JP2011002762A - Molding having light antireflection effect - Google Patents

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司 松本
Kazuya Sato
一也 佐藤
Yoshihiro Maeda
好広 前田
Yutaka Watanabe
裕 渡辺
Jun Rokuhara
淳 六波羅
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently and simply provide a molding having a superior light antireflection effect, to find a surface shape and physical properties required for the molding having the superior light antireflection effect or an excellent light transmission performance and to provide the molding having specific surface shape and specific physical properties and consequently having the light antireflection effect.SOLUTION: The molding is molded by using a die having a minute shape on its surface and the minute shape on its surface is thermally transferred onto a thermoplastic resin. The molding surface has projections with average height of 100 nm to 1,000 nm or recesses with average depth of 100 nm to 1,000 nm and there are projections or recesses at an average cycle 50 to 400 nm in at least one direction.

Description

本発明は、特定の材料からなり特定の表面形状を有し、優れた光の反射防止効果、優れた光の透過性能を有する成型品に関するものである。   The present invention relates to a molded article made of a specific material, having a specific surface shape, and having an excellent antireflection effect on light and an excellent light transmission performance.

反射を防止したい対象は多くあり、例えば、特許文献1には、各種メーター類の前面に設けられる反射が防止されたメーターフロントカバーの例が記載されている。また、レンズ等の成型体のように、透過率を少しでも上げたい成型体にとって反射率を下げることは極めて重要である。更に、液晶表示ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)等のフラットパネルディスプレイ(以下、「FPD」と略記する)でも、その視認性確保のために、ディスプレイの表面における光の反射を防止する成型体を設けることは極めて重要である。   There are many objects for which reflection is desired to be prevented. For example, Patent Document 1 describes an example of a meter front cover that is provided on the front face of various meters and prevents reflection. In addition, it is extremely important to lower the reflectance for a molded body that wants to increase the transmittance as much as possible, such as a molded body such as a lens. Furthermore, in flat panel displays (hereinafter abbreviated as “FPD”) such as liquid crystal display (LCD) and plasma display (PDP), molding is performed to prevent light reflection on the surface of the display in order to ensure visibility Providing a body is extremely important.

かかる反射を防止する手段としては、主に以下の反射防止手段が使用されてきた。(1)一般にドライ法と言われているもの、すなわち、誘電体多層膜を気相プロセスで作製し、光学干渉効果で低反射率を実現したもの、(2)一般にウエット法と言われているもの、すなわち、低屈折率材料を基板フィルム上にコーティングしたもの等が使用されてきた。また、これらとは原理的に全く異なる技術として、(3)表面に微細構造を付与することにより、低反射率を発現させることができることが知られている(特許文献1〜特許文献12)。   As means for preventing such reflection, the following antireflection means have been mainly used. (1) What is generally referred to as a dry method, that is, a dielectric multilayer film produced by a vapor phase process to achieve a low reflectivity by optical interference effect, (2) Generally referred to as a wet method In other words, a low refractive index material coated on a substrate film has been used. Further, it is known that (3) a low reflectance can be expressed by imparting a fine structure to the surface as a technology completely different from these (Patent Documents 1 to 12).

中でも、その反射防止性能が高い点で、上記(3)が挙げられるが、上記(3)の微細構造を表面に付与する手段を採りつつ、更に光の反射防止効果の性能を向上させる方法として種々検討されており、例えば、アルミニウム表面の陽極酸化による陽極酸化被膜の形成と、その陽極酸化被膜のエッチングとを組み合わせたものを型として、その形状を反射防止膜に転写する方法等が知られている(特許文献12〜特許文献15)。   Among them, the above (3) is mentioned because of its high antireflection performance, but as a method for further improving the performance of the antireflection effect of light while taking the means for imparting the fine structure of (3) to the surface. Various studies have been made. For example, a method is known in which an anodized film formed by anodic oxidation of an aluminum surface is combined with etching of the anodized film, and the shape is transferred to an antireflection film. (Patent Documents 12 to 15).

また、表面に微細構造が付与された成型体の材料の研究もあり、例えば、特許文献9、特許文献15には、かかる材料として光硬化性組成物や熱硬化性組成物を用いる技術が開示されている。   In addition, there is also research on a material of a molded body having a fine structure on its surface. For example, Patent Document 9 and Patent Document 15 disclose a technique using a photocurable composition or a thermosetting composition as such a material. Has been.

しかしながら、これらについては、未だ十分な性能を備えているものはなく、特に、光の反射防止性能のみならず光の透過性能が十分ではなく、更なる向上が求められていた。   However, none of these still have sufficient performance, and in particular, not only the light antireflection performance but also the light transmission performance is not sufficient, and further improvement has been demanded.

特開2007−264594号公報JP 2007-264594 A 特開昭50−070040号公報Japanese Patent Laid-Open No. 50-070040 特開平9−193332号公報JP-A-9-193332 特開2003−162205号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-162205 特開2003−215314号公報JP 2003-215314 A 特開2003−240903号公報JP 2003-240903 A 特開2004−004515号公報JP 2004-004515 A 特開2004−059820号公報JP 2004-059820 A 特開2004−059822号公報JP 2004-059822 A 特開2005−010231号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2005-010231 特開2005−092099号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-092099 特開2003−043203号公報JP 2003-043203 A 特開2005−156695号公報JP 2005-156695 A 特開2007−086283号公報JP 2007-086283 A 特開2006−091859号公報JP 2006-091859 A

本発明は上記背景技術に鑑みてなされたものであり、その課題は、光の反射防止効果、光の透過性能等に優れた成型品を効率良く簡便に提供することにある。更に、優れた光の反射防止効果や優れた光の透過性能を有する光の反射防止効果を有する成型品に要求される表面形状と物性を見出し、かかる特定の表面形状と物性を有する光の反射防止効果を有する成型品を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described background art, and a problem thereof is to efficiently and easily provide a molded product excellent in light reflection prevention effect, light transmission performance, and the like. Furthermore, the surface shape and physical properties required for a molded product having an antireflection effect of light and an antireflection effect of light having excellent light transmission performance are found, and reflection of light having such a specific surface shape and physical properties is found. It is in providing the molded article which has a prevention effect.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、熱可塑性樹脂を用いた加工工程において、同時に表面微細構造を加工成型することにより、光の反射防止効果、光の透過性能等に極めて優れた成型品を、効率良く簡便に得られることを見出し本発明に到達した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has processed and molded the surface microstructure at the same time in a processing step using a thermoplastic resin, thereby preventing light reflection and light transmission performance. The present inventors have found that a molded product that is extremely excellent in the above can be obtained efficiently and simply, and have reached the present invention.

更に、その時に使用される型に関しても、型としてアルミニウムの陽極酸化被膜を用いる場合、アルミニウム材料に圧延加工を施す際に生じる加工応力や加工自体に基づく表面の不均一性、製造過程における環境からの影響、例えば、加工時に混入するダストや汚染物質に起因する表面の不均一性等が、得られた成型品の光の反射防止効果、光の透過性能等に悪影響を及ぼすことを見出した。すなわち、かかるアルミニウム材料から得られた型を転写して得られた成型品は、光の反射防止効果や透過性能の低下をもたらすことを見出した。そして、それを解決するために、アルミニウム材料の表面をあらかじめ加工仕上げすることにより、所望の性能を持った、特に、光の反射防止効果、光の透過性能等に優れた成型品が得られることを見出し本発明に到達した。   Furthermore, with regard to the mold used at that time, when an anodic oxide coating of aluminum is used as the mold, the surface is not uniform due to the processing stress generated when rolling the aluminum material, the processing itself, and the environment in the manufacturing process. It has been found that, for example, surface non-uniformity caused by dust and contaminants mixed during processing adversely affects the light reflection preventing effect and light transmission performance of the obtained molded product. That is, it has been found that a molded product obtained by transferring a mold obtained from such an aluminum material brings about a light antireflection effect and a decrease in transmission performance. In order to solve this problem, it is possible to obtain a molded product with the desired performance, in particular, the antireflection effect of light, the light transmission performance, etc. by finishing the surface of the aluminum material in advance. And reached the present invention.

すなわち、本発明は、表面に微細形状を有する型を用い、該型が表面に有する微細形状を熱可塑性樹脂に熱転写し成型してなる成型品であって、その表面に平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在していることを特徴とする成型品を提供するものである。   That is, the present invention is a molded product obtained by using a mold having a fine shape on the surface and thermally transferring and molding the fine shape of the mold on the surface of the thermoplastic resin, and has an average height of 100 nm to 1000 nm on the surface. A molded product having the following convex portions or concave portions having an average depth of 100 nm to 1000 nm, and the convex portions or concave portions are present at an average period of 50 nm to 400 nm in at least one direction. Is to provide.

本発明によれば、必ずしも膜に限定されていない。成型品の表面に直接微細形状を有するので、基材への貼付等の製造工程を必要とせず、光の反射防止効果、光の透過性能等に極めて優れた成型品を、効率良く簡便に提供することができる。   The present invention is not necessarily limited to a membrane. Because it has a fine shape directly on the surface of the molded product, it does not require a manufacturing process such as sticking to the base material, and provides a molded product that is extremely excellent in light reflection prevention effect, light transmission performance, etc. efficiently and simply can do.

本発明の成型品を製造するための型の一例を示す走査型電子顕微鏡写真(3万倍)である。It is a scanning electron micrograph (30,000 times) which shows an example of the type | mold for manufacturing the molded article of this invention. 本発明の成型品の一例の断面を示す走査型電子顕微鏡写真(4万倍)である。It is a scanning electron micrograph (40,000 times) which shows the cross section of an example of the molded article of this invention. 本発明の成型品の視感度補正後の反射率のスペクトルである。It is the spectrum of the reflectance after the visibility correction | amendment of the molded article of this invention.

[型について]
<1.型の作製方法>
本発明の光の反射防止効果、光の透過性能等に優れた成型品は、表面に微細形状を有する型を用い、その型が表面に有する該微細形状を熱可塑性樹脂に熱転写し成型することによって得られる。表面に微細形状を有する型の種類又は型の作製方法は特に限定はないが、アルミニウム材料の表面の陽極酸化被膜を用いた型;微細切削加工機等を用いダイヤモンドバイト等で機械的に微細形状を形成した型;ニッケル、クロム、銅、金等のめっきに適した金属のめっき物を利用した電気鋳造による型;等が挙げられる。
[About type]
<1. Mold Making Method>
The molded product excellent in the light reflection preventing effect, light transmission performance, etc. of the present invention is obtained by using a mold having a fine shape on the surface and thermally transferring the fine shape on the surface to the thermoplastic resin and molding the mold. Obtained by. There are no particular limitations on the type of mold having a fine shape on the surface or the method of producing the mold, but a die using an anodized film on the surface of an aluminum material; a fine shape mechanically with a diamond cutting tool using a fine cutting machine, etc. A mold formed by electroforming using a metal plating suitable for plating such as nickel, chromium, copper, and gold; and the like.

これらの中でも、特にアルミニウム材料の表面を陽極酸化し、その陽極酸化被膜表面の有する微細なテーパー形状の孔を利用してそれを転写する方法が、型として微細な形状を形成させ易いために好ましい。   Among these, the method of anodizing the surface of an aluminum material and transferring it using a fine tapered hole on the surface of the anodized film is preferable because it is easy to form a fine shape as a mold. .

<2.アルミニウム材料の表面の陽極酸化被膜を用いた型>
ここで、「アルミニウム材料」とは、主成分がアルミニウムである材料であればよく、純アルミニウム(1000系)、アルミニウム合金の何れでもよい。本発明における純アルミニウムとは、純度99.00%以上のアルミニウムであり、好ましくは純度99.50%以上、より好ましくは純度99.85%以上である。アルミニウム合金は特に限定はないが、例えば、Al−Mn系合金(3000系)、Al−Mg系合金(5000系)、Al−Mg−Si系合金(6000系)等が挙げられる。これらの中でも、純アルミニウム(1000系);Mgの添加量が比較的少ないために加工性、耐食性に優れている点、良好な「テーパー形状の細孔」が得られる点で、アルミニウム合金5005;アルミニウム合金5005の改良合金(例えば、日本軽金属製58D5)等が好ましい。
<2. Type using anodized film on the surface of aluminum material>
Here, the “aluminum material” may be a material whose main component is aluminum, and may be pure aluminum (1000 series) or an aluminum alloy. The pure aluminum in the present invention is aluminum having a purity of 99.00% or more, preferably a purity of 99.50% or more, and more preferably a purity of 99.85% or more. The aluminum alloy is not particularly limited, and examples thereof include an Al—Mn alloy (3000 series), an Al—Mg alloy (5000 series), and an Al—Mg—Si alloy (6000 series). Among these, pure aluminum (1000 series); aluminum alloy 5005; in terms of excellent workability and corrosion resistance due to a relatively small amount of Mg added, and good “tapered pores”. An improved alloy of aluminum alloy 5005 (for example, 58D5 made by Nippon Light Metal) or the like is preferable.

