JP2010275299A - Aromatic compound and production method thereof - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an aromatic compound sufficiently small in the molecular size compared with common polymer materials and having material properties expectably usable as a resist material. <P>SOLUTION: There is provided a new aromatic compound having a double resorcinarene ring structure by reacting a resorcinol-based compound with a specific aldehyde. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は芳香族化合物及びその製造方法に関する。更に詳しくは、一般的な高分子材料と比較して分子サイズが十分に小さく、レジスト材料としての利用が期待できる材料特性を有する芳香族化合物及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an aromatic compound and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to an aromatic compound having a material size that is sufficiently small compared to a general polymer material and has material properties that can be expected to be used as a resist material, and a method for producing the same.

カリックスアレーン系化合物は、一般に、フェノール、レゾルシノール等のフェノール系化合物とアルデヒド系化合物の縮合により得られる環状オリゴマーである。近年、カリックスアレーン系化合物は、ホスト−ゲスト化学の分野においてクラウンエーテル、シクロデキストリンに次ぐ、第三の包接化合物として注目されている。   The calixarene compound is generally a cyclic oligomer obtained by condensation of a phenol compound such as phenol and resorcinol with an aldehyde compound. In recent years, calixarene compounds have attracted attention as third inclusion compounds following crown ethers and cyclodextrins in the field of host-guest chemistry.

カリックスアレーン系化合物は、通常、一分子内に多くの水酸基を有し、熱的安定性に優れ、高いガラス転移温度と高融点を有すること、また構造によっては成膜性を有することから、優れた機能性材料として注目されている。例えば、p−メチルカリックス[6]アレーンヘキサアセテートを用いた電子線ネガ型フォトレジストへの応用(例えば、非特許文献1参照)や、カリックス[4]レゾルシンアレーン、架橋剤、光酸発生剤に基づくアルカリ現像型のネガ型フォトレジストへの応用(例えば、非特許文献2参照)等が報告されている。   A calixarene compound usually has many hydroxyl groups in one molecule, is excellent in thermal stability, has a high glass transition temperature and a high melting point, and has a film forming property depending on the structure. Has attracted attention as a functional material. For example, application to an electron beam negative photoresist using p-methylcalix [6] arene hexaacetate (see, for example, Non-Patent Document 1), calix [4] resorcinarene, crosslinking agent, photoacid generator Application to an alkali developing type negative photoresist based thereon (for example, see Non-Patent Document 2) has been reported.

また、カリックスアレーン系化合物を高性能な光硬化材料に応用することを目的とした、ラジカル重合性官能基、カチオン重合性官能基の導入や、高解像度のレジスト材料への応用を目的とした保護基の導入によるカリックスアレーン系誘導体の合成及びその光反応特性についての評価が報告されている(例えば、非特許文献3、4参照)。更に、種々のカチオン重合性官能基を有するp−アルキルカリックス[n]アレーン誘導体の合成とその光カチオン重合についての検討が報告されている(例えば、非特許文献5参照)。   In addition, for the purpose of applying calixarene compounds to high-performance photocuring materials, it is intended to introduce radically polymerizable functional groups and cationically polymerizable functional groups, and to protect high-resolution resist materials. Synthesis of calixarene derivatives by introduction of a group and evaluation of the photoreaction characteristics have been reported (for example, see Non-Patent Documents 3 and 4). Furthermore, the synthesis of p-alkylcalix [n] arene derivatives having various cationically polymerizable functional groups and studies on their photocationic polymerization have been reported (for example, see Non-Patent Document 5).

また、カリックスアレーン系化合物の中でも、レゾルシノール系化合物とアルデヒド系化合物との縮合物であるカリックスレゾルシノールアレーン系化合物については、化学修飾可能な水酸基を有することから、レジスト材料等への応用研究がされている(例えば、特許文献1参照)。   Among calixarene compounds, calixresorcinolarene compounds, which are condensates of resorcinol compounds and aldehyde compounds, have chemically-modifiable hydroxyl groups, so they have been applied to resist materials. (For example, refer to Patent Document 1).

国際公開第2005/075398号International Publication No. 2005/075398

Y.Ochiai,S.Manako,H.Yamamoto,T.Teshima,J.Fujita,E.Nomura:J.Photopolymer.Sci.Tech.,13,413(2000)Y. Ochiai, S .; Manako, H .; Yamamoto, T .; Teshima, J .; Fujita, E .; Nomura: J. et al. Photopolymer. Sci. Tech. , 13, 413 (2000) T.Nakayama,M.Nomura,K.Haga,M.Ueda:Bull.Chem.Soc.Jpn.,71,2979(1998)T.A. Nakayama, M .; Nomura, K .; Haga, M .; Ueda: Bull. Chem. Soc. Jpn. 71, 2979 (1998) T.Nishikubo,A.Kameyama,and H.Kudo,K.Tsutsui:J.Polym.Sci.Part A. Polym.Chem.,39,1293(2002)T.A. Nishikubo, A .; Kameyama, and H.K. Kudo, K .; Tsutsui: J. Polym. Sci. Part A. Polym. Chem. 39, 1293 (2002) T.Nishikubo,A.Kameyama,and H.Kudo:Polym. J.,35,213(2003)T.A. Nishikubo, A .; Kameyama, and H.K. Kudo: Polym. J. et al. , 35, 213 (2003) K.Tsutsui,S.Kishimoto,A.Kameyama,T.Nishikubo:Polym.Prep.Jpn.,37,1805(1999)K. Tsutsui, S .; Kishimoto, A. et al. Kameyama, T .; Nishikubo: Polym. Prep. Jpn. , 37, 1805 (1999)

しかしながら、特許文献1に開示されたレゾルシノール系化合物とアルデヒド系化合物との縮合物であるカリックスレゾルシノールアレーン系化合物は、例えば、数平均分子量が1万を超えるような一般的な高分子材料と比較すると分子サイズは小さいが、単環状の化合物であり、材料としての力学的特性は十分ではなく、特にレジスト材料としての性能が十分ではない場合があった。   However, the calix resorcinol arene compound, which is a condensate of the resorcinol compound and the aldehyde compound disclosed in Patent Document 1, is compared with, for example, a general polymer material having a number average molecular weight exceeding 10,000. Although the molecular size is small, it is a monocyclic compound, the mechanical properties as a material are not sufficient, and in particular, the performance as a resist material may not be sufficient.

本発明は、このような従来技術の有する問題点に鑑みてなされたものであり、その課題とするところは、一般的な高分子材料と比較して分子サイズが十分に小さく、レジスト材料としての利用が期待できる材料特性を有する芳香族化合物を提供することにある。   The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and the problem is that the molecular size is sufficiently small compared to general polymer materials, An object is to provide an aromatic compound having material properties that can be expected to be used.

本発明者らは上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、レゾルシノール系化合物と特定のアルデヒドを反応させることでダブルレゾルシンアレーン環構造を有する新規な芳香族化合物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have found that a novel aromatic compound having a double resorcinarene ring structure can be obtained by reacting a resorcinol compound with a specific aldehyde, and the present invention It came to be completed.

即ち、本発明によれば、以下に示す芳香族化合物及びその製造方法が提供される。   That is, according to the present invention, the following aromatic compounds and methods for producing the same are provided.

[1]下記一般式(1)で表わされる芳香族化合物。   [1] An aromatic compound represented by the following general formula (1).

