JP2010214336A - Boron adsorbent and method for manufacturing boron adsorbent - Google Patents

Boron adsorbent and method for manufacturing boron adsorbent Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an novel adsorbent with high boron adsorption capacity. <P>SOLUTION: The boron adsorbent includes a carrier with a porous structure and at least one of organic compounds having the structural formulas (1) to (4) for modifying the surface of the carrier. In the formulas, R contains a primary or secondary amino group and R<SB>1</SB>to R<SB>4</SB>are each hydrogen or an aliphatic chain containing an unsaturated carbon bond, an ether bond, an ester bond, and a functional group such as hydroxyl, a carboxylic acid, or the like. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、ホウ素吸着材及びホウ素吸着材の製造方法に関する。   The present invention relates to a boron adsorbent and a method for producing the boron adsorbent.

ホウ素含有による水の汚染が環境問題として広がっている。例えば、ホウ素が数ppmオーダーで水中に含まれると、植物の発育を妨げ、深刻な問題となる。   Contamination of water due to boron content is spreading as an environmental problem. For example, if boron is contained in water in the order of several ppm, plant growth is hindered, which is a serious problem.

ホウ素除去技術としては、逆浸透(RO;Reverse Osmosis)法(特許文献1)、イオン交換法(特許文献2)、凝集沈殿法(特許文献3)などが知られているが、逆浸透法では一回の処理でホウ素を処理することができず、イオン交換法では処理容量が7-9mg-B/gと低く、処理コストが高い。また、凝集沈殿法は多量の薬剤が必要となり廃棄物も増えるため、多量の水中に含まれるホウ素を処理する方法としては向いていない。   As a boron removal technique, a reverse osmosis (RO) method (Patent Document 1), an ion exchange method (Patent Document 2), a coagulation precipitation method (Patent Document 3), and the like are known. Boron cannot be treated in a single treatment, and the ion exchange method has a low treatment capacity of 7-9 mg-B / g and high treatment costs. Further, the coagulation precipitation method is not suitable as a method for treating boron contained in a large amount of water because a large amount of chemicals is required and waste is increased.

特開2001−269544号JP 2001-269544 A 特開2001−179253号JP 2001-179253 A 特開2007−136325号JP 2007-136325 A

本発明は、上記問題点に鑑みて、ホウ素吸着容量が高い、新規な吸着材を提供することを目的とする。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a novel adsorbent having a high boron adsorption capacity.

本発明の一態様は、多孔質構造の担体と、前記担体の表面を修飾してなる(1)〜(4)の構造式を有する有機化合物の少なくとも一つと、を具えることを特徴とする、ホウ素吸着材

Figure 2010214336
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(それぞれ分子中の少なくとも一つのRには第1級または第2級のアミノ基を含み、R1-R10は水素又は脂肪鎖であって、不飽和炭素結合、エーテル結合、エステル結合、水酸基及びカルボン酸等の官能基を含むことができる。)に関する。 One embodiment of the present invention is characterized by comprising a porous structure carrier and at least one of organic compounds having the structural formulas (1) to (4) obtained by modifying the surface of the carrier. Boron adsorbent
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(At least one R in the molecule contains a primary or secondary amino group, and R 1 to R 10 are hydrogen or an aliphatic chain, and are an unsaturated carbon bond, an ether bond, an ester bond, a hydroxyl group. And functional groups such as carboxylic acids.

本発明によれば、ホウ素吸着容量が高い、新規な吸着材を提供することができる。   According to the present invention, a novel adsorbent having a high boron adsorption capacity can be provided.

実施形態におけるホウ素吸着に使用する装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the apparatus used for boron adsorption | suction in embodiment.

以下、本発明の詳細、並びにその他の特徴及び利点について、実施形態に基づいて説明する。   Hereinafter, details of the present invention and other features and advantages will be described based on embodiments.

(ホウ素吸着材)
本実施形態におけるホウ素吸着材は、多孔質構造の担体の表面を以下に示す有機化合物で修飾してなる。
(Boron adsorbent)
The boron adsorbent in the present embodiment is formed by modifying the surface of a porous carrier with an organic compound shown below.

前記担体としては、シリカゲル、アルミナ、ガラス、カオリン、マイカ、タルク、クレイ、水和アルミナ、ウォラストナイト、鉄粉、チタン酸カリウム、酸化チタン、酸化亜鉛、炭化珪素、窒化珪素、炭酸カルシウム、炭素、硫酸バリウム、ボロン、フェライトなどを用いることができる。   As the carrier, silica gel, alumina, glass, kaolin, mica, talc, clay, hydrated alumina, wollastonite, iron powder, potassium titanate, titanium oxide, zinc oxide, silicon carbide, silicon nitride, calcium carbonate, carbon , Barium sulfate, boron, ferrite and the like can be used.

この中で、フェライトなどの磁性を担体用いると、磁気を用いた応用が可能である。例えば、攪拌装置を別途設けることなく、ホウ素吸着材自体を磁気攪拌することでホウ素吸着材を被処理媒体と積極的に接触させることができる。これにより吸着処理時間短縮を図ることができる。また、ホウ素吸着材を回収する際、磁気を使って容易に回収でき、システム簡素化、メンテナンス性向上等を図ることができる。   Among these, if a carrier such as ferrite is used, application using magnetism is possible. For example, the boron adsorbent can be positively brought into contact with the medium to be treated by magnetically stirring the boron adsorbent itself without providing a separate stirring device. Thereby, the adsorption processing time can be shortened. Further, when recovering the boron adsorbent, it can be easily recovered using magnetism, and the system can be simplified and the maintainability can be improved.

