JP2010231862A - Method for manufacturing magnetic disk - Google Patents

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Kota Suzuki
宏太 鈴木
Shuhei Azuma
修平 東
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a magnetic disk having superior magnetic characteristics and reliability characteristics, despite the low floating height of a magnetic head accompanying rapid increase of recording density in recent years and very severe environment resistance required, accompanying the diversified uses. <P>SOLUTION: In the method for manufacturing the magnetic disk having at least a magnetic layer and a protective layer disposed on a substrate, the protective layer is deposited using a plasma CVD method, and a deposition condition of the protective layer is set, in such a way that the hydrogen content in the magnetic layer, as measured with a recoil molecular scattering method, becomes an allowable value, and the protective layer is formed based on the set deposition condition. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明はハードディスクドライブ(以下、HDDと略記する)などの磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクの製造方法に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic disk mounted on a magnetic disk device such as a hard disk drive (hereinafter abbreviated as HDD).

近年の情報処理の大容量化に伴い、各種の情報記録技術が開発されている。特に磁気記録技術を用いたHDDの面記録密度は年率100%程度の割合で増加し続けている。最近では、HDD等に用いられる2.5インチ径磁気ディスクにして、1枚当り250Gバイトを超える情報記録容量が求められるようになってきており、このような所要に応えるためには1平方インチ当り400Gビットを超える情報記録密度を実現することが求められる。HDD等に用いられる磁気ディスクにおいて高記録密度を達成するためには、情報信号の記録を担う磁気記録層を構成する磁性結晶粒子を微細化すると共に、その層厚を低減していく必要があった。ところが、従来より商業化されている面内磁気記録方式(長手磁気記録方式、水平磁気記録方式とも呼称される)の磁気ディスクの場合、磁性結晶粒子の微細化が進展した結果、超常磁性現象により記録信号の熱的安定性が損なわれ、記録信号が消失してしまう、熱揺らぎ現象が発生するようになり、磁気ディスクの高記録密度化への阻害要因となっていた。 Various information recording techniques have been developed with the recent increase in information processing capacity. In particular, the surface recording density of HDDs using magnetic recording technology continues to increase at an annual rate of about 100%. Recently, an information recording capacity exceeding 250 Gbytes for a 2.5-inch diameter magnetic disk used for an HDD or the like has been demanded. It is required to realize an information recording density exceeding 400 Gbits per unit. In order to achieve a high recording density in a magnetic disk used for an HDD or the like, it is necessary to refine the magnetic crystal particles constituting the magnetic recording layer for recording information signals and to reduce the layer thickness. It was. However, in the case of magnetic disks of the in-plane magnetic recording method (also called longitudinal magnetic recording method or horizontal magnetic recording method) that have been commercialized conventionally, as a result of the progress of miniaturization of magnetic crystal grains, superparamagnetic phenomenon The thermal stability of the recording signal is impaired, the recording signal disappears, and a thermal fluctuation phenomenon occurs, which has been an impediment to increasing the recording density of the magnetic disk.

この阻害要因を解決するために、近年、垂直磁気記録方式用の磁気記録媒体が提案されている。垂直磁気記録方式の場合では、面内磁気記録方式の場合とは異なり、磁気記録層の磁化容易軸は基板面に対して垂直方向に配向するよう調整されている。垂直磁気記録方式は面内記録方式に比べて、熱揺らぎ現象を抑制することができるので、高記録密度化に対して好適である。このような垂直磁気記録媒体としては、例えば特開2002-74648号公報に記載されたような、基板上に軟磁性体からなる軟磁性下地層と、硬磁性体からなる垂直磁気記録層を備える、いわゆる二層型垂直磁気記録ディスクが知られている。   In order to solve this hindrance factor, in recent years, a magnetic recording medium for perpendicular magnetic recording has been proposed. In the case of the perpendicular magnetic recording system, unlike the case of the in-plane magnetic recording system, the easy axis of magnetization of the magnetic recording layer is adjusted to be oriented in the direction perpendicular to the substrate surface. The perpendicular magnetic recording method can suppress the thermal fluctuation phenomenon as compared with the in-plane recording method, and is suitable for increasing the recording density. As such a perpendicular magnetic recording medium, for example, as described in JP-A-2002-74648, a soft magnetic underlayer made of a soft magnetic material and a perpendicular magnetic recording layer made of a hard magnetic material are provided on a substrate. A so-called double-layered perpendicular magnetic recording disk is known.

ところで、従来の磁気ディスクは、磁気ディスクの耐久性、信頼性を確保するために、基板上に形成された磁気記録層の上に、保護層と潤滑層を設けている(例えば特許文献1等)。 By the way, in the conventional magnetic disk, in order to ensure the durability and reliability of the magnetic disk, a protective layer and a lubricating layer are provided on the magnetic recording layer formed on the substrate (for example, Patent Document 1). ).

特開2000−282238号公報JP 2000-282238 A

上述したように、最近のHDDでは400Gbit/inch以上の情報記録密度が要求されるようになってきたが、限られたディスク面積を有効に利用するために、HDDの起動停止機構が従来のCSS(ContactStart and Stop)方式に代えてLUL(Load Unload:ロードアンロード)方式のHDDが用いられるようになってきた。LUL方式では、HDDの停止時には、磁気ヘッドを磁気ディスクの外に位置するランプと呼ばれる傾斜台に退避させておき、起動動作時には磁気ディスクが回転開始した後に、磁気ヘッドをランプから磁気ディスク上に滑動させ、浮上飛行させて記録再生を行なう。停止動作時には磁気ヘッドを磁気ディスク外のランプに退避させたのち、磁気ディスクの回転を停止する。この一連の動作はLUL動作と呼ばれる。LUL方式のHDDに搭載される磁気ディスクでは、CSS方式のような磁気ヘッドとの接触摺動用領域(CSS領域)を設ける必要がなく、記録再生領域を拡大させることができ、高情報容量化にとって好ましいからである。 As described above, an information recording density of 400 Gbit / inch 2 or more has been required in recent HDDs. However, in order to effectively use a limited disk area, an HDD start / stop mechanism has been conventionally used. Instead of the CSS (Contact Start and Stop) method, a LUL (Load Unload) type HDD has been used. In the LUL method, when the HDD is stopped, the magnetic head is retracted to a ramp called a ramp located outside the magnetic disk, and during the start-up operation, after the magnetic disk starts rotating, the magnetic head is moved from the ramp onto the magnetic disk. Slide and fly to record and playback. During the stop operation, the magnetic head is retracted to the ramp outside the magnetic disk, and then the rotation of the magnetic disk is stopped. This series of operations is called LUL operation. The magnetic disk mounted on the LUL type HDD does not need to provide a contact sliding area (CSS area) with the magnetic head as in the CSS type, and the recording / reproducing area can be enlarged, which increases the information capacity. It is because it is preferable.

このような状況の下で情報記録密度を向上させるためには、磁気ヘッドの浮上量を低減させることにより、スペーシングロスを限りなく低減する必要がある。1平方インチ当り400Gビット以上の情報記録密度を達成するためには、磁気ヘッドの浮上量は少なくとも5nm以下にする必要がある。LUL方式ではCSS方式と異なり、磁気ディスク面上にCSS用の凸凹形状を設ける必要が無く、磁気ディスク面上を極めて平滑化することが可能となる。よってLUL方式のHDDに搭載される磁気ディスクでは、CSS方式に比べて磁気ヘッド浮上量を一段と低下させることができるので、記録信号の高S/N比化を図ることができ、磁気ディスク装置の高記録容量化に資することができるという利点もある。 In order to improve the information recording density under such circumstances, it is necessary to reduce the spacing loss as much as possible by reducing the flying height of the magnetic head. In order to achieve an information recording density of 400 Gbits or more per square inch, the flying height of the magnetic head needs to be at least 5 nm. Unlike the CSS method, the LUL method does not require a concave / convex shape for CSS on the magnetic disk surface, and the magnetic disk surface can be extremely smoothed. Therefore, in the magnetic disk mounted on the LUL type HDD, the flying height of the magnetic head can be further reduced as compared with the CSS type, so that the S / N ratio of the recording signal can be increased, and the magnetic disk apparatus There is also an advantage that the recording capacity can be increased.

最近のLUL方式の導入に伴う、磁気ヘッド浮上量の一段の低下により、5nm以下の超低浮上量においても、磁気ディスクが安定して動作することが求められるようになってきた。とりわけ上述したように、近年、磁気ディスクは面内磁気記録方式から垂直磁気記録方式に移行しており、磁気ディスクの大容量化、それに伴うフライングハイトの低下が強く要求されている。 Due to a further decrease in the flying height of the magnetic head accompanying the recent introduction of the LUL system, it has been required that the magnetic disk operate stably even at an ultra-low flying height of 5 nm or less. In particular, as described above, in recent years, the magnetic disk has shifted from the in-plane magnetic recording system to the perpendicular magnetic recording system, and there is a strong demand for an increase in the capacity of the magnetic disk and a reduction in flying height associated therewith.

また最近では、磁気ディスク装置は、従来のパーソナルコンピュータの記憶装置としてだけでなく、携帯電話、カーナビゲーションシステムなどのモバイル用途にも多用されるようになってきており、使用される用途の多様化により、磁気ディスクに求められる環境耐性は非常に厳しいものになってきている。したがって、これらの状況に鑑みると、従来にもまして、磁気ディスクの安定性、信頼性などの更なる向上が急務となっている。 Recently, magnetic disk devices are not only used as storage devices for conventional personal computers, but are also widely used in mobile applications such as mobile phones and car navigation systems. As a result, the environmental resistance required for magnetic disks has become very severe. Therefore, in view of these situations, further improvement in the stability and reliability of the magnetic disk is urgently required than before.

ところで、磁気ディスクの保護層は、一般的にはプラズマCVD法により形成されることが多い。しかし、プラズマCVD法による成膜プロセスにおいては、原料ガスの分解により水素が発生し、この水素が磁気ディスクの保護層及び磁性層に取り込まれることが予想される。保護層においては、水素が適当量含有されることにより、保護層の膜質を向上できるので望ましいが、それを超える水素含有量であると磁気ディスクの信頼性特性に影響を与えるものと考えられる。また、磁性層にも水素が浸透して取り込まれると、磁気特性に影響を与えるものと考えられる。しかしながら、従来は深さ方向での水素含有量の分析手段が無く、磁気ディスクの保護層、磁性層に取り込まれている水素量が具体的にはどの程度であり、それが磁気ディスクの磁気特性や信頼性特性にどの程度影響を与えているのか皆目見当がつかないのが現状であった。なお、従来はラザフォード後方散乱による分析法が知られているが、該方法では膜中に含まれる水素を検出することができない。 Incidentally, the protective layer of a magnetic disk is generally often formed by a plasma CVD method. However, in the film formation process by the plasma CVD method, it is expected that hydrogen is generated by the decomposition of the source gas, and this hydrogen is taken into the protective layer and the magnetic layer of the magnetic disk. In the protective layer, an appropriate amount of hydrogen is desirable because the film quality of the protective layer can be improved. However, if the hydrogen content exceeds that, it is considered that the reliability characteristics of the magnetic disk are affected. Further, it is considered that when hydrogen penetrates and is taken into the magnetic layer, the magnetic properties are affected. Conventionally, however, there is no means for analyzing the hydrogen content in the depth direction, and what is the specific amount of hydrogen incorporated in the protective layer and magnetic layer of the magnetic disk, which is the magnetic property of the magnetic disk. The current situation is that everyone has no idea how much the reliability characteristics are affected. Conventionally, an analysis method by Rutherford backscattering is known, but this method cannot detect hydrogen contained in the film.

本発明は、このような従来の状況に鑑みなされたもので、その目的とするところは、近年の急速な高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低浮上量のもとで、また用途の多様化に伴う非常に厳しい環境耐性のもとで、良好な磁気特性、信頼性特性を有する磁気ディスクの製造方法を提供することである。 The present invention has been made in view of such a conventional situation. The object of the present invention is to reduce the flying height of a magnetic head with the recent rapid increase in recording density and diversify the applications. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a magnetic disk having good magnetic characteristics and reliability characteristics under the extremely severe environmental resistance accompanying the above.

本発明者は、鋭意検討した結果、以下の発明により、前記課題が解決できることを見い出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は以下の構成を有する。
(構成1)
基板上に少なくとも磁性層と保護層が設けられた磁気ディスクの製造方法であって、反跳分子散乱法を用いて測定される前記磁性層中の水素含有量が許容値7原子%以下となるように前記保護層の成膜条件を設定し、該設定した成膜条件により前記保護層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
As a result of intensive studies, the present inventor has found that the above-described problems can be solved by the following invention, and completed the present invention.
That is, the present invention has the following configuration.
(Configuration 1)
A method of manufacturing a magnetic disk in which at least a magnetic layer and a protective layer are provided on a substrate, wherein the hydrogen content in the magnetic layer measured using a recoil molecular scattering method is an allowable value of 7 atomic% or less. The method for manufacturing a magnetic disk is characterized in that the film forming conditions for the protective layer are set as described above, and the protective layer is formed according to the set film forming conditions.

(構成2)
予め前記保護層の成膜条件が判っている磁気ディスクについて、反跳分子散乱法を用いて前記磁性層中の水素含有量を測定し、前記磁性層中の水素含有量の許容値を設定し、該設定した許容値となるように前記保護層の成膜条件を設定することを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスクの製造方法。
(Configuration 2)
For a magnetic disk whose film formation conditions for the protective layer are known in advance, the hydrogen content in the magnetic layer is measured using a recoil molecular scattering method, and an allowable value for the hydrogen content in the magnetic layer is set. 2. The method of manufacturing a magnetic disk according to claim 1, wherein a film forming condition of the protective layer is set so as to satisfy the set allowable value.

(構成3)
前記保護層は、プラズマCVD法により成膜される炭素系保護層であることを特徴とする請求項1又は2に記載の磁気ディスクの製造方法。
(Configuration 3)
The method for manufacturing a magnetic disk according to claim 1, wherein the protective layer is a carbon-based protective layer formed by a plasma CVD method.

(構成4)
成膜前基板加熱温度、及び/又は、ガス流量を制御することにより、前記保護層の成膜条件を設定することを特徴とする請求項2又は3に記載の磁気ディスクの製造方法。
(Configuration 4)
4. The method of manufacturing a magnetic disk according to claim 2, wherein the protective layer deposition conditions are set by controlling the substrate heating temperature before deposition and / or the gas flow rate.

(構成5)
前記磁性層は、少なくとも垂直磁気記録層とその上に設けられた補助記録層とからなり、該補助記録層中の水素含有量が許容値となるように前記保護層の成膜条件を設定することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の磁気ディスクの製造方法。
(Configuration 5)
The magnetic layer includes at least a perpendicular magnetic recording layer and an auxiliary recording layer provided thereon, and the film forming conditions of the protective layer are set so that the hydrogen content in the auxiliary recording layer becomes an allowable value. The method of manufacturing a magnetic disk according to claim 1, wherein the magnetic disk is manufactured as follows.

(構成6)
起動停止機構がロードアンロード方式の磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の磁気ディスクの製造方法。
(Configuration 6)
6. The method of manufacturing a magnetic disk according to claim 1, wherein the start / stop mechanism is a magnetic disk mounted on a load / unload type magnetic disk device.

本発明によれば、磁性層中の水素含有量をモニターし、これが許容値となるように保護層の成膜条件を最適化して、水素含有量を好適に制御することができ、結果、近年の急速な高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低浮上量のもとで、また用途の多様化に伴う非常に厳しい環境耐性のもとで、良好な磁気特性、信頼性特性を有する磁気ディスクを得ることができる。 According to the present invention, the hydrogen content in the magnetic layer can be monitored, and the film formation conditions of the protective layer can be optimized so that this becomes an allowable value, so that the hydrogen content can be suitably controlled. Magnetic disks with good magnetic characteristics and reliability characteristics under the low flying height of magnetic heads due to the rapid increase in recording density and extremely severe environmental resistance due to diversification of applications. Obtainable.

以下、本発明を実施の形態により詳細に説明する。
まず、磁気ディスクについて、概略を説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail by embodiments.
First, an outline of the magnetic disk will be described.

例えば高記録密度化に有効な垂直磁気記録ディスクの層構成としては、具体的には、基板に近い側から、例えば密着層、軟磁性層、シード層、下地層、磁気記録層(垂直磁気記録層)、保護層、潤滑層などを積層したものである。   For example, as a layer structure of a perpendicular magnetic recording disk effective for increasing the recording density, specifically, for example, an adhesion layer, a soft magnetic layer, a seed layer, an underlayer, a magnetic recording layer (perpendicular magnetic recording layer) from the side close to the substrate. Layer), a protective layer, a lubricating layer, and the like.

上記基板用ガラスとしては、アルミノシリケートガラス、アルミノボロシリケートガラス、ソーダタイムガラス等が挙げられるが、中でもアルミノシリケートガラスが好適である。また、アモルファスガラス、結晶化ガラスを用いることができる。軟磁性層をアモルファスとする場合にあっては、基板をアモルファスガラスとすると好ましい。なお、化学強化したガラスを用いると、剛性が高く好ましい。本発明において、基板主表面の表面粗さはRmaxで1nm以下、Raで0.3nm以下であることが好ましい。 Examples of the glass for a substrate include aluminosilicate glass, aluminoborosilicate glass, soda time glass, and aluminosilicate glass is preferred. Amorphous glass and crystallized glass can also be used. When the soft magnetic layer is amorphous, it is preferable that the substrate is made of amorphous glass. Use of chemically strengthened glass is preferable because of its high rigidity. In the present invention, the surface roughness of the main surface of the substrate is preferably 1 nm or less in terms of Rmax and 0.3 nm or less in terms of Ra.

