JP2011021953A - Autoanalyzer and method for washing the same - Google Patents

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Shinichi Hasegawa
進一 長谷川
Hitoshi Shibuya
均 渋谷
Hidekazu Azuma
英一 東
Yasushi Shimura
靖 志村
Masahiro Masubuchi
雅浩 増渕
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Toshiba Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an autoanalyzer capable of shortening the washing time of a reaction container, and a method for washing the same. <P>SOLUTION: The autoanalyzer is equipped with a first reagent dispensing probe 14 for performing dispensation so as to suck a first reagent from a reagent container 6 to discharge the same in the reaction container 3, a first stirrer 18 for stirring the mixed solution of the sample discharged into the reaction container 3 and the first reagent and a photometric part 13 for irradiating the reaction container 3 housing the mixed solution with light to measure the mixed solution. The first reagent dispensing probe 14 discharges first and second washing solutions into the reaction container 3 in a light path surface liquid amount V1 reaching a height below the height H1 of the incident light path surface 3a and emitting light path surface 3b inside the reaction container 3 through which the light emitted from the photometric part 13 passes and the first stirrer 18 produces the fine air bubbles, which come into contact with the whole surfaces of the incident light path surface 3a and the emitting light path surface 3b from the first and second washing solutions discharged into the reaction container 3. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、液体に含まれている成分を分析する自動分析装置及びその洗浄方法に係り、特に、反応容器の洗浄機能を備えた自動分析装置及びその洗浄方法に関する。   The present invention relates to an automatic analyzer for analyzing components contained in a liquid and a cleaning method thereof, and more particularly, to an automatic analyzer having a function of cleaning a reaction vessel and a cleaning method thereof.

自動分析装置は生化学検査項目や免疫検査項目等を対象とし、被検体から採取された被検試料と各検査項目の試薬との混合液の反応によって生ずる色調や濁りの変化を、分光光度計や比濁計等の測光部で光学的に測定することにより、被検試料中の様々な検査項目成分の濃度や酵素の活性等で表される分析データを生成する。   The automatic analyzer is intended for biochemical test items, immunological test items, etc., and changes in color and turbidity caused by the reaction of the mixture of the test sample collected from the sample and the reagent of each test item are measured with a spectrophotometer. Optical data is measured by a photometric unit such as a turbidimeter or an nephelometer, thereby generating analysis data represented by concentrations of various test item components in the test sample, enzyme activities, and the like.

この自動分析装置では、分析サイクル毎に動作する分析ユニットを用いて、多数の検査項目の中から選択された検査対象の項目の分析を行う。そして、被検試料をサンプル分注プローブで試料容器から反応容器に分注し、各検査項目の試薬を試薬分注プローブで試薬容器から反応容器に分注する。次いで、反応容器に分注された被検試料及び試薬の混合液を撹拌子で撹拌した後、測光部で反応容器に光を照射し、反応容器内の混合液を透過した光を検出して測定する。そして、混合液の測定を終了した反応容器を反応容器洗浄部で洗浄液を用いて洗浄した後、繰り返して測定に使用する。   In this automatic analyzer, an analysis target item selected from a large number of inspection items is analyzed using an analysis unit that operates for each analysis cycle. Then, the test sample is dispensed from the sample container to the reaction container with the sample dispensing probe, and the reagent for each test item is dispensed from the reagent container to the reaction container with the reagent dispensing probe. Next, after stirring the mixture of the test sample and reagent dispensed in the reaction vessel with a stirrer, the photometry unit irradiates the reaction vessel with light, and detects the light transmitted through the mixture in the reaction vessel. taking measurement. Then, after the measurement of the mixed liquid is completed, the reaction container is washed with the washing liquid in the reaction container washing unit, and then repeatedly used for the measurement.

ところで、反応容器を長期間に亘って使用していると、被検試料に含まれる蛋白質、脂質等や、試薬に含まれるラテックス等の残留物が蓄積して反応容器内が汚染され、その汚染された部分へ気泡が付着しやすくなる。そして、測光部から照射した光が通る反応容器内側の光路面に気泡が付着して、その気泡が光の一部を遮って測定精度が低下する問題がある。   By the way, if the reaction container is used for a long period of time, residues such as proteins and lipids contained in the test sample and latex contained in the reagent accumulate and the inside of the reaction container is contaminated. Air bubbles are likely to adhere to the part. And there exists a problem that a bubble adheres to the optical path surface inside reaction container through which the light irradiated from the photometry part passes, the bubble interrupts a part of light, and a measurement precision falls.

この問題に対して、測定以外のときに、測定中の分析サイクルよりも長い時間反応容器内に洗浄液を留めておくことにより、洗浄効果を向上させることができる自動分析装置が知られている(例えば、特許文献1参照。)。   To solve this problem, there is known an automatic analyzer that can improve the cleaning effect by keeping the cleaning liquid in the reaction vessel for a longer time than the analysis cycle being measured at a time other than measurement ( For example, see Patent Document 1.)

特開2001−289864号公報JP 2001-289864 A

しかしながら、自動分析装置には多数の反応容器が使用されているため、全ての反応容器を洗浄しようとすると時間がかかる問題がある。   However, since many reaction vessels are used in the automatic analyzer, there is a problem that it takes time to clean all the reaction vessels.

本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので、反応容器の洗浄時間を短縮することができる自動分析装置及びその洗浄方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an automatic analyzer capable of shortening the cleaning time of a reaction vessel and a cleaning method thereof.

上記目的を達成するために、請求項1に係る本発明の自動分析装置は、反応容器に収容された試料及び試薬の混合液に光を照射して、その混合液を測定する測光手段を備えた自動分析装置において、前記反応容器内に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記反応容器内に供給された洗浄液から、前記測光手段により照射された光が通る前記反応容器内側の光路面に接触する微小気泡を発生させる気泡発生手段とを備えたことを特徴とする。   In order to achieve the above object, the automatic analyzer of the present invention according to claim 1 includes photometric means for irradiating light to a mixed solution of a sample and a reagent accommodated in a reaction vessel and measuring the mixed solution. In the automatic analyzer, the cleaning liquid supply means for supplying the cleaning liquid into the reaction container, and the cleaning liquid supplied into the reaction container, the light irradiated by the photometry means contacts the optical path inside the reaction container And a bubble generating means for generating minute bubbles to be generated.

また、請求項7に係る本発明の自動分析装置の洗浄方法は、反応容器に収容された試料及び試薬の混合液に光を照射して、その混合液を測定する測光手段を備えた自動分析装置の洗浄方法において、前記反応容器内に洗浄液を洗浄液供給手段により供給し、前記反応容器内に供給された洗浄液から、前記測光手段により照射された光が通る前記反応容器内側の光路面に接触する微小気泡を気泡発生手段より発生させることを特徴とする。   According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a method for cleaning an automatic analyzer according to the present invention, comprising: a photometric means for irradiating a mixed solution of a sample and a reagent contained in a reaction vessel with light and measuring the mixed solution. In the apparatus cleaning method, the cleaning liquid is supplied into the reaction container by the cleaning liquid supply means, and the cleaning liquid supplied into the reaction container contacts the optical path surface inside the reaction container through which the light irradiated by the photometry means passes. The microbubbles to be generated are generated by the bubble generating means.

本発明によれば、反応容器内に洗浄液を供給し、反応容器内の洗浄液から微小気泡を発生させる洗浄工程を設けることにより、測定以外のときの反応容器の洗浄時間を短縮することができる。   According to the present invention, it is possible to shorten the cleaning time of the reaction container at times other than measurement by supplying a cleaning liquid into the reaction container and providing a cleaning process for generating microbubbles from the cleaning liquid in the reaction container.

本発明の実施例に係る自動分析装置の構成を示すブロック図。The block diagram which shows the structure of the automatic analyzer which concerns on the Example of this invention. 本発明の実施例に係る分析部の構成を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of the analysis part which concerns on the Example of this invention. 本発明の実施例に係る測光部の構成を示す図。The figure which shows the structure of the photometry part which concerns on the Example of this invention. 本発明の実施例に係る反応容器洗浄部の構成を示す図。The figure which shows the structure of the reaction container washing | cleaning part which concerns on the Example of this invention. 本発明の実施例に係る第1撹拌子の構成を示す図。The figure which shows the structure of the 1st stirring element which concerns on the Example of this invention. 本発明の実施例に係る自動分析装置の洗浄動作を示すフローチャート。The flowchart which shows the washing | cleaning operation | movement of the automatic analyzer which concerns on the Example of this invention. 本発明の実施例に係る洗浄中の反応容器内を示す図。The figure which shows the inside of the reaction container in washing | cleaning which concerns on the Example of this invention.

以下、本発明の実施例を説明する。   Examples of the present invention will be described below.

以下、本発明による自動分析装置の実施例を、図1乃至図7を参照して説明する。   Hereinafter, an embodiment of an automatic analyzer according to the present invention will be described with reference to FIGS.

図1は、本発明の実施例に係る自動分析装置の構成を示したブロック図である。この自動分析装置100は、各検査項目の標準試料や被検体から採取された被検試料と各検査項目に該当する試薬との混合液を測定して標準データや被検データを生成する分析部24と、分析部24の測定に関る各分析ユニットの駆動及び制御を行う分析制御部25とを備えている。   FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an automatic analyzer according to an embodiment of the present invention. This automatic analyzer 100 measures a standard sample of each test item or a test sample collected from a sample and a reagent corresponding to each test item and generates standard data and test data. 24, and an analysis control unit 25 that drives and controls each analysis unit related to the measurement of the analysis unit 24.

また、分析部24で生成された標準データや被検データを処理して検量データや分析データの生成を行うデータ処理部30と、データ処理部30で生成された検量データや分析データを印刷出力や表示出力する出力部40と、各種コマンド信号の入力等を行う操作部80と、分析制御部25、データ処理部30、及び出力部40を統括して制御するシステム制御部90とを備えている。   Also, the standard data and test data generated by the analysis unit 24 are processed to generate calibration data and analysis data, and the calibration data and analysis data generated by the data processing unit 30 are printed out. And an output unit 40 for displaying and outputting, an operation unit 80 for inputting various command signals, and the like, an analysis control unit 25, a data processing unit 30, and a system control unit 90 for controlling the output unit 40 in an integrated manner. Yes.

図2は、分析部24の構成を示した斜視図である。この分析部24は、標準試料や被検試料等の各試料を収容する試料容器17と、この試料容器17を保持するサンプルディスク5と、各試料に含まれる検査項目の成分と反応する1試薬系及び2試薬系の第1試薬を収容する試薬容器6と、この試薬容器6を回動可能に保持する試薬ラック1aを有する試薬庫1と、2試薬系の第1試薬と対をなす第2試薬を収容する試薬容器7と、この試薬容器7を回動可能に保持する試薬ラック2aを有する試薬庫2と、円周上に配置された複数の反応容器3を回転可能に保持する反応ディスク4とを備えている。   FIG. 2 is a perspective view showing the configuration of the analysis unit 24. The analysis unit 24 includes a sample container 17 that accommodates each sample such as a standard sample and a test sample, a sample disk 5 that holds the sample container 17, and one reagent that reacts with a component of an inspection item included in each sample. A reagent container 6 for storing a first reagent of a system and a two reagent system, a reagent container 1 having a reagent rack 1a for rotatably holding the reagent container 6, and a first reagent that forms a pair with a first reagent of a two reagent system A reagent container 7 containing two reagents, a reagent container 2 having a reagent rack 2a for rotatably holding the reagent container 7, and a reaction for rotatably holding a plurality of reaction containers 3 arranged on the circumference And a disk 4.

また、サンプルディスク5に保持された試料容器17内の各試料を吸引して反応容器3内へ吐出する分注を行うサンプル分注プローブ16と、このサンプル分注プローブ16を回動及び上下移動可能に保持するサンプル分注アーム10と、各試料の分注終了毎にサンプル分注プローブ16を洗浄する洗浄槽16aとを備えている。   In addition, a sample dispensing probe 16 for dispensing each sample in the sample container 17 held on the sample disk 5 and sucking it into the reaction container 3, and rotating and moving the sample dispensing probe 16 up and down. A sample dispensing arm 10 that can be held and a washing tank 16a that cleans the sample dispensing probe 16 each time dispensing of each sample is provided.

また、試薬庫1に収納された試薬容器6内の第1試薬を吸引して各試料が吐出された反応容器3内に吐出する分注を行う第1試薬分注プローブ14と、第1試薬分注プローブ14を回動及び上下移動可能に保持する第1試薬分注アーム8と、第1試薬の分注終了毎に第1試薬分注プローブ14を洗浄する洗浄槽14aとを備えている。なお、第1試薬分注プローブ14は、測定以外のときに行われる反応容器3の洗浄において、洗浄液を反応容器3内に供給する洗浄液供給手段として用いられる。   Also, a first reagent dispensing probe 14 for aspirating the first reagent in the reagent container 6 housed in the reagent store 1 and dispensing it into the reaction container 3 from which each sample has been discharged, and the first reagent A first reagent dispensing arm 8 that holds the dispensing probe 14 so that the dispensing probe 14 can be rotated and moved up and down, and a washing tank 14a that cleans the first reagent dispensing probe 14 every time the dispensing of the first reagent is completed. . The first reagent dispensing probe 14 is used as a cleaning liquid supply unit that supplies a cleaning liquid into the reaction container 3 in the cleaning of the reaction container 3 performed at a time other than measurement.

また、反応容器3内に吐出された各試料と第1試薬の混合液を撹拌する第1撹拌子18と、第1撹拌子18を回動及び上下移動可能に保持する第1撹拌アーム20と、混合液の撹拌終了毎に第1撹拌子18を洗浄する洗浄槽18aとを備えている。なお、第1撹拌子18は、測定以外のときに行われる反応容器3の洗浄において、反応容器3内に供給される洗浄液を撹拌して微小気泡を発生させる気泡発生手段として用いられる。この気泡発生手段による気泡発生動作により、反応容器3内の洗浄を行う。   Also, a first stirrer 18 that stirs the mixed solution of each sample and the first reagent discharged into the reaction vessel 3, and a first stirrer arm 20 that holds the first stirrer 18 so as to be rotatable and vertically movable. And a washing tank 18a for washing the first stirring bar 18 every time the stirring of the mixed solution is completed. The first stirrer 18 is used as bubble generating means for stirring the cleaning liquid supplied into the reaction container 3 to generate microbubbles in the cleaning of the reaction container 3 performed at times other than measurement. The inside of the reaction vessel 3 is cleaned by the bubble generating operation by the bubble generating means.

