JP2010217872A - Colored radiation-sensitive composition, color filter, and color liquid crystal display device - Google Patents
Colored radiation-sensitive composition, color filter, and color liquid crystal display device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010217872A JP2010217872A JP2010001645A JP2010001645A JP2010217872A JP 2010217872 A JP2010217872 A JP 2010217872A JP 2010001645 A JP2010001645 A JP 2010001645A JP 2010001645 A JP2010001645 A JP 2010001645A JP 2010217872 A JP2010217872 A JP 2010217872A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sensitive composition
- pigment
- radiation
- colored radiation
- dispersant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 82
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 62
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 13
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 51
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical group O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims abstract description 22
- -1 4-morpholinophenyl Chemical group 0.000 claims description 30
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 16
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000006181 4-methyl benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N azaperone Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1C(=O)CCCN1CCN(C=2N=CC=CC=2)CC1 XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 28
- PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=C(C)C=C1 PUBNJSZGANKUGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 abstract 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 abstract 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 111
- 239000010408 film Substances 0.000 description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 28
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 23
- 238000011161 development Methods 0.000 description 16
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 229940048053 acrylate Drugs 0.000 description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 10
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 8
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 7
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 7
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 5
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 5
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N isobutyl acetate Chemical compound CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 4
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 3
- 229920000083 poly(allylamine) Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-methoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOC CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ULQISTXYYBZJSJ-UHFFFAOYSA-N 12-hydroxyoctadecanoic acid Chemical compound CCCCCCC(O)CCCCCCCCCCC(O)=O ULQISTXYYBZJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 2,4-di(propan-2-yl)thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C3SC2=C1 BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC(C)=C3SC2=C1 LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OJVAMHKKJGICOG-UHFFFAOYSA-N 2,5-hexanedione Chemical compound CC(=O)CCC(C)=O OJVAMHKKJGICOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPAGVACEWQNVQO-UHFFFAOYSA-N 3-acetyloxybutyl acetate Chemical compound CC(=O)OC(C)CCOC(C)=O MPAGVACEWQNVQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SEEVRZDUPHZSOX-UHFFFAOYSA-N [1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)carbazol-3-yl]ethylideneamino] acetate Chemical compound C=1C=C2N(CC)C3=CC=C(C(C)=NOC(C)=O)C=C3C2=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1C SEEVRZDUPHZSOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- PCDHSSHKDZYLLI-UHFFFAOYSA-N butan-1-one Chemical compound CCC[C]=O PCDHSSHKDZYLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N butyl propionate Chemical compound CCCCOC(=O)CC BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N butyric acid isopropyl ester Natural products CCCC(=O)OC(C)C FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N diimidazo[1,3-b:1',3'-e]pyrazine-5,10-dione Chemical compound O=C1C2=CN=CN2C(=O)C2=CN=CN12 UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000012156 elution solvent Substances 0.000 description 2
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropyl acetate Chemical compound CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N nonan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCO ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940116423 propylene glycol diacetate Drugs 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKCNEIWFQCSCM-UHFFFAOYSA-N (2-methyl-4-phenylpent-4-en-2-yl)benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)CC(=C)C1=CC=CC=C1 ZOKCNEIWFQCSCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWSKJORLRSWYGK-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-3-methylbutyl) propanoate Chemical compound CCC(=O)OCCC(C)(C)OC OWSKJORLRSWYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- RONYJXRSTBQEDW-NTCAYCPXSA-N (e)-3-[4-(diethylamino)phenyl]-1-phenylprop-2-en-1-one Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1\C=C\C(=O)C1=CC=CC=C1 RONYJXRSTBQEDW-NTCAYCPXSA-N 0.000 description 1
- XQFGVGNRDPFKFJ-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,5,6,7-hexahydropyrrolo[1,2-b]pyridazine Chemical compound N1CCC=C2CCCN21 XQFGVGNRDPFKFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWTGRKUQJXIWCV-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(O)C(O)CO JWTGRKUQJXIWCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQUXFUBNSYCQAL-UHFFFAOYSA-N 1-(2,3-difluorophenyl)ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC(F)=C1F PQUXFUBNSYCQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMIBQFXWSUBFTG-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(diethylamino)phenyl]ethanone Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 HMIBQFXWSUBFTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940114072 12-hydroxystearic acid Drugs 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXJCJJQOVTZXOJ-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[[4-(diethylamino)phenyl]methylidene]cyclohexan-1-one Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=C(CC1)CC(=O)C1=CC1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 ZXJCJJQOVTZXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1O DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKQRNTIBBOTABS-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dichlorophenyl)-1-[2-(2,4-dichlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1C(N1C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC(Cl)=CC=2)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 JKQRNTIBBOTABS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMDZKDKPYCNCDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CCCCOC(C)COC(C)CO WMDZKDKPYCNCDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHDULSOPQSUKBQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-1-[2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(N1C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 MHDULSOPQSUKBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOC(C)=O BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJCYDDALXPHSHR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCOCCOCCO DJCYDDALXPHSHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYVAYAJYLWYJJN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CCCOC(C)COC(C)CO XYVAYAJYLWYJJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)CO WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound O1C(C)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNDRGJCVJPHPOZ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=CC=2OC=CC=2)=N1 PNDRGJCVJPHPOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSLWEMZSKIWXQB-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=C3SC2=C1 JSLWEMZSKIWXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UADWUILHKRXHMM-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl benzoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1 UADWUILHKRXHMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106004 2-ethylhexyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- LETDRANQSOEVCX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 LETDRANQSOEVCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFKYDMBUMLWDA-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 WHFKYDMBUMLWDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWCQFCZUNBTCM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-(3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)sulfanyl-4-methylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(SC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O MQWCQFCZUNBTCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-benzimidazol-2-yl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2NC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropan-1-ol Chemical compound CCCCOCCCO NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWTBRYBHCBCJEQ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-phenyldiazenylnaphthalen-1-yl)diazenyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1N=NC(C1=CC=CC=C11)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 FWTBRYBHCBCJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLLOXKZNPPDLGM-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-yl]ethenyl]-n,n-diethyl-3-methylaniline Chemical compound CC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 BLLOXKZNPPDLGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 4-[2-nitro-4-(trifluoromethyl)phenyl]morpholine Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(C(F)(F)F)=CC=C1N1CCOCC1 UNDXPKDBFOOQFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 4-prop-1-en-2-ylphenol Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(O)C=C1 JAGRUUPXPPLSRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C(C)C)=CC=C2 IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEAJQNJSHYCMEK-UHFFFAOYSA-N 5-methoxy-2,5-dimethylhexanoic acid Chemical compound COC(C)(C)CCC(C)C(O)=O IEAJQNJSHYCMEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMFWEWMHABZQNB-UHFFFAOYSA-N 6-acetyloxyhexyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCCCCCOC(C)=O ZMFWEWMHABZQNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 Chemical compound C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005635 Caprylic acid (CAS 124-07-2) Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N Lactic Acid Natural products CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N Pentyl formate Chemical compound CCCCCOC=O DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- FHNINJWBTRXEBC-UHFFFAOYSA-N Sudan III Chemical compound OC1=CC=C2C=CC=CC2=C1N=NC(C=C1)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 FHNINJWBTRXEBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 240000001417 Vigna umbellata Species 0.000 description 1
- 235000011453 Vigna umbellata Nutrition 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCFFZAQQHCLMNH-UHFFFAOYSA-N [3-(6-prop-2-enoyloxyhexanoyloxy)-2-[[3-(6-prop-2-enoyloxyhexanoyloxy)-2,2-bis(6-prop-2-enoyloxyhexanoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(6-prop-2-enoyloxyhexanoyloxymethyl)propyl] 6-prop-2-enoyloxyhexanoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCC(=O)OCC(COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C)(COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C)COCC(COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C)(COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C)COC(=O)CCCCCOC(=O)C=C VCFFZAQQHCLMNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] Chemical compound [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOCXTTRLSIDGPS-UHFFFAOYSA-N [[1-oxo-1-(4-phenylsulfanylphenyl)octan-2-ylidene]amino] benzoate Chemical compound C=1C=C(SC=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C(CCCCCC)=NOC(=O)C1=CC=CC=C1 LOCXTTRLSIDGPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USDJGQLNFPZEON-UHFFFAOYSA-N [[4,6-bis(hydroxymethylamino)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]methanol Chemical compound OCNC1=NC(NCO)=NC(NCO)=N1 USDJGQLNFPZEON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 125000004054 acenaphthylenyl group Chemical group C1(=CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- 229940022663 acetate Drugs 0.000 description 1
- HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N acetnaphthylene Natural products C1=CC(C=C2)=C3C2=CC=CC3=C1 HXGDTGSAIMULJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000002744 anti-aggregatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000010426 asphalt Substances 0.000 description 1
- IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L azure blue Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[S-]S[S-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UADWUILHKRXHMM-ZDUSSCGKSA-N benzoflex 181 Natural products CCCC[C@H](CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1 UADWUILHKRXHMM-ZDUSSCGKSA-N 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N diethyl oxalate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)OCC WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- VPWFPZBFBFHIIL-UHFFFAOYSA-L disodium 4-[(4-methyl-2-sulfophenyl)diazenyl]-3-oxidonaphthalene-2-carboxylate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC(C)=CC=C1N=NC1=C(O)C(C([O-])=O)=CC2=CC=CC=C12 VPWFPZBFBFHIIL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxy-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)O GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxyacetate Chemical compound CCOC(=O)CO ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-oxobutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)CC FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)iron;iron Chemical compound [Fe].O[Fe]=O.O[Fe]=O UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019239 indanthrene blue RS Nutrition 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- PIJPYDMVFNTHIP-UHFFFAOYSA-L lead sulfate Chemical compound [PbH4+2].[O-]S([O-])(=O)=O PIJPYDMVFNTHIP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229960002446 octanoic acid Drugs 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- QBDSZLJBMIMQRS-UHFFFAOYSA-N p-Cumylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 QBDSZLJBMIMQRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N pigment red 224 Chemical compound C=12C3=CC=C(C(OC4=O)=O)C2=C4C=CC=1C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C4=CC=C3C1=C42 CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940104573 pigment red 5 Drugs 0.000 description 1
- 229940067265 pigment yellow 138 Drugs 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N propyl 2-oxopropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=O ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N propyl butyrate Chemical compound CCCOC(=O)CCC HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole-5,6-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)C(=O)N=C21 FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- WPPDXAHGCGPUPK-UHFFFAOYSA-N red 2 Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=CC=CC=C11)=C(C=2C=3C4=CC=C5C6=CC=C7C8=C(C=9C=CC=CC=9)C9=CC=CC=C9C(C=9C=CC=CC=9)=C8C8=CC=C(C6=C87)C(C=35)=CC=2)C4=C1C1=CC=CC=C1 WPPDXAHGCGPUPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229940047670 sodium acrylate Drugs 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000005092 sublimation method Methods 0.000 description 1
- 150000003458 sulfonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 235000013799 ultramarine blue Nutrition 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYQCBJZGELKKPM-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Zn+2].[O-2].[In+3] OYQCBJZGELKKPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 1
- NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(dioxo)chromium Chemical compound [Zn+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
Abstract
Description
本発明は、着色感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子に関わり、より詳しくは、透過型あるいは反射型のカラー液晶表示装置、カラー撮像管素子、有機EL表示素子、電子ペーパー等に用いられるカラーフィルタに有用な着色層の形成に用いられる感放射線性組成物、当該感放射線性組成物から形成された着色層を有するカラーフィルタ、並びに当該カラーフィルタを具備するカラー液晶表示素子に関する。 The present invention relates to a colored radiation-sensitive composition, a color filter, and a color liquid crystal display element. More specifically, the present invention relates to a transmissive or reflective color liquid crystal display device, a color imaging tube element, an organic EL display element, electronic paper, and the like. The present invention relates to a radiation-sensitive composition used for forming a colored layer useful for a color filter to be used, a color filter having a colored layer formed from the radiation-sensitive composition, and a color liquid crystal display device including the color filter.
従来、着色感放射線性組成物を用いてカラーフィルタを製造するに当たっては、基板上あるいは予め所望のパターンの遮光層を形成した基板上に、着色感放射線性組成物を塗布して乾燥したのち、乾燥塗膜を所望のパターン形状に放射線を照射(以下、「露光」という。)し、現像することにより、各色の画素を得る方法(例えば、特許文献1および2参照)が知られている。 Conventionally, in producing a color filter using a colored radiation-sensitive composition, after applying the colored radiation-sensitive composition on a substrate or a substrate on which a light-shielding layer having a desired pattern has been formed and drying, There is known a method (see, for example, Patent Documents 1 and 2) of obtaining pixels of each color by irradiating a dry coating film with a desired pattern shape by radiation (hereinafter referred to as “exposure”) and developing.
そして、近年におけるカラーフィルタの技術分野においては、露光量を下げてタクトタイムを短縮することが主流となっているのに加え、カラー液晶表示素子に対する高色純度化の要求に対応すべく、着色感放射線性組成物中に占める顔料の含有割合がますます高くなる傾向にある。このような状況下、画素パターンの断面形状が逆テーパー(オーバーハング)となり画素パターン上に形成されるITO等の透明電極が断線してしまう、画素の耐溶剤性が低下する等、様々な問題が顕在化している。しかしながら、これらの問題を解決する有効な手段は未だ見つかっていない。 In the technical field of color filters in recent years, in addition to reducing the exposure amount and shortening the tact time, in order to meet the demand for high color purity for color liquid crystal display elements, The content ratio of the pigment in the radiation-sensitive composition tends to be higher. Under such circumstances, the cross-sectional shape of the pixel pattern is inversely tapered (overhang), and transparent electrodes such as ITO formed on the pixel pattern are disconnected, and the solvent resistance of the pixel is reduced. Has become apparent. However, an effective means for solving these problems has not yet been found.
本発明は以上のような事情に基づいてなされたものであり、その課題は、低露光量であっても順テーパー形状で且つ耐溶剤性にも優れた画素を形成することができる新規な着色感放射線性組成物を提供することにある。 The present invention has been made on the basis of the circumstances as described above, and its problem is a novel coloring that can form a pixel having a forward tapered shape and excellent solvent resistance even at a low exposure amount. The object is to provide a radiation-sensitive composition.
本発明者らは、鋭意検討の結果、着色感放射線性組成物中にカプロラクトン構造を有する分散剤あるいは多官能性単量体と、特定の光重合開始剤とを含有せしめることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies, the present inventors have solved the above problem by incorporating a dispersant or polyfunctional monomer having a caprolactone structure in a colored radiation-sensitive composition and a specific photopolymerization initiator. The inventors have found that this can be solved, and have completed the present invention.
すなわち、本発明は、(A)着色剤、(C)アルカリ可溶性樹脂、(D)多官能性単量体、および(E)光重合開始剤を含有する着色感放射線性組成物であって、(D)多官能性単量体がカプロラクトン構造を有するものであり、且つ(E)光重合開始剤が2−(4−メチルベンジル)−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オンを含有するものであることを特徴とする着色感放射線性組成物を提供するものである。
また、本発明は、(A)着色剤、(B)分散剤、(C)アルカリ可溶性樹脂、(D)多官能性単量体、および(E)光重合開始剤を含有する着色感放射線性組成物であって、(B)分散剤がカプロラクトン構造を有するものであり、且つ(E)光重合開始剤が2−(4−メチルベンジル)−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オンを含有するものであることを特徴とする着色感放射線性組成物を提供するものである。
That is, the present invention is a colored radiation-sensitive composition containing (A) a colorant, (C) an alkali-soluble resin, (D) a polyfunctional monomer, and (E) a photopolymerization initiator, (D) The polyfunctional monomer has a caprolactone structure, and (E) the photopolymerization initiator is 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholino The present invention provides a colored radiation-sensitive composition characterized by containing phenyl) butan-1-one.
The present invention also provides a colored radiation-sensitive material containing (A) a colorant, (B) a dispersant, (C) an alkali-soluble resin, (D) a polyfunctional monomer, and (E) a photopolymerization initiator. It is a composition, (B) the dispersant has a caprolactone structure, and (E) the photopolymerization initiator is 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4- The present invention provides a colored radiation-sensitive composition characterized by containing morpholinophenyl) butan-1-one.
また、本発明は、該着色感放射線性組成物を用いて形成された着色層を備えてなるカラーフィルタ、および該カラーフィルタを具備してなるカラー液晶表示素子をも提供するものである。
本発明でいう「放射線」は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を含むものを意味する。
本発明でいう「着色層」は、カラーフィルタに用いられる画素および/またはブラックマトリックスからなる層を意味する。
The present invention also provides a color filter comprising a colored layer formed using the colored radiation-sensitive composition, and a color liquid crystal display device comprising the color filter.
The “radiation” as used in the present invention means a substance including visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray and the like.
The “colored layer” in the present invention means a layer composed of pixels and / or a black matrix used for a color filter.
本発明の着色感放射線性組成物を用いれば、低露光量であっても順テーパー形状で且つ耐溶剤性にも優れた画素を形成することができる。
したがって、本発明の着色感放射線性組成物は、カラー液晶表示素子用カラーフィルタ、固体撮像素子の色分解用カラーフィルタ、有機EL表示素子用カラーフィルタ、電子ペーパー用カラーフィルタを始めとする各種用途のカラーフィルタの製造に極めて好適に使用することができる。
By using the colored radiation-sensitive composition of the present invention, a pixel having a forward tapered shape and excellent solvent resistance can be formed even with a low exposure amount.
Therefore, the colored radiation-sensitive composition of the present invention is used in various applications including color filters for color liquid crystal display elements, color filters for color separation of solid-state imaging elements, color filters for organic EL display elements, and color filters for electronic paper. It can be used very suitably for the production of color filters.
以下、本発明について詳細に説明する。
着色感放射線性組成物
本発明の着色感放射線性組成物(以下、単に「感放射線性組成物」ということがある。
)の構成成分について説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
Colored radiation-sensitive composition Colored radiation-sensitive composition of the present invention (hereinafter, simply referred to as “radiation-sensitive composition”).
) Will be described.
−(A)着色剤−
本発明における着色剤は、色調が特に限定されるものではなく、得られるカラーフィルタの用途に応じて適宜選定され、顔料、染料あるいは天然色素の何れでもよい。カラーフィルタには耐熱性が求められることから、本発明における着色剤としては、有機顔料あるいは無機顔料が好ましい。
前記有機顔料としては、例えば、カラーインデックス(C.I.;The Society of Dyers and Colourists 社発行)においてピグメントに分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス(C.I.)名が付されているものを挙げることができる。
-(A) Colorant-
The colorant in the present invention is not particularly limited in color tone, and is appropriately selected according to the use of the obtained color filter, and may be any of a pigment, a dye, or a natural pigment. Since the color filter is required to have heat resistance, the colorant in the present invention is preferably an organic pigment or an inorganic pigment.
Examples of the organic pigment include compounds classified as pigments in the Color Index (CI; issued by The Society of Dyers and Colorists), specifically, the following Color Index (C.I. ) Names can be mentioned.
C.I.ピグメントイエロー12、C.I.ピグメントイエロー13、C.I.ピグメントイエロー14、C.I.ピグメントイエロー17、C.I.ピグメントイエロー20、C.I.ピグメントイエロー24、C.I.ピグメントイエロー31、C.I.ピグメントイエロー55、C.I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエロー93、C.I.ピグメントイエロー109、C.I.ピグメントイエロー110、C.I.ピグメントイエロー138、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー153、C.I.ピグメントイエロー154、C.I.ピグメントイエロー155、C.I.ピグメントイエロー166、C.I.ピグメントイエロー168、C.I.ピグメントイエロー180、C.I.ピグメントイエロー211; C. I. Pigment yellow 12, C.I. I. Pigment yellow 13, C.I. I. Pigment yellow 14, C.I. I. Pigment yellow 17, C.I. I. Pigment yellow 20, C.I. I. Pigment yellow 24, C.I. I. Pigment yellow 31, C.I. I. Pigment yellow 55, C.I. I. Pigment yellow 83, C.I. I. Pigment yellow 93, C.I. I. Pigment yellow 109, C.I. I. Pigment yellow 110, C.I. I. Pigment yellow 138, C.I. I. Pigment yellow 139, C.I. I. Pigment yellow 150, C.I. I. Pigment yellow 153, C.I. I. Pigment yellow 154, C.I. I. Pigment yellow 155, C.I. I. Pigment yellow 166, C.I. I. Pigment yellow 168, C.I. I. Pigment yellow 180, C.I. I. Pigment yellow 211;
C.I.ピグメントオレンジ5、C.I.ピグメントオレンジ13、C.I.ピグメントオレンジ14、C.I.ピグメントオレンジ24、C.I.ピグメントオレンジ34、C.I.ピグメントオレンジ36、C.I.ピグメントオレンジ38、C.I.ピグメントオレンジ40、C.I.ピグメントオレンジ43、C.I.ピグメントオレンジ46、C.I.ピグメントオレンジ49、C.I.ピグメントオレンジ61、C.I.ピグメントオレンジ64、C.I.ピグメントオレンジ68、C.I.ピグメントオレンジ70、C.I.ピグメントオレンジ71、C.I.ピグメントオレンジ72、C.I.ピグメントオレンジ73、C.I.ピグメントオレンジ74; C. I. Pigment orange 5, C.I. I. Pigment orange 13, C.I. I. Pigment orange 14, C.I. I. Pigment orange 24, C.I. I. Pigment orange 34, C.I. I. Pigment orange 36, C.I. I. Pigment orange 38, C.I. I. Pigment orange 40, C.I. I. Pigment orange 43, C.I. I. Pigment orange 46, C.I. I. Pigment orange 49, C.I. I. Pigment orange 61, C.I. I. Pigment orange 64, C.I. I. Pigment orange 68, C.I. I. Pigment orange 70, C.I. I. Pigment orange 71, C.I. I. Pigment orange 72, C.I. I. Pigment orange 73, C.I. I. Pigment orange 74;
C.I.ピグメントレッド1、C.I.ピグメントレッド2、C.I.ピグメントレッド5、C.I.ピグメントレッド17、C.I.ピグメントレッド31、C.I.ピグメントレッド32、C.I.ピグメントレッド41、C.I.ピグメントレッド122、C.I.ピグメントレッド123、C.I.ピグメントレッド144、C.I.ピグメントレッド149、C.I.ピグメントレッド166、C.I.ピグメントレッド168、C.I.ピグメントレッド170、C.I.ピグメントレッド171、C.I.ピグメントレッド175、C.I.ピグメントレッド176、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメントレッド178、C.I.ピグメントレッド179、C.I.ピグメントレッド180、C.I.ピグメントレッド185、C.I.ピグメントレッド187、C.I.ピグメントレッド202、C.I.ピグメントレッド206、C.I.ピグメントレッド207、C.I.ピグメントレッド209、C.I.ピグメントレッド214、C.I.ピグメントレッド220、C.I.ピグメントレッド221、C.I.ピグメントレッド224、C.I.ピグメントレッド242、C.I.ピグメントレッド243、C.I.ピグメントレッド254、C.I.ピグメントレッド255、C.I.ピグメントレッド262、C.I.ピグメントレッド264、C.I.ピグメントレッド272; C. I. Pigment red 1, C.I. I. Pigment red 2, C.I. I. Pigment red 5, C.I. I. Pigment red 17, C.I. I. Pigment red 31, C.I. I. Pigment red 32, C.I. I. Pigment red 41, C.I. I. Pigment red 122, C.I. I. Pigment red 123, C.I. I. Pigment red 144, C.I. I. Pigment red 149, C.I. I. Pigment red 166, C.I. I. Pigment red 168, C.I. I. Pigment red 170, C.I. I. Pigment red 171, C.I. I. Pigment red 175, C.I. I. Pigment red 176, C.I. I. Pigment red 177, C.I. I. Pigment red 178, C.I. I. Pigment red 179, C.I. I. Pigment red 180, C.I. I. Pigment red 185, C.I. I. Pigment red 187, C.I. I. Pigment red 202, C.I. I. Pigment red 206, C.I. I. Pigment red 207, C.I. I. Pigment red 209, C.I. I. Pigment red 214, C.I. I. Pigment red 220, C.I. I. Pigment red 221, C.I. I. Pigment red 224, C.I. I. Pigment red 242, C.I. I. Pigment red 243, C.I. I. Pigment red 254, C.I. I. Pigment red 255, C.I. I. Pigment red 262, C.I. I. Pigment red 264, C.I. I. Pigment red 272;
C.I.ピグメントバイオレット1、C.I.ピグメントバイオレット19、C.I.ピグメントバイオレット23、C.I.ピグメントバイオレット29、C.I.ピグメントバイオレット32、C.I.ピグメントバイオレット36、C.I.ピグメントバイオレット38;
C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピグメントブルー15:3、C.I.ピグメントブルー15:4、C.I.ピグメントブルー15:6、C.I.ピグメントブルー60、C.I.ピグメントブルー80;
C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン58;
C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25;
C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7。
C. I. Pigment violet 1, C.I. I. Pigment violet 19, C.I. I. Pigment violet 23, C.I. I. Pigment violet 29, C.I. I. Pigment violet 32, C.I. I. Pigment violet 36, C.I. I. Pigment violet 38;
C. I. Pigment blue 15, C.I. I. Pigment blue 15: 3, C.I. I. Pigment blue 15: 4, C.I. I. Pigment blue 15: 6, C.I. I. Pigment blue 60, C.I. I. Pigment blue 80;
C. I. Pigment green 7, C.I. I. Pigment green 36, C.I. I. Pigment green 58;
C. I. Pigment brown 23, C.I. I. Pigment brown 25;
C. I. Pigment black 1, C.I. I. Pigment Black 7.
本発明において、有機顔料は、再結晶法、再沈殿法、溶剤洗浄法、昇華法、真空加熱法や、これらの組み合わせにより精製して使用することもできる。 In the present invention, the organic pigment can be purified and used by a recrystallization method, a reprecipitation method, a solvent washing method, a sublimation method, a vacuum heating method, or a combination thereof.
また、上記無機顔料としては、例えば、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤色酸化鉄(III))、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボンブラック等を挙げることができる。 Examples of the inorganic pigment include, for example, titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, zinc white, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red bean curd (red iron oxide (III)), cadmium red, ultramarine blue, bitumen, and chromium oxide. Examples include green, cobalt green, amber, titanium black, synthetic iron black, and carbon black.
これらの着色剤は、所望により、その粒子表面を樹脂で改質して使用してもよい。
顔料の粒子表面を改質する樹脂としては、例えば特開2001−108817号公報に記載のビヒクル樹脂や、市販の各種の顔料分散用の樹脂を挙げることができる。カーボンブラック表面の樹脂被覆方法については、例えば特開平9−71733号公報、特開平9−95625号公報、特開平9−124969号公報等に開示されている。
前記着色剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
These colorants may be used by modifying the particle surface with a resin, if desired.
Examples of the resin that modifies the particle surface of the pigment include vehicle resins described in JP-A No. 2001-108817, and various commercially available resins for dispersing pigments. For example, JP-A-9-71733, JP-A-9-95625, JP-A-9-124969, etc. disclose the method of resin coating on the surface of carbon black.
The colorants can be used alone or in admixture of two or more.
本発明の感放射線性組成物を画素の形成に用いる場合、画素には高精細な発色が求められることから、(A)着色剤としては、発色性の高い着色剤が好ましく、具体的には有機顔料が好ましく用いられる。
一方、本発明の感放射線性組成物をブラックマトリックスの形成に用いる場合、ブラックマトリックスには遮光性が要求されることから、(A)着色剤としては有機顔料またはカーボンブラックが好ましく用いられる。
When the radiation-sensitive composition of the present invention is used for the formation of a pixel, since the pixel is required to have a high-definition color, (A) the colorant is preferably a colorant with high color developability. Organic pigments are preferably used.
On the other hand, when the radiation-sensitive composition of the present invention is used for forming a black matrix, since the black matrix is required to have light shielding properties, an organic pigment or carbon black is preferably used as the colorant (A).
本発明の感放射線性組成物は、着色剤の含有量が、感放射線性組成物の全固形分中、30重量%以上となる場合であっても、順テーパー形状で且つ耐溶剤性にも優れた画素を形成することができる。また、本発明において、着色剤の含有量の上限は、現像性を確保する観点から、感放射線性組成物の全固形分中、好ましくは70重量%以下、特に好ましくは60重量%以下である。ここで、固形分とは、後述する溶媒以外の成分である。 The radiation-sensitive composition of the present invention has a forward tapered shape and solvent resistance even when the content of the colorant is 30% by weight or more in the total solid content of the radiation-sensitive composition. Excellent pixels can be formed. In the present invention, the upper limit of the content of the colorant is preferably 70% by weight or less, particularly preferably 60% by weight or less, in the total solid content of the radiation-sensitive composition, from the viewpoint of ensuring developability. . Here, solid content is components other than the solvent mentioned later.
−(B)分散剤−
本発明の感放射線性組成物は、カプロラクトン構造を有する(B)分散剤および後述するカプロラクトン構造を有する(D)多官能性単量体の少なくとも一方を含有するものである。これにより、低露光量であっても順テーパー形状な画素を形成することができる。
カプロラクトン構造を有する分散剤は、その分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されるものではないが、主鎖または側鎖にポリカプロラクトン鎖を有する高分子分散剤であることが好ましい。この場合、ポリカプロラクトン鎖の分子量は、所望の効果を高める点で、100以上であることが好ましく、200以上であることがさらに好ましく、200〜5,000であることが特に好ましい。
-(B) Dispersant-
The radiation-sensitive composition of the present invention contains at least one of (B) a dispersant having a caprolactone structure and (D) a polyfunctional monomer having a caprolactone structure described later. Thereby, a forward tapered pixel can be formed even with a low exposure amount.
The dispersant having a caprolactone structure is not particularly limited as long as it has a caprolactone structure in the molecule, but is preferably a polymer dispersant having a polycaprolactone chain in the main chain or side chain. In this case, the molecular weight of the polycaprolactone chain is preferably 100 or more, more preferably 200 or more, and particularly preferably 200 to 5,000 from the viewpoint of enhancing a desired effect.
ポリカプロラクトン鎖を有する高分子分散剤としては、例えば、ポリ(アルキレンイミン)やポリ(アリルアミン)と、ポリε−カプロラクトンを反応させたグラフトポリマー、ポリカプロラクトン鎖を有する(メタ)アクリル系モノマーの共重合体、ポリカプロラクトン鎖を有するリン酸エステル、ポリカプロラクトン鎖を有する分岐ウレタン樹脂等を挙げることができる。より具体的には、特開昭61−174939号公報、特開平9−169821号公報、特開2000−95827号公報、特開2000−95992号公報、特開2000−104005号公報、特開2007−231106号公報、特開2007−269873号公報等に記載の分散剤を挙げることができる。
ポリカプロラクトン鎖を有する高分子分散剤は商業的に入手することもでき、例えば、アジスパーPB821(味の素ファインテクノ株式会社製)等を挙げることができる。
本発明において、カプロラクトン構造を有する分散剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Examples of the polymer dispersant having a polycaprolactone chain include a graft polymer obtained by reacting poly (alkyleneimine) or poly (allylamine) with polyε-caprolactone, and a (meth) acrylic monomer having a polycaprolactone chain. Examples thereof include a polymer, a phosphate ester having a polycaprolactone chain, and a branched urethane resin having a polycaprolactone chain. More specifically, JP-A-61-174939, JP-A-9-169821, JP-A-2000-95827, JP-A-2000-95992, JP-A-2000-104005, JP-A-2007. -231106 gazette, Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-269873 gazette etc. can be mentioned.
The polymer dispersant having a polycaprolactone chain can also be obtained commercially, and examples thereof include Addisper PB821 (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.).
In this invention, the dispersing agent which has a caprolactone structure can be used individually or in mixture of 2 or more types.
本発明の感放射線性組成物においては、カプロラクトン構造を有する(D)多官能性単量体を使用し、カプロラクトン構造を有する分散剤を使用しない場合、カプロラクトン構造を有さない、カチオン系、アニオン系、ノニオン系や両性等の適宜の分散剤を使用することができる。このような分散剤としては、例えば、変性アクリル系共重合体、アクリル系共重合体、ポリウレタン、高分子共重合体のアルキルアンモニウム塩またはリン酸エステル塩等を挙げることができる。本発明において、カプロラクトン構造を有さない分散剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
もちろん、カプロラクトン構造を有する分散剤と共に、カプロラクトン構造を有さないこれらの分散剤を併用してもよい。
In the radiation-sensitive composition of the present invention, when a polyfunctional monomer (D) having a caprolactone structure is used and a dispersant having a caprolactone structure is not used, a cationic system, an anion having no caprolactone structure An appropriate dispersant such as a non-ionic, nonionic or amphoteric can be used. Examples of such a dispersant include a modified acrylic copolymer, an acrylic copolymer, polyurethane, and an alkylammonium salt or a phosphate ester salt of a polymer copolymer. In this invention, the dispersing agent which does not have a caprolactone structure can be used individually or in mixture of 2 or more types.
Of course, these dispersants having no caprolactone structure may be used in combination with the dispersant having a caprolactone structure.
本発明において、分散剤の含有量は、(A)着色剤100質量部に対して、通常、0.5〜100質量部、好ましくは1〜70質量部、さらに好ましくは10〜50質量部である。この場合、分散剤の含有量が多すぎると、現像性等が損なわれるおそれがある。
また、カプロラクトン構造を有する(D)多官能性単量体を使用せず、カプロラクトン構造を有する分散剤を使用する場合、その含有割合は、所望の効果を高める点から、全分散剤中、好ましくは25質量%以上、さらに好ましくは50質量%以上である。
In this invention, content of a dispersing agent is 0.5-100 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (A) coloring agents, Preferably it is 1-70 mass parts, More preferably, it is 10-50 mass parts. is there. In this case, when there is too much content of a dispersing agent, there exists a possibility that developability etc. may be impaired.
In addition, when a dispersant having a caprolactone structure is used without using the (D) polyfunctional monomer having a caprolactone structure, the content is preferably in the total dispersant from the viewpoint of enhancing the desired effect. Is 25% by mass or more, more preferably 50% by mass or more.
本発明においては、分散剤と共に分散助剤を併用することもできる。分散助剤としては、例えば、顔料誘導体を挙げることができ、具体的には、銅フタロシアニン、ジケトピロロピロール、キノフタロンのスルホン酸誘導体等を挙げることができる。 In the present invention, a dispersing aid can be used in combination with the dispersing agent. Examples of the dispersion aid include pigment derivatives, and specific examples include copper phthalocyanine, diketopyrrolopyrrole, sulfonic acid derivatives of quinophthalone, and the like.
−(C)アルカリ可溶性樹脂−
本発明の感放射線性組成物に含有される(C)アルカリ可溶性樹脂は、着色層を形成する際の現像処理工程において用いられるアルカリ現像液に対して可溶性を有するものであれば、特に限定されるものではないが、通常、カルボキシル基、フェノール性水酸基等の酸性官能基を有する重合体である。なかでも、カルボキシル基を有する重合体(「カルボキシル基含有重合体」ということがある。)を含有することが好ましく、該重合体としては、例えば、1個以上のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体(以下、「不飽和単量体(c1)」ということがある。)と他の共重合可能なエチレン性不飽和単量体(以下、「不飽和単量体(c2)」ということがある。)との共重合体を挙げることができる。
-(C) Alkali-soluble resin-
The (C) alkali-soluble resin contained in the radiation-sensitive composition of the present invention is not particularly limited as long as it is soluble in an alkali developer used in the development processing step when forming the colored layer. Although not intended, it is usually a polymer having an acidic functional group such as a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group. Among these, it is preferable to contain a polymer having a carboxyl group (sometimes referred to as a “carboxyl group-containing polymer”). As the polymer, for example, an ethylenically unsaturated group having one or more carboxyl groups. A monomer (hereinafter sometimes referred to as “unsaturated monomer (c1)”) and another copolymerizable ethylenically unsaturated monomer (hereinafter referred to as “unsaturated monomer (c2)”). And a copolymer thereof may be mentioned.
前記不飽和単量体(c1)としては、例えば、(メタ)アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。これらの不飽和単量体(c1)は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
不飽和単量体(c1)と不飽和単量体(c2)の共重合体において、不飽和単量体(c1)の共重合割合は、好ましくは5〜50質量%、さらに好ましくは10〜40質量%である。このような範囲で不飽和単量体(c1)を共重合させることにより、アルカリ現像性に優れた感放射線性組成物を得ることができる。
Examples of the unsaturated monomer (c1) include (meth) acrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], ω-carboxypolycaprolactone mono (meta ) Acrylate and the like. These unsaturated monomers (c1) can be used alone or in admixture of two or more.
In the copolymer of the unsaturated monomer (c1) and the unsaturated monomer (c2), the copolymerization ratio of the unsaturated monomer (c1) is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 10% by mass. 40% by mass. By copolymerizing the unsaturated monomer (c1) within such a range, a radiation-sensitive composition having excellent alkali developability can be obtained.
また、前記不飽和単量体(c2)としては、例えば、
N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミドの如きN−位置換マレイミド;スチレン、α−メチルスチレン、p−ヒドロキシ−α−メチルスチレンの如き芳香族ビニル化合物;
メチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート、パラクミルフェノールのエチレンオキサイド変性(メタ)アクリレートの如き不飽和カルボン酸エステル;
ポリスチレン、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリ−n−ブチル(メタ)アクリレート、ポリシロキサンの如き重合体分子鎖の末端にモノ(メタ)アクリロイル基を有するマクロモノマー等を挙げることができる。
これらの不飽和単量体(c2)は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Examples of the unsaturated monomer (c2) include:
N-substituted maleimides such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide; aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene and p-hydroxy-α-methylstyrene;
Methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl Ethylene oxide of (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, 4-hydroxyphenyl (meth) acrylate, paracumylphenol Unsaturated carboxylic esters such as modified (meth) acrylates;
Examples thereof include a macromonomer having a mono (meth) acryloyl group at the end of a polymer molecular chain such as polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, poly-n-butyl (meth) acrylate, and polysiloxane.
These unsaturated monomers (c2) can be used alone or in admixture of two or more.
不飽和単量体(c1)と不飽和単量体(c2)の共重合体の具体例としては、例えば、特開平7−140654号公報、特開平10−31308号公報、特開平10−300922号公報、特開平11−174224号公報、特開平11−258415号公報、特開2000−56118号公報、特開2004−101728等に開示されている共重合体を挙げることができる。 Specific examples of the copolymer of the unsaturated monomer (c1) and the unsaturated monomer (c2) include, for example, JP-A-7-140654, JP-A-10-31308, and JP-A-10-300922. And copolymers disclosed in JP-A-11-174224, JP-A-11-258415, JP-A-2000-56118, JP-A-2004-101728, and the like.
また、本発明においては、例えば、特開平5−19467号公報、特開平6−230212号公報、特開平7−207211号公報、特開平11−140144号公報、特開2008−181095号公報等に開示されているように、側鎖に(メタ)アクリロイル基等の重合性不飽和結合を有するカルボキシル基含有重合体を、アルカリ可溶性樹脂として使用することもできる。 In the present invention, for example, JP-A-5-19467, JP-A-6-230212, JP-A-7-207211, JP-A-11-140144, JP-A-2008-181095, etc. As disclosed, a carboxyl group-containing polymer having a polymerizable unsaturated bond such as a (meth) acryloyl group in the side chain can also be used as the alkali-soluble resin.
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC、溶出溶媒:テトラヒドロフラン)で測定したポリスチレン換算重量平均分子量(以下、「Mw」という。)は、通常、1,000〜100,000、好ましくは3,000〜50,000である。この場合、Mwが小さすぎると、得られる被膜の残膜率等が低下したり、パターン形状、耐熱性等が損なわれたり、また電気特性が悪化するおそれがあり、一方大きすぎると、解像度が低下したり、パターン形状が損なわれたり、またスリットノズル方式による塗布時に乾燥異物が発生し易くなるおそれがある。
また、本発明におけるアルカリ可溶性樹脂のMwと、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC、溶出溶媒:テトラヒドロフラン)で測定したポリスチレン換算数平均分子量(以下、「Mn」という。)の比(Mw/Mn)は、好ましくは1.0〜5.0、より好ましくは1.0〜3.0である。
The polystyrene-converted weight average molecular weight (hereinafter referred to as “Mw”) measured by gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) of the alkali-soluble resin in the present invention is usually 1,000 to 100,000, preferably. Is 3,000 to 50,000. In this case, if the Mw is too small, the remaining film rate of the resulting coating may be reduced, the pattern shape, heat resistance, etc. may be impaired, and the electrical characteristics may be deteriorated. There is a risk that the pattern may be lowered, the pattern shape may be impaired, and dry foreign matter may be easily generated during application by the slit nozzle method.
In addition, the ratio (Mw / Mn) of Mw of the alkali-soluble resin in the present invention to the polystyrene-equivalent number average molecular weight (hereinafter referred to as “Mn”) measured by gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) is , Preferably 1.0 to 5.0, more preferably 1.0 to 3.0.
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂は、公知の方法により製造することができるが、例えば、特開2003−222717号公報、特開2006−259680号公報、国際公開第07/029871号パンフレット等に開示されている方法により、その構造やMw、Mw/Mnを制御することもできる。 The alkali-soluble resin in the present invention can be produced by a known method. For example, it is disclosed in JP 2003-222717 A, JP 2006-259680 A, WO 07/029871 pamphlet, and the like. The structure, Mw, and Mw / Mn can also be controlled by the existing method.
本発明において、アルカリ可溶性樹脂は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
本発明において、アルカリ可溶性樹脂の含有量は、(A)着色剤100質量部に対して、通常、10〜1,000質量部、好ましくは20〜500質量部である。この場合、アルカリ可溶性樹脂の含有量が少なすぎると、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に残渣や地汚れが発生するおそれがあり、一方多すぎると、相対的に顔料濃度が低下するため、薄膜として目的とする色濃度を達成することが困難となるおそれがある。
In this invention, alkali-soluble resin can be used individually or in mixture of 2 or more types.
In this invention, content of alkali-soluble resin is 10-1,000 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (A) coloring agents, Preferably it is 20-500 mass parts. In this case, if the content of the alkali-soluble resin is too small, for example, the alkali developability may be reduced, or a residue or background stain may occur on the unexposed portion of the substrate or on the light shielding layer. However, since the pigment concentration is relatively lowered, it may be difficult to achieve a target color concentration as a thin film.
−(D)多官能性単量体−
本発明における多官能性単量体は、2個以上の重合性不飽和結合を有する単量体である。本発明の感放射線性組成物は、カプロラクトン構造を有する分散剤およびカプロラクトン構造を有する多官能性単量体の少なくとも一方を含有するものであるが、カプロラクトン構造を有する多官能性単量体を含有することがより好ましい。
-(D) polyfunctional monomer-
The polyfunctional monomer in the present invention is a monomer having two or more polymerizable unsaturated bonds. The radiation-sensitive composition of the present invention contains at least one of a dispersant having a caprolactone structure and a polyfunctional monomer having a caprolactone structure, but contains a polyfunctional monomer having a caprolactone structure. More preferably.
カプロラクトン構造を有する多官能性単量体としては、その分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されるものではないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、(メタ)アクリル酸およびε−カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε−カプロラクトン変性多官能(メタ)アクリレートを挙げることができる。なかでも下記式(1)で表されるカプロラクトン構造を有する多官能性単量体が好ましい。 The polyfunctional monomer having a caprolactone structure is not particularly limited as long as it has a caprolactone structure in the molecule. For example, trimethylolethane, ditrimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, penta Ε-caprolactone modified polyfunctionality obtained by esterifying (meth) acrylic acid and ε-caprolactone with polyhydric alcohol such as erythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, glycerin, diglycerol, trimethylolmelamine, etc. Mention may be made of (meth) acrylates. Among these, a polyfunctional monomer having a caprolactone structure represented by the following formula (1) is preferable.
(式中、6個のRは全てが下記式(2)で表される基であるか、または6個のRのうち1〜5個が下記式(2)で表される基であり、残余が下記式(3)で表される基である。) (In the formula, all 6 Rs are groups represented by the following formula (2), or 1 to 5 of 6 Rs are groups represented by the following formula (2), The remainder is a group represented by the following formula (3).)
(式中、R1は水素原子またはメチル基を示し、mは1または2の数を示し、「*」は結合手であることを示す。) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, m represents a number of 1 or 2, and “*” represents a bond.)
(式中、R1は水素原子またはメチル基を示し、「*」は結合手であることを示す。) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and “*” represents a bond.)
このようなカプロラクトン構造を有する多官能性単量体は、例えば、日本化薬(株)からKAYARAD DPCAシリーズとして市販されており、DPCA−20(上記式(1)〜(3)においてm=1、式(2)で表される基の数=2、R1が全て水素原子である化合物)、DPCA−30(同式、m=1、式(2)で表される基の数=3、R1が全て水素原子である化合物)、DPCA−60(同式、m=1、式(2)で表される基の数=6、R1が全て水素原子である化合物)、DPCA−120(同式においてm=2、式(2)で表される基の数=6、R1が全て水素原子である化合物)等を挙げることができる。
本発明において、カプロラクトン構造を有する多官能性単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Such a polyfunctional monomer having a caprolactone structure is commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as KAYARAD DPCA series, and DPCA-20 (m = 1 in the above formulas (1) to (3)). , Number of groups represented by formula (2) = 2, compound in which R 1 is all hydrogen atoms, DPCA-30 (same formula, m = 1, number of groups represented by formula (2) = 3 , Compounds in which R 1 is all hydrogen atoms), DPCA-60 (same formula, m = 1, number of groups represented by formula (2) = 6, compounds in which R 1 are all hydrogen atoms), DPCA- 120 (a compound in which m = 2 in the same formula, the number of groups represented by formula (2) = 6, and all R 1 are hydrogen atoms).
In this invention, the polyfunctional monomer which has a caprolactone structure can be used individually or in mixture of 2 or more types.
本発明の感放射線性組成物においては、カプロラクトン構造を有する分散剤を使用し、カプロラクトン構造を有する多官能性単量体を使用しない場合、カプロラクトン構造を有さない適宜の多官能性単量体を使用することができる。また、カプロラクトン構造を有する多官能性単量体と共に、カプロラクトン構造を有さない多官能性単量体を併用することが、残膜率を高める点で好ましい。このような多官能性単量体としては、例えば、
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコールのジ(メタ)アクリレート類;
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジ(メタ)アクリレート類;
グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の3価以上の多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート類や、それらのジカルボン酸変性物;
ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴ(メタ)アクリレート類;
両末端ヒドロキシポリ−1,3−ブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジ(メタ)アクリレート類;
トリス〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕フォスフェートや、
イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリアクリレート;
ウレタン構造を有するポリ(メタ)アクリレート
等を挙げることができる。
In the radiation-sensitive composition of the present invention, when a dispersant having a caprolactone structure is used and a polyfunctional monomer having a caprolactone structure is not used, an appropriate polyfunctional monomer having no caprolactone structure is used. Can be used. In addition, it is preferable to use a polyfunctional monomer having no caprolactone structure together with a polyfunctional monomer having a caprolactone structure from the viewpoint of increasing the remaining film ratio. As such a polyfunctional monomer, for example,
Di (meth) acrylates of alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol;
Di (meth) acrylates of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol;
Poly (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and the like, and their dicarboxylic acid-modified products;
Oligo (meth) acrylates such as polyester, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, silicone resin, spirane resin;
Di (meth) acrylates of hydroxylated polymers at both ends such as both ends hydroxypoly-1,3-butadiene, both ends hydroxypolyisoprene;
Tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate,
Isocyanuric acid ethylene oxide modified triacrylate;
Examples thereof include poly (meth) acrylate having a urethane structure.
これらのカプロラクトン構造を有さない多官能性単量体のうち、3価以上の多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート類やそれらのジカルボン酸変性物、並びにウレタン構造を有するポリ(メタ)アクリレートが好ましい。3価以上の多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート類やそれらのジカルボン酸変性物としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートとこはく酸とのモノエステル化物、ペンタエリスリトールトリメタクリレートとこはく酸とのモノエステル化物、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとこはく酸とのモノエステル化物、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレートとこはく酸とのモノエステル化物が好ましく、特に、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートとこはく酸とのモノエステル化物、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとこはく酸とのモノエステル化物が、着色層の強度が高く、着色層の表面平滑性に優れ、かつ未露光部の基板上および遮光層上に地汚れ、膜残り等を発生し難い点で好ましい。
本発明において、カプロラクトン構造を有さない多官能性単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Among these polyfunctional monomers not having a caprolactone structure, poly (meth) acrylates of polyhydric alcohols having 3 or more valences, dicarboxylic acid modified products thereof, and poly (meth) acrylates having a urethane structure are included. preferable. Examples of poly (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols and their modified dicarboxylic acids include trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate. , Pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, monoesterified product of pentaerythritol triacrylate and succinic acid, pentaerythritol trimethacrylate and succinic acid Monoesterified product with dipentaerythritol Monoesterified products of acrylate and succinic acid, and monoesterified products of dipentaerythritol pentamethacrylate and succinic acid are preferred, and in particular, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol Monoesterified product of hexaacrylate, pentaerythritol triacrylate and succinic acid, monoesterified product of dipentaerythritol pentaacrylate and succinic acid has high strength of the colored layer, excellent surface smoothness of the colored layer, and unexposed This is preferable in that ground stains, film residue, and the like hardly occur on the substrate and the light shielding layer.
In this invention, the polyfunctional monomer which does not have a caprolactone structure can be used individually or in mixture of 2 or more types.
本発明における多官能性単量体の含有量は、(B)アルカリ可溶性樹脂100質量部に対して、通常、20〜400質量部、好ましくは50〜300質量部である。多官能性単量体の含有量をこのような範囲にすることにより、強度や表面平滑性、耐溶剤性に優れた着色層を形成することができ、しかもアルカリ現像性にも優れた感放射線性組成物を得ることができる。
また、カプロラクトン構造を有する分散剤を使用せず、カプロラクトン構造を有する多官能性単量体を使用する場合、その含有割合は、所望の効果を高める点から、全多官能性単量体中10質量%以上であることが好ましい。
Content of the polyfunctional monomer in this invention is 20-400 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (B) alkali-soluble resin, Preferably it is 50-300 mass parts. By setting the content of the polyfunctional monomer in such a range, a colored layer excellent in strength, surface smoothness and solvent resistance can be formed, and radiation sensitivity excellent in alkali developability can also be formed. Sex composition can be obtained.
Moreover, when using the polyfunctional monomer which has a caprolactone structure without using the dispersing agent which has a caprolactone structure, the content rate is 10 in all the polyfunctional monomers from the point which raises a desired effect. It is preferable that it is mass% or more.
−(E)光重合開始剤−
本発明における光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等の放射線の露光により、前記(D)多官能性単量体の重合を開始しうる活性種を発生する化合物である。
本発明において、光重合開始剤は、2−(4−メチルベンジル)−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オンを含有するものである。該光重合開始剤を、前記カプロラクトン構造を有する分散剤および/またはカプロラクトン構造を有する多官能性重量体と組み合せて含有せしめることにより、順テーパー形状でかつ耐溶剤性に優れた画素を形成することが可能となる。その含有割合は、着色層の耐溶剤性を高める点から、全光重合開始剤中25%質量以上であることが好ましい。
-(E) Photopolymerization initiator-
The photopolymerization initiator in the present invention generates an active species capable of initiating polymerization of the (D) polyfunctional monomer by exposure to radiation such as visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, and X-ray. A compound.
In the present invention, the photopolymerization initiator contains 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one. By forming the photopolymerization initiator in combination with the dispersant having the caprolactone structure and / or the polyfunctional weight having the caprolactone structure, a pixel having a forward tapered shape and excellent solvent resistance is formed. Is possible. The content ratio is preferably 25% by mass or more in the total photopolymerization initiator from the viewpoint of improving the solvent resistance of the colored layer.
本発明においては、2−(4−メチルベンジル)−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オンと共に、チオキサントン系化合物およびO−アシルオキシム系化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種を併用することにより、驚くべきことに所望の効果をさらに高めることができる。チオキサントン系化合物としては、例えば、下記式(4)で表される化合物を挙げることができる。 In the present invention, 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, and a group consisting of a thioxanthone compound and an O-acyloxime compound Surprisingly, the desired effect can be further enhanced by using at least one selected from the above. As a thioxanthone type compound, the compound represented by following formula (4) can be mentioned, for example.
(式中、R2〜R5は、相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜18のアルキル基または炭素数1〜18のアルコキシ基を示す。) (Wherein, R 2 to R 5 are mutually independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms having 1 to 18 carbon atoms.)
上記式(4)中、R2およびR4としては、水素原子が好ましく、R3およびR5としては、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜12のアルキル基が好ましい。さらに、R3およびR5としては、その両方が炭素数1〜6のアルキル基であることが好ましい。
上記式(4)で表されるチオキサントン系化合物の具体例としては、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2−ドデシルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン等を挙げることができる。
これらのチオキサントン系化合物のうち、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントンが好ましく、特に2,4−ジエチルチオキサントンが好ましい。
In the above formula (4), R 2 and R 4 are preferably a hydrogen atom, and R 3 and R 5 are preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Furthermore, as R < 3 > and R < 5 >, it is preferable that both are C1-C6 alkyl groups.
Specific examples of the thioxanthone compound represented by the above formula (4) include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2-dodecylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4 -Diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, etc. can be mentioned.
Of these thioxanthone compounds, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, and 2,4-diisopropylthioxanthone are preferable, and 2,4-diethylthioxanthone is particularly preferable.
本発明において、チオキサントン系化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
所望の効果をより高める点から、2−(4−メチルベンジル)−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オンとチオキサントン系化合物との配合質量比は、好ましくは1:1〜20:1、さらに好ましくは2:1〜15:1である。
In the present invention, the thioxanthone compounds can be used alone or in admixture of two or more.
From the standpoint of enhancing the desired effect, the blending mass ratio of 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and the thioxanthone compound is The ratio is preferably 1: 1 to 20: 1, more preferably 2: 1 to 15: 1.
また、O−アシルオキシム系化合物は、アシルオキシム構造(>C=N−O−CO−)を有する光重合開始剤である限り特に限定されるものではないが、例えば、国際公開第2002/100903号パンフレット、国際公開第2006/018973号パンフレット、国際公開第2008/078678号パンフレット等に記載の化合物を挙げることができる。O−アシルオキシム系化合物の好ましい具体例としては、1,2−オクタンジオン,1−〔4−(フェニルチオ)フェニル〕−,2−(O−ベンゾイルオキシム)、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)、エタノン,1−〔9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル〕−,1−(O−アセチルオキシム)、エタノン,1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9H−カルバゾール−3−イル〕−,1−(O−アセチルオキシム)を挙げることができる。
本発明において、O−アシルオキシム系化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
所望の効果をより高める点から、2−(4−メチルベンジル)−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オンとO−アシルオキシム系化合物との配合質量比は、好ましくは1:1〜20:1、さらに好ましくは1:1〜10:1である。
The O-acyloxime compound is not particularly limited as long as it is a photopolymerization initiator having an acyloxime structure (> C═N—O—CO—). For example, International Publication No. WO2002 / 100903 No. pamphlet, International Publication No. 2006/018933 pamphlet, International Publication No. 2008/078678 pamphlet and the like. Preferable specific examples of the O-acyloxime compounds include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) phenyl]-, 2- (O-benzoyloxime), ethanone, 1- [9-ethyl- 6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime), ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) ) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime), ethanone, 1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3- Dioxolanyl) methoxybenzoyl} -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime).
In the present invention, the O-acyloxime compounds can be used alone or in admixture of two or more.
From the standpoint of further enhancing the desired effect, the blending mass of 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and an O-acyloxime compound The ratio is preferably 1: 1 to 20: 1, more preferably 1: 1 to 10: 1.
本発明においては、さらに、
2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン等の2−(4−メチルベンジル)−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン以外のアセトフェノン系化合物;
2,2'−ビス(2−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニル−1,2'−ビイミダゾール、2,2'−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニル−1,2'−ビイミダゾール、2,2'−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニル−1,2'−ビイミダゾール等のビイミダゾール系化合物;
In the present invention,
2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, etc. Acetophenone compounds other than 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one;
2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl-1, Biimidazole compounds such as 2'-biimidazole;
2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔2−(フラン−2−イル)エテニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−n−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等のトリアジン系化合物
等の公知の光重合開始剤を使用することもできる。
2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl ] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (4-Diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloro Methyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) ) -S-triazine, 2- (4-n- butoxyphenyl) -4,6-bis (can also be used trichloromethyl) known photopolymerization initiator of triazine compounds such as -s-triazine.
また、4,4'−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4'−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−ジエチルアミノアセトフェノン、4−ジメチルアミノプロピオフェノン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル、2,5−ビス(4−ジエチルアミノベンザル)シクロヘキサノン、7−ジエチルアミノ−3−(4−ジエチルアミノベンゾイル)クマリン、4−(ジエチルアミノ)カルコン等の公知の増感剤を併用することもできる。 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylamino A known sensitizer such as 2-ethylhexyl benzoate, 2,5-bis (4-diethylaminobenzal) cyclohexanone, 7-diethylamino-3- (4-diethylaminobenzoyl) coumarin, 4- (diethylamino) chalcone is used in combination. You can also.
本発明において、光重合開始剤の含有量は、(D)多官能性単量体100質量部に対して、通常、0.01〜120質量部、好ましくは1〜100質量部、さらに好ましくは1〜70質量部である。この場合、光重合開始剤の含有量が少なすぎると、露光による硬化が不十分となるおそれがあり、一方多すぎると、着色層が現像時に基板から脱落しやすくなる傾向がある。 In this invention, content of a photoinitiator is 0.01-120 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (D) polyfunctional monomers, Preferably it is 1-100 mass parts, More preferably 1 to 70 parts by mass. In this case, when there is too little content of a photoinitiator, there exists a possibility that hardening by exposure may become inadequate, and when too large, there exists a tendency for a colored layer to fall off from a board | substrate at the time of image development.
−添加剤−
本発明の感放射線性組成物は、上記(A)〜(E)成分を含有するものであるが、必要に応じて他の添加剤をさらに含有することもできる。
前記他の添加剤としては、例えば、ガラス、アルミナ等の充填剤;ポリビニルアルコール、ポリ(フロオロアルキルアクリレート)類等の高分子化合物;ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤等の界面活性剤;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤;2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチルフェノール等の酸化防止剤;2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤;ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤;マロン酸、アジピン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン酸等の残渣改善剤;こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕、フタル酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート等の現像性改善剤等を挙げることができる。
-Additives-
Although the radiation sensitive composition of this invention contains the said (A)-(E) component, it can further contain another additive as needed.
Examples of the other additives include fillers such as glass and alumina; polymer compounds such as polyvinyl alcohol and poly (fluoroalkyl acrylates); nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic interfaces Surfactants such as activators; vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-amino Ethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl Trimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldi Adhesion promoters such as toxisilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane; 2,2-thiobis (4-methyl-6-tert-butylphenol), Antioxidants such as 2,6-di-t-butylphenol; UV absorbers such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenones; poly Anti-aggregation agents such as sodium acrylate; Residue improvers such as malonic acid, adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, mesaconic acid; succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], ω-carboxypolycaprolactone mono (me A) Development improver such as acrylate.
−溶媒−
本発明の感放射線性組成物は、前記(A)〜(E)成分を必須成分とし、必要に応じて前記添加剤成分を含有するが、通常、溶媒を配合して液状組成物として調製される。
前記溶媒としては、感放射線性組成物を構成する(A)〜(E)成分や添加剤成分を分散または溶解し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発性を有するものである限り、適宜に選択して使用することができる。
-Solvent-
The radiation-sensitive composition of the present invention contains the components (A) to (E) as essential components, and optionally contains the additive component, but is usually prepared as a liquid composition by blending a solvent. The
As the solvent, as long as the components (A) to (E) and the additive component constituting the radiation-sensitive composition are dispersed or dissolved and do not react with these components and have appropriate volatility. Can be appropriately selected and used.
このような溶媒としては、例えば、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;
As such a solvent, for example,
Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n- Butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, di Propylene glycol mono Chirueteru, dipropylene glycol mono -n- propyl ether, dipropylene glycol mono -n- butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl (poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as ether;
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;
Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxy (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as butyl acetate;
Other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran;
Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone;
プロピレングリコールジアセテート、1,3−ブチレングリコールジアセテート、1,6−ヘキサンジオールジアセテート等のジアセテート類;乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;
2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミドまたはラクタム類
等を挙げることができる。
Diacetates such as propylene glycol diacetate, 1,3-butylene glycol diacetate, and 1,6-hexanediol diacetate; Lactic acid alkyl esters such as methyl lactate and ethyl lactate;
Ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, 2-hydroxy Methyl 3-methylbutanoate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-amyl formate, i-acetate -Amyl, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, 2 -Other esters such as ethyl oxobutanoate;
Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene;
Examples include amides or lactams such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone.
これらの溶媒のうち、溶解性、顔料分散性、塗布性等の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、プロピレングリコールジアセテート、1,3−ブチレングリコールジアセテート、乳酸エチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸エチル等が好ましい。
前記溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Among these solvents, from the viewpoint of solubility, pigment dispersibility, coatability, etc., propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, Diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, propylene glycol diacetate, 1,3-butylene glycol diacetate, ethyl lactate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3 -Ethyl ethoxypropionate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, n-butyl acetate, i-butyl acetate Formic acid n- amyl acetate, i- amyl, n- butyl propionate, ethyl butyrate, i- propyl butyrate n- butyl, ethyl pyruvate and the like are preferable.
The said solvent can be used individually or in mixture of 2 or more types.
また、前記溶媒と共に、ベンジルエチルエーテル、ジ−n−ヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート等の高沸点溶媒を併用することもできる。
これらの高沸点溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Along with the solvent, benzyl ethyl ether, di-n-hexyl ether, acetonyl acetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, diethyl oxalate In addition, a high boiling point solvent such as diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, ethylene glycol monophenyl ether acetate can be used in combination.
These high-boiling solvents can be used alone or in admixture of two or more.
溶媒の含有量は、特に限定されるものではないが、得られる感放射線性組成物の塗布性、保存安定性等の観点から、当該組成物の溶媒を除いた各成分の合計濃度が、5〜50質量%となる量が好ましく、特に10〜40質量%となる量が好ましい。 The content of the solvent is not particularly limited, but the total concentration of each component excluding the solvent of the composition is 5 from the viewpoint of the coating property and storage stability of the resulting radiation-sensitive composition. An amount of ˜50 mass% is preferred, and an amount of 10˜40 mass% is particularly preferred.
カラーフィルタの形成方法
次に、本発明の感放射線性組成物を用いて、本発明のカラーフィルタを形成する方法について説明する。
カラーフィルタを形成する方法は、通常、少なくとも下記(1)〜(4)の工程を含んでいる。
(1)基板上に本発明の感放射線性組成物の塗膜を形成する工程。
(2)前記塗膜の少なくとも一部に露光する工程。
(3)露光後の塗膜を現像する工程。
(4)現像後の塗膜をポストベークする工程。
以下、これらの工程について順次説明する。
Method of forming a color filter Then, using a radiation-sensitive composition of the present invention, a method for forming a color filter of the present invention.
The method for forming a color filter usually includes at least the following steps (1) to (4).
(1) The process of forming the coating film of the radiation sensitive composition of this invention on a board | substrate.
(2) A step of exposing at least a part of the coating film.
(3) The process of developing the coating film after exposure.
(4) A step of post-baking the developed coating film.
Hereinafter, these steps will be sequentially described.
−(1)工程−
先ず、基板の表面上に、必要に応じて、画素を形成する部分を区画するように遮光層(ブラックマトリックス)を形成して、この基板上に、例えば、赤色の(A)着色剤を含有する本発明の感放射線性組成物を、通常、液状組成物として塗布したのち、プレベークして溶媒を蒸発除去することにより、塗膜を形成する。
この工程で使用される基板としては、例えば、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホンのほか、環状オレフィンの開環重合体やその水素添加物等を挙げることができる。
また、これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。
液状組成物を基板に塗布する際には、回転塗布法、流延塗布法、ロール塗布法、スリットダイコーターを用いる塗布法等の適宜の塗布法を採用することができるが、回転塗布法、スリットダイコーターを用いる塗布法が好ましい。
プレベークは、通常、減圧乾燥と加熱乾燥を組み合わせて行われる。減圧乾燥は、通常50〜200Paに到達するまで行う。また、加熱乾燥の条件は、通常、70〜110℃で1〜10分程度である。
塗布厚さは、プレベーク後の膜厚として、通常、1.0〜10μm、好ましくは1.0〜8.0μm、特に好ましくは1.0〜6.0μmである。
-(1) Process-
First, on the surface of the substrate, if necessary, a light shielding layer (black matrix) is formed so as to partition a portion for forming a pixel, and, for example, a red (A) colorant is contained on the substrate. The radiation-sensitive composition of the present invention is usually applied as a liquid composition, and then pre-baked to remove the solvent by evaporation to form a coating film.
Examples of the substrate used in this step include glass, silicon, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, polyimide, polyethersulfone, cyclic olefin ring-opening polymer, and hydrogenated products thereof. be able to.
In addition, these substrates may be subjected to appropriate pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment, ion plating, sputtering, gas phase reaction method, vacuum deposition, etc., if desired.
When applying the liquid composition to the substrate, an appropriate coating method such as a spin coating method, a casting coating method, a roll coating method, or a coating method using a slit die coater can be employed. A coating method using a slit die coater is preferred.
Pre-baking is usually performed by combining vacuum drying and heat drying. The drying under reduced pressure is usually performed until the pressure reaches 50 to 200 Pa. Moreover, the conditions of heat drying are 70 degreeC to 110 degreeC normally for about 1 to 10 minutes.
The coating thickness is usually 1.0 to 10 μm, preferably 1.0 to 8.0 μm, particularly preferably 1.0 to 6.0 μm as the film thickness after pre-baking.
−(2)工程−
その後、形成された塗膜の少なくとも一部に露光する。この場合、塗膜の一部に露光する際には、通常、所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。
露光に使用される放射線の光源としては、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯等のランプ光源やアルゴンイオンレーザー、YAGレーザー、XeClエキシマーレーザー、窒素レーザー等のレーザー光源等を挙げることができるが、波長が190〜450nmの範囲にある放射線が好ましい。
放射線の露光量は、通常、10〜10,000J/m2である。本発明の感放射線性組成物によれば、800J/m2 以下の露光量、さらには600J/m2以下の露光量でも順テーパー形状で且つ耐溶剤性にも優れた画素を形成することができる。また、露光量の下限は、照度の高い光源を使用した場合の制御性の観点から、100J/m2 以上であることが好ましい。
-(2) Process-
Thereafter, at least a part of the formed coating film is exposed. In this case, when exposing to a part of coating film, it exposes normally through the photomask which has a predetermined pattern.
Examples of radiation light sources used for exposure include xenon lamps, halogen lamps, tungsten lamps, high pressure mercury lamps, ultrahigh pressure mercury lamps, metal halide lamps, medium pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, and other lamp light sources, argon ion lasers, YAG lasers, Examples thereof include a laser light source such as a XeCl excimer laser and a nitrogen laser, and radiation having a wavelength in the range of 190 to 450 nm is preferable.
Exposure of the radiation is usually 10~10,000J / m 2. According to the radiation-sensitive composition of the present invention, a pixel having a forward taper shape and excellent solvent resistance can be formed even with an exposure amount of 800 J / m 2 or less, and even with an exposure amount of 600 J / m 2 or less. it can. The lower limit of the exposure amount is preferably 100 J / m 2 or more from the viewpoint of controllability when a light source with high illuminance is used.
−(3)工程−
その後、現像液、好ましくはアルカリ現像液を用いて現像して、塗膜の未露光部を溶解除去する。
前記アルカリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ−[4.3.0]−5−ノネン等の水溶液が好ましい。
前記アルカリ現像液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。
現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ(浸漬)現像法、パドル(液盛り)現像法等を適用することができる。
現像条件は、常温で10〜300秒程度が好ましい。
-(3) Process-
Then, it develops using a developing solution, Preferably an alkaline developing solution, The unexposed part of a coating film is dissolved and removed.
Examples of the alkali developer include sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, 1,5- An aqueous solution of diazabicyclo- [4.3.0] -5-nonene is preferred.
An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant, or the like can be added to the alkaline developer.
As a development processing method, a shower development method, a spray development method, a dip (immersion) development method, a paddle (liquid accumulation) development method, or the like can be applied.
The development conditions are preferably about 10 to 300 seconds at room temperature.
−(4)工程−
その後、現像後の塗膜をポストベークすることにより、感放射線性組成物の硬化物からなる赤色の画素パターンが所定の配列で配置された基板を得ることができる。
ポストベークの条件は、180〜280℃で10〜60分程度が好ましい。
このようにして形成された画素の膜厚は、通常、0.5〜5.0μm、好ましくは1.0〜3.0μmである。
-(4) Process-
Thereafter, a post-baked coating film after development can provide a substrate on which red pixel patterns made of a cured product of the radiation-sensitive composition are arranged in a predetermined arrangement.
The post-baking conditions are preferably 180 to 280 ° C. and about 10 to 60 minutes.
The film thickness of the pixel thus formed is usually 0.5 to 5.0 μm, preferably 1.0 to 3.0 μm.
さらに、緑色の(A)着色剤を含有する緑色感放射線性組成物を用いて、前記(1)〜(4)工程を繰り返すことにより、緑色の画素パターンを同一基板上に形成し、さらに青色の(A)着色剤を含有する青色感放射線性組成物を用いて、前記(1)〜(4)工程を繰り返すことにより、青色の画素パターンを同一基板上に形成することによって、赤色、緑色および青色の三原色の画素パターンが所定の配列で配置された画素アレイを基板上に形成することができる。但し、各色の画素パターンの形成順は任意に選択することができる。
ブラックマトリックスは、黒色の(A)着色剤を含有する黒色感放射線性組成物を用いて、前記(1)〜(4)工程を行うにより、形成することができる。
Furthermore, by repeating the steps (1) to (4) using a green radiation-sensitive composition containing a green (A) colorant, a green pixel pattern is formed on the same substrate, and further blue (A) Using the blue radiation-sensitive composition containing the colorant, the steps (1) to (4) are repeated to form a blue pixel pattern on the same substrate, whereby red, green A pixel array in which pixel patterns of three primary colors of blue and blue are arranged in a predetermined arrangement can be formed on the substrate. However, the order of forming the pixel patterns of the respective colors can be arbitrarily selected.
A black matrix can be formed by performing the said (1)-(4) process using the black radiation sensitive composition containing a black (A) coloring agent.
カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタは、本発明の感放射線性組成物から上記のように形成された画素および/またはブラックマトリックスを有するものである。
Color Filter The color filter of the present invention has pixels and / or a black matrix formed as described above from the radiation-sensitive composition of the present invention.
カラー液晶表示素子
本発明のカラー液晶表示素子は、本発明のカラーフィルタを具備するものである。
上記のように形成されたカラーフィルタ上には、必要に応じて保護膜を形成した後、透明導電膜をスパッタリングにより形成する。透明導電膜としては、酸化インジウム−酸化スズからなるITO膜、酸化インジウム−酸化亜鉛からなるIZO膜等を挙げることができる。本発明の感放射線性組成物を用いて形成された画素パターンの断面形状は順テーパーであるため、透明電極が断線することはない。したがって、電気特性に優れた高品質なカラー液晶表示素子を作製することができる。
また、本発明のカラー液晶表示素子の1つの形態として、本発明の着色感放射線性組成物を用いて、薄膜トランジスタ基板アレイ上に、前述したようにして画素および/またはブラックマトリックスを形成することにより、特に優れた特性を有するカラー液晶表示素子を作製することができる。
Color liquid crystal display element The color liquid crystal display element of the present invention comprises the color filter of the present invention.
On the color filter formed as described above, after forming a protective film as necessary, a transparent conductive film is formed by sputtering. Examples of the transparent conductive film include an ITO film made of indium oxide-tin oxide, an IZO film made of indium oxide-zinc oxide, and the like. Since the cross-sectional shape of the pixel pattern formed using the radiation-sensitive composition of the present invention is a forward taper, the transparent electrode does not break. Therefore, a high-quality color liquid crystal display element having excellent electrical characteristics can be produced.
Further, as one form of the color liquid crystal display element of the present invention, the colored radiation-sensitive composition of the present invention is used to form pixels and / or a black matrix as described above on a thin film transistor substrate array. A color liquid crystal display element having particularly excellent characteristics can be produced.
以下、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
カプロラクトン構造を有する分散剤の合成
合成例1
温度計、撹拌機、窒素導入口および還流管を備えた反応フラスコ内に、12−ヒドロキシステアリン酸(純正化学製)10.0質量部およびε−カプロラクトン(純正化学製)190質量部を仕込み、窒素気流下で160℃まで4時間かけて昇温し、160℃で2時間加熱した後、ε−カプロラクトンの残量が1%以下になるまで加熱を行った。次いで室温まで冷却した。この反応液に含まれるポリエステルは、数平均分子量が2580で酸価が21.0mg KOH/gの特性を有していた。
次いで反応フラスコ内に、キシレン114.6質量部とポリ(アリルアミン)10%水溶液(日東紡績(株)製「PAA−1LV」、数平均分子量約3000)70質量部からなる混合物を160℃で撹拌し、分離装置を使用して水を溜去すると共に、キシレンを反応溶液に返流しながら(水の50重量%を留去したのを確認し)、これに前記ポリエステルを含む反応液69.59質量部を160℃まで昇温したものを加え、2時間160℃で反応を行った。このようにして、側鎖にポリカプロラクトン鎖を有するポリ(アリルアミン)分散剤を含む溶液(固形分濃度=40.1%)を得た。この分散剤を「分散剤(B−1)」とする。分散剤(B−1)は、アミン価が10.5mg KOH/g、酸価が19.8mg KOH/gの特性を有していた。
Synthesis of dispersant having caprolactone structure Synthesis Example 1
In a reaction flask equipped with a thermometer, a stirrer, a nitrogen inlet and a reflux tube, 10.0 parts by mass of 12-hydroxystearic acid (manufactured by Junsei Chemical) and 190 parts by mass of ε-caprolactone (manufactured by Junsei Chemical) are charged. The temperature was raised to 160 ° C. over 4 hours under a nitrogen stream, heated at 160 ° C. for 2 hours, and then heated until the remaining amount of ε-caprolactone was 1% or less. Then it was cooled to room temperature. The polyester contained in this reaction solution had a number average molecular weight of 2580 and an acid value of 21.0 mg KOH / g.
Next, a mixture of 114.6 parts by mass of xylene and 70 parts by mass of poly (allylamine) 10% aqueous solution (“PAA-1LV” manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd., number average molecular weight of about 3000) was stirred at 160 ° C. in the reaction flask. Then, water was distilled off using a separator, and xylene was returned to the reaction solution (confirmed that 50% by weight of water had been distilled off), and the reaction solution 69. 59 parts by mass of the mixture heated up to 160 ° C. was added and reacted at 160 ° C. for 2 hours. Thus, a solution (solid content concentration = 40.1%) containing a poly (allylamine) dispersant having a polycaprolactone chain in the side chain was obtained. This dispersant is referred to as “dispersant (B-1)”. Dispersant (B-1) had an amine value of 10.5 mg KOH / g and an acid value of 19.8 mg KOH / g.
顔料分散液の調製
調製例1
(A)着色剤としてC.I.ピグメントレッド254(チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名BK−CF)/C.I.ピグメントレッド177(チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名A3B)/C.I.ピグメントイエロー150=40/40/20(重量比)混合物20質量部、分散剤として分散剤(B−1)を5質量部(固形分換算)、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを固形分濃度が25%となるよう用いて、ビーズミルにより処理して、顔料分散液(R1)を調製した。
Preparation of pigment dispersion Preparation Example 1
(A) C.I. I. Pigment Red 254 (trade name BK-CF, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) /C.I. I. Pigment Red 177 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name A3B) /C.I. I. Pigment Yellow 150 = 40/40/20 (weight ratio) 20 parts by mass of the mixture, 5 parts by mass of the dispersant (B-1) as the dispersant (in terms of solid content), and propylene glycol monomethyl ether acetate as the solvent having a solid content concentration A pigment dispersion (R1) was prepared by treating with a bead mill using 25%.
調製例2
(A)着色剤としてC.I.ピグメントグリーン36/C.I.ピグメントイエロー150=50/50(重量比)混合物20質量部、分散剤として分散剤(B−1)を5質量部(固形分換算)、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを固形分濃度が25%となるよう用いて、ビーズミルにより処理して、顔料分散液(G1)を調製した。
Preparation Example 2
(A) C.I. I. Pigment green 36 / C.I. I. Pigment Yellow 150 = 50/50 (weight ratio) 20 parts by mass of the mixture, 5 parts by mass of the dispersant (B-1) as the dispersant (in terms of solid content), and 25% of the solid content concentration of propylene glycol monomethyl ether acetate as the solvent And a pigment dispersion (G1) was prepared by processing with a bead mill.
調製例3
分散剤として、ポリカプロラクトン鎖を有さない変性アクリル系共重合体であるDisperbyk−2000(ビックケミー(BYK)社製)を用いた以外は、調製例1と同様にして顔料分散液(R2)を調製した。
Preparation Example 3
A pigment dispersion (R2) was prepared in the same manner as in Preparation Example 1 except that Disperbyk-2000 (manufactured by BYK Corporation), which is a modified acrylic copolymer having no polycaprolactone chain, was used as the dispersant. Prepared.
調製例4
分散剤として、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイドから誘導される共重合単位を53質量%含有するアミン価14mg KOH/g、重量平均分子量24,000のウレタン樹脂を用いた以外は、調製例2と同様にして顔料分散液(G2)を調製した。
Preparation Example 4
The same procedure as in Preparation Example 2, except that a urethane resin having an amine value of 14 mg KOH / g and a weight average molecular weight of 24,000 containing 53% by mass of a copolymer unit derived from ethylene oxide and propylene oxide was used as the dispersant. Thus, a pigment dispersion (G2) was prepared.
アルカリ可溶性樹脂の合成
合成例1
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル3質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200質量部を仕込み、引き続きメタクリル酸15質量部、ベンジルメタクリレート35質量部、アセナフチレン30質量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート10質量部、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート10質量部、および2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン(連鎖移動剤)5質量部を仕込んで、窒素置換した。その後ゆるやかに撹拌して、反応溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度を3時間保持して重合することにより、共重合体溶液を得た。得られた樹脂はMw=11,000、Mn=5,000、固形分濃度=31.0%であった。この共重合体を「アルカリ可溶性樹脂(C−1)」とする。
Synthesis of alkali-soluble resin Synthesis Example 1
A flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 3 parts by mass of 2,2′-azobisisobutyronitrile and 200 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate, followed by 15 parts by mass of methacrylic acid, 35 parts by mass of benzyl methacrylate, and acenaphthylene. 30 parts by mass, 10 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, 10 parts by mass of ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate, and 5 parts by mass of 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene (chain transfer agent) were prepared. Replaced with nitrogen. Thereafter, the mixture was gently stirred to raise the temperature of the reaction solution to 80 ° C., and this temperature was maintained for 3 hours for polymerization to obtain a copolymer solution. The obtained resin had Mw = 11,000, Mn = 5,000, and solid content concentration = 31.0%. This copolymer is referred to as “alkali-soluble resin (C-1)”.
合成例2
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、シクロヘキサノン800質量部を仕込み、フラスコに窒素ガスを注入しながら100℃に加熱して、同温度で、スチレン60質量部、メタクリル酸60質量部、メタクリル酸メチル65質量部、メタクリル酸ブチル65質量部、およびアゾビスイソブチロニトリル10質量部の混合物を1時間かけて滴下し、さらに100℃で3時間反応させた後、アゾビスイソブチロニトリル2質量部をシクロヘキサノン50質量部で溶解させたものを添加し、さらに100℃で1時間反応を続けて共重合体溶液を得た。室温まで冷却した後、共重合体溶液約2gをサンプリングして180℃で20分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した共重合体溶液に不揮発分が20%となるようにシクロヘキサノンを添加して共重合体溶液を調製した。得られた樹脂はMw=40,000、Mn=15,000であった。この共重合体を「アルカリ可溶性樹脂(C−2)」とする。
Synthesis example 2
A flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 800 parts by mass of cyclohexanone, heated to 100 ° C. while injecting nitrogen gas into the flask, and at the same temperature, 60 parts by mass of styrene, 60 parts by mass of methacrylic acid, and methyl methacrylate. A mixture of 65 parts by mass, 65 parts by mass of butyl methacrylate, and 10 parts by mass of azobisisobutyronitrile was added dropwise over 1 hour, and further reacted at 100 ° C. for 3 hours, and then 2 parts by mass of azobisisobutyronitrile. A solution in which 50 parts by mass of cyclohexanone was dissolved was added, and the reaction was further continued at 100 ° C. for 1 hour to obtain a copolymer solution. After cooling to room temperature, about 2 g of the copolymer solution was sampled and heated and dried at 180 ° C. for 20 minutes to measure the nonvolatile content. Cyclohexanone was adjusted so that the nonvolatile content of the previously synthesized copolymer solution was 20%. Was added to prepare a copolymer solution. The obtained resin had Mw = 40,000 and Mn = 15,000. This copolymer is referred to as “alkali-soluble resin (C-2)”.
実施例1
顔料分散液(R1)100質量部、(C)アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂(C−1)10質量部(固形分換算)、(D)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート15質量部、(E)光重合開始剤として2−(4−メチルベンジル)−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン(チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製、商品名イルガキュア379)5質量部、および溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを固形分濃度が25重量%となるように混合して、液状組成物(S−1)を調製した。
Example 1
100 parts by mass of pigment dispersion (R1), (C) 10 parts by mass (as solid content) of alkali-soluble resin (C-1) as alkali-soluble resin, and (D) dipentaerythritol hexaacrylate 15 as polyfunctional monomer Parts by mass, (E) 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photopolymerization initiator , Trade name Irgacure 379) and 5 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent were mixed so that the solid concentration was 25% by weight to prepare a liquid composition (S-1).
液状組成物(S−1)について、下記の手順にしたがって、評価を行った。評価結果を表2に示す。 The liquid composition (S-1) was evaluated according to the following procedure. The evaluation results are shown in Table 2.
断面形状の評価
液状組成物(S−1)を、ガラス基板の表面上に、スピンコーターを用いて塗布したのち、90℃のホットプレートで4分間プレベークを行って、膜厚2.0μmの塗膜を形成した。次いで、この基板を室温に冷却したのち、基板上の塗膜に、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介して、400J/m2の露光量で露光した。その後、基板上の塗膜に、23℃の0.04重量%水酸化カリウム水溶液を1.5kgf/cm2の現像圧(ノズル径1mm)で60秒間吐出することによりシャワー現像を行った。次いで、220℃で30分間ポストベークを行って、基板上に90μmのストライプ状画素パターンを形成した。
次いで、得られた画素パターンの断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、図1に示すテーパー角を測定した。このテーパー角が80度以上であると、透明電極膜が断線してしまうおそれがある。理想的なテーパー角は30〜70度である。
Evaluation of the cross-sectional shape After applying the liquid composition (S-1) on the surface of the glass substrate using a spin coater, pre-baking was performed for 4 minutes on a 90 ° C. hot plate to apply a coating having a thickness of 2.0 μm. A film was formed. Subsequently, after cooling this board | substrate to room temperature, the coating film on a board | substrate was exposed by the exposure amount of 400 J / m < 2 > through the photomask using the high pressure mercury lamp. Thereafter, shower development was performed by discharging a 0.04 wt% potassium hydroxide aqueous solution at 23 ° C. to the coating film on the substrate at a development pressure of 1.5 kgf / cm 2 (nozzle diameter 1 mm) for 60 seconds. Next, post-baking was performed at 220 ° C. for 30 minutes to form a 90 μm stripe pixel pattern on the substrate.
Next, the cross-sectional shape of the obtained pixel pattern was observed with a scanning electron microscope, and the taper angle shown in FIG. 1 was measured. If the taper angle is 80 degrees or more, the transparent electrode film may be disconnected. The ideal taper angle is 30 to 70 degrees.
耐溶剤性の評価
液状組成物(S−1)を、ガラス基板の表面上に、スピンコーターを用いて塗布したのち、90℃のホットプレートで2分間プレベークを行って、膜厚2.0μmの塗膜を形成した。次いで、この基板を室温に冷却したのち、基板上の塗膜に、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介して、400J/m2の露光量で露光した。その後、基板上の塗膜に、23℃の0.04重量%水酸化カリウム水溶液を1.5kgf/cm2の現像圧(ノズル径1mm)で60秒間吐出することによりシャワー現像を行った。次いで、220℃で30分間ポストベークを行って、基板上に200×200μmのドットパターンを形成した。
次いで、得られた基板を、60℃のN−メチルピロリドンに30分間浸漬した。その結果、浸漬後にドットパターンが保持されており且つ浸漬後のN−メチルピロリドンが全く着色しなかった場合を◎、浸漬後にドットパターンは保持されているものの浸漬後のN−メチルピロリドンが若干着色した場合を○、浸漬後に基板から剥離するドットパターンが観察されると共に浸漬後のN−メチルピロリドンが着色した場合を×、として評価した。
Evaluation of solvent resistance The liquid composition (S-1) was applied on the surface of a glass substrate using a spin coater, and then pre-baked on a hot plate at 90 ° C. for 2 minutes to obtain a film thickness of 2.0 μm. A coating film was formed. Subsequently, after cooling this board | substrate to room temperature, the coating film on a board | substrate was exposed by the exposure amount of 400 J / m < 2 > through the photomask using the high pressure mercury lamp. Thereafter, shower development was performed by discharging a 0.04 wt% potassium hydroxide aqueous solution at 23 ° C. to the coating film on the substrate at a development pressure of 1.5 kgf / cm 2 (nozzle diameter 1 mm) for 60 seconds. Next, post-baking was performed at 220 ° C. for 30 minutes to form a 200 × 200 μm dot pattern on the substrate.
Next, the obtained substrate was immersed in N-methylpyrrolidone at 60 ° C. for 30 minutes. As a result, the case where the dot pattern was retained after the immersion and the N-methylpyrrolidone after the immersion was not colored at all, the dot pattern was retained after the immersion, but the N-methylpyrrolidone after the immersion was slightly colored The dot pattern peeled off from the substrate after immersion was observed and the case where N-methylpyrrolidone after immersion was colored was evaluated as x.
残膜率の評価
液状組成物(S−1)を、ガラス基板の表面上に、スピンコーターを用いて塗布したのち、90℃のホットプレートで4分間プレベークを行って、膜厚1.3μmの塗膜を形成した。次いで、この基板を室温に冷却したのち、基板上の塗膜に、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介して、400J/m2の露光量で露光した。その後、基板上の塗膜に、23℃の0.04重量%水酸化カリウム水溶液を1kgf/cm2の現像圧(ノズル径1mm)で60秒間吐出することにより、シャワー現像を行ったのち、さらに220℃で30分間ポストベークを行って、200×200μmのドットパターンを形成した。
次いで、得られた基板上のドットパターンを、走査型電子顕微鏡で観察し膜厚を測定するにより、残膜率(ポストベーク後の膜厚×100/1.3)を算出した。残膜率が高い程、感度が良好であるといえる。
Evaluation of Remaining Film Ratio The liquid composition (S-1) was applied on the surface of the glass substrate using a spin coater, and then pre-baked on a 90 ° C. hot plate for 4 minutes to obtain a film thickness of 1.3 μm. A coating film was formed. Subsequently, after cooling this board | substrate to room temperature, the coating film on a board | substrate was exposed by the exposure amount of 400 J / m < 2 > through the photomask using the high pressure mercury lamp. Then, after performing shower development by discharging a 0.04 wt% potassium hydroxide aqueous solution at 23 ° C. to the coating film on the substrate at a development pressure of 1 kgf / cm 2 (nozzle diameter 1 mm) for 60 seconds, Post-baking was performed at 220 ° C. for 30 minutes to form a 200 × 200 μm dot pattern.
Next, the residual film ratio (film thickness after post-baking × 100 / 1.3) was calculated by observing the dot pattern on the obtained substrate with a scanning electron microscope and measuring the film thickness. It can be said that the higher the remaining film ratio, the better the sensitivity.
実施例2〜15および比較例1〜7
液状組成物の各成分の種類および量を表1に示すとおりとした以外は実施例1と同様にして、液状組成物(S−2)〜(S−22)を調製した。
次いで、液状組成物(S−1)に代えてそれぞれ液状組成物(S−2)〜(S−22)を用いた以外は、実施例1と同様にして評価を行った。結果を表2に示す。
Examples 2 to 15 and Comparative Examples 1 to 7
Liquid compositions (S-2) to (S-22) were prepared in the same manner as in Example 1 except that the types and amounts of the components of the liquid composition were as shown in Table 1.
Subsequently, evaluation was performed in the same manner as in Example 1 except that the liquid compositions (S-2) to (S-22) were used instead of the liquid composition (S-1). The results are shown in Table 2.
表1において、各成分は下記のとおりである。
D−1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
D−2:上記式(1)〜(3)においてm=1、式(2)で表される基の数=6、R1が全て水素原子である化合物(商品名KAYARAD DPCA−60、日本化薬社製)
D−3:上記式(1)〜(3)においてm=2、式(2)で表される基の数=6、R1が全て水素原子である化合物(商品名KAYARAD DPCA−120、日本化薬社製)
E−1:2−(4−メチルベンジル)−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン(チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製、商品名イルガキュア379)
E−2:2,4−ジエチルチオキサントン
E−3:4,4'−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
E−4:2−ベンジル−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン(商品名イルガキュア369、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)
E−5:2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン(商品名イルガキュア907、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)
E−6:エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)(商品名イルガキュアOXE02、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)
E−7:1,2−オクタジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)(商品名イルガキュアOXE01、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製)
In Table 1, each component is as follows.
D-1: Dipentaerythritol hexaacrylate D-2: In the above formulas (1) to (3), m = 1, the number of groups represented by formula (2) = 6, and all R 1 are hydrogen atoms (Brand name KAYARAD DPCA-60, Nippon Kayaku Co., Ltd.)
D-3: a compound in which m = 2 in the above formulas (1) to (3), the number of groups represented by formula (2) = 6, and all R 1 are hydrogen atoms (trade name KAYARAD DPCA-120, Japan (Made by Kayaku)
E-1: 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one (product name, Irgacure 379, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
E-2: 2,4-diethylthioxanthone E-3: 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone E-4: 2-benzyl-2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butane 1-on (trade name Irgacure 369, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
E-5: 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one (trade name Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
E-6: Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime) (trade name Irgacure OXE02, Ciba Specialty・ Made by Chemicals
E-7: 1,2-octadione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime) (trade name Irgacure OXE01, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
表2から明らかなように、(B)分散剤および(D)多官能性単量体の少なくとも一方がカプロラクトン構造を有する成分であり(顔料分散液がR1またはG1、(D)成分がD−2またはD−3)、かつ光重合開始剤が2−(4−メチルベンジル)−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オンを含む(E−1)、本発明の着色感放射線性組成物は、形成された画素パターンが順テーパー形状であり、優れた耐溶剤性を有するとともに、残膜率が高く、感度が良好であった。
一方、(B)分散剤および(D)多官能性単量体のいずれにもカプロラクトン構造を有する成分を含まない場合、あるいは光重合開始剤が前記(E−1)を含まない場合は、形成された画素が逆テーパーとなるか、あるいは耐溶剤性が悪かった。
As is apparent from Table 2, at least one of (B) the dispersant and (D) the polyfunctional monomer is a component having a caprolactone structure (the pigment dispersion is R1 or G1, and the component (D) is D- 2 or D-3), and the photopolymerization initiator includes 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one (E-1) In the colored radiation-sensitive composition of the present invention, the formed pixel pattern had a forward taper shape, excellent solvent resistance, a high residual film ratio, and good sensitivity.
On the other hand, when neither (B) the dispersant nor (D) the polyfunctional monomer contains a component having a caprolactone structure, or when the photopolymerization initiator does not contain (E-1), The obtained pixels were inversely tapered or the solvent resistance was poor.
Claims (7)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010001645A JP5663878B2 (en) | 2009-02-18 | 2010-01-07 | Colored radiation-sensitive composition, color filter, and color liquid crystal display element |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009035170 | 2009-02-18 | ||
JP2009035170 | 2009-02-18 | ||
JP2010001645A JP5663878B2 (en) | 2009-02-18 | 2010-01-07 | Colored radiation-sensitive composition, color filter, and color liquid crystal display element |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010217872A true JP2010217872A (en) | 2010-09-30 |
JP5663878B2 JP5663878B2 (en) | 2015-02-04 |
Family
ID=42608849
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010001645A Active JP5663878B2 (en) | 2009-02-18 | 2010-01-07 | Colored radiation-sensitive composition, color filter, and color liquid crystal display element |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5663878B2 (en) |
KR (1) | KR101750556B1 (en) |
CN (1) | CN101807002A (en) |
TW (1) | TWI529478B (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011074705A1 (en) * | 2009-12-18 | 2011-06-23 | Fujifilm Corporation | Light-shielding curable composition, wafer level lens and light-shielding color filter |
JP2014508315A (en) * | 2011-01-18 | 2014-04-03 | エルジー・ケム・リミテッド | Photosensitive resin composition and photosensitive material containing the same |
KR20170100531A (en) | 2014-12-26 | 2017-09-04 | 카오카부시키가이샤 | Dispersant |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW201303489A (en) * | 2011-04-19 | 2013-01-16 | Sumitomo Chemical Co | Photosensitive resin composition |
JP5900203B2 (en) * | 2011-09-21 | 2016-04-06 | Jsr株式会社 | Coloring composition, color filter and display element |
TWI484293B (en) * | 2012-11-07 | 2015-05-11 | Chi Mei Corp | Photosensitive resin composition and application of the same |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004536352A (en) * | 2001-07-26 | 2004-12-02 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | Photosensitive resin composition |
JP2008201910A (en) * | 2007-02-20 | 2008-09-04 | Jsr Corp | Branched unsaturated polymer, radiosensitive resin composition and spacer for liquid crystal display element |
JP2008250273A (en) * | 2006-05-24 | 2008-10-16 | Jsr Corp | Radiation sensitive resin composition, spacer and method for forming the same |
JP2009020490A (en) * | 2007-06-13 | 2009-01-29 | Jsr Corp | Radiation-sensitive composition for colored layer formation, color filter and color liquid crystal display element |
JP2009025634A (en) * | 2007-07-20 | 2009-02-05 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Colored composition and color filter using the same |
WO2009113275A1 (en) * | 2008-03-14 | 2009-09-17 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive composition for the formation of colored layers, color filters, and color liquid crystal displays |
JP2009276490A (en) * | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Toppan Printing Co Ltd | Color filter and liquid crystal display device using the same |
JP2009288282A (en) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Toppan Printing Co Ltd | Photosensitive colored composition, color filter base and semi-transmissive liquid crystal display |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000104005A (en) * | 1998-09-28 | 2000-04-11 | Dainippon Printing Co Ltd | Pigment dispersant, photosensitive coloring composition and composition for light protecting layer |
JP4780988B2 (en) * | 2005-03-28 | 2011-09-28 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | Photopolymerizable resin laminate and glass substrate with black matrix |
JP2008020629A (en) * | 2006-07-12 | 2008-01-31 | Fujifilm Corp | Pattern forming material, and pattern forming apparatus and pattern forming method |
TWI413858B (en) * | 2007-01-12 | 2013-11-01 | Toyo Ink Mfg Co | Method for producing color filter |
-
2010
- 2010-01-07 JP JP2010001645A patent/JP5663878B2/en active Active
- 2010-02-08 CN CN201010112233A patent/CN101807002A/en active Pending
- 2010-02-09 TW TW099103882A patent/TWI529478B/en active
- 2010-02-09 KR KR1020100011892A patent/KR101750556B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004536352A (en) * | 2001-07-26 | 2004-12-02 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | Photosensitive resin composition |
JP2008250273A (en) * | 2006-05-24 | 2008-10-16 | Jsr Corp | Radiation sensitive resin composition, spacer and method for forming the same |
JP2008201910A (en) * | 2007-02-20 | 2008-09-04 | Jsr Corp | Branched unsaturated polymer, radiosensitive resin composition and spacer for liquid crystal display element |
JP2009020490A (en) * | 2007-06-13 | 2009-01-29 | Jsr Corp | Radiation-sensitive composition for colored layer formation, color filter and color liquid crystal display element |
JP2009025634A (en) * | 2007-07-20 | 2009-02-05 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Colored composition and color filter using the same |
WO2009113275A1 (en) * | 2008-03-14 | 2009-09-17 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive composition for the formation of colored layers, color filters, and color liquid crystal displays |
JP2009276490A (en) * | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Toppan Printing Co Ltd | Color filter and liquid crystal display device using the same |
JP2009288282A (en) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Toppan Printing Co Ltd | Photosensitive colored composition, color filter base and semi-transmissive liquid crystal display |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011074705A1 (en) * | 2009-12-18 | 2011-06-23 | Fujifilm Corporation | Light-shielding curable composition, wafer level lens and light-shielding color filter |
US20120250166A1 (en) * | 2009-12-18 | 2012-10-04 | Hiroaki Idei | Light-shielding curable composition, wafer level lens and light-shielding color filter |
JP2014508315A (en) * | 2011-01-18 | 2014-04-03 | エルジー・ケム・リミテッド | Photosensitive resin composition and photosensitive material containing the same |
US9733563B2 (en) | 2011-01-18 | 2017-08-15 | Lg Chem, Ltd. | Photosensitive resin composition and photosensitive material comprising the same |
KR20170100531A (en) | 2014-12-26 | 2017-09-04 | 카오카부시키가이샤 | Dispersant |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201035683A (en) | 2010-10-01 |
JP5663878B2 (en) | 2015-02-04 |
TWI529478B (en) | 2016-04-11 |
KR101750556B1 (en) | 2017-06-23 |
CN101807002A (en) | 2010-08-18 |
KR20100094364A (en) | 2010-08-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5417994B2 (en) | Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element | |
JP6265093B2 (en) | Colored composition, colored cured film, display element and solid-state image sensor | |
JP5644992B2 (en) | Colored radiation-sensitive composition, color filter, and color liquid crystal display element | |
JP5526821B2 (en) | Coloring composition, color filter and color liquid crystal display element | |
JP5454571B2 (en) | Coloring composition, color filter and color liquid crystal display element | |
JP6281305B2 (en) | Colored composition, colored cured film, display element and solid-state image sensor | |
JP5919674B2 (en) | Colorant, coloring composition, color filter and display element | |
JP2010256509A (en) | Coloring composition, color filter, and color liquid crystal display element | |
JP6248838B2 (en) | Colored composition, colored cured film, display element and solid-state image sensor | |
JP5663878B2 (en) | Colored radiation-sensitive composition, color filter, and color liquid crystal display element | |
JP6206211B2 (en) | Colored composition, colored cured film, and display element | |
JP5636675B2 (en) | Coloring composition for color filter, color filter, and color liquid crystal display element | |
JP5182360B2 (en) | Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element | |
JP2011141521A (en) | Coloring composition, color filter and display element | |
JP5353519B2 (en) | Coloring composition, color filter and color liquid crystal display element | |
JP6074949B2 (en) | Coloring composition, color filter and display element | |
JP5900203B2 (en) | Coloring composition, color filter and display element | |
JP5439937B2 (en) | Colored radiation-sensitive composition, color filter, and color liquid crystal display element | |
JP2010262027A (en) | Colored radiation-sensitive composition, color filter and color liquid crystal display element | |
JP5590294B2 (en) | Coloring composition, color filter and color liquid crystal display element | |
JP5024139B2 (en) | Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element | |
JP5109716B2 (en) | Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element | |
JP5482996B2 (en) | Coloring composition, color filter and color liquid crystal display element | |
JPWO2011013318A1 (en) | Coloring composition, color filter and color liquid crystal display element | |
JP2016074773A (en) | Coloring composition, colored cured film, and display element and solid state image sensor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120816 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130911 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130917 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131113 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140610 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140801 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141111 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141124 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5663878 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |