JP2010217758A - Printing method of precision pattern - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printing method of a precision pattern, which is stable, has excellent cost performance and can be used mainly for manufacture of a color filter (CF) and by which the CF where overlap between partition pattern and a colored layer pattern and between colored layer patterns in the printed matter are suppressed to the minimum is obtained. <P>SOLUTION: In the printing method of the precision pattern for forming an ink pattern having an area smaller than that of a region partitioned by a partition pattern 20 on an ink peelable film base material 10 in the region partitioned by the partition pattern 20 previously provided on a base material 30 to be printed for selectively disposing an ink, performing positioning to the partition pattern 20 on the base material 30 to be printed and then performing pressure transfer to uniformly spread the ink in the region partitioned by the partition pattern 20, the partition pattern 20 has ink repellency. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、ガラス基材やプラスチックフィルム等の可撓性基材上へ、高精細パタ−ンを形成する印刷方法に関するものである。   The present invention relates to a printing method for forming a high-definition pattern on a flexible substrate such as a glass substrate or a plastic film.

従来、紙やフィルムを対象に発達した印刷技術はエレクトロニクス分野にも応用され、精密機器の量産化や低価格化に貢献している。とくに近年発達が目覚しいフラットパネルディスプレイには、多くの部材に精密パターニング技術が用いられており、これら精密パターニング技術を利用した部材の大型化や低価格化が益々求められている。   Conventionally, printing technology developed for paper and film has also been applied to the electronics field, contributing to the mass production and cost reduction of precision equipment. In particular, in flat panel displays that have been remarkably developed in recent years, precision patterning technology is used for many members, and there is an increasing demand for increasing the size and cost of members using these precision patterning technologies.

例えばフラットパネルディスプレイの一つであるカラー液晶表示装置等に使用されているカラーフィルタ(CF)は、透明基板上に微細な赤(R)、緑(G)、及び青(B)の三色の着色層によるパターンが規則正しく、例えばドット状あるいはストライプ状に配列されたものである。加えて各着色層間には各着色層を光学的に分離するための隔壁となる格子状、あるいはストライプ状の光遮蔽層、いわゆるブラックマトリクス(BM)が精密パターニング技術を利用して製造されている。   For example, a color filter (CF) used in a color liquid crystal display device, which is one of flat panel displays, has three colors of fine red (R), green (G), and blue (B) on a transparent substrate. The pattern of the colored layers is regularly arranged, for example, in the form of dots or stripes. In addition, a lattice-shaped or stripe-shaped light shielding layer, so-called black matrix (BM), which is a partition wall for optically separating the colored layers, is manufactured between the colored layers using a precision patterning technique. .

このようなCFの製造初期には、蒸着法や染色法が用いられていたが、それぞれ隣接する画素ごとに薄膜を十数層にも重ねる複雑なプロセスが必要(蒸着法)、色素受像の為の有機層や色耐性に問題がある(染色法)、などの理由で用いられなくなった(特許文献1及び2)。   In the early stages of CF production, vapor deposition and dyeing methods were used. However, a complicated process of depositing dozens of thin films for each adjacent pixel is necessary (vapor deposition method). The organic layer has a problem in the organic layer and color resistance (dyeing method), etc. (Patent Documents 1 and 2).

また、オフセット印刷やスクリーン印刷などの既存の印刷方式を利用して、CFのパターニングを行う試みがされてきた(特許文献3)。   In addition, attempts have been made to perform CF patterning using an existing printing method such as offset printing or screen printing (Patent Document 3).

しかし、スクリーン印刷では、スクリーン版の変形が生じやすく、印刷パターンの変形やパターンの重ね合わせ精度に問題があった。   However, in screen printing, the screen plate is easily deformed, and there is a problem in the deformation of the print pattern and the pattern overlay accuracy.

さらに、オフセット印刷においては、ブランケットからのパターンの受理や転移時にパターンの潰れや、にじみ、加圧時にパターン中心部と輪郭部においてのインキ膜厚の差異が生じる問題があった。   Further, in offset printing, there is a problem in that the pattern is crushed or blotted at the time of receiving or transferring the pattern from the blanket, and a difference in ink film thickness occurs between the pattern center portion and the contour portion during pressurization.

そこで、近年では透明基板上に上記BM、及び3色の着色パターンの各層を各々、顔料分散レジスト塗布、露光、及び現像工程等を繰り返すフォトリソグラフィー法(顔料分散法とも呼ばれる)が製造方法の中心となっている。   Therefore, in recent years, the photolithography method (also referred to as pigment dispersion method) in which each layer of the above-mentioned BM and three color patterns is applied on a transparent substrate, respectively, by repeating a pigment dispersion resist coating, exposure, development process, etc. is the center of the production method. It has become.

フォトリソグラフィー法は、BMを含めた各色のパターニングに要する工程が複雑であり、テレビ製品向けなどの大型化に伴う設備規模の増加が問題となっている。また小型パネルにおいてはフォトリソグラフィー法で得られるCFのパターニングの微細化が課題となっている。   In the photolithography method, the process required for patterning each color including the BM is complicated, and there is a problem of an increase in equipment scale accompanying an increase in size for a television product or the like. Further, miniaturization of CF patterning obtained by a photolithography method is a problem for small panels.

フォトリソグラフィー法では、一般にBMパターンに対する各着色パターンのアライメント精度(位置合わせ精度)の誤差を考慮し、予めBMパターンで形成された画素面積よりも各着色パターンを大きく設計している。   In the photolithography method, in general, an error in alignment accuracy (positioning accuracy) of each coloring pattern with respect to the BM pattern is considered, and each coloring pattern is designed to be larger than a pixel area formed in advance with the BM pattern.

そのためCFの断面を見てみると、BMパターン表面に着色パターンの一部が乗り上がり(オーバーラップ)、段差となる為に液晶配向の乱れやムラの原因となっている。   Therefore, when looking at the cross section of the CF, a part of the colored pattern rides on the surface of the BM pattern (overlap), resulting in a step, which causes disorder of liquid crystal alignment and unevenness.

さらに、ディスプレイの高精細化がテレビ製品やモバイル製品で進んでおり、画素の小型化やBM線幅の微細化が求められているため、BMパターンに対する着色パターンのオーバーラップ幅がほとんど設定できなくなる傾向がある。   In addition, the display resolution has been increasing in TV products and mobile products, and pixel size reduction and BM line width miniaturization are required. Therefore, the overlapping width of the colored pattern with respect to the BM pattern can hardly be set. Tend.

そこで、BMパターンを画素パターンの隔壁として用い、開口部へオフセット印刷を用いて印刷した後、印刷に用いたブランケット胴でそのまま画素表面を加圧し、開口部全面にインキを延ばす方法も考案されている(特許文献4)。   Therefore, a method has been devised in which a BM pattern is used as a partition of a pixel pattern, and after printing is performed on the opening using offset printing, the pixel surface is pressed as it is with the blanket cylinder used for printing, and the ink is extended over the entire opening. (Patent Document 4).

この方法では、確かにBMパターンと画素パターンのオーバーラップを設定せずに、インキを画素全面に広げることが可能であるが、インキの流動性が高い段階で加圧を行うため、混色を防ぐ目的で隔壁の高さを確保すると、インキへの加圧を均一にすることが困難になる不具合や、通常のオフセット印刷を用いる為に高精細化が困難であった。   In this method, it is possible to spread the ink over the entire surface of the pixel without certainly setting the overlap between the BM pattern and the pixel pattern. However, since pressure is applied at a stage where the fluidity of the ink is high, color mixing is prevented. If the height of the partition wall is ensured for the purpose, it is difficult to make the pressurization to the ink uniform, and it is difficult to achieve high definition because of using normal offset printing.

一方、インクジェット(IJ)を用いたCFの製造技術は、製造工程の簡略化や使用インキの低減を目的として開発が進められている。   On the other hand, CF manufacturing technology using inkjet (IJ) is being developed for the purpose of simplifying the manufacturing process and reducing ink used.

IJ方式では、積層したインキ吸収性樹脂層を用いる受像層方式や、遮光パターンに撥インキ性を付与した隔壁方式が主に用いられる。   In the IJ method, an image receiving layer method using a laminated ink-absorbing resin layer or a partition method in which ink repellency is imparted to a light shielding pattern is mainly used.

しかし、受像層方式では、着色インキを吸収した場合の膨張の制御や、加工表層へ耐性を付与することが難しい。   However, in the image receiving layer method, it is difficult to control expansion when colored ink is absorbed and to impart resistance to the processed surface layer.

また、インクジェット方式ではインキの粘度を上げることが困難な為、隔壁方式では吐出直後において、隔壁の高さの数倍となるインキ量を決壊なく保持しなければならず、パターンににじみや混色が生じやすい(特許文献5)。   In addition, since it is difficult to increase the viscosity of the ink in the ink jet method, the amount of ink that is several times the height of the partition wall must be maintained without being broken immediately after ejection in the partition wall method, and the pattern has bleeding and color mixing. It tends to occur (Patent Document 5).

さらに、インクジェットヘッドから吐出される液滴の着弾性や、連続吐出の安定性を得るために、一般的に着弾するインキ液滴の大きさは20μm〜40μm程度となり、画素開口部の幅や、機械精度が原因となる着弾位置誤差を含めると、画素パターンが60μm幅以下の高精細パターニングには使用することができない。   Furthermore, in order to obtain the landing elasticity of the droplets ejected from the inkjet head and the stability of continuous ejection, the size of the ink droplets that generally land is about 20 μm to 40 μm, the width of the pixel opening, If landing position errors due to mechanical accuracy are included, the pixel pattern cannot be used for high-definition patterning with a width of 60 μm or less.

そこで、このような微細パターンの形成方法として、新たな印刷法が考案された。   Therefore, a new printing method has been devised as a method for forming such a fine pattern.

例えば、特許文献6に記載の印刷法は、シリンダーに設置されたブランケット表面にインキ膜を塗布し、ブランケット上でインキが完全に乾燥していない半乾燥状態にしたのち、表面に凹凸を有する除去版を押し当て、パターン以外の余分なインキを版表面から除去したのち、必要なパターンを被印刷基材上に転写する方法である。   For example, in the printing method described in Patent Document 6, an ink film is applied to the surface of a blanket installed in a cylinder, the ink is not completely dried on the blanket, and then the surface is unevenly removed. In this method, a plate is pressed and excess ink other than the pattern is removed from the plate surface, and then a necessary pattern is transferred onto the substrate to be printed.

一般的に用いられるオフセット印刷やスクリーン印刷では、インキの流動性が高い為、高精細パターニング時にどうしても、にじみやムラが発生してしまう不具合があったが、上記印刷方式では、一度ブランケット上に塗布したインキ液膜を半乾燥状態にしてから、除去版を用いてパターニングすることでインキの流動を抑え、高精細パターニングを可能にした。   In general offset printing and screen printing, the fluidity of the ink is high, so there was a problem that bleeding and unevenness occurred inevitably during high-definition patterning. The ink liquid film was made into a semi-dry state and then patterned using a removal plate, thereby suppressing the flow of ink and enabling high-definition patterning.

また、印刷のプロセスが簡素であり、設備の規模や設置面積を少なくすることが可能であり、フォトリソグラフィー法のように現像処理が必要な無く、ランニングコストも低減することができる利点がある。   Further, the printing process is simple, the scale of the equipment and the installation area can be reduced, and there is an advantage that the development cost is not required unlike the photolithography method and the running cost can be reduced.

しかし、この印刷法は厚さ数mm程度のブランケット基材を使用する為、ブランケットの均一性を確保することが難しく、さらにブランケットへのインキ溶剤の吸収により膨潤が起こり、パターンの直線性や再現性を損なう問題があった。   However, since this printing method uses a blanket base material with a thickness of several millimeters, it is difficult to ensure the uniformity of the blanket, and further, swelling occurs due to the absorption of the ink solvent into the blanket, and the linearity and reproduction of the pattern There was a problem of impairing sex.

また、シリンダーに設置されたブランケット上のパターンと、被印刷基材上に設けられた既存パターンとの重ね合わせを直接観察することができず、高精細パターンの重ね合わせ精度にも問題があった。   In addition, the overlay of the pattern on the blanket installed on the cylinder and the existing pattern provided on the substrate to be printed cannot be observed directly, and there was a problem with the overlay accuracy of the high-definition pattern. .

そのため、パターンの重ね合わせ時には、フォトリソグラフィー法と同様に、既存パターンへのオーバーラップを考慮したパターン設計を必要する。   For this reason, when superimposing the patterns, it is necessary to design the pattern in consideration of the overlap with the existing pattern, as in the photolithography method.

特開昭63−26361号公報JP-A 63-26361 特開平4−86801号公報Japanese Patent Laid-Open No. 4-86801 特開平11−314341号公報JP-A-11-314341 特開平2−297502号公報JP-A-2-297502 特開平6−186416号広報JP-A-6-186416 特開2001−56405号公報JP 2001-56405 A

本発明は、上記のような問題を解決すべく為されたものであって、その課題とするところは、安定でコストパフォーマンスに優れ、主にカラーフィルタ(CF)の作製に用いることができ、印刷物の隔壁パターン・着色層パターン間、着色層パターン同士の重なりを最低限に抑えたCFが得られる、精密パターンの印刷方法を提供することである。   The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and the problem is that it is stable and excellent in cost performance, and can be used mainly for producing a color filter (CF). It is an object of the present invention to provide a precision pattern printing method capable of obtaining a CF with a minimum overlap between colored layer patterns and between partition wall patterns and colored layer patterns of a printed material.

上記の課題を解決するための手段として、請求項1に記載の発明は、被印刷基材上に予め設けられた隔壁パターンによって仕切られた領域に、インキを選択的に配置するために、インキ剥離性フィルム基材上に該隔壁パターンによって仕切られた領域よりも小さな面積のインキパターンを形成し、該被印刷基材上の該隔壁パターンに対して位置合わせを行った後、加圧転写することで該隔壁パターンによって仕切られた領域内に均一にインキを押し広げて設ける精密パターンの印刷方法において、
該隔壁パターンが撥インキ性を有することを特徴とする精密パターンの印刷方法である。
As a means for solving the above-described problems, the invention according to claim 1 is directed to an ink for selectively disposing ink in a region partitioned by a partition pattern provided in advance on a substrate to be printed. An ink pattern having a smaller area than the area partitioned by the partition wall pattern is formed on the releasable film substrate, aligned with the partition wall pattern on the substrate to be printed, and then transferred by pressure. In the printing method of the precision pattern provided by spreading the ink uniformly in the area partitioned by the partition pattern,
The partition pattern has ink repellency, and is a precision pattern printing method.

また、請求項2に記載の発明は、前記隔壁パターンに撥インキ性を付与するための材料として、ケイ素原子を有するものを使用することを特徴とする請求項1に記載の精密パターンの印刷方法である。   The invention according to claim 2 is characterized in that a material having silicon atoms is used as a material for imparting ink repellency to the partition wall pattern. It is.

また、請求項3に記載の発明は、前記隔壁パターンに撥インキ性を付与するための材料として、フッ素原子を有するものを使用することを特徴とする請求項1に記載の精密パターンの印刷方法である。   The invention according to claim 3 is characterized in that a material having fluorine atoms is used as a material for imparting ink repellency to the partition wall pattern. It is.

また、請求項4に記載の発明は、前記隔壁パターンが上面部と、上面部以外の下部とを有し、前記隔壁パターン上面部の撥インキ性が前記隔壁パターン下部の撥インキ性より大きいことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の精密パターンの印刷方法である。   According to a fourth aspect of the present invention, the barrier rib pattern has an upper surface portion and a lower portion other than the upper surface portion, and the ink repellency of the upper surface portion of the barrier rib pattern is greater than the ink repellency of the lower portion of the barrier rib pattern. The method for printing a precision pattern according to any one of claims 1 to 3.

また、請求項5に記載の発明は、前記隔壁パターンによって仕切られた領域よりも小さな面積のインキパターンを、インキ剥離性フィルム基材上に得る方法が、該インキ剥離性フィルム基材上にインキ液膜を塗工して設け、該インキ液膜を予備乾燥した後、必要な画像パターンを凹部とした凸版を該インキ液膜に押し当て、余分なパターンを版凸部に転移させる方法であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の精密パターンの印刷方法である。   The invention according to claim 5 is a method for obtaining an ink pattern having an area smaller than an area partitioned by the partition pattern on the ink peelable film substrate. This is a method in which a liquid film is applied, the ink liquid film is pre-dried, and then a relief plate having a required image pattern as a recess is pressed against the ink liquid film to transfer an excess pattern to the plate protrusion. The precision pattern printing method according to any one of claims 1 to 4.

また、請求項6に記載の発明は、前記被印刷基材上に予め設けられた隔壁パターンと、インキ剥離性フィルム基材上のインキパターンの位置合わせが、該被印刷基材とインキ剥離性フィルム基材を、20μmから500μmの距離を保って平行に配置し、両基材の位置合わせを光学機器を用いて観察した画像を基に行われることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の精密パターンの印刷方法である。   In the invention according to claim 6, the alignment of the partition pattern provided in advance on the substrate to be printed and the ink pattern on the ink peelable film substrate is the same as that of the substrate to be printed and the ink peelability. The film base material is arranged in parallel while maintaining a distance of 20 μm to 500 μm, and alignment of both base materials is performed based on an image observed using an optical device. It is the printing method of the precision pattern as described in a crab.

また、請求項7に記載の発明は、前記隔壁パターンによって仕切られた領域よりも小さな面積のインキパターンとして、隔壁パターンによって仕切られた領域の形状を少なくとも一方向に5%から10%縮小したインキパターンを用いることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の精密パターンの印刷方法である。   The invention according to claim 7 is an ink in which the shape of the area partitioned by the partition wall pattern is reduced by 5% to 10% in at least one direction as an ink pattern having a smaller area than the area partitioned by the partition wall pattern. The pattern printing method according to claim 1, wherein a pattern is used.

また、請求項8に記載の発明は、前記隔壁パターンによって仕切られた領域よりも小さな面積のインキパターンとして、一つの領域に対して複数からなるドットパターンを用い、ドットパターンの膜厚、面積および個数からなるパターン密度により、転写するインキ量を調節することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の精密パターンの印刷方法である。   The invention according to claim 8 uses a dot pattern composed of a plurality of areas for one area as an ink pattern having an area smaller than that of the area partitioned by the partition wall pattern. 8. The precision pattern printing method according to any one of claims 1 to 7, wherein the amount of ink to be transferred is adjusted by a pattern density consisting of the number.

また、請求項9に記載の発明は、前記インキ剥離性フィルム基材が、透明なフィルム基材上にシリコーン樹脂層を積層してなるものであることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の精密パターンの印刷方法である。   The invention according to claim 9 is characterized in that the ink peelable film substrate is formed by laminating a silicone resin layer on a transparent film substrate. It is the printing method of the precision pattern as described in a crab.

また、請求項10に記載の発明は、前記予備乾燥したインキ液膜を除去するための凸版として、ガラス版もしくは樹脂版を使用することを特徴とする請求項5に記載の精密パターンの印刷方法である。   The invention described in claim 10 is characterized in that a glass plate or a resin plate is used as a relief plate for removing the pre-dried ink film. It is.

また、請求項11に記載の発明は、前記被印刷基材上に予め前記隔壁パターンを設ける方法が、前記インキ剥離性フィルム基材上に該隔壁パターン用のインキ液膜を塗工して設け、該インキ液膜を予備乾燥した後、必要な画像パターンを凹部とした凸版を該インキ液膜に押し当て、余分なパターンを版凸部に転移させた後、該インキ剥離性フィルム基材上に形成された該隔壁パターンをなす該インキ液膜を、該被印刷基材へ転写する方法であることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の精密パターンの印刷方法である。   Further, in the invention described in claim 11, the method of providing the partition pattern in advance on the substrate to be printed is provided by applying an ink liquid film for the partition pattern on the ink peelable film substrate. After the ink liquid film has been pre-dried, a relief printing plate having a required image pattern as a recess is pressed against the ink liquid film, and an excess pattern is transferred to the plate projection, and then the ink peelable film substrate The method for printing a precision pattern according to any one of claims 1 to 10, wherein the ink liquid film forming the partition pattern formed on the substrate is transferred to the substrate to be printed.

被印刷基材上にあらかじめ設けられた隔壁パターンによって仕切られた領域に、インキを選択的に配置する印刷方法であって、隔壁パターンが撥インキ性を有することで、隔壁パターン上面部へのインキパターンのオーバーラップを抑制することが可能である。そのため、隣接する領域に連続的に異なるインキパターンを形成する場合であっても、既に形成されているインキパターンは隔壁上面部へのオーバーラップがないために表面凹凸の影響を受けることなく印刷することが可能であり、混色やムラ、インキパターン抜けなく、高精細なパターン印刷物を得ることができる。   A printing method in which ink is selectively disposed in a region partitioned by a partition pattern provided in advance on a substrate to be printed, and the partition pattern has ink repellency, so that the ink on the top surface of the partition pattern It is possible to suppress pattern overlap. Therefore, even when different ink patterns are successively formed in adjacent regions, the already formed ink pattern is printed without being affected by surface irregularities because there is no overlap with the upper surface of the partition wall. It is possible to obtain a high-definition pattern printed matter without color mixing, unevenness, and ink pattern omission.

隔壁パターンによって仕切られた領域よりも小さな面積のインキパターンをインキ剥離性フィルム基材上に得る方法を、インキ剥離性フィルム基材上にインキ液膜を塗工して設け、インキ液膜を予備乾燥した後、必要な画像パターンを凹部とした凸版をインキ液膜に押し当て、余分なパターンを版凸部に転移させる方法とする事で、流動性が低下したインキパターンを被印刷基材上の隔壁パターン中に転写する事が可能であり、パターンのにじみやムラが少ない印刷物を得ることができる。   A method of obtaining an ink pattern with an area smaller than the area partitioned by the partition pattern on the ink-releasable film substrate by applying an ink liquid film on the ink-releasable film substrate, After drying, press the relief printing plate with the required image pattern as a depression on the ink film, and transfer the excess pattern to the relief on the printing substrate. Can be transferred into the barrier rib pattern, and a printed matter with less pattern bleeding and unevenness can be obtained.

被印刷基材上にあらかじめ設けられた隔壁パターンと、インキ剥離性フィルム基材上のインキ液膜パターンの位置合わせが、被印刷基材とインキ剥離性フィルム基材を、20μmから500μmの距離を保って平行に配置し、両基材の位置合わせをカメラ等の光学機器を用いて観察した画像を元に行う事で、被印刷基材上の隔壁パターンへの位置合わせを正確に行う事が可能となった。   The alignment of the partition pattern provided in advance on the substrate to be printed and the ink liquid film pattern on the ink peelable film substrate allows the distance between 20 μm and 500 μm between the substrate to be printed and the ink peelable film substrate. Keeping them parallel to each other and aligning both substrates based on images observed using an optical device such as a camera can accurately align the partition pattern on the substrate to be printed. It has become possible.

隔壁パターンによって仕切られた領域よりも小さな面積のインキパターンとして、隔壁パターンによって仕切られた領域の形状を縮小したパターンを用い、インキパターンの膜厚により転写するインキ量を調節する事で、隔壁パターンとの位置合わせ精度のマージンを広げ、隔壁パターン中にムラなくインキ液膜を設ける事が可能となった。   By using a pattern in which the shape of the area partitioned by the partition wall pattern is reduced as the ink pattern having a smaller area than the area partitioned by the partition wall pattern, and adjusting the amount of ink transferred according to the thickness of the ink pattern, the partition wall pattern The alignment accuracy margin can be expanded, and the ink liquid film can be provided in the partition pattern without any unevenness.

前記隔壁パターンによって仕切られた領域よりも小さな面積のインキパターンとして、複数からなるドットパターンを用い、ドットパターンの膜厚や面積や個数からなるパターン密度により、転写するインキ量を調節する事で、隔壁パターンとの位置合わせ精度のマージンを広げ、隔壁パターン中に所定の膜厚のインキ液膜を設ける事が可能となった。   By using a plurality of dot patterns as the ink pattern of an area smaller than the area partitioned by the partition pattern, by adjusting the amount of ink transferred by the pattern density consisting of the film thickness, area and number of dot patterns, The margin of alignment accuracy with the partition wall pattern is widened, and an ink liquid film having a predetermined film thickness can be provided in the partition wall pattern.

インキ剥離性フィルム基材として、透明なフィルム基材上にシリコーン樹脂層を積層して設ける事で、転写パターンの位置合わせを容易にし、且つ安価な印刷方法を提供する事が可能となった。   By providing a silicone resin layer on a transparent film base material as an ink peelable film base material, it is possible to facilitate the alignment of the transfer pattern and to provide an inexpensive printing method.

予備乾燥インキ膜を除去するための凸版として、ガラスもしくは樹脂製の版を使用する事で、微細パターンを安定して得る事が可能となった。   By using a plate made of glass or resin as a relief plate for removing the pre-dried ink film, a fine pattern can be stably obtained.

被印刷基材上に予め隔壁パターンを設ける方法として、インキ剥離性フィルム基材上に隔壁パターン用のインキ液膜を塗工して設け、該インキ液膜を予備乾燥した後、必要な画像パターンを凹部とした凸版を該インキ液膜に押し当て、余分なパターンを版凸部に転移させた後、インキ剥離性フィルム基材上に形成された該隔壁パターンをなすインキ液膜を、被該印刷基材へ転写する方法を用いる事で、従来方式と比べ安価な印刷方法を提供する事が可能となった。   As a method of providing a partition pattern in advance on a substrate to be printed, an ink liquid film for a partition pattern is applied on an ink peelable film substrate, and after the ink liquid film is pre-dried, a necessary image pattern Is pressed against the ink liquid film, the excess pattern is transferred to the plate convex part, and then the ink liquid film forming the partition pattern formed on the ink peelable film substrate is coated with the ink liquid film. By using a method of transferring to a printing substrate, it has become possible to provide a printing method that is cheaper than conventional methods.

インキ剥離性フィルム基材の構造を説明した図である。It is a figure explaining the structure of the ink peelable film base material. インキ剥離性フィルム基材を用いた印刷方法による隔壁パターンの形成工程を説明した図である。It is a figure explaining the formation process of the partition pattern by the printing method using an ink peelable film base material. 被印刷基材上に形成した撥インキ性の上面部を有する隔壁パターンの説明図である。It is explanatory drawing of the partition pattern which has the ink-repellent upper surface part formed on the to-be-printed base material. 隔壁パターンが形成された被印刷基材へのインキ液膜パターンの転写工程を説明した図である。It is a figure explaining the transfer process of the ink liquid film pattern to the to-be-printed base material in which the partition pattern was formed.

以下に、本発明による精密パターンの印刷方法を図1乃至4に示し、実際の印刷工程に従って説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The precision pattern printing method according to the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 4 and will be described according to an actual printing process. However, the present invention is not limited thereto.

本発明に用いるフィルム基材11は、プラスチック等の可撓性基材を加工し用いる事が可能である。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いる事ができる。さらに光透過性の基材を用いる事により、パターンの重ね合わせ時にアライメントを容易とする事ができる。   The film substrate 11 used in the present invention can be processed and used as a flexible substrate such as plastic. For example, films and sheets of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether sulfone, cycloolefin polymer, polyimide, nylon, aramid, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, triacetyl cellulose, and the like can be used. Further, by using a light-transmitting substrate, alignment can be facilitated during pattern superposition.

図1に示すように、本発明に用いるインキ剥離性フィルム基材10は、上記フィルム基材11表面へインキ剥離性のシリコーン層12として、シリコーンオイル、シリコーンワニスに代表される離型剤を塗っても良いし、あるいはシリコーンゴムの薄膜層を形成してもよい。また同じ目的でフッ素系樹脂、フッ素系ゴムも利用されうるし、フッ素樹脂微粉末をシリコーンゴムあるいは、普通のゴムに混ぜて剥離性を出すなどの使い方をしてもよい。   As shown in FIG. 1, the ink peelable film substrate 10 used in the present invention is coated with a release agent represented by silicone oil and silicone varnish as the ink peelable silicone layer 12 on the surface of the film substrate 11. Alternatively, a thin film layer of silicone rubber may be formed. For the same purpose, fluorine-based resins and fluorine-based rubbers may be used, or the fluororesin fine powder may be mixed with silicone rubber or ordinary rubber to obtain releasability.

これらシリコーン系の塗膜は通常フィルム基材11との密着が低いが、熱硬化または紫外線硬化性のアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等を、接着性樹脂層(アンカー層)としてあらかじめフィルム基材11上に設ける事もできる。   These silicone-based coatings usually have low adhesion to the film substrate 11, but the film substrate 11 is preliminarily used as an adhesive resin layer (anchor layer) with a thermosetting or ultraviolet curable acrylic resin, epoxy resin, or the like. It can also be provided above.

いずれもインキ塗工時には、均一なインキ液膜を形成することができると同時に、一度塗工したインキ液膜の完全なインキ剥離性を有する事が望ましい。   In any case, it is desirable that a uniform ink liquid film can be formed at the time of ink coating, and at the same time, the ink liquid film that has been coated once has complete ink peelability.

具体的なシリコーンとしては、ジメチルポリシロキサンの各種分子量のもの、その他メチルハイドロジエンポリシロキサン、メチルフェニルシリコーンオイル、メチル塩素化フェニルシリコーンオイル、あるいはこれらポリシロキサンと有機化合物との共重合体など、変成したものを用いる事ができる。   Specific silicones include dimethylpolysiloxanes with various molecular weights, other methylhydropolysiloxanes, methylphenylsilicone oils, methylchlorinated phenylsilicone oils, or copolymers of these polysiloxanes with organic compounds. Can be used.

シリコーンゴムとしては、二液型のジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、またはシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、あるいは一液型ではジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシム、各種メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等の組み合わせなどが用いられ、その他ゴム硬度を調節するためのポリシロキサンが適宜用いられる。   Silicone rubber is a combination of two-component diorganopolysiloxane and a tri- or higher functional silane as a crosslinking agent, or a combination of siloxane and a curing catalyst, or one-component diorganopolysiloxane, acetone oxime, and various methoxys. Combinations of silane, methyltriacetoxysilane, and the like are used, and other polysiloxanes for adjusting rubber hardness are appropriately used.

このようにして得られるインキ剥離性フィルム基材10に対するインキ剥離性は、処理面へインキを滴下した際の接触角が、10°以上90°以下となるのが好ましく、より好ましくは20°以上70°以下である。この接触角が小さいと後工程でのインキ剥離性が低下してパターンの欠陥(再現性不良等)が発生しやすくなり、接触角が大きいとインキ液膜を形成する際にハジキが生じて、均一なインキ液膜を形成する事が困難になる。   The ink releasability with respect to the ink releasable film substrate 10 thus obtained is preferably such that the contact angle when the ink is dropped onto the treated surface is 10 ° or more and 90 ° or less, more preferably 20 ° or more. 70 ° or less. If this contact angle is small, ink releasability in the subsequent process is reduced and pattern defects (such as poor reproducibility) are likely to occur. If the contact angle is large, repelling occurs when forming the ink liquid film, It becomes difficult to form a uniform ink liquid film.

上記に示したインキ剥離性フィルム基材10上へインキ液膜を形成する方法としては、インキの粘度や溶媒の乾燥性によって公知の塗工方法を用いる事ができる。例えば、ディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。中でも、ダイコート、キャップコート、ロールコート、アプリケータ等の塗工方法では、広い範囲の粘度のインキについて均一なインキ液膜を形成する事ができる。   As a method for forming an ink liquid film on the ink releasable film substrate 10 shown above, a known coating method can be used depending on the viscosity of the ink and the drying property of the solvent. For example, dipping method, roll coating, gravure coating, reverse coating, air knife coating, comma coating, die coating, screen printing method, spray coating, gravure offset method and the like can be mentioned. Among them, a coating method such as die coating, cap coating, roll coating, and applicator can form a uniform ink liquid film for inks having a wide range of viscosity.

インキ剥離性フィルム基材10上へ前記方法によりインキ液膜を形成した後に、前記インキ液膜を予備乾燥する。この予備乾燥には自然乾燥、冷風・温風乾燥、マイクロ波、減圧乾燥などを用いる事ができ、また、紫外線、電子線などの放射線を用いる事もできる。   After forming an ink liquid film on the ink peelable film substrate 10 by the above method, the ink liquid film is preliminarily dried. For this preliminary drying, natural drying, cold / hot air drying, microwave, reduced pressure drying, or the like can be used, and radiation such as ultraviolet rays or electron beams can also be used.

この予備乾燥では、前記インキ液膜の粘度またはチキソトロピー性、脆性を挙げる事を目的とするもので、インキ液膜の完全乾燥はさせない。乾燥が不十分な場合は、後工程で述べるインキ除去版の凸部を押し当て剥離する際に、インキ液膜が断裂し不良が発生する。さらには、隔壁パターンへの転写時にパターンのつぶれが大きく、隔壁をはみ出してしまう。   This preliminary drying is intended to increase the viscosity, thixotropy and brittleness of the ink liquid film, and does not completely dry the ink liquid film. When the drying is insufficient, the ink liquid film is torn and a defect occurs when the convex portion of the ink removal plate described in a later step is pressed and peeled off. Furthermore, the pattern is greatly crushed during transfer to the partition pattern, and the partition protrudes.

逆に乾燥が行き過ぎた場合は、前記インキ除去版にインキが転写されない。また、隔壁パターンに囲われた位置へ転写する場合、パターンのつぶれが小さく、均一にインキを設ける事ができない。そのため使用するインキの組成によって乾燥状態を調整する。   On the other hand, when the drying is excessive, the ink is not transferred to the ink removing plate. Further, when transferring to a position surrounded by the partition wall pattern, the pattern is not crushed so that the ink cannot be provided uniformly. Therefore, the dry state is adjusted according to the composition of the ink used.

前記インキ液膜を予備乾燥した後、必要な画像パターンを凹部としたインキ除去版(凸版)にインキ液膜を押し当て、余分なインキ液膜をインキ除去版に転移させて、インキ液膜パターンを形成する。   After the ink liquid film has been pre-dried, the ink liquid film is pressed against an ink removal plate (letter plate) having a required image pattern as a recess, and the excess ink liquid film is transferred to the ink removal plate, so that the ink liquid film pattern Form.

インキ除去版としては、無アルカリガラス等の低膨張ガラス表面に感光性樹脂を用いてマスクパターンを形成した後、既存のドライエッチング処理やウェットエッチング処理、もしくはサンドブラスト処理を用いて、2μmから30μmの版深を設けたものを用いる事ができる。あまり、版深が浅いとインキ液膜が、版底に接触しパターンの再現ができなくなる。一定以上の版深を有すれば、得られるパターンの形状に変わりはないが、一方で版に設けるパターンを高解像化できなくなる弊害がある。   As an ink removal plate, a mask pattern is formed on a surface of a low expansion glass such as an alkali-free glass using a photosensitive resin, and then an existing dry etching process, a wet etching process, or a sand blasting process is used. A plate provided with a plate depth can be used. If the plate depth is too small, the ink liquid film contacts the plate bottom and the pattern cannot be reproduced. If the plate depth exceeds a certain level, the shape of the obtained pattern is not changed, but there is a problem that the pattern provided on the plate cannot be made high resolution.

また、インキ除去版にはナイロン、アクリル、シリコーン樹脂、スチレン-ジエン共重合体などからなるものを用いる事もできる。またエチレン-プロピレン系、ブチル系、ウレタン系ゴムなどのゴム製の版を用いる事もできる。このような樹脂製のインキ除去版は、すでに凸版印刷やフレキソ印刷用に用いられており、予め作製した型に所定の樹脂を流し込んで版とする、あるいは彫刻によっても作製する事ができるが、感光性樹脂を用いる方法がより高精度のものを作製できる。   The ink removal plate may be made of nylon, acrylic, silicone resin, styrene-diene copolymer or the like. Also, rubber plates such as ethylene-propylene, butyl, and urethane rubbers can be used. Such resin-made ink removal plates are already used for relief printing and flexographic printing, and can be produced by pouring a predetermined resin into a previously produced mold or by engraving, A method using a photosensitive resin can be manufactured with higher accuracy.

被印刷基材の隔壁パターンを上記の印刷方式を用いて形成する場合、画素パターン用のインキ除去版に加え、隔壁パターン用のインキ除去版を用意する。   When the partition pattern of the substrate to be printed is formed using the above printing method, an ink removal plate for the partition pattern is prepared in addition to the ink removal plate for the pixel pattern.

被印刷基材上に隔壁パターンを形成する方法として、上記のインキ剥離性フィルム基材からの転写による印刷方法を用いる事ができる。   As a method for forming the partition wall pattern on the substrate to be printed, a printing method by transfer from the above-described ink peelable film substrate can be used.

隔壁パターンが上面部と下部とを有し、隔壁パターン上面部21にのみ撥インキ性を有する隔壁パターンを形成する場合には、図2(a)に示すように、まず、インキ剥離性フィルム基材10上に、隔壁パターン上面部となる撥インキ剤を添加したインキを塗工した後、形成した隔壁パターン上面部となるインキ液膜21を予備乾燥する。   When the partition wall pattern has an upper surface portion and a lower portion, and the partition wall pattern having ink repellency is formed only on the partition wall pattern upper surface portion 21, first, as shown in FIG. After coating the material 10 with an ink added with an ink repellent agent which becomes the upper surface portion of the partition wall pattern, the ink liquid film 21 which becomes the upper surface portion of the formed partition wall pattern is preliminarily dried.

図2(b)に示すように、前記隔壁パターン上面部となるインキ液膜21が均一に予備乾燥されたインキ剥離性フィルム基材10上に、隔壁パターン下部となるインキを塗工し、隔壁パターン上面部となるインキ液膜21の上に隔壁パターン下部となるインキ液膜22を積層させた後、該隔壁パターン下部となるインキ液膜22を予備乾燥させる。   As shown in FIG. 2 (b), an ink which becomes the lower part of the partition pattern is coated on the ink peelable film substrate 10 on which the ink liquid film 21 which becomes the upper part of the partition pattern is uniformly pre-dried. After laminating the ink liquid film 22 which becomes the lower part of the partition pattern on the ink liquid film 21 which becomes the upper surface part of the pattern, the ink liquid film 22 which becomes the lower part of the partition pattern is preliminarily dried.

図2(c)、(d)に示すように、隔壁パターンとなるインキ液膜が形成されたインキ剥離性フィルム基材10に、インキ除去版40を押し当て、不要なインキ液膜をインキ除去版40へ転移せしめ、インキ剥離性フィルム基材10上に、隔壁パターン上面部となるインキ液膜21と隔壁パターン下部となるインキ液膜22とからなる隔壁パターンインキ液膜23を形成する。   As shown in FIGS. 2 (c) and 2 (d), the ink removing plate 40 is pressed against the ink peelable film substrate 10 on which the ink liquid film to be a partition pattern is formed, and the unnecessary ink liquid film is removed by ink. The ink is transferred to the plate 40, and a partition pattern ink liquid film 23 is formed on the ink peelable film substrate 10. The partition pattern ink liquid film 23 is composed of the ink liquid film 21 that is the upper surface portion of the partition pattern and the ink liquid film 22 that is the lower portion of the partition pattern.

形成された隔壁パターン上面部となるインキ液膜21と隔壁パターン下部となるインキ液膜22とからなる隔壁パターンインキ液膜23を、被印刷基材30へ転写することで、図3に示すように、被印刷基材30上に上面部が撥インキ性を有する隔壁パターン上面部と、それ以外の撥インキ性のない隔壁パターン下部と、からなる隔壁パターン20を形成する事ができる。   As shown in FIG. 3, the partition pattern ink liquid film 23 composed of the ink liquid film 21 that is the upper surface portion of the formed partition pattern and the ink liquid film 22 that is the lower part of the partition pattern is transferred to the printing substrate 30. In addition, it is possible to form a partition wall pattern 20 including a partition wall pattern upper surface portion whose upper surface portion has ink repellency and a lower partition wall pattern lower portion having no ink repellency on the substrate 30 to be printed.

また、被印刷基材30上に隔壁パターン20を形成する方法として、フォトリソグラフィー法による公知のパターニング技術を用いる事もできる。   Further, as a method for forming the partition wall pattern 20 on the substrate to be printed 30, a known patterning technique using a photolithography method can be used.

隔壁パターンが上面部と下部とからなり、隔壁パターン上面部の方が下部よりも撥インキ性の大きい隔壁パターンを、フォトリソグラフィー法により形成するためには、まず、被印刷基材上に隔壁パターン下部を形成した後に、再度フォトリソグラフィーによるパターニングを行い、隔壁パターン上面部を形成する。   In order to form a barrier rib pattern having an upper surface portion and a lower portion, and the barrier rib pattern upper surface portion having a higher ink repellency than the lower portion by photolithography, first, the barrier rib pattern is formed on the substrate to be printed. After the lower part is formed, patterning by photolithography is performed again to form the partition wall pattern upper surface part.

このような方法では、一つの被印刷基材に対して、同じデザインのパターンを形成するために、2回のフォトリソグラフィー工程が必要となり、また、隔壁パターン上面部を積層して形成する際には、位置合わせに高い精度が求められる。   In such a method, in order to form a pattern with the same design on one substrate to be printed, two photolithography steps are required, and when the upper surface portion of the partition wall pattern is laminated and formed, Therefore, high accuracy is required for alignment.

予め被印刷基材側に設けられる隔壁パターンの膜厚は、遮光性とインキの受容性を兼ね、0.8μm〜2.0μmとするのが好ましい。2.0μm以上の膜厚では、インキ除去版によるパターン化の際に、パターン端面の直線性が再現できなくなってしまう。   The film thickness of the partition wall pattern previously provided on the side of the substrate to be printed is preferably 0.8 μm to 2.0 μm, which has both light shielding properties and ink acceptability. When the film thickness is 2.0 μm or more, the linearity of the pattern end face cannot be reproduced during patterning by the ink removal plate.

一方、画素パターンは、最終的に被印刷基材へ押し付けられた場合に、隔壁パターンからはみ出さないように、インキ膜厚やパターン形状、パターン面積、ドット密度を選定し、インキ除去版を作製する事ができる。   On the other hand, when the pixel pattern is finally pressed against the substrate to be printed, the ink film thickness, pattern shape, pattern area, and dot density are selected so as not to protrude from the partition pattern, and an ink removal plate is produced. I can do it.

画素パターンは、インキ液膜の予備乾燥状態にもよるが、隔壁パターンによって準備された開口パターンに対して、5〜10%面積の小さい相似パターンを用いる事ができる。   Although the pixel pattern depends on the pre-dried state of the ink liquid film, a similar pattern having a small area of 5 to 10% with respect to the opening pattern prepared by the partition wall pattern can be used.

転写の際、インキ液膜の予備乾燥を少なくする事で、パターニングされたインキ膜の転写時のつぶれが大きくなる為、その分画素パターンを小さくできるが、隔壁パターンを乗り越えてインキが広がる懸念がある。一方、予備乾燥を多く設ける事で、つぶれによる広がりを少なくする事ができるが、隔壁パターンとの重ね合わせ精度が要求される。   By reducing the pre-drying of the ink liquid film at the time of transfer, the collapse of the patterned ink film at the time of transfer increases, so the pixel pattern can be reduced accordingly, but there is a concern that the ink spreads over the partition pattern is there. On the other hand, by providing a large amount of preliminary drying, the spread due to crushing can be reduced, but the overlay accuracy with the partition wall pattern is required.

また、隔壁パターンによって準備された開口パターンの相似形だけでなく、画素パターンを小さなドットパターン(複数の円形や多角形)で埋める事もできる。その場合、インキ膜厚やドットの形状に加えて、開口部に対するドットの密度を80%〜95%の間で調節する事ができる。   In addition to the similar shape of the opening pattern prepared by the partition wall pattern, the pixel pattern can be filled with small dot patterns (a plurality of circles and polygons). In this case, in addition to the ink film thickness and the dot shape, the dot density with respect to the opening can be adjusted between 80% and 95%.

このように、形成されたインキ液膜パターンを、隔壁パターンが形成された被印刷基材と平行に固定し、お互いのパターンや基材上に設けられた位置合わせパターンを基に、位置の微調整を行った後、インキ剥離性フィルム基材上のインキ液膜パターンを被印刷基材に転写する。   In this way, the formed ink liquid film pattern is fixed in parallel to the substrate to be printed on which the partition wall pattern is formed, and the fine position of the ink liquid film pattern is determined based on the mutual pattern and the alignment pattern provided on the substrate. After the adjustment, the ink liquid film pattern on the ink peelable film substrate is transferred to the substrate to be printed.

図4に示すように、インキ剥離性フィルム基材10上に形成したインキ液膜パターン50が画素パターン用の着色インキのものであれば、インキ剥離性フィルム基材10を、予め隔壁パターン20が形成された被印刷基材30に平行に配置し、両基材のアライメント(位置合わせ)を行った後に、被印刷基材30上へインキ液膜パターン50を転写する。   As shown in FIG. 4, if the ink liquid film pattern 50 formed on the ink peelable film substrate 10 is a colored ink for a pixel pattern, the ink peelable film substrate 10 is preliminarily attached to the partition pattern 20. The ink liquid film pattern 50 is transferred onto the substrate to be printed 30 after being arranged in parallel to the formed substrate to be printed 30 and aligning the two substrates.

位置合わせの際のインキ剥離性フィルム基材10と、被印刷基材30との間隔は、インキ剥離性フィルム基材10の帯電や吸着による基材との接触を起こさないように、また、アライメントに用いる観察カメラの被写界深度や焦点制御などを考慮し20μmから500μmの距離を保って平行に配置する事が好ましい。   The distance between the ink peelable film substrate 10 and the substrate 30 to be printed at the time of alignment does not cause contact with the substrate due to charging or adsorption of the ink peelable film substrate 10, and the alignment. In consideration of the depth of field and focus control of the observation camera used in the above, it is preferable to arrange them in parallel while maintaining a distance of 20 μm to 500 μm.

隔壁パターンや着色パターンに用いるインキは、顔料成分と樹脂成分を溶媒中に溶解、分散させたインキを用いる事ができる。   As the ink used for the partition pattern and the coloring pattern, an ink in which a pigment component and a resin component are dissolved and dispersed in a solvent can be used.

顔料には、例えば、赤、緑、青の各色で使用できる顔料として次のものが挙げられる。顔料の種類は、カラーインデックス(C.I.)No.で示す。赤色顔料として、97、122、123、149、168、177、180、192、208、209、215などが、緑色顔料として7、36などが、青色顔料として、15、15:1、15:3、15:6、22、60、64などが挙げられる。墨顔料として、カーボンブラック、チタンブラックなどが挙げられる。また、これら赤、緑及び青顔料の色調整及びインキの流動性を改善するために、次に挙げる顔料を必要量添加する事ができる。   Examples of the pigment include the following pigments that can be used in red, green, and blue colors. The type of pigment is a color index (CI) No. It shows with. 97, 122, 123, 149, 168, 177, 180, 192, 208, 209, 215, etc. as red pigments, 7, 36, etc. as green pigments, 15, 15: 1, 15: 3 as blue pigments. 15: 6, 22, 60, 64, and the like. Examples of black pigments include carbon black and titanium black. Further, in order to improve the color adjustment of these red, green and blue pigments and the fluidity of the ink, the following pigments can be added in necessary amounts.

赤色、緑色、青色以外にも、例えば、黄顔料として、17、83、109、110、128などが、紫顔料として、19、23などが、白顔料として、18、21、27、28などが、橙顔料として、38、43などが挙げられる。顔料は、単体以外に、顔料を予め分散剤、有機溶剤に分散させた顔料分散体であっても良い。   Besides red, green, and blue, for example, yellow pigments such as 17, 83, 109, 110, and 128, purple pigments such as 19, 23, and white pigments such as 18, 21, 27, and 28, etc. Examples of the orange pigment include 38 and 43. In addition to the simple substance, the pigment may be a pigment dispersion in which the pigment is previously dispersed in a dispersant or an organic solvent.

また、隔壁パターンに用いられる黒色顔料としては、カーボンブラックやチタンブラックが単独または混合して用いられる。   Moreover, as a black pigment used for a partition pattern, carbon black and titanium black are used individually or in mixture.

インキの樹脂成分には、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂からなる群から選ばれる1つ以上のものが使用される。   As the resin component of the ink, one or more selected from the group consisting of polyester resins, acrylic resins, epoxy resins, melamine resins, and benzoguanamine resins are used.

さらに溶剤には、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤及び炭化水素系溶剤などが使用される。エステル系溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エトキシエチルプロピオネート、アルコール系溶剤として、1-ブタノール、3メトキシー3メチル-1ブタノール、1-ヘキサノール、1,3ブタンジオール、1-ペンタノール、2-メチル1-ブタノール、4-メチル-2-ペンタノール、エーテル系溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、炭化水素系溶剤として、ソルベッソ100、ソルベッソ150(製品名 エクソン化学社製)などが挙げられる。   Further, ester solvents, alcohol solvents, ether solvents, hydrocarbon solvents, and the like are used as the solvent. As ester solvents, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethoxyethyl propionate, and alcohol solvents, 1-butanol, 3 methoxy-3-methyl-1-butanol, 1-hexanol, 1,3 butanediol, 1-pentanol, 2 -Methyl 1-butanol, 4-methyl-2-pentanol, ether solvents such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol tertiary butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol butyl ether, ethylene glycol ethyl As ether, ethylene glycol methyl ether, diethylene glycol butyl ether, diethylene glycol ethyl ether, hydrocarbon solvents Solvesso 100, Solvesso 150 (trade name, manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) and the like.

隔壁パターンに撥インキ性を付与する有機化合物には、上記隔壁パターン用インキに含まれる樹脂と親和性の少ないケイ素原子または/およびフッ素原子を有するもの、例えば、シロキサン基やフッ素原子が含まれるシランカップリング剤を用いることが好ましい。   Organic compounds that impart ink repellency to the partition pattern include those having silicon atoms and / or fluorine atoms that have a low affinity for the resin contained in the partition pattern ink, such as silanes containing siloxane groups or fluorine atoms. It is preferable to use a coupling agent.

第1の撥インキ性付与に好ましく用いることのできる化合物としては、例えば、長鎖フルオロアルキルシラン、加水分解性基含有シロキサン、フルオロアルキル基含有オリゴマーなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the compound that can be preferably used for imparting the first ink repellency include, but are not limited to, long-chain fluoroalkylsilanes, hydrolyzable group-containing siloxanes, fluoroalkyl group-containing oligomers, and the like. Absent.

隔壁パターンに撥インキ性を付与する方法としては、隔壁パターンの形成に用いるインキ成分中に、上記シランカップリング剤を添加しておく事ができる。   As a method for imparting ink repellency to the partition wall pattern, the silane coupling agent can be added to the ink component used for forming the partition wall pattern.

撥インキ性を有する隔壁パターンを形成するために選択するシランカップリング剤は用いるインキによって異なるが、メチルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシランなどのアルキルシランカップリング剤が好ましい。   The silane coupling agent selected for forming the partition pattern having ink repellency varies depending on the ink used, but such as methyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, etc. Alkylsilane coupling agents are preferred.

本発明の精密パターンの印刷方法は、ガラスやプラスチック板などへの印刷に適用できるが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートなどのフィルム、シートを用いる事もできる。印刷に適用するインキの乾燥や硬化条件に合わせて選定すればよく、耐熱性のものとしてはポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミドなどが好適である。   The precision pattern printing method of the present invention can be applied to printing on glass or plastic plates. For example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone, cycloolefin polymer, polyimide, nylon Films and sheets of aramid, polycarbonate, polymethyl methacrylate, etc. can also be used. What is necessary is just to select according to the drying and hardening conditions of the ink applied to printing, and polyethylene naphthalate, polyether sulfone, cycloolefin polymer, a polyimide, etc. are suitable as a heat resistant thing.

また、無機フィラーを樹脂に添加して耐熱性を向上させた材料からなる基材でもよい。フィルムおよびシートは、延伸フィルムでもよく、未延伸フィルムでもよく、また、可撓性基材には必要に応じてガスバリア層や平滑化層、インキ受像層が印刷面または他の面に積層されていても良い。   Moreover, the base material which consists of material which added the inorganic filler to resin and improved heat resistance may be sufficient. The film and sheet may be a stretched film or an unstretched film, and the flexible substrate is laminated with a gas barrier layer, a smoothing layer, or an ink image-receiving layer on the printing surface or other surface as necessary. May be.

以下、本発明を更に詳しく説明するため以下に実施例を挙げるが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

実施に作製したCFは、300mm□のガラス基板上に作製し、基板中央部150mm□部に、BM幅20μmによって仕切られた開口部80μm×300μmの開口部を連続して有するパターンとした。   The CF produced in practice was produced on a 300 mm □ glass substrate, and had a pattern in which an opening portion of 80 μm × 300 μm openings continuously partitioned by a BM width of 20 μm was formed in the central portion of the substrate at 150 mm □.

(インキ剥離性フィルム基材)
インキ剥離性フィルム基材としては、基材厚約120μmのシリコーン系離形ポリエステルフィルム:K1504(東洋紡績社製)を300mm幅、500mのロール状で用意した。
(Ink peelable film substrate)
As an ink peelable film substrate, a silicone-based release polyester film: K1504 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a substrate thickness of about 120 μm was prepared in a roll shape of 300 mm width and 500 m.

(撥インキ性を有する隔壁パターン上面部用インキの調製)
ポリイミド前駆体(東レ社製「セミコファインSP−510」)10重量部、カーボンブラック7.5重量部、溶剤(N-メチルピロリドン)130重量部、分散剤(銅フタロシアニン誘導体)5重量部、光開始剤5重量部、撥インキ剤(ポリアルキルシロキサン)0.5重量部をビーズミル分散機で冷却しながら3時間分散し隔壁パターン用インキを調製した。
(Preparation of the ink for the top surface of the partition pattern having ink repellency)
10 parts by weight of polyimide precursor (“Semicofine SP-510” manufactured by Toray Industries, Inc.), 7.5 parts by weight of carbon black, 130 parts by weight of solvent (N-methylpyrrolidone), 5 parts by weight of dispersant (copper phthalocyanine derivative), light A partition wall pattern ink was prepared by dispersing 5 parts by weight of an initiator and 0.5 parts by weight of an ink repellent (polyalkylsiloxane) for 3 hours while cooling with a bead mill disperser.

(隔壁パターン下部用インキの調製)
ポリイミド前駆体(東レ社製「セミコファインSP−510」)10重量部、カーボンブラック7.5重量部、溶剤(N-メチルピロリドン)130重量部、分散剤(銅フタロシアニン誘導体)5重量部、光開始剤5重量部をビーズミル分散機で冷却しながら3時間分散し隔壁パターン用インキを調製した。
(Preparation of partition wall pattern ink)
10 parts by weight of polyimide precursor (“Semicofine SP-510” manufactured by Toray Industries, Inc.), 7.5 parts by weight of carbon black, 130 parts by weight of solvent (N-methylpyrrolidone), 5 parts by weight of dispersant (copper phthalocyanine derivative), light A partition wall pattern ink was prepared by dispersing 5 parts by weight of an initiator for 3 hours while cooling with a bead mill disperser.

(隔壁パターン基材の作製)
インキ剥離性フィルム基材上に、撥インキ性を有する隔壁パターン上面部用インキを、ダイコートを用いて、200mm□に塗工し、120℃で60秒間予備乾燥させた後、隔壁パターン下部用インキを塗工し、120℃で120秒間予備乾燥させる。
(Preparation of partition pattern substrate)
On the ink-peeling film substrate, the ink for the partition pattern upper surface part having ink repellency is applied to a 200 mm square using a die coat, preliminarily dried at 120 ° C. for 60 seconds, and then the partition pattern lower part ink. And pre-dried at 120 ° C. for 120 seconds.

次に、前記インキ剥離性フィルム基材に、隔壁パターンが凹部となったインキ除去版を押し当てた後、剥離することで、インキ剥離性フィルム基材上に隔壁パターンを形成する。   Next, after pressing the ink removing plate in which the partition wall pattern becomes a concave portion against the ink stripping film substrate, the partition pattern is formed on the ink stripping film substrate by peeling.

インキ剥離性フィルム基材上の隔壁パターンを、ガラス基材へ転写した後、オーブンで230℃、1時間のポストベークを行い、隔壁パターンを形成した。隔壁の膜厚は1.0μmであった。   After the partition pattern on the ink peelable film substrate was transferred to the glass substrate, post-baking was performed at 230 ° C. for 1 hour in an oven to form a partition pattern. The partition wall thickness was 1.0 μm.

(着色インキの調製)
まず、メタクリル酸20重量部、メチルメタクリレート10重量部、ブチルメタクリレート55重量部、ヒドロキシエチルメタクリレート15重量部を乳酸ブチル100重量部に溶解し、窒素雰囲気下でアゾビスイソブチルニトリル0.75重量部を加え70℃にて5時間の反応によりアクリル共重合樹脂を得た。得られたアクリル共重合樹脂を、樹脂濃度が20%になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートにて希釈し、アクリル樹脂ワニスとした。
(Preparation of colored ink)
First, 20 parts by weight of methacrylic acid, 10 parts by weight of methyl methacrylate, 55 parts by weight of butyl methacrylate and 15 parts by weight of hydroxyethyl methacrylate are dissolved in 100 parts by weight of butyl lactate, and 0.75 parts by weight of azobisisobutylnitrile is added in a nitrogen atmosphere. In addition, an acrylic copolymer resin was obtained by a reaction at 70 ° C. for 5 hours. The obtained acrylic copolymer resin was diluted with propylene glycol monomethyl ether acetate so that the resin concentration was 20% to obtain an acrylic resin varnish.

着色分散体として、C.I.Pigment Red 254 (チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガーフォーレッド B−CF」)18重量部、C.I.Pigment Red 177 (チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「クロモフタールレッド A2B」)2重量部、さらに上記アクリル樹脂ワニス(固形分20%)108重量部を十分混合したものを用いた。   As a colored dispersion, C.I. I. Pigment Red 254 (“Ilgar Forred B-CF” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 18 parts by weight, C.I. I. 2 parts by weight of Pigment Red 177 (“Chromophthal Red A2B” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and 108 parts by weight of the acrylic resin varnish (solid content: 20%) were sufficiently mixed.

上記分散体100重量部に、メチル化メチロールメラミン MW−30(三洋化成社製) 20重量部、レベリング剤としてメガファックF−483SF(DIC社製)1重量部、希釈剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル85重量部を混合し着色インキとした。   100 parts by weight of the above dispersion, 20 parts by weight of methylated methylol melamine MW-30 (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.), 1 part by weight of Mega-Fac F-483SF (manufactured by DIC) as a leveling agent, and propylene glycol monomethyl ether 85 as a diluent Weight parts were mixed to obtain a colored ink.

まず、上記インキ剥離性フィルム基材をロールから搬送し、吸着テーブル上に固定した後、ダイコートを用いて、200mm□に着色インキを塗工した。   First, after the said ink peelable film base material was conveyed from the roll and fixed on the adsorption table, coloring ink was applied to 200 mm □ using the die coat.

着色インキを2分間室温乾燥させた後、雰囲気70℃のオーブン内に10mm/sの搬送速度で2分間乾燥した。   The colored ink was dried at room temperature for 2 minutes and then dried in an oven at 70 ° C. for 2 minutes at a conveyance speed of 10 mm / s.

つぎに、着色パターンを凹部とするインキ除去版と、インキ剥離性フィルム基材のインキ膜面を平行に向かい合わせた後、ゴムローラーにて加圧した。   Next, the ink removal plate having a colored pattern as a concave portion and the ink film surface of the ink peelable film substrate face each other in parallel, and then pressed with a rubber roller.

インキ除去版は、300mm□のガラス板に版深10μmのパターンを設けたもので、隔壁パターンに設けられた開口部よりも小さい面積とするために、長辺、短辺ともに5%ずつ短い76μm×285μmの長方形の連続パターンとした。   The ink removing plate is a 300 mm square glass plate provided with a pattern having a plate depth of 10 μm. In order to make the area smaller than the opening provided in the partition wall pattern, both the long side and the short side are 76 μm shorter by 5%. A rectangular continuous pattern of × 285 μm was used.

つぎにガラス製のインキ除去版から、インキ剥離性フィルム基材を剥離速度30mm/sの均一速度で剥離させ、インキ剥離フィルム基材上に、画素パターンを得た。   Next, the ink peelable film base material was peeled from the glass ink removal plate at a uniform speed of 30 mm / s, and a pixel pattern was obtained on the ink peelable film base material.

さらに、上記隔壁パターンを設けたガラス基材上に、画像パターンが形成されたインキ剥離性フィルム基材を、同じように平行に向かい合わせ、画素パターンの外に設けられたアライメントマークを基準に位置合わせを行った後、ゴムローラーによる加圧を行い、ガラス基材側に画素パターンを転写した。   In addition, the ink peelable film substrate on which the image pattern is formed is faced in parallel in the same manner on the glass substrate on which the partition wall pattern is provided, and is positioned with reference to the alignment mark provided outside the pixel pattern. After the alignment, pressurization with a rubber roller was performed to transfer the pixel pattern to the glass substrate side.

得られたガラス基材を210℃で20分硬化させた後、顕微鏡観察を行い、画素パターン部分に光漏れや隣接する開口部への染み出しが無い事を確認した。   After the obtained glass substrate was cured at 210 ° C. for 20 minutes, it was observed with a microscope, and it was confirmed that the pixel pattern portion did not leak light or ooze out to the adjacent opening.

本発明の印刷方法は、ガラス基材や、プラスチックフィルム等の可撓性基材に、高精細なパターニングを安定して行う事ができ、カラーフィルタ(CF)を主とするディスプレイ関連部材やその他エレクトロニクス部材の製造に利用できる。   The printing method of the present invention can stably perform high-definition patterning on a flexible substrate such as a glass substrate or a plastic film, and is a display-related member mainly composed of a color filter (CF). It can be used for the manufacture of electronics components.

10・・・インキ剥離性フィルム基材
11・・・フィルム基材
12・・・インキ剥離性のシリコーン層
20・・・隔壁パターン
21・・・隔壁パターン上面部となるインキ液膜
22・・・隔壁パターン下部となるインキ液膜
23・・・隔壁パターンインキ液膜
24・・・隔壁パターン上面部
25・・・隔壁パターン下部
30・・・被印刷基材
40・・・インキ除去版
50・・・インキ液膜パターン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Ink peelable film base material 11 ... Film base material 12 ... Ink peelable silicone layer 20 ... Partition pattern 21 ... Ink liquid film used as upper surface part of partition pattern 22 ... Ink liquid film below the partition pattern 23... Partition pattern ink liquid film 24... Partition pattern upper surface portion 25... Partition wall pattern lower portion 30... Printed substrate 40.・ Ink liquid film pattern

Claims (11)

被印刷基材上に予め設けられた隔壁パターンによって仕切られた領域に、インキを選択的に配置するために、インキ剥離性フィルム基材上に該隔壁パターンによって仕切られた領域よりも小さな面積のインキパターンを形成し、該被印刷基材上の該隔壁パターンに対して位置合わせを行った後、加圧転写することで該隔壁パターンによって仕切られた領域内に均一にインキを押し広げて設ける精密パターンの印刷方法において、
該隔壁パターンが撥インキ性を有することを特徴とする精密パターンの印刷方法。
In order to selectively dispose ink in a region partitioned by a partition pattern provided in advance on a substrate to be printed, an area smaller than the region partitioned by the partition pattern on the ink peelable film substrate After forming an ink pattern and aligning the partition pattern on the substrate to be printed, the ink is uniformly spread and provided in an area partitioned by the partition pattern by pressure transfer. In the precision pattern printing method,
A method for printing a precision pattern, wherein the partition pattern has ink repellency.
前記隔壁パターンに撥インキ性を付与するための材料として、ケイ素原子を有するものを使用することを特徴とする請求項1に記載の精密パターンの印刷方法。   2. The precision pattern printing method according to claim 1, wherein a material having silicon atoms is used as a material for imparting ink repellency to the partition wall pattern. 前記隔壁パターンに撥インキ性を付与するための材料として、フッ素原子を有するものを使用することを特徴とする請求項1に記載の精密パターンの印刷方法。   2. The precision pattern printing method according to claim 1, wherein a material having fluorine atoms is used as a material for imparting ink repellency to the partition wall pattern. 前記隔壁パターンが上面部と、上面部以外の下部とを有し、前記隔壁パターン上面部の撥インキ性が前記隔壁パターン下部の撥インキ性より大きいことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の精密パターンの印刷方法。   The partition wall pattern has an upper surface portion and a lower portion other than the upper surface portion, and the ink repellency of the partition wall pattern upper surface portion is larger than the ink repellency of the partition wall pattern lower portion. A method of printing a precision pattern according to crab. 前記隔壁パターンによって仕切られた領域よりも小さな面積のインキパターンを、インキ剥離性フィルム基材上に得る方法が、該インキ剥離性フィルム基材上にインキ液膜を塗工して設け、該インキ液膜を予備乾燥した後、必要な画像パターンを凹部とした凸版を該インキ液膜に押し当て、余分なパターンを版凸部に転移させる方法であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の精密パターンの印刷方法。   A method of obtaining an ink pattern having an area smaller than the area partitioned by the partition pattern on the ink peelable film substrate by coating an ink liquid film on the ink peelable film substrate, 5. The method according to claim 1, wherein after the liquid film is pre-dried, a relief plate having a required image pattern as a recess is pressed against the ink liquid film, and an excess pattern is transferred to the plate projection. The printing method of the precision pattern in any one. 前記被印刷基材上に予め設けられた隔壁パターンと、インキ剥離性フィルム基材上のインキパターンの位置合わせが、該被印刷基材とインキ剥離性フィルム基材を、20μmから500μmの距離を保って平行に配置し、両基材の位置合わせを光学機器を用いて観察した画像を基に行われることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の精密パターンの印刷方法。   The alignment of the partition pattern provided in advance on the substrate to be printed and the ink pattern on the ink peelable film substrate is such that the substrate to be printed and the ink peelable film substrate have a distance of 20 μm to 500 μm. The method for printing a precision pattern according to any one of claims 1 to 5, wherein the printing method is carried out based on an image which is arranged in parallel while being maintained, and the alignment of both substrates is observed using an optical device. 前記隔壁パターンによって仕切られた領域よりも小さな面積のインキパターンとして、隔壁パターンによって仕切られた領域の形状を少なくとも一方向に5%から10%縮小したインキパターンを用いることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の精密パターンの印刷方法。   2. The ink pattern obtained by reducing the shape of the area partitioned by the partition wall pattern by 5% to 10% in at least one direction is used as the ink pattern having a smaller area than the area partitioned by the partition wall pattern. The printing method of the precision pattern in any one of -6. 前記隔壁パターンによって仕切られた領域よりも小さな面積のインキパターンとして、一つの領域に対して複数からなるドットパターンを用い、ドットパターンの膜厚、面積および個数からなるパターン密度により、転写するインキ量を調節することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の精密パターンの印刷方法。   As the ink pattern having a smaller area than the area partitioned by the partition pattern, a plurality of dot patterns are used for one area, and the amount of ink transferred by the pattern density consisting of the thickness, area and number of dot patterns. The method for printing a precision pattern according to any one of claims 1 to 7, characterized in that the adjustment is performed. 前記インキ剥離性フィルム基材が、透明なフィルム基材上にシリコーン樹脂層を積層してなるものであることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の精密パターンの印刷方法。   The method for printing a precision pattern according to any one of claims 1 to 8, wherein the ink-peelable film substrate is formed by laminating a silicone resin layer on a transparent film substrate. 前記予備乾燥したインキ液膜を除去するための凸版として、ガラス版もしくは樹脂版を使用することを特徴とする請求項5に記載の精密パターンの印刷方法。   6. The precision pattern printing method according to claim 5, wherein a glass plate or a resin plate is used as a relief plate for removing the pre-dried ink liquid film. 前記被印刷基材上に予め前記隔壁パターンを設ける方法が、前記インキ剥離性フィルム基材上に該隔壁パターン用のインキ液膜を塗工して設け、該インキ液膜を予備乾燥した後、必要な画像パターンを凹部とした凸版を該インキ液膜に押し当て、余分なパターンを版凸部に転移させた後、該インキ剥離性フィルム基材上に形成された該隔壁パターンをなす該インキ液膜を、該被印刷基材へ転写する方法であることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の精密パターンの印刷方法。   The method of providing the partition pattern in advance on the substrate to be printed is provided by applying an ink liquid film for the partition pattern on the ink peelable film substrate, and preliminarily drying the ink liquid film. The ink which forms the partition pattern formed on the ink-peeling film substrate after pressing the relief plate with the required image pattern as a recess against the ink liquid film and transferring the excess pattern to the relief plate The method for printing a precision pattern according to claim 1, wherein the liquid film is transferred to the substrate to be printed.
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62106407A (en) * 1985-11-01 1987-05-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production of color filter for liquid crystal display
JPS62109002A (en) * 1985-11-07 1987-05-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production of color filter for liquid crystal display
JP2003243163A (en) * 2002-02-14 2003-08-29 Sharp Corp Organic led display and its manufacturing method
JP2005043677A (en) * 2003-07-22 2005-02-17 Toppan Printing Co Ltd Method and apparatus for manufacturing color filter
JP2007220423A (en) * 2006-02-15 2007-08-30 Toppan Printing Co Ltd Organic electroluminescent element and its manufacturing method
JP2008207526A (en) * 2007-02-28 2008-09-11 Toppan Printing Co Ltd Printing method and printing apparatus

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62106407A (en) * 1985-11-01 1987-05-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production of color filter for liquid crystal display
JPS62109002A (en) * 1985-11-07 1987-05-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production of color filter for liquid crystal display
JP2003243163A (en) * 2002-02-14 2003-08-29 Sharp Corp Organic led display and its manufacturing method
JP2005043677A (en) * 2003-07-22 2005-02-17 Toppan Printing Co Ltd Method and apparatus for manufacturing color filter
JP2007220423A (en) * 2006-02-15 2007-08-30 Toppan Printing Co Ltd Organic electroluminescent element and its manufacturing method
JP2008207526A (en) * 2007-02-28 2008-09-11 Toppan Printing Co Ltd Printing method and printing apparatus

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