JP2010285469A - Method for producing photocurable resin for electronic parts, photocurable resin for electronic parts, sealant for electronic parts - Google Patents

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photocurable
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JP2009138044A
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Naoyuki Omori
直之 大森
Toshiki Takizawa
俊樹 滝澤
Shigeo Matsui
重雄 松井
Yoichi Kurita
洋一 栗田
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NICHIJUN KAGAKU KK
Bridgestone Corp
Original Assignee
NICHIJUN KAGAKU KK
Bridgestone Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a non-staining photocurable resin for electronic parts, which can efficiently promote a urethane reaction in a urethanizing process; to provide a photocurable resin for electronic parts, obtained by the production method; and to provide a sealant for electronic parts, using the same. <P>SOLUTION: There are provided the method for producing the photocurable resin for the electronic parts, including a reaction process for reacting a conjugated diene-based polymer polyol or a conjugated diene-aromatic vinyl-based copolymer polyol with a photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound in the presence of a titanium-based catalyst, wherein the ratio (X:Y) of the hydroxyl group equivalent (X) of the polyol in the conjugated diene-based polymer polyol or the conjugated diene-aromatic vinyl-based copolymer polyol to the photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound equivalent (Y) is 1:1.5 to 1:2.5; the photocurable resin for the electronic parts, obtained by the production method; and the sealant for electronic parts, prepared by curing the photocurable resin. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、電子部品用光硬化性樹脂の製造方法、電子部品用光硬化性樹脂、電子部品用シール材に関する。   The present invention relates to a method for producing a photocurable resin for electronic components, a photocurable resin for electronic components, and a sealing material for electronic components.

近年、シール材や接着材等の用途に種々の光硬化性樹脂が開発されている。このような光硬化性樹脂を製造するプロセスとして、末端に水酸基を有する重合体の当該末端水酸基を、アクリロイルオキシエチルアクリレートと反応させるウレタン化プロセスが知られている(例えば、特許文献1参照)。このようなプロセスには、ウレタン反応を促進させるために、SnやPbを含む触媒が使用される場合がある。しかし、このような光硬化性樹脂を電子部品に使用する際には、非汚染性が要求されるため、上記SnやPbを含む触媒を使用することはできない。   In recent years, various photocurable resins have been developed for applications such as sealing materials and adhesives. As a process for producing such a photocurable resin, a urethanization process in which the terminal hydroxyl group of a polymer having a hydroxyl group at a terminal is reacted with acryloyloxyethyl acrylate is known (for example, see Patent Document 1). In such a process, a catalyst containing Sn or Pb may be used to promote the urethane reaction. However, when such a photocurable resin is used for an electronic component, non-contamination is required, and thus the catalyst containing Sn or Pb cannot be used.

非汚染性の要求を満たすための触媒として、Tiキレート錯体触媒(例えば、特許文献2及び3参照)やTiアルキレート触媒(例えば、特許文献4〜6参照)が提案されている。   As a catalyst for satisfying the non-polluting requirement, a Ti chelate complex catalyst (for example, see Patent Documents 2 and 3) and a Ti alkylate catalyst (for example, see Patent Documents 4 to 6) have been proposed.

しかし、既述のウレタン化プロセスにこれらの触媒を単に適用したのでは、反応原料を過剰に投入してしまう場合があり、効率的なウレタン反応を行なえないことがあり、ウレタン化プロセスにおける反応条件を適正化する必要があった。   However, simply applying these catalysts to the urethanization process described above may result in excessive supply of reaction raw materials, which may prevent efficient urethane reaction, and reaction conditions in the urethanization process. It was necessary to optimize.

特開2007−145949号公報JP 2007-145949 A 特開昭57−155255号公報JP-A-57-155255 特表2001−501534号公報Special table 2001-501534 gazette 特表2004−526858号公報JP-T-2004-526858 特表2006−506416号公報JP-T-2006-506416 特開2007−197507号公報JP 2007-197507 A

以上から、本発明は、ウレタン化プロセスにおいて効率よくウレタン反応を促進させることが可能で、かつ非汚染性を有する電子部品用光硬化性樹脂の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、当該製造方法により得られる電子部品用光硬化性樹脂、及びこれを用いた電子部品用シール材を提供することを目的とする。   In view of the above, an object of the present invention is to provide a method for producing a photocurable resin for electronic components that can efficiently promote the urethane reaction in the urethanization process and has non-contamination properties. Moreover, an object of this invention is to provide the photocurable resin for electronic components obtained by the said manufacturing method, and the sealing material for electronic components using the same.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、当該目的を達成できる本発明に想到した。すなわち、本発明は下記の通りである。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have arrived at the present invention that can achieve the object. That is, the present invention is as follows.

[1]チタン系触媒の存在下、共役ジエン系重合体ポリオール、又は共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体ポリオールと、光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物とを反応させる反応工程を含み、前記共役ジエン系重合体ポリオール、又は前記共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体ポリオールにおけるポリオールの水酸基当量(X)と光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物当量(Y)との比(X:Y)を、1:1.5〜1:2.5とする電子部品用光硬化性樹脂の製造方法。
[2]前記反応工程後に、未反応の前記光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物を除去する除去工程を含む[1]に記載の電子部品用光硬化性樹脂の製造方法。
[3]前記除去工程において、前記未反応の光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物を除去する処理が、ろ過処理である[2]に記載の電子部品用光硬化性樹脂の製造方法。
[4]前記除去工程において、前記未反応の光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物を除去する処理が、溶媒抽出処理である[2]に記載の電子部品用光硬化性樹脂の製造方法。
[5]上記[1]〜[4]のいずれかに記載の製造方法により製造される電子部品用光硬化性樹脂。
[6]上記[5]に記載の電子部品用光硬化性樹脂を硬化してなる電子部品用シール材。
[7]ガスケット材である[6]に記載の電子部品用シール材。
[1] including a reaction step of reacting a conjugated diene polymer polyol or a conjugated diene-aromatic vinyl copolymer polyol with a photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound in the presence of a titanium catalyst, Ratio of hydroxyl group equivalent (X) of polyol in the conjugated diene polymer polyol or the conjugated diene-aromatic vinyl copolymer polyol (X: photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound equivalent (Y)) A method for producing a photocurable resin for electronic parts, wherein Y) is from 1: 1.5 to 1: 2.5.
[2] The method for producing a photocurable resin for electronic components according to [1], further including a removing step of removing the unreacted photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound after the reaction step.
[3] The method for producing a photocurable resin for electronic components according to [2], wherein in the removing step, the treatment for removing the unreacted photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound is a filtration treatment.
[4] The method for producing a photocurable resin for electronic parts according to [2], wherein in the removing step, the treatment for removing the unreacted photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound is a solvent extraction treatment.
[5] A photocurable resin for electronic parts produced by the production method according to any one of [1] to [4].
[6] A sealing material for electronic parts obtained by curing the photocurable resin for electronic parts according to [5].
[7] The sealing material for electronic parts according to [6], which is a gasket material.

本発明によれば、ウレタン化プロセスにおいて効率よくウレタン反応を促進させることが可能で、かつ非汚染性を有する電子部品用光硬化性樹脂の製造方法を提供することができる。また、当該製造方法により得られる電子部品用光硬化性樹脂、及びこれを用いた電子部品用シール材を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the urethane reaction can be efficiently accelerated | stimulated in a urethanization process, and the manufacturing method of the photocurable resin for electronic components which has non-contamination property can be provided. Moreover, the photocurable resin for electronic components obtained by the said manufacturing method and the sealing material for electronic components using the same can be provided.

[電子部品用光硬化性樹脂及びその製造方法]
本発明の電子部品用光硬化性樹脂は、チタン系触媒の存在下、共役ジエン系重合体ポリオール、又は共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体ポリオールと、光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物とを反応させる反応工程を経て製造される。
[Photocurable resin for electronic parts and method for producing the same]
The photocurable resin for electronic parts of the present invention comprises a conjugated diene polymer polyol or a conjugated diene-aromatic vinyl copolymer polyol and a photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound in the presence of a titanium catalyst. It is manufactured through a reaction process in which

当該工程を経ることで、共役ジエン系重合体ポリオール、又は共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体ポリオールに光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物を反応させて、光硬化性不飽和炭化水素基を導入した光硬化性樹脂が得られる。   By passing through this process, a photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound is reacted with a conjugated diene polymer polyol or a conjugated diene-aromatic vinyl copolymer polyol, thereby producing a photocurable unsaturated hydrocarbon group. A photocurable resin into which is introduced can be obtained.

なお、ここでいう共役ジエン系重合体ポリオール又は共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体ポリオールは、後述する水添工程を経て主鎖に不飽和二重結合を持たない水添共役ジエン系重合体ポリオール又は水添共役ジエン/芳香族ビニル系共重合体ポリオール(以下、「本発明に係る水添(共)重合体ポリオール」ということがある)を含むものとする。   The conjugated diene polymer polyol or conjugated diene-aromatic vinyl copolymer polyol here is a hydrogenated conjugated diene polymer having no unsaturated double bond in the main chain through a hydrogenation step described later. The polyol or hydrogenated conjugated diene / aromatic vinyl copolymer polyol (hereinafter, also referred to as “hydrogenated (co) polymer polyol according to the present invention”) is included.

