JP2011032479A - Circuit connecting material, connecting structure of circuit member, and method for connecting circuit member - Google Patents

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Masahiro Arifuku
征宏 有福
Akiomi Mochizuki
日臣 望月
Takashi Nakazawa
孝 中澤
Koji Kobayashi
宏治 小林
Mitsugi Fujinawa
貢 藤縄
Takashi Tatezawa
貴 立澤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a circuit connecting material with which sufficient adhesive strength can be obtained, when connecting a circuit member having a substrate made of polyester terephthalate, polyimide resin, polyethersulfone, acrylic resin or glass, or a circuit member, wherein a layer made of silicone resin, polyimide resin, acrylic resin, etc., is formed on its surface. <P>SOLUTION: The circuit connecting material 1 contains an adhesive composition which is cured by light or heat, and an organic compound having an urethane group and an ester group, the organic compound having an aromatic group and an alicyclic group, and is used to connect circuit members provided with a substrate and a circuit electrode formed on its main surface. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、回路電極を有する回路部材同士を接続するための回路接続材料、回路部材の接続構造及び回路部材の接続方法に関する。   The present invention relates to a circuit connecting material for connecting circuit members having circuit electrodes, a circuit member connecting structure, and a circuit member connecting method.

近年、精密電子機器の分野では回路の高密度化が進んでおり、電極幅、電極間隔が極めて狭くなっているため、配線の脱落、剥離や位置ずれが生じ易くなっている。この問題を解決するため、低温速硬化性に優れ、且つ、十分に長い可使時間を有する電気・電子用の回路接続材料が開発されている(例えば、特許文献1、2。)。   In recent years, in the field of precision electronic devices has progressed densification of circuit, since the electrode width and electrode spacing have become very narrow, falling of the wiring, peeling or positional deviation becomes likely to occur. In order to solve this problem, circuit connection materials for electric and electronic use that have excellent low-temperature fast-curing properties and have a sufficiently long pot life have been developed (for example, Patent Documents 1 and 2).

国際公開98/44067号パンフレットInternational Publication No. 98/44067 Pamphlet 国際公開01/015505号パンフレットInternational publication 01/015505 pamphlet

しかしながら、上記従来の回路接続部材は、接続する回路部材を構成する材料の種類によっては、接着強度が必ずしも十分でないという問題があった。特に、回路電極を支持する基板がポリエステルテレフタレート、ポリイミド樹脂、ポリエーテルサルフォン、アクリル樹脂又はガラスで形成された基板である場合や、回路部材の表面にシリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂等からなる層が形成されている場合に、著しく接着強度が低下するという問題があった。   However, the conventional circuit connection member has a problem that the adhesive strength is not always sufficient depending on the type of material constituting the circuit member to be connected. In particular, when the substrate supporting the circuit electrode is a substrate formed of polyester terephthalate, polyimide resin, polyethersulfone, acrylic resin or glass, or the surface of the circuit member is made of silicone resin, polyimide resin, acrylic resin, or the like. When the layer is formed, there is a problem that the adhesive strength is remarkably lowered.

そこで、本発明は、ポリエステルテレフタレート、ポリイミド樹脂、ポリエーテルサルフォン、アクリル樹脂又はガラスで形成された基板を有する回路部材や、表面にシリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂等からなる層が形成されている回路部材を接続したときに、十分な接着強度が得られる回路接続材料を提供することを目的とする。   Therefore, in the present invention, a circuit member having a substrate formed of polyester terephthalate, polyimide resin, polyethersulfone, acrylic resin or glass, or a layer made of silicone resin, polyimide resin, acrylic resin or the like is formed on the surface. It is an object of the present invention to provide a circuit connecting material that can provide a sufficient adhesive strength when connected circuit members are connected.

上記課題を解決するため、本発明の回路接続材料は、光又は熱によって硬化する接着剤組成物と、ウレタン基及びエステル基を有する有機化合物と、を含有し、基板及びこれの主面上に形成された回路電極を有する回路部材同士を接続するための回路接続材料である。
また、上記課題を解決するため、本発明の回路接続材料は、光又は熱によって硬化する接着剤組成物と、ウレタン基及びエステル基を有する有機化合物と、を含有し、有機化合物が芳香族基及び環状脂肪族基を有し、基板及びこれの主面上に形成された回路電極を有する回路部材同士を接続するための回路接続材料である。
In order to solve the above problems, a circuit connection material of the present invention contains an adhesive composition that is cured by light or heat, and an organic compound having a urethane group and an ester group, on the substrate and the main surface thereof. A circuit connection material for connecting circuit members having formed circuit electrodes.
In order to solve the above problems, the circuit connection material of the present invention contains an adhesive composition that is cured by light or heat, and an organic compound having a urethane group and an ester group, and the organic compound is an aromatic group. And a circuit connecting material for connecting circuit members having a cyclic aliphatic group and having a substrate and circuit electrodes formed on the main surface of the substrate.

本発明の回路接続材料は、接着剤組成物と、ウレタン基及びエステル基を有する有機化合物とを併用したことにより、ポリエステルテレフタレート、ポリイミド樹脂、ポリエーテルサルフォン、アクリル樹脂又はガラスで形成された基板を有する回路部材や、表面にシリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂等からなる層が形成されている回路部材を接続したときに、十分な接着強度が得られるものとなった。   The circuit connection material of the present invention is a substrate formed of polyester terephthalate, polyimide resin, polyethersulfone, acrylic resin or glass by using an adhesive composition and an organic compound having a urethane group and an ester group. Adequate adhesive strength can be obtained when connecting a circuit member having a surface or a circuit member having a surface formed of a layer made of silicone resin, polyimide resin, acrylic resin, or the like.

上記接着剤組成物は、ラジカル重合性化合物及び加熱又は光によってラジカルを発生するラジカル開始剤を含有するものであることが好ましい。この場合において、金属等の無機物表面との接着強度をより一層向上できる点から、ラジカル重合性化合物は、アクリレート基又はメタクリレート基を有するリン酸エステル化合物を含むことがより好ましい。   The adhesive composition preferably contains a radical polymerizable compound and a radical initiator that generates radicals by heating or light. In this case, it is more preferable that the radical polymerizable compound contains a phosphate ester compound having an acrylate group or a methacrylate group, from the viewpoint that the adhesive strength with the surface of an inorganic substance such as a metal can be further improved.

上記有機化合物のガラス転移温度は、50℃以上であることが好ましい。有機化合物が、ウレタン基及びエステル基を共に有し、且つ、ガラス転移温度が50℃以上であることにより、特に高温高湿試験後の接着強度が更に高められる。有機化合物がウレタン基及びエステル基のうち一方しか有しないものである場合、ガラス転移温度が50℃以上であると、高温高湿環境における接着強度の低下は抑制され得るものの、初期の接着強度が十分でなくなる。   The glass transition temperature of the organic compound is preferably 50 ° C. or higher. When the organic compound has both a urethane group and an ester group and has a glass transition temperature of 50 ° C. or higher, the adhesive strength particularly after the high-temperature and high-humidity test can be further increased. When the organic compound is one which has only one of the urethane groups and ester groups, the glass transition temperature is 50 ° C. or higher, although a decrease in adhesive strength at high temperature and high humidity environment can be suppressed, the initial adhesion strength Not enough.

また、上記有機化合物は、芳香族基及び/又は環状脂肪族基を有することが好ましく、重量平均分子量は5000〜100000であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said organic compound has an aromatic group and / or a cycloaliphatic group, and it is preferable that a weight average molecular weight is 5000-100000.

本発明の回路接続材料は、導電性粒子を含有することが好ましい。これにより、同一基板上の回路電極同士の絶縁状態を維持しつつ、回路部材同士をより安定して電気的に接続できる。   The circuit connection material of the present invention preferably contains conductive particles. Thereby, the circuit members can be more stably electrically connected while maintaining the insulation state between the circuit electrodes on the same substrate.

本発明の回路部材の接続構造は、第一の基板及びこれの主面上に形成された第一の回路電極を有する第一の回路部材と、第二の基板及びこれの主面上に形成された第二の回路電極を有する第二の回路部材とが、上記本発明の回路接続材料の硬化物からなり第一及び第二の回路部材の間に設けられた回路接続部材によって、第一の回路電極と第二の回路電極とが対峙するとともに電気的に接続されるように接続されたものである。   The circuit member connection structure according to the present invention includes a first circuit member having a first substrate and a first circuit electrode formed on the main surface thereof, and a second substrate and the main surface thereof. The second circuit member having the second circuit electrode formed is made of a cured product of the circuit connection material of the present invention, and is provided by the circuit connection member provided between the first and second circuit members. The circuit electrode and the second circuit electrode face each other and are connected so as to be electrically connected.

また、本発明の回路部材の接続方法は、第一の基板及びこれの主面上に形成された第一の回路電極を有する第一の回路部材と、上記本発明の回路接続材料からなる層と、第二の基板及びこれの主面上に形成された第二の回路電極を有する第二の回路部材とを、第一の回路電極と第二の回路電極とが対峙するようにこの順に積層した積層体を加熱及び加圧することにより、第一の回路電極と第二の回路電極とが電気的に接続されるように第一の回路部材と第二の回路部材とを接続するものである。   The circuit member connection method of the present invention includes a first circuit member having a first substrate and a first circuit electrode formed on the main surface of the first substrate, and a layer comprising the circuit connection material of the present invention. And the second circuit member having the second circuit electrode formed on the second substrate and the main surface of the second substrate in this order so that the first circuit electrode and the second circuit electrode face each other. By heating and pressurizing the laminated body, the first circuit member and the second circuit member are connected so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected. is there.

本発明の回路部材の接続構造は、本発明の回路接続材料により回路部材同士が接続されていることにより、回路部材同士の接着強度が高く、高温高湿下での耐久性にも優れる。また、本発明の回路部材の接続方法によれば、本発明の回路接続材料により回路部材同士が接続することにより、回路部材同士の接着強度が高く、高温高湿下での耐久性にも優れた回路部材の接続構造が得られる。   In the circuit member connection structure of the present invention, the circuit members are connected to each other by the circuit connection material of the present invention, so that the adhesive strength between the circuit members is high and the durability under high temperature and high humidity is also excellent. Further, according to the circuit member connection method of the present invention, the circuit members are connected by the circuit connection material of the present invention, so that the adhesive strength between the circuit members is high and the durability under high temperature and high humidity is also excellent. A circuit member connection structure is obtained.

上記の回路部材の接続構造及び回路部材の接続方法において、第一及び第二の回路電極のうち少なくとも一方は、その表面が金、銀、錫、白金族の金属及びインジウム−錫酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む材料からなることが好ましい。   In the circuit member connection structure and the circuit member connection method, at least one of the first and second circuit electrodes has a surface made of gold, silver, tin, a platinum group metal, and indium-tin oxide. It is preferably made of a material containing at least one selected from the group.

また、上記の回路部材の接続構造及び回路部材の接続方法において、第一及び第二の基板のうち少なくとも一方が、ポリエステルテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂及びガラスからなる群より選ばれる少なくとも一種を含む材料からなる基板であることが好ましい。あるいは、第一及び第二の回路部材のうち少なくとも一方と回路接続部材との間に、シリコーン樹脂、アクリル樹脂及びポリイミド樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む層が形成されていることが好ましい。上記本発明の回路接続材料は、硬化して回路接続部材を形成したときに、これら特定の材料で構成された層との間で高い接着強度を発現する。   In the circuit member connection structure and the circuit member connection method, at least one of the first and second substrates is made of polyester terephthalate, polyethersulfone, epoxy resin, acrylic resin, polyimide resin, and glass. A substrate made of a material containing at least one selected from the group is preferred. Alternatively, a layer containing at least one selected from the group consisting of a silicone resin, an acrylic resin, and a polyimide resin is preferably formed between at least one of the first and second circuit members and the circuit connection member. . When the circuit connection material of the present invention is cured to form a circuit connection member, the circuit connection material exhibits high adhesive strength with a layer composed of these specific materials.

本発明によれば、ポリエステルテレフタレート、ポリイミド樹脂、ポリエーテルサルフォン、アクリル樹脂又はガラスで形成された基板を有する回路部材や、表面にシリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂等からなる層が形成されている回路部材を接続したときに、十分な接着強度が得られる回路接続材料が提供される。また、本発明によれば、接着強度と、これ以外の要求特性(接続抵抗、絶縁性等)を両立することが容易である。また、本発明によれば、上記のような効果を得るための材料組成選択の幅も比較的広い。   According to the present invention, a circuit member having a substrate formed of polyester terephthalate, polyimide resin, polyethersulfone, acrylic resin or glass, or a layer made of silicone resin, polyimide resin, acrylic resin or the like is formed on the surface. Provided is a circuit connecting material capable of obtaining sufficient adhesive strength when connecting existing circuit members. Further, according to the present invention, it is easy to achieve both adhesive strength and other required characteristics (connection resistance, insulation, etc.). Further, according to the present invention, the range of material composition selection for obtaining the above effects is relatively wide.

本発明によるフィルム状の回路接続材料の一実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the film-form circuit connection material by this invention. 本発明による回路部材の接続構造の一実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the connection structure of the circuit member by this invention. 本発明による回路部材の接続構造の他の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows other embodiment of the connection structure of the circuit member by this invention.

以下、本発明の好適な実施形態について、場合により図面を参照して詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

本発明の回路接続材料は、光又は熱によって硬化する接着剤組成物を含有する。この接着剤組成物は、ラジカル重合性化合物及び加熱又は光によってラジカルを発生するラジカル開始剤を含有するものであることが好ましい。   The circuit connection material of the present invention contains an adhesive composition that is cured by light or heat. This adhesive composition preferably contains a radical polymerizable compound and a radical initiator that generates radicals by heating or light.

ラジカル重合性化合物は、活性ラジカルによって重合する官能基を有するものであり、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物が好適に用いられる。光ラジカル重合性化合物は重合性モノマー及び重合性オリゴマーのいずれであってもよい。重合性オリゴマーは一般に高粘度であるため、重合性オリゴマーを用いる場合、低粘度の重合性多官能アクリレートモノマー等の重合性モノマーを併用して粘度調整することが好ましい。   The radical polymerizable compound has a functional group that is polymerized by an active radical, and for example, an acrylate compound, a methacrylate compound, and a maleimide compound are preferably used. The radical photopolymerizable compound may be either a polymerizable monomer or a polymerizable oligomer. Since the polymerizable oligomer generally has a high viscosity, when the polymerizable oligomer is used, it is preferable to adjust the viscosity by using a polymerizable monomer such as a polymerizable polyfunctional acrylate monomer having a low viscosity.

アクリル酸エステル化合物又はメタクリル酸エステル化合物としては、エポキシアクリレートオリゴマー、ウレタンアクリレートオリゴマー、ポリエーテルアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレートオリゴマー等の重合性オリゴマーや、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等の重合性モノマーが用いられる。   As the acrylic acid ester compound or methacrylic acid ester compound, polymerizable oligomers such as epoxy acrylate oligomers, urethane acrylate oligomers, polyether acrylate oligomers, and polyester acrylate oligomers, and polymerizable monomers such as acrylic acid esters and methacrylic acid esters are used. .

アクリル酸エステルとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリアルキレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールアクリレート、2−シアノエチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニロキシエチルアクリレート、2−(2−エトキシエトキシ)エチルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、n−ヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、n−ラウリルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、2−フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリールアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アリルアクリレート等の、単官能若しくは多官能のアクリレートモノマーが挙げられる。   Examples of acrylic esters include trimethylolpropane triacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyalkylene glycol diacrylate, pentaerythritol acrylate, 2-cyanoethyl acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl acrylate, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-hexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, hydroxypropyl acrylate, isobornyl acrylate, isodecyl acrylate, isooctyl acrylate, n- Lauryl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-phenoxye Le acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, neopentyl glycol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and allyl acrylate, acrylate monomer monofunctional or polyfunctional the like.

メタクリル酸エステルとしては、上記アクリル酸エステルと類似した化合物である、t−ブチルアミノエチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンテニロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、n−ラウリルアクリレート、ステアリルメタクリレート、トリデシルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルメタクリレート等の、単官能若しくは多官能のメタクリレートモノマーが挙げられる。   As the methacrylic acid ester, compounds similar to the above acrylic acid ester, t-butylaminoethyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, isobornyl methacrylate, isodecyl methacrylate, Examples thereof include monofunctional or polyfunctional methacrylate monomers such as n-lauryl acrylate, stearyl methacrylate, tridecyl methacrylate, glycidyl methacrylate, and allyl methacrylate.

アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとしては、上記の他、アクリレート基又はメタクリレート基を有するリン酸エステル化合物が好適に用いられる。このリン酸エステル化合物としては、例えば、下記一般式(1)で表される化合物が好ましい。式(1)中、nは1〜3の整数を示し、Rは水素原子又はメチル基を示す。式(1)で表される化合物の具体例としては、モノ(2−メタクリロイルオキシエチル)アシッドフォスフェート、ジ(2−メタクリロイルオキシエチル)アシッドフォスフェートが挙げられる。このリン酸エステル化合物は、例えば、無水リン酸と2−ヒドロキシエチルアクリレートの反応により、合成される。   As the acrylic ester or methacrylic ester, in addition to the above, a phosphoric ester compound having an acrylate group or a methacrylate group is preferably used. As this phosphate compound, for example, a compound represented by the following general formula (1) is preferable. In formula (1), n represents an integer of 1 to 3, and R represents a hydrogen atom or a methyl group. Specific examples of the compound represented by the formula (1) include mono (2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate and di (2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate. This phosphate ester compound is synthesized, for example, by a reaction between phosphoric anhydride and 2-hydroxyethyl acrylate.

Figure 2011032479
Figure 2011032479

マレイミド化合物としては、マレイミド基を少なくとも2個以上有するものが好ましい。マレイミド基を2個以上有するマレイミド化合物としては、例えば、1−メチル−2、4−ビスマレイミドベンゼン、N,N’−m−フェニレンビスマレイミド、N,N’−p−フェニレンビスマレイミド、N,N’−m−トルイレンビスマレイミド、N,N’−4,4−ビフェニレンビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジメチル−ビフェニレン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジメチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジエチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルプロパンビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルエーテルビスマレイミド、N,N’−3,3’−ジフェニルスルホンビスマレイミド、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(3−s−ブチル−4−8(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、1,1−ビス(4−(4ーマレイミドフェノキシ)フェニル)デカン、4,4’−シクロヘキシリデン−ビス(1−(4マレイミドフェノキシ)−2−シクロヘキシルベンゼン、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン等が挙げられる。これらは単独で又は複数種組み合わせて用いられる。   As the maleimide compound, those having at least two maleimide groups are preferable. Examples of maleimide compounds having two or more maleimide groups include 1-methyl-2,4-bismaleimidebenzene, N, N′-m-phenylenebismaleimide, N, N′-p-phenylenebismaleimide, N, N'-m-toluylene bismaleimide, N, N'-4,4-biphenylene bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'-dimethyl-biphenylene) bismaleimide, N, N'- 4,4- (3,3′-dimethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N′-4,4- (3,3′-diethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N′-4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N′-4,4-diphenylpropane bismaleimide, N, N′-4,4-diphenyl ether bismaleimide, N, N′-3,3′-diphe Le sulfone bismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimide phenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (3-s-butyl -4-8 (4-maleimide phenoxy) phenyl) propane, 1, 1-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) decane, 4,4′-cyclohexylidene-bis (1- (4maleimidophenoxy) -2-cyclohexylbenzene, 2,2-bis (4- (4 -Maleimidophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, etc. These may be used alone or in combination.

ラジカル重合性化合物としては、上記の化合物を必要に応じて単独又は複数種混合して用いられる。特に、回路接続材料の硬化収縮を抑制できることや、硬化物に柔軟性を付与できることから、ウレタンアクリレートオリゴマーが好ましく、このウレタンアクリレートと重合性モノマーの1種以上を併用することがより好ましい。   As a radically polymerizable compound, said compound is used individually or in mixture of multiple types as needed. In particular, urethane acrylate oligomers are preferable because curing shrinkage of the circuit connecting material can be suppressed and flexibility can be imparted to the cured product, and it is more preferable to use the urethane acrylate and one or more polymerizable monomers in combination.

加熱又は光によってラジカルを発生するラジカル開始剤としては、有機過酸化物、アゾ系化合物、光開始剤のような、加熱及び光照射のうち少なくとも何れか一方の処理により活性ラジカルを発生する化合物が用いられる。   Examples of radical initiators that generate radicals by heating or light include compounds that generate active radicals by treatment of at least one of heating and light irradiation, such as organic peroxides, azo compounds, and photoinitiators. Used.

有機過酸化物及びアゾ系化合物は、主として加熱により活性ラジカルを発生する。これらの化合物をラジカル開始剤として用いる場合、有機化酸化物及び/又はアゾ系化合物から1種または2種以上を、目的とする接続温度、接続時間、ポットライフ等により適宜選択する。   Organic peroxides and azo compounds generate active radicals mainly by heating. When these compounds are used as radical initiators, one or more of the organic oxides and / or azo compounds are appropriately selected depending on the intended connection temperature, connection time, pot life, and the like.

有機過酸化物は、高い反応性と十分なポットライフの両立の点から、半減期10時間の温度が40℃以上、且つ、半減期1分の温度が180℃以下であることが好ましく、半減期10時間の温度が60度以上、且つ、半減期1分の温度が170以下であることがより好ましい。また、有機化酸化物は、回路部材の回路電極(接続端子)の腐食を防止するために、塩素イオンや有機酸の含有量が5000ppm以下であることが好ましく、さらに、加熱分解後に発生する有機酸が少ないものがより好ましい。   Organic peroxide, in terms of both high reactivity and sufficient pot life, half-life temperature of 10 hours 40 ° C. or higher, and is preferably a temperature of 1 minute half-life is 180 ° C. or less, half More preferably, the temperature for a period of 10 hours is 60 ° C. or more, and the temperature for a half-life of 1 minute is 170 or less. Further, organic peroxide is generated in order to prevent corrosion of the circuit electrodes of the circuit members (connection terminals), the content of chlorine ions and organic acid is 5000ppm or less, further, after thermal decomposition organic Those with less acid are more preferred.

有機化酸化物としては、具体的には、ジアシルパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、シリルパーオキサイド等が好適に用いられる。   Specifically, as the organic oxide, diacyl peroxide, dialkyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxyester, peroxyketal, hydroperoxide, silyl peroxide and the like are preferably used.

ジアシルパーオキサイドとしては、イソブチルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアロイルパーオキサイド、スクシニックパーオキサイド、ベンゾイルパーオキシトルエン、ベンゾイルパーオキサイド等が挙げられる。   Diacyl peroxides include isobutyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl Examples include peroxytoluene and benzoyl peroxide.

ジアルキルパーオキサイドとしては、α,α’ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド等が挙げられる。   Dialkyl peroxides include α, α ′ bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, and t-butylcumi. Examples include ruperoxide.

パーオキシジカーボネートとしては、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネト、ジ−2−エトキシメトキシパーオキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシルパーオキシ)ジカーボネート、ジメトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチルパーオキシ)ジカーボネート等が挙げられる。   Examples of peroxydicarbonate include di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxydicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-2-ethoxymethoxyperoxydicarbonate, (2-Ethylhexylperoxy) dicarbonate, dimethoxybutylperoxydicarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutylperoxy) dicarbonate and the like.

パーオキシエステルとしては、クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシノエデカノエート、t−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノネート、t−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(m−トルオイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシアセテート、ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサヒドロテレフタレート等が挙げられる。   Peroxyesters include cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxynoedecanoate, and t-hexyl. Peroxyneodecanoate, t-butylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2- Ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate Nate, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, -Hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanonate, t-butylperoxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di (m-toluoyl par Oxy) hexane, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexylperoxybenzoate, t-butylperoxyacetate, di (t-butylperoxy) hexahydroterephthalate Etc.

パーオキシケタールとしては、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)デカン等が挙げられる。   Peroxyketals include 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t- Butyl peroxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1- (t-butylperoxy) cyclododecane, 2,2-bis (t-butylperoxy) decane and the like.

ハイドロパーオキサイドとしては、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等が挙げられる。   Examples of the hydroperoxide include diisopropylbenzene hydroperoxide and cumene hydroperoxide.

シリルパーオキサイドとしては、t−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジメチルシリルパーオキサイド、t−ブチルトリビニルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジビニルシリルパーオキサイド、トリス(t−ブチル)ビニルシリルパーオキサイド、t−ブチルトリアリルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジアリルシリルパーオキサイド、トリス(t−ブチル)アリルシリルパーオキサイド等が挙げられる。   Examples of silyl peroxides include t-butyltrimethylsilyl peroxide, bis (t-butyl) dimethylsilyl peroxide, t-butyltrivinylsilyl peroxide, bis (t-butyl) divinylsilyl peroxide, and tris (t-butyl). Examples thereof include vinylsilyl peroxide, t-butyltriallylsilyl peroxide, bis (t-butyl) diallylsilyl peroxide, and tris (t-butyl) allylsilyl peroxide.

これら有機化酸化物及びアゾ系化合物は、単独でまたは複数種を混合して使用することができる。また、分解促進剤、抑制剤等を併用してもよい。更に、これらの化合物をポリウレタン系、ポリエステル系の高分子化合物等で被覆してマイクロカプセル化したものが、長い可使時間が得られるため、好ましい。   These organic oxides and azo compounds can be used alone or as a mixture of two or more. Moreover, you may use a decomposition accelerator, an inhibitor, etc. together. Further, those obtained by coating these compounds with a polyurethane-based or polyester-based polymer compound or the like and microencapsulated are preferable because a long pot life can be obtained.

光開始剤としては、例えば、ベンゾインエチルエーテル、イソプロピルベンゾインエーテル等のベンゾインエーテル、ベンジル、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のベンジルケタール、ベンゾフェノン、アセトフェノン等のケトン類およびその誘導体、チオキサントン類、ビスイミダゾール類等が好適に用いられる。   Examples of the photoinitiator include benzoin ethers such as benzoin ethyl ether and isopropyl benzoin ether, benzyl ketals such as benzyl and hydroxycyclohexyl phenyl ketone, ketones such as benzophenone and acetophenone and derivatives thereof, thioxanthones, and bisimidazoles. Preferably used.

光開始剤を用いる場合、用いる光源の波長や所望の硬化特性等に応じて、最適な光開始剤が選択される。また、光開始剤は、必要に応じて、アミン類、イオウ化合物、リン化合物等の増感剤を任意の比率で併用してもよい。   When a photoinitiator is used, an optimal photoinitiator is selected according to the wavelength of the light source used, desired curing characteristics, and the like. Moreover, a photoinitiator may use together sensitizers, such as amines, a sulfur compound, and a phosphorus compound, in arbitrary ratios as needed.

増感剤としては、脂肪族アミン、芳香族アミン、含窒素環状構造を有するピペリジン等の環状アミン、o−トリルチオ尿素、ナトリウムジエチルジチオホスフェート、芳香族スルフィン酸の可溶性塩、N,N’−ジメチル−p−アミノベンゾニトリル、N,N’−ジエチル−p−アミノベンゾニトリル、N,N’−ジ(β−シアノエチル)−p−アミノベンゾニトリル、N,N’−ジ(β−クロロエチル)−p−アミノベンゾニトリル、トリ−n−ブチルホスフィン等が好ましい。   Sensitizers include aliphatic amines, aromatic amines, cyclic amines such as piperidine having a nitrogen-containing cyclic structure, o-tolylthiourea, sodium diethyldithiophosphate, soluble sulfinic acid salts, N, N′-dimethyl -P-aminobenzonitrile, N, N'-diethyl-p-aminobenzonitrile, N, N'-di (β-cyanoethyl) -p-aminobenzonitrile, N, N'-di (β-chloroethyl)- P-aminobenzonitrile, tri-n-butylphosphine and the like are preferable.

あるいは、プロピオフェノン、アセトフェノン、キサントン、4−メチルアセトフェノン、ベンゾフェノン、フルオレン、トリフェニレン、ビフェニル、チオキサントン、アントラキノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、フェナントレン、ナフタレン、4−フェニルアセトフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、1−ヨードナフタレン、2−ヨードナフタレン、アセナフテン、2−ナフトニトリル、1−ナフトニトリル、クリセン、ベンジル、フルオランテン、ピレン、1,2−ベンゾアントラセン、アクリジン、アントラセン、ペリレン、テトラセン、2−メトキシナフタレン等の非色素系増感剤、チオニン、メチレンブルー、ルミフラビン、リボフラビン、ルミクロム、クマリン、ソラレン、8−メトキシソラレン、6−メチルクマリン、5−メトキシソラレン、5−ヒドロキシソラレン、クマリルピロン、アクリジンオレンジ、アクリフラビン、プロフラビン、フルオレセイン、エオシンY、エオシンB、エリトロシン、ローズベンガル等の色素系増感剤を用いることができる。   Alternatively, propiophenone, acetophenone, xanthone, 4-methylacetophenone, benzophenone, fluorene, triphenylene, biphenyl, thioxanthone, anthraquinone, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, Phenanthrene, naphthalene, 4-phenylacetophenone, 4-phenylbenzophenone, 1-iodonaphthalene, 2-iodonaphthalene, acenaphthene, 2-naphthonitrile, 1-naphthonitrile, chrysene, benzyl, fluoranthene, pyrene, 1,2-benzoanthracene , acridine, anthracene, perylene, tetracene, non dye-based sensitizers such as 2-methoxynaphthalene, thionine, methylene blue, lumiflavin, riboflavin, Le Chromium, coumarin, psoralen, 8-methoxypsoralen, 6-methylcoumarin, 5-methoxypsoralen, 5-hydroxypsoralen, coumarylpyrone, acridine orange, acriflavine, proflavine, fluorescein, eosin Y, eosin B, erythrosine, rose bengal, etc. The following dye-based sensitizers can be used.

ラジカル開始剤としては、以上のような光開始剤と、有機化酸化物、アゾ系化合物等の熱によりラジカルを発生する化合物とを併用してもよい。   As a radical initiator, you may use together the above photoinitiators and the compound which generate | occur | produces a radical by heat, such as an organic oxide and an azo compound.

接着剤組成物は、エポキシ樹脂及びこれの硬化剤を含有するものであってもよい。エポキシ樹脂としては、1分子内に2個以上のグリシジル基を有する各種のエポキシ化合物等を単独にあるいは2種以上を混合して用いられる。具体的には、エピクロルヒドリンとビスフェノールAやF、AD等から誘導されるビスフェノール型エポキシ樹脂、エピクロルヒドリンとフェノールノボラックやクレゾールノボラックから誘導されるエポキシノボラック樹脂やナフタレン環を含んだ骨格を有するナフタレン系エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。エポキシ樹脂は、不純物イオン(Na、Cl等)や、加水分解性塩素等を300ppm以下に低減した高純度品であることが、エレクトロンマイグレーション防止のために好ましい。 The adhesive composition may contain an epoxy resin and a curing agent thereof. As the epoxy resin, various epoxy compounds having two or more glycidyl groups in one molecule may be used alone or in admixture of two or more. Specifically, bisphenol-type epoxy resins derived from epichlorohydrin and bisphenol A, F, AD, etc., epoxy novolac resins derived from epichlorohydrin and phenol novolac or cresol novolac, and naphthalene-based epoxy resins having a skeleton containing a naphthalene ring Glycidylamine type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, alicyclic epoxy resin and the like. The epoxy resin is preferably a high-purity product in which impurity ions (Na + , Cl −, etc.), hydrolyzable chlorine and the like are reduced to 300 ppm or less in order to prevent electron migration.

エポキシ樹脂の硬化剤としては、十分に長いポットライフを得るため、潜在性硬化剤が好ましい。イミダゾール系、ヒドラジド系、三フッ化ホウ素−アミン錯体、スルホニウム塩、アミンイミド、ポリアミンの塩、ジシアンジアミドや、これらの硬化剤をポリウレタン系、ポリエステル系の高分子物質等で被覆してマイクロカプセル化したもの挙げられる。これらは、単独または混合して使用することができ、分解促進剤、抑制剤等を併用してもよい。   As the curing agent for the epoxy resin, a latent curing agent is preferable in order to obtain a sufficiently long pot life. Imidazole-based, hydrazide-based, boron trifluoride-amine complex, sulfonium salt, amine imide, polyamine salt, dicyandiamide, and these hardeners coated with polyurethane-based or polyester-based polymeric substances, etc. Can be mentioned. These can be used alone or in combination, and a decomposition accelerator, an inhibitor, and the like may be used in combination.

本発明の回路接続材料は、以上のような接着剤組成物と、ウレタン基及びエステル基を有する有機化合物(以下「エステルウレタン化合物」という場合がある。)とを組み合わせたものである。エステルウレタン化合物は、ウレタン基及びエステル基をその主鎖中に有することが好ましい。   The circuit connecting material of the present invention is a combination of the above adhesive composition and an organic compound having a urethane group and an ester group (hereinafter sometimes referred to as “ester urethane compound”). The ester urethane compound preferably has a urethane group and an ester group in its main chain.

このエステルウレタン化合物は、例えば、ポリエステルポリオールと、ジイソシアネートとの反応により、得られる。この反応により得られるエステルウレタン化合物は、一般に、ポリエステルウレタン樹脂と称される場合がある。   This ester urethane compound is obtained, for example, by a reaction between a polyester polyol and a diisocyanate. The ester urethane compound obtained by this reaction may be generally referred to as a polyester urethane resin.

ジイソシアネートとしては、2,4−トリレンジイソシアネート(TDI)、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)などの、芳香族、脂環族、または脂肪族のジイソシアネートが好適に用いられる。   Diisocyanates include 2,4-tolylene diisocyanate (TDI), 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI), 1,6-hexamethylene diisocyanate (HDI), isophorone diisocyanate (IPDI), and aromatic and alicyclic rings. An aliphatic or aliphatic diisocyanate is preferably used.

ポリエステルポリオールは、例えば、ジカルボン酸とジオールとの反応により、得られる。ジカルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、セバチン酸などの芳香族や脂肪族ジカルボン酸が好ましい。ジオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールのようなグリコール類が好ましい。   The polyester polyol is obtained, for example, by a reaction between a dicarboxylic acid and a diol. As the dicarboxylic acid, aromatic or aliphatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, and sebacic acid are preferable. As the diol, glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, hexanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol, and triethylene glycol are preferable.

エステルウレタン化合物のガラス転移温度は、50℃以上であることが好ましい。エステルウレタン化合物は、ポリエステルポリオールやジイソシアネートの種類や、分子量等を適宜調整することにより、そのガラス転移温度を50℃以上とすることができる。   The glass transition temperature of the ester urethane compound is preferably 50 ° C. or higher. The ester urethane compound can have a glass transition temperature of 50 ° C. or higher by appropriately adjusting the type, molecular weight, and the like of polyester polyol and diisocyanate.

エステルウレタン化合物は、アニオン性を有することが好ましい。これにより、接着強度が更に向上する。アニオン性を有するエステルウレタン化合物は、ポリエステルポリオールとジイソシアネートとの反応の際に、側鎖にスルホン酸基やカルボキシル基を有するジオールやジアミン類を共重合させることにより得られる。   The ester urethane compound preferably has an anionic property. Thereby, adhesive strength further improves. The ester urethane compound having an anionic property can be obtained by copolymerizing a diol or diamine having a sulfonic acid group or a carboxyl group in the side chain in the reaction of the polyester polyol and the diisocyanate.

エステルウレタン化合物は、ベンゼン環等を含む芳香族基や、シクロヘキサン環等を含む環状脂肪族基を有することが好ましい。   The ester urethane compound preferably has an aromatic group containing a benzene ring or the like, or a cyclic aliphatic group containing a cyclohexane ring or the like.

エステルウレタン化合物は、2種類以上混合して使用することができる。例えば、芳香族ポリエステルポリオールと脂肪族ジイソシアネートとの反応により得られるものと、脂肪族ポリエステルポリオールと芳香族ジイソシアネートとの反応により得られるものとを組み合わせることができる。   Two or more types of ester urethane compounds can be mixed and used. For example, what is obtained by reaction of an aromatic polyester polyol and aliphatic diisocyanate and what is obtained by reaction of an aliphatic polyester polyol and aromatic diisocyanate can be combined.

エステルウレタン化合物は、重量平均分子量が5000〜100000であることが好ましい。重量平均分子量が5000未満であると、フィルム状に成形する際のフィルム形成性が低下する傾向にあり、重量平均分子量が200000を超えると、溶剤への溶解性や相溶性が低下して、フィルム状に成形するための塗工液を調製することが困難となる傾向にある。   The ester urethane compound preferably has a weight average molecular weight of 5,000 to 100,000. If the weight average molecular weight is less than 5000, there is a tendency to decrease the film forming property when formed into a film shape, the weight average molecular weight exceeds 200,000, solubility and compatibility with the solvent is lowered, the film It tends to be difficult to prepare a coating liquid for forming into a shape.

エステルウレタン化合物は、ラジカル重合性を有する不飽和二重結合及び/またはエポキシ基を有していることが好ましい。これにより、回路接続材料を硬化するときに、接着剤組成物中のエポキシ樹脂やラジカル重合性化合物と反応して、回路接続材料の硬化物の弾性率や耐熱性が向上する。   The ester urethane compound preferably has an unsaturated double bond and / or an epoxy group having radical polymerizability. Thereby, when hardening a circuit connection material, it reacts with the epoxy resin and radically polymerizable compound in an adhesive composition, and the elasticity modulus and heat resistance of the hardened | cured material of a circuit connection material improve.

回路接続材料は、以上説明したような成分の他、水酸基含有樹脂を含有していてもよい。水酸基含有樹脂としては、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアミド、ポリエステル、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン(上記エステルウレタン化合物を除く。)などの樹脂が用いられる。この中でも、フェノキシ樹脂が特に好ましい。これらの水酸基含有樹脂を用いることにより、硬化時の応力緩和性に優れ、水酸基によって接着性が更に向上する。   The circuit connecting material may contain a hydroxyl group-containing resin in addition to the components described above. As the hydroxyl group-containing resin, resins such as polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyamide, polyester, phenol resin, epoxy resin, phenoxy resin, polyurethane (excluding the ester urethane compound) are used. Among these, phenoxy resin is particularly preferable. By using these hydroxyl group-containing resins, the stress relaxation property during curing is excellent, and the adhesion is further improved by the hydroxyl group.

水酸基含有樹脂の重量平均分子量は10000以上であることが好ましく、10000〜1000000であることがより好ましい。水酸基含有樹脂の重量平均分子量が1000000を超えると、他の成分との混合性が低下する傾向にある。また、水酸基含有樹脂のガラス転移温度は、−50℃以上であることが好ましい。   The weight average molecular weight of the hydroxyl group-containing resin is preferably 10,000 or more, and more preferably 10,000 to 1,000,000. When the weight average molecular weight of the hydroxyl group-containing resin exceeds 1,000,000, the miscibility with other components tends to decrease. Moreover, it is preferable that the glass transition temperature of hydroxyl-containing resin is -50 degreeC or more.

耐熱性の更なる向上のため、水酸基含有樹脂は、ラジカル重合性の官能基を有していることが、好ましい。但し、この場合には、水酸基含有樹脂は、上述のラジカル重合性化合物として用いられる。また、水酸基含有樹脂は、カルボキシル基含有エラストマー、エポキシ基含有エラストマー等によって変性されていてもよい。   In order to further improve the heat resistance, the hydroxyl group-containing resin preferably has a radical polymerizable functional group. However, in this case, the hydroxyl group-containing resin is used as the above-mentioned radical polymerizable compound. Further, the hydroxyl group-containing resin may be modified with a carboxyl group-containing elastomer, an epoxy group-containing elastomer, or the like.

回路接続材料は、応力緩和に優れるものとするため、アクリルゴムを含有することが好ましい。アクリルゴムとしては、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル及びアクリロニトリルのうち少なくとも一種のアクリル系モノマーを重合した重合体又は共重合体が用いられる。アクリルゴムは、上記モノマーを、グリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリレートと共重合体したものであってもよい。アクリルゴムの重量平均分子量(重量平均)は、回路接続材料の凝集力を高める点から、20万以上であることが好ましい。   In order to make the circuit connection material excellent in stress relaxation, it is preferable to contain acrylic rubber. As the acrylic rubber, a polymer or copolymer obtained by polymerizing at least one acrylic monomer among acrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid ester and acrylonitrile is used. The acrylic rubber may be one obtained by copolymerizing the above monomer with glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate. The weight average molecular weight (weight average) of the acrylic rubber is preferably 200,000 or more from the viewpoint of increasing the cohesive strength of the circuit connecting material.

回路接続材料は、スチレン樹脂を含有していてもよい。スチレン樹脂は、スチレン単体を重合したものであってもよいし、スチレンを無水マレイン酸化合物、マレイミド化合物うち少なくとも1つとスチレンを共重合した共重合体であってよい。スチレン樹脂の重量平均分子量(重量平均)は、回路接続材料の凝集力を高める点から、10万以上であることが好ましい。   The circuit connection material may contain a styrene resin. Styrene resins may be obtained by polymerizing styrene alone, styrene maleic anhydride compound may be a copolymer obtained by copolymerizing at least one styrene of maleimide compound. The weight average molecular weight (weight average) of the styrene resin is preferably 100,000 or more from the viewpoint of increasing the cohesive strength of the circuit connecting material.

回路接続材料は、さらに、充填剤、軟化剤、促進剤、老化防止剤、着色剤、難燃化剤、チキソトロピック剤、カップリング剤及びフェノール樹脂やメラミン樹脂、イソシアネート類等を含有していてもよい。   The circuit connection material further contains a filler, softener, accelerator, anti-aging agent, colorant, flame retardant, thixotropic agent, coupling agent, phenol resin, melamine resin, isocyanates, and the like. Also good.

充填剤を含有させた場合、接続信頼性等の向上が得られるので好ましい。充填剤の最大径が導電性粒子の粒径未満であることが好ましく、その量は5〜60体積部(接着剤組成物100体積部に対して)の範囲が好ましい。60体積部を越えると信頼性向上の効果が飽和することがあり、5体積部未満では添加の効果が少ない。カップリング剤としては、ビニル基、アクリル基、アミノ基、エポキシ基、及びイソシアネート基含有物が、接着性の向上の点から好ましい。   The inclusion of a filler is preferable because improvement in connection reliability and the like can be obtained. The maximum diameter of the filler is preferably less than the particle diameter of the conductive particles, and the amount is preferably in the range of 5 to 60 parts by volume (with respect to 100 parts by volume of the adhesive composition). If it exceeds 60 parts by volume, the effect of improving the reliability may be saturated, and if it is less than 5 parts by volume, the effect of addition is small. As a coupling agent, a vinyl group, an acrylic group, an amino group, an epoxy group, and an isocyanate group-containing material are preferable from the viewpoint of improving adhesiveness.

回路接続材料は、導電性粒子を含有していることが好ましい。導電性粒子が含有されていなくとも、回路電極同士の直接接触により回路部材を接続することが可能であるが、導電粒子を含有することにより、より安定して接続することが可能となる。   The circuit connection material preferably contains conductive particles. Even if the conductive particles are not contained, it is possible to connect the circuit members by direct contact between the circuit electrodes, but the inclusion of the conductive particles makes it possible to connect more stably.

導電性粒子としては、Au、Ag、Ni、Cu、はんだ等の金属の粒子やカーボン粒子等が挙げられる。ポットライフを十分に長くするため、導電性粒子は、Au、Ag、白金属の金属を含むことが好ましく、Auを含むことがより好ましい。   Examples of the conductive particles include metal particles such as Au, Ag, Ni, Cu, and solder, and carbon particles. In order to make the pot life sufficiently long, the conductive particles preferably contain Au, Ag, or a white metal, and more preferably contain Au.

導電性粒子は、Ni等の遷移金属や、非導電性のガラス、セラミック、プラスチック等で形成された粒子を核として、その表面をAu等の貴金属からなる被覆層で被覆したものであることが好ましい。このような貴金属の被覆層を有する導電性粒子は、回路接続材料を加熱及び加圧したときに変形することにより回路電極との接触面積が増加して、信頼性がより向上する。貴金属の被覆層の厚みは、良好な接続抵抗を得るためには、100オングストローム以上であることが好ましい。更に、核がNi等の遷移金属の粒子である場合には、被覆層の厚みは300オングストローム以上であることがより好ましい。被覆層の厚みが300オングストローム未満である場合、導電性粒子を樹脂中に分散する際等に被覆層の一部が欠損したときに、酸化還元作用により遊離ラジカルが発生して、回路接続材料の保存安定性が低下する傾向にある。   The conductive particles may be particles in which transition metal such as Ni or non-conductive glass, ceramic, plastic or the like is used as a core and the surface is coated with a coating layer made of a noble metal such as Au. preferable. The conductive particles having such a noble metal coating layer are deformed when the circuit connecting material is heated and pressurized, thereby increasing the contact area with the circuit electrode and further improving the reliability. The thickness of the noble metal coating layer is preferably 100 angstroms or more in order to obtain good connection resistance. Furthermore, when the core is particles of a transition metal such as Ni, the thickness of the coating layer is more preferably 300 angstroms or more. When the thickness of the coating layer is less than 300 angstroms, when a part of the coating layer is lost when the conductive particles are dispersed in the resin, free radicals are generated due to the redox action, and the circuit connection material Storage stability tends to decrease.

導電性粒子の量は、接着剤組成物100体積部に対して、0.1〜30体積部であることが好ましい。過剰な導電性粒子による隣接回路の短絡等を防止するためには、0.1〜10体積部とするのがより好ましい。   It is preferable that the quantity of electroconductive particle is 0.1-30 volume parts with respect to 100 volume parts of adhesive compositions. In order to prevent an adjacent circuit from being short-circuited by excessive conductive particles, the amount is more preferably 0.1 to 10 parts by volume.

図1は、本発明によるフィルム状の回路接続材料の一実施形態を示す断面図である。フィルム状の回路接続材料1は、複数の導電性粒子5が、接着剤組成物及びエステルウレタン化合物等を含有する樹脂組成物層3中に分散した回路接続材料がフィルム状に成形されたものである。フィルム状の回路接続材料1は、例えば、支持フィルム上に回路接続材料を所定の厚みで塗工することにより、作製することができる。支持フィルムとしては、離型性を有するように表面処理されたPETフィルム等が好適に用いられる。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a film-like circuit connecting material according to the present invention. Film-like circuit connecting material 1 is intended a plurality of electrically conductive particles 5, the circuit connecting material dispersed in the resin composition layer 3 containing an adhesive composition and an ester urethane compound or the like is formed into a film is there. The film-like circuit connection material 1 can be produced, for example, by coating the circuit connection material with a predetermined thickness on a support film. As the support film, a PET film or the like surface-treated so as to have releasability is preferably used.

フィルム状の回路接続材料1は、対向する1対の回路部材同士間に挟まれた状態で加熱及び加圧されたときに、溶融流動して対峙する回路電極同士を電気的に接続した後、硬化して接着強度を発現する。したがって、フィルム状の回路接続材料1の流動性は重要である。具体的には、フィルム状の回路接続材料1(厚み35μm、5mm×5mm)を、2枚のガラス板(厚み0.7mm、15mm×15mm)の間に挟んだ状態で、150℃、2MPa、10秒の加熱及び加圧を行ったときに、回路接続材料1の初期の面積(A)と加熱及び加圧後の面積(B)を用いて表される流動性の指標(B)/(A)の値が、1.3〜3.0であることが好ましく、1.5〜2.5であることがより好ましい。(B)/(A)の値が1.3未満では流動性が不足して良好な接続が得られなくなる傾向にあり、3.0を超えると、気泡が発生して信頼性が低下する傾向にある。   Film-like circuit connecting material 1, when heated and pressed while being sandwiched between the circuit members to each other a pair of opposed, after electrically connecting the circuit electrodes are confronting with melt flow, Hardens and develops adhesive strength. Therefore, the fluidity of the film-like circuit connecting material 1 is important. Specifically, a film-like circuit connecting material 1 (thickness 35 μm, 5 mm × 5 mm) is sandwiched between two glass plates (thickness 0.7 mm, 15 mm × 15 mm), 150 ° C., 2 MPa, When heating and pressurizing for 10 seconds, the fluidity index (B) / () expressed using the initial area (A) of the circuit connecting material 1 and the area (B) after heating and pressurizing. The value of A) is preferably 1.3 to 3.0, and more preferably 1.5 to 2.5. If the value of (B) / (A) is less than 1.3, there is a tendency that fluidity is insufficient and good connection cannot be obtained, and if it exceeds 3.0, bubbles are generated and reliability tends to be lowered. It is in.

フィルム状の回路接続材料1は1層のみ有するが、本発明の回路接続材料は、これに代えて、組成の異なる複数の層を有するフィルムに成形された状態で用いてもよい。特に、回路接続材料が導電性粒子を含有し、回路接続材料中の接着剤組成物が加熱又は光によってラジカルを発生するラジカル開始剤を含有する場合には、回路接続材料を、加熱又は光によってラジカルを発生するラジカル開始剤を含有する層と、導電性粒子を含有する層とを別々に有する多層のフィルムとすることが好ましい。これにより、より長い可使時間が得られる。   Although the film-like circuit connection material 1 has only one layer, the circuit connection material of the present invention may be used in a state of being formed into a film having a plurality of layers having different compositions instead. In particular, when the circuit connection material contains conductive particles and the adhesive composition in the circuit connection material contains a radical initiator that generates radicals by heating or light, the circuit connection material is heated or irradiated by light. It is preferable to form a multilayer film having a layer containing a radical initiator that generates radicals and a layer containing conductive particles separately. Thereby, a longer pot life is obtained.

フィルム状の回路接続材料1は、例えば、半導体チップ、抵抗体チップ、コンデンサチップ等のチップ部品や、プリント基板等のような回路部材同士を接続するために用いられる。   The film-like circuit connecting material 1 is used for connecting chip components such as a semiconductor chip, a resistor chip, and a capacitor chip, and circuit members such as a printed board.

図2は、本発明による回路部材の接続構造の一実施形態を示す断面図である。図2に示す回路部材の接続構造101は、第一の基板11及びこれの主面上に接着剤層12を介して形成された第一の回路電極13を有する第一の回路部材10と、第二の基板21及びこれの主面上に形成された第二の回路電極23を有する第二の回路部材20とが、上述の回路接続材料が硬化した硬化物からなり第一及び第二の回路部材10,20の間に形成された回路接続部材1aによって接続されたものである。回路部材の接続構造101においては、第一の回路電極13と第二の回路電極23とが対峙するとともに電気的に接続されている。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing an embodiment of a circuit member connection structure according to the present invention. A circuit member connection structure 101 shown in FIG. 2 includes a first circuit member 10 having a first substrate 11 and a first circuit electrode 13 formed on the main surface of the first substrate 11 via an adhesive layer 12; The second circuit member 20 having the second circuit electrode 21 and the second circuit electrode 23 formed on the main surface of the second substrate 21 is made of a cured product obtained by curing the circuit connection material described above. The circuit members 10 and 20 are connected by a circuit connecting member 1a formed between them. In the circuit member connection structure 101, the first circuit electrode 13 and the second circuit electrode 23 face each other and are electrically connected.

回路接続部材1aは、接着剤組成物及びエステルウレタン化合物等を含有する樹脂組成物の硬化物3a及びこれに分散している導電性粒子5から構成される。第一の回路電極13と第二の回路電極23とは、導電性粒子5を介して電気的に接続されている。回路接続部材1aの40℃での弾性率は100〜3000MPaであることが好ましく、500〜2000MPaであることがより好ましい。   The circuit connection member 1a is composed of a cured product 3a of a resin composition containing an adhesive composition, an ester urethane compound, and the like, and conductive particles 5 dispersed therein. The first circuit electrode 13 and the second circuit electrode 23 are electrically connected via the conductive particles 5. The elastic modulus at 40 ° C. of the circuit connecting member 1a is preferably 100 to 3000 MPa, and more preferably 500 to 2000 MPa.

第一の基板11は、ポリエステルテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、エポキシ樹脂、アクリル樹脂及びポリイミド樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂を含む樹脂フィルムである。   The first substrate 11 is a resin film containing at least one resin selected from the group consisting of polyester terephthalate, polyethersulfone, epoxy resin, acrylic resin, and polyimide resin.

回路電極13は、電極として機能し得る程度の導電性を有する材料(好ましくは金、銀、錫、白金族の金属及びインジウム−錫酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種)で形成されている。複数の回路電極13が、接着剤層12を介して第一の基板11の主面上に接着されている。接着剤層12は、回路部材において通常用いられる接着剤等で形成される。   The circuit electrode 13 is formed of a material having a degree of conductivity that can function as an electrode (preferably at least one selected from the group consisting of gold, silver, tin, platinum group metals, and indium-tin oxide). . A plurality of circuit electrodes 13 are bonded onto the main surface of the first substrate 11 via the adhesive layer 12. The adhesive layer 12 is formed of an adhesive or the like normally used for circuit members.

第二の基板21はガラス基板であり、第二の基板21の主面上には、複数の第二の回路電極23が形成されている。   The second substrate 21 is a glass substrate, and a plurality of second circuit electrodes 23 are formed on the main surface of the second substrate 21.

回路部材の接続構造101は、例えば、第一の回路部材10と、上記のフィルム状の回路接続材料1と、第二の回路部材20とを、第一の回路電極13と第二の回路電極23とが対峙するようにこの順に積層した積層体を加熱及び加圧することにより、第一の回路電極13と第二の回路電極23とが電気的に接続されるように第一の回路部材10と第二の回路部材20とを接続する方法によって、得られる。   The circuit member connection structure 101 includes, for example, a first circuit member 10, the above-described film-like circuit connection material 1, and a second circuit member 20, and a first circuit electrode 13 and a second circuit electrode. The first circuit member 10 is electrically connected to the first circuit electrode 13 and the second circuit electrode 23 by heating and pressurizing the laminate laminated in this order so as to face each other. And the second circuit member 20 are obtained.

この方法においては、まず、支持フィルム上に形成されているフィルム状の回路接続材料1を第二の回路部材20上に貼り合わせた状態で加熱及び加圧して回路接続材料1を仮接着し、支持フィルムを剥離してから、第一の回路部材10を回路電極を位置合わせしながら載せて、積層体を準備することができる。   In this method, first, the circuit-connecting material 1 formed on the support film is temporarily bonded to the second circuit member 20 by heating and pressurizing the circuit-connecting material 1 while being bonded together, After peeling off the support film, the first circuit member 10 can be placed while aligning the circuit electrodes to prepare a laminate.

上記積層体を加熱及び加圧する条件は、回路接続材料中の接着剤組成物の硬化性等に応じて、回路接続材料が硬化して十分な接着強度が得られるように、適宜調整される。   Conditions for heating and pressurizing the laminate are appropriately adjusted so that the circuit connecting material is cured and sufficient adhesive strength is obtained in accordance with the curability of the adhesive composition in the circuit connecting material.

図3は、本発明による回路部材の接続構造の他の実施形態を示す断面図である。図3に示す回路部材の接続構造102は、第一の回路部材10において、第一の基板11の主面上に第一の回路電極13が直接形成されている他は、回路部材の接続構造101と同様のものである。   FIG. 3 is a sectional view showing another embodiment of the circuit member connection structure according to the present invention. The circuit member connection structure 102 shown in FIG. 3 is the same as the circuit member connection structure except that the first circuit electrode 13 is directly formed on the main surface of the first substrate 11 in the first circuit member 10. 101.

回路部材の接続構造102のように、回路接続部材1aが、ポリエステルテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂及びガラスといった材料で形成された基板と直接密着するような構成の場合、従来の回路接続材料では十分な接着強度を得ることが困難であった。これに対して、回路部材の接続構造102においては、回路接続部材1aが上記本発明の回路接続材料の硬化物であることにより、高温高湿環境下においても、十分な接着強度を維持できる。このような効果は、回路接続部材と回路部材との間に、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等を含有する層が形成されている場合にも、得られる。   When the circuit connection member 1a is in direct contact with a substrate formed of a material such as polyester terephthalate, polyethersulfone, epoxy resin, acrylic resin, polyimide resin, or glass, as in the circuit member connection structure 102 It has been difficult to obtain sufficient adhesive strength with conventional circuit connection materials. On the other hand, in the circuit member connection structure 102, the circuit connection member 1a is a cured product of the circuit connection material of the present invention, so that sufficient adhesive strength can be maintained even in a high temperature and high humidity environment. Such an effect is also obtained when a layer containing polyimide resin, acrylic resin, silicone resin, or the like is formed between the circuit connecting member and the circuit member.

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

(ポリエステルウレタン樹脂の調製方法)
ジカルボン酸とジオールとの反応により得られたポリエステルポリオールをメチルエチルケトンに溶解した溶液を、撹拌機、温度計、コンデンサーおよび真空発生装置と窒素ガス導入管を具備したヒーター付きステンレススチール製オートクレーブに投入した。次いで、イソシアネートを所定量投入し、触媒としてジブチル錫ラウレートをポリエステルポリオール100重量部に対して0.02重量部となる量投入し、75℃で10時間反応させた後、40℃まで冷却した。さらに、ピペラジンを加えて30分反応させることにより鎖延長した後、トリエチルアミンで中和させた。
(Preparation method of polyester urethane resin)
A solution obtained by dissolving polyester polyol obtained by the reaction of dicarboxylic acid and diol in methyl ethyl ketone was charged into a stainless steel autoclave equipped with a heater equipped with a stirrer, thermometer, condenser, vacuum generator and nitrogen gas inlet tube. Next, a predetermined amount of isocyanate was added, and dibutyltin laurate as a catalyst was added in an amount of 0.02 parts by weight with respect to 100 parts by weight of polyester polyol, reacted at 75 ° C. for 10 hours, and then cooled to 40 ° C. Further, piperazine was added and reacted for 30 minutes to extend the chain, and then neutralized with triethylamine.

上記反応後の溶液を純水に滴下すると、溶剤及び触媒が水に溶解するとともに、エステルウレタン化合物としてのポリエステルウレタン樹脂が析出した。析出したポリエステルウレタン樹脂を真空乾燥機で乾燥し、ポリエステルウレタン樹脂を得た。   When the solution after the reaction was dropped into pure water, the solvent and the catalyst were dissolved in water, and a polyester urethane resin as an ester urethane compound was precipitated. The precipitated polyester urethane resin was dried with a vacuum dryer to obtain a polyester urethane resin.

(実施例1)
(ポリエステルウレタン樹脂Aの合成)
ジガルボン酸としてのテレフタル酸、ジオールとしてのプロピレングリコール、イソシアネートにとしての4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートを、テレフタル酸/プロピレングリコール/4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートのモル比が1.0/1.3/0.25となるような量で用い、上記手順に従ってポリエステルウレタン樹脂Aを得た。ポリエステルウレタン樹脂Aの重量分子量をゲル浸透クロマトグラフィーによって測定したところ、27000であった。
Example 1
(Synthesis of polyester urethane resin A)
Terephthalic acid as digalbonic acid, propylene glycol as diol, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate as isocyanate, and a molar ratio of terephthalic acid / propylene glycol / 4,4'-diphenylmethane diisocyanate to 1.0 / 1.3 Polyester urethane resin A was obtained according to the procedure described above using an amount of /0.25. It was 27000 when the weight molecular weight of the polyester urethane resin A was measured by the gel permeation chromatography.

ポリエステルウレタン樹脂Aをメチルエチルケトンに20重量%となるように溶解したメチルエチルケトン溶液を、片面を表面処理したPETフィルム(厚み80μm)に塗工装置を用いて塗布し、70℃、10分の熱風乾燥により、厚みが35μmのフィルムを形成させた。このフィルムについて、広域動的粘弾性測定装置を用い、引っ張り荷重5gf、周波数10Hzの条件で弾性率の温度依存性を測定した。得られた弾性率−温度曲線において、ガラス転移領域の前後それぞれにおけるベースラインを延長した直線から縦軸方向に等距離にある直線と、ガラス転移領域の階段状変化部分の曲線とが交わる点の温度(中間点ガラス転移温度)をポリエステルウレタン樹脂Aのガラス転移温度として求めたところ、105℃であった。   A methyl ethyl ketone solution obtained by dissolving polyester urethane resin A in methyl ethyl ketone so as to be 20% by weight is applied to a PET film (thickness 80 μm) having one surface treated using a coating apparatus, and dried by hot air at 70 ° C. for 10 minutes. A film having a thickness of 35 μm was formed. About this film, the temperature dependence of the elastic modulus was measured on condition of tensile load 5gf and frequency 10Hz using the wide range dynamic viscoelasticity measuring apparatus. The resulting elastic modulus - at temperature curve, a straight line equidistant in the vertical axis direction from a line extended baseline in each before and after the glass transition region, the step change section of the glass transition region curve and intersects the point It was 105 degreeC when temperature (midpoint glass transition temperature) was calculated | required as a glass transition temperature of the polyester urethane resin A. FIG.

(回路接続材料)
重量平均分子量800のポリカプロラクトンジオール400重量部、2−ヒドロキシプロピルアクリレート131重量部、触媒としてのジブチル錫ジラウレート0.5重量部及び重合禁止剤としてのハイドロキノンモノメチルエーテル1.0重量部を、50℃に加熱しながら攪拌して混合した。次いで、イソホロンジイソシアネート222重量部を滴下し、更に攪拌しながら80℃に昇温してウレタン化反応を進行させた。イソシアネート基の反応率が99%以上になったことを確認後、温度を下げて、ラジカル重合性化合物としてのウレタンアクリレートを得た。
(Circuit connection material)
400 parts by weight of polycaprolactone diol having a weight average molecular weight of 800, 131 parts by weight of 2-hydroxypropyl acrylate, 0.5 parts by weight of dibutyltin dilaurate as a catalyst and 1.0 part by weight of hydroquinone monomethyl ether as a polymerization inhibitor The mixture was stirred while heating. Next, 222 parts by weight of isophorone diisocyanate was added dropwise, and the temperature was raised to 80 ° C. while stirring to advance the urethanization reaction. After confirming that the reaction rate of the isocyanate group was 99% or more, the temperature was lowered to obtain urethane acrylate as a radical polymerizable compound.

ポリスチレンを核とする粒子の表面に、厚み0.2μmのニッケル層及び厚み0.04μmの金層をこの順で形成させて、平均粒径10μmの導電性粒子を作製した。   A nickel layer having a thickness of 0.2 μm and a gold layer having a thickness of 0.04 μm were formed in this order on the surface of particles having polystyrene as a core to produce conductive particles having an average particle diameter of 10 μm.

固形分の重量で、ポリエステルウレタン樹脂A50g、ウレタンアクリレート樹脂49g、リン酸エステル型アクリレート1g、ラジカル開始剤であるt−ヘキシルパーオキシ2−エチルヘキサノネート5gとなるように各成分を混合し、更に、導電性粒子を全体の3体積%となるような量加えてこれを均一に分散させて、塗工用の分散液を得た。分散液の調製の際、ポリエステルウレタン樹脂Aはメチルエチルケトンに20質量%の濃度で溶解した溶液の状態で、t−ヘキシルパーオキシ2−エチルヘキサノネートは50重量%DOP溶液(日本油脂株式会社製、商品名「パーキュアHO」)の状態で、他の成分と混合した。得られた分散液を、片面を表面処理したPETフィルム(厚み80μm)に塗工装置を用いて塗布し、70℃、10分の熱風乾燥して、厚み20μmのフィルム状の回路接続材料を得た。   Each component was mixed so that the weight of solid content was 50 g of polyester urethane resin A, 49 g of urethane acrylate resin, 1 g of phosphate ester acrylate, and 5 g of t-hexylperoxy 2-ethylhexanate as a radical initiator, Further, the conductive particles were added in an amount of 3% by volume of the whole and dispersed uniformly to obtain a dispersion for coating. At the time of preparing the dispersion, the polyester urethane resin A is in a solution in a concentration of 20% by mass in methyl ethyl ketone, and t-hexylperoxy 2-ethylhexanonate is a 50% by weight DOP solution (manufactured by NOF Corporation). , Trade name "Percure HO") and mixed with other ingredients. The resulting dispersion was coated using a coating device on a PET film which had been surface treated on one side (thickness 80 [mu] m), 70 ° C., dried with hot air of 10 minutes, to obtain a film-like circuit connecting material having a thickness of 20μm It was.

(実施例2)
ジガルボン酸としてのイソフタル酸、テレフタル酸及びアジピン酸、ジオールとしてのエチレングリコール、ネオペンチルグリコール及び1、6−ヘキサンジオール、ジイソシアネートとしての4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートを、イソフタル酸/テレフタル酸/アジピン酸/エチレングリコール/ネオペンチルグリコール/1,6−ヘキサンジオール/4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートのモル比が0.21/0.21/0.58/0.19/0.55/0.46/0.3となるような量で用いて、上記手順に従ってポリエステルウレタン樹脂Bを合成した。ポリエステルウレタン樹脂Bの重量分子量をゲル浸透クロマトグラフィーによって測定したところ、60000であった。また、ポリエステルウレタン樹脂Bのガラス転移温度を実施例1と同様にして測定したところ、−3℃であった。
(Example 2)
Isophthalic acid, terephthalic acid and adipic acid, diphthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid and adipic acid, ethylene glycol, neopentyl glycol and 1,6-hexanediol as diol, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate as diisocyanate / Ethylene glycol / neopentyl glycol / 1,6-hexanediol / 4,4′-diphenylmethane diisocyanate molar ratio is 0.21 / 0.21 / 0.58 / 0.19 / 0.55 / 0.46 / Polyester urethane resin B was synthesized according to the above procedure using an amount such that the amount was 0.3. It was 60000 when the weight molecular weight of the polyester urethane resin B was measured by the gel permeation chromatography. Moreover, when the glass transition temperature of the polyester urethane resin B was measured like Example 1, it was -3 degreeC.

ポリエステルウレタン樹脂Aに代えて、ポリエステルウレタン樹脂Bを用いた他は実施例1と同様にして、フィルム状の回路接続材料を作製した。   A film-like circuit connecting material was produced in the same manner as in Example 1 except that the polyester urethane resin B was used in place of the polyester urethane resin A.

(実施例3)
ポリエステルウレタン樹脂B50gのうち20gをフェノキシ樹脂(ユニオンカーバイド株式会社製、商品名「PKHC」、重量平均分子量45000)に置き換えた以外は実施例2と同様にして、フィルム状の回路接続材料を作製した。
(Example 3)
A film-like circuit connection material was prepared in the same manner as in Example 2 except that 20 g of the 50 g polyester urethane resin B was replaced with a phenoxy resin (trade name “PKHC”, weight average molecular weight 45000, manufactured by Union Carbide Corporation). .

(比較例1)
ポリエステルウレタン樹脂Aに代えて、ポリエステルウレタン樹脂Aの合成の際に用いたポリエステルポリオール(ガラス転移温度:85℃)を用いた他は実施例1と同様にして、フィルム状の回路接続材料を作製した。
(Comparative Example 1)
A film-like circuit connecting material is produced in the same manner as in Example 1 except that the polyester polyol (glass transition temperature: 85 ° C.) used in the synthesis of the polyester urethane resin A is used instead of the polyester urethane resin A. did.

(比較例2)
ポリエステルウレタン樹脂Bに代えて、ポリエステルウレタン樹脂Bの合成の際に用いたポリエステルポリオール(ガラス転移温度:−5℃)を用いた他は実施例2と同様にして、フィルム状の回路接続材料を作製した。
(Comparative Example 2)
Instead of the polyester urethane resin B, a film-like circuit connecting material was prepared in the same manner as in Example 2 except that the polyester polyol (glass transition temperature: −5 ° C.) used in the synthesis of the polyester urethane resin B was used. Produced.

(比較例3)
ポリエステルウレタン樹脂Bに代えて、ポリエステルウレタン樹脂Bの合成の際に用いたポリエステルポリオール(ガラス転移温度:−5℃)を用いた他は実施例3と同様にして、フィルム状の回路接続材料を作製した。
(Comparative Example 3)
In place of the polyester urethane resin B, a film-like circuit connecting material was prepared in the same manner as in Example 3 except that the polyester polyol (glass transition temperature: −5 ° C.) used in the synthesis of the polyester urethane resin B was used. Produced.

(比較例4)
ポリエステルウレタン樹脂Aに代えて、エステル基を有しないポリウレタン樹脂(DICバイエルポリマー株式会社製、商品名「パンデックスT−8175」)(ガラス転移温度:−30℃)を用いた他は実施例1と同様にして、フィルム状の回路接続材料を作製した。
(Comparative Example 4)
Example 1 except that instead of the polyester urethane resin A, a polyurethane resin having no ester group (DIC Bayer Polymer Co., Ltd., trade name “Pandex T-8175”) (glass transition temperature: −30 ° C.) was used. In the same manner as above, a film-like circuit connecting material was produced.

(回路部材の接続構造の作製)
回路電極としてのクロム回路(ライン幅50μm、ピッチ100μm、厚み0.4μm)500本がガラス基板(コーニング社製、商品名「#1737」)上に形成された回路部材を準備した。この回路部材上に、実施例1で作製したフィルム状の回路接続材料を貼り付け、70℃、0.5MPaで5秒間加熱及び加圧してこれを仮接着した。
(Production of circuit member connection structure)
A circuit member was prepared in which 500 chrome circuits (line width 50 μm, pitch 100 μm, thickness 0.4 μm) as circuit electrodes were formed on a glass substrate (trade name “# 1737” manufactured by Corning). On this circuit member, the film-like circuit connection material produced in Example 1 was affixed, and this was temporarily bonded by heating and pressing at 70 ° C. and 0.5 MPa for 5 seconds.

続いて、PETフィルムを剥離し、ポリイミドフィルム(宇部興産株式会社製、商品名「ユーピレックス」、厚み75μm)上に銅回路(ライン幅50μm、ピッチ100μm、厚み18μm)500本が接着剤層を介して接着された3層構造のフレキシブル回路部材(FPC1)を、フィルム状の回路接続材料上に載せ、160℃、3MPaで10秒間加熱及び加圧した。これにより、ガラス基板を有する回路部材とFPC1とを、幅2mmにわたって接続した。   Subsequently, the PET film was peeled off, and 500 copper circuits (line width 50 μm, pitch 100 μm, thickness 18 μm) were placed on the polyimide film (Ube Industries, trade name “Iupilex”, thickness 75 μm) through the adhesive layer. The flexible circuit member (FPC1) having a three-layer structure bonded to each other was placed on a film-like circuit connection material, and heated and pressurized at 160 ° C. and 3 MPa for 10 seconds. Thereby, the circuit member which has a glass substrate, and FPC1 were connected over 2 mm in width.