また、試薬庫2に収納された試薬容器7内の第2試薬を吸引して各試料及び第1試薬が吐出された反応容器3内に吐出する分注を行う第2試薬分注プローブ15と、第2試薬分注プローブ15を回動及び上下移動可能に保持する第2試薬分注アーム9と、第2試薬の分注終了毎に第2試薬分注プローブ15を洗浄する洗浄槽15aとを備えている。なお、第2試薬分注プローブ15は、測定以外のときに行われる反応容器3の洗浄において、洗浄液を反応容器3内に供給する洗浄液供給手段として用いられる。   Also, a second reagent dispensing probe 15 for aspirating the second reagent in the reagent container 7 stored in the reagent storage 2 and dispensing it into the reaction container 3 from which each sample and first reagent are discharged; A second reagent dispensing arm 9 for holding the second reagent dispensing probe 15 so as to be rotatable and vertically movable, and a washing tank 15a for washing the second reagent dispensing probe 15 every time the second reagent dispensing is completed. It has. The second reagent dispensing probe 15 is used as a cleaning liquid supply unit that supplies a cleaning liquid into the reaction container 3 in the cleaning of the reaction container 3 performed at a time other than measurement.

また、反応容器3内の各試料、第1試薬、及び第2試薬の混合液を撹拌する第2撹拌子19と、第2撹拌子19を回動及び上下移動可能に保持する第2撹拌アーム21と、混合液の撹拌終了毎に第2撹拌子19を洗浄する洗浄槽19aと、反応容器3内の混合液に光を照射して試料を光学的に測定する測光部13と、測光部13で測定終了の反応容器3内を洗浄する反応容器洗浄部12とを備えている。   Also, a second stirrer 19 that stirs the mixed solution of each sample, first reagent, and second reagent in the reaction vessel 3, and a second stirrer arm that holds the second stirrer 19 so as to be rotatable and vertically movable. 21, a washing tank 19a for washing the second stirrer 19 every time stirring of the mixed liquid, a photometric section 13 for optically measuring the sample by irradiating the mixed liquid in the reaction vessel 3, and a photometric section 13 is provided with a reaction vessel cleaning section 12 for cleaning the inside of the reaction vessel 3 whose measurement has been completed.

図3は、測光部13の構成を示した図である。この測光部13は、光を発する例えばハロゲンランプ等の光源を有する光源部131、及びこの光源部131から照射された光を検出する例えばフォトダイオードアレイ等を有する検出部132により構成される。   FIG. 3 is a diagram showing the configuration of the photometry unit 13. The photometry unit 13 includes a light source unit 131 having a light source such as a halogen lamp that emits light, and a detection unit 132 having a photodiode array or the like that detects light emitted from the light source unit 131.

光源部131は、検出部132との間に光源からの光が通る光路133を形成し、この形成した光路133を回転移動して横切る反応容器3に光を照射する。   The light source unit 131 forms an optical path 133 through which light from the light source passes, and irradiates the reaction container 3 that crosses the formed optical path 133 by rotating.

反応容器3では、光源部131から照射された光が通る反応容器3内側の入射光路面3aから入射した光が混合液内を光路133に沿って透過する。そして、混合液内を透過した光が反応容器3内側の出射光路面3bから出射する。   In the reaction container 3, the light incident from the incident optical path surface 3 a inside the reaction container 3 through which the light emitted from the light source unit 131 passes passes through the mixed liquid along the optical path 133. And the light which permeate | transmitted the inside of a liquid mixture radiate | emits from the output optical path surface 3b inside reaction container 3. FIG.

検出部132は光源部131に対向して配置され、反応容器3内の混合液を透過した光を検査項目の波長毎に検出し、検出した検出信号に基づいて、例えば吸光度データで表される標準データや被検データを生成する。そして、生成した標準データや被検データをデータ処理部30に出力する。   The detection unit 132 is arranged to face the light source unit 131, detects light transmitted through the mixed liquid in the reaction vessel 3 for each wavelength of the inspection item, and is represented by, for example, absorbance data based on the detected signal. Generate standard data and test data. Then, the generated standard data and test data are output to the data processing unit 30.

図2に示した分析制御部25は、分析部24の第1及び第2撹拌子18,19以外の各分析ユニットを駆動する機構を有する機構部26と、分析部24の第1及び第2撹拌子18,19を夫々駆動する駆動部27と、機構部26の各機構、駆動部27、及び反応容器洗浄部12を制御する制御部28とを備えている。そして、機構部26は分析サイクル毎に、サンプルディスク5、試薬庫1の試薬ラック1a、及び試薬庫2の試薬ラック2aを夫々回動する機構、並びに反応ディスク4を回転する機構を備えている。また、サンプル分注アーム10、第1試薬分注アーム8、第2試薬分注アーム9、第1撹拌アーム20、及び第2撹拌アーム21を夫々回動及び上下移動する機構、反応容器洗浄部12を上下移動する機構等を備えている。   The analysis control unit 25 shown in FIG. 2 includes a mechanism unit 26 having a mechanism for driving each analysis unit other than the first and second stirrers 18 and 19 of the analysis unit 24, and the first and second of the analysis unit 24. A drive unit 27 that drives the stirrers 18 and 19, and each mechanism of the mechanism unit 26, the drive unit 27, and a control unit 28 that controls the reaction vessel cleaning unit 12 are provided. The mechanism unit 26 includes a mechanism for rotating the sample disk 5, the reagent rack 1a of the reagent storage 1 and the reagent rack 2a of the reagent storage 2, and a mechanism for rotating the reaction disk 4 for each analysis cycle. . Further, a mechanism for rotating and vertically moving the sample dispensing arm 10, the first reagent dispensing arm 8, the second reagent dispensing arm 9, the first stirring arm 20, and the second stirring arm 21, respectively, and a reaction container washing unit 12 is provided with a mechanism for moving up and down.

図1に示したデータ処理部30は、分析部24の測光部13から出力された標準データや被検データを処理して各検査項目の検量データや分析データを生成する演算部31と、演算部31で生成された標準データや分析データを保存するデータ記憶部32とを備えている。   The data processing unit 30 shown in FIG. 1 includes a calculation unit 31 that processes standard data and test data output from the photometry unit 13 of the analysis unit 24 to generate calibration data and analysis data for each inspection item, A data storage unit 32 for storing the standard data and analysis data generated by the unit 31.

演算部31は、測光部13から出力された標準データ及びこの標準データの標準試料に予め設定された標準値から、各検査項目成分の濃度や活性と標準データの関係を表す検量データを生成し、生成した検量データを出力部40に出力すると共にデータ記憶部32に保存する。   The calculation unit 31 generates calibration data representing the relationship between the concentration and activity of each test item component and the standard data from the standard data output from the photometry unit 13 and the standard values preset in the standard sample of the standard data. The generated calibration data is output to the output unit 40 and stored in the data storage unit 32.

