:10mm、チャック移動速度:5mm/分)、試験片幅は8mmで測定を行った。複屈折率差(△n)と伸張応力(σR)との関係から、最小二乗近似によりその直線の傾きをもとめ光弾性係数(CR)を計算した。
CR = Δn/σR
Δn = n − n
(CR:光弾性係数、σR:伸張応力、Δn:複屈折率差、n:伸張方向の屈折率、n:伸張方向と垂直な屈折率)
(5) Photoelastic coefficient:
Polymer Engineering and Science 1999, 39, P.A. The birefringence measuring apparatus described in detail in 2349-2357 was used.
A film tensioning device was placed in the laser beam path, and birefringence was measured while applying a tensile stress at 23 ° C. The strain rate during stretching was 50% / min (between chucks: 10 mm, chuck moving speed: 5 mm / min), and the test piece width was 8 mm. From the relationship between the birefringence difference (Δn) and the extensional stress (σR), the photoelastic coefficient (CR) was calculated by determining the slope of the straight line by least square approximation.
CR = Δn / σR
Δn = n x - n y
(CR: photoelastic coefficient, sigma] R: tensile stress, [Delta] n: birefringence difference, n x: refractive index in the stretching direction, n y: extension direction perpendicular refractive index)

(6)全光線透過率:
ASTM D1003に準拠し測定を行った。
(6) Total light transmittance:
Measurements were performed according to ASTM D1003.

(7)偏光板耐久性:
90℃×5時間熱処理した後に室温(25℃)に戻し、フィルムの耐久性を以下の基準で評価した。
○:10回折り曲げても割れない。
△:2回折り曲げても割れない。
×:折り曲げると割れる。
(7) Polarizing plate durability:
After heat treatment at 90 ° C. for 5 hours, the temperature was returned to room temperature (25 ° C.), and the durability of the film was evaluated according to the following criteria.
○: No cracking even when bent 10 times.
Δ: No cracking even when bent twice.
X: Cracked when bent.

(8)へ−ズの測定:
日本電色(株)製Hazemeter MDH2000を使用し、40μm厚フィルムを使用し、JIS K7105−1981の6.4に準拠して測定した。
へ−ズが1.6%を超えると透明性不良と判断.へ−ズが0〜1.6%の時、光学用途のフィルムとして適用可能と判断、また1%以下の時は光学用フィルムとして好適な透明性と判断した。
(8) Measurement of heads:
Using a Nippon Denshoku Co., Ltd. Hazemeter MDH2000, a 40 μm thick film was used, and the measurement was performed according to 6.4 of JIS K7105-1981.
If the haze exceeds 1.6%, the transparency is judged to be poor. When the haze was 0 to 1.6%, it was judged that it could be applied as a film for optical use. When the haze was 1% or less, it was judged to be suitable transparency as an optical film.

(9)ガラス転移温度の測定方法:
DSC(TAインストルメント社製TA−2920)を用いて求めた。
(9) Measuring method of glass transition temperature:
It calculated | required using DSC (TA-2920 by TA instrument company).

(10)面内位相差(Re)、厚み方向位相差(Rth):
長手方向の屈折率(n)および幅方向の屈折率(n)は分光エリプソメーター(日本分光(株)製M−150)で測定した。
フィルムの面方向の位相差(Re)と、厚み方向の位相差(Rth)は、長手方向の屈折率(n)、幅方向の屈折率(n)、厚み(d:nm)から下記各式より求めた。
Re = (n−n) × d
Rth = ((n+n)/2−n) × d
(10) In-plane retardation (Re), thickness direction retardation (Rth):
The refractive index in the longitudinal direction (n x) and the width direction of the refractive index (n y) was measured with a spectroscopic ellipsometer (manufactured by JASCO Corporation M-0.99).
Following from: (nm d) the phase difference in the plane direction of the film and (Re), phase difference (Rth) in the thickness, the refractive index in the longitudinal direction (n x), the refractive index in the width direction (n y), the thickness Obtained from each equation.
Re = (n x -n y) × d
Rth = ((n x + ny ) / 2−n z ) × d