アルミニウム材料の種類は特に限定はないが、工業的に圧延されたままのアルミニウム板、押出管、引き抜き管等を用いることが、本発明においてはアルミニウム材料に後述する研摩を行うので、コスト低減や工程簡略化のために好ましい。   The type of aluminum material is not particularly limited, but using an aluminum plate, an extruded tube, a drawn tube, or the like that has been industrially rolled is used in the present invention to polish the aluminum material, which will be described later. This is preferable for simplifying the process.

また、本発明における表面に微細形状を有する型は、アルミニウム材料の表面に、陽極酸化による陽極酸化被膜の形成と、該陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせにより、微細形状を形成させてなる型であることが、光の反射防止効果、光の透過性能等に優れた成型品が得られる点で好ましい。特に好ましくは、表面に微細形状を有する型が、アルミニウム材料の表面を研摩により加工した後、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化による陽極酸化被膜の形成と、該陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせにより、微細形状を形成させてなる型であり、更に好ましくは、機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩により加工した後、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化による陽極酸化被膜の形成と、該陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせにより、微細形状を形成させてなる型である。   Further, the mold having a fine shape on the surface in the present invention is a mold in which a fine shape is formed on the surface of an aluminum material by a combination of the formation of an anodized film by anodization and the etching of the anodized film. It is preferable that a molded product having excellent light reflection preventing effect and light transmission performance can be obtained. Particularly preferably, a mold having a fine shape on the surface is a combination of the formation of an anodized film by anodization on the surface of the aluminum material after the surface of the aluminum material is polished and the etching of the anodized film And, more preferably, after processing by mechanical polishing, chemical polishing and / or electrolytic polishing, forming an anodized film on the surface of the aluminum material by anodic oxidation, and It is a mold in which a fine shape is formed in combination with etching of an anodized film.

<2−1.陽極酸化>
「陽極酸化」とは、酸溶液中で、アルミニウム材料を陽極として電流を流し、水が電気分解して発生する酸素とアルミニウムを反応させ、表面に細孔を有する酸化アルミニウムの被膜を形成させるものである。
<2-1. Anodization>
"Anodic oxidation" is a method in which an electric current is passed in an acid solution using an aluminum material as an anode, and oxygen and aluminum generated by electrolysis of water react to form an aluminum oxide film having pores on the surface. It is.

電解液としては、酸溶液であれば特に制限はなく、例えば、硫酸系、シュウ酸系、リン酸系又はクロム酸系の何れでもよいが、型としての被膜強度が優れている点、所望の細孔寸法が得られる点でシュウ酸系の電解液が好ましい。   The electrolytic solution is not particularly limited as long as it is an acid solution. For example, any of sulfuric acid-based, oxalic acid-based, phosphoric acid-based, or chromic acid-based electrolyte solution may be used. An oxalic acid-based electrolyte is preferable in that the pore size can be obtained.

陽極酸化の条件は、前記した目的の形状の型ができるものであれば特に限定はないが、電解液としてシュウ酸を用いる場合の条件は以下の通りである。すなわち、濃度は0.01〜0.5Mが好ましく、0.02〜0.3Mがより好ましく、0.03〜0.1Mが特に好ましい。印加電圧は20〜120Vが好ましく、40〜110Vがより好ましく、60〜105Vが特に好ましく、80〜100Vが更に好ましい。液温は0〜50℃が好ましく、1〜30℃がより好ましく、2〜10℃が特に好ましい。1回の処理時間は5〜500秒が好ましく、10〜250秒がより好ましく、15〜200秒が特に好ましく、20〜100秒が更に好ましい。かかる範囲の条件で陽極酸化を行えば、下記するエッチング条件と組み合わせることにより、「微細形状を有する型」が製造できる点で好ましい。なお、他の酸でも上記とほぼ同じ陽極酸化の条件が好ましい。   The conditions for anodizing are not particularly limited as long as the above-described target shape can be obtained, but the conditions for using oxalic acid as the electrolytic solution are as follows. That is, the concentration is preferably 0.01 to 0.5M, more preferably 0.02 to 0.3M, and particularly preferably 0.03 to 0.1M. The applied voltage is preferably 20 to 120V, more preferably 40 to 110V, particularly preferably 60 to 105V, and still more preferably 80 to 100V. The liquid temperature is preferably 0 to 50 ° C, more preferably 1 to 30 ° C, and particularly preferably 2 to 10 ° C. The treatment time for one time is preferably 5 to 500 seconds, more preferably 10 to 250 seconds, particularly preferably 15 to 200 seconds, and further preferably 20 to 100 seconds. Anodizing under such conditions is preferable in that a “mold having a fine shape” can be produced by combining with the etching conditions described below. For other acids, the same anodic oxidation conditions as described above are preferable.

電圧が大き過ぎる場合には、形成される細孔の平均間隔が大き過ぎるようになり、この型を熱可塑性樹脂に熱転写させることによって、得られた成型品の表面に形成された凸部又は凹部の平均周期が大きくなり過ぎる場合がある。一方、電圧が小さ過ぎる場合には、細孔の平均間隔が小さ過ぎるようになり、この型を熱可塑性樹脂に熱転写させることによって、得られた成型品の表面に形成された凸部又は凹部の平均周期が小さくなり過ぎる場合がある。本発明の成型品は、その表面に存在する凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在することが必須であるので、電圧はこの範囲に入るように調整されるのが好ましい。   When the voltage is too large, the average interval between the formed pores becomes too large, and the mold is thermally transferred to the thermoplastic resin, thereby forming the projections or depressions formed on the surface of the obtained molded product. The average period of may become too large. On the other hand, when the voltage is too small, the average interval between the pores becomes too small, and by transferring the mold to the thermoplastic resin, the convex or concave portions formed on the surface of the obtained molded product The average period may become too small. In the molded product of the present invention, it is essential that convex portions or concave portions existing on the surface thereof exist at an average period of 50 nm or more and 400 nm or less in at least one direction, so that the voltage is adjusted to fall within this range. Preferably it is done.

処理時間が長過ぎる場合は、成型品の凹凸部の高さが高くなり過ぎる場合があり、短過ぎる場合は、成型品の凹凸部の高さが低くなりすぎ、期待する反射防止効果が低下する場合がある。また、陽極酸化と後述するエッチングを交互に繰り返すことが好ましい。   If the treatment time is too long, the height of the concavo-convex part of the molded product may be too high, and if it is too short, the height of the concavo-convex part of the molded product becomes too low, and the expected antireflection effect decreases. There is a case. Moreover, it is preferable to repeat anodization and the etching mentioned later alternately.

<2−2.エッチング>
エッチングは主に陽極酸化被膜の孔径拡大と所望の形状の型を得るために行われる。上記の陽極酸化とエッチングとを組み合わせることで、アルミニウム材料表面上の陽極酸化被膜に形成された、テーパー形状を形成する細孔の孔径、該テーパー形状、細孔の凹凸部の高さ及び深さ等を調整することができる。
<2-2. Etching>
Etching is mainly performed in order to obtain a mold having a desired shape and an enlarged pore diameter of the anodic oxide coating. By combining the anodization and etching described above, the pore diameter of the pores forming the tapered shape formed on the anodized film on the surface of the aluminum material, the height and depth of the irregularities of the taper shape Etc. can be adjusted.

エッチングの方法は通常知られている方法であれば特に制限なく用いることができる。例えば、エッチング液としては、リン酸、硝酸、酢酸、硫酸、クロム酸等の酸溶液、又はこれらの混合液を用いることができる。好ましくは、リン酸又は硝酸であり、必要な溶解速度が得られる点、より均一な面が得られる点で、特に好ましくはリン酸である。   The etching method can be used without particular limitation as long as it is a generally known method. For example, as the etching solution, an acid solution such as phosphoric acid, nitric acid, acetic acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixture thereof can be used. Phosphoric acid or nitric acid is preferable, and phosphoric acid is particularly preferable in that a necessary dissolution rate can be obtained and a more uniform surface can be obtained.

エッチング液の濃度や浸漬時間、温度等は、所望の微細形状が得られるように適宜調節すればよいが、リン酸の場合の条件は以下の通りである。すなわち、エッチング溶液の濃度は、1〜20質量%が好ましく、1.2〜10質量%がより好ましく、1.5〜2.5質量%が特に好ましい。液温は、30〜90℃が好ましく、35〜80℃がより好ましく、40〜60℃が特に好ましい。1回の処理時間(浸漬時間)は1〜60分が好ましく、2〜40分がより好ましく、3〜20分が特に好ましく、5〜10分が更に好ましい。かかる範囲の条件でエッチングを行えば、上記した陽極酸化条件との組み合わせで、「微細形状を有する型」が製造できる点で好ましい。なお、他の酸でも上記とほぼ同じ条件が好ましい。   The concentration, immersion time, temperature, and the like of the etching solution may be appropriately adjusted so that a desired fine shape can be obtained. The conditions for phosphoric acid are as follows. That is, the concentration of the etching solution is preferably 1 to 20% by mass, more preferably 1.2 to 10% by mass, and particularly preferably 1.5 to 2.5% by mass. The liquid temperature is preferably 30 to 90 ° C, more preferably 35 to 80 ° C, and particularly preferably 40 to 60 ° C. 1 treatment time (immersion time) is preferably 1 to 60 minutes, more preferably 2 to 40 minutes, particularly preferably 3 to 20 minutes, and further preferably 5 to 10 minutes. Etching under such conditions is preferable in that a “mold having a fine shape” can be produced in combination with the above-described anodizing conditions. Note that the same conditions as described above are preferable for other acids.

上記陽極酸化とエッチングは組み合わせて、「微細形状を形成させてなる型」を得ることができる。「組み合わせる」とは、先に陽極酸化をして交互に処理を繰り返すことをいう。各処理の間には水洗をすることも好ましい。陽極酸化とエッチングの回数は所望の形状が得られるように適宜調節すればよいが、組み合わせの回数として、1〜10回が好ましく、2〜8回がより好ましく、3〜6回が特に好ましい。   The above-mentioned anodization and etching can be combined to obtain a “mold formed with a fine shape”. “Combination” refers to repeating anodization by anodizing first. It is also preferable to wash with water between each treatment. The number of anodic oxidation and etching may be appropriately adjusted so as to obtain a desired shape, but the number of combinations is preferably 1 to 10 times, more preferably 2 to 8 times, and particularly preferably 3 to 6 times.

本発明の成型品において、熱転写させる「微細形状を形成させてなる型」を得る場合、特に好ましい組み合わせは、シュウ酸水溶液で陽極酸化をし、リン酸水溶液でエッチングをすることである。全体の好ましい条件は上記の各好ましい条件の組み合わせである。   In the molded product of the present invention, when obtaining a “mold formed with a fine shape” to be thermally transferred, a particularly preferred combination is anodization with an aqueous oxalic acid solution and etching with an aqueous phosphoric acid solution. The overall preferred conditions are a combination of each of the preferred conditions described above.

<2−3.研磨>
アルミニウム材料の表面を研摩により加工した後、該アルミニウム材料の表面に上記した方法で微細形状を形成させてなる型は、その微細形状を熱可塑性樹脂に熱転写することによって、特に光の透過性能に優れた反射防止膜を提供できる点で好ましい。研摩としては、機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩が好ましい。すなわち、機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩により加工した後、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化による陽極酸化被膜の形成と、該陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせにより、微細形状を形成させてなる型が、型として特に好ましい。
<2-3. Polishing>
A mold in which the surface of an aluminum material is processed by polishing and then a fine shape is formed on the surface of the aluminum material by the above-described method, and the fine shape is thermally transferred to a thermoplastic resin. This is preferable because an excellent antireflection film can be provided. As polishing, mechanical polishing, chemical polishing and / or electrolytic polishing are preferable. That is, after processing by mechanical polishing, chemical polishing and / or electrolytic polishing, a fine shape is formed on the surface of the aluminum material by a combination of formation of an anodized film by anodization and etching of the anodized film. Is particularly preferable as the mold.

上記アルミニウム材料の表面を、機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩により加工する場合には、機械研摩、化学研摩、電解研摩の何れか1つでもよく、又はこれらを任意に組み合わせてもよい。アルミニウム材料の表面を研摩することによって、アルミニウム材料の表面が均一になり、それを加工して得られた表面を型として用いて得られた本発明の成型品は、光の透過性能が著しく向上する。   When the surface of the aluminum material is processed by mechanical polishing, chemical polishing and / or electrolytic polishing, any one of mechanical polishing, chemical polishing and electrolytic polishing may be used, or any combination thereof may be used. By polishing the surface of the aluminum material, the surface of the aluminum material becomes uniform, and the molded product of the present invention obtained by using the surface obtained by processing it as a mold significantly improves the light transmission performance. To do.

研摩によって得られたアルミニウム材料の表面のRa、Ryは、特に限定はないが、研摩によって得られたアルミニウム材料の表面のRaは、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.03μm以下、特に好ましくは0.02μm以下である。また、Ryは、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.5μm以下、特に好ましくは0.35μm以下である。ここで、Ra及びRyは、JIS B0601(1994)により求めた値であり、Raは「算術平均粗さ」であり、Ryは「最大高さ」である。   The surface Ra and Ry of the aluminum material obtained by polishing are not particularly limited, but the surface Ra of the aluminum material obtained by polishing is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.03 μm or less, particularly Preferably it is 0.02 micrometer or less. Ry is preferably 1 μm or less, more preferably 0.5 μm or less, and particularly preferably 0.35 μm or less. Here, Ra and Ry are values obtained according to JIS B0601 (1994), Ra is “arithmetic mean roughness”, and Ry is “maximum height”.

このような、Ra及び/又はRyのときに、本発明の前記効果を奏し易い。特に、本発明の成型品が膜である場合、この研摩によって初めてヘイズが15%以下の反射防止膜が得られる。また、この研摩によって、視感度補正後の反射率を380nm以上780nm以下の全ての波長領域において0.5%以下にできるようになる。   The effect of the present invention is easily achieved when Ra and / or Ry is used. In particular, when the molded article of the present invention is a film, an antireflection film having a haze of 15% or less can be obtained only by this polishing. Further, this polishing makes it possible to reduce the reflectance after the visibility correction to 0.5% or less in all wavelength regions of 380 nm to 780 nm.

得られた成型品の光の透過性能をより向上させる点等から、電解研摩単独、機械研摩単独、電解研摩と化学研摩の組合せ、機械研摩と化学研摩の組合せ、電解研摩と機械研摩の組合せ、電解研摩と機械研摩と化学研摩の組合せが好ましく、その中でも、電解研摩単独又は電解研摩を含んだ組合せがより好ましい。更にその中でも、その前記した効果が大きく、また処理の容易な点で、機械研摩をした後に電解研磨する方法が特に好ましい。以下、各研摩方法について詳細に説明する。   From the point of further improving the light transmission performance of the obtained molded product, electrolytic polishing alone, mechanical polishing alone, a combination of electrolytic polishing and chemical polishing, a combination of mechanical polishing and chemical polishing, a combination of electrolytic polishing and mechanical polishing, A combination of electrolytic polishing, mechanical polishing, and chemical polishing is preferable, and among them, electrolytic polishing alone or a combination including electrolytic polishing is more preferable. Among them, the method of performing electropolishing after mechanical polishing is particularly preferable because of its large effect and easy processing. Hereinafter, each polishing method will be described in detail.

<2−3−1.機械研摩>
機械研摩としては、特に制限はなく常法に従って行えばよいが、具体的には例えば、バフ研摩法、グラインダーバフ研摩法、リューター研摩法、ベルトサンダー研摩法、ブラッシ研摩法、スチールウール研摩法、サンドブラスト研摩法、液体ホーニング研摩法、型付け研摩法、旋盤研摩法、バレル研摩法、ラッピング研摩法等が挙げられ、これらを単独で用いてもよく、任意に組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、当該用途のアルミニウム材表面を効率良く加工でき、且つ、研摩面が優れ、結果として得られた成型品の光の透過性能を向上させる点で、バフ研摩法、旋盤研摩法、ラッピング研摩法かつバフ研摩法等が好ましく、片面平面バフ、ボールバフ、バイアスバフ等のバフ研摩法;精密旋盤研摩法;が特に好ましい。
<2-3-1. Mechanical polishing>
The mechanical polishing is not particularly limited and may be performed according to a conventional method. Specifically, for example, a buff polishing method, a grinder buff polishing method, a leuter polishing method, a belt sander polishing method, a brush polishing method, a steel wool polishing method, Examples thereof include a sand blast polishing method, a liquid honing polishing method, a molding polishing method, a lathe polishing method, a barrel polishing method, and a lapping polishing method, and these may be used alone or in any combination. Among these, the buff polishing method, lathe polishing method, wrapping are effective in that the surface of the aluminum material for the application can be efficiently processed, the polished surface is excellent, and the light transmission performance of the resulting molded product is improved. A polishing method and a buff polishing method are preferable, and a buff polishing method such as a single-sided flat buff, a ball buff, and a bias buff; a precision lathe polishing method is particularly preferable.

用いる研摩材は、特に制限はなく、通常使用されている研摩材を用いればよい。具体的には、例えば、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、炭化ケイ素、コランダム、酸化セリウム等、用いる研摩法や目的の形状に合わせて適宜選択すればよい。これらの最適化により、得られた成型品の光の透過性能を向上させることが可能となる。アルミニウム材料の表面をより均一にする点で、アルミニウム材との相性の良いコランダム(アルミナ系)を研摩材として用いたバフ研摩法、コロイダルシリカを研摩材として用いたボールバフ、無水ケイ酸系の油脂研摩材として用いたバイアスバフ、ダイヤモンドバイトを用いた精密旋盤研摩法が好ましい。   There is no restriction | limiting in particular in the abrasive used, What is necessary is just to use the abrasive normally used. Specifically, for example, diamond, cubic boron nitride, silicon carbide, corundum, cerium oxide, and the like may be appropriately selected according to the polishing method used and the target shape. By these optimizations, it is possible to improve the light transmission performance of the obtained molded product. Buffing method using corundum (alumina), which has good compatibility with aluminum materials, as a polishing material, ball buff using colloidal silica as polishing material, silicic anhydride A precision lathe polishing method using a bias buff used as an abrasive or a diamond tool is preferred.

ラッピングにおいては、必要に応じて研削液を用いるが、通常知られている水溶性、油溶性の研削液を用いればよい。スクラッチ等の傷が入りにくい、クーラント液として浸透性が良い、加工抵抗が低い、アルミニウム表面への影響を低減できる、洗浄が簡易である等の点で、水溶性研削液が好ましい。   In lapping, a grinding fluid is used as necessary, but a commonly known water-soluble or oil-soluble grinding fluid may be used. A water-soluble grinding liquid is preferable in that scratches such as scratches are difficult to enter, permeability as a coolant liquid is good, processing resistance is low, influence on the aluminum surface can be reduced, and cleaning is simple.

機械研摩の後、アルミニウム材料の表面に付着した研摩材を取り除く為に、スクラブ洗浄をするのが好ましい。アルミニウム材料の表面を傷つけない方法であれば特に制限はない。洗浄工程で用いる装置としては、具体的には、例えば、超音波洗浄機、ブラシスクラブ洗浄機、純水スピン洗浄乾燥機、RCA洗浄機、機能水洗浄機等が挙げられる。   After the mechanical polishing, scrub cleaning is preferably performed to remove the polishing material adhering to the surface of the aluminum material. There is no particular limitation as long as the method does not damage the surface of the aluminum material. Specific examples of the apparatus used in the cleaning process include an ultrasonic cleaner, a brush scrub cleaner, a pure water spin cleaning dryer, an RCA cleaner, and a functional water cleaner.

<2−3−2.化学研摩>
本発明における化学研摩とは、研摩液を作用させて化学反応を起こさせることでアルミニウム材料の表面を研摩する方法であり、特に制限はなく常法に従って行えばよい。具体的には、例えば、リン酸−硝酸法、Kaiser法、Alupol I、IV、V法、General Motor法、リン酸−酢酸−銅塩法、リン酸−硝酸−酢酸法、Alcoa R5法等が挙げられる。用いる化学研摩法に応じて、研摩液、温度、時間等を適宜選択することによって、得られた成型品の光の透過性能を向上させることが可能となる。これらの中でも、浴管理、実績、研摩面の仕上がり等の点で、リン酸−硝酸法、リン酸−酢酸−銅塩法が好ましい。
<2-3-2. Chemical polishing>
The chemical polishing in the present invention is a method of polishing the surface of an aluminum material by causing a chemical reaction by causing a polishing liquid to act, and is not particularly limited, and may be performed according to a conventional method. Specifically, for example, phosphoric acid-nitric acid method, Kaiser method, Alupol I, IV, V method, General Motor method, phosphoric acid-acetic acid-copper salt method, phosphoric acid-nitric acid-acetic acid method, Alcoa R5 method, etc. Can be mentioned. By appropriately selecting the polishing liquid, temperature, time, and the like according to the chemical polishing method to be used, it is possible to improve the light transmission performance of the obtained molded product. Among these, the phosphoric acid-nitric acid method and the phosphoric acid-acetic acid-copper salt method are preferable in terms of bath management, results, and polished surface finish.

リン酸−硝酸法における好ましい処理温度は、70℃〜120℃、より好ましくは80℃〜100℃であり、好ましい研摩時間は30秒〜20分、更に好ましくは1分〜15分である。また用いる研摩液の組成は、40〜80体積%リン酸、2〜10体積%硝酸、残量水の混合液である。   A preferable treatment temperature in the phosphoric acid-nitric acid method is 70 ° C. to 120 ° C., more preferably 80 ° C. to 100 ° C., and a preferable polishing time is 30 seconds to 20 minutes, and further preferably 1 minute to 15 minutes. The composition of the polishing liquid used is a mixture of 40 to 80% by volume phosphoric acid, 2 to 10% by volume nitric acid, and remaining water.

<2−3−3.電解研摩>
本発明における電解研摩とは、電解液中で電解によってアルミニウムの表面を研摩するものであり、特に限定はなく常法に従って行うことができる。酸性溶液等の水分が少ないためにアルミニウム材料が溶解しにくい状態になっている溶液の中で、アルミニウムを陽極として直流電流を通じることによって、表面を研摩する。具体的には例えば、Kaiser法、リン酸法、Erftwerk法、Aluflex法等が挙げられる。用いる電解液、電流値、処理温度、時間等によって、研摩された表面は異なり、これらを適宜選択することによって、得られた成型品の光の透過性能を向上させることが可能となる。
<2-3-3. Electrolytic polishing>
The electrolytic polishing in the present invention is for polishing the surface of aluminum by electrolysis in an electrolytic solution, and is not particularly limited and can be performed according to a conventional method. The surface is polished by passing a direct current with aluminum as an anode in a solution in which the aluminum material is difficult to dissolve due to low water content such as an acidic solution. Specific examples include a Kaiser method, a phosphoric acid method, an Erftwerk method, and an Aluflex method. The polished surface differs depending on the electrolytic solution used, current value, treatment temperature, time, and the like, and the light transmission performance of the obtained molded product can be improved by appropriately selecting these.

これらの中でも、リン酸法、リン酸−硫酸法が一般的であり、浴管理、仕上がり、得られる表面特性の点で好ましい。好ましいリン酸法の電解条件としては、温度は通常40℃〜90℃、好ましくは50℃〜80℃であり、電流密度は、20〜80A/dmが好ましく、30〜60A/dmがより好ましい。また用いる電解液としては、85〜100体積%リン酸が好ましい。また、電解研摩処理後に、酸化膜を除去するために、硝酸浴中に浸漬してもよい。 Among these, the phosphoric acid method and the phosphoric acid-sulfuric acid method are general, and are preferable in terms of bath management, finishing, and obtained surface characteristics. The electrolysis conditions preferred phosphoric acid method, the temperature is usually 40 ° C. to 90 ° C., preferably from 50 ° C. to 80 ° C., the current density is preferably 20~80A / dm 2, 30~60A / dm 2 Gayori preferable. Moreover, as an electrolyte solution to be used, 85-100 volume% phosphoric acid is preferable. Moreover, in order to remove an oxide film after an electrolytic polishing process, you may immerse in a nitric acid bath.