当該反応工程においては、共役ジエン系重合体ポリオール又は共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体ポリオールにおけるポリオールの水酸基当量(X)と光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物当量(Y)との比(X:Y)を、1:1.5〜1:2.5とする。当該比が1:1.5未満では、ウレタン反応が十分に進まず、1:2.5を超えると例えば、過剰のアクリロイルオキシエチルアクリレート(例えば、昭和電工株式会社製)を除去することが困難となってしまう。当該比は、1:1.7〜1:2.3とすることが好ましく、1:1.9〜1:2.1とすることがより好ましい。   In the reaction step, the ratio between the hydroxyl group equivalent (X) of the polyol in the conjugated diene polymer polyol or conjugated diene-aromatic vinyl copolymer polyol and the photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound equivalent (Y). (X: Y) is set to 1: 1.5 to 1: 2.5. If the ratio is less than 1: 1.5, the urethane reaction does not proceed sufficiently, and if it exceeds 1: 2.5, for example, it is difficult to remove excess acryloyloxyethyl acrylate (for example, Showa Denko KK). End up. The ratio is preferably 1: 1.7 to 1: 2.3, and more preferably 1: 1.9 to 1: 2.1.

反応工程において使用されるチタン系触媒としては、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラノルマルブトキシド、チタンブトキシドダイマー、チタンテトラ−2−エチルヘキソキシド等のチタンアルコキシド;チタンジイソプロポキシビス(アセチルアセトネート)、チタンテトラアセチルアセトネート、チタンジオクチロキシビス(オクチレングリコレート)、チタンジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)、チタンジイソプロポキシビス(トリエタノールアミネート)、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテート等のチタンキレート;ポリヒドロキシチタンステアレート等のチタンアシレート;が挙げられる。なかでも、取り扱いの点からチタンジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)が好ましい。
チタン系触媒は、ポリマーに対し、100ppm〜1000ppm存在させることが好ましい。
Titanium-based catalysts used in the reaction process include titanium alkoxides such as titanium tetraisopropoxide, titanium tetranormal butoxide, titanium butoxide dimer, titanium tetra-2-ethylhexoxide; titanium diisopropoxybis (acetylacetonate) ), Titanium tetraacetylacetonate, titanium dioctyloxybis (octylene glycolate), titanium diisopropoxybis (ethyl acetoacetate), titanium diisopropoxybis (triethanolaminate), titanium lactate ammonium salt, titanium lactate And titanium chelates such as titanium lactate; and titanium acylates such as polyhydroxytitanium stearate. Of these, titanium diisopropoxybis (ethyl acetoacetate) is preferable from the viewpoint of handling.
The titanium catalyst is preferably present in an amount of 100 ppm to 1000 ppm with respect to the polymer.

上記の本発明に係る共役ジエン系重合体ポリオール又は共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体ポリオールに、光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物を反応させて、該ポリオールの末端に光硬化性不飽和炭化水素基を導入するためには、光硬化性不飽和炭化水素基がアクリロイル基又はメタクリロイル基であることが好ましい。ここで、光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物としては、アクリロイルイソシアネートやメタクリロイルイソシアネートが好ましく、これらとの反応により、上記の水添(共)重合体ポリオールは(メタ)アクリレート化される。   The conjugated diene polymer polyol or the conjugated diene-aromatic vinyl copolymer polyol according to the present invention is reacted with a photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound, and the end of the polyol is not photocurable. In order to introduce a saturated hydrocarbon group, the photocurable unsaturated hydrocarbon group is preferably an acryloyl group or a methacryloyl group. Here, as a photocurable unsaturated hydrocarbon group containing compound, acryloyl isocyanate and methacryloyl isocyanate are preferable, and said hydrogenated (co) polymer polyol is (meth) acrylated by reaction with these.

アクリロイルイソシアネートとしては、例えば、2−アクリロイルオキシエチルイソシアネートが挙げられ、メタクリロイルイソシアネートとしては、例えば、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートが挙げられる。   Examples of acryloyl isocyanate include 2-acryloyloxyethyl isocyanate, and examples of methacryloyl isocyanate include 2-methacryloyloxyethyl isocyanate.

共役ジエン系重合体ポリオール又は共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体ポリオールに、光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物を反応させる際の温度は、40〜120℃とすることが好ましく、60〜100℃とすることがより好ましい。   The temperature at which the photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound is reacted with the conjugated diene polymer polyol or the conjugated diene-aromatic vinyl copolymer polyol is preferably 40 to 120 ° C, preferably 60 to More preferably, the temperature is set to 100 ° C.

本発明の電子部品用光硬化性樹脂の製造方法においては、既述の反応工程の後に、未反応の光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物を除去する除去工程を設けたり、反応工程の前に、重合体製造工程、ポリオール製造工程、ポリオールの水添工程といった工程を設けたりしてもよい。以下、これらの工程について説明する。   In the method for producing a photocurable resin for electronic components of the present invention, a removal step for removing the unreacted photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound is provided after the above-described reaction step, or before the reaction step. In addition, processes such as a polymer production process, a polyol production process, and a polyol hydrogenation process may be provided. Hereinafter, these steps will be described.

(除去工程)
除去工程においては、反応工程後に、未反応の前記光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物を除去する。この未反応の光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物を除去する処理としては、ろ過処理及び溶媒抽出処理のいずれかであることが好ましい。ろ過処理は操作の簡便の点で好ましく、溶媒抽出処理は生産効率の点で好ましい。
(Removal process)
In the removal step, the unreacted photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound is removed after the reaction step. The treatment for removing the unreacted photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound is preferably either a filtration treatment or a solvent extraction treatment. Filtration treatment is preferable in terms of easy operation, and solvent extraction treatment is preferable in terms of production efficiency.

ろ過処理としては、ポリマーに対し0.5〜10質量%の水を添加し0.5〜3時間攪拌し1日程度放置して結晶を析出させこれをろ過する処理が挙げられる。溶媒抽出処理としては、共役ジエン系重合体ポリオール又は共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体ポリオール:溶媒(ヘプタン等)を1:3〜1:2とし、水:メタノール(質量比)20:80程度の混合物を、共役ジエン系重合体ポリオール又は共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体ポリオールの半分量添加して、(1)20〜60分間攪拌し、(2)20〜60分間放置、抽出する処理((1)及び(2)の処理)を少なくとも2回行う処理が挙げられる。   Examples of the filtration treatment include a treatment of adding 0.5 to 10% by mass of water to the polymer, stirring for 0.5 to 3 hours, and allowing to stand for about 1 day to precipitate crystals, followed by filtration. As solvent extraction treatment, conjugated diene polymer polyol or conjugated diene-aromatic vinyl copolymer polyol: solvent (heptane etc.) is set to 1: 3 to 1: 2, and water: methanol (mass ratio) 20:80. About half of the conjugated diene polymer polyol or conjugated diene-aromatic vinyl copolymer polyol is added to the mixture, (1) stirred for 20 to 60 minutes, and (2) left to stand for 20 to 60 minutes and extracted. The process which performs the process (process of (1) and (2)) to perform at least twice is mentioned.

(重合体製造工程)
重合体製造工程においては、飽和炭化水素系溶媒中で、ジリチウム開始剤により共役ジエン系単量体、又は共役ジエン系単量体及び芳香族ビニル系単量体を重合して、共役ジエン系重合体又は共役ジエン/芳香族ビニル系共重合体(以下、「本発明に係る(共)重合体」ということがある)を製造する。本重合はリビングアニオン重合であるために、分子量及び分子量分布を制御して重合できる。分子量は、ジリチウム開始剤と上記単量体の量により所定の分子量の重合体を重合することが可能であり、特に重量平均分子量が5,000以上では、分子量分布が2以下の狭い重合体を得易い。また、所望により、ランダマイザーの存在下にアニオン重合をさせてもよい。
(Polymer production process)
In the polymer production process, a conjugated diene monomer, or a conjugated diene monomer and an aromatic vinyl monomer are polymerized with a dilithium initiator in a saturated hydrocarbon solvent to produce a conjugated diene heavy polymer. A polymer or a conjugated diene / aromatic vinyl copolymer (hereinafter sometimes referred to as “(co) polymer according to the present invention”) is produced. Since the main polymerization is living anionic polymerization, the polymerization can be performed while controlling the molecular weight and molecular weight distribution. The molecular weight can be obtained by polymerizing a polymer having a predetermined molecular weight depending on the amount of the dilithium initiator and the above monomer. Particularly, when the weight average molecular weight is 5,000 or more, a narrow polymer having a molecular weight distribution of 2 or less Easy to get. If desired, anionic polymerization may be carried out in the presence of a randomizer.

上記の共役ジエン系単量体としては、例えば1,3−ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、2,3−ジメチルブタジエン、2−フェニル−1,3−ブタジエン、1,3−ヘキサジエン等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよいが、これらの中では、1,3−ブタジエン又はイソプレンが硬化後のゴム弾性確保の観点から好ましい。   Examples of the conjugated diene monomer include 1,3-butadiene, isoprene, 1,3-pentadiene, 2,3-dimethylbutadiene, 2-phenyl-1,3-butadiene, 1,3-hexadiene, and the like. Can be mentioned. These may be used singly or in combination of two or more. Among these, 1,3-butadiene or isoprene is preferable from the viewpoint of securing rubber elasticity after curing.