Figure 2010275299
Figure 2010275299

前記一般式(1)中、複数のXは、相互に独立に、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、複数のYは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、複数のRは、相互に独立に、水素原子、重合性官能基を有する基、アルカリ可溶性基を有する基、酸解離性基を有する基、炭素数1〜8の置換若しくは非置換のアルキル基、又は炭素数3〜12のトリアルキルシリル基を示すか、或いは2つのRが結合して形成されるメチレン基、又は炭素数2〜8の置換若しくは非置換のアルキレン基を示し、複数のmは、相互に独立に、0又は1を示し、複数のnは、相互に独立に、0又は1を示す。 In the general formula (1), a plurality of X's are independently of each other a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and 2 to 2 carbon atoms. A substituted or unsubstituted alkynyl group having 10 or 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group; Y represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, or 7 to 7 carbon atoms. A substituted or unsubstituted aralkyl group having 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, wherein a plurality of R 1 s are independent of each other; In addition, a hydrogen atom, a group having a polymerizable functional group, a group having an alkali-soluble group, a group having an acid-dissociable group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a trivalent group having 3 to 12 carbon atoms. An alkylsilyl group, or a methylene group formed by combining two R 1 s , or a substituted or unsubstituted alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, wherein a plurality of m's are each independently 0 Or a plurality of n's independently represent 0 or 1;

[2]下記一般式(2)で表される化合物(A)と、下記一般式(3)で表される化合物(B)と、を反応させて得られる芳香族化合物。   [2] An aromatic compound obtained by reacting the compound (A) represented by the following general formula (2) with the compound (B) represented by the following general formula (3).

Figure 2010275299
Figure 2010275299

前記一般式(2)中、Xは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、mは、0又は1を示す。   In the general formula (2), X is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted group having 2 to 10 carbon atoms. An alkynyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, and m represents 0 or 1 .

Figure 2010275299
Figure 2010275299

前記一般式(3)中、Yは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、nは、0又は1を示す。   In the general formula (3), Y represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted group having 2 to 10 carbon atoms. An alkynyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, and n represents 0 or 1 .

[3]下記一般式(2)で表される化合物(A)と、下記一般式(3)で表される化合物(B)と、を反応させることを含む芳香族化合物の製造方法。   [3] A method for producing an aromatic compound, comprising reacting a compound (A) represented by the following general formula (2) with a compound (B) represented by the following general formula (3).

Figure 2010275299
Figure 2010275299

前記一般式(2)中、Xは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、mは、0又は1を示す。   In the general formula (2), X is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted group having 2 to 10 carbon atoms. An alkynyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, and m represents 0 or 1 .

Figure 2010275299
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前記一般式(3)中、Yは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、nは、0又は1を示す。   In the general formula (3), Y represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted group having 2 to 10 carbon atoms. An alkynyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, and n represents 0 or 1 .

本発明の芳香族化合物は、一般的な高分子材料と比較して分子サイズが十分に小さく、かつダブルレゾルシンアレーン構造を有するために、優れた力学的特性が期待できるとともにレジスト材料としての利用が期待できるという効果を奏するものである。   The aromatic compound of the present invention has a sufficiently small molecular size as compared with a general polymer material and has a double resorcinarene structure, so that it can be expected to have excellent mechanical properties and can be used as a resist material. It has the effect that it can be expected.

また、本発明の芳香族化合物は、一般的な高分子材料と比較して分子サイズが十分に小さく、優れた力学的特性が期待できるとともにレジスト材料としての利用が期待でき、官能基の導入による機能化が可能であるという効果を奏するものである。   In addition, the aromatic compound of the present invention has a sufficiently small molecular size as compared with general polymer materials, and can be expected to have excellent mechanical properties and can be used as a resist material. There is an effect that the functionalization is possible.

更に、本発明の芳香族化合物の製造方法によれば、一般的な高分子材料と比較して分子サイズが十分に小さく、レジスト材料としての利用が期待でき、官能基の導入による機能化が可能な芳香族化合物を製造することができるという効果を奏する。   Furthermore, according to the method for producing an aromatic compound of the present invention, the molecular size is sufficiently small compared to a general polymer material, and it can be expected to be used as a resist material, and can be functionalized by introducing a functional group. This produces an effect that a simple aromatic compound can be produced.

実施例6で得られた式(9)で表される化合物のH−NMRの測定結果を示すチャートである。3 is a chart showing 1 H-NMR measurement results of a compound represented by formula (9) obtained in Example 6. FIG. 実施例6で得られた式(9)で表される化合物の13C−NMRの測定結果を示すチャートである。6 is a chart showing 13 C-NMR measurement results of the compound represented by formula (9) obtained in Example 6. FIG. 参考実験1で測定した加熱時間に対する転化率を示すチャートである。4 is a chart showing a conversion rate with respect to a heating time measured in Reference Experiment 1. 参考実験1で測定した加熱時間に対するIRスペクトルの経時変化を示すチャートである。6 is a chart showing a change with time of an IR spectrum with respect to a heating time measured in Reference Experiment 1. 参考実験2で測定した照射時間に対する転化率を示すチャートである。6 is a chart showing a conversion rate with respect to an irradiation time measured in Reference Experiment 2.

以下、本発明の実施の形態について説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、以下の実施の形態に対し適宜変更、改良等が加えられたものも本発明の範囲に含まれることが理解されるべきである。   Embodiments of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to the following embodiments. It is understood that the scope of the present invention includes modifications, improvements, and the like as appropriate to the following embodiments based on ordinary knowledge of those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. Should.

I.芳香族化合物:
本発明の芳香族化合物の一実施形態は、一般式(1)で表される化合物(以下、「芳香族化合物(I)」ともいう)であり、一般的な高分子材料と比較して分子サイズが十分に小さく、かつダブルレゾルシンアレーン構造を有するために、優れた力学的特性が期待できるとともにレジスト材料としての利用が期待できる。
I. Aromatic compounds:
One embodiment of the aromatic compound of the present invention is a compound represented by the general formula (1) (hereinafter also referred to as “aromatic compound (I)”), which is a molecule compared with a general polymer material. Since the size is sufficiently small and the structure has a double resorcinarene structure, excellent mechanical properties can be expected and use as a resist material can be expected.

Figure 2010275299
Figure 2010275299

一般式(1)中、複数のXは、相互に独立に、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、複数のYは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、複数のRは、相互に独立に、水素原子、重合性官能基を有する基、アルカリ可溶性基を有する基、酸解離性基を有する基、炭素数1〜8の置換若しくは非置換のアルキル基、又は炭素数3〜12のトリアルキルシリル基を示すか、或いは2つのRが結合して形成されるメチレン基、又は炭素数2〜8の置換若しくは非置換のアルキレン基を示し、複数のmは、相互に独立に、0又は1を示し、複数のnは、相互に独立に、0又は1を示す。 In the general formula (1), a plurality of X's are independently of each other a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and 2 to 10 carbon atoms. A substituted or unsubstituted alkynyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, Y is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, or 7 to 10 carbon atoms. A substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, and a plurality of R 1 s independently of each other, A hydrogen atom, a group having a polymerizable functional group, a group having an alkali-soluble group, a group having an acid-dissociable group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a trialkylsilyl group having 3 to 12 carbon atoms A methylene group formed by combining two R 1 groups, or a substituted or unsubstituted alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, and a plurality of m's are each independently 0 or 1 And a plurality of n's independently represents 0 or 1.

一般式(1)中、Rとして表される基は、少なくとも1つが重合性官能基を有する基であることが好ましい。Rとして表される基の少なくとも1つが重合性官能基を有する基であることで、芳香族化合物(I)を硬化性組成物に利用することができる。また、溶剤への溶解性及び成膜性も改善される。 In general formula (1), at least one group represented by R 1 is preferably a group having a polymerizable functional group. When at least one of the groups represented by R 1 is a group having a polymerizable functional group, the aromatic compound (I) can be used for the curable composition. In addition, the solubility in a solvent and the film formability are also improved.

重合性官能基としては、例えば、重合性不飽和結合を有する基、環状エーテル構造を有する基等がある。より具体的には、ビニル基、ビニリデン基、アクリロイル基、メタクリロイル基、置換又は非置換のグリシジル基、置換又は非置換のオキセタニル基、置換又は非置換のスピロオルトエステル基等を挙げることができる。   Examples of the polymerizable functional group include a group having a polymerizable unsaturated bond and a group having a cyclic ether structure. More specifically, a vinyl group, a vinylidene group, an acryloyl group, a methacryloyl group, a substituted or unsubstituted glycidyl group, a substituted or unsubstituted oxetanyl group, a substituted or unsubstituted spiro orthoester group, and the like can be given.

