JP2010266666A - Manufacturing method for wafer-level lens array, wafer-level lens array, lens module, and imaging unit - Google Patents

Manufacturing method for wafer-level lens array, wafer-level lens array, lens module, and imaging unit Download PDF

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大輔 山田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for a wafer-level lens array, for peeling a plurality of lens parts of the molded wafer-level lens array off a mold smoothly without damaging them, and also to provide the wafer-level lens array, a lens module, and an imaging unit. <P>SOLUTION: This manufacturing method for the wafer-level lens array has processes of: molding a base plate part 1 and a plurality of lens parts 10 as an integrated molded product by using the first mold and the second mold; and releasing the molded product from the molds. In this method, a protruding part is made to protrude from either of the first mold and the second mold while or before the molded product is released from the molds, and the molded product is pressed against a side for releasing the molded product while the protruding part is abutted on only the base plate part 1 except the lens parts 10. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、ウェハレベルレンズアレイの製造方法、ウェハレベルレンズアレイ、レンズモジュール及び撮像ユニットに関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a wafer level lens array, a wafer level lens array, a lens module, and an imaging unit.

近年、携帯電話やPDA(Personal Digital Assistant)などの電子機器の携帯端末には、小型で薄型な撮像ユニットが搭載されている。このような撮像ユニットは、一般に、CCD(Charge Coupled Device)イメージセンサやCMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)イメージセンサなどの固体撮像素子と、固体撮像素子上に被写体像を形成するためのレンズと、を備えている。   In recent years, portable terminals of electronic devices such as mobile phones and PDAs (Personal Digital Assistants) are equipped with small and thin imaging units. Such an imaging unit generally includes a solid-state imaging device such as a CCD (Charge Coupled Device) image sensor or a CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor) image sensor, a lens for forming a subject image on the solid-state imaging device, It has.

携帯端末の小型化・薄型化に伴って撮像ユニットの小型化・薄型化が要請されている。また、携帯端末のコストの低下を図るため、製造工程の効率化が望まれている。   With the downsizing and thinning of portable terminals, there is a demand for downsizing and thinning of imaging units. Moreover, in order to reduce the cost of the portable terminal, it is desired to increase the efficiency of the manufacturing process.

小型且つ多数のレンズを製造する方法としては、基板部に複数のレンズを形成した構成であるウェハレベルレンズアレイを製造し、該基板部を切断して複数のレンズをそれぞれ分離させることでレンズモジュールを量産する方法が知られている。   As a method of manufacturing a small number of lenses, a lens module is manufactured by manufacturing a wafer level lens array having a configuration in which a plurality of lenses are formed on a substrate portion and cutting the substrate portion to separate the plurality of lenses. There are known methods for mass production.

また、複数のレンズが形成された基板と複数の固体撮像素子が形成された半導体ウェハとを一体に組み合わせ、レンズと固体撮像素子をセットとして含むように基板とともに半導体ウェハを切断することで撮像ユニットを量産する方法が知られている。   In addition, the imaging unit is obtained by integrally combining a substrate on which a plurality of lenses are formed and a semiconductor wafer on which a plurality of solid-state imaging elements are formed, and cutting the semiconductor wafer together with the substrate so as to include the lens and the solid-state imaging elements as a set. There are known methods for mass production.

ウェハレベルレンズの製造方法としては、例えば下記特許文献1に示すように、基板部とレンズ部とを同じ材料を使用して成形型で一体に成形する方法が提案されている。このウェハレベルレンズは、基板部とレンズ部とを別途に製造する工程や該基板部にレンズ部を組み付ける工程を行う必要がなく、少ない工程数で製造できる利点がある。   As a method for manufacturing a wafer level lens, for example, as shown in Patent Document 1 below, a method in which a substrate portion and a lens portion are integrally molded with a molding die using the same material has been proposed. This wafer level lens has the advantage that it can be manufactured with a small number of steps, without the need to separately manufacture a substrate portion and a lens portion or a step of assembling the lens portion to the substrate portion.

成形型によってウェハレベルレンズを成形物として成形した場合には、成形されたウェハレベルレンズを成形型から離すための離型工程を行う必要がある。   When the wafer level lens is molded as a molded product by the molding die, it is necessary to perform a mold release process for separating the molded wafer level lens from the molding die.

下記特許文献2は、樹脂からなる成形物の離型方法に関する。特許文献2の離型方法は、キャビティを有する大気開放の注形型である成形型に、接着効果のあるエポキシ樹脂等の樹脂が注入、加熱されて硬化し、成形物が成形される。成形後、成形物に直接接触するように平板形状の振動子が配設される。振動子から成形物に直接振動が伝達され、成形型から成形物を剥すことができる。   Patent Document 2 below relates to a method for releasing a molded product made of a resin. In the mold release method of Patent Document 2, a resin such as an epoxy resin having an adhesive effect is injected into a mold that is a casting mold open to the atmosphere having a cavity, and is heated and cured to form a molded product. After molding, a flat plate-like vibrator is disposed so as to be in direct contact with the molded product. Vibration is directly transmitted from the vibrator to the molded product, and the molded product can be peeled off from the mold.

国際公開第08/093516号パンフレットWO08 / 093516 pamphlet 特開2004−74445号公報JP 2004-74445 A

ところで、基板部とレンズとが一体のウェハレベルレンズを成形物として成形する場合には、レンズのみを成形型によって形成する場合に比べて、成形終了後に成形型に対して基板部及びレンズが強く付着し、離型を行うことがより困難になる。この理由としては、成形された基板部が、成形型に対して広い面積で接触するとともに、該基板部の厚さが薄いため、成形されたウェハレベルレンズが成形型に付着しやすくなるためである。また、基板部が薄くて十分な剛性を確保することができないため、成形型に付着したウェハレベルレンズを剥す際に負荷を加えると、基板部やレンズ自体に変形や割れ等の損傷が生じるおそれがある。   By the way, when a wafer level lens in which the substrate portion and the lens are integrated is formed as a molded product, the substrate portion and the lens are stronger against the forming die after the completion of molding than when only the lens is formed by the forming die. It becomes more difficult to adhere and release. The reason for this is that the molded substrate portion comes into contact with the molding die over a wide area, and the thickness of the substrate portion is thin, so that the molded wafer level lens easily adheres to the molding die. is there. In addition, since the substrate portion is thin and sufficient rigidity cannot be secured, applying a load when peeling the wafer level lens attached to the mold may cause damage such as deformation or cracking in the substrate portion or the lens itself. There is.

上記特許文献2では、振動子を直接成形物に接触させて振動を伝達する離型方法が記載されている。しかし、基板部及びレンズに直接振動子を接触させると、振動によって基板部やレンズに損傷を与えてしまうことが考えられる。   In Patent Document 2 described above, a mold release method is described in which a vibrator is directly brought into contact with a molded product to transmit vibration. However, it is conceivable that when the vibrator is brought into direct contact with the substrate portion and the lens, the substrate portion and the lens are damaged by the vibration.

本発明は、成形されたウェハレベルレンズアレイのレンズ部に損傷を与えることなく、成形型から滑らかに剥すことができるウェハレベルレンズアレイの製造方法、ウェハレベルレンズアレイ、レンズモジュール及び撮像ユニットを提供する。   The present invention provides a method for manufacturing a wafer level lens array, a wafer level lens array, a lens module, and an imaging unit that can be smoothly removed from a mold without damaging the lens portion of the molded wafer level lens array. To do.

本発明は、基板部と、該基板部に配列された複数のレンズ部とが形成されたウェハレベルレンズアレイの製造方法であって、
第1型と第2型で前記基板部と前記複数のレンズ部とを一体の成形物として成形する工程と、
前記成形物を離型する工程と、を有し、
前記成形物を離型する前に、前記第1型及び前記第2型のうち一方から突出部を突出させ、前記突出部を前記レンズ部以外の前記基板部のみに当接させつつ前記成形物を離型する側へ押圧するウェハレベルレンズアレイの製造方法である。
The present invention is a method for manufacturing a wafer level lens array in which a substrate portion and a plurality of lens portions arranged on the substrate portion are formed,
Forming the substrate part and the plurality of lens parts as an integral molded product with the first mold and the second mold;
A step of releasing the molded product,
Before releasing the molded product, the molded product is protruded from one of the first mold and the second mold, and the molded product is brought into contact with only the substrate unit other than the lens unit. This is a method for manufacturing a wafer level lens array in which is pressed to the mold release side.

また、本発明は、基板部と、該基板部に配列された複数のレンズ部とが形成されたウェハレベルレンズアレイの製造装置であって、
第1型と、
前記第1型に対して型閉じすることで、前記基板部と前記複数のレンズ部とを一体の成形物として成形するためのキャビティを形成する第2型と、
前記第1型及び前記第2型のうち一方から突出する突出部を備え、前記成形物を離型する前に、前記突出部が前記レンズ部以外の前記基板部のみに当接して前記成形物を離型する側へ押圧するウェハレベルレンズアレイの製造装置である。
Further, the present invention is a wafer level lens array manufacturing apparatus in which a substrate portion and a plurality of lens portions arranged on the substrate portion are formed,
The first type;
A second mold that forms a cavity for molding the substrate section and the plurality of lens sections as an integral molded article by closing the mold with respect to the first mold;
The molding includes a projecting portion projecting from one of the first mold and the second mold, and before the mold is released, the projecting portion abuts only on the substrate section other than the lens section. Is a wafer level lens array manufacturing apparatus that presses the lens toward the mold release side.

上記のウェハレベルレンズアレイの製造装置及び製造方法は、基板部と複数のレンズとを第1型及び第2型によって成形物として一体成形するとき、前記第1型及び前記第2型のうち一方から突出部を突出させ、突出部によって成形物を離型する側へ押圧する。この押圧によって成形物を型から剥離する。その後、成形物を型から取り出す際に、既に剥離されているので、容易に取り出すことができる。ここで、突出部の突出する方向の先端部がレンズ部に直接接触しないため、レンズ部に損傷が生じることを防止できる。
特に基板部と複数のレンズ部とを一体成形する構成のウェハレベルレンズは、基板部はその厚みが薄く、型に接触する領域の面積が広いため、離型の際に、第1型又は第2型のいずれに付着して離れ難くなる傾向が顕著である。このため、ウェハレベルレンズアレイの製造においては、突出部によって型と成形物との境界を剥離させておくことで、成形物に負荷をかけることなく、成形物を取り出すことができ、有効である。
In the wafer level lens array manufacturing apparatus and method described above, when the substrate portion and the plurality of lenses are integrally molded as a molded product by the first mold and the second mold, one of the first mold and the second mold is used. The projecting part is projected from the side, and the projecting part is pressed to the side where the molded product is released. By this pressing, the molded product is peeled from the mold. Thereafter, when the molded product is taken out from the mold, it has already been peeled off, so that it can be taken out easily. Here, since the tip portion of the protruding portion in the protruding direction does not directly contact the lens portion, it is possible to prevent the lens portion from being damaged.
In particular, a wafer level lens having a structure in which a substrate portion and a plurality of lens portions are integrally molded has a thin substrate portion and a large area in contact with the mold. The tendency to adhere to any of the two types and become difficult to separate is remarkable. For this reason, in the manufacture of a wafer level lens array, it is possible to take out the molded product without applying a load to the molded product by separating the boundary between the mold and the molded product by the protruding portion, which is effective. .

上記のウェハレベルレンズアレイの製造方法によって得られたウェハレベルレンズアレイは、基板部及び複数のレンズに変形や割れなどの損傷がなく、良好である。   The wafer level lens array obtained by the above-described method for manufacturing a wafer level lens array is excellent in that there is no damage such as deformation or cracking in the substrate portion and the plurality of lenses.

また、上記ウェハレベルレンズを備えたレンズモジュールや撮像ユニットによれば、ウェハレベルレンズアレイの基板部及び複数のレンズに損傷がなく、好ましい。   In addition, a lens module or an imaging unit including the wafer level lens is preferable because the substrate portion of the wafer level lens array and the plurality of lenses are not damaged.

本発明によれば、成形されたウェハレベルレンズアレイのレンズ部に損傷を与えることなく、成形型から滑らかに剥すことができるウェハレベルレンズアレイの製造方法、ウェハレベルレンズアレイ、レンズモジュール及び撮像ユニットを提供できる。   According to the present invention, a method for manufacturing a wafer level lens array, a wafer level lens array, a lens module, and an imaging unit that can be smoothly peeled off from a mold without damaging the lens portion of the molded wafer level lens array Can provide.

