JP2011003867A - 移動体装置及び移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
移動体装置及び移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011003867A JP2011003867A JP2009217081A JP2009217081A JP2011003867A JP 2011003867 A JP2011003867 A JP 2011003867A JP 2009217081 A JP2009217081 A JP 2009217081A JP 2009217081 A JP2009217081 A JP 2009217081A JP 2011003867 A JP2011003867 A JP 2011003867A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- measurement
- axis
- movement stage
- grating
- fine movement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
Abstract
【解決手段】 駆動系により、アーム部材71から移動体WFSのXY平面に平行な一面に配置されたグレーティングRGに対して計測ビームを照射して移動体のXY平面内の位置を計測する第1計測系の計測結果に基づいて移動体が駆動される。この場合、アーム部材からグレーティングRGに計測ビームを照射する構成が採用されているので、ステージ定盤にエンコーダシステムを設ける場合とは異なり、移動体の駆動に起因する悪影響はない。従って、移動体を精度良く駆動することが可能になる。
【選択図】図1
Description
Claims (30)
- 互いに直交する第1軸及び第2軸を含む所定平面内で移動可能で、前記所定平面に実質的に平行な面に沿って計測面が配置された移動体と;
少なくとも一端部が前記計測面に対向して配置され、前記第1軸に平行な方向を長手方向とし、少なくとも一部がその内部を光が進行可能な中実部から成るアーム部材を有し、該アーム部材から前記計測面に少なくとも1本の第1計測ビームを照射し、該第1計測ビームの前記計測面からの光を受光して、前記移動体の少なくとも前記所定平面内の位置を計測する第1計測系と;
前記第1計測系の出力に基づいて前記移動体を駆動する駆動系と;を備える移動体装置。 - 前記第1計測ビームは、前記アーム部材の内部を前記第1軸に平行な方向に進行し、
前記アーム部材は、前記アーム部材の内部を進行する前記第1計測ビームを、その一端部近傍で前記計測面に向けて照射する光学系を有する請求項1に記載の移動体装置。 - 前記光学系は、互いに45度の角度で対向する一対の反射面を含み、
前記第1計測ビームは、前記一対の反射面のそれぞれにより順次反射されて、前記計測面に向かう請求項2に記載の移動体装置。 - 前記計測面には、グレーティングが形成され、
前記第1計測系は、前記第1計測ビームの前記グレーティングからの回折光を受光する請求項1〜3のいずれか一項に記載の移動体装置。 - 前記光学系は、前記グレーティングからの回折光、又は前記グレーティングからの複数の回折光の合成光を、前記アーム部材の内部を前記第1軸に平行な方向に進行させる請求項4に記載の移動体装置。
- 前記グレーティングは、前記第1軸及び第2軸にそれぞれ平行な方向を周期方向とする第1及び第2回折格子を含み、
前記第1計測系は、前記アーム部材から前記グレーティングに、前記第1計測ビームとして前記第1及び第2回折格子にそれぞれ対応する第1軸方向計測用ビーム及び第2軸方向計測用ビームを照射し、前記第1軸方向計測用ビーム及び第2軸方向計測用ビームそれぞれの前記グレーティングからの回折光を受光して、前記移動体の前記第1軸に平行な方向及び前記第2軸に平行な方向に関する位置を計測する請求項4又は5に記載の移動体装置。 - 前記第1計測系は、前記第1軸方向計測用ビームとして、前記第1回折格子上の照射点が前記第2軸に平行な方向で互いに異なる少なくとも2本の計測用ビームを、前記第1回折格子に照射する請求項6に記載の移動体装置。
- 前記少なくとも2本の計測用ビームと前記第2軸方向計測用ビームとは、前記グレーティング上の前記第2軸に平行な直線上の照射点にそれぞれ照射される請求項7に記載の移動体装置。
- 前記第1計測系は、前記第1軸方向計測用ビームの光路上に、前記第1軸に平行な方向に対応する方向を周期方向とする少なくとも1つの第3回折格子をさらに有する請求項6〜8のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記第1計測系は、前記第2軸方向計測用ビームの光路上に、前記第2軸に平行な方向に対応する方向を周期方向とする少なくとも1つの第4回折格子をさらに有する請求項6〜9のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記第1計測系は、前記第1軸方向計測用ビーム及び前記第2軸方向計測用ビームの光路上に、前記第1軸に平行な方向及び前記第2軸に平行な方向に対応する2方向を周期方向とする少なくとも1つの第5回折格子をさらに有する請求項6〜10のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記アーム部材の前記計測面に対する前記第1計測ビームの射出端部は、前記移動体の移動範囲において、前記計測面に対向する請求項1〜11のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記アーム部材は、前記第1軸に直交する断面が矩形状である請求項1〜12のいずれか一項に記載の移動体装置。
- 前記移動体に複数の第2計測ビームを照射し、その反射光を受光して前記移動体の前記所定平面に対する傾きを計測する光波干渉式測長器を含む第2計測系をさらに備え、
前記駆動系は、前記第1計測系及び前記第2計測系の出力に基づいて、前記移動体を駆動する請求項1〜13のいずれか一項に記載の移動体装置。 - 前記光波干渉式測長器は、前記所定平面に直交する方向に関する前記移動体の位置をも計測する請求項14に記載の移動体装置。
- 前記第1計測系は、前記計測面の少なくとも3点に前記第1計測ビームを照射し、前記計測面における前記第1計測ビームの各照射点からの光を受光して、前記第1軸及び第2軸に平行な方向、及び二次元平面に直交する方向、並びに前記第1軸及び第2軸それぞれに平行な軸回りの回転方向に関する前記移動体の位置情報を計測する請求項1〜15のいずれか一項に記載の移動体装置。
- エネルギビームの照射によって物体にパターンを形成する露光装置であって、
前記物体が前記移動体上に載置される、請求項1〜16のいずれか一項に記載の移動体装置と;
前記移動体上に載置された前記物体に前記エネルギビームを照射するパターニング装置と;を備える露光装置。 - 前記第1計測系から前記計測面に対して照射される前記第1計測ビームの照射点の中心である計測中心は、前記物体に照射される前記エネルギビームの照射領域の中心である露光位置に一致する請求項17に記載の露光装置。
- 前記パターニング装置は、支持部材に支持され、前記エネルギビームを前記物体に投射する投影光学系を含み、
前記アーム部材は、前記支持部材に支持されている請求項17又は18に記載の露光装置。 - 前記移動体は、その内部を前記第1計測ビームが進行可能な中実な部材から成り、
前記計測面は、前記移動体の前記所定平面に実質的に平行な面の内、前記物体と対向する第1面に形成され、