として表される基の少なくとも1つが重合性官能基を有する基であることで、芳香族化合物(I)を硬化性組成物に利用することができる。但し、硬化の速度を高める観点から、Rとして表される基は、更に多くの重合性官能基を有する基であることが好ましい。即ち、1つの芳香環上に存する2つのRのうち、1つ以上が重合性官能基を有する基であることが好ましく、2つとも重合性官能基を有する基であることが更に好ましい。 When at least one of the groups represented by R 1 is a group having a polymerizable functional group, the aromatic compound (I) can be used for the curable composition. However, from the viewpoint of increasing the speed of curing, the group represented by R 1 is preferably a group having more polymerizable functional groups. That is, one of two R 1 existing on one aromatic ring is preferably a group having a polymerizable functional group, and more preferably two of them are groups having a polymerizable functional group.

また、一般式(1)中、Rとして表される基は、少なくとも1つがアルカリ可溶性基を有する基であることも好ましい。Rとして表される基の少なくとも1つがアルカリ可溶性基を有する基であることで、芳香族化合物(I)をレジスト用の組成物に好適に利用することができる。例えば、アルカリ可溶性基と多官能ビニルエーテル化合物等の架橋剤とを反応させて架橋した後、光酸発生剤の存在下、特定部分に光を照射することにより、加水分解してアルカリ可溶性にした後、アルカリ水溶液で特定部分を溶解除去することにより、特定の凹凸パターンを形成することができる。また、Rとして表される基がアルカリ可溶性基を有する基であることで、成膜性も改善される。 In the general formula (1), at least one group represented by R 1 is preferably a group having an alkali-soluble group. When at least one of the groups represented by R 1 is a group having an alkali-soluble group, the aromatic compound (I) can be suitably used for a resist composition. For example, after reacting an alkali-soluble group with a cross-linking agent such as a polyfunctional vinyl ether compound to cross-link, and then irradiating a specific part with light in the presence of a photoacid generator to hydrolyze and make it alkali-soluble A specific uneven pattern can be formed by dissolving and removing a specific portion with an alkaline aqueous solution. In addition, since the group represented by R 1 is a group having an alkali-soluble group, the film formability is also improved.

アルカリ可溶性基としては、例えば、カルボキシル基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホン酸基、リン酸基等がある。   Examples of the alkali-soluble group include a carboxyl group, an amino group, a sulfonamide group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.

として表される基の少なくとも1つがアルカリ可溶性基を有する基であることで、芳香族化合物(I)をレジスト用の組成物に利用することができるが、アルカリ水溶液に対する溶解性を更に高める観点から、Rとして表される基は、更に多くのアルカリ可溶性基を有する基であることが好ましい。即ち、1つの芳香環上に存する2つのRのうち、1つ以上がアルカリ可溶性基を有する基であることが好ましく、2つともアルカリ可溶性基を有する基であることが更に好ましい。 Since at least one of the groups represented by R 1 is a group having an alkali-soluble group, the aromatic compound (I) can be used in a resist composition, but the solubility in an aqueous alkali solution is further increased. From the viewpoint, the group represented as R 1 is preferably a group having more alkali-soluble groups. That is, one of two R 1 existing on one aromatic ring is preferably a group having an alkali-soluble group, more preferably two of them are groups having an alkali-soluble group.

更に、一般式(1)中、Rとして表される基は、重合性官能基を有する基及びアルカリ可溶性基を有する基の両方を有することが、フォトレジスト用組成物等に好適に利用可能なため特に好ましい。例えば、芳香族化合物(I)を含有するフォトレジスト用組成物を用いて膜を形成した後、特定の部分に光を照射する等して特定の部分を硬化し、アルカリ水溶液によりその他の部分を溶解除去することにより、特定の凹凸パターンを形成することができる。 Furthermore, in the general formula (1), the group represented by R 1 has both a group having a polymerizable functional group and a group having an alkali-soluble group, which can be suitably used for a composition for a photoresist. Therefore, it is particularly preferable. For example, after forming a film using a composition for a photoresist containing the aromatic compound (I), the specific part is cured by irradiating the specific part with light, and the other part is removed with an alkaline aqueous solution. A specific uneven pattern can be formed by dissolving and removing.

より多くの重合性官能基及びアルカリ可溶性基を導入することができるという観点から、一般式(1)中、Rとして表される基は、重合性官能基及びアルカリ可溶性基の両方を有する基であることも好ましい。 From the viewpoint that more polymerizable functional groups and alkali-soluble groups can be introduced, the group represented by R 1 in the general formula (1) is a group having both a polymerizable functional group and an alkali-soluble group. It is also preferable.

また、一般式(1)中、Rとして表される基は、少なくとも1つがアルキル鎖の炭素数が1〜8の置換アルキル基であることが好ましい。これは、例えば、アルキル鎖をスペーサーとして、その先端に上述のような官能基を導入することにより、官能基の自由度が向上し、反応性が向上する。或いは、上述のような官能基を付加又は置換し得る置換基で置換された置換アルキル基を有する誘導体もレジスト用組成物等に使用しうる誘導体を合成するための中間体として好適に用いることができる。更に、上述のような官能基や置換基が保護基により保護された置換アルキル基を有する誘導体も中間体等として好適に用いることができる。 In general formula (1), at least one group represented by R 1 is preferably a substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms in the alkyl chain. For example, by introducing a functional group as described above at the tip of an alkyl chain as a spacer, the degree of freedom of the functional group is improved and the reactivity is improved. Alternatively, a derivative having a substituted alkyl group substituted with a substituent capable of adding or substituting a functional group as described above can also be suitably used as an intermediate for synthesizing a derivative that can be used in a resist composition or the like. it can. Furthermore, a derivative having a substituted alkyl group in which the functional group or substituent as described above is protected by a protecting group can also be suitably used as an intermediate or the like.

更に、一般式(1)中、Rとして表される基は、少なくとも1つが酸解離性基を有する基であることも好ましい。Rとして表される基の少なくとも1つが酸解離性基を有する基であることで、芳香族化合物(I)をレジスト用の組成物に好適に利用することができる。例えば、光酸発生剤の存在下、特定部分に光を照射することにより、光酸発生剤から発生した酸の作用によって酸解離性基が脱離して、アルカリ可溶性部位を生じ、その結果、レジストの露光部のアルカリ現像液に対する溶解性が高くなり、この露光部がアルカリ水溶液によって溶解、除去されることにより、特定の凹凸パターンを形成することができる。 Furthermore, in the general formula (1), at least one group represented by R 1 is preferably a group having an acid dissociable group. When at least one of the groups represented by R 1 is a group having an acid dissociable group, the aromatic compound (I) can be suitably used for a resist composition. For example, by irradiating a specific portion with light in the presence of a photoacid generator, an acid-dissociable group is eliminated by the action of an acid generated from the photoacid generator to generate an alkali-soluble site. The solubility of the exposed portion in the alkaline developer is increased, and the exposed portion is dissolved and removed by the aqueous alkali solution, whereby a specific uneven pattern can be formed.

酸解離性基としては、例えば、置換メチル基、1−置換エチル基、1−置換−n−プロピル基、1−分岐アルキル基、シリル基、ゲルミル基、アルコキシカルボニル基、環式酸解離性基等がある。より具体的には、ベンジル基、t−ブトキシカルボニルメチル基、1−メトキシエチル基、1−エトキシエチル基、1−シクロヘキシルオキシエチル基、1−エトキシ−n−プロピル基、t−ブチル基、1,1−ジメチルプロピル基、トリメチルシリル基、t−ブトキシカルボニル基、アダマンチル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒドロチオフラニル基、2−メチル−2−アダマンチルオキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基等であることが好ましい。   Examples of the acid dissociable group include a substituted methyl group, 1-substituted ethyl group, 1-substituted n-propyl group, 1-branched alkyl group, silyl group, germyl group, alkoxycarbonyl group, and cyclic acid dissociable group. Etc. More specifically, benzyl group, t-butoxycarbonylmethyl group, 1-methoxyethyl group, 1-ethoxyethyl group, 1-cyclohexyloxyethyl group, 1-ethoxy-n-propyl group, t-butyl group, 1 , 1-dimethylpropyl group, trimethylsilyl group, t-butoxycarbonyl group, adamantyl group, tetrahydropyranyl group, tetrahydrofuranyl group, tetrahydrothiopyranyl group, tetrahydrothiofuranyl group, 2-methyl-2-adamantyloxycarbonylmethyl Group, an ethoxycarbonylmethyl group and the like are preferable.

