JP2010238855A - Method of manufacturing electromagnetic shielding light-transmissive window material, and electromagnetic shielding light-transmissive window material - Google Patents

Method of manufacturing electromagnetic shielding light-transmissive window material, and electromagnetic shielding light-transmissive window material Download PDF

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秀章 竹之内
Hideshi Kotsubo
秀史 小坪
Yoshinori Iwabuchi
芳典 岩淵
Tatsuya Funaki
竜也 船木
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a light-transmissive electromagnetic shielding material having a mesh-like metal conductive layer with superior size precision. <P>SOLUTION: The method of manufacturing an electromagnetic shielding light-transmissive window material includes steps of: forming an anchor coat layer 102 by coating a surface of a transparent base 101 with a composition containing a synthetic resin of ≤20°C in glass transition temperature and curing it; forming a mesh-like preprocessing layer 103 by printing, on the anchor coat layer 102, an electroless plating preprocessing agent containing a mixture of a silane coupling agent and an azole-based compound or a reaction product, and a nobel metal compound in meshes; and forming a mesh-like metal conductive layer 104 on the preprocessing layer 103 through electroless plating processing. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル(PDP)の前面フィルタや、病院などの電磁波シールドを必要とする建築物の窓に用いられ得る貼着用シート等として有用な光透過性電磁波シールド材の製造方法、および前記製造方法により製造された光透過性電磁波シールド材に関する。   The present invention relates to a method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding material useful as a front sheet filter of a plasma display panel (PDP), a sticking sheet or the like that can be used for a window of a building such as a hospital that requires electromagnetic wave shielding, and The present invention relates to a light transmissive electromagnetic wave shielding material manufactured by the manufacturing method.

近年、OA機器や通信機器等の普及にともない、これらの機器から発生する電磁波によりもたらされる人体への影響が懸念されている。また、携帯電話等の電磁波により精密機器の誤作動などを起こす場合もあり、電磁波は問題視されている。   In recent years, with the spread of OA equipment, communication equipment, etc., there is a concern about the influence on the human body caused by electromagnetic waves generated from these equipment. In addition, electromagnetic waves from a mobile phone or the like may cause malfunction of precision equipment, and electromagnetic waves are regarded as a problem.

そこで、OA機器のPDPの前面フィルタとして、電磁波シールド性および光透過性を有する光透過性電磁波シールド材が開発され、実用に供されている。このような光透過性電磁波シールド材はまた、電磁波から精密機器を保護するために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材としても利用されている。   Therefore, a light-transmitting electromagnetic wave shielding material having an electromagnetic wave shielding property and a light transmitting property has been developed and put into practical use as a front filter for a PDP of an OA device. Such a light-transmitting electromagnetic wave shielding material is also used as a window material for installation of precision equipment such as hospitals and laboratories in order to protect precision equipment from electromagnetic waves.

この光透過性電磁波シールド材では、光透過性と電磁波シールド性を両立することが必要である。そのために、光透過性電磁波シールド材には、例えば、(1)透明基材の一方の面に、金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュからなる電磁波シールド層が設けられたものが使用される。この導電性のメッシュの部分によって電磁波がシールドされ、開口部によって光の透過が確保される。   In this light-transmitting electromagnetic wave shielding material, it is necessary to satisfy both the light transmitting property and the electromagnetic wave shielding property. For this purpose, for example, (1) a transparent base material is provided with an electromagnetic wave shielding layer made of a conductive mesh made of a metal wire or a conductive fiber mesh on one surface of a transparent substrate. Is done. Electromagnetic waves are shielded by the conductive mesh portion, and light transmission is ensured by the opening.

この他にも、光透過性電磁波シールド材には、電子ディスプレイ用フィルタとして種々のものが提案されている。例えば、(2)金属銀を含む透明導電薄膜が設けられた透明基材、(3)透明基材上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明基材上に導電性粉末を含む導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が一般的に知られている。   In addition, various types of light transmissive electromagnetic wave shielding materials have been proposed as filters for electronic displays. For example, (2) a transparent substrate provided with a transparent conductive thin film containing metallic silver, (3) a layer of copper foil or the like on the transparent substrate is etched into a net shape, and an opening is provided, (4) In general, a conductive ink containing conductive powder printed on a transparent base material in a mesh shape is known.

このように電磁波シールド層において、優れた光透過性と電磁波シールド性を両立させるには、メッシュ状の透明導電層を用い、極めて線幅を細くし、非常に微細なパターンとする必要がある。しかしながら、前記した従来の光透過性電磁波シールド材では、光透過性と電磁波シールド性を十分に両立させるのが困難であった。すなわち、(1)の光透過性電磁波シールド材では、細線化に限界があり、微細なメッシュパターンを得るのが困難なうえ、目ずれや目曲がりなどの繊維の配列が乱れる問題がある。(2)の光透過性電磁波シールド材の場合、電磁波シールド性が十分ではなく、金属特有の反射光沢が強いなどの問題がある。(3)の光透過性電磁波シールド材では、製造工程が長く、コストが高くなるなどの問題がある。また、(4)の光透過性電磁波シールド材では、十分な電磁波シールド性を得ることが困難であり、電磁波シールド性を向上させるためにパターンを厚くして導電性粉末の量を多くすると、光透過性が低下するなどの問題を有している。   Thus, in the electromagnetic wave shielding layer, in order to achieve both excellent light transmittance and electromagnetic wave shielding properties, it is necessary to use a mesh-like transparent conductive layer, extremely narrow the line width, and form a very fine pattern. However, with the conventional light-transmitting electromagnetic wave shielding material described above, it has been difficult to achieve both light transmission and electromagnetic wave shielding sufficiently. That is, the light-transmitting electromagnetic wave shielding material (1) has a limitation in thinning, and it is difficult to obtain a fine mesh pattern, and there is a problem that the arrangement of fibers such as misalignment and bending is disturbed. In the case of the light-transmitting electromagnetic wave shielding material (2), there are problems such as insufficient electromagnetic wave shielding properties and strong reflection gloss specific to metals. The light-transmitting electromagnetic wave shielding material (3) has problems such as a long manufacturing process and high cost. Further, in the light transmissive electromagnetic wave shielding material of (4), it is difficult to obtain sufficient electromagnetic wave shielding properties. If the pattern is thickened to increase the electromagnetic shielding properties and the amount of conductive powder is increased, There are problems such as a decrease in permeability.

しかしながら、前記(4)の光透過性電磁波シールド材の製造は、例えば、金属粉末又はカーボン粉末などの導電性粉末と、樹脂とを含む導電性インクを用い、透明基材上に凹版オフセット印刷法により印刷パターンを形成する方法を用いて行われる。したがって、前記(4)の光透過性電磁波シールド材では、エッチング加工などを必要とせず、簡易な方法かつ低コストで製造できるという利点を有している。   However, the production of the light-transmitting electromagnetic wave shielding material (4) is performed by using, for example, a conductive ink containing a conductive powder such as metal powder or carbon powder and a resin, and an intaglio offset printing method on a transparent substrate. By using a method of forming a print pattern. Therefore, the light-transmitting electromagnetic wave shielding material (4) has an advantage that it can be produced by a simple method and at a low cost without requiring an etching process.

そこで、前記(4)の技術を改良したものとして、特許文献1では、導電性インクを凹版オフセット印刷法により透明基材上に印刷パターンを形成した後、さらに電磁波シールド性を向上させるために、無電解めっきまたは電解めっきなどにより、前記印刷パターン上に金属層を選択的に形成する方法が開示されている。   Therefore, as an improvement of the technique of (4), in Patent Document 1, in order to further improve the electromagnetic wave shielding property after forming a printing pattern on a transparent substrate by using an intaglio offset printing method with conductive ink, A method of selectively forming a metal layer on the printed pattern by electroless plating or electrolytic plating is disclosed.

また、特許文献2では、透明基体に、貴金属超微粒子触媒と反対の表面電荷をもった粒子に前記貴金属超微粒子触媒を担持させて作製した担持体を含有する触媒インクでパターン印刷を行い、このパターン印刷された貴金属超微粒子触媒上に無電解めっき処理を施して、パターン印刷部のみに導電性の金属層を形成させる光透過性電磁波シールド材の製造方法が開示されている。   Further, in Patent Document 2, pattern printing is performed with a catalyst ink containing a support prepared by supporting a noble metal ultrafine particle catalyst on particles having a surface charge opposite to that of the noble metal ultrafine particle catalyst on a transparent substrate. A method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding material is disclosed in which an electroless plating process is performed on a pattern-printed noble metal ultrafine particle catalyst to form a conductive metal layer only on a pattern printing portion.

特許第3017987号明細書Japanese Patent No. 3017987 特許第3363083号明細書Japanese Patent No. 336383

しかしながら、上述した特許文献1及び2による電磁波シールド性光透過窓材では、透明基材上に印刷された導電性インクまたは触媒インクがダレたり、広がるなどして、これらのインクを設計寸法通りに精度よく印刷することができず、微細なパターンを有するメッシュ状の金属導電層を形成するのが困難であった。   However, in the electromagnetic wave shielding light-transmitting window material according to Patent Documents 1 and 2 described above, the conductive ink or catalyst ink printed on the transparent base material sags or spreads, so that these inks conform to the design dimensions. Printing with high accuracy was impossible, and it was difficult to form a mesh-like metal conductive layer having a fine pattern.

したがって、本発明の目的は、寸法精度が優れたメッシュ状の金属導電層を有する光透過性電磁波シールド材の製造方法を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a light-transmitting electromagnetic wave shielding material having a mesh-like metal conductive layer with excellent dimensional accuracy.

本発明者等は、上記課題に鑑み種々の検討を行った結果、透明基材上に特定のガラス転移温度を有する合成樹脂を含むアンカーコート層を予め形成し、このアンカーコート層上に触媒インクを印刷することにより、印刷後の触媒インクのダレ、広がりを抑制できることを見出した。   As a result of various studies in view of the above problems, the present inventors have previously formed an anchor coat layer containing a synthetic resin having a specific glass transition temperature on a transparent substrate, and catalyst ink is formed on the anchor coat layer. It was found that the sagging and spreading of the catalyst ink after printing can be suppressed by printing.

さらに、本発明者等は、前記触媒インクとして、シランカップリング剤とアゾール系化合物との混合物又は反応生成物、及び貴金属化合物を含む無電解めっき前処理剤を用いることにより、前処理剤に含まれる成分が凝集することなく均一に高分散するため、より高い精度で触媒インクを印刷することができることを見出した。   Furthermore, the present inventors include a pretreatment agent by using an electroless plating pretreatment agent containing a mixture or reaction product of a silane coupling agent and an azole compound and a noble metal compound as the catalyst ink. It was found that the catalyst ink can be printed with higher accuracy because the components to be dispersed are uniformly highly dispersed without agglomeration.

すなわち、本発明は、ガラス転移温度が20℃以下である合成樹脂を含む組成物を、透明基材表面に塗工し、硬化させることによりアンカーコート層を形成する工程、
前記アンカーコート層上に、シランカップリング剤とアゾール系化合物との混合物又は反応生成物、及び貴金属化合物を含む無電解めっき前処理剤をメッシュ状に印刷して、メッシュ状の前処理層を形成する工程と、
前記前処理層上に、無電解めっき処理により、メッシュ状の金属導電層を形成する工程と、を有することを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法である。
That is, the present invention is a process of forming an anchor coat layer by applying a composition containing a synthetic resin having a glass transition temperature of 20 ° C. or less to the surface of a transparent substrate and curing the composition.
On the anchor coat layer, a mixture or reaction product of a silane coupling agent and an azole compound, and an electroless plating pretreatment agent containing a noble metal compound are printed in a mesh shape to form a mesh-shaped pretreatment layer. And a process of
And a step of forming a mesh-like metal conductive layer on the pretreatment layer by electroless plating treatment.

