JP2011018573A - Conductive paste - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive paste capable of forming an internal electrode layer thinner than before in laminated ceramic electronic parts, and a manufacturing method of the laminated ceramic parts formed by using the conductive paste.SOLUTION: The conductive paste includes a water soluble metal salt, an organic solvent, an organic binder, and water. When an electrode layer of a prescribed pattern is formed, a de-binder easily progresses since organic components are small in number, a thin layer metal film is obtained, and the laminated ceramic parts can be multi-stratified.

Description

本発明は、導電性ペーストと、該導電性ペーストを用いた金属膜の製造方法と、該導電性ペーストを用いた積層セラミック電子部品の製造方法とに関する。   The present invention relates to a conductive paste, a method for manufacturing a metal film using the conductive paste, and a method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component using the conductive paste.

近年、電子機器の軽薄短小化が進んできている。これに伴い、その電子機器に使用される積層セラミック電子部品においても、より一層の小型化・高容量化が進められている。   In recent years, electronic devices are becoming lighter, thinner, and smaller. Along with this, further miniaturization and higher capacity have been promoted in the multilayer ceramic electronic parts used in the electronic devices.

積層セラミック電子部品の一例としての積層セラミックコンデンサを小型化・高容量化するために最も効果的な方法は、内部電極層と誘電体層を双方ともに可能な限り薄くし(薄層化)、かつそれらを可能な限り多く積層する(多層化)ことである。   The most effective method for reducing the size and increasing the capacity of a multilayer ceramic capacitor as an example of a multilayer ceramic electronic component is to make both the internal electrode layer and the dielectric layer as thin as possible (thinning), and It is to laminate as many as possible (multi-layering).

積層セラミックコンデンサは、誘電体層と内部電極層とが交互に複数配置された積層構造のコンデンサ素体を有する。コンデンサ素体の両端部には、一対の外部端子電極が形成してある。この積層セラミックコンデンサは、まずセラミックグリーンシートと焼成前内部電極層とを必要枚数だけ交互に複数積層させて焼成前コンデンサ素体を製造し、次にこれを焼成した後、焼成後コンデンサ素体の両端部に一対の外部端子電極を形成して製造される。焼成前内部電極層は、所定パターンの内部電極ペースト膜や金属薄膜などが用いられる。   The multilayer ceramic capacitor has a capacitor body having a multilayer structure in which a plurality of dielectric layers and internal electrode layers are alternately arranged. A pair of external terminal electrodes is formed at both ends of the capacitor body. This multilayer ceramic capacitor is manufactured by first stacking a plurality of ceramic green sheets and pre-fired internal electrode layers alternately in a necessary number to produce a pre-fired capacitor body, and then firing the pre-fired capacitor body. It is manufactured by forming a pair of external terminal electrodes at both ends. As the internal electrode layer before firing, an internal electrode paste film or a metal thin film having a predetermined pattern is used.

このように、積層セラミックコンデンサの製造に際しては、セラミックグリーンシートと焼成前内部電極層とを同時に焼成することになる。このため、焼成前内部電極層に含まれる導電材には、セラミックグリーンシートに含まれる誘電体原料粉末の焼結温度に近い焼結温度を持つこと、誘電体粉末と反応しないこと、焼成後の誘電体層に拡散しないこと、などが要求される。   Thus, when manufacturing the multilayer ceramic capacitor, the ceramic green sheet and the internal electrode layer before firing are fired simultaneously. For this reason, the conductive material contained in the internal electrode layer before firing has a sintering temperature close to the sintering temperature of the dielectric material powder contained in the ceramic green sheet, does not react with the dielectric powder, It is required not to diffuse into the dielectric layer.

従来は、これらの要求を満足させるために、焼成前内部電極層に含まれる導電材には、PtやPdなどの貴金属を使用してきた。しかしながら、貴金属はそれ自体が高価であり、結果として最終的に得られる積層セラミックコンデンサがコスト高になるという欠点があった。そこで、誘電体粉末の焼結温度を900〜1100℃に低下させ、焼成前内部電極層に含まれる導電材にAg−Pd合金を用いたり、Niなどの安価な卑金属を用いたものが広く知られている(特許文献1)。   Conventionally, in order to satisfy these requirements, noble metals such as Pt and Pd have been used for the conductive material contained in the internal electrode layer before firing. However, the noble metal itself is expensive, and as a result, there is a disadvantage that the finally obtained multilayer ceramic capacitor is expensive. Therefore, it is widely known that the sintering temperature of the dielectric powder is lowered to 900 to 1100 ° C., and an Ag—Pd alloy is used as the conductive material included in the internal electrode layer before firing, or an inexpensive base metal such as Ni is used. (Patent Document 1).

しかしながら、焼成前内部電極層に含まれる導電材にNiを用いた場合を例示すると、焼成前内部電極層の厚みを薄くしていくと、還元雰囲気での焼成中に、導電材に含まれるNi粒子は焼結により球状化し、隣接するNi粒子同士が連結し、凝集するため、焼成前内部電極層の厚みを薄くすることには限界があった。また、Ni粉自体の粒径に限界があるため、厚みを薄くすることには限界があった。   However, when Ni is used for the conductive material contained in the internal electrode layer before firing, the Ni contained in the conductive material during firing in a reducing atmosphere when the thickness of the internal electrode layer before firing is reduced. Since the particles are spheroidized by sintering and adjacent Ni particles are connected and aggregated, there is a limit to reducing the thickness of the internal electrode layer before firing. Moreover, since there is a limit to the particle size of the Ni powder itself, there is a limit to reducing the thickness.