一方、ホウ素吸着材の処理量はその表面積によって吸着量が異なる。システムの小型化が必要な場合などには単位体積当たりまたは単位重量当たりの吸着量が大きい方が好ましく、細孔構造を持つ担体を使用することが推奨される。従って、シリカゲルのような多孔質構造の担体を用いるのが好ましい。   On the other hand, the treatment amount of the boron adsorbent varies depending on the surface area. When it is necessary to reduce the size of the system, it is preferable that the amount of adsorption per unit volume or unit weight is large, and it is recommended to use a support having a pore structure. Therefore, it is preferable to use a porous structure carrier such as silica gel.

また、上述のような無機物を予め準備して担体とする他、以下の製造方法に起因して、目的とするホウ素吸着材を作製する過程で用いるシランカップリング剤が重合し、ゲル化した物質を担体とすることもできる。   In addition to preparing the inorganic substance as described above as a carrier, the substance obtained by the polymerization of the silane coupling agent used in the process of producing the target boron adsorbent due to the following production method is gelled. Can also be used as a carrier.

なお、本実施形態において、吸着すべきホウ素は、一般に水中に含まれているため、B(OH)又はB(OH) のヒドロキシル化したホウ素である。 In the present embodiment, the boron to be adsorbed is generally because they are contained in water, B (OH) 3 or B (OH) 4 - is a hydroxylated boron.

上記担体の表面は、(1)〜(4)の構造式を有する有機化合物の少なくとも一つで修飾する。なお、前記担体表面の前記有機化合物による修飾の程度は、例えば以下に説明する製造方法(担体に対するシランカップリング剤の量)に依存するが、一例として0.5mmol/g〜5mmol/gの範囲とすることができる。

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(それぞれ分子中の少なくとも一つのRには第1級または第2級のアミノ基を含み、R1-R10は水素又は脂肪鎖であって、不飽和炭素結合、エーテル結合、エステル結合、水酸基及びカルボン酸等の官能基を含むことができる。)。 The surface of the carrier is modified with at least one organic compound having the structural formulas (1) to (4). The degree of modification of the carrier surface with the organic compound depends on, for example, the production method described below (amount of the silane coupling agent relative to the carrier), but as an example, a range of 0.5 mmol / g to 5 mmol / g. It can be.
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(At least one R in the molecule contains a primary or secondary amino group, and R 1 to R 10 are hydrogen or an aliphatic chain, and are an unsaturated carbon bond, an ether bond, an ester bond, a hydroxyl group. And functional groups such as carboxylic acids.).

上述したような構造式を有する有機化合物は、いずれも官能基として隣接するようにカルボキシル基及びヒドロキシル基を有している。吸着すべきホウ素化合物はB(OH)またはB(OH) の形で存在する。ホウ素とカルボキシル基や水酸基との反応機構は定かではないが、ホウ素のヒドロキシル基がそれぞれの官能基に近づいたときに結合が生じ、吸着が実行されるものと推定される。 The organic compound having the structural formula as described above has a carboxyl group and a hydroxyl group so as to be adjacent as functional groups. Boron compounds to be adsorbed B (OH) 3 or B (OH) 4 - in the form of. The reaction mechanism between boron and a carboxyl group or a hydroxyl group is not clear, but it is presumed that when the hydroxyl group of boron approaches each functional group, a bond is formed and adsorption is performed.

なお、カルボキシル基及びヒドロキシル基が互いに隣接していない場合、カルボキシル基又はヒドロキシル基のいずれか一方とのみと結合するようになる。したがって、前記ホウ素との結合が不十分となり、前記ホウ素を十分に吸着することができない。   In addition, when the carboxyl group and the hydroxyl group are not adjacent to each other, they are bonded only to either the carboxyl group or the hydroxyl group. Therefore, the bond with the boron becomes insufficient, and the boron cannot be sufficiently adsorbed.

また、上記有機化合物は、いずれもアミノ基を有している。したがって、上記担体及び上記有機化合物を含む吸着材を、実際にホウ素を含む溶液中に投入した際に、前記溶液中のpHを上昇させることができ、上述したホウ素の吸着反応を促進させることができる。   In addition, any of the above organic compounds has an amino group. Therefore, when the adsorbent containing the carrier and the organic compound is actually put into a solution containing boron, the pH in the solution can be increased, and the above-described boron adsorption reaction can be promoted. it can.

なお、(1)の構造式を有する有機化合物としては、4-アミノ-3-ヒドロキシ酪酸、セリン、スレオニン等を例示することができる。   Examples of the organic compound having the structural formula (1) include 4-amino-3-hydroxybutyric acid, serine, and threonine.

また、(2)の構造式を有する有機化合物としては、4-アミノ-2-ヒドロキシ酪酸、イソセリン、2-アミノ-3-ヒドロキシジブタン酸等を例示することができる。   Examples of the organic compound having the structural formula (2) include 4-amino-2-hydroxybutyric acid, isoserine, and 2-amino-3-hydroxydibutanoic acid.

さらに、(3)の構造式を有する有機化合物としては、3-アミノサリチル酸、4-アミノサリチル酸、5-アミノサリチル酸等を例示することができる。   Furthermore, examples of the organic compound having the structural formula (3) include 3-aminosalicylic acid, 4-aminosalicylic acid, 5-aminosalicylic acid and the like.