データ記憶部32は、ハードディスク等のメモリデバイスを備え、演算部31から出力された検量データを検査項目毎に保存する。また、演算部31から出力された各検査項目の分析データを被検試料毎に保存する。更に、演算部31から出力された各検査項目の管理分析データを管理試料毎に保存する。   The data storage unit 32 includes a memory device such as a hard disk, and stores the calibration data output from the calculation unit 31 for each inspection item. Moreover, the analysis data of each inspection item output from the calculation unit 31 is stored for each test sample. Furthermore, the management analysis data of each inspection item output from the calculation unit 31 is stored for each management sample.

出力部40は、データ処理部30の演算部31から出力された検量データや分析データを印刷出力する印刷部41及び表示出力する表示部42を備えている。そして、印刷部41は、プリンタなどを備え、演算部31から出力された検量データや分析データを予め設定されたフォーマットに従って、プリンタ用紙などに印刷する。   The output unit 40 includes a printing unit 41 that prints out calibration data and analysis data output from the calculation unit 31 of the data processing unit 30 and a display unit 42 that displays and outputs the calibration data. The printing unit 41 includes a printer or the like, and prints the calibration data and analysis data output from the calculation unit 31 on printer paper or the like according to a preset format.

表示部42は、CRTや液晶パネルなどのモニタを備え、演算部31から出力された検量データや分析データを表示する。また、自動分析装置100で検査可能な各検査項目の分析パラメータを設定するための分析パラメータ設定画面、各検査項目に該当する試薬の試薬情報を設定するための試薬情報設定画面、被検試料毎にこの被検試料を識別する氏名やID等の識別情報及び検査項目を設定するための被検試料情報設定画面等を表示する。   The display unit 42 includes a monitor such as a CRT or a liquid crystal panel, and displays calibration data and analysis data output from the calculation unit 31. In addition, an analysis parameter setting screen for setting analysis parameters of each inspection item that can be inspected by the automatic analyzer 100, a reagent information setting screen for setting reagent information of a reagent corresponding to each inspection item, and each test sample A test sample information setting screen or the like for setting identification information such as a name and ID for identifying the test sample and an inspection item is displayed.

操作部80は、キーボード、マウス、ボタン、タッチキーパネルなどの入力デバイスを備え、検査項目毎の分析パラメータの設定、試薬情報の設定、被検試料の識別情報及び検査項目の設定等の操作を行う。また、分析部24における各分析ユニットの洗浄を測定以外のときに行うための洗浄モードを指定する操作を行う。この洗浄モード指定操作により、分析部24の各分析ユニットを測定中よりも強力に洗浄することができる。   The operation unit 80 includes input devices such as a keyboard, a mouse, a button, and a touch key panel, and performs operations such as setting of analysis parameters for each test item, setting of reagent information, identification information of a test sample, and setting of test items. Do. In addition, an operation for designating a cleaning mode for performing the cleaning of each analysis unit in the analysis unit 24 at a time other than measurement is performed. By this washing mode designation operation, each analysis unit of the analysis unit 24 can be washed more strongly than during measurement.

システム制御部90は、CPU及び記憶回路を備え、操作部80からの操作により入力されたコマンド信号、各検査項目の分析パラメータの情報、試薬情報、被検試料の識別情報及び検査項目の情報、洗浄モードの情報等の入力情報を記憶回路に記憶した後、これらの入力情報に基づいて、分析制御部25、データ処理部30、及び出力部40を統括してシステム全体を制御する。   The system control unit 90 includes a CPU and a storage circuit, and receives a command signal input by an operation from the operation unit 80, analysis parameter information of each test item, reagent information, test sample identification information, and test item information. After storing input information such as information on the cleaning mode in the storage circuit, the analysis control unit 25, the data processing unit 30, and the output unit 40 are integrated to control the entire system based on the input information.

次に、図2及び図4を参照して、分析部24における反応容器洗浄12の構成の詳細及び洗浄動作を説明する。   Next, with reference to FIG.2 and FIG.4, the detail of a structure of the reaction container washing | cleaning 12 in the analysis part 24 and washing | cleaning operation | movement are demonstrated.

図4は、反応容器洗浄部12の構成の一例を示した図である。この反応容器洗浄部12は、反応容器3内を洗浄する洗浄液の吐出及び吸引を行う洗浄ノズルユニット50と、測定中における分析サイクル毎に洗浄液や洗浄水の供給動作及び供給した洗浄液や洗浄水の排出動作を行う洗浄ポンプユニット60とを備えている。そして、反応ディスク4が回転しているときは洗浄位置Wの上停止位置に保持され、反応ディスク4が停止したときに下停止位置まで移動して、洗浄位置Wに停止した反応容器3内の洗浄を行う。   FIG. 4 is a diagram illustrating an example of the configuration of the reaction container cleaning unit 12. The reaction container cleaning unit 12 includes a cleaning nozzle unit 50 that discharges and sucks a cleaning liquid for cleaning the inside of the reaction container 3, a supply operation of the cleaning liquid and the cleaning water for each analysis cycle during the measurement, and the supplied cleaning liquid and the cleaning water. And a cleaning pump unit 60 that performs a discharging operation. When the reaction disk 4 is rotating, it is held at the upper stop position of the cleaning position W. When the reaction disk 4 stops, the reaction disk 4 moves to the lower stop position and moves to the lower stop position. Wash.

洗浄ノズルユニット50は、下停止位置まで移動したときに反応容器3内へ進入する洗浄位置Wの第1洗浄位置W1に対応する排液ノズル51、第2乃至第4洗浄位置W2乃至W4に対応する第1乃至第3の洗浄ノズルユニット52乃至54、及び第5洗浄位置W5に対応する乾燥ノズル55により構成される。   The cleaning nozzle unit 50 corresponds to the drain nozzle 51 corresponding to the first cleaning position W1 of the cleaning position W that enters the reaction vessel 3 when it moves to the lower stop position, and the second to fourth cleaning positions W2 to W4. The first to third cleaning nozzle units 52 to 54 and the drying nozzle 55 corresponding to the fifth cleaning position W5 are configured.

排液ノズル51は吸引ノズルにより構成され、測光部13で測定を終えて第1洗浄位置W1に停止した反応容器3内の混合液を、洗浄ポンプユニット60より行われる排出動作により吸引する。その後、第1洗浄位置W1の反応容器3は、第2洗浄位置W2へ回転移動される。   The drainage nozzle 51 is constituted by a suction nozzle, and sucks the liquid mixture in the reaction vessel 3 that has been measured by the photometry unit 13 and stopped at the first cleaning position W1 by a discharge operation performed by the cleaning pump unit 60. Thereafter, the reaction vessel 3 at the first cleaning position W1 is rotationally moved to the second cleaning position W2.

第1の洗浄ノズルユニット52は吐出ノズル及び吸引ノズルにより構成され、第1洗浄位置W1で混合液が吸引された後に第2洗浄位置W2に停止した反応容器3内に、洗浄ポンプユニット60より行われる供給動作により例えば界面活性剤を含むアルカリ性洗浄液等の第1の洗浄液を吐出する。また、供給動作の後の排出動作により、反応容器3内に吐出した第1の洗浄液を吸引する。この供給動作及び排出動作から成る分析サイクル毎の一連の洗浄動作により、反応容器3内を洗浄する。その後、第2洗浄位置W2の反応容器3は、第3洗浄位置W3へ回転移動される。   The first cleaning nozzle unit 52 is composed of a discharge nozzle and a suction nozzle, and is supplied from the cleaning pump unit 60 into the reaction vessel 3 stopped at the second cleaning position W2 after the liquid mixture has been sucked at the first cleaning position W1. For example, a first cleaning liquid such as an alkaline cleaning liquid containing a surfactant is discharged by the supplying operation. Further, the first cleaning liquid discharged into the reaction container 3 is sucked by the discharging operation after the supplying operation. The inside of the reaction vessel 3 is cleaned by a series of cleaning operations for each analysis cycle including the supply operation and the discharge operation. Thereafter, the reaction vessel 3 at the second cleaning position W2 is rotationally moved to the third cleaning position W3.