前記アーム部材は、前記第1面とは異なる第2面に対向する請求項17〜19のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記移動体は、内部に前記アーム部材を挿入可能な空間部を有し、少なくとも前記所定面に沿って移動可能な第1移動部材と、前記物体を保持して少なくとも所定平面に平行な面内で前記第1移動部材に対して相対移動可能で、前記所定平面に実質的に平行な一面に前記計測面が設けられた第2移動部材と、を含み、
前記駆動系は、前記第1計測系で計測された前記位置情報に基づいて、前記第2移動部材を単独で若しくは前記第1移動部材と一体で駆動する請求項17〜20のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記第2移動部材は、一端部及び該一端部とは前記計測面を挟んで反対側の他端部が前記第1移動部材にそれぞれ支持され、
前記駆動系は、前記第2移動部材の前記一端部に駆動力を作用させる第1駆動部と、前記他端部に駆動力を作用させる第2駆動部とを含む請求項21に記載の露光装置。 - 前記第1及び前記第2駆動部は、前記第1軸及び第2軸に平行な方向、及び二次元平面に直交する方向、並びに前記第1軸及び第2軸それぞれに平行な軸回りの回転方向に駆動力を発生可能であり、その駆動力の大きさ及び発生方向それぞれが独立に制御可能である請求項22に記載の露光装置。
- 前記第1及び第2駆動部それぞれは、前記第1移動部材に配置されたコイルユニットと、前記第2移動部材に配置された磁石ユニットとを含み、前記第2移動部材を非接触駆動する請求項22又は23に記載の露光装置。
- 前記エネルギビームに対して、前記物体を前記所定平面内の走査方向に走査する走査露光に際し、
前記駆動系は、前記第2移動体のみを、前記第1計測系で計測された前記位置情報に基づいて、前記走査方向に走査駆動する請求項21〜24のいずれか一項に記載の露光装置。 - 請求項17〜25のいずれか一項に記載の露光装置を用いて物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと;を含むデバイス製造方法。 - 移動体を所定平面に沿って駆動する移動体駆動方法であって、
前記移動体上の前記所定平面に実質的に平行な面に沿って配置された計測面に対し、少なくとも一端部が前記計測面に対向して配置された前記所定平面に実質的に平行な第1軸方向を長手方向とし、少なくとも一部がその内部を光が進行可能な中実部から成るアーム部材から少なくとも1本の第1計測ビームを照射し、該第1計測ビームの前記計測面からの光を受光して、前記移動体の少なくとも前記所定平面内の位置を計測し、該計測結果に基づいて前記移動体を駆動する工程を含む移動体駆動方法。 - 前記計測面には、グレーティングが形成され、
前記工程では、前記第1計測ビームの前記グレーティングからの回折光を受光する請求項27に記載の移動体駆動方法。 - エネルギビームの照射によって物体にパターンを形成する露光方法であって、
パターンの形成のため、前記物体が載置された移動体を請求項27又は28に記載の移動体駆動方法を用いて駆動する工程を含む露光方法。 - 請求項29に記載の露光方法を用いて物体を露光することと、
前記露光された物体を現像することと;を含むデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009217081A JP5381544B2 (ja) | 2008-09-22 | 2009-09-18 | 移動体装置及び移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US9889308P | 2008-09-22 | 2008-09-22 | |
US9890208P | 2008-09-22 | 2008-09-22 | |
US61/098,902 | 2008-09-22 | ||
US61/098,893 | 2008-09-22 | ||
JP2009121821 | 2009-05-20 | ||
JP2009121821 | 2009-05-20 | ||
US12/561,480 | 2009-09-17 | ||
US12/561,480 US8325325B2 (en) | 2008-09-22 | 2009-09-17 | Movable body apparatus, movable body drive method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
JP2009217081A JP5381544B2 (ja) | 2008-09-22 | 2009-09-18 | 移動体装置及び移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013136222A Division JP5700363B2 (ja) | 2008-09-22 | 2013-06-28 | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011003867A true JP2011003867A (ja) | 2011-01-06 |
JP5381544B2 JP5381544B2 (ja) | 2014-01-08 |
Family
ID=42037307
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009217081A Active JP5381544B2 (ja) | 2008-09-22 | 2009-09-18 | 移動体装置及び移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2013136222A Active JP5700363B2 (ja) | 2008-09-22 | 2013-06-28 | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013136222A Active JP5700363B2 (ja) | 2008-09-22 | 2013-06-28 | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8325325B2 (ja) |
JP (2) | JP5381544B2 (ja) |
KR (2) | KR101460933B1 (ja) |
TW (1) | TWI463269B (ja) |
WO (1) | WO2010032877A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018107467A (ja) * | 2014-03-28 | 2018-07-05 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体駆動方法 |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8325325B2 (en) | 2008-09-22 | 2012-12-04 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, movable body drive method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