また、(4)の構造式を有する有機化合物としては、3-アミノ-3-ヒドロキシアクリル酸、2-アミノ-3-ヒドロキシアクリル酸等を例示することができる。   Examples of the organic compound having the structural formula (4) include 3-amino-3-hydroxyacrylic acid and 2-amino-3-hydroxyacrylic acid.

なお、上述した担体と有機化合物とは、以下に説明する製造方法に起因して、Si−O結合による架橋によって結合させ、修飾させることができる。   In addition, the support | carrier and organic compound which were mentioned above originate in the manufacturing method demonstrated below, and can be combined and modified by bridge | crosslinking by Si-O bond.

(ホウ素吸着材の製造方法)
次に、本実施形態におけるホウ素吸着材の製造方法について説明する。
(Production method of boron adsorbent)
Next, the manufacturing method of the boron adsorbent in the present embodiment will be described.

最初に上述したフェライトやシリカゲルのような担体を準備し、この担体に対して上述した(1)〜(4)の構造式を有する有機化合物を結合させ、修飾する。   First, a carrier such as the above-described ferrite or silica gel is prepared, and the organic compound having the structural formulas (1) to (4) described above is bonded to the carrier and modified.

前記担体に対する前記有機化合物の結合及び修飾は特に限定されるものではないが、好ましくはシランカップリング剤を用いる。前記担体は無機化合物であるので、シランカップリング剤を用いることによって、前記有機化合物と強固な結合を形成することができる。この場合、上述したように、前記担体と前記有機化合物とは、Si−O結合を介して結合することになる。この結果、前記担体の表面は前記有機化合物によって修飾されるようになる。   The bonding and modification of the organic compound to the carrier are not particularly limited, but a silane coupling agent is preferably used. Since the carrier is an inorganic compound, it is possible to form a strong bond with the organic compound by using a silane coupling agent. In this case, as described above, the carrier and the organic compound are bonded through a Si—O bond. As a result, the surface of the carrier is modified by the organic compound.

なお、前記シランカップリング剤の中でも、特にアルコキシシランカップリング剤を用いることが好ましい。アルコキシシランカップリング剤は、入手が容易であるとともに反応性に富み、上述したようなSi−O結合を簡易に形成することができる。   Among the silane coupling agents, it is particularly preferable to use an alkoxysilane coupling agent. The alkoxysilane coupling agent is easy to obtain and rich in reactivity, and can easily form the Si—O bond as described above.

このようなアルコキシシランカップリング剤としては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3―アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシラン、3−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、2―(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等を例示することができる。   Examples of such alkoxysilane coupling agents include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethylsilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, Examples include 3-aminopropyldimethylethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and the like.

上述したシランカップリング剤を用いた処理は以下のようにして行うことができる。   The treatment using the silane coupling agent described above can be performed as follows.

第1の方法としては、水又はエタノール、あるいはこれらの混合溶媒中にシランカップリング剤を添加するとともに、前記担体を浸漬させ、15分から3時間、好ましくは30分から1時間攪拌した後にろ過を行い、純水で洗浄することによって前記担体の表面にSi−O結合を形成することができる。   As a first method, a silane coupling agent is added to water or ethanol, or a mixed solvent thereof, and the carrier is immersed, followed by stirring after 15 minutes to 3 hours, preferably 30 minutes to 1 hour. By washing with pure water, Si—O bonds can be formed on the surface of the carrier.

なお、上述した水等の溶媒の代わりにドライトルエン、ドライテトラヒドロフラン等を用い、前記担体及び前記シランカップリング剤と溶媒を還流下で撹拌することによって、無水の条件下で前記担体の表面にSi−O結合を形成することができる。   In addition, by using dry toluene, dry tetrahydrofuran or the like instead of the above-described solvent such as water and stirring the carrier and the silane coupling agent and the solvent under reflux, Si on the surface of the carrier under anhydrous conditions. -O bonds can be formed.

第2の方法としては、メトキシシラン等のアルコキシシラン化合物及び3−アミノプロピルアルコール等の官能基含有アルコール化合物を原料として、CVD法によって前記単体の表面で例えば熱的に反応させて、前記担体の表面にSi−O結合を形成することができる。   As a second method, an alkoxysilane compound such as methoxysilane and a functional group-containing alcohol compound such as 3-aminopropyl alcohol are used as raw materials, for example, by thermally reacting on the surface of the single substance by a CVD method, Si—O bonds can be formed on the surface.

第3の方法としては、シランカップリング剤を所定の溶媒(例えばトルエン等)に溶解させ、加熱蒸発させることによって前記担体の表面に付着させ、Si−O結合を形成することができる。   As a third method, a Si—O bond can be formed by dissolving a silane coupling agent in a predetermined solvent (for example, toluene) and adhering it to the surface of the carrier by evaporating with heating.

上述したホウ素吸着の原理から、ホウ素の吸着は、上記担体の表面を修飾する上記有機化合物の量に依存し、この有機化合物の量は、本態様においては、前記担体の表面に形成されたSi−O結合の割合、すなわちシランカップリング剤による前記担体の表面被覆量に依存する。この表面被覆量は、前記担体に対する前記シランカップリング剤の処理量に依存する。   From the above-described principle of boron adsorption, boron adsorption depends on the amount of the organic compound that modifies the surface of the support. In this embodiment, the amount of the organic compound depends on the amount of Si formed on the surface of the support. It depends on the proportion of —O bonds, that is, the surface coverage of the carrier by the silane coupling agent. This surface coating amount depends on the treatment amount of the silane coupling agent on the carrier.