本発明の方法によれば、無電解めっき前処理剤をアンカーコート層に印刷する際、ダレ、ハジキ等が発生することなく、線幅や厚さが均一であり寸法精度が優れた(即ち、設計寸法との差がほとんど無い)メッシュパターンを容易に形成することができる。さらに、アンカーコート層上での無電解めっき前処理剤のダレによる前処理層の厚さの低下が抑制され、無電解めっき前処理剤の転写率を増加することも可能となる。したがって、メッシュ状の金属導電層の形状も寸法精度の優れたものが得られる。   According to the method of the present invention, when the electroless plating pretreatment agent is printed on the anchor coat layer, the line width and thickness are uniform and the dimensional accuracy is excellent without occurrence of sagging, repelling, etc. A mesh pattern can be easily formed with little difference from the design dimension. Furthermore, a decrease in the thickness of the pretreatment layer due to sagging of the electroless plating pretreatment agent on the anchor coat layer is suppressed, and the transfer rate of the electroless plating pretreatment agent can be increased. Therefore, the mesh-shaped metal conductive layer can be obtained with excellent dimensional accuracy.

本発明の方法を各工程に沿って説明した説明図である。It is explanatory drawing explaining the method of this invention along each process.

まず、本発明の第1の製造方法を、図1を参照して説明する。   First, the 1st manufacturing method of this invention is demonstrated with reference to FIG.

本発明の第1の方法では、まず、ガラス転移温度が20℃以下である合成樹脂を含む組成物を透明基材101上に塗工し、硬化させることにより、アンカーコート層102を形成する工程(矢印(1))を実施する。次いで、前記アンカーコート層102上に、シランカップリング剤とアゾール系化合物との混合物又は反応生成物、及び貴金属化合物を含む無電解めっき前処理剤をメッシュ状に印刷して、メッシュ状の前処理層103を形成する工程(矢印(2))を実施する。そして、前記前処理層103上に、無電解めっき処理により、金属などの導電材料からなるメッシュ状の金属導電層104を形成する工程(矢印(3))を実施する。   In the first method of the present invention, first, a step of forming the anchor coat layer 102 by applying a composition containing a synthetic resin having a glass transition temperature of 20 ° C. or less onto the transparent substrate 101 and curing the composition. (Arrow (1)). Next, an electroless plating pretreatment agent containing a mixture or reaction product of a silane coupling agent and an azole compound and a noble metal compound is printed on the anchor coat layer 102 in a mesh shape, and the mesh-like pretreatment is performed. A step of forming the layer 103 (arrow (2)) is performed. And the process (arrow (3)) of forming the mesh-shaped metal electroconductive layer 104 which consists of electroconductive materials, such as a metal, by the electroless-plating process on the said pretreatment layer 103 is implemented.

アンカーコート層は、ガラス転移温度が20℃以下である合成樹脂を含むことにより、無電解めっき前処理剤の吸収性に優れる。前記アンカーコート層上にダイレクトグラビア印刷等を用いて印刷された無電解めっき前処理剤が適度に保持され、ダレ、ハジキ等を発生することなく、ほぼ設計通りの寸法、形状で円滑に無電解めっき前処理剤の印刷を行うことができる。したがって、線幅の小さい微細なメッシュ状の前処理層を形成することが可能となる。また、前記無電解めっき前処理剤中では、シランカップリング剤、アゾール系化合物、および貴金属化合物が、均一に高分散されている。したがって、スジやカブリの発生がない、微細なパターンを有するメッシュ状の前処理層を精度よく形成することが可能となる。このようなメッシュ状の前処理層上に無電解めっき処理を行うことで、線幅の小さい微細なメッシュ状の金属導電層を形成することが可能となる。   An anchor coat layer is excellent in the absorbability of an electroless-plating pre-processing agent by including the synthetic resin whose glass transition temperature is 20 degrees C or less. Electroless plating pretreatment agent printed using direct gravure printing etc. on the anchor coat layer is moderately retained, and electrolessly smooth with almost the same dimensions and shape as designed without causing dripping or repellency. Printing of the plating pretreatment agent can be performed. Therefore, it is possible to form a fine mesh-shaped pretreatment layer having a small line width. Further, in the electroless plating pretreatment agent, the silane coupling agent, the azole compound, and the noble metal compound are uniformly highly dispersed. Therefore, it is possible to accurately form a mesh-shaped pretreatment layer having a fine pattern free from streaking and fogging. By performing an electroless plating process on such a mesh-shaped pretreatment layer, it is possible to form a fine mesh-shaped metal conductive layer having a small line width.

以下に、本発明の方法を工程ごとに順を追ってより詳細に説明する。   Hereinafter, the method of the present invention will be described in detail step by step.

(アンカーコート層形成工程)
本発明の方法では、初めに、ガラス転移温度が20℃以下である合成樹脂を含む組成物を、透明基材表面に塗工し、硬化させることによりアンカーコート層を形成する工程を実施する。
(Anchor coat layer formation process)
In the method of the present invention, first, a step of forming an anchor coat layer by applying a composition containing a synthetic resin having a glass transition temperature of 20 ° C. or less to the surface of a transparent substrate and curing the composition.

アンカーコート層に使用される合成樹脂は、ガラス転移温度が、20℃以下、好ましくは−10〜10℃、特に好ましくは−10〜8℃である。このような合成樹脂によれば、無電解めっき前処理剤の吸収性に優れた前処理層を形成することができる。なお、本発明において、合成樹脂のガラス転移温度は、後記する実施例に記載の測定方法を用いて実施することができる。   The synthetic resin used for the anchor coat layer has a glass transition temperature of 20 ° C. or lower, preferably −10 to 10 ° C., particularly preferably −10 to 8 ° C. According to such a synthetic resin, a pretreatment layer excellent in absorbability of the electroless plating pretreatment agent can be formed. In addition, in this invention, the glass transition temperature of a synthetic resin can be implemented using the measuring method as described in the Example mentioned later.

アンカーコート層に使用される合成樹脂として、具体的には、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、及びセルロース樹脂を好ましく挙げることができる。これらは単独で使用しても、2種以上混合して使用しても良い。また他の樹脂を少量(20質量%以下程度)併用しても良い。なかでもポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂が好ましく、ポリエステル樹脂が特に好ましい。   Specifically as a synthetic resin used for an anchor coat layer, a polyester resin, a polyurethane resin, an acrylic resin, and a cellulose resin can be mentioned preferably. These may be used alone or in combination of two or more. Other resins may be used in small amounts (about 20% by mass or less). Of these, polyurethane resins and polyester resins are preferable, and polyester resins are particularly preferable.

前記ポリエステル樹脂は、例えば、二塩基酸、不飽和二塩基酸などの酸性分と、多価アルコールなどのアルコール成分とを、これらの種類及び割合を適宜選択して使用し、エステル化反応させる方法など、従来公知の方法に従って製造することができる。この際、ポリエステル樹脂のガラス転移温度は、ポリエステル樹脂の分子量や架橋度を制御することにより調整することができる。   The polyester resin is, for example, a method of using an acidic component such as a dibasic acid or an unsaturated dibasic acid and an alcohol component such as a polyhydric alcohol by appropriately selecting the type and ratio thereof and performing an esterification reaction. It can manufacture according to a conventionally well-known method. At this time, the glass transition temperature of the polyester resin can be adjusted by controlling the molecular weight and the degree of crosslinking of the polyester resin.

ポリエステル樹脂を構成する二塩基酸、不飽和二塩基酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸及びこれらの無水物及びこれらの低級アルキルエステル類、アジピン酸、セバシン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸及びこれらの無水物などが挙げられる。また、多価アルコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−ブタンジオ−ル、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトールなどが挙げられる。   Examples of the dibasic acid and unsaturated dibasic acid constituting the polyester resin include terephthalic acid, isophthalic acid and anhydrides thereof and lower alkyl esters thereof, adipic acid, sebacic acid, succinic acid, maleic acid, fumaric acid. Examples thereof include acids, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, and anhydrides thereof. Examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, trimethylolethane, trimethylolpropane, glycerin, Examples include pentaerythritol.

前処理層は、活性水素を含む基を有する合成樹脂と、少なくとも2個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートを含む組成物を用いて形成されるのが好ましい。このような組成物の硬化層を前処理層として使用することで、前処理層上への無電解めっき前処理剤の印刷精度をさらに向上させることができる。   The pretreatment layer is preferably formed using a composition containing a synthetic resin having a group containing active hydrogen and a polyisocyanate having at least two isocyanate groups. By using the cured layer of such a composition as a pretreatment layer, the printing accuracy of the electroless plating pretreatment agent on the pretreatment layer can be further improved.

前記活性水素を含む基としては、ヒドロキシル基、1級アミノ基、2級アミノ基、カルボキシル基等を挙げることができ、ヒドロキシル基が好ましい。活性水素を含む基の当量(例、ヒドロキシル価)は、合成樹脂(1g)に対して10〜300mgKOH/g、特に30〜100mgKOH/gの範囲が好ましい。   Examples of the group containing active hydrogen include a hydroxyl group, a primary amino group, a secondary amino group, and a carboxyl group, and a hydroxyl group is preferable. The equivalent (eg, hydroxyl value) of the group containing active hydrogen is preferably in the range of 10 to 300 mgKOH / g, particularly 30 to 100 mgKOH / g, based on the synthetic resin (1 g).

ポリイソシアネートは、少なくとも2個のイソシアネート基を有する。具体的には、トリレンジイソシアネート(TDI)、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4−ジイソシアネート等の芳香族系ポリイソシアネート;ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4’−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,2’,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートを挙げることができる。またトリメチロールプロパンのTDI付加体等の3官能以上のイソシアネート化合物等のポリイソシアネートも使用することができる。これらの中で芳香族系ポリイソシアネートが好ましい。   The polyisocyanate has at least two isocyanate groups. Specifically, aromatic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate (TDI), isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4-diisocyanate; dicyclopentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4 ′ -Trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,2 ', 4-trimethylhexamethylene diisocyanate can be mentioned. Polyisocyanates such as trifunctional or higher functional isocyanate compounds such as a TDI adduct of trimethylolpropane can also be used. Of these, aromatic polyisocyanates are preferred.

前記ポリイソシアネートの含有量は、前記合成樹脂100質量部に対して、好ましくは5〜20質量部、より好ましくは5〜15質量部である。   The content of the polyisocyanate is preferably 5 to 20 parts by mass, more preferably 5 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the synthetic resin.

アンカーコート層形成用組成物は、さらに、有機溶剤を含むのが好ましい。また、前記組成物には、さらにフィラー、界面活性剤などを適宜添加してもよい。   It is preferable that the composition for forming an anchor coat layer further contains an organic solvent. Moreover, you may add a filler, surfactant, etc. to the said composition suitably.

前記有機溶剤としては、具体的には、消防法に規定されている第4類の第1石油類に属する溶剤、第4類の第2石油類に属する溶剤が適している。   Specifically, as the organic solvent, a solvent belonging to the fourth class of first petroleums and a solvent belonging to the fourth class of second petroleums stipulated in the Fire Service Law are suitable.

第1石油類に属する溶剤としては、例えばトルエン、酢酸エチル、酢酸イソブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどが挙げられる。また、第4類の第2石油類に属する溶剤としては、例えばキシレン、酢酸n−ブチル、セロソルブ、セロソルブアセテート、n−ブタノール、イソブタノール、及びシクロヘキサノンなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。   Examples of the solvent belonging to the first petroleums include toluene, ethyl acetate, isobutyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methanol, ethanol, isopropanol, and the like. Examples of the solvent belonging to the second type of second petroleum include xylene, n-butyl acetate, cellosolve, cellosolve acetate, n-butanol, isobutanol, and cyclohexanone. These may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them.

