JP2010270389A - Plating method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plating method which can inexpensively smoothening the surface of a resin base material after plating even if a projecting part exists upon forming the resin base material. <P>SOLUTION: The plating method comprises: a stage S2 where the surface of the resin base material 11 having an unsaturated bond is subjected to oxidation treatment; a stage S3 where the surface of the base material after the oxidation treatment is brought into contact with an alkali solution so as to be a hydroxide ion concentration of ≥5 mol/L, and the surface of the base material is subjected to smoothing treatment; and a stage S4 where the surface of the base material after the smoothing stage is subjected to electroless plating treatment. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、樹脂基材の表面に無電解めっき処理を行うめっき処理方法に係り、特に、めっき表面を平滑化することができるめっき処理方法に関する。   The present invention relates to a plating method for performing electroless plating on the surface of a resin substrate, and more particularly to a plating method that can smooth the plating surface.

従来から、部材の軽量を図りつつ、高導電性や金属光沢等の金属特性を付与することができることから、高分子樹脂からなる樹脂基材の表面に、金属被膜を被覆することがなされている。該金属めっき処理の一例として、無電解めっき処理や、ドライプレーティング処理などがなされている。   Conventionally, since metal properties such as high conductivity and metallic luster can be imparted while reducing the weight of the member, the surface of a resin base material made of a polymer resin has been coated with a metal film. . As an example of the metal plating process, an electroless plating process or a dry plating process is performed.

無電解めっき処理は、溶液中の金属イオンを化学的に還元析出させることにより、電気絶縁体である高分子樹脂の樹脂基材の表面に金属被膜を形成する処理である。この処理では、前処理として、樹脂素材をオゾン水で処理した後、界面活性剤入りのアルカリ処理液で処理を行うことや(例えば、特許文献1参照)、クロム酸や過マンガン酸によりエッチング処理を行うことが提案されている。このような処理により、基材表面のめっき付着性の向上、被膜の付着強度の向上を図ることができる。   The electroless plating treatment is a treatment for forming a metal film on the surface of a resin base material of a polymer resin that is an electrical insulator by chemically reducing and precipitating metal ions in a solution. In this treatment, as a pretreatment, after the resin material is treated with ozone water, it is treated with an alkali treatment liquid containing a surfactant (for example, see Patent Document 1), or etched with chromic acid or permanganic acid. Has been proposed to do. By such treatment, it is possible to improve the plating adhesion on the substrate surface and the adhesion strength of the coating.

特開2002−309377号公報JP 2002-309377 A

しかしながら、上述した方法でめっき処理を行った場合には、めっき表面に、ざらつきのある幅が数十μm、高さが数μmの凸部が形成されることがある。例えば、図7(a)に示すように、樹脂基材91の成形時に、表面に凸部P1が発生することがある。しかし、オゾン水処理を行った場合であっても、凸部P1は酸化されるものの除去されず、樹脂基材91の凸部P1が金属被膜93の表面に残存し、金属被膜93の表面に凸部P3が形成されることになる。   However, when the plating process is performed by the method described above, convex portions having a rough width of several tens of μm and a height of several μm may be formed on the plating surface. For example, as shown in FIG. 7A, a convex portion P1 may occur on the surface when the resin base material 91 is molded. However, even when the ozone water treatment is performed, the convex portion P1 is oxidized but not removed, and the convex portion P1 of the resin base material 91 remains on the surface of the metal coating 93, and on the surface of the metal coating 93. The convex part P3 will be formed.

このような場合には、成形時の樹脂基材の表面を平滑化処理すればよいが、樹脂成形条件(原料、成形金型、成形速度など)を厳密に調整しなければならず、製造工数が多大となり、製造コストが高くなるおそれがある。   In such a case, the surface of the resin base material at the time of molding may be smoothed, but the resin molding conditions (raw materials, molding mold, molding speed, etc.) must be strictly adjusted, and the number of manufacturing steps There is a risk that the manufacturing cost will increase.

また、図7(b)に示すように、成形時の樹脂基材91の表面に凸部がなかったとしても、成形時の樹脂基材91の表層に、脆弱層91aが形成される場合もある。そして、金属被膜の被覆時には、脆弱層91aに圧縮応力(めっき応力)が作用し、樹脂基材91に対して脆弱層91aの一部が膨れて凸部P2となり、この凸部P2により、金属被膜93の表面にも凸部P3が形成されることがある。   Moreover, as shown in FIG.7 (b), even if there is no convex part in the surface of the resin base material 91 at the time of shaping | molding, the weak layer 91a may be formed in the surface layer of the resin base material 91 at the time of shaping | molding. is there. When the metal coating is applied, a compressive stress (plating stress) acts on the fragile layer 91a, and a part of the fragile layer 91a swells into the convex portion P2 with respect to the resin base material 91. Protrusions P <b> 3 may also be formed on the surface of the film 93.

また、図7(c)に示すように、成形後の樹脂基材91の表面に、オゾン水処理を行った場合には、オゾン処理時のラジカルによる劣化で脆弱層91bが形成される場合がある。この脆弱層91bにより、図7(b)に示したことと同様の理由で、金属被膜93の表面に凸部が形成されることがある。   Moreover, as shown in FIG.7 (c), when the ozone water process is performed on the surface of the resin base material 91 after a shaping | molding, the weak layer 91b may be formed by degradation by the radical at the time of an ozone process. is there. Due to the fragile layer 91b, a convex portion may be formed on the surface of the metal film 93 for the same reason as shown in FIG.

また、図7(d)に示すように、樹脂基材91の成形後に、エッチング処理を行えば、樹脂基材91の凸部は除去される。しかしながら、エッチングにより樹脂基材91の表面は粗化されるので、より平滑性の高い金属被膜を被覆しようとした場合には、レベリング剤を含有するめっき液を用いて、金属被膜の厚みを数十μmまで厚くしなければならず、工数が多大となり、コスト面で不利である。レベリング剤は、めっき処理と共に消費されるが、含有させるレベリング剤の管理幅は狭く、レベリング剤の補給も含め、その管理が容易ではない。また、エッチング液として、クロム酸や過マンガン酸を使用せねばならず、耐環境性を考慮した使用が必要となる。   Moreover, as shown in FIG.7 (d), if the etching process is performed after the shaping | molding of the resin base material 91, the convex part of the resin base material 91 will be removed. However, since the surface of the resin base material 91 is roughened by etching, when trying to coat a metal coating with higher smoothness, the plating solution containing a leveling agent is used to reduce the thickness of the metal coating to several. The thickness must be increased to 10 μm, which increases the number of steps and is disadvantageous in terms of cost. Although the leveling agent is consumed together with the plating treatment, the management range of the leveling agent to be contained is narrow, and the management including the replenishment of the leveling agent is not easy. In addition, chromic acid or permanganic acid must be used as an etching solution, and use in consideration of environmental resistance is required.