(11)高温機械特性(DMA)の測定:
試料(短冊状、フィルム幅4mm、チャック間20mm)を下記装置を用いて測定した。
測定装置: TAインスツルメント社製RSA−III
測定モード:自動テンション、自動ひずみ制御法
測定温度範囲:20から200℃
昇温速度:3℃/min
測定周波数:1Hz
DMA物性(極小値有無)
無し:室温(25℃)から150℃の温度範囲に極小値発現しない。
有り:室温(25℃)から150℃の温度範囲に極小値発現する。
また、150℃におけるE’値を求めた。
(11) Measurement of high temperature mechanical properties (DMA):
A sample (strip shape, film width 4 mm, chuck distance 20 mm) was measured using the following apparatus.
Measuring device: RSA-III manufactured by TA Instruments
Measurement mode: Automatic tension, automatic strain control method Measurement temperature range: 20 to 200 ° C
Temperature increase rate: 3 ° C / min
Measurement frequency: 1Hz
DMA properties (existence of minimum value)
None: Minimal value does not appear in the temperature range from room temperature (25 ° C) to 150 ° C.
Existence: Minimal value appears in the temperature range from room temperature (25 ° C) to 150 ° C.
Further, the E ′ value at 150 ° C. was determined.

(12)フィルム形態安定性の評価:
50cm×50cmのフィルムを100℃のステンレス板上、30分間静置した後、表面の凹凸の生成状況を判定した。
×:1mm以上の凹凸が発生し、目視で表面が明らかに波打っていると認識できる。
△:0.2以上1mm未満の凹凸が発生し、目視で表面が波打っていると認識できる。
○:0.2mm未満での凹凸であり、目視では殆ど平面とみなせる。
(12) Evaluation of film shape stability:
A 50 cm × 50 cm film was allowed to stand on a stainless steel plate at 100 ° C. for 30 minutes, and then the formation of surface irregularities was determined.
X: Concavities and convexities of 1 mm or more are generated, and it can be recognized that the surface is clearly wavy.
(Triangle | delta): The unevenness | corrugation of 0.2 or more and less than 1 mm generate | occur | produces, and it can recognize that the surface is wavy visually.
○: Concavities and convexities of less than 0.2 mm, which can be regarded as almost flat by visual observation.

(13)イソシアネートガス発生テスト:
試料を、160℃で5分間加熱し、熱分解GC/MS分析によりイソシアネートガスの発生有無を確認した。GC/MSは日本電子(株)製GC/MS Jms Q1000GC K9を使用した。
(13) Isocyanate gas generation test:
The sample was heated at 160 ° C. for 5 minutes, and generation of isocyanate gas was confirmed by pyrolysis GC / MS analysis. GC / MS used was GC / MS Jms Q1000GC K9 manufactured by JEOL Ltd.

(14)耐加水分解安定性:
得られた試料を恒温恒湿機にて、80℃、95%RHにて100時間処理したときの還元粘度保持率を評価した。
(14) Hydrolysis resistance:
The reduced viscosity retention when the obtained sample was treated at 80 ° C. and 95% RH for 100 hours with a constant temperature and humidity machine was evaluated.

試料の耐加水分解安定性は、還元粘度保持率が80から95%未満であるとき「合格」で○と表記、95%から100%のとき「優秀合格」で◎と表記した。80%未満のものは「不合格」で×と表記した。   The hydrolytic stability of the sample was indicated as “Good” when the reduced viscosity retention was 80 to less than 95%, and as “Excellent” when 95% to 100%. Those less than 80% were expressed as “Fail” and indicated as “x”.