シランカップリング剤の添加量(g)は、
添加量(g)=担体量(g)×比表面積(m/g)/シランカップリング剤の最少被覆面積(m/g)
で表わすことができる。
The addition amount (g) of the silane coupling agent is
Addition amount (g) = carrier amount (g) × specific surface area (m 2 / g) / minimum coating area of silane coupling agent (m 2 / g)
It can be expressed as

シランカップリング剤はその種類によって1分子が被覆可能な面積が異なるので、処理に要するシランカップリング剤の最適添加量の導出に際しては、上式で示すように各シランカップリング剤の最小被覆面積を適用する。   Since the area that one molecule can cover varies depending on the type of silane coupling agent, the minimum coverage area of each silane coupling agent is calculated as shown in the above equation when deriving the optimum amount of silane coupling agent required for processing. Apply.

具体的には、上記シランカップリング剤の、上記担体に対する量は、1重量%〜10重量%であることが好ましい。1重量%より小さいと前記担体のシランカップリング剤の被覆量が少なくなり、上記有機化合物の結合量(修飾割合)が減少して、ホウ素の吸着を十分に行うことができない場合がある。また、10重量%を超えると、シランカップリング剤同士の縮合によってゲル化してしまう場合がある。   Specifically, the amount of the silane coupling agent relative to the carrier is preferably 1% by weight to 10% by weight. If it is less than 1% by weight, the coating amount of the silane coupling agent on the carrier is decreased, the amount of the organic compound bound (modification ratio) is decreased, and boron may not be sufficiently adsorbed. Moreover, when it exceeds 10 weight%, it may gelatinize by condensation of silane coupling agents.

次いで、上述のようにシランカップリング剤で表面処理した担体に対して、上記有機化合物を、例えばアルカリ溶液中で接触させることによって、前記担体の表面を前記有機化合物で修飾したホウ素吸着材を提供することができる。   Next, a boron adsorbent in which the surface of the carrier is modified with the organic compound by bringing the organic compound into contact with the carrier surface-treated with the silane coupling agent as described above, for example, in an alkaline solution is provided. can do.

(ホウ素の吸着操作)
次に、実施形態に係わるホウ素の吸着操作について説明する。
(Boron adsorption operation)
Next, the boron adsorption operation according to the embodiment will be described.

図1は、本実施形態におけるホウ素吸着に使用する装置の概略構成を示す図である。図1に示すように、本装置においては、上述したホウ素吸着材が充填された吸着手段T1及びT2が並列に配置されるとともに、吸着手段T1及びT2の外方には接触効率促進手段X1及びX2が設けられている。接触効率促進手段X1及びX2は、機械攪拌装置又は非接触の磁気攪拌装置とすることができるが、必須の構成要素ではなく省略してもよい。   FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an apparatus used for boron adsorption in the present embodiment. As shown in FIG. 1, in this apparatus, the adsorbing means T1 and T2 filled with the boron adsorbent described above are arranged in parallel, and the contact efficiency promoting means X1 and the adsorbing means T1 and T2 are disposed outside the adsorbing means T1 and T2. X2 is provided. The contact efficiency promoting means X1 and X2 can be a mechanical stirrer or a non-contact magnetic stirrer, but they are not essential components and may be omitted.

また、吸着手段T1及びT2には、供給ラインL1、L2及びL4を介して、ホウ素を含む被処理媒体が貯留された被処理媒体貯留タンクW1が設けられており、排出ラインL3、L5及びL6を介して外部に接続されている。さらに、吸着手段T1及びT2には、供給ラインL11及び、L12及びL14を介して、脱着媒体が貯留された脱着媒体貯留タンクD1が接続されており、排出ラインL13、L15及びL16を介して、脱着媒体回収タンクR1が接続されている。   Further, the adsorption means T1 and T2 are provided with a medium to be processed storage tank W1 in which a medium to be processed containing boron is stored through supply lines L1, L2 and L4, and discharge lines L3, L5 and L6. It is connected to the outside via Furthermore, the adsorption means T1 and T2 are connected via a supply line L11, L12 and L14 to a desorption medium storage tank D1 in which a desorption medium is stored, and via the discharge lines L13, L15 and L16, A desorption medium recovery tank R1 is connected.

なお、供給ラインL1、L2、L4、L12及びL14には、それぞれバルブV1、V2、V4、V12及びV14が設けられており、排出ラインL3、L5、L13、L15及びL16には、それぞれバルブV3、V5、V13、V15及びV16が設けられている。また、供給ラインL1及びL11にはポンプP1及びP2が設けられている。さらに、被処理媒体貯留タンクW1、供給ラインL1及び排出ラインL6には、それぞれ濃度測定手段M1、M2及びM3が設けられ、脱着媒体貯留タンクD1、排出ラインL16及び脱着媒体回収タンクR1には、それぞれ濃度測定装置M1、M11及びM13が設けられている。   The supply lines L1, L2, L4, L12 and L14 are provided with valves V1, V2, V4, V12 and V14, respectively, and the discharge lines L3, L5, L13, L15 and L16 are provided with valves V3, respectively. , V5, V13, V15, and V16 are provided. The supply lines L1 and L11 are provided with pumps P1 and P2. Further, concentration measuring means M1, M2 and M3 are provided in the medium storage tank W1, supply line L1 and discharge line L6, respectively, and the desorption medium storage tank D1, discharge line L16 and desorption medium recovery tank R1 are Concentration measuring devices M1, M11 and M13 are provided, respectively.