アンカーコート層は、一般的に、合成樹脂、及び必要に応じてポリイソシアネートを含む組成物を塗布、硬化させることにより形成される。前記組成物の塗布方法としては、グラビアコート、マイクログラビアコート、ダイコート、リップコート、ロールリバースコート、ワイヤーバーコート、キスコート等既存のコーティング法のいずれでも採用することができる。硬化は、常温でも可能であり、その場合、例えば1〜5日(特に2〜4日)の間放置する。加熱すれば、その温度に応じて加熱時間は短縮される。   The anchor coat layer is generally formed by applying and curing a composition containing a synthetic resin and, if necessary, a polyisocyanate. As a method for applying the composition, any of existing coating methods such as gravure coating, micro gravure coating, die coating, lip coating, roll reverse coating, wire bar coating, and kiss coating can be employed. Curing can also be performed at room temperature, in which case, for example, it is allowed to stand for 1 to 5 days (particularly 2 to 4 days). If heated, the heating time is shortened according to the temperature.

透明基材上に塗布した組成物は、80〜140℃、特に90〜120℃に加熱して、硬化させるのが好ましい。この際の加熱時間は、0.5〜3分程度であればよい。   The composition coated on the transparent substrate is preferably heated to 80 to 140 ° C., particularly 90 to 120 ° C., and cured. The heating time at this time may be about 0.5 to 3 minutes.

アンカーコート層の厚さは、好ましくは0.1〜1μm、より好ましくは0.1〜0.5μmである。これにより、無電解めっき前処理剤の吸収性に優れるアンカーコート層とすることができる。   The thickness of the anchor coat layer is preferably 0.1 to 1 μm, more preferably 0.1 to 0.5 μm. Thereby, it can be set as the anchor coat layer excellent in the absorbability of the electroless-plating pretreatment agent.

本発明のアンカーコート層は、上述した通り、無電解めっき前処理剤の吸収性に優れることから、印刷された無電解めっき前処理剤がアンカーコート層上でダレたり、広がったりするのを抑制することができる。具体的には、アンカーコート層上に無電解めっき前処理剤を1μl滴下した際に、前記無電解めっき前処理剤の広がり速度を、好ましくは0.1〜3μm2/秒、より好ましくは0.5〜2μm2/秒とすることができる。なお、前記無電解めっき前処理剤の広がり速度は、後記する実施例に記載の方法により測定することができる。 As described above, the anchor coat layer of the present invention is excellent in absorbability of the electroless plating pretreatment agent, so that the electroless plating pretreatment agent is prevented from sagging or spreading on the anchor coat layer. can do. Specifically, when 1 μl of the electroless plating pretreatment agent is dropped on the anchor coat layer, the spreading rate of the electroless plating pretreatment agent is preferably 0.1 to 3 μm 2 / sec, more preferably 0. 5 to 2 μm 2 / sec. In addition, the spreading speed of the electroless plating pretreatment agent can be measured by the method described in Examples described later.

前記組成物を塗布する透明基材としては、透明性(特に、可視光に対して)を有する基板であれば良く、その材料の例として、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンテレフタレート)、アクリル樹脂(例、ポリメチルメタクリレート(PMMA))、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン、セルローストリアセテート、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中で、加工処理(加熱、溶剤、折り曲げ)による劣化が少なく、透明性の高い材料であるPET、PEN、PC、PMMAが好ましい。   The transparent substrate on which the composition is applied may be a substrate having transparency (particularly for visible light). Examples of the material include polyester (eg, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate). (PEN), polybutylene terephthalate), acrylic resin (eg, polymethyl methacrylate (PMMA)), polycarbonate (PC), polystyrene, cellulose triacetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate A polymer, polyvinyl butyral, a metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane and the like can be mentioned. Among these, PET, PEN, PC, and PMMA, which are less transparent due to processing (heating, solvent, bending) and are highly transparent, are preferable.

この透明基材の厚さは、電磁波シールド性光透過窓材の用途等によっても異なるが、通常の場合1μm〜5mmの範囲、特に10μm〜1mmの範囲にあることが好ましい。   The thickness of the transparent substrate varies depending on the use of the electromagnetic shielding light-transmitting window material and the like, but is usually in the range of 1 μm to 5 mm, particularly preferably in the range of 10 μm to 1 mm.

(メッシュ状の前処理層形成工程)
次に、本発明の方法では、前記アンカーコート層上に、シランカップリング剤とアゾール系化合物との混合物又は反応生成物、及び貴金属化合物を含む無電解めっき前処理剤をメッシュ状に印刷して、メッシュ状の前処理層を形成する工程を実施する。
(Mesh-shaped pretreatment layer forming process)
Next, in the method of the present invention, an electroless plating pretreatment agent containing a mixture or reaction product of a silane coupling agent and an azole compound and a noble metal compound is printed on the anchor coat layer in a mesh shape. The step of forming a mesh-shaped pretreatment layer is performed.

前記無電解めっき前処理剤に用いられる前記シランカップリング剤は、一分子中に金属補足能を持つ官能基を有するものを用いるのが好ましい。これにより、無電解めっき触媒である貴金属化合物の活性を効果的に発現する電子状態、配向とすることが可能となり、被めっき材との高い密着性が得られる。   As the silane coupling agent used for the electroless plating pretreatment agent, it is preferable to use a silane coupling agent having a functional group having metal-capturing ability in one molecule. Thereby, it becomes possible to set it as the electronic state and orientation which express the activity of the noble metal compound which is an electroless-plating catalyst effectively, and high adhesiveness with a to-be-plated material is obtained.

前記シランカップリング剤として、エポキシ基含有シラン化合物を好ましく挙げることができる。前記エポキシ基含有シラン化合物としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。特に、得られる前処理層が透明基材および金属導電層と高い密着性を呈することから、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランが好ましく挙げられる。   Preferred examples of the silane coupling agent include epoxy group-containing silane compounds. Examples of the epoxy group-containing silane compound include γ-glycidoxypropyltrialkoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltriethoxysilane. , 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. In particular, γ-glycidoxypropyltrialkoxysilane is preferably used because the pretreatment layer obtained exhibits high adhesion to the transparent substrate and the metal conductive layer.

次に、前記無電解めっき前処理剤に用いられる前記アゾール系化合物としては、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、セレナゾール、ピラゾール、イソオキサゾール、イソチアゾール、トリアゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、テトラゾール、オキサトリアゾール、チアトリアゾール、ベンダゾール、インダゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾール、インダゾールなどが挙げられる。これらに制限されるものではないが、シランカップリング剤が有するエポキシ基などの官能基および貴金属化合物との反応性に優れることから、イミダゾールが特に好ましい。   Next, the azole compound used in the electroless plating pretreatment agent includes imidazole, oxazole, thiazole, selenazole, pyrazole, isoxazole, isothiazole, triazole, oxadiazole, thiadiazole, tetrazole, oxatriazole, thia Examples include triazole, benzazole, indazole, benzimidazole, benzotriazole, and indazole. Although not limited to these, imidazole is particularly preferable because it is excellent in reactivity with a functional group such as an epoxy group of the silane coupling agent and a noble metal compound.

前記無電解めっき前処理剤において、前記シランカップリング剤および前記アゾール系化合物は単に混合されているだけでもよいが、これらを予め反応させて反応生成物を形成してもよい。これにより、貴金属化合物を前処理層中に原子レベルでより高分散できるとともに、得られる前処理層の光透過性を向上させることができる。   In the electroless plating pretreatment agent, the silane coupling agent and the azole compound may be simply mixed, but may be reacted in advance to form a reaction product. As a result, the precious metal compound can be more highly dispersed at the atomic level in the pretreatment layer, and the light transmittance of the resulting pretreatment layer can be improved.

前記シランカップリング剤と前記アゾール系化合物とを反応させるには、例えば、80〜200℃でアゾール系化合物1モルに対して0.1〜10モルのシランカップリング剤を混合して5分〜2時間反応させるのが好ましい。その際、溶媒は特に不要であるが、水の他、クロロホルム、ジオキサンメタノール、エタノール等の有機溶媒を用いてもよい。このようにして得られた前記シランカップリング剤と前記アゾール系化合物との反応生成物に、貴金属化合物を混合することで、前記無電解めっき前処理剤が得られる。   In order to react the silane coupling agent with the azole compound, for example, 0.1 to 10 mol of silane coupling agent is mixed with 1 mol of azole compound at 80 to 200 ° C. for 5 minutes to It is preferable to react for 2 hours. At that time, a solvent is not particularly required, but an organic solvent such as chloroform, dioxanemethanol, ethanol or the like may be used in addition to water. The electroless plating pretreatment agent is obtained by mixing a noble metal compound with the reaction product of the silane coupling agent and the azole compound thus obtained.

次に、前記無電解めっき前処理剤に用いられる前記貴金属化合物は、無電解めっき処理において銅やアルミニウムなどの金属を選択的に析出・成長させることができる触媒効果を示すものである。具体的には、高い触媒活性が得られることから、パラジウム、銀、白金、および金などの金属原子を含む化合物を用いるのが好ましい。前記化合物としては、前記金属原子の塩化物、水酸化物、酸化物、硫酸塩、アンモニウム塩などのアンミン錯体などが用いられるが、特にパラジウム化合物、中でも塩化パラジウムが好ましい。   Next, the noble metal compound used in the pretreatment agent for electroless plating exhibits a catalytic effect capable of selectively depositing and growing a metal such as copper or aluminum in the electroless plating treatment. Specifically, it is preferable to use a compound containing a metal atom such as palladium, silver, platinum, and gold because high catalytic activity is obtained. Examples of the compound include chlorides, hydroxides, oxides, sulfates, ammonium salts, and the like of the metal atom, and palladium compounds, particularly palladium chloride is preferable.

前記無電解めっき前処理剤は、前記アゾール系化合物および前記シランカップリング剤に対し、前記貴金属化合物を、好ましくは0.001〜50mol%、より好ましくは0.1〜20mol%含むのがよい。前記貴金属化合物の濃度が、0.001mol%未満では十分な触媒活性が得られずに所望する厚さを有する金属導電層を形成できない恐れがあり、50mol%を超えると添加量の増加に見合った貴金属化合物による触媒効果が得られない恐れがある。   The electroless plating pretreatment agent preferably contains 0.001 to 50 mol%, more preferably 0.1 to 20 mol%, of the noble metal compound with respect to the azole compound and the silane coupling agent. If the concentration of the noble metal compound is less than 0.001 mol%, sufficient catalytic activity may not be obtained and a metal conductive layer having a desired thickness may not be formed. If the concentration exceeds 50 mol%, an increase in the amount added is commensurate. There is a risk that the catalytic effect of the noble metal compound cannot be obtained.

また、前記無電解めっき前処理剤は、有機溶剤を含んでいるのが好ましい。前記有機溶剤としては、具体的には、消防法に規定されている第4類の第1石油類に属する溶剤、第4類の第2石油類に属する溶剤が適している。   Moreover, it is preferable that the said electroless-plating pretreatment agent contains the organic solvent. Specifically, as the organic solvent, a solvent belonging to the fourth class of first petroleums and a solvent belonging to the fourth class of second petroleums stipulated in the Fire Service Law are suitable.