本発明は、上記する問題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、樹脂基材に凸部や脆弱層があったとしても、金属被膜の表面の平滑化を安価に図ることができるめっき処理方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and the object of the present invention is to smooth the surface of the metal coating at a low cost even if the resin substrate has a convex portion or a fragile layer. An object of the present invention is to provide a plating method capable of performing

前記課題を解決すべく発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、樹脂基材の表面のめっき処理の前処理として、水酸化物イオン濃度の高い(pHが大きい)アルカリ溶液(強アルカリ溶液)を用いれば、樹脂基材の表面の凸部を優先的に除去することができるばかりではなく、樹脂基材の表面の凸部の起因となる脆弱層をも除去することができるとの新たな知見を得た。   In order to solve the above-mentioned problems, the inventors have intensively studied, and as a pretreatment for the plating treatment on the surface of the resin base material, an alkali solution having a high hydroxide ion concentration (high pH) (strong alkali solution) As a result, it is possible not only to preferentially remove the convex portions on the surface of the resin base material, but also to remove the fragile layer that causes the convex portions on the surface of the resin base material. Obtained knowledge.

本発明は、発明者らの前記新たな知見に基づくものであり、本発明に係るめっき処理方法は、不飽和結合を有する樹脂基材の基材表面に酸化処理を行う工程と、該酸化処理後の基材表面に、5mol/L以上の水酸化物イオン濃度となるアルカリ溶液を接触させて前記樹脂基材の表面を平滑化処理する工程と、該平滑化処理後の基材表面に、無電解めっき処理を行う工程と、を含むことを特徴とする。   The present invention is based on the inventors' new knowledge, and the plating method according to the present invention includes a step of oxidizing a substrate surface of a resin substrate having an unsaturated bond, and the oxidation treatment. A step of smoothing the surface of the resin substrate by bringing an alkali solution having a hydroxide ion concentration of 5 mol / L or more into contact with the subsequent substrate surface, and the substrate surface after the smoothing treatment, And a step of performing an electroless plating process.

本発明によれば、酸化処理後の樹脂基材の表面に、前記水酸化物イオン濃度となるアルカリ溶液を接触させることにより、成形後に形成される樹脂基材の凸部及び凸部の起因となる脆弱層を除去することができるばかりでなく、その後、酸化処理により形成される樹脂基材の表面の脆弱層までも除去することができる。これにより、無電解めっき処理により、平滑化処理された金属被膜(めっき被膜)の表面をえることができる。   According to the present invention, the surface of the resin substrate after the oxidation treatment is brought into contact with the alkali solution having the hydroxide ion concentration, thereby causing the protrusions and the protrusions of the resin substrate formed after molding. In addition to removing the fragile layer, the fragile layer on the surface of the resin substrate formed by oxidation treatment can be removed thereafter. Thereby, the surface of the smoothed metal film (plating film) can be obtained by the electroless plating process.

すなわち、水酸化物イオン濃度が、5mol/Lよりも小さい場合には、樹脂基材の凸部及び脆弱層を充分に除去することができず、この結果として、無電解めっき処理後の金属被膜の表面に凸部が形成されてしまう。なお、これまでの界面活性剤入りのアルカリ溶液は、基材表面の濡れ性を高めて、金属触媒を吸着させるための界面活性剤を付着させることを目的としているため、水酸化物イオン濃度は、平滑化処理の濃度よりも低いものであった。よって、樹脂基材の平滑化まで至らない。   That is, when the hydroxide ion concentration is less than 5 mol / L, the convex portion and the fragile layer of the resin base material cannot be sufficiently removed, and as a result, the metal film after the electroless plating treatment Protrusions are formed on the surface of the film. In addition, since the conventional alkaline solution containing a surfactant is intended to enhance the wettability of the substrate surface and attach a surfactant for adsorbing the metal catalyst, the hydroxide ion concentration is The concentration was lower than that of the smoothing treatment. Therefore, the resin base material is not smoothed.

また、酸化処理としては、例えば、オゾン処理、紫外線処理、プラズマ処理、または、過マンガン酸やクロム酸などの各種酸化剤を用いた処理などを挙げることができ、基材表面層を酸化することができるのであれば、特に、限定されるものではないが、より好ましくは、前記酸化処理は、オゾン処理である。本発明によれば、オゾン処理は、他の酸化処理に比べて、樹脂基材の表面を粗化することなく、好適に樹脂基材の基材表面及び表面層を酸化することができる。   Examples of the oxidation treatment include ozone treatment, ultraviolet treatment, plasma treatment, treatment using various oxidizing agents such as permanganic acid and chromic acid, and the like. However, the oxidation treatment is more preferably an ozone treatment. According to the present invention, the ozone treatment can suitably oxidize the base material surface and the surface layer of the resin base material without roughening the surface of the resin base material as compared with other oxidation treatments.

前記オゾン処理としては、樹脂基材の基材表面をオゾン水に接触させるオゾン水処理、樹脂基材の基材表面をオゾンガスに接触させるオゾンガス処理などを挙げることができるが、このなかでも、オゾンガス処理がより好ましい。   Examples of the ozone treatment include ozone water treatment in which the substrate surface of the resin base material is brought into contact with ozone water, and ozone gas treatment in which the substrate surface of the resin base material is brought into contact with ozone gas. Treatment is more preferred.

オゾン水処理の場合には、オゾンによる樹脂基材の酸化だけではなく、オゾン水に含まれるヒドロキシラジカルによる樹脂基材の酸化も誘発され、樹脂基材が劣化するおそれがあるが、オゾンガス処理を行った場合には、オゾンによる樹脂の酸化のみが発生するので、樹脂の劣化は発生しないと考えられる。   In the case of ozone water treatment, not only the oxidation of the resin base material by ozone but also the oxidation of the resin base material by hydroxy radicals contained in the ozone water may cause the resin base material to deteriorate. When it is performed, only the oxidation of the resin by ozone occurs, so that it is considered that the resin does not deteriorate.

また、アルカリ溶液としては、前記アルカリ溶液は、アルカリ金属水酸化物を含む溶液、又は、アルカリ土類金属水酸化物を含む溶液が好ましい。たとえば、アルカリ金属水酸化物を含む溶液、又はアルカリ土類金属を含む溶液としては、水酸化ナトリウム溶液、水酸化カリウム溶液、炭酸ナトリウム溶液、炭酸水素ナトリウム溶液、水酸化カルシウム溶液、又は、水酸化マグネシウム溶液などを挙げることができ、前記水酸化物イオン濃度を満たすことができるものであれば、特に限定されるものではないが、本発明に係るめっき処理方法に用いるアルカリ溶液は、好ましくは、水酸化ナトリウム溶液、水酸化カリウム溶液、又は、炭酸ナトリウム溶液であり、このなかでもより好ましくは水酸化ナトリウム溶液である。   As the alkaline solution, the alkaline solution is preferably a solution containing an alkali metal hydroxide or a solution containing an alkaline earth metal hydroxide. For example, a solution containing an alkali metal hydroxide or a solution containing an alkaline earth metal includes a sodium hydroxide solution, a potassium hydroxide solution, a sodium carbonate solution, a sodium bicarbonate solution, a calcium hydroxide solution, or a hydroxide. Examples of the alkaline solution used in the plating method according to the present invention include, but are not particularly limited, as long as the solution can satisfy the hydroxide ion concentration. A sodium hydroxide solution, a potassium hydroxide solution, or a sodium carbonate solution is preferable. Among these, a sodium hydroxide solution is more preferable.

本発明によれば、これらの溶液は、前記水酸化物イオン濃度のアルカリ溶液にすることができる。特に、水酸化ナトリウム溶液は、水酸化物イオンを前記濃度条件することが容易にできるので、より好適である。   According to the present invention, these solutions can be alkali solutions having the hydroxide ion concentration. In particular, a sodium hydroxide solution is more preferable because it allows the hydroxide ions to be easily subjected to the concentration condition.

また、本発明に係るめっき処理方法に用いる樹脂基材は、不飽和結合を有する樹脂としては、例えばABS樹脂、AS樹脂、PS樹脂、AN樹脂、エポキシ樹脂、PMMA樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフェニルサルファイド樹脂などを挙げることができるが、より好ましくは、樹脂基材は、ABS樹脂からなることがより好ましい。   The resin base material used in the plating method according to the present invention is, for example, an ABS resin, AS resin, PS resin, AN resin, epoxy resin, PMMA resin, polyimide resin, polyphenyl sulfide as the resin having an unsaturated bond. Although resin etc. can be mentioned, More preferably, it is more preferable that a resin base material consists of ABS resin.

ABS樹脂は、ブタジエン粒子と、このブタジエン粒子のマトリクス樹脂となるAS樹脂と、を含む樹脂であるが、本発明によれば、酸化処理において、基材表層に存在するブタジエン粒子が溶出して抜け出し、さらに、マトリクス樹脂であるAS樹脂が酸化される。そして、この基材表面の酸化したAS樹脂が、アルカリ溶液に接触することにより、膨潤して溶出するので、樹脂基材の凸部のみならず樹脂基材の脆弱層をも除去することができる。この結果として、樹脂基材の表面に平滑な金属被膜を形成することができる。   The ABS resin is a resin containing butadiene particles and an AS resin that is a matrix resin of the butadiene particles. According to the present invention, in the oxidation treatment, the butadiene particles existing on the substrate surface layer are eluted and escape. Furthermore, the AS resin that is the matrix resin is oxidized. And since the oxidized AS resin on the surface of the base material swells and elutes by contacting with the alkaline solution, not only the convex portion of the resin base material but also the fragile layer of the resin base material can be removed. . As a result, a smooth metal film can be formed on the surface of the resin substrate.

さらに、本発明に係るめっき方法における無電解めっき処理の前処理として、前記平滑化処理後の処理表面に、界面活性剤を含むアルカリ溶液を接触させ、基材表面に界面活性剤を付着させる工程と、金属触媒を吸着させる触媒吸着処理を行う工程と、を含むことがより好ましい。   Furthermore, as a pretreatment of the electroless plating treatment in the plating method according to the present invention, a step of bringing an alkali solution containing a surfactant into contact with the treated surface after the smoothing treatment and attaching the surfactant to the substrate surface And a step of performing a catalyst adsorption treatment for adsorbing the metal catalyst.

本発明によれば、界面活性剤を含むアルカリ溶液を接触させることにより、樹脂基材の表面の濡れ性を向上させ、好適に界面活性剤を樹脂基材の表面に付着させることができる。ここで、アルカリ溶液の水酸化物イオンの濃度は、樹脂基材の界面活性剤を付着させるべく樹脂基材の表面の濡れ性を向上させる程度のものであれば、十分であり、先に示す平滑化処理におけるアルカリ溶液の水酸化物イオンの濃度よりも十分低いものである。   According to the present invention, by contacting an alkali solution containing a surfactant, the wettability of the surface of the resin substrate can be improved, and the surfactant can be suitably attached to the surface of the resin substrate. Here, the hydroxide ion concentration in the alkaline solution is sufficient as long as it improves the wettability of the surface of the resin substrate so as to attach the surfactant of the resin substrate. It is sufficiently lower than the hydroxide ion concentration of the alkaline solution in the smoothing treatment.

