JP2010262279A - コアシェル疎水性中間転写コンポーネント - Google Patents

コアシェル疎水性中間転写コンポーネント Download PDF

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Abstract

【課題】優れた転写性能を有する溶接可能な中間転写ベルトを提供する。
【解決手段】コアが金属酸化物で構成され、シェルがシリカで構成されるコアシェル成分を含む基材で構成されることを特徴とする中間転写ベルト。
【選択図】なし

Description

中間転写部材、より具体的にはデジタル・イメージ・オン・イメージなどを含む静電写真式機械、例えば電子写真式印刷機、機械又は装置において現像された画像を転写するのに有用な中間転写部材を開示する。実施形態において、金属酸化物コア及びシリカシェルで構成されるコアシェル成分を含む中間転写部材が選択され、ここで、中間転写部材はコアシェル成分を含み、そのシェルはシラザンにより疎水性処理されており、より具体的には金属酸化物を含むコア及びシリカシェルで構成され、そのシェルにはシラザンが添加され、またさらに得られた疎水化されたコアシェル成分は、優れた抵抗率、優れた画像転写及び許容可能な耐擦傷性を可能にする疎水性表面、並びに、例えば部材の撥水特性による優れた電気的安定性及び寸法安定性のような多数の利点を有する。
トナー画像が画像形成部材と中間転写部材の間の電位差によって静電的に転写される静電写真式印刷機において、トナー粒子の中間転写部材への転写及びその保持は、最終的に受像基材に転写される画像が高解像度を有するように実質的に完全でなければならない。画像を構成する大部分又は全てのトナー粒子が転写され、画像をそこから転写させた表面にはほとんど残留トナーが残らないときに実質的に100%のトナー転写が生じる。
中間転写部材の利点としては、適度なプロセス速度での高い処理量を可能にすること、1つ又はそれ以上の転写ステーションを用いた1つ又はそれ以上のカラー成分の同時現像を利用するカラーシステムにおいて最終カラートナー画像の位置合せを改善すること、及び使用できる最終基材の範囲を拡大することが挙げられる。しかし、中間転写部材を用いることの欠点は、通常、複数の転写段階を必要とし、トナー粒子と転写部材の間に電荷交換が生じる可能性があり、これが、最終的には不完全なトナー転写をもたらす可能性がある。これは、受像基材上に低解像度の画像を生じ、また画像劣化を生じる。画像がカラーである場合、画像はさらに、多数の転写停止に伴うカラーシフト及び退色を生じる可能性がある。
実施形態において、中間転写部材の抵抗率は十分な転写を可能にする範囲内にある。また、中間転写部材は制御された抵抗率を有し、この抵抗率が湿度、温度、バイアス磁場、及び操作時間の変化によって事実上影響を受けないことが望ましい。さらに、制御された抵抗率は、静電転写のためにバイアス磁場を確立できるようにするのに有用である。また、中間転写部材は空気絶縁破壊を起こす可能性があるので、伝導性が高過ぎないことも有益である。
特許文献1には、ポリイミド中間転写部材層内でのフッ素化炭素充填剤の使用を開示している。しかし、これらの部材に関連する欠点があり、例えば未溶解粒子が異常発生し又はポリマー層の表面に移動することが多く、これが不均一な抵抗率特性をもたらし、次にこれが帯電防止特性を劣化させ、機械的強度特性を低下させる。また、ベルト表面に存在するイオン添加剤が、トナーの放出を妨害する可能性があり、そして泡が伝導性ポリマー層内に現れる可能性があり、その一部は顕微鏡によってのみ観察でき、残りは裸眼で観測されるほど十分に大きく、結果として不十分な又は不均一な電気的特性及び不十分な機械的特性を生じる。
さらに、イオン添加剤自体が、温度、湿度及び操作時間の変化に敏感である。こうした敏感さは、抵抗率の範囲を限定することが多い。例えば、抵抗率は、通常、湿度が相対湿度で約20%から80%に増大すると2桁又はそれ以上低下する。この影響は中間転写部材の操作又はプロセス許容度を制限する。
従って、優れた転写性能を有する溶接可能な中間転写ベルトを含む中間転写部材を提供することが望ましい。また、パズル・カット・シームを含まず、代わりに溶接可能なシームを有し、それによって、例えば指を使ってパズル・カット・シームどうしを手で繋ぎ合せるような労働集約型の工程なしに、また長期にわたる高温及び高湿度調整工程を必要とせずに製造できるベルトを提供する溶接可能な中間転写ベルトを提供することが望ましい。また、カラー複写機用の許容可能な外周が溶接可能なベルトを提供することが望ましい。
特許文献2には、総固形分の約2乃至約25重量%の量の、約0.5乃至約5ミクロンの粒径を有するポリアニリン、及び総固形分の約75乃至約98重量%の量で存在する熱可塑性ポリイミドを含む均質な組成物を含む基材を含む溶接可能な中間転写ベルトが説明されている。
特許文献3には、総固形分の約2乃至約25重量%の量の、約0.5乃至約5ミクロンの粒径を有するポリアニリン、及び総固形分の約75乃至約98重量%の量の熱可塑性ポリイミドを含む均質な組成物を含む基材を含む溶接可能な中間転写ベルトが説明されている。