また、上述したバルブ、ポンプの制御及び測定装置における測定値のモニタリングは、制御手段C1によって一括集中管理されている。   Further, the control of the valve and pump and the monitoring of the measured value in the measuring device are collectively managed by the control means C1.

次に、図1に示す装置を用いたホウ素の吸着操作について説明する。   Next, an operation for adsorbing boron using the apparatus shown in FIG. 1 will be described.

最初に、吸着手段T1及びT2に対して、被処理媒体をタンクW1からポンプP1により供給ラインL1、L2及びL4を通じて吸着手段T1及びT2に供給する。このとき、前記被処理媒体中のホウ素は吸着手段T1及びT2に吸着され、吸着後の前記被処理媒体は排出ラインL3、L6を通じて外部に排出される。   First, the medium to be treated is supplied from the tank W1 to the suction means T1 and T2 through the supply lines L1, L2, and L4 to the suction means T1 and T2. At this time, boron in the medium to be treated is adsorbed by the adsorption means T1 and T2, and the medium to be treated after adsorption is discharged to the outside through the discharge lines L3 and L6.

この際、必要に応じて接触効率促進手段X1及びX2を駆動させ、吸着手段T1及びT2内に充填されたホウ素吸着材と前記被処理媒体との接触面積を増大させ、吸着手段T1及びT2によるホウ素の吸着効率を向上させることができる。   At this time, if necessary, the contact efficiency promoting means X1 and X2 are driven to increase the contact area between the boron adsorbent filled in the adsorbing means T1 and T2 and the medium to be treated, and by the adsorbing means T1 and T2. The adsorption efficiency of boron can be improved.

ここで、吸着手段T1及びT2の、供給側に設けた濃度測定手段M2と排出側に設けた濃度測定手段M3により吸着手段T1及びT2の吸着状態を観測する。吸着が順調に行われている場合、濃度測定手段M3により測定されるホウ素の濃度は、濃度測定手段M2で測定されるホウ素の濃度よりも低い値を示す。しかしながら、吸着手段T1及びT2におけるホウ素の吸着が次第に進行するにつれ、供給側及び排出側に配置された濃度測定手段M2及びM3における前記ホウ素の濃度差が減少する。   Here, the adsorption states of the adsorption means T1 and T2 are observed by the concentration measurement means M2 provided on the supply side and the concentration measurement means M3 provided on the discharge side of the adsorption means T1 and T2. When the adsorption is performed smoothly, the boron concentration measured by the concentration measuring means M3 is lower than the boron concentration measured by the concentration measuring means M2. However, as the adsorption of boron in the adsorption means T1 and T2 progresses gradually, the difference in boron concentration between the concentration measuring means M2 and M3 arranged on the supply side and the discharge side decreases.

したがって、濃度測定手段M3が予め設定した所定の値に達し、吸着手段T1及びT2によるホウ素の吸着能が飽和に達したと判断した場合は、濃度測定手段M2、M3からの情報に基づき、制御手段C1がポンプP1を一旦停止し、バルブV2、V3を閉め、吸着手段T1及びT2への前記被処理媒体の供給を停止する。   Accordingly, when the concentration measuring means M3 reaches a predetermined value set in advance and it is determined that the adsorption capacity of boron by the adsorption means T1 and T2 has reached saturation, the control is performed based on information from the concentration measuring means M2 and M3. The means C1 temporarily stops the pump P1, closes the valves V2 and V3, and stops the supply of the processing medium to the suction means T1 and T2.

なお、図1には図示していないが、前記被処理媒体のpHが変動する場合、あるいはpHが強酸性あるいは強塩基性であって本発明に係る吸着材に適したpH領域を外れている場合には、濃度測定手段M1または/およびM2により前記被処理媒体のpHを測定し、制御手段C1を通じて前記被処理媒体のpHを調整してもよい。   Although not shown in FIG. 1, when the pH of the medium to be treated fluctuates, or the pH is strongly acidic or strongly basic, it is out of the pH range suitable for the adsorbent according to the present invention. In this case, the pH of the medium to be treated may be measured by the concentration measuring means M1 and / or M2, and the pH of the medium to be treated may be adjusted through the control means C1.

吸着手段T1及びT2が飽和に達した後は、脱着媒体貯留タンクD1からポンプP2により供給ラインL11、L12を通じて脱着媒体が吸着手段T1及びT2に供給される。吸着手段T2に吸着されているホウ素は、前記脱着媒体中に溶出(脱着)し、排出ラインL13、L15及びL16を通じて吸着手段T1及びT2の外部に排出され、回収タンクR1に回収される。なお、回収タンクR1に回収することなく、外部に排出するようにすることもできる。また、析出したホウ素を濾別して回収してもよい。   After the adsorption means T1 and T2 reach saturation, the desorption medium is supplied from the desorption medium storage tank D1 to the adsorption means T1 and T2 through the supply lines L11 and L12 by the pump P2. Boron adsorbed by the adsorbing means T2 is eluted (desorbed) into the desorption medium, discharged to the outside of the adsorbing means T1 and T2 through the discharge lines L13, L15, and L16, and collected in the recovery tank R1. In addition, it can also be made to discharge | emit outside, without collect | recovering to collection tank R1. The precipitated boron may be collected by filtration.

