JP2011008172A - Polarizing element and manufacturing method therefor, projection type display, liquid crystal device, and electronic equipment - Google Patents

Polarizing element and manufacturing method therefor, projection type display, liquid crystal device, and electronic equipment Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wire grid type polarizing element that improves balance between transmission characteristics and reflection characteristics.SOLUTION: The wire grid type polarizing element includes :a substrate 11; a plurality of first protrusion parts 13a provided in a substantially stripe shape in plan view, on the substrate 11; a pair of metal fine wires 14 provided to be extended in a substantially stripe shape in plan view, along the same directions as extension directions of the first protrusion parts 13a, on each of the first protrusion parts 13a; and second protrusion parts 13b having an area between the paired metal fine wires 14 which is embedded lower than upper ends 14b of the metal fine wires 14, between the paired metal fine wires 14 on each of the first protrusion parts 13a.

Description

本発明は、偏光素子および偏光素子の製造方法、投写型表示装置、液晶装置、電子機器に関するものである。   The present invention relates to a polarizing element, a method for manufacturing the polarizing element, a projection display device, a liquid crystal device, and an electronic apparatus.

様々な電気光学装置の光変調装置として、液晶装置が用いられている。液晶装置の構造としては、対向配置された一対の基板間に液晶層が挟持されているものが広く知られており、所定の偏光された光を液晶層に入射するための偏光素子や、電圧無印加時に液晶分子の配列を制御する配向膜を備える構成が一般的である。   A liquid crystal device is used as a light modulation device of various electro-optical devices. As a structure of a liquid crystal device, a structure in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates arranged opposite to each other is widely known, and a polarizing element for inputting predetermined polarized light into the liquid crystal layer, a voltage A configuration including an alignment film that controls the alignment of liquid crystal molecules when no voltage is applied is common.

偏光素子としては、ヨウ素や二色性染料を含む樹脂フィルムを一方向に延伸することで、ヨウ素や二色性染料を延伸方向に配向させて製造するフィルム型の偏光素子や、透明な基板上にナノスケールの金属細線を敷き詰めて形成されるワイヤーグリッド型の偏光素子が知られている。   As a polarizing element, a film-type polarizing element manufactured by orienting iodine or a dichroic dye in a stretching direction by stretching a resin film containing iodine or a dichroic dye in one direction, or on a transparent substrate There is known a wire grid type polarizing element formed by laying nanoscale metal wires on the surface.

ワイヤーグリッド偏光素子は、無機材料から構成するため、耐熱性に優れているという特長を有しており、特に耐熱性が要求される箇所に好適に使用される。例えば、高出力の光源からの光に曝される液晶プロジェクターのライトバルブ用の偏光素子として好適に用いられる。このようなワイヤーグリッド型の偏光素子としては、例えば、特許文献1、2に挙げるような技術が開示されている。   Since the wire grid polarizing element is composed of an inorganic material, it has the feature of being excellent in heat resistance, and is particularly suitably used in a place where heat resistance is required. For example, it is suitably used as a polarizing element for a light valve of a liquid crystal projector exposed to light from a high-output light source. As such a wire grid type polarization element, for example, techniques disclosed in Patent Documents 1 and 2 are disclosed.

特許文献1では、アスペクト比の大きい断面形状の金属細線を有するワイヤーグリッド偏光素子において、金属細線と平行に延在する誘電体細線を、金属細線の側面に接して形成し、この誘電体細線を用いて金属細線を支持する構成が提案されている。この構成によると、容易に金属細線が倒壊することが無くなり、高い信頼性を得ることができるとしている。   In Patent Document 1, in a wire grid polarizing element having a metal thin wire having a cross-sectional shape with a large aspect ratio, a dielectric thin wire extending in parallel with the metal thin wire is formed in contact with the side surface of the metal thin wire, and the dielectric thin wire is formed. The structure which uses and supports a metal fine wire is proposed. According to this configuration, the thin metal wires are not easily collapsed, and high reliability can be obtained.

また、特許文献2では、基板表面にストライプ状に形成されるリブの上に導電素子を形成する構成が提案されている。この構成によると、導電素子よりも下方(リブ側)の層において、光学定数(誘電率)が低下することで、ワイヤーグリッド偏光素子の共鳴波長を短波長シフトさせ、可視光領域においてTM光に対する光透過率(Tp)を高く、TE光に対する光透過率(Tc)を低くすることが出来るとしている。   Patent Document 2 proposes a configuration in which conductive elements are formed on ribs formed in a stripe shape on the surface of a substrate. According to this configuration, the optical constant (dielectric constant) decreases in the layer below the conductive element (on the rib side), thereby shifting the resonant wavelength of the wire grid polarizing element by a short wavelength, and with respect to TM light in the visible light region. The light transmittance (Tp) can be increased and the light transmittance (Tc) with respect to TE light can be decreased.

特開2008−145581号公報JP 2008-145581 A 特表2003−502708号公報Special table 2003-502708 gazette

しかしながら、プロジェクターや液晶装置など、ワイヤーグリッド偏光素子を用いる装置の輝度向上を目的として、上記文献で示されている構成のワイヤーグリッド偏光素子の物性よりも、更なる良好な光学特性を示すワイヤーグリッド偏光素子が求められている。   However, for the purpose of improving the brightness of devices using wire grid polarizing elements, such as projectors and liquid crystal devices, wire grids exhibiting better optical characteristics than the physical properties of wire grid polarizing elements having the configuration shown in the above document. There is a need for polarizing elements.

ワイヤーグリッド偏光素子を介した光の輝度向上のためには、反射型のワイヤーグリッド偏光素子の場合、透過特性と反射特性とのバランスを改善することが求められる。すなわち、高いTM光の透過率と低いTE光の透過率とが求められる。これらのバランスを改善したワイヤーグリッド偏光素子を、例えば液晶プロジェクターの液晶ライトバルブ用の偏光素子に採用することにより、輝度を向上し、高いコントラストの画像表示を実現することが可能となる。   In order to improve the luminance of light through the wire grid polarizing element, in the case of a reflective wire grid polarizing element, it is required to improve the balance between transmission characteristics and reflection characteristics. That is, a high TM light transmittance and a low TE light transmittance are required. By adopting a wire grid polarizing element with improved balance, for example, as a polarizing element for a liquid crystal light valve of a liquid crystal projector, it is possible to improve luminance and realize high-contrast image display.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、主たる光学特性である透過特性と反射特性とのバランスがより改善されたワイヤーグリッド型の偏光素子及びその製造方法を提供することを目的とする。また、このような偏光素子を備えることにより、表示品質が高く信頼性に優れた投写型表示装置、液晶装置及び電子機器を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a wire grid type polarizing element in which the balance between transmission characteristics and reflection characteristics, which are main optical characteristics, is improved, and a method for manufacturing the same. Objective. It is another object of the present invention to provide a projection display device, a liquid crystal device, and an electronic apparatus that are provided with such a polarizing element and have high display quality and excellent reliability.

上記の課題を解決するため、本発明の偏光素子は、基板と、前記基板上に平面視略ストライプ状に設けられた複数の第1誘電体層と、各々の前記第1誘電体層上において、該第1誘電体層の延在方向と同方向に平面視略ストライプ状に延在して設けられた一対の金属細線と、各々の前記第1誘電体層上であって前記一対の金属細線の間に、前記一対の金属細線の間の領域を該金属細線の上端よりも低く埋没させて設けられた第2誘電体層と、を備えることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, a polarizing element of the present invention includes a substrate, a plurality of first dielectric layers provided on the substrate in a substantially stripe shape in plan view, and on each of the first dielectric layers. A pair of fine metal wires provided extending in a substantially stripe shape in plan view in the same direction as the direction in which the first dielectric layer extends, and the pair of metals on each of the first dielectric layers And a second dielectric layer provided between the thin wires so that a region between the pair of thin metal wires is buried below the upper end of the thin metal wires.

この構成によれば、第2誘電体層により金属細線が支持されるために、金属細線が倒れにくくなり、破損を抑制することができる。また、第1誘電体層間の領域(以下、溝部)では、金属細線の下端よりも掘り下げられているため、金属細線の周囲に配置される基板材料を減らすことができ、透過光に対する特性を向上させることができる。そのため、良好な光学特性を有する偏光素子とすることができる。   According to this configuration, since the fine metal wires are supported by the second dielectric layer, the fine metal wires are unlikely to fall down, and damage can be suppressed. In addition, since the region between the first dielectric layers (hereinafter referred to as the groove) is deeper than the lower end of the fine metal wire, the substrate material disposed around the fine metal wire can be reduced, and the characteristics against transmitted light are improved. Can be made. Therefore, it can be set as the polarizing element which has a favorable optical characteristic.