ポリイミド中にポリアニリン充填剤を使用することが特許文献4に開示されている。この特許は、例えばポリアニリンで充填されたポリイミドのパズル・カット・シームド・ベルトを開示している。
米国特許第6,397,034号明細書 米国特許第7,130,569号明細書 米国特許第7,280,791号明細書 米国特許第6,602,156号明細書
本開示の範囲内には、コアが金属酸化物で構成され、シェルがシリカで構成されるコアシェル成分を含む基材を備えた中間転写ベルトと、金属酸化物コア、及びそのコアを覆い、トリアルキル−N−(トリアルキルシリル)−シランアミンを含むシリカシェルで構成される疎水性の中間転写媒体と、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アルミニウム亜鉛、二酸化アンチモンチタン、酸化アンチモンスズ、酸化インジウム、酸化インジウムスズ、又はこれらの混合物である金属酸化物コア、及びそのコアを覆い、さらに疎水性添加剤を含むシリカで構成されたシェルを含む中間転写部材と、コアシェル成分、より具体的には、コアが例えば金属酸化物で構成され、シェルが修飾シリカシェルで構成される疎水化コアシェルを含む基材を備えた中間転写ベルト及びベルト以外の中間部材と、コア及びそのコアを覆い、シラザン含有のシリカで構成されるシェルを含む基材を備え、このコアシェルは約30乃至約100m2/gのBET比表面積を有する、中間転写媒体とが含まれ、さらに本開示には、静電潜像を受け取る電荷保持面と、電荷保持面にトナーを塗布して静電潜像を現像し、電荷保持面上に現像された画像を形成するための現像要素と、現像された画像を電荷保持面から基材に転写するための中間転写ベルトとを備えた、記録媒体上に画像を形成するための装置が含まれ、ここで、この中間転写ベルトはその上に伝導性コアシェル成分を含み、そのシェルは多数の適切なシリカから成る群から選択され、このシェルはシラザンなどの疎水性物質を含有し、コアは金属酸化物で構成される。
さらに、本開示は、実施形態において、静電潜像を受け取る電荷保持面、電荷保持面にトナーを塗布して静電潜像を現像し、電荷保持面に現像された画像を形成するための現像要素、現像された画像を電荷保持面から基材に転写するための溶接可能な、本明細書で説明する中間転写ベルト、及び定着要素を備えた、記録媒体上に画像を形成するための装置を提供する。
実施形態において、コアシェル成分は金属酸化物コアと、シリカなどのシェルとで構成され、さらにこのシェルはシラザン、フルオロシラン、ポリシロキサンなどにより疎水化されている。実施形態において、金属酸化物又はドープされた金属酸化物は、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、アルミニウムドープ酸化亜鉛、アンチモンドープ二酸化チタン、アンチモンドープ酸化スズ、酸化インジウム、酸化インジウムスズ、類似のドープされた酸化物、及びこれらの混合物から成る群から選択することができる。
具体的なシラザンの例は、次の構造式/化学式で表される、ヘキサメチルジシラザン[1,1,1−トリメチル−N−(トリメチルシリル)−シランアミン]、2,2,4,4,6,6−ヘキサメチルシクロトリシラザン、1,3−ジエチル−1,1,3,3−テトラメチルジシラザン、1,1,3,3−テトラメチル−1,3−ジフェニルジシラザン、及び1,3−ジメチル−1,1,3,3−テトラフェニルジシラザンである。
Figure 2010262279
具体的なフルオロシランの例は、C613CH2CH2OSi(OCH33、C817CH2CH2OSi(OC253など、及びこれらの混合物である。
具体的なポリシロキサンの例は、2,4,6,8−テトラメチルシクロテトラシロキサン、2,4,6,8,10−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、2,4,6−トリメチル−2,4,6−トリフェニルシクロトリシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、オクタフェニルシクロテトラシロキサンなど、及びこれらの混合物である。コアシェルの具体的な例は、EVONIK Industries(ドイツ、フランクフルト)から市販されているVP STX801(BET比表面積=40乃至70m2/g)と呼ばれるものである。VP STX801充填剤は、二酸化チタンコア(85重量%)及びシリカシェル(15重量%)を含み、このシェルは1,1,1−トリメチル−N−(トリメチルシリル)−シランアミン又はヘキサメチルジシラザンにより疎水修飾されている。
一般に、金属酸化物コアは、約50乃至約99重量%、約65乃至約95重量%、約80乃至約90重量%、さらにより具体的には約85重量%の量で選択され、シェルは、約1乃至約50重量%、約5乃至約35重量%、より具体的には約15重量%の量で存在する。シェルを化学的に処理する成分は、例えば約0.1乃至約40重量%、約1乃至約30重量%、又は約10乃至約20重量%のような種々の有効な量で選択することができる。より具体的には、化学的な処理に用いるか又はシェルに添加する疎水性成分としては、例えばシラザン、フルオロシラン及びポリシロキサンが挙げられ、その化学的な処理剤は、例えば約1乃至約15重量%、約1乃至約10重量%、約0.1乃至約12重量%の量、及びシェルに対して選択される量に応じて他の適切な量で選択される。実施形態において、コアシェル粒子は、約10乃至約200m2/g、約30乃至約100m2/g、又は約40乃至約70m2/gのBET比表面積を有する。
