JP2013073212A - Precise pattern printing method - Google Patents

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英幸 山田
Kazuma Taniwaki
和磨 谷脇
Tomohiro Imamura
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printing method which continuously forms a high precision pattern on a glass substrate or a flexible substrate like a plastic film and is capable of securing the position precision of different ink patterns relative to each other.SOLUTION: An ink liquid film 205 is applied on an ink release layer 203 of an ink releasable film substrate 201 and is pre-dried. A removal plate 211 on which a projecting pattern being a negative pattern of an image pattern is formed is pressed against the ink liquid film 205 to remove a part of the ink liquid film 205 corresponding to the projecting pattern, whereby the image pattern is formed on the ink releasable film substrate 201. The ink releasable film substrate 201 and a substrate 202 to be printed to are aligned to transfer the image pattern on the ink releasable film substrate 201 to the substrate 202 to be printed to. The substrate 202 to be printed to is preliminarily provided with base patterns 204 which are to be a base of the image pattern. The ink liquid film 205 is transferred to selected base patterns 204 of the substrate 202 to be printed to.

Description

本発明は、ガラス基材やプラスチックフィルム、特に生産効率の良い長尺状のプラスチックフィルムなどの可撓性基材上へ、位置合わせされた高精細パターンを連続的に形成する印刷方法に関するものである。   The present invention relates to a printing method for continuously forming an aligned high-definition pattern on a flexible substrate such as a glass substrate or a plastic film, in particular, a long plastic film with high production efficiency. is there.

近年、フラットパネルディスプレイは、省エネルギー、省スペース、可搬性などの点から据え置き型、壁掛け型、携帯型の様々な用途の画像表示装置として利用されている。   In recent years, flat panel displays have been used as image display devices for various uses such as stationary, wall-mounted, and portable types in terms of energy saving, space saving, and portability.

特に携帯型においては、携帯時に落下させても破損しないような耐衝撃性や、軽量化、薄型化などの点からプラスチック化への要求がある。また、壁掛け型においても円柱状の柱へのディスプレイの設置という点から可撓性のディスプレイへの要求がある。また、表示方式についても、従来用いられてきた液晶ディスプレイ方式だけでなく、EPD(Electrophoretic Display)などの電子ペーパー方式を用いた読書用端末も広く普及しはじめており、端末の薄型化が競われている。   In particular, in the portable type, there is a demand for plasticization from the viewpoints of impact resistance that does not break even when dropped while carrying, light weight, and thinning. In addition, the wall-hanging type also has a demand for a flexible display from the viewpoint of installing the display on a columnar column. As for display methods, reading terminals using electronic paper methods such as EPD (Electrophoretic Display) as well as liquid crystal display methods that have been used in the past have begun to become widespread, and competition for thinner terminals has been made. Yes.

しかし、現在流通している電子ペーパーを用いたデバイスは、いまだモノクロ表示を行うものが一般的であり、今後、教育やビジネス分野での使用、広告表示などの使用に耐えるカラー化が望まれている。   However, devices that use electronic paper that are currently distributed generally still perform monochrome display, and in the future, colorization that can withstand use in education and business fields, advertisement display, etc. is desired. Yes.

電子ペーパーを用いたデバイスとして、広く用いられているEPD方式のデバイスにカラー表示をさせる場合、使用されている粉体そのものをカラー化する方式や、液晶ディスプレイと同様にカラーフィルター(CF)を使用する方式が検討されている。   When using a widely used EPD device as a device using electronic paper, a color filter (CF) is used in the same way as a liquid crystal display, or a method for colorizing the powder used. The method to do is examined.

EPD方式に使用されている粉体をカラー化した場合、それら粉体もしくは粉体を有するマイクロカプセル自体を画素単位で塗りわけを行うことは非常に困難が伴う為、一部の研究機関において検討されているのみである。   When powders used in the EPD method are colored, it is very difficult to separate the powders or the microcapsules containing the powders pixel by pixel. It has only been done.

一方、CFを用いる方式の場合、これまでのモノクロ表示のデバイスにCFを貼りあわせるだけでカラー化を行うことができることから、現実的な方法として実用化が期待されている。   On the other hand, in the case of a method using CF, since colorization can be performed by simply attaching CF to a conventional monochrome display device, practical use is expected as a practical method.

液晶ディスプレイに用いられてきたCFは、その構造上バックライトからの光を透過させて発色するため、CFに用いられる色も透過を想定した色を一定のパターンで塗りわけしたものを使用していた。また、液晶ディスプレイ用のCFでは、光漏れを防ぎ黒表示の際のコントラストを向上させるため、色パターンと色パターンの間にブラックマトリクス(BM)と呼ばれる遮光インキによる仕切りパターンが設けられている。通常、このBMパターン上に画素パターンをオーバーラップさせて画素パターンを設ける為、画素自体の形状や画素間の位置精度はBMパターンによって決定されている事が多い。   The CF used in the liquid crystal display is colored by transmitting light from the backlight because of its structure. Therefore, the color used for the CF is the same as the color that is supposed to be transmitted in a certain pattern. It was. Further, in a CF for a liquid crystal display, in order to prevent light leakage and improve the contrast at the time of black display, a partition pattern by a light shielding ink called a black matrix (BM) is provided between the color patterns. Usually, since the pixel pattern is provided by overlapping the BM pattern, the shape of the pixel itself and the positional accuracy between the pixels are often determined by the BM pattern.

対して、反射型のEPD方式で用いるCFでは、パネル全体が暗くなってしまうことから、BMパターンを用いることができない為、画素パターン自体の形状や、画素パターン同士の位置精度を確保することが非常に困難となる。   On the other hand, in the CF used in the reflective EPD system, since the entire panel becomes dark, the BM pattern cannot be used, so that the shape of the pixel pattern itself and the positional accuracy of the pixel patterns can be ensured. It becomes very difficult.

さらに、従来のフラットパネルディスプレイに用いられてきたCFは、何れもガラス基板上に製造された物であり、プラスチック基板上に製造することは難しかった。その理由は、これまでCFの作製には高温での加熱工程を用いたフォトリソグラフィー工程が含まれていた為である。   Further, all CFs used in conventional flat panel displays are manufactured on a glass substrate, and it is difficult to manufacture on a plastic substrate. The reason is that until now, the fabrication of CF has included a photolithography process using a heating process at a high temperature.

例えば、液晶ディスプレイ用のCFの製造にあたっては、感光性樹脂のパターニングにあたって、現像、洗浄、ベーキングなどの工程があり、汎用のフィルム基材を用いた場合、熱や水洗によるフィルム基材の損傷や伸縮が生じてしまう。さらにフォトリソグラフィー工程は、製膜・露光・現像・剥離をインク種類毎に行う為、製造設備も大掛かりとなり製造のコストが高い。   For example, in the production of CF for a liquid crystal display, there are processes such as development, washing, baking, etc. in patterning a photosensitive resin. When a general-purpose film substrate is used, Expansion and contraction occurs. Furthermore, since the photolithography process performs film formation, exposure, development, and peeling for each ink type, the manufacturing equipment becomes large and the manufacturing cost is high.

以上のことから、電子ペーパーを用いたデバイスのカラー化では、安価なフィルム基材上へ精密なパターニングをおこなう方法が求められていた。   From the above, in colorization of devices using electronic paper, a method of performing precise patterning on an inexpensive film substrate has been required.

プラスチック基材やフィルム基材上へのパターニング方法として、インクジェット方式が検討されている。インクジェット方式は、所定の部分にのみ所定の材料をパターニングできることから材料の利用効率が高く、マスクや版も使用しないことから最も簡便でオンデマンド性に優れたパターニング方法として期待されている。   As a patterning method on a plastic substrate or a film substrate, an ink jet method has been studied. The ink-jet method is expected to be the most simple and excellent on-demand patterning method because a material can be patterned only in a predetermined part, so that the use efficiency of the material is high and a mask and a plate are not used.

しかしながら、現状のインクジェットのインキ液滴の直径は数十μm程度あり、通常では着弾精度も数十μm程度を考慮する必要がある。よって、100μm以下の大きさのパターンや、モバイル用ディスプレイとして要求される解像度の再現が困難である場合が多い。また、インクジェット方式を用いて精密なパターニングをするためには、あらかじめ基板上にインクを受容するための処理が必要とされる。ひとつは、インクの流動や混色を防ぐための隔壁と呼ばれるパターンを設ける処理方法が用いられる。しかし、この方式の場合、フォトリソグラフィー工程により隔壁パターンや選択的にインキが定着するような特殊な表面処理によるパターンを形成しなければならない。   However, the diameter of ink droplets of the current ink jet is about several tens of μm, and it is usually necessary to consider the landing accuracy of about several tens of μm. Therefore, it is often difficult to reproduce a pattern having a size of 100 μm or less and resolution required for a mobile display. In addition, in order to perform precise patterning using the ink jet method, a process for receiving ink on the substrate is required in advance. One is a processing method of providing a pattern called a partition for preventing ink flow and color mixing. However, in the case of this method, it is necessary to form a partition pattern or a pattern by a special surface treatment that selectively fixes ink by a photolithography process.

一方、着弾したインキの拡散を制限する為に、受像層と呼ばれる表面コーティングを行う事も検討されている。この場合、隔壁パターンや選択的にインキを定着させる基材側の処理を行う必要がないが、例えばインキ滴の形状を画素に応じて四角状にするといった事が困難となる。   On the other hand, in order to limit the diffusion of the landed ink, a surface coating called an image receiving layer has been studied. In this case, it is not necessary to carry out the partition wall pattern or the substrate side treatment for selectively fixing the ink, but it becomes difficult to make the shape of the ink droplet, for example, square according to the pixel.

インクジェット方式以外の方法としては、電子部品における配線や抵抗体、誘電体の印刷などで実用化されているスクリーン印刷方式が挙げられる。しかしながら、スクリーン印刷方式孔版印刷であることからインキはペースト状の高粘度のものに限られ、また、スクリーンメッシュの精細度から数十μm程度の厚膜の印刷法としては採用できても、やはりCFを作製する場合100μm以下のパターンを形成する方法としては、採用できない。   As a method other than the ink jet method, there is a screen printing method that has been put to practical use in printing of wirings, resistors, and dielectrics in electronic components. However, because of screen printing stencil printing, the ink is limited to paste-like high-viscosity, and even if it can be adopted as a printing method for thick films of about several tens of μm from the fineness of the screen mesh, When producing CF, it cannot employ | adopt as a method of forming a pattern of 100 micrometers or less.

インクジェット法およびスクリーン印刷法以外の方法として、フィルム基材へ乾燥インキ膜をあらかじめ設けたいわゆるドライフィルムを、熱圧によりパターン除去した後、残ったパターンを目的の基材に転写する転写方法が考案された。(特許文献1参照)   As a method other than the ink jet method and the screen printing method, a so-called dry film in which a dry ink film is previously provided on a film substrate is removed by patterning by hot pressure, and then a transfer method for transferring the remaining pattern to the target substrate is devised. It was done. (See Patent Document 1)

しかし、この方式ではフィルム基材からインキ層を転写する際に熱圧を用いるために、フィルム基材の膨張・収縮や版の膨張、インキ層の溶融・軟化を伴うことから、数十μm程度の微小なパターンの再現性を得る事が困難である。また、熱圧を均一に与える為の装置も複雑になり、大画面への対応も困難となってしまう。   However, this method uses thermal pressure when transferring the ink layer from the film base material, and therefore involves expansion / contraction of the film base material, expansion of the plate, and melting / softening of the ink layer. It is difficult to obtain the reproducibility of a minute pattern. In addition, the apparatus for uniformly applying the heat pressure becomes complicated, and it becomes difficult to cope with a large screen.

そこで近年、版胴に巻き付けたブランケット上にインキを塗工・予備乾燥してインキ膜を形成し、その後、非画像部パターンが形成された凸版をインキ膜に押圧することによりブランケット上に画像パターンを形成し、次にブランケット上の画像パターンを被印刷基材上に転写し、被印刷基材上に画像パターンを形成する印刷方法が試みられている。(特許文献2参照)   Therefore, in recent years, ink is applied on a blanket wound around a plate cylinder and pre-dried to form an ink film, and then an image pattern on the blanket is pressed by pressing the relief plate on which the non-image area pattern is formed. Next, a printing method in which an image pattern on a blanket is transferred onto a substrate to be printed and an image pattern is formed on the substrate to be printed has been attempted. (See Patent Document 2)

この、いわゆる反転印刷と呼ばれる印刷方法は、インキ膜厚を調整することが容易であり、インキ剥離性のブランケット上に画像パターンを形成することから、ガラス基材だけでなくフィルム基材などの被印刷基材へのインキ転写性が良好である。また、インキ膜をブランケット上で予備乾燥することで、インキの流動性を抑える事が可能となり、スクリーン印刷や凸版印刷、凹版印刷などの既存の印刷方法に比べて薄膜での微細パターン形成が可能である。   This printing method called reverse printing is easy to adjust the ink film thickness, and forms an image pattern on an ink-peeling blanket. Good ink transfer to printing substrate. In addition, by pre-drying the ink film on the blanket, it is possible to suppress the fluidity of the ink, and it is possible to form a fine pattern with a thin film compared to existing printing methods such as screen printing, letterpress printing, and intaglio printing. It is.

ところが、特許文献2の方法は、シリコーンゴムまたはシリコーン樹脂からなるブランケット上でインキの予備乾燥を行う時に、ブランケット表面のインキ濡れ性や転写性が不安定になるという問題点を有していた。   However, the method of Patent Document 2 has a problem that ink wettability and transferability of the blanket surface become unstable when ink is pre-dried on a blanket made of silicone rubber or silicone resin.

これはブランケットが版胴に固定されたまま乾燥を行うために均一な予備乾燥が困難であり、塗工されたインキ中の溶剤がブランケット内に吸収され膨潤していき、部分的な転写性や精度のバラツキができてしまうことが原因である。また印刷する毎に、ブランケットのクリーニングや乾燥による溶剤膨潤量の調整を行う必要があるため、連続加工に不向きである。さらに本印刷方式では、ブランケットが版胴に固定されているため、あるパターンが形成された基材上に転写する場合に、ブランケット上のパターンと基材上のマークとの位置合わせが困難であった。   This is because drying is performed while the blanket is fixed to the plate cylinder, so that uniform pre-drying is difficult, and the solvent in the coated ink is absorbed into the blanket and swells. This is due to variations in accuracy. Moreover, since it is necessary to adjust the amount of solvent swelling by cleaning the blanket or drying each time it is printed, it is not suitable for continuous processing. Furthermore, in this printing method, since the blanket is fixed to the plate cylinder, it is difficult to align the pattern on the blanket and the mark on the substrate when transferring the pattern onto the substrate on which a pattern is formed. It was.

