JP2010214534A - Method of manufacturing disc-shaped substrate and method of carrying the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば磁気記録媒体用ガラス基板などの円盤状基板の製造方法等に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a disk-shaped substrate such as a glass substrate for a magnetic recording medium.
近年、記録メディアとしての需要の高まりを受け、磁気ディスク等の情報記録媒体の製造が活発化している。ここで磁気ディスク用の基板として用いられる円盤状基板としては、アルミ基板とガラス基板とが広く用いられている。このアルミ基板は加工性も高く安価である点に特長があり、一方のガラス基板は強度、表面の平滑性、平坦性に優れている点に特長がある。特に最近ではディスク基板の小型化と高密度化の要求が著しく高くなり、基板の表面の粗さが小さく高密度化を図ることが可能なガラス基板の注目度が高まっている。 In recent years, production of information recording media such as magnetic disks has been activated in response to increasing demand for recording media. Here, as a disk-shaped substrate used as a substrate for a magnetic disk, an aluminum substrate and a glass substrate are widely used. This aluminum substrate is characterized by high workability and low cost, and one glass substrate is characterized by excellent strength, surface smoothness and flatness. In particular, recently, the demand for miniaturization and high density of the disk substrate has been remarkably increased, and the degree of attention of the glass substrate capable of achieving high density with small roughness of the surface of the substrate has increased.
ここで、特許文献1には、ワークシャフトに保持されたガラス基板ワークにて、外周端面研磨機によりガラス基板ワークの束の外周端面及び面取り面を酸化セリウム研磨剤を用いて研磨し、ワークホルダにガラス基板ワークを保持して内周端面及び面取り面を研磨する磁気記録媒体用ガラス基板の研磨方法が開示されている。 Here, in Patent Document 1, a glass substrate work held by a work shaft is used to grind the outer peripheral end face and the chamfered surface of a bundle of glass substrate work using a cerium oxide abrasive with a peripheral end face polishing machine. Discloses a method for polishing a glass substrate for a magnetic recording medium, which holds a glass substrate workpiece and polishes an inner peripheral end face and a chamfered surface.
このようなガラス基板の製造に際し、ガラス基板ワークの外周端面及び面取り面を研磨した後で、ガラス基板ワークをワークホルダに保持するためには、ワークシャフトからガラス基板ワークをいったん抜き取る必要がある。この際に、ワークシャフトは、一般に金属等の硬質の材料にて作成されていることから、ガラス基板ワークに傷を付けたり破損させることが多いという問題がある。 In manufacturing such a glass substrate, in order to hold the glass substrate work on the work holder after polishing the outer peripheral end face and the chamfered surface of the glass substrate work, it is necessary to once extract the glass substrate work from the work shaft. At this time, since the work shaft is generally made of a hard material such as metal, there is a problem that the glass substrate work is often damaged or broken.
本発明は、以上のような技術的課題を解決するためになされたものであって、その目的とするところは、ワークの外周面を研磨した後に、ワークをシャフトから抜き取る際に、ワークに傷を付けにくく、また破損させにくい円盤状基板の製造方法を提供することにある。 The present invention has been made to solve the technical problems as described above, and the object of the present invention is to damage the workpiece when the workpiece is removed from the shaft after polishing the outer peripheral surface of the workpiece. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a disc-shaped substrate that is difficult to be attached and is not easily damaged.
かかる目的を達成するために、本発明の円盤状基板の製造方法は、内周面が研磨された円盤状基板を第1のシャフトに挿入して積層し、積層された円盤状基板の外周面を研磨した後、第1のシャフトに比べて径の小さい第2のシャフトを第1のシャフトの下方に同軸的に配置し、超音波振動が加えられた液槽内にて円盤状基板を第2のシャフトへ移動させることを特徴とする。 In order to achieve such an object, the disk-shaped substrate manufacturing method of the present invention inserts and stacks a disk-shaped substrate whose inner peripheral surface is polished into a first shaft, and the outer peripheral surface of the stacked disk-shaped substrate. After polishing, the second shaft having a diameter smaller than that of the first shaft is coaxially arranged below the first shaft, and the disc-shaped substrate is placed in the liquid tank to which ultrasonic vibration is applied. It is made to move to 2 shafts.
ここで、第2のシャフトへの移動は、液槽に充填されている水中で第1のシャフトの先端部と第2のシャフトの先端部とを当接させて行うことが好ましく、第2のシャフトは、少なくとも表面が樹脂により形成されていることが更に好ましい。 Here, the movement to the second shaft is preferably performed by bringing the tip of the first shaft and the tip of the second shaft into contact with each other in the water filled in the liquid tank. It is more preferable that at least the surface of the shaft is formed of a resin.
