JP2010225434A - Flexible electronics device substrate, and method of manufacturing the same - Google Patents

Flexible electronics device substrate, and method of manufacturing the same Download PDF

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Katsuyuki Hashimoto
勝之 橋本
Koji Kubo
耕司 久保
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flexible electronics device substrate excellent in heat resistant dimensional stability in performing flexible device processing, and to provide a method of manufacturing the same. <P>SOLUTION: The flexible electronics device substrate includes a process member having an adhesive layer on one surface of a glass plate and a laminate formed by laminating a biaxially oriented polyester film on the surface of the adhesive layer. A maximum dimensional change rate of the laminate after heat treatment of the laminate at 200°C for 30 minutes is at least 0.0% and not more than 0.1%. The substrate is obtained by performing flexible electronics device processing using the laminate and thereafter pealing the process member. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明はフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板およびその製造方法に関し、さらに詳しくは、フレキシブルデバイス加工を行う際の耐熱寸法安定性に優れたフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a flexible electronic device substrate and a manufacturing method thereof, and more particularly to a flexible electronic device substrate excellent in heat-resistant dimensional stability during flexible device processing and a manufacturing method thereof.

ポリエステルフィルム、特にポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートの二軸延伸フィルムは、優れた機械的性質、耐熱性、耐薬品性を有するため、磁気テープ、強磁性薄膜テープ、写真フィルム、包装用フィルム、電子部品用フィルム、電気絶縁フィルム、金属ラミネート用フィルム、ガラスディスプレイ等の表面に貼るフィルム、各種部材の保護用フィルム等の素材として広く用いられている。   Polyester films, especially biaxially stretched films of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, have excellent mechanical properties, heat resistance, and chemical resistance. Therefore, magnetic tape, ferromagnetic thin film tape, photographic film, packaging film, electronic parts It is widely used as a material such as a film for electrical use, an electrical insulation film, a film for metal lamination, a film to be attached to the surface of a glass display, and a protective film for various members.

液晶ディスプレイに代表される画像表示装置には、従来ガラス基板が用いられてきた。しかし、近年、画像表示装置は薄型、軽量化、大画面化、形状の自由度、曲面表示という要求から、重くて割れやすいガラス基板から高透明高分子フィルム基板への検討が行われてきている。
特に近年では有機ELに代表される自発光素子の開発が進み、液晶ディスプレイのようにバックライトを採用せざるを得ないがために多くの部材を必要とする画像表示装置にとって変わろうとしており、このような用途でもガラスの欠点のひとつである割れ易さや重さを改良したいという要求が年々高まってきている。
Conventionally, a glass substrate has been used for an image display device represented by a liquid crystal display. In recent years, however, image display devices have been studied from heavy and fragile glass substrates to highly transparent polymer film substrates because of demands for thinness, weight reduction, large screen, freedom of shape, and curved surface display. .
In recent years, development of self-luminous elements typified by organic EL has progressed in recent years, and it has been necessary to adopt a backlight like a liquid crystal display, so it is going to change for an image display device that requires many members. Even in such applications, demands for improving the ease of breaking and weight, which are one of the drawbacks of glass, are increasing year by year.

そこで、高分子フィルム基板としてポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートを含む様々な熱可塑性樹脂が検討されているが、これら高分子フィルム基板はガラス基板に較べて一般に熱に対する寸法変化が大きく、フレキシブルデバイス加工時に高分子フィルム基板に寸法変化が生じ、高繊細なディスプレイの実現が困難であった。そのため、より耐熱寸法安定性の高い材料の1つとして例えば特許文献1のようにポリエチレンナフタレートフィルムが検討されている。また、温度変化に対する寸法安定性を高めることで高繊細なディスプレイを実現すべく、例えば特許文献2において、30〜100℃における温度膨張係数(αt)がフィルムの長手方向および幅方向のいずれも15ppm/℃以下である二軸配向ポリエステルフィルムが提案されている。   Therefore, various thermoplastic resins including polypropylene, polyethylene terephthalate, and polycarbonate have been studied as polymer film substrates. However, these polymer film substrates generally have a larger dimensional change with respect to heat than glass substrates, and can be used when processing flexible devices. A dimensional change occurred in the polymer film substrate, and it was difficult to realize a high-definition display. Therefore, a polyethylene naphthalate film has been studied as one of materials having higher heat-resistant dimensional stability, for example, as disclosed in Patent Document 1. In order to realize a high-definition display by enhancing dimensional stability against temperature change, for example, in Patent Document 2, the temperature expansion coefficient (αt) at 30 to 100 ° C. is 15 ppm in both the longitudinal direction and the width direction of the film. A biaxially oriented polyester film having a temperature of / ° C. or lower has been proposed.

このように、従来の検討はポリエステルフィルム自体の耐熱特性を改良することにより、フレキシブルデバイス加工における基板の寸法変化を抑制しようとする試みであったが、適用できるポリエステルフィルムが限られ、またそのようなポリエステルフィルムでもまだ十分に対応できないことがあった。
そこで、フレキシブルデバイス加工を行う際のフィルム基板の耐熱寸法安定性について、さらなる向上が求められている。
As described above, the conventional study was an attempt to suppress the dimensional change of the substrate in the flexible device processing by improving the heat resistance characteristics of the polyester film itself. However, applicable polyester films are limited, and Some polyester films are still not fully compatible.
Therefore, further improvement is required for the heat-resistant dimensional stability of the film substrate when performing flexible device processing.

特開2004−9362号公報JP 2004-9362 A 国際公開第2005/110718号パンフレットInternational Publication No. 2005/110718 Pamphlet

本発明の目的は、かかる従来技術の課題を解消し、フレキシブルデバイス加工を行う際の耐熱寸法安定性に優れたフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板およびその製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a flexible electronic device substrate excellent in heat-resistant dimensional stability at the time of performing flexible device processing and a method for producing the same, by solving the problems of the conventional technology.

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、フレキシブルエレクトロニクスデバイス加工基板の寸法変化は、フレキシブルデバイス加工時に専ら生じるため、高温加工時の寸法変化を抑制することができれば、その後の加工工程および使用環境で更に寸法変化が生じにくいという知見に基き、フレキシブルデバイス加工時にガラス板を含む工程材を一定の耐熱寸法安定性を有するポリエステルフィルムに貼り付けて加工を行えば、加工時の寸法変化を抑制できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention, the dimensional change of the flexible electronic device processing substrate occurs exclusively during the flexible device processing, so if the dimensional change during high temperature processing can be suppressed, Based on the knowledge that dimensional change is less likely to occur in the processing process and usage environment, if processing is performed by attaching a process material containing a glass plate to a polyester film with a certain heat-resistant dimensional stability during flexible device processing, As a result, the present inventors have completed the present invention.

すなわち本発明の目的は、ガラス板の片面に粘着層を有する工程部材およびその粘着層面に二軸配向ポリエステルフィルムが積層された積層体からなり、積層体を200℃で30分間熱処理した後の積層体の最大寸法変化率が0.0%以上0.1%以下であって、該積層体を用いてフレキシブルエレクトロニクスデバイス加工を行い、該加工後に工程部材を剥離して得られるフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板によって達成される。   That is, an object of the present invention is a laminate comprising a process member having an adhesive layer on one side of a glass plate and a laminate in which a biaxially oriented polyester film is laminated on the adhesive layer surface, and the laminate is heat-treated at 200 ° C. for 30 minutes. A flexible electronic device substrate having a maximum dimensional change rate of 0.0% or more and 0.1% or less, wherein a flexible electronic device is processed using the laminate, and a process member is peeled after the processing Achieved.