また、芳香族ビニル系単量体としては、スチレン、α−メチルスチレン又はパラメチルスチレンが硬化後のゴム物性の点で好ましい。これらは単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい   As the aromatic vinyl monomer, styrene, α-methylstyrene or paramethylstyrene is preferable from the viewpoint of rubber physical properties after curing. These may be used alone or in combination of two or more.

ジリチウム開始剤としては、特に限定されず公知のものを用いることができる。例えば、特公平1−53681号公報には、モノリチウム化合物を第3級アミンの存在下に、二置換ビニル又はアルケニル基含有芳香族炭化水素と反応させてジリチウム開始剤を製造する方法が記載されている。   The dilithium initiator is not particularly limited, and known ones can be used. For example, Japanese Patent Publication No. 1-53681 discloses a method for producing a dilithium initiator by reacting a monolithium compound with a disubstituted vinyl or an alkenyl group-containing aromatic hydrocarbon in the presence of a tertiary amine. ing.

ジリチウム開始剤を製造するときに用いられるモノリチウム化合物としては、エチルリチウム,n−プロピルリチウム,イソプロピルリチウム,n−ブチルリチウム,sec−ブチルリチウム,tert−ブチルリチウム,tert−オクチルリチウム,n−デシルリチウム,フェニルリチウム,2−ナフチルリチウム,2−ブチル−フェニルリチウム,4−フェニル−ブチルリチウム,シクロヘキシルリチウム,シクロペンチルリチウム等が挙げられるが、これらの中で、sec−ブチルリチウムが好ましい。   Monolithium compounds used when producing a dilithium initiator include ethyl lithium, n-propyl lithium, isopropyl lithium, n-butyl lithium, sec-butyl lithium, tert-butyl lithium, tert-octyl lithium, and n-decyl. Examples thereof include lithium, phenyl lithium, 2-naphthyl lithium, 2-butyl-phenyl lithium, 4-phenyl-butyl lithium, cyclohexyl lithium, cyclopentyl lithium, and among these, sec-butyl lithium is preferable.

ジリチウム開始剤を製造するときに用いられる第3級アミンとしては、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン等の低級脂肪族アミンやN,N−ジフェニルメチルアミン等が挙げられるが、特にトリエチルアミンが好ましい。   Examples of the tertiary amine used when producing the dilithium initiator include lower aliphatic amines such as trimethylamine and triethylamine, N, N-diphenylmethylamine, and the like, and triethylamine is particularly preferable.

また、上記二置換ビニル又はアルケニル基含有芳香族炭化水素としては、例えば、1,3−(ジイソプロペニル)ベンゼン、1,4−(ジイソプロペニル)ベンゼン、1,3−ビス(1−エチルエテニル)ベンゼン、1,4−ビス(1−エチルエテニル)ベンゼン等が好ましく挙げられる。   Examples of the disubstituted vinyl or alkenyl group-containing aromatic hydrocarbon include 1,3- (diisopropenyl) benzene, 1,4- (diisopropenyl) benzene, 1,3-bis (1-ethylethenyl). ) Benzene, 1,4-bis (1-ethylethenyl) benzene and the like are preferred.

上記ジリチウム開始剤の調製、及び(共)重合体の製造において用いられる溶媒としては、反応に不活性な有機溶剤であればよく、脂肪族、脂環族、芳香族炭化水素化合物等の炭化水素系溶媒が用いられ、例えば、n−ブタン、1−ブタン、n−ペンタン、1−ペンタン、シス−2−ブテン、トランス−2−ブテン、1−ブテン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、1−オクタン、メチルシクロペンタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、1−ヘキセン、2−ヘキセン、1−ペンテン、2−ペンテン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等から1種あるいは2種選んで使用される。これらのうち、n−ヘキサン、シクロヘキサンが通常用いられる。   The solvent used in the preparation of the above dilithium initiator and the production of the (co) polymer may be any organic solvent inert to the reaction, and hydrocarbons such as aliphatic, alicyclic and aromatic hydrocarbon compounds. System solvents are used, for example, n-butane, 1-butane, n-pentane, 1-pentane, cis-2-butene, trans-2-butene, 1-butene, n-hexane, n-heptane, n- One or two selected from octane, 1-octane, methylcyclopentane, cyclopentane, cyclohexane, 1-hexene, 2-hexene, 1-pentene, 2-pentene, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc. . Of these, n-hexane and cyclohexane are usually used.

(ポリオール製造工程)
ポリオール製造工程においては、上記の本発明に係る(共)重合体の、リビングアニオンである重合体末端とアルキレンオキシドとを当量反応させることにより両末端に水酸基を有する共役ジエン系重合体ポリオール又は共役ジエン/芳香族ビニル系共重合体ポリオール(以下、「本発明に係る(共)重合体ポリオール」ということがある)を得る。
(Polyol production process)
In the polyol production process, the conjugated diene polymer polyol or conjugated having hydroxyl groups at both ends of the (co) polymer according to the present invention by reacting an equivalent of the polymer end which is a living anion and alkylene oxide. A diene / aromatic vinyl copolymer polyol (hereinafter sometimes referred to as “(co) polymer polyol according to the present invention”) is obtained.

また、上記の本発明に係る(共)重合体のリビングアニオンである末端と反応して、両末端に水酸基を生成するポリオール化反応に用いるアルキレンオキシドとして、例えばエチレンオキシド、プロピレンオキシド又はブチレンオキシド等が挙げられる。このポリオール化反応は、重合反応直後に行うのが好ましい。   Moreover, as an alkylene oxide used for the polyolation reaction which reacts with the terminal which is the living anion of the (co) polymer according to the present invention to generate a hydroxyl group at both terminals, for example, ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, etc. Can be mentioned. This polyol reaction is preferably performed immediately after the polymerization reaction.

上記ポリオール化反応により得られた本発明に係る(共)重合体ポリオールの重量平均分子量が5,000以上であれば架橋点間分子量を大きくすることができ、光硬化反応後、弾性率を低くかつ伸び大きくできるためゴム材料として好ましく、一方、分子量が40,000以下であれば、ジリチウム触媒で重合を行う際に、重合粘度が高くなりすぎず、重合プロセスとして固形分濃度を下げる必要がないので、低コストとなり好ましい。   If the weight average molecular weight of the (co) polymer polyol according to the present invention obtained by the above-mentioned polyolation reaction is 5,000 or more, the molecular weight between crosslinking points can be increased, and the elastic modulus is lowered after the photocuring reaction. In addition, when the molecular weight is 40,000 or less, the polymerization viscosity does not become too high when the polymerization is performed with a dilithium catalyst, and it is not necessary to lower the solid content concentration as a polymerization process. Therefore, it becomes low cost and preferable.

また、分子量分布が3.0以下であると、低分子量成分や高分子量成分によるさまざまな影響を抑制することができる。特に、粘度は分子量の影響を大きく受けるため、分子量のわずかなブレは粘度バラツキとなる。狭い分子量分布の(共)重合体を合成できる本発明では、再現性良く同じ分子量の(共)重合体を得ることができるため、粘度を安定化させる効果が期待できる。本発明のような液状の材料は、ディスペンサー塗布を行う場合が多く、この場合、材料粘度のバラツキは塗布後の寸法にバラツキを生じるので、粘度の安定化は重要であり、分子量分布が3.0以下であることが好ましい。   Moreover, various influences by a low molecular weight component and a high molecular weight component can be suppressed as molecular weight distribution is 3.0 or less. In particular, since the viscosity is greatly affected by the molecular weight, slight fluctuations in the molecular weight cause viscosity variations. In the present invention in which a (co) polymer having a narrow molecular weight distribution can be synthesized, an (co) polymer having the same molecular weight can be obtained with good reproducibility, and therefore, an effect of stabilizing the viscosity can be expected. In many cases, the liquid material as in the present invention is applied by a dispenser. In this case, since the variation in the material viscosity causes a variation in the dimension after the application, the stabilization of the viscosity is important, and the molecular weight distribution is 3. It is preferably 0 or less.

(ポリオールの水添工程)
ポリオールの水添工程においては、主鎖に二重結合を有する本発明に係る(共)重合体ポリオールに水素添加反応(以下、水添反応という)を行うことにより、主鎖に不飽和二重結合を持たない水添共役ジエン系重合体ポリオール又は水添共役ジエン/芳香族ビニル系共重合体ポリオール(本発明に係る水添(共)重合体ポリオール)を得る。
ここで、(共)重合体とは、「重合体又は共重合体」をいう。
(Polymer hydrogenation process)
In the polyol hydrogenation step, the (co) polymer polyol according to the present invention having a double bond in the main chain is subjected to a hydrogenation reaction (hereinafter referred to as a hydrogenation reaction), whereby the main chain is unsaturated double. A hydrogenated conjugated diene polymer polyol or a hydrogenated conjugated diene / aromatic vinyl copolymer polyol (hydrogenated (co) polymer polyol according to the present invention) having no bond is obtained.
Here, the (co) polymer means “polymer or copolymer”.

本発明方法における水添反応は、有機溶媒中、水素加圧下で水添触媒の存在下で上記本発明に係る(共)重合体ポリオールに水素添加して行われる。本発明方法で用いる水添触媒は、パラジウム−カーボン、還元ニッケル、ロジウム系等不均一系触媒;または、ナフテン酸ニッケル、オクタン酸ニッケル等の有機ニッケル化合物あるいはナフテン酸コバルト、オクタン酸コバルト等の有機コバルト化合物とトリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等の有機アルミニウム化合物もしくはn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウムのような有機リチウム化合物を組合せた均一触媒;が使用できる。共触媒として、テトラハイドロフラン、エチレグリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル化合物を用いてもよい。   The hydrogenation reaction in the method of the present invention is carried out by hydrogenating the (co) polymer polyol according to the present invention in the presence of a hydrogenation catalyst in an organic solvent under hydrogen pressure. The hydrogenation catalyst used in the method of the present invention is a heterogeneous catalyst such as palladium-carbon, reduced nickel or rhodium; or an organic nickel compound such as nickel naphthenate or nickel octoate, or an organic such as cobalt naphthenate or cobalt octoate. A homogeneous catalyst in which a cobalt compound and an organoaluminum compound such as triethylaluminum and triisobutylaluminum or an organolithium compound such as n-butyllithium and sec-butyllithium are combined can be used. As a cocatalyst, an ether compound such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, or diethylene glycol dimethyl ether may be used.

また、他の水添反応方法としては、例えば上記水添前の本発明に係る(共)重合体を、ジシクロペンタジエニルチタンハライド、有機カルボン酸ニッケル、有機カルボン酸ニッケルと周期律表第I〜III族の有機金属化合物からなる水素化触媒、カーボン、シリカ、ケイソウ土等で担持されたニッケル、白金、バラジウム、ルテニウム、レニウム、ロジウム金属触媒やコバルト、ニッケル、ロジウム、ルテニウム錯体等を触媒として、1〜100気圧に加圧された水素下、あるいはリチウムアルミニウムハイドライド、p−トルエンスルホニルヒドラジドの存在下、もしくはZr−Ti−Fe−V−Cr合金、Zr−Ti−Nb−Fe−V−Cr合金、LaNi5合金等の水素貯蔵合金の存在下、あるいは1〜100気圧に加圧された水素下で、水素化する方法、また、ジ−p−トリル−ビス(1−シクロペンタジエニル)チタニウム/シクロヘキサン溶液とn−ブチルリチウム/n−ヘキサン溶液を水素下で混合して得られる水素化触媒を用いて、1〜100気圧に加圧された水素下で、水素添加する方法等を挙げることができる。 Further, as another hydrogenation reaction method, for example, the (co) polymer according to the present invention before hydrogenation is mixed with dicyclopentadienyl titanium halide, organic carboxylate nickel, organic carboxylate nickel and the periodic table. Hydrogenation catalysts composed of Group I to III organometallic compounds, catalysts for nickel, platinum, barium, ruthenium, rhenium, rhodium metal catalysts, cobalt, nickel, rhodium, ruthenium complexes, etc. supported on carbon, silica, diatomaceous earth, etc. As follows: under hydrogen pressurized to 1 to 100 atm, or in the presence of lithium aluminum hydride, p-toluenesulfonyl hydrazide, Zr-Ti-Fe-V-Cr alloy, Zr-Ti-Nb-Fe-V- Cr alloy, the presence of a hydrogen storage alloy such as LaNi 5 alloy, or pressurized to 1 to 100 atm hydrogen And a hydrogenation catalyst obtained by mixing di-p-tolyl-bis (1-cyclopentadienyl) titanium / cyclohexane solution and n-butyllithium / n-hexane solution under hydrogen The method of hydrogenating under hydrogen pressurized to 1 to 100 atm.

上述の各種水添触媒の中では、遷移金属化合物とアルキルアルミニウム化合物の組み合わせからなるチーグラー系水添触媒又はパラジウム−カーボン系水添触媒が好ましい。
かかる遷移金属化合物としては、トリス(アセチルアセトナート)コバルト、ビス(アセチルアセトナート)ニッケル、トリス(アセチルアセトナート)鉄、トリス(アセチルアセトナート)クロム、トリス(アセチルアセトナート)マンガン、ビス(アセチルアセトナート)マンガン、トリス(アセチルアセトナート)ルテニウム、ビス(アセチルアセトナート)コバルト、ビス(シクロペンタジエニル)ジクロロチタン、ビス(シクロペンタジエニル)ジクロロジルコニウム、ビス(トリフェニルホスフィン)コバルトジクロライド、ビス(2−ヘキサノエート)ニッケル、ビス(2−ヘキサノエート)コバルト、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラエトキシド等が挙げられる。これらのなかでも、ビス(アセチルアセトナート)ニッケル、トリス(アセチルアセトナート)コバルトが高い水添活性の面から好ましい。
Among the various hydrogenation catalysts described above, a Ziegler hydrogenation catalyst or a palladium-carbon hydrogenation catalyst comprising a combination of a transition metal compound and an alkylaluminum compound is preferred.
Such transition metal compounds include tris (acetylacetonato) cobalt, bis (acetylacetonato) nickel, tris (acetylacetonato) iron, tris (acetylacetonato) chromium, tris (acetylacetonato) manganese, bis (acetyl). Acetonato) manganese, tris (acetylacetonato) ruthenium, bis (acetylacetonato) cobalt, bis (cyclopentadienyl) dichlorotitanium, bis (cyclopentadienyl) dichlorozirconium, bis (triphenylphosphine) cobalt dichloride, Examples thereof include bis (2-hexanoate) nickel, bis (2-hexanoate) cobalt, titanium tetraisopropoxide, and titanium tetraethoxide. Among these, bis (acetylacetonato) nickel and tris (acetylacetonato) cobalt are preferable from the viewpoint of high hydrogenation activity.

また、チーグラー系水添触媒に用いられるアルキルアルミニウム化合物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリn−ブチルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジイソブチルアルミニウムクロリド、メチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、イソブチルアルミニウムジクロリド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、エチルアルミニウムセスキクロリド。これらのなかでも、トリイソブチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、ジイソブチルアルミニウムハイドライドが水添活性の面から好ましく、トリイソブチルアルミニウムが最も好ましい。   Alkyl aluminum compounds used for Ziegler hydrogenation catalysts include trimethylaluminum, triethylaluminum, triisopropylaluminum, triisobutylaluminum, tri-n-butylaluminum, dimethylaluminum chloride, diethylaluminum chloride, diisobutylaluminum chloride, methylaluminum. Dichloride, ethylaluminum dichloride, isobutylaluminum dichloride, diethylaluminum hydride, diisobutylaluminum hydride, ethylaluminum sesquichloride. Among these, triisobutylaluminum, triethylaluminum, and diisobutylaluminum hydride are preferable from the viewpoint of hydrogenation activity, and triisobutylaluminum is most preferable.

チーグラー系水添触媒の使用形態に特に制限はないが、予め遷移金属化合物とアルキルアルミニウム化合物とを反応させた触媒溶液を調製し、それを重合溶液に添加する方法を好ましく挙げることができる。かかる際に用いるアルキルアルミニウム化合物の量は、遷移金属化合物1molに対して0.2〜5molが好ましい。上記の触媒調製の反応は、−40〜100℃、好ましくは0〜80℃の温度範囲で行われ、反応時間は1分から3時間の範囲である。   Although there is no restriction | limiting in particular in the usage form of a Ziegler type | system | group hydrogenation catalyst, The method of preparing the catalyst solution which made the transition metal compound and the alkyl aluminum compound react previously and adding it to a polymerization solution can be mentioned preferably. The amount of the alkylaluminum compound used in this case is preferably 0.2 to 5 mol with respect to 1 mol of the transition metal compound. The catalyst preparation reaction is carried out in the temperature range of −40 to 100 ° C., preferably 0 to 80 ° C., and the reaction time is in the range of 1 minute to 3 hours.

また、水添反応は通常50〜180℃、好ましくは70〜150℃の温度で、また5〜100気圧(5,066.25〜101,325hPa)、好ましくは10〜50気圧(10132.5〜50,662.5hPa)の水素圧で行われる。水添温度が50℃より低いと、また水素圧が5気圧よりも低いと触媒活性が低くなることがあるため好ましくなく、水添温度が180℃を越えると触媒の失活、副反応等が起こりやすくなることがあるため好ましくない。また通常、チーグラー系水添触媒は水添活性の極めて高い触媒であり、水素圧100気圧(101,325hPa)以上とするのは必要性に乏しく装置上の負担が大きくなるので好ましくない。   The hydrogenation reaction is usually performed at a temperature of 50 to 180 ° C., preferably 70 to 150 ° C., and 5 to 100 atm (5,066.625 to 101,325 hPa), preferably 10 to 50 atm (10132.5 to 50, 662.5 hPa). If the hydrogenation temperature is lower than 50 ° C., and if the hydrogen pressure is lower than 5 atm, the catalyst activity may be low, which is not preferable. If the hydrogenation temperature exceeds 180 ° C., deactivation of the catalyst, side reactions, etc. may occur. This is not preferable because it may occur easily. In general, a Ziegler-type hydrogenation catalyst is a catalyst having extremely high hydrogenation activity, and it is not preferable to set the hydrogen pressure to 100 atm (101,325 hPa) or more because it is not necessary and the burden on the apparatus increases.

以上のように本発明の製造方法で得られた光硬化性樹脂は、通常、光硬化性組成物として用いられる。光硬化性組成物全体を基準として、その光硬化性樹脂を好ましくは20質量%以上、より好ましくは30質量%以上含有する。光硬化性樹脂以外の配合成分としては、(メタ)アクリル酸エステルモノマー、光ラジカル重合開始剤、無機充填剤及び/又は有機増粘剤が好適に用いられる。   As described above, the photocurable resin obtained by the production method of the present invention is usually used as a photocurable composition. The photocurable resin is preferably contained in an amount of 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more based on the entire photocurable composition. As a component other than the photocurable resin, a (meth) acrylic acid ester monomer, a radical photopolymerization initiator, an inorganic filler, and / or an organic thickener are preferably used.

[光硬化性組成物]
本発明に係る光硬化性組成物は、例えば、本発明の光硬化性樹脂を始めとした各成分及び所望により用いられる添加剤成分を温度調節可能な混練機、例えば、一軸押出機,二軸押出機,プラネリーミキサー、二軸ミキサー、高剪断型ミキサー等を用いて混練することにより、製造することができる。
[Photocurable composition]
The photocurable composition according to the present invention is, for example, a kneader capable of adjusting the temperature of each component including the photocurable resin of the present invention and an additive component used as desired, for example, a single screw extruder, a twin screw It can manufacture by kneading | mixing using an extruder, a planetary mixer, a twin screw mixer, a high shear mixer, etc.

(メタ)アクリル酸エステルモノマーは、硬化前の光硬化性組成物の粘度を低減するばかりでなく、硬化後の諸物性も改良する。すなわち、接着強度の向上、硬度の低下、Eb(伸び)及びTb(破断強度)の向上等を図ることができる。この(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、分子量が1,000未満のものが好ましく、150〜600のものがより好ましい。   The (meth) acrylic acid ester monomer not only reduces the viscosity of the photocurable composition before curing, but also improves various physical properties after curing. That is, it is possible to improve the adhesive strength, decrease the hardness, improve Eb (elongation), and Tb (breaking strength). The (meth) acrylic acid ester monomer preferably has a molecular weight of less than 1,000, more preferably 150 to 600.

(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシ化フェニル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリプピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート及びメトキシトリエチレングリコールアクリレート等が挙げられる。これらのうち、本発明においては、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート及びイソボニルアクリレートが好ましい。
なお、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートをいう。
(Meth) acrylic acid ester monomers include cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, diethylene glycol monoethyl ether (meth) Acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylol dicyclopentane di (meth) acrylate, dipropylene glycol (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, ethoxylated phenyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, Isoamyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, isooctyl (Meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, lauroxypolyethylene glycol (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, methoxytripylene glycol (meth) Examples include acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, and methoxytriethylene glycol acrylate. Of these, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, and isobornyl acrylate are preferred in the present invention.
In addition, (meth) acrylate means an acrylate or a methacrylate.

(メタ)アクリル酸エステルモノマーの配合量は、光硬化性樹脂と(メタ)アクリル酸エステルモノマーとを合わせて100質量部としたとき、光硬化性樹脂30〜100質量部に対して(メタ)アクリル酸エステルモノマー70〜0質量部が好ましく、さらに好ましくは、光硬化性樹脂40〜90質量部に対して(メタ)アクリル酸エステルモノマー60〜10質量部である。   The compounding amount of the (meth) acrylic acid ester monomer is (meth) with respect to 30 to 100 parts by mass of the photocurable resin when the photocurable resin and the (meth) acrylic acid ester monomer are combined to be 100 parts by mass. 70-0 mass parts of acrylic ester monomers are preferable, More preferably, it is 60-10 mass parts of (meth) acrylic acid ester monomers with respect to 40-90 mass parts of photocurable resins.

特に、(メタ)アクリル酸エステルモノマーが10質量部以上であれば、光硬化性組成物の粘度低減効果を享受でき、押出し、吐出等をし易くなり、シール材等に形成し易くなる。また、60質量部以下であれば、該組成物の粘度が低くなり過ぎず、形成直後のシール材等が流下しにくくなる。さらに、硬化後のシール材等の接着強度や弾性も確保されるので、気密性が損なわれにくい。   In particular, if the (meth) acrylic acid ester monomer is 10 parts by mass or more, the effect of reducing the viscosity of the photocurable composition can be enjoyed, and extrusion, discharge, etc. are facilitated, and it becomes easy to form a sealing material or the like. Moreover, if it is 60 mass parts or less, the viscosity of this composition will not become low too much, and it will become difficult to flow down the sealing material etc. immediately after formation. Furthermore, since the adhesive strength and elasticity of the cured sealing material and the like are ensured, the airtightness is not easily lost.

光ラジカル重合開始剤としては、分子内開裂型として、ベンゾイン誘導体類、ベンジルケタール類[例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名:イルガキュア651]、α−ヒドロキシアセトフェノン類[例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名:ダロキュア1173、イルガキュア184、イルガキュア127]、α−アミノアセトフェノン類[例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名:イルガキュア907、イルガキュア369]、α−アミノアセトフェノン類とチオキサントン類(例えば、イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン)との併用、アシルホスフィンオキサイド類[例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名:イルガキュア819]等が挙げられ、水素引き抜き型として、ベンゾフェノン類とアミンの併用、チオキサントンとアミンの併用等が挙げられる。また、分子内開裂型と水素引き抜き型を併用してもよい。なかでもオリゴマー化したα−ヒドロキシアセトフェノン及びアクリレート化したベンゾフェノン類が好ましい。より具体的には、オリゴ[2−ヒドロキシ−2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノン][例えば、Lamberti S.p.A製、商品名:ESACURE KIP150等]、アクリル化ベンゾフェノン[例えは、ダイセル・ユー・シー・ビー(株)製、商品名:Ebecryl P136等]、イミドアクリレート等が挙げられる。   As radical photopolymerization initiators, benzoin derivatives, benzyl ketals [for example, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name: Irgacure 651], α-hydroxyacetophenones [for example, Ciba -Specialty Chemicals Co., Ltd., trade names: Darocur 1173, Irgacure 184, Irgacure 127], α-aminoacetophenones [for example, Ciba Specialty Chemicals, Inc., trade names: Irgacure 907, Irgacure 369], Combination use of α-aminoacetophenones and thioxanthones (for example, isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone), acylphosphine oxides [for example, Ciba Specialty Chemicals, Inc., trade name: Irgacure 8 9], and the like, as a hydrogen abstraction type, combined use of benzophenones and amines, combination and the like of the thioxanthone and amine. Further, an intramolecular cleavage type and a hydrogen abstraction type may be used in combination. Among these, oligomerized α-hydroxyacetophenone and acrylated benzophenones are preferable. More specifically, oligo [2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone] [for example, Lamberti S. et al. p. A product, trade name: ESACURE KIP150, etc.], acrylated benzophenone [for example, trade name: Ebecryl P136, etc., manufactured by Daicel UCB Co., Ltd.], imide acrylate, and the like.

また、光ラジカル重合開始剤として、上述のもの以外に、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−メチル−1−プロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンとベンゾフェノンの混合物、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、2−メチル−1−[(4−メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、ベンゾイルメチルエーテル、ベンゾイルエチルエーテル、ベンゾイルブチルエーテル、ベンゾイルイソプロピルエーテル、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、2−ヒドロキシ−2−メチル−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノールオリゴマー、2−ヒドロキシ−2−メチル−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノールオリゴマーと2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−1−プロパノンの混合物、イソプロピルチオキサントン、o−ベンゾイル安息香酸メチル及び[4−(メチルフェニルチオ)フェニル]フェニルメタン等も用いることができる。   In addition to the above-mentioned radical photopolymerization initiators, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-methyl-1-propan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone 1-hydroxy-cyclohexyl-ketone and benzophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphine oxide, 2,4,6- Trimethylbenzoylphenylphenylethoxyphosphine oxide, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1,2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 2- Methyl-1-[(4-methylthio) phenyl] -2-morpholinopro 1-one, benzoyl methyl ether, benzoyl ethyl ether, benzoyl butyl ether, benzoyl isopropyl ether, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, 2-hydroxy-2-methyl- [4- (1- Methylvinyl) phenyl] propanol oligomer, mixture of 2-hydroxy-2-methyl- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanol oligomer and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-propanone, isopropylthioxanthone , Methyl o-benzoylbenzoate, [4- (methylphenylthio) phenyl] phenylmethane, and the like can also be used.

本発明に係る光硬化性組成物に配合される光ラジカル重合開始剤量は、光硬化性樹脂及び(メタ)アクリル酸エステルモノマーの合計100質量部に対し、0.1〜6質量部であることが好ましく、より好ましくは0.5〜4質量部、さらに好ましくは1〜3質量部である。   The radical photopolymerization initiator amount blended in the photocurable composition according to the present invention is 0.1 to 6 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the photocurable resin and the (meth) acrylic acid ester monomer. It is preferably 0.5 to 4 parts by mass, more preferably 1 to 3 parts by mass.