第2の洗浄ノズルユニット53は吸引ノズル及び吸引ノズルにより構成され、第2洗浄位置W2で洗浄された後に第3洗浄位置W3に停止した反応容器3内に、洗浄ポンプユニット60より行われる供給動作により例えば界面活性剤を含む酸性洗浄液等の第2の洗浄液を吐出する。また、供給動作の後の排出動作により、反応容器3内に吐出した第2の洗浄液を吸引する。この供給動作及び排出動作から成る分析サイクル毎の一連の洗浄動作により、反応容器3内を洗浄する。その後、第3洗浄位置W3の反応容器3は、第4洗浄位置W4へ回転移動される。   The second cleaning nozzle unit 53 includes a suction nozzle and a suction nozzle, and a supply operation performed by the cleaning pump unit 60 in the reaction vessel 3 stopped at the third cleaning position W3 after being cleaned at the second cleaning position W2. For example, a second cleaning liquid such as an acidic cleaning liquid containing a surfactant is discharged. Moreover, the 2nd washing | cleaning liquid discharged in the reaction container 3 is attracted | sucked by discharge operation | movement after supply operation | movement. The inside of the reaction vessel 3 is cleaned by a series of cleaning operations for each analysis cycle including the supply operation and the discharge operation. Thereafter, the reaction vessel 3 at the third cleaning position W3 is rotationally moved to the fourth cleaning position W4.

第3の洗浄ノズルユニット54は吐出ノズル及び吸引ノズルにより構成され、第3洗浄位置W3で洗浄された後に第4洗浄位置W4に停止した反応容器3内に、洗浄ポンプユニット60より行われる供給動作により例えば純水等の洗浄水を吐出する。また、供給動作の後の排出動作により、反応容器3内に吐出した洗浄水を吸引する。この供給動作及び排出動作から成る分析サイクル毎の一連の洗浄動作により、反応容器3内に残存する洗浄液を洗い落とす洗浄を行う。その後、第4洗浄位置W4の反応容器3は、第5洗浄位置W5へ回転移動される。   The third cleaning nozzle unit 54 includes a discharge nozzle and a suction nozzle, and a supply operation performed by the cleaning pump unit 60 in the reaction vessel 3 that has been cleaned at the third cleaning position W3 and then stopped at the fourth cleaning position W4. For example, cleaning water such as pure water is discharged. Further, the washing water discharged into the reaction vessel 3 is sucked by the discharging operation after the supplying operation. By performing a series of cleaning operations for each analysis cycle including the supply operation and the discharge operation, the cleaning liquid remaining in the reaction vessel 3 is washed out. Thereafter, the reaction vessel 3 at the fourth cleaning position W4 is rotationally moved to the fifth cleaning position W5.

乾燥ノズル55は多孔質状の乾燥チップにより構成され、第4洗浄位置W4で洗浄された後に第5洗浄位置W5に停止した反応容器3内を、洗浄ポンプユニット60より行われる排出動作により乾燥する。その後、第5洗浄位置W5の反応容器3は、サンプル分注プローブ16により試料の分注が可能な位置へ回転移動される。   The drying nozzle 55 is composed of a porous drying tip, and dries the inside of the reaction vessel 3 stopped at the fifth cleaning position W5 after being cleaned at the fourth cleaning position W4 by a discharge operation performed by the cleaning pump unit 60. . Thereafter, the reaction container 3 at the fifth cleaning position W5 is rotationally moved to a position where the sample can be dispensed by the sample dispensing probe 16.

洗浄ポンプユニット60は分析制御部25の制御部28により制御され、第1のタンク61に貯留された第1の洗浄液を洗浄ノズルユニット50における第1の洗浄ノズルユニット52に供給する第1供給ポンプ62と、第2のタンク63に貯留された第2の洗浄液を第2の洗浄ノズルユニット53に供給する第2供給ポンプ64と、第3のタンク65に貯留された洗浄水を第3の洗浄ノズルユニット54に供給する第3供給ポンプ66とを備えている。   The cleaning pump unit 60 is controlled by the control unit 28 of the analysis control unit 25, and supplies the first cleaning liquid stored in the first tank 61 to the first cleaning nozzle unit 52 in the cleaning nozzle unit 50. 62, a second supply pump 64 for supplying the second cleaning liquid stored in the second tank 63 to the second cleaning nozzle unit 53, and the cleaning water stored in the third tank 65 for the third cleaning. And a third supply pump 66 that supplies the nozzle unit 54.

また、第1洗浄位置W1に停止した反応容器3内の混合液を排液ノズル51から吸引して第1排液タンク67内に排出する第1排液ポンプ68と、第2乃至第5洗浄位置W2乃至W5に停止した反応容器3内の第1の洗浄液、第2の洗浄液、洗浄水を第1乃至第3の洗浄ノズル52乃至54及び乾燥ノズル55から吸引して第2排液タンク69内に排出する第2排液ポンプ70とを備えている。   In addition, the first drainage pump 68 that sucks the liquid mixture in the reaction vessel 3 stopped at the first washing position W1 from the drainage nozzle 51 and discharges it into the first drainage tank 67, and the second to fifth washings. The first cleaning liquid, the second cleaning liquid, and the cleaning water in the reaction vessel 3 stopped at the positions W2 to W5 are sucked from the first to third cleaning nozzles 52 to 54 and the drying nozzle 55, and then the second drainage tank 69. And a second drainage pump 70 for discharging the inside.

次に、図2及び図5を参照して、分析部24における第1撹拌子18の構成の詳細、撹拌動作、及び気泡発生動作を説明する。   Next, with reference to FIG.2 and FIG.5, the detail of a structure of the 1st stirring element 18 in the analysis part 24, stirring operation, and bubble generation | occurrence | production operation | movement are demonstrated.

図5は、第1撹拌子18の構成を示した図である。そして、図5(a)は第1撹拌子18の正面図を示し、図5(b)は第1撹拌子18の側面図を示している。なお、第2撹拌子19は、第1撹拌子18と同様に構成される。   FIG. 5 is a view showing the configuration of the first stirring bar 18. FIG. 5A shows a front view of the first stirrer 18, and FIG. 5B shows a side view of the first stirrer 18. The second stirring bar 19 is configured in the same manner as the first stirring bar 18.

第1撹拌子18は上端部で第1撹拌アーム20に保持され、例えば鋼弾性板から成る長方形のプレート181と、このプレート181の両面に接合され2つの圧電素子182,183と、プレート181の下側に配置されたプレート181よりも幅が狭いブレード184と、プレート181の下端部に固定された錘185とにより構成される。   The first stirrer 18 is held by the first stirrer arm 20 at the upper end, for example, a rectangular plate 181 made of a steel elastic plate, two piezoelectric elements 182 and 183 joined to both surfaces of the plate 181, and the plate 181. The blade 184 is narrower than the plate 181 disposed on the lower side, and the weight 185 is fixed to the lower end of the plate 181.