第1石油類に属する溶剤としては、例えばトルエン、酢酸エチル、酢酸イソブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどが挙げられる。また、第4類の第2石油類に属する溶剤としては、例えばキシレン、酢酸n−ブチル、セロソルブ、セロソルブアセテート、n−ブタノール、イソブタノール、及びシクロヘキサノンなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。これらの有機溶剤であれば、印刷された無電解めっき前処理剤に含まれる有機溶剤がアンカーコート層に吸収されても、アンカーコート層と透明基材との優れた密着性を確保することができる。   Examples of the solvent belonging to the first petroleums include toluene, ethyl acetate, isobutyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methanol, ethanol, isopropanol, and the like. Examples of the solvent belonging to the second type of second petroleum include xylene, n-butyl acetate, cellosolve, cellosolve acetate, n-butanol, isobutanol, and cyclohexanone. These may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them. These organic solvents can ensure excellent adhesion between the anchor coat layer and the transparent substrate even if the organic solvent contained in the printed electroless plating pretreatment agent is absorbed by the anchor coat layer. it can.

前記無電解めっき前処理剤には、必要に応じて体質顔料、界面活性剤、着色剤などの各種添加剤をさらに含有させてもよい。   The electroless plating pretreatment agent may further contain various additives such as extender pigments, surfactants, and colorants as necessary.

前記無電解めっき前処理剤の粘度は、印刷により微細な線幅および間隙(ピッチ)を有する前処理層を得るためには、25℃において、好ましくは500〜5000cps、より好ましくは1000〜3000cpsとするのがよい。   In order to obtain a pretreatment layer having a fine line width and a gap (pitch) by printing, the viscosity of the electroless plating pretreatment agent is preferably 500 to 5000 cps, more preferably 1000 to 3000 cps at 25 ° C. It is good to do.

前記無電解めっき前処理剤をアンカーコート層に印刷するには、グラビア印刷、フレキソ印刷、グラビアオフセット印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷等の印刷方法を用いることができる。特に、細線化のためには、グラビア印刷、グラビアオフセット印刷が好適である。グラビア印刷を用いる場合、印刷速度は5〜50m/分とするのがよい。   In order to print the electroless plating pretreatment agent on the anchor coat layer, a printing method such as gravure printing, flexographic printing, gravure offset printing, screen printing, inkjet printing, electrostatic printing, or the like can be used. In particular, gravure printing and gravure offset printing are suitable for thinning. When using gravure printing, the printing speed is preferably 5 to 50 m / min.

このように前記無電解めっき前処理剤を印刷した後、好ましくは80〜160℃、より好ましくは90〜130℃で加熱することにより乾燥させるのがよい。乾燥温度が80℃未満では溶媒の蒸発速度が遅く十分な成膜性が得られない恐れがあり、160℃を超えると化合物の熱分解が生じる恐れがある。塗布後に熱乾燥させる場合の乾燥時間は5秒〜5分が好ましい。   Thus, after printing the electroless plating pretreatment agent, it is preferably dried by heating at 80 to 160 ° C., more preferably 90 to 130 ° C. If the drying temperature is less than 80 ° C., the evaporation rate of the solvent is slow and there is a possibility that sufficient film formability may not be obtained, and if it exceeds 160 ° C., thermal decomposition of the compound may occur. The drying time for heat drying after coating is preferably 5 seconds to 5 minutes.

メッシュ状(格子状を含む)の前処理層の線幅は、一般に20μm以下、好ましくは5〜15μmで、特に5〜12μmを有する。線のピッチは200μm以下が好ましい。また、開口率は75〜95%であることが好ましく、特に80〜95%である。   The line width of the mesh-like (including lattice-like) pretreatment layer is generally 20 μm or less, preferably 5 to 15 μm, and particularly 5 to 12 μm. The line pitch is preferably 200 μm or less. Further, the aperture ratio is preferably 75 to 95%, particularly 80 to 95%.

前処理層の線で囲まれた開口部の形状は、円、楕円、角形(4角形、6角形)など任意の形状とすることができるが、一般に角形であり、特に正方形であることが好ましい。また線は網状であるが、格子状とすることが好ましい。   The shape of the opening surrounded by the line of the pretreatment layer can be an arbitrary shape such as a circle, an ellipse, or a square (quadrangle, hexagon), but is generally a square, and particularly preferably a square. . The lines are net-like, but are preferably grid-like.

前記前処理層の厚さは、0.01〜2μm、好ましくは0.05〜0.5μmとするのがよい。これにより、アンカーコート層および金属導電層との高い密着性を確保することができる。   The pretreatment layer has a thickness of 0.01 to 2 μm, preferably 0.05 to 0.5 μm. Thereby, high adhesiveness with an anchor coat layer and a metal conductive layer is securable.

(メッシュ状の金属導電層形成工程)
次に、本発明の方法では、上述の通りに形成した前処理層上に、無電解めっき処理により、メッシュ状の金属導電層を形成する工程を実施する。無電解めっき処理を行うことにより、微細な金属粒子が濃密で実質的な連続皮膜として沈積形成されて、前処理層上のみに選択的に金属導電層を得ることが可能となる。
(Mesh-shaped metal conductive layer forming process)
Next, in the method of the present invention, a step of forming a mesh-like metal conductive layer by electroless plating treatment is performed on the pretreatment layer formed as described above. By performing the electroless plating treatment, fine metal particles are deposited and formed as a dense and substantially continuous film, and a metal conductive layer can be selectively obtained only on the pretreatment layer.

めっき金属は、導電性を有してメッキ可能である金属であれば使用することができ、金属単体、合金、導電性金属酸化物等であってもよく、均一な金属薄膜又は一様に塗布された微細な微粒子等からなるものであってもよい。   The plating metal can be used as long as it is conductive and can be plated, and may be a single metal, an alloy, a conductive metal oxide, etc. It may be made of fine fine particles.

無電解めっきにおけるめっき金属としては、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、白金、銅、チタン、コバルト、鉛等を用いることができる。特に、高い電磁波シールド性が得られる金属導電層が得られることから、好ましくは、銀、銅又はアルミニウムが好ましく用いられる。これらのめっき金属を用いて形成される金属導電層は、前処理層との密着性に優れる他、光透過性と電磁波シールド性の両立に好適である。   As a plating metal in electroless plating, aluminum, nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver, platinum, copper, titanium, cobalt, lead, or the like can be used. In particular, silver, copper, or aluminum is preferably used because a metal conductive layer with high electromagnetic shielding properties can be obtained. The metal conductive layer formed using these plating metals is excellent in adhesion to the pretreatment layer, and is suitable for achieving both light transmittance and electromagnetic shielding properties.

前記無電解めっきは、無電解めっき浴を用いて常法に従って常温または加温下で行うことができる。即ち、めっき金属塩、キレート剤、pH調整剤、還元剤などを基本組成として含むめっき液を建浴したものにめっき基材を浸漬して行うか、構成めっき液を2液以上と分けて添加方式でめっき処理を施すなど適宜選択すれば良い。   The electroless plating can be performed at room temperature or under heating according to a conventional method using an electroless plating bath. That is, the plating substrate is immersed in a bath containing a plating solution containing a plating metal salt, a chelating agent, a pH adjuster, a reducing agent, etc. as a basic composition, or a component plating solution is added separately from two or more solutions What is necessary is just to select suitably, such as performing a plating process by a system.

無電解めっきとして一例を挙げると、Cuからなる金属導電層を形成する場合、硫酸銅等の水溶性銅塩1〜100g/L、特に5〜50g/L、ホルムアルデヒド等の還元剤0.5〜10g/L、特に1〜5g/L、EDTA等の錯化剤20〜100g/L、特に30〜70g/Lを含み、pH12〜13.5、特に12.5〜13に調整した溶液に、前処理層及びアンカーコート層を有する透明基材を50〜90℃、30秒〜60分浸漬する方法を採用することができる。   As an example of electroless plating, when forming a metal conductive layer made of Cu, a water-soluble copper salt such as copper sulfate 1 to 100 g / L, particularly 5 to 50 g / L, a reducing agent such as formaldehyde 0.5 to 0.5 10 g / L, especially 1 to 5 g / L, a solution containing 20 to 100 g / L, particularly 30 to 70 g / L of a complexing agent such as EDTA, and adjusted to pH 12 to 13.5, particularly 12.5 to 13 A method of immersing a transparent substrate having a pretreatment layer and an anchor coat layer at 50 to 90 ° C. for 30 seconds to 60 minutes can be employed.

無電解めっきをする際に、めっきされる基板を揺動、回転させたり、その近傍を空気撹拌させたりしてもよい。   When performing electroless plating, the substrate to be plated may be rocked and rotated, or the vicinity thereof may be agitated with air.

メッシュ状(格子状を含む)の金属導電層の線幅は、一般に20μm以下、好ましくは5〜15μmで、特に5〜12μmを有する。線のピッチは200μm以下が好ましい。また、開口率は75〜95%であることが好ましく、特に80〜95%である。   The line width of the metal conductive layer in a mesh shape (including a lattice shape) is generally 20 μm or less, preferably 5 to 15 μm, particularly 5 to 12 μm. The line pitch is preferably 200 μm or less. Further, the aperture ratio is preferably 75 to 95%, particularly 80 to 95%.

金属導電層の線で囲まれた開口部の形状は、円、楕円、角形(4角形、6角形)など任意の形状とすることができるが、一般に角形であり、特に正方形であることが好ましい。また線は網状であるが、格子状とすることが好ましい。   The shape of the opening surrounded by the line of the metal conductive layer can be any shape such as a circle, an ellipse, and a square (quadrangle, hexagon), but is generally a square, and is particularly preferably a square. . The lines are net-like, but are preferably grid-like.

また、金属導電層の厚さは、好ましくは2〜10μm、より好ましくは2〜5μmである。   The thickness of the metal conductive layer is preferably 2 to 10 μm, more preferably 2 to 5 μm.

本発明の方法では、メッシュ状の金属導電層を形成する工程の後、電気めっき処理を行って前記金属導電層上に金属メッキ層を形成しても良い。   In the method of the present invention, after the step of forming the mesh-shaped metal conductive layer, an electroplating process may be performed to form a metal plating layer on the metal conductive layer.

電気めっき処理に用いる材質としては、金属めっき層が優れた電磁波シールド効果を有するものであればよく特に制限はないが、例えば、銅、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀、及び、金等の金属が挙げられる。これらは、1種単独で使用されてもよく、2種以上の合金として使用されてもよい。   The material used for the electroplating treatment is not particularly limited as long as the metal plating layer has an excellent electromagnetic wave shielding effect, but for example, copper, nickel, chromium, zinc, tin, silver, gold, etc. A metal is mentioned. These may be used individually by 1 type and may be used as 2 or more types of alloys.

金属めっき層の厚さは、0.1〜10μmが好ましく、2〜5μmがより好ましい。前記厚みが0.1μm未満であると、充分な電磁波シールド効果を付与できないことがある一方、10μmを超えると、電気めっき層が巾方向にも広がることから、線幅が太くなり、金属導電層の開口率が低くなってしまうことがある。   0.1-10 micrometers is preferable and, as for the thickness of a metal plating layer, 2-5 micrometers is more preferable. When the thickness is less than 0.1 μm, a sufficient electromagnetic wave shielding effect may not be provided. On the other hand, when the thickness exceeds 10 μm, the electroplating layer also extends in the width direction, so that the line width increases and the metal conductive layer May have a low aperture ratio.

金属めっき層における表面抵抗率としては、3Ω/□以下が好ましく、1Ω/□以下がより好ましい。金属めっき層の表面抵抗率が3Ω/□を超えると、導電性が不充分で、電磁波シールド効果が不充分となることがある。   The surface resistivity in the metal plating layer is preferably 3Ω / □ or less, and more preferably 1Ω / □ or less. If the surface resistivity of the metal plating layer exceeds 3Ω / □, the conductivity may be insufficient and the electromagnetic shielding effect may be insufficient.