ウェハレベルレンズアレイの構成の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of a structure of a wafer level lens array. レンズモジュールの構成の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of a structure of a lens module. 撮像ユニットの構成の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of a structure of an imaging unit. ウェハレベルレンズアレイの基板部にレンズ部を成形するための成形型の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the shaping | molding die for shape | molding a lens part in the board | substrate part of a wafer level lens array. 成形型の離型の際の動作の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the operation | movement at the time of mold release of a shaping | molding die. ウェハレベルレンズアレイの製造方法の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the manufacturing method of a wafer level lens array. 成形型による成形及び離型の手順を説明する図である。It is a figure explaining the procedure of shaping | molding and mold release by a shaping | molding die. 図7の成形型において成形物に対して突出部が当接する位置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the position where a protrusion part contact | abuts with respect to a molded object in the shaping | molding die of FIG. 他の構成例の成形型による成形及び離型の手順を説明する図である。It is a figure explaining the procedure of the shaping | molding by the shaping | molding die of another structural example, and a mold release. 図9の成形型において成形物に対して突出部が当接する位置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the position where a protrusion part contact | abuts with respect to a molded object in the shaping | molding die of FIG. 成形型からウェハレベルレンズアレイを剥離する工程を説明する図である。It is a figure explaining the process of peeling a wafer level lens array from a shaping | molding die. ウェハレベルレンズアレイをダイシングする工程を説明する図である。It is a figure explaining the process of dicing a wafer level lens array. レンズモジュールの製造方法の手順を示す図である。It is a figure which shows the procedure of the manufacturing method of a lens module. 図13とは別の構成のレンズモジュールを製造する手順を示す図である。It is a figure which shows the procedure which manufactures the lens module of a structure different from FIG. 撮像ユニットを製造する手順を示す図である。It is a figure which shows the procedure which manufactures an imaging unit. 図15の構成とは別の撮像ユニットを製造する手順を示す図である。FIG. 16 is a diagram illustrating a procedure for manufacturing an imaging unit different from the configuration of FIG. 15.

先ず、ウェハレベルレンズアレイ、レンズモジュールと撮像ユニットの構成について説明する。   First, the configuration of the wafer level lens array, the lens module, and the imaging unit will be described.

図1は、ウェハレベルレンズアレイの構成の一例を示す断面図である。
ウェハレベルレンズアレイは、基板部1と、該基板部1に配列された複数のレンズ部10とを備えている。複数のレンズ部10は、基板部1に対して1次元又は2次元に配列されている。以下では、複数のレンズ部10が、基板部1に対して2次元に配列されている構成を例に説明する。レンズ部10は、基板部1と同じ材料から構成され、該基板部1に一体成形されたものである。レンズ部10の形状は、特に限定されず、用途などによって適宜変形される。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of a wafer level lens array.
The wafer level lens array includes a substrate unit 1 and a plurality of lens units 10 arranged on the substrate unit 1. The plurality of lens units 10 are arranged one-dimensionally or two-dimensionally with respect to the substrate unit 1. Hereinafter, a configuration in which a plurality of lens units 10 are two-dimensionally arranged with respect to the substrate unit 1 will be described as an example. The lens unit 10 is made of the same material as the substrate unit 1 and is integrally formed with the substrate unit 1. The shape of the lens unit 10 is not particularly limited, and can be appropriately changed depending on the application.

図2は、レンズモジュールの構成の一例を示す断面図である。
レンズモジュールは、基板部1と、及び該基板部1に一体成形されたレンズ部10とを含んだ構成であり、例えば図1に示すウェハレベルレンズアレイの基板部1をダイシングし、レンズ部10ごとに分離させたものを用いる。基板部1の一方の面には、レンズ部10の周囲にスペーサ2が設けられている。スペーサ2の作用及び構成については、次に説明する撮像ユニットのものと同じである。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of the lens module.
The lens module includes a substrate unit 1 and a lens unit 10 formed integrally with the substrate unit 1. For example, the lens unit 10 is diced by dicing the substrate unit 1 of the wafer level lens array shown in FIG. Use one separated for each. A spacer 2 is provided around the lens unit 10 on one surface of the substrate unit 1. The operation and configuration of the spacer 2 are the same as those of the imaging unit described below.

図3は、撮像ユニットの構成の一例を示す断面図である。
撮像ユニットは、上述のレンズモジュールと、センサモジュールとを備える。レンズモジュールのレンズ部10は、センサモジュール側に設けられた固体撮像素子Dに被写体像を結像させる。レンズモジュールの基板部1とセンサモジュールの半導体基板Wとが、互いに略同一となるように平面視略矩形状に成形されている。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating an example of the configuration of the imaging unit.
The imaging unit includes the lens module described above and a sensor module. The lens unit 10 of the lens module forms a subject image on the solid-state imaging device D provided on the sensor module side. The substrate portion 1 of the lens module and the semiconductor substrate W of the sensor module are formed in a substantially rectangular shape in plan view so as to be substantially the same.

センサモジュールは、半導体基板Wと、半導体基板Wに設けられた固体撮像素子Dを含んでいる。半導体基板Wは、例えばシリコンなどの半導体材料で形成されたウェハを平面視略矩形状に切り出して成形されている。固体撮像素子Dは、半導体基板Wの略中央部に設けられている。固体撮像素子Dは、例えばCCDイメージセンサやCMOSイメージセンサである。センサモジュールは、チップ化された固体撮像素子Dを配線等が形成された半導体基板上にボンディングした構成とすることができる。または、固体撮像素子Dは、半導体基板Wに対して周知の成膜工程、フォトリソグラフィ工程、エッチング工程、不純物添加工程等を繰り返し、該半導体基板に電極、絶縁膜、配線等を形成して構成されてもよい。   The sensor module includes a semiconductor substrate W and a solid-state imaging device D provided on the semiconductor substrate W. The semiconductor substrate W is formed by cutting a wafer formed of a semiconductor material such as silicon into a substantially rectangular shape in plan view. The solid-state image sensor D is provided at a substantially central portion of the semiconductor substrate W. The solid-state image sensor D is, for example, a CCD image sensor or a CMOS image sensor. The sensor module can have a configuration in which a solid-state imaging device D that is made into a chip is bonded onto a semiconductor substrate on which wirings and the like are formed. Alternatively, the solid-state imaging device D is configured by repeating a well-known film formation process, photolithography process, etching process, impurity addition process, and the like on the semiconductor substrate W to form electrodes, insulating films, wirings, and the like on the semiconductor substrate. May be.

レンズモジュールは、その基板部1がスペーサ2を介してセンサモジュールの半導体基板Wの上に重ね合わされている。レンズモジュールのスペーサ2とセンサモジュールの半導体基板Wとは、例えば接着剤などを用いて接合される。スペーサ2は、レンズモジュールのレンズ部10がセンサモジュールの固体撮像素子D上で被写体像を結像させるように設計され、レンズ部10がセンサモジュールに接触しないように、該レンズ部10と固体撮像素子Dとの間に所定の距離を隔てる厚みで形成されている。   The lens module has a substrate portion 1 superimposed on a semiconductor substrate W of the sensor module via a spacer 2. The spacer 2 of the lens module and the semiconductor substrate W of the sensor module are bonded using, for example, an adhesive. The spacer 2 is designed so that the lens unit 10 of the lens module forms a subject image on the solid-state imaging device D of the sensor module, and the lens unit 10 and the solid-state imaging so that the lens unit 10 does not contact the sensor module. It is formed with a thickness separating a predetermined distance from the element D.

スペーサ2は、レンズモジュールの基板部1とセンサモジュールの半導体基板Wとを所定の距離を隔てた位置関係を保持することができる範囲で、その形状は特に限定されず適宜変形することができる。例えば、スペーサ2は、基板の4隅にそれぞれ設けられる柱状の部材であってもよい。また、スペーサ2は、センサモジュールの固体撮像素子Dの周囲を取り囲むような枠状の部材であってもよい。固体撮像素子Dを枠状のスペーサ2によって取り囲むことで外部から隔絶すれば、固体撮像素子Dにレンズを透過する光以外の光が入射しないように遮光することができる。また、固体撮像素子Dを外部から密封することで、固体撮像素子Dに塵埃が付着することを防止できる。   The shape of the spacer 2 is not particularly limited as long as the spacer 2 can maintain a positional relationship with a predetermined distance between the substrate portion 1 of the lens module and the semiconductor substrate W of the sensor module, and can be appropriately modified. For example, the spacer 2 may be a columnar member provided at each of the four corners of the substrate. Further, the spacer 2 may be a frame-shaped member that surrounds the solid-state imaging device D of the sensor module. If the solid-state image pickup device D is surrounded by the frame-shaped spacer 2 to be isolated from the outside, the solid-state image pickup device D can be shielded from light other than the light passing through the lens. Moreover, it can prevent that dust adheres to the solid-state image sensor D by sealing the solid-state image sensor D from the outside.

なお、図2に示すレンズモジュールは、レンズ部10が形成された基板部1を1つ備えた構成であるが、レンズ部10が形成された基板部1を複数備えた構成としてもよい。このとき、互いに重ね合わされる基板部1同士がスペーサ2を介して組み付けられる。   The lens module shown in FIG. 2 is configured to include one substrate unit 1 on which the lens unit 10 is formed, but may be configured to include a plurality of substrate units 1 on which the lens unit 10 is formed. At this time, the substrate portions 1 that are overlapped with each other are assembled together via the spacer 2.

また、レンズ部10が形成された基板部1を複数備えたレンズモジュールの最下位置の基板部1にスペーサ2を介してセンサモジュールを接合して撮像ユニットを構成してもよい。レンズ部10が形成された基板部1を複数備えたレンズモジュール及び該レンズモジュールを備えた撮像ユニットの製造方法については後述する。   The imaging unit may be configured by joining a sensor module via a spacer 2 to the lowermost substrate portion 1 of the lens module including a plurality of substrate portions 1 on which the lens portions 10 are formed. A lens module including a plurality of substrate units 1 on which the lens unit 10 is formed and a method for manufacturing an imaging unit including the lens module will be described later.

以上のように構成された撮像ユニットは、携帯端末等に内蔵される図示しない回路基板にリフロー実装される。回路基板には、撮像ユニットが実装される位置に予めペースト状の半田が適宜印刷されており、そこに撮像ユニットが載せられ、この撮像ユニットを含む回路基板に赤外線の照射や熱風の吹付けといった加熱処理が施され、撮像ユニットが回路基板に溶着される。   The imaging unit configured as described above is reflow-mounted on a circuit board (not shown) built in a portable terminal or the like. The circuit board is preliminarily printed with paste-like solder at a position where the imaging unit is mounted, and the imaging unit is mounted on the circuit board. The circuit board including the imaging unit is irradiated with infrared rays or hot air is blown. Heat treatment is performed, and the imaging unit is welded to the circuit board.

基板部1及びレンズ部10を構成する材料としては、例えばガラスを用いることができる。ガラスは種類が豊富であり、高屈折率を有するものを選択できるので、大きなパワーを持たせたいレンズの素材として適している。また、ガラスは耐熱性に優れ、上述した撮像ユニットのリフロー実装に好適である。   As a material constituting the substrate unit 1 and the lens unit 10, for example, glass can be used. Glass is abundant in types and can be selected from those having a high refractive index, so it is suitable as a material for lenses that require high power. Further, glass has excellent heat resistance and is suitable for reflow mounting of the above-described imaging unit.

また、基板部1及びレンズ部10を構成する材料として、樹脂を用いることもできる。樹脂は加工性に優れており、型等でレンズ面を簡易且つ安価に形成するのに適している。樹脂としては、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも用いることができるが、上述した撮像ユニットのリフロー実装を考慮すると、軟化点が例えば200℃以上の比較的高いものが好ましく、250℃以上のものがより好ましい。   In addition, a resin can be used as a material constituting the substrate unit 1 and the lens unit 10. Resin is excellent in processability and is suitable for forming a lens surface easily and inexpensively with a mold or the like. As the resin, any of an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, and a thermoplastic resin can be used. However, in consideration of the reflow mounting of the imaging unit described above, a softening point that is relatively high, for example, 200 ° C. or higher. Preferably, the thing of 250 degreeC or more is more preferable.

紫外線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性シリコン樹脂、紫外線硬化性エポキシ樹脂、アクリル樹脂等を例示することができる。エポキシ樹脂としては、線膨張係数が40〜80[10−6/K]で、屈折率が1.50〜1.70、好ましくは1.60〜1.70のものを用いることができる。熱硬化性樹脂としては、熱硬化性シリコン樹脂、熱硬化性エポキシ樹脂、熱硬化性フェノール樹脂、熱硬化性アクリル樹脂等を例示できる。例えば、シリコン樹脂としては、線膨張係数が30〜160[10−6/K]で、屈折率が1.40〜1.55のものを用いることができる。エポキシ樹脂は線膨張係数が40〜80[10−6/K]で、屈折率が1.50〜1.70、好ましくは1.60〜1.70のものを用いることができる。フェノール樹脂は、線膨張係数が30〜70[10−6/K]で、屈折率が1.50〜1.70のものを用いることができる。アクリル樹脂としては、線膨張係数が20〜60[10−6/K]で、屈折率が1.40〜1.60、好ましくは1.50〜1.60のものを用いることができる。熱硬化性樹脂としては、具体的には、富士高分子工業株式会社製SMX−7852・SMX−7877、株式会社東芝製IVSM−4500、東レ・ダウコーニング社製SR−7010、等を例示することができる。熱可塑性樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂等を例示することができる。ポリカーボネートは、線膨張係数が60〜70[10−6/K]で、屈折率が1.40〜1.70、好ましくは1.50〜1.65のものを用いることができる。ポリサルフォン樹脂は、線膨張係数が15〜60[10−6/K]で、屈折率が1.63のものを用いることができる。ポリエーテルサルフォン樹脂は、線膨張係数が20〜60[10−6/K]で、屈折率が1.65のものを用いることができる。 Examples of the ultraviolet curable resin include an ultraviolet curable silicon resin, an ultraviolet curable epoxy resin, and an acrylic resin. An epoxy resin having a linear expansion coefficient of 40 to 80 [10 −6 / K] and a refractive index of 1.50 to 1.70, preferably 1.60 to 1.70 can be used. Examples of the thermosetting resin include a thermosetting silicone resin, a thermosetting epoxy resin, a thermosetting phenol resin, and a thermosetting acrylic resin. For example, a silicon resin having a linear expansion coefficient of 30 to 160 [10 −6 / K] and a refractive index of 1.40 to 1.55 can be used. An epoxy resin having a linear expansion coefficient of 40 to 80 [10 −6 / K] and a refractive index of 1.50 to 1.70, preferably 1.60 to 1.70 can be used. A phenol resin having a linear expansion coefficient of 30 to 70 [10 −6 / K] and a refractive index of 1.50 to 1.70 can be used. As the acrylic resin, those having a linear expansion coefficient of 20 to 60 [10 −6 / K] and a refractive index of 1.40 to 1.60, preferably 1.50 to 1.60 can be used. Specific examples of thermosetting resins include SMX-7852 / SMX-7877 manufactured by Fuji Polymer Industries Co., Ltd., IVSM-4500 manufactured by Toshiba Corporation, SR-7010 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., and the like. Can do. Examples of the thermoplastic resin include polycarbonate resin, polysulfone resin, polyether sulfone resin, and the like. Polycarbonate having a linear expansion coefficient of 60 to 70 [10 −6 / K] and a refractive index of 1.40 to 1.70, preferably 1.50 to 1.65 can be used. A polysulfone resin having a linear expansion coefficient of 15 to 60 [10 −6 / K] and a refractive index of 1.63 can be used. As the polyethersulfone resin, one having a linear expansion coefficient of 20 to 60 [10 −6 / K] and a refractive index of 1.65 can be used.

一般に、光学ガラスの線膨張係数は20℃で4.9〜14.3[10−6/K]であり、屈折率は波長589.3nmで1.4〜2.1である。また、石英ガラスの線膨張係数は0.1〜0.5[10−6/K]であり、屈折率は約1.45である。 In general, the optical glass has a linear expansion coefficient of 4.9 to 14.3 [10 −6 / K] at 20 ° C., and a refractive index of 1.4 to 2.1 at a wavelength of 589.3 nm. Further, the linear expansion coefficient of quartz glass is 0.1 to 0.5 [10 −6 / K], and the refractive index is about 1.45.

また、無機微粒子を樹脂マトリックス中に分散させることによって得られる有機無機複合材料を使用することが好ましい。無機微粒子としては、例えば酸化物微粒子、硫化物微粒子、セレン化物微粒子、テルル化物微粒子が挙げられる。より具体的には、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、硫化亜鉛等の微粒子を挙げることができる。   Moreover, it is preferable to use an organic-inorganic composite material obtained by dispersing inorganic fine particles in a resin matrix. Examples of the inorganic fine particles include oxide fine particles, sulfide fine particles, selenide fine particles, and telluride fine particles. More specifically, for example, fine particles of zirconium oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, zinc sulfide and the like can be mentioned.

無機微粒子は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。また、複数の成分による複合物であってもよい。また、無機微粒子には光触媒活性低減、吸水率低減などの種々の目的から、異種金属をドープしたり、表面層をシリカ、アルミナ等の異種金属酸化物で被覆したり、シランカップリング剤、チナネートカップリング剤、有機酸(カルボン酸類、スルホン酸類、リン酸類、ホスホン酸類等)または有機酸基を持つ分散剤などで表面修飾してもよい。   The inorganic fine particles may be used alone or in combination of two or more. Moreover, the composite by several components may be sufficient. In addition, for various purposes such as photocatalytic activity reduction and water absorption reduction, the inorganic fine particles are doped with different metals, the surface layer is coated with different metal oxides such as silica and alumina, silane coupling agents, The surface may be modified with an acid coupling agent, an organic acid (carboxylic acid, sulfonic acid, phosphoric acid, phosphonic acid, etc.) or a dispersant having an organic acid group.

無機微粒子の数平均粒子サイズは、小さすぎると物質の特性が変化する場合がある。また、樹脂マトリックスと無機微粒子の屈折率差が大きい場合には、無機微粒子の数平均粒子サイズが大きすぎるとレイリー散乱の影響が顕著となる。このため、1nm〜15nmが好ましく、2nm〜10nmが更に好ましく、3nm〜7nmが特に好ましい。また、無機微粒子の粒子サイズ分布は狭いほど望ましい。このような単分散粒子の定義の仕方はさまざまであるが、例えば、特開2006−160992号に記載されるような数値規定範囲が好ましい粒径分布範囲に当てはまる。ここで、上述の数平均1次粒子サイズとは、例えばX線回折(XRD)装置あるいは透過型電子顕微鏡(TEM)などで測定することができる。   If the number average particle size of the inorganic fine particles is too small, the properties of the substance may change. In addition, when the refractive index difference between the resin matrix and the inorganic fine particles is large, if the number average particle size of the inorganic fine particles is too large, the influence of Rayleigh scattering becomes significant. For this reason, 1 nm-15 nm are preferable, 2 nm-10 nm are still more preferable, and 3 nm-7 nm are especially preferable. Further, it is desirable that the particle size distribution of the inorganic fine particles is narrow. There are various ways of defining such monodisperse particles. For example, a numerical value range as described in JP-A No. 2006-160992 applies to a preferable particle size distribution range. Here, the above-mentioned number average primary particle size can be measured by, for example, an X-ray diffraction (XRD) apparatus or a transmission electron microscope (TEM).

無機微粒子の屈折率としては、22℃、589.3nmの波長において、1.90〜3.00であることが好ましく、1.90〜2.70であることが更に好ましく、2.00〜2.70であることが特に好ましい。   The refractive index of the inorganic fine particles is preferably 1.90 to 3.00, more preferably 1.90 to 2.70 at 22 ° C. and a wavelength of 589.3 nm, and more preferably 2.00 to 2 .70 is particularly preferred.

無機微粒子の樹脂に対する含有量は、透明性と高屈折率化の観点から、5質量%以上であることが好ましく、10〜70質量%が更に好ましく、30〜60質量%が特に好ましい。   The content of the inorganic fine particles with respect to the resin is preferably 5% by mass or more, more preferably 10 to 70% by mass, and particularly preferably 30 to 60% by mass from the viewpoint of transparency and high refractive index.

有機無機複合材料に用いられる樹脂としては、公知の紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂が使用できる。また、特開2007−93893号に記載された屈折率1.60より大きい樹脂、特開2007−211164号に記載された疎水性セグメント及び親水性セグメントで構成されるブロック共重合体、特開2007−238929号、特願2008−12645号、同2008−208427号、同2008−229629号、同2008−219952号に記載された高分子末端または側鎖に無機微粒子と任意の化学結合を形成しうる官能基を有する樹脂、特願2008−197054号、同2008−198878号に記載された熱可塑性樹脂等を挙げることができる。有機無機複合材料には、必要に応じて、可塑剤、分散剤等の添加剤を加えることができる。   As the resin used for the organic-inorganic composite material, known ultraviolet curable resins, thermosetting resins, and thermoplastic resins can be used. Further, a resin having a refractive index higher than 1.60 described in JP-A-2007-93893, a block copolymer composed of a hydrophobic segment and a hydrophilic segment described in JP-A-2007-211114, and JP-A-2007 238929, Japanese Patent Application Nos. 2008-12645, 2008-208427, 2008-229629, and 2008-219952 can form arbitrary chemical bonds with inorganic fine particles at the polymer terminals or side chains. Examples thereof include resins having functional groups and thermoplastic resins described in Japanese Patent Application Nos. 2008-197054 and 2008-198878. If necessary, additives such as a plasticizer and a dispersant can be added to the organic-inorganic composite material.

次に、ウェハレベルレンズアレイの製造方法について詳細に説明する。
図4は、ウェハレベルレンズアレイの基板部とレンズ部とを一体成形するための成形型の構成例を示す図である。図4は、成形型の型開き状態を示している。図5は、図4の成形型の動作の一例を示している。
Next, a manufacturing method of the wafer level lens array will be described in detail.
FIG. 4 is a diagram showing a configuration example of a molding die for integrally molding the substrate portion and the lens portion of the wafer level lens array. FIG. 4 shows the mold open state of the mold. FIG. 5 shows an example of the operation of the mold shown in FIG.

図4及び図5に示すように、本構成例の成形型は、上型12と下型14とを備えている。上型12と下型14とで、レンズ部10及び基板部1を構成する樹脂などの材料を挟み込むことで、所定の形状のレンズ部及び基板部を一体成形する。   As shown in FIGS. 4 and 5, the molding die of this configuration example includes an upper die 12 and a lower die 14. By sandwiching a material such as a resin constituting the lens unit 10 and the substrate unit 1 between the upper mold 12 and the lower mold 14, the lens unit and the substrate unit having a predetermined shape are integrally formed.

上型12において、下型14に対向する側の面には、レンズ部10の上側の形状を転写するための凹部12aと、基板部1におけるレンズ部10が成形される領域以外の領域に相当する平坦形状を転写するための平面部12bとが設けられている。   In the upper mold 12, the surface on the side facing the lower mold 14 is equivalent to a region other than the concave portion 12 a for transferring the upper shape of the lens unit 10 and the region in the substrate unit 1 where the lens unit 10 is molded. And a flat portion 12b for transferring the flat shape to be transferred.

下型14において、上型12に対向する側の面には、レンズ部10の下側の形状を転写するための凹部14aと、基板部1におけるレンズ部10が成形される領域以外の領域に相当する平坦形状を転写するための平面部14bとが設けられている。   In the lower mold 14, the surface on the side facing the upper mold 12 is provided with a recess 14 a for transferring the shape of the lower side of the lens unit 10 and a region other than the region where the lens unit 10 is molded in the substrate unit 1. A flat portion 14b for transferring a corresponding flat shape is provided.

なお、ここでいう「上」及び「下」とは、本構成例を説明する図中の位置関係を示しているのみであり、例えばその位置関係は上下に入れ替えられてもよい。つまり、成形型は、上型12及び下型14のうち一方を第1型、他方を第2型とした場合に、第1型及び第2型を型閉じ状態、型開き状態とすることが可能であればそれらの位置関係は特に限定されない。   Here, “upper” and “lower” only indicate the positional relationship in the drawing explaining this configuration example. For example, the positional relationship may be switched up and down. That is, in the molding die, when one of the upper die 12 and the lower die 14 is the first die and the other is the second die, the first die and the second die can be in the closed state and the open state. If possible, their positional relationship is not particularly limited.

上型12と下型14とはそれぞれ、型閉じ状態の位置と型開き状態の位置との間で相対的に移動させることができる。つまり、上型12及び下型14のうち少なくとも一方を他方に対して近づける方法及び遠ざける方向に移動させることができる。   The upper mold 12 and the lower mold 14 can be relatively moved between the position of the mold closed state and the position of the mold open state, respectively. In other words, at least one of the upper mold 12 and the lower mold 14 can be moved toward and away from the other.

型開き状態とは、上型12と下型14とが一定の距離をおいて離間した状態である。また、型閉じ状態とは、上型12と下型14とが接近し、上型12と下型14との間に挟みこんだ成形物に所定の圧力を付与しつつ、型と成形物とが完全に密着している状態をいう。   The mold open state is a state in which the upper mold 12 and the lower mold 14 are separated by a certain distance. The mold closed state means that the upper mold 12 and the lower mold 14 are close to each other, and a predetermined pressure is applied to the molded article sandwiched between the upper mold 12 and the lower mold 14. Is in a state of being completely adhered.

図4に示すように、下型14には、下型14に付着する成形物を剥離させる際に、該成形物を押圧する突出部として機能する複数のエジェクタピン18が設けられている。複数のエジェクタピン18はそれぞれ長尺円柱形状を有している。各エジェクタピン18の一方の端部が可動板16の上面に固定され、他方の端部が可動板16側の端部より小径に形成され、その先端部18aが下型14を貫通する。なお、エジェクタピン18の形状は、円柱形状に限定されない。   As shown in FIG. 4, the lower mold 14 is provided with a plurality of ejector pins 18 that function as protrusions that press the molded product attached to the lower mold 14 when the molded product is peeled off. Each of the plurality of ejector pins 18 has a long cylindrical shape. One end portion of each ejector pin 18 is fixed to the upper surface of the movable plate 16, the other end portion is formed with a smaller diameter than the end portion on the movable plate 16 side, and the tip end portion 18 a penetrates the lower mold 14. The shape of the ejector pin 18 is not limited to a cylindrical shape.

可動板16は、下型14の平面部14bに対して略平行な状態で保持されている。可動板16の複数のエジェクタピン18が固定された側の面の反対側の面には、駆動軸16sが連結されている。   The movable plate 16 is held in a state substantially parallel to the flat portion 14b of the lower mold 14. A drive shaft 16s is coupled to the surface of the movable plate 16 opposite to the surface on which the plurality of ejector pins 18 are fixed.

図5は、複数のエジェクタピンを突出させた状態を示している。駆動軸16sがその軸方向に駆動すると、可動板16が、下型14の平面部14bに対して略平行な状態のまま該下型14に接近する。すると、複数のエジェクタピン18それぞれの先端部18aが、下型14の平面部14bの表面から上型12側へ向かって突出する。下型14から突出させる先端部18aの突出量は、各エジェクタピン18の寸法や駆動軸16sの軸方向の移動量によって設定される。   FIG. 5 shows a state in which a plurality of ejector pins are protruded. When the drive shaft 16s is driven in the axial direction, the movable plate 16 approaches the lower die 14 while being substantially parallel to the flat portion 14b of the lower die 14. Then, the tip end portions 18a of the plurality of ejector pins 18 protrude from the surface of the flat portion 14b of the lower die 14 toward the upper die 12 side. The protruding amount of the tip 18a protruding from the lower mold 14 is set according to the size of each ejector pin 18 and the moving amount of the drive shaft 16s in the axial direction.

成形型を型閉じ状態とすることで、上型12の凹部12aと下型14の凹部14aとによってレンズ部10の形状が規定される。成形されるレンズ部10の形状の変更に応じて、成形型の上型12及び下型14の種類が適宜変更されてもよい。   When the mold is closed, the shape of the lens portion 10 is defined by the recess 12a of the upper mold 12 and the recess 14a of the lower mold 14. The types of the upper mold 12 and the lower mold 14 of the mold may be appropriately changed according to the change in the shape of the lens unit 10 to be molded.

図4に示すように、複数のエジェクタピン18を突出させていない状態においては、各エジェクタピン18の先端部18aが下型14の平面部14bに対して凹凸しないように面一な状態となる。こうすることで、軟化した成形物が先端部18aを貫通させている部分に入り込むことを防止することができる。   As shown in FIG. 4, when the plurality of ejector pins 18 are not projected, the tip portions 18 a of the ejector pins 18 are flush with each other so as not to be uneven with respect to the flat portion 14 b of the lower mold 14. . By doing so, it is possible to prevent the softened molded product from entering the portion penetrating the tip portion 18a.

レンズ部の材料として紫外線硬化樹脂を使用する場合には、上型12及び下型14のうち、紫外線を照射する側に位置する少なくとも一方を紫外線に対して透明体とする。また、基板部1が紫外線を透過する材質であってもよい。   In the case where an ultraviolet curable resin is used as the material of the lens portion, at least one of the upper mold 12 and the lower mold 14 located on the side irradiated with the ultraviolet light is made transparent to the ultraviolet light. Moreover, the board | substrate part 1 may be the material which permeate | transmits an ultraviolet-ray.

また、図4に示す構成を備えた製造装置について説明する。
この製造装置は、第1型として機能する上型12と、上型12に対して型閉じすることで、基板部1と複数のレンズ部10とを一体の成形物として成形するためのキャビティを形成するための第2型として機能する下型14と、を備えている。上型12を第2型とし、下型14を第1型としてもよい。また、製造装置は、成形物を離型する際に、第1型及び第2型のうち一方から突出する突出部を備えている。図4の構成例では、突出部が複数のエジェクタピン18を含む。
A manufacturing apparatus having the configuration shown in FIG. 4 will be described.
The manufacturing apparatus includes an upper mold 12 that functions as a first mold, and a cavity for molding the substrate unit 1 and the plurality of lens units 10 as an integral molded product by closing the mold with respect to the upper mold 12. And a lower mold 14 functioning as a second mold for forming. The upper mold 12 may be the second mold and the lower mold 14 may be the first mold. Moreover, the manufacturing apparatus includes a protruding portion that protrudes from one of the first mold and the second mold when releasing the molded product. In the configuration example of FIG. 4, the protrusion includes a plurality of ejector pins 18.

次に、図6に基づいてウェハレベルレンズの製造方法の手順を説明する。なお、以下の説明では、図4及び図5に示すウェハレベルレンズの製造装置の構成例を適宜参照するものとする。   Next, the procedure of the wafer level lens manufacturing method will be described with reference to FIG. In the following description, a configuration example of the wafer level lens manufacturing apparatus shown in FIGS. 4 and 5 will be referred to as appropriate.

最初に、上型12と下型14とを型開き状態とし、材料を注入する(ステップS1)。ここでは、材料として熱硬化性の樹脂を用いることとする。   First, the upper mold 12 and the lower mold 14 are opened, and material is injected (step S1). Here, a thermosetting resin is used as the material.

材料を注入した後、上型12と下型14とを型閉じ状態とすることで、材料に所定の圧力を加える(ステップS2)。   After injecting the material, a predetermined pressure is applied to the material by closing the upper die 12 and the lower die 14 (step S2).

次に、材料に所定の圧力を加えた状態を維持しつつ、材料を加熱することで硬化させる(ステップS3)。材料を加熱する手段としては、例えば、上型12及び下型14の少なくとも一方を熱伝導性の良い金属材料で構成し、ヒータなどの加熱部によって上型12及び下型14を加熱することで、材料に熱を加えてもよい。   Next, the material is cured by heating while maintaining a state where a predetermined pressure is applied to the material (step S3). As a means for heating the material, for example, at least one of the upper mold 12 and the lower mold 14 is made of a metal material having good thermal conductivity, and the upper mold 12 and the lower mold 14 are heated by a heating unit such as a heater. Heat may be applied to the material.

成形物を熱により硬化させた後、上型12及び下型14を型開き状態とする(ステップS4)。   After the molded product is cured by heat, the upper mold 12 and the lower mold 14 are opened (step S4).

次に、突出部を駆動して成形物を剥離する(ステップS5)。図7(a)は、突出部を駆動させる前の状態を示し、図7(b)は、突出部を駆動させた後の状態を示している。   Next, the protrusion is driven to peel off the molded product (step S5). FIG. 7A shows a state before driving the protrusion, and FIG. 7B shows a state after driving the protrusion.

図7(a)に示すように、成形の際には、複数のエジェクタピン18の先端部18aは、下型14の内部に収容された状態であり、成形されるウェハレベルレンズアレイの基板部1に圧力を加えることがないため、成形される基板部1の形状に影響を与えない。   As shown in FIG. 7A, at the time of molding, the tip portions 18a of the plurality of ejector pins 18 are accommodated in the lower mold 14, and the substrate portion of the wafer level lens array to be molded is formed. Since no pressure is applied to 1, the shape of the molded substrate portion 1 is not affected.

図7(b)に示すように、成形後、可動板16を上型12側に移動させることで、該可動板16に固定された各エジェクタピン18の先端部18aが下型14から突出し、先端部18aが成形物を押圧することで、該成形物を下型14から剥離させる。   As shown in FIG. 7B, after molding, the movable plate 16 is moved to the upper die 12 side, so that the tip portions 18a of the ejector pins 18 fixed to the movable plate 16 protrude from the lower die 14, When the tip 18a presses the molded product, the molded product is peeled from the lower mold 14.

先端部18aが成形物を押圧するとき、各先端部18aは、ウェハレベルレンズアレイのレンズ部10に接触することなく、基板部1のみに当接する。   When the distal end portion 18a presses the molded product, each distal end portion 18a contacts only the substrate portion 1 without contacting the lens portion 10 of the wafer level lens array.

図8は、成形物であるウェハレベルレンズアレイに対して接触するエジェクタピンの先端部の位置を平面視した状態で示すものである。図8に示すように、エジェクタピン18の先端部18aは、レンズ部10同士の間の基板部1に当接する。図8の例では、斜め方向に配列されたレンズ部10を列としたとき、1列ごとに同列のレンズ部10のうち隣り合うレンズ部10同士の間に先端部18aが当接する。   FIG. 8 shows the position of the tip of the ejector pin contacting the wafer level lens array, which is a molded product, in a plan view. As shown in FIG. 8, the tip portion 18 a of the ejector pin 18 abuts on the substrate portion 1 between the lens portions 10. In the example of FIG. 8, when the lens portions 10 arranged in the oblique direction are arranged in a row, the tip end portion 18a abuts between the adjacent lens portions 10 among the lens portions 10 in the same row for each row.

ウェハレベルレンズアレイに対して接触するエジェクタピンの先端部の位置は適宜変更することができる。図8に示す例のように、複数のエジェクタピン18の先端部18aと基板部1とが当接するそれぞれの位置が、成形物の中心に対してほぼ対称となることが好ましい。こうすれば、成形物の全体をエジェクタピンによって均一に押圧することができ、成形物の一部の領域に偏った押圧力が加わることを防止することができる。ウェハレベルレンズアレイは平面視においてほぼ正円形状であるため、複数のエジェクタピン18の先端部18aと基板部1とが当接するそれぞれの位置が、成形物の中心を囲って円状に配列されていることが特に好ましい。こうすれば、ウェハレベルレンズアレイの全体をほぼ均一に押圧することができ、押圧に起因してウェハレベルレンズアレイに変形などの不具合が生じることを防止できる。   The position of the tip of the ejector pin that contacts the wafer level lens array can be changed as appropriate. As in the example shown in FIG. 8, it is preferable that the respective positions where the tip portions 18 a of the plurality of ejector pins 18 abut on the substrate portion 1 are substantially symmetrical with respect to the center of the molded product. If it carries out like this, the whole molded article can be uniformly pressed with an ejector pin, and it can prevent that the biased pressing force is added to the one part area | region of a molded article. Since the wafer level lens array has a substantially circular shape in plan view, the positions where the tip portions 18a of the plurality of ejector pins 18 and the substrate portion 1 abut each other are arranged in a circle around the center of the molded product. It is particularly preferable. In this way, the entire wafer level lens array can be pressed almost uniformly, and it is possible to prevent problems such as deformation in the wafer level lens array due to the pressing.

ウェハレベルレンズアレイは、基板部1と複数のレンズ部10とを一体成形した構成であり、基板部1の厚みは小さいのに対して、上型12及び下型14には広い面積で接触する。このため、硬化後に、成形物であるウェハレベルレンズアレイが上型12及び下型14のうちいずれか一方に密着して離型させ難くなる。ウェハレベルレンズアレイに負荷を加えて離型させようとすると、基板部1に変形が生じることや基板部1やレンズ部10に割れなどの損傷が生じやすい。そこで、ウェハレベルレンズアレイを型から取り出しやすくなるようにするため、成形物を型同士の間から取り出す工程の前に、上型12及び下型14を型開きした状態で、上型12及び下型14のうち一方から突出部で成形物を押圧して、成形物を型から剥離させておく。すると、突出部からの押圧によって、成形物と型との間に剥離した部位が生じる。   The wafer level lens array has a configuration in which the substrate portion 1 and the plurality of lens portions 10 are integrally molded. The thickness of the substrate portion 1 is small, but the upper die 12 and the lower die 14 are in contact with each other over a wide area. . For this reason, after curing, the wafer level lens array, which is a molded product, is in close contact with either one of the upper mold 12 and the lower mold 14 and is difficult to release. If a load is applied to the wafer level lens array to release the mold, the substrate portion 1 is likely to be deformed or the substrate portion 1 or the lens portion 10 is likely to be damaged, such as a crack. Therefore, in order to make it easy to take out the wafer level lens array from the mold, the upper mold 12 and the lower mold 14 are opened with the upper mold 12 and the lower mold 14 opened before the step of taking out the molding from between the molds. The molded product is pressed from one side of the mold 14 with the protruding portion, and the molded product is separated from the mold. Then, the site | part which peeled between the molding and the type | mold arises by the press from a protrusion part.

具体的には、突出部による成形物の押圧は、上型12及び下型14のうちの、ウェハレベルレンズアレイが付着しやすい側の型から行う。この構成例では、成形されたウェハレベルレンズアレイが下型14側に付着しやすいことを想定し、下型14側から突出部であるエジェクタピン18を突出させる構成とした。成形されたウェハレベルレンズアレイが上型12側に付着しやすい場合には、上型12側から同様にエジェクタピンを突出させる構成とすればよい。このとき、エジェクタピン18に押圧された成形物が完全に剥離して落下することを避けるため、上型12と下型14との上下方向の位置を予め反対となるように変更しておけばよい。   Specifically, the pressing of the molded product by the protruding portion is performed from the upper die 12 and the lower die 14 on the side where the wafer level lens array is likely to adhere. In this configuration example, it is assumed that the molded wafer level lens array easily adheres to the lower mold 14 side, and the ejector pins 18 that are protruding portions are projected from the lower mold 14 side. If the molded wafer level lens array is likely to adhere to the upper mold 12 side, the ejector pins may be similarly projected from the upper mold 12 side. At this time, in order to prevent the molded product pressed by the ejector pin 18 from being completely peeled off and dropped, the vertical positions of the upper mold 12 and the lower mold 14 may be changed in advance to be opposite to each other. Good.

なお、ウェハレベルレンズアレイが付着しやすい側としては、離型させる際に、成形物であるウェハレベルレンズアレイがその表面形状や材質などの影響によって付着してしまいやすい側を意味する。   The side where the wafer level lens array is likely to adhere means the side where the wafer level lens array which is a molded product is likely to adhere due to the influence of the surface shape, material, etc. when releasing the mold.

図7に示す構成例では、ウェハレベルレンズが下型14に付着しているものとして想定される。つまり、下型14はウェハレベルレンズが付着している側の型に相当し、該下型14の下面(図中下側の面)はウェハレベルレンズが付着している側の面に対して反対側の面に相当する。   In the configuration example shown in FIG. 7, it is assumed that the wafer level lens is attached to the lower mold 14. That is, the lower die 14 corresponds to the die on the side to which the wafer level lens is attached, and the lower surface (lower surface in the figure) of the lower die 14 is relative to the surface to which the wafer level lens is attached. Corresponds to the opposite surface.

また、基板部の厚み方向とは、複数のレンズ部10が配列されている2次元の平面方向に対して垂直な方向であり、図中の上下方向に相当する。   Further, the thickness direction of the substrate portion is a direction perpendicular to the two-dimensional plane direction in which the plurality of lens portions 10 are arranged, and corresponds to the vertical direction in the drawing.

突出部としては、上記構成例のように、複数のエジェクタピンのみからなる構成に限定されず、レンズ部10以外の基板部1のみに当接させつつ前形物を離型する側へ押圧することが可能な構成であれば、適宜変更できる。   The protruding portion is not limited to a configuration including only a plurality of ejector pins as in the configuration example described above, and presses the front shape toward the mold release side while contacting only the substrate portion 1 other than the lens portion 10. Any configuration that can be used can be changed as appropriate.

図9は、ウェハレベルレンズアレイの製造装置の他の構成例を示す図である。図9(a)は、突出部を駆動させる前の状態を示し、図9(b)は、突出部を駆動させた後の状態を示している。   FIG. 9 is a diagram showing another configuration example of the wafer level lens array manufacturing apparatus. FIG. 9A shows a state before driving the protrusion, and FIG. 9B shows a state after driving the protrusion.

この構成例では、可動板16に、複数のエジェクタピン18と可動板の周縁近傍に、エジェクタピン18の延びる方向に立設されたスリーブ22とが固定されている。スリーブ22は、円筒形状を有し、可動板16に対するエジェクタピン18の高さと等しい高さで構成されている。複数のエジェクタピン18とスリーブ22とが突出部として機能する。   In this configuration example, a plurality of ejector pins 18 and a sleeve 22 erected in the extending direction of the ejector pins 18 are fixed to the movable plate 16 near the periphery of the movable plate. The sleeve 22 has a cylindrical shape and is configured with a height equal to the height of the ejector pin 18 with respect to the movable plate 16. The plurality of ejector pins 18 and the sleeve 22 function as protrusions.

図9(b)に示すように、成形後、可動板16を上型12側に移動させることで、該可動板16に固定された各エジェクタピン18の先端部18a及びスリーブ22が下型14から突出し、先端部18a及びスリーブ22が成形物を押圧することで、該成形物を下型14から剥離させるように促す。   As shown in FIG. 9B, after molding, the movable plate 16 is moved to the upper mold 12 side, whereby the tip end portions 18a and the sleeves 22 of the ejector pins 18 fixed to the movable plate 16 are moved to the lower mold 14. The tip portion 18a and the sleeve 22 press the molded product, thereby urging the molded product to be peeled from the lower mold 14.

先端部18a及びスリーブ22が成形物を押圧するとき、各先端部18a及びスリーブ22は、ウェハレベルレンズアレイのレンズ部10に接触することなく、基板部1のみに当接する。スリーブ22は、成形物の周縁部に沿って当接する。   When the tip portion 18a and the sleeve 22 press the molded product, each tip portion 18a and the sleeve 22 abut only on the substrate portion 1 without contacting the lens portion 10 of the wafer level lens array. The sleeve 22 abuts along the peripheral edge of the molded product.

図10は、成形物であるウェハレベルレンズアレイに対して接触するエジェクタピン18の先端部18a及びスリーブ22の位置を平面視した状態で示すものである。図10に示すように、エジェクタピン18の先端部18aは、レンズ部10同士の間の基板部1に当接する。図10の例では、斜め方向に配列されたレンズ部10を列としたとき、1列ごとに同列のレンズ部10のうち隣り合うレンズ部10同士の間に先端部18aが当接する。また、スリーブ22は、ウェハレベルレンズアレイの周縁部の形状とほぼ一致し、該周縁部に沿って当接する。
なお、スリーブ22は、周方向に沿っていくつかに分断された円弧状の複数のリブで構成されてもよい。
FIG. 10 shows the positions of the tip 18a of the ejector pin 18 and the sleeve 22 in contact with the wafer level lens array, which is a molded product, in a plan view. As shown in FIG. 10, the distal end portion 18 a of the ejector pin 18 abuts on the substrate portion 1 between the lens portions 10. In the example of FIG. 10, when the lens portions 10 arranged in the oblique direction are arranged in a row, the tip portion 18 a abuts between the adjacent lens portions 10 among the lens portions 10 in the same row for each row. The sleeve 22 substantially matches the shape of the peripheral edge of the wafer level lens array and abuts along the peripheral edge.
The sleeve 22 may be composed of a plurality of arc-shaped ribs that are divided into several pieces along the circumferential direction.

図6のフローチャートに戻って製造方法の手順の続きを説明する。成形物を突出部によって押圧して剥離させた後、下型14上のウェハレベルレンズを取り出す(ステップS6)。   Returning to the flowchart of FIG. 6, the continuation of the procedure of the manufacturing method will be described. After the molded product is pressed and peeled off by the protruding portion, the wafer level lens on the lower mold 14 is taken out (step S6).

図11は、ウェハレベルレンズアレイを取り出す手段の一例を示している。図11の例では、ウェハレベルレンズアレイの上面に吸着部32を吸着させ、上方へ引っ張ることで、ウェハレベルレンズアレイを下型14から剥離する。このとき、エジェクタピン18の先端部18aがウェハレベルレンズアレイの吸着部32によって吸着される部位を反対側の面を支持してもよい。こうすれば、ウェハレベルレンズアレイの離型を円滑に行うことができる。   FIG. 11 shows an example of means for taking out the wafer level lens array. In the example of FIG. 11, the wafer level lens array is peeled from the lower mold 14 by sucking the suction part 32 on the upper surface of the wafer level lens array and pulling it upward. At this time, the tip end portion 18a of the ejector pin 18 may support the surface on the opposite side of the portion adsorbed by the adsorbing portion 32 of the wafer level lens array. By so doing, it is possible to smoothly release the wafer level lens array.

吸着部32は、例えば、空気吸引を行って負圧を生じさせることでウェハレベルレンズの上面に密着する構成である。吸着部32は、1つのウェハレベルレンズに対して複数設けられ、各吸着部32がウェハレベルレンズにおける、レンズ部10が形成された領域以外の平坦領域に密着するように配置されている。レンズ部10に吸着部32が接触することがないため、変形などの損傷が生じることを回避できる。   For example, the suction unit 32 is configured to adhere to the upper surface of the wafer level lens by performing air suction to generate a negative pressure. A plurality of suction units 32 are provided for one wafer level lens, and each suction unit 32 is disposed so as to be in close contact with a flat region other than the region where the lens unit 10 is formed in the wafer level lens. Since the suction part 32 does not come into contact with the lens part 10, it is possible to avoid the occurrence of damage such as deformation.

複数の吸着部32をウェハレベルレンズアレイの基板部1の上面に密着させた状態で、ウェハレベルレンズアレイを上方に持ち上げることで、下型14からウェハレベルレンズアレイを取り出すことができる。このとき、下型14とウェハレベルレンズアレイとの境界には押圧によって既に剥離しているため、ウェハレベルレンズアレイを把持する複数の吸着部32から強い張力をかけることなく、簡単に取り出すことができる。   The wafer level lens array can be taken out from the lower mold 14 by lifting the wafer level lens array upward in a state where the plurality of suction portions 32 are in close contact with the upper surface of the substrate unit 1 of the wafer level lens array. At this time, since the boundary between the lower mold 14 and the wafer level lens array has already been peeled off by pressing, it can be easily taken out without applying strong tension from the plurality of suction portions 32 that hold the wafer level lens array. it can.

こうして、基板部1とレンズ部10とが一体成形されたウェハレベルレンズアレイを得ることができる。   Thus, a wafer level lens array in which the substrate unit 1 and the lens unit 10 are integrally molded can be obtained.

上記構成例では、基板部1と複数のレンズ10とを上型12及び下型14によって成形物として一体成形するとき、上型12及び下型14のうち一方から突出部を突出させ、突出部によって成形物を離型する側へ押圧する。この押圧によって成形物を型から剥離する。その後、成形物を型の間から取り出す際に、既に剥離されているので、容易に取り出すことができる。成形物を押圧する際には、突出部の突出する方向の先端部18aがレンズ部10に直接接触しないため、レンズ部10に損傷が生じることを防止できる。   In the above configuration example, when the substrate part 1 and the plurality of lenses 10 are integrally formed as a molded product by the upper mold 12 and the lower mold 14, the protruding part protrudes from one of the upper mold 12 and the lower mold 14, and the protruding part To press the molded product to the side to be released. By this pressing, the molded product is peeled from the mold. Thereafter, when the molded product is taken out from between the molds, it has already been peeled off, so that it can be taken out easily. When the molded product is pressed, the tip portion 18a in the projecting direction of the projecting portion does not directly contact the lens unit 10, so that the lens unit 10 can be prevented from being damaged.

特に基板部1と複数のレンズ部10とを一体成形する構成のウェハレベルレンズは、基板部1はその厚みが薄く、型に接触する領域の面積が広いため、離型の際に、上型12又は下型14のいずれに付着して離れ難くなる傾向が顕著である。このため、ウェハレベルレンズアレイの製造においては、突出部によって型と成形物との境界を剥離させておくことで、成形物に負荷をかけることなく、成形物を取り出すことができ、有効である。   In particular, in a wafer level lens having a structure in which the substrate portion 1 and the plurality of lens portions 10 are integrally molded, the substrate portion 1 is thin and has a large area in contact with the mold. The tendency to adhere to either 12 or the lower mold 14 and to become difficult to separate is remarkable. For this reason, in the manufacture of a wafer level lens array, it is possible to take out the molded product without applying a load to the molded product by separating the boundary between the mold and the molded product by the protruding portion, which is effective. .

次に、ウェハレベルレンズアレイを用いて、更に、レンズモジュール及び撮像ユニットを製造する手順を説明する。   Next, a procedure for manufacturing a lens module and an imaging unit using the wafer level lens array will be described.

図12は、ウェハレベルレンズアレイをダイシングする工程を説明する図である。同図(a)に示すように、ウェハレベルレンズアレイの基板1の一方の表面(同図では下方の面)にスペーサ2が接合される。そして、同図(b)に示すように、ウェハレベルレンズアレイの基板部1と、該基板部1と同様にウェハ状に形成された半導体基板Wとの位置合わせが行われる。半導体基板Wの一方の面(同図では上側の面)には、基板部1に設けられた複数のレンズ部10の配列と同じ配列で固体撮像素子Dが設けられている。そして、ウェハレベルレンズアレイの基板部1がスペーサ2を介して、該基板部1と同様にウェハ状に形成された半導体基板Wに重ね合わされ、一体に接合される。その後、一体とされたウェハレベルレンズアレイ及び半導体基板W並びにスペーサ2は、レンズ部10及び固体撮像素子Dそれぞれの配列の列間に規定される切断ラインに沿って、ブレードC等の切断手段を用いて切断され、複数の撮像ユニットに分離される。切断ラインは、例えば基板部1の平面視において格子状である。   FIG. 12 is a diagram illustrating a process of dicing the wafer level lens array. As shown in FIG. 6A, a spacer 2 is bonded to one surface (a lower surface in the drawing) of the substrate 1 of the wafer level lens array. Then, as shown in FIG. 2B, alignment is performed between the substrate unit 1 of the wafer level lens array and the semiconductor substrate W formed in a wafer shape in the same manner as the substrate unit 1. On one surface of the semiconductor substrate W (the upper surface in the figure), the solid-state imaging device D is provided in the same arrangement as the arrangement of the plurality of lens units 10 provided on the substrate unit 1. Then, the substrate unit 1 of the wafer level lens array is superimposed on the semiconductor substrate W formed in a wafer shape like the substrate unit 1 through the spacer 2 and is integrally bonded. Thereafter, the integrated wafer level lens array, semiconductor substrate W, and spacer 2 are provided with cutting means such as a blade C along a cutting line defined between rows of the lens unit 10 and the solid-state imaging device D. And is separated into a plurality of imaging units. The cutting line is, for example, in a lattice shape in plan view of the substrate unit 1.

なお、同図では、撮像ユニットを製造する際のダイジングを例に説明している。レンズモジュールを製造する際のダイジングは、ウェハレベルレンズアレイの基板部1にスペーサ2を接合した後、半導体基板Wに接合させないで、レンズ部10の配列に応じて切断し、複数のレンズモジュールに分離する。   In the figure, a description is given of an example of dicing when manufacturing an imaging unit. The dicing when manufacturing the lens module is performed by bonding the spacer 2 to the substrate unit 1 of the wafer level lens array, and then cutting it according to the arrangement of the lens units 10 without bonding it to the semiconductor substrate W. To separate.

図13は、レンズモジュールの製造方法の手順を示す図である。この手順では、1つの基板部1に複数のレンズ部10が一体成形されたウェハレベルレンズアレイをダイジングして複数のレンズモジュールに分離する例を説明する。   FIG. 13 is a diagram illustrating a procedure of a manufacturing method of the lens module. In this procedure, an example will be described in which a wafer level lens array in which a plurality of lens portions 10 are integrally formed on one substrate portion 1 is diced and separated into a plurality of lens modules.

先ず、同図(a)に示すように、ウェハレベルレンズアレイを準備する。ウェハレベルレンズアレイは、既に上述した手順で製造することができ、以下の説明では、その手順については説明することなく省略する。   First, a wafer level lens array is prepared as shown in FIG. The wafer level lens array can be manufactured by the procedure described above, and in the following description, the procedure is omitted without being described.

次に、同図(b)に示すように、基板部1の下側の面にスペーサ2を接着剤などによって接合する。   Next, as shown in FIG. 2B, the spacer 2 is bonded to the lower surface of the substrate portion 1 with an adhesive or the like.

そして、同図(c)に示すように、ウェハレベルレンズアレイの基板部1を、図中点線で示される切断ラインに沿って切断し、複数のレンズモジュールに分離する。このとき、各切断ライン上に重なり合って接合されているスペーサ2も同時に切断され、スペーサ2は、各切断ラインを境界として分割され、各切断ラインに隣接するレンズモジュールにそれぞれ付属する。こうして、レンズモジュールが完成する。   Then, as shown in FIG. 3C, the substrate unit 1 of the wafer level lens array is cut along a cutting line indicated by a dotted line in the drawing, and separated into a plurality of lens modules. At this time, the spacers 2 that are overlapped and joined on each cutting line are also cut at the same time, and the spacer 2 is divided with each cutting line as a boundary, and attached to each lens module adjacent to each cutting line. Thus, the lens module is completed.

なお、分離されたレンズモジュールは、スペーサ2を介して図示しないセンサモジュールやその他の光学素子を備えた基板に組み付けられてもよい。   The separated lens module may be assembled to a substrate including a sensor module (not shown) and other optical elements via the spacer 2.

このように、ウェハレベルレンズアレイに予めスペーサ2を接合しておき、その後に、スペーサ2ごとウェハレベルレンズアレイの基板部1をダイシング工程で切断すれば、分離されたレンズモジュールにそれぞれスペーサ2を接合する場合に比べて効率良くレンズモジュールを量産することができ、生産性を向上することができる。   In this way, if the spacer 2 is bonded to the wafer level lens array in advance, and then the substrate part 1 of the wafer level lens array is cut together with the spacer 2 in the dicing process, the spacer 2 is attached to each of the separated lens modules. The lens module can be mass-produced more efficiently than the case of joining, and the productivity can be improved.

図14は、図13とは別の構成のレンズモジュールを製造する手順を示す図である。この手順では、2つの基板部1と、各基板部1に複数のレンズ部10が一体成形されたウェハレベルレンズアレイをダイジングし、複数のレンズモジュールに分離する例を説明する。   FIG. 14 is a diagram illustrating a procedure for manufacturing a lens module having a configuration different from that of FIG. 13. In this procedure, an example will be described in which two substrate portions 1 and a wafer level lens array in which a plurality of lens portions 10 are integrally formed on each substrate portion 1 are diced and separated into a plurality of lens modules.

先ず、同図(a)に示すように、複数のウェハレベルレンズアレイを準備する。ウェハレベルレンズアレイは、既に上述した手順で製造することができ、以下の説明では、その手順については説明することなく省略する。複数のウェハレベルレンズアレイの各基板部1の一方の面にスペーサ2を接着剤などによって接合する。そして、重ね合わせるウェハレベルレンズアレイの基板部1同士の位置合わせを行い、下方に配置するウェハレベルレンズアレイの基板部1の上面に、上方に配置するウェハレベルレンズアレイの基板部1の下面を、スペーサ2を介して接合する。ウェハレベルレンズアレイ同士を重ね合わせた状態で、各基板部1に対してスペーサ2が接合された位置が、各基板部1で同じになるようにする。   First, a plurality of wafer level lens arrays are prepared as shown in FIG. The wafer level lens array can be manufactured by the procedure described above, and in the following description, the procedure is omitted without being described. A spacer 2 is bonded to one surface of each substrate unit 1 of the plurality of wafer level lens arrays with an adhesive or the like. Then, the substrate portions 1 of the wafer level lens array to be superimposed are aligned with each other, and the lower surface of the substrate portion 1 of the wafer level lens array disposed above is placed on the upper surface of the substrate portion 1 of the wafer level lens array disposed below. , And joined through the spacer 2. In a state where the wafer level lens arrays are overlapped with each other, the position where the spacer 2 is bonded to each substrate unit 1 is set to be the same in each substrate unit 1.

そして、同図(b)に示すように、ウェハレベルレンズアレイの基板部1を、図中点線で示される切断ラインに沿って切断し、複数のレンズモジュールに分離する。このとき、各切断ライン上に重なり合って接合されているスペーサ2も同時に切断され、各切断ラインを境界として分割されたスペーサ2が、各切断ラインに隣接するレンズモジュールにそれぞれ付属する。こうして、複数のレンズ部10を備えたレンズモジュールが完成する。この手順では、重ね合わされるそれぞれの基板部1に対するレンズ部10及びスペーサ2の位置が同じであるため、分離された複数のレンズモジュールの構成はいずれも同じになる。また、重ね合わされるそれぞれの基板部1のうち、最上部の基板部1を基準に切断ラインの位置を決定し、切断すればよい。   Then, as shown in FIG. 4B, the substrate unit 1 of the wafer level lens array is cut along a cutting line indicated by a dotted line in the drawing, and separated into a plurality of lens modules. At this time, the spacers 2 that are overlapped and joined on the respective cutting lines are also cut at the same time, and the spacers 2 divided with the respective cutting lines as boundaries are attached to the lens modules adjacent to the respective cutting lines. Thus, a lens module including a plurality of lens units 10 is completed. In this procedure, since the positions of the lens unit 10 and the spacer 2 with respect to the respective substrate units 1 to be superimposed are the same, the configurations of the plurality of separated lens modules are all the same. Further, the position of the cutting line may be determined based on the uppermost substrate portion 1 among the respective substrate portions 1 to be overlapped and cut.

なお、分離されたレンズモジュールは、スペーサ2を介して図示しないセンサモジュールやその他の光学素子を備えた基板に組み付けられてもよい。   The separated lens module may be assembled to a substrate including a sensor module (not shown) and other optical elements via the spacer 2.

このように、複数のウェハレベルレンズアレイ同士をスペーサを介して重ね合わせ、その後に、ウェハレベルレンズアレイの基板部1をスペーサ2ごとダイシング工程で切断すれば、分離されたレンズモジュールを個別に重ね合わせる場合に比べて、効率よくレンズモジュールを量産することができ、生産性が向上する。   As described above, if a plurality of wafer level lens arrays are overlapped with each other via a spacer, and then the substrate part 1 of the wafer level lens array is cut together with the spacers 2 in a dicing process, the separated lens modules are individually stacked. Compared with the case of matching, the lens module can be mass-produced more efficiently, and the productivity is improved.

図15は、撮像ユニットを製造する手順を示す図である。この手順では、1つの基板部1と該基板部1に複数のレンズ部10が一体成形されたレンズモジュールをセンサモジュールに接合してダイジングし、複数の撮像ユニットに分離する例を説明する。   FIG. 15 is a diagram illustrating a procedure for manufacturing the imaging unit. In this procedure, an example will be described in which a single substrate unit 1 and a lens module in which a plurality of lens units 10 are integrally formed on the substrate unit 1 are joined to a sensor module and diced to be separated into a plurality of imaging units.

先ず、同図(a)に示すように、ウェハレベルレンズアレイを準備する。ウェハレベルレンズアレイは、既に上述した手順で製造することができ、以下の説明では、その手順については説明することなく省略する。そして、基板部1の下側の面にスペーサ2を接着剤などによって接合する。   First, a wafer level lens array is prepared as shown in FIG. The wafer level lens array can be manufactured by the procedure described above, and in the following description, the procedure is omitted without being described. Then, the spacer 2 is bonded to the lower surface of the substrate unit 1 with an adhesive or the like.

次に、複数の固体撮像素子Dが配列された半導体基板Wを準備する。ウェハレベルレンズアレイの基板部1と、半導体基板Wとの位置合わせを行った後、該基板部1をスペーサ2を介して半導体基板Wの上側の面に接合する。このとき、基板部1に設けられた各レンズ部10の光軸の延長が固体撮像素子Dの中央部とそれぞれ交わるようにする。   Next, a semiconductor substrate W on which a plurality of solid-state imaging elements D are arranged is prepared. After aligning the substrate unit 1 of the wafer level lens array and the semiconductor substrate W, the substrate unit 1 is bonded to the upper surface of the semiconductor substrate W via the spacer 2. At this time, the extension of the optical axis of each lens unit 10 provided on the substrate unit 1 intersects with the central part of the solid-state imaging device D.