本発明においては、前記金属細線の上端から前記第2誘電体層の上端までの高さと、前記金属細線の下端から前記第1誘電体層間の領域の底部までの高さと、が等しいこととすることができる。
また、本発明においては、前記金属細線の上端から前記第2誘電体層の上端までの高さよりも、前記金属細線の下端から前記第1誘電体層間の領域の底部までの高さのほうが大きいこととすることもできる。
この構成によれば、金属細線の周囲に配置される基板や第2誘電体層の存在量を変化させることができ、必要とする光学特性に適した設計が可能となる。
In the present invention, the height from the upper end of the thin metal wire to the upper end of the second dielectric layer is equal to the height from the lower end of the fine metal wire to the bottom of the region between the first dielectric layers. be able to.
In the present invention, the height from the lower end of the thin metal wire to the bottom of the region between the first dielectric layers is larger than the height from the upper end of the thin metal wire to the upper end of the second dielectric layer. It can also be.
According to this configuration, the abundance of the substrate and the second dielectric layer disposed around the fine metal wire can be changed, and a design suitable for the required optical characteristics is possible.

本発明においては、前記第2誘電体層を挟んで隣り合う2つの前記金属細線の間隔と、前記第2誘電体層を挟まずに隣り合う2つの前記金属細線の間隔と、が等しいこととすることができる。
また、本発明においては、前記第2誘電体層を挟んで隣り合う2つの前記金属細線の間隔と、前記第2誘電体層を挟まずに隣り合う2つの前記金属細線の間隔と、が異なることとすることもできる。
この構成によれば、金属細線の間隔の自由度が高くなり、必要とする光学特性に適した金属細線の設計が容易となる。
In the present invention, the interval between the two fine metal wires adjacent to each other with the second dielectric layer interposed therebetween is equal to the interval between the two adjacent metal fine wires without sandwiching the second dielectric layer. can do.
In the present invention, an interval between the two fine metal wires adjacent to each other with the second dielectric layer interposed therebetween is different from an interval between the two fine metal wires adjacent to each other without sandwiching the second dielectric layer. It can also be.
According to this structure, the freedom degree of the space | interval of a metal fine wire becomes high, and the design of the metal fine wire suitable for the required optical characteristic becomes easy.

また、本発明の偏光素子の製造方法は、基板の一面側に平面視略ストライプ状に設けられた複数の仮設凸条部の上面および側面を覆って、前記基板上に金属膜を形成する工程と、前記金属膜の一部であって、前記仮設凸条部の上面および隣り合う前記仮設凸条部の間の領域に設けられた前記金属膜を除去し、前記仮設凸条部の両側に複数の金属細線を形成する工程と、前記金属膜の一部を除去した領域から露出する前記仮設凸条部および前記基板を掘り下げる工程と、を有することを特徴とする。   Further, in the method for manufacturing a polarizing element of the present invention, the step of forming a metal film on the substrate so as to cover the upper surfaces and side surfaces of the plurality of temporary protrusions provided in a substantially striped shape in plan view on one surface side of the substrate. And removing the metal film that is a part of the metal film and is provided on the upper surface of the temporary ridge portion and a region between the adjacent temporary ridge portions, and on both sides of the temporary ridge portion. The method includes a step of forming a plurality of fine metal wires, and a step of digging up the temporary protrusions and the substrate exposed from a region where a part of the metal film is removed.

この方法によれば、凸条部の周期(ピッチ)の半分の周期で金属細線を設けることができ、金属細線の狭ピッチ化が容易である。また、予め仮設凸条部を形成した後に、金属細線を形成し、その後に仮設凸条部と溝部とを掘り下げることにより、金属細線の周囲に配置される基板材料の削減と、アスペクト比の高い金属細線の形成と、を容易に両立することができる。したがって、良好な光学特性を有する偏光素子を容易に形成することが可能となる。   According to this method, the fine metal wires can be provided with a cycle that is half the cycle (pitch) of the ridges, and it is easy to narrow the pitch of the fine metal wires. In addition, after forming the temporary ridges in advance, forming the fine metal wires, and then dug down the temporary ridges and the grooves, thereby reducing the substrate material disposed around the fine metal wires and having a high aspect ratio. Formation of a fine metal wire can be easily achieved. Therefore, a polarizing element having good optical characteristics can be easily formed.

本発明においては、前記仮設凸条部および前記基板を同時に掘り下げることが望ましい。
この方法によれば、製造工程を簡略化することができ製造が容易となる。
In the present invention, it is desirable to dig up the temporary protrusion and the substrate simultaneously.
According to this method, a manufacturing process can be simplified and manufacture becomes easy.

本発明の投写型表示装置は、光を射出する照明光学系と、前記光を変調する液晶ライトバルブと、前記液晶ライトバルブで変調された光が入射する上述の偏光素子と、前記偏光素子を透過した偏光光を被投写面に投写する投写光学系と、を備えることを特徴とする。
この構成によれば、優れた光学特性を有する偏光素子を備えるため、信頼性が高く優れた表示特性を有する投写型表示装置とすることができる。
The projection display device of the present invention includes an illumination optical system that emits light, a liquid crystal light valve that modulates the light, the polarizing element that receives light modulated by the liquid crystal light valve, and the polarizing element. And a projection optical system that projects the transmitted polarized light onto the projection surface.
According to this configuration, since the polarizing element having excellent optical characteristics is provided, it is possible to provide a projection display apparatus having high reliability and excellent display characteristics.

本発明においては、前記照明光学系は、波長が異なる複数の色光を含む光を射出し、前記液晶ライトバルブは、前記複数の色光の各々に対応して設けられ、前記偏光素子は、該偏光素子が有する複数の金属細線間に設けられた溝部の掘り下げ深さが、前記液晶ライトバルブで変調された色光に対応して異なっていることが望ましい。
この構成によれば、複数の色光に対応して設計された偏光素子を用いるため、色光ごとに透過率を制御し、優れた表示が可能な投写型表示装置とすることができる。
In the present invention, the illumination optical system emits light including a plurality of colored lights having different wavelengths, the liquid crystal light valve is provided corresponding to each of the plurality of colored lights, and the polarizing element is the polarized light It is desirable that the depth of digging in the groove provided between the plurality of fine metal wires of the element be different corresponding to the color light modulated by the liquid crystal light valve.
According to this configuration, since a polarizing element designed for a plurality of color lights is used, a transmittance can be controlled for each color light, and a projection display device capable of excellent display can be obtained.

本発明の液晶装置は、一対の基板間に液晶層を挟持してなり、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の前記液晶層側に上述の偏光素子が形成されていることを特徴とする。
この構成によれば、光学特性に優れた偏光素子を具備し、優れた表示特性を有する液晶装置を提供できる。
The liquid crystal device of the present invention is characterized in that a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates, and the above-described polarizing element is formed on the liquid crystal layer side of at least one of the pair of substrates. .
According to this configuration, it is possible to provide a liquid crystal device having a polarizing element having excellent optical characteristics and having excellent display characteristics.

本発明の電子機器は、上述の液晶装置を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、表示品質及び信頼性に優れる表示部ないし光変調手段を備えた電子機器を提供することができる。
An electronic apparatus according to the present invention includes the above-described liquid crystal device.
According to this configuration, it is possible to provide an electronic apparatus including a display unit or a light modulation unit that is excellent in display quality and reliability.

本発明の実施形態に係る偏光素子の概略図である。It is the schematic of the polarizing element which concerns on embodiment of this invention. 本実施形態の偏光素子の製造工程を示す工程断面図である。It is process sectional drawing which shows the manufacturing process of the polarizing element of this embodiment. 偏光素子の製造に用いる露光装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the exposure apparatus used for manufacture of a polarizing element. 電子機器の一形態であるプロジェクターの概略図である。It is a schematic diagram of a projector which is one form of electronic equipment. 本実施形態の偏光素子を備えた液晶装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the liquid crystal device provided with the polarizing element of this embodiment. 電子機器の一形態である携帯電話の斜視図である。It is a perspective view of a mobile phone which is one form of electronic equipment. 本発明の実施例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the Example of this invention. 本発明の実施例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the Example of this invention. 本発明の実施例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the Example of this invention. 本発明の実施例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the Example of this invention. 本発明の実施例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the Example of this invention. 本発明の実施例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the Example of this invention. 本発明の実施例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the Example of this invention. 本発明の実施例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the Example of this invention.

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態に係る偏光素子及び偏光素子の製造方法について説明する。図1は本実施形態の偏光素子1の概略図であり、図1(a)は部分斜視図、図1(b)は偏光素子1をYZ平面で切った部分断面図である。   Hereinafter, a polarizing element and a method for manufacturing the polarizing element according to embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 1A and 1B are schematic views of a polarizing element 1 according to the present embodiment. FIG. 1A is a partial perspective view, and FIG. 1B is a partial cross-sectional view of the polarizing element 1 cut along a YZ plane.