基板上には、垂直磁気記録層の磁気回路を好適に調整するための軟磁性層を設けることが好適である。かかる軟磁性層は、第一軟磁性層と第二軟磁性層の間に非磁性のスペーサ層を介在させることによって、AFC(Antiferro-magneticexchange coupling:反強磁性交換結合)を備えるように構成することが好適である。これにより第一軟磁性層と第二軟磁性層の磁化方向を高い精度で反並行に整列させることができ、軟磁性層から生じるノイズを低減することができる。具体的には、第一軟磁性層、第二軟磁性層の組成としては、例えばCoTaZr(コバルト−タンタル−ジルコニウム)またはCoFeTaZr(コバルト−鉄−タンタル−ジルコニウム)またはCoFeTaZrAl(コバルト−鉄−タンタル−ジルコニウム−アルミニウム)とすることができる。上記スペーサ層の組成は例えばRu(ルテニウム)とすることができる。
軟磁性層の膜厚は、構造及び磁気ヘッドの構造や特性によっても異なるが、全体で15nm〜100nmであることが望ましい。なお、上下各層の膜厚については、記録再生の最適化のために多少差をつけることもあるが、概ね同じ膜厚とするのが望ましい。
It is preferable to provide a soft magnetic layer on the substrate for suitably adjusting the magnetic circuit of the perpendicular magnetic recording layer. Such a soft magnetic layer is configured to have AFC (Antiferro-magnetic exchange coupling) by interposing a nonmagnetic spacer layer between the first soft magnetic layer and the second soft magnetic layer. Is preferred. As a result, the magnetization directions of the first soft magnetic layer and the second soft magnetic layer can be aligned antiparallel with high accuracy, and noise generated from the soft magnetic layer can be reduced. Specifically, the composition of the first soft magnetic layer and the second soft magnetic layer is, for example, CoTaZr (cobalt-tantalum-zirconium), CoFeTaZr (cobalt-iron-tantalum-zirconium), or CoFeTaZrAl (cobalt-iron-tantalum- Zirconium-aluminum). The composition of the spacer layer can be, for example, Ru (ruthenium).
The film thickness of the soft magnetic layer varies depending on the structure and the structure and characteristics of the magnetic head, but is preferably 15 nm to 100 nm as a whole. The thickness of the upper and lower layers may be slightly different for the purpose of optimizing recording / reproduction, but it is desirable that the thicknesses be approximately the same.

また、基板と軟磁性層との間には、密着層を形成することも好ましい。密着層を形成することにより、基板と軟磁性層との間の付着性を向上させることができるので、軟磁性層の剥離を防止することができる。密着層の材料としては、例えばTi含有材料を用いることができる。   It is also preferable to form an adhesion layer between the substrate and the soft magnetic layer. Since the adhesion between the substrate and the soft magnetic layer can be improved by forming the adhesion layer, the soft magnetic layer can be prevented from peeling off. As the material of the adhesion layer, for example, a Ti-containing material can be used.

また、シード層は、下地層の配向ならびに結晶性を制御するために用いられる。全層を連続成膜する場合には特に必要のない場合もあるが、軟磁性層と下地層の相性如何によっては結晶成長性が劣化することがあるため、シード層を用いることにより、下地層の結晶成長性の劣化を防止することができる。シード層の膜厚は、下地層の結晶成長の制御を行うのに必要最小限の膜厚とすることが望ましい。厚すぎる場合には、信号の書き込み能力を低下させてしまう原因となる。 The seed layer is used to control the orientation and crystallinity of the underlayer. When all the layers are continuously formed, it may not be particularly necessary. However, the crystal growth property may be deteriorated depending on the compatibility of the soft magnetic layer and the underlayer. It is possible to prevent the deterioration of crystal growth. It is desirable that the seed layer has a minimum thickness necessary for controlling the crystal growth of the underlayer. If it is too thick, it may cause a decrease in signal writing capability.

上記下地層は、垂直磁気記録層の結晶配向性(結晶配向を基板面に対して垂直方向に配向させる)、結晶粒径、及び粒界偏析を好適に制御するために用いられる。下地層の材料としては、面心立方(fcc)構造あるいは六方最密充填(hcp)構造を有する単体あるいは合金が好ましく、例えばRu、Pd,Pt,Titpそれらを含む合金が挙げられるが、これらに限定はされない。本発明においては、特にRuまたはその合金が好ましく用いられる。Ruの場合、hcp結晶構造を備えるCoPt系垂直磁気記録層の結晶軸(c軸)を垂直方向に配向するよう制御する作用が高く好適である。 The underlayer is used to suitably control the crystal orientation of the perpendicular magnetic recording layer (orienting the crystal orientation in a direction perpendicular to the substrate surface), crystal grain size, and grain boundary segregation. The material of the underlayer is preferably a simple substance or an alloy having a face-centered cubic (fcc) structure or a hexagonal close-packed (hcp) structure, and examples thereof include Ru, Pd, Pt, Titp, and alloys containing them. There is no limitation. In the present invention, Ru or an alloy thereof is particularly preferably used. In the case of Ru, the effect of controlling the crystal axis (c axis) of the CoPt-based perpendicular magnetic recording layer having the hcp crystal structure to be oriented in the perpendicular direction is high and suitable.

また、上記垂直磁気記録層は、コバルト(Co)を主体とする結晶粒子と、酸化物またはSi,Ti,,Cr,CoまたはSi,Ti,,Cr,Co酸化物を主体とする粒界部を有するグラニュラー構造の強磁性層を含むことが好適である。
具体的に上記強磁性層を構成するCo系磁性材料としては、非磁性物質である酸化チタン(TiO)を含有するCoCrPt(コバルト−クロム−白金)からなる硬磁性体のターゲットを用いて、hcp結晶構造を成型する材料が望ましい。また、この強磁性層の膜厚は、例えば20nm以下であることが好ましい。
Further, the perpendicular magnetic recording layer includes crystal grains mainly composed of cobalt (Co) and grain boundary portions mainly composed of oxide or Si, Ti, Cr, Co or Si, Ti, Cr, Co oxide. It is preferable to include a ferromagnetic layer having a granular structure having
Specifically, as the Co-based magnetic material constituting the ferromagnetic layer, a hard magnetic target made of CoCrPt (cobalt-chromium-platinum) containing titanium oxide (TiO 2 ) which is a nonmagnetic substance is used. A material that molds the hcp crystal structure is desirable. Moreover, it is preferable that the film thickness of this ferromagnetic layer is 20 nm or less, for example.