また、メッシュ状の金属導電層、又は電気めっき層には、黒化処理を行っても良く、例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系インキの塗布等を行うことができる。   Further, the mesh-like metal conductive layer or electroplating layer may be subjected to blackening treatment, for example, oxidation treatment of metal film, black plating of chrome alloy, etc., application of black or dark color ink, etc. be able to.

上述した本発明の第1の方法により得られる電磁波シールド性光透過窓材は、透明基材上に形成されたアンカーコート層が所定の合成樹脂を含有することによって、無電解めっき前処理剤を、ダレ、ハジキ等が発生することなく、高い精度で印刷することができる。これにより、線幅や厚さが均一な、寸法精度の優れた(即ち、設計寸法との差がほとんど無い)メッシュ状の前処理層を容易に形成することができ、メッシュ状の金属導電層の形状も寸法精度の優れたものが得られる。したがって、本発明の方法により得られる電磁波シールド性光透過窓材は、電磁波シールド性や光透過性に優れる。   The electromagnetic wave shielding light-transmitting window material obtained by the first method of the present invention described above contains an electroless plating pretreatment agent when the anchor coat layer formed on the transparent substrate contains a predetermined synthetic resin. Thus, printing can be performed with high accuracy without causing sagging, repelling, and the like. This makes it possible to easily form a mesh-shaped pretreatment layer with uniform line width and thickness and excellent dimensional accuracy (that is, there is almost no difference from the design dimension). A shape with excellent dimensional accuracy can be obtained. Therefore, the electromagnetic wave shielding light transmitting window material obtained by the method of the present invention is excellent in electromagnetic wave shielding properties and light transmission properties.

次に、本発明の第2の製造方法について説明する。本発明の第2の製造方法は、複合金属酸化物及び/又は複合金属酸化物水化物と、バインダー樹脂とを含む無電解めっき前処理剤を用いる以外は、上述した第1の製造方法と同様に実施することができる。   Next, the second manufacturing method of the present invention will be described. The second production method of the present invention is the same as the first production method described above except that an electroless plating pretreatment agent containing a composite metal oxide and / or a composite metal oxide hydrate and a binder resin is used. Can be implemented.

本発明の第2の方法においても、上述した第1の方法と同様に、アンカーコート層が、上記合成樹脂を含むことにより無電解めっき前処理剤の吸収性に優れる。したがって、前記アンカーコート層上に、ほぼ設計通りの寸法、形状で円滑に無電解めっき前処理剤の印刷を行うことができる。したがって、線幅の小さい微細なメッシュ状の前処理層を形成することが可能となる。さらに、前記無電解めっき前処理剤において複合金属酸化物及び複合金属酸化物水化物は分散性に優れ、これらが印刷時に均一に高分散且つ固着することにより、無電解めっき前処理剤をほぼ設計通りの寸法の形状で印刷することが可能となる。したがって、スジやカブリの発生がない、微細なパターンを有するメッシュ状の前処理層を精度よく形成することが可能となる。このようなメッシュ状の前処理層上に無電解めっき処理を行うことで、線幅の小さい微細なメッシュ状の金属導電層を形成することが可能となる。   Also in the second method of the present invention, as in the first method described above, the anchor coat layer is excellent in absorbability of the electroless plating pretreatment agent by including the synthetic resin. Therefore, the electroless plating pretreatment agent can be smoothly printed on the anchor coat layer with a size and shape almost as designed. Therefore, it is possible to form a fine mesh-shaped pretreatment layer having a small line width. Furthermore, in the electroless plating pretreatment agent, the composite metal oxide and the composite metal oxide hydrate are excellent in dispersibility, and these are uniformly highly dispersed and fixed during printing, so that the electroless plating pretreatment agent is almost designed. It becomes possible to print in the shape of street dimensions. Therefore, it is possible to accurately form a mesh-shaped pretreatment layer having a fine pattern free from streaking and fogging. By performing an electroless plating process on such a mesh-shaped pretreatment layer, it is possible to form a fine mesh-shaped metal conductive layer having a small line width.

本発明の第2の製造方法は、複合金属酸化物及び/又は複合金属酸化物水化物と、バインダー樹脂とを含む無電解めっき前処理剤を用いる以外は、上述した第1の製造方法と同様に実施することができる。したがって、アンカーコート層を形成する工程及びメッシュ状の金属導電層を形成する工程については、上述した第1の方法と同様に実施することができるため説明を省略し、以下では、前記アンカーコート層上に、複合金属酸化物及び/又は複合金属酸化物水化物と、バインダー樹脂とを含む無電解めっき前処理剤をメッシュ状に印刷して、メッシュ状の前処理層を形成する工程について説明する。   The second production method of the present invention is the same as the first production method described above except that an electroless plating pretreatment agent containing a composite metal oxide and / or a composite metal oxide hydrate and a binder resin is used. Can be implemented. Therefore, the step of forming the anchor coat layer and the step of forming the mesh-like metal conductive layer can be performed in the same manner as in the first method described above, and thus the description thereof will be omitted. The process of forming a mesh-like pretreatment layer by printing an electroless plating pretreatment agent containing a composite metal oxide and / or a composite metal oxide hydrate and a binder resin in a mesh form will be described. .

(メッシュ状の前処理層形成工程)
前記無電解めっき前処理剤に用いられる複合金属酸化物及び複合金属酸化物水化物としては、Pd、Ag、Si、Ti及びZrよりなる群から選択される少なくとも2種の金属元素を含むものが好ましく用いられる。より好ましくは、Pd又はAgの金属元素と、Si、Ti又はZrの金属元素とを含むものが挙げられる。このような複合金属酸化物及び複合金属酸化物水化物は、高いめっき金属析出能力を有し、さらに前処理剤中での安定性及び分散性に優れた特性を有する。
(Mesh-shaped pretreatment layer forming process)
The composite metal oxide and composite metal oxide hydrate used for the electroless plating pretreatment agent include those containing at least two metal elements selected from the group consisting of Pd, Ag, Si, Ti, and Zr. Preferably used. More preferably, one containing a metal element of Pd or Ag and a metal element of Si, Ti or Zr is mentioned. Such composite metal oxides and composite metal oxide hydrates have high plating metal deposition ability, and further have excellent stability and dispersibility in the pretreatment agent.

なかでも、前記特性が特に優れることから、下記式(I)   Especially, since the said characteristic is especially excellent, following formula (I)

Figure 2010238855
Figure 2010238855

(式中、M1はPd又はAgを表し、M2はSi、Ti又はZrを表し、M1がPdである場合、xは1であり、M1がAgである場合、xは2であり、nは1〜20の整数である)で示される複合金属酸化物水化物を用いるのが特に好ましい。 (In the formula, M 1 represents Pd or Ag, M 2 represents Si, Ti, or Zr. When M 1 is Pd, x is 1, and when M 1 is Ag, x is 2. And n is an integer of 1 to 20). It is particularly preferable to use a composite metal oxide hydrate.

前記式(I)において、M1はPd又はAgであるが、Pdであるのが好ましい。また、M2はSi、Ti又はZrであるが、Tiであるのが好ましい。これにより、高いめっき析出能力を有する複合金属酸化物水水化物が得られる。 In the formula (I), M 1 is Pd or Ag, but is preferably Pd. M 2 is Si, Ti or Zr, but is preferably Ti. Thereby, the composite metal oxide hydrate having a high plating precipitation ability is obtained.

前記複合金属酸化物水化物として具体的には、PdSiO3、Ag2SiO3、PdTiO3、Ag2TiO3、PdZrO3及びAg2TiO3などの水化物が挙げられる。 The specifically as a composite metal oxide hydrate, PdSiO 3, Ag 2 SiO 3 , PdTiO 3, hydrates of such Ag 2 TiO 3, PdZrO 3 and Ag 2 TiO 3 and the like.

上述した複合金属酸化物水化物は、それぞれの相当する金属塩、例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、ハロゲン化物、オキシハロゲン化物、相当する金属酸化物の水和物等を原料とし、これらを加熱し、加水分解する方法などを用いることによって得られる。   The above-mentioned mixed metal oxide hydrates are obtained by heating each corresponding metal salt, such as hydrochloride, sulfate, nitrate, halide, oxyhalide, hydrate of the corresponding metal oxide, and the like. And obtained by using a hydrolysis method or the like.

また、前記複合金属酸化物としては、M1 X・M23(M1、M2及びXについては、上記式(I)と同義である)で示されるものが好ましく用いられる。 Further, as the composite metal oxide, (for M 1, M 2 and X, the formula (I) as synonymous) M 1 X · M 2 O 3 as represented by is preferably used.

前記無電解めっき前処理剤に用いられる複合金属酸化物及び前記複合金属酸化物水化物の平均粒子径は、0.01〜10μm、特に0.05〜3μmのものを用いるのが好ましい。これにより、凝集が抑制された高い分散性および触媒活性を有する複合金属酸化物及び前記複合金属酸化物水化物とすることができる。   The average particle diameter of the composite metal oxide and the composite metal oxide hydrate used in the pretreatment agent for electroless plating is preferably 0.01 to 10 μm, particularly 0.05 to 3 μm. Thereby, it can be set as the composite metal oxide which has the high dispersibility and catalyst activity in which aggregation was suppressed, and the said composite metal oxide hydrate.

なお、本発明において、前記複合金属酸化物及び前記複合金属酸化物水化物の平均粒子径は、前記複合金属酸化物又は前記複合金属酸化物水化物を電子顕微鏡(好ましくは透過型電子顕微鏡)により倍率100万倍程度で観測し、少なくとも100個の粒子の面積円相当径を求めた数平均値とする。   In the present invention, the average particle diameter of the composite metal oxide and the composite metal oxide hydrate is determined by measuring the composite metal oxide or the composite metal oxide hydrate with an electron microscope (preferably a transmission electron microscope). The observation is performed at a magnification of about 1 million times, and the number-average value of the area equivalent circle diameter of at least 100 particles is obtained.

前記複合金属酸化物及び/又は前記複合金属酸化物水化物の含有量は、前記バインダー樹脂100質量部に対して、好ましくは10〜60質量部、より好ましくは10〜40質量部とするのが好ましい。前記含有量が、10質量部未満では十分なめっき析出能力が得られない恐れがあり、60質量部を超えるとこれらの複合金属酸化物の凝集に基づくスジやカブリが形成する恐れがある。   The content of the composite metal oxide and / or the composite metal oxide hydrate is preferably 10 to 60 parts by mass, more preferably 10 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. preferable. If the content is less than 10 parts by mass, sufficient plating deposition ability may not be obtained, and if it exceeds 60 parts by mass, streaks and fogging based on aggregation of these composite metal oxides may be formed.

前記無電解めっき前処理剤は、バインダー樹脂を含む。これにより、前処理層のアンカーコート層及び金属導電層との密着性を向上させることができ、前処理層が剥離し難くなり、金属導電層をより精度よく形成することが可能となる。   The electroless plating pretreatment agent includes a binder resin. Thereby, the adhesiveness with the anchor coat layer and metal conductive layer of a pretreatment layer can be improved, it becomes difficult to peel a pretreatment layer, and it becomes possible to form a metal conductive layer more accurately.

前記バインダー樹脂は、アンカーコート層および金属導電層との密着性を確保できるものであれば、特に制限されない。前記バインダー樹脂として、好ましくは、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、およびエチレン酢酸ビニル共重合体樹脂などが挙げられる。なかでも、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、特にポリエステル樹脂が好ましい。これらによれば、透明基材および金属導電層との高い密着性が得られ、前処理層上に金属導電層を精度よく形成することができる。また、これらのバインダー樹脂は、1種単独で用いられてもよいほか、2種以上を混合して用いてもよい。   The binder resin is not particularly limited as long as it can ensure adhesion with the anchor coat layer and the metal conductive layer. Preferred examples of the binder resin include acrylic resins, polyester resins, polyurethane resins, vinyl chloride resins, and ethylene vinyl acetate copolymer resins. Of these, polyester resins and polyurethane resins, particularly polyester resins are preferred. According to these, high adhesiveness with a transparent base material and a metal conductive layer is obtained, and a metal conductive layer can be accurately formed on a pretreatment layer. These binder resins may be used alone or in combination of two or more.

前記バインダー樹脂としてのポリエステル樹脂は、アンカーコート層に使用される合成樹脂として上述したのと同様のものが挙げられる。   Examples of the polyester resin as the binder resin include those described above as the synthetic resin used for the anchor coat layer.

無電解めっき前処理剤は、前記バインダー樹脂として活性水素を含む基を有するものを含み、さらに少なくとも2個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートを含むのが好ましい。このような無電解めっき前処理剤の硬化層を無電解めっき前処理層として使用することで、無電解めっき前処理剤の印刷精度をさらに向上させることができる。   The electroless plating pretreatment agent preferably contains an active hydrogen-containing group as the binder resin, and further contains a polyisocyanate having at least two isocyanate groups. By using such a cured layer of the electroless plating pretreatment agent as the electroless plating pretreatment layer, the printing accuracy of the electroless plating pretreatment agent can be further improved.

前記無電解めっき前処理剤におけるバインダー樹脂の含有量は、無電解めっき前処理剤の全量に対して、40〜90質量%、特に60〜80質量%とするのが好ましい。これにより、高い密着性を有する前処理層を形成することが可能となる。   The content of the binder resin in the electroless plating pretreatment agent is preferably 40 to 90% by mass, particularly 60 to 80% by mass, based on the total amount of the electroless plating pretreatment agent. Thereby, a pretreatment layer having high adhesion can be formed.

また、前記無電解めっき前処理剤は、さらに無機微粒子を含んでいてもよい。無機微粒子を含有することにより、印刷精度を向上することができ、より精度の高い金属導電層を形成することが可能となる。前記無機微粒子としては、シリカ、炭酸カルシウム、アルミナ、タルク、マイカ、ガラスフレーク、金属ウィスカー、セラミッックウィスカー、硫酸カルシウムウィスカー、スメクタイト等が好ましく挙げられる。これらは、1種単独で用いられてもよい他、2種以上を混合して用いてもよい。   The electroless plating pretreatment agent may further contain inorganic fine particles. By containing the inorganic fine particles, the printing accuracy can be improved, and a metal conductive layer with higher accuracy can be formed. Preferred examples of the inorganic fine particles include silica, calcium carbonate, alumina, talc, mica, glass flake, metal whisker, ceramic whisker, calcium sulfate whisker, and smectite. These may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types.

前記無機微粒子の平均粒子径は、0.01〜5μm、特に0.1〜3μmとするのが好ましい。前記無機微粒子の平均粒子径が、0.01μm未満であると無機微粒子の添加により所望するほどの印刷精度の向上が得られない恐れがあり、5μmを超えるとスジやカブリが発生し易くなる恐れがある。   The average particle diameter of the inorganic fine particles is preferably 0.01 to 5 μm, particularly preferably 0.1 to 3 μm. If the average particle size of the inorganic fine particles is less than 0.01 μm, the addition of the inorganic fine particles may not improve the printing accuracy as desired, and if the average particle size exceeds 5 μm, streaks and fog may easily occur. There is.

前記無電解めっき前処理剤における無機微粒子の含有量は、前記バインダー樹脂100質量部に対して、0.01〜10質量部、特に1〜5質量部とするのが好ましい。これにより、高い印刷適正を持った前処理剤とすることができる。   The content of the inorganic fine particles in the electroless plating pretreatment agent is preferably 0.01 to 10 parts by mass, particularly 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. Thereby, it can be set as the pretreatment agent with high printing appropriateness.

また、前記無電解めっき前処理剤は、さらにチキソトロピック剤を含有してもよい。前記チキソトロピック剤によれば、前処理剤の流動性を調整することにより印刷精度を向上させることができ、より精度の高い金属導電層を形成することが可能となる。チキソトロピック剤としては、従来公知のものであれば使用できる。好ましくは、アマイドワックス、硬化ひまし油、蜜ロウ、カルナバワックス、ステアリン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸エチレンビスアミド等を使用することができる。   The electroless plating pretreatment agent may further contain a thixotropic agent. According to the thixotropic agent, it is possible to improve the printing accuracy by adjusting the fluidity of the pretreatment agent, and it is possible to form a metal conductive layer with higher accuracy. As the thixotropic agent, any conventionally known thixotropic agent can be used. Preferably, amide wax, hydrogenated castor oil, beeswax, carnauba wax, stearamide, hydroxystearic acid ethylene bisamide and the like can be used.

前記無電解めっき前処理剤におけるチキソトロピック剤の含有量は、前記バインダー樹脂100質量部に対して、0.1〜10質量部、特に1〜5質量部とするのが好ましい。これにより、高い印刷適正を持った前処理剤とすることができる。   The content of the thixotropic agent in the electroless plating pretreatment agent is preferably 0.1 to 10 parts by mass, particularly 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. Thereby, it can be set as the pretreatment agent with high printing appropriateness.

本発明の無電解めっき前処理剤は、黒色着色剤をさらに含有していてもよい。これにより、印刷精度の向上とともに、得られる光透過性電磁波シールド材において透明基材側から見た際の防眩効果を付与することができる。   The electroless plating pretreatment agent of the present invention may further contain a black colorant. Thereby, with the improvement of a printing precision, the glare-proof effect at the time of seeing from the transparent base material side can be provided in the light transmissive electromagnetic wave shielding material obtained.

前記黒色着色剤としては、カーボンブラック、チタンブラック、黒色酸化鉄、黒鉛、および活性炭などが好ましく挙げられる。これらは、1種単独で用いられてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。なかでも、カーボンブラックが好ましい。カーボンブラックとしては、アセチレンブラック、チャンネルブラック、ファーネスブラック等が挙げられる。カーボンブラックの平均粒径は、好ましくは0.1〜1,000nm、特に好ましくは5〜500nmである。   Preferred examples of the black colorant include carbon black, titanium black, black iron oxide, graphite, and activated carbon. These may be used individually by 1 type and may be used in mixture of 2 or more types. Of these, carbon black is preferable. Examples of carbon black include acetylene black, channel black, and furnace black. The average particle size of carbon black is preferably 0.1 to 1,000 nm, particularly preferably 5 to 500 nm.

前記無電解めっき前処理剤における黒色着色剤の含有量は、前記バインダー樹脂100質量部に対して、0.1〜10質量部、特に1〜5質量部とするのが好ましい。これにより、防眩効果を有する前処理層を精度よく形成することが可能となる。   The content of the black colorant in the electroless plating pretreatment agent is preferably 0.1 to 10 parts by mass, particularly 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. This makes it possible to accurately form a pretreatment layer having an antiglare effect.

黒色着色剤を用いる場合、市販されている墨インキを用いて無電解めっき前処理剤を調製するのが好ましい。このような墨インキとしては、東洋インキ製造株式会社製 SS8911、十条ケミカル株式会社製 EXG−3590、大日精化工業株式会社製 NTハイラミック 795R墨などがある。例えば、東洋インキ製造株式会社製 SS8911の場合、溶剤中に、カーボンブラックの他、さらに塩化ビニルおよびアクリル樹脂などを含む。したがって、前記した市販品であれば、バインダー樹脂および黒色着色剤を含む無電解めっき前処理剤の調製を容易に行うことができる。   When using a black colorant, it is preferable to prepare the electroless plating pretreatment agent using a commercially available black ink. Examples of such black ink include SS8911 manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd., EXG-3590 manufactured by Jujo Chemical Co., Ltd., and NT Hiramic 795R Black manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd. For example, in the case of SS8911 manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd., the solvent contains vinyl chloride and acrylic resin in addition to carbon black. Therefore, if it is an above-mentioned commercial item, preparation of the electroless-plating pre-processing agent containing binder resin and a black coloring agent can be performed easily.

また、前記無電解めっき前処理剤は、有機溶剤を含んでいるのが好ましい。前記有機溶剤としては、具体的には、消防法に規定されている第4類の第1石油類に属する溶剤、第4類の第2石油類に属する溶剤が適している。   Moreover, it is preferable that the said electroless-plating pretreatment agent contains the organic solvent. Specifically, as the organic solvent, a solvent belonging to the fourth class of first petroleums and a solvent belonging to the fourth class of second petroleums stipulated in the Fire Service Law are suitable.

第1石油類に属する溶剤としては、例えばトルエン、酢酸エチル、酢酸イソブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどが挙げられる。また、第4類の第2石油類に属する溶剤としては、例えばキシレン、酢酸n−ブチル、セロソルブ、セロソルブアセテート、n−ブタノール、イソブタノール、及びシクロヘキサノンなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。これらの有機溶剤であれば、印刷された無電解めっき前処理剤に含まれる有機溶剤がアンカーコート層に吸収されても、アンカーコート層と透明基材との優れた密着性を確保することができる。   Examples of the solvent belonging to the first petroleums include toluene, ethyl acetate, isobutyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methanol, ethanol, isopropanol, and the like. Examples of the solvent belonging to the second type of second petroleum include xylene, n-butyl acetate, cellosolve, cellosolve acetate, n-butanol, isobutanol, and cyclohexanone. These may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them. These organic solvents can ensure excellent adhesion between the anchor coat layer and the transparent substrate even if the organic solvent contained in the printed electroless plating pretreatment agent is absorbed by the anchor coat layer. it can.

前記無電解めっき前処理剤には、必要に応じて体質顔料、界面活性剤などの各種添加剤をさらに含有させてもよい。   The electroless plating pretreatment agent may further contain various additives such as extender pigments and surfactants as necessary.

本発明の方法では、上述した無電解めっき前処理剤を、透明基材上にメッシュ状に印刷することにより、前記透明基材上にメッシュ状の前処理層を形成する。これにより、簡易な方法で所望する微細なパターンを有する前処理層を形成することができる。   In the method of the present invention, a mesh-shaped pretreatment layer is formed on the transparent substrate by printing the above-described electroless plating pretreatment agent on the transparent substrate in a mesh shape. Thereby, a pretreatment layer having a desired fine pattern can be formed by a simple method.

前記無電解めっき前処理剤の粘度は、印刷により微細な線幅および間隙(ピッチ)を有する前処理層を得るためには、25℃において、好ましくは500〜5000cps、より好ましくは1000〜3000cpsとするのがよい。   In order to obtain a pretreatment layer having a fine line width and a gap (pitch) by printing, the viscosity of the electroless plating pretreatment agent is preferably 500 to 5000 cps, more preferably 1000 to 3000 cps at 25 ° C. It is good to do.

このように前記無電解めっき前処理剤を印刷した後、好ましくは80〜160℃、より好ましくは90〜130℃で加熱することにより乾燥させるのがよい。乾燥温度が80℃未満では、溶媒の蒸発速度が遅く十分な成膜性が得られない恐れがあり、160℃を超えると化合物の熱分解が生じる恐れがある。塗布後に熱乾燥させる場合の乾燥時間は5秒〜5分が好ましい。   Thus, after printing the electroless plating pretreatment agent, it is preferably dried by heating at 80 to 160 ° C., more preferably 90 to 130 ° C. If the drying temperature is less than 80 ° C., the evaporation rate of the solvent is slow, and there is a possibility that sufficient film formability may not be obtained. The drying time for heat drying after coating is preferably 5 seconds to 5 minutes.