そこで、我々はブランケットとして透明なインキ剥離性フィルム基材をロール状に巻き取っておき、必要な長さを間欠に繰り出しながら、インキ塗工や乾燥、転写を行う印刷方法を開発した。(特許文献3参照)   Therefore, we have developed a printing method in which a transparent ink peelable film substrate is rolled up as a blanket, and ink coating, drying, and transfer are performed while intermittently feeding out the required length. (See Patent Document 3)

この新規な印刷方式では、被印刷基材上の既存パターンに対する印刷の位置合わせは、インキ剥離性フィルム基材にパターニングされたパターンと被印刷基材上のパターンを同時に確認しながら位置あわせが可能であり、精度良い印刷を行うことができる。また、印刷毎にインキ剥離性フィルム基材の一定量を送りだして印刷に用いる事で、印刷工程が終わる毎のブランケットのクリーニングも必要なく、徐々にインキ中の溶剤がインキ剥離性フィルム基材に吸収されて印刷条件が変化していく事も無いため、常に均一な条件での連続印刷が可能となった。   With this new printing method, printing alignment with the existing pattern on the substrate to be printed can be performed while simultaneously checking the pattern patterned on the ink peelable film substrate and the pattern on the substrate to be printed. Therefore, accurate printing can be performed. In addition, by sending out a certain amount of the ink peelable film base material for each printing, it is not necessary to clean the blanket every time the printing process is completed, and the solvent in the ink gradually becomes the ink peelable film base material. Since the printing conditions do not change due to absorption, continuous printing under uniform conditions is always possible.

しかし、この方式を用いたとしても、被印刷基材として安価な汎用フィルムを用いた場合、主に環境温度や水分の吸収による基材の収縮の為、パターンが100μm以下の微細パターンになると、隣り合う異なるインキパターン同士の位置精度を保つことが困難であった。   However, even if this method is used, when an inexpensive general-purpose film is used as a substrate to be printed, the pattern is a fine pattern of 100 μm or less mainly due to shrinkage of the substrate due to absorption of environmental temperature and moisture. It was difficult to maintain the positional accuracy between adjacent different ink patterns.

特開平9−90117号公報JP-A-9-90117 特開2001−56405号公報JP 2001-56405 A 特開2008−105400号公報JP 2008-105400 A

本発明の目的は、ガラス基材やプラスチックフィルム、特に生産効率の良い長尺状のプラスチックフィルムなどの可撓性基材上へ、連続的に高精細パターンを形成し、異なるインキパターン同士の位置精度が確保できる印刷方法を提供することにある。   The object of the present invention is to continuously form a high-definition pattern on a flexible substrate such as a glass substrate or a plastic film, particularly a long plastic film with a high production efficiency, and position different ink patterns. It is to provide a printing method capable of ensuring accuracy.

本発明者らは、鋭意研究を行なった結果、以下の構成で示される発明により、上記課題が解決できることを見出した。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by the invention shown in the following configuration.

上記目的を達成するために、請求項1記載の発明は、
(a)透明な材料で構成され、厚さ方向の一方の面である片面にインキ剥離層を有するインキ剥離性フィルム基材の前記インキ剥離層上に、インキ液膜を塗工する第1の工程と、
(b)前記インキ液膜を予備乾燥する第2の工程と、
(c)予め定められた画像パターンのネガパターンの凸パターンが形成された除去版を、前記予備乾燥させたインキ液膜に押し当て、前記凸パターンに対応する前記インキ液膜の部分を除去することで前記インキ剥離性フィルム基材に残存する前記インキ液膜により前記画像パターンを形成する前記第3の工程と、
(d)前記インキ剥離性フィルム基材に残存する前記インキ液膜により形成された前記画像パターンと、被印刷基材の表面にあらかじめ設けられたパターンを重ねて観察し、前記インキ剥離性フィルム基材と前記被印刷基材との位置合わせを行う第4の工程と、
(e)前記インキ剥離性フィルム基材に残存する前記インキ液膜により形成された前記画像パターンを、前記被印刷基材表面上へ転写し、前記被印刷基材に前記画像パターンを印刷する第5の工程とを含む精密パターンの印刷方法であって、
前記被印刷基材に予め前記画像パターンの土台となる基礎パターンが設けられ、
前記第5の工程による前記インキ液膜の転写は、前記基礎パターンのうち、選択された前記基礎パターン上に前記画像パターンが転写されることでなされる、
ことを特徴とする。
In order to achieve the above object, the invention according to claim 1
(A) A first liquid film is coated on the ink release layer of the ink peelable film substrate which is made of a transparent material and has an ink release layer on one side which is one side in the thickness direction. Process,
(B) a second step of pre-drying the ink liquid film;
(C) A removal plate on which a negative pattern convex pattern of a predetermined image pattern is formed is pressed against the preliminarily dried ink liquid film, and the ink liquid film portion corresponding to the convex pattern is removed. The third step of forming the image pattern with the ink liquid film remaining on the ink peelable film substrate,
(D) The image pattern formed by the ink liquid film remaining on the ink peelable film substrate and the pattern provided in advance on the surface of the substrate to be printed are superposed and observed, and the ink peelable film base A fourth step of aligning the material and the substrate to be printed;
(E) transferring the image pattern formed by the ink liquid film remaining on the ink peelable film substrate onto the surface of the substrate to be printed, and printing the image pattern on the substrate to be printed; A method of printing a precision pattern including the steps of:
A basic pattern serving as a base of the image pattern is provided in advance on the substrate to be printed,
Transfer of the ink liquid film according to the fifth step is performed by transferring the image pattern onto the selected basic pattern among the basic patterns.
It is characterized by that.

請求項2記載の発明は、請求項1記載の精密パターンの印刷方法において、
前記基礎パターンが、
(a’)厚さ方向の一方の面である片面にインキ剥離層を有する基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材の前記インキ剥離層上に、基礎パターン形成用のインキ液膜を塗工する工程と、
(b’)前記インキ液膜を予備乾燥する工程と、
(c’)前記基礎パターンと凹凸形状が反対に形成されたネガパターンの凸パターンが形成された基礎パターン形成用の除去版を、前記予備乾燥させたインキ液膜に押し当て、前記凸パターンに対応する前記インキ液膜の部分を除去することで前記基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材に前記インキ液膜のパターンを形成する工程と、
(d’)前記インキ液膜のパターンを、前記被印刷基材表面上へ転写し、前記被印刷基材に前記基礎パターンを転写する工程とにより設けられたことを特徴とする。
The invention according to claim 2 is the method for printing a precise pattern according to claim 1,
The basic pattern is
(A ′) An ink liquid film for forming a basic pattern is applied on the ink peeling layer of an ink peeling film base material for forming a basic pattern having an ink peeling layer on one surface which is one surface in the thickness direction. And a process of
(B ′) a step of pre-drying the ink liquid film;
(C ′) The basic pattern forming removal plate on which the convex pattern of the negative pattern formed in the shape opposite to the basic pattern is pressed against the preliminarily dried ink liquid film, Forming a pattern of the ink liquid film on the ink peelable film substrate for forming the basic pattern by removing the corresponding part of the ink liquid film;
(D ′) The ink liquid film pattern is transferred onto the surface of the substrate to be printed, and the basic pattern is transferred to the substrate to be printed.

請求項3記載の発明は、請求項1記載の精密パターンの印刷方法において、
前記基礎パターンが、
(a’’)厚さ方向の一方の面である片面にインキ剥離層を有する基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材の前記インキ剥離層上に、基礎パターン形成用の遮光インキ液膜を塗工する工程と、
(b’’)前記遮光インキ液膜を予備乾燥する工程と、
(c’’)前記基礎パターンと凹凸形状が同じ凸パターンが形成された基礎パターン形成用の除去版を、前記予備乾燥させた遮光インキ液膜に押し当て、前記凸パターンに対応する前記遮光インキ液膜の部分を除去することで前記基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材に前記遮光インキ液膜のパターンを形成する工程と、
(d’’)紫外線硬化性樹脂をコーティングした前記被印刷基材上に、前記遮光インキ液膜のパターンを転写する工程と、
(e’’)前記遮光インキ液膜のパターンを転写した前記被印刷基材表面に、紫外線照射を行い前記紫外線硬化性樹脂のうち前記遮光インキ液膜のパターンが転写された部分を除く部分を硬化させる工程と、
(f’’)前記遮光インキ液膜及び、紫外線硬化していない前記紫外線硬化性樹脂を可溶性溶剤により除去することにより残存する紫外線硬化した紫外線硬化性樹脂で前記基礎パターンを形成する工程とにより設けられたことを特徴とする。
The invention described in claim 3 is the printing method of the precision pattern according to claim 1,
The basic pattern is
(A ″) A light-shielding ink liquid film for forming a basic pattern is formed on the ink peeling layer of an ink-peeling film substrate for forming a basic pattern having an ink peeling layer on one surface which is one surface in the thickness direction. Coating process,
(B ″) a step of pre-drying the light-shielding ink liquid film;
(C ″) The base pattern-forming removal plate on which a convex pattern having the same concave and convex shape as the basic pattern is pressed against the preliminarily dried light-shielding ink liquid film, and the light-shielding ink corresponding to the convex pattern Forming a pattern of the light-shielding ink liquid film on the ink-peeling film substrate for forming the basic pattern by removing a portion of the liquid film;
(D '') transferring the pattern of the light-shielding ink liquid film onto the substrate to be printed coated with an ultraviolet curable resin;
(E ″) The surface of the substrate to be printed on which the pattern of the light-shielding ink liquid film has been transferred is irradiated with ultraviolet rays, and the portion other than the part to which the pattern of the light-shielding ink liquid film is transferred is transferred from the ultraviolet curable resin. Curing, and
(F ″) provided by the step of forming the basic pattern with the light-shielding ink liquid film and the ultraviolet curable resin remaining by removing the ultraviolet curable resin that has not been ultraviolet cured with a soluble solvent. It is characterized by that.

請求項4記載の発明は、請求項1乃至3に何れか1項記載の精密パターンの印刷方法において、前記インキ剥離性フィルム基材として、透明なフィルム基材上にシリコーン樹脂層を積層して設けたことを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the precision pattern printing method according to any one of the first to third aspects, a silicone resin layer is laminated on a transparent film base material as the ink peelable film base material. It is provided.

請求項5記載の発明は、請求項1乃至4に何れか1項記載の精密パターンの印刷方法において、前記基礎パターンが透明な材料で構成され、前記基礎パターンは、位置あわせ用に設けられた位置合わせ用パターンを含み、前記位置合わせ用パターン上に目視または機械認識できるインキを転写し、前記インキが転写された前記位置合わせ用パターンを、前記第4の工程における前記被印刷基材表面にあらかじめ設けられたパターンとして用いることを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, in the precision pattern printing method according to any one of the first to fourth aspects, the basic pattern is made of a transparent material, and the basic pattern is provided for alignment. Ink that can be visually or machine-recognized is transferred onto the alignment pattern including the alignment pattern, and the alignment pattern to which the ink has been transferred is applied to the surface of the substrate to be printed in the fourth step. It is used as a pattern provided in advance.

請求項6記載の発明は、請求項1乃至5に何れか1項記載の精密パターンの印刷方法により、着色層を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。   A sixth aspect of the present invention is a method for producing a color filter, wherein a colored layer is formed by the precision pattern printing method according to any one of the first to fifth aspects.

本発明によれば、(a)透明な材料で構成され、厚さ方向の一方の面である片面にインキ剥離層を有するインキ剥離性フィルム基材の前記インキ剥離層上に、インキ液膜を塗工する第1の工程と、(b)前記インキ液膜を予備乾燥する第2の工程と、(c)予め定められた画像パターンのネガパターンの凸パターンが形成された除去版を、前記予備乾燥させたインキ液膜に押し当て、前記凸パターンに対応する前記インキ液膜の部分を除去することで前記インキ剥離性フィルム基材に残存する前記インキ液膜により前記画像パターンを形成する前記第3の工程と、(d)前記インキ剥離性フィルム基材に残存する前記インキ液膜により形成された前記画像パターンと、被印刷基材の表面にあらかじめ設けられたパターンを重ねて観察し、前記インキ剥離性フィルム基材と前記被印刷基材との位置合わせを行う第4の工程と、(e)前記インキ剥離性フィルム基材に残存する前記インキ液膜により形成された前記画像パターンを、前記被印刷基材表面上へ転写し、前記被印刷基材に前記画像パターンを印刷する第5の工程とを含み、前記被印刷基材に予め前記画像パターンの土台となる基礎パターンが設けられ、前記第5の工程による前記インキ液膜の転写は、前記基礎パターンのうち、選択された前記基礎パターン上に前記画像パターンが転写されることでなされるので、とくに150μm以下の微細なパターニングを行った際のパターン形状の再現や、既存の印刷方式よりも高い位置あわせ精度を確保することができる。
これは、とくに(a)〜(b)の工程乾燥が進んだインキ膜をパターニングに用いる事でインキのにじみやつぶれを最小限に抑えることが可能となり、インキの予備乾燥を終えてから(c)の除去版によるパターニングまでの間に熱を加える工程を有しないことで、被印刷基材の寸法変形がほとんど無いために、印刷位置精度やピッチ精度、(d)の位置あわせ工程に有利となる。(d)の位置あわせ工程は、他の印刷方式と異なりすでにインキ剥離性フィルム基材状にパターニングされたパターンと、すでに設けられた被印刷基材上パターンとを重ね合わせ、直接観察しながら位置あわせを行うことができる。
また、被印刷基材上に印刷パターンの土台となる基礎パターンをあらかじめ設けておくことで、基礎パターン上にインキ膜を転写する際に、基礎パターンの段差があるところでのみインキ膜の転写が可能となり、基礎パターンと基礎パターンの凹んだ部分にはインキ膜が転写されない現象を利用することで、(d)のアライメント工程をインキ種類毎に複数回繰り返すで得られる精度よりも、高精度なパターン位置精度を再現する事ができる。
According to the present invention, (a) an ink liquid film is formed on the ink release layer of the ink peelable film substrate which is composed of a transparent material and has an ink release layer on one side which is one side in the thickness direction. A first step of coating, (b) a second step of pre-drying the ink film, and (c) a removal plate on which a convex pattern of a negative pattern of a predetermined image pattern is formed, The image pattern is formed by the ink liquid film remaining on the ink peelable film substrate by pressing against the preliminarily dried ink liquid film and removing a portion of the ink liquid film corresponding to the convex pattern A third step, (d) observing the image pattern formed by the ink liquid film remaining on the ink peelable film substrate, and a pattern provided in advance on the surface of the substrate to be printed, Said A fourth step of aligning the peelable film substrate and the substrate to be printed, and (e) the image pattern formed by the ink liquid film remaining on the ink peelable film substrate, A fifth step of transferring the image pattern onto the surface of the substrate to be printed and printing the image pattern on the substrate to be printed, and a base pattern serving as a base for the image pattern is provided in advance on the substrate to be printed The transfer of the ink liquid film in the fifth step is performed by transferring the image pattern onto the selected basic pattern among the basic patterns. Reproduction of the pattern shape when performed, and higher alignment accuracy than existing printing methods can be ensured.
In particular, the ink film that has undergone process drying (a) to (b) can be used for patterning to minimize ink bleeding and crushing, and after the preliminary drying of the ink (c ) Is not advantageous in the alignment process of printing position accuracy and pitch accuracy, and (d) because there is almost no dimensional deformation of the substrate to be printed, since there is no step of applying heat before patterning by the removed plate. Become. The positioning step (d) is different from other printing methods in that the pattern already patterned on the ink-peeling film substrate and the pattern on the substrate to be printed already overlapped and directly observed. Can be combined.
In addition, by providing a basic pattern that is the basis of the printed pattern on the substrate to be printed, when the ink film is transferred onto the basic pattern, the ink film can be transferred only where there is a difference in the basic pattern. By using the phenomenon that the ink film is not transferred to the concave part of the basic pattern and the basic pattern, a pattern with higher accuracy than the accuracy obtained by repeating the alignment process (d) multiple times for each ink type. The position accuracy can be reproduced.