各圧電素子182,183は、分析制御部25の駆動部27からの駆動信号により、交互に同期して同じ方向に伸縮し、プレート181を矢印L1及びL2方向に振動させる。なお、1つの圧電素子をプレート181の片面だけに接合するようにしてもよい。   The piezoelectric elements 182 and 183 are alternately expanded and contracted in the same direction in response to a drive signal from the drive unit 27 of the analysis control unit 25 to vibrate the plate 181 in the directions of arrows L1 and L2. Note that one piezoelectric element may be bonded to only one surface of the plate 181.

ブレード184は、プレート181を含めて継ぎ目のない1つの同じ板から形成され、プレート181の下端部中央から下方に向けて延びている。そして、プレート181から伝達された振動により、L1及びL2方向に屈曲振動する。   The blade 184 is formed of one seamless plate including the plate 181, and extends downward from the center of the lower end of the plate 181. Then, the vibration transmitted from the plate 181 causes bending vibration in the L1 and L2 directions.

錘185は、プレート181の質量をブレード184の質量よりも大きくして、ブレード184の振幅を圧電素子182,183の振幅よりも大きくさせるために設けられている。これにより、圧電素子182,183の振幅を小さくして破損を防ぎ、ブレード184による撹拌を効率よく行うことができる。   The weight 185 is provided to make the mass of the plate 181 larger than the mass of the blade 184 so that the amplitude of the blade 184 is larger than the amplitude of the piezoelectric elements 182 and 183. Thereby, the amplitude of the piezoelectric elements 182 and 183 can be reduced to prevent breakage, and stirring by the blade 184 can be performed efficiently.

駆動部27では、測定中に第1撹拌子18のブレード184が混合液を収容した反応容器3内に挿入されたとき、試料と第1試薬の混合液を均一にするための予め設定された周波数の交流電圧を圧電素子182,183に印加する。そして、ブレード184をL1及びL2方向に屈曲振動させて第1撹拌子18に撹拌動作を行わせる。この撹拌動作により、反応容器3内の試料と第1試薬の混合液が撹拌される。   In the drive unit 27, when the blade 184 of the first stirrer 18 is inserted into the reaction vessel 3 containing the mixed solution during the measurement, the driving unit 27 is set in advance to make the mixed solution of the sample and the first reagent uniform. An alternating voltage having a frequency is applied to the piezoelectric elements 182 and 183. Then, the blade 184 is bent and vibrated in the L1 and L2 directions to cause the first stirrer 18 to perform a stirring operation. By this stirring operation, the mixed solution of the sample and the first reagent in the reaction vessel 3 is stirred.

また、測定以外のときに行われる反応容器3の洗浄において、ブレード184が第1又は第2の洗浄液を収容した反応容器3内に挿入されたとき、その第1又は第2の洗浄液に微小気泡を発生させるための予め設定された周波数の交流電圧を圧電素子182,183に印加する。そして、ブレード184をL1及びL2方向に屈曲振動させて第1撹拌子18に気泡発生動作を行わせる。この気泡発生動作により、反応容器3内における第1又は第2の洗浄液から微小気泡が発生する。   Further, in the cleaning of the reaction vessel 3 performed at a time other than the measurement, when the blade 184 is inserted into the reaction vessel 3 containing the first or second cleaning liquid, microbubbles are generated in the first or second cleaning liquid. Is applied to the piezoelectric elements 182 and 183. Then, the blade 184 is bent and vibrated in the L1 and L2 directions to cause the first stirrer 18 to perform a bubble generating operation. By this bubble generation operation, micro bubbles are generated from the first or second cleaning liquid in the reaction vessel 3.

このように、予め設定された周波数に基づいて屈曲振動するブレード184を有する第1撹拌子18を用いることにより、微小気泡を発生させることができる。そして、発生した微小気泡が消滅するときに、反応容器3内の微小気泡と接触した面を、第1又は第2の洗浄液を液状で接触させたときよりも強力に洗浄することができる。   Thus, by using the first stirrer 18 having the blade 184 that bends and vibrates based on a preset frequency, microbubbles can be generated. When the generated microbubbles disappear, the surface in contact with the microbubbles in the reaction vessel 3 can be washed more strongly than when the first or second cleaning liquid is brought into contact with the liquid.

以下、図1乃至図7を参照して、自動分析装置100の測定以外のときに行う反応容器3の洗浄動作の一例を説明する。図6は、自動分析装置100の洗浄動作を示すフローチャートである。図7は、洗浄中の反応容器3内を示す図である。   Hereinafter, with reference to FIGS. 1 to 7, an example of the cleaning operation of the reaction vessel 3 performed at a time other than the measurement by the automatic analyzer 100 will be described. FIG. 6 is a flowchart showing the cleaning operation of the automatic analyzer 100. FIG. 7 is a view showing the inside of the reaction vessel 3 being cleaned.

図6において、第1の洗浄液を収容した試薬容器6,7分析部24の試薬庫1,2に収納される。そして、自動分析装置100の待機中に、操作部80から洗浄モードの内の例えば反応容器3の洗浄を指定する操作が行われると、自動分析装置100は洗浄動作を開始する(ステップS1)。   In FIG. 6, the reagent containers 6 and 7 that store the first cleaning liquid are stored in the reagent containers 1 and 2 of the analysis unit 24. Then, when an operation for designating, for example, the cleaning of the reaction vessel 3 in the cleaning mode is performed from the operation unit 80 while the automatic analyzer 100 is on standby, the automatic analyzer 100 starts a cleaning operation (step S1).

システム制御部90は、予め設定された洗浄条件に基づいて、分析制御部25に反応容器3の洗浄を指示する。分析制御部25の制御部28は、機構部26、駆動部27及び反応容器洗浄部12を制御して、分析部24における反応ディスク4、第1試薬分注アーム10、試薬庫1の試薬ラック1a、及び試薬庫2の試薬ラック2a、第1撹拌子18、第1撹拌アーム20、第2撹拌子19、第2撹拌アーム21、反応容器洗浄部12等の各分析ユニットを作動させる。   The system control unit 90 instructs the analysis control unit 25 to clean the reaction container 3 based on the preset cleaning conditions. The control unit 28 of the analysis control unit 25 controls the mechanism unit 26, the drive unit 27, and the reaction container cleaning unit 12, and the reaction disk 4, the first reagent dispensing arm 10, and the reagent rack of the reagent storage 1 in the analysis unit 24. 1a and the reagent rack 2a of the reagent storage 2, the first stirring bar 18, the first stirring arm 20, the second stirring bar 19, the second stirring arm 21, the reaction vessel cleaning unit 12, and the like are operated.

第1試薬分注プローブ14は、試薬庫1に収納された試薬容器6から第1の洗浄液を吸引した後、図7(a)に示すように、反応容器3内における第1の洗浄液の高さが入射光路面3a及び出射光路面3bの高さH1以下の高さとなる光路面液量V1の第1の洗浄液を反応容器3内に吐出する(ステップS2)。   The first reagent dispensing probe 14 sucks the first cleaning liquid from the reagent container 6 accommodated in the reagent container 1 and then increases the first cleaning liquid in the reaction container 3 as shown in FIG. A first cleaning solution having an optical path surface liquid amount V1 having a height equal to or less than the height H1 of the incident optical path surface 3a and the outgoing optical path surface 3b is discharged into the reaction vessel 3 (step S2).