なお、無電解めっき前処理剤を透明基材に印刷する方法及びメッシュ状の前処理層におけるパターンの形状については、上述した方法と同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。   In addition, since it is the same as that of the method mentioned above about the method of printing an electroless-plating pretreatment agent on a transparent base material, and the shape of the pattern in a mesh-shaped pretreatment layer, detailed description is abbreviate | omitted here.

前記前処理層の厚さは、0.01〜5μm、好ましくは0.1〜2μmとするのがよい。これにより、透明基材および金属導電層との高い密着性を確保することができる。   The pretreatment layer has a thickness of 0.01 to 5 μm, preferably 0.1 to 2 μm. Thereby, the high adhesiveness with a transparent base material and a metal conductive layer is securable.

本発明の第2の方法では、上述の通りにして透明基材上にメッシュ状の前処理層を形成する工程の後、メッシュ状の金属導電層を形成する工程の前に、前記前処理層に還元処理を行う工程を実施するのが好ましい。還元処理することで、前記前処理層に含まれる無電解めっき触媒である複合金属酸化物及び複合金属酸化物水化物に含まれる金属種を還元し、活性成分である金属種のみを超微粒子状で均一に析出させることができる。このように還元析出した金属種は、高い触媒活性を有し且つ安定であることから、前記前処理層と前記アンカーコート層との密着性及び無電解めっきの析出速度を向上させ、さらには複合金属酸化物及び複合金属酸化物水化物の使用量を少なくすることが可能となる。   In the second method of the present invention, after the step of forming the mesh-like pretreatment layer on the transparent substrate as described above, before the step of forming the mesh-like metal conductive layer, the pretreatment layer It is preferable to carry out a reduction treatment step. Reduction treatment reduces the metal species contained in the composite metal oxide and composite metal oxide hydrate that are electroless plating catalysts contained in the pretreatment layer, and only the metal species that are active components are in the form of ultrafine particles. Can be deposited uniformly. Since the metal species thus reduced and deposited have high catalytic activity and are stable, the adhesion between the pretreatment layer and the anchor coat layer and the deposition rate of electroless plating can be improved, and further the composite The amount of metal oxide and composite metal oxide hydrate used can be reduced.

前記還元処理は、前処理層に含まれる複合金属酸化物及び前記複合金属酸化物水化物を還元して金属化できる方法であれば特に制限されない。具体的には、(i)前記前処理層が形成された透明基材を、還元剤を含む溶液を用いて処理する液相還元法、(ii)前記前処理層が形成された透明基材を、還元性ガスと接触させる気相還元法などが好ましく用いられる。   The reduction treatment is not particularly limited as long as it is a method capable of reducing and metallizing the composite metal oxide and the composite metal oxide hydrate contained in the pretreatment layer. Specifically, (i) a liquid phase reduction method in which the transparent substrate on which the pretreatment layer is formed is treated with a solution containing a reducing agent, and (ii) the transparent substrate on which the pretreatment layer is formed. For example, a gas phase reduction method in which is contacted with a reducing gas is preferably used.

前記液相還元法において還元剤を含む溶液を用いて処理する方法として、具体的には、前記前処理層が形成された透明基材を還元剤を含む溶液中に浸漬させる方法、前記透明基材の前記前処理層が形成された面に還元剤を含む溶液をスプレーする方法などが用いられる。   In the liquid phase reduction method, as a method of processing using a solution containing a reducing agent, specifically, a method of immersing the transparent substrate on which the pretreatment layer is formed in a solution containing a reducing agent, the transparent group A method of spraying a solution containing a reducing agent on the surface of the material on which the pretreatment layer has been formed is used.

前記還元剤を含む溶液は、所定の還元剤を水などの溶媒に分散又は溶解させて調製されるものである。前記還元剤としては、特に制限されないが、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルアクリルアミド、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、ブドウ糖、アミノボラン、ジメチルアミンボラン(DMAB)、トリメチルアミンボラン(TMAB)、ヒドラジン、ジエチルアミンボラン、ホルムアルデヒド、グリオキシル酸、イミダゾール、アスコルビン酸、ヒドロキシルアミン、硫酸ヒドロキシルアミン、塩酸ヒドロキシルアミン、次亜リン酸、次亜リン酸ナトリウムなどの次亜リン酸塩、硫酸ヒドロキシルアミン、亜硫酸ナトリウムなどの亜硫酸塩、ハイドロサルファイト(Na224:亜二チオン酸ナトリウムともいう)等が挙げられる。前記還元剤は、後工程で用いる無電解めっき浴中に含まれる還元剤と同一のものを用いると、還元処理後の前記透明基材を水洗処理することなく無電解めっきを行うことができ、また無電解めっき浴の組成を変化させる恐れも少ない。 The solution containing the reducing agent is prepared by dispersing or dissolving a predetermined reducing agent in a solvent such as water. The reducing agent is not particularly limited, but formamide, dimethylformamide, diethylformamide, dimethylacetamide, dimethylacrylamide, sodium borohydride, potassium borohydride, glucose, aminoborane, dimethylamineborane (DMAB), trimethylamineborane (TMAB) ), Hydrazine, diethylamine borane, formaldehyde, glyoxylic acid, imidazole, ascorbic acid, hydroxylamine, hydroxylamine sulfate, hydroxylamine hydrochloride, hypophosphorous acid, hypophosphite such as sodium hypophosphite, hydroxylamine sulfate, Examples thereof include sulfites such as sodium sulfite, hydrosulfite (Na 2 S 2 O 4 : also referred to as sodium dithionite), and the like. If the reducing agent is the same as the reducing agent contained in the electroless plating bath used in the subsequent step, electroless plating can be performed without washing the transparent substrate after the reduction treatment, In addition, there is little risk of changing the composition of the electroless plating bath.

前記還元剤としては、高い還元性が得られることから、アミノボラン、ジメチルアミンボラン、次亜リン酸ナトリウム、硫酸ヒドロキシルアミン、ハイドロサルファイト、及びホルマリンを用いるのが好ましい。   As the reducing agent, aminoborane, dimethylamine borane, sodium hypophosphite, hydroxylamine sulfate, hydrosulfite, and formalin are preferably used because high reducibility can be obtained.

前記還元剤を含む溶液における還元剤の含有量は、0.01〜200g/L、特に0.1〜100g/Lとするのが好ましい。還元剤の濃度が低すぎる場合には十分に還元処理を行うのに所要時間が長くなる恐れがあり、還元剤の濃度が高すぎる場合には析出させためっき触媒が脱落する恐れがある。   The content of the reducing agent in the solution containing the reducing agent is preferably 0.01 to 200 g / L, particularly preferably 0.1 to 100 g / L. If the concentration of the reducing agent is too low, it may take a long time to sufficiently perform the reduction treatment, and if the concentration of the reducing agent is too high, the deposited plating catalyst may fall off.

前記液相還元法において還元剤を含む溶液を用いて処理する方法としては、前処理層に含まれる複合金属酸化物及び前記複合金属酸化物水化物の高い還元性が得られることから、前記前処理層が形成された透明基材を還元剤を含む溶液中に浸漬させる方法を用いるのが好ましい。   In the liquid phase reduction method, the treatment using a solution containing a reducing agent includes a high reduction property of the composite metal oxide and the composite metal oxide hydrate contained in the pretreatment layer. It is preferable to use a method in which the transparent substrate on which the treatment layer is formed is immersed in a solution containing a reducing agent.

前記透明基材を浸漬させる場合、前記還元剤を含む溶液の温度は、20〜90℃、特に50〜80℃とするのが好ましい。また、浸漬時間は、少なくとも1分以上、好ましくは1〜10分程度とすればよい。   When the transparent substrate is immersed, the temperature of the solution containing the reducing agent is preferably 20 to 90 ° C, particularly 50 to 80 ° C. Further, the immersion time may be at least 1 minute or more, preferably about 1 to 10 minutes.

一方、前記気相還元法を用いて還元処理を行う場合、前記還元性ガスとしては、水素ガス、ジボランガスなど、還元性を有する気体であれば特に制限されない。還元ガスを用いた還元処理時の反応温度および反応時間は、使用する還元ガスの種類などに応じて適宜決定すればよい。   On the other hand, when the reduction treatment is performed using the gas phase reduction method, the reducing gas is not particularly limited as long as it is a reducing gas such as hydrogen gas or diborane gas. What is necessary is just to determine suitably the reaction temperature and reaction time at the time of the reduction process using reducing gas according to the kind etc. of reducing gas to be used.

上述した本発明の第2の方法により得られる電磁波シールド性光透過窓材は、透明基材上に形成されたアンカーコート層が所定の合成樹脂を含有することによって、無電解めっき前処理剤を、ダレ、ハジキ等が発生することなく、高い精度で印刷することができる。これにより、線幅や厚さが均一な、寸法精度の優れた(即ち、設計寸法との差がほとんど無い)メッシュ状の前処理層を容易に形成することができ、メッシュ状の金属導電層の形状も寸法精度の優れたものが得られる。したがって、本発明の方法により得られる電磁波シールド性光透過窓材は、電磁波シールド性や光透過性に優れる。   The electromagnetic wave shielding light-transmitting window material obtained by the second method of the present invention described above contains an electroless plating pretreatment agent when the anchor coat layer formed on the transparent substrate contains a predetermined synthetic resin. Thus, printing can be performed with high accuracy without causing sagging, repelling, and the like. This makes it possible to easily form a mesh-shaped pretreatment layer with uniform line width and thickness and excellent dimensional accuracy (that is, there is almost no difference from the design dimension). A shape with excellent dimensional accuracy can be obtained. Therefore, the electromagnetic wave shielding light transmitting window material obtained by the method of the present invention is excellent in electromagnetic wave shielding properties and light transmission properties.

上述した本発明の第1の方法及び第2の方法により製造された電磁波シールド性光透過窓材は、前述のように開口率が高いため光透過性に優れ、さらにモアレ現象が防止され、電磁波シールド性に優れるため、特に、PDP(プラズマディスプレイパネル)の前面フィルタや、病院等の電磁波シールドを必要とする建築物の窓材料(例えば貼着用フィルム)等として有用である。なお、防眩層を形成した電磁波シールド性光透過窓材を、PDP(プラズマディスプレイパネル)として用いる場合には、視認性の点で、防眩層が、透明基材上において観察者側に配されるよう使用するのが好ましい。   The electromagnetic wave shielding light-transmitting window material manufactured by the first method and the second method of the present invention described above has a high aperture ratio as described above, and thus has excellent light transmittance, and further prevents the moire phenomenon. Since it has excellent shielding properties, it is particularly useful as a front filter of a PDP (plasma display panel), a window material (for example, a sticking film) of a building requiring an electromagnetic wave shield such as a hospital. When the electromagnetic wave shielding light-transmitting window material having the antiglare layer is used as a PDP (plasma display panel), the antiglare layer is disposed on the observer side on the transparent substrate from the viewpoint of visibility. It is preferred to be used as is.

(実施例1)
1.アンカーコート層の形成
PETフィルム(厚さ250μm)上に、グラビアコートにより、下記の組成のアンカーコート層形成用組成物を塗布した後、100℃、1分間加熱することによりアンカーコート層(厚さ0.2μm)を形成した。
Example 1
1. Formation of Anchor Coat Layer After applying an anchor coat layer forming composition having the following composition by gravure coating on a PET film (thickness 250 μm), the anchor coat layer (thickness) is heated at 100 ° C. for 1 minute. 0.2 μm) was formed.

