JP2010222189A - Method for manufacturing ceramic powder having improved dispersibility and method for producing dispersion of ceramic powder - Google Patents

Method for manufacturing ceramic powder having improved dispersibility and method for producing dispersion of ceramic powder Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide ceramic powder having excellent dispersibility which can be made dense, and a dispersion thereof. <P>SOLUTION: The ceramic powder having improved dispersibility is manufactured by charging raw material ceramic powder into a liquid medium (for example, dispersion medium) to produce radical species in the medium while fluidizing the medium into which the raw material ceramic powder is charged. The radical species is produced by generating plasma (submerged plasma) in the medium. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、分散性の向上したセラミックス粉末の製造方法、及びセラミックス粉末の分散液の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a ceramic powder with improved dispersibility and a method for producing a dispersion of ceramic powder.

セラミックス成形体は、多くの場合、以下の工程によって製造される:セラミックス粉末を所定の媒質中に分散させ、得られた分散液を適宜の形状に成型し、この成型体を焼成する。   In many cases, a ceramic molded body is manufactured by the following steps: Dispersing ceramic powder in a predetermined medium, molding the obtained dispersion into an appropriate shape, and firing the molded body.

ところで、この種のセラミックス成形体を均一かつ高密度で形成するためには、分散液におけるセラミックス粉末の分散性を向上する(すなわち分散状態を均一化する)必要がある。分散性を向上するために、一般的には、媒質中に分散剤が添加される。   By the way, in order to form this type of ceramic molded body uniformly and at a high density, it is necessary to improve the dispersibility of the ceramic powder in the dispersion (that is, to make the dispersion state uniform). In order to improve dispersibility, a dispersant is generally added to the medium.

分散性をより向上するために、セラミックス粒子表面に対する分散剤の吸着量を多くすることが試みられることがある。このとき、一般的には、例えば、低分子量の分散剤が比較的多量に添加されたり、いわゆる高分子分散剤が添加されたりする。しかしながら、この方法では、余剰の分散剤(すなわちセラミックス粒子表面に吸着していないフリーの分散剤)が比較的多量に生じ、これにより成型体の密度が低下してしまう懸念がある。   In order to further improve the dispersibility, an attempt may be made to increase the amount of the dispersant adsorbed on the surface of the ceramic particles. At this time, generally, for example, a relatively large amount of a low molecular weight dispersant is added, or a so-called high molecular dispersant is added. However, in this method, there is a concern that a relatively large amount of surplus dispersant (that is, a free dispersant not adsorbed on the surface of the ceramic particles) is generated in a relatively large amount, thereby reducing the density of the molded body.

Figure 2010222189
上記式において、Mは材料粒子表面の分散剤の吸着サイト、Dは分散剤、M−Dは吸着サイトに分散剤が吸着したもの、Kは平衡定数を示す。上記式の通り、吸着サイトに分散剤が吸着したものM−Dと、吸着していないフリーの分散剤Dとは、平衡関係にある。吸着量を多くするためには分散剤を多く添加する必要がある一方、分散剤を多く添加すると、上述の平衡関係のため、同時にフリーの分散剤が増加してしまう。
Figure 2010222189
In the above formula, M is the adsorption site of the dispersing agent on the surface of the material particles, D is the dispersing agent, M-D is the adsorption site of the dispersing agent, and K is the equilibrium constant. As shown in the above formula, the sample MD with the dispersant adsorbed on the adsorption site and the free dispersant D not adsorbed are in an equilibrium relationship. In order to increase the amount of adsorption, it is necessary to add a large amount of dispersant, but when a large amount of dispersant is added, the amount of free dispersant increases at the same time due to the above-described equilibrium relationship.

本発明は、上述した課題に対処するためになされたものである。すなわち、本発明の目的は、分散性が良好で成形体の高密度化が可能な、セラミックス粉末及びその分散液を提供することにある。   The present invention has been made to address the above-described problems. That is, an object of the present invention is to provide a ceramic powder and a dispersion thereof having good dispersibility and capable of increasing the density of a molded body.

本発明者は、上記式において、左辺の吸着サイトMを増加させることで、右辺のM−Dを増加させつつ左辺のフリー分散剤Dを減少させることで、分散性が良好で成形体の高密度化が可能になることに着目し、本発明に至った。   In the above formula, the present inventor increases the adsorption site M on the left side to increase the right side MD and decreases the free dispersant D on the left side. Focusing on the fact that the density can be increased, the present invention has been achieved.

本発明の特徴は、ラジカル種を生成可能な液体状の媒質(例えば分散媒)中に、原料セラミックス粉末を投入し、前記原料セラミックス粉末が投入された前記媒質を流動させつつ当該媒質中にて前記ラジカル種を生成することで、分散性の向上したセラミックス粉末やその分散液を製造することにある。   A feature of the present invention is that raw material ceramic powder is put into a liquid medium (for example, dispersion medium) capable of generating radical species, and the medium in which the raw material ceramic powder is put is flowed in the medium. By generating the radical species, a ceramic powder with improved dispersibility and a dispersion thereof are produced.

前記ラジカル種は、前記媒質中に浸漬された一対の電極間に(交流あるいはパルス状の)電圧を印加して当該媒質中にてプラズマ(液中プラズマ)を発生させることで生成し得る。前記媒質として水溶液が用いられる場合、前記ラジカル種は、典型的には、OH・又はH・となる。   The radical species can be generated by applying a voltage (alternating current or pulsed) between a pair of electrodes immersed in the medium to generate plasma (liquid plasma) in the medium. When an aqueous solution is used as the medium, the radical species is typically OH · or H ·.

分散性の向上したセラミックス粉末を製造する場合には、最後に乾燥工程が行われる(この乾燥工程に先だって、通常は、洗浄工程等が行われるが、必須ではない。)。かかる乾燥工程においては、熱風乾燥、噴霧乾燥、凍結乾燥、等の任意の乾燥プロセスが用いられ得る。かかる乾燥工程は、低温(例えば150℃以下)で行われることが好ましい。   When producing a ceramic powder with improved dispersibility, a drying step is finally performed (a washing step or the like is usually performed prior to the drying step, but this is not essential). In the drying step, any drying process such as hot air drying, spray drying, freeze drying, or the like can be used. Such a drying step is preferably performed at a low temperature (for example, 150 ° C. or lower).