[参考例1]環状カルボジイミド化合物(C成分)の製造:
o−ニトロフェノール(0.11mol)とペンタエリトリチルテトラブロミド(0.025mol)、炭酸カリウム(0.33mol)、N,N−ジメチルホルムアミド200mlを撹拌装置及び加熱装置を設置した反応装置にN雰囲気下仕込み、130℃で12時間反応後、DMFを減圧により除去し、得られた固形物をジクロロメタン200mlに溶かし、水100mlで3回分液を行った。有機層を硫酸ナトリウム5gで脱水し、ジクロロメタンを減圧により除去し、中間生成物D(ニトロ体)を得た。
次に中間生成物D(0.1mol)と5%パラジウムカーボン(Pd/C)(2g)、エタノール/ジクロロメタン(70/30)400mlを、撹拌装置を設置した反応装置に仕込み、水素置換を5回行い、25℃で水素を常に供給した状態で反応させ、水素の減少がなくなったら反応を終了した。Pd/Cを回収し、混合溶媒を除去すると中間生成物E(アミン体)が得られた。
次に撹拌装置及び加熱装置、滴下ロートを設置した反応装置に、N雰囲気下、トリフェニルホスフィンジブロミド(0.11mol)と1,2−ジクロロエタン150mlを仕込み撹拌させた。そこに中間生成物E(0.025mol)とトリエチルアミン(0.25mol)を1,2−ジクロロエタン50mlに溶かした溶液を25℃で徐々に滴下した。滴下終了後、70℃で5時間反応させる。その後、反応溶液をろ過し、ろ液を水100mlで5回分液を行った。有機層を硫酸ナトリウム5gで脱水し、1,2−ジクロロエタンを減圧により除去し、中間生成物F(トリフェニルホスフィン体)が得られた。
次に、撹拌装置及び滴下ロートを設置した反応装置に、N2雰囲気下、ジ−tert−ブチルジカーボネート(0.11mol)とN,N−ジメチル−4−アミノピリジン(0.055mol)、ジクロロメタン150mlを仕込み撹拌させる。そこに、25℃で中間生成物F(0.025mol)を溶かしたジクロロメタン100mlをゆっくりと滴下させた。滴下後、12時間反応させる。その後、ジクロロメタンを除去し得られた固形物を、精製することで、下記構造式に示す化合物(MW=516)を得た。構造はNMR、IRにより確認した。
[Reference Example 1] Production of cyclic carbodiimide compound (component C):
o- nitrophenol (0.11 mol) and pentaerythrityl tetra bromide (0.025 mol), potassium carbonate (0.33mol), N, N- N 2 dimethylformamide 200ml in reactor installed with a stirrer and a heating device After charging in an atmosphere and reacting at 130 ° C. for 12 hours, DMF was removed under reduced pressure, and the resulting solid was dissolved in 200 ml of dichloromethane and separated three times with 100 ml of water. The organic layer was dehydrated with 5 g of sodium sulfate, and dichloromethane was removed under reduced pressure to obtain an intermediate product D (nitro form).
Next, intermediate product D (0.1 mol), 5% palladium carbon (Pd / C) (2 g), and 400 ml of ethanol / dichloromethane (70/30) were charged into a reactor equipped with a stirrer, and 5 hydrogen substitution was performed. The reaction was performed in a state where hydrogen was constantly supplied at 25 ° C., and the reaction was terminated when there was no decrease in hydrogen. When Pd / C was recovered and the mixed solvent was removed, an intermediate product E (amine body) was obtained.
Next, triphenylphosphine dibromide (0.11 mol) and 150 ml of 1,2-dichloroethane were charged and stirred in a reactor equipped with a stirring device, a heating device, and a dropping funnel in an N 2 atmosphere. A solution prepared by dissolving the intermediate product E (0.025 mol) and triethylamine (0.25 mol) in 50 ml of 1,2-dichloroethane was gradually added dropwise thereto at 25 ° C. After completion of dropping, the reaction is carried out at 70 ° C. for 5 hours. Thereafter, the reaction solution was filtered, and the filtrate was separated 5 times with 100 ml of water. The organic layer was dehydrated with 5 g of sodium sulfate, and 1,2-dichloroethane was removed under reduced pressure to obtain an intermediate product F (triphenylphosphine compound).
Next, in a reactor equipped with a stirrer and a dropping funnel, di-tert-butyl dicarbonate (0.11 mol), N, N-dimethyl-4-aminopyridine (0.055 mol), and dichloromethane 150 ml under N2 atmosphere. Charge and stir. Thereto, 100 ml of dichloromethane in which the intermediate product F (0.025 mol) was dissolved was slowly added dropwise at 25 ° C. After dropping, react for 12 hours. Then, the compound (MW = 516) shown by the following structural formula was obtained by refine | purifying the solid substance obtained by removing dichloromethane. The structure was confirmed by NMR and IR.