吸着手段T1及びT2から前記脱着媒体によるホウ素の脱着が順調に行われている場合、前記脱着媒体の、排出側に設けた濃度測定装置M12により測定されるホウ素の濃度は、供給側に設けた濃度測定装置M11よりも高い値を示す。しかしながら、吸着手段T1及びT2におけるホウ素の脱着が次第に進行するにつれ、供給側及び排出側に配置された濃度測定手段M11及びM12における前記ホウ素の濃度差が減少する。   When the desorption of boron by the desorption medium is performed smoothly from the adsorption means T1 and T2, the concentration of boron measured by the concentration measuring device M12 provided on the discharge side of the desorption medium is provided on the supply side. The value is higher than that of the concentration measuring device M11. However, as the desorption of boron in the adsorbing means T1 and T2 progresses gradually, the difference in boron concentration in the concentration measuring means M11 and M12 arranged on the supply side and the discharge side decreases.

したがって、濃度測定手段M12が予め設定した所定の値に達し、前記脱着媒体による吸着手段T1及びT2によるホウ素の脱着能が飽和に達したと判断した場合は、濃度測定手段M11、M12からの情報に基づき、制御手段C1がポンプP2を一旦停止し、バルブV12、V14を閉め、吸着手段T1及びT2に対する前記被処理媒体の供給を停止する。   Therefore, when the concentration measuring means M12 reaches a predetermined value set in advance and it is determined that the boron desorption ability by the adsorption means T1 and T2 by the desorption medium has reached saturation, information from the concentration measuring means M11 and M12 The control means C1 temporarily stops the pump P2, closes the valves V12 and V14, and stops the supply of the medium to be processed to the suction means T1 and T2.

以上のようにして、吸着手段T1及びT2からのホウ素の脱着が完了した後は、再び被処理媒体貯留タンクW1から前記被処理媒体を供給し、ホウ素を吸着して前記被処理媒体中のホウ素を低減させることができる。   After the desorption of boron from the adsorption means T1 and T2 is completed as described above, the medium to be treated is supplied again from the medium to be treated storage tank W1, and the boron in the medium to be treated is adsorbed by boron. Can be reduced.

なお、濃度測定装置M13は、脱着媒体回収タンクR1中のホウ素の濃度を必要に応じて適宜測定するように構成されている。   The concentration measuring device M13 is configured to appropriately measure the concentration of boron in the desorption medium recovery tank R1 as necessary.

また、上記例では、吸着手段T1及びT2に対して同時にホウ素を吸着させるとともに、ホウ素を脱着させるようにしているが、吸着手段T1及びT2でこれらの操作を交互に行うこともできる。例えば、吸着手段T1で最初にホウ素の吸着を行い、吸着能が飽和に達した後、吸着手段T1に対して上述のようなホウ素の脱着を行うとともに、同時に吸着手段T2でホウ素の吸着を行うようにすることもできる。   In the above example, boron is simultaneously adsorbed to the adsorbing means T1 and T2, and boron is desorbed. However, these operations can be alternately performed by the adsorbing means T1 and T2. For example, boron is first adsorbed by the adsorbing means T1, and after the adsorbing capacity reaches saturation, boron is desorbed as described above from the adsorbing means T1, and at the same time, boron is adsorbed by the adsorbing means T2. It can also be done.

この場合、図1に示す装置においては、吸着手段T1又はT2のいずれかにおいて常にホウ素の吸着を行うことができるので、連続運転が可能となる。   In this case, in the apparatus shown in FIG. 1, since boron can be always adsorbed in either the adsorbing means T1 or T2, continuous operation is possible.

上記脱着媒体としては、pH2〜5程度の希塩酸水溶液または希硫酸水溶液等の酸性溶媒を用いることができる。また、前記脱着溶媒の量は、吸着手段T1及びT2の容積の2倍以上10倍以下であることが好ましい。2倍よりも小さいと、ホウ素の脱着を十分効率良く実施することができない場合があり、10倍よりも大きいと薬剤コストが高くなって、非効率的である。   As the desorption medium, an acidic solvent such as dilute hydrochloric acid aqueous solution or dilute sulfuric acid aqueous solution having a pH of about 2 to 5 can be used. The amount of the desorption solvent is preferably 2 to 10 times the volume of the adsorption means T1 and T2. If it is less than 2 times, the desorption of boron may not be carried out sufficiently efficiently, and if it is more than 10 times, the drug cost becomes high, which is inefficient.

次に、実施例により本発明を更に詳細に説明する。   Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

(実施例1)
4−アミノサリチル酸1gを1Mの水酸化ナトリウム水溶液10mlに溶解させ、エポキシシラン1.54g を添加した。12時間攪拌後、0.1Mの塩酸水溶液8mlを加えると、茶白色のゲル状物質が得られた。生成物をろ過後、純水洗浄し、80℃で24時間乾燥したところ、0.866gのガラス状物質(吸着材)を得た。
Example 1
1 g of 4-aminosalicylic acid was dissolved in 10 ml of 1M aqueous sodium hydroxide and 1.54 g of epoxysilane was added. After stirring for 12 hours, 8 ml of a 0.1 M aqueous hydrochloric acid solution was added to obtain a brown white gel substance. The product was filtered, washed with pure water, and dried at 80 ° C. for 24 hours to obtain 0.866 g of a glassy substance (adsorbent).

上記物質100mgを、20ppm−B、50ppm-B、100ppm-B、500ppm-Bの濃度に調整したNa・10HO含有被処理水50mlにそれぞれ加え、NISSIN製ロータリーミキサーで攪拌した(16rpm)。90分後における前記被処理水のホウ素濃度をICP-MSにて測定したところ、吸着量は表1に示した結果となった。 100 mg of the above substances are added to 50 ml of Na 2 B 4 O 7 · 10H 2 O-containing water adjusted to a concentration of 20 ppm-B, 50 ppm-B, 100 ppm-B, and 500 ppm-B, respectively, and stirred with a NISSIN rotary mixer. (16 rpm). When the boron concentration of the water to be treated after 90 minutes was measured by ICP-MS, the adsorption amount was as shown in Table 1.