US8760629B2 (en) | 2008-12-19 | 2014-06-24 | Nikon Corporation | Exposure apparatus including positional measurement system of movable body, exposure method of exposing object including measuring positional information of movable body, and device manufacturing method that includes exposure method of exposing object, including measuring positional information of movable body |
US8472008B2 (en) | 2009-06-19 | 2013-06-25 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method |
NL2005013A (en) * | 2009-07-31 | 2011-02-02 | Asml Netherlands Bv | Positioning system, lithographic apparatus and method. |
US20110096318A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-04-28 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device fabricating method |
US20110096306A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-04-28 | Nikon Corporation | Stage apparatus, exposure apparatus, driving method, exposing method, and device fabricating method |
US20110096312A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-04-28 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device fabricating method |
US20110102761A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-05-05 | Nikon Corporation | Stage apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method |
US20110128523A1 (en) * | 2009-11-19 | 2011-06-02 | Nikon Corporation | Stage apparatus, exposure apparatus, driving method, exposing method, and device fabricating method |
US20110123913A1 (en) * | 2009-11-19 | 2011-05-26 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposing method, and device fabricating method |
US8488106B2 (en) * | 2009-12-28 | 2013-07-16 | Nikon Corporation | Movable body drive method, movable body apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2013042114A (ja) * | 2011-07-19 | 2013-02-28 | Canon Inc | 描画装置、及び、物品の製造方法 |
WO2013073538A1 (ja) | 2011-11-17 | 2013-05-23 | 株式会社ニコン | エンコーダ装置、移動量計測方法、光学装置、並びに露光方法及び装置 |
US9207549B2 (en) | 2011-12-29 | 2015-12-08 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method with encoder of higher reliability for position measurement |
US9360772B2 (en) | 2011-12-29 | 2016-06-07 | Nikon Corporation | Carrier method, exposure method, carrier system and exposure apparatus, and device manufacturing method |
US10679883B2 (en) * | 2012-04-19 | 2020-06-09 | Intevac, Inc. | Wafer plate and mask arrangement for substrate fabrication |
US9575416B2 (en) * | 2012-08-23 | 2017-02-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and displacement measurement system |
US9772564B2 (en) | 2012-11-12 | 2017-09-26 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
US10242903B2 (en) | 2012-11-30 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Suction device, carry-in method, carrier system and exposure apparatus, and device manufacturing method |
KR20230055404A (ko) | 2012-11-30 | 2023-04-25 | 가부시키가이샤 니콘 | 반송 시스템, 노광 장치, 반송 방법, 노광 방법 및 디바이스 제조방법, 및 흡인 장치 |
CN111687416A (zh) * | 2014-11-14 | 2020-09-22 | 株式会社尼康 | 造型装置及造型方法 |
CN112415863B (zh) | 2015-09-30 | 2023-05-23 | 株式会社尼康 | 曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法 |
US10268121B2 (en) | 2015-09-30 | 2019-04-23 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method, and flat panel display manufacturing method |
CN105929530A (zh) * | 2016-07-05 | 2016-09-07 | 全普光电科技(上海)有限公司 | 具有浮动平衡环的微型扫描仪及包含该微型扫描仪的激光投影装置 |
CN105929529A (zh) * | 2016-07-05 | 2016-09-07 | 全普光电科技(上海)有限公司 | 具有浮动扫描板的微型扫描仪及包含该微型扫描仪的激光投影装置 |