なお、以下の説明においてはXYZ座標系を設定し、このXYZ座標系を参照しつつ各部材の位置関係を説明する。この際、水平面内における所定の方向をX軸方向、水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向とY軸方向のそれぞれの直交する方向をZ軸方向とする。本実施形態の場合、金属細線の延在方向をX軸方向とし、金属細線の配列軸をY軸方向としている。また、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせている。   In the following description, an XYZ coordinate system is set, and the positional relationship of each member will be described with reference to this XYZ coordinate system. At this time, a predetermined direction in the horizontal plane is defined as an X-axis direction, a direction orthogonal to the X-axis direction in the horizontal plane is defined as a Y-axis direction, and a direction orthogonal to each of the X-axis direction and the Y-axis direction is defined as a Z-axis direction. In the case of this embodiment, the extending direction of the fine metal wires is the X-axis direction, and the arrangement axis of the fine metal wires is the Y-axis direction. In all of the following drawings, the film thicknesses and dimensional ratios of the constituent elements are appropriately changed in order to make the drawings easy to see.

(偏光素子)
図1(a)に示すように、偏光素子1は、基板11と、基板11上に一方向に延在して形成された金属細線14と、を備えている。
(Polarizing element)
As shown in FIG. 1A, the polarizing element 1 includes a substrate 11 and a fine metal wire 14 formed on the substrate 11 so as to extend in one direction.

基板11は、ガラスや石英、プラスチック等の透光性の誘電体材料を形成材料としている。偏光素子1を適応する用途によっては、偏光素子1が蓄熱し高温になるため、基板11は、耐熱性の高いガラスや石英を形成材料とすることが好ましい。本実施形態では、基板11としてSiOを主体とするガラス基板を用いた。 The substrate 11 is made of a translucent dielectric material such as glass, quartz, or plastic. Depending on the application to which the polarizing element 1 is applied, since the polarizing element 1 stores heat and becomes high temperature, the substrate 11 is preferably made of glass or quartz having high heat resistance. In the present embodiment, a glass substrate mainly composed of SiO 2 is used as the substrate 11.

基板11の表面には、X軸方向に延在する複数の第1溝部(溝部)12が形成されており、隣り合う第1溝部12の間の部分は、X軸方向に延在する凸条部13となっている。第1溝部12は、可視光の波長よりも短い周期でY軸方向に均等な間隔で形成されており、凸条部13も同周期で配列している。   A plurality of first groove portions (groove portions) 12 extending in the X-axis direction are formed on the surface of the substrate 11, and a portion between adjacent first groove portions 12 is a ridge extending in the X-axis direction. It becomes part 13. The first groove parts 12 are formed at equal intervals in the Y-axis direction with a period shorter than the wavelength of visible light, and the ridges 13 are also arranged with the same period.

凸条部13は、第1溝部12の底部から基板11の鉛直方向(Z軸方向)に盛り上がって形成されている略矩形の断面形状を有する第1凸条部(第1誘電体層)13aと、第1凸条部13aの上部に形成されている略矩形の断面形状を有する第2凸条部(第2誘電体層)13bと、に便宜的に分けることができる。第2凸条部13bの底面積(Z軸方向からの平面視面積)は、第1凸条部13aの上面の表面積よりも小さくなっており、第1凸条部13aと第2凸条部13bとは、互いに長手方向の中央で重なって設けられている。したがって、第2凸条部13bを挟んで両側に第1凸条部13aが一部露出している。図中では、第1凸条部13aの露出面を符号13yで表している。   The ridge 13 is a first ridge (first dielectric layer) 13 a having a substantially rectangular cross-sectional shape formed so as to rise from the bottom of the first groove 12 in the vertical direction (Z-axis direction) of the substrate 11. And a second ridge (second dielectric layer) 13b having a substantially rectangular cross-sectional shape formed on the upper portion of the first ridge 13a. The bottom area (plan view area from the Z-axis direction) of the second ridge 13b is smaller than the surface area of the upper surface of the first ridge 13a, and the first ridge 13a and the second ridge 13b is provided so as to overlap each other in the center in the longitudinal direction. Therefore, a part of the 1st protruding item | line part 13a is exposed on both sides on both sides of the 2nd protruding item | line part 13b. In the drawing, the exposed surface of the first ridge 13a is represented by reference numeral 13y.

また、第1溝部12に面する凸条部13の側面、すなわち第1凸条部13aの側面は、第1溝部12内の空気と接触することとなる。   Further, the side surface of the ridge 13 facing the first groove 12, that is, the side of the first ridge 13 a comes into contact with the air in the first groove 12.

金属細線14は、凸条部13の2つの露出面13yのそれぞれにおいて第2凸条部13bの側面に接し対を成して付設されており、そのため第1凸条部13aの側面は、第1溝部12の側壁部となっている。また、金属細線14は、凸条部13の延在方向と同じくX軸方向に延在して形成されている。このような金属細線14は、自身の延在方向と直交する方向(Y軸方向)に振動する直線偏光(TM光)を透過させ、自身の延在方向(X軸方向)に振動する直線偏光(TE光)を反射させる。金属細線14の形成材料としては、例えばアルミニウムのような金属材料が用いられる。   The fine metal wires 14 are attached to the side surfaces of the second ridges 13b in each of the two exposed surfaces 13y of the ridges 13 so as to form a pair. Therefore, the side surfaces of the first ridges 13a are It is a side wall portion of one groove portion 12. Further, the fine metal wires 14 are formed so as to extend in the X-axis direction in the same manner as the extending direction of the ridges 13. Such a thin metal wire 14 transmits linearly polarized light (TM light) that vibrates in a direction (Y-axis direction) orthogonal to its extending direction, and linearly polarized light that vibrates in its own extending direction (X-axis direction). (TE light) is reflected. As a material for forming the metal thin wire 14, for example, a metal material such as aluminum is used.

1つの凸条部13上に設けられた2つの金属細線14の間は、X軸方向に延在する第2溝部15となっている。したがって、偏光素子1が有する複数の金属細線14の間には、第1溝部12と第2溝部15とが、交互に設けられていることとなっている。換言すれば、金属細線14の間には、第1溝部12と第2凸条部13bとが、金属細線14の延在方向と交差する方向に交互に設けられている。第2溝部15は、第1溝部12と同様に、可視光の波長よりも短い周期でY軸方向に均等な間隔で形成されている。   A space between two thin metal wires 14 provided on one protruding line portion 13 is a second groove portion 15 extending in the X-axis direction. Accordingly, the first groove portions 12 and the second groove portions 15 are alternately provided between the plurality of fine metal wires 14 included in the polarizing element 1. In other words, between the fine metal wires 14, the first groove portions 12 and the second convex stripe portions 13 b are alternately provided in a direction intersecting with the extending direction of the fine metal wires 14. Similar to the first groove 12, the second groove 15 is formed at equal intervals in the Y-axis direction with a period shorter than the wavelength of visible light.

図1(b)に示す各部の寸法は、例えば、凸条部13上に設けられた2つの金属細線14の間隔P1:70nm、第2溝部15を挟んで隣り合う金属細線14の間隔P2:70nm、隣り合う凸条部13の間隔(周期)T:140nmである。また、金属細線14の高さH:50nm、幅W1:17.5nmである。   The dimension of each part shown in FIG.1 (b) is the space | interval P2 of two metal fine wires 14 provided on the protruding item | line part 13, for example, 70 nm, and the space | interval P2 of the adjacent metal fine wires 14 on both sides of the 2nd groove part 15: It is 70 nm, and the interval (period) T: 140 nm between the adjacent ridges 13. The metal thin wire 14 has a height H: 50 nm and a width W1: 17.5 nm.

また、金属細線14の下端14aは、第1溝部12の底部12xよりも高く(Z軸方向で基板11側と逆側)となるように設けられている。また、金属細線14の上端14bは、第2溝部15の底部、すなわち凸条部13の上端13xよりも高くなるように設けられている。   Further, the lower end 14a of the fine metal wire 14 is provided so as to be higher than the bottom 12x of the first groove 12 (on the opposite side to the substrate 11 side in the Z-axis direction). Further, the upper end 14 b of the fine metal wire 14 is provided so as to be higher than the bottom of the second groove 15, that is, the upper end 13 x of the ridge 13.