コアシェル充填剤又は成分は、例えば、中間転写部材成分に基づいて約3乃至約60重量%、約1乃至約50重量%、又は約20乃至約40重量%の量で存在する。
実施形態において、コアシェル充填材は、ビスフェノール−A-ポリカーボネート/塩化メチレン(CH2Cl2)溶液に分散させることができ、次いで分散液を、例えば約3.5milの既知の厚さを有する二軸延伸ポリ(エチレンナフタレート)(PEN)基材(KALEDEX(登録商標)2000)の上に、既知のドロー・バー・コーティング方法を用いて塗布又はコーティングすることができる。得られたフィルムは、PEN基材上に留めたまま、高温、例えば約100℃乃至約200℃、又は約120℃乃至約160℃において、十分な時間、例えば約1乃至約30分間、又は約5乃至約15分間乾燥することができる。乾燥し、約23℃乃至約25℃の室温に冷却した後、PEN基材上のフィルム又は別々のPEN基材上の複数のフィルムは、基材から自動的に剥離し、本明細書で開示される機能性中間転写部材が得られる。
本開示のコアシェル生成物成分は、通常、多くの材料、例えばポリアミック酸溶液及びポリイミド前駆体と共に分散液を形成する。穏やかな機械的攪拌を行い、均一な分散液を得ることができ、次いでドロー・バー・コーティング方法を用いてガラス板上にコーティングすることができる。得られたフィルムは、ガラス板上にフィルムを留めたまま、例えば約100℃乃至約400℃において約20乃至約180分間加熱することによって乾燥することができる。乾燥し室温まで冷却した後、ガラス上のフィルムは、一晩、約18乃至23時間水に浸し、その後約50乃至約150ミクロン厚のフィルムをガラスから剥離して機能性中間転写部材を形成することができる。
コアシェルを分散させるのに選択される適切なポリアミック酸溶液(ポリイミド前駆体)の例としては、低温かつ急速硬化ポリイミドポリマー、例えば全てRichard Blaine International社(ペンシルベニア州レディング)から入手可能なVTEC(登録商標)PI1388、080−051、851、302、203、201及びPETI−5(登録商標)が挙げられる。熱硬化性ポリイミドは、低い温度、より具体的には約180℃乃至約260℃において、短時間、例えば約10乃至約120分間、又は約20乃至約60分間で硬化し、例えば約5,000乃至約500,000、又は約10,000乃至約100,000の数平均分子量、及び、例えば約50,000乃至約5,000,000又は約100,000乃至約1,000,000の重量平均分子量を有する。VTEC(登録商標)PIポリイミド前駆体より高温(300℃以上)で硬化し選択することができる熱硬化性ポリイミド前駆体としては、全てIndustrial Summit Technology社(ニュージャージー州パーリン)から市販されているPYRE-M.L(登録商標)RC-5019、RC-5057、RC−5069、RC−5097、RC−5053、及びRK−692、並びに、両方ともにUnitech LLC(バージニア州ハンプトン)から市販されているRP−46及びRP−50、FUJIFILM Electronic Materials U.S.A.社(ロードアイランド州ノースキングスタウン)から市販されているDURIMIDE(登録商標)100、並びにE.I.DuPont(デラウェア州ウィルミントン)から市販されているKAPTON(登録商標)HN、VN及びFNが挙げられる。
本開示のコアシェルはまた、熱可塑性材料、例えばポリイミド、ポリアラミド、ポリフタルアミド、フッ素化ポリイミド、ポリイミドスルホンポリカーボネート、ポリアミドイミド(PAI)、ポリスルホン、ポリエーテルイミド、ポリ(エチレンテレフタレート)(PET)、ポリ(エチレンナフタレート)(PEN)、ポリ(ブチレンテレフタレート)(PBT)、ポリビニリデンフルオライド(PVDF)、ポリエチレン−co−ポリテトラフルオロエチレン、及び/又はそれらの混合物の中に組み入れることができる。
選択されるポリイミドは、プレポリマー溶液、例えばポリアミック酸又はポリアミック酸のエステルから合成することができ、或は二無水物とジアミンの反応によって合成することができる。適切な二無水物には、芳香族二無水物及び芳香族テトラカルボン酸二無水物、例えば9,9−ビス(トリフルオロメチル)キサンテン−2,3,6,7−テトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス−(3,4−ジカルボキシフェニル)−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2−ビス((3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル)−ヘキサフルオロプロパン二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシ−2,5,6−トリフルオロフェノキシ)オクタフルオロビフェニル二無水物、3,3’,4,4’−テトラカルボキシビフェニル二無水物、3,3’,4,4’−テトラカルボキシベンゾフェノン二無水物、ジ−(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル)−エーテル二無水物、ジ−(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル)スルフィド二無水物、ジ−(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ジ−(3,4−ジカルボキシフェニル)−エーテル二無水物、1,2,4,5−テトラカルボキシベンゼン二無水物、1,2,4−トリカルボキシベンゼン二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、1,2,3,4−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−アントラセンテトラカルボン酸二無水物、1,2,7,8−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロプロパン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4’−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4’−ジフェニルスルフィドジオキシビス(4−フタル酸)二無水物、4,4’−ジフェニルスルホンジオキシビス(4−フタル酸)二無水物、メチレンビス(4−フェニレンオキシ−4−フタル酸)二無水物、エチリデンビス(4−フェニレンオキシ−4−フタル酸)二無水物、イソプロピリデンビス−(4−フェニレンオキシ−4−フタル酸)二無水物、ヘキサフルオロイソプロピリデンビス−(4−フェニレンオキシ−4−フタル酸)二無水物などが含まれる。ポリイミドの調製に用いるのに適した代表的なジアミンには、芳香族ジアミン、例えば、4,4’−ビス−(m−アミノフェノキシ)−ビフェニル、4,4’−ビス−(m−アミノフェノキシ)−ジフェニルスルフィド、4,4’−ビス−(m−アミノフェノキシ)−ジフェニルスルホン、4,4’−ビス−(p−アミノフェノキシ)−ベンゾフェノン、4,4’−ビス−(p−アミノフェノキシ)−ジフェニルスルフィド、4,4’−ビス−(p−アミノフェノキシ)−ジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノアゾベンゼン、4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノ−p−ターフェニル、1,3−ビス−(γ−アミノプロピル)−テトラメチル−ジシロキサン、1,6−ジアミノヘキサン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、1,3−ジアミノベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ジアミノベンゼン、4,4’−ジアミノ−2,2’,3,3’,5,5’,6,6’−オクタフルオロビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’,3,3’,5,5’,6,6’−オクタフルオロフェニルエーテル、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,1−ジ(p−アミノフェニル)エタン、2,2−ジ(p−アミノフェニル)プロパン、及び2,2−ジ(p−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンが含まれる。二無水物及びジアミンは、通常、ジアミンに対する二無水物の重量比が約20:80乃至約80:20となるように、又は約50:50の重量比に選択される。
実施形態において、ポリイミドは、二無水物及びジアミンを例えば混合物として又は別々に有機溶媒中に懸濁又は溶解させ、反応させてポリアミック酸を形成し、それを熱的又は化学的に脱水し、続いて生成物を分離して精製することにより調製することができる。ポリイミドは、既知の押出成形機を用いて熱融解させ、スリットノズルを有するダイからフィルムの形態で送出し、静電荷をフィルムに印加し、このフィルムを、ポリマーのガラス転移温度(Tg)、(Tg)−50℃〜(Tg)−15℃の範囲の表面温度を有する冷却ローラにより冷却して固化し、フィルムをさらに室温まで冷却させる際にローラと接触しないように引っ張りながら送り、巻き取るか又はさらなる工程に移動させる。
選択される多数のポリイミドは、完全にイミド化したポリマーとして調製でき、これは実質的に「アミック」酸を含まず、イミド形に転化するのに高温硬化を必要としない。この型の典型的なポリイミドは、ジ−(2,3−ジカルボキシフェニル)−エーテル二無水物と5−アミノ−1−(p−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルインダンとを反応させることによって調製できる。このポリマーは、Ciba−Geigy社(ニューヨーク州アーズリー)から販売されるPolyimide XU218として入手可能である。幾つかの完全にイミド化されたポリイミドは、米国のLenzing社(テキサス州ダラス)から販売されるLenzingP83ポリイミドとして入手可能であり、Larc−TP1として三井東圧化学(ニューヨーク州ニューヨーク)から販売されている。
具体的な選択された熱可塑性ポリイミド結合剤の例は、xを2とし、yを2とし、m及びnを約10乃至約300とする次式で表される、E.I.DuPont(デラウェア州ウィルミントン)から市販されているKAPTON((登録商標)KJ、
Figure 2010262279
並びに、zを1とし、qを約10乃至約300とする次式で表される、West Lake Plastic社から市販されているIMIDEX(登録商標)である。
Figure 2010262279
選択されるポリカーボネートの例としては、ポリ(4,4’−イソプロピリデン−ジフェニレン)カーボネート(ビスフェノール−A−ポリカーボネートとも称される)、ポリ(4,4’−シクロヘキシリデンジフェニレン)カーボネート(ビスフェノール−Z−ポリカーボネートとも称される)、ポリ(4,4’−イソプロピリデン−3,3’−ジメチル−ジフェニル)カーボネート(ビスフェノール−C−ポリカーボネートとも称される)などが挙げられる。実施形態において、中間転写部材結合剤は、例えば重量平均分子量が約50,000乃至約500,000である、MAKROLON(登録商標)として市販されているビスフェノール−A−ポリカーボネート樹脂で構成される。
中間転写部材内に存在する付加的な成分の例は、例えば、約3乃至約20重量%の量で存在する多数の既知の伝導性成分、例えばポリアニリン及びカーボンブラックなどである。実施形態において、ポリアニリン成分は、例えば約0.5乃至約5、約1.1乃至約2.3、約1.2乃至約2、約1.5乃至約1.9、又は約1.7ミクロンの比較的小さい粒径を有する。
ITBのような転写部材用に選択されるポリアニリンの具体的な例は、Panipol Oy(フィンランド)から市販されているPANIPOL(商標)F、及びリグノスルホン酸グラフトポリアニリンである。
中間転写部材のカーボンブラックの例としては、Cabot社から入手可能な、VULCAN(登録商標)カーボンブラック、REGAL(登録商標)カーボンブラック、及びBLACK PEARLS(登録商標)カーボンブラックが挙げられる。伝導性カーボンブラックの具体例は、BLACK PEARLS(登録商標)1000(BET比表面積=343m2/g、DBP吸収量=105ml/g)、BLACK PEARLS(登録商標)880(BET比表面積=240m2/g、DBP吸収量=106ml/g)、BLACK PEARLS(登録商標)800(BET比表面積=230m2/g、DBP吸収量=68ml/g)、BLACK PEARLS(登録商標)L(BET比表面積=138m2/g、DBP吸収量=61ml/g)、BLACK PEARLS(登録商標)570(BET比表面積=110m2/g、DBP吸収量=114ml/g)、BLACK PEARLS(登録商標)170(BET比表面積=35m2/g、DBP吸収量=122ml/g)、VULCAN(登録商標)XC72(BET比表面積=254m2/g、DBP吸収量=176ml/g)、VULCAN(登録商標)XC72R(VULCAN(登録商標)XC72の綿毛状形態)、VULCAN(登録商標)XC605、VULCAN(登録商標)XC305、REGAL(登録商標)660(BET比表面積=112m2/g、DBP吸収量=59ml/g)、REGAL(登録商標)400(BET比表面積=96m2/g、DBP吸収量=69ml/g)、及びREGAL(登録商標)330(BET比表面積=94m2/g、DBP吸収量=71ml/g)が挙げられる。カーボンブラック内の空隙によるジブチルフタレート(DBP)吸収量は、カーボンブラックの構造を評価するのに用いられる。構造がより高度であると、空隙が多くなり、DBP吸収量が大きくなる。
実施形態において、ドープされた金属酸化物とは、例えば少なくとも2つの金属を含む混合金属酸化物を指す。従って、例えば、酸化アンチモンスズは、約50%に等しいか又はそれ以下の酸化アンチモンを含み、残りは酸化スズであり、酸化スズアンチモンは、約50%に等しいか又はそれ以下の酸化スズを含み、残りは酸化アンチモンである。
一般に、実施形態において、コアの酸化アンチモンスズは、SbxSnyz(xは、例えば約0.02乃至約0.98であり、yは約0.51乃至約0.99であり、zは約2.01乃至約2.49である)によって表すことができ、より具体的にはこの酸化物は、約1乃至約49%のSb23、及び約51乃至約99%のSnO2で構成される。実施形態において、xは約0.40乃至約0.90であり、yは約0.70乃至約0.95であり、zは約2.10乃至約2.35であり、より具体的にはxは約0.75であり、yは約0.45であり、zは約2.25であり、ここでコアは約1乃至約49%の酸化アンチモン及び約51乃至約99%の酸化スズで構成され、約15乃至約35%の酸化アンチモン及び約85乃至約65%の酸化スズで構成され、それらの総量は約100%であり、或は、約40%の酸化アンチモン及び約60%の酸化スズで構成され、それらの総量は約100%である。
