JP2011007581A - 寸法計測装置およびこれを用いた半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上記目的を達成するために、構造物の寸法を所定の方向に沿って複数回測定した結果を元に得られたスペクトルと同測定条件の下で計算により求めたスペクトルとが合致するように寸法の標準偏差もしくは分散もしくは相関距離もしくは基本となるスペクトルからの変形を特徴付ける変数の内の少なくとも一つに対して適切な値を選択することによりその値を決定するプログラム、及び寸法測定装置を提案する。
【選択図】 図5
Description
を決定すれば上述の目的を達成することができる。ちなみに、通常はNが一定(上記セミ規格においては200)であるので、Δy/ξ,λ/ξの2変数に対して事前に値を決定しておけば良い。ただし、Δyも一定(上記セミ規格においては10nm)であることが多いが、λ/ξのみの関数として
を決定するだけでは十分でないのは言うまでもない。図4に、上記図3と同一の条件の下で(6)式と(7)式を用いて計算した結果(黒丸)とモンテカルロ法による結果(白丸)とを比較して示す。ここでb1,b2およびb3は上記した補間法により求めた。また、モンテカルロ法による結果は図3と同じである。同図と図3とを比較すると、(6)式および(7)式を用いることにより一致の精度が大きく向上することが分る。
2,52,55 プルダウンメニュー
13−15,22,23 ラジオボタン
24,81−84 グラフ
74,76 ボタン
101 走査型電子顕微鏡
102,154,155 モニタ
111,112 記憶装置
121,122 計算機
131,132,141−148 通信回線
151 筐体
152,153 搬入/搬出口
156 キーボード
161 ローカル・エリア・ネットワーク
201 露光装置
211 塗布現像ベーク装置
221 エッチング装置
Claims (12)
- 構造物の寸法を所定の方向に沿って複数回測定した結果を元に得られたスペクトルと同測定条件の下で計算により求めたスペクトルとが合致するように寸法の標準偏差もしくは分散もしくは相関距離もしくは基本となるスペクトルからの変形を特徴付ける変数の内の少なくとも一つに対して適切な値を選択することによりその値を決定する機能を有することを特徴とする寸法解析プログラム。
- 上記基本スペクトルを計算するに際して寸法の測定値の空間的相関を決定する相関関数として距離の指数関数を用いることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の寸法解析プログラム。
- 波数の三角関数もしくは波数のガウス関数もしくは波数のローレンツ関数の内の少なくとも一つを構成要素として含む数式と上記基本スペクトルとの積を含む数式を用いて変形したスペクトルを計算する機能を有することを特徴とする特許請求の範囲第2項に記載の寸法解析プログラム。
- スペクトルを計算により求めるに際して波数に依存しない一定値を加える機能を有することを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第3項に記載の寸法解析プログラム。
- 複数の波数に対するスペクトルの値の一次結合を実測結果のスペクトルと計算結果のスペクトルの各々について求め、これらの比から寸法の標準偏差もしくは分散を求めることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第4項に記載の寸法解析プログラム。
- 特許請求の範囲第5項記載の方法により求めた標準偏差もしくは分散を係数として含めながら複数の波数に対する実測結果のスペクトルの値と計算結果のスペクトルの値を元に一次結合を構成することにより雑音のスペクトルもしくは分散もしくは標準偏差を求めることを特徴とする特許請求の範囲第5項に記載の寸法解析プログラム。
- 特許請求の範囲第1項ないし第7項記載の方法により計算したスペクトルを表示する機能を有することを特徴とする寸法解析プログラム。
- 実測結果のスペクトルと計算結果のスペクトルとが合致するように寸法の標準偏差もしくは分散もしくは相関距離もしくは基本となるスペクトルからの変形を特徴付ける変数の内の少なくとも一つを試行錯誤により最適化する過程を表示する機能を有することを特徴とする寸法解析プログラム。
- 特許請求の範囲第1項ないし第6項記載の方法により寸法の標準偏差もしくは分散もしくは相関距離もしくはスペクトルの変形を特徴付ける変数の内の少なくとも一つに対してその値を決定する機能を有することを特徴とする寸法計測装置。
- 特許請求の範囲第1項ないし第6項記載の方法により計算したスペクトルを表示する機能を有することを特徴とする寸法計測装置。
- 本体と通信回線により接続されてはいるが空間的に離れた場所に設置された装置を用いて特許請求の範囲第1項ないし第6項記載の計算を行うことを特徴とする特許請求の範囲第9項もしくは第10項に記載の寸法計測装置。
- 特許請求の範囲第1項ないし第6項記載の方法により寸法の標準偏差もしくは分散もしくは相関距離もしくはスペクトルの変形を特徴付ける変数の内の少なくとも一つの値を決定し、その結果を製造条件に反映させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
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