さらに本発明において、前記基礎パターンが、(a’)厚さ方向の一方の面である片面にインキ剥離層を有する基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材の前記インキ剥離層上に、基礎パターン形成用のインキ液膜を塗工する工程と、(b’)前記インキ液膜を予備乾燥する工程と、(c’)前記基礎パターンと凹凸形状が反対に形成されたネガパターンの凸パターンが形成された基礎パターン形成用の除去版を、前記予備乾燥させたインキ液膜に押し当て、前記凸パターンに対応する前記インキ液膜の部分を除去することで前記基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材に前記インキ液膜のパターンを形成する工程と、(d’)前記インキ液膜のパターンを、前記被印刷基材表面上へ転写し、前記被印刷基材に前記基礎パターンを転写する工程とにより設けることで、被印刷基材を加熱することなく微細なパターンを形成することが可能となる。   Furthermore, in the present invention, the basic pattern is (a ′) on the ink peeling layer of the ink-peeling film substrate for forming a basic pattern having an ink peeling layer on one side which is one side in the thickness direction. A step of applying an ink liquid film for pattern formation; (b ′) a step of pre-drying the ink liquid film; and (c ′) a convex pattern of a negative pattern in which the concave and convex shapes are formed opposite to the basic pattern. The base pattern forming removal plate on which the ink is formed is pressed against the pre-dried ink liquid film, and the ink liquid film corresponding to the convex pattern is removed to remove the ink for forming the basic pattern. A step of forming a pattern of the ink liquid film on the base film substrate; and (d ′) transferring the pattern of the ink liquid film onto the surface of the substrate to be printed, and applying the basic pattern to the substrate to be printed. By providing the a step of transferring a, it is possible to form a fine pattern without heating the substrate to be printed.

さらに前記基礎パターンが、(a’’)厚さ方向の一方の面である片面にインキ剥離層を有する基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材の前記インキ剥離層上に、基礎パターン形成用の遮光インキ液膜を塗工する工程と、(b’’)前記遮光インキ液膜を予備乾燥する工程と、(c’’)前記基礎パターンと凹凸形状が同じ凸パターンが形成された基礎パターン形成用の除去版を、前記予備乾燥させた遮光インキ液膜に押し当て、前記凸パターンに対応する前記遮光インキ液膜の部分を除去することで前記基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材に前記遮光インキ液膜のパターンを形成する工程と、(d’’)紫外線硬化性樹脂をコーティングした前記被印刷基材上に、前記遮光インキ液膜のパターンを転写する工程と、(e’’)前記遮光インキ液膜のパターンを転写した前記被印刷基材表面に、紫外線照射を行い前記紫外線硬化性樹脂のうち前記遮光インキ液膜のパターンが転写された部分を除く部分を硬化させる工程と、(f’’)前記遮光インキ液膜及び、紫外線硬化していない前記紫外線硬化性樹脂を可溶性溶剤により除去することにより残存する紫外線硬化した紫外線硬化性樹脂で前記基礎パターンを形成する工程とにより設けることで、基礎パターンのパターン形成に顔料を十分含有した遮光インキを使用することで、基礎パターンに直接透明なインキを用いて形成するよりも、パターンエッジの再現や基礎パターンの膜厚の変更がし易く、さらに高精細な印刷物を得ることができる。   Further, the basic pattern is (a ″) for forming a basic pattern on the ink peeling layer of an ink peelable film substrate for forming a basic pattern having an ink peeling layer on one side which is one side in the thickness direction. A step of coating the light-shielding ink liquid film, (b ″) a step of pre-drying the light-shielding ink liquid film, and (c ″) a basic pattern on which a convex pattern having the same concave-convex shape is formed. An ink-releasable film substrate for forming the basic pattern is formed by pressing a removal plate for formation against the preliminarily dried light-shielding ink liquid film and removing a portion of the light-shielding ink liquid film corresponding to the convex pattern (D '') transferring the light-shielding ink liquid film pattern onto the substrate to be printed coated with an ultraviolet curable resin; '') The surface of the substrate to be printed on which the pattern of the light-shielding ink liquid film is transferred is irradiated with ultraviolet rays to cure the portion of the ultraviolet curable resin excluding the part to which the pattern of the light-shielding ink liquid film is transferred. And (f ″) a step of forming the basic pattern with the light-shielding ink liquid film and the ultraviolet curable resin remaining by removing the ultraviolet curable resin that has not been ultraviolet cured with a soluble solvent. By using a light-shielding ink that contains a sufficient amount of pigment for pattern formation of the basic pattern, it is possible to reproduce the pattern edge and film thickness of the basic pattern rather than using a transparent ink directly for the basic pattern. Can be easily changed, and a printed matter with higher definition can be obtained.

本発明において、前記インキ剥離性フィルム基材として、透明なフィルム基材上にシリコーン樹脂層を積層して設けることで、印刷物の位置あわせの際にインク剥離性フィルム基材上に形成されたパターンと被印刷基材上に設けられたパターンとを重ね合わせて直接観察が可能となる。   In the present invention, as the ink releasable film substrate, a pattern formed on the ink releasable film substrate at the time of alignment of the printed material by providing a silicone resin layer on a transparent film substrate. And a pattern provided on the substrate to be printed can be superimposed and directly observed.

本発明において、前記基礎パターンが透明な材料で構成され、前記基礎パターンは、位置あわせ用に設けられた位置合わせ用パターンを含み、前記位置合わせ用パターン上に目視または機械認識できるインキを転写し、前記インキが転写された前記位置合わせ用パターンを、前記第4の工程における前記被印刷基材表面にあらかじめ設けられたパターンとして用いることでインク剥離性フィルム基材上に形成されたパターンと被印刷基材上に設けられたパターンとを重ね合わせて観察する場合に、マークの確認や機械認識がしやすくなり、結果位置あわせ精度を高める事ができる。   In the present invention, the basic pattern is made of a transparent material, the basic pattern includes an alignment pattern provided for alignment, and an ink that can be visually or machine-recognized is transferred onto the alignment pattern. The pattern for alignment on which the ink has been transferred is used as a pattern provided in advance on the surface of the substrate to be printed in the fourth step. When the pattern provided on the printing base material is superposed and observed, it becomes easy to confirm the mark and recognize the machine, and the result alignment accuracy can be improved.

本発明の印刷方法により、着色層を形成しカラーフィルタ(CF)を製造することにより、フィルム基材を用いたカラーフィルタを製造する場合においても、画素間の位置精度の高いカラーフィルタ(CF)を得ることが可能となる。   Even when a color filter using a film substrate is manufactured by forming a colored layer and manufacturing a color filter (CF) by the printing method of the present invention, the color filter (CF) having high positional accuracy between pixels. Can be obtained.

本発明の第一の実施形態の印刷物の製造方法および印刷装置の一例を説明するための断面図であり、(a)は本発明の実施形態の印刷装置の一例を説明する図、(b)は本発明の実施形態の印刷装置を用いて除去版を用いたパターニングを説明する図、(c)は本発明の実施形態の印刷装置を用いて被印刷基材への転写を説明する図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing for demonstrating an example of the manufacturing method and printing apparatus of printed matter of 1st embodiment of this invention, (a) is a figure explaining an example of the printing apparatus of embodiment of this invention, (b). FIG. 8 is a diagram for explaining patterning using a removal plate using the printing apparatus according to the embodiment of the present invention, and FIG. 8C is a diagram for explaining transfer to a printing substrate using the printing apparatus according to the embodiment of the present invention. is there. 本発明の実施形態の印刷物の製造方法の一例を説明するための断面図であり、(a)はインキ剥離性フィルム基材の層構成と剥離層へのインキ塗工を模した図、(b)は除去版へインキ液膜を転写する前段階を模した図、(c)は除去版へインキ液膜を転写した様子を示す図、(d)は被印刷基材と向かい合わせて転写を行なう前段階を模した図、(e)は被印刷基材へのインキパターンの転写を示した図、(f)は基礎パターンを設けた被印刷基材の断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing for demonstrating an example of the manufacturing method of the printed matter of embodiment of this invention, (a) is the figure which imitated the ink composition to the layer structure and peeling layer of an ink peelable film base material, (b) ) Is a diagram simulating the previous stage of transferring the ink liquid film to the removed plate, (c) is a diagram showing the state of transferring the ink liquid film to the removed plate, and (d) is the transfer facing the substrate to be printed. The figure which imitated the stage before performing, (e) is the figure which showed transfer of the ink pattern to a to-be-printed base material, (f) is sectional drawing of the to-be-printed base material which provided the basic pattern. 本発明の実施形態の印刷物の製造方法の一例を説明するための断面図であり、(a)は遮光インキの液膜を除去版にてパターニングする様子を示す図、(b)は紫外線硬化膜を設けた被印刷基材上に遮光パターンを印刷する様子を示す図、(c)は遮光パターンを印刷した被印刷基材表面を紫外線硬化する様子を示す図、(d)は未硬化の紫外線硬化膜と遮光インキを除去し被印刷基材上に基礎パターンを得た様子を示す図である。It is sectional drawing for demonstrating an example of the manufacturing method of the printed matter of embodiment of this invention, (a) is a figure which shows a mode that the liquid film of light shielding ink is patterned with a removal plate, (b) is an ultraviolet curable film. The figure which shows a mode that a light-shielding pattern is printed on the to-be-printed base material provided with (c) is a figure which shows a mode that the surface of the to-be-printed base material which printed the light-shielding pattern is ultraviolet-cured, (d) is an uncured ultraviolet-ray It is a figure which shows a mode that the basic film was obtained on the to-be-printed base material by removing the cured film and light-shielding ink. 本発明の実施形態の印刷物の製造方法の一例を説明するための断面図であり、(a)は基礎パターンのアライメントマークへ選択的に遮光パターンを印刷する前段階を示す図、(b)は基礎パターンのアライメントマークへの遮光パターンの積層を示した図、(c)はアライメントマークを用いてインキ剥離性フィルム基材上のパターンと位置あわせを行う様子を示す図、(d)は基礎パターンの一部に選択的にインキ膜を設けた様子を示す図、(e)は基礎パターンの一部に選択的にすでに設けられているインキと別のインキ膜を設けた様子を示す図である。It is sectional drawing for demonstrating an example of the manufacturing method of the printed matter of embodiment of this invention, (a) is a figure which shows the step before printing a light shielding pattern selectively on the alignment mark of a basic pattern, (b) is The figure which showed lamination | stacking of the light shielding pattern to the alignment mark of a basic pattern, (c) is a figure which shows a mode that it aligns with the pattern on an ink peelable film base material using an alignment mark, (d) is a basic pattern The figure which shows a mode that the ink film was selectively provided in a part of FIG., (E) is a figure which shows a mode that the ink already different from the ink already provided in a part of basic pattern was provided. .

図1(a)に示すように、本発明のインキ剥離性フィルム基材201に用いるフィルム基材は、プラスチック等の可撓性基材を用いることが可能である。   As shown in FIG. 1A, a flexible substrate such as plastic can be used as the film substrate used for the ink peelable film substrate 201 of the present invention.

例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることができる。   For example, films and sheets of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether sulfone, cycloolefin polymer, polyimide, nylon, aramid, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, triacetyl cellulose, and the like can be used.

図1(c)に示すように、インキ剥離性フィルム基材201に用いるフィルム基材として、さらに光透過性の基材を用いることにより、インキ剥離性フィルム基材201越しに被印刷基材202を観察することが可能となり、パターンの重ね合わせ時に位置あわせ(アライメント)を容易とすることができる。   As shown in FIG. 1 (c), by using a light transmissive substrate as the film substrate used for the ink peelable film substrate 201, the substrate to be printed 202 is passed over the ink peelable film substrate 201. Can be observed, and alignment (alignment) can be facilitated when the patterns are superimposed.

これら可撓性基材は長尺の巻き取りロールで供給され、インキ剥離層203(図2(a))を塗工し、場合によってはポリエチレンテレフタレートやポリプロピレンの保護フィルムをラミネート加工した後機械に設置される。   These flexible substrates are supplied by a long take-up roll, coated with an ink peeling layer 203 (FIG. 2 (a)), and in some cases, laminated with a protective film of polyethylene terephthalate or polypropylene, and then applied to the machine. Installed.

本発明に用いるインキ剥離性フィルム基材201に設けられるインキ剥離層203は、フィルム基材へシリコーンオイル、シリコーンワニスで代表される離型剤を塗っても良いし、あるいはシリコーンゴムの薄膜層を形成してもよい。また同じ目的でフッ素系樹脂、フッ素系ゴムも利用されうるし、フッ素樹脂微粉末をシリコーンゴムあるいは、普通のゴムに混ぜて剥離性を出すなどの使い方をしてもよい。   The ink release layer 203 provided on the ink peelable film substrate 201 used in the present invention may be coated with a release agent represented by silicone oil or silicone varnish on the film substrate, or a thin film layer of silicone rubber may be used. It may be formed. Also, for the same purpose, a fluororesin and a fluororubber can be used, or the fluororesin fine powder may be mixed with silicone rubber or ordinary rubber to give a peelability.

これらシリコーン系の塗膜は通常フィルム基材との密着が低いが、熱硬化または紫外線硬化性のアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、最表面に設けるシリコーン層に対して、より基材との接着性の高い樹脂層を、アンカー層としてあらかじめフィルム基材上に設け、その上層に設けることもできる。   These silicone-based coatings usually have low adhesion to the film substrate, but are more adhesive to the substrate with respect to thermosetting or UV-curable acrylic resins, epoxy resins, and silicone layers on the outermost surface. It is also possible to provide a high resin layer as an anchor layer on the film substrate in advance and to provide it as an upper layer.

いずれもインキ剥離層203上では適度のインキ受容性を有すると同時に、一度受容したインキの完全なインキ剥離性を有することが望ましい。   In any case, it is desirable that the ink release layer 203 has a suitable ink receptivity and at the same time has a complete ink releasability of the ink once received.

シリコーンとしては、付加硬化型、UV硬化型などの硬化反応タイプの剥離フィルム用シリコーンコート剤を用いることができ、ジメチルポリシロキサンの各種分子量のもの、その他メチルハイドロジエンポリシロキサン、メチルフェニルシリコーンオイル、メチル塩素化フェニルシリコーンオイル、あるいはこれらポリシロキサンと有機化合物との共重合体など、変成したものを用いることができる。   As the silicone, addition curing type, UV curing type and other curing reaction type silicone coating agents for release films can be used. Various molecular weights of dimethylpolysiloxane, other methylhydrogen polysiloxane, methylphenyl silicone oil, Modified ones such as methyl chlorinated phenyl silicone oil or copolymers of these polysiloxanes and organic compounds can be used.

シリコーンゴムとしては、二液型のジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、またはシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、あるいは一液型ではジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシム、各種メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等の組み合わせなどが用いられ、その他ゴム硬度を調節するためのポリシロキサンが適宜用いられる。   Silicone rubber is a combination of two-component diorganopolysiloxane and a tri- or higher functional silane as a crosslinking agent, or a combination of siloxane and a curing catalyst, or one-component diorganopolysiloxane, acetone oxime, and various methoxys. Combinations of silane, methyltriacetoxysilane, and the like are used, and other polysiloxanes for adjusting rubber hardness are appropriately used.