II.芳香族化合物:
また、本発明の芳香族化合物の他の実施形態は、一般式(2)で表される化合物(A)(以下、「化合物(A)」ともいう)と、一般式(3)で表される化合物(B)(以下、「化合物(B)」ともいう)と、を反応させて得られるもの(以下、「芳香族化合物(II)」ともいう)であり、一般的な高分子材料と比較して分子サイズが十分に小さく、優れた力学的特性が期待できるとともにレジスト材料としての利用が期待でき、官能基の導入による機能化が可能である。
II. Aromatic compounds:
Another embodiment of the aromatic compound of the present invention is represented by the compound (A) represented by the general formula (2) (hereinafter also referred to as “compound (A)”) and the general formula (3). Compound (B) (hereinafter also referred to as “compound (B)”) (hereinafter also referred to as “aromatic compound (II)”), In comparison, the molecular size is sufficiently small, and excellent mechanical properties can be expected, and it can be expected to be used as a resist material, and can be functionalized by introducing functional groups.

化合物(A)は、一般式(2)で表される芳香族ジオール化合物である。   The compound (A) is an aromatic diol compound represented by the general formula (2).

Figure 2010275299
Figure 2010275299

一般式(2)中、Xは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、mは、0又は1を示す。   In general formula (2), X is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms. A group, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, and m represents 0 or 1.

化合物(A)は、置換又は非置換のジヒドロキシベンゼンである。化合物(A)の具体例としては、1,3−ジヒドロキシベンゼン(レゾルシノール)、2−メチルレゾルシノール、2−ブチルレゾルシノール等を挙げることができる。これらの中でも、レゾルシノール、2−メチルレゾルシノールが好ましい。なお、これらの化合物(A)は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。   Compound (A) is substituted or unsubstituted dihydroxybenzene. Specific examples of the compound (A) include 1,3-dihydroxybenzene (resorcinol), 2-methylresorcinol, 2-butylresorcinol and the like. Among these, resorcinol and 2-methylresorcinol are preferable. In addition, these compounds (A) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

化合物(B)は、一般式(3)で表されるアルデヒド化合物である。   The compound (B) is an aldehyde compound represented by the general formula (3).

Figure 2010275299
Figure 2010275299

一般式(3)中、Yは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、nは、0又は1を示す。   In general formula (3), Y represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms. A group, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, and n represents 0 or 1.

化合物(B)の具体例としては、2,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド等を挙げることができる。なお、化合物(B)は、一種単独で使用することが好ましい。   Specific examples of the compound (B) include 2,4-dihydroxybenzaldehyde. In addition, it is preferable to use a compound (B) individually by 1 type.

このような化合物(A)と化合物(B)の縮合反応によって得られる芳香族化合物(II)としては、例えば、その構造が、下記一般式(4)や下記一般式(5)で表されるものがある。   As an aromatic compound (II) obtained by the condensation reaction of such a compound (A) and a compound (B), the structure is represented by following General formula (4) or following General formula (5), for example. There is something.

Figure 2010275299
Figure 2010275299

一般式(4)中、複数のXは、相互に独立に、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、複数のYは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、複数のmは、相互に独立に、0又は1を示し、複数のnは、相互に独立に、0又は1を示す。   In the general formula (4), a plurality of X's are independently of each other a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and 2 to 10 carbon atoms. A substituted or unsubstituted alkynyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, Y is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, or 7 to 10 carbon atoms. A substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, and a plurality of m's are each independently 0 Represents a 1, the plurality of n, independently of one another, 0 or 1.

Figure 2010275299
Figure 2010275299

一般式(5)中、複数のXは、相互に独立に、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、複数のYは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、複数のmは、相互に独立に、0又は1を示し、複数のnは、相互に独立に、0又は1を示す。   In general formula (5), a plurality of X's are independently of each other a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, or 2 to 10 carbon atoms. A substituted or unsubstituted alkynyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, Y is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, or 7 to 10 carbon atoms. A substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, and a plurality of m's are each independently 0 Represents a 1, the plurality of n, independently of one another, 0 or 1.

このような構造を有する芳香族化合物(II)に対して、塩基性条件下、一般式(6):RZ(一般式(6)中、Rは、重合性官能基を有する基、アルカリ可溶性基を有する基、酸解離性基を有する基、炭素数1〜8の置換若しくは非置換のアルキル基、又は炭素数3〜12のトリアルキルシリル基を示し、Zは、ハロゲン原子を示す。)で表わされる化合物を反応させることで、官能基の導入による機能化を行うことができ、レジスト用の材料として好適に用いることができる。 For the aromatic compound (II) having such a structure, under basic conditions, general formula (6): R 1 Z (in general formula (6), R 1 is a group having a polymerizable functional group, A group having an alkali-soluble group, a group having an acid-dissociable group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a trialkylsilyl group having 3 to 12 carbon atoms, Z represents a halogen atom .) Can be functionalized by introducing a functional group, and can be suitably used as a resist material.

III.芳香族化合物の製造方法.
本発明の芳香族化合物の製造方法は、化合物(A)と化合物(B)を反応させることを含む方法である。化合物(A)と化合物(B)の反応は縮合反応であるが、縮合反応の条件は特に限定されず、従来公知の条件で行うことができる。具体的には、酸触媒をはじめとする適当な触媒の存在下、適当な反応溶媒中、60〜120℃で6〜72時間脱水縮合させる方法等を挙げることができる。
III. A method for producing an aromatic compound.
The manufacturing method of the aromatic compound of this invention is a method including making a compound (A) and a compound (B) react. The reaction between the compound (A) and the compound (B) is a condensation reaction, but the conditions for the condensation reaction are not particularly limited and can be performed under conventionally known conditions. Specific examples include a method of dehydrating condensation in an appropriate reaction solvent at 60 to 120 ° C. for 6 to 72 hours in the presence of an appropriate catalyst such as an acid catalyst.

脱水縮合反応に際して使用する触媒の具体例としては、塩酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、パーフルオロブタンスルホン酸、ペンタフルオロベンゼンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも、塩酸、トリフルオロ酢酸が、より高収率で目的とする芳香族化合物を製造することができるために好ましい。   Specific examples of the catalyst used in the dehydration condensation reaction include hydrochloric acid, trifluoroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, perfluorobutanesulfonic acid, pentafluorobenzenesulfonic acid and the like. Among these, hydrochloric acid and trifluoroacetic acid are preferable because the desired aromatic compound can be produced with higher yield.

また、脱水縮合反応に際して使用する反応溶媒の好適例としては、純水;ジメチルホルムアミド;ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の含ハロゲン系溶媒;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶媒等を挙げることができる。   Preferred examples of the reaction solvent used in the dehydration condensation reaction include pure water; dimethylformamide; halogen-containing solvents such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, chlorobenzene, dichlorobenzene; methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, etc. Examples thereof include alcohol solvents.

縮合反応に用いる化合物(A)と化合物(B)の割合は特に制限はないが、収率を向上させる観点からは、化合物(B)1molに対して、化合物(A)が1〜8molであることが好ましく、2〜6molであることが更に好ましく、3〜5molであることが特に好ましい。上記割合の範囲外であると、目的とする芳香族化合物の収率が低下する場合がある。   The ratio of the compound (A) and the compound (B) used in the condensation reaction is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the yield, the compound (A) is 1 to 8 mol with respect to 1 mol of the compound (B). It is preferably 2-6 mol, more preferably 3-5 mol. If the ratio is out of the above range, the yield of the target aromatic compound may decrease.