Figure 2011184662
Figure 2011184662

[参考例2]ポリL乳酸(A-1)の製造:
A成分として、L−ラクチド((株)武蔵野化学研究所製、光学純度100%)100重量部に対し、オクチル酸スズを0.005重量部加え、窒素雰囲気下、撹拌翼のついた反応器にて、180℃で2時間反応し、オクチル酸スズに対し触媒失活剤剤として、1.2倍当量の燐酸を添加しその後、13.3Paで残存するラクチドを除去し、チップ化し、ポリL−乳酸を得た。
得られたポリL−乳酸の重量平均分子量は15.2万、ガラス転移温度(Tg)55℃、融点は175℃であった。
[Reference Example 2] Production of poly-L-lactic acid (A-1):
As a component A, 0.005 parts by weight of tin octylate is added to 100 parts by weight of L-lactide (manufactured by Musashino Chemical Laboratory, Inc., optical purity 100%), and a reactor equipped with a stirring blade in a nitrogen atmosphere. The reaction is carried out at 180 ° C. for 2 hours, and 1.2 times equivalent of phosphoric acid is added as a catalyst deactivator to the tin octylate, and then the remaining lactide is removed at 13.3 Pa to form chips. L-lactic acid was obtained.
The obtained poly L-lactic acid had a weight average molecular weight of 152,000, a glass transition temperature (Tg) of 55 ° C., and a melting point of 175 ° C.

[参考例3]ステレオコンプレックスポリ乳酸(A−2)の製造:
参考例1において、L−ラクチドをD−ラクチド((株)武蔵野化学研究所製、光学純度100%)に変更したこと以外は同条件で重合を行い、ポリD乳酸を得た。
得られたポリD−乳酸の重量平均分子量は15.1万、ガラス転移温度(Tg)55℃、融点は175℃であった。
得られたポリD−乳酸と、参考例1の操作で得たポリL−乳酸,各50重量部とリン酸エステル金属塩((株)ADEKA製「アデカスタブ」NA−71)0.1重量部をブレンダーで混合、110℃、5時間真空乾燥した後、シリンダー温度250℃、ベント圧13.3Paで真空排気しながら溶融混練後、水槽中にストランド押し出し、チップカッターにてチップ化して、A成分としての、ステレオコンプレックス結晶化度(S)100%、結晶融解温度216℃のポリ乳酸組成物を得た。
[Reference Example 3] Production of stereocomplex polylactic acid (A-2):
In Reference Example 1, polymerization was carried out under the same conditions except that L-lactide was changed to D-lactide (manufactured by Musashino Chemical Laboratory, Inc., optical purity 100%) to obtain poly-D lactic acid.
The obtained poly-D-lactic acid had a weight average molecular weight of 151,000, a glass transition temperature (Tg) of 55 ° C., and a melting point of 175 ° C.
Obtained poly D-lactic acid, poly L-lactic acid obtained by the operation of Reference Example 1, 50 parts by weight and 0.1 parts by weight of phosphate metal salt (“ADEKA STAB” NA-71 manufactured by ADEKA) After blending with a blender and vacuum drying at 110 ° C. for 5 hours, melt kneading while evacuating at a cylinder temperature of 250 ° C. and a vent pressure of 13.3 Pa, extruding the strand into a water tank, chipping with a chip cutter, and component A As a result, a polylactic acid composition having a stereocomplex crystallinity (S) of 100% and a crystal melting temperature of 216 ° C. was obtained.

[参考例4]アクリル系樹脂(B成分):
三菱レイヨン(株)製「アクリペット」VH001をアクリル系樹脂(B成分)とした。
[Reference Example 4] Acrylic resin (component B):
“Acrypet” VH001 manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd. was used as an acrylic resin (component B).