具体的なシリコーン系材料としては、東レ・ダウコーニング(株)製「SRX211」、「LTC750A」、「LTC760A」、「BY24−510」、信越化学(株)製「KS774」、「KS847」、「KS5508」、モメンティブパフォーマンスマテリアルズ製「TPR6700」、「TPR6702」、「TPR6710」、「TPR6721」、「TPR6500」、荒川化学工業(株)製「UV−POLY200」,「UV−POLY201」などを用いることができるが、これらは限定されるものではない。   Specific silicone materials include “SRX211”, “LTC750A”, “LTC760A”, “BY24-510” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., “KS774”, “KS847”, “KS847” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Use KS5508, “TPR6700”, “TPR6702”, “TPR6710”, “TPR6721”, “TPR6500” manufactured by Momentive Performance Materials, “UV-POLY200”, “UV-POLY201” manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. However, these are not limited.

また硬化タイプにあわせて、各種硬化触媒や光開始剤が用いられ、適宜添加される。例えば、剥離層形成材料として用シリコーンコート材を用いる場合には、東レ・ダウコーニング(株)製「SRX212」,「NC−25」,「BY24−835」など、信越化学(株)製 「PL−50T」など、モメンティブパフォーマンスマテリアルズ社製「CM670」、「UV9380」など、荒川化学工業(株)製「UV−CATA211」などを硬化触媒、光開始剤として用いることができる。   Further, various curing catalysts and photoinitiators are used according to the curing type, and are appropriately added. For example, when a silicone coating material is used as the release layer forming material, “PLX” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., such as “SRX212”, “NC-25”, “BY24-835” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. -50T ", such as" CM670 "and" UV9380 "manufactured by Momentive Performance Materials, and" UV-CATA211 "manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. can be used as the curing catalyst and photoinitiator.

これらシリコーン材料は、主にトルエンなどの溶剤で希釈し、公知の塗工方法であるグラビアコーター、ロールコーター、ダイコーター等を用いて基材表面に塗工、次いで乾燥させ本発明の印刷方式に用いる事ができる。また、本発明に用いるインキ剥離性フィルム基材201のインキ剥離層203として、上記フィルム基材に無機膜を設けた後、シランカップリング剤による表面処理を施したものを用いることもできる。   These silicone materials are mainly diluted with a solvent such as toluene, applied to the substrate surface using a known coating method such as gravure coater, roll coater, die coater, etc., and then dried to achieve the printing method of the present invention. Can be used. In addition, as the ink release layer 203 of the ink peelable film substrate 201 used in the present invention, an inorganic film may be provided on the film substrate and then a surface treatment with a silane coupling agent may be used.

シランカップリング剤としては、トリメトキシシラン類、トリエトキシシラン類などを用いることができる。このシランカップリング剤の一部位は、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基などの有機化合物との反応性基を持つものから選ぶことができ、あるいはアルキル基やその一部にフッ素原子が置換されたものやシロキサンが結合して、表面自由エネルギーの小さな表面を形成できる置換基が結合したものを用いることができる。   As the silane coupling agent, trimethoxysilanes, triethoxysilanes, and the like can be used. One part of this silane coupling agent can be selected from those having a reactive group with an organic compound such as a vinyl group, an epoxy group, an amino group, a methacryl group, a mercapto group, or an alkyl group or a part thereof. Those in which fluorine atoms are substituted and those in which siloxane is bonded and bonded to a substituent capable of forming a surface having a small surface free energy can be used.

前者の反応性基を有するシランカップリング剤を用いる場合には、シランカップリング剤で基材表面を処理した後、所定の表面自由エネルギーになるような他のモノマー成分を塗工して、結合させることができる。   When the former silane coupling agent having a reactive group is used, the surface of the substrate is treated with the silane coupling agent, and then another monomer component is applied so as to obtain a predetermined surface free energy. Can be made.

反応性基を有するシランカップリング剤としては、ビニルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3、4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどを用いることができ、モノマーとして、スチレン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチルプロパントリグリシジルエーテル、ラウリルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどを用いることができる。また、反応性基を有さないシランカップリング剤としてはメチルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシランなどを用いることができる。但し、アルキル基に限定されるものではない。   Examples of the silane coupling agent having a reactive group include vinyl methoxy silane, vinyl ethoxy silane, p-styryl trimethoxy silane, 3-glycidoxy propyl trimethoxy silane, 2- (3,4 epoxy cyclohexyl) ethyl trimethoxy silane. , 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, etc., and styrene, ethylene glycol diglycidyl ether, trimethylpropane triglycidyl ether, lauryl acrylate, dipentaerythritol hexa Acrylate or the like can be used. As the silane coupling agent having no reactive group, methyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane and the like can be used. However, it is not limited to an alkyl group.

上記シランカップリング剤を上記基材に固定化する方法としては、シランカップリング剤を使用した公知の表面処理方法を用いることができる。例えば、シランカップリング剤を水、酢酸水溶液、水−アルコール混合液、あるいはアルコール溶液に希釈させた溶液を調製する。   As a method for fixing the silane coupling agent to the substrate, a known surface treatment method using a silane coupling agent can be used. For example, a solution obtained by diluting a silane coupling agent in water, an acetic acid aqueous solution, a water-alcohol mixed solution, or an alcohol solution is prepared.

前記溶液を公知の塗工方法であるグラビアコーター、ロールコーター、ダイコーター等を用いて基材表面に塗工し、次いで乾燥させることでシランカップリング剤を固定化できる。また、反応性基を有するシランカップリング剤を用いた場合には、次いで他のモノマー成分を同様に塗工して結合させることができる。   The silane coupling agent can be fixed by coating the solution on the surface of the substrate using a known coating method such as a gravure coater, a roll coater, a die coater, and the like, followed by drying. When a silane coupling agent having a reactive group is used, other monomer components can then be applied and bonded in the same manner.

上記シランカップリング剤を基材上に固定化するためには、あらかじめ基材上にSiO2やTiO2、ZrO2もしくはこれらの複合膜が設けられていることが好ましい。これら無機酸化膜は既知の蒸着法やスパッタ法を用いて設けたものを用いることができる。また、上記無機酸化膜を設ける方法として、一般式M(OR)で表される金属アルコキシド(MはSi,Ti,Al,Zrなどの金属、RはCH3,C25などのアルキル基)を水、アルコールの共存下で加水分解反応および縮重合反応させて得られたゲル溶液を表面にコーティング後、加熱することで無機酸化物膜を設ける、いわゆるゾル−ゲル法を用いることができる。 In order to immobilize the silane coupling agent on the substrate, it is preferable that SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 or a composite film thereof is provided on the substrate in advance. As these inorganic oxide films, those provided by using a known vapor deposition method or sputtering method can be used. As a method of providing the inorganic oxide film, a metal alkoxide represented by the general formula M (OR) n (M is a metal such as Si, Ti, Al, Zr, R is an alkyl such as CH 3 , C 2 H 5, etc.) It is possible to use a so-called sol-gel method in which an inorganic oxide film is formed by coating a gel solution obtained by hydrolyzing and condensation polymerization in the presence of water and alcohol on the surface and then heating. it can.

さらに、上記ゾル−ゲル法で用いる金属アルコキシド溶液中にあらかじめ上記シランカップリング剤を添加しておくこともできる。この場合、表面性改質に特に効果が得られる。また、インキ剥離層203に対するインキ剥離性は、処理面へインキを滴下した際の接触角が、10°以上90°以下となるのが好ましく、より好ましくは20°以上70°以下である。この接触角が小さいと後工程でのインキ剥離性が低下してパターンの欠陥(再現性不良等)が発生しやすくなり、接触角が大きいとインキ膜205を形成する際にハジキが生じて、均一なインキ膜205を形成することが困難になる。   Furthermore, the silane coupling agent can be added in advance to the metal alkoxide solution used in the sol-gel method. In this case, an effect is particularly obtained for surface property modification. In addition, the ink peelability with respect to the ink release layer 203 is preferably such that the contact angle when ink is dropped onto the treated surface is 10 ° or more and 90 ° or less, and more preferably 20 ° or more and 70 ° or less. If this contact angle is small, ink releasability in the subsequent process is reduced and pattern defects (such as poor reproducibility) are likely to occur. If the contact angle is large, repelling occurs when the ink film 205 is formed, It becomes difficult to form a uniform ink film 205.

上記に示したインキ剥離性フィルム基材201のインキ剥離層203上へインキ膜205(図2(a))を形成する方法としては、インキの粘度や溶媒の乾燥性によって公知の塗工方法を用いることができる。すなわち、例えばディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。中でも、ダイコート、キャップコート、ロールコート、アプリケータは、広い範囲の粘度のインキについて均一なインキ液膜を形成することができ、さらにその中でも可動するインキ剥離性フィルム基材201上へ連続的に形成する場合は、ダイコートが最も効率的で好適な形成方法である。   As a method of forming the ink film 205 (FIG. 2 (a)) on the ink release layer 203 of the ink release film substrate 201 shown above, a known coating method is used depending on the viscosity of the ink and the drying property of the solvent. Can be used. That is, for example, dipping method, roll coating, gravure coating, reverse coating, air knife coating, comma coating, die coating, screen printing method, spray coating, gravure offset method and the like can be mentioned. Among them, the die coat, cap coat, roll coat, and applicator can form a uniform ink film for inks with a wide range of viscosities. In the case of forming, die coating is the most efficient and preferable forming method.

インキ剥離性フィルム基材201上へ前記方法によりインキ膜205を形成した後に、前記インキ膜205を予備乾燥する。この予備乾燥には自然乾燥、冷風・温風乾燥、マイクロ波、減圧乾燥などを用いることができ、また、紫外線、電子線などの放射線を用いることもできる。この予備乾燥では、前記インキ膜205の粘度またはチキソトロピー性、脆性を上げることを目的とする。   After forming the ink film 205 on the ink peelable film substrate 201 by the above method, the ink film 205 is preliminarily dried. For this preliminary drying, natural drying, cold / hot air drying, microwave, vacuum drying, or the like can be used, and radiation such as ultraviolet rays or electron beams can also be used. The purpose of this preliminary drying is to increase the viscosity, thixotropy and brittleness of the ink film 205.

予備乾燥による乾燥が不十分な場合は、後工程の除去版211(図2(b),(c))の凸部を押し当て剥離する際に、インキ膜205が断裂し不良が発生してしまう。逆に乾燥が行き過ぎた場合は、インキ膜205表面のタック性が無くなり、除去版211にインキが転写されない。そのため、使用するインキの組成によって乾燥状態を乾燥時間や雰囲気温度により調節するが、乾燥したインキ膜205に対して0.5%から4%の溶剤の残留が認められる状態が好ましい。   When the drying by the preliminary drying is insufficient, the ink film 205 is torn and defective when the convex part of the removal plate 211 (FIGS. 2B and 2C) in the subsequent process is pressed and peeled off. End up. On the other hand, when the drying is excessive, the tackiness on the surface of the ink film 205 is lost, and the ink is not transferred to the removal plate 211. Therefore, although the drying state is adjusted by the drying time and the atmospheric temperature depending on the composition of the ink to be used, a state in which 0.5% to 4% of solvent remains in the dried ink film 205 is preferable.

いわゆるドライフィルムといわれるppmオーダーの溶剤残留量では乾燥が行き過ぎであり、インキが転写されない不具合や、除去版211の押し付けによりインキ膜205が部分的に剥離してゴミの原因になる不具合があるため、予備乾燥したインキ膜205の条件として適さない。   The so-called dry film has a residual amount of solvent on the order of ppm, and the drying is excessive, and there is a problem that the ink is not transferred or the ink film 205 is partially peeled by pressing the removal plate 211 and causes dust. This is not suitable as a condition for the pre-dried ink film 205.

本特許の印刷方式で用いる除去版211としては、無アルカリガラス等の低膨張ガラス表面に感光性樹脂を用いてマスクパターンを形成した後、既存のドライエッチング処理やウエットエッチング処理、もしくはサンドブラスト処理を用いて、2μmから30μmの版深を設けたものを用いることができる。   As the removal plate 211 used in the printing method of this patent, after forming a mask pattern on the surface of low expansion glass such as non-alkali glass using a photosensitive resin, an existing dry etching process, wet etching process, or sand blasting process is performed. A plate having a plate depth of 2 μm to 30 μm can be used.

例えば、5μm〜200μm程度の微細パターニングを行う場合は、エッチング処理の際に版深方向への加工に応じて幅方向へのエッチングも進んでしまう事から2μm〜10μm程度の版深とし、200μm〜数mm幅のプロセス制御用マークなどの周辺は、版深が浅いと、インキ剥離層203上のインキ膜205が凹部パターンの中央付近に接触してしまうことから、10μm〜30μm程度の版深とするのが良い。また、異なる版深のパターンを同一版中に混在させる為には、それぞれの版深に応じたマスクを用意し、あらかじめ深い版深のエッチング処理を行ってから、浅い版深のエッチング処理を行うのが好ましい。   For example, when fine patterning of about 5 μm to 200 μm is performed, etching in the width direction proceeds in accordance with processing in the plate depth direction during the etching process, so that the plate depth is about 2 μm to 10 μm, and 200 μm to If the plate depth is shallow at the periphery of a process control mark or the like having a width of several millimeters, the ink film 205 on the ink peeling layer 203 comes into contact with the vicinity of the center of the concave pattern, so that the plate depth is about 10 μm to 30 μm. Good to do. In order to mix patterns with different plate depths in the same plate, a mask corresponding to each plate depth is prepared, and a deep plate depth is etched in advance, and then a shallow plate depth is etched. Is preferred.

本発明の印刷方式において使用する除去版211にはナイロン、アクリル、シリコーン樹脂、スチレン−ジエン共重合体などからなるものを用いることもできる。またエチレン−プロピレン系、ブチル系、ウレタン系ゴムなどのゴム製の版を用いることもできる。このような樹脂製の除去版211は、すでに凸版印刷やフレキソ印刷用に用いられており、予め作製した型に所定の樹脂を流し込んで版とする、あるいは彫刻によっても作製することができるが、感光性樹脂を用いる方法がより高精度のものを作製できる。   The removal plate 211 used in the printing method of the present invention may be made of nylon, acrylic, silicone resin, styrene-diene copolymer or the like. Also, rubber plates such as ethylene-propylene, butyl, and urethane rubbers can be used. Such a resin removal plate 211 has already been used for letterpress printing and flexographic printing, and can be produced by pouring a predetermined resin into a previously produced mold, or by engraving, A method using a photosensitive resin can be manufactured with higher accuracy.

本発明の印刷方式において使用する除去版211は、さらに前記ガラス基材の一部に各種方式により凹凸を設けた版上に、膜厚0.5μm〜2μmにフォトリソグラフィーを用いて感光性樹脂をパターニングし、十分に硬化させた表面上に、保護層として硬化性樹脂や無機膜をコーティングしたものを用いることができる。   The removal plate 211 used in the printing method of the present invention is further provided with a photosensitive resin using photolithography with a film thickness of 0.5 μm to 2 μm on a plate having irregularities formed on a part of the glass substrate by various methods. It is possible to use a curable resin or inorganic film coated as a protective layer on a surface that has been patterned and sufficiently cured.