また、上記垂直磁気記録層の上部には、磁気記録層の高密度記録性と低ノイズ性に加えて、補助記録層の高熱耐性を付加できるための補助記録層を設けることが好適である。補助記録層の組成は、例えばCoCrPtBとすることができる。   Further, it is preferable to provide an auxiliary recording layer above the perpendicular magnetic recording layer so that the high recording resistance of the auxiliary recording layer can be added in addition to the high density recording property and low noise property of the magnetic recording layer. The composition of the auxiliary recording layer can be, for example, CoCrPtB.

また、前記垂直磁気記録層と前記補助記録層との間に、交換結合制御層を有することが好適である。交換結合制御層を設けることにより、前記垂直磁気記録層と前記補助記録層との間の交換結合の強さを好適に制御して記録再生特性を最適化することができる。交換結合制御層としては、例えば、Ruなどが好適に用いられる。 It is preferable that an exchange coupling control layer is provided between the perpendicular magnetic recording layer and the auxiliary recording layer. By providing the exchange coupling control layer, the strength of exchange coupling between the perpendicular magnetic recording layer and the auxiliary recording layer can be suitably controlled to optimize the recording / reproducing characteristics. For example, Ru is preferably used as the exchange coupling control layer.

上記強磁性層を含む垂直磁気記録層の形成方法としては、スパッタリング法で成膜することが好ましい。特にDCマグネトロンスパッタリング法で形成すると均一な成膜が可能となるので好ましい。 As a method for forming the perpendicular magnetic recording layer including the ferromagnetic layer, it is preferable to form the film by sputtering. In particular, the DC magnetron sputtering method is preferable because uniform film formation is possible.

また、前記垂直磁気記録層の上に、保護層を設けることが好適である。保護層を設けることにより、磁気記録媒体上を浮上飛行する磁気ヘッドから磁気ディスク表面を保護することができる。保護層の材料としては、たとえば炭素系保護層が好適である。本発明における炭素系保護層においては、たとえば保護層の潤滑層側に窒素を含有させ、磁性層側に水素を含有させた組成傾斜層とすることが好適である。また、保護層の膜厚は3〜7nm程度が好適である。3nm未満では、保護層としての性能が低下する場合がある。また7nmを超えると、薄膜化の観点から好ましくない。 Moreover, it is preferable to provide a protective layer on the perpendicular magnetic recording layer. By providing the protective layer, the surface of the magnetic disk can be protected from the magnetic head flying over the magnetic recording medium. As a material for the protective layer, for example, a carbon-based protective layer is suitable. In the carbon-based protective layer according to the present invention, for example, a composition gradient layer in which nitrogen is contained on the lubricating layer side of the protective layer and hydrogen is contained on the magnetic layer side is preferable. Further, the thickness of the protective layer is preferably about 3 to 7 nm. If it is less than 3 nm, the performance as a protective layer may be deteriorated. Moreover, when exceeding 7 nm, it is unpreferable from a viewpoint of thin film formation.

また、前記保護層上に、更に潤滑層を設けることも好ましい。潤滑層を設けることにより、磁気ヘッドと磁気ディスク間の磨耗を抑止でき、磁気ディスクの耐久性を向上させることができる。潤滑層の材料としては、たとえばPFPE(パーフロロポリエーテル)系化合物が好ましい。潤滑層は、例えばディップコート法で形成することができる。 It is also preferable to further provide a lubricating layer on the protective layer. By providing the lubricating layer, wear between the magnetic head and the magnetic disk can be suppressed, and the durability of the magnetic disk can be improved. As a material for the lubricating layer, for example, a PFPE (perfluoropolyether) compound is preferable. The lubricating layer can be formed by, for example, a dip coating method.

本発明は、前記構成1にあるように、基板上に少なくとも磁性層と保護層が設けられた磁気ディスクの製造方法であって、反跳分子散乱法を用いて測定される前記磁性層中の水素含有量が許容値となるように前記保護層の成膜条件を設定し、該設定した成膜条件により前記保護層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法である。 The present invention provides a method for manufacturing a magnetic disk having at least a magnetic layer and a protective layer provided on a substrate as in Configuration 1, wherein the magnetic layer is measured using a recoil molecular scattering method. The method for manufacturing a magnetic disk is characterized in that a film forming condition of the protective layer is set so that a hydrogen content becomes an allowable value, and the protective layer is formed according to the set film forming condition.

本発明者は、鋭意検討した結果、高深さ分解能を有する反跳分子散乱法を用いることにより、特に磁気ディスクの深さ方向での膜中に含まれる水素量を好適に分析可能であることを見い出した。なお、反跳分子散乱法の測定原理については、理化学文献等で知られている。 As a result of intensive studies, the inventor has found that the amount of hydrogen contained in the film in the depth direction of the magnetic disk can be suitably analyzed by using a recoil molecular scattering method having a high depth resolution. I found it. The measurement principle of the recoil molecular scattering method is known in the physics and chemistry literature.

本発明における好ましい実施の形態としては、以下が挙げられる。
(1)予め前記保護層の成膜条件が判明している1つあるいは複数の磁気ディスクについて、反跳分子散乱法を用いて前記磁性層中の水素含有量を測定する。なお、本発明において、磁性層中の水素含有量を測定する際の反跳分子散乱法における測定条件は、入射イオンN2を用い480keVで30度より入射する。入射電流は、約0.2nAとする。
The following are mentioned as preferable embodiment in this invention.
(1) The hydrogen content in the magnetic layer is measured using a recoil molecular scattering method with respect to one or a plurality of magnetic disks for which the film forming conditions of the protective layer are known in advance. In the present invention, the measurement condition in the recoil molecular scattering method when measuring the hydrogen content in the magnetic layer is incident from 30 degrees at 480 keV using incident ions N2. The incident current is about 0.2 nA.