(実施例2)
4−アミノ−3−ヒドロキシ酪酸1.19g を1Mの水酸化ナトリウム水溶液10mlに溶解させ、エポキシシラン2.36g を添加した。12時間攪拌後、0.1Mの塩酸水溶液5mlを加えると、白色のゲル状物質が得られた。生成物をろ過後、純水洗浄し、80℃で24時間乾燥したところ、1.21gのガラス状物質(吸着材)を得た。次いで、実施例1と同様にして、Na・10HO含有被処理水のホウ素濃度における90分後の吸着量を測定したところ、表1に示した結果となった。
(Example 2)
1.19 g of 4-amino-3-hydroxybutyric acid was dissolved in 10 ml of 1M aqueous sodium hydroxide solution and 2.36 g of epoxysilane was added. After stirring for 12 hours, 5 ml of a 0.1 M aqueous hydrochloric acid solution was added to obtain a white gel-like substance. The product was filtered, washed with pure water, and dried at 80 ° C. for 24 hours to obtain 1.21 g of a glassy substance (adsorbent). Next, in the same manner as in Example 1, the adsorption amount after 90 minutes in the boron concentration of Na 2 B 4 O 7 · 10H 2 O-containing treated water was measured, and the results shown in Table 1 were obtained.

(実施例3)
4−アミノ−3−ヒドロキシ酪酸1.19gに代えて、4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸1.19g を用いた以外は、実施例2と同様の方法で1.15gのガラス状物質を得た。次いで、実施例1と同様にして、Na・10HO含有被処理水のホウ素濃度における90分後の吸着量を測定したところ、表1に示した結果となった。
Example 3
1.15 g of glassy material was obtained in the same manner as in Example 2 except that 1.19 g of 4-amino-2-hydroxybutyric acid was used instead of 1.19 g of 4-amino-3-hydroxybutyric acid. . Next, in the same manner as in Example 1, the adsorption amount after 90 minutes in the boron concentration of Na 2 B 4 O 7 · 10H 2 O-containing treated water was measured, and the results shown in Table 1 were obtained.

(実施例4)
4―アミノサリチル酸1gを1Mの水酸化ナトリウム水溶液10mlに溶解させ、エポキシシラン1.54g を添加した。12時間攪拌後、0.01Mの塩酸水溶液をpH7になるまで加えた。ここにシリカゲル(100−210μm:ナカライテスク製60N球状)1gを加え、1時間攪拌後、ろ過、純水洗浄し、60℃で12時間乾燥し、1.21gの吸着材を得た。次いで、実施例1と同様にして、Na・10HO含有被処理水のホウ素濃度における90分後の吸着量を測定したところ、表1に示した結果となった。
Example 4
1 g of 4-aminosalicylic acid was dissolved in 10 ml of 1M aqueous sodium hydroxide and 1.54 g of epoxysilane was added. After stirring for 12 hours, 0.01 M aqueous hydrochloric acid solution was added until pH7 was reached. 1 g of silica gel (100-210 μm: Nacalai Tesque 60N sphere) was added thereto, stirred for 1 hour, filtered, washed with pure water, and dried at 60 ° C. for 12 hours to obtain 1.21 g of an adsorbent. Next, in the same manner as in Example 1, the adsorption amount after 90 minutes in the boron concentration of Na 2 B 4 O 7 · 10H 2 O-containing treated water was measured, and the results shown in Table 1 were obtained.

(実施例5)
4―アミノ―3―ヒドロキシ酪酸1.19gを1Mの水酸化ナトリウム水溶液10mlに溶解させ、エポキシシラン1.54g を添加した。12時間攪拌後、0.01Mの塩酸水溶液をpH7になるまで加えた。ここにシリカゲル(100−210μm:ナカライテスク製60N球状)1gを加えた。1時間攪拌後、ろ過、純水洗浄し、60℃で12時間乾燥し、1.10gの吸着材を得た。次いで、実施例1と同様にして、Na・10HO含有被処理水のホウ素濃度における90分後の吸着量を測定したところ、表1に示した結果となった。
(Example 5)
1.19 g of 4-amino-3-hydroxybutyric acid was dissolved in 10 ml of 1M aqueous sodium hydroxide solution and 1.54 g of epoxysilane was added. After stirring for 12 hours, 0.01 M aqueous hydrochloric acid solution was added until pH7 was reached. 1 g of silica gel (100-210 μm: 60N sphere manufactured by Nacalai Tesque) was added thereto. After stirring for 1 hour, it was filtered, washed with pure water, and dried at 60 ° C. for 12 hours to obtain 1.10 g of an adsorbent. Next, in the same manner as in Example 1, the adsorption amount after 90 minutes in the boron concentration of Na 2 B 4 O 7 · 10H 2 O-containing treated water was measured, and the results shown in Table 1 were obtained.