本発明の印刷方法は、被印刷基材202としてガラスやプラスチック板などを用いる事ができるが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることもできる。   In the printing method of the present invention, glass or a plastic plate can be used as the substrate 202 to be printed. For example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone, cycloolefin polymer, polyimide Films and sheets of nylon, aramid, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, triacetyl cellulose, etc. can also be used.

被印刷基材202は印刷に適用するインキの乾燥条件に合わせて選定すればよく、耐熱性が必要な場合ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミドなどが好適である。また、無機フィラーを樹脂に添加して耐熱性を向上させた材料からなる基材でもよい。これら被印刷基材202としてのフィルムおよびシートは、延伸フィルムでもよく、未延伸フィルムでもよい。また、可撓性基材には必要に応じてガスバリア層や平滑化層、インキ受像層が印刷面または他の面に積層されていても良い。   The substrate to be printed 202 may be selected in accordance with the drying conditions of the ink applied for printing. When heat resistance is required, polyethylene naphthalate, polyethersulfone, cycloolefin polymer, polyimide and the like are suitable. Moreover, the base material which consists of material which added the inorganic filler to resin and improved heat resistance may be sufficient. These films and sheets as the substrate to be printed 202 may be stretched films or unstretched films. In addition, a gas barrier layer, a smoothing layer, and an ink image receiving layer may be laminated on the printing surface or other surfaces as necessary on the flexible substrate.

インキ膜205を構成するインキ材料としては、画像パターン形成材料に溶媒を溶解又は分散させたものを用いることができる。例えば、カラーフィルターにおいて赤色、緑色、青色からなるカラーパターン(着色層)やブラックマトリックス等を本発明の製造方法により形成する場合、顔料成分と樹脂成分を溶媒中に溶解、分散させることによりインキとなる。   As the ink material constituting the ink film 205, an image pattern forming material in which a solvent is dissolved or dispersed can be used. For example, when a color pattern (colored layer) consisting of red, green, and blue or a black matrix is formed by the production method of the present invention in a color filter, the pigment component and the resin component are dissolved and dispersed in a solvent to form an ink. Become.

赤色顔料としては、例えば、C.I.Pigment Red 7、9、14、41、48:1、48:2、48:3、48:4、81:1、81:2、81:3、97、122、123、146、149、168、177、178、179、180、184、185、187、192、200、202、208、210、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、246、254、255、264、272、279等を用いることができる。   Examples of red pigments include C.I. I. Pigment Red 7, 9, 14, 41, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 81: 1, 81: 2, 81: 3, 97, 122, 123, 146, 149, 168, 177, 178, 179, 180, 184, 185, 187, 192, 200, 202, 208, 210, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 246, 254, 255, H.264, 272, 279, etc. can be used.

青色顔料としては、例えばC.I. Pigment Blue 15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、80等を用いることができ、C.I. Pigment Violet 1、19、23、27、29、30、32、37、40、42、50等の紫色顔料を併用することができる。   Examples of blue pigments include C.I. I. Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64, 80, etc. can be used. I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 42, 50, and other purple pigments can be used in combination.

緑色顔料としては、例えばC.I. Pigment Green 7、10、36、37等の緑色顔料を用いる事ができ、C.I. Pigment Yellow 1、2、3、4、5、6、10、12、13、14、15、16、17、18、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、126、127、128、129、138、139、147、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、198、199、213、214等の黄色顔料を併用することができる。   Examples of the green pigment include C.I. I. Pigment Green 7, 10, 36, 37 and the like can be used, and C.I. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 126, 127, 128, 129, 138, 139, 147, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179, 180 , 181, 182, 185, 187, 188, 193, 194, 198, 199, 213, 214 and the like can be used in combination.

これら赤、青及び緑顔料の色調整及びインキの流動性を改善するために、次に挙げる顔料を必要量添加することができる。   In order to improve the color adjustment of these red, blue and green pigments and the fluidity of the ink, the following pigments can be added in necessary amounts.

遮光インキ、あるいは着色インキとして用いるインキには、顔料分散体に加え、さらに多官能モノマー、感光性樹脂ないし非感光性樹脂、重合開始剤、溶剤等から成る。   In addition to the pigment dispersion, the ink used as the light-shielding ink or the coloring ink further comprises a polyfunctional monomer, a photosensitive resin or a non-photosensitive resin, a polymerization initiator, a solvent, and the like.

樹脂には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、必要によって感光性樹脂が含まれる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ブチラール樹脂、スチレン−マレイン酸共重合体、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アルキッド系樹脂、ポリブタジエン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイミド樹脂等が挙げられる。また、熱硬化性樹脂として、例えばエポキシ樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フマル酸樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。   The resin includes a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and, if necessary, a photosensitive resin. Examples of the thermoplastic resin include butyral resin, styrene-maleic acid copolymer, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate, polyurethane resin, and polyester resin. Examples thereof include resins, acrylic resins, alkyd resins, polybutadiene, polyethylene, polypropylene, and polyimide resins. Examples of the thermosetting resin include an epoxy resin, a benzoguanamine resin, a rosin-modified maleic acid resin, a rosin-modified fumaric acid resin, a melamine resin, a urea resin, and a phenol resin.

溶剤には、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤及び炭化水素系溶剤などが使用される。エステル系溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エトキシエチルプロピオネート、アルコール系溶剤として、1−ブタノール、3メトキシ−3メチル−1ブタノール、1−ヘキサノール、1,3ブタンジオール、1−ペンタノール、2−メチル1−ブタノール、4−メチル−2−ペンタノール、エーテル系溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、炭化水素系溶剤として、ソルベッソ100、ソルベッソ150(製品名エクソン化学社製)などが挙げられる。   As the solvent, an ester solvent, an alcohol solvent, an ether solvent, a hydrocarbon solvent, or the like is used. As ester solvents, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethoxyethyl propionate, as alcohol solvents, 1-butanol, 3methoxy-3methyl-1butanol, 1-hexanol, 1,3 butanediol, 1-pentanol, 2-methyl 1-butanol, 4-methyl-2-pentanol, ether solvents such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol tertiary butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol butyl ether, ethylene glycol Ethyl ether, ethylene glycol methyl ether, diethylene glycol butyl ether, diethylene glycol ethyl ether, hydrocarbon As the solvent, Solvesso 100, Solvesso 150 (trade name, manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.).

また、本発明の特徴である着色インキの土台となる基礎パターンを印刷により形成する場合、とくにカラーフィルター作製用の基礎パターン形成の為に用いるにいるインキとしては、前記の透明樹脂を主成分としパターンの切れを向上させる無機の透明微粒子、感光性樹脂または非感光性樹脂、重合開始剤、溶剤等を含む。透明樹脂及び透明微粒子は、可視光領域の400〜700nmの全波長領域において透過率が好ましくは80%以上、より好ましくは95%以上の樹脂及び微粒子である。   In addition, when forming a basic pattern that is the basis of the colored ink, which is a feature of the present invention, by printing, particularly as an ink used for forming a basic pattern for producing a color filter, the above-mentioned transparent resin is a main component. Inorganic transparent fine particles that improve pattern cutting, a photosensitive resin or a non-photosensitive resin, a polymerization initiator, a solvent, and the like. The transparent resin and the transparent fine particles are resins and fine particles having a transmittance of preferably 80% or more, more preferably 95% or more in the entire wavelength region of 400 to 700 nm in the visible light region.

透明微粒子としては、LiF、MgF、3NaF・AlFまたはAlF、またはNa3AlF6、ZrO2、シリカ等の粒子を用いることができる。なお、平均粒径にあっては、1nm以上100nm以下であることが好ましい。粒径が100nmを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が1nm未満の場合、粒子の凝集の問題が生じる。平均粒径とは、溶液中の粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を累積分布で表したときの50%粒径(d50 メジアン径)を意味する。   As the transparent fine particles, particles such as LiF, MgF, 3NaF.AlF or AlF, Na3AlF6, ZrO2, or silica can be used. The average particle size is preferably 1 nm or more and 100 nm or less. When the particle diameter exceeds 100 nm, light is remarkably reflected by Rayleigh scattering, and the transparency tends to decrease. On the other hand, when the particle size is less than 1 nm, a problem of particle aggregation occurs. The average particle diameter means a 50% particle diameter (d50 median diameter) when particles in a solution are measured by a dynamic light scattering method and the particle diameter distribution is expressed by a cumulative distribution.

また、これら遮光インキ、着色インキ及び基礎パターン用インキには必要に応じて、分散剤、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、密着向上剤、紫外線吸収剤、レベリング剤等が添加されてもよい。なお、本発明に用いる遮光インキ、着色インキ、基礎パターン用インキはこれらに限定されるものではない。   In addition, dispersants, surfactants, antioxidants, viscosity modifiers, adhesion improvers, ultraviolet absorbers, leveling agents, and the like are added to these light-shielding inks, colored inks, and basic pattern inks as necessary. Also good. The light-shielding ink, the color ink, and the basic pattern ink used in the present invention are not limited to these.

本発明の特徴である着色インキの土台となる基礎パターンを、紫外線硬化樹脂と遮光パターンを用いて印刷及び未硬化パターンの除去により形成する場合、紫外線硬化性樹脂組成物として、不飽和ポリエステル系、アクリル系、ビニルエーテル系、マレイミド系、エポキシ系など各種の紫外線硬化型オリゴマー・モノマーを主成分とし、反応性希釈剤、重合開始剤、重合促進剤、有機溶剤などを、必要に応じ混合して用いることができる。
なかでも、フィルム基材上に塗工・乾燥した際に、表面の粘着性が無くなる性質を持つモノマー(例えば高分子量アクリル樹脂のプレポリマー)を用いた場合、紫外線硬化前の状態で巻き取り加工が可能となるため好ましい。
このような紫外線硬化樹脂やインキとしてはDIC社製「ユニディック RC29−117」や「ユニディック RC29−120」、大成ファインケミカル社製「8KX018C」等が挙げられる。
In the case of forming the basic pattern serving as the basis of the colored ink, which is a feature of the present invention, by printing and removing the uncured pattern using an ultraviolet curable resin and a light shielding pattern, as the ultraviolet curable resin composition, an unsaturated polyester system, Mainly composed of various UV-curable oligomers and monomers such as acrylic, vinyl ether, maleimide, and epoxy, and use reactive diluents, polymerization initiators, polymerization accelerators, organic solvents, etc. as necessary. be able to.
In particular, when a monomer (such as a prepolymer of a high molecular weight acrylic resin) having a property of eliminating the adhesiveness of the surface when applied and dried on a film substrate is wound up in a state before UV curing. Is preferable.
Examples of such ultraviolet curable resins and inks include “Unidic RC29-117” and “Unidic RC29-120” manufactured by DIC, and “8KX018C” manufactured by Taisei Fine Chemical.

紫外線硬化に用いる紫外線(UV)ランプは、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプが適用でき、紫外線の波長は200〜400nm程度で、樹脂や開始剤に応じて波長を選択すれば良い。その照射量や照射時間は、組成物の材質や膜厚、UVランプの出力と、加工速度に応じて選択できる。   As the ultraviolet (UV) lamp used for ultraviolet curing, a high-pressure mercury lamp or a metal halide lamp can be applied, and the wavelength of the ultraviolet is about 200 to 400 nm, and the wavelength may be selected according to the resin and the initiator. The irradiation amount and irradiation time can be selected according to the material and film thickness of the composition, the output of the UV lamp, and the processing speed.

エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエチルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル アセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、トルエン、キシレン、酢酸エチル、メチルエチルケトン、イソプロパノール等の汎用の有機溶剤を使用することができる。   Ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethyl acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, cyclohexanone, methyl lactate, A general-purpose organic solvent such as ethyl lactate, butyl lactate, toluene, xylene, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, and isopropanol can be used.

本実施形態に係る印刷方法は、巻き取りロール状で供給されたインキ剥離性フィルム基材201へインキ膜205を塗工し、該インキ膜205を予備乾燥した後、除去版211を押し当て、インキ膜205の不要なパターンを除去版211の凸部に転写除去し、残った画像パターンを被印刷基材202へ転写することを特徴とする。   In the printing method according to this embodiment, the ink film 205 is applied to the ink peelable film substrate 201 supplied in the form of a winding roll, and after the ink film 205 is preliminarily dried, the removal plate 211 is pressed, An unnecessary pattern of the ink film 205 is transferred to and removed from the convex portion of the removal plate 211, and the remaining image pattern is transferred to the printing substrate 202.

被印刷基材202への位置あわせ印刷が必要な場合、パターニングされた位置あわせマークとあらかじめ被印刷基材202上に設けられたパターンとを重ね合わせ、マークを観察しながら位置調整を行い転写位置を決めることを特徴とする。   When alignment printing on the substrate to be printed 202 is necessary, the patterned alignment mark and a pattern previously provided on the substrate to be printed 202 are overlapped, and the position is adjusted while observing the mark to transfer position It is characterized by determining.

すなわち、本実施形態に係る印刷方法は、以下の第1乃至第5の工程を含む。
(a)透明な材料で構成され、厚さ方向の一方の面である片面にインキ剥離層203を有するインキ剥離性フィルム基材201のインキ剥離層203上に、インキ液膜205を塗工する第1の工程。
(b)インキ液膜205を予備乾燥する第2の工程。
(c)予め定められた画像パターンのネガパターンの凸パターンが形成された除去版211を、予備乾燥させたインキ液膜205に押し当て、凸パターンに対応するインキ液膜205の部分を除去することでインキ剥離性フィルム基材201に残存するインキ液膜205により画像パターンを形成する第3の工程。
(d)インキ剥離性フィルム基材201に残存するインキ液膜205により形成された画像パターンと、被印刷基材202の表面にあらかじめ設けられたパターンを重ねて観察し、インキ剥離性フィルム基材201と被印刷基材202との位置合わせを行う第4の工程。
(e)インキ剥離性フィルム基材201に残存するインキ液膜205により形成された画像パターンを、被印刷基材202の表面上へ転写し、被印刷基材202に画像パターンを印刷する第5の工程。
この場合、被印刷基材202に予め画像パターンの土台となる基礎パターン204が設けられており、第5の工程によるインキ液膜205の転写は、基礎パターン204のうち、選択された基礎パターン204上に画像パターンが転写されることでなされる。
That is, the printing method according to the present embodiment includes the following first to fifth steps.
(A) The ink liquid film 205 is applied on the ink peeling layer 203 of the ink peeling film base 201 which is made of a transparent material and has the ink peeling layer 203 on one side which is one side in the thickness direction. First step.
(B) A second step of pre-drying the ink liquid film 205.
(C) The removal plate 211 on which the negative pattern convex pattern of the predetermined image pattern is formed is pressed against the preliminarily dried ink liquid film 205 to remove the portion of the ink liquid film 205 corresponding to the convex pattern. A third step of forming an image pattern with the ink liquid film 205 remaining on the ink peelable film substrate 201.
(D) The image pattern formed by the ink liquid film 205 remaining on the ink peelable film substrate 201 and the pattern provided in advance on the surface of the substrate 202 to be printed are superposed and observed, and the ink peelable film substrate is observed. 4th process which aligns 201 and the to-be-printed substrate 202. FIG.
(E) An image pattern formed by the ink liquid film 205 remaining on the ink peelable film substrate 201 is transferred onto the surface of the substrate to be printed 202, and the image pattern is printed on the substrate to be printed 202 Process.
In this case, a basic pattern 204 serving as a base of an image pattern is provided in advance on the substrate to be printed 202, and the ink liquid film 205 is transferred in the fifth step in the basic pattern 204 selected from the basic patterns 204. This is done by transferring the image pattern on top.

また、基礎パターン204は以下の工程によって設けることができる。
(a’)厚さ方向の一方の面である片面にインキ剥離層203を有する基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材201のインキ剥離層203上に、基礎パターン形成用のインキ液膜205を塗工する工程(図2(a))。
(b’)インキ液膜を予備乾燥する工程。
(c’)基礎パターン204と凹凸形状が反対に形成されたネガパターンの凸パターンが形成された基礎パターン形成用の除去版211を、予備乾燥させたインキ液膜205に押し当て、凸パターンに対応するインキ液膜205の部分を除去することで基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材201にインキ液膜205のパターンを形成する工程(図2(b),(c))。
(d’)インキ液膜205のパターンを、被印刷基材202の表面上へ転写し、被印刷基材202に基礎パターン204を転写する工程(図2(d),(e),(f))。
The basic pattern 204 can be provided by the following process.
(A ′) An ink liquid film 205 for forming a basic pattern on an ink peeling layer 203 of an ink-peeling film base material 201 for forming a basic pattern having an ink peeling layer 203 on one surface which is one surface in the thickness direction. The process of apply | coating (FIG. 2 (a)).
(B ′) A step of pre-drying the ink liquid film.
(C ′) The basic pattern forming removal plate 211 on which the negative pattern convex pattern formed opposite to the basic pattern 204 is pressed against the preliminarily dried ink liquid film 205 to form the convex pattern. A step of forming a pattern of the ink liquid film 205 on the ink peelable film substrate 201 for forming the basic pattern by removing the corresponding part of the ink liquid film 205 (FIGS. 2B and 2C).
(D ′) A step of transferring the pattern of the ink liquid film 205 onto the surface of the substrate to be printed 202 and transferring the basic pattern 204 to the substrate to be printed 202 (FIGS. 2D, 2E, and 2F). )).

また、基礎パターン204は以下の工程によって設けることができる。
(a’’)厚さ方向の一方の面である片面にインキ剥離層203を有する基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材201のインキ剥離層203上に、基礎パターン形成用の遮光インキ液膜206を塗工する工程。
(b’’)遮光インキ液膜206を予備乾燥する工程。
(c’’)基礎パターン204と凹凸形状が同じ凸パターンが形成された基礎パターン形成用の除去版211を、予備乾燥させた遮光インキ液膜206に押し当て、凸パターンに対応する遮光インキ液膜206の部分を除去することで基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材201に遮光インキ液膜206のパターンを形成する工程(図3(a))。
(d’’)紫外線硬化性樹脂205をコーティングした被印刷基材202上に、遮光インキ液膜206のパターンを転写する工程(図3(b))。
(e’’)遮光インキ液膜206のパターンを転写した被印刷基材202の表面に、紫外線照射を行い紫外線硬化性樹脂205のうち遮光インキ液膜206のパターンが転写された部分を除く部分を硬化させる工程(図3(c))。
(f’’)遮光インキ液膜206及び、紫外線硬化していない紫外線硬化性樹脂206を可溶性溶剤により除去することにより残存する紫外線硬化した紫外線硬化性樹脂206で基礎パターン204を形成する工程(図3(d))。
The basic pattern 204 can be provided by the following process.
(A ″) A light-shielding ink solution for forming a basic pattern on the ink peeling layer 203 of the ink-peeling film substrate 201 for forming a basic pattern having the ink peeling layer 203 on one side which is one surface in the thickness direction. A step of applying the film 206.
(B ″) A step of pre-drying the light-shielding ink liquid film 206.
(C ″) A base pattern forming removal plate 211 on which a convex pattern having the same concave and convex shape as the basic pattern 204 is pressed against the preliminarily dried light-shielding ink liquid film 206, and the light-shielding ink liquid corresponding to the convex pattern A step of forming a pattern of the light-shielding ink liquid film 206 on the ink-peeling film substrate 201 for forming the basic pattern by removing the film 206 (FIG. 3A).
(D ″) A step of transferring the pattern of the light-shielding ink liquid film 206 onto the printing substrate 202 coated with the ultraviolet curable resin 205 (FIG. 3B).
(E ″) A portion excluding a portion of the ultraviolet curable resin 205 to which the pattern of the light-shielding ink liquid film 206 is transferred by irradiating the surface of the substrate 202 to which the pattern of the light-shielding ink liquid film 206 is transferred with ultraviolet light. Step of curing (FIG. 3C).
(F ″) A step of forming a basic pattern 204 from the light-shielding ink liquid film 206 and the ultraviolet curable resin 206 that has been cured by removing the ultraviolet curable resin 206 that has not been ultraviolet cured with a soluble solvent (FIG. 3 (d)).

次に、本発明による印刷方法を具体化する印刷装置の一例を、被印刷基材202を可撓性基材とした場合として図1に示し、実際の印刷工程に従って説明する。   Next, an example of a printing apparatus embodying the printing method according to the present invention is shown in FIG. 1 as a case where the substrate to be printed 202 is a flexible substrate, and will be described according to an actual printing process.

印刷装置は、図1(a)〜(c)に示すように、インキ剥離性フィルム基材巻き出し部101、インキ剥離性フィルム基材巻き取り部107、被印刷基材巻き出し部108、被印刷基材巻き取り部110等のインキ剥離性フィルム基材201または、被印刷基材202の搬送に関わる装置部と、塗工部102、乾燥部103、パターン除去部104、アライメント部105、貼りあわせ部106、被印刷基材乾燥部109によって構成される。   As shown in FIGS. 1A to 1C, the printing apparatus includes an ink peelable film substrate unwinding unit 101, an ink peelable film substrate unwinding unit 107, a substrate to be printed unwinding unit 108, Ink peelable film substrate 201 such as printing substrate take-up unit 110 or an apparatus unit related to conveyance of substrate to be printed 202, coating unit 102, drying unit 103, pattern removing unit 104, alignment unit 105, pasting The combining unit 106 and the printing substrate drying unit 109 are configured.

インキ剥離性フィルム基材巻き出し部101、インキ剥離性フィルム基材巻き取り部107、被印刷基材巻き出し部108、被印刷基材巻き取り部110等の搬送部は、それぞれ巻き取りロールで供給される原反を設置または、巻き取るため直径3インチから30インチの芯を装着できるマウンターを備えたシリンダーと、回転やテンションを制御してフィルム基材を搬送するためのモーターを備える。   Ink peelable film substrate unwinding section 101, ink peelable film substrate unwinding section 107, printed substrate unwinding section 108, printed substrate unwinding section 110, and the like are each a take-up roll. A cylinder having a mounter on which a core having a diameter of 3 inches to 30 inches can be mounted in order to install or wind the supplied raw material, and a motor for transporting the film substrate by controlling rotation and tension.

装着される被印刷基材202としてのフィルム原反幅は100mm〜1000mmが選択できるが、パターンの実用性と転写位置精度を考慮し300mm幅が選択される。   Although the film original fabric width as the printing substrate 202 to be mounted can be selected from 100 mm to 1000 mm, the width of 300 mm is selected in consideration of the practicality of the pattern and the transfer position accuracy.

また、インキ剥離性フィルム基材201や被印刷基材202等のフィルム基材のテンションの制御は、これら装置以外に搬送系にニップ部を設置して基材を保持することでも調節を行うことができる。   In addition, the tension of the film substrate such as the ink-peelable film substrate 201 and the substrate to be printed 202 can be controlled by installing a nip portion in the transport system and holding the substrate in addition to these devices. Can do.

ニップ部は、金属ロールまたは、金属ロールとゴム皮膜した金属ロールとでの挟みや、搬送ロールに備わったエアー吸着孔による吸着ニップが用いられ、インキ膜205の塗工領域を搬送する場合などは、ニップを解除して搬送ロールとインキ膜205が接触しないような機構を有する。   The nip part is a metal roll or sandwiched between a metal roll and a metal roll coated with a rubber, or an adsorption nip formed by an air adsorption hole provided in the conveyance roll, and is used when conveying the coating area of the ink film 205. , The mechanism that releases the nip and prevents the transport roll and the ink film 205 from contacting each other.

搬送は、各工程で必要な時間差を緩和し、フィルムの連続搬送を行うためのバッファを備えた場合、5m/sec〜10m/secの連続搬送を行うことができるが、インキ剥離性フィルム基材201や被印刷基材202を、工程毎に必要な長さ繰り出す方式を用いるのが好ましい。   When the transport is provided with a buffer for continuously transporting the film, the time difference required in each process is eased, but the continuous film can be transported at 5 m / sec to 10 m / sec. It is preferable to use a method in which 201 and the substrate to be printed 202 are drawn out for each process.

塗工部102は、可動ステージと、可動ステージ上に設けられたインキ剥離性フィルム基材201に対しインキ膜205(図2(a))を塗布する塗工装置が設置されている。   The coating unit 102 is provided with a movable stage and a coating apparatus that applies the ink film 205 (FIG. 2A) to the ink peelable film substrate 201 provided on the movable stage.

可動ステージは、ボールねじやリニアモーター等で駆動するものを用いることができ、金属製、石製などのものを用いることができるが少なくとも水平方向に水平を保ったまま往復運動することができ、インキ剥離性フィルム基材201を吸着することができる。   The movable stage can be driven by a ball screw, a linear motor, etc., and can be made of metal, stone, etc., but can reciprocate while maintaining at least the horizontal direction, The ink peelable film substrate 201 can be adsorbed.

吸着による表面の凹凸を防ぐためにフィルムのエッジ付近のみ吸着孔を設ける方法や、多孔質性材料を用いた吸着表面を用いる方法を選択することができる。   In order to prevent unevenness of the surface due to adsorption, a method of providing adsorption holes only near the edge of the film or a method of using an adsorption surface using a porous material can be selected.

塗工装置は、連続加工や膜厚の均一性が優れるダイ方式のものについて説明するが、これに限定するものではない。塗工ヘッド209として用いるダイヘッドには、別に用意されたインキ供給用のポンプから所定量のインキを供給することができる。   The coating apparatus will be described with respect to a die type which is excellent in continuous processing and film thickness uniformity, but is not limited thereto. The die head used as the coating head 209 can be supplied with a predetermined amount of ink from a separately prepared ink supply pump.

この塗工ヘッド209とインキ剥離性フィルム基材201とのギャップは印刷開始前に設定してもよく、また可動式ステージの搬送に合わせて塗工ヘッド209を上下動させて調整してもよい。膜厚はインキ供給量やヘッドのギャップ、ヘッドと基材とのギャップ、塗工速度などを組み合わせて設定し、乾燥膜厚0.3μm〜4μmの間で設定することが好ましい。膜厚が薄いと均一な塗工面を得ることが困難となり、膜厚が厚い場合除去版によるパターニング形状の再現性が悪くなり、被印刷基材上への転写時のつぶれも見られるようになる。   The gap between the coating head 209 and the ink peelable film substrate 201 may be set before the start of printing, or may be adjusted by moving the coating head 209 up and down according to the conveyance of the movable stage. . The film thickness is preferably set by combining the ink supply amount, the gap between the heads, the gap between the head and the substrate, the coating speed, and the like, and is preferably set between 0.3 μm and 4 μm in dry film thickness. When the film thickness is thin, it becomes difficult to obtain a uniform coating surface. When the film thickness is large, the reproducibility of the patterning shape by the removal plate is deteriorated, and crushing at the time of transfer onto the substrate to be printed can be seen. .

乾燥部103は、図1(a)に示すように、上記塗工部102でインキ剥離性フィルム基材201へ塗工したインキ膜205を乾燥させるために設置されるもので、ホットプレート、オーブン、温風、減圧乾燥、紫外線照射などの乾燥装置を設けてもよい。   As shown in FIG. 1A, the drying unit 103 is installed to dry the ink film 205 coated on the ink-peeling film substrate 201 by the coating unit 102. Further, a drying device such as hot air, reduced pressure drying, and ultraviolet irradiation may be provided.

パターン除去部104は、図1(a)に示すように、可動ステージに樹脂製またはガラス製の除去版211が吸着により装着されており、図2(b)、(c)に示すように、インキ剥離性フィルム基材201上のインキ膜205面を該除去版211に近づけた後、可動ステージの移動とともに圧胴による加重をかけ、除去版211の凸部と接したインキ膜205を除去版211の凸部表面に転移させる。   As shown in FIG. 1A, the pattern removing unit 104 has a movable plate made of a resin or glass removed plate 211 attached thereto by suction, and as shown in FIGS. 2B and 2C, After the surface of the ink film 205 on the ink peelable film substrate 201 is brought close to the removal plate 211, the ink film 205 in contact with the convex portion of the removal plate 211 is removed by applying a load by the impression cylinder as the movable stage moves. 211 is transferred to the surface of the convex portion.

アライメント部105は、図1(c)に示すように、可動性ステージと複数の顕微鏡カメラ210(図4(c))から構成されており、可動性ステージ上に吸着した被印刷基材202上に、インキ剥離性フィルム基材201上のインキ膜205を100〜250μmに近づけた後、インキ剥離性フィルム基材201が透明なことを利用して、インキ剥離性フィルム基材201上に得られたパターンの一部やアライメント用のマークパターンと、被印刷基材202上のパターンを透過画像で認識し、それぞれの基材パターンを認識した画像を基に可動性ステージを動作させ転写位置の補正を行うことができる。   As shown in FIG. 1C, the alignment unit 105 is composed of a movable stage and a plurality of microscope cameras 210 (FIG. 4C), and is on the substrate 202 to be printed adsorbed on the movable stage. Further, after the ink film 205 on the ink peelable film substrate 201 is brought close to 100 to 250 μm, it is obtained on the ink peelable film substrate 201 by utilizing the fact that the ink peelable film substrate 201 is transparent. A part of the pattern and the mark pattern for alignment and the pattern on the substrate 202 to be printed are recognized by the transmission image, and the movable stage is operated based on the image in which each substrate pattern is recognized to correct the transfer position. It can be performed.

また、インキ剥離性フィルム基材201と被印刷基材202の間に顕微鏡カメラ210を挿入し、それぞれの基材上のパターンを認識した画像を基に位置の補正を行う方法も選択できる。   Also, a method of inserting a microscope camera 210 between the ink peelable film substrate 201 and the substrate to be printed 202 and correcting the position based on an image in which a pattern on each substrate is recognized can be selected.

上記顕微鏡カメラ210は光学顕微鏡、CCD(Charge Coupled Device)顕微鏡のどちらであっても良いが、オートフォーカス、電気的に制御可能な手動焦点制御機構のいずれか、もしくはその両方の機能を必要とし、観察の為に外部に設置したモニターや位置補正の為の画像処理装置へのインターフェースを持つものとすることができる。   The microscope camera 210 may be either an optical microscope or a CCD (Charge Coupled Device) microscope. However, the microscope camera 210 requires the functions of either autofocus, an electrically controllable manual focus control mechanism, or both. It can have an interface to an external monitor for observation and an image processing device for position correction.

貼りあわせ部106には、図1(a),(b)に示すように、前記アライメント部105に設置された可動性ステージ上に金属ローラーまたはゴムローラーが設けられる。   As shown in FIGS. 1A and 1B, the bonding unit 106 is provided with a metal roller or a rubber roller on a movable stage installed in the alignment unit 105.

可動性ステージに固定された被印刷基材202と、わずかな隙間をあけて設置されたインキ剥離性フィルム基材201の上からローラーを押し当て、可動性ステージの移動と共にローラーを回転させながら印圧をかけ、つぎにインキ剥離性フィルム基材201を被印刷基材202から剥がすことにより画像部パターンを被印刷基材202上へ転写することができる。   A roller is pressed against the substrate 202 to be printed fixed on the movable stage and the ink peelable film substrate 201 installed with a slight gap, and the roller is rotated as the movable stage moves. The image portion pattern can be transferred onto the substrate to be printed 202 by applying pressure and then peeling the ink peelable film substrate 201 from the substrate to be printed 202.

フィルム基材乾燥部109は、図1(c)に示すように、被印刷基材202上に転写された画像パターンを乾燥させるために設置されるもので、ホットプレート、オーブン、温風、減圧乾燥、紫外線照射などの乾燥装置を設けることが可能であるが、被印刷基材の巻き取り時のブロッキングを防止する為に必要な乾燥が可能であればよく、使用するインクにもよるが、紫外線硬化インキを用いた場合1から10秒程度、熱硬化性インキを用いた場合には80℃〜100℃にて30秒〜2分程度の熱乾燥を行うのが良い。   As shown in FIG. 1C, the film substrate drying unit 109 is installed to dry the image pattern transferred onto the substrate to be printed 202, and is a hot plate, oven, hot air, reduced pressure. Although it is possible to provide a drying device such as drying and ultraviolet irradiation, it is sufficient that drying necessary to prevent blocking at the time of winding of the substrate to be printed is possible, depending on the ink used, When UV curable ink is used, it is preferable to perform heat drying for about 1 to 10 seconds.

本発明による印刷方法を構成する、基礎パターンの印刷や遮光パターンの印刷、基礎パターン上への印刷など各工程の印刷は上記説明と同様の印刷を行う。   Printing in each process, such as printing of the basic pattern, printing of the light shielding pattern, and printing on the basic pattern, which constitutes the printing method according to the present invention, is performed in the same manner as described above.

カラーフィルター用赤色インキを次の要領で調製した。下記の組成の混合物を均一に撹拌混合した後、直径1mmのガラスビーズを用い、サンドミルで5時間分散し、さらに5μmのフィルタでろ過して赤色顔料の分散体を得た。
[カラーフィルター用赤色顔料分散体の組成]
・赤色顔料:
C.I.Pigment Red 254 (チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガーフォーレッドB−CF」)
18重量部
C.I.Pigment Red 177 (チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「クロモフタールレッドA2B」)
2重量部
・アクリルワニス(固形分20%) 108重量部
その後、下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、5μmのフィルタで濾過して赤色着色インキを得た。
(赤色着色インキの組成)
・上記分散体 100重量部
・メチル化メチロールメラミン: MW−30(三洋化成社製) 20重量部
・レベリング剤:メガファックF−483SF(DIC社製) 3重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 85重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 45重量部
A red ink for a color filter was prepared as follows. A mixture having the following composition was stirred and mixed uniformly, then dispersed with a sand mill for 5 hours using glass beads having a diameter of 1 mm, and further filtered through a 5 μm filter to obtain a red pigment dispersion.
[Composition of red pigment dispersion for color filter]
・ Red pigment:
C. I. Pigment Red 254 (“Ilgar Forred B-CF” manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
18 parts by weight C.I. I. Pigment Red 177 (Ciba Specialty Chemicals “Chromophthal Red A2B”)
2 parts by weight / acrylic varnish (solid content 20%) 108 parts by weight Thereafter, a mixture having the following composition was stirred and mixed uniformly, and then filtered through a 5 μm filter to obtain a red colored ink.
(Composition of red coloring ink)
-100 parts by weight of the above dispersion-20 parts by weight of methylated methylol melamine: MW-30 (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.)-3 parts by weight of leveling agent: Megafac F-483SF (manufactured by DIC)-85 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether・ 45 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate

また、カラーフィルター用青色インキを次の要領で調製した。下記の組成の混合物を均一に撹拌混合した後、直径1mmのガラスビーズを用い、サンドミルで5時間分散し、さらに5μmのフィルタでろ過して青色顔料の分散体を得た。
[カラーフィルター用青色顔料分散体の組成]
・青色顔料:
C.I.Pigment Blue 15:6(大日精化工業製「Chromofine Blue 5201A」)
25重量部
・アクリルワニス(固形分20%)
108重量部
その後、下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、5μmのフィルタで濾過して青色着色インキを得た。
(青色着色インキの組成)
・上記分散体 100重量部
・メチル化メチロールメラミン: MW−30(三洋化成社製) 20重量部
・レベリング剤:メガファックF−483SF(DIC社製) 2重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 85重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 45重量部
Moreover, the blue ink for color filters was prepared in the following way. A mixture having the following composition was stirred and mixed uniformly, then dispersed with a sand mill for 5 hours using glass beads having a diameter of 1 mm, and further filtered with a 5 μm filter to obtain a blue pigment dispersion.
[Composition of blue pigment dispersion for color filter]
・ Blue pigment:
C. I. Pigment Blue 15: 6 ("Chromofine Blue 5201A" manufactured by Dainichi Seika Kogyo)
25 parts by weight acrylic varnish (solid content 20%)
108 parts by weight Thereafter, a mixture having the following composition was stirred and mixed so as to be uniform, and then filtered through a 5 μm filter to obtain a blue colored ink.
(Composition of blue coloring ink)
-100 parts by weight of the above dispersion-20 parts by weight of methylated methylol melamine: MW-30 (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.)-2 parts by weight of leveling agent: Megafac F-483SF (manufactured by DIC)-85 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether・ 45 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate

また、基礎パターン形成用の透明インキを次の要領で調製した。下記の組成の混合物を均一に撹拌混合した後、直径1mmのガラスビーズを用い、サンドミルで5時間分散し、さらに5μmのフィルタでろ過して分散体を得た。
[基礎パターン用透明粒子分散体の組成]
・シリカ微粒子 20重量部
・アクリルワニス(固形分20%) 108重量部
(基礎パターン用透明インキの組成)
・上記分散体 100重量部
・メチル化メチロールメラミン(三洋化成社製「MW−30」) 20重量部
・レベリング剤 (DIC社製「メガファックF−483SF」) 2重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 85重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 45重量部
Moreover, the transparent ink for basic pattern formation was prepared in the following way. A mixture having the following composition was stirred and mixed uniformly, then dispersed with a sand mill for 5 hours using glass beads having a diameter of 1 mm, and further filtered through a 5 μm filter to obtain a dispersion.
[Composition of transparent particle dispersion for basic pattern]
・ Silica fine particles 20 parts by weight ・ Acrylic varnish (solid content 20%) 108 parts by weight (composition of transparent ink for basic pattern)
-100 parts by weight of the above dispersion-20 parts by weight of methylated methylol melamine ("MW-30" manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.)-2 parts by weight of a leveling agent ("Megafac F-383SF" manufactured by DIC)-Propylene glycol monomethyl ether 85 Parts by weight ・ 45 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate

また、遮光インキを次の要領で調製した。
(遮光インキの組成)
・ポリイミド前駆体(東レ(株)製「セミコファインSP−510」) 15重量部
・カーボンブラック 10重量部
・N-メチルピロリドン 130重量部
・分散剤(銅フタロシアニン誘導体) 5重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 15重量部
上記材料をビーズミル分散機で冷却しながら3時間分散し、さらに5μmのフィルタでろ過して隔壁用インクを調製した。
A light-shielding ink was prepared as follows.
(Composition of shading ink)
-Polyimide precursor ("Semicofine SP-510" manufactured by Toray Industries, Inc.) 15 parts by weight-Carbon black 10 parts by weight-N-methylpyrrolidone 130 parts by weight-Dispersant (copper phthalocyanine derivative) 5 parts by weight-Propylene glycol monomethyl 15 parts by weight of ether acetate The above material was dispersed for 3 hours while cooling with a bead mill disperser, and further filtered with a 5 μm filter to prepare a partition wall ink.

インキ剥離性フィルム基材としては、基材厚約100μmの透明ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(三菱樹脂株式会社製 ダイヤホイルT600)500mm幅、300m上の中央300mm幅にダイコーターを用い、乾燥後膜厚が10μm程度になるように剥離性シリコーン樹脂(信越化学株式会社製) KS847及び硬化剤を固形分重量比2%とともに塗工したものを使用した。   As an ink peelable film substrate, a transparent polyethylene terephthalate (PET) film (Diafoil T600 manufactured by Mitsubishi Plastics Co., Ltd.) having a substrate thickness of about 100 μm is 500 mm wide, and a die coater is used at the center 300 mm width on 300 m. A peelable silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) KS847 and a curing agent coated with a solid content weight ratio of 2% so as to have a thickness of about 10 μm was used.

パターンを設けるための除去版としては、300mmx300mm×0.7mmのCr付き無アルカリガラス上に、フォトマスクを用いて、位置あわせ用マークおよび表示パネル用マスクパターンをエッチングにより設けた。位置あわせ用マーク250mm□の4つ角に設け、表示パネル用パターンは版の中心部180mm□の範囲内に、凸部20μm幅、凹部80μm幅の連続したタイルパターンを版深2μmで設けた。   As a removal plate for providing a pattern, a mark for alignment and a mask pattern for a display panel were provided by etching on an alkali-free glass with Cr of 300 mm × 300 mm × 0.7 mm using a photomask. Provided at the four corners of the alignment mark 250 mm □, the display panel pattern was provided with a continuous tile pattern with a convex portion of 20 μm width and a concave portion of 80 μm width within a plate central portion of 180 mm □ with a plate depth of 2 μm.

さらに、被印刷基材としてフィルム厚125μmの光透過性ポリエチレンナフタレート(PEN)基材(帝人デュポンフィルム社製「テオネックスQ65F」)を300mm幅、20mのロール状で用意した。   Further, a light-transmitting polyethylene naphthalate (PEN) substrate (“Teonex Q65F” manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) having a film thickness of 125 μm was prepared as a substrate to be printed in a roll shape of 300 mm width and 20 m.

上記の部材を用い、図1の装置を用いて加工を行った。   Using the above members, processing was performed using the apparatus of FIG.

(基材上への基礎パターンの印刷)
まず、塗工部102のステージ上に新しいインキ剥離層203の表面が来るようにインキ剥離性フィルム基材201を繰り出し、塗工部102のステージにバキューム固定した後、300mm幅のヘッドを用いたダイコーターにより、塗工長さ350mm、膜厚0.8μmで基礎パターン用透明インキをコーティングした(図2(a))。
(Printing basic patterns on the substrate)
First, the ink-releasable film base material 201 was drawn out so that the surface of the new ink peeling layer 203 came on the stage of the coating unit 102, vacuum fixed to the stage of the coating unit 102, and then a 300 mm wide head was used. The basic pattern transparent ink was coated with a die coater with a coating length of 350 mm and a film thickness of 0.8 μm (FIG. 2A).

その後、設置された40℃IR炉中で30秒乾燥を行い、塗工部102がパターン除去部104のステージ上に設置されるまで搬送を行った後、さらに室温で120秒待機した。インキ剥離性フィルム基材201上のインキ塗工部分を、電子ペーパー用CFパターン及びアライメントマークを含む各種マークがエッチングされた除去版211を設置した転写ステージ上にくるように搬送した(図2(b))。転写用のゴムローラーをインキ剥離性フィルム基材201の裏側(インキが塗工された面の反対面)から圧力をかけ、非画像部を除去版211の凸部へ転移させた。さらに金属ローラーの移動と共にインキ剥離性フィルム基材201を除去版211より剥離した(図2(c))。除去版211を支持しているステージを横方向にスライドさせ、被印刷基材202の搬送系とアライメントステージが一体となった転写ユニットを上昇させた。   Then, after drying for 30 seconds in the installed 40 degreeC IR furnace and conveying until the coating part 102 was installed on the stage of the pattern removal part 104, it waited for 120 second at room temperature further. The ink-coated portion on the ink-peelable film substrate 201 was conveyed so as to be on a transfer stage on which a removal plate 211 in which various marks including an electronic paper CF pattern and alignment marks were etched (FIG. 2 ( b)). A pressure was applied to the transfer rubber roller from the back side of the ink-peeling film substrate 201 (the surface opposite to the surface coated with the ink) to transfer the non-image portion to the convex portion of the removal plate 211. Further, along with the movement of the metal roller, the ink peelable film substrate 201 was peeled from the removal plate 211 (FIG. 2 (c)). The stage supporting the removal plate 211 was slid in the horizontal direction, and the transfer unit in which the conveyance system of the printing substrate 202 and the alignment stage were integrated was raised.

つぎに、インキ剥離性フィルム基材201上に残ったパターンを、あらかじめ位置あわせマークが印刷された被印刷基材202が吸着固定されたアライメント部ステージ上まで搬送した(図2(d))。ゴムローラーでインキ剥離性フィルム基材201と被印刷基材202を貼り合わせ、つぎにステージから動かしながらインキ剥離性フィルム基材を被印刷基材から剥がすことによって、被印刷基材へ基礎パターン204の転写を行った(図2(e))。転写した基礎パターン204を80℃環境で2分間乾燥した。   Next, the pattern remaining on the ink-peeling film substrate 201 was conveyed onto the alignment unit stage on which the substrate 202 to be printed on which the alignment mark had been printed was fixed by suction (FIG. 2D). The basic pattern 204 is applied to the substrate to be printed by laminating the ink peelable film substrate 201 and the substrate to be printed 202 with a rubber roller, and then peeling the ink peelable film substrate from the substrate to be printed while moving from the stage. Was transferred (FIG. 2 (e)). The transferred basic pattern 204 was dried at 80 ° C. for 2 minutes.

次に、カラーフィルターの画素パターン周辺に設けたアライメントマーク付近にのみ、前記の方法と同様に遮光インキを被印刷基材202へ転写した。結果、基礎パターン204が設けられ凸形状になったアライメントマークに遮光インキが積層され、アライメントマークの認識が容易となった。   Next, the light-shielding ink was transferred to the substrate 202 to be printed only in the vicinity of the alignment mark provided around the pixel pattern of the color filter in the same manner as described above. As a result, the shading ink was laminated on the alignment mark provided with the basic pattern 204 and having a convex shape, and the alignment mark was easily recognized.

(選択した基礎パターン上への印刷)
さらに上記印刷工程と同様に、インキ剥離性フィルム基材201上に塗工長さ350mm、膜厚0.8μmとなるように赤色インキ205を塗工し、約7分間の室温放置のみで乾燥した。基礎パターン204によって設けられたパネルパターンに対して、4分の1のサブピクセルに対応した除去版211を用い、インキ剥離性フィルム基材201上に赤のサブピクセルパターンを形成した。
(Printing on the selected basic pattern)
Further, in the same manner as in the above printing step, the red ink 205 was applied on the ink peelable film substrate 201 to a coating length of 350 mm and a film thickness of 0.8 μm, and was dried only at room temperature for about 7 minutes. . With respect to the panel pattern provided by the basic pattern 204, a red subpixel pattern was formed on the ink-peelable film substrate 201 by using a removal plate 211 corresponding to a quarter of the subpixels.