本発明に係る光硬化性組成物に、無機充填剤及び/又は有機増粘剤を配合すると、組成物に揺変性(チクソトロピー)を持たせ、組成物の成形性を向上させることができる。
無機充填剤としては、シリカ(SiO2)、アルミナ、チタニア及び粘度鉱物等が挙げられ、中でもシリカ粉末、疎水処理したシリカ粉末又はこれらの混合物が好ましい。より具体的には、乾式法により微粉化したシリカ微粉末[例えば、日本アエロジル(株)製、商品名:アエロジル300等]、このシリカ微粉末をトリメチルジシラザンで変性した微粉末[例えば、日本アエロジル(株)製、商品名:アエロジルRX300等]及び上記シリカ微粉末をポリジメチルシロキサンで変性した微粉末[例えば、日本アエロジル(株)製、商品名:アエロジルRY300等]等が挙げられる。
When an inorganic filler and / or an organic thickener is blended with the photocurable composition according to the present invention, the composition can have thixotropy and the moldability of the composition can be improved.
Examples of inorganic fillers include silica (SiO 2 ), alumina, titania, and viscosity minerals, among which silica powder, silica powder subjected to hydrophobic treatment, or a mixture thereof is preferable. More specifically, silica fine powder pulverized by a dry method [for example, product name: Aerosil 300 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.], fine powder obtained by modifying this silica fine powder with trimethyldisilazane [for example, Japan Aerosil Co., Ltd., trade name: Aerosil RX300, etc.] and fine powder obtained by modifying the above silica fine powder with polydimethylsiloxane [for example, Nippon Aerosil Co., Ltd., trade name: Aerosil RY300, etc.].

無機充填剤の平均粒径は、増粘性、チクソトロピーの付与の観点から、5〜50μmが好ましく、5〜12μmがより好ましい。
本発明に係る光硬化性組成物に配合される無機充填剤量は、光硬化性樹脂及び(メタ)アクリル酸エステルモノマーの合計100質量部に対し、0.1〜10質量部であることが好ましく、より好ましくは0.5〜7質量部、さらに好ましくは1〜5質量部である。
The average particle diameter of the inorganic filler is preferably 5 to 50 μm, more preferably 5 to 12 μm, from the viewpoint of thickening and thixotropy.
The amount of the inorganic filler blended in the photocurable composition according to the present invention is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the photocurable resin and the (meth) acrylic acid ester monomer. Preferably, it is 0.5-7 mass parts, More preferably, it is 1-5 mass parts.

有機増粘剤としては、水添ひまし油、アマイドワックス又はこれらの混合物が好ましい。有機増粘剤として具体的には、ひまし油(主成分がリシノール酸の不乾性油)の水添品である水添ひまし油[例えば、ズードケミー触媒(株)製、商品名:ADVITROL100、楠本化成(株)製、商品名:ディスパロン305等]及びアミド結合を有する化合物である高級アマイドワックス[例えば、楠本化成(株)製、商品名:ディスパロン6500等]等が挙げられる。   As the organic thickener, hydrogenated castor oil, amide wax or a mixture thereof is preferable. Specifically, as an organic thickener, hydrogenated castor oil which is a hydrogenated product of castor oil (non-drying oil whose main component is ricinoleic acid) [for example, product name: ADVITROL100, Enomoto Kasei Co., Ltd. Product name: Disparone 305, etc.] and high-grade amide wax which is a compound having an amide bond [for example, trade name: Disparon 6500, manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.], and the like.

本発明に係る光硬化性組成物に配合される有機増粘剤量は、光硬化性樹脂及び(メタ)アクリル酸エステルモノマーの合計100質量部に対し、0.1〜10質量部であることが好ましく、より好ましくは0.5〜7質量部、さらに好ましくは1〜5質量部である。   The amount of the organic thickener blended in the photocurable composition according to the present invention is 0.1 to 10 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the photocurable resin and the (meth) acrylic acid ester monomer. Is preferable, more preferably 0.5 to 7 parts by mass, and still more preferably 1 to 5 parts by mass.

本発明に係る光硬化性組成物においては、上記(メタ)アクリル酸エステルモノマーに加えて、又はその代替として、末端(メタ)アクリレートオリゴマーを配合することができる。この末端(メタ)アクリレートオリゴマーを配合することにより、光硬化性組成物の粘度を調節することができ、また、物理的には、硬度の低下、Eb(伸び)及びTb(破断強度)の向上等を図ることができる。   In the photocurable composition according to the present invention, a terminal (meth) acrylate oligomer can be blended in addition to or as an alternative to the (meth) acrylic acid ester monomer. By blending this terminal (meth) acrylate oligomer, the viscosity of the photocurable composition can be adjusted, and physically, the hardness is reduced, and Eb (elongation) and Tb (breaking strength) are improved. Etc. can be achieved.

なお、末端(メタ)アクリレートオリゴマーとは、片末端又は両末端にアクリロイル基又はメタクリロイル基を有するオリゴマーをいう。末端(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、透湿性、耐候性及び耐熱性の点から、炭化水素系のオリゴマー、すなわち、水添オリゴマー、末端(メタ)アクリレート水添オリゴマーが好ましい。末端(メタ)アクリレートオリゴマーの重量平均分子量は、好ましくは5,000〜40,000である。重量平均分子量がこの範囲であると、液体原料として取り扱い易く、かつ硬化物が低硬度であるという利点がある。   The terminal (meth) acrylate oligomer refers to an oligomer having an acryloyl group or a methacryloyl group at one end or both ends. The terminal (meth) acrylate oligomer is preferably a hydrocarbon oligomer, that is, a hydrogenated oligomer or a terminal (meth) acrylate hydrogenated oligomer, from the viewpoint of moisture permeability, weather resistance and heat resistance. The weight average molecular weight of the terminal (meth) acrylate oligomer is preferably 5,000 to 40,000. When the weight average molecular weight is within this range, there are advantages that it is easy to handle as a liquid raw material and the cured product has low hardness.

末端(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、例えばポリエステル(メタ)アクリレート系オリゴマー、エポキシ(メタ)アクリレート系オリゴマー、ウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマー、ポリオール(メタ)アクリレート系オリゴマー等が挙げられる。ポリエステル(メタ)アクリレート系オリゴマーとしては、例えば、多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。   Examples of the terminal (meth) acrylate oligomer include polyester (meth) acrylate oligomers, epoxy (meth) acrylate oligomers, urethane (meth) acrylate oligomers, polyol (meth) acrylate oligomers, and the like. As the polyester (meth) acrylate oligomer, for example, by esterifying the hydroxyl group of a polyester oligomer having hydroxyl groups at both ends obtained by condensation of a polyvalent carboxylic acid and a polyhydric alcohol with (meth) acrylic acid, or It can be obtained by esterifying the terminal hydroxyl group of an oligomer obtained by adding an alkylene oxide to a polyvalent carboxylic acid with (meth) acrylic acid.

エポキシ(メタ)アクリレート系オリゴマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、(メタ)アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。または、イソシアネートと変性させ、末端の水酸基をアクリル酸でエステル化することもできる。   The epoxy (meth) acrylate oligomer can be obtained, for example, by reacting (meth) acrylic acid with an oxirane ring of a relatively low molecular weight bisphenol type epoxy resin or novolak type epoxy resin and esterifying it. Alternatively, it can be modified with isocyanate and the terminal hydroxyl group can be esterified with acrylic acid.

ポリオール(メタ)アクリレート系オリゴマーは、ポリエーテルポリオールの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。ウレタン(メタ)アクリレート系オリゴマーは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアナートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。   The polyol (meth) acrylate oligomer can be obtained by esterifying the hydroxyl group of the polyether polyol with (meth) acrylic acid. The urethane (meth) acrylate oligomer can be obtained, for example, by esterifying a polyurethane oligomer obtained by a reaction of polyether polyol or polyester polyol and polyisocyanate with (meth) acrylic acid.

本発明に係る光硬化性組成物に配合される末端(メタ)アクリレートオリゴマー量は、光硬化性樹脂及び(メタ)アクリル酸エステルモノマーの合計100質量部に対し、30〜100質量部であることが好ましく、より好ましくは40〜90質量部である。但し、所望により、(メタ)アクリル酸エステルモノマーと末端(メタ)アクリレートオリゴマーを相互置換してもよい。   The amount of the terminal (meth) acrylate oligomer blended in the photocurable composition according to the present invention is 30 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the photocurable resin and the (meth) acrylic acid ester monomer. Is more preferable, and it is 40-90 mass parts more preferably. However, the (meth) acrylic acid ester monomer and the terminal (meth) acrylate oligomer may be mutually substituted if desired.

本発明に係る光硬化性組成物には、さらに、安定化剤等を加えてもよい。安定化剤としては、トリエチレングリコールビス[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオネート][例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名:IRGANOX245、旭電化工業(株)製、商品名:アデカスタブAO−70等]、3,9−ビス{2−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ]−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン[例えば、旭電化工業(株)製、商品名:アデカスタブAO−80等]等のフェノール系酸化防止剤等が挙げられる。   A stabilizer or the like may be further added to the photocurable composition according to the present invention. As a stabilizer, triethylene glycol bis [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionate] [for example, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name: IRGANOX245, Asahi Manufactured by Denka Kogyo Co., Ltd., trade name: ADK STAB AO-70, etc.], 3,9-bis {2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] -1, 1-dimethylethyl} -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane [for example, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., trade name: ADK STAB AO-80, etc.] Etc.

本発明に係る光硬化性組成物に配合される安定化剤量は、光硬化性樹脂及び(メタ)アクリル酸エステルモノマーの合計100質量部に対し、0.1〜5質量部であることが好ましく、より好ましくは0.5〜3質量部、さらに好ましくは0.5〜2質量部である。   The amount of the stabilizer compounded in the photocurable composition according to the present invention is 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the photocurable resin and the (meth) acrylic acid ester monomer. More preferably, it is 0.5-3 mass parts, More preferably, it is 0.5-2 mass parts.

さらに、本発明に係る光硬化性組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、密着性向上のための、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、クマロン樹脂、クマロン−インデン樹脂、石油系炭化水素、ロジン誘導体等の各種粘着付与剤、チタンブラック等の着色剤等の添加剤を添加することができる。   Further, the photocurable composition according to the present invention includes a terpene resin, a terpene phenol resin, a coumarone resin, a coumarone-indene resin, and a petroleum hydrocarbon within the range not impairing the effects of the present invention. Additives such as various tackifiers such as rosin derivatives and colorants such as titanium black can be added.

[電子部品用シール材]
本発明の電子部品用シール材は、電子部品用光硬化性樹脂を例えば、本発明に係る光硬化性組成物として硬化させてなる。
[Sealant for electronic parts]
The sealing material for electronic components of the present invention is obtained by curing a photocurable resin for electronic components, for example, as a photocurable composition according to the present invention.

具体的には、光硬化性組成物を被着体に塗布し、エネルギー線照射により硬化させることにより、本発明のシール材を製造することができる。
被着体としては、例えば、硬質樹脂からなるものも使用することができるが、加工性等から金属製のものが好ましい。金属としては特に制限はなく、例えば、冷延鋼板、亜鉛めっき鋼板、アルミニウム/亜鉛合金めっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板、アルミニウム合金板、マグネシウム板、マグネシウム合金板等の中から、適宜選択して用いることができる。また、マグネシウムを射出成形したものも用いることができる。耐食性の点から、無電解ニッケルめっき処理を施した金属が好適である。この無電解ニッケルめっき処理方法としては、従来金属素材に適用されている公知の方法、例えば硫酸ニッケル,次亜リン酸ナトリウム,乳酸,プロピオン酸等を適当な割合で含有するpH4.0〜5.0程度で、かつ温度85〜95℃程度の水溶液からなる無電解ニッケルめっき浴中に、金属板を浸漬する方法等を用いることができる。
Specifically, the sealing material of the present invention can be produced by applying a photocurable composition to an adherend and curing it by irradiation with energy rays.
As the adherend, for example, one made of a hard resin can be used, but a metal one is preferable from the viewpoint of workability. There is no particular limitation on the metal, for example, cold-rolled steel sheet, galvanized steel sheet, aluminum / zinc alloy plated steel sheet, stainless steel sheet, aluminum plate, aluminum alloy plate, magnesium plate, magnesium alloy plate, etc. Can be used. Moreover, what injection-molded magnesium can also be used. From the viewpoint of corrosion resistance, a metal subjected to electroless nickel plating is preferable. As this electroless nickel plating method, a known method conventionally applied to metal materials, for example, nickel sulfate, sodium hypophosphite, lactic acid, propionic acid and the like containing pH 4.0-5. A method of immersing a metal plate in an electroless nickel plating bath made of an aqueous solution having a temperature of about 0 and a temperature of about 85 to 95 ° C. can be used.

また、シール材の用途としては、HDD用等のガスケット、インクタンク用シール、液晶シール等の電子部品が挙げられる。シール材の厚さは、用途により適宜選定することができるが、通常0.1〜2.0mm程度である。   In addition, applications of the sealing material include electronic parts such as HDD gaskets, ink tank seals, and liquid crystal seals. The thickness of the sealing material can be appropriately selected depending on the application, but is usually about 0.1 to 2.0 mm.

上記光硬化性組成物の被着体等の基材への塗布は、該組成物を必要に応じて温度調節し、一定粘度に調整した塗液を用いて任意の方法で行うことができ、例えばグラビアコート、ロールコート、スピンコート、リバースコート、バーコート、スクリーンコート、ブレードコート、エアーナイフコート、ディッピング、ディスペンシング、インクジェット等の方法を用いることができる。上記光硬化性組成物を塗布し、成形した後、エネルギー線を照射することにより塗布層を硬化させて、シール材を得ることができる。   Application of the photocurable composition to a substrate such as an adherend can be performed by an arbitrary method using a coating liquid in which the temperature of the composition is adjusted as necessary and adjusted to a constant viscosity, For example, methods such as gravure coating, roll coating, spin coating, reverse coating, bar coating, screen coating, blade coating, air knife coating, dipping, dispensing, and inkjet can be used. After apply | coating and shape | molding the said photocurable composition, an application layer is hardened by irradiating an energy ray, and a sealing material can be obtained.

反応・硬化させるために用いられる活性エネルギー線とは、紫外線及び電子線、α線、β線、γ線等の電離性放射線を指すが、本発明においては紫外線が好ましい。紫外線源としては、キセノンランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、マイクロ波方式エキシマランプ等を挙げることができる。紫外線を照射する雰囲気としては、窒素ガス、炭酸ガス等の不活性ガス雰囲気あるいは酸素濃度を低下させた雰囲気が好ましいが、通常の空気雰囲気でも十分に硬化させることができる。照射雰囲気温度は、通常10〜200℃とすることができる。
また、硬化後に再度活性エネルギー線を照射したり、熱を加えることにより性状を安定化させることもできる。
The active energy ray used for reaction / curing refers to ultraviolet rays and ionizing radiation such as electron rays, α rays, β rays, and γ rays, and ultraviolet rays are preferred in the present invention. Examples of the ultraviolet light source include a xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, and a microwave excimer lamp. The atmosphere for irradiation with ultraviolet rays is preferably an inert gas atmosphere such as nitrogen gas or carbon dioxide gas, or an atmosphere with a reduced oxygen concentration, but can be sufficiently cured even in a normal air atmosphere. The irradiation atmosphere temperature can usually be 10 to 200 ° C.
Further, the properties can be stabilized by irradiating active energy rays again after curing or by applying heat.

活性エネルギー線の照射によって反応・硬化させた後の、タイプAデュロメータにより測定した、この硬化物のJIS−A硬度が55以下であれば十分なシール性を得ることができるので好ましい。同様な観点から、より好ましくは10〜55、さらに好ましくは20〜55、特に好ましくは25〜52である。   If the cured product has a JIS-A hardness of 55 or less, measured with a type A durometer after being reacted and cured by irradiation with active energy rays, a sufficient sealing property can be obtained, which is preferable. From the same viewpoint, it is more preferably 10 to 55, further preferably 20 to 55, and particularly preferably 25 to 52.

また、上記硬化後の透湿度が40g/m2・24h以下であると、シール材やガスケットとしての機能が十分に発揮されるので好ましい。特に好ましくは15g/m2・24h以下である。 Further, it is preferable that the moisture permeability after the curing is 40 g / m 2 · 24 h or less because the function as a sealing material or a gasket is sufficiently exhibited. Particularly preferably, it is 15 g / m 2 · 24 h or less.

シール材において、シール層の断面形状は、良好なシール性を確保しつつHDD等の電子機器又は印刷機器内のスペースを効率良く使用する観点から、シール層の幅1に対してシール層の高さが0.2〜2.0であることが好ましく、0.3〜2.0がより好ましい。一度で高さが得られない場合は複数回に分けて塗布することができる。この場合、一段塗布するごとにエネルギー線を照射して硬化させることも可能である。   In the sealing material, the cross-sectional shape of the sealing layer is such that the sealing layer is higher than the sealing layer width 1 from the viewpoint of efficiently using a space in an electronic device such as an HDD or a printing device while ensuring good sealing performance. Is preferably 0.2 to 2.0, more preferably 0.3 to 2.0. When the height cannot be obtained at one time, it can be applied in several times. In this case, it is possible to cure by irradiating energy rays every time one step is applied.

本発明の電子部品用シール材は、ガスケット材として好適であり、特に、ハードディスク装置用ガスケット材として好適である。   The sealing material for electronic parts of the present invention is suitable as a gasket material, and particularly suitable as a gasket material for a hard disk device.

次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。
なお、重量平均分子量はGPC法(Gel Permeation Chromatography)を用い、ポリスチレン換算により重量平均分子量を得た。
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples.
In addition, the weight average molecular weight obtained the weight average molecular weight by polystyrene conversion using GPC method (Gel Permeation Chromatography).

(重合体の製造)
充分に脱水精製したシクロヘキサン溶媒中に、1,3−(ジイソプロペニル)ベンゼン1モルを添加した後、トリエチルアミン2モル、sec−ブチルリチウム2モルを順次添加し、50℃で2時間撹拌して、ジリチウム重合開始剤を調製した。
(Manufacture of polymer)
After adding 1 mol of 1,3- (diisopropenyl) benzene to a fully dehydrated and purified cyclohexane solvent, 2 mol of triethylamine and 2 mol of sec-butyllithium are sequentially added and stirred at 50 ° C. for 2 hours. A dilithium polymerization initiator was prepared.

アルゴン置換した7リットルの重合リアクターに、脱水精製したシクロヘキサン1.35kg、22.9質量%の1,3ブタジエンモノマーのヘキサン溶液を2.67kg、1.6モル/リットルのOOPS(2−2’−ジ(テトラヒドロフリル)プロパン)のヘキサン溶液を209.4ml添加した後、0.5モル/リットルのジリチウム重合開始剤を223.5ml添加して重合を開始させた。   Into a 7-liter polymerization reactor purged with argon, 1.35 kg of dehydrated and purified cyclohexane, 2.67 kg of a hexane solution of 22.9% by mass of 1,3 butadiene monomer, 1.6 mol / liter of OOPS (2-2 ′ After adding 209.4 ml of a hexane solution of -di (tetrahydrofuryl) propane), 223.5 ml of a 0.5 mol / liter dilithium polymerization initiator was added to initiate polymerization.

重合リアクターを50℃に昇温しながら、1.5時間重合を行った後、1モル/リットルのエチレンオキシドのシクロヘキサン溶液を220.4ml添加し、さらに2時間撹拌した後、50mlのイソプロピルアルコールを添加した。重合体のヘキサン溶液をイソプロピルアルコール中に沈殿させ、十分に乾燥させて重合体ポリオールを得た。この重合体ポリオールは両末端OH基ポリブタジエンであり、重量平均分子量は、7,500、分子量分布は1.25であった。   Polymerization was performed for 1.5 hours while raising the temperature of the polymerization reactor to 50 ° C., then 220.4 ml of a 1 mol / liter ethylene oxide cyclohexane solution was added, and the mixture was further stirred for 2 hours, and then 50 ml of isopropyl alcohol was added. did. A hexane solution of the polymer was precipitated in isopropyl alcohol and sufficiently dried to obtain a polymer polyol. This polymer polyol was OH group polybutadiene at both ends, the weight average molecular weight was 7,500, and the molecular weight distribution was 1.25.

(実施例1)
重合体ポリオール120gを、十分に脱水精製したヘプタン1リットルに溶解した後、予め別容器で調製したナフテン酸ニッケル、トリエチルアルミニウム、ブタジエンが1:3:3(モル比)の触媒液を共重合体溶液中のブタジエン部1,000モルに対してニッケル1モルになるように仕込んだ。密閉反応容器に水素を27,580hPa(400psi)に加圧添加して、110℃にて4時間水添反応を行った。その後、3規定濃度の塩酸で触媒残渣を抽出分離し、さらに遠心分離をして触媒残渣を沈降分離した。
Example 1
After 120 g of polymer polyol was dissolved in 1 liter of fully dehydrated and purified heptane, a catalyst solution of nickel naphthenate, triethylaluminum and butadiene prepared in a separate container in a 1: 3: 3 (molar ratio) was copolymerized. The amount of nickel was charged to 1 mol per 1,000 mol of butadiene in the solution. Hydrogen was added under pressure to 27,580 hPa (400 psi) in a sealed reaction vessel, and a hydrogenation reaction was performed at 110 ° C. for 4 hours. Thereafter, the catalyst residue was extracted and separated with hydrochloric acid of 3N concentration, and further centrifuged to separate the catalyst residue by sedimentation.

その後、水添重合体ポリオールとヘプタンとの体積比が1:1となるように、濃縮を行い、系中の水分率を200ppm以下とした。次に、水添重合体ポリオールにおけるポリオールの水酸基当量(X)と光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物当量(Y)との比が下記表1に示すようにアクリロイルオキシエチルアクリレートを添加し、80℃の状態で、それぞれにチタンテトライソプロポキシド(マツモトファインケミカル株式会社製のオルガチックスTA−10)の含有量が300〜2000ppmとなるように添加して5時間攪拌し電子部品用光硬化性樹脂を作製した。   Then, it concentrated so that the volume ratio of hydrogenated polymer polyol and heptane might be set to 1: 1, and the moisture content in a system was 200 ppm or less. Next, acryloyloxyethyl acrylate is added so that the ratio of the hydroxyl group equivalent (X) of the polyol in the hydrogenated polymer polyol to the photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound equivalent (Y) is as shown in Table 1 below. In the state of 80 ° C., titanium tetraisopropoxide (Orgatechs TA-10 manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.) is added so that the content becomes 300 to 2000 ppm, and stirred for 5 hours. A resin was prepared.

作製した電子部品用光硬化性樹脂に光重合開始剤を添加した後、UV照射し、アクリレート化(=ウレタン反応)が進んでいれば硬度が上がるとの知見に基づき、アクリロイル−イソシアネートと水添重合体との反応性を硬度に置き換えて測定した。結果を下記表1に示す。   After adding a photopolymerization initiator to the prepared photocurable resin for electronic parts, UV irradiation and acryloyl-isocyanate and hydrogenation based on the knowledge that if the acrylated (= urethane reaction) progresses, the hardness will increase The reactivity with the polymer was measured by replacing it with hardness. The results are shown in Table 1 below.

Figure 2010285469
Figure 2010285469

(実施例2)
チタン系触媒としてチタンテトライソプロポキシドの代わりにチタンジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)(マツモトファインケミカル株式会社製のオルガチックスTC−750)を使用した以外は実施例1と同様にして電子部品用光硬化性樹脂を作製した。作製した電子部品用光硬化性樹脂を実施例1と同様にして、硬度を測定して反応率を評価した。結果を下記表2に示す。
(Example 2)
For electronic components in the same manner as in Example 1 except that titanium diisopropoxybis (ethylacetoacetate) (Orgatechs TC-750 manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.) was used as the titanium-based catalyst instead of titanium tetraisopropoxide. A photocurable resin was prepared. The produced photocurable resin for electronic components was measured in the same manner as in Example 1 to evaluate the reaction rate. The results are shown in Table 2 below.

Figure 2010285469
Figure 2010285469

(比較例1)
Ti系触媒の代わりにBi系触媒(オクチル酸ビスマス)を使用した以外は実施例1と同様にして電子部品用光硬化性樹脂を作製した。作製した電子部品用光硬化性樹脂を実施例1と同様にして、硬度を測定して反応率を評価した。結果を下記表3に示す。
(Comparative Example 1)
A photocurable resin for electronic parts was produced in the same manner as in Example 1 except that a Bi-based catalyst (bismuth octylate) was used instead of the Ti-based catalyst. The produced photocurable resin for electronic components was measured in the same manner as in Example 1 to evaluate the reaction rate. The results are shown in Table 3 below.

Figure 2010285469
Figure 2010285469

Claims (7)

チタン系触媒の存在下、共役ジエン系重合体ポリオール、又は共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体ポリオールと、光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物とを反応させる反応工程を含み、
前記共役ジエン系重合体ポリオール、又は前記共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体ポリオールにおけるポリオールの水酸基当量(X)と光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物当量(Y)との比(X:Y)を、1:1.5〜1:2.5とする電子部品用光硬化性樹脂の製造方法。
A reaction step of reacting a conjugated diene polymer polyol or a conjugated diene-aromatic vinyl copolymer polyol with a photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound in the presence of a titanium-based catalyst,
Ratio of hydroxyl group equivalent (X) of polyol in the conjugated diene polymer polyol or the conjugated diene-aromatic vinyl copolymer polyol (X: photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound equivalent (Y)) A method for producing a photocurable resin for electronic parts, wherein Y) is from 1: 1.5 to 1: 2.5.
前記反応工程後に、未反応の前記光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物を除去する除去工程を含む請求項1に記載の電子部品用光硬化性樹脂の製造方法。   The manufacturing method of the photocurable resin for electronic components of Claim 1 including the removal process of removing the said unreacted said photocurable unsaturated hydrocarbon group containing compound after the said reaction process. 前記除去工程において、前記未反応の光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物を除去する処理が、ろ過処理である請求項2に記載の電子部品用光硬化性樹脂の製造方法。   The process for removing the unreacted photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound in the removing step is a filtration process, The method for producing a photocurable resin for electronic components according to claim 2. 前記除去工程において、前記未反応の光硬化性不飽和炭化水素基含有化合物を除去する処理が、溶媒抽出処理である請求項2に記載の電子部品用光硬化性樹脂の製造方法。   The process for removing the unreacted photocurable unsaturated hydrocarbon group-containing compound in the removing step is a solvent extraction process according to claim 2. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法により製造される電子部品用光硬化性樹脂。   The photocurable resin for electronic components manufactured by the manufacturing method of any one of Claims 1-4. 請求項5に記載の電子部品用光硬化性樹脂を硬化してなる電子部品用シール材。   The sealing material for electronic components formed by hardening | curing the photocurable resin for electronic components of Claim 5. ガスケット材である請求項6に記載の電子部品用シール材。   The sealing material for electronic parts according to claim 6, which is a gasket material.
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JP2007145949A (en) * 2005-11-25 2007-06-14 Bridgestone Corp Method for producing photocurable liquid resin and photocurable liquid resin produced by the method

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