第1撹拌子18は、図7(b)に示すように、第1試薬分注プローブ14により吐出された反応容器3内における第1の洗浄液から入射光路面3a及び出射光路面3bの全面に接触する微小気泡を発生させる(ステップS3)。   As shown in FIG. 7B, the first stirrer 18 is formed on the entire surface of the incident light path surface 3a and the output light path surface 3b from the first cleaning liquid in the reaction container 3 discharged by the first reagent dispensing probe 14. The microbubble which contacts is generated (step S3).

なお、入射光路面3a及び出射光路面3bの全面に第1の洗浄液の微小気泡及び液状の第1の洗浄液を接触させるように実施してもよい。   Note that the microbubbles of the first cleaning liquid and the liquid first cleaning liquid may be brought into contact with the entire surfaces of the incident optical path surface 3a and the outgoing optical path surface 3b.

このように、特に洗浄力を必要とする反応容器3の入射光路面3a及び出射光路面3bに接触する微小気泡を発生させる洗浄工程を設けることにより、入射光路面3a及び出射光路面3bの全面を液状の第1の洗浄液に接触させるときよりも強力に洗浄することができる。これにより、洗浄時間の短縮を図ることができる。   In this way, by providing a cleaning step for generating microbubbles in contact with the incident optical path surface 3a and the outgoing optical path surface 3b of the reaction vessel 3 that particularly requires cleaning power, the entire surfaces of the incident optical path surface 3a and the outgoing optical path surface 3b are provided. Can be washed more strongly than when it is brought into contact with the liquid first washing liquid. As a result, the cleaning time can be shortened.

第2試薬分注プローブ15は、試薬庫2に収納された試薬容器7から第1の洗浄液を吸引した後、図7(c)に示すように、微小気泡が発生した反応容器3内における第1の洗浄液の高さが最大液量のときの混合液の高さH2以上の高さとなる量の第1の洗浄液を全ての反応容器3内へ吐出する(ステップS4)。   The second reagent dispensing probe 15 sucks the first cleaning liquid from the reagent container 7 housed in the reagent store 2, and then, as shown in FIG. 7C, the second reagent dispensing probe 15 in the reaction container 3 in which microbubbles are generated. An amount of the first cleaning liquid having a height equal to or higher than the height H2 of the mixed liquid when the height of one cleaning liquid is the maximum liquid volume is discharged into all the reaction vessels 3 (step S4).

反応容器洗浄部12は、第1の洗浄液が吐出されてから分析サイクルの時間よりも長い所定の時間T1経過した反応容器3内を測定中と同様の洗浄動作により洗浄する。これにより、第1の洗浄液を用いた微小気泡の洗浄工程を含む反応容器3の洗浄を終了する。   The reaction container cleaning unit 12 cleans the inside of the reaction container 3 after a predetermined time T1 longer than the analysis cycle time from the discharge of the first cleaning liquid by the same cleaning operation as that during measurement. Thereby, the washing | cleaning of the reaction container 3 including the washing | cleaning process of the microbubbles using the 1st washing | cleaning liquid is complete | finished.

このように、高さH2以上となる量の第1の洗浄液を反応容器3内に時間T留めておくことにより、測定中に反応容器洗浄部12で第1の洗浄液を用いて洗浄するときよりも反応容器3内を強力に洗浄することができる。   In this way, by keeping the amount of the first cleaning liquid having a height of H2 or more in the reaction container 3 for a time T, the reaction container cleaning unit 12 performs the cleaning using the first cleaning liquid during the measurement. Also, the inside of the reaction vessel 3 can be washed strongly.

第1試薬分注プローブ14は、試薬庫1に収納された試薬容器6から第2の洗浄液を吸引した後、光路面液量V1の第2の洗浄液を、反応容器洗浄部12により洗浄された反応容器3内に吐出する(ステップS5)。   The first reagent dispensing probe 14 sucked the second cleaning liquid from the reagent container 6 accommodated in the reagent storage 1 and then the second cleaning liquid having the optical path surface liquid amount V1 was cleaned by the reaction container cleaning unit 12. It discharges in the reaction container 3 (step S5).

第1撹拌子18は、第1試薬分注プローブ14により吐出された反応容器3内における第2の洗浄液から入射光路面3a及び出射光路面3bの全面に接触する微小気泡を発生させる(ステップS6)。   The first stirrer 18 generates microbubbles that come into contact with the entire surface of the incident optical path surface 3a and the outgoing optical path surface 3b from the second cleaning liquid in the reaction container 3 discharged by the first reagent dispensing probe 14 (step S6). ).

なお、入射光路面3a及び出射光路面3bの全面に第2の洗浄液の微小気泡及び液状の第2の洗浄液を接触させるように実施してもよい。   Alternatively, the second cleaning liquid microbubbles and the liquid second cleaning liquid may be brought into contact with the entire surfaces of the incident optical path surface 3a and the outgoing optical path surface 3b.

このように、特に洗浄力を必要とする反応容器3の入射光路面3a及び出射光路面3bに接触する微小気泡を発生させる洗浄工程を設けることにより、入射光路面3a及び出射光路面3bの全面を液状の第2の洗浄液に接触させるときよりも強力に洗浄することができる。これにより、洗浄時間の短縮を図ることができる。   In this way, by providing a cleaning step for generating microbubbles in contact with the incident optical path surface 3a and the outgoing optical path surface 3b of the reaction vessel 3 that particularly requires cleaning power, the entire surfaces of the incident optical path surface 3a and the outgoing optical path surface 3b are provided. Can be washed more strongly than when it is brought into contact with the liquid second washing liquid. As a result, the cleaning time can be shortened.

第2試薬分注プローブ15は、試薬庫2に収納された試薬容器7から第2の洗浄液を吸引した後、微小気泡が発生した反応容器3内における第2の洗浄液の高さが最大液量のときの混合液の高さH2以上の高さとなる量の第2の洗浄液を反応容器3内へ吐出する(ステップS7)。   The second reagent dispensing probe 15 sucks the second cleaning liquid from the reagent container 7 accommodated in the reagent storage 2 and then the height of the second cleaning liquid in the reaction container 3 in which microbubbles are generated is the maximum liquid amount. At this time, the second cleaning liquid having an amount equal to or higher than the height H2 of the mixed liquid is discharged into the reaction vessel 3 (step S7).

反応容器洗浄部12は、第2の洗浄液が吐出されてから時間T1経過した反応容器3内を測定中と同様の洗浄動作により洗浄する。これにより、第2の洗浄液を用いた微小気泡の洗浄工程を含む反応容器3の洗浄を終了する。   The reaction container cleaning unit 12 cleans the inside of the reaction container 3 after a lapse of time T1 from the discharge of the second cleaning liquid by the same cleaning operation as that during measurement. Thus, the cleaning of the reaction vessel 3 including the microbubble cleaning process using the second cleaning liquid is completed.