アンカーコート層形成用組成物の組成;
ポリエステル樹脂 100質量部
(バイロン(登録商標)670、東洋紡績株式会社製;数平均分子量Mn20×103、ガラス転移温度(Tg)7℃)
ポリイソシアネート 15質量部
(CAT−10L、東洋モートン株式会社製)
メチルエチルケトン/トルエン=1/1(質量比) 900質量部
The composition of the anchor coat layer forming composition;
100 parts by mass of polyester resin (Byron (registered trademark) 670, manufactured by Toyobo Co., Ltd .; number average molecular weight Mn 20 × 10 3 , glass transition temperature (Tg) 7 ° C.)
15 parts by mass of polyisocyanate (CAT-10L, manufactured by Toyo Morton Co., Ltd.)
Methyl ethyl ketone / toluene = 1/1 (mass ratio) 900 parts by mass

2.メッシュ状の前処理層の形成
イミダゾールに、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを、モル比で1:1となるように混合し、1時間、100分間、反応させることにより得られた反応生成物を5wt%含む水溶液に、25℃で撹拌しながら塩化パラジウムを添加し、塩化パラジウム濃度が10g/Lの溶液を調製した。これをn−ブタノールで100体積倍に希釈し、塩化パラジウム濃度が100mg/Lの前処理剤を調製した。
2. Formation of mesh-shaped pretreatment layer Reaction product obtained by mixing imidazole with γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane at a molar ratio of 1: 1 and reacting for 1 hour and 100 minutes Palladium chloride was added to an aqueous solution containing 5 wt% of the product while stirring at 25 ° C. to prepare a solution having a palladium chloride concentration of 10 g / L. This was diluted 100 volume times with n-butanol to prepare a pretreatment agent having a palladium chloride concentration of 100 mg / L.

次に、前記前処理剤を、上記で作製したアンカーコート層上にグラビア印刷によってパターニングした後、120℃、5分間乾燥させることにより、前記PETフィルム上にメッシュ状の前処理層を形成した。なお、グラビア印刷版として、幅16μm、深さ6μmの溝が200μmの間隔で形成された金型を用いた。   Next, the pretreatment agent was patterned on the anchor coat layer produced above by gravure printing, and then dried at 120 ° C. for 5 minutes to form a mesh-like pretreatment layer on the PET film. As the gravure printing plate, a mold in which grooves having a width of 16 μm and a depth of 6 μm were formed at intervals of 200 μm was used.

次に、上記で得られた前処理層が形成されたPETフィルムを、60℃の次亜リン酸ナトリウム溶液(NaH2PO2濃度:30g/L)に、3分間浸漬させ、前処理層の還元処理を行った。 Next, the PET film on which the pretreatment layer obtained above was formed was immersed in a sodium hypophosphite solution (NaH 2 PO 2 concentration: 30 g / L) at 60 ° C. for 3 minutes, Reduction treatment was performed.

3.金属導電層の作製
上記で還元処理された前処理層が形成されたPETフィルムを、無電解銅めっき液(メルテックス株式会社製 メルプレートCU−5100)に浸漬し、50℃、20分間で、無電解銅めっき処理してメッシュ状の金属導電層(厚さ2μm)を作製し、電磁波シールド性光透過窓材を得た。
3. Preparation of metal conductive layer The PET film on which the pretreatment layer reduced as described above is formed is immersed in an electroless copper plating solution (Melplate CU-5100 manufactured by Meltex Co., Ltd.) at 50 ° C. for 20 minutes. An electroless copper plating treatment was performed to produce a mesh-like metal conductive layer (thickness: 2 μm) to obtain an electromagnetic wave shielding light transmitting window material.

(実施例2及び3)
アンカーコート層の厚さをそれぞれ0.6μm、1.0μmとした以外は、実施例1と同様にして電磁波シールド性光透過窓材を製造した。
(Examples 2 and 3)
An electromagnetic wave shielding light transmissive window material was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the anchor coat layer was 0.6 μm and 1.0 μm, respectively.

(比較例1)
アンカーコート層を形成しなかった以外は、実施例1と同様にして電磁波シールド性光透過窓材を製造した。
(Comparative Example 1)
An electromagnetic wave shielding light transmitting window material was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the anchor coat layer was not formed.

(比較例2)
下記の組成のアンカーコート層形成用組成物を使用した以外は、実施例1と同様にして電磁波シールド性光透過窓材を製造した。
(Comparative Example 2)
An electromagnetic wave shielding light transmitting window material was produced in the same manner as in Example 1 except that the anchor coat layer forming composition having the following composition was used.

アンカーコート層形成用組成物の組成;
ポリエステル樹脂 100質量部
(バイロン(登録商標)103、東洋紡績株式会社製;数平均分子量Mn23×103、ガラス転移温度(Tg)47℃)
ポリイソシアネート 15質量部
(CAT−10L、東洋モートン株式会社製)
メチルエチルケトン/トルエン=1/1(質量比) 900質量部
The composition of the anchor coat layer forming composition;
100 parts by mass of polyester resin (Byron (registered trademark) 103, manufactured by Toyobo Co., Ltd .; number average molecular weight Mn23 × 10 3 , glass transition temperature (Tg) 47 ° C.)
15 parts by mass of polyisocyanate (CAT-10L, manufactured by Toyo Morton Co., Ltd.)
Methyl ethyl ketone / toluene = 1/1 (mass ratio) 900 parts by mass

(比較例3及び4)
アンカーコート層の厚さをそれぞれ0.6μm、1.0μmとした以外は、比較例2と同様にして電磁波シールド性光透過窓材を製造した。
(Comparative Examples 3 and 4)
An electromagnetic wave shielding light-transmitting window material was manufactured in the same manner as in Comparative Example 2 except that the thickness of the anchor coat layer was 0.6 μm and 1.0 μm, respectively.

(評価)
1.アンカーコート層の前処理剤の広がり速度
実施例及び比較例において作製したアンカーコート層について、前処理剤の広がり速度を下記手順に従って測定した。
(Evaluation)
1. Spread rate of pretreatment agent in anchor coat layer For the anchor coat layers prepared in Examples and Comparative Examples, the spread rate of the pretreatment agent was measured according to the following procedure.

アンカーコート層上に、実施例1で使用した前処理剤1μlをマイクロシリンジにより滴下し、滴下してから10秒後に液滴のアンカーコート層と接している部分の面積を液適の接触角により算出し、その面積を10[秒]で割った値を算出することにより、広がり速度[μm2/秒]を求めた。結果を表1に示す。 On the anchor coat layer, 1 μl of the pretreatment agent used in Example 1 is dropped by a microsyringe, and the area of the portion in contact with the anchor coat layer of the droplet 10 seconds after dropping is determined by a suitable contact angle. The spreading speed [μm 2 / sec] was determined by calculating and dividing the area by 10 [sec]. The results are shown in Table 1.

なお、比較例1では、PETフィルムについて、前処理剤の広がり速度を上記と同様の手順に従って測定した。   In Comparative Example 1, the spreading speed of the pretreatment agent was measured for the PET film according to the same procedure as described above.

2.メッシュ状の前処理層のパターン形状
実施例及び比較例において作製した各メッシュ状の前処理層の幅をマイクロスコープ(キーエンス製)、メッシュ状の前処理層の厚さを表面粗さ計(ミツトヨ製)を使用して、それぞれ4箇所測定し、これらの平均値を算出した。結果を表1に示す。
2. Pattern shape of mesh-like pretreatment layer The width of each mesh-like pretreatment layer produced in the examples and comparative examples is a microscope (manufactured by Keyence), and the thickness of the mesh-like pretreatment layer is the surface roughness meter (Mitutoyo). The product was measured at four locations, and the average value was calculated. The results are shown in Table 1.

Figure 2010238855
Figure 2010238855

表1に示すように、ガラス転移温度が20℃以下のポリエステル樹脂を用いた実施例1〜3では、前処理剤の広がり速度が低く、前処理剤を優れた精度で印刷できることが分かる。   As shown in Table 1, in Examples 1 to 3 using a polyester resin having a glass transition temperature of 20 ° C. or less, it is understood that the spreading speed of the pretreatment agent is low and the pretreatment agent can be printed with excellent accuracy.

101 透明基材、
102 アンカーコート層、
103 メッシュ状の前処理層、
104 メッシュ状の金属導電層。
101 transparent substrate,
102 anchor coat layer,
103 mesh-like pretreatment layer,
104 Mesh-like metal conductive layer.

Claims (11)

ガラス転移温度が20℃以下である合成樹脂を含む組成物を、透明基材表面に塗工し、硬化させることによりアンカーコート層を形成する工程、
前記アンカーコート層上に、シランカップリング剤とアゾール系化合物との混合物又は反応生成物、及び貴金属化合物を含む無電解めっき前処理剤をメッシュ状に印刷して、メッシュ状の前処理層を形成する工程と、
前記前処理層上に、無電解めっき処理により、メッシュ状の金属導電層を形成する工程と、を有することを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
A step of forming an anchor coat layer by applying a composition containing a synthetic resin having a glass transition temperature of 20 ° C. or less to the surface of a transparent substrate and curing the composition;
On the anchor coat layer, a mixture or reaction product of a silane coupling agent and an azole compound, and an electroless plating pretreatment agent containing a noble metal compound are printed in a mesh shape to form a mesh-shaped pretreatment layer. And a process of
And a step of forming a mesh-shaped metal conductive layer on the pretreatment layer by electroless plating treatment.
前記合成樹脂が、ポリエステル樹脂である請求項1に記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 1, wherein the synthetic resin is a polyester resin. 前記合成樹脂が活性水素を含む基を有し、前記組成物が少なくとも2個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートをさらに含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The electromagnetic shielding light-transmitting window material according to claim 1 or 2, wherein the synthetic resin has a group containing active hydrogen, and the composition further contains a polyisocyanate having at least two isocyanate groups. Manufacturing method. 前記ポリイソシアネートの含有量が、前記合成樹脂100質量部に対して、5〜20質量部であることを特徴とする請求項3に記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmissive window material according to claim 3, wherein the content of the polyisocyanate is 5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the synthetic resin. 前記アンカーコート層の厚さが、0.1〜1μmであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The thickness of the said anchor coat layer is 0.1-1 micrometer, The manufacturing method of the electromagnetic wave shielding light transmission window material of any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 前記アンカーコート層上に前記無電解めっき前処理剤を1μl滴下した際に、前記無電解めっき前処理剤の広がり速度が0.1〜3μm2/秒であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。 The spreading rate of the electroless plating pretreatment agent is 0.1 to 3 µm 2 / sec when 1 µl of the electroless plating pretreatment agent is dropped on the anchor coat layer. 6. The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmissive window material according to any one of 5 above. 前記シランカップリング剤が、エポキシ基含有シラン化合物である請求項1〜6のいずれか1項に記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The said silane coupling agent is an epoxy group containing silane compound, The manufacturing method of the electromagnetic wave shielding light transmission window material of any one of Claims 1-6. 前記アゾール系化合物が、イミダゾールである請求項1〜7のいずれか1項に記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of claims 1 to 7, wherein the azole compound is imidazole. 前記貴金属化合物が、パラジウム、銀、白金及び金よりなる群から選択される少なくとも1種の金属原子を含む化合物である請求項1〜8のいずれか1項に記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The electromagnetic wave shielding light transmissive window material according to any one of claims 1 to 8, wherein the noble metal compound is a compound containing at least one metal atom selected from the group consisting of palladium, silver, platinum and gold. Manufacturing method. 前記無電解めっき前処理剤を前記アンカーコート層上にメッシュ状に印刷した後、80〜160℃で乾燥させる請求項1〜9のいずれか1項に記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。   The electromagnetic wave shielding light-transmitting window material according to any one of claims 1 to 9, wherein the electroless plating pretreatment agent is printed in a mesh shape on the anchor coat layer and then dried at 80 to 160 ° C. Method. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法により得られた電磁波シールド性光透過窓材。   The electromagnetic wave shielding light transmission window material obtained by the method of any one of Claims 1-10.
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