<2−4.脱脂処理>
上記した、機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩をする前には、必要に応じて脱脂処理を行うことも好ましい。脱脂処理方法としては、例えば、有機溶剤法、界面活性剤法、硫酸法、電解脱脂法、アルカリ脱脂法、乳化脱脂法、リン酸塩法等が挙げられる。アルミニウム材表面を必要以上に荒らさない点から、非侵食性の脱脂処理を行うことが好ましい。
<2-4. Degreasing treatment>
It is also preferable to perform a degreasing treatment as necessary before the mechanical polishing, chemical polishing and / or electrolytic polishing described above. Examples of the degreasing method include an organic solvent method, a surfactant method, a sulfuric acid method, an electrolytic degreasing method, an alkaline degreasing method, an emulsifying degreasing method, and a phosphate method. It is preferable to perform non-erodible degreasing treatment from the viewpoint of not roughening the surface of the aluminum material more than necessary.

<3.微細切削加工機等を用いて機械的に微細形状を形成した型>
機械的に微細形状を形成する方法としては、例えば、高精度の微細切削加工機と、表面算術平均粗さ(Ra)が極めて小さいダイヤモンドバイトとを用い、管理された恒温室内で、型を形成するための型基板に、凹凸形状、凹形状又は凸形状を加工する方法が好ましい。
<3. Die with mechanically formed fine shape using a fine cutting machine>
As a method for mechanically forming a fine shape, for example, a mold is formed in a controlled temperature-controlled room using a high-precision fine cutting machine and a diamond bit with extremely small surface arithmetic average roughness (Ra). A method of processing a concavo-convex shape, a concave shape, or a convex shape is preferable for the mold substrate.

高精度の微細切削加工機を用いることにより、型基板表面への三次元加工を、高い精度で行うことができる。微細切削加工機のX、Y、Z移動軸の精度は、10nm以下が好ましく、特に好ましくは1nm以下である。型基板に対する、凹凸形状、凹形状又は凸形状の加工に用いるダイヤモンドバイトは、単結晶ダイヤモンドバイトでも焼結ダイヤモンドバイトでもよいが単結晶ダイヤモンドバイトが好ましい。   By using a high-precision fine cutting machine, three-dimensional processing on the mold substrate surface can be performed with high accuracy. The precision of the X, Y, and Z movement axes of the fine cutting machine is preferably 10 nm or less, and particularly preferably 1 nm or less. The diamond tool used for processing the concavo-convex shape, the concave shape or the convex shape on the mold substrate may be a single crystal diamond tool or a sintered diamond tool, but a single crystal diamond tool is preferable.

[成型品について]
本発明の成型品には「膜」も含まれるが、本発明の成型品が、熱可塑性樹脂に熱転写し成型して作製される長所を生かすために、膜状であるよりも肉厚品の方が好ましい。ここで、「膜」とは厚さ0.1mm以下のものをいう。反射防止膜を貼り付けるのではなく、直接成型品表面に微細形状を転写した方が、工程が少なくなる点、反射防止効果が確実に得られる点等から好ましい。
[About molded products]
“Membrane” is also included in the molded product of the present invention, but in order to take advantage of the advantage that the molded product of the present invention is produced by thermal transfer and molding to a thermoplastic resin, it is thicker than a film. Is preferred. Here, the “film” means a film having a thickness of 0.1 mm or less. Rather than sticking an antireflection film, it is preferable to transfer the fine shape directly to the surface of the molded product from the viewpoint that the number of steps is reduced and the antireflection effect is surely obtained.

<1.成型品の表面微細形状>
また、本発明の成型品は、その表面に、平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在していることが必須である。ここで凸部とは、基準となる面より出っ張った部分をいい、凹部とは、基準となる面より凹んだ部分をいう。本発明の成型品は、その表面に凸部を有していても、凹部を有していてもよい。また、凸部と凹部の両方を有していてもよく、更に、それらが連結して波打った構造を有していてもよい。
<1. Surface fine shape of molded product>
In addition, the molded product of the present invention has, on its surface, a convex portion having an average height of 100 nm to 1000 nm or a concave portion having an average depth of 100 nm to 1000 nm, and the convex portion or the concave portion is at least in one direction. On the other hand, it must be present with an average period of 50 nm to 400 nm. Here, the convex portion refers to a portion protruding from the reference surface, and the concave portion refers to a portion recessed from the reference surface. The molded product of the present invention may have a convex portion or a concave portion on the surface thereof. Moreover, you may have both a convex part and a recessed part, Furthermore, you may have the structure where they connected and waved.

本発明の成型品が両面を有する場合、かかる凸部又は凹部は、その両面に有していてもよいが、少なくとも一方の表面に有していることが必須である。中でも、空気と接している最表面に有していることが好ましい。空気は本発明の成型品とは屈折率が大きく異なり、互いに屈折率の異なる物質の界面が、本発明の特定の構造になっていることによって、反射防止性能や透過改良性能が良好に発揮されるからである。   When the molded product of the present invention has both sides, such a convex part or concave part may be provided on both sides, but it is essential that it is provided on at least one surface. Especially, it is preferable to have on the outermost surface in contact with air. Air has a refractive index significantly different from that of the molded product of the present invention, and the interface of substances having different refractive indexes has the specific structure of the present invention, so that antireflection performance and transmission improvement performance are exhibited well. This is because that.

凸部又は凹部は、成型品の表面全体に均一に存在していることが、上記効果を奏するために好ましい。凸部の場合には、基準となる面からのその平均高さが、100nm以上1000nm以下であることが必須である。凹部の場合にも、基準となる面からのその平均深さが、100nm以上1000nm以下であることが必須である。高さ又は深さは一定でなくてもよく、その平均値が上記範囲に入っていればよいが、実質的にほぼ一定の高さ又は一定の深さを有していることが好ましい。   It is preferable that the convex portions or the concave portions are present uniformly over the entire surface of the molded product in order to achieve the above effects. In the case of the convex portion, it is essential that the average height from the reference surface is 100 nm or more and 1000 nm or less. Also in the case of the concave portion, it is essential that the average depth from the reference surface is 100 nm or more and 1000 nm or less. The height or depth may not be constant, and the average value may be within the above range, but it is preferable that the height or depth has a substantially constant height or a constant depth.

凸部の場合でも、凹部の場合でも、その平均高さ又は平均深さは、150nm以上であることが好ましく、200nm以上であることが特に好ましい。また、600nm以下であることが好ましく、500nm以下であることが特に好ましい。平均高さ又は平均深さが、小さ過ぎると、良好な光学特性が発現されない場合があり、大き過ぎると、製造が困難になる等の場合がある。凸部と凹部が連結して波打った構造を有している場合では、最高部(凸部の上)と最深部(凹部の下)の平均長さは、100nm以上1000nm以下であることが同様の理由から好ましい。   Whether it is a convex portion or a concave portion, the average height or average depth is preferably 150 nm or more, and particularly preferably 200 nm or more. Moreover, it is preferable that it is 600 nm or less, and it is especially preferable that it is 500 nm or less. If the average height or the average depth is too small, good optical characteristics may not be exhibited, and if it is too large, production may be difficult. In the case where the convex part and the concave part are connected and have a wavy structure, the average length of the highest part (above the convex part) and the deepest part (below the concave part) may be 100 nm or more and 1000 nm or less. It is preferable for the same reason.

本発明の成型品は、その表面に、上記凸部又は凹部が、少なくともある一の方向の平均周期が、100nm以上400nm以下となるように配置されていることが必須である。凸部又は凹部は、ランダムに配置されていてもよいし、規則性を持って配置されていてもよい。また、何れの場合でも、上記凸部又は凹部は、成型品の表面全体に実質的に均一に配置されていることが反射防止性や透過改良性の点で好ましい。また、少なくとも、ある一の方向について、平均周期が、50nm以上400nm以下となるように配置されていればよく、全ての方向に、その平均周期が50nm以上400nm以下となっている必要はない。   In the molded product of the present invention, it is essential that the convex portion or the concave portion is arranged on the surface so that the average period in at least one direction is not less than 100 nm and not more than 400 nm. The convex part or the concave part may be arranged at random or may be arranged with regularity. In any case, it is preferable in terms of antireflection properties and transmission improvement properties that the convex portions or the concave portions are disposed substantially uniformly over the entire surface of the molded product. Further, it is only necessary that the average period be at least 50 nm to 400 nm in one direction, and the average period does not have to be 50 nm to 400 nm in all directions.

凸部又は凹部が、規則性を持って配置されている場合、上記のように、少なくともある一の方向の平均周期が、50nm以上400nm以下となるように配置されていればよいが、最も周期が短い方向(以下「x軸方向」という)への周期が、50nm以上400nm以下となるように配置されていることが好ましい。すなわち、ある一の方向として、最も周期が短い方向をとったときに、周期が上記範囲内になっていることが好ましい。更にその際、x軸方向に垂直なy軸方向についても、その周期が50nm以上400nm以下となるように配置されていることが特に好ましい。   When the convex part or the concave part is arranged with regularity, it is sufficient that the average period in at least one direction is 50 nm or more and 400 nm or less as described above. Are preferably arranged such that the period in the short direction (hereinafter referred to as “x-axis direction”) is 50 nm or more and 400 nm or less. That is, it is preferable that the period is in the above range when the direction having the shortest period is taken as one direction. Further, at that time, it is particularly preferable that the period of the y-axis direction perpendicular to the x-axis direction is also set to be 50 nm or more and 400 nm or less.

上記平均周期(凸部又は凹部の配置場所に規則性がある場合は「周期」)は、80nm以上が好ましく、150nm以上が特に好ましい。また、250nm以下が好ましく、200nm以下が特に好ましい。平均周期が短すぎても長すぎても、本発明の成型品が充分に得られない場合がある。   The average period (“period” when there is regularity in the location of the convex part or the concave part) is preferably 80 nm or more, and particularly preferably 150 nm or more. Moreover, 250 nm or less is preferable and 200 nm or less is especially preferable. If the average period is too short or too long, the molded product of the present invention may not be sufficiently obtained.

本発明の成型品は、表面に上記構造を有することが必須であるが、更に、一般に「モスアイ構造(蛾の眼構造)」と呼ばれる構造を有していることが、良好な反射防止性能を有している点で好ましい。   The molded product of the present invention must have the above-mentioned structure on the surface, but further, it has a structure generally called “moth eye structure” to provide good antireflection performance. It is preferable at having it.

高さ又は深さを平均周期で割った値であるアスペクト比は特に限定はないが、1以上が光学特性の点で好ましく、1.5以上が特に好ましく、2以上が更に好ましい。また、5以下が製造プロセス上好ましく、表面の機械的強度の点で3以下が特に好ましい。   The aspect ratio, which is a value obtained by dividing the height or depth by the average period, is not particularly limited, but is preferably 1 or more in terms of optical properties, particularly preferably 1.5 or more, and more preferably 2 or more. Moreover, 5 or less is preferable on a manufacturing process, and 3 or less is especially preferable at the point of the mechanical strength of a surface.

本発明の成型品は、表面に上記構造を付与することにより、光の反射率を低減させたり、光の透過性を向上させたりするが、更に、型に微細形状を形成する前に、型となる材料に対して前述の研摩を行うことによって、光反射防止効果や光の透過性能を更に向上させることが可能となる。この場合の「光」は、少なくとも可視光領域の波長の光を含む光である。   The molded product of the present invention reduces the light reflectivity or improves the light transmittance by imparting the above structure to the surface, but before forming a fine shape on the mold, By performing the above-described polishing on the material to be obtained, it is possible to further improve the light reflection preventing effect and the light transmission performance. The “light” in this case is light including at least light having a wavelength in the visible light region.

<2.成型品の物性>
本発明によれば、光の反射防止効果、光の透過性能等に極めて優れた成型品を提供することができる。
<2. Physical properties of molded products>
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the molded article which was extremely excellent in the antireflection effect of light, the light transmission performance, etc. can be provided.

<2−1.成型品の反射率>
本発明の成型品は、表面に上記凹凸部の形状を有することにより、光の反射率を低減させたり、光の透過性を向上させたりする。この場合の「光」は、少なくとも可視光領域の波長の光を含む光である。本発明の成型品は、上記凹凸部の形状を有することが必須であり、視感度補正後の反射率が380nm以上780nm以下の全ての波長領域において、0.5%以下であることが好ましい。より好ましくは0.4%以下であり、特に好ましくは0.3%以下、更に好ましくは0.1%以下である。本発明の成型品では、上記値を達成することが可能である。
<2-1. Reflectance of molded products>
The molded product of the present invention has the shape of the uneven portion on the surface, thereby reducing the light reflectivity or improving the light transmittance. The “light” in this case is light including at least light having a wavelength in the visible light region. The molded product of the present invention must have the shape of the uneven portion, and the reflectance after the visibility correction is preferably 0.5% or less in all wavelength regions of 380 nm to 780 nm. More preferably, it is 0.4% or less, Especially preferably, it is 0.3% or less, More preferably, it is 0.1% or less. In the molded product of the present invention, the above values can be achieved.