縮合反応における、反応溶液中の基質濃度(化合物(A)と化合物(B)の合計の濃度)は、特に限定されないが、収率向上の観点からは、2mol/L以上であることが好ましく、4mol/L以上であることが更に好ましく、4〜10mol/Lであることが特に好ましい。基質濃度が2mol/L未満であると、目的とする芳香族化合物の収率が低下する場合がある。   The substrate concentration in the reaction solution in the condensation reaction (the total concentration of the compound (A) and the compound (B)) is not particularly limited, but is preferably 2 mol / L or more from the viewpoint of yield improvement, It is more preferably 4 mol / L or more, and particularly preferably 4 to 10 mol / L. If the substrate concentration is less than 2 mol / L, the yield of the target aromatic compound may be reduced.

縮合反応後、生成物を縮合物(沈殿物)として得ることができる。得られた生成物を、水、有機溶媒、又は水と有機溶媒との混合溶媒で洗浄して精製することが好ましい。有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルi−ブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、3−メチルシクロペンタノン、2,6−ジメチルシクロヘキサノン等のケトン類;メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、1,4−ヘキサンジオール、1,4−ヘキサンジメチロール等のアルコール類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸i−アミル等のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;フェノール、アセトニルアセトン、ジメチルホルムアミド等を挙げることができる。これらの中でも、メタノール、エタノール、ジエチルエーテルが好ましい。また、水及びエーテル系溶媒を含有する有機溶媒で洗浄して精製することが好ましい。なお、これらの有機溶媒は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。また、得られた生成物を有機溶媒に溶解し、溶解した有機溶媒を水で洗浄することにより、残存する原料や副生成物を除去することもできる。   After the condensation reaction, the product can be obtained as a condensate (precipitate). The obtained product is preferably purified by washing with water, an organic solvent, or a mixed solvent of water and an organic solvent. Specific examples of the organic solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl i-butyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 3-methylcyclopentanone, and 2,6-dimethylcyclohexanone; methanol, ethanol, n-propyl alcohol, alcohols such as i-propyl alcohol, n-butyl alcohol, t-butyl alcohol, cyclopentanol, cyclohexanol, 1,4-hexanediol, 1,4-hexanedimethylol; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane And the like; esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate and i-amyl acetate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; phenol, acetonylacetone and dimethylformamide. Among these, methanol, ethanol, and diethyl ether are preferable. Moreover, it is preferable to purify by washing with an organic solvent containing water and an ether solvent. In addition, these organic solvents can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The remaining raw materials and by-products can also be removed by dissolving the obtained product in an organic solvent and washing the dissolved organic solvent with water.

前記のようにして得られる生成物に対して、塩基性条件下、前記一般式(6)で表わされる化合物を反応させることで、芳香族化合物(I)を製造することができる。   The aromatic compound (I) can be produced by reacting the product obtained as described above with the compound represented by the general formula (6) under basic conditions.

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、各種物性値の測定方法、及び諸特性の評価方法を以下に示す。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples. In addition, the measuring method of various physical-property values and the evaluation method of various characteristics are shown below.

[ゲル濾過クロマトグラフィー(GPC)]:以下に示す条件で分析を行った。
システム:東ソー社製、型番「HLC−8220」
検出器:型番「HLC−8200」、内蔵RI・UV−8200(280nm)
カラムオーブン温度:40℃
カラム:昭和電工社製、商品名「Shodex Asahipak GF−510 HQ」+商品名「GF−310 HQ」×2
溶離液:20mM LiBr及び20mM HPO含有ジメチルホルムアミド溶液。
[Gel filtration chromatography (GPC)]: The analysis was performed under the following conditions.
System: Model number “HLC-8220” manufactured by Tosoh Corporation
Detector: Model number “HLC-8200”, built-in RI / UV-8200 (280 nm)
Column oven temperature: 40 ° C
Column: manufactured by Showa Denko KK, trade name “Shodex Asahipak GF-510 HQ” + trade name “GF-310 HQ” × 2
Eluent: dimethylformamide solution containing 20 mM LiBr and 20 mM H 3 PO 4 .

[ESI−MASS測定]:以下に示す条件で分析を行った。
システム:日本電子社製、Accu−TOF
イオン化モード:ネガティブモード
サンプル濃度:500ppb
オリフィス1電圧掃引:−60V
リングレンズ電圧:−34V
溶媒:メタノール
[ESI-MASS measurement]: The analysis was performed under the following conditions.
System: JEOL Ltd., Accu-TOF
Ionization mode: negative mode Sample concentration: 500 ppb
Orifice 1 voltage sweep: -60V
Ring lens voltage: -34V
Solvent: methanol

[IR(cm−1)]:Thermo ELECTRON社製の型番「NICOLET 380 FT−IR」を使用して測定した。 [IR (cm −1 )]: Measured using a model number “NICOLET 380 FT-IR” manufactured by Thermo ELECTRON.

H−NMR及び13C−NMR]:日本電子社製の型番「JNM−ECA−500」(500MHz(H)、150MHz(13C))、日本電子社製の型番「JNM−ECA−600」(600MHz(H))を使用して測定した。 [ 1 H-NMR and 13 C-NMR]: model number “JNM-ECA-500” (500 MHz ( 1 H), 150 MHz ( 13 C)) manufactured by JEOL Ltd., model number “JNM-ECA- manufactured by JEOL Ltd. 600 "was measured using (600MHz (1 H)).

(実施例1)
回転子を入れた100mL二口ナスフラスコに、レゾルシノール1.20g(10.9mmol)、2,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド1.51g(10.9mmol)、及び蒸留水30mLを加え、加熱してレゾルシノールと2,4−ジヒドロキシベンズアルデヒドを溶解した。触媒として塩酸を5mL加えた後、80℃で5.5時間攪拌した。反応終了後、室温まで放冷し、メタノールで洗浄した。遠心分離機を用いて溶液層と固体層に分離した後、溶液層をデカンテーションし、再度メタノールで洗浄した。遠心分離及び洗浄を三回繰り返し、得られた固体を濾取し、減圧乾燥することで反応生成物を得た(収量0.69g)。得られた反応生成物をゲル濾過クロマトグラフィーで測定したところ、Mnが1550であり、Mw/Mnが1.037であった。また、ESI−MASS測定を行ったところ、919.45、1149.57、1269.58にピークが観測された。この結果から、反応生成物は、下記式(7)及び(8)で表される化合物の混合物であることが予想される。
Example 1
To a 100 mL two-necked eggplant flask containing a rotor, 1.20 g (10.9 mmol) of resorcinol, 1.51 g (10.9 mmol) of 2,4-dihydroxybenzaldehyde, and 30 mL of distilled water are added and heated to add resorcinol and 2 , 4-Dihydroxybenzaldehyde was dissolved. After adding 5 mL of hydrochloric acid as a catalyst, the mixture was stirred at 80 ° C. for 5.5 hours. After completion of the reaction, the mixture was allowed to cool to room temperature and washed with methanol. After separating into a solution layer and a solid layer using a centrifuge, the solution layer was decanted and washed again with methanol. Centrifugation and washing were repeated three times, and the resulting solid was collected by filtration and dried under reduced pressure to obtain a reaction product (yield 0.69 g). When the obtained reaction product was measured by gel filtration chromatography, Mn was 1550 and Mw / Mn was 1.037. Further, when ESI-MASS measurement was performed, peaks were observed at 919.45, 1149.57, and 1269.58. From this result, it is expected that the reaction product is a mixture of compounds represented by the following formulas (7) and (8).