[実施例1〜4]
参考例の操作で得られた脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)と参考例4記載のアクリル系樹脂(B成分)を表1中記載の量比で混合し、脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)とアクリル系樹脂(B成分)との合計100重量部あたり、3,5−ジカルボキシベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム0.5重量部をヘンシェルミキサーで混合した。
その後、110℃で5時間乾燥した後、参考例1の操作で得た環状カルボジイミド化合物(C成分)を混合しながら2軸押出機にてシリンダー温度、230℃で溶融混練し、ダイ温度、220℃で210μmのフィルム状に溶融押し出し、白金コート線状電極を用い、静電キャスト法によって鏡面冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。
得られた未延伸フィルムを、100℃で、縦方向に1.1〜2.0倍、横方向に1.1〜2.0倍延伸した。次に120〜140℃で熱固定を行い厚さ約40μmの二軸延伸フィルムを得た。樹脂組成物およびフィルムの製造条件、フィルムの物性を表1に示す。
[Examples 1 to 4]
The aliphatic polyester resin (component A) obtained by the operation of the reference example and the acrylic resin (component B) described in reference example 4 were mixed at the quantitative ratio shown in Table 1 to obtain an aliphatic polyester resin (component A). ) And acrylic resin (component B) per 100 parts by weight in total, 0.5 parts by weight of tetrabutylphosphonium 3,5-dicarboxybenzenesulfonate was mixed with a Henschel mixer.
Then, after drying at 110 ° C. for 5 hours, the cyclic carbodiimide compound (component C) obtained by the operation of Reference Example 1 was mixed and melt kneaded at a cylinder temperature of 230 ° C. with a twin screw extruder, a die temperature of 220 The film was melt-extruded into a film having a thickness of 210 μm at ° C., adhered to the surface of the mirror-cooled drum by an electrostatic casting method using a platinum-coated linear electrode, and solidified to obtain an unstretched film.
The obtained unstretched film was stretched 1.1 to 2.0 times in the longitudinal direction and 1.1 to 2.0 times in the transverse direction at 100 ° C. Next, heat setting was performed at 120 to 140 ° C. to obtain a biaxially stretched film having a thickness of about 40 μm. Table 1 shows the resin composition, film production conditions, and film properties.

[比較例1〜4]
表1中記載の種類、量比のA成分およびB成分を実施例1と同様にして、押し出し、延伸、フィルム化した。熱処理温度は、120℃で行った。結果を表1に記載する。
なお、比較例4は、C成分として、参考例1で合成した環状カルボジイミド化合物(C成分)に代えて、線状構造を有するカルボジイミド化合物(日清紡ケミカル(株)製「カルボジライト」LA−1)を用いた。
[Comparative Examples 1-4]
In the same manner as in Example 1, the types and amount ratios of A component and B component described in Table 1 were extruded, stretched, and formed into a film. The heat treatment temperature was 120 ° C. The results are listed in Table 1.
In Comparative Example 4, a carbodiimide compound having a linear structure (“Carbodilite LA-1” manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd.) instead of the cyclic carbodiimide compound (C component) synthesized in Reference Example 1 was used as the C component. Using.

Figure 2011184662
Figure 2011184662

Claims (17)