このように、高さH2以上となる量の第2の洗浄液を反応容器3内に時間T1留めておくことにより、測定中に反応容器洗浄部12で第2の洗浄液を用いて洗浄するときよりも反応容器3内を強力に洗浄することができる。   Thus, by keeping the amount of the second cleaning liquid in the reaction container 3 for the time T1 in the reaction container 3 for an amount of height H2 or more, the reaction container cleaning unit 12 can use the second cleaning liquid during the measurement. Also, the inside of the reaction vessel 3 can be washed strongly.

そして、第1及び第2の洗浄液を用いた微小気泡の洗浄工程を含む洗浄を全ての反応容器3に行った後、システム制御部90が指示して分析部24の全ての分析ユニットを停止させることにより、自動分析装置100は洗浄動作を終了する(ステップS8)。   Then, after the cleaning including the microbubble cleaning process using the first and second cleaning liquids is performed on all the reaction vessels 3, the system control unit 90 instructs to stop all the analysis units of the analysis unit 24. Thus, the automatic analyzer 100 ends the cleaning operation (step S8).

以上述べた本発明の実施例によれば、洗浄力を必要とする反応容器3内側の入射光路面3a及び出射光路面3bの高さH1以下となる光路面液量V1の各第1及び第2の洗浄液を反応容器3内へ吐出した後、反応容器3内の各第1及び第2の洗浄液から入射光路面3a及び出射光路面3bの全面に接触する微小気泡を発生させる洗浄工程を設けることにより、入射光路面3a及び出射光路面3bの全面を液状の各第1及び第2の洗浄液に接触させるときよりも強力に洗浄することができる。これにより、測定外のときの反応容器3の洗浄時間の短縮を図ることができる。   According to the embodiment of the present invention described above, the first and first optical path surface liquid amounts V1 that are equal to or less than the height H1 of the incident optical path surface 3a and the outgoing optical path surface 3b inside the reaction vessel 3 that require detergency. After the cleaning liquid 2 is discharged into the reaction container 3, a cleaning process is provided for generating microbubbles that contact the entire surfaces of the incident optical path surface 3a and the outgoing optical path surface 3b from the first and second cleaning liquids in the reaction container 3. Thus, the entire surfaces of the incident optical path surface 3a and the outgoing optical path surface 3b can be cleaned more strongly than when they are brought into contact with the liquid first and second cleaning liquids. Thereby, the cleaning time of the reaction vessel 3 when it is out of measurement can be shortened.

また、反応容器3内の微小気泡を発生させた後、反応容器3内の各第1及び第2の洗浄液の高さが最大液量のときの混合液の高さH2以上となる量の各第1及び第2の洗浄液を反応容器3内へ時間T1留めておくことにより、測定中に反応容器洗浄部12で各第1及び第2の洗浄液を用いて洗浄するときよりも、反応容器3内の混合液と接触する全面を強力に洗浄することができる。   In addition, after generating microbubbles in the reaction container 3, each of the amounts of the first and second cleaning liquids in the reaction container 3 that are equal to or higher than the height H2 of the mixed liquid when the height of the first cleaning liquid is the maximum liquid amount. By keeping the first and second cleaning liquids in the reaction container 3 for a time T1, the reaction container 3 can be used rather than the reaction container cleaning unit 12 using the first and second cleaning liquids during the measurement. The entire surface in contact with the liquid mixture inside can be washed strongly.

3 反応容器
3a 入射光路面
3b 出射光路面
13 測光部
14 第1試薬分注プローブ
15 第2試薬分注プローブ
18 第1撹拌子
133 光路
3 reaction container 3a incident light path surface 3b output light path surface 13 photometry unit 14 first reagent dispensing probe 15 second reagent dispensing probe 18 first stirrer 133 optical path

Claims (7)

反応容器に収容された試料及び試薬の混合液に光を照射して、その混合液を測定する測光手段を備えた自動分析装置において、
前記反応容器内に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記反応容器内に供給された洗浄液から、前記測光手段により照射された光が通る前記反応容器内側の光路面に接触する微小気泡を発生させる気泡発生手段とを
備えたことを特徴とする自動分析装置。
In an automatic analyzer equipped with a photometric means for irradiating light to a mixed solution of a sample and a reagent contained in a reaction vessel and measuring the mixed solution,
Cleaning liquid supply means for supplying a cleaning liquid into the reaction vessel;
An automatic analysis comprising: a bubble generating means for generating microbubbles contacting the optical path surface inside the reaction container through which the light irradiated by the photometric means passes from the cleaning liquid supplied into the reaction container. apparatus.
前記洗浄液供給手段は、前記光路面の高さ以下の高さとなる光路面液量の洗浄液を前記反応容器内に供給するようにしたことを特徴とする請求項1に記載の自動分析装置。   2. The automatic analyzer according to claim 1, wherein the cleaning liquid supply unit supplies an optical path surface liquid amount of cleaning liquid having a height equal to or less than a height of the optical path surface into the reaction container. 3. 前記洗浄液供給手段は、前記反応容器内に微小気泡が発生した後、その反応容器内の洗浄液の高さが最大液量のときの前記混合液の高さ以上の高さとなる量の洗浄液を供給するようにしたことを特徴とする請求項1に記載の自動分析装置。   The cleaning liquid supply means supplies a cleaning liquid in an amount that is higher than the height of the mixed liquid when the height of the cleaning liquid in the reaction container is the maximum liquid volume after microbubbles are generated in the reaction container. The automatic analyzer according to claim 1, wherein: 前記気泡発生手段は、前記反応容器内の混合液を撹拌する撹拌手段であることを特徴とする請求項1に記載の自動分析装置。   The automatic analyzer according to claim 1, wherein the bubble generating means is a stirring means for stirring the mixed liquid in the reaction vessel. 前記撹拌手段は、前記反応容器内の混合液を撹拌するための、圧電素子及びこの圧電素子の振動によって屈曲振動するブレードを有することを特徴とする請求項4に記載の自動分析装置。   The automatic analyzer according to claim 4, wherein the stirring unit includes a piezoelectric element for stirring the mixed liquid in the reaction vessel and a blade that bends and vibrates due to vibration of the piezoelectric element. 前記洗浄液は、界面活性剤を含むアルカリ性洗浄液又は酸性洗浄液であることを特徴とする請求項1に記載の自動分析装置。   The automatic analyzer according to claim 1, wherein the cleaning liquid is an alkaline cleaning liquid or an acidic cleaning liquid containing a surfactant. 反応容器に収容された試料及び試薬の混合液に光を照射して、その混合液を測定する測光手段を備えた自動分析装置の洗浄方法において、
前記反応容器内に洗浄液を洗浄液供給手段により供給し、
前記反応容器内に供給された洗浄液から、前記測光手段により照射された光が通る前記反応容器内側の光路面に接触する微小気泡を気泡発生手段より発生させることを特徴とする自動分析装置の洗浄方法。
In a cleaning method of an automatic analyzer equipped with a photometric means for irradiating light to a mixed solution of a sample and a reagent contained in a reaction vessel and measuring the mixed solution,
A cleaning liquid is supplied into the reaction vessel by a cleaning liquid supply means,
Washing of an automatic analyzer characterized in that microbubbles that come into contact with the optical path inside the reaction container through which light irradiated by the photometric means passes are generated from the cleaning liquid supplied into the reaction container. Method.
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