(実施例6)
4−アミノ−3−ヒドロキシ酪酸1.19gに代えて、4−アミノ−2−ヒドロキシ酪酸1.19g を用いた以外は、実施例5と同様の方法で1.12gの吸着材を得た。次いで、実施例1と同様にして、Na・10HO含有被処理水のホウ素濃度における90分後の吸着量を測定したところ、表1に示した結果となった。
(Example 6)
Instead of 1.19 g of 4-amino-3-hydroxybutyric acid, 1.12 g of an adsorbent was obtained in the same manner as in Example 5 except that 1.19 g of 4-amino-2-hydroxybutyric acid was used. Next, in the same manner as in Example 1, the adsorption amount after 90 minutes in the boron concentration of Na 2 B 4 O 7 · 10H 2 O-containing treated water was measured, and the results shown in Table 1 were obtained.

(比較例)
市販のホウ素吸着材であるオルガノ製IRA743を実施例1と同様に評価し、結果を表1に示した。
(Comparative example)
A commercially available boron adsorbent, IRA743 made by Organo was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

Figure 2010214336
Figure 2010214336

以上、実施例及び比較例から明らかなように、本発明に従って、担体の表面を上述した構造式(1)〜(4)で示されるような有機化合物で修飾することによって得た吸着材を用いることにより、上記処理水におけるホウ素の初期濃度に対して90分後の濃度は大幅に減少し、前記吸着材が、ホウ素に対する高い吸着特性を呈することが判明した。   As described above, as is clear from the examples and comparative examples, according to the present invention, the adsorbent obtained by modifying the surface of the carrier with the organic compound as represented by the above structural formulas (1) to (4) is used. As a result, it was found that the concentration after 90 minutes with respect to the initial concentration of boron in the treated water was greatly reduced, and the adsorbent exhibited high adsorption characteristics for boron.

以上、本発明を上記具体例に基づいて詳細に説明したが、本発明は上記具体例に限定されるものではなく、本発明の範疇を逸脱しない限りにおいてあらゆる変形や変更が可能である。   While the present invention has been described in detail based on the above specific examples, the present invention is not limited to the above specific examples, and various modifications and changes can be made without departing from the scope of the present invention.

Claims (7)

多孔質構造の担体と、
前記担体の表面を修飾してなる(1)〜(4)の構造式を有する有機化合物の少なくとも一つと、
を具えることを特徴とする、ホウ素吸着材
Figure 2010214336
Figure 2010214336
Figure 2010214336
Figure 2010214336
(それぞれ分子中の少なくとも一つのRには1級または2級のアミノ基を含み、R1-R10は水素又は脂肪鎖であって、不飽和炭素結合、エーテル結合、エステル結合、水酸基及びカルボン酸等の官能基を含むことができる。)。
A porous structure carrier;
At least one organic compound having the structural formulas (1) to (4) obtained by modifying the surface of the carrier;
Boron adsorbent characterized by comprising
Figure 2010214336
Figure 2010214336
Figure 2010214336
Figure 2010214336
(At least one R in the molecule contains a primary or secondary amino group, and R 1 to R 10 are hydrogen or an aliphatic chain, and are an unsaturated carbon bond, an ether bond, an ester bond, a hydroxyl group and a carboxyl group. It can contain functional groups such as acids).
前記担体と前記有機化合物とは、Si−O結合を介して架橋されたことを特徴とする、請求項1に記載のホウ素吸着材。   The boron adsorbent according to claim 1, wherein the carrier and the organic compound are cross-linked through a Si—O bond. 前記担体は、磁性担体であることを特徴とする、請求項1又は2に記載のホウ素吸着材。   The boron adsorbent according to claim 1 or 2, wherein the carrier is a magnetic carrier. 前記担体は、シリカゲルであることを特徴とする、請求項1又は2に記載のホウ素吸着材。   The boron adsorbent according to claim 1 or 2, wherein the carrier is silica gel. 多孔質構造の担体をシランカップリング剤で処理する工程と、
前記担体に対して(1)〜(4)の構造式を有する有機化合物の少なくとも一つを接触させる工程とを具え、
前記担体の表面を、(1)〜(4)の構造式を有する前記有機化合物の少なくとも一つで修飾してなるホウ素吸着材を得ることを特徴とする、ホウ素吸着材の製造方法。
Figure 2010214336
Figure 2010214336
Figure 2010214336
Figure 2010214336
(それぞれ分子中の少なくとも一つのRには1級または2級のアミノ基を含み、R1-R10は水素又は脂肪鎖であって、不飽和炭素結合、エーテル結合、エステル結合、水酸基及びカルボン酸等の官能基を含むことができる。)。
Treating the porous carrier with a silane coupling agent;
Contacting at least one of organic compounds having the structural formulas (1) to (4) with the carrier,
A method for producing a boron adsorbent comprising obtaining a boron adsorbent obtained by modifying the surface of the carrier with at least one of the organic compounds having the structural formulas (1) to (4).
Figure 2010214336
Figure 2010214336
Figure 2010214336
Figure 2010214336
(At least one R in the molecule contains a primary or secondary amino group, and R 1 to R 10 are hydrogen or an aliphatic chain, and are an unsaturated carbon bond, an ether bond, an ester bond, a hydroxyl group and a carboxyl group. It can contain functional groups such as acids).
前記シランカップリング剤はアルコキシシランカップリング剤であることを特徴とする、請求項5に記載のホウ素吸着材の製造方法。   6. The method for producing a boron adsorbent according to claim 5, wherein the silane coupling agent is an alkoxysilane coupling agent. 前記シランカップリング剤の濃度が、前記担体に対して1重量%〜10重量%であることを特徴とする、請求項5又は6に記載のホウ素吸着材の製造方法。   The method for producing a boron adsorbent according to claim 5 or 6, wherein a concentration of the silane coupling agent is 1% by weight to 10% by weight with respect to the carrier.
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