本明細書で開示された中間転写部材の表面抵抗率は、例えば約109乃至約1013ohm/sq、又は約1010乃至約1012ohm/sqである。開示された中間転写溶接可能部材のシート抵抗率は、例えば約109乃至約1013ohm/sq、又は約1010乃至約1012ohm/sqである。
中間転写部材は、いずれかの適切な構成にすることができる。適切な構成の例には、シート、フィルム、ウェブ、箔、ストリップ、コイル、シリンダー、ドラム、エンドレスストリップ、円形ディスク、エンドレスベルトを含むベルト、及びエンドレス・シームド・フレキシブル・ベルトが含まれる。1乃至2又はそれ以上の層のベルト構成の外周は、例えば約250乃至約2,500ミリメートル、約1,500乃至約2,500ミリメートル、又は約2,000乃至約2,200ミリメートルである。フィルム又はベルトの幅は、例えば約100乃至約1,000ミリメートル、約200乃至約500ミリメートル、又は約300乃至約400ミリメートルである。
本明細書で説明する、中間転写ベルトのような中間転写部材は、電子写真式印刷を含む多数の印刷及び複写システムに対して選択することができる。例えば、開示された中間転写部材は、転写される各画像が画像形成ステーションの画像形成又は感光体ドラム上に形成される多重画像形成システムに組み込むことができ、この場合、これらの画像の各々は次いで現像ステーションにおいて現像され、中間転写部材に転写される。画像は、感光体上に形成し、順次現像し、次いで中間転写部材に転写することができる。代替的な方法において、各画像は、感光体又は光受容ドラム上に形成し、現像し、中間転写部材に位置決めして転写することができる。実施形態において、多重画像システムはカラー複写システムであり、この場合、複写される画像の各色は光受容ドラム上に形成され、現像され、中間転写部材に転写される。
トナー潜像を光受容ドラムから中間転写部材に転写した後、中間転写部材を、熱及び圧力下において紙のような受像基材と接触させることができる。中間転写部材上のトナー像は、次いで紙のような基材に、画像構成において転写し定着させる。
本明細書で説明する画像形成システム及び他の既知の画像形成及び印刷システムの内部に存在する中間転写部材は、シート、ウェブ、エンドレスベルト、エンドレス・シームド・フレキシブル・ベルト、及びエンドレス・シームド・フレキシブル・ベルトを含むベルト、ローラ、フィルム、箔、ストリップ、コイル、シリンダー、ドラム、エンドレスストリップ及び円形ディスクの構成にすることができる。中間転写部材は、単一層又は幾つかの層、例えば、約2乃至約5層で構成することができる。実施形態において、中間転写部材はさらに、外側剥離層を含む。
コアシェルの上に位置し、これと層状に接触する剥離層の例としては、低表面エネルギー材料、例えばフッ素化エチレンプロピレンコポリマー(FEP)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリフルオロアルコキシポリテトラフルオロエチレン(PFATEFLON(登録商標))及び他のTEFLON(登録商標)類似材料を含むTEFLON(登録商標)類似材料、シリコーン材料、例えばフルオロシリコーン及びシリコーン・ラバー、例えばSampson Coatings(バージニア州リッチモンド)から入手可能なシリコーン・ラバー552(ポリジメチルシロキサン/ジブチル錫ジアセテート、ポリジメチルシロキサン・ラバー混合物100グラム当り0.45グラムのDBTDA、約3,500の分子量Mw)、及び、フルオロエラストマー、例えばVITON(登録商標)として販売されるもの、例えばVITON(登録商標)A、VITON(登録商標)E、VITON(登録商標)E60C、VITON(登録商標)E45、VITON(登録商標)E430、VITON(登録商標)B910、VITON(登録商標)GH、VITON(登録商標)B50、VITON(登録商標)E45及びVITON(登録商標)GFのような種々の名称で市販されている、既知のビニリデンフルオライド、ヘキサフルオロプロピレン、及びテトラフルオロエチレンのコポリマー及びターポリマーである。VITON(登録商標)は、E.I.DuPont de Nemours社の登録商標である。2つの既知のフルオロエラストマーは、(1)VITON(登録商標)Aとして市販の既知のビニリデンフルオライド、ヘキサフルオロプロピレン、及びテトラフルオロエチレンのコポリマーの類、(2)VITON(登録商標)Bとして市販の既知のビニリデンフルオライド、ヘキサフルオロプロピレン、及びテトラフルオロエチレンのターポリマーの類、並びに、(3)35モル%のビニリデンフルオライド、34モル%のヘキサフルオロプロピレン、及び29モル%のテトラフルオロエチレン並びに2%の硬化部位モノマーを有するVITON GF(登録商標)のようなビニリデンフルオライド、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、及び硬化部位モノマーのテトラポリマーの類を含む。硬化部位モノマーの例は、E.I.Dupont de Nemours社から入手可能な、例えば4−ブロモパーフルオロブテン−1、1,1−ジヒドロ−4−ブロモパーフルオロブテン−1、3−ブロモパーフルオロプロペン−1、1,1−ジヒドロ−3−ブロモパーフルオロプロペン−1、又は他の適切な既知の市販の硬化部位モノマーである。
EVONIK Industriesから市販のコアシェル充填剤VP STX801(BET比表面積は約40乃至70m2/gであり、二酸化チタンコア(85%)及びシリカシェル(15%)を含み、シェルは1,1,1−トリメチル−N−(トリメチルシリル)−シランアミンで疎水修飾され、それを含む)2gを、8グラムのFarbenfabriken Bayer A.G.から市販されている平均分子量が約50,000乃至約100,000のビスフェノール−A−ポリカーボネートMAKROLON(登録商標)5705、及び100グラムの塩化メチレンと混合した。この混合物を2ミリメートルのステンレスショットを用いて、一晩23時間、ボールミル粉砕することにより、均一な分散液を得た。次いで、分散液を、3.5milの厚さを有する二軸延伸ポリ(エチレンナフタレート)(PEN)基材(KALEDEX(商標)2000)の上に、既知のドロー・バー・コーティング方法を用いてコーティングした。得られたフィルムは、PEN基材上に留めたまま約120℃で1分間乾燥させた。乾燥させ室温まで冷却した後、PEN基材上のフィルムは基材から自動的に剥離し、重量比20/80の1,1,1−トリメチル−N−(トリメチルシリル)−シランアミン疎水化二酸化チタンシリカコアシェル充填剤/ポリカーボネートの50ミクロン厚の中間転写部材を得た。
EVONIK Industriesから市販のコアシェル充填剤VP STX801(BET比表面積は約40〜70m2/gであり、二酸化チタンコア(85%)及びシリカシェル(15%)を含み、このシェルは1,1,1−トリメチル−N−(トリメチルシリル)シランアミンで疎水修飾されている)3gを、7グラムのFarbenfabriken Bayer A.G.から市販されている平均分子量が約50,000乃至約100,000のビスフェノール−A−ポリカーボネートMAKROLON(登録商標)5705、及び100グラムの塩化メチレンと混合した。この混合物を2ミリメートルのステンレスショットを用いて、一晩23時間、ボールミル粉砕することにより、均一な分散液を得た。次いで、得られた分散液を、3.5milの厚さを有する二軸延伸ポリ(エチレンナフタレート)(PEN)基材(KALEDEX(商標)2000)の上に、既知のドロー・バー・コーティング方法を用いてコーティングした。得られたフィルムをPEN基材上に留めたまま約120℃で1分間乾燥させた。乾燥させ室温まで冷却した後、PEN基材上のフィルムは基材から自動的に剥離し、重量比30/70の1,1,1−トリメチル−N−(トリメチルシリル)−シランアミン疎水化二酸化チタンコアシリカシェル充填剤/ポリカーボネートの50ミクロン厚の中間転写部材を得た。
1,1,1−トリメチル−N−(トリメチルシリル)−シランアミンの代わりに、2,2,4,4,6,6−ヘキサメチルシクロトリシラザン、1,3−ジエチル−1,1,3,3−テトラメチルジシラザン、1,1,3,3−テトラメチル−1,3−ジフェニルジシラザン、若しくは1,3−ジメチル−1,1,3,3−テトラフェニルジシラザンのシラザン、C613CH2CH2OSi(OCH33、若しくはC817CH2CH2OSi(OC253のフルオロシラン、又は、2,4,6,8−テトラメチルシクロテトラシロキサン、2,4,6,8,10−ペンタメチルシクロペンタシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、2,4,6−トリメチル−2,4,6−トリフェニルシクロトリシロキサン、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、若しくはオクタフェニルシクロテトラシロキサンのポリシロキサンを選択して、実施例2のプロセスを繰り返した。
二酸化チタンコアの代わりに、酸化亜鉛、酸化スズ、アルミニウムドープ酸化亜鉛、アンチモンドープ二酸化チタン、アンチモンドープ酸化スズ、酸化インジウム、又は酸化インジウムスズの金属酸化物を選択して、実施例1のプロセスを繰り返した。
比較例1
テイカ株式会社(日本)から市販の二酸化チタンMT−150AW(BET比表面積は約50m2/gに等しく、表面処理なし)3gを、7グラムのFarbenfabriken Bayer A.G.から市販されている平均分子量が約50,000乃至約100,000のビスフェノール−A−ポリカーボネートMAKROLON(登録商標)5705、及び100グラムの塩化メチレンと混合した。この混合物を2ミリメートルのステンレスショットを用いて、一晩23時間、ボールミル粉砕することにより、均一な分散液を得た。次いで、得られた分散液を、3.5milの厚さを有する二軸延伸ポリ(エチレンナフタレート)(PEN)基材(KALEDEX(商標)2000)の上に、既知のドロー・バー・コーティング方法を用いてコーティングした。得られたフィルムをPEN基材に留めたまま約120℃で1分間乾燥させた。乾燥させ室温まで冷却した後、PEN基材上のフィルムは基材から自動的に剥離し、重量比30/70の二酸化チタン/ポリカーボネートの50ミクロン厚の中間転写部材を得た。