Figure 2010275299
Figure 2010275299

実測値(m/z):1269.58([M−H
計算値(m/z):1269.31([M−H
Actual value (m / z): 1269.58 ([M−H + ] )
Calculated value (m / z): 1269.31 ([M−H + ] )

Figure 2010275299
Figure 2010275299

実測値(m/z):1149.57([M−H
計算値(m/z):1149.29([M−H
Actual value (m / z): 1149.57 ([M−H + ] )
Calculated value (m / z): 1149.29 ([M−H + ] )

(実施例2)
回転子を入れた25mLのナスフラスコに、レゾルシノール0.36g(3.26mmol)、2,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド0.45g(3.26mmol)、蒸留水9mL、及び触媒として塩酸1.5mLを加えた後、60℃で5.5時間攪拌した。反応終了後、室温まで放冷し、析出した固体を濾取した。水及び冷メタノールで洗浄した後、減圧乾燥することにより反応生成物を得た(収量0.18g)。得られた反応生成物をゲル濾過クロマトグラフィーで測定したところ、式(7)で表される化合物の割合は76%であった。
(Example 2)
To a 25 mL eggplant flask containing a rotor, 0.36 g (3.26 mmol) of resorcinol, 0.45 g (3.26 mmol) of 2,4-dihydroxybenzaldehyde, 9 mL of distilled water, and 1.5 mL of hydrochloric acid as a catalyst were added. Then, it stirred at 60 degreeC for 5.5 hours. After completion of the reaction, the mixture was allowed to cool to room temperature, and the precipitated solid was collected by filtration. After washing with water and cold methanol, the reaction product was obtained by drying under reduced pressure (yield 0.18 g). When the obtained reaction product was measured by gel filtration chromatography, the ratio of the compound represented by formula (7) was 76%.

(実施例3〜5及び比較例1)
表1に示す温度条件で反応を行ったこと以外は実施例2と同様にして反応生成物を得た。得られた反応生成物をゲル濾過クロマトグラフィーで測定し、式(7)で表される化合物の割合を測定した。測定結果を併せて表1に記す。なお、実施例5に関しては、蒸留水の代わりにジメチルホルムアミドを用いた。
(Examples 3-5 and Comparative Example 1)
A reaction product was obtained in the same manner as in Example 2 except that the reaction was performed under the temperature conditions shown in Table 1. The obtained reaction product was measured by gel filtration chromatography, and the ratio of the compound represented by the formula (7) was measured. The measurement results are also shown in Table 1. In Example 5, dimethylformamide was used instead of distilled water.

Figure 2010275299
Figure 2010275299

表1からわかるように、反応温度の上昇とともに、式(7)で表される化合物の割合が増加した。なお、比較例1では2,4−ジヒドロキシベンズアルデヒドが溶媒に完全に溶解せず、反応が進行しなかった。また、実施例5では、ジメチルホルムアミド中に不溶部が確認された。   As can be seen from Table 1, the proportion of the compound represented by the formula (7) increased as the reaction temperature increased. In Comparative Example 1, 2,4-dihydroxybenzaldehyde was not completely dissolved in the solvent, and the reaction did not proceed. Moreover, in Example 5, the insoluble part was confirmed in dimethylformamide.

(実施例6)
回転子を入れた100mLの二口フラスコに、実施例1で得られた反応生成物を3.81g、イミダゾール24.9gを加えて、アルゴンを封入した。溶媒として、脱水テトラヒドロフラン60mL加えて攪拌し、80℃で懸濁させた後、トリメチルシリルクロライド18.3mLを加えて48時間加熱還流した。反応終了後、n−ヘキサン60mLを加えて、カラムクロマトグラフィーにより淡黄色の液体を分離した。液体を濃縮した後、アセトン及びn−ヘキサンを用いて再結晶を2度行い、無色透明の柱状結晶を得た。この結晶の分析結果を以下に示し、H−NMR及び13C−NMRの測定結果を示すチャートを図1及び図2に示す。
(Example 6)
To a 100 mL two-necked flask containing a rotor, 3.81 g of the reaction product obtained in Example 1 and 24.9 g of imidazole were added, and argon was sealed. As a solvent, 60 mL of dehydrated tetrahydrofuran was added and stirred, suspended at 80 ° C., and then 18.3 mL of trimethylsilyl chloride was added and heated to reflux for 48 hours. After completion of the reaction, 60 mL of n-hexane was added, and a pale yellow liquid was separated by column chromatography. After concentrating the liquid, recrystallization was performed twice using acetone and n-hexane to obtain colorless and transparent columnar crystals. The analysis results of this crystal are shown below, and charts showing the measurement results of 1 H-NMR and 13 C-NMR are shown in FIGS. 1 and 2.

IR(film,cm−1):2959,2902(ν>CH)、1602,1572,1493(νC=C aromatic)、1252(νSi−C)、1190(νSi−O IR (film, cm -1): 2959,2902 (ν> CH), 1602,1572,1493 (ν C = C aromatic), 1252 (ν Si-C), 1190 (ν Si-O)

H(500MHz,CDCl)δ(ppm):−0.17〜0.08(m,196H,TMS−H)、5.67〜5.85,6.00〜6.61(m,26H,aromatic−H)、5.90〜5.94(m,6H,>CH) 1 H (500 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm): −0.17 to 0.08 (m, 196H, TMS-H), 5.67 to 5.85, 6.00 to 6.61 (m, 26H) , Aromatic-H), 5.90-5.94 (m, 6H,> CH)

融点:208.4℃(by DSC)   Melting point: 208.4 ° C. (by DSC)

分解開始温度(T ):387.7℃
5質量%分解温度(T 5質量%):444.5℃
10質量%分解温度(T 10質量%):460.7℃
Decomposition temperature (T d i): 387.7 ℃
5 mass% decomposition temperature ( Td 5 mass% ): 444.5 ° C
10% by mass decomposition temperature (T d 10% by mass ): 460.7 ° C.

以上の分析結果から、得られた結晶は、下記式(9)で表される化合物であることが予想される。   From the above analysis results, the obtained crystal is expected to be a compound represented by the following formula (9).

Figure 2010275299
Figure 2010275299

(実施例7)
回転子を入れた200mLの二口ナスフラスコに、溶解促進剤としてテトラブチルアンモニウムブロマイド(以下、「TBAB」ともいう)0.355g(1.1mmol、水酸基に対して5mol%)、及び溶媒としてピリジン10mLを加えた。そこに実施例4で得られた反応生成物1.27gを加え懸濁させた。そこに、ジ−tert−ブチルジカーボネート10.1mL(44mmol、水酸基に対して2当量)をゆっくり滴下し、室温で48時間攪拌した。
(Example 7)
In a 200 mL two-necked eggplant flask containing a rotor, 0.355 g (1.1 mmol, 5 mol% with respect to the hydroxyl group) of tetrabutylammonium bromide (hereinafter also referred to as “TBAB”) as a dissolution accelerator and pyridine as a solvent 10 mL was added. To this, 1.27 g of the reaction product obtained in Example 4 was added and suspended. Thereto, 10.1 mL of di-tert-butyl dicarbonate (44 mmol, 2 equivalents relative to the hydroxyl group) was slowly added dropwise and stirred at room temperature for 48 hours.

反応終了後、反応混合物をクロロホルムで希釈し、1規定の塩酸水溶液で3回、水で2回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、濃縮し、水−メタノール混合溶媒を用いて沈殿精製を行った。得られた個体をろ取し、減圧乾燥して黄色の粉末状固体を得た(収量2.83g、収率82%)。この固体の分析結果を以下に示す。   After completion of the reaction, the reaction mixture was diluted with chloroform, washed 3 times with 1N aqueous hydrochloric acid solution and twice with water, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The desiccant was filtered off, concentrated, and purified by precipitation using a water-methanol mixed solvent. The obtained solid was collected by filtration and dried under reduced pressure to obtain a yellow powdery solid (yield 2.83 g, yield 82%). The analysis results of this solid are shown below.