また、このような無電解めっき処理を行うめっき材料としては、例えば銅、ニッケル等を挙げることができ、無電解めっきにより、樹脂基材の表面に金属被膜が形成されるものであれば、特に限定されるものではない。しかしながら、より好ましい金属触媒は、パラジウム触媒であり、無電解めっきを行うめっき材料は、ニッケルである。パラジウム触媒は、上述した樹脂に対して吸着性において優れ、かつ、汎用性に富んでおり、ニッケルを形成する場合には、密着性等の観点から好適である。   In addition, examples of the plating material for performing such electroless plating treatment include copper and nickel, and particularly, if a metal film is formed on the surface of the resin base material by electroless plating. It is not limited. However, a more preferable metal catalyst is a palladium catalyst, and a plating material for performing electroless plating is nickel. The palladium catalyst is excellent in the adsorptivity with respect to the above-mentioned resin, and is rich in versatility. When nickel is formed, it is preferable from the viewpoint of adhesion and the like.

本発明によれば、樹脂基材に凸部や脆弱層があったとしても、金属被膜の表面の平滑化を安価に図ることができる。   According to the present invention, even if the resin substrate has a convex portion or a fragile layer, the surface of the metal coating can be smoothed at a low cost.

図1(a)は、本実施形態に係るめっき処理方法の各工程を説明するためのフロー図であり、図1(b)は、図1(a)に示すめっき処理方法で製造された無電解めっき材の模式図。FIG. 1A is a flowchart for explaining each step of the plating method according to the present embodiment, and FIG. 1B is a diagram illustrating the process performed by the plating method shown in FIG. The schematic diagram of an electroplating material. 図2(a)は、成型後の樹脂基材を示した図であり、図2(b)は、オゾン水処理後の樹脂基材を示した図であり、図2(c)は、平滑化処理後の樹脂基材を示した図。2A is a view showing a resin base material after molding, FIG. 2B is a view showing a resin base material after ozone water treatment, and FIG. 2C is a smooth view. The figure which showed the resin base material after a chemical conversion process. 図3(a)は、成形後の基材表面に凸部又は脆弱層が形成された樹脂基材を示した図であり、図3(b)は、オゾン水処理後の樹脂基材を示した図であり、図3(c)は、オゾン水処理後の基材表面に、アルカリ処理を行わずに無電解めっき処理をおこなった樹脂基材を示した図であり、図3(d)は、オゾン水処理後の基材表面に強アルカリによる平滑化処理を行った樹脂基材を示した図であり、図3(e)は、平滑化処理後の表面に無電解めっき処理を行った無電解めっき材を示した図。FIG. 3A is a view showing a resin base material in which convex portions or fragile layers are formed on the surface of the base material after molding, and FIG. 3B shows the resin base material after ozone water treatment. FIG. 3C is a diagram showing a resin base material that has been subjected to electroless plating treatment without performing alkali treatment on the surface of the base material after the ozone water treatment, and FIG. FIG. 3 is a diagram showing a resin base material that has been subjected to a smoothing treatment with strong alkali on the surface of the base material after the ozone water treatment, and FIG. 3E shows an electroless plating treatment on the surface after the smoothing treatment. The figure which showed the electroless-plating material. 実施例1及び比較例1における平滑化処理工程における水酸化物イオン濃度と、金属被膜に形成される凸部の密度との関係を示した図。The figure which showed the relationship between the hydroxide ion density | concentration in the smoothing process process in Example 1 and Comparative Example 1, and the density of the convex part formed in a metal film. 確認試験1における平滑化処理工程における水酸化ナトリウムの液温と、金属被膜に形成される凸部の密度との関係を示した図。The figure which showed the relationship between the liquid temperature of the sodium hydroxide in the smoothing process process in the confirmation test 1, and the density of the convex part formed in a metal film. 確認試験2における平滑化処理工程における水酸化ナトリウムの浸漬時間と、金属被膜に形成される凸部の密度との関係を示した図。The figure which showed the relationship between the immersion time of the sodium hydroxide in the smoothing process process in the confirmation test 2, and the density of the convex part formed in a metal film. 図7(a)は、従来のめっき処理を説明するための図であり、図7(b)は、基材の成形時に脆弱層が形成された場合のめっき処理を説明するための図であり、図7(c)は、オゾン水処理時に脆弱層が形成された場合のめっき処理を説明するための図であり、図7(d)は、エッチング後のめっき処理を説明するための図。Fig.7 (a) is a figure for demonstrating the conventional plating process, FIG.7 (b) is a figure for demonstrating the plating process when a weak layer is formed at the time of shaping | molding of a base material. FIG.7 (c) is a figure for demonstrating the plating process when a weak layer is formed at the time of ozone water processing, and FIG.7 (d) is a figure for demonstrating the plating process after an etching.

以下に、模式的に示した図面を参照して、本発明に係る樹脂基材へのめっき処理方法の実施形態に基づいて説明する。図1(a)は、本実施形態に係るめっき処理方法の各工程を説明するためのフロー図であり、図1(b)は、図1(a)に示すめっき処理方法で製造された無電解めっき材を示している。図2(a)は、成型後の樹脂基材を示しており、図2(b)は、オゾン水処理後の樹脂基材を示しており、図2(c)は、平滑化処理後の樹脂基材を示している。   Below, with reference to drawings shown typically, it explains based on an embodiment of a plating treatment method to a resin substrate concerning the present invention. FIG. 1A is a flowchart for explaining each step of the plating method according to the present embodiment, and FIG. 1B is a diagram illustrating the process performed by the plating method shown in FIG. The electrolytic plating material is shown. FIG. 2 (a) shows the resin base material after molding, FIG. 2 (b) shows the resin base material after ozone water treatment, and FIG. 2 (c) shows the result after smoothing treatment. The resin base material is shown.

まず、図1(a)に示すように、ステップS1において、ABS樹脂などの不飽和結合を有する樹脂から基材(樹脂基材)を成形する(成形工程)。基材の成形方法は特に制限されず、圧縮成形、押出成形、ブロー成形、射出成形など各種成形方法を採用することができる。樹脂基材にABS樹脂を用いた場合には、図2(a)に示すように、樹脂基材11は、ブタジエン粒子11bと、このブタジエン粒子11bのマトリクス樹脂となるAS樹脂11aと、を含む構造となる。   First, as shown to Fig.1 (a), in step S1, a base material (resin base material) is shape | molded from resin which has unsaturated bonds, such as an ABS resin (molding process). The molding method of the substrate is not particularly limited, and various molding methods such as compression molding, extrusion molding, blow molding, and injection molding can be employed. When an ABS resin is used for the resin base material, as shown in FIG. 2A, the resin base material 11 includes butadiene particles 11b and an AS resin 11a that is a matrix resin of the butadiene particles 11b. It becomes a structure.