WO2018038071A1 (ja) * | 2016-08-24 | 2018-03-01 | 株式会社ニコン | 計測システム及び基板処理システム、並びにデバイス製造方法 |
JPWO2018061945A1 (ja) | 2016-09-30 | 2019-07-11 | 株式会社ニコン | 計測システム及び基板処理システム、並びにデバイス製造方法 |
US11711357B2 (en) * | 2019-08-16 | 2023-07-25 | Netflix, Inc. | Identity data object creation and management |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53132358A (en) * | 1977-04-20 | 1978-11-18 | Thomson Csf | Object positioning device of projector |
JP2002151405A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-05-24 | Asm Lithography Bv | リトグラフィー投影装置 |
JP2007208240A (ja) * | 2005-12-30 | 2007-08-16 | Asml Netherlands Bv | 基板テーブル、基板位置の測定方法、およびリソグラフィ装置 |
WO2007097380A1 (ja) * | 2006-02-21 | 2007-08-30 | Nikon Corporation | パターン形成装置及びパターン形成方法、移動体駆動システム及び移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
WO2008038752A1 (fr) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Nikon Corporation | système à unité MOBILE, DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIF, DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF |
Family Cites Families (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4780617A (en) | 1984-08-09 | 1988-10-25 | Nippon Kogaku K.K. | Method for successive alignment of chip patterns on a substrate |
US5196745A (en) | 1991-08-16 | 1993-03-23 | Massachusetts Institute Of Technology | Magnetic positioning device |
KR100300618B1 (ko) | 1992-12-25 | 2001-11-22 | 오노 시게오 | 노광방법,노광장치,및그장치를사용하는디바이스제조방법 |
JP3412704B2 (ja) | 1993-02-26 | 2003-06-03 | 株式会社ニコン | 投影露光方法及び装置、並びに露光装置 |
JP3082516B2 (ja) | 1993-05-31 | 2000-08-28 | キヤノン株式会社 | 光学式変位センサおよび該光学式変位センサを用いた駆動システム |
JPH07270122A (ja) | 1994-03-30 | 1995-10-20 | Canon Inc | 変位検出装置、該変位検出装置を備えた露光装置およびデバイスの製造方法 |
JPH11178311A (ja) | 1997-10-09 | 1999-07-02 | Nikon Corp | 位置決め装置、駆動ユニット及び前記装置を備えた露光装置 |
AU8747698A (en) | 1997-08-21 | 1999-03-16 | Nikon Corporation | Positioning device, driving unit, and aligner equipped with the device |
CN100578876C (zh) | 1998-03-11 | 2010-01-06 | 株式会社尼康 | 紫外激光装置以及使用该紫外激光装置的曝光装置和曝光方法 |
WO2001035168A1 (en) | 1999-11-10 | 2001-05-17 | Massachusetts Institute Of Technology | Interference lithography utilizing phase-locked scanning beams |
SG124257A1 (en) | 2000-02-25 | 2006-08-30 | Nikon Corp | Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution |
US6437463B1 (en) | 2000-04-24 | 2002-08-20 | Nikon Corporation | Wafer positioner with planar motor and mag-lev fine stage |
US20020041377A1 (en) | 2000-04-25 | 2002-04-11 | Nikon Corporation | Aerial image measurement method and unit, optical properties measurement method and unit, adjustment method of projection optical system, exposure method and apparatus, making method of exposure apparatus, and device manufacturing method |
US7289212B2 (en) | 2000-08-24 | 2007-10-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufacturing thereby |
US6542224B2 (en) | 2000-10-13 | 2003-04-01 | Corning Incorporated | Silica-based light-weight EUV lithography stages |
US6611316B2 (en) | 2001-02-27 | 2003-08-26 | Asml Holding N.V. | Method and system for dual reticle image exposure |
US6570644B2 (en) | 2001-06-05 | 2003-05-27 | Nikon Corporation | Connection assembly of wafer stage chamber |
TW529172B (en) | 2001-07-24 | 2003-04-21 | Asml Netherlands Bv | Imaging apparatus |
JP4204964B2 (ja) | 2002-12-23 | 2009-01-07 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置 |
JP4552146B2 (ja) | 2003-08-07 | 2010-09-29 | 株式会社ニコン | 露光方法及び露光装置、ステージ装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2005268608A (ja) | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ステージ装置 |
JP5130714B2 (ja) | 2004-04-09 | 2013-01-30 | 株式会社ニコン | 移動体の駆動方法、ステージ装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
JP4751032B2 (ja) | 2004-04-22 | 2011-08-17 | 株式会社森精機製作所 | 変位検出装置 |
US7256871B2 (en) | 2004-07-27 | 2007-08-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method for calibrating the same |
JPWO2006022200A1 (ja) | 2004-08-24 | 2008-05-08 | 株式会社ニコン | ステージ装置及び露光装置 |
US20060061751A1 (en) | 2004-09-21 | 2006-03-23 | Ting-Chien Teng | Stage assembly including a stage having increased vertical stroke |
EP1794650A4 (en) | 2004-09-30 | 2008-09-10 | Nikon Corp | OPTICAL PROJECTION DEVICE AND EXPOSURE DEVICE |
US7417714B2 (en) | 2004-11-02 | 2008-08-26 | Nikon Corporation | Stage assembly with measurement system initialization, vibration compensation, low transmissibility, and lightweight fine stage |
US7161659B2 (en) | 2005-04-08 | 2007-01-09 | Asml Netherlands B.V. | Dual stage lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP5040657B2 (ja) | 2005-10-24 | 2012-10-03 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法、デバイス組立方法 |
US8681314B2 (en) | 2005-10-24 | 2014-03-25 | Nikon Corporation | Stage device and coordinate correction method for the same, exposure apparatus, and device manufacturing method |
EP2963498B8 (en) | 2006-01-19 | 2017-07-26 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
SG170010A1 (en) | 2006-02-21 | 2011-04-29 | Nikon Corp | Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure appararus and method, and device manufacturing method |
CN101385122B (zh) | 2006-02-21 | 2010-12-08 | 株式会社尼康 | 图案形成装置、标记检测装置、曝光装置、图案形成方法、曝光方法及组件制造方法 |
US20070267995A1 (en) | 2006-05-18 | 2007-11-22 | Nikon Corporation | Six Degree-of-Freedom Stage Apparatus |
US7673629B2 (en) * | 2006-08-16 | 2010-03-09 | Rescue Air Systems, Inc | Safety system and method of a tunnel structure |
TWI609252B (zh) | 2006-08-31 | 2017-12-21 | Nikon Corp | Moving body driving system and moving body driving method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, element manufacturing method, and determination method |
US20080094592A1 (en) | 2006-08-31 | 2008-04-24 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method |
TW201738667A (zh) | 2006-08-31 | 2017-11-01 | Nippon Kogaku Kk | 曝光方法及曝光裝置、以及元件製造方法 |
KR101323530B1 (ko) | 2006-09-01 | 2013-10-29 | 가부시키가이샤 니콘 | 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 디바이스 제조 방법, 그리고 캘리브레이션 방법 |
JP5486189B2 (ja) | 2006-09-01 | 2014-05-07 | 株式会社ニコン | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
KR101549709B1 (ko) | 2006-11-09 | 2015-09-11 | 가부시키가이샤 니콘 | 유지 장치, 위치 검출 장치 및 노광 장치, 이동 방법, 위치검출 방법, 노광 방법, 검출계의 조정 방법, 그리고 디바이스 제조 방법 |
US8243257B2 (en) | 2007-07-24 | 2012-08-14 | Nikon Corporation | Position measurement system, exposure apparatus, position measuring method, exposure method and device manufacturing method, and tool and measuring method |
WO2009050675A2 (en) | 2007-10-19 | 2009-04-23 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Displacement device with precision position measurement |
US8325325B2 (en) | 2008-09-22 | 2012-12-04 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, movable body drive method, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