IR(film,cm−1):2981,2934(νC―H aromatic)、1760(νC=O)、1594(νC=C aromatic)、1387(νt−butyl)、1249,1143(νC−O−C etherIR (film, cm −1 ): 2981, 2934 (ν C-H aromatic ), 1760 (ν C═O ), 1594 (ν C = C aromatic ), 1387 (ν t-butyl ), 1249, 1143 (ν C-O-C ether )

H(600MHz,CDCl、TMS)δ(ppm):1.10〜1.61(m,218H,t−butyl H)、5.53〜7.13(m,32H,aromatic−H and methyn−H) 1 H (600MHz, CDCl 3, TMS) δ (ppm): 1.10~1.61 (m, 218H, t-butyl H), 5.53~7.13 (m, 32H, aromatic-H and methyn -H)

以上の分析結果から、得られた固体は下記式(10)で表される化合物が主生成物であることが予想される。   From the above analysis results, the obtained solid is expected to be a main product of a compound represented by the following formula (10).

Figure 2010275299
Figure 2010275299

(参考実験1)
実施例7で得られた個体0.104g(0.03mmol)を秤量し、光酸発生剤としてトリフェニルスルホニウム・トリフルオロメタンスルホネート0.014g(水酸基に対して5mol%)を加え、少量の脱水テトラヒドロフランを用いて混合し、KBrに塗布した。光源として250Wの超高圧水銀灯を用いて30分間光照射を行った後、110℃で1時間加熱した。フーリエ変換赤外分光光度計(商品名「「NICOKET 380FT/IR」、Thermo ELECTRON社製)を用いて赤外スペクトルの経時変化を測定した。なお、加熱反応終了後のサンプルは、2.38質量%のテトラメチルヒドロキシアンモニウム水溶液に可溶であった。
(Reference Experiment 1)
0.104 g (0.03 mmol) of the solid obtained in Example 7 was weighed, 0.014 g of triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate (5 mol% based on hydroxyl group) was added as a photoacid generator, and a small amount of dehydrated tetrahydrofuran was added. And applied to KBr. Light irradiation was performed for 30 minutes using a 250 W ultra-high pressure mercury lamp as a light source, and then heated at 110 ° C. for 1 hour. Using a Fourier transform infrared spectrophotometer (trade name “NICOKET 380FT / IR”, manufactured by Thermo ELECTRON), the time course of the infrared spectrum was measured. The sample after the completion of the heating reaction was soluble in a 2.38% by mass tetramethylhydroxyammonium aqueous solution.

光脱保護反応の転化率は、芳香族の1611cm−1の吸収ピークを基準として、1387cm−1のt−ブチル基の吸収ピークの減少から算出した。加熱時間に対する転化率を示すチャートを図3に示す。また、IRスペクトルの加熱時間に対する経時変化を示すチャートを図4に示す。図4の加熱時間0分のチャートから水酸基の存在が確認できるので、光照射のみで脱保護が進行していると考えられる。 The conversion rate of the photodeprotection reaction was calculated from the decrease in the absorption peak of the t-butyl group at 1387 cm −1 with the aromatic absorption peak at 1611 cm −1 as a reference. A chart showing the conversion with respect to the heating time is shown in FIG. Further, FIG. 4 shows a chart showing the change with time of the IR spectrum with respect to the heating time. Since the presence of a hydroxyl group can be confirmed from the chart of heating time 0 minutes in FIG. 4, it is considered that deprotection proceeds only by light irradiation.

(参考実験2)
リアルタイム赤外分光装置(商品名「Real Time IR FTS3000型」、日本バイオラッド ラボラトリーズ社製)を用いて光照射のみの脱保護の経時変化を測定した。照射時間に対する転化率を示すチャートを図5に示す。
(Reference Experiment 2)
Using a real-time infrared spectroscope (trade name “Real Time IR FTS3000 type”, manufactured by Nippon Bio-Rad Laboratories, Inc.), the temporal change of deprotection only by light irradiation was measured. A chart showing the conversion rate with respect to the irradiation time is shown in FIG.

図5からわかるように、得られた個体は光照射のみによって脱保護反応が進行した。なお、光照射を1時間行っても転化率は20%であり、定常状態には至っていなかった。   As can be seen from FIG. 5, the obtained individuals proceeded with the deprotection reaction only by light irradiation. In addition, even if light irradiation was performed for 1 hour, the conversion rate was 20% and it did not reach the steady state.

参考実験1及び2の結果から、実施例7で得られた固体は露光により脱保護反応が進行し、アルカリ水溶液に可溶となるので、レジスト材料等に利用することが期待できる。   From the results of Reference Experiments 1 and 2, the solid obtained in Example 7 undergoes a deprotection reaction upon exposure and becomes soluble in an aqueous alkali solution, so that it can be expected to be used as a resist material.

(実施例8)
回転子を入れた50mLのナスフラスコに、実施例4で得られた反応生成物0.32g、TBAB90mg(0.275mmol、水酸基に対して5mol%)、炭酸カリウム1.14g(8.25mmol、水酸基に対して1.5当量)、及び溶媒としてN−メチル−2−ピロリジノン(以下、「NMP」ともいう)10mLを加えた。60℃で3時間加熱攪拌した後、NMP5mLに溶解したブロモ酢酸2−メチル−2−アダマンチル0.79g(2.75mmol、水酸基に対して0.5当量)を加えて、60℃で24時間攪拌した。
(Example 8)
In a 50 mL eggplant flask containing a rotor, 0.32 g of the reaction product obtained in Example 4, 90 mg of TBAB (0.275 mmol, 5 mol% with respect to the hydroxyl group), 1.14 g of potassium carbonate (8.25 mmol, hydroxyl group) 1.5 equivalents) and 10 mL of N-methyl-2-pyrrolidinone (hereinafter also referred to as “NMP”) was added as a solvent. After stirring at 60 ° C. for 3 hours, 0.79 g of 2-methyl-2-adamantyl bromoacetate (2.75 mmol, 0.5 equivalent to the hydroxyl group) dissolved in 5 mL of NMP was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 24 hours. did.

反応終了後、反応混合物を1規定の塩酸水溶液に滴下し、沈殿物をろ取した。この固体を酢酸エチルに溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、溶媒を減圧留去し、カラムクロマトグラフィ(展開溶媒:THF/n−ヘキサン=3/1)により単離し、更にn−ヘキサンを用いて沈殿生成を行って固体を得た(収量0.60g、収率78%、導入率40%)。この固体の分析結果を以下に示す。なお、2−メチル−2−アダマンチルカルボニルオキシメチル基の導入率は、芳香環のプロトン、メチンプロトン、及び2−メチル−2−アダマンチルカルボニルオキシメチル基のメチレンプロトンから算出した。   After completion of the reaction, the reaction mixture was added dropwise to 1N aqueous hydrochloric acid, and the precipitate was collected by filtration. This solid was dissolved in ethyl acetate and dried over magnesium sulfate. After the desiccant is filtered off, the solvent is distilled off under reduced pressure, isolated by column chromatography (developing solvent: THF / n-hexane = 3/1), and further precipitated by using n-hexane to obtain a solid. (Yield 0.60 g, Yield 78%, Introduction rate 40%). The analysis results of this solid are shown below. The introduction rate of the 2-methyl-2-adamantylcarbonyloxymethyl group was calculated from the proton of the aromatic ring, the methine proton, and the methylene proton of the 2-methyl-2-adamantylcarbonyloxymethyl group.

IR(film,cm−1):3440(νO−H)、2913,2862(ν>CH)、1729(νC=O ester)、1612(νC=C aromatic)、1213,1103(νCOOC esterIR (film, cm −1 ): 3440 (ν O—H ), 2913, 2862 (ν > CH 2 ), 1729 (ν C = O ester ), 1612 (ν C = C aromatic ), 1213, 1103 (ν COOC ) ester )

H(600MHz,CDCl、TMS)δ(ppm):1.14〜2.54(m,180H,Hb−k)、3.82〜4.96(m,18H,H)、5.05〜7.13(m,32H,aromatic−H and methyn−H) 1 H (600MHz, CDCl 3, TMS) δ (ppm): 1.14~2.54 (m, 180H, H b-k), 3.82~4.96 (m, 18H, H a), 5 .05 to 7.13 (m, 32H, aromatic-H and methyn-H)

なお、Ha−kは、導入した2−メチル−2−アダマンチルカルボニルオキシメチル基の下記位置a−kに対応したプロトンを示す。 H ak represents a proton corresponding to the following position ak of the introduced 2-methyl-2-adamantylcarbonyloxymethyl group.