脂肪族ポリエステル系樹脂(A成分)、アクリル系樹脂(B成分)、カルボジイミド基を1個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物(C成分)とを含む樹脂組成物。   Aliphatic polyester resin (component A), acrylic resin (component B), compound having at least a cyclic structure in which one carbodiimide group is bonded to the first nitrogen and the second nitrogen by a bonding group (C Component). C成分において、環状構造を形成する原子数が8〜50である請求項1記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1, wherein in component C, the number of atoms forming the cyclic structure is 8 to 50. C成分が下記式(1)で表される請求項1記載の樹脂組成物。
Figure 2011184662
(式中、Qは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである2〜4価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。)
The resin composition according to claim 1, wherein the component C is represented by the following formula (1).
Figure 2011184662
(In the formula, Q is a divalent to tetravalent linking group that is an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, or a combination thereof, and may contain a hetero atom.)
Qは、下記式(1−1)、(1−2)または(1−3)で表される2〜4価の結合基である請求項3記載の樹脂組成物。
Figure 2011184662
(式中、ArおよびArは各々独立に、2〜4価の炭素数5〜15の芳香族基である。RおよびRは各々独立に、2〜4価の炭素数1〜20の脂肪族基、2〜4価の炭素数3〜20の脂環族基またはこれらの組み合わせ、またはこれら脂肪族基、脂環族基と2〜4価の炭素数5〜15の芳香族基の組み合わせである。XおよびXは各々独立に、2〜4価の炭素数1〜20の脂肪族基、2〜4価の炭素数3〜20の脂環族基、2〜4価の炭素数5〜15の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。sは0〜10の整数である。kは0〜10の整数である。なお、sまたはkが2以上であるとき、繰り返し単位としてのX、あるいはXが、他のX、あるいはXと異なっていてもよい。Xは、2〜4価の炭素数1〜20の脂肪族基、2〜4価の炭素数3〜20の脂環族基、2〜4価の炭素数5〜15の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。但し、Ar、Ar、R、R、X、XおよびXはヘテロ原子を含有していてもよい、また、Qが2価の結合基であるときは、Ar、Ar、R、R、X、XおよびXは全て2価の基である。Qが3価の結合基であるときは、Ar、Ar、R、R、X、XおよびXの内の一つが3価の基である。Qが4価の結合基であるときは、Ar、Ar、R、R、X、XおよびXの内の一つが4価の基であるか、二つが3価の基である。)
The resin composition according to claim 3, wherein Q is a divalent to tetravalent linking group represented by the following formula (1-1), (1-2), or (1-3).
Figure 2011184662
(In the formula, Ar 1 and Ar 2 are each independently an aromatic group having 2 to 4 carbon atoms and 5 to 15 carbon atoms. R 1 and R 2 are each independently 1 to 2 carbon atoms having 1 to 4 carbon atoms. 20 aliphatic groups, 2 to 4 valent alicyclic groups having 3 to 20 carbon atoms, or combinations thereof, or these aliphatic groups, alicyclic groups and 2 to 4 valent aromatic carbon atoms having 5 to 15 carbon atoms X 1 and X 2 are each independently a divalent to tetravalent aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent to tetravalent carbon atom having 3 to 20 alicyclic groups, 2 to 4 A valent aromatic group having 5 to 15 carbon atoms, or a combination thereof, s is an integer of 0 to 10. k is an integer of 0 to 10. When s or k is 2 or more, X 1 or X 2 as a repeating unit may be different from other X 1 or X 2. X 3 is a divalent to tetravalent carbon number. An aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms, an alicyclic group having 2 to 4 carbon atoms having 3 to 20 carbon atoms, an aromatic group having 2 to 4 carbon atoms having 5 to 15 carbon atoms, or a combination thereof, provided that Ar 1 , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X 2 and X 3 may contain a hetero atom, and when Q is a divalent linking group, Ar 1 , Ar 2 , R 3 1 , R 2 , X 1 , X 2 and X 3 are all divalent groups, and when Q is a trivalent linking group, Ar 1 , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X One of 2 and X 3 is a trivalent group, and when Q is a tetravalent linking group, one of Ar 1 , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X 2 and X 3 One of them is a tetravalent group or two are trivalent groups.)
C成分が、下記式(2)で表される請求項1記載の樹脂組成物。
Figure 2011184662
(式中、Qは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである2価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。)
The resin composition according to claim 1, wherein the component C is represented by the following formula (2).
Figure 2011184662
(Wherein Q a is a divalent linking group that is an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, or a combination thereof, and may contain a hetero atom.)