そして、ステップS2において、不飽和結合を有する樹脂基材の基材表面に酸化処理を行う。具体的には、少なくとも金属被膜を被覆する基材表面(処理表面)に、オゾン水を接触させる(酸化処理工程)。このオゾン水処理において、基材の表面層に存在するブタジエン粒子が溶出して抜け出し、マトリクス樹脂であるAS樹脂が酸化された酸化層12が形成される。その酸化層12の表層には、脆弱層が含まれる。   In step S2, the base material surface of the resin base material having an unsaturated bond is oxidized. Specifically, ozone water is brought into contact with at least the substrate surface (treated surface) that covers the metal coating (oxidation treatment step). In this ozone water treatment, the butadiene particles present on the surface layer of the base material are eluted and escape to form the oxidized layer 12 in which the AS resin as the matrix resin is oxidized. The surface layer of the oxide layer 12 includes a fragile layer.

ステップS3において、酸化処理後の基材表面に、5mol/L以上の水酸化物イオン濃度となる水酸化ナトリウム水溶液を接触させた強アルカリ処理により、樹脂基材11の表面を平滑化処理する(平滑化処理工程)。   In step S3, the surface of the resin substrate 11 is smoothed by a strong alkali treatment in which a sodium hydroxide aqueous solution having a hydroxide ion concentration of 5 mol / L or more is brought into contact with the substrate surface after the oxidation treatment ( Smoothing process).

この際、図2(c)において、この基材表面の酸化層のAS樹脂が、強アルカリ溶液に接触することにより、膨潤して溶出するので、樹脂基材11の基材表面を好適に平滑化処理することができる。すなわち、後述するように、樹脂基材の凸部のみならず樹脂基材の酸化層12のうち表層の脆弱な層(脆弱層)をも除去することができる。なお、この平滑化処理工程において、樹脂基材の表面粗さは、目安として、中心線平均粗さRa0.05〜0.2μm、又は、十点平均粗さRz0.5〜2μmの範囲にすることが好ましい。   At this time, in FIG. 2 (c), the AS resin of the oxide layer on the surface of the base material swells and elutes by coming into contact with the strong alkaline solution. Can be processed. That is, as will be described later, not only the convex portion of the resin base material but also the fragile layer (fragile layer) of the surface layer of the oxide layer 12 of the resin base material can be removed. In this smoothing treatment step, the surface roughness of the resin substrate is, as a guide, in the range of the center line average roughness Ra 0.05 to 0.2 μm or the ten-point average roughness Rz 0.5 to 2 μm. It is preferable.

その後、ステップS4に示すように、基材表面に、無電解めっき処理により金属被膜を被覆する(無電解めっき処理工程)。具体的には、まず、アルカリ処理を行う。このアルカリ処理において、平滑化処理工程後の表面に、界面活性剤を少なくとも含むアルカリ溶液を接触させる。   Thereafter, as shown in step S4, a metal film is coated on the surface of the base material by electroless plating (electroless plating process). Specifically, first, alkali treatment is performed. In this alkali treatment, an alkali solution containing at least a surfactant is brought into contact with the surface after the smoothing treatment step.

界面活性剤は、後述するパラジウム触媒の吸着性を高めるためのものであり、ラウリル硫酸ナトリウムなどの陰イオン界面活性剤を挙げることができる。アルカリ溶液のアルカリ成分は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどを挙げることができ、ナトリウムなどのアルカリ金属を処理表面に付与することができる。さらに、界面活性剤とアルカリ成分とを含む溶液の溶媒としては、極性溶媒を用いることが望ましく、水を代表的に用いることができるが、場合によってはアルコール系溶媒あるいは水−アルコール混合溶媒を用いてもよい。   Surfactant is for improving the adsorption property of the palladium catalyst mentioned later, and can mention anionic surfactants, such as sodium lauryl sulfate. Examples of the alkaline component of the alkaline solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like, and an alkali metal such as sodium can be imparted to the treated surface. Furthermore, it is desirable to use a polar solvent as the solvent of the solution containing the surfactant and the alkali component, and water can be used as a representative. May be.

アルカリ処理により、後述する触媒吸着処理工程において、処理表面へのパラジウム触媒の吸着性を高めることができるが、所望の量のパラジウム触媒を吸着することができるのであれば、このアルカリ処理工程を省略してもよい。   Alkali treatment can increase the adsorptivity of the palladium catalyst to the treatment surface in the catalyst adsorption treatment step described later, but if the desired amount of palladium catalyst can be adsorbed, this alkali treatment step is omitted. May be.

次に、触媒吸着処理において、アルカリ処理された処理表面を、塩酸水溶液に塩化パラジウム及び塩化錫が溶解した触媒溶液中(キャタライザー)に浸漬する。これにより、基材の処理表面にパラジウム触媒を吸着させる。そして、処理表面を酸性溶液に接触させて、パラジウム触媒の活性化を図る。   Next, in the catalyst adsorption treatment, the treated surface subjected to alkali treatment is immersed in a catalyst solution (catalyzer) in which palladium chloride and tin chloride are dissolved in an aqueous hydrochloric acid solution. Thereby, a palladium catalyst is made to adsorb | suck to the process surface of a base material. Then, the treatment surface is brought into contact with an acidic solution to activate the palladium catalyst.

その後、無電解めっき処理において、該触媒吸着処理後の処理表面に、ニッケルめっき液を浸漬させて、ニッケルを表面に析出させて、図1(b)に示すように、触媒吸着処理を行った処理表面に、無電解ニッケルの金属被膜13を形成する。   Thereafter, in the electroless plating treatment, a nickel plating solution was immersed in the treated surface after the catalyst adsorption treatment to deposit nickel on the surface, and the catalyst adsorption treatment was performed as shown in FIG. An electroless nickel metal film 13 is formed on the treated surface.