Figure 2010275299
Figure 2010275299

以上の分析結果から、得られた結晶は下記式(11)で表される化合物が主生成物であることが予想される。   From the above analysis results, it is expected that the compound obtained by the following formula (11) is the main product in the obtained crystal.

Figure 2010275299
Figure 2010275299

(実施例9)
回転子を入れた50mLの三口ナスフラスコに、実施例4で得られた反応生成物0.63g、層間移動触媒としてTBAB0.36g(1.1mmol、水酸基に対して10mol%)、ジメチルホルムアミド5mL、及び水0.5mLを加えて完全に溶解した。その後、炭酸セシウム5.38g(16.5mmol、水酸基に対して1.5当量)を加えて50℃で2時間攪拌した。その後、ブロモ酢酸エチル2.76g(16.5mmol、水酸基に対して1.5当量)を滴下し、50℃で5時間攪拌した。
Example 9
In a 50 mL three-necked eggplant flask containing a rotor, 0.63 g of the reaction product obtained in Example 4, 0.36 g of TBAB (1.1 mmol, 10 mol% with respect to the hydroxyl group) as an interlayer transfer catalyst, 5 mL of dimethylformamide, And 0.5 mL of water was added to dissolve completely. Thereafter, 5.38 g (16.5 mmol, 1.5 equivalents relative to the hydroxyl group) of cesium carbonate was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 2 hours. Thereafter, 2.76 g of ethyl bromoacetate (16.5 mmol, 1.5 equivalents relative to the hydroxyl group) was added dropwise, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 5 hours.

反応終了後、反応混合物をクロロホルムで希釈し、食塩水で1回、水で2回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別した後、濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィ(展開溶媒:酢酸エチル)により単離し、更にn−ヘキサンを用いて沈殿生成を行った。デカンテーションにより溶媒を取り除き、減圧乾燥により茶色の粘性の液体を得た(収量0.915g、収率58%、導入率111%)。この固体の分析結果を以下に示す。なお、収率及びエチルエステル基の導入率は、実施例1で得られた反応生成物が全て式(7)で表される化合物と仮定した値である。   After completion of the reaction, the reaction mixture was diluted with chloroform, washed once with brine and twice with water, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The desiccant was filtered off, concentrated, isolated by silica gel chromatography (developing solvent: ethyl acetate), and further precipitated with n-hexane. The solvent was removed by decantation, and a brown viscous liquid was obtained by drying under reduced pressure (yield 0.915 g, yield 58%, introduction rate 111%). The analysis results of this solid are shown below. In addition, a yield and the introduction rate of an ethyl ester group are the values which assumed that all the reaction products obtained in Example 1 were a compound represented by Formula (7).

IR(film,cm−1):2983,2938(ν>CH)、1758,1736(νC=O ester)、1611,1518(νC=C aromatic)、1206,1183(νCOOC esterIR (film, cm −1 ): 2983, 2938 (ν > CH 2 ), 1758, 1736 (ν C = O ester ), 1611, 1518 (ν C = C aromatic ), 1206, 1183 (ν COOC ester )

H(600MHz,DMSO−d,TMS)δ(ppm):1.13〜1.27(m,75H,H)、3.79〜4.77(m,99H,H and H)、5.56〜6.51(m,32H,aromatic−H and methyn−H) 1 H (600 MHz, DMSO-d 6 , TMS) δ (ppm): 1.13 to 1.27 (m, 75 H, H c ), 3.79 to 4.77 (m, 99 H, H a and H b ) 5.56 to 6.51 (m, 32H, aromatic-H and methyn-H)

なお、Ha−cは、導入したエチルエステル基の下記位置a−cに対応したプロトンを示す。 H a-c represents a proton corresponding to the following position a-c of the introduced ethyl ester group.

Figure 2010275299
Figure 2010275299

以上の分析結果から、得られた液体は、下記式(12)で表される化合物が主生成物であることが予想される。   From the above analysis results, it is expected that the compound obtained by the following formula (12) is the main product in the obtained liquid.

Figure 2010275299
Figure 2010275299

本発明の芳香族化合物は、一般的な高分子材料と比較して分子サイズが十分に小さく、ダブルレゾルシンアレーン構造を有するために優れた力学的特性を期待できるとともに、さらに官能基の導入による機能化が可能であるため、レジスト材料としての利用が期待できる。   The aromatic compound of the present invention has a sufficiently small molecular size as compared with a general polymer material, and can be expected to have excellent mechanical properties because it has a double resorcinarene structure. Can be used as a resist material.

Claims (3)

下記一般式(1)で表される芳香族化合物。
Figure 2010275299
(前記一般式(1)中、複数のXは、相互に独立に、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、複数のYは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、複数のRは、相互に独立に、水素原子、重合性官能基を有する基、アルカリ可溶性基を有する基、酸解離性基を有する基、炭素数1〜8の置換若しくは非置換のアルキル基、又は炭素数3〜12のトリアルキルシリル基を示すか、或いは2つのRが結合して形成されるメチレン基、又は炭素数2〜8の置換若しくは非置換のアルキレン基を示し、複数のmは、相互に独立に、0又は1を示し、複数のnは、0又は1を示す。)
An aromatic compound represented by the following general formula (1).
Figure 2010275299
(In the general formula (1), a plurality of X's are independently of each other a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and 2 carbon atoms. A substituted or unsubstituted alkynyl group having 10 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group; Plural Ys are substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, substituted or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 10 carbon atoms, substituted or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 10 carbon atoms, and 7 carbon atoms. 10 substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, or a substituted or unsubstituted phenoxy group having 1 to 10 carbon atoms, more of R 1 are mutually Germany Standingly, a hydrogen atom, a group having a polymerizable functional group, a group having an alkali-soluble group, a group having an acid dissociable group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 3 to 12 carbon atoms or showing a trialkylsilyl group, or two methylene groups which R 1 is formed by bonding, or a substituted or unsubstituted alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, and a plurality of m, independently of one another, 0 or 1 is represented, and a plurality of n represents 0 or 1.)
下記一般式(2)で表される化合物(A)と、下記一般式(3)で表される化合物(B)と、を反応させて得られる芳香族化合物。
Figure 2010275299
(前記一般式(2)中、Xは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、mは、0又は1を示す。)
Figure 2010275299
(前記一般式(3)中、Yは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、nは、0又は1を示す。)
An aromatic compound obtained by reacting a compound (A) represented by the following general formula (2) with a compound (B) represented by the following general formula (3).
Figure 2010275299
(In the general formula (2), X is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted group having 2 to 10 carbon atoms. An alkynyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, and m represents 0 or 1 Show.)
Figure 2010275299
(In the general formula (3), Y represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted group having 2 to 10 carbon atoms. An alkynyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, and n represents 0 or 1 Show.)
下記一般式(2)で表される化合物(A)と、下記一般式(3)で表される化合物(B)と、を反応させることを含む芳香族化合物の製造方法。
Figure 2010275299
(前記一般式(2)中、Xは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、mは、0又は1を示す。)
Figure 2010275299
(前記一般式(3)中、Yは、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルキル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルケニル基、炭素数2〜10の置換若しくは非置換のアルキニル基、炭素数7〜10の置換若しくは非置換のアラルキル基、炭素数1〜10の置換若しくは非置換のアルコキシ基、又は置換若しくは非置換のフェノキシ基を示し、nは、0又は1を示す。)
The manufacturing method of an aromatic compound including making the compound (A) represented by the following general formula (2) react with the compound (B) represented by the following general formula (3).
Figure 2010275299
(In the general formula (2), X is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted group having 2 to 10 carbon atoms. An alkynyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, and m represents 0 or 1 Show.)
Figure 2010275299
(In the general formula (3), Y represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted group having 2 to 10 carbon atoms. An alkynyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenoxy group, and n represents 0 or 1 Show.)
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