また、本発明の円盤状基板の搬送方法は、第1のシャフトに挿入して積層した円盤状基板を液槽内に浸漬し、第1のシャフトより径の小さい第2のシャフトを第1のシャフトと同軸的に配置し、液槽内に超音波振動を加えつつ円盤状基板を第1のシャフトから第2のシャフトへ移動させ、第2のシャフトにより円盤状基板を保持して搬送することを特徴とする。 In addition, according to the method for transporting the disk-shaped substrate of the present invention, the disk-shaped substrate inserted into the first shaft and laminated is immersed in the liquid tank, and the second shaft having a smaller diameter than the first shaft is used as the first shaft. Coaxially arranged with the shaft, moving the disk-shaped substrate from the first shaft to the second shaft while applying ultrasonic vibration in the liquid tank, and holding and transporting the disk-shaped substrate with the second shaft It is characterized by.
ここで、第2のシャフトには更に載置台が設置され、円盤状基板は載置台に載置して搬送することが好ましい。 Here, it is preferable that a mounting table is further installed on the second shaft, and the disc-shaped substrate is mounted on the mounting table and conveyed.
以上のように構成された本発明によれば、これらの構成を採用しない場合に比べて、歩留まりが高い円盤状基板の製造方法を提供することができる。 According to the present invention configured as described above, it is possible to provide a method for manufacturing a disk-shaped substrate having a high yield as compared with a case where these configurations are not employed.
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図1−1(a)〜(d)、図1−2(e)〜(h)は、本実施の形態が適用される円盤状基板(ディスク基板)の製造工程を示した図である。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.
FIGS. 1-1 (a) to (d) and FIGS. 1-2 (e) to (h) are diagrams showing a manufacturing process of a disk-shaped substrate (disk substrate) to which the present embodiment is applied.
(1次ラップ工程)
図1−1(a)は1次ラップ工程を示している。この工程でまず、ラッピングマシン40により1回目のラッピングを行い、円盤状基板としてのワーク10の表面11を平滑に研削する。
ここで図2は、ラッピングマシン40の構造を説明した図である。
図2に示したラッピングマシン40は、ワーク10を載置する下定盤21aと、ワーク10を上部から押えつけラッピングを行うために必要な圧力を加えるための上定盤21bとを備えている。
ここで、下定盤21aの外周部には歯部42が設けられ、下定盤21aの中央部には太陽歯車44が設けられている、さらに下定盤21aには、ラッピングが行われる際にワーク10を位置決めする円盤状のキャリア30が設置されている。
キャリア30は、図2に示すラッピングマシン40では、5個設置されている。キャリア30の外周部には歯部32が備えられ、下定盤21aの歯部42および太陽歯車44の双方に噛合している。また下定盤21aおよび上定盤21bには、これらを回転させるための回転軸46a,46bがそれぞれ中心部に設置されている。
(Primary lapping process)
FIG. 1-1 (a) shows the primary lapping process. In this step, first, lapping is performed for the first time by the
Here, FIG. 2 is a diagram illustrating the structure of the
The
Here, a
In the
この1次ラップ工程においては、まずラッピングマシン40の下定盤21aにキャリア30を利用してワーク10の載置を行う。
図3は、キャリア30を更に詳しく説明した図である。図3に示したキャリア30には、上述の通り、外周部に歯部32が備えられている。また、ラッピングを行う際にワーク10が内部に載置される円形形状の孔部34が複数開けられている。この孔部34の直径は、ワーク10の直径よりわずかに大きく開けられる。このようにすることで、ラッピングを行う際にワーク10の外周端の一部に余分な応力がかかるのを抑制することができるため、ワーク10の外周端が損傷しにくくなる。本実施の形態において、孔部34の直径はワーク10の直径より、例えば、約1mm大きくなっている。また孔部34は、ほぼ等間隔で並んでおり、本実施の形態の場合、孔部34は、例えば、35個開けられている。
In this primary lapping process, the
FIG. 3 is a diagram illustrating the