以下に、成形後の樹脂基材の基材表面に凸部又は脆弱層が形成された場合にめっき処理方法について詳述する。図3(a)は、成形後の基材表面に凸部又は脆弱層が形成された樹脂基材を示した図であり、図3(b)は、オゾン水処理後の樹脂基材を示した図であり、図3(c)は、オゾン水処理後の処理表面に、アルカリ処理を行わずに無電解めっき処理を行った樹脂基材を示した図である。図3(d)は、オゾン水処理後の基材表面に強アルカリにより平滑化処理を行った樹脂基材を示した図であり、図3(e)は、平滑化処理後の表面に無電解めっき処理を行った樹脂基材を示した図である。   Below, when a convex part or a weak layer is formed in the base-material surface of the resin base material after shaping | molding, it explains in full detail about a plating processing method. FIG. 3A is a view showing a resin base material in which convex portions or fragile layers are formed on the surface of the base material after molding, and FIG. 3B shows the resin base material after ozone water treatment. FIG. 3C is a diagram showing a resin base material that has been subjected to electroless plating treatment without performing alkali treatment on the treated surface after the ozone water treatment. FIG. 3D is a view showing a resin base material that has been subjected to a smoothing treatment with strong alkali on the surface of the base material after the ozone water treatment, and FIG. It is the figure which showed the resin base material which performed the electroplating process.

具体的には、図3(a)に示すように、成型後の樹脂基材11の表面に、凸部P1が形成されたり、脆弱層11dが形成されたりする。次に、図3(b)に示すように、オゾン水処理を行った場合であっても、樹脂基材11に含有するブタジエン粒子11bは、溶出し、樹脂基材11の表面層が酸化されるが(酸化層12が形成されるが)、凸部P1及び脆弱層11dが残存する。   Specifically, as shown in FIG. 3A, a convex portion P1 or a fragile layer 11d is formed on the surface of the resin base material 11 after molding. Next, as shown in FIG. 3B, even when ozone water treatment is performed, the butadiene particles 11b contained in the resin base material 11 are eluted, and the surface layer of the resin base material 11 is oxidized. However, although the oxide layer 12 is formed, the convex portion P1 and the fragile layer 11d remain.

そして、図3(c)に示すように、この状態の樹脂基材11の基材表面に、アルカリ処理、触媒吸着処理を経て、金属被膜を被覆した場合であっても、凸部P1及び脆弱層11dにより、金属被膜13には、凸部P3が形成される。   And as shown in FIG.3 (c), even if it is a case where the base material surface of the resin base material 11 of this state is covered with a metal film through an alkali treatment and a catalyst adsorption treatment, the convex portion P1 and the brittleness The convex part P3 is formed in the metal film 13 by the layer 11d.

しかしながら、図3(d)に示すように、本実施形態の如く、オゾン水処理後の基材表面に対して、強アルカリ溶液に接触することにより、膨潤して溶出する。この結果、樹脂基材の凸部P1及び脆弱層11dのみならず、樹脂基材の酸化層12のうち表層の脆弱層をも除去することができるので、樹脂基材11の基材表面を好適に平滑化することができる。このようにして得られた樹脂基材11の表面に対して、図3(e)に示すように、無電解めっき処理を行うことにより、金属被膜13の表面の平滑化を図ることができる。   However, as shown in FIG. 3D, as in this embodiment, the substrate surface after the ozone water treatment swells and elutes by contacting with the strong alkaline solution. As a result, not only the convex portion P1 and the fragile layer 11d of the resin substrate, but also the fragile layer of the surface layer in the oxidized layer 12 of the resin substrate can be removed, so that the substrate surface of the resin substrate 11 is suitable. Can be smoothed. As shown in FIG. 3E, the surface of the resin base material 11 thus obtained can be smoothed by performing an electroless plating process.

以下に本発明を実施例に基づいて説明する。
(実施例1)
まず、樹脂基材として、ABS樹脂(UMGABS社製、めっきクレード)の樹脂基材を準備した。次に、酸化処理として、成形した樹脂基材の基材表面に対して、オゾン濃度40ppm、処理温度20℃、浸漬時間8分の条件で、オゾン水処理を行った(酸化処理工程)。
The present invention will be described below based on examples.
Example 1
First, as a resin base material, a resin base material of ABS resin (UMGABS, plating clade) was prepared. Next, as an oxidation treatment, an ozone water treatment was performed on the surface of the molded resin base material under the conditions of an ozone concentration of 40 ppm, a treatment temperature of 20 ° C., and an immersion time of 8 minutes (oxidation treatment step).

次に、水酸化ナトリウム濃度条件として図4に示す●の条件で、5mol/L以上の水酸化ナトリウム水溶液に50℃、10分間、樹脂基材を浸漬させて(強アルカリ処理)、基材表面の平滑化処理を行った(平滑化処理工程)。すなわち、水酸化ナトリウムは、電離度が1.0であるので、この水溶液に含まれる水酸化物イオン濃度は、5mol/L以上となる。   Next, under the condition of ● shown in FIG. 4 as the sodium hydroxide concentration condition, the resin base material was immersed in a 5 mol / L or higher sodium hydroxide aqueous solution at 50 ° C. for 10 minutes (strong alkali treatment), and the base material surface The smoothing process was performed (smoothing process step). That is, since sodium hydroxide has an ionization degree of 1.0, the hydroxide ion concentration contained in this aqueous solution is 5 mol / L or more.

次に、アルカリ処理として、NaOHを50g/L溶解するとともに、ラウリル硫酸ナトリウムを1g/L溶解した混合水溶液を60℃に加熱し、そこへ平滑化処理工程後の樹脂基材を2分間浸漬して陰イオン性界面活性剤(ラウリル硫酸ナトリウム)を吸着させた。   Next, as an alkali treatment, a mixed aqueous solution in which 50 g / L of NaOH is dissolved and 1 g / L of sodium lauryl sulfate is dissolved is heated to 60 ° C., and the resin substrate after the smoothing treatment step is immersed therein for 2 minutes. Then, an anionic surfactant (sodium lauryl sulfate) was adsorbed.

陰イオン界面活性剤が吸着した樹脂基材を引き上げ、水洗・乾燥後、3N塩酸水溶液に塩化パラジウムを0.1質量%溶解するとともに塩化錫を5質量%溶解し50℃に加熱された金属触媒溶液中に3分間浸漬し、次いでパラジウムを活性化するために、1N塩酸水溶液に3分間浸漬した。これにより基材表面に金属触媒が吸着させた。   The metal catalyst which pulled up the resin base material which adsorbed the anionic surfactant, washed with water and dried, dissolved 0.1% by mass of palladium chloride in 3N hydrochloric acid aqueous solution and dissolved 5% by mass of tin chloride and heated to 50 ° C. It was immersed in the solution for 3 minutes and then immersed in a 1N aqueous hydrochloric acid solution for 3 minutes in order to activate palladium. Thereby, the metal catalyst was made to adsorb | suck to the base-material surface.

その後、40℃に保温されたNi−P化学めっき浴中に樹脂基材を浸漬し、10分間Ni−Pめっき被膜(金属被膜)を析出させた。析出したNi−Pめっき被膜の厚さは0.5μmである。さらに硫酸銅系Cu電気めっき浴にて、Ni−Pめっき被膜の表面に銅めっきを5μm析出させた。   Then, the resin base material was immersed in the Ni-P chemical plating bath kept at 40 degreeC, and the Ni-P plating film (metal film) was deposited for 10 minutes. The thickness of the deposited Ni—P plating film is 0.5 μm. Furthermore, 5 μm of copper plating was deposited on the surface of the Ni—P plating film in a copper sulfate-based Cu electroplating bath.

(実施例2)
実施例1と同じように、樹脂基材にめっき処理を行った。実施例1と相違する点は、酸化処理工程において、オゾン水処理の代わりにオゾンガス処理を行った点である。具体的には、成形した樹脂基材の基材表面に対して、オゾンガス200g/m、接触時間8分の条件で、オゾンガス処理を行った。
(Example 2)
In the same manner as in Example 1, the resin substrate was plated. The difference from Example 1 is that ozone gas treatment was performed instead of ozone water treatment in the oxidation treatment step. Specifically, the ozone gas treatment was performed on the base material surface of the molded resin base material under the conditions of ozone gas 200 g / m 3 and contact time 8 minutes.

(比較例1)
実施例1と同じように、樹脂基材にめっき処理を行った。実施例1と相違する点は、平滑化処理工程において、水酸化ナトリウム濃度条件として図4に示す○の条件で、5mol/L未満の水酸化ナトリウム水溶液に50℃、10分間、樹脂基材を浸漬させた点である。
(Comparative Example 1)
In the same manner as in Example 1, the resin substrate was plated. The difference from Example 1 is that, in the smoothing treatment step, the resin base material was placed in a sodium hydroxide aqueous solution of less than 5 mol / L at 50 ° C. for 10 minutes under the condition of ◯ shown in FIG. This is the point of immersion.

(比較例2)
実施例1と同じように、樹脂基材にめっき処理を行った。実施例1と相違する点は、平滑化処理工程において、オゾン水処理の処理条件として、3mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液に50℃、5分間、樹脂基材を浸漬させた点である。
(Comparative Example 2)
In the same manner as in Example 1, the resin substrate was plated. The difference from Example 1 is that the resin base material was immersed in a 3 mol / L sodium hydroxide aqueous solution at 50 ° C. for 5 minutes as a treatment condition for the ozone water treatment in the smoothing treatment step.

(比較例3)
実施例1と同じように、樹脂基材にめっき処理を行った。実施例1と相違する点は、強アルカリ処理を行わず、酸化処理後の基材表面に、以下に示すアルカリ処理を行った点である。具体的には、1mol/LのNaOHの水溶液に、ラウリル硫酸ナトリウムを1g/L溶解した混合水溶液を60℃に加熱し、そこへ平滑化処理工程後の樹脂基材を2分間浸漬して陰イオン性界面活性剤(ラウリル硫酸ナトリウム)を吸着させた。
(Comparative Example 3)
In the same manner as in Example 1, the resin substrate was plated. The difference from Example 1 is that the alkali treatment shown below was performed on the surface of the base material after the oxidation treatment without performing the strong alkali treatment. Specifically, a mixed aqueous solution in which 1 g / L of sodium lauryl sulfate is dissolved in 1 mol / L NaOH aqueous solution is heated to 60 ° C., and the resin base material after the smoothing treatment step is immersed therein for 2 minutes. An ionic surfactant (sodium lauryl sulfate) was adsorbed.

(比較例4)
実施例1と同じようにして、樹脂基材にめっき処理を行った。実施例1と相違する点は、強アルカリ処理を行う代りに、クロム酸400g/L、硫酸200g/Lの溶液に、樹脂基材を浸漬させることにより、樹脂基材の表面をクロム酸エッチングし、表面が平滑化処理されるまで(被膜厚さ50μmまで)、銅めっきを行った点である。
(Comparative Example 4)
In the same manner as in Example 1, the resin substrate was plated. The difference from Example 1 is that the surface of the resin substrate is etched by chromic acid by immersing the resin substrate in a solution of chromic acid 400 g / L and sulfuric acid 200 g / L instead of performing a strong alkali treatment. The copper plating is performed until the surface is smoothed (up to a film thickness of 50 μm).

(比較例5)
実施例1と同じようにして、樹脂基材を準備した。次に、樹脂基材の基材表面に、アンダーコートを塗布した後、銅スパッタリングを行った。アンダーコート処理では、2液式のウレタン塗剤の第一剤および第二剤を混合し、基材表面に、この混合剤(アンダーコート剤)を塗布した。その後、70℃で、この塗布したアンダーコート剤を60分間硬化させた。ここで、ウレタン塗布剤の第一剤としては、日本ウレタン社製のポリオールを用い、第二剤としては、武田薬品社製のポリイソシアネートを用いた。
(Comparative Example 5)
In the same manner as in Example 1, a resin base material was prepared. Next, after applying an undercoat on the substrate surface of the resin substrate, copper sputtering was performed. In the undercoat treatment, the first agent and the second agent of a two-component urethane coating agent were mixed, and this mixture agent (undercoat agent) was applied to the substrate surface. Thereafter, the applied undercoat agent was cured at 70 ° C. for 60 minutes. Here, a polyol manufactured by Nippon Urethane Co., Ltd. was used as the first agent of the urethane coating agent, and a polyisocyanate manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd. was used as the second agent.

そして、ドライプレーティングとして、到達真空度:0.02〜0.04Pa、スパッタリングガス圧(Ar+窒素):0.1〜0.5MPa、スパッタ電力:1.3〜3W/cmの条件で、基材表面(アンダーコートの表面)に銅スパッタリングにより銅被膜を被覆した。
[評価方法]
実施例1、2、比較例1〜5に示す被膜の被膜厚さ、および被膜表面の凸部の密度(凸密度)を測定した。この結果を表1に示す。
As dry plating, the ultimate vacuum is 0.02 to 0.04 Pa, the sputtering gas pressure (Ar + nitrogen) is 0.1 to 0.5 MPa, and the sputtering power is 1.3 to 3 W / cm 3. A copper film was coated on the material surface (undercoat surface) by copper sputtering.
[Evaluation methods]
The film thicknesses of the coatings shown in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 5 and the density of the projections on the coating surface (convex density) were measured. The results are shown in Table 1.

Figure 2010270389
Figure 2010270389

[結果]
実施例1及び2に示すように、5mol/L以上のナトリウム水溶液、すなわち、水酸化物イオンが、5mol/L以上の場合には、オゾン水処理後の樹脂基材の表面が平滑化され、これにより、金属被膜の表面には、凸部が形成されなかったと考えられる。しかしながら、比較例4のようにクロム酸エッチングを行った場合には、エッチング時に表面が粗化されるため、被膜の厚さを大きくしなければ、被膜の表面の平滑化を図ることができない。
[result]
As shown in Examples 1 and 2, when the aqueous sodium solution of 5 mol / L or more, that is, when the hydroxide ion is 5 mol / L or more, the surface of the resin base material after the ozone water treatment is smoothed, Thereby, it is thought that the convex part was not formed in the surface of a metal film. However, when chromic acid etching is performed as in Comparative Example 4, since the surface is roughened during etching, the surface of the coating cannot be smoothed unless the thickness of the coating is increased.

(確認試験1)
実施例1と同じようにして、樹脂基材にめっき処理をおこなった。実施例1と相違する点は、平滑化処理における水酸化ナトリウム水溶液の濃度を5mol/Lとし、図5に示す溶液の温度で、液温を一定として、10分間、樹脂基材を浸漬した点である。そして、これらの樹脂基材の表面に被覆された金属被膜の凸部の密度を測定した。この結果を、図5に示す。
(Confirmation test 1)
In the same manner as in Example 1, the resin base material was plated. The difference from Example 1 is that the concentration of the sodium hydroxide aqueous solution in the smoothing treatment is 5 mol / L, the temperature of the solution shown in FIG. 5 is constant, and the resin base material is immersed for 10 minutes. It is. And the density of the convex part of the metal film coat | covered on the surface of these resin base materials was measured. The result is shown in FIG.

(結果2)
図5に示すように、水酸化ナトリウム水溶液の温度が、30℃以上であれば、確実に、被膜の凸部の発生を抑制することができる。
(Result 2)
As shown in FIG. 5, if the temperature of the sodium hydroxide aqueous solution is 30 ° C. or higher, the occurrence of convex portions of the coating can be reliably suppressed.

(確認試験2)
実施例1と同じようにして、樹脂基材にめっき処理をおこなった。実施例1と相違する点は、平滑化処理における水酸化ナトリウム水溶液の濃度を5mol/L、液温50℃一定とし、図6に示す浸漬時間で、樹脂基材を浸漬した点である。そして、これらの樹脂基材の表面に被覆された金属被膜の凸部の密度を測定した。この結果を、図6に示す。
(Confirmation test 2)
In the same manner as in Example 1, the resin base material was plated. The difference from Example 1 is that the concentration of the sodium hydroxide aqueous solution in the smoothing treatment is 5 mol / L, the liquid temperature is constant at 50 ° C., and the resin base material is immersed for the immersion time shown in FIG. And the density of the convex part of the metal film coat | covered on the surface of these resin base materials was measured. The result is shown in FIG.

(結果3)
この結果より、水酸化ナトリウム水溶液への浸漬時間が、10分以上であれば、確実に、被膜の凸部の発生を抑制することができる。
(Result 3)
From this result, if the immersion time in the sodium hydroxide aqueous solution is 10 minutes or more, the occurrence of the convex portions of the coating can be reliably suppressed.

以上、本発明の実施の形態を図面を用いて詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲における設計変更があっても、それらは本発明に含まれるものである。   As mentioned above, although embodiment of this invention has been explained in full detail using drawing, a concrete structure is not limited to this embodiment, Even if there is a design change in the range which does not deviate from the gist of the present invention. These are included in the present invention.

11:樹脂基材、12:酸化層、13:金属被膜   11: resin base material, 12: oxide layer, 13: metal coating

Claims (3)

不飽和結合を有する樹脂基材の基材表面に酸化処理を行う工程と、
該酸化処理後の基材表面に、5mol/L以上の水酸化物イオン濃度となるアルカリ溶液を接触させて前記基材表面を平滑化処理する工程と、
該平滑化処理後の基材表面に、無電解めっき処理を行う工程と、を含むめっき処理方法。
A step of oxidizing the base material surface of the resin base material having an unsaturated bond;
A step of bringing the base material surface after the oxidation treatment into contact with an alkali solution having a hydroxide ion concentration of 5 mol / L or more to smooth the base material surface;
And a step of performing an electroless plating process on the surface of the substrate after the smoothing process.
前記酸化処理はオゾン処理であり、前記アルカリ溶液は、アルカリ金属水酸化物を含む溶液、又は、アルカリ土類金属水酸化物を含む溶液であることを特徴とする請求項1に記載のめっき処理方法。   The plating treatment according to claim 1, wherein the oxidation treatment is an ozone treatment, and the alkaline solution is a solution containing an alkali metal hydroxide or a solution containing an alkaline earth metal hydroxide. Method. 前記樹脂基材は、ABS樹脂からなることを特徴とする請求項1または2に記載のめっき処理方法。   The plating method according to claim 1, wherein the resin base material is made of an ABS resin.
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