本発明のフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板は、その好ましい態様として、積層体を構成する二軸配向ポリエステルフィルムの200℃、30分熱処理後の熱収縮率が0.1%以上1.0%以下であること、二軸配向ポリエステルフィルムを構成するポリエステルがポリエチレンナフタレンジカルボキシレートであること、フレキシブルエレクトロニクスデバイスがフレキシブル有機ELディスプレイ、電子ペーパー、太陽電池からなる群から選ばれる少なくとも1つであること、のいずれか少なくとも1つを具備する。   As a preferred embodiment of the flexible electronic device substrate of the present invention, the thermal contraction rate after heat treatment at 200 ° C. for 30 minutes of the biaxially oriented polyester film constituting the laminate is 0.1% or more and 1.0% or less. The polyester constituting the biaxially oriented polyester film is polyethylene naphthalene dicarboxylate, or the flexible electronic device is at least one selected from the group consisting of a flexible organic EL display, electronic paper, and a solar cell. At least one.

また本発明は、ガラス板の片面に粘着層を有する工程部材およびその粘着層面に二軸配向ポリエステルフィルムが積層された積層体であり、該積層体を200℃で30分間熱処理した後の積層体の最大寸法変化率が0.0%以上0.1%以下であるフレキシブルエレクトロニクスデバイス用積層体を包含してなる。   Moreover, this invention is a laminated body by which the process member which has an adhesion layer on the single side | surface of a glass plate, and the biaxially-oriented polyester film were laminated | stacked on the adhesion layer surface, The laminated body after heat-processing this laminated body for 30 minutes at 200 degreeC. And a laminate for flexible electronic devices having a maximum dimensional change rate of 0.0% or more and 0.1% or less.

また本発明は、ガラス板の片面に粘着層を有する工程部材およびその粘着層面に二軸配向ポリエステルフィルムが積層された積層体からなり、積層体を200℃で30分間熱処理した後の積層体の最大寸法変化率が0.0%以上0.1%以下であって、該積層体を用いてフレキシブルエレクトロニクスデバイス加工を行い、該加工後に工程部材から二軸配向ポリエステルフィルムを剥離するフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板の製造方法に関する。   The present invention also comprises a process member having an adhesive layer on one side of a glass plate and a laminate in which a biaxially oriented polyester film is laminated on the adhesive layer surface, and the laminate is heat-treated at 200 ° C. for 30 minutes. Flexible electronics device substrate having a maximum dimensional change rate of 0.0% or more and 0.1% or less, performing flexible electronic device processing using the laminate, and peeling the biaxially oriented polyester film from the process member after the processing It relates to the manufacturing method.

本発明のフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板は、一定の耐熱寸法安定性を有するポリエステルフィルムをガラス板を含む工程材に貼り付けてフレキシブルデバイス加工を行うことで加工時の寸法変化が抑制され、高繊細なデバイス加工を施すことができ、その後ガラス板を含む工程材を剥離することでフレキシブル性を有する基板として使用できるため、高繊細なディスプレイに好適なフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板を提供することができる。   The flexible electronic device substrate of the present invention is a highly delicate device in which a dimensional change during processing is suppressed by attaching a polyester film having a certain heat-resistant dimensional stability to a process material including a glass plate and performing flexible device processing. Since it can be processed and then can be used as a flexible substrate by peeling a process material including a glass plate, a flexible electronic device substrate suitable for a high-definition display can be provided.

以下、本発明を詳しく説明する。
<工程部材>
(ガラス板)
本発明の工程部材を構成するガラス板は、通常使用される無機ガラス板で構成される。ガラス板の厚みは0.01mm以上10mm以下であることが好ましく、0.5mm以上5mm以下であることがさらに好ましい。ガラス板の厚みはデバイス加工時に破損が生じない範囲内で薄い方がより好ましい。
The present invention will be described in detail below.
<Process members>
(Glass plate)
The glass plate which comprises the process member of this invention is comprised with the inorganic glass plate used normally. The thickness of the glass plate is preferably from 0.01 mm to 10 mm, and more preferably from 0.5 mm to 5 mm. The thickness of the glass plate is more preferably within a range where no damage occurs during device processing.

(粘着層)
本発明の工程部材を構成する粘着層は、ガラス基材およびポリエステルフィルムとの粘着性または接着性を有しており、デバイス加工時に粘着特性または接着特性を維持でき、デバイス加工後にポリエステルフィルムから剥離可能であれば特に限定されない。
例えば熱圧着させるタイプの粘着剤、熱または光で硬化させるタイプの粘着剤を用いた層が挙げられ、例えばアクリル系粘着剤を用いることができる。またポリエステルフィルムと剥離する際、そのまま剥離する方法だけでなく、粘着力または接着力を弱める処理を行った上で剥離する方法も含まれる。
(Adhesive layer)
The pressure-sensitive adhesive layer constituting the process member of the present invention has pressure-sensitive adhesiveness or adhesiveness with the glass substrate and the polyester film, can maintain the pressure-sensitive adhesive properties or adhesive properties during device processing, and peels from the polyester film after device processing There is no particular limitation if possible.
For example, a layer using a pressure-sensitive adhesive that is thermocompression-bonded or a type that is cured by heat or light can be used. For example, an acrylic pressure-sensitive adhesive can be used. Moreover, when peeling from a polyester film, not only the method of peeling as it is but the method of peeling after performing the process which weakens adhesive force or adhesive force is also included.

粘着層の厚みは特に限定されないが、好ましくは3μm以上50μm以下の範囲である。
粘着層はガラス板の片面に塗布して形成され、工程部材を構成する。ガラス板を含む工程部材と二軸配向ポリエステルフィルムを積層する際、粘着層面に二軸配向ポリエステルフィルムが積層される。
The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 3 μm or more and 50 μm or less.
The pressure-sensitive adhesive layer is formed by coating on one side of a glass plate and constitutes a process member. When laminating a process member including a glass plate and a biaxially oriented polyester film, the biaxially oriented polyester film is laminated on the adhesive layer surface.

<二軸配向ポリエステルフィルム>
(ポリエステル)
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを構成するポリエステルは、芳香族二塩基酸またはそのエステル形成性誘導体とジオールまたはそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルである。
かかるポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ(1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート)、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートを例示することができる。これらのポリエステルのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレンジカルボキシレートが熱的特性、力学的物性や光学物性等のバランスが良いので好ましい。特に、耐熱性が高く、高い機械的強度を有し、またガスバリア性に優れる、などの点でポリエチレンナフタレンジカルボキシレートが好ましく、さらにポリエチレン−2,6−ジカルボキシレートが最も好ましい。
<Biaxially oriented polyester film>
(polyester)
The polyester constituting the biaxially oriented polyester film of the present invention is a linear saturated polyester synthesized from an aromatic dibasic acid or an ester-forming derivative thereof and a diol or an ester-forming derivative thereof.
Specific examples of the polyester include polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polyethylene isophthalate, polybutylene terephthalate, poly (1,4-cyclohexylenedimethylene terephthalate), and polyethylene naphthalene dicarboxylate. Among these polyesters, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalene dicarboxylate are preferable because they have a good balance of thermal characteristics, mechanical properties, optical properties, and the like. In particular, polyethylene naphthalene dicarboxylate is preferable, and polyethylene-2,6-dicarboxylate is most preferable in terms of high heat resistance, high mechanical strength, and excellent gas barrier properties.

ポリエステルは、ホモポリマー、第三成分を共重合した共重合体、他の樹脂とのブレンドのいずれでもよいが、ホモポリマーが好ましい。
ポリエステルが共重合体である場合、共重合成分として、イソフタル酸、テレフタル酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、p−オキシ安息香酸が例示され、ジオール成分としてはトリメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイド付加物が例示される。かかる共重合成分は、二軸配向ポリエステルフィルムを構成するポリエステルの全酸成分又は全ジオール成分を基準として10mol%以下であることが好ましく、さらに好ましくは5mol%以下である。
またブレンドの場合は、ポリエステルの具体例の中から、主たる成分以外の種類のポリエステルを用いることができる。
The polyester may be a homopolymer, a copolymer obtained by copolymerizing the third component, or a blend with another resin, but a homopolymer is preferred.
When the polyester is a copolymer, examples of the copolymer component include isophthalic acid, terephthalic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, and p-oxybenzoic acid. Examples include trimethylene glycol, hexamethylene glycol, neopentyl glycol, ethylene oxide adducts of bisphenol sulfone. Such a copolymer component is preferably 10 mol% or less, more preferably 5 mol% or less, based on the total acid component or total diol component of the polyester constituting the biaxially oriented polyester film.
In the case of blending, polyesters other than the main components can be used from specific examples of polyester.

本発明のポリエステルは、従来公知の方法、例えばジカルボン酸成分とジオール成分との反応で直接低重合度ポリエステルを得、続いて重合触媒の存在下で重合反応を行う方法で得ることができる。また、他の従来公知の方法として、ジカルボン酸の低級アルキルエステルとジオール成分とをエステル交換触媒を用いて反応させた後、続いて重合触媒の存在下で重合反応を行う方法で得ることができる。
ポリエステルの固有粘度は0.40dl/g以上であることが好ましく、上限は0.90dl/g以下であることが更に好ましい。固有粘度が0.40dl/g未満では工程切断が多発することがある。また固有粘度が0.9dl/gより高いと溶融粘度が高いため溶融押出しが困難であるうえ、重合時間が長く不経済である。
また二軸配向フィルムに製膜した後のポリエステルの固有粘度は0.45dl/g以上0.85dl/g以下であることが好ましく、0.47dl/g以上0.80g/dl以下であることがさらに好ましい。
なお、固有粘度はo−クロロフェノールを溶媒として用いて、35℃で測定した値(単位:dl/g)である。
The polyester of the present invention can be obtained by a conventionally known method, for example, a method in which a polyester having a low polymerization degree is obtained directly by a reaction of a dicarboxylic acid component and a diol component, followed by a polymerization reaction in the presence of a polymerization catalyst. Further, as another conventionally known method, it can be obtained by a method in which a lower alkyl ester of a dicarboxylic acid and a diol component are reacted using an ester exchange catalyst, and then a polymerization reaction is performed in the presence of a polymerization catalyst. .
The intrinsic viscosity of the polyester is preferably 0.40 dl / g or more, and the upper limit is more preferably 0.90 dl / g or less. If the intrinsic viscosity is less than 0.40 dl / g, process cutting may occur frequently. If the intrinsic viscosity is higher than 0.9 dl / g, melt extrusion is difficult because of high melt viscosity, and the polymerization time is long and uneconomical.
Further, the intrinsic viscosity of the polyester after being formed on the biaxially oriented film is preferably 0.45 dl / g or more and 0.85 dl / g or less, and preferably 0.47 dl / g or more and 0.80 g / dl or less. Further preferred.
The intrinsic viscosity is a value (unit: dl / g) measured at 35 ° C. using o-chlorophenol as a solvent.

(滑剤)
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、滑剤を含有しないか、含有しても本発明の透明性および接着性の課題に影響を与えないような小粒径、少量であることが好ましい。
滑剤を含有する場合、フィルムの重量を基準として1.0重量%以下で含有することが好ましい。また滑剤の平均粒径は特に限定されないが、0.001〜1μmであることが好ましい。
また滑剤の種類は特に特定されず、例えば炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、シリカ、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子が挙げられる。
(Lubricant)
It is preferable that the biaxially oriented polyester film of the present invention does not contain a lubricant or has a small particle size and a small amount so as not to affect the transparency and adhesion problems of the present invention.
When a lubricant is contained, it is preferably contained at 1.0% by weight or less based on the weight of the film. The average particle size of the lubricant is not particularly limited, but is preferably 0.001 to 1 μm.
The type of lubricant is not particularly specified, and examples thereof include calcium carbonate, calcium oxide, aluminum oxide, kaolin, silica, crosslinked acrylic resin particles, crosslinked polystyrene resin particles, melamine resin particles, and crosslinked silicone resin particles.

(フィルム特性)
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、二軸方向に延伸された配向フィルムである。未延伸または一軸ポリエステルフィルムの場合、基板加工温度下で、未延伸方向の収縮が大きく、ガラス板を含む工程部材との貼り合せが剥離する。
(Film characteristics)
The biaxially oriented polyester film of the present invention is an oriented film stretched in the biaxial direction. In the case of an unstretched or uniaxial polyester film, the shrinkage in the unstretched direction is large at the substrate processing temperature, and the bonding with the process member including the glass plate is peeled off.

二軸配向ポリエステルフィルムは、200℃で30分間熱処理した後の熱収縮率が0.1%以上1.0%以下であることが好ましい。かかる熱収縮率は、0.5%以上〜0.60%以下の範囲であることがさらに好ましい。該熱収縮率特性は、フィルムの長手方向(以下、連続製膜方法、縦方向、MD方向と称することがある)、フィルムの幅方向(以下、横方向、TD方向と称することがある)の両方向とも満たすことが好ましい。
フィルムの熱収縮率がかかる範囲にあることにより、工程部材と貼り合せた積層体の状態でフレキシブルデバイス加工を行った際、積層体としての最大寸法変化率特性を満たすことができ、高繊細なデバイス加工を施すことができる。
二軸配向ポリエステルフィルムの熱収縮率をかかる範囲にするためには、延伸倍率2.5倍〜4.0倍で縦方向および横方向に延伸処理を行う方法が挙げられ、さらに、熱固定処理、熱弛緩処理を行うことでより熱収縮率を小さくすることができる。
The biaxially oriented polyester film preferably has a thermal shrinkage ratio of 0.1% to 1.0% after heat treatment at 200 ° C. for 30 minutes. The heat shrinkage rate is more preferably in the range of 0.5% to 0.60%. The heat shrinkage characteristics are measured in the longitudinal direction of the film (hereinafter, sometimes referred to as a continuous film forming method, longitudinal direction, MD direction) and the width direction of the film (hereinafter, sometimes referred to as lateral direction, TD direction). It is preferable to satisfy both directions.
When the flexible device processing is performed in the state of the laminated body bonded to the process member, the maximum dimensional change rate characteristic as the laminated body can be satisfied by the film having the heat shrinkage rate within such a range. Device processing can be performed.
In order to set the heat shrinkage ratio of the biaxially oriented polyester film in such a range, a method of performing a stretching treatment in the longitudinal direction and the transverse direction at a stretching ratio of 2.5 to 4.0 times is mentioned, and further, a heat setting treatment The thermal contraction rate can be further reduced by performing the thermal relaxation treatment.

本発明における二軸配向ポリエステルフィルムの厚みは、5μm以上250μm以下であることが好ましい。フィルム厚みがかかる範囲内にあることにより、フレキシブルエレクトロニクスデバイスの基板として使用する場合に必要な強度と屈曲性を具備することができる。該フィルムの厚みが下限に満たない場合は基板に使用したときに十分な強度を発現できないことがある。また該フィルムの厚みが上限をこえる場合は基板に使用したときに自由な屈曲性を得られなくなることがある。
二軸配向ポリエステルフィルムは、100〜180℃における温度膨張係数(αt)が10ppm/℃〜30ppm/℃の範囲にあることが好ましい。
かかるαtは、フィルム長手方向および幅方向のαtを求め、その平均値から求められる。二軸配向ポリエステルフィルムの100〜180℃における温度膨張係数(αt)の上限値は、好ましくは25ppm/℃であり、さらに好ましくは20ppm/℃である。温度膨張係数(αt)がかかる範囲からはずれる場合、工程部材と貼り合せた積層体の状態でフレキシブルデバイス加工を行った際に工程部材との温度膨張係数差が大きくなり、デバイス加工時に積層体のガラス板とポリエステルフィルム間に剥がれが生じることがある。
The thickness of the biaxially oriented polyester film in the present invention is preferably 5 μm or more and 250 μm or less. When the film thickness is within such a range, the strength and flexibility necessary for use as a substrate of a flexible electronic device can be provided. When the thickness of the film is less than the lower limit, sufficient strength may not be exhibited when used for a substrate. If the thickness of the film exceeds the upper limit, it may not be possible to obtain free flexibility when used for a substrate.
The biaxially oriented polyester film preferably has a temperature expansion coefficient (αt) at 100 to 180 ° C. in the range of 10 ppm / ° C. to 30 ppm / ° C.
The αt is obtained from the average value of αt in the film longitudinal direction and the width direction. The upper limit of the temperature expansion coefficient (αt) at 100 to 180 ° C. of the biaxially oriented polyester film is preferably 25 ppm / ° C., more preferably 20 ppm / ° C. When the temperature expansion coefficient (αt) deviates from the above range, when the flexible device processing is performed in the state of the laminated body bonded to the process member, the temperature expansion coefficient difference with the process member increases, Peeling may occur between the glass plate and the polyester film.

なお、本発明の温度膨張係数は、TMA装置を用い、チャック間距離20mmで40mNの荷重をかけた状態で180℃の温度条件下で30分間前処理後、室温まで降温させ、その後100℃から180℃まで5℃/分の昇温速度で昇温させてフィルムの寸法変化を測定し、下記式(1)により算出した寸法変化率によって求められる。
αt={〔(L2−L1)×106〕/(L1×ΔT)} ・・・(1)
(上式中、L1は100℃時のサンプル長(mm)、L2は180℃時のサンプル長(mm)、ΔTは測定温度差である80(=180℃−100℃)をそれぞれ表す)
かかる温度膨張係数は、フィルムの長手方向、フィルムの幅方向の少なくとも一方について満たすことが好ましく、両方向とも満たすことがさらに好ましい。
The temperature expansion coefficient of the present invention is determined by using a TMA apparatus, pre-treating under a temperature condition of 180 ° C. for 30 minutes under a load of 40 mN with a distance between chucks of 20 mm, and then lowering the temperature to room temperature. The film is heated up to 180 ° C. at a heating rate of 5 ° C./min, the dimensional change of the film is measured, and the dimensional change rate calculated by the following formula (1) is obtained.
[alpha] t = {[(L 2 -L 1) × 10 6 ] / (L 1 × ΔT)} ··· (1)
(In the above formula, L 1 represents a sample length (mm) at 100 ° C., L 2 represents a sample length (mm) at 180 ° C., and ΔT represents 80 (= 180 ° C.-100 ° C.) which is a measurement temperature difference. )
The temperature expansion coefficient is preferably satisfied in at least one of the longitudinal direction of the film and the width direction of the film, and more preferably in both directions.

(塗布層)
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、片面に塗布層が形成されていてもよい。塗布層は、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ビニル系樹脂から選ばれる少なくとも1種の水溶性または水分散性高分子樹脂からなることが好ましく、特にポリエステル樹脂とアクリル樹脂の両方を含むのが好ましい。塗布層のポリエステル樹脂は、ガラス転移点(Tg)が0〜100℃、更に好ましくは10〜90℃のものである。該ポリエステル樹脂は、水に可溶性または分散性のポリエステルが好ましい。
(Coating layer)
The biaxially oriented polyester film of the present invention may have a coating layer on one side. The coating layer is preferably made of at least one water-soluble or water-dispersible polymer resin selected from polyester resins, urethane resins, acrylic resins, and vinyl resins, and particularly includes both polyester resins and acrylic resins. preferable. The polyester resin of the coating layer has a glass transition point (Tg) of 0 to 100 ° C, more preferably 10 to 90 ° C. The polyester resin is preferably water-soluble or dispersible polyester.

かかるポリエステル樹脂としては、以下のような多塩基酸またはそのエステル形成誘導体と、ポリオールまたはそのエステル形成誘導体から成る。
多塩基酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、2、6ーナフタレンジカルボン酸、1、4ーシクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸等が挙げられる。これら酸成分を2種以上用いて共重合ポリエステル樹脂を合成する。
Such a polyester resin is composed of the following polybasic acid or its ester-forming derivative and polyol or its ester-forming derivative.
Polybasic acid components include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, Examples include dimer acid and 5-sodium sulfoisophthalic acid. A copolymer polyester resin is synthesized using two or more of these acid components.

また、ポリオール成分としては、エチレングリコール、1、4ーブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、1、6ーヘキサンジオール、1、4ーシクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパン、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコール、ビスフェノールA、ビスフェノールAのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド付加体等が挙げられる。また、これらモノマーが挙げられるがこれらに限定されるものではない。   The polyol component includes ethylene glycol, 1,4-butanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, xylene glycol, dimethylolpropane, poly (ethylene oxide) glycol, poly (Tetramethylene oxide) glycol, bisphenol A, ethylene oxide or propylene oxide adduct of bisphenol A, and the like. Moreover, although these monomers are mentioned, it is not limited to these.

本発明で用いる塗布層のアクリル樹脂は、ガラス転移点(Tg)が−50〜50℃、更に好ましくは−50〜25℃のものである。該アクリル樹脂は、水に可溶性または分散性のアクリルが好ましい。   The acrylic resin of the coating layer used in the present invention has a glass transition point (Tg) of -50 to 50 ° C, more preferably -50 to 25 ° C. The acrylic resin is preferably water-soluble or dispersible acrylic.

アクリル樹脂を形成するモノマーとしては、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、2ーヒドロキシアルキルアクリレート、2ーヒドロキシアルキルメタクリレート、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートなどのエポキシ基を含有するアクリルモノマー、カルボキシ基またはその塩を含有するアクリルモノマー、アミド基を含有するアクリルモノマー、酸無水物を含有するアクリルモノマー、イソシアネート類、スチレン類、ビニルエーテル類、ビニルトリアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステル、アクリロニトリル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ブタジエン等のモノマーが挙げられる。   As a monomer that forms an acrylic resin, an acrylic monomer containing an epoxy group such as alkyl acrylate, alkyl methacrylate, 2-hydroxyalkyl acrylate, 2-hydroxyalkyl methacrylate, glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate, carboxy group or a salt thereof is contained. Acrylic monomers, acrylic monomers containing amide groups, acrylic monomers containing acid anhydrides, isocyanates, styrenes, vinyl ethers, vinyltrialkoxysilanes, alkyl maleic acid monoesters, alkyl fumarate monoesters, alkyl itaconic acid mono Examples include monomers such as esters, acrylonitrile, vinylidene chloride, ethylene, propylene, vinyl chloride, vinyl acetate, and butadiene.

かかる塗布層は、塗膜を形成させるために、水溶液、水分散液或いは乳化液等の水性塗液の形態で使用されるのが好ましい。塗膜を形成するために、必要に応じて、前記組成物以外の他の樹脂、例えばオキサゾリン基を有する重合体、メラミン、エポキシ、アジリジン等の架橋剤、帯電防止剤、着色剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、滑剤(フィラー、ワックス)などを添加することができる。特に、滑剤を添加することで滑性、耐ブロッキング性が更に良化することができる。   Such a coating layer is preferably used in the form of an aqueous coating solution such as an aqueous solution, aqueous dispersion or emulsion in order to form a coating film. In order to form a coating film, if necessary, other resins than the above composition, for example, a polymer having an oxazoline group, a cross-linking agent such as melamine, epoxy, aziridine, an antistatic agent, a colorant, a surfactant. UV absorbers, lubricants (fillers, waxes) and the like can be added. In particular, the lubricity and blocking resistance can be further improved by adding a lubricant.

水性塗液の固形分濃度は、通常20重量%以下であり、更には1重量%以上10重量%以下であることが好ましい。この割合が下限に満たないと、塗布層が均一に形成されないことがあり、一方、上限を越えると塗剤の安定性や塗布外観が悪化することがある。   The solid content concentration of the aqueous coating liquid is usually 20% by weight or less, and more preferably 1% by weight or more and 10% by weight or less. If this ratio is less than the lower limit, the coating layer may not be formed uniformly. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the stability of the coating and the coating appearance may be deteriorated.

かかる塗布層は、後述するように二軸配向ポリエステルフィルムの製膜工程において設けることができる。
その後、塗布層面と工程部材の粘着層面とを貼り合せて二軸配向ポリエステルフィルムを積層し、積層体とすることができる。
Such a coating layer can be provided in the process of forming a biaxially oriented polyester film as will be described later.
Thereafter, the coating layer surface and the pressure-sensitive adhesive layer surface of the process member are bonded to each other, and a biaxially oriented polyester film is laminated to obtain a laminate.

<積層体>
本発明の積層体は、ガラス板と粘着層を含む工程部材と二軸配向ポリエステルフィルムとを、粘着層を介して積層されてなる。
本発明は、該積層体を用いてエレクトロニクスデバイス加工を行うことが最大の特徴であり、フレキシブルデバイス加工が二軸配向ポリエステルフィルム面に施された後、工程部材を剥離してフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板を得るものである。
<Laminated body>
The laminate of the present invention is formed by laminating a process member including a glass plate and an adhesive layer and a biaxially oriented polyester film via an adhesive layer.
The present invention is characterized in that electronic device processing is performed using the laminate, and after the flexible device processing is applied to the biaxially oriented polyester film surface, the process member is peeled off to form the flexible electronic device substrate. To get.

かかる積層体は、200℃で30分熱処理した後の積層体の最大寸法変化率が0.0%以上0.1%以下であることが必要である。ここで最大寸法変化率とは、積層体の長手方向、幅方向それぞれについて200℃で30分熱処理後の熱収縮率を求め、いずれか大きい方を最大寸法変化率とする。最大寸法変化率の上限値は0.08%であることが好ましい。最大寸法変化率が下限値に満たない場合、フレキシブルデバイス加工時に積層体が熱膨張し、パターンのアライメントずれが生じ、高精密なパターンの形成が難しい。また、最大寸法変化率が上限値を超える場合、フレキシブルデバイス加工時に積層体の熱収縮によるパターンのアライメントずれが生じ、高精密なパターンの形成が難しい。   Such a laminate needs to have a maximum dimensional change rate of 0.0% or more and 0.1% or less after the heat treatment at 200 ° C. for 30 minutes. Here, the maximum dimensional change rate refers to the heat shrinkage rate after heat treatment at 200 ° C. for 30 minutes in each of the longitudinal direction and the width direction of the laminate, and the larger one is the maximum dimensional change rate. The upper limit value of the maximum dimensional change rate is preferably 0.08%. When the maximum dimensional change rate is less than the lower limit value, the laminate is thermally expanded at the time of processing the flexible device, pattern misalignment occurs, and it is difficult to form a highly precise pattern. Further, when the maximum dimensional change rate exceeds the upper limit value, pattern misalignment occurs due to thermal contraction of the laminate during processing of the flexible device, and it is difficult to form a highly precise pattern.

かかる最大寸法変化率特性は、ガラス板上に粘着層を介して一定の熱収縮率特性を有する二軸配向ポリエステルフィルムを積層させることにより得られ、粘着層を介してガラス板の耐熱寸法安定性にポリエステルフィルムが追随することにより、ポリエステルフィルム上に高繊細なファインピッチ加工を施すことができる。   This maximum dimensional change rate characteristic is obtained by laminating a biaxially oriented polyester film having a certain thermal shrinkage rate characteristic on the glass plate via the adhesive layer, and the heat resistant dimensional stability of the glass plate via the adhesive layer. By following the polyester film, high-definition fine pitch processing can be performed on the polyester film.

<フレキシブルエレクトロニクスデバイス基板>
本発明のフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板は、積層体を用いてエレクトロニクスデバイス加工を行った後、工程部材を剥離して得られ、デバイス加工時はリジッドであるものの回路基板として使用される際はフレキシブル基板として用いられる。該フレキシブルエレクトロニクスデバイス基板は、二軸配向ポリエステルフィルム上に該デバイス加工が施される。また、本基板はデバイス加工時の熱による寸法変化が小さく、パターンのアライメントずれが非常に少ないためファインピッチ加工を施すことができ、高繊細なディスプレイのフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板として好適に用いることができる。
<Flexible electronics device substrate>
The flexible electronic device substrate of the present invention is obtained by peeling a process member after performing electronic device processing using a laminate, and as a flexible substrate when used as a circuit substrate although it is rigid during device processing. Used. The flexible electronic device substrate is subjected to the device processing on a biaxially oriented polyester film. In addition, since this substrate has a small dimensional change due to heat at the time of device processing and very little pattern misalignment, it can be subjected to fine pitch processing and can be suitably used as a flexible electronic device substrate for high-definition displays. .

フレキシブルエレクトロニクスデバイスの種類として、フレキシブル有機ELディスプレイ、電子ペーパー、太陽電池、反射型液晶、有機TFT、フレキシブルプリント回路などが例示され、これらの中でも特にフレキシブル有機ELディスプレイ、電子ペーパー及び太陽電池からなる群から選ばれる少なくとも1種が好ましく例示される。   Examples of flexible electronic devices include flexible organic EL displays, electronic paper, solar cells, reflective liquid crystals, organic TFTs, flexible printed circuits, etc. Among these, the group consisting of flexible organic EL displays, electronic paper, and solar cells, among others. At least one selected from the group is preferably exemplified.

<ポリエステルフィルムの製膜方法>
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは下記の方法により製造することができる。
二軸配向ポリエステルフィルムは、例えば前出のポリエステルをフィルム状に溶融押出し、キャスティングドラムで冷却固化させて未延伸フィルムとし、この未延伸フィルムをTg〜(Tg+60)℃で縦方向、横方向に2.5〜4.0倍の延伸倍率で2軸方向に延伸し、(Tm−100)〜(Tm―5)℃の温度で1〜100秒間熱固定することで所望のフィルムを得ることができる。ここでTgはポリエステルのガラス転移温度、Tmはポリエステルの融点をそれぞれ表す。
<Method for forming polyester film>
The biaxially oriented polyester film of the present invention can be produced by the following method.
The biaxially oriented polyester film is obtained by, for example, melt-extruding the above polyester into a film shape and cooling and solidifying it with a casting drum to form an unstretched film. This unstretched film is 2 in the longitudinal and lateral directions from Tg to (Tg + 60) ° C. A desired film can be obtained by stretching in a biaxial direction at a stretching ratio of 0.5 to 4.0 times and heat-setting at a temperature of (Tm-100) to (Tm-5) ° C. for 1 to 100 seconds. . Here, Tg represents the glass transition temperature of the polyester, and Tm represents the melting point of the polyester.

延伸は一般に用いられる方法、例えばロールによる方法やステンターを用いる方法で行うことができ、縦方向、横方向を同時に延伸してもよく、また縦方向、横方向に逐次延伸してもよい。   Stretching can be performed by a generally used method, for example, a method using a roll or a method using a stenter. The stretching may be performed simultaneously in the longitudinal direction and the transverse direction, or may be sequentially performed in the longitudinal direction and the transverse direction.

さらに弛緩処理を行う場合は、加熱処理をフィルムの(X−80)〜X℃の温度において行うことができる。ここでXは熱固定温度を表す。
弛緩処理の方法としては、テンターにより両エッジを保持し、オーブン内で長手方向にはクリップ間隔を狭めて、幅方向にはレール幅を狭めて弛緩処理する方法を用いることが好ましい。かかる方法を用いることにより、幅方向の耐熱寸法安定性も容易にコントロールすることができる。
Furthermore, when performing a relaxation | loosening process, heat processing can be performed in the temperature of (X-80)-X degreeC of a film. Here, X represents a heat setting temperature.
As a method for the relaxation treatment, it is preferable to use a method in which both edges are held by a tenter, and the clip interval is narrowed in the longitudinal direction in the oven and the rail width is narrowed in the width direction to perform the relaxation treatment. By using this method, the heat-resistant dimensional stability in the width direction can be easily controlled.

塗布層を設ける場合、以下の方法で塗設することができる。
逐次延伸の場合、一方向に延伸した一軸配向フィルムに水性塗液を塗布し、そのままもう一方向に延伸し、熱固定する方法により塗布層を設けることができる。
塗布方法としては、公知の任意の塗布法が適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法及びカーテンコート法などを単独または組み合わせて用いることができる。塗布量は、走行しているフイルム1m2あたり0.5〜20g、更に1〜10gが好ましい。水性液は水分散液又は乳化液として用いるのが好ましい。
When providing a coating layer, it can coat with the following method.
In the case of sequential stretching, the coating layer can be provided by a method in which an aqueous coating liquid is applied to a uniaxially oriented film stretched in one direction, stretched in another direction as it is, and heat-set.
As the coating method, any known coating method can be applied. For example, a roll coating method, a gravure coating method, a roll brush method, a spray coating method, an air knife coating method, an impregnation method, and a curtain coating method can be used alone or in combination. The coating amount is preferably 0.5 to 20 g, more preferably 1 to 10 g per 1 m 2 of the running film. The aqueous liquid is preferably used as an aqueous dispersion or emulsion.

<積層体の製造方法>
積層体は、工程部材と二軸配向ポリエステルフィルムとを別々に製造し、それらをさらに別の工程で積層させることにより製造することができる。両層を積層するに際し、粘着層を介して積層し、接着剤の種類に応じて熱圧着、熱硬化、光硬化などの方法を用いて積層体を得ることができる。
また塗布層を有する二軸配向ポリエステルフィルムと工程部材とを積層する場合は、該塗布層と粘着層とを対向させて積層し、例えば200℃に加熱したラミネータで熱圧着することができる。
<Method for producing laminate>
A laminated body can be manufactured by manufacturing a process member and a biaxially oriented polyester film separately, and laminating them by another process. When laminating both layers, a laminate can be obtained by laminating via an adhesive layer and using a method such as thermocompression bonding, thermosetting or photocuring according to the type of adhesive.
Moreover, when laminating the biaxially oriented polyester film having the coating layer and the process member, the coating layer and the adhesive layer are laminated to face each other and can be thermocompression bonded with, for example, a laminator heated to 200 ° C.

<基板の製造方法>
フレキシブルエレクトロニクスデバイス基板は、得られた積層体を用いてエレクトロニクスデバイス加工を行った後、工程部材を剥離して得ることができる。
フレキシブルデバイス加工方法として、例えばポジ型感光性樹脂組成物をスピンコーターでポリエステルフィルム上にスピン塗布し、ホットプレートでプリベークを行って塗膜を形成し、この塗膜にパターンを露光により形成し、その後アルカリ現像液で現像、純水によるリンス処理をし、その後180℃でポストベークを行ってポジ型のパターンを形成する方法が挙げられる。
<Substrate manufacturing method>
The flexible electronic device substrate can be obtained by peeling the process member after performing electronic device processing using the obtained laminate.
As a flexible device processing method, for example, a positive photosensitive resin composition is spin-coated on a polyester film with a spin coater, pre-baked with a hot plate to form a coating film, and a pattern is formed on the coating film by exposure, Thereafter, development with an alkaline developer and rinsing with pure water are performed, followed by post-baking at 180 ° C. to form a positive pattern.

デバイス加工後、工程部材が剥離されるが、具体的な剥離方法として、機械的にポリエステルフィルムから工程部材を剥離する方法、粘着層の粘着力を弱めて剥離する方法などが挙げられる。
かかる方法により、フレキシブルエレクトロニクスデバイス基板が得られる。
After the device processing, the process member is peeled off, and specific peeling methods include a method of mechanically peeling the process member from the polyester film, a method of peeling by weakening the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer, and the like.
By such a method, a flexible electronic device substrate is obtained.

以下、実施例により本発明を詳述するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、各特性値は以下の方法で測定した。また、実施例中の部および%は、特に断らない限り、それぞれ重量部および重量%を意味する。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited only to these Examples. Each characteristic value was measured by the following method. Moreover, unless otherwise indicated, the part and% in an Example mean a weight part and weight%, respectively.

(1)フィルム厚み
電子マイクロメータ(アンリツ(株)製の商品名「K−312A型」)を用いて針圧30gにてフィルム厚みを測定した。
(1) Film thickness Film thickness was measured at 30 g of needle pressure using an electronic micrometer (trade name “K-312A type” manufactured by Anritsu Corporation).

(2)熱収縮率
フィルムサンプルに30cm間隔で標点をつけ、荷重をかけずに200℃に設定したオーブンで30分間熱処理を行い、熱処理後の標点間隔を測定して、フィルム連続製膜方向(MD方向)と、製膜方向に垂直な方向(TD方向)において、それぞれ下記式(1)にて熱収縮率を算出し、それらの平均値を求めた。
熱収縮率(%)={(熱処理前標点間距離−熱処理後標点間距離)/熱処理前標点間距離}×100 ・・・(1)
(2) Heat shrinkage rate Film samples were marked at intervals of 30 cm, heat-treated in an oven set at 200 ° C. for 30 minutes without applying a load, the distance between the marks after heat treatment was measured, and film was continuously formed. In each of the direction (MD direction) and the direction perpendicular to the film forming direction (TD direction), the thermal contraction rate was calculated by the following formula (1), and the average value thereof was obtained.
Thermal shrinkage rate (%) = {(distance between the pre-heat treatment gauge points−distance between the heat treatment gauge points) / distance between the heat treatment gauge points} × 100 (1)

(3)最大寸法変化率
積層体について、(2)熱収縮率と同様の方法で熱収縮率を求め、得られたMD方向、TD方向の熱収縮率のうちいずれか大きい方を最大変化率とした。
(3) Maximum dimensional change rate For the laminate, the thermal contraction rate is obtained by the same method as (2) thermal contraction rate, and the larger one of the obtained MD or TD direction thermal contraction rate is the maximum change rate. It was.

(4)パターニング特性評価
ポジ型感光性樹脂組成物をスピンコーター(大日本スクリーン製造社製、Dspin636)を用いて積層体のポリエステルフィルム上にスピン塗布し、ホットプレートにて130℃、180秒間プリベークを行い、膜厚8.0μmの塗膜を形成した。膜厚は膜厚測定装置(大日本スクリーン製造社製、ラムダエース)で測定した。この塗膜に、100μm幅のラインテストパターン付きレチクルを通してi線(365nm)の露光波長を有するステッパ(ニコン社製、NSR2005i8A)を用いて露光量を段階的に変化させて露光した。これをアルカリ現像液(クラリアントジャパン社製、AZ300MIFデベロッパー、2.38質量%水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液)を用い、23℃の条件下で現像後膜厚が6.6μmとなるように現像時間を調整して現像し、純水でリンスを行い、その後180℃×30分間ポストベークを行い、ポジ型のレリーフパターンを形成した。完成したテストパターンのズレを以下の基準で判断した。
〇: パターンズレが0.1%以下 パターニング特性良好
×: パターンズレが0.1%を超える パターニング特性不良
(4) Evaluation of patterning characteristics A positive photosensitive resin composition was spin-coated on a polyester film of a laminate using a spin coater (Dinspin 636, manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.), and prebaked on a hot plate at 130 ° C. for 180 seconds. And a coating film having a film thickness of 8.0 μm was formed. The film thickness was measured with a film thickness measuring device (Lambda Ace, manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.). This coating film was exposed through a reticle having a line test pattern with a width of 100 μm using a stepper having an exposure wavelength of i-line (365 nm) (Nikon Corporation, NSR2005i8A) while changing the exposure amount stepwise. Using an alkali developer (manufactured by Clariant Japan, AZ300MIF developer, 2.38 mass% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution), the development time was adjusted so that the film thickness after development was 6.6 μm under the condition of 23 ° C. After adjusting and developing, rinsing with pure water was performed, followed by post-baking at 180 ° C. for 30 minutes to form a positive relief pattern. The deviation of the completed test pattern was judged according to the following criteria.
○: Pattern misalignment is 0.1% or less Good patterning characteristics ×: Pattern misalignment exceeds 0.1% Poor patterning characteristics

(5)再剥離性
積層体サンプルを用い、ガラスからポリエステルフィルムを180°の角度でピールオフを行い、以下の基準にて判定した。
○:剥離した後のフィルムにカールが見られない。
×:剥離中にフィルムが破断、または剥離後のフィルムがカールする。
(5) Removability The laminate sample was used, and the polyester film was peeled off from the glass at an angle of 180 °, and judged according to the following criteria.
○: No curling is observed on the film after peeling.
X: The film breaks during peeling or the film after peeling curls.

[実施例1]
ナフタレン−2,6−ジカルボン酸ジメチルおよびエチレングリコールをモノマー原料として用い、エステル交換後、重縮合反応を行って得られた、粒子を含有しないポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート(固有粘度0.61dl/g)をポリエステルとして用いた。エステル交換触媒として酢酸マンガン四水塩、重縮合触媒として三酸化アンチモンを用いた。
[Example 1]
Polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate containing no particles (obtained with 0 intrinsic viscosity) obtained by conducting polycondensation reaction after transesterification using dimethyl naphthalene-2,6-dicarboxylate and ethylene glycol as monomer raw materials .61 dl / g) was used as the polyester. Manganese acetate tetrahydrate was used as the transesterification catalyst, and antimony trioxide was used as the polycondensation catalyst.

得られたポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレートのペレットを170℃で6時間乾燥後、押出機ホッパーに供給し、溶融温度305℃で溶融し、平均目開きが17μmのステンレス鋼細線フィルターで濾過し、3mmのスリット状ダイを通して表面温度60℃の回転冷却ドラム上で押出し、急冷して未延伸フィルムを得た。このようにして得られた未延伸フィルムを120℃にて予熱し、さらに低速、高速のロール間で15mm上方より900℃のIRヒーターで加熱して縦方向に3.1倍に延伸した。続いてテンターに供給し、145℃にて横方向に3.3倍に延伸した。得られた二軸配向ポリエステルフィルムを230℃の温度で40秒間熱固定し、厚み125μmの二軸配向ポリエステルフィルムを得た。   The obtained polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate pellets were dried at 170 ° C. for 6 hours, then fed to an extruder hopper, melted at a melting temperature of 305 ° C., and a stainless steel fine wire filter having an average opening of 17 μm. The solution was filtered, extruded through a 3 mm slit die on a rotary cooling drum having a surface temperature of 60 ° C., and rapidly cooled to obtain an unstretched film. The unstretched film thus obtained was preheated at 120 ° C., and further heated by a 900 ° C. IR heater 15 mm above between low-speed and high-speed rolls and stretched 3.1 times in the longitudinal direction. Subsequently, it was supplied to a tenter and stretched 3.3 times in the transverse direction at 145 ° C. The obtained biaxially oriented polyester film was heat-fixed at a temperature of 230 ° C. for 40 seconds to obtain a biaxially oriented polyester film having a thickness of 125 μm.

続いて、二軸配向ポリエステルフィルムの両エッジをクリップで保持出来るテンター式のオーブンにおいて、得られたフィルムの両エッジを保持させながら、処理温度200℃、長手方向(MD方向)弛緩率1.0%、幅方向(TD方向)弛緩率1.0%で弛緩処理を行った。
続いて、該フィルムを300mm四方に切り出し、厚さ3mmのガラス板に粘着剤(綜研化学社製、主剤「SKダイン1499M」、硬化剤「D−90」)を15μm塗布し、固定させて積層体を作成した。
得られた二軸配向ポリエステルフィルム及び積層体の特性を表1に示す。本実施例の積層体は200℃での寸法安定性に優れており、パターンずれも小さかった。
Subsequently, in a tenter type oven that can hold both edges of the biaxially oriented polyester film with clips, the processing temperature is 200 ° C., the longitudinal direction (MD direction) relaxation rate is 1.0 while holding both edges of the obtained film. %, Relaxation treatment was carried out at a relaxation rate of 1.0% in the width direction (TD direction).
Subsequently, the film was cut out in a 300 mm square, and a pressure sensitive adhesive (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., main agent “SK Dyne 1499M”, curing agent “D-90”) was applied to a 3 mm thick glass plate, fixed and laminated. Created the body.
The characteristics of the obtained biaxially oriented polyester film and laminate are shown in Table 1. The laminate of this example was excellent in dimensional stability at 200 ° C., and the pattern deviation was small.

[実施例2〜4、比較例1]
ポリエステルの種類、フィルム厚み、延伸条件を表1に示すように変えた以外は実施例1と同様に行った。得られたポリエステルフィルムの特性を表1に示す。
[Examples 2 to 4, Comparative Example 1]
The same procedure as in Example 1 was conducted except that the polyester type, film thickness, and stretching conditions were changed as shown in Table 1. The properties of the obtained polyester film are shown in Table 1.

[比較例2]
基材フィルムとして、フィルム厚み200μmの住友ベークライト社製ポリエーテルサルフォン(PES)フィルムを用い、実施例1に準じて評価を行った。得られたフィルムの特性を表1に示す。
[Comparative Example 2]
Evaluation was performed according to Example 1 using a polyethersulfone (PES) film manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd. having a film thickness of 200 μm as the base film. The properties of the obtained film are shown in Table 1.

[比較例3]
積層体評価について、工程部材を用いずに二軸配向ポリエステルフィルム単体で評価した以外は実施例1と同様に行った。
[Comparative Example 3]
The laminate evaluation was performed in the same manner as in Example 1 except that the biaxially oriented polyester film alone was evaluated without using the process member.

[比較例4]
積層体評価について、工程部材を用いずに、200mm角のステンレス製の枠を2枚(1辺に3箇所、固定用のねじ穴がある)用いて二軸配向ポリエステルフィルム単体を固定して評価した以外は実施例1と同様に行った。
[Comparative Example 4]
Evaluation of the laminated body was carried out by fixing a biaxially oriented polyester film alone using two 200 mm square stainless steel frames (three on each side, with fixing screw holes) without using process members. The same procedure as in Example 1 was performed except that.

Figure 2010225434
Figure 2010225434

本発明のフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板は、一定の耐熱寸法安定性を有するポリエステルフィルムをガラス板を含む工程材に貼り付けてフレキシブルデバイス加工を行うことで加工時の寸法変化が抑制され、高繊細なデバイス加工を施すことができ、その後ガラス板を含む工程材を剥離することでフレキシブル性を有する基板として使用できるため、高繊細なディスプレイに好適なフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板を提供することができる。   The flexible electronic device substrate of the present invention is a highly delicate device in which a dimensional change during processing is suppressed by attaching a polyester film having a certain heat-resistant dimensional stability to a process material including a glass plate and performing flexible device processing. Since it can be processed and then can be used as a flexible substrate by peeling off the process material including the glass plate, a flexible electronic device substrate suitable for a high-definition display can be provided.

Claims (6)

ガラス板の片面に粘着層を有する工程部材およびその粘着層面に二軸配向ポリエステルフィルムが積層された積層体からなり、積層体を200℃で30分間熱処理した後の積層体の最大寸法変化率が0.0%以上0.1%以下であって、該積層体を用いてフレキシブルエレクトロニクスデバイス加工を行い、該加工後に工程部材を剥離して得られることを特徴とするフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板。   It consists of a process member having an adhesive layer on one side of a glass plate and a laminate in which a biaxially oriented polyester film is laminated on the adhesive layer surface. A flexible electronic device substrate obtained by performing flexible electronics device processing using the laminate, and peeling off a process member after the processing. 積層体を構成する二軸配向ポリエステルフィルムの200℃、30分熱処理後の熱収縮率が0.1%以上1.0%以下である請求項1に記載のフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板。   2. The flexible electronic device substrate according to claim 1, wherein the biaxially oriented polyester film constituting the laminate has a heat shrinkage ratio of from 0.1% to 1.0% after heat treatment at 200 ° C. for 30 minutes. 二軸配向ポリエステルフィルムを構成するポリエステルがポリエチレンナフタレンジカルボキシレートである請求項1または2に記載のフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板。   The flexible electronic device substrate according to claim 1 or 2, wherein the polyester constituting the biaxially oriented polyester film is polyethylene naphthalene dicarboxylate. フレキシブルエレクトロニクスデバイスがフレキシブル有機ELディスプレイ、電子ペーパー、太陽電池からなる群から選ばれる少なくとも1つである請求項1〜3のいずれかに記載のフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板。   The flexible electronic device substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the flexible electronic device is at least one selected from the group consisting of a flexible organic EL display, electronic paper, and a solar cell. ガラス板の片面に粘着層を有する工程部材およびその粘着層面に二軸配向ポリエステルフィルムが積層された積層体であり、該積層体を200℃で30分間熱処理した後の積層体の最大寸法変化率が0.0%以上0.1%以下であることを特徴とするフレキシブルエレクトロニクスデバイス用積層体。   A process member having an adhesive layer on one side of a glass plate and a laminate in which a biaxially oriented polyester film is laminated on the adhesive layer surface, and the maximum dimensional change rate of the laminate after heat-treating the laminate for 30 minutes at 200 ° C Is 0.0% or more and 0.1% or less. ガラス板の片面に粘着層を有する工程部材およびその粘着層面に二軸配向ポリエステルフィルムが積層された積層体からなり、積層体を200℃で30分間熱処理した後の積層体の最大寸法変化率が0.0%以上0.1%以下であって、該積層体を用いてフレキシブルエレクトロニクスデバイス加工を行い、該加工後に工程部材から二軸配向ポリエステルフィルムを剥離することを特徴とするフレキシブルエレクトロニクスデバイス基板の製造方法。   It consists of a process member having an adhesive layer on one side of a glass plate and a laminate in which a biaxially oriented polyester film is laminated on the adhesive layer surface, and the maximum dimensional change rate of the laminate after heat-treating the laminate for 30 minutes at 200 ° C. Flexible electronics device substrate characterized in that it is 0.0% or more and 0.1% or less, and the laminate is used to perform flexible electronics device processing, and after the processing, the biaxially oriented polyester film is peeled from the process member. Manufacturing method.
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