また、焼成前内部電極層を薄膜化するために、金属レジネートを用いた電極層の製造方法が提案されている(特許文献2,3,4)。   In addition, in order to reduce the thickness of the internal electrode layer before firing, a method for manufacturing an electrode layer using a metal resinate has been proposed (Patent Documents 2, 3, and 4).

しかしながら、金属レジネートは有機成分が多いために、焼成工程において脱バインダすることが困難である。また、脱バインダする際に、体積変化が大きく、層間剥離等を引き起こし、電子部品の特性を悪化させてしまうことがある。さらにまた、金属レジネートは高価であり、積層セラミック電子部品がコスト高になってしまうという問題がある。   However, since the metal resinate has many organic components, it is difficult to remove the binder in the firing step. Further, when the binder is removed, the volume change is large, causing delamination and the like, which may deteriorate the characteristics of the electronic component. Furthermore, the metal resinate is expensive, and there is a problem that the multilayer ceramic electronic component is expensive.

特許第3944495号 公報Japanese Patent No. 3944495 特開2005−79504号 公報JP-A-2005-79504 特開平7−14420号 公報JP-A-7-14420 特開平7−176448号 公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-176448

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、積層セラミック電子部品の内部電極を形成するために用いられ、従来の内部電極層よりも、はるかに薄い内部電極層を形成することができる導電性ペーストを提供することである。また、本発明の別の目的は、このような導電性ペーストを用いて製造される金属膜の製造方法と、積層セラミック電子部品の製造方法と、を提供することである。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object thereof is to form an internal electrode layer that is used to form an internal electrode of a multilayer ceramic electronic component and is much thinner than a conventional internal electrode layer. It is providing the electrically conductive paste which can be performed. Another object of the present invention is to provide a method for producing a metal film produced using such a conductive paste and a method for producing a multilayer ceramic electronic component.

上記目的を達成するために、本発明に係る導電性ペーストは、水溶性金属塩と、有機溶媒と、有機バインダと、水とを含むことを特徴とする。   In order to achieve the above object, the conductive paste according to the present invention includes a water-soluble metal salt, an organic solvent, an organic binder, and water.

好ましくは、前記水溶性金属塩は、Ni塩である。   Preferably, the water-soluble metal salt is a Ni salt.

好ましくは、前記有機バインダは、前記有機溶媒に可溶である。   Preferably, the organic binder is soluble in the organic solvent.

好ましくは、前記水に溶けた前記水溶性金属塩が、W/Oエマルジョンの形態で前記有機溶媒中に分散している。   Preferably, the water-soluble metal salt dissolved in the water is dispersed in the organic solvent in the form of a W / O emulsion.

好ましくは、前記W/Oエマルジョンの含有割合は、導電性ペースト100重量%に対して、20重量%以下、さらに好ましくは、12〜18重量%の範囲である。   Preferably, the content ratio of the W / O emulsion is 20% by weight or less, more preferably in the range of 12 to 18% by weight with respect to 100% by weight of the conductive paste.

好ましくは、前記有機溶媒の体積は、前記水の体積よりも大きい。   Preferably, the volume of the organic solvent is larger than the volume of the water.

好ましくは、(有機溶媒+有機バインダ)/(水+水溶性金属塩)の重量比は、4%以上、さらに好ましくは、4〜49%の範囲である。   Preferably, the weight ratio of (organic solvent + organic binder) / (water + water-soluble metal salt) is 4% or more, more preferably in the range of 4 to 49%.

本発明に係る金属膜の製造方法は、上記のいずれかに記載の導電性ペーストを用いて、還元性雰囲気中で、かつ、水分を含む雰囲気中で加熱する工程を有することを特徴とする。   The manufacturing method of the metal film which concerns on this invention has the process of heating in the atmosphere containing a water | moisture content in a reducing atmosphere using the electrically conductive paste in any one of the above.

本発明に係る積層セラミック電子部品の製造方法は、セラミックグリーンシートと、上記のいずれかに記載の導電性ペーストを用いて所定パターンで形成される内部電極層とを、交互に複数重ねたグリーンセラミック積層体を焼成することを特徴とする。   A method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component according to the present invention includes a green ceramic in which a plurality of ceramic green sheets and internal electrode layers formed in a predetermined pattern using the conductive paste described above are alternately stacked. The laminate is fired.

好ましくは、前記導電性ペーストを、前記セラミックグリーンシートに塗布し、乾燥してグリーンセラミック積層体を得る。   Preferably, the conductive paste is applied to the ceramic green sheet and dried to obtain a green ceramic laminate.

本発明に係る導電性ペーストを用いて金属膜を形成することで、極薄の内部電極層を形成することができる。本発明によれば、内部電極層を形成するための導電性ペーストに水溶性金属塩(たとえば、Ni塩)を用い、導電材としてNi粒子を用いないことから、内部電極層の厚みの限界がNi粒子径にとらわれることがなくなる。つまり、Niイオンを還元し、Niを析出させて膜を形成するために、金属膜(内部電極層)の厚みを極薄にすることができる。また、Ni粒子を使用しないので、Ni粒子の凝集が発生せず、導電性ペーストの作製が容易であり、Ni粒子を用いた導電性ペーストよりも安価に導電性ペーストを作製することができる。さらにまた、金属レジネートを用いた導電性ペーストに比べ、有機成分が少ないために容易に脱バインダすることができるので、容易に積層セラミック電子部品を製造することができる。   By forming a metal film using the conductive paste according to the present invention, an extremely thin internal electrode layer can be formed. According to the present invention, since the water-soluble metal salt (for example, Ni salt) is used for the conductive paste for forming the internal electrode layer and Ni particles are not used as the conductive material, there is a limit to the thickness of the internal electrode layer. It is no longer bound by the Ni particle size. That is, in order to reduce Ni ions and deposit Ni to form a film, the thickness of the metal film (internal electrode layer) can be made extremely thin. Further, since Ni particles are not used, aggregation of Ni particles does not occur, and it is easy to produce a conductive paste, and a conductive paste can be produced at a lower cost than a conductive paste using Ni particles. Furthermore, since there are few organic components compared with the electrically conductive paste using a metal resinate, it can be easily debindered, so that a multilayer ceramic electronic component can be easily manufactured.

本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの概略断面図を示す。1 is a schematic cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to an embodiment of the present invention.

以下、本発明を図面に示す実施形態に基づき説明する。まず、本発明に係る積層セラミック電子部品の一実施形態として、積層セラミックコンデンサを例示して説明する。   Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings. First, as an embodiment of the multilayer ceramic electronic component according to the present invention, a multilayer ceramic capacitor will be described as an example.

積層セラミックコンデンサ
図1に示すように、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ1は、誘電体層2と内部電極層3とが交互に積層された構成のコンデンサ素体10を有する。このコンデンサ素体10の両側端部には、素体10の内部で交互に配置された内部電極層3と各々導通する一対の外部電極4,4が形成してある。内部電極層3は、各側端面がコンデンサ素体10の対向する2端部の表面に交互に露出するように積層してある。一対の外部電極4,4は、コンデンサ素体10の両端部に形成され、交互に配置された内部電極層3の露出端面に接続されて、コンデンサ回路を構成する。
Multilayer Ceramic Capacitor As shown in FIG. 1, a multilayer ceramic capacitor 1 according to this embodiment includes a capacitor body 10 having a configuration in which dielectric layers 2 and internal electrode layers 3 are alternately stacked. A pair of external electrodes 4, 4 are formed at both ends of the capacitor body 10 and are electrically connected to the internal electrode layers 3 arranged alternately in the body 10. The internal electrode layers 3 are laminated so that the side end faces are alternately exposed on the surfaces of the two opposite ends of the capacitor body 10. The pair of external electrodes 4, 4 are formed at both ends of the capacitor body 10 and are connected to the exposed end surfaces of the alternately arranged internal electrode layers 3 to constitute a capacitor circuit.

コンデンサ素体10の外形や寸法には特に制限はなく、用途に応じて適宜設定することができ、通常、外形はほぼ直方体形状とし、寸法は通常、縦(0.2〜5.7mm)×横(0.1〜5.0mm)×高さ(0.1〜5.0mm)程度とすることができる。   The outer shape and dimensions of the capacitor body 10 are not particularly limited and can be appropriately set according to the application. Usually, the outer shape is substantially a rectangular parallelepiped shape, and the dimensions are usually vertical (0.2 to 5.7 mm) × It can be about horizontal (0.1-5.0 mm) × height (0.1-5.0 mm).

誘電体層2は、後述するセラミックグリーンシートを焼成して形成され、その材質は、特に限定されず、たとえばチタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウムおよび/またはチタン酸バリウムなどの誘電体材料で構成される。誘電体層2の厚みは、本実施形態では、好ましくは3μm以下、より好ましくは2μm以下に薄層化されている。   The dielectric layer 2 is formed by firing a ceramic green sheet, which will be described later, and the material thereof is not particularly limited. For example, the dielectric layer 2 is made of a dielectric material such as calcium titanate, strontium titanate and / or barium titanate. . In this embodiment, the thickness of the dielectric layer 2 is preferably 3 μm or less, more preferably 2 μm or less.

内部電極層3は、後述する所定パターンの導電性ペーストを焼成して形成される。内部電極層3の厚さは、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.7μm以下に薄層化されている。   The internal electrode layer 3 is formed by firing a conductive paste having a predetermined pattern which will be described later. The thickness of the internal electrode layer 3 is preferably 1 μm or less, more preferably 0.7 μm or less.

外部電極4の材質は、通常、銅や銅合金、ニッケルやニッケル合金などが用いられるが、銀や銀とパラジウムの合金なども使用することができる。外部電極4の厚みも特に限定されないが、通常10〜50μm程度である。   As the material of the external electrode 4, copper, a copper alloy, nickel, a nickel alloy, or the like is usually used, but silver, a silver-palladium alloy, or the like can also be used. The thickness of the external electrode 4 is not particularly limited, but is usually about 10 to 50 μm.

積層セラミックコンデンサの製造方法
次に、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ1の製造方法の一例を説明する。まず、焼成後に図1に示す誘電体層2を構成することになるセラミックグリーンシートを製造するために、誘電体ペーストを準備する。
Method for Manufacturing Multilayer Ceramic Capacitor Next, an example of a method for manufacturing the multilayer ceramic capacitor 1 according to this embodiment will be described. First, a dielectric paste is prepared in order to manufacture a ceramic green sheet that will form the dielectric layer 2 shown in FIG. 1 after firing.

誘電体ペーストの作製
まず、セラミックグリーンシートを形成するための誘電体ペーストを作製した。BaTiO系セラミック粉末と、有機バインダとしてのポリビニルブチラール樹脂(PVB)(重合度:800)と、溶剤としてのプロピルアルコール、キシレン、メチルエチルケトン、2−ブトキシエチルアルコール、可塑剤としてのフタル酸ジオクチルを準備した。次に、セラミック粉末100重量部に対して、6重量部のPVBと、150重量部の溶剤と、可塑剤をそれぞれ秤量し、直径2mmのジルコニアボールとともにボールミルで21時間混練し、スラリー化して誘電体ペーストを得た。なお、可塑剤は、ポリビニルブチラール100重量部に対して50重量部添加した。
Production of Dielectric Paste First, a dielectric paste for forming a ceramic green sheet was produced. Preparation of BaTiO 3 ceramic powder, polyvinyl butyral resin (PVB) (polymerization degree: 800) as an organic binder, propyl alcohol, xylene, methyl ethyl ketone, 2-butoxyethyl alcohol as a solvent, and dioctyl phthalate as a plasticizer did. Next, 6 parts by weight of PVB, 150 parts by weight of solvent, and plasticizer are weighed with respect to 100 parts by weight of ceramic powder, and kneaded with a zirconia ball having a diameter of 2 mm in a ball mill for 21 hours to form a slurry and dielectric. A body paste was obtained. The plasticizer was added in an amount of 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of polyvinyl butyral.

セラミックグリーンシートの形成
そして、支持体としてのPETフィルムの離型処理された面上に、誘電体ペーストをドクターブレード等の方法により、所定厚みで塗布し、乾燥することで、グリーンシートを作製した。グリーンシートの厚みは、好ましくは0.5〜30μm、より好ましくは0.5〜10μm、さらに好ましくは0.5〜5μm程度である。
Formation of a ceramic green sheet, and a dielectric paste was applied to the surface of the PET film as a support subjected to a release treatment by a method such as a doctor blade, and dried to produce a green sheet. . The thickness of the green sheet is preferably about 0.5 to 30 μm, more preferably about 0.5 to 10 μm, and still more preferably about 0.5 to 5 μm.

導電性ペーストの作製
次いで、内部電極層3を形成するための導電性ペーストを作製した。導電性ペーストは、水溶性金属塩と、有機溶媒と、有機バインダと、水とを含有する。
Production of Conductive Paste Next, a conductive paste for forming the internal electrode layer 3 was produced. The conductive paste contains a water-soluble metal salt, an organic solvent, an organic binder, and water.

水溶性金属塩としては、特に限定されないが、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、硫酸塩、ギ酸塩などが挙げられ、これらの中でもギ酸塩あるいは酢酸塩が好ましい。金属成分としてはNiが好ましい。また、脱バインダ工程での積層セラミック電子部品の収縮を抑えることができるという観点からNi含有量が相対的に高い、ギ酸ニッケル、酢酸ニッケルがさらに好ましい。   Although it does not specifically limit as water-soluble metal salt, Carbonate, acetate, nitrate, sulfate, formate, etc. are mentioned, Among these, formate or acetate is preferable. Ni is preferable as the metal component. Further, nickel formate and nickel acetate having a relatively high Ni content are more preferable from the viewpoint that shrinkage of the multilayer ceramic electronic component in the binder removal step can be suppressed.

このような水溶性金属塩は、導電性ペースト中に、好ましくは0.1〜10重量%、より好ましくは0.1〜1.0重量%含まれる。   Such a water-soluble metal salt is preferably contained in the conductive paste in an amount of 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 1.0% by weight.

有機溶媒は、特に限定はされないが、好ましくはターピニルアセテートを主成分とする。全有機溶媒中のターピニルアセテートの含有量は、95重量%以上であることが好ましく、より好ましくは100重量%である。微量であるが、ターピニルアセテートと組み合わせて用いることが可能な溶媒としては、α−ターピニルアセテート、イソボニルアセテート、イソボニルプロピオネート、イソボニルブチレート、イソボニルイソブチレート、ジヒドロターピニルアセテート、ジヒドロターピニルメチルエーテル、ターピネオール、ブチルカルビトールなどがある。   The organic solvent is not particularly limited, but preferably contains terpinyl acetate as a main component. The content of terpinyl acetate in the total organic solvent is preferably 95% by weight or more, and more preferably 100% by weight. Solvents that can be used in combination with terpinyl acetate in trace amounts include α-terpinyl acetate, isobornyl acetate, isobornyl propionate, isobornyl butyrate, isobornyl isobutyrate, dihydro Examples include terpinyl acetate, dihydroterpinyl methyl ether, terpineol, and butyl carbitol.