キャリア30の材料としては、例えば、アラミド繊維やガラス繊維を混入することで強化されたエポキシ樹脂を使用することができる。またキャリア30の厚さは、本工程において、ラッピングを行う際に、上定盤21bに接触し、ラッピングを阻害しないために、本工程におけるワーク10の仕上げ厚さより薄く作成されている。例えば、ワーク10の仕上げ厚さが1mmであるとすると、キャリア30の厚さは、それより0.2mm〜0.6mm薄くなっている。
As a material of the
キャリア30の孔部34にワーク10を載置した後は、上定盤21bをワーク10に接触するまで移動させ、ラッピングマシン40を稼働させる。
この際のラッピングマシン40の動作を図2を用いて説明する。ラッピングマシン40を稼働する際には、図の上方の回転軸46bを一方向に回転させ、上定盤21bを、同様な一方向に回転させる。また、図の下方の回転軸46aを、回転軸46bの回転とは逆方向に回転させ、下定盤21aを回転軸46aと同様な方向に回転させる。これにより下定盤21aの歯部42も回転軸46aと同様な方向に回転する。また中央部の太陽歯車44も、回転軸46aと同様な方向に回転する。
このように上定盤21b、下定盤21、太陽歯車44を回転させることにより、これらの歯車に噛み合うキャリア30は自転運動と、公転運動が組み合わされたいわゆる遊星運動を行う。同様に、キャリア30にはめ込まれたワーク10も遊星運動を行う。このようにすることによりワーク10のラッピングをより精度よく、また迅速に行うことができる。
After the
The operation of the
Thus, by rotating the
本実施の形態において、ラッピングは、研削剤を用いて行うことができる。研削剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、アルミナやダイヤモンドからなる研削剤をスラリー化して使用することができる。または、上定盤21bや下定盤21にこれらの研削剤が分散して含んだ砥石を使用してもよい。
In this embodiment mode, lapping can be performed using an abrasive. Although it does not specifically limit as an abrasive, For example, the abrasives which consist of an alumina or a diamond can be used by slurrying. Alternatively, a grindstone in which these abrasives are dispersed and contained in the
(内外周研削工程)
図1−1(b)は内外周研削工程を示している。この工程では、ワーク10の開孔12の内周面および外周13の外周面の荒削りである研削を行う。また本実施の形態では、内周面と外周面の研削を同時に行う。具体的には、ワーク10の中心に設けられた開孔12を内周砥石22によって研削し、ワーク10の外周13を外周砥石23によって研削する。このとき、内周砥石22と外周砥石23でワーク10の内周面と外周面を挟み込んで同時加工する。これにより内径と外径の同心度を確保し易くすることができる。
本実施の形態において、内周砥石22および外周砥石23は、波状の表面を有している。そのため、ワーク10の開孔12の内周面および外周13の外周面を研削することができるだけでなく、開孔12および外周13における縁部の面取りを併せて行うことが可能となる。
(Inner and outer grinding process)
FIG. 1-1 (b) shows the inner and outer peripheral grinding steps. In this step, grinding that is roughing of the inner peripheral surface of the opening 12 of the
In the present embodiment, the inner
(内周研磨工程)
図1−1(c)は内周研磨工程を示している。この工程では、図1−1(b)に示した内外周研削工程において、荒削りである研削を行ったワーク10の開孔12の内周面を更に平滑にする研磨を行う。
具体的には、まずワーク10を積層し、図示しないホルダにセットする。そして、このホルダにセットされたワーク10の開孔12の中心にブラシ24を挿入する。そして研磨液をワーク10の開孔12に流し込みながら、ブラシ24を高速で回転させることで、ワーク10の内周面を研磨する。本実施の形態では、研磨に際してブラシ24を使用しているので、ワーク10の内周面を研磨すると共に、上述した内外周研削工程において行った開孔12の縁部の面取りした部分も同様に研磨することができる。なお研磨液としては、例えば酸化セリウム砥粒を水に分散してスラリー化したものを用いることができる。
(Inner circumference polishing process)
FIG. 1-1 (c) shows the inner periphery polishing step. In this step, polishing is performed to further smooth the inner peripheral surface of the
Specifically, the
図4は、内周研磨工程において使用するブラシ24の一例を示した図である。このブラシ24は、毛先が螺旋状に配列して形成されるブラシ部61と、このブラシ部61の両端部に連続して形成され、一端と他端とを形成する軸62とを備えている。ワーク10の開孔12として例えば0.85インチ等の小径ディスクの内周面を研磨するような場合は、ブラシ24の芯を細くする必要がある。その場合、本実施の形態では、例えば、複数本のワイヤ(材質:例えば、軟鋼線材(SWRM)、硬鋼線材(SWRH)、ステンレス線材(SUSW)、黄銅線(BSW)など、加工性、剛性などから適宜選定できる)の間に、ブラシの毛(材質:例えばナイロン(デュポン社の商品名))を挟み込み、この毛が挟み込まれたワイヤをねじることで、ブラシ部61を形成している。このワイヤをねじってブラシ部61を形成することで、ブラシ部61に形成されるブラシ毛先を螺旋状とすることができ、挿入されているワーク10の開孔12にて、研磨液を軸方向に流すことが可能となる。そのため研磨液の搬送を良好に行うことができる。
FIG. 4 is a view showing an example of the
(2次ラップ工程)
図1−1(d)は2次ラップ工程を示している。この工程では、図1−1(a)に示した1次ラップ工程において、ラッピングを行ったワーク10の表面11を再度ラッピングを行うことにより更に平滑に研削する。
2次ラップ工程において、ラッピングを行う装置としては、図1−1(a)に示したラッピングマシン40を使用することができる。またラッピングの方法、条件等は、図1−1(a)で説明した場合と同様に行うことができる。
(Secondary lap process)
FIG. 1-1 (d) shows the secondary lapping process. In this step, the
As a device for performing lapping in the secondary lapping process, a lapping
(外周研磨工程)
図1−2(e)は外周研磨工程を示している。この工程では、図1−1(b)に示した内外周研削工程において、荒削りである研削を行ったワーク10の外周13の外周面を更に平滑にする研磨を行う。
具体的には、まずワーク10の開孔12の部分に治具25を通して積層させ、ワーク10を治具25にセットする。そして研磨液をワーク10の外周13の箇所に流し込みながら、ブラシ26を積層したワーク10に接触させ、高速で回転させる。これにより、ワーク10の外周面を研磨することができる。本実施の形態では、研磨に際してブラシ26を使用しているので、ワーク10の外周面を研磨すると共に、上述した内外周研削工程において行った外周13の縁部の面取りした部分も同様に研磨することができる。なお研磨液としては、内周研磨工程の場合と同様に、例えば酸化セリウム砥粒を水に分散してスラリー化したものを用いることができる。
(Outer periphery polishing process)
FIG. 1-2 (e) shows the outer periphery polishing step. In this step, polishing is performed to further smooth the outer peripheral surface of the
Specifically, the
(1次ポリッシュ工程)
図1−2(f)は1次ポリッシュ工程を示している。この工程では、図1−1(d)に示した2次ラップ工程において、ラッピングを行ったワーク10の表面11を、ポリッシングマシン50を用いてポリッシングを行うことで更に研磨し、更に平滑度を上げていく。このポリッシングマシン50は、上述したラッピングマシン40とほぼ同様な構成を有するが、下記に示すように研磨に使用する材料等が一部異なる。
本実施の形態において、ポリッシングを行うに際し、例えばウレタンにより形成された硬質研磨布を用い、酸化セリウム砥粒を水に分散してスラリー化したものを研磨材として用いることができる。
(Primary polishing process)
FIG. 1-2 (f) shows the primary polishing process. In this step, in the secondary lapping step shown in FIG. 1-1 (d), the
In the present embodiment, when polishing is performed, for example, a hard polishing cloth formed of urethane and a slurry obtained by dispersing cerium oxide abrasive grains in water and slurrying can be used as an abrasive.
(2次ポリッシュ工程)
図1−2(g)は2次ポリッシュ工程を示している。この工程では、図1−2(f)に示した1次ポリッシュ工程において、ポリッシングを行ったワーク10の表面11を、精密ポリッシングを行うことで更に研磨し、表面11の最終的な仕上げを行う。
本実施の形態において、このポリッシングを行うに際し、例えばスエード状の軟質研磨布を用い、酸化セリウム砥粒若しくはコロイダルシリカを水等の溶媒に分散してスラリー化したものを研磨材として用いることができる。
(Secondary polishing process)
FIG. 1-2 (g) shows the secondary polishing step. In this step, the
In this embodiment, when performing this polishing, for example, a suede-like soft polishing cloth can be used as a polishing material by dispersing cerium oxide abrasive grains or colloidal silica in a solvent such as water to form a slurry. .
(最終洗浄・検査工程)
図1−2(h)は最終洗浄・検査工程を示している。最終洗浄では、上述した一連の工程において、使用した研磨剤等の汚れの除去を行う。洗浄には超音波を併用した洗剤(薬品)による化学的洗浄などの方法を用いることができる。
また、検査工程においては、例えばレーザを用いた光学式検査器により、ワーク10の表面の傷やひずみの有無等の検査が行われる。
(Final cleaning / inspection process)
FIG. 1-2 (h) shows the final cleaning / inspection process. In the final cleaning, dirt such as the used abrasive is removed in the series of steps described above. For the cleaning, a method such as chemical cleaning with a detergent (chemical) using ultrasonic waves can be used.
In the inspection process, for example, the surface of the
ここで、上記外周研磨工程から1次ポリッシュ工程に移行する際には、治具25に積層してセットされているワーク10をいったん抜き取る必要がある。そして、抜き取ったワーク10は、ラッピングマシン40に備えられたキャリア30に再び載置する。
Here, when shifting from the outer periphery polishing process to the primary polishing process, it is necessary to once extract the
ここで、図5(a)〜(b)は、治具25を説明した図である。
図5(a)に示すように治具25は、ワーク10が積層してセットされる金属シャフト71と、金属シャフト71の一方の端部に配され外周研磨工程においてワーク10を金属シャフト71にセットする際にワーク10の内周面の傷を防止するための保護キャップ72と、金属シャフト71の他の端部に配されワーク10を金属シャフト71にセットする際にワーク10を載置する載置台73とからなる。そして、金属シャフト71の両端部、保護キャップ72の金属シャフト71との結合部、および載置台73の金属シャフト71の結合部は、ねじ切りが施されており、図5(b)に示すように、このねじ切りが施されている部分を互いに接合させることで、金属シャフト71、保護キャップ72、および載置台73は互いに結合し、治具25となる。
Here, FIGS. 5A to 5B are diagrams illustrating the
As shown in FIG. 5A, the
ここで、治具25における金属シャフト71の径は、ワーク10の内周の径よりわずかに小さいだけである。また金属シャフト71は、ステンレス等の金属からなり硬質である。そのため作業者が、このワーク10を治具25の金属シャフト71から抜き取る際に、ワーク10の内周面と金属シャフト71との間に大きな摩擦や、接触による大きな衝撃が生じる。そのためワーク10の内周面に傷を付けたり破損させたりしやすくなる。
Here, the diameter of the
次に、本実施の形態の特徴的な構成である、ワーク10を金属シャフト71からシャフト76へ移動させる作業について、以下に説明する。
ここで、図6(a)〜(d)は、ワーク10を積層したまま、治具25の金属シャフト71から治具83のシャフト76に移動させるための前処理段階を説明した図である。そして、図7は、実際にワーク10を治具25の金属シャフト71から治具83のシャフト76に移動させる段階を説明した図である。
Next, an operation of moving the
Here, FIGS. 6A to 6D are diagrams illustrating a pretreatment stage for moving the
まず図6(a)は、外周研磨工程が終了した時点の治具25とワーク10の状態を示している。ワーク10は、ワーク10の内周12を通して治具25の金属シャフト71に挿入されており、治具25の載置台73上に、例えば150枚積層して載置されている。またワーク10上には固定ナット75が取り付けられている。この固定ナット75は、外周研磨工程において、ワーク10を押えつけ固定するための固定部材であり、外周研磨工程を行う前に、保護キャップ72(図5参照)を外して、代わりに取り付けられるものである。そしてこの状態から図6(b)に示すように載置台73を取外す。この時点でワーク10は載置台73があった下側から取り外すことができる。
First, FIG. 6A shows the state of the
次に、図7に示すように、ワーク10を治具25より径が小さい第2のシャフトとしてのシャフト76を備えた治具83に積層した状態でまとめて移動させる。そして、この移動は、超音波振動が加えられた液層内で行う。即ち、内周面が研磨されたワーク10を金属シャフト71に挿入して積層し、積層されたワーク10の外周面を研磨した後、金属シャフト71に比べて径の小さいシャフト76を金属シャフト71の下方に同軸的に配置し、超音波振動が加えられた液槽内にてワーク10をシャフト76に移動させる。
Next, as shown in FIG. 7, the
この作業を以下に更に詳しく説明する。
まず図6(b)に示した固定ナット75が取り付けられ載置台73が取り外された状態の治具25を、液槽80内に浸漬させる。液槽80には超音波を発生する超音波発生装置81が液槽80の下部に備えられ、液槽80内には水82が充填されている。そのため水82中には超音波発生装置81から発生した超音波が伝搬し、液槽80内には超音波振動が生じている。液槽80内には予め治具83がセットされている。この治具83は、金属シャフト71より径の小さいシャフト76と、シャフト76の端部に配されワーク10を載置する載置台77とからなる。
This operation will be described in more detail below.