は、下記式(2−1)、(2−2)または(2−3)で表される2価の結合基である請求項5記載の樹脂組成物。
Figure 2011184662
(式中、Ar 、Ar 、R 、R 、X 、X 、X 、sおよびkは、各々式(1−1)〜(1−3)中のAr、Ar、R、R、X、X、X、sおよびkと同じである。)
Q a is represented by the following formula (2-1), (2-2) or a divalent linking group is 5. The resin composition according to the formula (2-3).
Figure 2011184662
(In the formula, Ar a 1 , Ar a 2 , R a 1 , R a 2 , X a 1 , X a 2 , X a 3 , s and k are represented by the formulas (1-1) to (1-3), respectively. Ar 1, Ar 2, R 1 , R 2, X 1, is the same as X 2, X 3, s and k in.)
C成分が、下記式(3)で表される請求項1記載の樹脂組成物。
Figure 2011184662
(式中、Qは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである3価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。Yは、環状構造を担持する担体である。)
The resin composition according to claim 1, wherein the component C is represented by the following formula (3).
Figure 2011184662
(Wherein Q b is a trivalent linking group which is an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, or a combination thereof, and may contain a hetero atom. Y represents a cyclic structure. It is a carrier to be supported.)
は、下記式(3−1)、(3−2)または(3−3)で表される3価の結合基である請求項7記載の樹脂組成物。
Figure 2011184662
(式中、Ar 、Ar 、R 、R 、X 、X 、X 、sおよびkは、各々式(1−1)〜(1−3)のAr、Ar、R、R、X、X、X、sおよびkと同じである。但しこれらの内の一つは3価の基である。)
Q b is represented by the following formula (3-1), (3-2) or (3-3) a trivalent linking group is 7. The resin composition according represented by.
Figure 2011184662
(In the formula, Ar b 1 , Ar b 2 , R b 1 , R b 2 , X b 1 , X b 2 , X b 3 , s and k are represented by the formulas (1-1) to (1-3), respectively. Are the same as Ar 1 , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X 2 , X 3 , s, and k, with one of these being a trivalent group.)
Yは、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーである請求項7記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 7, wherein Y is a single bond, a double bond, an atom, an atomic group or a polymer. C成分が、下記式(4)で表される請求項1記載の樹脂組成物。
Figure 2011184662
(式中、Qは、脂肪族基、芳香族基、脂環族基またはこれらの組み合わせである4価の結合基であり、ヘテロ原子を保有していてもよい。ZおよびZは、環状構造を担持する担体である。)
The resin composition according to claim 1, wherein the component C is represented by the following formula (4).
Figure 2011184662
(Wherein Q c is a tetravalent linking group that is an aliphatic group, an aromatic group, an alicyclic group, or a combination thereof, and may have a hetero atom. Z 1 and Z 2 are A carrier carrying a ring structure.)
は、下記式(4−1)、(4−2)または(4−3)で表される4価の結合基である請求項10記載の樹脂組成物。
Figure 2011184662
(式中、Ar 、Ar 、R 、R 、X 、X 、X 、sおよびkは、各々式(1−1)〜(1−3)の、Ar、Ar、R、R、X、X、X、sおよびkと同じである。但し、これらの内の一つが4価の基であるか、二つが3価の基である。)
11. The resin composition according to claim 10, wherein Q c is a tetravalent linking group represented by the following formula (4-1), (4-2), or (4-3).
Figure 2011184662
(In the formula, Ar c 1 , Ar c 2 , R c 1 , R c 2 , X c 1 , X c 2 , X c 3 , s and k are respectively represented by formulas (1-1) to (1-3) Are the same as Ar 1 , Ar 2 , R 1 , R 2 , X 1 , X 2 , X 3 , s and k, provided that one of them is a tetravalent group or two are 3 Valent group.)
およびZは各々独立に、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーである請求項10記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 10, wherein Z 1 and Z 2 are each independently a single bond, a double bond, an atom, an atomic group or a polymer. A成分が、ポリ乳酸系樹脂を含む、請求項1記載の樹脂組成物。   The resin composition of Claim 1 in which A component contains polylactic acid-type resin. ポリ乳酸系樹脂が、ステレオコンプレックス結晶を形成している、請求項13記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 13, wherein the polylactic acid-based resin forms a stereocomplex crystal. B成分が、メタクリル酸メチル重合体を含む、請求項1記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1, wherein the component B contains a methyl methacrylate polymer. 請求項1〜15のいずれか記載の樹脂組成物よりなるフィルム。   The film which consists of a resin composition in any one of Claims 1-15. 光弾性係数の絶対値が10×10−12/Pa未満である、請求項16記載のフィルム。 The film of Claim 16 whose absolute value of a photoelastic coefficient is less than 10 * 10 < -12 > / Pa.
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