そして、同図(c)に示すように、ウェハレベルレンズアレイの基板部1と半導体基板Wとを接合した後、基板部1を、図中点線で示される切断ラインに沿って切断し、複数の撮像ユニットに分離する。このとき、各切断ライン上に重なり合って接合されているスペーサ2も同時に切断され、スペーサ2は、各切断ラインを境界として分割され、各切断ラインに隣接する撮像ユニットにそれぞれ付属する。こうして、撮像ユニットが完成する。   Then, as shown in FIG. 3C, after the substrate unit 1 of the wafer level lens array and the semiconductor substrate W are joined, the substrate unit 1 is cut along a cutting line indicated by a dotted line in the drawing. Separate the imaging unit. At this time, the spacers 2 that are overlapped and joined on each cutting line are also cut at the same time, and the spacer 2 is divided with each cutting line as a boundary and attached to each imaging unit adjacent to each cutting line. Thus, the imaging unit is completed.

このように、ウェハレベルレンズアレイに予めスペーサ2を接合しておき、その後に、ウェハレベルレンズアレイの基板と固体撮像素子Dを備えた半導体基板Wを重ね合わせて、基板部1及び半導体基板Wをダイシング工程で一緒に切断すれば、分離されたレンズモジュールにそれぞれスペーサ2を介してセンサモジュールを接合して撮像ユニットを製造する場合に比べて、効率良く撮像ユニットを量産することができ、生産性を向上することができる。   In this way, the spacer 2 is bonded to the wafer level lens array in advance, and then the substrate of the wafer level lens array and the semiconductor substrate W provided with the solid-state imaging device D are overlapped to form the substrate unit 1 and the semiconductor substrate W. Can be mass-produced and produced more efficiently than the case of manufacturing the imaging unit by joining the sensor module to the separated lens modules via the spacers 2 respectively. Can be improved.

図16は、図15の構成とは別の撮像ユニットを製造する手順を示す図である。この手順では、2つの基板部1と各基板部1に複数のレンズ部10が一体成形されたウェハレベルレンズアレイを、固体撮像素子が設けられた半導体基板に接合してダイジングし、それぞれが2つのレンズ部10を備えた複数の撮像ユニットに分離する例を説明する。   FIG. 16 is a diagram showing a procedure for manufacturing an imaging unit different from the configuration of FIG. In this procedure, two substrate portions 1 and a wafer level lens array in which a plurality of lens portions 10 are integrally formed on each substrate portion 1 are bonded to a semiconductor substrate provided with a solid-state imaging device, and each is dized. An example of separation into a plurality of imaging units including one lens unit 10 will be described.

先ず、同図(a)に示すように、2つのウェハレベルレンズアレイを準備する。ウェハレベルレンズアレイは、既に上述した手順で製造することができ、以下の説明では、その手順については説明することなく省略する。そして、重ね合わせる2つの基板部1それぞれの下側の面にスペーサ2を接着剤などによって接合する。そして、重ね合わせるウェハレベルレンズアレイの基板部1同士の位置合わせを行い、下方に配置するウェハレベルレンズアレイの基板部1の上面に、上方に配置するウェハレベルレンズアレイの基板部1の下面を、スペーサ2を介して接合する。ウェハレベルレンズアレイ同士を重ね合わせた状態で、各基板部1に対してスペーサ2が接合された位置が、各基板部1で同じになるようにする。   First, two wafer level lens arrays are prepared as shown in FIG. The wafer level lens array can be manufactured by the procedure described above, and in the following description, the procedure is omitted without being described. Then, the spacer 2 is bonded to the lower surface of each of the two substrate portions 1 to be overlapped with an adhesive or the like. Then, the substrate portions 1 of the wafer level lens array to be superimposed are aligned with each other, and the lower surface of the substrate portion 1 of the wafer level lens array disposed above is placed on the upper surface of the substrate portion 1 of the wafer level lens array disposed below. , And joined through the spacer 2. In a state where the wafer level lens arrays are overlapped with each other, the position where the spacer 2 is bonded to each substrate unit 1 is set to be the same in each substrate unit 1.

次に、複数の固体撮像素子Dが配列された半導体基板Wを準備する。重ね合わされた状態の複数のウェハレベルレンズアレイの基板部1と、半導体基板Wとの位置合わせを行う。その後、最下部に位置する該基板部1を、スペーサ2を介して半導体基板Wの上側の面に接合する。このとき、基板部1に設けられた各レンズ部10の光軸の延長が固体撮像素子Dの中央部とそれぞれ交わるようにする。   Next, a semiconductor substrate W on which a plurality of solid-state imaging elements D are arranged is prepared. The alignment of the semiconductor substrate W with the substrate portions 1 of the plurality of wafer level lens arrays in a superposed state is performed. Thereafter, the substrate portion 1 located at the bottom is bonded to the upper surface of the semiconductor substrate W via the spacer 2. At this time, the extension of the optical axis of each lens unit 10 provided on the substrate unit 1 intersects with the central part of the solid-state imaging device D.

そして、同図(c)に示すように、ウェハレベルレンズアレイの基板部1と半導体基板Wとを接合した後、基板部1及び半導体基板Wを、図中点線で示される切断ラインに沿って切断し、複数の撮像ユニットに分離する。このとき、各切断ライン上に重なり合って接合されているスペーサ2も同時に切断され、スペーサ2は、各切断ラインを境界として分割され、各切断ラインに隣接する撮像ユニットにそれぞれ付属する。こうして、複数のレンズ部10を備えた撮像ユニットが完成する。   Then, as shown in FIG. 3C, after the substrate unit 1 and the semiconductor substrate W of the wafer level lens array are joined, the substrate unit 1 and the semiconductor substrate W are moved along the cutting line indicated by the dotted line in the drawing. Cut and separate into multiple imaging units. At this time, the spacers 2 that are overlapped and joined on each cutting line are also cut at the same time, and the spacer 2 is divided with each cutting line as a boundary and attached to each imaging unit adjacent to each cutting line. In this way, an imaging unit including a plurality of lens units 10 is completed.

このように、複数のウェハレベルレンズアレイ同士をスペーサ2を介して接合しておき、その後に、最下部のウェハレベルレンズアレイの基板部1と固体撮像素子Dを備えた半導体基板Wを重ね合わせて、基板部1及び半導体基板Wをダイシング工程で一緒に切断している。このような手順によれば、分離されたレンズモジュール同士を重ね合わせ、更に、各レンズモジュールとセンサモジュールとを接合していくことで各撮像ユニットを製造する場合に比べて、効率良く撮像ユニットを量産することができ、生産性を向上することができる。   In this way, a plurality of wafer level lens arrays are bonded to each other via the spacer 2, and then, the substrate portion 1 of the lowermost wafer level lens array and the semiconductor substrate W including the solid-state imaging device D are overlapped. The substrate portion 1 and the semiconductor substrate W are cut together in a dicing process. According to such a procedure, the separated lens modules are overlapped with each other, and further, the image pickup units are more efficiently compared with the case of manufacturing each image pickup unit by joining the lens modules and the sensor modules. Mass production is possible and productivity can be improved.

本明細書は以下の内容を開示する。
(1)基板部と、該基板部に配列された複数のレンズ部とが形成されたウェハレベルレンズアレイの製造方法であって、
第1型と第2型で前記基板部と前記複数のレンズ部とを一体の成形物として成形する工程と、
前記成形物を離型する工程と、を有し、
前記成形物を離型する工程において、前記第1型及び前記第2型のうち一方から突出部を突出させ、前記突出部を前記レンズ部以外の前記基板部のみに当接させつつ前記成形物を離型する側へ押圧するウェハレベルレンズアレイの製造方法。
(2)上記(1)に記載のウェハレベルレンズアレイの製造方法であって、
前記突出部が複数のエジェクタピンを含み、前記複数のエジェクタピンの突出する方向の先端部を、前記レンズ部を除く前記基板部のみに当接させるウェハレベルレンズアレイの製造方法。
(3)上記(1)又は(2)に記載のウェハレベルレンズアレイの製造方法であって、
前記突出部が円筒形状を有するスリーブを含み、前記スリーブの突出する方向の先端部を、前記基板部における周縁部のみに当接させるウェハレベルレンズアレイの製造方法。
(4)上記(2)又は(3)に記載のウェハレベルレンズアレイの製造方法であって、
前記複数のエジェクタピンの先端部と前記基板部とが当接するそれぞれの位置が、前記成形物の中心に対してほぼ対称となるウェハレベルレンズアレイの製造方法。
(5)上記(2)から(4)のうちいずれか1つに記載のウェハレベルレンズアレイの製造方法であって、
前記複数のエジェクタピンの先端部と前記基板部とが当接するそれぞれの位置が、前記成形物の中心を囲って円状に配列されているウェハレベルレンズアレイの製造方法。
(6)上記(1)から(5)のいずれか1つに記載のウェハレベルレンズアレイの製造方法であって、前記基板部及び前記複数のレンズ部の材料が紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のうちいずれかであるウェハレベルレンズアレイの製造方法。
(7)上記(1)から(6)のいずれか1つに記載のウェハレベルレンズアレイの製造方法によって得られたウェハレベルレンズアレイ。
(8)上記(7)に記載の前記ウェハレベルレンズアレイの前記基板部をダイシングして、前記レンズ部ごとに分断してなるレンズモジュール。
(9)上記(8)に記載のレンズモジュールであって、
前記基板部の前記レンズ部の周囲にスペーサが設けられたレンズモジュール。
(10)上記(8)に記載のレンズモジュールであって、
前記レンズ部が形成された前記基板部を複数備え、複数の前記基板部同士がそれら間にスペーサを挟んで重ね合わされたレンズモジュール。
(11)上記(9)又は(10)に記載のレンズモジュールを備えた撮像ユニットであって、
撮像素子と、
前記撮像素子が設けられた半導体基板とを備え、
前記基板部と前記半導体基板とが、前記スペーサを介して一体に接合された撮像ユニット。
(12)基板部と、該基板部に配列された複数のレンズ部とが形成されたウェハレベルレンズアレイの製造装置であって、
第1型と、
前記第1型に対して型閉じすることで、前記基板部と前記複数のレンズ部とを一体の成形物として成形するためのキャビティを形成する第2型と、
前記第1型及び前記第2型のうち一方から突出する突出部を備え、前記成形物を離型するときに、前記突出部が前記レンズ部以外の前記基板部のみに当接して前記成形物を離型する側へ押圧するウェハレベルレンズアレイの製造装置。
(13)上記(12)に記載のウェハレベルレンズアレイの製造装置であって、
前記突出部が複数のエジェクタピンを含み、前記複数のエジェクタピンの突出する方向の先端部が、前記レンズ部を除く前記基板部のみに当接するウェハレベルレンズアレイの製造装置。
(14)上記(12)又は(13)に記載のウェハレベルレンズアレイの製造装置であって、
前記突出部が円筒形状を有するスリーブを含み、前記スリーブの突出する方向の先端部が、前記基板部における周縁部のみに当接するウェハレベルレンズアレイの製造装置。
(15)上記(13)又は(14)に記載のウェハレベルレンズアレイの製造装置であって、
前記複数のエジェクタピンの先端部と前記基板部とが当接するそれぞれの位置が、前記成形物の中心に対してほぼ対称となるウェハレベルレンズアレイの製造装置。
(16)上記(13)から(15)のうちいずれか1つに記載のウェハレベルレンズアレイの製造装置であって、
前記複数のエジェクタピンの先端部と前記基板部とが当接するそれぞれの位置が、前記成形物の中心を囲って円状に配列されているウェハレベルレンズアレイの製造装置。
This specification discloses the following contents.
(1) A method for manufacturing a wafer level lens array in which a substrate portion and a plurality of lens portions arranged on the substrate portion are formed,
Forming the substrate part and the plurality of lens parts as an integral molded product with the first mold and the second mold;
A step of releasing the molded product,
In the step of releasing the molded product, the molded product is caused to protrude from one of the first mold and the second mold, and the protruding portion is brought into contact with only the substrate unit other than the lens unit. For manufacturing a wafer level lens array that presses the lens toward the mold release side.
(2) A method for producing a wafer level lens array according to (1) above,
A method of manufacturing a wafer level lens array, wherein the protruding portion includes a plurality of ejector pins, and a tip portion of the protruding direction of the plurality of ejector pins is in contact with only the substrate portion excluding the lens portion.
(3) The method for producing a wafer level lens array according to (1) or (2) above,
A method of manufacturing a wafer level lens array, wherein the protruding portion includes a sleeve having a cylindrical shape, and a tip portion in a protruding direction of the sleeve is brought into contact with only a peripheral edge portion of the substrate portion.
(4) The method for producing a wafer level lens array according to (2) or (3) above,
A method of manufacturing a wafer level lens array, wherein respective positions where the tip portions of the plurality of ejector pins contact the substrate portion are substantially symmetrical with respect to the center of the molded product.
(5) The method for producing a wafer level lens array according to any one of (2) to (4) above,
A method of manufacturing a wafer level lens array, wherein respective positions where the tip portions of the plurality of ejector pins contact the substrate portion are arranged in a circle around the center of the molded product.
(6) The method for producing a wafer level lens array according to any one of (1) to (5), wherein the substrate portion and the plurality of lens portions are made of an ultraviolet curable resin or a thermosetting material. A method for manufacturing a wafer level lens array, which is either a resin or a thermoplastic resin.
(7) A wafer level lens array obtained by the method for producing a wafer level lens array according to any one of (1) to (6) above.
(8) A lens module obtained by dicing the substrate portion of the wafer level lens array according to (7) above and dividing the substrate portion for each lens portion.
(9) The lens module according to (8) above,
A lens module in which a spacer is provided around the lens portion of the substrate portion.
(10) The lens module according to (8) above,
A lens module comprising a plurality of the substrate portions on which the lens portions are formed, wherein the plurality of substrate portions are overlapped with a spacer interposed therebetween.
(11) An imaging unit including the lens module according to (9) or (10),
An image sensor;
A semiconductor substrate provided with the imaging device,
An imaging unit in which the substrate portion and the semiconductor substrate are integrally joined via the spacer.
(12) A wafer level lens array manufacturing apparatus in which a substrate portion and a plurality of lens portions arranged on the substrate portion are formed,
The first type;
A second mold that forms a cavity for molding the substrate section and the plurality of lens sections as an integral molded article by closing the mold with respect to the first mold;
A protrusion that protrudes from one of the first mold and the second mold is provided, and when the molded product is released, the protrusion comes into contact with only the substrate portion other than the lens portion and the molded product. For manufacturing a wafer level lens array that presses the lens toward the mold release side.
(13) The wafer level lens array manufacturing apparatus according to (12) above,
An apparatus for manufacturing a wafer level lens array, wherein the protruding portion includes a plurality of ejector pins, and a tip portion in a protruding direction of the plurality of ejector pins contacts only the substrate portion excluding the lens portion.
(14) The wafer level lens array manufacturing apparatus according to (12) or (13) above,
An apparatus for manufacturing a wafer level lens array, wherein the protruding portion includes a sleeve having a cylindrical shape, and a tip portion of the sleeve in a protruding direction contacts only a peripheral edge portion of the substrate portion.
(15) The wafer level lens array manufacturing apparatus according to (13) or (14) above,
An apparatus for manufacturing a wafer level lens array, wherein the respective positions where the tip portions of the plurality of ejector pins contact the substrate portion are substantially symmetrical with respect to the center of the molded product.
(16) The wafer level lens array manufacturing apparatus according to any one of (13) to (15) above,
An apparatus for manufacturing a wafer level lens array, wherein respective positions where the tip portions of the plurality of ejector pins contact the substrate portion are arranged in a circle around the center of the molded product.