ここで、「反射率」とは正反射率をいい、反射光の強度の入射光の強度に対する比をいう。具体的には、汎用の分光光度計を用いて測定される5°正反射率が用いられる。「表面の反射率」とは、外部から成型品に光が入射したときの表面での反射率と、成型品の内部から外部に光が入射したときの表面での反射率の何れをもいう。すなわち、その何れにおいても、上記反射率を有するものが好ましい。   Here, “reflectance” refers to regular reflectance and refers to the ratio of the intensity of reflected light to the intensity of incident light. Specifically, a 5 ° regular reflectance measured using a general-purpose spectrophotometer is used. "Surface reflectance" refers to both the reflectance at the surface when light enters the molded product from the outside and the reflectance at the surface when light enters from the inside of the molded product to the outside. . That is, in any of these, those having the above reflectance are preferable.

「視感度補正後の反射率」とは、人間の目が明るく感じる波長について重み付け補正した後の反射率のことをいい、光量計に通常の視感度補正フィルターをつけて、光量を人間の目の感度(標準比視感度曲線)に合わせて補正することにより得られる。具体的には、測定された分光反射率をCIE1931に示された方法で、等色関数と標準イルミナントを使用して、数値計算により求められる。なお、通常のガラスや透明合成樹脂の平滑な表面の場合、視感度補正後の反射率は380nm以上780nm以下の波長領域において約4%である。本発明では、「視感度補正後の反射率」を単に「反射率」ということがある。   “Reflectance after visibility correction” refers to the reflectance after weight correction for the wavelength at which the human eye feels bright, and a normal visibility correction filter is attached to the light meter to adjust the light intensity to the human eye. It is obtained by correcting in accordance with the sensitivity (standard relative luminous sensitivity curve). Specifically, the measured spectral reflectance is obtained by numerical calculation using a color matching function and a standard illuminant by the method shown in CIE1931. In the case of a smooth surface of normal glass or transparent synthetic resin, the reflectance after the visibility correction is about 4% in the wavelength region of 380 nm to 780 nm. In the present invention, the “reflectance after visibility correction” may be simply referred to as “reflectance”.

<2−2.成型品のヘイズ>
本発明の成型品は、更に好ましくはヘイズ15%以下である。ヘイズは全光透過率に対する拡散透過率の百分率であり、本発明におけるヘイズはヘイズメーター「HGM−2DP(スガ試験機社製)」を用いて、JIS K7361に準拠して可視光線のヘイズ測定したものとして定義される。ヘイズが大き過ぎると、FPDの視認性確保が不十分になる場合がある。型となるアルミニウム材料の表面を研摩することによって、それを用いて得られた成型品は、ヘイズを15%以下にすることが可能であり、光の透過性能が著しく向上する。特に、陽極酸化に先立つ前述した研摩を加えることによって初めてヘイズが15%以下の成型品が得られるようになった。ヘイズは15%以下が好ましく、より好ましくは12%以下、特に好ましくは8%以下、更に好ましくは5%以下である。本発明の成型品では、上記値を達成することが可能である。なお、ヘイズ測定においては、成型品の厚さは影響しないが、上記値は厚さ1mmの成型品の表面に、前記した微細形状を形成させて測定した値である。
<2-2. Molded haze>
More preferably, the molded product of the present invention has a haze of 15% or less. The haze is a percentage of the diffuse transmittance relative to the total light transmittance, and the haze in the present invention was measured using a haze meter “HGM-2DP (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.)” according to JIS K7361. Defined as a thing. If the haze is too large, the FPD visibility may be insufficient. By polishing the surface of the aluminum material to be a mold, a molded product obtained by using it can have a haze of 15% or less, and the light transmission performance is remarkably improved. In particular, a molded product having a haze of 15% or less can be obtained only by applying the above-described polishing prior to anodic oxidation. The haze is preferably 15% or less, more preferably 12% or less, particularly preferably 8% or less, and further preferably 5% or less. In the molded product of the present invention, the above values can be achieved. In the haze measurement, the thickness of the molded product is not affected, but the above value is a value measured by forming the fine shape described above on the surface of the molded product having a thickness of 1 mm.

<3.成型品の材料・作製方法>
本発明の成型品は、前記の型と成型品材料を用いて作製される。本発明の成型品は、その表面に平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は凹部を有し、それが少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在するという極めて微細な表面構造を有している。かかる微細構造は、型から熱可塑性樹脂を熱転写により精度よく転写できる。
<3. Molded Material / Production Method>
The molded product of the present invention is produced using the mold and the molded product material. The molded product of the present invention has a very fine surface structure in which the surface has convex portions or concave portions having an average height of 100 nm or more and 1000 nm or less, and exists at an average period of 50 nm or more and 400 nm or less in at least one direction. have. Such a fine structure can accurately transfer a thermoplastic resin from a mold by thermal transfer.

<3−1.成型品の形成材料>
一般に型の微細形状が転写される材料としては、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等があるが、本発明の成型品の材料(型の微細形状が転写される材料)としては、熱可塑性樹脂であることが必須である。熱可塑性樹脂であることによって、樹脂の物性や種類の幅を広げることができ、成型品の用途に応じた物性を得ることができる。例えば、吸湿性を低くできるので寸法安定性に優れ成型品に反りが生じない、比重を調整できるので成型品を軽量化できる等が挙げられる。また、硬化工程が不要であるため、工程も簡略化できコスト的にも有利である等という効果もある。
<3-1. Molding material>
In general, the material to which the fine shape of the mold is transferred includes a thermosetting resin, a photocurable resin, an electron beam curable resin, a thermoplastic resin, and the like. It is essential that the material to be transferred is a thermoplastic resin. By being a thermoplastic resin, the physical properties and types of the resin can be widened, and the physical properties according to the use of the molded product can be obtained. For example, the hygroscopicity can be lowered, the dimensional stability is excellent, the molded product is not warped, the specific gravity can be adjusted, and the molded product can be reduced in weight. In addition, since the curing step is unnecessary, there is an effect that the step can be simplified and advantageous in terms of cost.

硬化性樹脂では、硬化前の粘度は一般に低いので、型の表面に存在する微細形状中に容易に入り込み易いようにも思われるが、本発明の成型品にあっては、その点に関して熱可塑性樹脂が問題なく使用できる。特に、後述する好ましい成型方法や特に好ましい成型方法を用いれば、より問題なく使用できる。   In curable resins, the viscosity before curing is generally low, so it seems that it easily penetrates into the fine shape existing on the surface of the mold, but the molded product of the present invention is thermoplastic in that respect. Resin can be used without problems. In particular, if a preferable molding method described below or a particularly preferable molding method is used, it can be used without any problem.

<3−1−1.熱可塑性樹脂>
熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度以上又は融点以上まで加熱することによって軟らかくなるものであれば特に制限はないが、例えば、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン系樹脂、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン系樹脂、スチレン−(メタ)アクリレート系樹脂、ブダジエン−スチレン系樹脂等のスチレン系樹脂;塩化ビニル系樹脂、エチレン−塩化ビニル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂、プロピレン系樹脂、プロピレン−塩化ビニル系樹脂、プロピレン−酢酸ビニル系樹脂、塩素化ポリエチレン系樹脂、塩素化ポリプロピレン系樹脂、フッ素化ポリエチレン系樹脂、フッ素化ポリプロピレン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂;ケトン系樹脂;ポリアセタール系樹脂;ポリエステル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;ポリアミド系樹脂;アクリレート系樹脂等が挙げられる。
<3-1-1. Thermoplastic resin>
The thermoplastic resin is not particularly limited as long as it becomes soft by heating to a glass transition temperature or higher or a melting point or higher. For example, polystyrene, acrylonitrile-styrene resin, acrylonitrile-chlorinated polyethylene-styrene resin, Styrene resins such as styrene- (meth) acrylate resins and butadiene-styrene resins; vinyl chloride resins, ethylene-vinyl chloride resins, ethylene-vinyl acetate resins, propylene resins, propylene-vinyl chloride resins, Polyolefin resins such as propylene-vinyl acetate resin, chlorinated polyethylene resin, chlorinated polypropylene resin, fluorinated polyethylene resin, and fluorinated polypropylene resin; ketone resins; polyacetal resins; polyester resins; Over preparative resin; polyamide resin; acrylate resins.

また、熱可塑性樹脂には、更に、他のポリマー、有機・無機の微粒子、着色染料、着色顔料、体質顔料、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、消泡剤、離型剤、滑剤、潤滑剤、レベリング剤、難燃剤、導電剤、界面活性剤等を配合することもできる。これらは、従来公知のものの中から適宜選択して用いることができる。   In addition, thermoplastic resins include other polymers, organic / inorganic fine particles, colored dyes, colored pigments, extender pigments, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, antifoaming agents, release agents, lubricants. Further, a lubricant, a leveling agent, a flame retardant, a conductive agent, a surfactant and the like can be blended. These can be appropriately selected from conventionally known ones.

<3−2.成型品の作製方法>
本発明の成型品は、上記型が表面に有する微細形状を熱可塑性樹脂に熱転写し成型してなる。微細形状を熱可塑性樹脂に熱転写し成型する方法は、成型品が上記表面構造を有するようになれば特に制限はないが、熱可塑性樹脂を軟化する温度まで加熱し、上記型の表面に有する微細形状を転写し成型する方法が好ましい。本発明の前記優れた効果が得られる点で、射出成型、真空成型、圧空成型又はホットプレス成型が好ましい。これらの中でも、大量生産が可能な点で射出成型がより好ましい。
<3-2. Molded product manufacturing method>
The molded product of the present invention is formed by thermally transferring the fine shape of the mold on the surface to a thermoplastic resin. The method of thermally transferring the fine shape to the thermoplastic resin and molding is not particularly limited as long as the molded product has the surface structure described above, but the fine shape is heated on the surface of the mold by heating to a temperature at which the thermoplastic resin is softened. A method of transferring and molding the shape is preferred. In view of obtaining the excellent effect of the present invention, injection molding, vacuum molding, pressure molding or hot press molding is preferable. Among these, injection molding is more preferable because mass production is possible.

<3−2−1.射出成型>
射出成型は、射出成型機を用いて上記した型に、軟化してある程度の低粘度になるまで加熱した熱可塑性樹脂を、射出圧を加えて押し込んで型に充填して成型する方法であり、加熱して溶融した熱可塑性樹脂を金型に入れて固化させるものである。
<3-2-1. Injection molding>
Injection molding is a method in which an injection molding machine is used to mold the above-mentioned mold, which is heated and softened until it becomes a certain low viscosity, filled with injection pressure and filled into the mold, A thermoplastic resin heated and melted is placed in a mold and solidified.

本発明に用いられる射出成型装置は特に限定はなく、一般の射出成型装置を用いることができる。可動側型板と固定側型板を有し、可動側型板と固定側型板からなる一対の金型の間には、キャビティが形成されており、該キャビティ内の可動側型板側及び/又は固定側型板の内面に、上記した表面に微細形状を有する型が設けられている射出成型装置が好ましい。更に、キャビティ内に通じるようにノズルを設置し、溶融した熱可塑性樹脂がキャビティ内に供給されるように構成し、更に脱気孔が開けられているものが好ましい。   The injection molding apparatus used in the present invention is not particularly limited, and a general injection molding apparatus can be used. A cavity is formed between a pair of molds having a movable side mold plate and a fixed side mold plate, and the movable side mold plate side in the cavity and An injection molding apparatus in which a mold having a fine shape on the surface is provided on the inner surface of the fixed-side template is preferable. Further, it is preferable that a nozzle is installed so as to communicate with the cavity, and a melted thermoplastic resin is supplied into the cavity, and further, a deaeration hole is formed.

このように構成された射出成型装置のキャビティ内を脱気孔から脱気し、ノズルから溶融した熱可塑性樹脂を射出して充填し、熱可塑性樹脂を行き渡らせ、その後、冷却し、冷却の後、型を開放して成型品を取り出すことにより、本発明の成型品を得ることができる。上記の一連の工程において、キャビティ内は脱気を行なって真空にしておくことが好ましく、脱気は、キャビティ内への熱可塑性樹脂の充填より前に行なっておくことが好ましい。脱気は脱気孔を通じ、真空ポンプを用いて行なう。なお、熱可塑性樹脂を充填することにより、熱可塑性樹脂の分解や反応等によりガスが発生することがあるので、脱気は、充填工程中も続けて行なうことが好ましい。この真空状態は、型の開放直前に開放される。   The inside of the cavity of the injection molding apparatus thus configured is degassed from the deaeration holes, injected and filled with the molten thermoplastic resin from the nozzle, spread over the thermoplastic resin, then cooled, after cooling, The molded product of the present invention can be obtained by opening the mold and taking out the molded product. In the series of steps described above, it is preferable to deaerate the inside of the cavity to make it vacuum, and it is preferable to perform the deaeration before filling the cavity with the thermoplastic resin. Deaeration is performed using a vacuum pump through a deaeration hole. Since filling the thermoplastic resin may generate gas due to decomposition or reaction of the thermoplastic resin, it is preferable to continue degassing during the filling step. This vacuum state is released immediately before the mold is opened.

溶融した熱可塑性樹脂を供給するノズルは1つでも2つ以上でもよい。また、1種類の熱可塑性樹脂を充填しても、2種類以上の熱可塑性樹脂を充填してもよい。一の樹脂を使用して、その樹脂で形成すべき部分を成型して半製品としておき、その半製品を金型内にセットして、他の樹脂を供給して成型するような二色成型法を用いることもできる。   One or two or more nozzles may be used to supply the molten thermoplastic resin. Moreover, even if it fills with 1 type of thermoplastic resins, you may fill with 2 or more types of thermoplastic resins. Two-color molding that uses one resin, molds the part to be formed with that resin, and makes it as a semi-finished product, sets the semi-finished product in a mold, and then molds by supplying other resin The method can also be used.

<3−2−2.真空成型>
本発明における真空成型は、ある程度に軟化するまで加熱した好ましくはシート状の熱可塑性樹脂に上記した型を押し当て、熱可塑性樹脂と型の隙間から空気を抜いて真空状態にして密着させることで成型する方法である。真空成型の成型条件は、用いる熱可塑性樹脂により適宜調整すればよい。また、真空成型に用いる装置も汎用のものを用いることができる。
<3-2-2. Vacuum forming>
In the vacuum molding in the present invention, the above-mentioned mold is pressed against a sheet-like thermoplastic resin heated until it is softened to a certain extent, and air is drawn out from the gap between the thermoplastic resin and the mold to bring it into a vacuum state to be adhered. This is a molding method. The molding conditions for vacuum molding may be appropriately adjusted depending on the thermoplastic resin used. A general-purpose apparatus can also be used for vacuum forming.

予め、シート状の熱可塑性樹脂と型の隙間から十分に空気を抜いて、そこを高い真空状態にしておき、型の表面に存在する微細形状の内部から十分に空気等の気体を除いてから、熱可塑性樹脂を型に密着させることが、微細形状の内部まで熱可塑性樹脂を行き渡らせるために好ましい。その後、冷却し、冷却の後、型を開放して成型品を取り出すことにより、本発明の成型品を得ることができる。   Before removing the gas such as air sufficiently from the inside of the fine shape existing on the surface of the mold, by sufficiently extracting the air from the gap between the sheet-shaped thermoplastic resin and the mold, and then leaving it in a high vacuum state. In order to spread the thermoplastic resin to the inside of the fine shape, it is preferable that the thermoplastic resin is closely attached to the mold. Thereafter, the molded product of the present invention can be obtained by cooling and, after cooling, opening the mold and taking out the molded product.

<3−2−3.圧空成型>
圧空成型は、軟化する温度に加熱した熱可塑性樹脂、好ましくはシート状の熱可塑性樹脂に上記した型を押し当て、熱可塑性樹脂側に圧縮空気を入れて熱可塑性樹脂を型に密着させることで成型する方法である。この場合でも、シート状の熱可塑性樹脂と型の隙間から十分に空気を抜いて、そこを高い真空状態にしておき、熱可塑性樹脂が微細構造の内部まで行き渡るようにすることが好ましい。すなわち、本発明における圧空成型には、真空成型を組み合わせることが好ましい。
<3-2-3. Compressed air molding>
In the pressure molding, the above-mentioned mold is pressed against a thermoplastic resin heated to a softening temperature, preferably a sheet-shaped thermoplastic resin, and compressed air is put on the thermoplastic resin side to bring the thermoplastic resin into close contact with the mold. This is a molding method. Even in this case, it is preferable to sufficiently evacuate the air from the gap between the sheet-like thermoplastic resin and the mold and leave it in a high vacuum state so that the thermoplastic resin reaches the inside of the microstructure. That is, it is preferable to combine the vacuum forming in the present invention with vacuum forming.

真空成型が組み合わされた圧空成型は、真空成型における真空のマイナスの圧力に加え、更に圧縮する圧力が高く得られるため、微細構造以外の部分の成型性が良い点で好ましい。圧空成型の成型条件は、用いる熱可塑性樹脂により適宜調整すればよい。   The pressure forming combined with the vacuum forming is preferable in terms of good moldability of portions other than the fine structure because a high pressure is obtained in addition to the negative vacuum pressure in the vacuum forming. The molding conditions for the pressure molding may be adjusted as appropriate depending on the thermoplastic resin used.

<3−2−4.ホットプレス成型>
本発明におけるホットプレス成型は、熱可塑性樹脂に上記した型を、加熱装置が内蔵されたプレス機を用いて押し当て、加熱圧縮成型する方法である。上記した真空成型、圧空成型等とは並列関係にある成型方法ではなく、上記定義による成型方法である。この場合でも、熱可塑性樹脂と型の隙間から十分に空気を抜いて、そこを真空状態にしておき、熱可塑性樹脂が微細構造の内部まで行き渡るようにすることが好ましい。すなわち、本発明におけるホットプレス成型には、真空成型を組み合わせることが好ましい。
<3-2-4. Hot press molding>
The hot press molding in the present invention is a method in which the above-described mold is pressed against a thermoplastic resin using a press machine with a built-in heating device, and heat compression molding is performed. The above-described vacuum forming, pressure forming, and the like are not forming methods having a parallel relationship but a forming method according to the above definition. Even in this case, it is preferable to sufficiently evacuate the air from the gap between the thermoplastic resin and the mold and leave it in a vacuum state so that the thermoplastic resin reaches the inside of the fine structure. That is, it is preferable to combine the hot press molding in the present invention with vacuum molding.

ホットプレス成型の成型条件は、用いる熱可塑性樹脂により適宜調整すればよく、特に限定はないが、成型時の温度は、熱可塑性樹脂の融点又は軟化点より5〜20℃高い温度が好ましく、5MPa〜20MPaの圧力下が好ましい。   The molding conditions for hot press molding may be appropriately adjusted depending on the thermoplastic resin used, and are not particularly limited. The molding temperature is preferably 5 to 20 ° C. higher than the melting point or softening point of the thermoplastic resin, and 5 MPa. A pressure of ˜20 MPa is preferred.

[作用・原理]
光の反射防止効果、光の透過性能等に優れた成型品を効率良く簡便に提供することができる作用・原理については明らかではなく、また本発明は以下の作用・原理によっては限定されないが、以下のように考えられる。陽極酸化被膜の表面にある形状は、本発明の成型品表面の極めて特殊な形状を得るのに十分なほど微細であるが、かかる微細形状の内部にも、熱転写成型方法によって、熱可塑性樹脂を行き渡らせることができるのは、そこに介在する気体を十分に除けるからであると考えられる。
[Action / Principle]
It is not clear about the action / principle that can efficiently and simply provide a molded product excellent in light reflection prevention effect, light transmission performance, etc., and the present invention is not limited by the following action / principle, It is considered as follows. The shape on the surface of the anodized film is fine enough to obtain a very special shape on the surface of the molded product of the present invention. The thermoplastic resin is also applied to the inside of the fine shape by a thermal transfer molding method. It is thought that the reason why it can be spread is that the gas intervening there can be sufficiently removed.

また、型としてアルミニウム材料の表面の陽極酸化被膜を用いた場合に、本発明の成型体は優れた反射防止効果や光の透過性能を有するが、それは型となるアルミニウム材料の表面を研摩したためと考えられる。従来から、型となるアルミニウム材料の表面は陽極酸化されるので、それに先立って表面を研摩することは必要ないと考えられていた。また、特定の表面構造によって反射が防止でき、ヘイズに関してはそれで十分と考えられていたために、更なる光透過性能を求めることもなかったと考えられる。また、従来は、とりあえず反射防止効果を有する微細構造を作ることにのみ重点が置かれ、ヘイズを極めて低く、具体的には15%以下にしようとするだけの技術水準に材料的にも加工的にも至っておらず、そのため、型の表面を研摩しようとは考えつかなかったものと考えられる。   In addition, when an anodized film on the surface of an aluminum material is used as a mold, the molded body of the present invention has an excellent antireflection effect and light transmission performance, because it is because the surface of the aluminum material that becomes the mold is polished. Conceivable. Conventionally, since the surface of the aluminum material used as a mold is anodized, it has been thought that it is not necessary to polish the surface prior to that. In addition, reflection can be prevented by a specific surface structure, and it was considered that it was sufficient for haze, so it is considered that no further light transmission performance was required. In the past, emphasis was placed only on creating a microstructure with anti-reflection effect for the time being, and the haze was extremely low, specifically to a technical level that only attempted to reduce it to 15% or less. Therefore, it is thought that it was impossible to think of polishing the mold surface.

陽極酸化に先立ってアルミニウム表面を研摩することによってヘイズが15%以下にできる作用・原理については明らかではなく、また本発明は以下の作用・原理によっては限定されないが、以下のように考えられる。すなわち、本発明の成型体の反射防止に効果がある特定の表面の微細形状よりもオーダー的に大きいサイズの若しくは長いピッチの凹凸又は不均一性がヘイズには影響するので、そのような凹凸又は不均一性を研磨によって除いたためにヘイズが低下したものと考えられる。陽極酸化によってアルミニウム表面に微細形状はできるが、かかるオーダー的に大きい凹凸又は不均一性等は完全にはなくならず、オーダー的に大きい凹凸又は不均一性を有するアルミニウムの上に微細構造が形成されても、ヘイズの向上には限界があったものと思われる。   The action / principle that can reduce the haze to 15% or less by polishing the aluminum surface prior to anodization is not clear, and the present invention is not limited by the following action / principle, but is considered as follows. That is, since irregularities or non-uniformity of a size that is larger in order or longer than the fine shape of a specific surface that is effective in preventing reflection of the molded article of the present invention affects the haze, such irregularities or It is considered that the haze was lowered because the non-uniformity was removed by polishing. Although anodization can produce a fine shape on the aluminum surface, such orderly large unevenness or nonuniformity is not completely eliminated, and a microstructure is formed on aluminum having orderly large unevenness or nonuniformity. Even so, the haze improvement seems to have been limited.

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、これらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these, unless the summary is exceeded.

実施例1
<型の作製>
アルミニウム材料として、99.85%のアルミニウム圧延板(2mm厚)を片面平面バフ研摩盤(Speedfam社製)により、アルミナ系の研摩材(フジミ研磨材社製)を用いて、10分間研摩して鏡面を得た。研摩面をスクラブ洗浄後、非浸食性の脱脂処理を行った。得られた表面のRa及びRyは、JIS B0601(1994)に従って測定したところ、Ra=0.035(μm)、Ry=0.45(μm)であった。
Example 1
<Production of mold>
As an aluminum material, a 99.85% rolled aluminum plate (thickness 2 mm) is polished for 10 minutes using a single-sided flat buffing machine (manufactured by Speedfam) using an alumina-based abrasive (manufactured by Fujimi Abrasives). A mirror surface was obtained. The polished surface was scrubbed and then subjected to non-erodible degreasing treatment. When Ra and Ry of the obtained surface were measured according to JIS B0601 (1994), they were Ra = 0.035 (μm) and Ry = 0.45 (μm).

更に、以下に示す陽極酸化条件と、形成された陽極酸化被膜の以下に示すエッチング(孔径拡大)処理条件との組み合わせによりテーパー形状の細孔を有する型を作製した。
<陽極酸化の条件>
使用液:0.05Mシュウ酸
電圧 :80Vの直流電圧
温度 :5℃
時間 :50秒
Furthermore, a mold having tapered pores was produced by a combination of the following anodic oxidation conditions and the following etching (pore diameter expansion) treatment conditions for the formed anodic oxide coating.
<Conditions for anodization>
Working solution: 0.05M oxalic acid voltage: DC voltage temperature of 80V: 5 ° C
Time: 50 seconds

<エッチングの条件>
使用液:2質量%リン酸
温度 :50℃
時間 :5分
<Etching conditions>
Working solution: 2% by mass Phosphoric acid temperature: 50 ° C
Time: 5 minutes

陽極酸化とエッチング(孔径拡大)を交互に5回繰り返すことで、周期200nm、細孔径開口部160nm、底部50nm、細孔の平均深さ500nmのテーパー形状の細孔を有する陽極酸化被膜表面をもつ型を得た。得られた型の電子顕微鏡写真を図1に示す。   By repeating the anodization and etching (pore size expansion) five times alternately, the surface of the anodized film has tapered pores with a period of 200 nm, a pore diameter opening portion of 160 nm, a bottom portion of 50 nm, and an average pore depth of 500 nm. Got the mold. An electron micrograph of the obtained mold is shown in FIG.

<成型品の製造>
上記作製した金型を150℃に加熱したのち、熱可塑性樹脂であるポリメチルメタクリレート基材(三菱レーヨン社製、商品名アクリライトL)の両面に、10MPaの圧力で1時間押し当てホットプレス成型した後、70℃以下まで冷却することによって、表面に、平均高さ500nmの凸部が平均周期200nmで存在する成型品を得た。図2に、得られた成形品の表面の断面の電子顕微鏡写真を示す。
<Manufacture of molded products>
After heating the above-mentioned mold to 150 ° C., it is pressed for 1 hour at a pressure of 10 MPa on both sides of a polymethyl methacrylate base material (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., trade name Acrylite L) which is a thermoplastic resin. Then, by cooling to 70 ° C. or lower, a molded product having convex portions with an average height of 500 nm on the surface with an average period of 200 nm was obtained. In FIG. 2, the electron micrograph of the cross section of the surface of the obtained molded article is shown.

この成型品の微細な凹凸形状の斜面の算術平均粗さ(Ra)は30nmであり、視感度補正後の反射率は以下の測定法で行ったところ、380nm以上780nm以下の全ての波長領域において0.5%以下であった。また、ヘイズは10.5%であった。380nm以上780nm以下の波長領域において測定した「視感度補正後の反射率のスペクトル」を図3に示す。   The arithmetic average roughness (Ra) of the fine uneven slope of this molded product is 30 nm, and the reflectance after the visibility correction is performed by the following measurement method, in all wavelength regions of 380 nm to 780 nm. It was 0.5% or less. The haze was 10.5%. “Reflectance spectrum after correcting visibility” measured in a wavelength region of 380 nm to 780 nm is shown in FIG.

<微細形状の算術平均粗さ(Ra)の測定>
得られた成型品の微細形状の算術平均粗さ(Ra)は、JIS B0601(1994)に従って測定した。
<Measurement of arithmetic average roughness (Ra) of fine shape>
The arithmetic average roughness (Ra) of the fine shape of the obtained molded product was measured according to JIS B0601 (1994).

<視感度補正後の反射率の測定>
島津製作所社製、自記分光光度計「UV−3150」を用い、裏面に黒色テープを貼り付け、380nm以上780nm以下の波長領域において、透過光量を人間の目の感度(標準比視感度曲線)に合わせて補正した通常の視感度補正フィルターをつけて、5°正反射率を測定し、「視感度補正後の反射率」とした。
<Measurement of reflectance after correction of visibility>
Using a self-recording spectrophotometer "UV-3150" manufactured by Shimadzu Corporation, attaching a black tape on the back surface, and changing the amount of transmitted light to human eye sensitivity (standard relative luminous sensitivity curve) in the wavelength range of 380 nm to 780 nm. A normal visibility correction filter corrected together was attached, and the 5 ° regular reflectance was measured to obtain “the reflectance after visibility correction”.

<ヘイズの測定>
ヘイズメーター「HGM−2DP(スガ試験機社製)」を用いて、JIS K7361に準拠して可視光線のヘイズを測定した。
<Measurement of haze>
Using a haze meter “HGM-2DP (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.)”, the haze of visible light was measured according to JIS K7361.

実施例2
<型の作製>
一辺の長さが100mmの正方形で、厚さが1.0mmの平板を射出成型するための型の可動側のコアの中央部30mm×30mmに、室温25.0±0.1℃に管理された恒温室内で、微細切削加工機((株)ナガセインテグレックス、超々精密5軸CNC制御微細加工機NIC200)と表面算術平均粗さ(Ra)が3nmの単結晶ダイヤモンドバイトを用いて、細孔径開口部160nm、細孔深さ500nmの円錐形状の細孔を、周期200nmに加工して、表面の30mm×30mmの全面に微細な凹形状をもつ型を得た。
Example 2
<Production of mold>
It is controlled at a room temperature of 25.0 ± 0.1 ° C at the central part of the core on the movable side of the mold for injection molding of a flat plate with a length of 100 mm and a thickness of 1.0 mm. In a constant temperature room, using a micro cutting machine (Nagase Integrex Co., Ltd., ultra-precision 5-axis CNC control micro processing machine NIC200) and a single crystal diamond tool with a surface arithmetic average roughness (Ra) of 3 nm, pore diameter opening A conical pore having a portion of 160 nm and a pore depth of 500 nm was processed to a period of 200 nm to obtain a mold having a fine concave shape on the entire surface of 30 mm × 30 mm.

<成型品の製造>
上記で得られた型を装着した射出成型機((株)日本製鋼所、JSW−ELIII、型締力1MN)を用いて、熱可塑性樹脂としてポリメチルメタクリレート(PMMA)(住友化学工業社製、商品名MG5)を、樹脂温度290℃、型温度80℃の条件で射出成型し、一辺の長さが100mmの正方形で、厚さが1.0mmであり、表面に、平均高さ500nmの凸部が平均周期200nmで存在する成型品を得た。この成型品の微細な凹凸形状の斜面の算術平均粗さ(Ra)は45nmであり、視感度補正後の反射率は、380nm以上780nm以下の全ての波長領域において0.5%以下であった。また、ヘイズは8.5%であった。
<Manufacture of molded products>
Using an injection molding machine (Nippon Steel Works, JSW-ELIII, mold clamping force 1MN) equipped with the mold obtained above, polymethylmethacrylate (PMMA) (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., The product name MG5) was injection molded under the conditions of a resin temperature of 290 ° C. and a mold temperature of 80 ° C., a square with a side length of 100 mm, a thickness of 1.0 mm, and a convexity with an average height of 500 nm on the surface. A molded product having parts with an average period of 200 nm was obtained. The arithmetic average roughness (Ra) of the fine uneven slope of this molded product was 45 nm, and the reflectance after the visibility correction was 0.5% or less in all wavelength regions from 380 nm to 780 nm. . The haze was 8.5%.

実施例3
<成型品の製造>
実施例2において、成型品を製造するために用いた熱可塑性樹脂をポリメチルメタクリレート(PMMA)の代わりにポリカーボネートにし、射出成型時の樹脂温度を300℃、型温度を90℃に変更した以外は、実施例2と同様にして一辺の長さが100mmの正方形で、厚さが1.0mmであり、表面に、平均高さ500nmの凸部が平均周期200nmで存在する成型品を得た。この成型品の微細な凹凸形状の斜面の算術平均粗さ(Ra)は40nmであり、視感度補正後の反射率は、380nm以上780nm以下の全ての波長領域において0.4%以下であった。また、ヘイズは、9.0%であった。
Example 3
<Manufacture of molded products>
In Example 2, the thermoplastic resin used to produce the molded product was changed to polycarbonate instead of polymethyl methacrylate (PMMA), and the resin temperature during injection molding was changed to 300 ° C. and the mold temperature was changed to 90 ° C. In the same manner as in Example 2, a molded product having a square with a side length of 100 mm, a thickness of 1.0 mm, and convex portions with an average height of 500 nm on the surface was obtained with an average period of 200 nm. The arithmetic average roughness (Ra) of the fine uneven slope of this molded product was 40 nm, and the reflectance after the visibility correction was 0.4% or less in all wavelength regions of 380 nm to 780 nm. . The haze was 9.0%.

実施例4
<成型品の製造>
実施例1と同様の条件によって、周期200nm、細孔径開口部160nm、底部50nm、細孔の平均深さ500nmのテーパー形状の細孔を有する陽極酸化被膜表面をもつ真空成型用の型を得た。この型を用いて、真空成型機(ハーミス社製FE38PH)を用いて、熱可塑性樹脂としてポリメチルメタクリレート(PMMA)シート(三菱レーヨン社製、商品名 アクリライトL)を樹脂温度180℃、型温度80℃にて真空成型したところ、一辺の長さが100mmの正方形で、厚さが1.0mmであり、表面に、平均高さ450nmの凸部が平均周期200nmで存在する成型品を得た。この成型品の微細な凹凸形状の斜面の算術平均粗さ(Ra)は、35nmであり、視感度補正後の反射率は、380nm以上780nm以下の全ての波長領域において0.5%以下であった。また、ヘイズは11.0%であった。
Example 4
<Manufacture of molded products>
Under the same conditions as in Example 1, a mold for vacuum forming having an anodized film surface having tapered pores with a period of 200 nm, a pore diameter opening portion of 160 nm, a bottom portion of 50 nm and an average pore depth of 500 nm was obtained. . Using this mold, a polymethylmethacrylate (PMMA) sheet (product name: Acrylite L, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) is used as a thermoplastic resin with a vacuum molding machine (FE38PH manufactured by Hermis Co., Ltd.). When vacuum molding was performed at 80 ° C., a molded product having a square with a side length of 100 mm, a thickness of 1.0 mm, and convex portions having an average height of 450 nm on the surface was obtained with an average period of 200 nm. . The arithmetic average roughness (Ra) of the fine uneven slope of this molded product is 35 nm, and the reflectance after the visibility correction is 0.5% or less in all wavelength regions of 380 nm to 780 nm. It was. The haze was 11.0%.

実施例5
<成型品の製造>
実施例1で得られた型を用いて、真空圧空成型機(浅野研究所社製、FK−0431−10)を用いて、熱可塑性樹脂としてポリメチルメタクリレート(PMMA)シート(三菱レーヨン社製、商品名 アクリライトL)を、樹脂温度180℃、型温度80℃にて、0.4MPa条件下で真空圧空成型したところ、一辺の長さが100mmの正方形で、厚さが1.0mmであり、表面に、平均高さ450nmの凸部が平均周期200nmで存在する成型品を得た。この成型品の微細な凹凸形状の斜面の算術平均粗さ(Ra)は、40nmであり、視感度補正後の反射率は、380nm以上780nm以下の全ての波長領域において0.5%以下であった。また、ヘイズは10.0%であった。
Example 5
<Manufacture of molded products>
Using the mold obtained in Example 1, using a vacuum / pneumatic molding machine (manufactured by Asano Laboratories, FK-0431-10), a polymethyl methacrylate (PMMA) sheet (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) as a thermoplastic resin. The product name Acrylite L) was vacuum-pressure molded under conditions of 0.4 MPa at a resin temperature of 180 ° C. and a mold temperature of 80 ° C., and it was a square with a side of 100 mm and a thickness of 1.0 mm. A molded product having convex portions with an average height of 450 nm on the surface with an average period of 200 nm was obtained. The arithmetic average roughness (Ra) of the fine uneven slope of this molded product is 40 nm, and the reflectance after the visibility correction is 0.5% or less in all wavelength regions of 380 nm to 780 nm. It was. The haze was 10.0%.

実施例6
実施例1においてアルミナ系の研摩材を用いて機械研摩する代わりに、95℃、60体積%リン酸と5体積%硝酸の混合で得られる研摩液中で、3分間振動させながら化学研摩する以外は、実施例1と同様にして型を得た。なお、上記「化学研摩により加工した後のアルミニウム材料」の表面のRa及びRyは、JIS B0601(1994)に従って測定したところ、Ra=0.035(μm)、Ry=0.45(μm)であった。
Example 6
Instead of mechanical polishing using an alumina-based polishing material in Example 1, except for chemical polishing while shaking for 3 minutes in a polishing solution obtained by mixing at 95 ° C. and 60% by volume phosphoric acid and 5% by volume nitric acid. Obtained a mold in the same manner as in Example 1. The Ra and Ry on the surface of the above-mentioned “aluminum material processed by chemical polishing” were measured according to JIS B0601 (1994), and Ra = 0.035 (μm) and Ry = 0.45 (μm). there were.

この型を用い、実施例1と同様に成型したところ、表面に、平均高さ500nmの凸部が平均周期200nmで存在する成型品を得た。この成型品の微細な凹凸形状の斜面の算術平均粗さ(Ra)は、30nmであり、視感度補正後の反射率は、380nm以上780nm以下の全ての波長領域において0.4%以下であった。また、ヘイズは10.0%であった。   When this mold was used and molded in the same manner as in Example 1, a molded product having convex portions with an average height of 500 nm on the surface with an average period of 200 nm was obtained. The arithmetic average roughness (Ra) of the fine uneven slope of this molded product is 30 nm, and the reflectance after the visibility correction is 0.4% or less in all wavelength regions of 380 nm to 780 nm. It was. The haze was 10.0%.

実施例7
実施例1においてアルミナ系の研摩材を用いて研摩する代わりに、70℃、90体積%リン酸浴中において、アルミ材をプラス極として40A/dmの電流密度で5分間振動しながら電解研摩し、その後、20℃の硝酸浴(市販の約68%硝酸を2倍に希釈)中に10分間浸漬して表面の酸化膜を溶解除去した以外は、実施例1と同様にして型を得た。なお、上記「電解研摩により加工した後のアルミニウム材料」の表面のRa及びRyは、JIS B0601(1994)に従って測定したところ、Ra=0.035(μm)、Ry=0.45(μm)であった。
Example 7
Instead of polishing with an alumina-based polishing material in Example 1, electrolytic polishing was performed in a 90 ° C., 90% by volume phosphoric acid bath while vibrating at a current density of 40 A / dm 2 for 5 minutes using an aluminum material as a positive electrode. Thereafter, a mold was obtained in the same manner as in Example 1 except that the surface oxide film was dissolved and removed by immersion in a 20 ° C. nitric acid bath (commercially about 68% nitric acid diluted twice) for 10 minutes. It was. The Ra and Ry on the surface of the above “aluminum material processed by electrolytic polishing” were measured in accordance with JIS B0601 (1994). Ra = 0.035 (μm), Ry = 0.45 (μm) there were.

その型を用いて、実施例1と同様にして成型したところ、表面に、平均高さ500nmの凸部が平均周期200nmで存在する成型品を得た。この成型品の微細な凹凸形状の斜面の算術平均粗さ(Ra)は、30nmであり、視感度補正後の反射率は、380nm以上780nm以下の全ての波長領域において0.4%以下であった。また、ヘイズは9.0%であった。   When the mold was used and molded in the same manner as in Example 1, a molded product having convex portions with an average height of 500 nm on the surface with an average period of 200 nm was obtained. The arithmetic average roughness (Ra) of the fine uneven slope of this molded product is 30 nm, and the reflectance after the visibility correction is 0.4% or less in all wavelength regions of 380 nm to 780 nm. It was. The haze was 9.0%.

実施例8
実施例2において、熱可塑性樹脂ポリメチルメタクリレートを用いる代わりにポリエチレンテレフタレート(日本ユニペット株式会社製、商品名:UNIPET、グレード:RT553C)を用い、樹脂温度290℃、型温度25℃の条件にした以外は、実施例2と同様にして成型品を製造ところ、表面に、平均高さ500nmの凸部が平均周期200nmで存在する成型品を得た。この成型品の微細な凹凸形状の斜面の算術平均粗さ(Ra)は、45nmであり、視感度補正後の反射率は、380nm以上780nm以下の全ての波長領域において0.5%以下であった。また、ヘイズは9.5%であった。
Example 8
In Example 2, instead of using the thermoplastic resin polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate (manufactured by Nippon Unipet Co., Ltd., trade name: UNIPET, grade: RT553C) was used, and the resin temperature was 290 ° C. and the mold temperature was 25 ° C. Except for the above, a molded product was produced in the same manner as in Example 2 to obtain a molded product having convex portions with an average height of 500 nm on the surface with an average period of 200 nm. The arithmetic average roughness (Ra) of the fine irregular slope of this molded product is 45 nm, and the reflectance after the visibility correction is 0.5% or less in all wavelength regions of 380 nm to 780 nm. It was. The haze was 9.5%.

比較例1
多官能アクリレート化合物と光重合開始剤を含有する光硬化性組成物をPETフィルム上に採取、バーコーターNO28にて、均一な膜厚になるよう塗布した。その後、実施例1で得られた型を貼り合わせ、細孔内に光硬化性組成物が充填されたことを確認して、紫外線を照射して重合硬化させた。硬化後、膜を型から剥離することで、表面に、平均高さ500nmの凸部が平均周期200nmで存在する反射防止効果を有する膜を得たが、これを更に基材等に貼り合わせて反射防止効果を有するものとして用いる必要があった。
Comparative Example 1
A photocurable composition containing a polyfunctional acrylate compound and a photopolymerization initiator was collected on a PET film and coated with a bar coater NO28 so as to have a uniform film thickness. Thereafter, the mold obtained in Example 1 was bonded, and it was confirmed that the photocurable composition was filled in the pores. After curing, the film was peeled off from the mold to obtain a film having an antireflection effect in which convex portions having an average height of 500 nm existed on the surface with an average period of 200 nm. It was necessary to use it as having an antireflection effect.

実施例9
実施例1において、アルミニウム材料を研摩しない以外は、実施例1と同様にして型を得た。なお、研摩していないアルミニウム材料の表面のRa及びRyは、JIS B0601(1994)に従って測定したところ、Ra=0.50(μm)、Ry=2.00(μm)であった。
Example 9
In Example 1, a mold was obtained in the same manner as in Example 1 except that the aluminum material was not polished. The Ra and Ry on the surface of the unpolished aluminum material were measured according to JIS B0601 (1994), and were Ra = 0.50 (μm) and Ry = 2.00 (μm).

この型を用い、実施例1と同様に成型したところ、表面に、平均高さ500nmの凸部が平均周期200nmで存在する成型品を得た。この成型品の微細な凹凸形状の斜面の算術平均粗さ(Ra)は、450nmであり、視感度補正後の反射率は、380nm以上780nm以下の全ての波長領域において0.5%以下であった。また、ヘイズは39.5%であった。   When this mold was used and molded in the same manner as in Example 1, a molded product having convex portions with an average height of 500 nm on the surface with an average period of 200 nm was obtained. The arithmetic average roughness (Ra) of the fine uneven slope of this molded product is 450 nm, and the reflectance after the visibility correction is 0.5% or less in all wavelength regions of 380 nm to 780 nm. It was. The haze was 39.5%.

実施例1ないし実施例8で得られた成形品は何れもその表面に平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在しており、ヘイズは何れも12%以下であった。視感度補正後の反射率は、実施例1ないし実施例3ないし実施例9は何れも、380nm以上780nm以下の全ての波長領域において0.5%以下であった。また、成形品の透明性を目視により判断したところ、何れも極めて良好であった。すなわち、本発明の成形品は、優れた光の反射防止効果や優れた光の透過性能を有していた。   Each of the molded products obtained in Examples 1 to 8 has a convex portion having an average height of 100 nm or more and 1000 nm or less or a concave portion having an average depth of 100 nm or more and 1000 nm or less on the surface thereof. The haze was 12% or less in any one direction with an average period of 50 nm to 400 nm. The reflectivity after the visibility correction was 0.5% or less in all wavelength regions of 380 nm to 780 nm in all of Examples 1 to 3 to 9. Moreover, when the transparency of the molded product was judged by visual observation, all were very good. That is, the molded product of the present invention had an excellent antireflection effect of light and an excellent light transmission performance.

一方、比較例1で得られたものは、光の反射防止効果を有するものの、反射防止効果を有するものを簡便に得ることができなかった。   On the other hand, although what was obtained in Comparative Example 1 had an antireflection effect for light, it was not possible to easily obtain an antireflection effect.

また、実施例9で得られた成形品は、視感度補正後の反射率は極めて良好であったが、ヘイズが39.5%と実施例1〜8の成形品と比べれば極めて大きかった。   Further, the molded product obtained in Example 9 had a very good reflectivity after the visibility correction, but the haze was 39.5%, which was very large compared to the molded products of Examples 1-8.

本発明の成型品は、光の反射防止効果や優れた光の透過性能等に優れているので、レンズ、メーターフロントカバー、窓板、ヘッドライトカバー、ショーウィンドー等;更には、液晶表示ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、有機EL(OEL)、CRT、フィールドエミッションディスプレイ(FED)等のフラットパネルディスプレイ(FPD)等の用途に広く好適に利用されるものである。   Since the molded product of the present invention is excellent in the antireflection effect of light, excellent light transmission performance, etc., a lens, a meter front cover, a window plate, a headlight cover, a show window, etc .; (LCD), plasma display (PDP), organic EL (OEL), CRT, field emission display (FED) and other flat panel displays (FPD), etc.

Claims (9)

表面に微細形状を有する型を用い、該型が表面に有する微細形状を熱可塑性樹脂に熱転写し成型してなる成型品であって、その表面に平均高さ100nm以上1000nm以下の凸部又は平均深さ100nm以上1000nm以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期50nm以上400nm以下で存在していることを特徴とする成型品。   A molded product obtained by using a mold having a fine shape on the surface and thermally transferring and molding the fine shape on the surface of the mold onto a thermoplastic resin, and having an average height of 100 nm or more and 1000 nm or less on the surface. A molded product having a recess having a depth of 100 nm or more and 1000 nm or less, and the protrusion or recess having an average period of 50 nm or more and 400 nm or less with respect to at least one direction. 微細形状を熱可塑性樹脂に熱転写し成型する方法が、射出成型、真空成型、圧空成型又はホットプレス成型による方法である請求項1記載の成型品。   The molded article according to claim 1, wherein the method of thermally transferring and molding the fine shape onto a thermoplastic resin is a method by injection molding, vacuum molding, pressure molding or hot press molding. 表面に微細形状を有する型が、アルミニウム材料の表面に、陽極酸化による陽極酸化被膜の形成と、該陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせにより、微細形状を形成させてなる型である請求項1又は請求項2記載の成型品。   The mold having a fine shape on the surface is a mold in which a fine shape is formed on the surface of an aluminum material by a combination of formation of an anodized film by anodization and etching of the anodized film. The molded product according to claim 2. 表面に微細形状を有する型が、アルミニウム材料の表面を、機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩により加工した後、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化による陽極酸化被膜の形成と、該陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせにより、微細形状を形成させてなる型である請求項3記載の成型品。   A mold having a fine shape on the surface, after the surface of the aluminum material is processed by mechanical polishing, chemical polishing and / or electrolytic polishing, an anodized film is formed on the surface of the aluminum material by anodization, and the anodized The molded article according to claim 3, which is a mold formed by forming a fine shape by combination with etching of a film. 機械研摩、化学研摩及び/又は電解研摩により加工した後のアルミニウム材料の表面が、算術平均粗さRaとして0.1μm以下のものである請求項4記載の成型品。   The molded article according to claim 4, wherein the surface of the aluminum material after being processed by mechanical polishing, chemical polishing and / or electrolytic polishing has an arithmetic average roughness Ra of 0.1 μm or less. 上記陽極酸化が、シュウ酸濃度0.01M以上0.5M以下、印加電圧20V以上120V以下、かつ液温0℃以上50℃以下で行われるものである請求項3ないし請求項5の何れかの請求項記載の成型品。   6. The anodic oxidation is performed at an oxalic acid concentration of 0.01 M to 0.5 M, an applied voltage of 20 V to 120 V, and a liquid temperature of 0 ° C. to 50 ° C. 6. The molded product according to claim. 上記エッチングが、リン酸濃度1質量%以上20質量%以下、液温30℃以上90℃以下、かつ1回の処理時間1分以上60分以下で行われるものである請求項3ないし請求項6の何れかの請求項記載の成型品。   The etching is performed at a phosphoric acid concentration of 1% by mass to 20% by mass, a liquid temperature of 30 ° C to 90 ° C, and a single treatment time of 1 minute to 60 minutes. The molded product according to any one of claims. 上記熱可塑性樹脂が、ビニル系樹脂、ポリカーボネート樹脂又はポリエステル樹脂である請求項1ないし請求項7の何れかの請求項記載の成型品。   The molded article according to any one of claims 1 to 7, wherein the thermoplastic resin is a vinyl resin, a polycarbonate resin, or a polyester resin. 視感度補正後の反射率が、380nm以上780nm以下の全ての波長領域において0.5%以下である請求項1ないし請求項8の何れかの請求項記載の成型品。   The molded article according to any one of claims 1 to 8, wherein the reflectance after the visibility correction is 0.5% or less in all wavelength regions of 380 nm or more and 780 nm or less.
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