図に示す第1凸条部13aの高さL2、第2凸条部13bの高さL3、第2溝部15の深さL4は、設計に応じて第1溝部12および第2溝部15の形成過程において制御可能である。図からも明らかなように、第1溝部12の底部12xから金属細線14の下端14aまでの高さは、第1凸条部13aの高さL2と等しく、凸条部13の上端13xから金属細線14の上端14bまでの高さは、第2溝部15の深さL4と等しい。本実施形態では、L2,L3,L4をいずれも25nmとしている。また、図に示す基板11の厚さL1は、基板11の裏面からの厚さである。   The height L2 of the first ridge portion 13a, the height L3 of the second ridge portion 13b, and the depth L4 of the second groove portion 15 shown in the figure are the formation of the first groove portion 12 and the second groove portion 15 depending on the design. It can be controlled in the process. As is apparent from the figure, the height from the bottom 12x of the first groove 12 to the lower end 14a of the thin metal wire 14 is equal to the height L2 of the first protruding portion 13a, and the metal from the upper end 13x of the protruding portion 13 is metal. The height of the thin wire 14 to the upper end 14b is equal to the depth L4 of the second groove 15. In this embodiment, L2, L3, and L4 are all 25 nm. Further, the thickness L1 of the substrate 11 shown in the figure is the thickness from the back surface of the substrate 11.

これらの値のうち、特に第1凸条部13aの高さL2、第2溝部15の深さL4は、偏光素子1の光学特性と密接な関係がある。詳しくは、実施例を示して後に詳述する。   Among these values, the height L2 of the first ridge 13a and the depth L4 of the second groove 15 are particularly closely related to the optical characteristics of the polarizing element 1. Details will be described later with reference to examples.

(偏光素子の製造方法)
図2は偏光素子1の製造方法の説明図である。図2は図1(b)の断面図に対応する図となっている。
(Polarizing element manufacturing method)
FIG. 2 is an explanatory diagram of a method for manufacturing the polarizing element 1. FIG. 2 corresponds to the cross-sectional view of FIG.

まず、図2(a)に示すように、ガラス基板等の基板材料11Xを用意し、基板材料11Xの一面側にレジスト材料をスピンコートにより塗布し、これをプリベークすることでレジスト層を形成する。レジスト材料としては、例えば、化学増幅型のポジ型フォトレジストTDUR−P338EM(東京応化工業(株)社製)を用いる。そして、例えば波長が266nmのレーザー光を露光光として用いた二光束干渉露光法によりレジスト層を露光し、更にレジスト層をベーク(PEB)した後、レジスト層を現像する。これにより、縞状のパターンを有するレジスト20を形成する。本実施形態のレジスト20の高さは200nmである。   First, as shown in FIG. 2A, a substrate material 11X such as a glass substrate is prepared, a resist material is applied on one surface side of the substrate material 11X by spin coating, and a resist layer is formed by pre-baking this. . As the resist material, for example, a chemically amplified positive photoresist TDUR-P338EM (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is used. Then, for example, the resist layer is exposed by a two-beam interference exposure method using laser light having a wavelength of 266 nm as exposure light, and the resist layer is baked (PEB), and then the resist layer is developed. Thereby, the resist 20 having a striped pattern is formed. The height of the resist 20 of this embodiment is 200 nm.

ここで、二光束干渉露光法を行う露光装置は、例えば図3に示すものを用いることができる。露光装置120は、露光光を照射するレーザー光源121と、回折型ビームスプリッター122と、遮光板123と、ビームエキスパンダー124、125と、ミラー126、127と、基板11Xを載置するステージ128とを備えている。   Here, as an exposure apparatus that performs the two-beam interference exposure method, for example, the one shown in FIG. 3 can be used. The exposure apparatus 120 includes a laser light source 121 that irradiates exposure light, a diffraction beam splitter 122, a light shielding plate 123, beam expanders 124 and 125, mirrors 126 and 127, and a stage 128 on which the substrate 11X is placed. I have.

レーザー光源121は、例えば第4高調波の波長が266nmであるNd:YVO4レーザー装置である。回折型ビームスプリッター122は、レーザー光源121から出力された1本のレーザービームを分岐して2本のレーザービームを生成する分岐手段である。そして、回折型ビームスプリッター122は、入射するレーザービームをTE偏光としたときに強度の等しい2本の回折ビーム(±1次)を発生させる構成となっている。なお、僅かではあるが、直進成分(0次光)が発生し、レジストパターンに悪影響を及ぼす。そこで、遮光版123でこの0次光を遮蔽している。   The laser light source 121 is, for example, an Nd: YVO4 laser device having a fourth harmonic wavelength of 266 nm. The diffractive beam splitter 122 is a branching unit that splits one laser beam output from the laser light source 121 to generate two laser beams. The diffractive beam splitter 122 is configured to generate two diffracted beams (± first order) having the same intensity when the incident laser beam is TE polarized light. Note that although it is slight, a straight component (0th-order light) is generated, which adversely affects the resist pattern. Therefore, the 0th-order light is shielded by the light shielding plate 123.

ビームエキスパンダー124は、レンズ124aと空間フィルター124bとを備えており、回折型ビームスプリッター122で分岐された2本のレーザービームのうちの一方のビーム径を例えば300mm程度に広げる構成となっている。同様に、ビームエキスパンダー125も、レンズ125aと空間フィルター125bとを備えており、2本のレーザービームのうちの他方のビーム径を広げる構成となっている。   The beam expander 124 includes a lens 124a and a spatial filter 124b, and has a configuration in which one of the two laser beams branched by the diffractive beam splitter 122 is expanded to, for example, about 300 mm. Similarly, the beam expander 125 also includes a lens 125a and a spatial filter 125b, and is configured to increase the other beam diameter of the two laser beams.

ミラー126、127は、ビームエキスパンダー124、125を透過したレーザービームをそれぞれステージ128に向けて反射させる構成となっている。ここで、ミラー126、127は、反射したレーザービームを交差させることで干渉光を発生させ、この干渉光を基板11上のレジスト層20aに照射する。   The mirrors 126 and 127 are configured to reflect the laser beams transmitted through the beam expanders 124 and 125 toward the stage 128, respectively. Here, the mirrors 126 and 127 generate interference light by intersecting the reflected laser beams, and irradiate the resist layer 20a on the substrate 11 with the interference light.

このような露光装置120を用いてレジスト層20aに干渉光を照射することで、レーザー光源121の波長よりも狭い形成ピッチでレジスト層20aを露光することができる。   By irradiating the resist layer 20 a with interference light using such an exposure apparatus 120, the resist layer 20 a can be exposed with a formation pitch narrower than the wavelength of the laser light source 121.

次に、図2(b)に示すように、レジスト20を介してドライエッチング処理を行い、基板材料11Xを掘り下げることで基板材料11Xをパターニングして、溝部12A、仮設凸条部13Aを有する基板11Aを形成する。本工程におけるドライエッチングは、例えば、エッチングガスにC,CF,CHFの混合ガスを用いる反応性イオンエッチングを行うことによる異方性エッチングが好適に用いられる。 Next, as shown in FIG. 2B, a dry etching process is performed through the resist 20, and the substrate material 11X is patterned by digging down the substrate material 11X, so that the substrate having the groove 12A and the temporary protruding portion 13A is obtained. 11A is formed. As the dry etching in this step, for example, anisotropic etching by performing reactive ion etching using a mixed gas of C 2 F 6 , CF 4 , and CHF 3 as an etching gas is preferably used.

次に、図2(c)に示すように、仮設凸条部13Aの上面、側面および溝部12Aの底面を覆って基板11Aの表面全面に、アルミニウムを形成材料とする金属薄膜14Aを形成する。金属薄膜14Aは、スパッタ法、CVD法、蒸着法など、通常知られた方法を用いて形成することができる。   Next, as shown in FIG. 2C, a metal thin film 14A using aluminum as a forming material is formed on the entire surface of the substrate 11A so as to cover the upper surface and side surfaces of the temporary protrusion 13A and the bottom surface of the groove 12A. The metal thin film 14A can be formed using a generally known method such as a sputtering method, a CVD method, or a vapor deposition method.

次に、図2(d)に示すように、基板11Aの表面全面に設けられた金属薄膜14Aのうち、仮設凸条部13Aの上面、および溝部12Aの底面に設けられた金属薄膜14Aの一部をドライエッチングにより除去し、金属細線14を形成する。エッチングは、例えば、エッチングガスに塩素系ガスを用いた反応性イオンエッチングによる異方性エッチングを行うと、形成される金属細線14のY軸方向の幅が減少せず好適である。   Next, as shown in FIG. 2 (d), among the metal thin film 14A provided on the entire surface of the substrate 11A, one of the metal thin films 14A provided on the upper surface of the temporary protrusion 13A and the bottom surface of the groove 12A. The portion is removed by dry etching to form a fine metal wire 14. For example, when anisotropic etching by reactive ion etching using a chlorine-based gas as an etching gas is performed, the width in the Y-axis direction of the formed thin metal wire 14 is preferable.

このように形成される金属細線14は、幅および高さが、それぞれ仮設凸条部13Aに形成する金属薄膜14Aの膜厚と、仮設凸条部13Aの高さと、により規定されることとなる。そのため、仮設凸条部13Aの高さまたは金属薄膜14Aの膜厚を変化させることにより、金属細線14のアスペクト比を容易に変更することができる。   The width and height of the thin metal wire 14 formed in this way are defined by the film thickness of the metal thin film 14A formed on the temporary protrusion 13A and the height of the temporary protrusion 13A. . Therefore, the aspect ratio of the thin metal wire 14 can be easily changed by changing the height of the temporary protruding portion 13A or the thickness of the metal thin film 14A.

次に、図2(e)に示すように、金属細線14をマスクとして用い、ドライエッチング処理を行って基板11Aを掘り下げることで、第1溝部12、凸条部13、第2溝部15を形成する。本実施形態においては、第1溝部12の掘り下げ量(第1凸条部13aの高さ)L2と、第2溝部15の深さL4と、が等しくなるように制御する。掘り下げ量は、エッチング時間によって制御可能である。
以上のようにして、本実施形態の偏光素子1が完成する。
Next, as shown in FIG. 2E, the first groove portion 12, the ridge portion 13, and the second groove portion 15 are formed by digging up the substrate 11A by performing dry etching using the fine metal wires 14 as a mask. To do. In the present embodiment, control is performed so that the digging amount (height of the first ridge 13a) L2 of the first groove 12 and the depth L4 of the second groove 15 are equal. The amount of digging down can be controlled by the etching time.
As described above, the polarizing element 1 of the present embodiment is completed.

以上のような構成の偏光素子1によれば、凸条部13により金属細線14が支持されているために、金属細線14が倒れにくくなり、破損を抑制することができる。また、第1溝部12、第2溝部15を設けることにより、金属細線14間の基板材料が除去されるため、透過光に対する特性を向上させることができる。加えて、第1溝部12では、金属細線14の下端(Z軸方向で基板11側)よりも掘り下げられているため、金属細線14の周囲に配置される基板材料をより一層減らすことができ、透過光に対する特性を向上させることができる。そのため、良好な光学特性を有する偏光素子1とすることができる。   According to the polarizing element 1 having the above-described configuration, since the fine metal wires 14 are supported by the ridges 13, the fine metal wires 14 are unlikely to fall down, and damage can be suppressed. Moreover, since the substrate material between the thin metal wires 14 is removed by providing the first groove portion 12 and the second groove portion 15, it is possible to improve characteristics with respect to transmitted light. In addition, since the first groove portion 12 is dug deeper than the lower end of the thin metal wire 14 (on the substrate 11 side in the Z-axis direction), the substrate material disposed around the fine metal wire 14 can be further reduced. The characteristic with respect to transmitted light can be improved. Therefore, it can be set as the polarizing element 1 which has a favorable optical characteristic.

また、以上のような構成の偏光素子1の製造方法によれば、あらかじめ形成する仮設凸条部13Aの周期(ピッチ)の半分の周期で金属細線14を設けることができるため、透過光に対する特性を向上させることができる。また、仮設凸条部13Aを形成した後に、金属細線14を形成し、その後に第1溝部12、第2溝部15を設けることにより、容易に第1溝部12と第2溝部との、金属細線14上端(Z軸方向で基板11とは反対側)からの掘り下げ量を変化させることができる。そのため、金属細線14の周囲における基板材料の除去と、金属細線14の破損の抑制と、を容易に両立することができる。したがって、良好な光学特性を有する偏光素子1を容易に形成することが可能となる。   Moreover, according to the manufacturing method of the polarizing element 1 having the above-described configuration, the metal fine wires 14 can be provided with a period that is half the period (pitch) of the temporary protrusion 13A that is formed in advance. Can be improved. Moreover, after forming the temporary protrusion 13A, the fine metal wire 14 is formed, and then the first groove portion 12 and the second groove portion 15 are provided, whereby the fine metal wire between the first groove portion 12 and the second groove portion can be easily formed. 14 The amount of digging from the upper end (the side opposite to the substrate 11 in the Z-axis direction) can be changed. Therefore, it is possible to easily achieve both the removal of the substrate material around the fine metal wires 14 and the suppression of the damage of the fine metal wires 14. Therefore, the polarizing element 1 having good optical characteristics can be easily formed.

なお、本実施形態においては、金属細線14をアルミニウムで形成するとしたが、これに限らず、異なる金属材料とすることもできる。   In the present embodiment, the thin metal wires 14 are formed of aluminum. However, the present invention is not limited to this, and a different metal material may be used.

また、本実施形態においては、レジスト20の形成において二光束干渉露光法を用いることとしたが、ナノインプリント法を用いてレジスト材料にレジストパターンを転写することによって形成することもできる。   In the present embodiment, the two-beam interference exposure method is used for forming the resist 20, but the resist 20 can also be formed by transferring a resist pattern to a resist material using a nanoimprint method.

また、本実施形態においては、異方性エッチングを行って第1溝部12を形成することとし、図1において断面視略矩形の第1溝部12を示したが、金属細線14の下端14aよりも第1溝部12の底部12xが低く形成されるならばこれに限らない。例えば、第1溝部12の側壁部である第1凸条部13aがオーバーエッチングされ、金属細線14と重なる領域まで第1溝部12が入り込んでいてもかまわない。   Further, in the present embodiment, anisotropic etching is performed to form the first groove 12, and the first groove 12 having a substantially rectangular shape in cross section is shown in FIG. 1, but the lower end 14 a of the thin metal wire 14 is shown. If the bottom part 12x of the 1st groove part 12 is formed low, it will not restrict to this. For example, the first ridge 13 a that is the side wall of the first groove 12 may be over-etched, and the first groove 12 may enter the region overlapping with the fine metal wire 14.

また、本実施形態においては、凸条部13上に設けられた2つの金属細線14の間隔P1と、第2溝部15を挟んで隣り合う金属細線14の間隔P2と、が等しいものとしたが、これに限らず、間隔P1と間隔P2とが異なることとしても良い。また、一部の間隔P1が他の間隔P1と異なることとしても良く、一部の間隔P2が他の間隔P2と異なることとしても良い。   Moreover, in this embodiment, although the space | interval P1 of the two metal fine wires 14 provided on the protruding item | line part 13 and the space | interval P2 of the adjacent metal fine wires 14 on both sides of the 2nd groove part 15 shall be equal. Not limited to this, the interval P1 and the interval P2 may be different. Also, some of the intervals P1 may be different from the other intervals P1, and some of the intervals P2 may be different from the other intervals P2.

また、本実施形態においては、第1凸条部13aの高さL2と、第2溝部15の深さL4と、を等しく形成することとしたが、これに限らず、L2,L4の値が異なることとしても良い。後に実施例をあげて示すように、L2,L4の値を異なることとする偏光素子にて良好な光学特性が得られることが分かったため、このような構成は目的とする物性を有する偏光素子を得るために好適である。   In the present embodiment, the height L2 of the first ridge 13a and the depth L4 of the second groove 15 are formed to be equal, but not limited to this, the values of L2 and L4 are It may be different. As will be described later with reference to examples, it was found that a polarizing element having different values of L2 and L4 can provide good optical characteristics. Suitable for obtaining.

例えば、図2(e)におけるドライエッチングを、適切なマスクを介して行うことで、第1溝部12と第2溝部15との掘り下げ深さを変更することができる。   For example, by performing dry etching in FIG. 2E through an appropriate mask, the depth of the first groove 12 and the second groove 15 can be changed.

また、凸条部13と、凸条部13より下側の基板11と、を異なる形成材料とすることにより、形成材料の違いに起因するエッチングレートの違いを利用して、第1溝部12と第2溝部15との掘り下げ深さを変更することも可能である。このような構成は、基板材料11Xの表面に凸条部13の形成材料の層を形成することで可能となる。   Further, by using different formation materials for the ridges 13 and the substrate 11 below the ridges 13, the difference between the etching rates due to the difference in the formation materials can be used, and the first groove 12 It is also possible to change the digging depth with the second groove 15. Such a configuration can be achieved by forming a layer of the material for forming the ridges 13 on the surface of the substrate material 11X.

さらに、間隔P1と間隔P2とを異なる値とすることでも、エッチングガスの侵入の仕方が変わりエッチングレートを各溝部で異ならせることができるため、第1溝部12と第2溝部15との掘り下げ深さを変更することができる。   Further, even when the interval P1 and the interval P2 are set to different values, the manner in which the etching gas enters can be changed and the etching rate can be made different for each groove portion, so that the depth of the first groove portion 12 and the second groove portion 15 is reduced. Can be changed.

[投写型表示装置]
次に、本発明の電子機器の実施形態について説明する。図4に示すプロジェクター800は、光源810、ダイクロイックミラー813、814、反射ミラー815、816、817、入射レンズ818、リレーレンズ819、射出レンズ820、光変調部822、823、824、クロスダイクロイックプリズム825、投写レンズ826、を有している。
[Projection display]
Next, an embodiment of the electronic device of the present invention will be described. 4 includes a light source 810, dichroic mirrors 813 and 814, reflection mirrors 815, 816, and 817, an incident lens 818, a relay lens 819, an exit lens 820, light modulation units 822, 823, and 824, and a cross dichroic prism 825. , And a projection lens 826.

光源810は、メタルハライド等のランプ811とランプの光を反射するリフレクタ812とからなる。なお、光源810としては、メタルハライド以外にも超高圧水銀ランプ、フラッシュ水銀ランプ、高圧水銀ランプ、Deep UVランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ等を用いることも可能である。   The light source 810 includes a lamp 811 such as a metal halide and a reflector 812 that reflects the light of the lamp. As the light source 810, besides a metal halide, an ultrahigh pressure mercury lamp, a flash mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a deep UV lamp, a xenon lamp, a xenon flash lamp, or the like can be used.

ダイクロイックミラー813は、光源810からの白色光に含まれる赤色光を透過させるとともに、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は反射ミラー817で反射されて、赤色光用の光変調部822に入射される。また、ダイクロイックミラー813で反射された青色光と緑色光のうち、緑色光は、ダイクロイックミラー814によって反射され、緑色光用光変調部823に入射される。青色光は、ダイクロイックミラー814を透過し、長い光路による光損失を防ぐために設けられた入射レンズ818、リレーレンズ819及び出射レンズ820を含むリレー光学系821を介して、青色光が光変調部824に入射される。   The dichroic mirror 813 transmits red light contained in white light from the light source 810 and reflects blue light and green light. The transmitted red light is reflected by the reflection mirror 817 and is incident on the light modulation unit 822 for red light. Of the blue light and green light reflected by the dichroic mirror 813, green light is reflected by the dichroic mirror 814 and is incident on the green light light modulation unit 823. The blue light is transmitted through the dichroic mirror 814, and the blue light is transmitted through the relay optical system 821 including the incident lens 818, the relay lens 819, and the output lens 820 provided to prevent light loss due to a long optical path. Is incident on.

光変調部822〜824は、液晶ライトバルブ830を挟んで両側に、入射側偏光素子840と射出側偏光素子部850と、が配置されている。入射側偏光素子840と射出側偏光素子部850とは、互いの透過軸が直交して(クロスニコル配置)配置されている。   In the light modulators 822 to 824, an incident side polarization element 840 and an emission side polarization element part 850 are arranged on both sides of the liquid crystal light valve 830. The incident side polarizing element 840 and the exit side polarizing element unit 850 are arranged so that their transmission axes are orthogonal to each other (crossed Nicols arrangement).

入射側偏光素子840は反射型の偏光素子であり、透過軸と直交する振動方向の光を反射させる。   The incident side polarization element 840 is a reflection type polarization element, and reflects light in a vibration direction orthogonal to the transmission axis.

一方、射出側偏光素子部850は、第1偏光素子(プリ偏光板、プリポラライザー)852と、第2偏光素子854と、を有している。第1偏光素子852には、保護膜を備え耐熱性が高い、上述した第2実施形態の本発明の偏光素子を用いる。また、第2偏光素子854は、有機材料を形成材料とする偏光素子である。射出側偏光素子部850は、いずれも吸収型の偏光素子であり、偏光素子852,854が協働して光を吸収している。なお、第1偏光素子852には、第1実施形態の本発明の偏光素子を用いることとしても良い。   On the other hand, the exit-side polarizing element unit 850 includes a first polarizing element (pre-polarizing plate, pre-polarizer) 852 and a second polarizing element 854. As the first polarizing element 852, the polarizing element of the present invention according to the second embodiment described above, which includes a protective film and has high heat resistance, is used. The second polarizing element 854 is a polarizing element using an organic material as a forming material. The exit side polarization element section 850 is an absorption type polarization element, and the polarization elements 852 and 854 cooperate to absorb light. The first polarizing element 852 may be the polarizing element according to the first embodiment of the present invention.

一般に、有機材料で形成される吸収型の偏光素子は、熱により劣化しやすいことから、高い輝度が必要な大出力のプロジェクターの偏光手段として用いる事が困難である。しかし、本発明のプロジェクター800では、第2偏光素子854と液晶ライトバルブ830との間に、耐熱性の高い無機材料で形成された第1偏光素子852を配置しており、偏光素子852,854が協働して光を吸収している。そのため、有機材料で形成される第2偏光素子854の劣化が抑えられる。   In general, an absorption-type polarizing element formed of an organic material is easily deteriorated by heat, so that it is difficult to use it as a polarizing means for a high-power projector that requires high luminance. However, in the projector 800 of the present invention, the first polarizing element 852 formed of an inorganic material having high heat resistance is disposed between the second polarizing element 854 and the liquid crystal light valve 830, and the polarizing elements 852 and 854 are disposed. Cooperate to absorb light. Therefore, deterioration of the second polarizing element 854 formed of an organic material can be suppressed.

また、各第1偏光素子852は、光変調部822〜824で変調する光を効率的に透過すべく、光変調部822〜824で変調する光の波長に対応して第1偏光素子852が有する金属細線間の掘り下げ深さを変更している。したがって、効率的な光利用が可能となっている。   In addition, each first polarizing element 852 has the first polarizing element 852 corresponding to the wavelength of the light modulated by the light modulating units 822 to 824 in order to efficiently transmit the light modulated by the light modulating units 822 to 824. The digging depth between the fine metal wires is changed. Therefore, efficient light utilization is possible.

各光変調部822〜824により変調された3つの色光は、クロスダイクロイックプリズム825に入射する。このクロスダイクロイックプリズム825は4つの直角プリズムを貼り合わせたものであり、その界面には赤光を反射する誘電体多層膜と青光を反射する誘電体多層膜とがX字状に形成されている。これらの誘電体多層膜により3つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投写光学系である投写レンズ826によってスクリーン827上に投写され、画像が拡大されて表示される。   The three color lights modulated by the respective light modulation units 822 to 824 are incident on the cross dichroic prism 825. The cross dichroic prism 825 is formed by bonding four right-angle prisms. A dielectric multilayer film that reflects red light and a dielectric multilayer film that reflects blue light are formed in an X shape at the interface. Yes. These dielectric multilayer films combine the three color lights to form light representing a color image. The synthesized light is projected onto the screen 827 by the projection lens 826 which is a projection optical system, and the image is enlarged and displayed.

以上のような構成のプロジェクター800は、射出側偏光素子部850に、上述した本発明の偏光素子を用いることとしているため、高出力の光源を用いても偏光素子の劣化が抑えられる。そのため、信頼性が高く優れた表示特性を有するプロジェクター800とすることができる。   Since the projector 800 configured as described above uses the above-described polarizing element of the present invention for the exit-side polarizing element unit 850, deterioration of the polarizing element can be suppressed even when a high-output light source is used. Therefore, the projector 800 having high reliability and excellent display characteristics can be obtained.

[液晶装置]
図5は、本発明にかかる偏光素子を備えた液晶装置300の一例を示した断面模式図である。本実施形態の液晶装置300は、素子基板210,対向基板320の間に液晶層350が挟持され構成されている。
[Liquid Crystal Device]
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of a liquid crystal device 300 including the polarizing element according to the present invention. The liquid crystal device 300 of the present embodiment is configured such that a liquid crystal layer 350 is sandwiched between an element substrate 210 and a counter substrate 320.

素子基板210及び対向基板320は、偏光素子330、340を備えている。偏光素子330、340は、前述した第2実施形態の偏光素子であり、それぞれガラスや石英、プラスチック等の透光性の基板上に、保護膜を備えた金属細線が形成された構造を備えている。   The element substrate 210 and the counter substrate 320 include polarizing elements 330 and 340. The polarizing elements 330 and 340 are the polarizing elements of the second embodiment described above, and each has a structure in which a thin metal wire having a protective film is formed on a light-transmitting substrate such as glass, quartz, or plastic. Yes.

偏光素子330は基板本体331と金属細線332及び保護膜333を、偏光素子340は基板本体341と金属細線242及び保護膜343をそれぞれに備えている。本実施形態では、基板本体331、341は偏光素子の基板であると同時に液晶装置用の基板も兼ねている。また、金属細線332と金属細線242は、互いに交差するように配置されている。いずれの偏光素子も、金属細線が内面側(液晶層350側)に配置されている。   The polarizing element 330 includes a substrate body 331, a metal thin wire 332, and a protective film 333, and the polarizing element 340 includes a substrate body 341, a metal thin wire 242, and a protective film 343, respectively. In the present embodiment, the substrate bodies 331 and 341 are not only substrates for polarizing elements but also serve as substrates for liquid crystal devices. Further, the fine metal wire 332 and the fine metal wire 242 are arranged so as to cross each other. In any of the polarizing elements, the fine metal wire is disposed on the inner surface side (the liquid crystal layer 350 side).

偏光素子330の内面側には、画素電極314や不図示の配線やTFT素子を備え、配向膜316が設けられている。同様に、偏光素子340の内面側には、共通電極324や配向膜326が設けられている。   On the inner surface side of the polarizing element 330, a pixel electrode 314, wiring (not shown) and a TFT element are provided, and an alignment film 316 is provided. Similarly, a common electrode 324 and an alignment film 326 are provided on the inner surface side of the polarizing element 340.

このような構成の液晶装置においては、基板本体331,341が、液晶装置用の基板と、偏光素子用の基板との機能をかねることから、部品点数を削減することができる。そのため、装置全体が薄型化でき、液晶装置300の機能を向上させることができる。更に、装置構造が簡略化されるので、製造が容易であるとともにコスト削減を図ることができる。   In the liquid crystal device having such a configuration, the substrate main bodies 331 and 341 function as the substrate for the liquid crystal device and the substrate for the polarizing element, so that the number of components can be reduced. Therefore, the entire device can be thinned, and the function of the liquid crystal device 300 can be improved. Furthermore, since the device structure is simplified, manufacturing is easy and cost reduction can be achieved.

なお、本実施形態の液晶装置においては、第2実施形態の偏光素子を用いることとしたが、保護膜を備えない第1実施形態の偏光素子を用いることもできる。その場合には、保護膜333,343の位置に、別途各偏光素子を保護するための保護層を設けることとすると良い。   In the liquid crystal device of the present embodiment, the polarizing element of the second embodiment is used, but the polarizing element of the first embodiment that does not include a protective film can also be used. In that case, it is preferable to provide a protective layer for protecting each polarizing element separately at the positions of the protective films 333 and 343.

[電子機器]
次に、本発明の電子機器に係る他の実施形態について説明する。図6は、図5に示した液晶装置を用いた電子機器の一例を示す斜視図である。図6に示す携帯電話(電子機器)1300は、本発明の液晶装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。これにより、信頼性に優れ、高品質な表示が可能な表示部を具備した携帯電話1300を提供することができる。
[Electronics]
Next, another embodiment according to the electronic apparatus of the present invention will be described. 6 is a perspective view illustrating an example of an electronic apparatus using the liquid crystal device illustrated in FIG. A cellular phone (electronic device) 1300 illustrated in FIG. 6 includes the liquid crystal device of the present invention as a small-sized display portion 1301, and includes a plurality of operation buttons 1302, an earpiece 1303, and a mouthpiece 1304. . Accordingly, the mobile phone 1300 including a display portion that is excellent in reliability and capable of high-quality display can be provided.

また、本発明の液晶装置は、上記携帯電話の他にも、電子ブック、パーソナルコンピューター、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、プロジェクター、ビューファインダー型あるいはモニター直視型のビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができる。   In addition to the mobile phone, the liquid crystal device of the present invention includes an electronic book, a personal computer, a digital still camera, a liquid crystal television, a projector, a viewfinder type or a monitor direct view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, It can be suitably used as image display means for electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, devices equipped with touch panels, and the like.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but it goes without saying that the present invention is not limited to such examples. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described examples are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.

[実施例]
以下に、本発明の実施例について説明する。本実施例では、発明の効果を確認するため、シミュレーション解析により評価を行った。本実施例では、モデル化した偏光素子についてのシミュレーション解析により評価をおこなった。以下の実施例の説明においては、図1に示した符号を適宜用いるものとする。
[Example]
Examples of the present invention will be described below. In this example, evaluation was performed by simulation analysis in order to confirm the effects of the invention. In this example, evaluation was performed by simulation analysis of the modeled polarizing element. In the following description of the embodiments, the reference numerals shown in FIG. 1 are used as appropriate.

シミュレーション解析は、モデル化した偏光素子についての形状、屈折率等の各パラメータを用いて、Grating Solver Development社製の解析ソフトであるGSolverを用いて行った。   The simulation analysis was performed using GSolver, which is analysis software manufactured by Grating Solver Development, using each parameter such as the shape and refractive index of the modeled polarizing element.

[第1溝部の掘り下げ深さについての検証]
まず、第1溝部12の深さについて、第1溝部12の底部12xが金属細線14の下端14aよりも下側に位置するまで掘り下げた偏光素子(以下、この構造を構造Aとする)と、第1溝部12の底部12xが金属細線14の下端14aと同じ高さである偏光素子(以下、この構造を構造Bとする)と、について光学特性の比較を行い、第1溝部12の掘り下げ深さの偏光素子の光学特性への影響を検証した。比較した光学特性は、TM光に対する光透過率(Tp)、TE光に対する光透過率(Tc)、TM光に対する反射率(Rp)、TE光に対する反射率(Rc)である。
[Verification of the depth of the first groove]
First, with respect to the depth of the first groove 12, a polarizing element dug down until the bottom 12 x of the first groove 12 is located below the lower end 14 a of the thin metal wire 14 (hereinafter, this structure is referred to as a structure A), The optical characteristics of the polarizing element (hereinafter, this structure is referred to as structure B) in which the bottom 12x of the first groove 12 is the same height as the lower end 14a of the thin metal wire 14 are compared, and the depth of the first groove 12 is deepened. The influence on the optical characteristics of the polarizing element was verified. The optical characteristics compared are light transmittance (Tp) for TM light, light transmittance (Tc) for TE light, reflectance (Rp) for TM light, and reflectance (Rc) for TE light.

ここでは、図1(b)に示す構造において、金属細線の高さHを一定とし、構造Aについては、L2とL4の値を同じ量変化させたモデルについて検証した。同じく、構造Bについては、L2を0として、L4の値を変化させたモデルについて検証した。いずれの構造においても、L3の値については、L4の変化に応じて相補的に変化することとなる。   Here, in the structure shown in FIG. 1B, a model in which the height H of the fine metal wire is constant and the values of L2 and L4 are changed by the same amount is verified for the structure A. Similarly, for structure B, L2 was set to 0, and a model in which the value of L4 was changed was verified. In any structure, the value of L3 changes complementarily according to the change of L4.

図7,8は、評価結果を示すグラフである。各(a)は横軸をL2,L4の値(nm)、縦軸を透過率(%)とした透過特性を示し、各(b)は横軸をL2,L4の値(nm)、縦軸を反射率(%)とした反射特性を示す。図7は、金属細線間の距離(隣り合う凸条部13の間隔(周期))Tが70nm、図8は同じく周期Tが140nmの結果を示している。   7 and 8 are graphs showing the evaluation results. Each (a) shows transmission characteristics with the horizontal axis representing the values L2 and L4 (nm) and the vertical axis representing the transmittance (%). Each (b) represents the horizontal axis representing the values L2 and L4 (nm) and the vertical axis. The reflection characteristics with the axis as the reflectance (%) are shown. FIG. 7 shows the result when the distance between the metal thin wires (the interval (period) between adjacent ridges 13) T is 70 nm, and FIG. 8 shows the result when the period T is 140 nm.

評価の結果、図7と図8との比較により、周期Tが140nmのものよりも周期Tが70nmのもののほうが良好な光学特性を示し、金属細線を狭ピッチすることによる物性改良が確かめられた。また、構造Aと構造Bとの結果を比較すると、金属細線の周期に関わらず、構造Aの偏光素子のほうが良好な物性を示した。   As a result of the evaluation, a comparison between FIG. 7 and FIG. 8 showed better optical characteristics when the period T was 70 nm than when the period T was 140 nm, and it was confirmed that the physical properties were improved by narrowing the fine metal wires. . Further, when the results of the structure A and the structure B were compared, the polarizing element of the structure A showed better physical properties regardless of the period of the thin metal wire.

[第1溝部と第2溝部との掘り下げ深さについての検証]
次に、構造Aの偏光素子について、L2とL4の値を異ならせたモデルについて検証した。
[Verification of digging depth between first groove and second groove]
Next, with respect to the polarizing element of structure A, a model in which the values of L2 and L4 were made different was verified.

図9から14は、評価結果を示すグラフである。図9から11は、周期Tが70nm、図12から14は同じく周期Tが140nmの結果を示している。また、図9,12は青色の光(波長:440nm)に対する評価結果、図10,13は緑色の光(波長:530nm)に対する評価結果、図11,14は赤色の光(波長:640nm)に対する評価結果を示している。   9 to 14 are graphs showing the evaluation results. 9 to 11 show the results when the period T is 70 nm, and FIGS. 12 to 14 show the results when the period T is 140 nm. 9 and 12 are the evaluation results for blue light (wavelength: 440 nm), FIGS. 10 and 13 are the evaluation results for green light (wavelength: 530 nm), and FIGS. 11 and 14 are for red light (wavelength: 640 nm). The evaluation results are shown.