また、FPC1に代えて、ポリイミドフィルム(宇部興産株式会社製、商品名「ユーピレックス 25S」、厚み25μm)上にライン幅50μm、ピッチ100μm、厚み8μmの銅回路500本を直接形成した2層構造のフレキシブル回路板(FPC2)を用いて、上記と同様にして、ガラス基板を有する回路部材とFPC2とを、幅2mmにわたって接続した。   Further, instead of FPC1, a two-layer structure in which 500 copper circuits having a line width of 50 μm, a pitch of 100 μm, and a thickness of 8 μm are directly formed on a polyimide film (manufactured by Ube Industries, Ltd., trade name “Upilex 25S”, thickness of 25 μm). Using the flexible circuit board (FPC2), the circuit member having the glass substrate and the FPC2 were connected over a width of 2 mm in the same manner as described above.

実施例2〜3、比較例1〜4で作製したフィルム状の回路接続材料を用い、上記と同様にして、FPC1及びFPC2を、それぞれ、ガラス基板を有する回路部材と接続した。   Using the film-like circuit connection materials produced in Examples 2-3 and Comparative Examples 1-4, FPC1 and FPC2 were each connected to a circuit member having a glass substrate in the same manner as described above.

(接続抵抗)
作製した回路部材の接続構造について、対峙している回路電極間の抵抗値(接続抵抗)をマルチメータを用いて測定した。測定は、初期、及び85℃、85%RHの高温高湿槽中に500時間保持する高温高湿処理後について行った。表1に、抵抗値150点の平均値(x+3σ)を接続抵抗として示した。
(Connection resistance)
About the connection structure of the produced circuit member, the resistance value (connection resistance) between the circuit electrodes which oppose was measured using the multimeter. The measurement was performed at the initial stage and after the high-temperature and high-humidity treatment held in a high-temperature and high-humidity tank at 85 ° C. and 85% RH for 500 hours. Table 1 shows the average value (x + 3σ) of 150 resistance values as the connection resistance.

(接着強度)
作製した回路部材の接続構造について、90°で剥離するときの接着強度を、剥離速度50mm/minで測定した。測定は、初期、及び上記と同様の高温高湿処理後について行った。
(Adhesive strength)
About the connection structure of the produced circuit member, the adhesive strength when peeling at 90 ° was measured at a peeling speed of 50 mm / min. The measurement was performed at the initial stage and after the high temperature and high humidity treatment similar to the above.

Figure 2011032479
Figure 2011032479

実施例1〜3の回路接続材料を用いて接続した回路部材の接続構造は、初期における接続抵抗が十分に低く、また、高温高湿処理後の接続抵抗の上昇もほとんど認められず、高い耐久性を示した。中でも、ガラス転移温度が50℃以上のポリエステルウレタン樹脂を用いた実施例1の場合に、耐久性が特に優れていた。また、ガラス転移温度が50℃未満であるポリエステルウレタン樹脂を用いた実施例2の場合、高温高湿処理後において接続が多少緩くなって、接続抵抗の上昇が実施例1よりも相対的に大きくなったものの、実用的には許容範囲内であった。更に、ポリエステルウレタン樹脂と、ガラス転移温度が50℃以上フェノキシ樹脂とを併用した実施例3は、高温高湿処理による接続抵抗の上昇が実施例1とほぼ同等程度に抑えられた。   The connection structure of the circuit members connected using the circuit connection materials of Examples 1 to 3 has a sufficiently low initial connection resistance, and almost no increase in connection resistance after high-temperature and high-humidity treatment, and high durability. Showed sex. In particular, the durability was particularly excellent in Example 1 using a polyester urethane resin having a glass transition temperature of 50 ° C. or higher. In the case of Example 2 using a polyester urethane resin having a glass transition temperature of less than 50 ° C., the connection becomes somewhat loose after the high-temperature and high-humidity treatment, and the increase in connection resistance is relatively larger than that in Example 1. However, it was practically acceptable. Further, in Example 3 in which the polyester urethane resin and the phenoxy resin having a glass transition temperature of 50 ° C. or higher were used in combination, the increase in connection resistance due to the high-temperature and high-humidity treatment was suppressed to substantially the same level as in Example 1.

実施例1〜3は、FPC1及びFPC2の何れの場合においても、初期及び高温高湿処理後で6N/cm以上を維持した。この試験の場合、一般に、接着強度が6N/cm以上であれば、実用的に十分と考えられる。実施例2と実施例3との比較において、ポリエステルウレタン樹脂の含有量がより多い実施例2は、実施例3よりも高温高湿処理後の接着強度が優れていた。   In Examples 1 to 3, in both cases of FPC1 and FPC2, 6 N / cm or more was maintained after the initial stage and after the high temperature and high humidity treatment. In the case of this test, it is generally considered practically sufficient if the adhesive strength is 6 N / cm or more. In comparison between Example 2 and Example 3, Example 2 having a higher content of polyester urethane resin was superior in adhesive strength after high-temperature and high-humidity treatment to Example 3.

これに対して、エステル結合を有しておらず、また、ガラス転移温度が−30℃と低いポリウレタン樹脂を用いた比較例4は、高温高湿処理後に接続抵抗が大きく上昇した。また、比較例4は、FPC1を用いた接続構造においては比較的良好な接着強度を示したものの、FPC2を用いた接続構造においては高温高湿処理後に接着強度が大きく低下した。比較例1〜3は、接着強度は何れも6N/cm以上であり、少なくとも接着強度の点で実用的に十分な特性を示さなかった。   In contrast, Comparative Example 4 using a polyurethane resin having no ester bond and having a low glass transition temperature of −30 ° C. greatly increased the connection resistance after the high temperature and high humidity treatment. Moreover, although the comparative example 4 showed the comparatively favorable adhesive strength in the connection structure using FPC1, in the connection structure using FPC2, the adhesive strength decreased significantly after the high temperature and high humidity treatment. Comparative Examples 1 to 3 each had an adhesive strength of 6 N / cm or more, and did not exhibit practically sufficient characteristics at least in terms of adhesive strength.

1…フィルム状の回路接続材料、1a…回路接続部材、5…導電性粒子、10…第一の回路部材、11…第一の基板、12…接着剤層、13…第一の回路電極、20…第二の回路部材、21…第二の基板、23…第二の回路電極、101…回路部材の接続構造、102…回路部材の接続構造。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Film-like circuit connection material, 1a ... Circuit connection member, 5 ... Conductive particle, 10 ... First circuit member, 11 ... First substrate, 12 ... Adhesive layer, 13 ... First circuit electrode, DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 ... 2nd circuit member, 21 ... 2nd board | substrate, 23 ... 2nd circuit electrode, 101 ... Connection structure of a circuit member, 102 ... Connection structure of a circuit member.

Claims (8)

光又は熱によって硬化する接着剤組成物と、
ウレタン基及びエステル基を有する有機化合物と、を含有し、
前記有機化合物が芳香族基及び環状脂肪族基を有し、
基板及びこれの主面上に形成された回路電極を有する回路部材同士を接続するための回路接続材料。
An adhesive composition that is cured by light or heat;
An organic compound having a urethane group and an ester group,
The organic compound has an aromatic group and a cycloaliphatic group;
A circuit connecting material for connecting circuit members having circuit electrodes formed on a substrate and a main surface thereof.
前記接着剤組成物が、ラジカル重合性化合物及び加熱又は光によってラジカルを発生するラジカル開始剤を含有する、請求項1記載の回路接続材料。   The circuit connection material according to claim 1, wherein the adhesive composition contains a radical polymerizable compound and a radical initiator that generates radicals by heating or light. 前記ラジカル重合性化合物が、アクリレート基又はメタクリレート基を有するリン酸エステル化合物を含む、請求項2記載の回路接続材料。   The circuit connection material according to claim 2, wherein the radical polymerizable compound includes a phosphate ester compound having an acrylate group or a methacrylate group. 導電性粒子を含有する、請求項1〜3の何れか一項に記載の回路接続材料。   The circuit connection material according to claim 1, comprising conductive particles. 第一の基板及びこれの主面上に形成された第一の回路電極を有する第一の回路部材と、
第二の基板及びこれの主面上に形成された第二の回路電極を有する第二の回路部材とが、
請求項1〜4の何れか一項に記載の回路接続材料の硬化物からなり前記第一及び第二の回路部材の間に設けられた回路接続部材によって、前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが対峙するとともに電気的に接続されるように接続された回路部材の接続構造。
A first circuit member having a first substrate and a first circuit electrode formed on a main surface of the first substrate;
A second circuit member and a second circuit member having a second circuit electrode formed on the main surface of the second substrate;
A circuit connection member made of a cured product of the circuit connection material according to claim 1 and provided between the first and second circuit members, and the first circuit electrode and the first circuit electrode. The connection structure of the circuit member connected so that two circuit electrodes may be opposed and electrically connected.
前記第一及び第二の回路電極のうち少なくとも一方は、その表面が金、銀、錫、白金族の金属及びインジウム−錫酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む材料からなる、請求項5記載の回路部材の接続構造。   At least one of the first and second circuit electrodes is made of a material containing at least one selected from the group consisting of gold, silver, tin, platinum group metals, and indium-tin oxide. 5. A circuit member connection structure according to 5. 第一の基板及びこれの主面上に形成された第一の回路電極を有する第一の回路部材と、
請求項1〜4の何れか一項に記載の回路接続材料からなる層と、
第二の基板及びこれの主面上に形成された第二の回路電極を有する第二の回路部材とを、
前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが対峙するようにこの順に積層した積層体を加熱及び加圧することにより、前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが電気的に接続されるように前記第一の回路部材と前記第二の回路部材とを接続する、回路部材の接続方法。
A first circuit member having a first substrate and a first circuit electrode formed on a main surface of the first substrate;
A layer made of the circuit connection material according to any one of claims 1 to 4,
A second circuit member having a second substrate electrode and a second circuit electrode formed on the main surface of the second substrate;
The first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other by heating and pressurizing the laminate laminated in this order so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are opposed to each other. A circuit member connection method, wherein the first circuit member and the second circuit member are connected so as to be connected to each other.
前記第一及び第二の回路電極のうち少なくとも一方は、その表面が金、銀、錫、白金族の金属及びインジウム−錫酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む材料からなる、請求項7記載の回路部材の接続方法。   At least one of the first and second circuit electrodes is made of a material containing at least one selected from the group consisting of gold, silver, tin, platinum group metals, and indium-tin oxide. The connection method of the circuit member of Claim 7.
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