(2)前記磁性層中の水素含有量の許容値を設定する。本発明者の検討によると、良好な磁気特性を劣化させないようにするためには、磁性層中の水素含有量の許容値は、7原子%以下であることが望ましい。
(3)設定した許容値となるように前記保護層の成膜条件を設定する。
(4)設定した成膜条件により前記保護層を形成する。
(2) An allowable value of the hydrogen content in the magnetic layer is set. According to the study of the present inventor, it is desirable that the allowable value of the hydrogen content in the magnetic layer is 7 atomic% or less in order not to deteriorate the good magnetic properties.
(3) The film forming conditions for the protective layer are set so that the set allowable value is obtained.
(4) The protective layer is formed according to the set film formation conditions.

本発明において炭素系保護層を形成する場合は、特にプラズマCVD法により成膜されたアモルファス炭素保護層とすることが好ましい。プラズマCVD法により成膜することで保護層表面が均一となり密に成膜される。 When the carbon-based protective layer is formed in the present invention, it is particularly preferable to use an amorphous carbon protective layer formed by a plasma CVD method. By forming the film by plasma CVD, the surface of the protective layer becomes uniform and densely formed.

本発明者の検討によると、プラズマCVD法によって保護層を成膜する場合、例えば成膜時の基板加熱温度や、ガス流量を適宜制御することにより、原料ガスの分解による水素発生量を調整することが可能であり、結果的に保護層及び磁性層に取り込まれる水素量を制御することが可能である。   According to the inventor's study, when a protective layer is formed by plasma CVD, the amount of hydrogen generated by decomposition of the source gas is adjusted by appropriately controlling the substrate heating temperature and the gas flow rate during film formation, for example. As a result, the amount of hydrogen taken into the protective layer and the magnetic layer can be controlled.

従って、すでに判明している保護層の成膜条件とその磁気ディスクにおける磁性層中の水素含有量、および、設定した磁性層中の水素含有量の許容値を考慮して、その設定した許容値となるような保護層の最適化成膜条件、例えば成膜時の基板加熱温度や、ガス流量を設定することができる。 Therefore, taking into account the known deposition conditions of the protective layer, the hydrogen content in the magnetic layer of the magnetic disk, and the allowable value of the hydrogen content in the set magnetic layer, the set allowable value Optimized film formation conditions for the protective layer such as the substrate heating temperature during film formation and the gas flow rate can be set.

磁性層は、垂直磁気記録媒体においては、上記のように、少なくとも垂直磁気記録層とその上に設けられた補助記録層とからなる構成が好ましいが、この場合、水素が浸透し得る補助記録層中の水素含有量が許容値となるように保護層の成膜条件を設定することが好適である。 As described above, in the perpendicular magnetic recording medium, the magnetic layer preferably has at least a perpendicular magnetic recording layer and an auxiliary recording layer provided thereon. In this case, the auxiliary recording layer through which hydrogen can permeate is provided. It is preferable to set the film forming conditions of the protective layer so that the hydrogen content in the inside becomes an allowable value.

本発明により得られる磁気ディスクは、特にLUL方式の磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクとして好適である。LUL方式の導入に伴う磁気ヘッド浮上量の一段の低下により、例えば5nm以下の超低浮上量においても磁気ディスクが安定して動作することが求められるようになってきており、超低浮上量のもとで良好な磁気特性と信頼性徳性を有する本発明の磁気ディスクは好適である。 The magnetic disk obtained by the present invention is particularly suitable as a magnetic disk mounted in a LUL type magnetic disk device. Due to the further decrease in the flying height of the magnetic head accompanying the introduction of the LUL method, it has been demanded that the magnetic disk operates stably even at an ultra-low flying height of 5 nm or less, for example. The magnetic disk of the present invention having good magnetic characteristics and reliability is suitable.

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。
(磁気ディスクの製造)
以下のようにして、基板上に、密着層、軟磁性層、シード層、下地層、磁気記録層、炭素系保護層、及び潤滑層を順次形成して、磁気ディスクを作製した。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
(Manufacture of magnetic disk)
As described below, an adhesion layer, a soft magnetic layer, a seed layer, an underlayer, a magnetic recording layer, a carbon-based protective layer, and a lubricating layer were sequentially formed on the substrate to produce a magnetic disk.

化学強化されたアルミノシリケートガラスからなる2.5インチ型ガラスディスク(外径65mm、内径20mm、ディスク厚0.635mm)を準備し、ディスク基板とした。ディスク基板1の主表面は、Rmaxが2.13nm、Raが0.20nmに鏡面研磨されている。
このディスク基板上に、DCマグネトロンスパッタリング法により、Arガス雰囲気中で、密着層、軟磁性層、シード層、下地層、磁気記録層を順次形成した。
A 2.5-inch glass disk (outer diameter 65 mm, inner diameter 20 mm, disk thickness 0.635 mm) made of chemically strengthened aluminosilicate glass was prepared and used as a disk substrate. The main surface of the disk substrate 1 is mirror-polished so that Rmax is 2.13 nm and Ra is 0.20 nm.
On this disk substrate, an adhesion layer, a soft magnetic layer, a seed layer, an underlayer, and a magnetic recording layer were sequentially formed in an Ar gas atmosphere by a DC magnetron sputtering method.

以下の各材料の記述における数値は組成を示すものとする。
まず、密着層として、10nmのCr-50Ti層を成膜した。
次に、軟磁性層として、非磁性層を挟んで反強磁性交換結合する2層の軟磁性層の積層膜を成膜した。すなわち、最初に1層目の軟磁性層として、25nmの(50Fe-50Co)-3Ta4Zr層を成膜し、次に非磁性層として、0.7nmのRu層を成膜し、さらに2層目の軟磁性層として、1層目の軟磁性層と同じ、(50Fe-50Co)-3Ta4Zr層を25nmに成膜した。
The numerical values in the description of each material below indicate the composition.
First, a 10 nm Cr-50Ti layer was formed as an adhesion layer.
Next, as the soft magnetic layer, a laminated film of two soft magnetic layers that are antiferromagnetic exchange coupled with a nonmagnetic layer interposed therebetween was formed. That is, a 25 nm (50Fe-50Co) -3Ta4Zr layer is first formed as the first soft magnetic layer, then a 0.7 nm Ru layer is formed as the nonmagnetic layer, and the second layer is further formed. As the soft magnetic layer, the same (50Fe-50Co) -3Ta4Zr layer as the first soft magnetic layer was formed to a thickness of 25 nm.

次に、上記軟磁性層上に、シード層として、5nmのNiW層を成膜した。 Next, a 5 nm NiW layer was formed as a seed layer on the soft magnetic layer.

次に,下地層として2層のRu層を成膜した。すなわち、下地第一層として、Arガス圧0.7PaにてRuを12nm成膜し、下地第二層として、Arガス圧4.5PaにてRuを12nm成膜した。 Next, two Ru layers were formed as an underlayer. That is, Ru was formed to a thickness of 12 nm at an Ar gas pressure of 0.7 Pa as the base first layer, and Ru was formed to a thickness of 12 nm at an Ar gas pressure of 4.5 Pa as the base second layer.

次に、下地層の上に、磁気記録層を成膜した。まず、垂直磁気記録層として、10nmの90(Co-10Cr-16Pt)-5SiO2-5TiO2を成膜した。次に、交換結合制御層として、0.3nmのRu層を成膜し、更にその上に磁気記録層の補助記録層として、7nmのCo-15Cr-15Pt-5Bを成膜した。 Next, a magnetic recording layer was formed on the underlayer. First, 90 nm (Co-10Cr-16Pt) -5SiO2-5TiO2 of 10 nm was formed as a perpendicular magnetic recording layer. Next, a 0.3 nm Ru layer was formed as an exchange coupling control layer, and a 7 nm Co-15Cr-15Pt-5B film was formed thereon as an auxiliary recording layer of the magnetic recording layer.

そして次に、上記磁気記録層の上に、プラズマCVD法により、水素化ダイヤモンドライクカーボンからなる炭素系保護層を形成した。成膜時の基板加熱温度及びガス流量は所定の値に設定した。炭素系保護層の膜厚は5nmとした。
そして、真空装置から取り出し、この後、PFPE(パーフロロポリエーテル)からなる潤滑層をディップコート法により形成した。潤滑層の膜厚は1nmとした。
以上の製造工程により、垂直磁気記録ディスクAが得られた。
Next, a carbon-based protective layer made of hydrogenated diamond-like carbon was formed on the magnetic recording layer by plasma CVD. The substrate heating temperature and gas flow rate during film formation were set to predetermined values. The film thickness of the carbon-based protective layer was 5 nm.
And it took out from the vacuum apparatus, and the lubricating layer which consists of PFPE (perfluoropolyether) was formed by the dip coating method after this. The thickness of the lubricating layer was 1 nm.
Through the above manufacturing process, the perpendicular magnetic recording disk A was obtained.

以上のようにして得られた磁気ディスクAについて、反跳分子散乱法を用いて、上記保護層及び磁気記録層に含まれる水素量の分析を行った。なお、反跳分子散乱法による測定条件は、入射イオンN2を用い480keVで30度より入射した。入射電流は、約0.2nAとした。 For the magnetic disk A obtained as described above, the amount of hydrogen contained in the protective layer and the magnetic recording layer was analyzed using a recoil molecular scattering method. The measurement conditions by the recoil molecular scattering method were incident from 30 degrees at 480 keV using incident ions N2. The incident current was about 0.2 nA.

分析の結果、深さ方向に磁気記録層の補助記録層まで水素が浸透していることが判明した。そして、この補助記録層中の水素含有量は、9原子%であった。本発明者の検討によると、良好な磁気特性を劣化させないようにするためには、補助記録層中の水素含有量の許容値は、7原子%以下であると考えられるため、上記の磁気ディスクAにおける補助記録層中の水素含有量は許容値を超えていることが判明した。 As a result of analysis, it was found that hydrogen penetrated to the auxiliary recording layer of the magnetic recording layer in the depth direction. The hydrogen content in this auxiliary recording layer was 9 atomic%. According to the study of the present inventor, in order not to deteriorate the good magnetic characteristics, the allowable value of the hydrogen content in the auxiliary recording layer is considered to be 7 atomic% or less. It was found that the hydrogen content in the auxiliary recording layer in A exceeded the allowable value.

そこで、上記プラズマCVD法による炭素系保護層の成膜条件を見直し、成膜時の基板加熱温度及びガス流量を制御することにより、新たな保護層の成膜条件を設定した。このように新たに設定した成膜条件により、プラズマCVD法で炭素系保護層を形成したこと以外は、上記磁気ディスクAと同様にして、磁気ディスクBを作製した。 Therefore, the film formation conditions for the carbon-based protective layer by the plasma CVD method were reviewed, and new film formation conditions for the protective layer were set by controlling the substrate heating temperature and the gas flow rate during film formation. A magnetic disk B was produced in the same manner as the magnetic disk A, except that the carbon-based protective layer was formed by plasma CVD under the newly set film forming conditions.

得られた磁気ディスクBについて、上記と同じ反跳分子散乱法を用いて、上記保護層及び磁気記録層に含まれる水素量の分析を行ったところ、磁気記録層の補助記録層中の水素含有量は上記の許容値内であることが確認された。 For the obtained magnetic disk B, the amount of hydrogen contained in the protective layer and the magnetic recording layer was analyzed using the same recoil molecular scattering method as described above. The amount was confirmed to be within the above tolerance.

次に、以下の試験方法により、磁気ディスクB及び磁気ディスクA(参考例)の評価を行った。
(1)まず、静磁気特性の評価は、Kerr効果測定器を用いて、保磁力(Hc)を測定した結果、磁気ディスクBの保磁力Hcは4200Oe、磁気ディスクAの保磁力Hcは3500Oeであった。磁気ディスクBは、磁気ディスクAに比べて良好な静磁気特性を備えていることが分かる
Next, the magnetic disk B and the magnetic disk A (reference example) were evaluated by the following test methods.
(1) First, the magnetostatic characteristics were evaluated by measuring the coercive force (Hc) using a Kerr effect measuring device. As a result, the coercive force Hc of the magnetic disk B was 4200 Oe, and the coercive force Hc of the magnetic disk A was 3500 Oe. there were. It can be seen that the magnetic disk B has better magnetostatic characteristics than the magnetic disk A.

(2)次に、磁気ディスクのLUL(ロードアンロード)耐久性を評価するために、LUL耐久性試験を行なった。
LUL方式のHDD(5400rpm回転型)を準備し、浮上量が5nmの磁気ヘッドと磁気ディスクBを搭載した。磁気ヘッドのスライダーはNPAB(負圧)スライダーであり、再生素子は磁気抵抗効果型素子(GMR素子)を搭載している。シールド部はFeNi系パーマロイ合金である。このLUL方式HDDに連続LUL動作を繰り返させて、故障が発生するまでに磁気ディスクが耐久したLUL回数を計測した。
(2) Next, in order to evaluate the LUL (load / unload) durability of the magnetic disk, a LUL durability test was performed.
A LUL type HDD (5400 rpm rotating type) was prepared, and a magnetic head having a flying height of 5 nm and a magnetic disk B were mounted. The slider of the magnetic head is an NPAB (negative pressure) slider, and the reproducing element is equipped with a magnetoresistive element (GMR element). The shield part is an FeNi permalloy alloy. The LUL type HDD was made to repeat the continuous LUL operation, and the number of LULs that the magnetic disk was durable before the failure occurred was measured.

その結果、磁気ディスクBは、5nmの超低浮上量の下で障害無く60万回のLUL動作に耐久した。通常のHDDの使用環境下ではLUL回数が40万回を超えるには概ね10年程度の使用が必要と言われており、現状では60万回以上耐久すれば好適であるとされているので、磁気ディスクBは極めて高い信頼性を備えていると言える。
また、磁気ディスクAについても同様にして、LUL耐久性試験を行なった結果、5nmの超低浮上量の下では、25万回で故障した。
As a result, the magnetic disk B endured 600,000 times of LUL operation without failure under an ultra-low flying height of 5 nm. It is said that the use of about 10 years is necessary for the number of LULs to exceed 400,000 times under normal HDD usage environment, and it is said that it is preferable to endure 600,000 times or more at present. It can be said that the magnetic disk B has extremely high reliability.
Similarly, the magnetic disk A was subjected to the LUL durability test. As a result, it failed at 250,000 times under an ultra-low flying height of 5 nm.

以上説明したように、本発明によれば、磁性層中の水素含有量をモニターし、許容値となるように好適に制御することができるので、結果、近年の急速な高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低浮上量のもとで、また用途の多様化に伴う非常に厳しい環境耐性のもとで、良好な磁気特性、信頼性特性を有する磁気ディスクが得られることが確認された。
As described above, according to the present invention, the hydrogen content in the magnetic layer can be monitored and suitably controlled so as to be an allowable value, and as a result, with the recent rapid increase in recording density. It was confirmed that a magnetic disk having good magnetic characteristics and reliability characteristics can be obtained under the low flying height of the magnetic head and under extremely severe environmental resistance accompanying diversification of applications.

Claims (6)

基板上に少なくとも磁性層と保護層が設けられた磁気ディスクの製造方法であって、
反跳分子散乱法を用いて測定される前記磁性層中の水素含有量が許容値7原子%以下となるように前記保護層の成膜条件を設定し、該設定した成膜条件により前記保護層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
A method of manufacturing a magnetic disk having at least a magnetic layer and a protective layer provided on a substrate,
The film-forming condition of the protective layer is set so that the hydrogen content in the magnetic layer measured using a recoil molecular scattering method is an allowable value of 7 atomic% or less, and the protection is performed according to the set film-forming condition. A method of manufacturing a magnetic disk, comprising forming a layer.
予め前記保護層の成膜条件が判っている磁気ディスクについて、反跳分子散乱法を用いて前記磁性層中の水素含有量を測定し、前記磁性層中の水素含有量の許容値を設定し、該設定した許容値となるように前記保護層の成膜条件を設定することを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスクの製造方法。   For a magnetic disk whose film formation conditions for the protective layer are known in advance, the hydrogen content in the magnetic layer is measured using a recoil molecular scattering method, and an allowable value for the hydrogen content in the magnetic layer is set. 2. The method of manufacturing a magnetic disk according to claim 1, wherein a film forming condition of the protective layer is set so as to satisfy the set allowable value. 前記保護層は、プラズマCVD法により成膜される炭素系保護層であることを特徴とする請求項1又は2に記載の磁気ディスクの製造方法。   The method for manufacturing a magnetic disk according to claim 1, wherein the protective layer is a carbon-based protective layer formed by a plasma CVD method. 成膜前基板加熱温度、及び/又は、ガス流量を制御することにより、前記保護層の成膜条件を設定することを特徴とする請求項2又は3に記載の磁気ディスクの製造方法。   4. The method of manufacturing a magnetic disk according to claim 2, wherein the protective layer deposition conditions are set by controlling the substrate heating temperature before deposition and / or the gas flow rate. 前記磁性層は、少なくとも垂直磁気記録層とその上に設けられた補助記録層とからなり、該補助記録層中の水素含有量が許容値となるように前記保護層の成膜条件を設定することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の磁気ディスクの製造方法。   The magnetic layer includes at least a perpendicular magnetic recording layer and an auxiliary recording layer provided thereon, and the film forming conditions of the protective layer are set so that the hydrogen content in the auxiliary recording layer becomes an allowable value. The method of manufacturing a magnetic disk according to claim 1, wherein the magnetic disk is manufactured as follows. 起動停止機構がロードアンロード方式の磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の磁気ディスクの製造方法。
6. The method of manufacturing a magnetic disk according to claim 1, wherein the start / stop mechanism is a magnetic disk mounted on a load / unload type magnetic disk device.
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