-
2009
- 2009-09-17 US US12/561,480 patent/US8325325B2/en active Active
- 2009-09-18 JP JP2009217081A patent/JP5381544B2/ja active Active
- 2009-09-18 KR KR1020137025824A patent/KR101460933B1/ko active IP Right Grant
- 2009-09-18 WO PCT/JP2009/066847 patent/WO2010032877A1/en active Application Filing
- 2009-09-18 KR KR1020117009140A patent/KR101444513B1/ko active IP Right Grant
- 2009-09-21 TW TW098131730A patent/TWI463269B/zh active
-
2012
- 2012-10-23 US US13/658,451 patent/US8994924B2/en active Active
-
2013
- 2013-06-28 JP JP2013136222A patent/JP5700363B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53132358A (en) * | 1977-04-20 | 1978-11-18 | Thomson Csf | Object positioning device of projector |
JP2002151405A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-05-24 | Asm Lithography Bv | リトグラフィー投影装置 |
JP2007208240A (ja) * | 2005-12-30 | 2007-08-16 | Asml Netherlands Bv | 基板テーブル、基板位置の測定方法、およびリソグラフィ装置 |
WO2007097380A1 (ja) * | 2006-02-21 | 2007-08-30 | Nikon Corporation | パターン形成装置及びパターン形成方法、移動体駆動システム及び移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
WO2008038752A1 (fr) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Nikon Corporation | système à unité MOBILE, DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIF, DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018107467A (ja) * | 2014-03-28 | 2018-07-05 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体駆動方法 |
JP2019070815A (ja) * | 2014-03-28 | 2019-05-09 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体駆動方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI463269B (zh) | 2014-12-01 |
JP5700363B2 (ja) | 2015-04-15 |
KR20110059782A (ko) | 2011-06-03 |
KR101460933B1 (ko) | 2014-11-12 |
KR101444513B1 (ko) | 2014-09-24 |
TW201015243A (en) | 2010-04-16 |
US8994924B2 (en) | 2015-03-31 |
US20130044307A1 (en) | 2013-02-21 |
JP2013239721A (ja) | 2013-11-28 |
KR20130121999A (ko) | 2013-11-06 |
JP5381544B2 (ja) | 2014-01-08 |
US8325325B2 (en) | 2012-12-04 |
WO2010032877A1 (en) | 2010-03-25 |
US20100073652A1 (en) | 2010-03-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5700363B2 (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP5679131B2 (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP5818032B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP5614099B2 (ja) | 移動体装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP5773031B2 (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP5804301B2 (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP2013513224A (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2013506267A (ja) | ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2013511821A (ja) | ステージ装置、露光装置、駆動方法及び露光方法並びにデバイス製造方法 | |
JP5299638B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2013506269A (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP6111718B2 (ja) | 計測システム及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120413 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130520 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130522 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130628 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130903 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130916 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5381544 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |