JP2010269989A - Method for manufacturing optical element - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To mold an optical element using an official mold designed with the anticipated change of the refractive index distribution and the shape of the optical element after the outline processing and the like of the optical element molded by a provisional mold. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the optical element has a primary step (S1) of: molding a glass stock 23 using the provisional mold; a secondary step (S2) of: carrying out the centering processing of the lens 35 molded in the primary step; a step (S3) of: measuring the optical performance of the optical element 36 after the secondary step; a computing step (S3) of: computing the difference between the measured optical performance of the optical element 36 and a designed performance; a step (S5) of: deciding the provisional mold as the official mold when the difference of the computed performance is allowable; and a molding step (S6) of: molding the optical element 36 using the decided official mold and when the difference computed in the computing step (S3) is not allowable, a step of returning up to the primary step (S1) after the correction (S4) of the provisional mold is repeated until the difference is allowed. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、成形した光学素子の光学性能に応じてその成形型を補正し、補正後の成形型により光学素子を成形する光学素子の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an optical element in which a molding die is corrected according to the optical performance of the molded optical element, and the optical element is molded with the corrected molding die.

従来、成形型を用いて光学素子を製造するには、最初に暫定型(補正前の成形型)による光学素子の成形を行い、次に、その暫定型を用いて成形された光学素子の光学性能の測定を行う。さらに、光学素子の光学性能の測定結果に基づき、暫定型を補正加工し、補正後の正式型で光学素子の成形を行っていた。   Conventionally, in order to manufacture an optical element using a mold, the optical element is first molded by a temporary mold (mold before correction), and then the optical element formed by using the temporary mold is optical. Measure performance. Furthermore, based on the measurement result of the optical performance of the optical element, the provisional mold is corrected and the optical element is molded with the corrected formal mold.

例えば、特許文献1には、光学素子の有する内部屈折率分布を測定し、屈折率分布に起因して発生する収差を光学素子の形状に換算して成形型に反映させることにより、予め光学素子の屈折率分布を見込んだ成形型により成形を行う技術が開示されている。   For example, in Patent Document 1, the internal refractive index distribution of an optical element is measured, and the aberration generated due to the refractive index distribution is converted into the shape of the optical element and reflected in the mold, thereby preliminarily reflecting the optical element. A technique is disclosed in which molding is performed using a mold that allows for a refractive index distribution of the above.

特開2002−193627号公報JP 2002-193627 A

しかしながら、一般的に、光学素子の成形後には、芯取り加工(外径加工)や反射防止膜の形成が行われる。その際、光学素子に内部応力(屈折率分布)が残ったままでは、その後に芯取り加工等によって内部応力の一部が開放されると、光学素子の屈折率分布及び表面形状が変化してしまう。   However, generally, after the optical element is formed, a centering process (outer diameter process) or an antireflection film is formed. At that time, if the internal stress (refractive index distribution) remains in the optical element, the refractive index distribution and the surface shape of the optical element change when a part of the internal stress is released by a centering process or the like thereafter. End up.

或いは、光学素子の成形後に、光学素子に反射防止膜の形成等の新たな熱履歴を加えると、屈折率分布と表面形状の少なくとも一方が変化する。従って、これらを見込んで成形を行なわないと、最終性能を満足する光学素子を得ることができない。
ところが、前述した特許文献1では、芯取り加工や反射防止膜の形成を行うことによる影響については何ら考慮されていない。
Alternatively, when a new thermal history such as formation of an antireflection film is added to the optical element after the optical element is molded, at least one of the refractive index distribution and the surface shape changes. Therefore, unless molding is performed in view of these, an optical element that satisfies the final performance cannot be obtained.
However, in the above-mentioned Patent Document 1, no consideration is given to the influence of performing the centering process or the formation of the antireflection film.

本発明は、斯かる課題を解決するためになされたもので、暫定型で成形した光学素子に対し外径加工等を施した後の屈折率分布及び表面形状の変化等を見込んで設計した正式型により成形を行う光学素子の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention was made in order to solve such problems, and was designed with the expectation of a change in refractive index distribution and surface shape after an outer diameter processing or the like was performed on an optical element molded with a temporary mold. It aims at providing the manufacturing method of the optical element which shape | molds with a type | mold.

前記目的を達成するため、本発明に係る光学素子の製造方法は、
暫定型を用いて光学素子素材を成形する1次工程と、
前記1次工程で成形された光学素子に対し、外径加工及び反射防止膜の形成の少なくとも一方を行う2次工程と、
前記2次工程後の光学素子の光学性能を測定する工程と、
測定された前記光学素子の光学性能と設計値との乖離を算出する算出工程と、
算出された乖離が許容される場合に、前記暫定型を正式型として決定する工程と、
決定された正式型を用いて光学素子素材を成形する成形工程と、を有し、
前記算出工程により算出された乖離が許容されない場合には、前記暫定型を補正して前記1次工程まで戻ることを前記乖離が許容されるまで繰り返すことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a method of manufacturing an optical element according to the present invention includes:
A primary process of forming an optical element material using a temporary mold;
A secondary step of performing at least one of outer diameter processing and formation of an antireflection film on the optical element molded in the primary step;
Measuring the optical performance of the optical element after the secondary step;
A calculation step of calculating a deviation between the measured optical performance of the optical element and a design value;
When the calculated deviation is allowed, determining the provisional type as a formal type; and
A molding process for molding the optical element material using the determined formal mold,
If the deviation calculated in the calculation step is not allowed, the provisional mold is corrected and the process returns to the primary step until the deviation is allowed.

また、本発明に係る光学素子の製造方法は、
さらに、前記2次工程の前に、前記1次工程で成形された前記光学素子の光学性能を測定する第1の測定工程を有し、
前記第1の測定工程の測定結果と前記2次工程後の光学素子の光学性能の測定結果とから、前記2次工程による光学性能の変化を算出することが可能である。
In addition, the method for manufacturing an optical element according to the present invention includes:
Furthermore, before the secondary step, it has a first measurement step of measuring the optical performance of the optical element molded in the primary step,
From the measurement result of the first measurement step and the measurement result of the optical performance of the optical element after the secondary step, it is possible to calculate the change in the optical performance due to the secondary step.

また、本発明に係る光学素子の製造方法は、
さらに、前記成形工程の前に、
前記正式型を用いて光学素子素材を予備成形する工程と、
予備成形された前記光学素子の光学性能を測定する第3の測定工程と、
前記第3の測定工程後、前記光学素子に対し、外径加工及び反射防止膜の形成の少なくとも一方を行う予備2次工程と、
前記予備2次工程後、前記光学素子の光学性能を測定する第4の測定工程と、を有し、
前記第3の測定工程の測定結果と前記第4の測定工程の測定結果とから、前記予備2次工程による光学性能の変化を算出することが可能である。
In addition, the method for manufacturing an optical element according to the present invention includes:
Furthermore, before the molding step,
A step of preforming an optical element material using the formal mold;
A third measuring step for measuring the optical performance of the preformed optical element;
After the third measurement step, a preliminary secondary step of performing at least one of outer diameter processing and antireflection film formation on the optical element;
A fourth measuring step for measuring the optical performance of the optical element after the preliminary secondary step,
From the measurement result of the third measurement step and the measurement result of the fourth measurement step, it is possible to calculate a change in optical performance due to the preliminary secondary step.

また、本発明に係る光学素子の製造方法は、
前記光学性能の変化は、前記光学素子の屈折率分布及び表面形状の少なくとも一方の変化によるものであり、
前記光学性能の測定は、透過波面測定法を用いて行うことが可能である。
In addition, the method for manufacturing an optical element according to the present invention includes:
The change in the optical performance is due to a change in at least one of a refractive index distribution and a surface shape of the optical element,
The optical performance can be measured using a transmitted wavefront measurement method.

本発明によれば、暫定型で成形した光学素子に対し外径加工等を施した後の屈折率分布及び表面形状の変化等を見込んで設計した正式型により成形を行う光学素子の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, there is provided a method of manufacturing an optical element that is molded by a formal mold designed in consideration of a change in refractive index distribution and surface shape after the outer diameter processing or the like is performed on the optical element molded by a temporary mold. Can be provided.

光学素子の製造装置の断面図である。It is sectional drawing of the manufacturing apparatus of an optical element. 型セットにガラス素材を組み込んだ状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which incorporated the glass raw material in the type | mold set. 成形されたレンズの断面図である。It is sectional drawing of the shape | molded lens. 透過波面測定装置の概要を示す図である。It is a figure which shows the outline | summary of a transmitted wavefront measuring apparatus. 芯取り加工装置の概略構成を示す図であるIt is a figure which shows schematic structure of the centering apparatus. 芯取り加工後のレンズの断面図であるIt is sectional drawing of the lens after a centering process 実施の形態1の暫定型から正式型を決定しその正式型で光学素子の生産を行うフローチャートを示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a flowchart for determining a formal type from the provisional type according to the first embodiment and producing an optical element using the formal type. 薄膜の形成装置の概要を示す図である。It is a figure which shows the outline | summary of the formation apparatus of a thin film. 実施の形態2の暫定型から正式型を決定しその正式型で光学素子の生産を行うフローチャートを示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating a flowchart for determining a formal type from the provisional type according to the second embodiment and producing an optical element using the formal type. 実施の形態3の暫定型から正式型を決定しその正式型で光学素子の生産を行うフローチャートを示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating a flowchart for determining a formal type from a provisional type according to Embodiment 3 and producing an optical element using the formal type.

以下、図面に基づき本発明の実施の形態を説明する。
[発明の概要]
図1は、光学素子の製造装置10の断面図、図2は、型セット17にガラス素材23を組み込んだ状態の断面図、図3は、成形されたレンズ35の断面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[Summary of Invention]
1 is a cross-sectional view of the optical element manufacturing apparatus 10, FIG. 2 is a cross-sectional view of a state in which a glass material 23 is incorporated in a mold set 17, and FIG. 3 is a cross-sectional view of a molded lens 35.

図1において、光学素子の製造装置10は、床面に敷設された断熱プレート11と、その上部を覆うような筐体12とで区画された成形室14を有している。この成形室14は、大気圧下、不活性ガス(Arガス又は窒素ガス等)の置換下、あるいは真空圧下で稼動するようになっている。   In FIG. 1, an optical element manufacturing apparatus 10 has a molding chamber 14 partitioned by a heat insulating plate 11 laid on a floor surface and a casing 12 covering the upper part thereof. The molding chamber 14 is operated under atmospheric pressure, replacement with an inert gas (such as Ar gas or nitrogen gas), or under vacuum pressure.

このように、成形室14を不活性ガス等の置換下で稼動させることで、後述する型セット17などの酸化を防止することができる。一般に、成形室14内は加熱等により高温になっていて酸化が促進されるおそれがあるためである。なお、成形室14には、気体の流入、流出が可能な不図示の管路が設けられていて、成形室14内を不活性ガス等により置換可能な構造になっている。   In this way, by operating the molding chamber 14 under the substitution of an inert gas or the like, it is possible to prevent oxidation of the mold set 17 and the like described later. This is because the inside of the molding chamber 14 is generally at a high temperature due to heating or the like and oxidation may be accelerated. The molding chamber 14 is provided with a pipe (not shown) through which gas can flow in and out, so that the inside of the molding chamber 14 can be replaced with an inert gas or the like.

成形室14の入口には、型セット17を水平な矢印A方向に搬入が可能なように、搬入シャッタ15が設けられている。同様に、成形室14の出口には、型セット17を矢印A方向に搬出が可能なように、搬出シャッタ16が設けられている。   At the entrance of the molding chamber 14, a carry-in shutter 15 is provided so that the mold set 17 can be carried in the horizontal arrow A direction. Similarly, a carry-out shutter 16 is provided at the outlet of the molding chamber 14 so that the mold set 17 can be carried out in the arrow A direction.

これら搬入、搬出シャッタ15,16は、矢印A方向と略直交方向(図1の表裏面方向)に開閉可能なようにベースブロック18,19に取り付けられている。このベースブロック18,19は、断熱プレート11の上面からの高さが、後述する加熱ステージ20等における下プレート25の高さと略同一高さとなっている。これにより、型セット17の搬送をスムーズに行えるようにしている。 These carry-in and carry-out shutters 15 and 16 are attached to the base blocks 18 and 19 so as to be opened and closed in a direction substantially orthogonal to the arrow A direction (front and back direction in FIG. 1). The base block 18 and 19, the height from the upper surface of the heat insulating plate 11 has a height substantially the same height of the lower plate 25 1 in the heating stage 20 to be described later. Thus, the mold set 17 can be smoothly conveyed.

成形室14内には、加熱ステージ20、プレスステージ21、及び冷却ステージ22が、型セット17の搬送方向(矢印A方向)に沿って配設されている。これらの各ステージでは、個別に加熱時間やプレス時間等の制御が可能となっている。これらの制御は、装置全体の制御をつかさどる制御装置30によって行われる。   In the molding chamber 14, a heating stage 20, a press stage 21, and a cooling stage 22 are disposed along the conveying direction (arrow A direction) of the mold set 17. In each of these stages, it is possible to individually control heating time, pressing time, and the like. These controls are performed by the control device 30 that controls the entire device.

なお、本実施の形態では、成形室14内に3つのステージを有する場合について説明するが、これに限らない。例えば、より細かな制御を行うために、各ステージをさらに細分化することもできるし、統合することもできる。   In the present embodiment, the case where the molding chamber 14 has three stages will be described, but the present invention is not limited to this. For example, in order to perform finer control, each stage can be further subdivided or integrated.

加熱ステージ20は、上下方向(矢印A方向と直交する矢印B方向)に対向する一対の上プレート24及び下プレート25と、作動ロッド27を介して上プレート24を上下方向(矢印B方向)に駆動するエアシリンダ26と、を有している。このエアシリンダ26は、保持部材13を介して筐体12に固定されている。 Heating stage 20 includes a vertical upper plate 24 1 and the lower plate 25 1 a pair of opposite (arrow A direction of arrow B perpendicular to the direction), the upper plate 24 1 via the actuating rod 27 1 vertical direction (arrow It has an air cylinder 26 1, the driving in the B direction). The air cylinder 26 1 is fixed to the housing 12 via the holding member 13 1.

上プレート24及び下プレート25には、夫々上カートリッジヒータ28及び下カートリッジヒータ29が内蔵されている。これらの上・下カートリッジヒータ28,29により、型セット17及び内部のガラス素材23が加熱される。
型セット17は、不図示の搬送装置により、矢印A方向に成形室14内に搬入される。そして、搬入された型セット17は、加熱ステージ20の上プレート24と下プレート25との間に移載される。次いで、エアシリンダ26による上プレート24の下降動作により、型セット17の挟持、挟圧等の動作が行われる。
An upper cartridge heater 28 1 and a lower cartridge heater 29 1 are incorporated in the upper plate 24 1 and the lower plate 25 1 , respectively. The upper and lower cartridge heaters 28 1 and 29 1 heat the mold set 17 and the glass material 23 inside.
The mold set 17 is carried into the molding chamber 14 in the direction of arrow A by a conveyance device (not shown). Then, the mold set 17, which is carried is transferred between the upper plate 24 1 and the lower plate 25 1 of the heating stage 20. Then, by the lowering operation of the upper plate 24 1 by the air cylinder 26 1, clamping the mold sets 17, the operation of the clamping pressure or the like is performed.

プレスステージ21と冷却ステージ22も、加熱ステージ20と同様の構成を有している。このプレスステージ21では、型セット17を挟持して、内部のガラス素材23が成形可能な粘度になるまで加熱する。また、冷却ステージ22では、型セット17を挟持して、成形後の中間レンズ31を形状安定化し、取り出せる温度にまで冷却する。
なお、加熱ステージ20、プレスステージ21、及び冷却ステージ22において、同一又は相当する部材には、夫々の符号に1、2、3の下付き符号を付してその説明を省略する。
The press stage 21 and the cooling stage 22 also have the same configuration as the heating stage 20. In this press stage 21, the mold set 17 is sandwiched and heated until the glass material 23 in the interior has a moldable viscosity. In the cooling stage 22, the mold set 17 is sandwiched to stabilize the shape of the molded intermediate lens 31 and cool it to a temperature at which it can be taken out.
In addition, in the heating stage 20, the press stage 21, and the cooling stage 22, the same or corresponding members are denoted by 1, 2, and 3 subscripts, and the description thereof is omitted.

プレスステージ21では、型セット17内のガラス素材23は、エアシリンダ26の下降動作によりプレスされて所定形状の中間レンズ31に成形される。
また、プレスステージ21で成形完了した型セット17は、次に冷却ステージ22に移載され、ここで所望の形状に成形された中間レンズ31を所定の温度に冷却して形状安定化する。冷却された後の型セット17は、搬出シャッタ16を開いて矢印A方向に成形室14から外部に搬出される。
なお、以上説明した加熱ステージ20、プレスステージ21、及び冷却ステージ22での加熱温度やプレス量は、制御装置30によって制御されるようになっている。
In the press stage 21, the glass material 23 in the mold set 17 is press-molded into the intermediate lens 31 having a predetermined shape by the lowering operation of the air cylinder 26 2.
The mold set 17 that has been molded by the press stage 21 is then transferred to the cooling stage 22 where the intermediate lens 31 molded into a desired shape is cooled to a predetermined temperature to stabilize the shape. After being cooled, the mold set 17 is unloaded from the molding chamber 14 in the direction of arrow A by opening the unloading shutter 16.
The heating temperature and the press amount at the heating stage 20, the press stage 21, and the cooling stage 22 described above are controlled by the control device 30.

図2において、型セット17は、下型32、上型33、及びスリーブ(胴型)34を有している。下型32及び上型33は、スリーブ34の内部で、それぞれの成形面32a,32b、33a、33bが対向するようにスリーブ34の両端側から嵌挿されている。
下型32は、円柱形状をなしている。下型32の中央の成形面32aは、例えば凹球面状または凹非球面状に形成されている。この成形面32a上に、球状のガラス素材23が載置される。また、成形面32aの外周部は平坦な成形面32bに形成されている。
In FIG. 2, the mold set 17 includes a lower mold 32, an upper mold 33, and a sleeve (trunk mold) 34. The lower mold 32 and the upper mold 33 are inserted from both ends of the sleeve 34 so that the molding surfaces 32a, 32b, 33a, and 33b face each other inside the sleeve 34.
The lower mold 32 has a cylindrical shape. The molding surface 32a at the center of the lower mold 32 is formed in, for example, a concave spherical shape or a concave aspherical shape. A spherical glass material 23 is placed on the molding surface 32a. Moreover, the outer peripheral part of the molding surface 32a is formed in the flat molding surface 32b.

上型33も、円柱形状をなしている。この上型33は、スリーブ34の内側上部に嵌挿されている。また、上型33の中央の成形面33aは、例えば凹球面状又は凹非球面状に形成されている。この成形面33aの外周部は平坦な成形面33bに形成されている。
スリーブ34は円筒形状をなしている。このスリーブ34の中心軸は、型中心線O−Oと一致している。また、上型33は、スリーブ34の軸方向(型中心線O−O方向)、すなわち上下方向に摺動自在に嵌挿されている。
The upper mold 33 also has a cylindrical shape. The upper mold 33 is fitted into the upper part of the sleeve 34. Further, the molding surface 33a at the center of the upper mold 33 is formed in, for example, a concave spherical shape or a concave aspherical shape. The outer periphery of the molding surface 33a is formed on a flat molding surface 33b.
The sleeve 34 has a cylindrical shape. The central axis of the sleeve 34 coincides with the mold center line OO. The upper mold 33 is slidably inserted in the axial direction of the sleeve 34 (the mold center line OO direction), that is, the vertical direction.

なお、本実施の形態では、下型32、上型33、及びスリーブ34は、タングステンカーバイド(WC)等の超硬合金を研削・研磨して仕上げられている。また、ガラス素材23は、市販の球状の光学ガラスが用いられている。また、本実施の形態では、光学素子素材としてガラス素材23を例として説明するが、これに限らない。例えば、ポリカーボネート等の合成樹脂であってもよい。   In the present embodiment, the lower mold 32, the upper mold 33, and the sleeve 34 are finished by grinding and polishing a cemented carbide such as tungsten carbide (WC). The glass material 23 is a commercially available spherical optical glass. In the present embodiment, the glass material 23 is described as an example of the optical element material, but is not limited thereto. For example, a synthetic resin such as polycarbonate may be used.

図3は、成形された光学素子としてのレンズ35の断面図を示している。
図3において、成形室14から搬出された型セット17を分解することにより、成形されたレンズ35が得られる。このレンズ35は、光学機能面35a,35bが両凸状の光学レンズで外周に薄肉の鍔部35cを有している。
FIG. 3 shows a cross-sectional view of a lens 35 as a molded optical element.
In FIG. 3, the molded lens 35 is obtained by disassembling the mold set 17 carried out of the molding chamber 14. This lens 35 is an optical lens whose optical function surfaces 35a and 35b are biconvex, and has a thin flange 35c on the outer periphery.

次に、図4は、透過波面測定装置40の概要を示す図である。
この透過波面測定装置40により、成形されたレンズ35の光学性能を測定することができる。
すなわち、この透過波面測定装置40は、光の干渉を利用し、被検レンズの入射光と出射光の位相差から生じた干渉縞を捉え、被検レンズの透過波面収差を測定する装置である。この透過波面測定装置40を用いることで、被検レンズから得られる透過波面が、所望の光学素子から得られる透過波面に対し、どの程度ずれているかを測定することができる。
Next, FIG. 4 is a diagram showing an outline of the transmitted wavefront measuring apparatus 40.
With this transmitted wavefront measuring device 40, the optical performance of the molded lens 35 can be measured.
That is, the transmitted wavefront measuring apparatus 40 is an apparatus that uses the interference of light to capture interference fringes generated from the phase difference between the incident light and the emitted light of the lens to be measured, and to measure the transmitted wavefront aberration of the lens to be tested. . By using this transmitted wavefront measuring apparatus 40, it is possible to measure how much the transmitted wavefront obtained from the test lens is deviated from the transmitted wavefront obtained from a desired optical element.

本実施の形態の透過波面測定装置40は、干渉計41と干渉縞解析用の縞解析装置42とを組み合わせたものである。この縞解析装置42は、画像処理用PC(パソコン)43と表示装置44とを有している。
干渉計41は、装置本体内に収容されたコリメータレンズ45と、昇降自在な載置台49に載置されたミラー46とを有し、光源としてレーザ光を使用している。被検レンズ47は、コリメータレンズ45とミラー46との間に配置されている。
The transmitted wavefront measuring apparatus 40 of the present embodiment is a combination of an interferometer 41 and a fringe analyzing apparatus 42 for analyzing interference fringes. The fringe analysis device 42 includes an image processing PC (personal computer) 43 and a display device 44.
The interferometer 41 includes a collimator lens 45 housed in the apparatus main body and a mirror 46 mounted on a mounting table 49 that can be raised and lowered, and uses laser light as a light source. The test lens 47 is disposed between the collimator lens 45 and the mirror 46.

透過波面測定に際しては、不図示の光源から出射されてコリメータレンズ45を透過した平面波(平行光)は、被検レンズ47に入射する。この被検レンズ47を透過した光は、ミラー46で折り返される。そして、入射光とミラーで折り返された光とによって生じた干渉縞48が表示装置44に表示される。
こうして、被検レンズ47が理想状態の場合の干渉縞(図示せず)と、実測された干渉縞48との差が、被検レンズ47が持っている波面収差となる。この波面収差を、画像処理用PC43で解析することにより、被検レンズ47の光学性能が、設計値とどの程度ずれているかを高精度に測定することができる。
When measuring the transmitted wavefront, a plane wave (parallel light) emitted from a light source (not shown) and transmitted through the collimator lens 45 enters the lens 47 to be examined. The light transmitted through the test lens 47 is folded back by the mirror 46. Then, the interference fringes 48 generated by the incident light and the light reflected by the mirror are displayed on the display device 44.
Thus, the difference between the interference fringes (not shown) when the test lens 47 is in the ideal state and the actually measured interference fringes 48 is the wavefront aberration of the test lens 47. By analyzing this wavefront aberration by the image processing PC 43, it is possible to measure with high accuracy how much the optical performance of the lens 47 to be tested is different from the design value.

なお、本発明では、暫定型(金型)を用いてレンズ35を成形することを1次工程(1次加工ともいう)という。また、本発明では、成形されたレンズ35に対し、外径加工としての芯取り加工および反射防止膜の形成のうちの少なくとも一方を行うことを2次工程(2次加工ともいう)という。なお、2次工程には、アニール処理は含まれない。

[実施の形態1]
In the present invention, molding the lens 35 using a temporary mold (mold) is referred to as a primary process (also referred to as primary processing). In the present invention, performing at least one of the centering process as the outer diameter process and the formation of the antireflection film on the molded lens 35 is referred to as a secondary process (also referred to as a secondary process). The secondary process does not include annealing.

[Embodiment 1]

次に、本実施の形態による光学素子の製造方法を説明する。
本実施の形態では、2次加工の一例として、芯取り加工(外径加工)を行う場合について説明する。
Next, a method for manufacturing an optical element according to this embodiment will be described.
In the present embodiment, as an example of secondary processing, a case where centering processing (outer diameter processing) is performed will be described.

図5は、芯取り加工装置50の概略構成を示す図であり、図6は、芯取り加工後のレンズ36の断面図である。   FIG. 5 is a diagram showing a schematic configuration of the centering apparatus 50, and FIG. 6 is a cross-sectional view of the lens 36 after the centering process.

図5において、芯取り加工装置50は、レンズ35を光軸方向の両側から挟んで保持するホルダー51,51と、レンズ35を研磨するダイヤモンドホイール52と、研磨液を供給する供給管53と、を有している。そして、レンズ35に研磨液を噴射しながら回転するダイヤモンドホイール52で外周部の芯取り加工を行う。
なお、図5に示したレンズ35の形状は、図3に示したものと相違するが、ここでは、説明の便宜上、同じ形状のレンズとして説明する。
In FIG. 5, the centering device 50 includes holders 51 and 51 that hold the lens 35 from both sides in the optical axis direction, a diamond wheel 52 that polishes the lens 35, a supply pipe 53 that supplies a polishing liquid, have. Then, the outer peripheral portion is centered by the diamond wheel 52 that rotates while spraying the polishing liquid onto the lens 35.
The shape of the lens 35 shown in FIG. 5 is different from that shown in FIG. 3, but here, for the sake of convenience of explanation, it will be described as a lens having the same shape.

図6に示すように、芯取り加工後のレンズ36は、光軸中心O−Oを中心として外周部が同心状に高精度に加工された両凸形状をなしている。
次に、図7は、暫定型を補正して正式型を決定しその正式型で光学素子の生産を行うフローチャートを示す図である。
先ず、S(ステップ)1において、暫定型(構成は、前述した型セット17と同じである)を用いて光学素子としてのレンズ35の成形を行う(1次加工工程)。ここでの、暫定型とは、設計図に基づいて切削加工され作製された金型のことである。なお、この暫定型を用いて成形されたレンズ35の光学性能の良否は現時点ではわからない。
As shown in FIG. 6, the lens 36 after the centering process has a biconvex shape in which the outer peripheral part is processed concentrically with high accuracy around the optical axis center OO.
Next, FIG. 7 is a diagram showing a flowchart for correcting the provisional mold to determine the formal mold and producing the optical element using the formal mold.
First, in S (step) 1, a lens 35 as an optical element is molded using a temporary mold (the configuration is the same as that of the mold set 17 described above) (primary processing step). Here, the provisional mold refers to a mold that is cut and manufactured based on a design drawing. Note that it is not known at this time whether the optical performance of the lens 35 formed using this provisional mold is good or bad.

レンズ35の成形では、前述した光学素子の製造装置10を用いて行う。
すなわち、ガラス素材23を組み込んだ型セット17を成形室14内に搬送し、加熱ステージ20、プレスステージ21、冷却ステージ22を経てレンズ35が成形される。なお、これらの工程については既に説明したので、ここではその説明を省略する。
The molding of the lens 35 is performed using the optical element manufacturing apparatus 10 described above.
That is, the mold set 17 incorporating the glass material 23 is conveyed into the molding chamber 14, and the lens 35 is molded through the heating stage 20, the press stage 21, and the cooling stage 22. Since these steps have already been described, the description thereof is omitted here.

次いで、S2において、成形されたレンズ35に対し2次加工(芯取り加工)を行う(2次加工工程)。
次に、S3では、2次加工後のレンズ36の光学性能の測定及び設計値との乖離を算出する(測定工程、算出工程)。これは、レンズ36の光学性能が、設計者の意図した光学性能に合致しているか否か(OKか否か)を判断するためである。なお、本発明において、設計値は、許容範囲を有することができる。
Next, in S2, secondary processing (centering processing) is performed on the molded lens 35 (secondary processing step).
Next, in S3, the measurement of the optical performance of the lens 36 after the secondary processing and the deviation from the design value are calculated (measurement process, calculation process). This is to determine whether or not the optical performance of the lens 36 matches the optical performance intended by the designer (whether or not it is OK). In the present invention, the design value can have an allowable range.

ここでの光学性能の測定では、レンズ36の中心肉厚をマイクロメータで測定したり、レンズ36の光学面の形状を接触式の形状測定機で測定したり、或いは、レンズ36の中心の屈折率を屈折計又は分光計などを用いて測定する。さらに、屈折率分布(径方向の不均一性)を、オイルオンプレート法や研磨法により測定する。
なお、オイルオンプレート法や研磨法は、一般の干渉計を用いて行うことができる。例えば、被測定物として平面度のよい試料を作成し、それを透過した光束の波面をもとに、試料の材質の屈折率分布を測定するものである。
In this measurement of optical performance, the center thickness of the lens 36 is measured with a micrometer, the shape of the optical surface of the lens 36 is measured with a contact-type shape measuring machine, or the center of the lens 36 is refracted. The rate is measured using a refractometer or spectrometer. Furthermore, the refractive index distribution (radial nonuniformity) is measured by an oil-on-plate method or a polishing method.
The oil-on-plate method and the polishing method can be performed using a general interferometer. For example, a sample with good flatness is prepared as an object to be measured, and the refractive index distribution of the material of the sample is measured based on the wavefront of a light beam transmitted through the sample.

このS3において、レンズ36の光学性能を測定した結果、設計値に合致しなかった場合(No)は、S4に移行して、暫定型の補正(型補正)を行い(型作製工程)、S1に戻る。
ここでの型補正とは、S3でのレンズ36の光学性能の測定項目を基に、設計値からの乖離を算出し、2次加工後に光学性能が設計値に合致するよう(2次加工後の変化もふまえて)、暫定型の形状を研削加工等して補正することをいう。
In S3, when the optical performance of the lens 36 is measured and does not match the design value (No), the process proceeds to S4 to perform provisional mold correction (mold correction) (mold manufacturing process). Return to.
The mold correction here is based on the measurement item of the optical performance of the lens 36 in S3, and the deviation from the design value is calculated so that the optical performance matches the design value after the secondary processing (after the secondary processing). This also means that the shape of the provisional mold is corrected by grinding or the like.

また、S3で、レンズ36の光学性能の測定の結果、設計値に合致した場合(Yes)は、S5に移行して、正式型が決定される。
正式型が決定されると、次に、S6で、正式型による成形を行い(成形工程)、正式レンズを得る。さらに、S7で、この正式レンズに対し2次加工(芯取り加工)を行う。
In S3, when the optical performance of the lens 36 is determined to match the design value (Yes), the process proceeds to S5 and the formal type is determined.
When the formal mold is determined, in S6, molding is performed with the formal mold (molding process) to obtain a formal lens. Further, in S7, secondary processing (centering processing) is performed on the official lens.

次に、S8で、前述したと同様に、正式レンズの光学性能の測定を行う。ここで、光学性能が設計値に対し許容できる乖離か否かを判断し、Yesなら、S9に移行して最終的に良品のレンズが得られる。また、Noなら、そのレンズを廃棄処分とする。なお、S8での光学性能の測定は、型修正にフィードバックするためのものではなく、レンズの良否を判定する意味を有する。   Next, in S8, the optical performance of the formal lens is measured as described above. Here, it is determined whether or not the optical performance is an acceptable deviation from the design value. If Yes, the process proceeds to S9, and finally a good lens is obtained. If No, the lens is discarded. Note that the measurement of the optical performance in S8 is not for feeding back to the mold correction, but has a meaning of determining the quality of the lens.

本実施の形態によれば、芯取り加工等の2次加工後にレンズ36の光学性能の測定を行い、その結果に基づいて暫定型の補正を行うようにしたため、2次加工に伴う光学素子の屈折率分布及び表面形状の変化など(光学性能の変化)を考慮した型設計を行うことができる。こうして得た正式型を用いて光学素子を成形することにより、所望の光学性能を満足する正式レンズを大量に得ることができる。
[実施の形態2]
According to the present embodiment, the optical performance of the lens 36 is measured after the secondary processing such as the centering processing, and the provisional type correction is performed based on the measurement result. It is possible to design a mold in consideration of a change in refractive index distribution and surface shape (change in optical performance). By molding the optical element using the formal mold thus obtained, a large amount of formal lenses satisfying the desired optical performance can be obtained.
[Embodiment 2]

本実施の形態では、暫定型から正式型を決定するまでに、2回の光学性能の測定を行う点が実施の形態1と異なっている。
なお、実施の形態1と同一又は相当する部材には同一の符号を付してその説明を省略する。また、実施の形態1で定義した内容は、本実施の形態でも同様の意味で用いるものとする。
本実施の形態では、2次加工の一例として、薄膜(反射防止膜)の形成を行う場合について説明する。
The present embodiment is different from the first embodiment in that the optical performance is measured twice before the formal type is determined from the provisional type.
In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member which is the same as that of Embodiment 1, or is equivalent, and the description is abbreviate | omitted. The contents defined in Embodiment 1 are also used in the same meaning in this embodiment.
In this embodiment, a case where a thin film (antireflection film) is formed will be described as an example of secondary processing.

図8は、薄膜の形成装置60の概要を示す図である。
この薄膜の形成装置60により、レンズ35に2次加工として薄膜を形成することができる。
図8において、薄膜の形成装置60は、真空室61と、真空室61内で加熱プレート62上に載置された原料(蒸着材料)63と、その上方のホルダー64に支持されたレンズ35と、レンズ35の上方に配置された加熱ヒータ65と、を有している。
本実施の形態では、真空蒸着によりレンズ35に反射防止用の薄膜を形成する。この真空蒸着は、真空中で金属や化合物などを加熱蒸発させ、その蒸気を物体表面に薄膜状に形成することにより行われる。
FIG. 8 is a diagram showing an outline of the thin film forming apparatus 60.
With this thin film forming apparatus 60, a thin film can be formed on the lens 35 as a secondary process.
In FIG. 8, a thin film forming apparatus 60 includes a vacuum chamber 61, a raw material (vapor deposition material) 63 placed on a heating plate 62 in the vacuum chamber 61, and a lens 35 supported by a holder 64 above the vacuum chamber 61. And a heater 65 disposed above the lens 35.
In the present embodiment, an antireflection thin film is formed on the lens 35 by vacuum deposition. This vacuum deposition is performed by heating and evaporating a metal, a compound, or the like in vacuum and forming the vapor in a thin film on the surface of the object.

本実施の形態では、原料63を加熱して蒸発させ、その蒸気をレンズ35の一方の光学面に付着させて薄膜を形成するものである。
図9は、実施の形態2の暫定型から正式型を決定しその正式型で光学素子の生産を行うフローチャートを示す図である。
本実施の形態では、光学性能の測定方法と、暫定型の補正フローにおいて2次加工の前後(S12,S14)で光学性能の測定を行っている点が、実施の形態1と相違している。
先ず、S11において、暫定型を用いて光学素子としてのレンズ35の成形を行う(1次加工工程)。このレンズ35の成形では、前述した光学素子の製造装置10を用いて行う。その製造工程については、既に説明したので、ここではその説明を省略する。
In the present embodiment, the raw material 63 is heated and evaporated, and the vapor is attached to one optical surface of the lens 35 to form a thin film.
FIG. 9 is a diagram illustrating a flowchart for determining a formal type from the provisional type according to the second embodiment and producing an optical element using the formal type.
The present embodiment is different from the first embodiment in that the optical performance is measured before and after the secondary processing (S12, S14) in the provisional correction flow and the optical performance is measured. .
First, in S11, a lens 35 as an optical element is molded using a temporary mold (primary processing step). The lens 35 is molded using the optical element manufacturing apparatus 10 described above. Since the manufacturing process has already been described, the description thereof is omitted here.

次に、S12において、成形されたレンズ35の第1の光学性能の測定を行う(第1の測定工程)。
ここでの光学性能の測定では、前述した透過波面測定装置40を用いてレンズの光学性能を総合的に測定する。例えば、屈折率分布の測定において、オイルオンプレート法や研磨法によっては、検査すべきレンズ35を測定試料の形状に加工する必要がある。
このため、ここでも屈折率分布の変化が起こる可能性があり、正確に測定することが難しい。これに対し、透過波面測定装置40を用いれば、レンズ35を加工することなく測定することができるため、正確に測定することができる。
Next, in S12, the first optical performance of the molded lens 35 is measured (first measurement step).
In the measurement of the optical performance here, the optical performance of the lens is comprehensively measured using the transmission wavefront measuring device 40 described above. For example, in the measurement of the refractive index distribution, depending on the oil-on-plate method or the polishing method, it is necessary to process the lens 35 to be inspected into the shape of the measurement sample.
For this reason, a change in the refractive index distribution may occur here, and it is difficult to measure accurately. On the other hand, if the transmitted wavefront measuring apparatus 40 is used, measurement can be performed without processing the lens 35, so that accurate measurement can be performed.

さらに、透過波面測定装置40を用いれば、レンズ35の表面形状、屈折率分布等、全ての影響を含む総合性能として評価が可能であり、測定項目を減らすことができる。
なお、透過波面測定装置40による測定原理も既に説明したので、ここではその説明を省略する。
Furthermore, if the transmitted wavefront measuring apparatus 40 is used, it can be evaluated as a comprehensive performance including all influences such as the surface shape of the lens 35 and the refractive index distribution, and the number of measurement items can be reduced.
Since the measurement principle by the transmitted wavefront measuring device 40 has already been described, the description thereof is omitted here.

次いで、S13で、2次加工(反射防止膜の形成)を行う(2次加工工程)。
次いで、S40では、レンズ35に薄膜を形成した後のレンズ36の第2の光学性能の測定を行う(測定工程)。この光学性能の測定は、透過波面測定装置40を用いて行う。
次に、S14では、第2の光学性能の測定S40の結果を基に、設計値との乖離の算出を行う(算出工程)。その結果、設計値に合致しなかった場合(No)は、S15に移行して、暫定型の補正(型補正)を行い、S11に戻る。
Next, in S13, secondary processing (formation of an antireflection film) is performed (secondary processing step).
Next, in S40, the second optical performance of the lens 36 after the thin film is formed on the lens 35 is measured (measurement step). The optical performance is measured using the transmitted wavefront measuring device 40.
Next, in S14, the deviation from the design value is calculated based on the result of the second optical performance measurement S40 (calculation step). As a result, when it does not agree with the design value (No), the process proceeds to S15 to perform provisional type correction (type correction), and returns to S11.

本実施の形態では、S12でのレンズ35の光学性能の測定を行うことにより、2次加工(S13)を経た後のレンズ36の、S14での光学性能の測定結果との差を比較することができる。この比較データを利用することにより、例えば、良品型(正式型)を得るためには、暫定型で成形したレンズ35の光学性能の測定値(S12)がどの程度の範囲内ならば、良品のレンズ36を成形可能な正式型を得ることができるかの予測を行うことができる。
こうして、S15における型補正では、S12での光学性能の測定項目を基に、設計値からの乖離を算出し、2次加工後に光学性能が設計値に合致するよう(2次加工後の変化もふまえて)、暫定型の形状を研削加工等により補正することができる。従って、上記比較データを得た後は、第1の光学性能の測定(S12)後、2次加工(S13)及び第2の光学性能の測定(S40)を行わずに(図9の破線矢印A参照)、レンズ35の光学性能と設計値との乖離が許容されるか否かを判断することができる(S14)。
In this embodiment, by measuring the optical performance of the lens 35 at S12, the difference between the lens 36 after the secondary processing (S13) and the measurement result of the optical performance at S14 is compared. Can do. By using this comparison data, for example, in order to obtain a good product type (formal product), the measured value (S12) of the optical performance of the lens 35 molded with the provisional die should be within a certain range. It is possible to predict whether a formal mold capable of molding the lens 36 can be obtained.
Thus, in the mold correction in S15, the deviation from the design value is calculated based on the measurement item of the optical performance in S12 so that the optical performance matches the design value after the secondary processing (the change after the secondary processing is also In view of this, the shape of the provisional mold can be corrected by grinding or the like. Therefore, after obtaining the comparison data, after the first optical performance measurement (S12), the secondary processing (S13) and the second optical performance measurement (S40) are not performed (broken arrows in FIG. 9). A), it can be determined whether or not the deviation between the optical performance of the lens 35 and the design value is allowed (S14).

上記の比較データは、多数蓄積されることが好ましい。これにより、S12での光学性能の測定結果のみを見て暫定型の必要な補正量や補正箇所を推定することがより確実となる。なお、比較データは、実際の測定値から得ても良いし、シミュレーションから得ても良い。また、1つの比較データを得るためのサンプル数(n数)は、適宜設定されることができる。
なお、S14で、2次加工を経た後のレンズ36の光学性能の測定の結果、設計値に合致した場合(Yes)は、S16に移行して、正式型が決定される。
次に、S17では、この正式型によるレンズ35の成形を行う(成形工程)。
さらに、S13’で、前述のS13と同様の2次加工(反射防止膜の形成)を行う(2次加工工程)。
It is preferable that a large number of the comparison data is accumulated. This makes it more reliable to estimate the necessary correction amount and correction location of the provisional type only by looking at the optical performance measurement result in S12. The comparison data may be obtained from actual measurement values or may be obtained from simulation. Further, the number of samples (n number) for obtaining one comparison data can be set as appropriate.
In S14, when the optical performance of the lens 36 after the secondary processing is measured and the design value is matched (Yes), the process proceeds to S16 and the formal type is determined.
Next, in S17, the lens 35 is molded by this formal mold (molding process).
Further, in S13 ′, secondary processing (formation of an antireflection film) similar to S13 described above is performed (secondary processing step).

次いで、S18では、成形されたレンズ35の光学性能の測定を行う。ここでの光学性能の測定では、前述した透過波面測定装置40を用いて光学性能を総合的に測定する。ここで、光学性能が設計値に対し許容できる乖離か否かを判断し、Yesなら、S19に移行して良品のレンズが得られる。また、Noなら、そのレンズ35は廃棄処分される。
こうして、S19において、光学性能を測定した後の良品のレンズ35を得ることができる。
Next, in S18, the optical performance of the molded lens 35 is measured. In the measurement of the optical performance here, the optical performance is comprehensively measured using the transmission wavefront measuring apparatus 40 described above. Here, it is determined whether or not the optical performance is an allowable deviation from the design value. If Yes, the process proceeds to S19 to obtain a good lens. If No, the lens 35 is discarded.
Thus, in S19, a good lens 35 after the optical performance is measured can be obtained.

本実施の形態によれば、2次加工の前後でレンズの光学性能の測定を行い、その差を比較することで、暫定型で成形したレンズ35の光学性能の測定値がどの程度の範囲内ならば良品のレンズ36を成形可能な正式型を得ることができるかという予測を行うことができる。従って、正式型を得るまでの工数を削減することができる。   According to the present embodiment, the optical performance of the lens is measured before and after the secondary processing, and the difference is compared, so that the measured value of the optical performance of the lens 35 formed by the provisional mold is within what range. Then, it can be predicted whether a formal mold capable of molding a good lens 36 can be obtained. Therefore, it is possible to reduce the man-hours until the formal mold is obtained.

なお、レンズを芯取り加工(2次加工)することによる光学性能の変化は、レンズ内部に応力(屈折率分布)があるため、それが開放されて生じる。そこで、芯取り加工の前に、アニール処理を行うことで、レンズの内部応力を予め開放しておけば、芯取り加工による光学性能の変化は生じないようになる。
しかし、薄膜(反射防止膜)の形成(2次加工)では、光学性能の変化は薄膜の形成時にレンズが加熱されることで起きると考えられる。従って、アニール処理を施したレンズ(内部応力がない)においても、2次加工による光学性能の変化は起こり得るが、本実施の形態によれば、2次加工後の光学性能を基に、あるいは2次加工による光学性能の変化を考慮して、型補正を行っているため、その不具合も解決することができる。
[実施の形態3]
Note that the change in optical performance due to the centering (secondary processing) of the lens is caused by the release of stress (refractive index distribution) inside the lens. Therefore, if the internal stress of the lens is released in advance by performing an annealing process before the centering process, the optical performance does not change due to the centering process.
However, in the formation (secondary processing) of a thin film (antireflection film), it is considered that the change in optical performance occurs when the lens is heated during the formation of the thin film. Therefore, even in the lens subjected to the annealing treatment (no internal stress), the optical performance can be changed by the secondary processing, but according to the present embodiment, the optical performance after the secondary processing or Since the mold correction is performed in consideration of the change in the optical performance due to the secondary processing, the problem can be solved.
[Embodiment 3]

図10は、暫定型から正式型を決定しその正式型で光学素子の量産を行うフローチャートを示す図である。
なお、実施の形態1と同一又は相当する部材には同一の符号を付してその説明を省略する。また、実施の形態1で定義した内容は、本実施の形態でも同様の意味で使用する。
FIG. 10 is a diagram showing a flowchart for determining a formal type from a provisional type and mass-producing optical elements using the formal type.
In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member which is the same as that of Embodiment 1, or is equivalent, and the description is abbreviate | omitted. The contents defined in Embodiment 1 are also used in the same meaning in this embodiment.

本実施の形態では、正式型で成形したレンズの2次加工前後の変化量を算出して比較データを取得する工程(S26,S27,S29,S30,S32)を追加した点と、量産段階の正式型による成形では、2次加工後の光学性能の測定を省略している点が、実施の形態1,2と相違している。
先ず、S21において、暫定型を用いて光学素子としてのレンズ35の成形を行う(1次加工工程)。この成形では、前述した光学素子の製造装置10を用いて行う。その製造工程については説明を省略する。
In the present embodiment, a step (S26, S27, S29, S30, S32) for calculating the amount of change before and after the secondary processing of the lens molded with the formal mold and obtaining comparison data is added, and in the mass production stage. The molding by the formal mold is different from the first and second embodiments in that the measurement of the optical performance after the secondary processing is omitted.
First, in S21, the lens 35 as an optical element is molded using a temporary mold (primary processing step). This molding is performed using the optical element manufacturing apparatus 10 described above. Description of the manufacturing process is omitted.

次いで、S22において、成形されたレンズ35の2次加工を行う(2次加工工程)。ここでの2次加工は、例えば薄膜(反射防止膜)の形成のことである。
この薄膜(反射防止膜)の形成方法は、図9で説明した通りである。
S23では、2次加工後のレンズ36の光学性能の測定及び設計値との乖離の算出を行い、設計値に合致するか否か(OKか否か)を判断する(測定工程、算出工程)。ここでの光学性能の測定では、透過波面測定装置40により光学性能を総合的に測定することができる。
Next, in S22, secondary processing of the molded lens 35 is performed (secondary processing step). The secondary processing here is, for example, the formation of a thin film (antireflection film).
The method for forming this thin film (antireflection film) is as described in FIG.
In S23, the optical performance of the lens 36 after the secondary processing is measured and the deviation from the design value is calculated, and it is determined whether the design value is met (whether it is OK) (measurement process, calculation process). . In the measurement of the optical performance here, the optical performance can be comprehensively measured by the transmitted wavefront measuring device 40.

若しも、このS23において、光学性能の測定の結果、設計値に合致しなかった場合(No)は、S24に移行して、暫定型の補正(型補正)を行い(型作製工程)、S21に戻る。この型補正では、S23での光学性能の測定項目を基に、設計値からの乖離を算出し、2次加工後に光学性能が設計値に合致するよう(2次加工後の変化もふまえて)、暫定型の形状を研削加工等により補正する。
また、S23で、光学性能の測定の結果、設計値に合致した場合(Yes)は、S25に移行して、正式型が決定される。
If the optical performance measurement result does not match the design value in S23 (No), the process proceeds to S24 to perform temporary mold correction (mold correction) (mold manufacturing process). Return to S21. In this mold correction, the deviation from the design value is calculated based on the measurement item of the optical performance in S23 so that the optical performance matches the design value after the secondary processing (based on the change after the secondary processing). The shape of the temporary mold is corrected by grinding or the like.
If the optical performance measurement matches the design value (Yes) in S23, the process proceeds to S25 and the formal type is determined.

次に、S26では、この正式型を用いてレンズ35の予備成形を行う(成形工程)。
続いて、S27で、予備成形されたレンズ35の第3の光学性能の測定を行った後、S29で2次加工による薄膜(反射防止膜)の形成を行う(予備2次加工工程)。さらに、S30で、2次加工後のレンズ36の第4の光学性能の測定を行う。S27とS30での光学性能の測定結果の差により、2次加工によるレンズ36の光学性能の変化量を把握することができ、比較データを取得することができる。なお、比較データの取得・利用については、実施の形態2で述べた内容と同様であるので、詳細な説明を省略する。
本実施の形態によれば、2次加工(S29)の前後でレンズ36の光学性能の測定を行うことで、2次加工を行ったことによる光学性能の変化量を把握することができる。これにより、量産段階の2次加工を行う前に、製品の良否判定を行うことができる(2次加工後の良否判定を省略することができる)。
Next, in S26, the lens 35 is preformed using this formal mold (molding process).
Subsequently, after measuring the third optical performance of the preformed lens 35 in S27, a thin film (antireflection film) is formed by secondary processing in S29 (preliminary secondary processing step). In S30, the fourth optical performance of the lens 36 after the secondary processing is measured. The amount of change in the optical performance of the lens 36 due to the secondary processing can be grasped by the difference in the measurement results of the optical performance in S27 and S30, and comparison data can be acquired. Note that the acquisition and use of comparison data is the same as that described in the second embodiment, and thus detailed description thereof is omitted.
According to the present embodiment, by measuring the optical performance of the lens 36 before and after the secondary processing (S29), it is possible to grasp the amount of change in the optical performance due to the secondary processing. Thereby, the quality determination of the product can be performed before performing the secondary processing in the mass production stage (the quality determination after the secondary processing can be omitted).

即ち、図10の破線に示す方向への工程(量産段階)が実現する。
量産段階では、まず、S26’で、正式型を用いてレンズ35の成形を行う(成形工程)。
次に、S30’では、成形されたレンズ35の光学性能の測定を行う。ここでの光学性能の測定では、透過波面測定装置40により光学性能を総合的に測定する。次に、光学性能の測定結果と上述した比較データを基に2次加工後の光学性能を予測し、予測された光学性能が設計値に対し許容できる乖離か否かを判断する(S27’)。その結果、Yesなら、S28’に移行して良品のレンズ35が得られる。さらに、この後、成形されたレンズ35に対し、2次加工による薄膜(反射防止膜)の形成を行うことになる。また、S27’において、Noなら、そのレンズを廃棄処分とする。
That is, the process (mass production stage) in the direction shown by the broken line in FIG. 10 is realized.
In the mass production stage, first, in S26 ′, the lens 35 is molded using a formal mold (molding process).
Next, in S30 ′, the optical performance of the molded lens 35 is measured. In the measurement of the optical performance here, the optical performance is comprehensively measured by the transmitted wavefront measuring device 40. Next, the optical performance after the secondary processing is predicted based on the measurement result of the optical performance and the above-described comparison data, and it is determined whether or not the predicted optical performance is an allowable deviation from the design value (S27 ′). . As a result, if Yes, the process proceeds to S28 'to obtain a good lens 35. Further, thereafter, a thin film (antireflection film) is formed on the molded lens 35 by secondary processing. In S27 ′, if No, the lens is discarded.

本実施の形態によれば、量産段階の正式型による成形では、良品のレンズ35(S28’)が得られた後に薄膜(反射防止膜)の形成等の2次加工を行うので、不良品が2次加工に流れるのを防止し、無駄な工数の削減を図ることができる。
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、実施の形態2と実施の形態3を組み合わせることも可能である。
According to the present embodiment, in the molding by the formal mold at the stage of mass production, after the good lens 35 (S28 ′) is obtained, secondary processing such as formation of a thin film (antireflection film) is performed. It is possible to prevent the flow to the secondary processing and to reduce useless man-hours.
Although the embodiments of the present invention have been described above, the technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
For example, the second embodiment and the third embodiment can be combined.

10 光学素子の製造装置
11 断熱プレート
12 筐体
13 保持部材
13 保持部材
13 保持部材
14 成形室
15 搬入シャッタ
16 搬出シャッタ
17 型セット
18 ベースブロック
19 ベースブロック
20 加熱ステージ
21 プレスステージ
22 冷却ステージ
23 ガラス素材
24 上プレート
24 上プレート
24 上プレート
25 下プレート
25 下プレート
25 下プレート
26 エアシリンダ
26 エアシリンダ
26 エアシリンダ
27 作動ロッド
27 作動ロッド
27 作動ロッド
28 上カートリッジヒータ
28 上カートリッジヒータ
28 上カートリッジヒータ
29 下カートリッジヒータ
29 下カートリッジヒータ
29 下カートリッジヒータ
30 制御装置
31 中間レンズ
32 下型
32a 成形面
32b 成形面
33 上型
33a 成形面
33b 成形面
34 スリーブ
35 レンズ
35a 光学機能面
35b 光学機能面
35c 鍔部
36 レンズ
40 透過波面測定装置
41 干渉計
42 縞解析装置
43 画像処理用PC
44 表示装置
46 ミラー
47 被検レンズ
48 干渉縞
49 載置台
50 芯取り加工装置
51 ホルダー
52 ダイヤモンドホイール
53 供給管
60 薄膜の形成装置
61 真空室
62 加熱プレート
63 原料
64 ホルダー
65 加熱ヒータ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Optical element manufacturing apparatus 11 Heat insulation plate 12 Housing | casing 13 1 Holding member 13 2 Holding member 13 3 Holding member 14 Molding chamber 15 Carry-in shutter 16 Carry-out shutter 17 Mold set 18 Base block 19 Base block 20 Heating stage 21 Press stage 22 Cooling Stage 23 Glass material 24 1 Upper plate 24 2 Upper plate 24 3 Upper plate 25 1 Lower plate 25 2 Lower plate 25 3 Lower plate 26 1 Air cylinder 26 2 Air cylinder 26 3 Air cylinder 27 1 Acting rod 27 2 Acting rod 27 3 actuating rod 28 1 on the cartridge heater 28 second upper cartridge heaters 28 3 above the cartridge heater 29 1 under the cartridge heater 29 2 under the cartridge heaters 29 3 under the cartridge heater 30 control device 31 intermediate lens 32 lower mold 32a forming 32b forming surface 33 upper mold 33a forming surface 33b forming surface 34 the sleeve 35 lens 35a optically functional surface 35b optical function surface 35c flange portion 36 the lens 40 transmitted wavefront measuring apparatus 41 interferometer 42 fringe analysis apparatus 43 image processing PC
44 Display device 46 Mirror 47 Test lens 48 Interference fringe 49 Mounting table 50 Centering device 51 Holder 52 Diamond wheel 53 Supply pipe 60 Thin film forming device 61 Vacuum chamber 62 Heating plate 63 Raw material 64 Holder 65 Heating heater

Claims (4)

暫定型を用いて光学素子素材を成形する1次工程と、
前記1次工程で成形された光学素子に対し、外径加工及び反射防止膜の形成の少なくとも一方を行う2次工程と、
前記2次工程後の光学素子の光学性能を測定する工程と、
測定された前記光学素子の光学性能と設計値との乖離を算出する算出工程と、
算出された乖離が許容される場合に、前記暫定型を正式型として決定する工程と、
決定された正式型を用いて光学素子素材を成形する成形工程と、を有し、
前記算出工程により算出された乖離が許容されない場合には、前記暫定型を補正して前記1次工程まで戻ることを前記乖離が許容されるまで繰り返すことを特徴とする、光学素子の製造方法。
A primary process of forming an optical element material using a temporary mold;
A secondary step of performing at least one of outer diameter processing and formation of an antireflection film on the optical element molded in the primary step;
Measuring the optical performance of the optical element after the secondary step;
A calculation step of calculating a deviation between the measured optical performance of the optical element and a design value;
When the calculated deviation is allowed, determining the provisional type as a formal type; and
A molding process for molding the optical element material using the determined formal mold,
When the deviation calculated by the calculation step is not allowed, the method of manufacturing an optical element is characterized by repeating the correction of the provisional mold and returning to the primary step until the deviation is allowed.
請求項1に記載の光学素子の製造方法において、
さらに、前記2次工程の前に、前記1次工程で成形された前記光学素子の光学性能を測定する第1の測定工程を有し、
前記第1の測定工程の測定結果と前記2次工程後の光学素子の光学性能の測定結果とから、前記2次工程による光学性能の変化を算出することを特徴とする、光学素子の製造方法。
In the manufacturing method of the optical element according to claim 1,
Furthermore, before the secondary step, it has a first measurement step of measuring the optical performance of the optical element molded in the primary step,
A method of manufacturing an optical element, wherein a change in optical performance due to the secondary process is calculated from a measurement result of the first measurement process and a measurement result of optical performance of the optical element after the secondary process. .
請求項1又は2に記載の光学素子の製造方法において、
さらに、前記成形工程の前に、
前記正式型を用いて光学素子素材を予備成形する工程と、
予備成形された前記光学素子の光学性能を測定する第3の測定工程と、
前記第3の測定工程後、前記光学素子に対し、外径加工及び反射防止膜の形成の少なくとも一方を行う予備2次工程と、
前記予備2次工程後、前記光学素子の光学性能を測定する第4の測定工程と、を有し、
前記第3の測定工程の測定結果と前記第4の測定工程の測定結果とから、前記予備2次工程による光学性能の変化を算出することを特徴とする、光学素子の製造方法。
In the manufacturing method of the optical element according to claim 1 or 2,
Furthermore, before the molding step,
A step of preforming an optical element material using the formal mold;
A third measuring step for measuring the optical performance of the preformed optical element;
After the third measurement step, a preliminary secondary step of performing at least one of outer diameter processing and antireflection film formation on the optical element;
A fourth measuring step for measuring the optical performance of the optical element after the preliminary secondary step,
A method of manufacturing an optical element, wherein a change in optical performance due to the preliminary secondary process is calculated from a measurement result of the third measurement process and a measurement result of the fourth measurement process.
請求項1乃至3のいずれかに記載の光学素子の製造方法において、
前記光学性能の変化は、前記光学素子の屈折率分布及び表面形状の少なくとも一方の変化によるものであり、
前記光学性能の測定は、透過波面測定法を用いて行われることを特徴とする、光学素子の製造方法。
In the manufacturing method of the optical element in any one of Claims 1 thru | or 3,
The change in the optical performance is due to a change in at least one of a refractive index distribution and a surface shape of the optical element,
The method of manufacturing an optical element, wherein the measurement of the optical performance is performed using a transmission wavefront measurement method.
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