本発明の方法においては、前記媒質中で生成した前記ラジカル種と前記原料セラミックス粉末の各粒子における表面とが反応することで、当該表面が改質される。具体的には、この反応により、当該表面に、特定の官能基(例えば水酸基)が付与される。これにより、前記セラミックス粉末の分散性が向上する。   In the method of the present invention, the surface is modified by the reaction between the radical species generated in the medium and the surface of each particle of the raw ceramic powder. Specifically, a specific functional group (for example, a hydroxyl group) is imparted to the surface by this reaction. Thereby, the dispersibility of the ceramic powder is improved.

すなわち、例えば、前記ラジカル種との反応後の前記セラミックス粉末における、分散剤を吸着するための上述の特定の官能基の量が、反応前の前記原料セラミックス粉末よりも増加する。すると、前記ラジカル種との反応を行わずに前記原料セラミックス粉末を前記分散媒中に投入して分散させた場合に余剰となるべき前記分散剤が、前記ラジカル種との反応により増加した前記官能基に吸着され得ることとなる。これにより、前記分散剤の吸着量が効果的に増加するとともに、余剰の前記分散剤の量が効果的に減少する。   That is, for example, the amount of the specific functional group for adsorbing the dispersant in the ceramic powder after the reaction with the radical species is increased as compared with the raw ceramic powder before the reaction. Then, when the raw ceramic powder is put into the dispersion medium and dispersed without performing the reaction with the radical species, the dispersant, which should be surplus, is increased by the reaction with the radical species. It can be adsorbed to the group. As a result, the amount of the dispersant adsorbed effectively increases, and the excess amount of the dispersant effectively decreases.

したがって、本発明によれば、分散性が良好で成型体の高密度化が可能な、セラミックス粉末及びその分散液を提供することが可能となる。   Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a ceramic powder and a dispersion thereof having good dispersibility and capable of increasing the density of a molded body.

なお、本発明の方法においては、前記原料セラミックス粉末の各粒子における表面と前記ラジカル種との反応は、当該粉末が投入された液体状の前記媒質を流動させながら(撹拌しながら)行われる。よって、気中プラズマ処理等を用いた乾式処理とは異なり、前記表面の改質を、粒子のほぼ全面に均一に行うことができる。また、粒子の再凝集の発生が良好に抑制され得る。さらに、流通式のシステムによる連続的な処理が可能となる。   In the method of the present invention, the reaction between the surface of each particle of the raw material ceramic powder and the radical species is performed while flowing (stirring) the liquid medium in which the powder is charged. Therefore, unlike the dry process using an air plasma process or the like, the surface modification can be performed uniformly over almost the entire surface of the particles. Moreover, the occurrence of reaggregation of particles can be satisfactorily suppressed. Furthermore, continuous processing by a distribution system is possible.

液中プラズマによって前記ラジカル種を生成する場合、このプラズマの近傍では衝撃波が作用する。よって、かかる衝撃波によって弱い凝集体を解砕しながら改質を行うことができる。   When the radical species are generated by submerged plasma, a shock wave acts in the vicinity of the plasma. Therefore, the modification can be performed while the weak aggregates are crushed by the shock wave.

また、本発明の方法においては、前記原料セラミックス粉末の各粒子における表面と前記ラジカル種とが液中で反応することで、当該表面が改質される。よって、メカノケミカル処理等を用いた他の方法とは異なり、前記表面の改質が、結晶状態や粒度分布を不用意に変化させることなく行われ得る。   In the method of the present invention, the surface of each particle of the raw ceramic powder reacts with the radical species in the liquid to modify the surface. Therefore, unlike other methods using mechanochemical treatment or the like, the surface modification can be performed without inadvertently changing the crystal state or the particle size distribution.

本発明の方法は、酸化物セラミックス粉末の粒子表面に水酸基を導入することで分散性を向上する際に、好適に用いられ得る。特に、粒子径が小さい場合であっても、粒子表面への水酸基量を増加させて前記分散剤の吸着量を増加させることで、凝集の発生を効果的に抑制することが可能になる。   The method of the present invention can be suitably used when improving the dispersibility by introducing a hydroxyl group into the particle surface of the oxide ceramic powder. In particular, even when the particle diameter is small, it is possible to effectively suppress the occurrence of aggregation by increasing the amount of hydroxyl group on the particle surface and increasing the amount of adsorption of the dispersant.

さらに、上述のように、前記乾燥工程が低温で行われることで、前記ラジカル種との反応によって粒子表面に導入された官能基(OH基等)の脱離が、良好に抑制され得る。   Furthermore, as described above, by performing the drying step at a low temperature, the elimination of functional groups (OH groups and the like) introduced to the particle surface by the reaction with the radical species can be satisfactorily suppressed.

本発明の製造方法を実施するための装置の一例の要部構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the principal part structure of an example of the apparatus for enforcing the manufacturing method of this invention. 実施例及び比較例のFT−IRスペクトルである。It is a FT-IR spectrum of an example and a comparative example. 本発明の製造方法を実施するための装置の他の一例の要部構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the principal part structure of the other example of the apparatus for enforcing the manufacturing method of this invention. 本発明の製造方法を実施するための装置のさらに他の一例の要部構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the principal part structure of another example of the apparatus for enforcing the manufacturing method of this invention.

以下、本発明の実施形態及び代表的な実施例について、適宜図面を参照しつつ説明する。なお、以下の実施形態に関する記載は、法令で要求されている明細書の記載要件(記述要件・実施可能要件)を満たすために、本発明の具体化の単なる一例を、可能な範囲で具体的に記述しているものにすぎない。   Embodiments and representative examples of the present invention will be described below with reference to the drawings as appropriate. In addition, the description about the following embodiment is specific to the extent possible, merely an example of the embodiment of the present invention in order to satisfy the description requirement (description requirement / practicability requirement) of the specification required by law. It is only what is described in.

よって、後述するように、本発明が、以下に説明する実施形態の具体的構成に何ら限定されるものではないことは、全く当然である。本実施形態に対して施され得る各種の変更(modification)は、当該実施形態の説明中に挿入されると、一貫した実施形態の説明の理解が妨げられるので、末尾にまとめて記載されている。   Therefore, as will be described later, it is quite natural that the present invention is not limited to the specific configurations of the embodiments described below. Various modifications that can be made to the present embodiment are listed together at the end, as they would interfere with the understanding of the consistent description of the embodiment if inserted during the description of the embodiment. .

<実施形態の製造方法を実施するための装置構成の概要>
図1は、本発明の製造方法を実施するための装置の一例の要部構成を示す概略図である。この製造装置1は、貯留槽2と、攪拌機3と、液中プラズマ発生装置4と、を備えている。
<Outline of apparatus configuration for carrying out manufacturing method of embodiment>
FIG. 1 is a schematic diagram showing the main configuration of an example of an apparatus for carrying out the manufacturing method of the present invention. The manufacturing apparatus 1 includes a storage tank 2, a stirrer 3, and an in-liquid plasma generator 4.

貯留槽2内には、導電率が調整された水溶液である媒質Sが貯留されている。攪拌機3は、貯留槽2内にて媒質Sを流動させる(撹拌する)ようになっている。   A medium S that is an aqueous solution with adjusted conductivity is stored in the storage tank 2. The stirrer 3 causes the medium S to flow (stir) in the storage tank 2.

液中プラズマ発生装置4は、一対の電極4aを備えている。一対の電極4aは、貯留槽2に貯留された媒質S中に浸漬されるように、貯留槽2内に設けられている。また、一対の電極4a間に電圧を印加して媒質S中にてプラズマ(液中プラズマ)を発生させることでラジカル種を生成するように、一対の電極4aが配置されている。   The in-liquid plasma generator 4 includes a pair of electrodes 4a. The pair of electrodes 4 a is provided in the storage tank 2 so as to be immersed in the medium S stored in the storage tank 2. In addition, the pair of electrodes 4a is arranged so as to generate radical species by applying a voltage between the pair of electrodes 4a to generate plasma (in-liquid plasma) in the medium S.

具体的には、電極4aは、先端を露出するように、電極ホルダ4bに固定されている。一対の電極ホルダ4bは、一対の電極4aが所定のギャップを隔てて対向するように、図示しない支持手段によって支持されている。また、一対の電極4aは、電源4cと電気的に接続されている。   Specifically, the electrode 4a is fixed to the electrode holder 4b so that the tip is exposed. The pair of electrode holders 4b are supported by support means (not shown) so that the pair of electrodes 4a face each other with a predetermined gap therebetween. The pair of electrodes 4a is electrically connected to the power source 4c.

<実施形態の製造方法の概要>
本実施形態の製造方法は、以下の工程を含む。
(1)ラジカル種としてのOH・又はH・を生成可能な水溶液である媒質S中に、原料セラミックス粉末を投入する。
(2)原料セラミックス粉末が投入された媒質Sを攪拌機3によって流動させつつ(撹拌しつつ)、一対の電極4a間に電圧を印加して媒質S中にてプラズマ(液中プラズマ)を発生させることで、当該媒質S中にてOH・又はH・を生成する。
<Outline of Manufacturing Method of Embodiment>
The manufacturing method of this embodiment includes the following steps.
(1) Raw material ceramic powder is put into the medium S, which is an aqueous solution capable of generating OH · or H · as radical species.
(2) While the medium S in which the raw ceramic powder is charged is flowed (stirred) by the stirrer 3, a voltage is applied between the pair of electrodes 4 a to generate plasma (liquid plasma) in the medium S. Thus, OH · or H · is generated in the medium S.

媒質S中で生成したOH・又はH・と原料セラミックス粉末の各粒子における表面とが反応することで、当該表面が改質される。具体的には、この反応により、当該表面に、水酸基が付与される。   The OH · or H · generated in the medium S reacts with the surface of each particle of the raw ceramic powder to modify the surface. Specifically, this reaction gives a hydroxyl group to the surface.

よって、例えば、上記工程(2)の後に、セラミックス粉末を洗浄、濾過、及び乾燥することで、表面に水酸基が多量に導入されたセラミックス粒子からなる、分散性の向上した粉末が得られる。かかる粉末は、粒子径(例えばサブミクロンレベル)や水酸基導入量によっては、分散剤を用いなくても、水中(水溶液中)に良好に分散され得る。   Therefore, for example, after the step (2), the ceramic powder is washed, filtered, and dried to obtain a powder having improved dispersibility, which is made of ceramic particles having a large amount of hydroxyl groups introduced to the surface. Such a powder can be well dispersed in water (in an aqueous solution) without using a dispersant depending on the particle size (for example, submicron level) and the amount of hydroxyl group introduced.

あるいは、媒質Sとして分散媒を用い、上記工程(2)の後で分散剤を添加することで、セラミックス粒子に対する分散剤の吸着量が従来よりも増加する。このため、従来よりも少量の分散剤で良好な分散状態の分散液が得られ得る。また、分散液における余剰分散剤の発生が効果的に抑制され得る。したがって、この分散液の粘度等を適宜調整してスラリー化して成型、焼結することで、より高密度なセラミックス成形体が得られる。   Alternatively, by using a dispersion medium as the medium S and adding the dispersant after the step (2), the amount of the dispersant adsorbed on the ceramic particles is increased as compared with the conventional case. For this reason, the dispersion liquid of a favorable dispersion state can be obtained with a smaller amount of dispersant than before. Moreover, generation | occurrence | production of the excess dispersing agent in a dispersion liquid can be suppressed effectively. Therefore, a higher density ceramic molded body can be obtained by appropriately adjusting the viscosity and the like of this dispersion to form a slurry, which is molded and sintered.

以下、本発明の製造方法の一実施例の具体的な工程内容及び評価結果について、比較例と対照しつつ説明する。   Hereinafter, specific process contents and evaluation results of an example of the manufacturing method of the present invention will be described in contrast to a comparative example.

<実施例>
(A)イオン交換水にKClを添加することで、導電率を1mS/cmに調整したKCl水溶液である媒質を調製した。
(B)媒質100mlに、PZT(Pb(Zr0.52Ti0.48)O3)粉末5gを添加し、300W超音波ホモジナイザー(株式会社日本精機製作所社製:品番US−300T)で2分間、分散処理を行った。
(C)上述の分散液を、貯留槽2としての200mlビーカーに投入した。
(D)マグネティックスターラーで撹拌しながら、液中プラズマを発生させた(5分間)。
(E)吸引濾過及び洗浄を数回繰り返した後、100℃で乾燥することで、表面改質セラミック粉末を得た。
<Example>
(A) By adding KCl to ion-exchanged water, a medium that is a KCl aqueous solution with conductivity adjusted to 1 mS / cm was prepared.
(B) To 100 ml of medium, 5 g of PZT (Pb (Zr 0.52 Ti 0.48 ) O 3 ) powder is added, and dispersion treatment is performed for 2 minutes with a 300 W ultrasonic homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Seisakusyo Co., Ltd .: product number US-300T). went.
(C) The above dispersion was put into a 200 ml beaker as the storage tank 2.
(D) In-liquid plasma was generated while stirring with a magnetic stirrer (5 minutes).
(E) After repeating the suction filtration and washing several times, the surface-modified ceramic powder was obtained by drying at 100 ° C.

上記工程(D)における液中プラズマ発生条件は、以下の通りである:電極4aは直径1mm(先端は円筒状)のタングステン電極、電極間ギャップは5mm、電圧は0V/2kVのパルス状電圧(20kHz、パルス幅1.7μsec、電源出力200W)。   The submerged plasma generation conditions in the above step (D) are as follows: the electrode 4a is a tungsten electrode having a diameter of 1 mm (tip is cylindrical), the gap between the electrodes is 5 mm, and the voltage is a pulsed voltage of 0 V / 2 kV ( 20 kHz, pulse width 1.7 μsec, power output 200 W).

なお、上記PZT粉末は、下記のようして合成したものである:粉末状のPbO、ZrO2、TiO2を、上記組成になるように秤量し、これらを、ポリエチレン製ポット内にて、直径2mmのZrO2ビーズを用いて湿式混合し、乾燥及び熱処理した。このようにして合成された粉末を走査電子顕微鏡にて観察した結果、当該粉末の粒子径は100nm程度、等電点はpH=6.0程度であった。 The PZT powder was synthesized as follows: PbO, ZrO 2 , and TiO 2 in powder form were weighed so as to have the above composition, and these were then calibrated in a polyethylene pot. Wet mixed using 2 mm ZrO 2 beads, dried and heat treated. As a result of observing the synthesized powder with a scanning electron microscope, the particle diameter of the powder was about 100 nm, and the isoelectric point was about pH = 6.0.

<比較例1>
(B’)イオン交換水からなる媒質100mlに、PZT粉末5gを添加し、300W超音波ホモジナイザー(同上)で2分間、分散処理を行った。
(E)吸引濾過及び洗浄を数回繰り返した後、100℃で乾燥することで、表面改質セラミック粉末を得た。
<Comparative Example 1>
(B ′) 5 g of PZT powder was added to 100 ml of a medium composed of ion-exchanged water, and a dispersion treatment was performed for 2 minutes with a 300 W ultrasonic homogenizer (same as above).
(E) After repeating the suction filtration and washing several times, the surface-modified ceramic powder was obtained by drying at 100 ° C.

<比較例2>
(B’)イオン交換水からなる媒質100mlに、PZT粉末5gを添加し、300W超音波ホモジナイザー(同上)で2分間、分散処理を行った。
(C’)上述の分散液を、オートクレーブ(オーエムラボテック株式会社製:品番MMJ−500)付属のハステロイ(登録商標)製の500ml容器に投入した。
(D’)容器をオートクレーブにセットし、付属の攪拌機で攪拌しながら150℃、4時間水熱処理した。
(E)吸引濾過及び洗浄を数回繰り返した後、100℃で乾燥することで、表面改質セラミック粉末を得た。
<Comparative example 2>
(B ′) 5 g of PZT powder was added to 100 ml of a medium composed of ion-exchanged water, and a dispersion treatment was performed for 2 minutes with a 300 W ultrasonic homogenizer (same as above).
(C ′) The above dispersion was put into a 500 ml container made of Hastelloy (registered trademark) attached to an autoclave (manufactured by OM Lab Tech Co., Ltd .: product number MMJ-500).
(D ′) The container was set in an autoclave and hydrothermally treated at 150 ° C. for 4 hours while stirring with an attached stirrer.
(E) After repeating the suction filtration and washing several times, the surface-modified ceramic powder was obtained by drying at 100 ° C.

<比較例3>
(B’)イオン交換水からなる媒質100mlに、PZT粉末5gを添加し、300W超音波ホモジナイザー(同上)で2分間、分散処理を行った。
(C’)上述の分散液を、ハステロイ(登録商標)製のオートクレーブ容器(同上)に投入した。
(D”)オートクレーブ(同上)で250℃、4時間水熱処理した。
(E)吸引濾過及び洗浄を数回繰り返した後、100℃で乾燥することで、表面改質セラミック粉末を得た。
<Comparative Example 3>
(B ′) 5 g of PZT powder was added to 100 ml of a medium composed of ion-exchanged water, and a dispersion treatment was performed for 2 minutes with a 300 W ultrasonic homogenizer (same as above).
(C ′) The above dispersion was charged into an autoclave container (same as above) manufactured by Hastelloy (registered trademark).
(D ″) Hydrothermal treatment at 250 ° C. for 4 hours in an autoclave (same as above).
(E) After repeating the suction filtration and washing several times, the surface-modified ceramic powder was obtained by drying at 100 ° C.

<評価結果1:熱重量分析>
上述の実施例及び比較例1〜3によって得られた粉末を熱重量分析装置(株式会社リガク社製:品番TGA50)によって分析した結果を、表1に示す。なお、この分析は、以下の条件で行ったものである:空気流通下、室温〜500℃(昇温速度10℃/min)。

Figure 2010222189
<Evaluation result 1: Thermogravimetric analysis>
Table 1 shows the results obtained by analyzing the powders obtained in the above Examples and Comparative Examples 1 to 3 with a thermogravimetric analyzer (manufactured by Rigaku Corporation: product number TGA50). This analysis was performed under the following conditions: room temperature to 500 ° C. (temperature increase rate: 10 ° C./min) under air flow.
Figure 2010222189

表1における重量減少量は、熱重量分析における水酸基の脱離量に相当する。よって、表1の結果から明らかなように、実施例における液中プラズマ処理によるセラミックス粒子表面への水酸基の導入量(実施例と比較例1との差)は、従来一般的に行われていた水熱処理による水酸基の導入量(比較例2あるいは3と比較例1との差)よりも、非常に多くなった。   The amount of weight reduction in Table 1 corresponds to the amount of hydroxyl group eliminated in thermogravimetric analysis. Therefore, as is apparent from the results in Table 1, the amount of hydroxyl group introduced into the ceramic particle surface by the plasma treatment in liquid in the examples (difference between the example and the comparative example 1) has been generally performed conventionally. The amount was much larger than the amount of hydroxyl groups introduced by hydrothermal treatment (difference between Comparative Example 2 or 3 and Comparative Example 1).

<評価結果2:FT−IR分析>
上述の実施例及び比較例1〜3によって得られた粉末をKBr粉末で希釈混和して錠剤化することで調製した試料を、FT−IR分析装置(株式会社パーキンエルマー社製:製品名spectrum2000)によって拡散反射法で分析した結果を、図2に示す。
<Evaluation result 2: FT-IR analysis>
Samples prepared by diluting and blending the powders obtained in the above-mentioned Examples and Comparative Examples 1 to 3 with KBr powder to form tablets, FT-IR analyzer (manufactured by PerkinElmer Co., Ltd .: product name spectrum2000) FIG. 2 shows the result of analysis by the diffuse reflection method.

図2に示されているように、実施例においては、比較例1〜3と比較して、OH伸縮振動に起因する3280cm-1のピークが大幅に増加した。このFT−IRスペクトルによっても、実施例における液中プラズマ処理による、セラミックス粒子表面への水酸基の導入量の増加が裏付けられているということができる。 As shown in FIG. 2, in the example, the peak at 3280 cm −1 due to the OH stretching vibration was significantly increased as compared with Comparative Examples 1 to 3. It can be said that this FT-IR spectrum also supports the increase in the amount of hydroxyl groups introduced to the ceramic particle surfaces by the in-liquid plasma treatment in the examples.

<評価結果3:粉末の各種溶媒に対する濡れ性>
上述の実施例及び比較例1によって得られた粉末を、ブタノール、エタノール、及び水に対して、0.1wt%となるように添加し、ホモジナイザーで2分間分散処理を行った後、レーザー回折型の流動分布測定装置(株式会社堀場製作所社製:品番LA920)によって粒度分析した結果(メジアン径)を、表2に示す。

Figure 2010222189
<Evaluation result 3: wettability of powder to various solvents>
After adding the powder obtained by the above-mentioned Example and the comparative example 1 so that it might become 0.1 wt% with respect to butanol, ethanol, and water, after performing a dispersion process for 2 minutes with a homogenizer, laser diffraction type | mold Table 2 shows the results (median diameter) of the particle size analysis using a flow distribution measuring apparatus (manufactured by Horiba, Ltd .: product number LA920).
Figure 2010222189

粉末の溶媒に対する濡れ性が悪い場合、凝集が顕著に生じるため、分析の結果得られる粒度が大きくなる。この点、表2に示されているように、比較例1によって得られた粉末は、水に対する濡れ性が最も悪く、ブタノールに対する濡れ性が最も良くなった。一方、その反対に、実施例によって得られた粉末は、ブタノールに対する濡れ性が最も悪く、水に対する濡れ性が最も良くなった。かかる結果より、実施例によって得られた粉末は、比較例よりも、より親水化したということができる。   When the wettability of the powder with respect to the solvent is poor, agglomeration occurs remarkably, and the particle size obtained as a result of the analysis becomes large. In this regard, as shown in Table 2, the powder obtained in Comparative Example 1 had the worst wettability with water and the best wettability with butanol. On the other hand, the powders obtained by the examples had the worst wettability to butanol and the best wettability to water. From this result, it can be said that the powder obtained by the Example was made more hydrophilic than the Comparative Example.

<評価結果4:分散性>
水に対して、上述の実施例及び比較例1によって得られた粉末が5wt%、分散剤としてのヘキサン酸が5wt%となるように、粉末及び分散剤を添加し、ホモジナイザーで2分間分散処理を行った。その後、吸引濾過により粉末を回収し、この回収した粉末に対して3回、酢酸ブチルによる洗浄及び吸引濾過を繰り返した。
<Evaluation result 4: Dispersibility>
The powder and the dispersant are added to water so that the powder obtained in the above-mentioned Example and Comparative Example 1 is 5 wt%, and the hexanoic acid as the dispersant is 5 wt%, and the dispersion treatment is performed with a homogenizer for 2 minutes. Went. Thereafter, the powder was collected by suction filtration, and washing with butyl acetate and suction filtration were repeated three times for the collected powder.

上述の処理を経た粉末を、上述と同様に熱重量分析した。また、かかる粉末をトルエンに対して1wt%となるように添加し、ホモジナイザーで2分間分散処理を行った後、上述と同様に粒度分析した。これらの結果を表3に示す。なお、表中の「吸着量」は、今回の熱重量分析における重量減少量から、水酸基の脱離量(表1参照)に相当する部分を差し引いたものである。

Figure 2010222189
The powder subjected to the above treatment was subjected to thermogravimetric analysis in the same manner as described above. Moreover, after adding this powder so that it might become 1 wt% with respect to toluene, after performing the dispersion process for 2 minutes with a homogenizer, the particle size analysis was carried out similarly to the above-mentioned. These results are shown in Table 3. The “adsorption amount” in the table is obtained by subtracting a portion corresponding to the desorption amount of a hydroxyl group (see Table 1) from the weight decrease amount in the present thermogravimetric analysis.
Figure 2010222189

表3に示されているように、実施例によって得られた粉末においては、比較例1と比較して、ヘキサン酸の吸着量が増加するとともに、ヘキサン酸を吸着させた状態におけるトルエンへの分散性が向上した。   As shown in Table 3, in the powder obtained by the example, compared with Comparative Example 1, the amount of hexanoic acid increased and dispersed in toluene in a state where hexanoic acid was adsorbed. Improved.

ところで、プラズマ発生部への粉末の接近距離は、ラジカル反応や熱エネルギー、衝撃波を有効に利用する上で、重要なパラメーターである。そこで、攪拌条件を変えることにより、接近距離と反応状態の関係について評価した。   By the way, the approach distance of the powder to the plasma generation part is an important parameter for effectively using radical reaction, thermal energy, and shock wave. Therefore, the relationship between the approach distance and the reaction state was evaluated by changing the stirring conditions.

攪拌を20rpmで実施すると、プラズマ発生部から40mm離れた容器底部を粉末が回転するだけの状態となる。その状態では、まったく処理が進まず、比較例2と同等の結果となった。攪拌速度を次第に大きくし、40rpm程度で分散性の改善が見られた。その時の粉末と電極の距離は、20mm程度まで接近していた。   When the stirring is performed at 20 rpm, the powder is simply rotated around the bottom of the container 40 mm away from the plasma generation unit. In that state, the processing did not proceed at all, and the same result as in Comparative Example 2 was obtained. The stirring speed was gradually increased, and improvement in dispersibility was observed at about 40 rpm. The distance between the powder and the electrode at that time was close to about 20 mm.

また、攪拌速度を1000rpmまで大きくすると、その渦により、プラズマ近傍、具体的には1mm未満まで粉末が供給された。但し、その場合、粉末は黒く変色した。この理由は、過大な熱エネルギーの供給が原因で、粉末に熱分解や炭化が生じたことであると思われる。   Further, when the stirring speed was increased to 1000 rpm, the powder was supplied to the vicinity of the plasma, specifically, less than 1 mm by the vortex. In that case, however, the powder turned black. The reason seems to be that the powder was pyrolyzed and carbonized due to excessive supply of thermal energy.

以上から、好ましい条件は、プラズマ発生部への粉末の接近距離が、1mm以上、20mm以下である。なお、本結果から、実施例では、攪拌は200rpmで実施した。   From the above, the preferable condition is that the approach distance of the powder to the plasma generating portion is 1 mm or more and 20 mm or less. In addition, from this result, in the Example, stirring was implemented at 200 rpm.

<変形例の例示列挙>
なお、上述の実施形態や実施例は、上述した通り、出願人が取り敢えず本願の出願時点において最良であると考えた本発明の代表的な具体化の一例を単に示したものにすぎない。よって、本発明はもとより上述の実施形態や実施例に何ら限定されるものではない。したがって、本発明の本質的部分を変更しない範囲内において、上述の実施形態や実施例に対して種々の変形が施され得ることは、当然である。
<List of examples of modification>
Note that the above-described embodiments and examples are merely examples of typical implementations of the present invention that the applicant has considered to be the best at the time of filing of the present application, as described above. Therefore, the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples. Therefore, it goes without saying that various modifications can be made to the above-described embodiments and examples without departing from the essential part of the present invention.

以下、代表的な変形例について、幾つか例示する。もっとも、言うまでもなく、変形例とて、以下に列挙されたもの限定されるものではない。また、複数の変形例の全部又は一部が、技術的に矛盾しない範囲内において、適宜、互いに複合的に適用され得る。   Hereinafter, some typical modifications will be exemplified. However, it goes without saying that the modifications are not limited to those listed below. In addition, all or some of the plurality of modified examples can be combined with each other as appropriate within a technically consistent range.

本発明(特に、本発明の課題を解決するための手段を構成する各構成要素における、作用的・機能的に表現されているもの)は、上述の実施形態や、下記変形例の記載に基づいて限定解釈されてはならない。このような限定解釈は、(先願主義の下で出願を急ぐ)出願人の利益を不当に害する反面、模倣者を不当に利するものであって、許されない。   The present invention (especially those expressed functionally and functionally in the constituent elements constituting the means for solving the problems of the present invention) is based on the above-described embodiment and the description of the following modifications. Should not be interpreted as limited. Such a limited interpretation is unacceptable and improper for imitators, while improperly harming the applicant's interests (rushing to file under a prior application principle).

粉末種類については、特段の限定はない。また、粒子径については、液中で分散できる大きさ以下であればよい。   There is no particular limitation on the type of powder. Further, the particle diameter may be smaller than the size that can be dispersed in the liquid.

本発明は、上述の実施形態で示された具体的な装置構成に限定されない。   The present invention is not limited to the specific apparatus configuration shown in the above embodiment.

例えば、電極4aの材質や形状、ギャップ幅、媒質Sの種類や導電率、等についても、プラズマが発生する条件であれば特段の限定はない。   For example, the material and shape of the electrode 4a, the gap width, the type and conductivity of the medium S, and the like are not particularly limited as long as plasma is generated.

液中プラズマが発生することで媒質Sが加熱され、この熱によってラジカルの付加反応が促進される。このとき、貯留槽2を外部から冷却する等の方法で、媒質Sの温度を沸点以下に抑制しつつほぼ一定となるように制御することが好ましい。これにより、ラジカルの付加反応の促進のためのプラズマの熱エネルギーを一定に保つことができる(熱エネルギーが少ないと反応が進みにくく、多いと気泡が発生するためにラジカルを有効に利用できない)。   The medium S is heated by the generation of plasma in the liquid, and the radical addition reaction is promoted by this heat. At this time, it is preferable to control the temperature of the medium S to be substantially constant while suppressing the temperature of the medium S below the boiling point by a method such as cooling the storage tank 2 from the outside. As a result, the thermal energy of the plasma for promoting the addition reaction of radicals can be kept constant (if the thermal energy is low, the reaction does not proceed easily, and if the thermal energy is large, bubbles are generated and the radical cannot be used effectively).

導電率を調整する材料については、水に溶解するものであれば、特に限定はなく、例えば、水溶性の塩(カチオンとしてH、K、Na、NH、アニオンとしてCl、NO,SO,OH)などを用いることができる。さらに、アンモニウム塩の場合は、NH基が付与されていてもよい。特に、粉末の表面電荷が小さくなるようにpHを調整することで、反応性を向上させることができる。表面電荷がラジカル種の接近を阻害するためである。具体的には、pHは、等電点−3以上、+3以下が好ましい。 The material for adjusting the conductivity is not particularly limited as long as it dissolves in water. For example, a water-soluble salt (H, K, Na, NH 4 as a cation, Cl, NO 3 , SO 4 as an anion) , OH) or the like. Further, in the case of an ammonium salt, an NH 2 group may be provided. In particular, the reactivity can be improved by adjusting the pH so that the surface charge of the powder is reduced. This is because the surface charge inhibits the access of radical species. Specifically, the isoelectric point is preferably −3 or more and +3 or less.

印加電圧としては、高周波、マイクロ波、等の任意のものが利用可能である。また、正電位側のみならず負電位側にもピークを持つ波形も利用可能である。   As the applied voltage, an arbitrary voltage such as high frequency or microwave can be used. A waveform having a peak not only on the positive potential side but also on the negative potential side can be used.

図3は、本発明の製造方法を実施するための装置の他の一例の要部構成を示す概略図である。図3に示されているように、製造装置1は、さらに、媒質循環機5を備えていてもよい。この媒質循環機5は、媒質循環路5aと、流動ポンプ5bと、湿式解砕/粉砕機5cと、を備えている。   FIG. 3 is a schematic view showing the main configuration of another example of an apparatus for carrying out the manufacturing method of the present invention. As shown in FIG. 3, the manufacturing apparatus 1 may further include a medium circulator 5. The medium circulator 5 includes a medium circulation path 5a, a flow pump 5b, and a wet crushing / pulverizing machine 5c.

媒質循環路5aにおける入口5a1は、貯留槽2の底部にて開口するように設けられている。また、媒質循環路5aにおける出口5a2は、貯留槽2の上部にて開口するように設けられている。すなわち、媒質循環路5aは、貯留槽2の底部から媒質Sを導出するとともに、導出された当該媒質Sを貯留槽2の上部に還流させるように設けられている。   An inlet 5 a 1 in the medium circulation path 5 a is provided so as to open at the bottom of the storage tank 2. Further, the outlet 5 a 2 in the medium circulation path 5 a is provided so as to open at the upper part of the storage tank 2. That is, the medium circulation path 5 a is provided so as to lead out the medium S from the bottom of the storage tank 2 and return the derived medium S to the upper part of the storage tank 2.

流動ポンプ5bは、媒質循環路5aにおける入口5a1から出口5a2に向けて媒質Sを送出するように、媒質循環路5aに介装されている。湿式解砕/粉砕機5cは、媒質循環路5aに介装されていて、媒質S中のセラミックス粉末凝集体を解砕/粉砕するようになっている。   The flow pump 5b is interposed in the medium circulation path 5a so as to send the medium S from the inlet 5a1 to the outlet 5a2 in the medium circulation path 5a. The wet crushing / pulverizing machine 5c is interposed in the medium circulation path 5a and crushes / crushes the ceramic powder aggregate in the medium S.

かかる構成の製造装置1においては、流動ポンプ5bの動作によって、貯留槽2内にて媒質Sが流動する(よって、図3に示されている構成においては、攪拌機3は省略され得る。)。このとき、湿式解砕/粉砕機5cにて、媒質S中のセラミックス粉末凝集体が解砕/粉砕される。   In the manufacturing apparatus 1 having such a configuration, the medium S flows in the storage tank 2 by the operation of the flow pump 5b (therefore, the stirrer 3 can be omitted in the configuration shown in FIG. 3). At this time, the ceramic powder aggregate in the medium S is pulverized / pulverized by the wet pulverization / pulverization machine 5c.

本変形例の、流通式の装置構成によれば、解砕/粉砕と改質とを同時かつ連続的に行うことが可能となる。   According to the flow-type apparatus configuration of this modification, crushing / pulverization and reforming can be performed simultaneously and continuously.

図4は、本発明の製造方法を実施するための装置のさらに他の一例の要部構成を示す概略図である。図4に示されているように、液中プラズマ発生装置4は、媒質循環路5aに介装されていてもよい。すなわち、かかる変形例においては、液中プラズマ発生槽4dが、媒質循環路5aに介装されている。この液中プラズマ発生槽4dには、電極4aを保持した一対の電極ホルダ4bが装着されている。   FIG. 4 is a schematic view showing the main configuration of still another example of an apparatus for carrying out the manufacturing method of the present invention. As shown in FIG. 4, the in-liquid plasma generator 4 may be interposed in the medium circulation path 5a. That is, in this modification, the in-liquid plasma generation tank 4d is interposed in the medium circulation path 5a. A pair of electrode holders 4b holding the electrodes 4a are attached to the submerged plasma generation tank 4d.

本変形例の構成においても、上述の変形例(図3参照)と同様に、解砕/粉砕と改質とを同時かつ連続的に処理することが可能となる。さらに、本変形例の構成によれば、媒質循環機5の動作によって媒質循環路5aを通過する媒質S中のほとんどの粒子に対して、改質処理を均一かつ良好に施すことが可能になる。   Also in the configuration of this modified example, as in the above modified example (see FIG. 3), crushing / pulverization and modification can be simultaneously and continuously processed. Furthermore, according to the configuration of the present modification, it is possible to uniformly and satisfactorily perform the reforming process on most particles in the medium S passing through the medium circulation path 5a by the operation of the medium circulator 5. .

本発明で用いられる原料セラミックス粉末は、媒質に投入される際に、粉末状でもスラリー状でも構わない。後者の場合、セラミックス粉末が分散した状態で媒質に投入されるため、改質がより均一に行われる。この場合の分散方法としては、ビーズを用いた湿式粉砕、ジェットミルや超音波を用いたホモジナイザー、等の、一般的な湿式法を用いることができる。このスラリーを得るための分散媒は、改質時の媒質と同一であっても異なっていてもよく、使用する粉末と相性の良いものを適宜用いることができる。   The raw material ceramic powder used in the present invention may be in the form of powder or slurry when it is put into the medium. In the latter case, since the ceramic powder is dispersed and put into the medium, the modification is performed more uniformly. As a dispersion method in this case, a general wet method such as wet pulverization using beads, a homogenizer using a jet mill or ultrasonic waves, or the like can be used. The dispersion medium for obtaining this slurry may be the same as or different from the medium at the time of modification, and a material having good compatibility with the powder to be used can be used as appropriate.

また、改質後の分散液は、そのままでもよいし、乾燥により粉末化されてもよいし、濃縮等によりペースト化されてもよい。   The modified dispersion may be used as it is, or may be pulverized by drying, or may be made into a paste by concentration or the like.

その他、特段に言及されていない変形例についても、本発明の本質的部分を変更しない範囲内において、本発明の範囲内に含まれることは当然である。また、本発明の課題を解決するための手段を構成する各要素における、作用・機能的に表現されている要素は、上述の実施形態や変形例にて開示されている具体的構造の他、当該作用・機能を実現可能ないかなる構造をも含む。さらに、本明細書にて引用した先行出願や公報の開示内容(明細書及び図面を含む)は、本明細書の一部を構成するものとして援用され得る。   Other modifications not specifically mentioned are naturally included in the scope of the present invention as long as they do not change the essential part of the present invention. In addition, in each element constituting the means for solving the problems of the present invention, the elements expressed in terms of operation and function are the specific structures disclosed in the above-described embodiments and modifications, It includes any structure that can realize this action / function. Furthermore, the disclosure content (including the specification and drawings) of the prior applications and publications cited in this specification may be incorporated as a part of this specification.

1…製造装置 2…貯留槽 3…攪拌機
4…液中プラズマ発生装置
4a…電極 4b…電極ホルダ 4c…電源
4d…液中プラズマ発生槽
5…媒質循環機
5a…媒質循環路 5a1…入口 5a2…出口
5b…流動ポンプ 5c…湿式解砕機
S…媒質
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Manufacturing apparatus 2 ... Reservoir 3 ... Stirrer 4 ... Submerged plasma generator 4a ... Electrode 4b ... Electrode holder 4c ... Power supply 4d ... Submerged plasma generator 5 ... Medium circulation machine 5a ... Medium circulation path 5a1 ... Inlet 5a2 ... Outlet 5b ... Fluid pump 5c ... Wet crusher S ... Medium

特開2001−30227号公報JP 2001-30227 A 特開2001−106578号公報JP 2001-106578 A 特開2001−130968号公報JP 2001-130968 A 特開2008−13810号公報JP 2008-13810 A 特許第3925932号公報Japanese Patent No. 3925932

Claims (11)

分散性の向上したセラミックス粉末の製造方法であって、
ラジカル種を生成可能な液体状の媒質中に、原料セラミックス粉末を投入し、
前記原料セラミックス粉末が投入された前記媒質を流動させつつ当該媒質中にて前記ラジカル種を生成し、
乾燥する
ことを特徴とする、分散性の向上したセラミックス粉末の製造方法。
A method for producing a ceramic powder with improved dispersibility, comprising:
Raw material ceramic powder is put into a liquid medium that can generate radical species,
Producing the radical species in the medium while flowing the medium in which the raw ceramic powder is charged;
A method for producing a ceramic powder with improved dispersibility, characterized by drying.
請求項1に記載の、分散性の向上したセラミックス粉末の製造方法であって、
前記原料セラミックス粉末をあらかじめスラリー状にしてから前記媒質中に投入することを特徴とする、
分散性の向上したセラミックス粉末の製造方法。
A method for producing a ceramic powder with improved dispersibility according to claim 1,
The raw ceramic powder is preliminarily made into a slurry and then charged into the medium.
A method for producing ceramic powder with improved dispersibility.
請求項1又は請求項2に記載の、分散性の向上したセラミックス粉末の製造方法であって、
前記媒質中に浸漬された一対の電極間に電圧を印加して当該媒質中にてプラズマを発生させることで、前記ラジカル種を生成させ、
前記原料セラミックス粉末をプラズマ発生部から1mm以上、20mm以内に供給することを特徴とする、
分散性の向上したセラミックス粉末の製造方法。
A method for producing a ceramic powder having improved dispersibility according to claim 1 or 2,
A voltage is applied between a pair of electrodes immersed in the medium to generate plasma in the medium, thereby generating the radical species,
The raw material ceramic powder is supplied from the plasma generation part to 1 mm or more and within 20 mm,
A method for producing ceramic powder with improved dispersibility.
請求項1ないし請求項3のうちのいずれか1項に記載の、分散性の向上したセラミックス粉末の製造方法であって、
前記媒質は水溶液であることを特徴とする、分散性の向上したセラミックス粉末の製造方法。
A method for producing a ceramic powder with improved dispersibility according to any one of claims 1 to 3,
The method for producing a ceramic powder with improved dispersibility, wherein the medium is an aqueous solution.
請求項4に記載の、分散性の向上したセラミックス粉末の製造方法であって、
前記ラジカル種はOH・及び/又はH・であることを特徴とする、分散性の向上したセラミックス粉末の製造方法。
A method for producing a ceramic powder with improved dispersibility according to claim 4,
The method for producing a ceramic powder having improved dispersibility, wherein the radical species is OH · and / or H ·.
セラミックス粉末の分散液の製造方法であって、
ラジカル種を生成可能な液体状の分散媒中に、原料セラミックス粉末を投入し、
前記原料セラミックス粉末が投入された前記分散媒を流動させつつ当該分散媒中にて前記ラジカル種を生成する
ことを特徴とする、セラミックス粉末の分散液の製造方法。
A method for producing a dispersion of ceramic powder,
Raw material ceramic powder is put into a liquid dispersion medium that can generate radical species,
A method for producing a dispersion of ceramic powder, wherein the radical species is generated in the dispersion medium while flowing the dispersion medium in which the raw ceramic powder is charged.
請求項6に記載の、セラミックス粉末の分散液の製造方法であって、
前記原料セラミックス粉末をあらかじめスラリー状にしてから前記分散媒中に投入することを特徴とする、
セラミックス粉末の分散液の製造方法。
A method for producing a dispersion of ceramic powder according to claim 6,
The raw ceramic powder is previously slurryed and then charged into the dispersion medium,
A method for producing a dispersion of ceramic powder.
請求項6又は請求項7に記載の、セラミックス粉末の分散液の製造方法であって、
前記分散媒中に浸漬された一対の電極間に電圧を印加して当該分散媒中にてプラズマを発生させることで、前記ラジカル種を生成させ、
前記原料セラミックス粉末をプラズマ発生部から1mm以上、20mm以内に供給することを特徴とする、セラミックス粉末の分散液の製造方法。
A method for producing a dispersion of ceramic powder according to claim 6 or 7,
By generating a plasma in the dispersion medium by applying a voltage between a pair of electrodes immersed in the dispersion medium, to generate the radical species,
A method for producing a dispersion of ceramic powder, characterized in that the raw material ceramic powder is supplied within a range of 1 mm to 20 mm from a plasma generating portion.
請求項6ないし請求項8のうちのいずれか1項に記載の、セラミックス粉末の分散液の製造方法であって、
前記分散媒は水溶液であることを特徴とする、セラミックス粉末の分散液の製造方法。
A method for producing a dispersion of ceramic powder according to any one of claims 6 to 8,
The method for producing a dispersion of ceramic powder, wherein the dispersion medium is an aqueous solution.
請求項9に記載の、セラミックス粉末の分散液の製造方法であって、
前記ラジカル種はOH・及び/又はH・であることを特徴とする、セラミックス粉末の分散液の製造方法。
A method for producing a dispersion of ceramic powder according to claim 9,
The method for producing a dispersion of ceramic powder, wherein the radical species is OH · and / or H ·.
請求項6ないし請求項10のうちのいずれか1項に記載の、セラミックス粉末の分散液の製造方法であって、
一対の前記電極間への電圧の印加後、前記分散媒に、分散剤を添加することを特徴とする、セラミックス粉末の分散液の製造方法。
A method for producing a dispersion of ceramic powder according to any one of claims 6 to 10,
A method for producing a dispersion of a ceramic powder, comprising adding a dispersant to the dispersion medium after applying a voltage between the pair of electrodes.
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