有機溶媒は、導電性ペースト中に、水溶性金属塩100重量部に対して、好ましくは1000〜100000重量部、より好ましくは5000〜10000重量部で含まれる。有機溶媒量が少なすぎるとペースト粘度が高くなりすぎ、多すぎるとペースト粘度が低くなりすぎる不都合がある。   The organic solvent is preferably contained in the conductive paste in an amount of 1000 to 100,000 parts by weight, more preferably 5000 to 10,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the water-soluble metal salt. If the amount of the organic solvent is too small, the paste viscosity becomes too high, and if it is too much, the paste viscosity becomes too low.

有機バインダは、特に限定はされないが、好ましくはエチルセルロースを主成分とする。有機バインダ中のエチルセルロースの含有量は、95重量%以上であることが好ましく、より好ましくは100重量%である。ごく微量ではあるが、エチルセルロースと組み合わせて用いることが可能な樹脂としては、ポリビニルブチラールやアクリル樹脂などがある。   The organic binder is not particularly limited, but preferably contains ethyl cellulose as a main component. The content of ethyl cellulose in the organic binder is preferably 95% by weight or more, and more preferably 100% by weight. Examples of resins that can be used in combination with ethyl cellulose, although very small, include polyvinyl butyral and acrylic resins.

有機バインダは、導電性ペースト中に、水溶性金属塩100重量部に対して、好ましくは1000〜10000重量部で含まれる。バインダ量が少なすぎると、印刷後の皮膜強度が低下する傾向にあり、多すぎると、焼成前の電極パターン中の金属塩の比率が低下し、焼成後に形成される内部電極の平滑性を維持することができない。また、ごく微量ではあるが、有機溶媒及び有機バインダとともに含有させることが可能なものとしては、可塑剤、レベリング剤などがある。   The organic binder is preferably contained in the conductive paste in an amount of 1000 to 10,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the water-soluble metal salt. If the amount of the binder is too small, the film strength after printing tends to decrease. If the amount is too large, the ratio of the metal salt in the electrode pattern before firing decreases, and the smoothness of the internal electrode formed after firing is maintained. Can not do it. Moreover, there are a plasticizer, a leveling agent, and the like that can be contained together with an organic solvent and an organic binder although the amount is extremely small.

また、有機バインダは有機溶媒に可溶であることが好ましい。そして、水に溶けた水溶性金属塩が有機溶媒中に分散し、W/Oエマルジョンとなることが好ましい。W/Oエマルジョンの含有割合は、導電性ペースト100重量%に対して、好ましくは20重量%以下であり、より好ましくは12〜18重量%の範囲である。有機溶媒の体積は水の体積よりも大きいことが好ましい。   The organic binder is preferably soluble in an organic solvent. And it is preferable that the water-soluble metal salt melt | dissolved in water disperse | distributes in an organic solvent, and becomes a W / O emulsion. The content ratio of the W / O emulsion is preferably 20% by weight or less, more preferably in the range of 12 to 18% by weight with respect to 100% by weight of the conductive paste. The volume of the organic solvent is preferably larger than the volume of water.

また、(有機溶媒+有機バインダ)/(水+水溶性金属塩)の重量比は、好ましくは4%以上であり、より好ましくは4〜49%の範囲である。   The weight ratio of (organic solvent + organic binder) / (water + water-soluble metal salt) is preferably 4% or more, more preferably in the range of 4 to 49%.

導電性ペースト中には、接着性の改善のために、可塑剤が含まれてもよい。可塑剤としては、フタル酸ベンジルブチル(BBP)などのフタル酸エステル、アジピン酸、燐酸エステル、グリコール類などが例示される。本実施形態では、好ましくは、アジピン酸ジオクチル(DOA)、フタル酸ブチルブチレングリコール(BPBG)、フタル酸ジドデシル(DDP)、フタル酸ジブチル(DBP)、フタル酸ベンジルブチル(BBP)、フタル酸ジオクチル(DOP)、セバシン酸ジブチルなどが用いられる。中でも、フタル酸ジオクチル(DOP)が特に好ましい。可塑剤は、有機バインダ100重量部に対して、好ましくは25〜150重量部、より好ましくは25〜100重量部で含有される。可塑剤の添加により、そのペーストを用いて形成される電極層の接着力は高まり、電極層とグリーンシートとの接着力が向上する。このような効果を得るためには、可塑剤の添加量は、25重量部以上が好ましい。   The conductive paste may contain a plasticizer for improving adhesion. Examples of the plasticizer include phthalic acid esters such as benzylbutyl phthalate (BBP), adipic acid, phosphoric acid esters, glycols, and the like. In the present embodiment, preferably, dioctyl adipate (DOA), butyl butylene glycol phthalate (BPBG), didodecyl phthalate (DDP), dibutyl phthalate (DBP), benzyl butyl phthalate (BBP), dioctyl phthalate ( DOP), dibutyl sebacate and the like are used. Of these, dioctyl phthalate (DOP) is particularly preferable. The plasticizer is contained in an amount of preferably 25 to 150 parts by weight, more preferably 25 to 100 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the organic binder. By adding the plasticizer, the adhesive force of the electrode layer formed using the paste is increased, and the adhesive force between the electrode layer and the green sheet is improved. In order to obtain such an effect, the amount of the plasticizer added is preferably 25 parts by weight or more.

また、W/Oエマルジョンを安定化させるために、ノニオン系、アニオン系、カチオン系の界面活性剤を添加しても良い。   In order to stabilize the W / O emulsion, a nonionic, anionic or cationic surfactant may be added.

導電性ペーストの粘度は、BROOKFIELD社製 VISCMETR HBDVI+を用いてスピンドル(SC4−14)/チャンバー(6R)、液温25℃、ズリ速度4S−1の条件で測定した場合に、好ましくは1〜20Pa・s、より好ましくは3〜15Pa・sである。粘度が低すぎるとにじみ、高すぎるとパターン欠けやメッシュ跡が残るという不都合がある。 When the viscosity of the conductive paste is measured under the conditions of a spindle (SC 4-14 ) / chamber (6R), a liquid temperature of 25 ° C., and a slip rate of 4S −1 using a VISCMETR HBDVI + manufactured by BROOKFIELD, preferably 1 to 20 Pa · s, more preferably 3 to 15 Pa · s. If the viscosity is too low, the ink is blurred.

本実施形態の導電性ペーストは、有機溶媒としてターピニルアセテートを含むので、経時的粘度変化が少ない。具体的には、調整時の粘度V0と、静置1日後の粘度V1と、静置7日後の粘度V7と、静置30日後の粘度V30とを、それぞれ測定したときの粘度変化率が極めて小さく、経時的粘度変化が抑制されている。   Since the conductive paste of this embodiment contains terpinyl acetate as an organic solvent, the viscosity change with time is small. Specifically, the viscosity change rate when measuring the viscosity V0 at the time of adjustment, the viscosity V1 after 1 day of standing, the viscosity V7 after 7 days of standing, and the viscosity V30 after 30 days of standing are extremely high. It is small and changes in viscosity with time are suppressed.

導電性ペーストは、上記各成分を、ボールミルなどで混練し、スラリー化することにより得ることができる。   The conductive paste can be obtained by kneading the above components with a ball mill or the like to form a slurry.

電極層の形成
次に、キャリアシート上に形成されたセラミックグリーンシートの表面に、焼成後に図1に示す内部電極層3となる所定パターンの電極層(内部電極パターン)を導電性ペーストを用いて形成する。
Formation of Electrode Layer Next, on the surface of the ceramic green sheet formed on the carrier sheet, an electrode layer (internal electrode pattern) having a predetermined pattern to be the internal electrode layer 3 shown in FIG. Form.

電極層の厚さは、0.5μm以下、好ましくは0.1〜0.3μmである。電極層の厚さが厚すぎると、積層数を減少せざるをえなくなり取得容量が少なくなり、高容量化しにくくなる。一方、厚みが薄すぎると均一に形成することが困難であり、電極途切れが発生しやすくなる。   The thickness of the electrode layer is 0.5 μm or less, preferably 0.1 to 0.3 μm. If the thickness of the electrode layer is too thick, the number of stacked layers must be reduced, the acquired capacity is reduced, and it is difficult to increase the capacity. On the other hand, if the thickness is too thin, it is difficult to form uniformly, and electrode breakage is likely to occur.

電極層の厚さは、現状の技術では前記範囲の程度であるが、電極の途切れが生じない範囲で薄い方がより望ましい。   The thickness of the electrode layer is in the above range in the current technology, but it is more desirable that the thickness of the electrode layer is as thin as possible without causing electrode breaks.

電極層の形成方法は、層を均一に形成できる方法であれば特に限定されないが、本実施形態では、導電性ペーストを用いたスクリーン印刷法が用いられる。   The method for forming the electrode layer is not particularly limited as long as the layer can be formed uniformly, but in this embodiment, a screen printing method using a conductive paste is used.

グリーンチップの作製、焼成など
次に、以上のような、所定パターンの内部電極パターンが表面に形成されたグリーンシートを複数積層して、グリーンチップを作製し、脱バインダ工程、焼成工程、必要に応じて行われるアニール工程を経て形成された、焼結体で構成されるコンデンサ素体10に、外部電極用ペーストを印刷または転写して焼成し、外部電極4,4を形成して、積層セラミックコンデンサ1が製造される。グリーンチップの焼成工程は、還元性雰囲気中で、かつ、水分を含む雰囲気中で熱処理により行われる。
Next, green chip fabrication, firing, etc. Next, a plurality of green sheets with internal electrode patterns of a predetermined pattern formed on the surface as described above are laminated to produce a green chip, and a binder removal process, a firing process, and so on. An external electrode paste is printed or transferred to a capacitor body 10 composed of a sintered body, which is formed through an annealing process performed in accordance with this, and fired to form external electrodes 4, 4. The capacitor 1 is manufactured. The green chip firing step is performed by heat treatment in a reducing atmosphere and in an atmosphere containing moisture.

本実施形態の作用効果
本実施形態では、導電性ペーストに水溶性金属塩と、有機溶媒と、有機バインダと、水とを含む。このため、導電材としてNi粒子を用いた導電性ペーストに比べ、はるかに薄い内部電極層を形成することができる。また、金属レジネートを用いる場合に比べ、容易に、安価で高機能な内部電極層を形成することができる。
Effects of the present embodiment In the present embodiment, the conductive paste contains a water-soluble metal salt, an organic solvent, an organic binder, and water. For this reason, a much thinner internal electrode layer can be formed as compared with the conductive paste using Ni particles as the conductive material. Further, it is possible to easily form an inexpensive and highly functional internal electrode layer as compared with the case of using a metal resinate.

以上より、本実施形態の導電性ペーストは、最終物たる電子部品の小型化・高容量化に極めて有益である。   From the above, the conductive paste of this embodiment is extremely useful for reducing the size and increasing the capacity of the final electronic component.

その他の実施形態
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は、上述した実施形態に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々に改変することができる。
Other Embodiments Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. it can.

たとえば、上述した実施形態では、本発明に係る電子部品として積層セラミックコンデンサを例示したが、本発明に係る電子部品としては、積層セラミックコンデンサに限定されず、多層セラミック基板などにも適用できることは勿論である。   For example, in the above-described embodiment, the multilayer ceramic capacitor is exemplified as the electronic component according to the present invention. However, the electronic component according to the present invention is not limited to the multilayer ceramic capacitor and can be applied to a multilayer ceramic substrate or the like. It is.

以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be described based on further detailed examples, but the present invention is not limited to these examples.

導電性ペーストの作製
まず、イオン交換水100gに、酢酸ニッケル四水和物4.8gを溶かし、第1液を作製した。次に、有機溶媒としてターピニルアセテート300gに、有機バインダとしてエチルセルロース100gを溶かし、BROOKFIELD社製 VISCMETR HBDVI+を用いてスピンドル(SC4−14)/チャンバー(6R)、液温25℃、ズリ速度4S−1の条件で測定した場合に、粘度が1〜20Pa・sとなる第2液を400g作製した。
Preparation of conductive paste First, 4.8 g of nickel acetate tetrahydrate was dissolved in 100 g of ion-exchanged water to prepare a first liquid. Next, 100 g of ethylcellulose as an organic binder is dissolved in 300 g of terpinyl acetate as an organic solvent, and a spindle (SC 4-14 ) / chamber (6R), a liquid temperature of 25 ° C., a slip rate of 4 S using a VISCMETR HBDVI + manufactured by BROOKFIELD. 400 g of a second liquid having a viscosity of 1 to 20 Pa · s when measured under the condition of −1 .

第2液を撹拌しながら、マイクロピペットを用いて0.2μl/sにて第1液を第2液に滴下した。その後、微小メディアを用いたメディアミルにより2時間撹拌し、W/Oエマルジョンである導電性ペーストを作製した。   While stirring the second liquid, the first liquid was added dropwise to the second liquid at 0.2 μl / s using a micropipette. Then, it stirred for 2 hours with the media mill using a micro media, and produced the electrically conductive paste which is a W / O emulsion.

誘電体ペーストの作製
BaTiO系セラミック粉末と、有機バインダとしてのポリビニルブチラール(PVB)と、溶媒としてのメタノールを準備した。次に、セラミック粉末に対して、10重量%の有機バインダと、150重量%の溶媒とをそれぞれ秤量し、ボールミルで混練し、スラリー化して誘電体ペーストを得た。
Preparation of Dielectric Paste BaTiO 3 -based ceramic powder, polyvinyl butyral (PVB) as an organic binder, and methanol as a solvent were prepared. Next, 10% by weight of organic binder and 150% by weight of solvent were weighed with respect to the ceramic powder, kneaded with a ball mill, and slurried to obtain a dielectric paste.

金属膜の形成
PETフィルム上に上記誘電体ペーストをドクターブレード法によって、所定厚みで塗布し、乾燥することで、厚みが1μmのセラミックグリーンシートを形成した。次に、セラミックグリーンシート上に、導電性ペーストの付着量が0.4mg/cmになるように製版にて透過体積を調整し、スクリーン印刷法によって約0.2μm厚の導電性ペースト膜を形成した。
Formation of Metal Film The dielectric paste was applied to a predetermined thickness on a PET film by a doctor blade method and dried to form a ceramic green sheet having a thickness of 1 μm. Next, on the ceramic green sheet, the transmission volume is adjusted by plate making so that the amount of the conductive paste adhered is 0.4 mg / cm 2, and a conductive paste film having a thickness of about 0.2 μm is formed by screen printing. Formed.

導電性ペースト膜を、水素濃度3%、露点30℃の雰囲気下において熱処理(800℃、10min)を行うことにより、金属膜を形成した。   The conductive paste film was heat-treated (800 ° C., 10 min) in an atmosphere with a hydrogen concentration of 3% and a dew point of 30 ° C. to form a metal film.

得られた金属膜は、連続性を有し、金属膜の比抵抗測定を行うと、6.9×10−5Ω・cmであり、Niの理論値とほぼ同じであった。 The obtained metal film had continuity, and when the specific resistance of the metal film was measured, it was 6.9 × 10 −5 Ω · cm, which was almost the same as the theoretical value of Ni.

以上のことから、ほぼ欠陥のない金属膜が形成されており、SEMにて膜断面の測長を行ったところ、金属膜の厚みは約100nmであり、極薄の金属膜を形成できることが確認できた。   From the above, a metal film having almost no defect is formed, and when the cross section of the film is measured by SEM, the thickness of the metal film is about 100 nm, and it is confirmed that an extremely thin metal film can be formed. did it.

一般に、NiやCuなどの卑金属を内部電極とする積層セラミック電子部品では金属の酸化を抑制するため還元焼成が用いられている。このため、本発明に係る導電性ペーストを用いて金属膜を形成することで、極薄の内部電極層を形成することができる。本発明によれば、内部電極層を形成するための導電性ペーストに水溶性金属塩(たとえば、Ni塩)を用い、導電材としてNi粒子を用いないことから、内部電極層の厚みの限界がNi粒子径にとらわれることがなくなる。つまり、Niイオンを還元し、Niを析出させて膜を形成するために、金属膜(内部電極層)の厚みを極薄にすることができる。また、Ni粒子を使用しないので、Ni粒子の凝集が発生せず、導電性ペーストの作製が容易であり、Ni粒子を用いた導電性ペーストよりも安価に導電性ペーストを作製することができる。さらにまた、金属レジネートに比べ、有機成分が少ないために容易に脱バインダすることができるので、容易に積層セラミック電子部品を製造することができる。   In general, reduction firing is used in a multilayer ceramic electronic component having a base metal such as Ni or Cu as an internal electrode to suppress metal oxidation. For this reason, an ultrathin internal electrode layer can be formed by forming a metal film using the conductive paste according to the present invention. According to the present invention, since the water-soluble metal salt (for example, Ni salt) is used for the conductive paste for forming the internal electrode layer and Ni particles are not used as the conductive material, there is a limit to the thickness of the internal electrode layer. It is no longer bound by the Ni particle size. That is, in order to reduce Ni ions and deposit Ni to form a film, the thickness of the metal film (internal electrode layer) can be made extremely thin. Further, since Ni particles are not used, aggregation of Ni particles does not occur, and it is easy to produce a conductive paste, and a conductive paste can be produced at a lower cost than a conductive paste using Ni particles. Furthermore, since there are few organic components compared with a metal resinate, it can be easily debindered, so that a multilayer ceramic electronic component can be easily manufactured.

また、本発明の導電性ペーストに、水溶性金属塩としてNi塩とともに、それ以外の水溶性金属塩を用いることで、より均質な合金膜を形成することもできる。   Moreover, a more homogeneous alloy film can also be formed by using other water-soluble metal salt with Ni salt as water-soluble metal salt for the electrically conductive paste of this invention.

上記実施例では、100nmの厚みの金属膜を形成することができたが、第1液の金属イオン濃度を変化させることにより、任意の厚みの金属膜を形成することができるのは言うまでもない。   In the above embodiment, a metal film having a thickness of 100 nm can be formed. Needless to say, a metal film having an arbitrary thickness can be formed by changing the metal ion concentration of the first liquid.

1… 積層セラミックコンデンサ
2… 誘電体層
3… 内部電極層
4… 外部電極
10…コンデンサ素体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer ceramic capacitor 2 ... Dielectric layer 3 ... Internal electrode layer 4 ... External electrode 10 ... Capacitor body

Claims (10)

水溶性金属塩と、有機溶媒と、有機バインダと、水とを含む導電性ペースト。   A conductive paste containing a water-soluble metal salt, an organic solvent, an organic binder, and water. 前記水溶性金属塩は、Ni塩である請求項1に記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to claim 1, wherein the water-soluble metal salt is a Ni salt. 前記有機バインダは、前記有機溶媒に可溶である請求項1または2に記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to claim 1, wherein the organic binder is soluble in the organic solvent. 前記水に溶けた前記水溶性金属塩が、W/Oエマルジョンの形態で前記有機溶媒中に分散している請求項1〜3のいずれかに記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to claim 1, wherein the water-soluble metal salt dissolved in water is dispersed in the organic solvent in the form of a W / O emulsion. 前記W/Oエマルジョンの含有割合は、導電性ペースト100重量%に対して、20重量%以下である請求項4に記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to claim 4, wherein a content ratio of the W / O emulsion is 20% by weight or less with respect to 100% by weight of the conductive paste. 前記有機溶媒の体積は、前記水の体積よりも大きい請求項1〜5のいずれかに記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to claim 1, wherein a volume of the organic solvent is larger than a volume of the water. (有機溶媒+有機バインダ)/(水+水溶性金属塩)の重量比は、4%以上である請求項1〜6のいずれかに記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to claim 1, wherein a weight ratio of (organic solvent + organic binder) / (water + water-soluble metal salt) is 4% or more. 請求項1〜7のいずれかに記載の導電性ペーストを用いて、還元性雰囲気中で、かつ、水分を含む雰囲気中で加熱する工程を有する金属膜の製造方法。   The manufacturing method of the metal film which has the process of heating in the atmosphere containing a water | moisture content in a reducing atmosphere using the electrically conductive paste in any one of Claims 1-7. セラミックグリーンシートと、請求項1〜7のいずれかに記載の導電性ペーストを用いて所定パターンで形成される内部電極層とを、交互に複数重ねたグリーンセラミック積層体を焼成する積層セラミック電子部品の製造方法。   A multilayer ceramic electronic component for firing a green ceramic laminate in which a plurality of ceramic green sheets and internal electrode layers formed in a predetermined pattern using the conductive paste according to any one of claims 1 to 7 are alternately stacked. Manufacturing method. 前記導電性ペーストを、前記セラミックグリーンシートに塗布し、乾燥してグリーンセラミック積層体を得る請求項9に記載の積層セラミック電子部品の製造方法。   The method for producing a multilayer ceramic electronic component according to claim 9, wherein the conductive paste is applied to the ceramic green sheet and dried to obtain a green ceramic multilayer body.
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