上記ウェハレベルレンズアレイの製造方法及び製造装置は、デジタルカメラ、内視鏡装置、携帯型電子機器等の撮像部に設けられる撮像レンズを製造する際に適用することができる。   The method and apparatus for manufacturing a wafer level lens array can be applied when manufacturing an imaging lens provided in an imaging unit such as a digital camera, an endoscope apparatus, or a portable electronic device.

1 基板部
10 レンズ
12 上型
14 下型
18 エジェクタピン
22 スリーブ
1 Substrate 10 Lens 12 Upper Die 14 Lower Die 18 Ejector Pin 22 Sleeve

Claims (16)

基板部と、該基板部に配列された複数のレンズ部とが形成されたウェハレベルレンズアレイの製造方法であって、
第1型と第2型で前記基板部と前記複数のレンズ部とを一体の成形物として成形する工程と、
前記成形物を離型する工程と、を有し、
前記成形物を離型する工程において、前記第1型及び前記第2型のうち一方から突出部を突出させ、前記突出部を前記レンズ部以外の前記基板部のみに当接させつつ前記成形物を離型する側へ押圧するウェハレベルレンズアレイの製造方法。
A method for manufacturing a wafer level lens array in which a substrate portion and a plurality of lens portions arranged on the substrate portion are formed,
Forming the substrate part and the plurality of lens parts as an integral molded product with the first mold and the second mold;
A step of releasing the molded product,
In the step of releasing the molded product, the molded product is caused to protrude from one of the first mold and the second mold, and the protruding portion is brought into contact with only the substrate unit other than the lens unit. For manufacturing a wafer level lens array that presses the lens toward the mold release side.
請求項1に記載のウェハレベルレンズアレイの製造方法であって、
前記突出部が複数のエジェクタピンを含み、前記複数のエジェクタピンの突出する方向の先端部を、前記レンズ部を除く前記基板部のみに当接させるウェハレベルレンズアレイの製造方法。
A method of manufacturing a wafer level lens array according to claim 1,
A method of manufacturing a wafer level lens array, wherein the protruding portion includes a plurality of ejector pins, and a tip portion of the protruding direction of the plurality of ejector pins is in contact with only the substrate portion excluding the lens portion.
請求項1又は2に記載のウェハレベルレンズアレイの製造方法であって、
前記突出部が円筒形状を有するスリーブを含み、前記スリーブの突出する方向の先端部を、前記基板部における周縁部のみに当接させるウェハレベルレンズアレイの製造方法。
A method for producing a wafer level lens array according to claim 1 or 2,
A method of manufacturing a wafer level lens array, wherein the protruding portion includes a sleeve having a cylindrical shape, and a tip portion in a protruding direction of the sleeve is brought into contact with only a peripheral edge portion of the substrate portion.
請求項2又は3に記載のウェハレベルレンズアレイの製造方法であって、
前記複数のエジェクタピンの先端部と前記基板部とが当接するそれぞれの位置が、前記成形物の中心に対してほぼ対称となるウェハレベルレンズアレイの製造方法。
A method for producing a wafer level lens array according to claim 2 or 3,
A method of manufacturing a wafer level lens array, wherein respective positions where the tip portions of the plurality of ejector pins contact the substrate portion are substantially symmetrical with respect to the center of the molded product.
請求項2から4のうちいずれか1つに記載のウェハレベルレンズアレイの製造方法であって、
前記複数のエジェクタピンの先端部と前記基板部とが当接するそれぞれの位置が、前記成形物の中心を囲って円状に配列されているウェハレベルレンズアレイの製造方法。
A method for producing a wafer level lens array according to any one of claims 2 to 4,
A method of manufacturing a wafer level lens array, wherein respective positions where the tip portions of the plurality of ejector pins contact the substrate portion are arranged in a circle around the center of the molded product.
請求項1から5のいずれか1つに記載のウェハレベルレンズアレイの製造方法であって、前記基板部及び前記複数のレンズ部の材料が紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のうちいずれかであるウェハレベルレンズアレイの製造方法。   6. The method of manufacturing a wafer level lens array according to claim 1, wherein the substrate part and the plurality of lens parts are made of an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, or a thermoplastic resin. A method for manufacturing a wafer level lens array, which is one of them. 請求項1から6のいずれか1つに記載のウェハレベルレンズアレイの製造方法によって得られたウェハレベルレンズアレイ。   A wafer level lens array obtained by the method for manufacturing a wafer level lens array according to claim 1. 請求項7に記載の前記ウェハレベルレンズアレイの前記基板をダイシングして、前記レンズ部ごとに分断してなるレンズモジュール。   The lens module formed by dicing the said board | substrate of the said wafer level lens array of Claim 7, and dividing | segmenting for every said lens part. 請求項8に記載のレンズモジュールであって、
前記基板部の前記レンズ部の周囲にスペーサが設けられたレンズモジュール。
The lens module according to claim 8, wherein
A lens module in which a spacer is provided around the lens portion of the substrate portion.
請求項8に記載のレンズモジュールであって、
前記レンズ部が形成された前記基板部を複数備え、複数の前記基板部同士がそれら間にスペーサを挟んで重ね合わされたレンズモジュール。
The lens module according to claim 8, wherein
A lens module comprising a plurality of the substrate portions on which the lens portions are formed, wherein the plurality of substrate portions are overlapped with a spacer interposed therebetween.
請求項9又は10に記載のレンズモジュールを備えた撮像ユニットであって、
撮像素子と、
前記撮像素子が設けられた半導体基板とを備え、
前記基板部と前記半導体基板とが、前記スペーサを介して一体に接合された撮像ユニット。
An imaging unit comprising the lens module according to claim 9 or 10,
An image sensor;
A semiconductor substrate provided with the imaging device,
An imaging unit in which the substrate portion and the semiconductor substrate are integrally joined via the spacer.
基板部と、該基板部に配列された複数のレンズ部とが形成されたウェハレベルレンズアレイの製造装置であって、
第1型と、
前記第1型に対して型閉じすることで、前記基板部と前記複数のレンズ部とを一体の成形物として成形するためのキャビティを形成する第2型と、
前記第1型及び前記第2型のうち一方から突出する突出部を備え、前記成形物を離型するときに、前記突出部が前記レンズ部以外の前記基板部のみに当接して前記成形物を離型する側へ押圧するウェハレベルレンズアレイの製造装置。
A wafer level lens array manufacturing apparatus in which a substrate portion and a plurality of lens portions arranged on the substrate portion are formed,
The first type;
A second mold that forms a cavity for molding the substrate section and the plurality of lens sections as an integral molded article by closing the mold with respect to the first mold;
A protrusion that protrudes from one of the first mold and the second mold is provided, and when the molded product is released, the protrusion comes into contact with only the substrate portion other than the lens portion and the molded product. For manufacturing a wafer level lens array that presses the lens toward the mold release side.
請求項12に記載のウェハレベルレンズアレイの製造装置であって、
前記突出部が複数のエジェクタピンを含み、前記複数のエジェクタピンの突出する方向の先端部が、前記レンズ部を除く前記基板部のみに当接するウェハレベルレンズアレイの製造装置。
An apparatus for manufacturing a wafer level lens array according to claim 12,
An apparatus for manufacturing a wafer level lens array, wherein the protruding portion includes a plurality of ejector pins, and a tip portion in a protruding direction of the plurality of ejector pins contacts only the substrate portion excluding the lens portion.
請求項12又は13に記載のウェハレベルレンズアレイの製造装置であって、
前記突出部が円筒形状を有するスリーブを含み、前記スリーブの突出する方向の先端部が、前記基板部における周縁部のみに当接するウェハレベルレンズアレイの製造装置。
The wafer level lens array manufacturing apparatus according to claim 12 or 13,
An apparatus for manufacturing a wafer level lens array, wherein the protruding portion includes a sleeve having a cylindrical shape, and a tip portion of the sleeve in a protruding direction contacts only a peripheral edge portion of the substrate portion.
請求項13又は14に記載のウェハレベルレンズアレイの製造装置であって、
前記複数のエジェクタピンの先端部と前記基板部とが当接するそれぞれの位置が、前記成形物の中心に対してほぼ対称となるウェハレベルレンズアレイの製造装置。
The apparatus for producing a wafer level lens array according to claim 13 or 14,
An apparatus for manufacturing a wafer level lens array, wherein the respective positions where the tip portions of the plurality of ejector pins contact the substrate portion are substantially symmetrical with respect to the center of the molded product.
請求項13から15のうちいずれか1つに記載のウェハレベルレンズアレイの製造装置であって、
前記複数のエジェクタピンの先端部と前記基板部とが当接するそれぞれの位置が、前記成形物の中心を囲って円状に配列されているウェハレベルレンズアレイの製造装置。
The wafer level lens array manufacturing apparatus according to any one of claims 13 to 15,
An apparatus for manufacturing a wafer level lens array, wherein respective positions where the tip portions of the plurality of ejector pins contact the substrate portion are arranged in a circle around the center of the molded product.
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