各(a)は、横軸をL2の値(nm)、縦軸を透過率(%)とした透過特性を示し、L4の値を基準としたときの、L2の値の変化に対する光学特性の変化を示している。各(b)は、同じく横軸をL2の値(nm)、縦軸を反射率(%)とした反射特性を示す。   Each (a) shows transmission characteristics with the horizontal axis representing the L2 value (nm) and the vertical axis representing the transmittance (%), and the optical characteristics with respect to changes in the L2 value when the L4 value is used as a reference. It shows a change. Each (b) also shows reflection characteristics with the horizontal axis representing the value of L2 (nm) and the vertical axis representing the reflectance (%).

評価の結果、各色の光いずれもL2,L4の値が異なる構造において最も良いTpを示した。各色光における所定のL4の値に対するL2の最適値は、次の表1のようになった。   As a result of the evaluation, the light of each color showed the best Tp in the structure having different values of L2 and L4. The optimum value of L2 with respect to a predetermined value of L4 in each color light is as shown in Table 1 below.

Figure 2011008172
Figure 2011008172

この結果から、透過波長に応じてL2,L4の最適値が異なることが分かった。また、L2とL4との値は必ずしも揃える必要はなく、むしろL2の値を大きくする方が優れた透過率を示すことが分かった。   From this result, it was found that the optimum values of L2 and L4 differ depending on the transmission wavelength. Further, it has been found that the values of L2 and L4 do not necessarily have to be equal, but rather the larger the value of L2, the better the transmittance.

これらの結果より、本発明の構成を備える偏光素子が良好な光学特性を有することが確認でき、本発明の構成が課題解決に有効であることが確かめられた。   From these results, it was confirmed that the polarizing element having the configuration of the present invention has good optical characteristics, and it was confirmed that the configuration of the present invention is effective for solving the problems.

1,330,340…偏光素子,11…基板、11X…基板材料、12…第1溝部(溝部)、13…凸条部、13a…第1凸条部(第1誘電体層)、13b…第2凸条部(第2誘電体層)、13A…仮設凸条部、14…金属細線、20…レジスト、300…液晶装置、310…素子基板(一対の基板)、320…対向基板(一対の基板)、350…液晶層、800…プロジェクター(投写型表示装置)、810…光源(照明光学系)、826…投射レンズ(投写光学系)、830…液晶ライトバルブ、852…第1偏光素子(偏光素子)、1300…携帯電話(電子機器)、 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,330,340 ... Polarizing element, 11 ... Board | substrate, 11X ... Board | substrate material, 12 ... 1st groove part (groove part), 13 ... Projection stripe part, 13a ... 1st projection stripe part (1st dielectric material layer), 13b ... Second ridge (second dielectric layer), 13A ... Temporary ridge, 14 ... Metal fine wire, 20 ... Resist, 300 ... Liquid crystal device, 310 ... Element substrate (pair of substrates), 320 ... Counter substrate (pair) ) ... Light source (illumination optical system), 826 ... Projection lens (projection optical system), 830 ... Liquid crystal light valve, 852 ... First polarizing element (Polarizing element), 1300 ... mobile phone (electronic device),

Claims (11)

基板と、
前記基板上に平面視略ストライプ状に設けられた複数の第1誘電体層と、
各々の前記第1誘電体層上において、該第1誘電体層の延在方向と同方向に平面視略ストライプ状に延在して設けられた一対の金属細線と、
各々の前記第1誘電体層上であって、前記一対の金属細線の間の領域を該金属細線の上端よりも低く埋没させて設けられた第2誘電体層と、を備えることを特徴とする偏光素子。
A substrate,
A plurality of first dielectric layers provided in a substantially stripe shape in plan view on the substrate;
On each of the first dielectric layers, a pair of fine metal wires provided extending in a substantially stripe shape in plan view in the same direction as the extending direction of the first dielectric layer;
And a second dielectric layer provided on each of the first dielectric layers and buried in a region between the pair of thin metal wires lower than the upper end of the fine metal wires. Polarizing element.
前記金属細線の上端から前記第2誘電体層の上端までの高さと、前記金属細線の下端から前記第1誘電体層間の領域の底部までの高さと、が等しいことを特徴とする請求項1に記載の偏光素子。   The height from the upper end of the thin metal wire to the upper end of the second dielectric layer is equal to the height from the lower end of the thin metal wire to the bottom of the region between the first dielectric layers. A polarizing element according to 1. 前記金属細線の上端から前記第2誘電体層の上端までの高さよりも、前記金属細線の下端から前記第1誘電体層間の領域の底部までの高さのほうが大きいことを特徴とする請求項1に記載の偏光素子。   The height from the lower end of the thin metal wire to the bottom of the region between the first dielectric layers is larger than the height from the upper end of the thin metal wire to the upper end of the second dielectric layer. The polarizing element according to 1. 前記第2誘電体層を挟んで隣り合う2つの前記金属細線の間隔と、前記第2誘電体層を挟まずに隣り合う2つの前記金属細線の間隔と、が等しいことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の偏光素子。   The interval between the two fine metal wires adjacent to each other with the second dielectric layer interposed therebetween is equal to the interval between the two fine metal wires adjacent to each other without sandwiching the second dielectric layer. The polarizing element according to any one of 1 to 3. 前記第2誘電体層を挟んで隣り合う2つの前記金属細線の間隔と、前記第2誘電体層を挟まずに隣り合う2つの前記金属細線の間隔と、が異なることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の偏光素子。   The interval between the two fine metal wires adjacent to each other with the second dielectric layer interposed therebetween is different from the interval between the two fine metal wires adjacent to each other without sandwiching the second dielectric layer. The polarizing element according to any one of 1 to 3. 基板の一面側に平面視略ストライプ状に設けられた複数の仮設凸条部の上面および側面を覆って、前記基板上に金属膜を形成する工程と、
前記金属膜の一部であって、前記仮設凸条部の上面および隣り合う前記仮設凸条部の間の領域に設けられた前記金属膜を除去し、前記仮設凸条部の両側に複数の金属細線を形成する工程と、
前記金属膜の一部を除去した領域から露出する前記仮設凸条部および前記基板を掘り下げる工程と、を有することを特徴とする偏光素子の製造方法。
Covering a top surface and side surfaces of a plurality of temporary protrusions provided in a substantially striped shape in plan view on one surface side of the substrate, and forming a metal film on the substrate;
A part of the metal film, the metal film provided on the upper surface of the temporary ridge portion and a region between the adjacent temporary ridge portions is removed, and a plurality of pieces are provided on both sides of the temporary ridge portion. Forming a thin metal wire;
And a step of digging up the temporary protrusions and the substrate exposed from a region where a part of the metal film has been removed.
前記仮設凸条部および前記基板を同時に掘り下げることを特徴とする請求項6に記載の偏光素子の製造方法。   The method for manufacturing a polarizing element according to claim 6, wherein the temporary protrusions and the substrate are simultaneously dug down. 光を射出する照明光学系と、
前記光を変調する液晶ライトバルブと、
前記液晶ライトバルブで変調された光が入射する請求項1から5のいずれか1項に記載の偏光素子と、
前記偏光素子を透過した偏光光を被投写面に投写する投写光学系と、を備えることを特徴とする投写型表示装置。
An illumination optical system that emits light;
A liquid crystal light valve that modulates the light;
The polarizing element according to any one of claims 1 to 5, wherein light modulated by the liquid crystal light valve enters.
A projection display system, comprising: a projection optical system that projects the polarized light transmitted through the polarizing element onto a projection surface.
前記照明光学系は、波長が異なる複数の色光を含む光を射出し、
前記液晶ライトバルブは、前記複数の色光の各々に対応して設けられ、
前記偏光素子は、該偏光素子が有する複数の金属細線間に設けられた溝部の掘り下げ深さが、前記液晶ライトバルブで変調された色光に対応して異なっていることを特徴とする請求項8に記載の投写型表示装置。
The illumination optical system emits light including a plurality of colored lights having different wavelengths,
The liquid crystal light valve is provided corresponding to each of the plurality of color lights,
9. The polarizing element according to claim 8, wherein the depth of the groove provided between the plurality of fine metal wires of the polarizing element differs according to the color light modulated by the liquid crystal light valve. The projection display device described in 1.
一対の基板間に液晶層を挟持してなり、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の前記液晶層側に請求項1から5のいずれか1項に記載の偏光素子が形成されていることを特徴とする液晶装置。   A liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates, and the polarizing element according to claim 1 is formed on the liquid crystal layer side of at least one of the pair of substrates. A liquid crystal device characterized by the above. 請求項10に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 10.
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