表面抵抗率の測定
比較例1並びに実施例1及び2の上記ITB部材又はデバイスについて、1日後(約24時間後)に、High Resistivity Meter(三菱化学工業株式会社のHiresta−Up MCP−HT450)を用いて、表面抵抗率(種々のスポットにおける4乃至6回の測定の平均値、72°F/65%室内湿度)を測定した。次いで、比較例1及び実施例2のITBデバイスを、経時劣化調査のためにAゾーン(80°F/80%湿度)に順応させ、表面抵抗率を2ヶ月後に再び測定した。結果を表1に示す。
表1
Figure 2010262279
機能性ITBデバイス(実施例1及び2)を得た。このITBの抵抗率はコアシェル充填剤の充填量が増大するにつれて低下した。比較例1の30重量%の二酸化チタンを含むITBデバイスと比較すると、実施例2の30重量%の疎水化シリカ/二酸化チタンのコアシェル充填剤を含むITBデバイスは、1日目では同程度の抵抗率を示した。
ITBの経時劣化に対するストレス環境のAゾーンにおける2カ月の経時劣化後、開示されたITBデバイスの表面抵抗率(Aゾーンにおける2ヶ月経時劣化の実施例2)は0.59桁低下したが、一方Aゾーンでの2ヶ月の経時劣化後の比較例1のITBデバイスの表面抵抗率は1.4桁低下した。開示されたITBデバイスは、主に、疎水化コアシェル充填剤の撥水特性のため、加速された経時劣化によっても電気的により安定であった。
接触角の測定
比較例1及び実施例2のITBデバイスにおける水の前進接触角(脱イオン水中)を、Contact Angle System OCA(Dataphysics Instruments GmbH、モデルOCA15)を用いて、周囲温度(約23℃)において測定した。少なくとも10回の測定を行い、それらの平均値を表2に示す。
表2
Figure 2010262279
開示された実施例3のITBデバイスは、比較例1のITBデバイスよりも20°小さい接触角を示し、この小さい接触角は、比較例1と比べて、トナー転写及び洗浄性を改善すると考えられる。

Claims (4)

  1. コアが金属酸化物で構成され、シェルがシリカで構成されるコアシェル成分を含む基材で構成されることを特徴とする中間転写ベルト。
  2. 前記シェルは疎水性物質を含有し、疎水性物質で化学修飾され、
    前記金属酸化物は、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アルミニウム亜鉛、二酸化アンチモンチタン、酸化アンチモンスズ、酸化インジウム、酸化インジウムスズ、又はこれらの混合物であり、
    前記疎水性物質は、ヘキサメチルジシラザン、2,2,4,4,6,6−ヘキサメチルシクロトリシラザン、1,3−ジエチル−1,1,3,3−テトラメチルジシラザン、1,1,3,3−テトラメチル−1,3−ジフェニルジシラザン、1,3−ジメチル−1,1,3,3−テトラフェニルジシラザン、及びこれらの混合物から成る群から選択されるシラザンであり、
    前記コアシェル成分は、総固形分の重量に基づいて約10乃至約40重量%の量で存在し、随意にさらに、それぞれ総固形分の重量に基づいて約1〜約30重量%の量で存在するポリアニリン、カーボンブラック、及びこれらの混合物のうちの少なくとも1つの伝導性成分を含む、
    ことを特徴とする、請求項1に記載の中間転写ベルト。
  3. 前記基材の上に配置された剥離層をさらに含み、
    前記剥離層は、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフルオロアルコキシポリテトラフルオロエチレン、フルオロシリコーン、ビニリデンフルオライド及びヘキサフルオロプロピレン及びテトラフルオロエチレンのコポリマー又はターポリマー、或は随意にこれらの混合物を含む、
    ことを特徴とする、請求項1に記載の中間転写ベルト。
  4. 前記コアは、SbxSnyzによって表される酸化アンチモンスズで構成され、ここで、xは約0.02乃至約0.98であり、yは約0.51乃至約0.99であり、zは約2.01乃至約2.49であり、前記シリカシェルは疎水性物質を含有し、疎水性物質で化学処理される、
    或は、
    前記コアは、SbxSnyzによって表される酸化アンチモンスズで構成され、ここで、xは約0.40乃至約0.90であり、yは約0.70乃至約0.95であり、zは約2.10乃至約2.35であり、前記シリカシェルは、1,1,1−トリメチル−N−(トリメチルシリル)−シランアミンで処理されたシリカを含む、
    ことを特徴とする、請求項1に記載の中間転写ベルト。
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