First, the
そして作業者は、液槽80内において、金属シャフト71と治具83のシャフト76とが同軸位置になるように位置合せを行い、金属シャフト71の先端部とシャフト76の先端部とを当接させる。そうすると既に液槽内80内で生じている超音波振動の作用により、金属シャフト71に挿入された状態で積層しているワーク10は、治具83のシャフト76の側にスムーズに移動し、シャフト76に挿入される形となる。このとき、ワーク10は積層したまま自重により移動するため移動は迅速に行われる。そして、このようにすれば、ワーク10の内周面に傷を付けたり破損させたりすることを抑制することができる。
Then, the operator performs alignment so that the
また、図7に示した超音波発生装置81は、液槽80の外部に設けられ、超音波を発生していたがこれに限られるものではない。例えば、超音波発生装置81として超音波を発生する超音波プローブ等を液槽80内の水82に挿入して超音波を発生し、超音波振動を生じさせてもよい。
Moreover, although the
その後、作業者は、治具83を液槽80内から取り出し、シャフト76によりワーク10を保持してラッピングマシン40のある場所に搬送する。
よって、本実施の形態は、金属シャフト71に挿入して積層したワーク10を液槽80内に浸漬し、金属シャフト71より径の小さいシャフト76を金属シャフト71と同軸的に配置し、液槽80内に超音波振動を加えつつワーク10を金属シャフト71からシャフト76へ移動させ、シャフト76によりワーク10を保持して搬送するワーク10の搬送方法としても捉えることができる。
Thereafter, the operator takes out the
Therefore, in the present embodiment, the
そして作業者は、治具83のシャフト76からワーク10を抜き取り、ラッピングマシン40に備えられたキャリア30にワーク10を載置する。このようにすれば、治具83のシャフト76は、治具25の金属シャフト71より、その径が小さいため、作業者は、ワーク10をシャフト76から容易に抜取ることができる。
Then, the operator removes the workpiece 10 from the
なお、シャフト76は、例えば樹脂材料など、柔らかい材質で形成されていることが好ましいが、少なくとも表面が樹脂により形成されていることが好ましい。これによりワーク10を搬送する際に、ワーク10とシャフト76が接触しても、その際に生じる衝撃を小さくすることができる。そのためワーク10の内周面を傷つけたり、破損させたりするのを抑制することができる。
The
10…ワーク、11…表面、12…開孔、13…外周、30…キャリア、40…ラッピングマシン、50…ポリッシングマシン、71…金属シャフト,76…シャフト、73,77…載置台、80…液槽、81…超音波発生装置
DESCRIPTION OF
Claims (5)
内周面が研磨された前記円盤状基板を第1のシャフトに挿入して積層し、積層された当該円盤状基板の外周面を研磨した後、当該第1のシャフトに比べて径の小さい第2のシャフトを当該第1のシャフトの下方に同軸的に配置し、超音波振動が加えられた液槽内にて当該円盤状基板を当該第2のシャフトへ移動させることを特徴とする円盤状基板の製造方法。 A method of manufacturing a disk-shaped substrate,
The disk-shaped substrate whose inner peripheral surface is polished is inserted into a first shaft and stacked, and after the outer peripheral surface of the stacked disk-shaped substrate is polished, a first smaller diameter than the first shaft is obtained. A disc-shaped substrate, wherein the second shaft is coaxially disposed below the first shaft, and the disc-shaped substrate is moved to the second shaft in a liquid tank to which ultrasonic vibration is applied. A method for manufacturing a substrate.
第1のシャフトに挿入して積層した円盤状基板を液槽内に浸漬し、
前記第1のシャフトより径の小さい第2のシャフトを当該第1のシャフトと同軸的に配置し、
前記液槽内に超音波振動を加えつつ前記円盤状基板を前記第1のシャフトから前記第2のシャフトへ移動させ、
前記第2のシャフトにより前記円盤状基板を保持して搬送することを特徴とする円盤状基板の搬送方法。 A method for transporting a disk-shaped substrate,
Immerse the disc-shaped substrate inserted and stacked in the first shaft into the liquid tank,
A second shaft having a smaller diameter than the first shaft is disposed coaxially with the first shaft;
Moving the disk-shaped substrate from the first shaft to the second shaft while applying ultrasonic vibration in the liquid tank;
A method for transporting a disc-shaped substrate, wherein the disc-shaped substrate is transported while being held by the second shaft.
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