図4(a)、(b)に示すように、基礎パターン204を印刷し、さらにアライメントマーク208に遮光インキを積層した被印刷基材202をアライメントステージ上に固定する。そして、図4(c)に示すように、インキ剥離性フィルム基材201上に除去版211を利用してパターニングした赤色インキ205で形成されたアライメントマークと、被印刷基材202のアライメントマーク208との双方のアライメントマークを観察しながら、被印刷基材202を固定したアライメントステージを動かし位置あわせを行った。   As shown in FIGS. 4A and 4B, the basic pattern 204 is printed, and the substrate 202 to be printed on which the light shielding ink is laminated on the alignment mark 208 is fixed on the alignment stage. And as shown in FIG.4 (c), the alignment mark formed with the red ink 205 patterned using the removal plate 211 on the ink peelable film base material 201, and the alignment mark 208 of the to-be-printed base material 202 While observing both alignment marks, the alignment stage on which the substrate to be printed 202 was fixed was moved for alignment.

次に、被印刷基材202とインキ剥離性フィルム基材201を貼り合わせ、インキ剥離性フィルム基材201を剥離し、図4(d)に示すように、被印刷基材202上の基礎パターン204上に赤色インキ205で作成した画素パターンを積層した。
同様に、青色インキ205(図中、赤色インキ205とは別のハッチングで示されている)を別の基礎パターン204上に積層した。どちらの色インキも基礎パターン204が設けられ凸状となっている部分にのみ色インキが転写され、CFの設計どおりの画素パターン精度が得られた。
Next, the substrate to be printed 202 and the ink peelable film substrate 201 are bonded together, the ink peelable film substrate 201 is peeled off, and the basic pattern on the substrate to be printed 202 is shown in FIG. A pixel pattern created with red ink 205 was laminated on 204.
Similarly, blue ink 205 (shown by hatching different from red ink 205 in the figure) was laminated on another basic pattern 204. In both color inks, the color ink was transferred only to the convex portion provided with the basic pattern 204, and the pixel pattern accuracy as designed by the CF was obtained.

ダイ方式のコーターを用いて、紫外線硬化樹脂(DIC社製「ユニディック RC29−117」)をMEK溶剤を用いて被印刷基材上に約1μmの厚さでコーティングし、80℃環境で2分乾燥した。   Using a die-type coater, an ultraviolet curable resin (“Unidic RC29-117” manufactured by DIC) is coated on the substrate to be printed with a MEK solvent to a thickness of about 1 μm, and then in an 80 ° C. environment for 2 minutes. Dried.

実施例1と同様の方法で、紫外線硬化樹脂205をコーティングした被印刷基材202上に、遮光インキ206を用いて画素パターンのネガパターンを印刷後、表面に高圧水銀ランプを用いて、紫外線照射を行った(図3(a)〜(c))。   In the same manner as in Example 1, after printing a negative pattern of a pixel pattern using a light-shielding ink 206 on a printing substrate 202 coated with an ultraviolet curable resin 205, the surface is irradiated with ultraviolet light using a high-pressure mercury lamp. (FIGS. 3A to 3C).

次に被印刷基材202上の画素パターン部分のみが露出するように、粘着フィルムでアライメントマーク部分を保護した後、MEK溶剤を浸したウエスで、画素パターン部分の未硬化の紫外線硬化樹脂205と遮光パターン(遮光インキ206)を除去することで、被印刷基材202上に基礎パターン204を得た(図3(d))。   Next, the alignment mark portion is protected with an adhesive film so that only the pixel pattern portion on the substrate 202 to be printed is exposed, and then the uncured ultraviolet curable resin 205 of the pixel pattern portion is removed with a waste dipped in MEK solvent. By removing the light shielding pattern (light shielding ink 206), a basic pattern 204 was obtained on the substrate 202 to be printed (FIG. 3D).

続いて、赤色インク及び青色インクを実施例1と同様に、基礎パターン204上の選択した画素パターンに積層して印刷した。結果、どちらの色インキも基礎パターン204が設けられ凸状となっている部分にのみ色インキが転写され、CFの設計どおりの画素パターン精度が得られた。   Subsequently, the red ink and the blue ink were stacked on the selected pixel pattern on the basic pattern 204 and printed in the same manner as in Example 1. As a result, in both color inks, the color ink was transferred only to the convex portion provided with the basic pattern 204, and the pixel pattern accuracy as designed by the CF was obtained.

本発明の印刷方法は、ガラス基材や、プラスチックフィルム等の可撓性基材、とりわけ長尺状の可撓性基材へ高精細パターンの薄膜印刷を連続に安定して行うことができるので、カラーパターン、ブラックマトリクス、ホワイトマトリクス、スペーサー等のカラーフィルター部材、ゲート電極、ソース電極、ドレイン電極、ゲート絶縁膜、有機半導体材料等のトランジスタ部材、有機発光層等の有機EL素子の製造に利用できる。   Since the printing method of the present invention can continuously and stably perform thin film printing of high-definition patterns on flexible substrates such as glass substrates and plastic films, especially long flexible substrates. Used for manufacturing color filter members such as color patterns, black matrix, white matrix, spacers, gate electrodes, source electrodes, drain electrodes, gate insulating films, transistor members such as organic semiconductor materials, and organic EL elements such as organic light emitting layers it can.

101 ・・・インキ剥離性フィルム基材巻き出し部
102 ・・・塗工部
103 ・・・乾燥部
104 ・・・凸版貼りあわせ/パターン除去部
105 ・・・アライメント部
106 ・・・吸着ステージ/貼りあわせ部
107 ・・・インキ剥離性フィルム基材巻き取り部
108 ・・・被印刷基材巻き出し部
109 ・・・被印刷基材乾燥部
110 ・・・被印刷基材巻き取り部
201 ・・・インキ剥離性フィルム基材
202 ・・・被印刷基材
203 ・・・インキ剥離層
204 ・・・基礎パターン
205 ・・・インキ膜
206 ・・・遮光インキ層
207 ・・・紫外線硬化樹脂層
208 ・・・アライメントマーク
209 ・・・塗工ヘッド
210 ・・・顕微鏡カメラ
211 ・・・除去版
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 ... Ink peelable film base material unwinding part 102 ... Coating part 103 ... Drying part 104 ... Letter-press bonding / pattern removal part 105 ... Alignment part 106 ... Adsorption stage / Laminating part 107 ... Ink peelable film substrate winding part 108 ... Printed substrate unwinding part 109 ... Printed substrate drying part 110 ... Printed substrate winding part 201 ..Ink peelable film substrate 202... Substrate to be printed 203... Ink peel layer 204... Basic pattern 205 .. ink film 206 .. light shielding ink layer 207. 208... Alignment mark 209... Coating head 210... Microscope camera 211.

Claims (6)

(a)透明な材料で構成され、厚さ方向の一方の面である片面にインキ剥離層を有するインキ剥離性フィルム基材の前記インキ剥離層上に、インキ液膜を塗工する第1の工程と、
(b)前記インキ液膜を予備乾燥する第2の工程と、
(c)予め定められた画像パターンのネガパターンの凸パターンが形成された除去版を、前記予備乾燥させたインキ液膜に押し当て、前記凸パターンに対応する前記インキ液膜の部分を除去することで前記インキ剥離性フィルム基材に残存する前記インキ液膜により前記画像パターンを形成する前記第3の工程と、
(d)前記インキ剥離性フィルム基材に残存する前記インキ液膜により形成された前記画像パターンと、被印刷基材の表面にあらかじめ設けられたパターンを重ねて観察し、前記インキ剥離性フィルム基材と前記被印刷基材との位置合わせを行う第4の工程と、
(e)前記インキ剥離性フィルム基材に残存する前記インキ液膜により形成された前記画像パターンを、前記被印刷基材表面上へ転写し、前記被印刷基材に前記画像パターンを印刷する第5の工程とを含む精密パターンの印刷方法であって、
前記被印刷基材に予め前記画像パターンの土台となる基礎パターンが設けられ、
前記第5の工程による前記インキ液膜の転写は、前記基礎パターンのうち、選択された前記基礎パターン上に前記画像パターンが転写されることでなされる、
ことを特徴とする精密パターンの印刷方法。
(A) A first liquid film is coated on the ink release layer of the ink peelable film substrate which is made of a transparent material and has an ink release layer on one side which is one side in the thickness direction. Process,
(B) a second step of pre-drying the ink liquid film;
(C) A removal plate on which a negative pattern convex pattern of a predetermined image pattern is formed is pressed against the preliminarily dried ink liquid film, and the ink liquid film portion corresponding to the convex pattern is removed. The third step of forming the image pattern with the ink liquid film remaining on the ink peelable film substrate,
(D) The image pattern formed by the ink liquid film remaining on the ink peelable film substrate and the pattern provided in advance on the surface of the substrate to be printed are superposed and observed, and the ink peelable film base A fourth step of aligning the material and the substrate to be printed;
(E) transferring the image pattern formed by the ink liquid film remaining on the ink peelable film substrate onto the surface of the substrate to be printed, and printing the image pattern on the substrate to be printed; A method of printing a precision pattern including the steps of:
A basic pattern serving as a base of the image pattern is provided in advance on the substrate to be printed,
Transfer of the ink liquid film according to the fifth step is performed by transferring the image pattern onto the selected basic pattern among the basic patterns.
A method for printing a precision pattern.
前記基礎パターンが、
(a’)厚さ方向の一方の面である片面にインキ剥離層を有する基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材の前記インキ剥離層上に、基礎パターン形成用のインキ液膜を塗工する工程と、
(b’)前記インキ液膜を予備乾燥する工程と、
(c’)前記基礎パターンと凹凸形状が反対に形成されたネガパターンの凸パターンが形成された基礎パターン形成用の除去版を、前記予備乾燥させたインキ液膜に押し当て、前記凸パターンに対応する前記インキ液膜の部分を除去することで前記基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材に前記インキ液膜のパターンを形成する工程と、
(d’)前記インキ液膜のパターンを、前記被印刷基材表面上へ転写し、前記被印刷基材に前記基礎パターンを転写する工程とにより設けられたことを特徴とする、
請求項1記載の精密パターンの印刷方法。
The basic pattern is
(A ′) An ink liquid film for forming a basic pattern is applied on the ink peeling layer of an ink peeling film base material for forming a basic pattern having an ink peeling layer on one surface which is one surface in the thickness direction. And a process of
(B ′) a step of pre-drying the ink liquid film;
(C ′) The basic pattern forming removal plate on which the convex pattern of the negative pattern formed in the shape opposite to the basic pattern is pressed against the preliminarily dried ink liquid film, Forming a pattern of the ink liquid film on the ink peelable film substrate for forming the basic pattern by removing the corresponding part of the ink liquid film;
(D ') The pattern of the ink liquid film is transferred onto the surface of the substrate to be printed, and the step of transferring the basic pattern to the substrate to be printed is provided.
The printing method of the precision pattern of Claim 1.
前記基礎パターンが、
(a’’)厚さ方向の一方の面である片面にインキ剥離層を有する基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材の前記インキ剥離層上に、基礎パターン形成用の遮光インキ液膜を塗工する工程と、
(b’’)前記遮光インキ液膜を予備乾燥する工程と、
(c’’)前記基礎パターンと凹凸形状が同じ凸パターンが形成された基礎パターン形成用の除去版を、前記予備乾燥させた遮光インキ液膜に押し当て、前記凸パターンに対応する前記遮光インキ液膜の部分を除去することで前記基礎パターン形成用のインキ剥離性フィルム基材に前記遮光インキ液膜のパターンを形成する工程と、
(d’’)紫外線硬化性樹脂をコーティングした前記被印刷基材上に、前記遮光インキ液膜のパターンを転写する工程と、
(e’’)前記遮光インキ液膜のパターンを転写した前記被印刷基材表面に、紫外線照射を行い前記紫外線硬化性樹脂のうち前記遮光インキ液膜のパターンが転写された部分を除く部分を硬化させる工程と、
(f’’)前記遮光インキ液膜及び、紫外線硬化していない前記紫外線硬化性樹脂を可溶性溶剤により除去することにより残存する紫外線硬化した紫外線硬化性樹脂で前記基礎パターンを形成する工程とにより設けられたことを特徴とする、
請求項1記載の精密パターンの印刷方法。
The basic pattern is
(A ″) A light-shielding ink liquid film for forming a basic pattern is formed on the ink peeling layer of an ink-peeling film substrate for forming a basic pattern having an ink peeling layer on one surface which is one surface in the thickness direction. Coating process,
(B ″) a step of pre-drying the light-shielding ink liquid film;
(C ″) The base pattern-forming removal plate on which a convex pattern having the same concave and convex shape as the basic pattern is pressed against the preliminarily dried light-shielding ink liquid film, and the light-shielding ink corresponding to the convex pattern Forming a pattern of the light-shielding ink liquid film on the ink-peeling film substrate for forming the basic pattern by removing a portion of the liquid film;
(D '') transferring the pattern of the light-shielding ink liquid film onto the substrate to be printed coated with an ultraviolet curable resin;
(E ″) The surface of the substrate to be printed on which the pattern of the light-shielding ink liquid film has been transferred is irradiated with ultraviolet rays, and the portion other than the part to which the pattern of the light-shielding ink liquid film is transferred is transferred from the ultraviolet curable resin. Curing, and
(F ″) provided by the step of forming the basic pattern with the light-shielding ink liquid film and the ultraviolet curable resin remaining by removing the ultraviolet curable resin that has not been ultraviolet cured with a soluble solvent. It is characterized by
The printing method of the precision pattern of Claim 1.
前記インキ剥離性フィルム基材として、透明なフィルム基材上にシリコーン樹脂層を積層して設けたことを特徴とする請求項1乃至3に何れか1項記載の精密パターンの印刷方法。   4. The precision pattern printing method according to claim 1, wherein a silicone resin layer is laminated on a transparent film base material as the ink peelable film base material. 前記基礎パターンが透明な材料で構成され、
前記基礎パターンは、位置あわせ用に設けられた位置合わせ用パターンを含み、
前記位置合わせ用パターン上に目視または機械認識できるインキを転写し、
前記インキが転写された前記位置合わせ用パターンを、前記第4の工程における前記被印刷基材表面にあらかじめ設けられたパターンとして用いることを特徴とする請求項1乃至4に何れか1項記載の精密パターンの印刷方法。
The basic pattern is made of a transparent material,
The basic pattern includes an alignment pattern provided for alignment,
Transfer the ink that can be visually or machine recognized on the alignment pattern,
The alignment pattern to which the ink has been transferred is used as a pattern provided in advance on the surface of the substrate to be printed in the fourth step. Precision pattern printing method.
請求項1乃至5に何れか1項記載の精密パターンの印刷方法により、着色層を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。   A method for producing a color filter, wherein a colored layer is formed by the precision pattern printing method according to any one of claims 1 to 5.
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