JP2010212555A - Gas laser oscillation device, and gas laser processing machine - Google Patents

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Hiroyuki Hayashikawa
洋之 林川
Nobuo Shinno
暢男 新野
Hidefumi Omatsu
英文 尾松
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve the cooling of a laser gas without using a blower means and a stabilized resonator enabling a high-quality laser beam to be extracted, compatibly. <P>SOLUTION: A discharge means including electrodes 5, 6 and a D.C. power source 7 is arranged in a chamber 2 of a laser gas passage 1 for circulating the laser gas; a magnetic field generation means 12 for applying a magnetic field in a direction orthogonal to a direct current direction 13 caused by the discharge means is arranged; the magnetic field is applied in the direction orthogonal to the current flow through the laser gas caused by the discharge means in the chamber 2, to the current flow, thereby the laser gas turned into plasma by discharge is moved by electromagnetic force and a blower means like a conventional one can be eliminated. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は主として板金等の加工用途に用いられるガスレーザ発振装置およびガスレーザ加工機に関するものである。   The present invention relates to a gas laser oscillation device and a gas laser processing machine mainly used for processing a sheet metal or the like.

図5に従来の軸流型ガスレーザ発振装置の概略構成の一例を示す。以下、図5を参照しながら従来の軸流型ガスレーザ発振装置を説明する。   FIG. 5 shows an example of a schematic configuration of a conventional axial flow type gas laser oscillation apparatus. Hereinafter, a conventional axial gas laser oscillator will be described with reference to FIG.

この図に示す従来の軸流型ガスレーザ発振装置は、ガラスなどの誘電体よりなる放電管101は、前記放電管101の周辺に設けたリング状の電極102と103、前記電極102、103に接続した電源104、前記放電管101内の電極102、103間に挟まれた部分であり前記電源104から電極102、103に通電を行うことにより放電を行う放電空間105、全反射鏡106、部分反射鏡107、前記部分反射鏡107より出力されるレーザビーム108、レーザガスの流れる方向の矢印109、レーザガス流路110、熱交換機111、熱交換機112、送風手段113、レーザガス導入部114を備えている。   In the conventional axial-flow type gas laser oscillation device shown in this figure, a discharge tube 101 made of a dielectric material such as glass is connected to ring-shaped electrodes 102 and 103 provided around the discharge tube 101, and the electrodes 102 and 103. The power supply 104, the portion sandwiched between the electrodes 102 and 103 in the discharge tube 101, and the discharge space 105, the total reflection mirror 106, and the partial reflection that discharges when the electrodes 102 and 103 are energized from the power supply 104. A mirror 107, a laser beam 108 output from the partial reflection mirror 107, an arrow 109 in the direction in which the laser gas flows, a laser gas flow path 110, a heat exchanger 111, a heat exchanger 112, a blower 113, and a laser gas introduction unit 114 are provided.

この全反射鏡106、部分反射鏡107は前記放電空間105の両端に位置するように前記放電管101を支持する構成部材に固定配置され、光共振器を形成している。   The total reflection mirror 106 and the partial reflection mirror 107 are fixedly disposed on the constituent members that support the discharge tube 101 so as to be positioned at both ends of the discharge space 105, thereby forming an optical resonator.

また、レーザガスは矢印109の方向にレーザガス流路110を流れ、レーザガス導入部114、放電管101内の放電空間105、熱交換機111、送風手段113、熱交換機112、レーザガス流路110の順に軸流型ガスレーザ発振装置の中を循環している。   The laser gas flows through the laser gas flow path 110 in the direction of the arrow 109, and the axial flow of the laser gas introduction section 114, the discharge space 105 in the discharge tube 101, the heat exchanger 111, the air blowing means 113, the heat exchanger 112, and the laser gas flow path 110 in this order. It circulates in the mold gas laser oscillator.

前記熱交換機111および112は放電空間105における放電と送風手段113の内部に配置した送風機の運転により温度上昇したレーザガスの温度を下げる。送風手段113は放電空間105にて約100m/sec程度のガス流を得るように送風している。レーザガス流路110と放電管101は、レーザガス導入部114で接続されている。   The heat exchangers 111 and 112 lower the temperature of the laser gas whose temperature has been raised by the discharge in the discharge space 105 and the operation of the blower disposed inside the blower means 113. The air blowing means 113 blows air so as to obtain a gas flow of about 100 m / sec in the discharge space 105. The laser gas channel 110 and the discharge tube 101 are connected by a laser gas introduction unit 114.

図6にレーザ加工機の概略構成の一例を示す。以下、図6を参照しながらレーザ加工機を説明する。   FIG. 6 shows an example of a schematic configuration of the laser processing machine. Hereinafter, the laser processing machine will be described with reference to FIG.

この図に於いて、上述した従来の軸流型ガスレーザ発振装置から出力したレーザビーム108をワーク116方向へ進行方向を反射鏡115で反射することにより変更し、トーチ117内部に備えられた集光レンズ118によって前記レーザビーム108を高密度のエネルギビームに集光して、ワーク116に照射する。   In this figure, the laser beam 108 output from the above-described conventional axial gas laser oscillator is changed by reflecting the traveling direction in the direction of the workpiece 116 by the reflecting mirror 115, and the condensing provided inside the torch 117. The laser beam 108 is condensed into a high-density energy beam by the lens 118 and irradiated onto the workpiece 116.

なお、ワーク116は加工テーブル119上に固定されており、トーチ117をX軸モータ120あるいはY軸モータ121によって、ワーク116に対して相対的に移動する事で、所定の形状の加工を行うように構成している。   The workpiece 116 is fixed on the machining table 119, and the torch 117 is moved relative to the workpiece 116 by the X-axis motor 120 or the Y-axis motor 121 so as to process a predetermined shape. It is configured.

このような従来の軸流型ガスレーザ発振装置では、送風手段113より送り出したレーザガスは、レーザガス流路110を通り、レーザガス導入部114より放電管101内へ導入される。この状態で電源104に接続された電極102、103から放電空間105に放電を発生させる。放電空間105内のレーザガスは、この放電エネルギーを得て励起され、その励起されたレーザガスは全反射鏡106および部分反射鏡107により形成された光共振器で共振状態となり、部分反射鏡7からレーザビーム108が出力される。このレーザビーム108がレーザ加工等の用途に用いられる。   In such a conventional axial-flow type gas laser oscillation device, the laser gas sent out from the air blowing means 113 passes through the laser gas flow path 110 and is introduced into the discharge tube 101 from the laser gas introduction part 114. In this state, a discharge is generated in the discharge space 105 from the electrodes 102 and 103 connected to the power source 104. The laser gas in the discharge space 105 is excited by obtaining this discharge energy. The excited laser gas is brought into a resonance state by an optical resonator formed by the total reflection mirror 106 and the partial reflection mirror 107, and the laser is emitted from the partial reflection mirror 7. A beam 108 is output. This laser beam 108 is used for applications such as laser processing.

さて、一般にレーザ発振を行うためには放電管101内のレーザガス温度が一定温度以下である必要がある。例えばCOガスレーザの場合は、この温度が200℃であり、ガス温度が200℃を越えると、発振効率が急激に低下し、所定のレーザ出力が得られなくなる。 In general, in order to perform laser oscillation, the laser gas temperature in the discharge tube 101 needs to be a certain temperature or lower. For example, in the case of a CO 2 gas laser, this temperature is 200 ° C., and if the gas temperature exceeds 200 ° C., the oscillation efficiency rapidly decreases and a predetermined laser output cannot be obtained.

従来の軸流型レーザ発振装置では、送風手段110および熱交換器111、112がレーザガス温度を常時30℃程度に保つために必要な構成要素である。レーザガスが放電管101内に送り込まれる時、レーザガス温度は約30℃である。   In the conventional axial flow type laser oscillation device, the air blowing means 110 and the heat exchangers 111 and 112 are components necessary for keeping the laser gas temperature at about 30 ° C. at all times. When the laser gas is fed into the discharge tube 101, the laser gas temperature is about 30 ° C.

そして放電が開始されると放電エネルギーによりレーザガス温度は上昇し、放電管を通過後、ガス温度は200℃近くにまで上昇している。このレーザガスは熱交換器111を通過する事で約30℃まで温度が下がる。送風手段113通過後、圧縮熱により再度150℃近くまでガス温度が上昇するが、再度、熱交換器112を通過し、約30℃まで温度が下がる。   When the discharge is started, the laser gas temperature rises due to the discharge energy, and after passing through the discharge tube, the gas temperature rises to near 200 ° C. The temperature of the laser gas decreases to about 30 ° C. by passing through the heat exchanger 111. After passing through the air blowing means 113, the gas temperature rises again to near 150 ° C. due to the compression heat, but again passes through the heat exchanger 112 and falls to about 30 ° C.

このレーザガスが再度、放電管101内へ導入される。レーザビームの出力が数kwクラスのCOレーザ発振装置の場合、放電管101を通過するガス流速は数100m/secであり、レーザガスが放電管101内に留まっている時間は、わずか数msecである。レーザガスがこれ以上の時間、放電管101内に留まると、温度上昇により200℃を超え、急激な発振効率の低下が発生する事になる。 This laser gas is again introduced into the discharge tube 101. In the case of a CO 2 laser oscillation device with a laser beam output of several kw class, the gas flow rate passing through the discharge tube 101 is several hundred m / sec, and the time during which the laser gas stays in the discharge tube 101 is only a few msec. is there. If the laser gas stays in the discharge tube 101 for a longer time, the temperature rises above 200 ° C. due to the temperature rise, and a sudden decrease in oscillation efficiency occurs.

このように従来の軸流型ガスレーザ発振装置およびガスレーザ加工機、特にレーザビームの出力が数kw以上の出力が得られるCOレーザ発振装置においては、送風手段13を備える事は必須である。送風手段13としては、一般的にルーツブロアやターボブロアが用いられる。例えばターボブロア関して説明すると、レーザ用ターボブロアには、レーザガスに直接作用する翼車回転部は清浄に保つために、駆動用の機器、例えば電動機などを潤滑するオイルから発生するオイルミストが存在する翼車駆動部とを空気力学的に分離するシール構造を用いている。 Thus, in the conventional axial flow type gas laser oscillating device and gas laser processing machine, particularly in the CO 2 laser oscillating device in which the output of the laser beam can be several kw or more, it is essential to provide the blowing means 13. As the air blowing means 13, a roots blower or a turbo blower is generally used. For example, when explaining a turbo blower, a laser turbo blower has an oil mist generated from oil that lubricates a drive device, for example, an electric motor, in order to keep the impeller rotating portion that directly acts on the laser gas clean. A seal structure that aerodynamically separates the vehicle drive unit is used.

なお、上述した軸流型レーザ発振装置とは構成が異なるレーザ発振装置としては、送風機によるガス循環冷却を行わずにガスレーザの大出力化を行う構成として、対向させた平行平板状の2枚の電極間に放電空間を設け、放電によるガス温度上昇を平行平板との接触による拡散冷却によって抑制するいわゆるスラブレーザと呼ばれるものもあった(例えば特許文献1,2参考)。   The laser oscillation device having a configuration different from that of the axial-flow type laser oscillation device described above is configured to increase the output of the gas laser without performing gas circulation cooling by a blower. There is also a so-called slab laser in which a discharge space is provided between the electrodes and the gas temperature rise due to the discharge is suppressed by diffusion cooling due to contact with the parallel plate (for example, see Patent Documents 1 and 2).

図7に従来のスラブレーザの概略構成の一例を示す。以下、図7を参照しながら従来のスラブレーザ発振装置を説明する。   FIG. 7 shows an example of a schematic configuration of a conventional slab laser. Hereinafter, a conventional slab laser oscillation apparatus will be described with reference to FIG.

図7に示す従来のスラブレーザは、平行平板からなる電極102、103を有し、図示しないが内部に絶縁処理を施したパイプ状の冷却水流路を設けていて、図示しない冷却水循環装置と接続している。   The conventional slab laser shown in FIG. 7 has electrodes 102 and 103 made of parallel plates, and is provided with a pipe-shaped cooling water flow passage that is not shown but is internally insulated and connected to a cooling water circulation device (not shown). is doing.

また電極102、103には電源104を接続しており、電極102、103に通電することにより、電極102、103の向かい合った空間を放電空間としている。   In addition, a power source 104 is connected to the electrodes 102 and 103, and when the electrodes 102 and 103 are energized, a space where the electrodes 102 and 103 face each other is used as a discharge space.

この放電空間に位置するレーザガスが放電エネルギーを得て励起され、その励起されたレーザガスは全反射鏡106および部分反射鏡107により形成された光共振器で共振状態となり、部分反射鏡107からレーザビーム108が出力される構成になっている。   The laser gas located in the discharge space is excited by obtaining discharge energy, and the excited laser gas is brought into a resonance state by an optical resonator formed by the total reflection mirror 106 and the partial reflection mirror 107, and the laser beam is emitted from the partial reflection mirror 107. 108 is output.

なお、このスラブレーザでは拡散冷却の方法をとるため、冷却効率を上げるために平行平板からなる電極102、103間の距離を数mmオーダーに設定する必要がある。   Since this slab laser uses a diffusion cooling method, it is necessary to set the distance between the parallel electrodes 102 and 103 to the order of several mm in order to increase the cooling efficiency.

この場合、光共振器の空間も数mmオーダーの平行平板間により制限されるので、光共振器は平行平板表面での反射を用いた導波路型になり、導波路での散乱による不純光発生により、おのずと光の質は低下する。レーザビーム108は質の悪い矩形でしか取り出せない。
特開昭63−192285号公報 特開平8−97489号公報
In this case, since the space of the optical resonator is also limited by the parallel plate of the order of several millimeters, the optical resonator becomes a waveguide type using reflection on the surface of the parallel plate, and impure light generation due to scattering in the waveguide This naturally reduces the quality of light. The laser beam 108 can be extracted only in a low-quality rectangle.
JP-A-63-192285 JP-A-8-97489

さて、上述した軸流型レーザ発振装置に用いるシール構造は、翼車の高速高精度回転による送風能力との両立が求められ、そのためレーザ用ターボブロアはおのずと高価な部品となり、装置の全材料費の数10%を占める事から、イニシャルコスト低減の大きな阻害要因となっていた。   Now, the seal structure used in the above-described axial-flow type laser oscillation device is required to be compatible with the air blowing capability by the high-speed and high-precision rotation of the impeller. Therefore, the laser turbo blower is naturally an expensive part, and the total material cost of the device is reduced. Since it accounts for several tens of percent, it has become a major impediment to reducing initial costs.

またブロアは翼車の回転のためモータを用いており、その消費電力はガスレーザ発振装置の全消費電力の数10%を占めているため、消費電力を低減させランニングコストを抑制する上での大きな阻害要因となっていた。   The blower uses a motor for rotating the impeller, and its power consumption accounts for several tens of percent of the total power consumption of the gas laser oscillation device, which is great in reducing power consumption and running costs. It was an impediment.

一方、シール構造を用いない、すなわち、送風手段によるガス冷却方式を用いずにレーザガスを冷却する手段としては、いわゆるスラブレーザが存在するが、このスラブレーザはレーザの光の質が悪いという致命的な欠点がある。   On the other hand, there is a so-called slab laser as a means for cooling the laser gas without using the seal structure, that is, without using the gas cooling method by the blowing means. There are some disadvantages.

レーザ光共振器の理想形は、折返し鏡での反射を一部介するものの、基本的に向かい合った1対のミラー表面での反射で光の定在波を形成する方式であり、いわゆる安定型共振器と呼ばれるものであり、最も良質な光を取り出す事が出来る。   The ideal form of a laser resonator is a system that forms a standing wave of light by reflection on a pair of mirror surfaces that face each other, although it is partially reflected by a folding mirror. It is called a container and can extract the light of the highest quality.

図8は軸流型ガスレーザ発振装置の光共振器部分を示した図であり、図8にしめしたように円錐対象形の質の良いレーザビーム108を取り出す事が可能である。   FIG. 8 is a diagram showing an optical resonator portion of the axial flow type gas laser oscillation device. As shown in FIG. 8, it is possible to take out a high-quality laser beam 108 having a conical shape.

すなわち送風手段を用いずにレーザガスを冷却する事、および良質なレーザビームを取り出せる安定型共振器を両立させる事が大きな課題となっていた。   That is, it has been a big problem to achieve both a cooling of the laser gas without using a blowing means and a stable resonator capable of extracting a high-quality laser beam.

本発明は、上記問題点を解決するために、レーザガスを循環するレーザガス流路と、前記レーザガス流路に配置したチャンバーと、前記チャンバー内に配置した放電手段を備え、前記放電手段による電流の流れる方向と直行方向に磁界を印加するための磁界発生手段を設けたものである。   In order to solve the above problems, the present invention includes a laser gas flow path for circulating a laser gas, a chamber disposed in the laser gas flow path, and a discharge means disposed in the chamber, and a current flows by the discharge means. Magnetic field generating means for applying a magnetic field in the direction perpendicular to the direction is provided.

この構成により、チャンバー内の放電手段によりレーザガスに流れる電流と、この電流に直角方向に磁界を掛けたので、放電によりプラズマ化したレーザガスが電磁力によって移動する。   With this configuration, a current flowing in the laser gas by the discharge means in the chamber and a magnetic field applied to the current in a direction perpendicular to the current, the laser gas converted into plasma by the discharge moves by electromagnetic force.

また、前記磁界発生手段として電磁石を用い、前記電磁石に供給する電力を制御して磁界強度を可変する磁界制御装置を設けたものである。   In addition, an electromagnet is used as the magnetic field generating means, and a magnetic field control device is provided that controls the power supplied to the electromagnet to vary the magnetic field strength.

この構成により、レーザガスの移動速度を可変することができる。   With this configuration, the moving speed of the laser gas can be varied.

さらに、前記放電手段の近傍にガス温度検出手段と、前記ガス温度検出手段からの信号を入力して前記磁界制御装置に信号を出力する電磁力制御装置を設けたものである。   Further, a gas temperature detecting means and an electromagnetic force control device for inputting a signal from the gas temperature detecting means and outputting a signal to the magnetic field control device are provided in the vicinity of the discharging means.

この構成により、レーザガスの温度に応じたレーザガスの移動速度を制御することができる。   With this configuration, the moving speed of the laser gas according to the temperature of the laser gas can be controlled.

また、前記レーザガス流路のレーザガスの循環方向の前記チャンバーから前記熱交換器の間の位置に第2の放電手段を設け、前記第2の放電手段による電流の流れる方向と直行方向に磁界を印加するための第2の磁界発生手段を設けたものである。   Also, a second discharge means is provided at a position between the chamber and the heat exchanger in the laser gas circulation direction of the laser gas flow path, and a magnetic field is applied in the direction in which the current flows by the second discharge means and the direction perpendicular thereto. The second magnetic field generating means is provided.

この構成により、第2の放電手段によりレーザガスに流れる電流と、この電流に直角方向に磁界を掛けたので、放電によりプラズマ化したレーザガスが電磁力によって移動する。   With this configuration, a current flowing in the laser gas by the second discharge means and a magnetic field applied to the current in a direction perpendicular to the current, the laser gas converted into plasma by the discharge moves by electromagnetic force.

また、前記第2の磁界発生手段として電磁石を用い、前記電磁石に供給する電力を制御して磁界強度を可変する第2の磁界制御装置を設けたものである。   Further, an electromagnet is used as the second magnetic field generating means, and a second magnetic field control device is provided that controls the power supplied to the electromagnet to vary the magnetic field strength.

この構成により、レーザガスの移動速度を可変することができる。   With this configuration, the moving speed of the laser gas can be varied.

さらに、前記放電手段の近傍にガス温度検出手段と、前記ガス温度検出手段からの信号を入力して前記第2の磁界制御装置に信号を出力する第2の電磁力制御装置を設けたものである。   Further, a gas temperature detection means and a second electromagnetic force control device for inputting a signal from the gas temperature detection means and outputting a signal to the second magnetic field control device are provided in the vicinity of the discharge means. is there.

この構成により、レーザガスの温度に応じたレーザガスの移動速度を制御することができる。   With this configuration, the moving speed of the laser gas according to the temperature of the laser gas can be controlled.

本発明により、送風機によるガス循環冷却を行わずにガスレーザの大出力化および高い光品質を容易に実現でき、大幅なイニシャルおよびランニングコストを図ったガスレーザ発振装置およびガスレーザ加工機を提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide a gas laser oscillation apparatus and a gas laser processing machine that can easily realize a large output and high light quality of a gas laser without performing gas circulation cooling by a blower, and achieve a large initial and running cost.

(実施の形態1)
図1は本発明の実施の形態1におけるレーザ発振装置の構成図である。図1(a)はレーザビームの進行方向に対して直角方向の装置断面を示した図、図1(b)は図1(a)のA方向の装置断面を示した図である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a configuration diagram of a laser oscillation apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 1A is a view showing a cross section of the apparatus perpendicular to the traveling direction of the laser beam, and FIG. 1B is a view showing a cross section of the apparatus in the A direction of FIG.

図に示す本発明の実施の形態1におけるレーザ発振装置は、CO・窒素・ヘリウムからなるレーザガスを循環するレーザガス流路1を有し、このレーザガス流路1には、チャンバー2と熱交換器3を、レーザガス流路1のレーザガス流れ4の方向に配置していて、熱交換器3で循環してきたレーザガスを冷却するよう構成している。 The laser oscillation apparatus according to the first embodiment of the present invention shown in the figure has a laser gas flow path 1 for circulating a laser gas composed of CO 2 , nitrogen, and helium. The laser gas flow path 1 includes a chamber 2 and a heat exchanger. 3 is arranged in the direction of the laser gas flow 4 in the laser gas flow path 1, and the laser gas circulated in the heat exchanger 3 is cooled.

チャンバー2内には、電極5、6をそれぞれ配置しており、これら電極5、6は直流でパルス出力可能な電源7に接続している。そして、電極5、6、電源7とで放電手段を構成している。   Electrodes 5 and 6 are disposed in the chamber 2, respectively, and these electrodes 5 and 6 are connected to a power source 7 that can output a pulse with a direct current. The electrodes 5 and 6 and the power source 7 constitute a discharging means.

また、チャンバー2内には、前記放電手段によってレーザガスに放電をおこなう空間である放電空間8を設けており、この放電空間8を光学的に挟むように全反射鏡9と部分反射鏡10を配置して光共振器を構成し、レーザビーム11を出力するように構成している。   Further, in the chamber 2, a discharge space 8 which is a space for discharging the laser gas by the discharge means is provided, and a total reflection mirror 9 and a partial reflection mirror 10 are arranged so as to optically sandwich the discharge space 8. Thus, an optical resonator is configured and the laser beam 11 is output.

そして、チャンバー2には磁界発生手段12を設け、放電空間8での直流電流方向13に対して磁界方向14が直角方向になるように配置している。その直流電流方向13と磁界方向14とレーザガス流れ4の方向は3軸方向に互いに直交し、直流電流方向13とレーザガス流れ4の方向に合わせて磁界方向14を決めるようにしている。   The chamber 2 is provided with a magnetic field generating means 12 and arranged so that the magnetic field direction 14 is perpendicular to the direct current direction 13 in the discharge space 8. The DC current direction 13, the magnetic field direction 14, and the direction of the laser gas flow 4 are orthogonal to each other in the triaxial direction, and the magnetic field direction 14 is determined according to the DC current direction 13 and the direction of the laser gas flow 4.

次に動作について説明する。   Next, the operation will be described.

電極5,6間に電源7から直流の高圧電力を印加してレーザガス中に放電を行い、チャンバー2内に放電空間8を形成し、レーザガスを励起し、光共振器で共振させてレーザビーム11を出力する。そして、この放電空間8に対して、磁界発生手段12により磁界を磁界方向14の方向に掛ける。このように放電空間8の直流電流方向13に対して磁界方向14の磁界をかけると放電空間8のプラズマ状のレーザガスに直流電流方向13および磁界方向14に直角な方向に電磁力が掛かる。   A DC high voltage power is applied between the electrodes 5 and 6 from the power source 7 to discharge into the laser gas, a discharge space 8 is formed in the chamber 2, the laser gas is excited, and resonated by an optical resonator to resonate the laser beam 11. Is output. Then, a magnetic field is applied to the discharge space 8 in the direction of the magnetic field 14 by the magnetic field generating means 12. As described above, when a magnetic field in the magnetic field direction 14 is applied to the DC current direction 13 in the discharge space 8, an electromagnetic force is applied to the plasma-like laser gas in the discharge space 8 in a direction perpendicular to the DC current direction 13 and the magnetic field direction 14.

この電磁力の方向をレーザガス流れ方向4と一致させることにより、レーザガスは電磁力によってレーザガス流れ方向4へ移動させることができる。   By making the direction of the electromagnetic force coincide with the laser gas flow direction 4, the laser gas can be moved in the laser gas flow direction 4 by the electromagnetic force.

この電磁力によって放電空間8のレーザガスはレーザガス流路1を通って熱交換器3へと流れて行き、冷却された後、再度チャンバー2へと導入される。   By this electromagnetic force, the laser gas in the discharge space 8 flows through the laser gas flow path 1 to the heat exchanger 3, is cooled, and is then introduced into the chamber 2 again.

このように、放電空間8に導入されたレーザガスに対して直流放電、磁界を印加することにより、レーザガス流路1でレーザガスを循環させることができる。   In this way, the laser gas can be circulated in the laser gas flow path 1 by applying a DC discharge and a magnetic field to the laser gas introduced into the discharge space 8.

なお、電磁力F[N]は電流をI[A]、磁界をH[A/m]、放電空間の長さをL[m]、透磁率をμとすると、F=μ・H・I・Lという式であらわされる。   The electromagnetic force F [N] is F = μ · H · I, where I is current [I], magnetic field is H [A / m], discharge space length is L [m], and magnetic permeability is μ.・ It is expressed by the expression L.

よって放電電流Iが大きいほど、電磁力Fは大きくなり、ガスの移動速度も大きくなる。放電電流が大きいほど、レーザガスの温度上昇も大きくなるため、ガスをより速く移動させる必要が発生する。この点より、電磁力によってレーザガスを移動させる方式は、ガスレーザの放電ガス移動に関して、原理的に相性が良い方式である事が判る。   Therefore, as the discharge current I increases, the electromagnetic force F increases and the gas moving speed also increases. As the discharge current increases, the temperature rise of the laser gas also increases, so that it is necessary to move the gas faster. From this point, it can be seen that the method of moving the laser gas by the electromagnetic force is a method that is in principle compatible with the discharge gas movement of the gas laser.

(実施の形態2)
図2は本発明の実施の形態2に関するレーザ発振装置の構成図である。図2(a)はレーザビームの進行方向に対して直角方向の装置断面を示した図、図2(b)は図2(a)のA方向の装置断面を示した図である。
(Embodiment 2)
FIG. 2 is a configuration diagram of a laser oscillation apparatus according to Embodiment 2 of the present invention. FIG. 2A is a view showing a cross section of the apparatus in a direction perpendicular to the traveling direction of the laser beam, and FIG. 2B is a view showing a cross section of the apparatus in the direction A of FIG.

なお、実施の形態1で説明した構成と同じ構成については同じ符号を付与してその説明を省略する。   In addition, the same code | symbol is provided about the same structure as the structure demonstrated in Embodiment 1, and the description is abbreviate | omitted.

本実施の形態2と実施の形態1とで異なる点は、磁界発生手段12は電磁石となっており、磁界制御装置15によって磁界強度を可変出来るようになっていることと、放電空間8の近傍に熱電対やサーミスタなどのガス温度検出手段16を設置し、電磁力制御装置17に検出した温度信号を出力していることと、この電磁力制御装置17は電源7および磁界制御装置15に接続されていることである。   The difference between the second embodiment and the first embodiment is that the magnetic field generating means 12 is an electromagnet and the magnetic field intensity can be varied by the magnetic field control device 15 and the vicinity of the discharge space 8. A gas temperature detecting means 16 such as a thermocouple or a thermistor is installed in the sensor, and the detected temperature signal is output to the electromagnetic force control device 17. The electromagnetic force control device 17 is connected to the power supply 7 and the magnetic field control device 15. It has been done.

この構成によって常時レーザガス温度を監視し、レーザガス温度がレーザ発振に適した200度以下に保たれるように放電電流値および磁界のいずれか、あるいは両方を最適値に制御し、電磁力を変える事が出来る。   With this configuration, the laser gas temperature is constantly monitored, and either or both of the discharge current value and the magnetic field are controlled to the optimum value so that the laser gas temperature is maintained at 200 ° C. or less suitable for laser oscillation, and the electromagnetic force is changed. I can do it.

具体的には、レーザガス温度が200度に近づくとレーザガスの循環速度を上げるように制御する。たとえばレーザ出力を変動させない範囲で電源7からの直流電力値を制御しながら磁界制御装置15を制御し、磁界発生手段12に供給する電力を上げてレーザガスの循環速度を上げる。   Specifically, when the laser gas temperature approaches 200 degrees, control is performed to increase the circulation speed of the laser gas. For example, the magnetic field control device 15 is controlled while controlling the DC power value from the power source 7 within a range in which the laser output is not varied, and the power supplied to the magnetic field generating means 12 is increased to increase the circulation speed of the laser gas.

なお、本実施の形態ではレーザガス温度をガス温度検出手段16で検出しているが、例えば、電源7の出力状態を検出してレーザガス温度の代わりとしてもよい。その場合は、電源7の出力状態とレーザガスの温度上昇の関係を予め測定して、そのデータベースを用いる。   In the present embodiment, the laser gas temperature is detected by the gas temperature detecting means 16, but the output state of the power source 7 may be detected instead of the laser gas temperature, for example. In that case, the relationship between the output state of the power supply 7 and the temperature rise of the laser gas is measured in advance, and the database is used.

また、本実施の形態ではレーザガス温度をガス温度検出手段16で検出しているが、例えば、レーザ出力の指定値を検出してレーザガス温度の代わりとしてもよい。その場合は、レーザ出力の指定値とレーザガスの温度上昇の関係を予め測定して、そのデータベースを用いる。   Further, in this embodiment, the laser gas temperature is detected by the gas temperature detection means 16, but for example, a designated value of the laser output may be detected to replace the laser gas temperature. In that case, the relationship between the specified value of the laser output and the temperature rise of the laser gas is measured in advance, and the database is used.

(実施の形態3)
図3は本発明の実施の形態3に関するレーザ発振装置の構成図である。図3(a)はレーザビームの進行方向に対して直角方向の装置断面を示した図、図3(b)は図3(a)のA方向の装置断面を示した図、図3(c)は図3(a)のB方向の装置断面を示した図である。なお、実施の形態1、2で説明した構成と同じ構成については同じ符号を付与してその説明を省略する。
(Embodiment 3)
FIG. 3 is a configuration diagram of a laser oscillation apparatus according to Embodiment 3 of the present invention. 3A is a view showing a cross section of the apparatus in a direction perpendicular to the traveling direction of the laser beam, FIG. 3B is a view showing a cross section of the apparatus in the direction A in FIG. 3A, and FIG. ) Is a view showing a cross section of the apparatus in the B direction of FIG. In addition, the same code | symbol is provided about the same structure as the structure demonstrated in Embodiment 1, 2, and the description is abbreviate | omitted.

本実施の形態3と実施の形態1とで異なる点は、レーザガス流路1のレーザガスの循環方向のチャンバー2から熱交換器3の間の位置に設けた第2の電極18、19と、この第2の電極18、19に直流でパルス出力可能な第2の電源20から第2の放電手段を構成し、第2の電極18、19で挟まれた第2の放電空間21に流れる第2の直流電流方向22に対して第2の磁界方向23が直角方向になるように第2の磁界発生装置24を配置し、その直流電流方向22と磁界方向23とレーザガス流れ4の方向は3軸方向に互いに直交し、直流電流方向22とレーザガス流れ4の方向に合わせて磁界方向23を決めるようにしていることである。   The difference between the third embodiment and the first embodiment is that the second electrodes 18 and 19 provided at a position between the chamber 2 and the heat exchanger 3 in the laser gas circulation direction of the laser gas flow path 1 and this A second discharge means is configured from a second power source 20 capable of outputting a pulse with a direct current to the second electrodes 18, 19, and flows into a second discharge space 21 sandwiched between the second electrodes 18, 19. The second magnetic field generator 24 is arranged so that the second magnetic field direction 23 is perpendicular to the direct current direction 22 of the current, and the direct current direction 22, the magnetic field direction 23, and the direction of the laser gas flow 4 are three axes. The magnetic field direction 23 is determined in accordance with the direct current direction 22 and the direction of the laser gas flow 4.

この構成は、光共振用の放電空間8とは別にレーザガス移動のための電磁力を発生させるための第2の放電空間21を設けていることにより、光共振用の放電強度と電磁力発生のための放電強度とを分離でき、自由度の高いよりフレキシブルな制御を行う事が可能となる。   In this configuration, the second discharge space 21 for generating the electromagnetic force for moving the laser gas is provided separately from the discharge space 8 for optical resonance, so that the discharge intensity for optical resonance and the generation of electromagnetic force are generated. Therefore, it is possible to separate the discharge intensity and the more flexible control with a high degree of freedom.

(実施の形態4)
図4は本発明の実施の形態4に関するレーザ発振装置の構成図である。図4(a)はレーザビームの進行方向に対して直角方向の装置断面を示した図、図4(b)は図4(a)のA方向の装置断面を示した図、図4(c)は図4(a)のB方向の装置断面を示した図である。なお、実施の形態1、2、3で説明した構成と同じ構成については同じ符号を付与してその説明を省略する。
(Embodiment 4)
FIG. 4 is a configuration diagram of a laser oscillation apparatus according to Embodiment 4 of the present invention. 4A shows a cross section of the apparatus perpendicular to the direction of travel of the laser beam, FIG. 4B shows a cross section of the apparatus in the direction A in FIG. 4A, and FIG. ) Is a view showing a cross section of the apparatus in the B direction of FIG. In addition, the same code | symbol is provided about the same structure as the structure demonstrated in Embodiment 1, 2, 3, and the description is abbreviate | omitted.

本実施の形態4と実施の形態2とで異なる点は、レーザガス流路1のレーザガスの循環方向のチャンバー2から熱交換器3の間の位置に設けた第2の電極18、19と、この第2の電極18、19に直流でパルス出力可能な第2の電源20から第2の放電手段を構成し、第2の電極18、19で挟まれた第2の放電空間21に流れる第2の直流電流方向22に対して第2の磁界方向23が直角方向になるように第2の磁界発生装置24を配置し、その直流電流方向22と磁界方向23とレーザガス流れ4の方向は3軸方向に互いに直交し、直流電流方向22とレーザガス流れ4の方向に合わせて磁界方向23を決めるようにしていることである。   The difference between the fourth embodiment and the second embodiment is that the second electrodes 18 and 19 provided at positions between the chamber 2 and the heat exchanger 3 in the laser gas circulation direction of the laser gas channel 1 A second discharge means is configured from a second power source 20 capable of outputting a pulse with a direct current to the second electrodes 18, 19, and flows into a second discharge space 21 sandwiched between the second electrodes 18, 19. The second magnetic field generator 24 is arranged so that the second magnetic field direction 23 is perpendicular to the direct current direction 22 of the current, and the direct current direction 22, the magnetic field direction 23, and the direction of the laser gas flow 4 are three axes. The magnetic field direction 23 is determined in accordance with the direct current direction 22 and the direction of the laser gas flow 4.

この構成は、光共振用の放電空間8とは別にレーザガス移動のための電磁力を発生させるための第2の放電空間21を設けていることにより、光共振用の放電強度と電磁力発生のための放電強度とを分離でき、自由度の高いよりフレキシブルな制御を行う事が可能となる。   In this configuration, the second discharge space 21 for generating the electromagnetic force for moving the laser gas is provided separately from the discharge space 8 for optical resonance, so that the discharge intensity for optical resonance and the generation of electromagnetic force are generated. Therefore, it is possible to separate the discharge intensity and the more flexible control with a high degree of freedom.

また、ガス温度がレーザ発振に適した200℃以下に保たれるように放電電流値および磁界のいずれか、あるいは両方を最適値に制御し、電磁力を変える事が出来るものである。   Also, the electromagnetic force can be changed by controlling either the discharge current value and / or the magnetic field to an optimum value so that the gas temperature is maintained at 200 ° C. or less suitable for laser oscillation.

なお、本実施の形態ではレーザガス温度をガス温度検出手段16で検出しているが、例えば、電源7の出力状態を検出してレーザガス温度の代わりとしてもよい。その場合は、電源7の出力状態とレーザガスの温度上昇の関係を予め測定して、そのデータベースを用いる。   In the present embodiment, the laser gas temperature is detected by the gas temperature detecting means 16, but the output state of the power source 7 may be detected instead of the laser gas temperature, for example. In that case, the relation between the output state of the power source 7 and the temperature rise of the laser gas is measured in advance, and the database is used.

また、本実施の形態ではレーザガス温度をガス温度検出手段16で検出しているが、例えば、レーザ出力の指定値を検出してレーザガス温度の代わりとしてもよい。その場合は、レーザ出力の指定値とレーザガスの温度上昇の関係を予め測定して、そのデータベースを用いる。   Further, in this embodiment, the laser gas temperature is detected by the gas temperature detection means 16, but for example, a designated value of the laser output may be detected to replace the laser gas temperature. In that case, the relationship between the specified value of the laser output and the temperature rise of the laser gas is measured in advance, and the database is used.

さらに、実施の形態1と実施の形態4、実施の形態2と実施の形態3を組み合わせても、いっそうの効果がある。   Furthermore, even if Embodiment 1 and Embodiment 4, Embodiment 2 and Embodiment 3 are combined, there is a further effect.

以上の構成の本発明の実施の形態にかかるガスレーザ発振装置は、図6に示すガスレーザ加工機に使用可能であり、その概略構成を図6を参照しながら説明する。   The gas laser oscillation apparatus according to the embodiment of the present invention having the above configuration can be used in the gas laser processing machine shown in FIG. 6, and the schematic configuration will be described with reference to FIG.

この図に於いて、上述した本発明の実施の形態にかかるガスレーザ発振装置から出力したレーザビーム108(各実施の形態の説明では符号11)をワーク116方向へ進行方向を反射鏡115で反射することにより変更し、トーチ117内部に備えられた集光レンズ118によって前記レーザビーム108を高密度のエネルギビームに集光して、ワーク116に照射する。   In this figure, a laser beam 108 (reference numeral 11 in the description of each embodiment) output from the gas laser oscillation apparatus according to the above-described embodiment of the present invention is reflected in the direction of the work 116 by the reflecting mirror 115. The laser beam 108 is condensed into a high-density energy beam by a condensing lens 118 provided inside the torch 117 and irradiated onto the workpiece 116.

なお、ワーク116は加工テーブル119上に固定されており、トーチ117をX軸モータ120あるいはY軸モータ121によって、ワーク116に対して相対的に移動する事で、所定の形状の加工を行うように構成している。   The workpiece 116 is fixed on the machining table 119, and the torch 117 is moved relative to the workpiece 116 by the X-axis motor 120 or the Y-axis motor 121 so as to process a predetermined shape. It is configured.

本発明によれば、送風機によるガス循環冷却を行わずにガスレーザの大出力化を容易に実現でき、大幅なイニシャルおよびランニングコストを可能にできるガスレーザ発振装置およびガスレーザ加工機として有用である。   INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to easily realize a large output of a gas laser without performing gas circulation cooling by a blower, and it is useful as a gas laser oscillation device and a gas laser processing machine capable of realizing a large initial and running cost.

本発明の実施の形態1に関するガスレーザ発振装置の構成図Configuration diagram of a gas laser oscillation apparatus according to Embodiment 1 of the present invention 本発明の実施の形態2に関するガスレーザ発振装置の構成図Configuration diagram of gas laser oscillation apparatus according to Embodiment 2 of the present invention 本発明の実施の形態3に関するガスレーザ発振装置の構成図Configuration diagram of gas laser oscillation apparatus according to Embodiment 3 of the present invention 本発明の実施の形態4に関するガスレーザ発振装置の構成図Configuration diagram of gas laser oscillation apparatus according to Embodiment 4 of the present invention 従来のガスレーザ発振装置の構成図Configuration diagram of conventional gas laser oscillator ガスレーザ加工機の構成図Configuration diagram of gas laser processing machine 従来のスラブ型拡散冷却方式における光共振器部の構成図Configuration diagram of optical resonator in conventional slab type diffusion cooling system 軸流型ガスレーザ発振装置における光共振器部の構成図Configuration diagram of optical resonator in axial flow gas laser oscillator

1 レーザガス流路
2 チャンバー
3 熱交換器
4 レーザガスの流れる方向
5、6 電極
7 電源
8 放電空間
9 全反射鏡
10 部分反射鏡
11 レーザビーム
12 磁界発生手段
13 直流電流方向
14 磁界方向
15 磁界制御装置
16 ガス温度検出手段
17 電磁力制御装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser gas flow path 2 Chamber 3 Heat exchanger 4 Laser gas flow direction 5, 6 Electrode 7 Power supply 8 Discharge space 9 Total reflection mirror 10 Partial reflection mirror 11 Laser beam 12 Magnetic field generation means 13 DC current direction 14 Magnetic field direction 15 Magnetic field control apparatus 16 Gas temperature detection means 17 Electromagnetic force control device

Claims (12)

レーザガスを循環するレーザガス流路と、前記レーザガス流路に配置したチャンバーと、前記チャンバー内に配置した放電手段と、前記レーザガス流路に配置した熱交換器を備え、前記放電手段による電流の流れる方向と直行方向に磁界を印加するための磁界発生手段を設けたガスレーザ発振装置。 A laser gas flow path for circulating a laser gas, a chamber disposed in the laser gas flow path, a discharge means disposed in the chamber, and a heat exchanger disposed in the laser gas flow path, and a direction of current flow by the discharge means And a gas laser oscillation device provided with magnetic field generating means for applying a magnetic field in the perpendicular direction. 前記磁界発生手段として電磁石を用い、前記電磁石に供給する電力を制御して磁界強度を可変する磁界制御装置を設けた請求項1記載のガスレーザ発振装置。 The gas laser oscillation apparatus according to claim 1, wherein an electromagnet is used as the magnetic field generating means, and a magnetic field control device is provided that controls electric power supplied to the electromagnet to vary the magnetic field intensity. 前記放電手段の近傍にガス温度検出手段と、前記ガス温度検出手段からの信号を入力して前記磁界制御装置に信号を出力する電磁力制御装置を設けた請求項2記載のガスレーザ発振装置。 3. The gas laser oscillation device according to claim 2, further comprising: a gas temperature detection unit provided in the vicinity of the discharge unit; and an electromagnetic force control unit that inputs a signal from the gas temperature detection unit and outputs a signal to the magnetic field control unit. レーザガスを循環するレーザガス流路と、前記レーザガス流路に配置したチャンバーと、前記チャンバー内に配置した放電手段と、前記レーザガス流路に配置した熱交換器を備え、前記レーザガス流路のレーザガスの循環方向の前記チャンバーから前記熱交換器の間の位置に第2の放電手段を設け、前記第2の放電手段による電流の流れる方向と直行方向に磁界を印加するための第2の磁界発生手段を設けたガスレーザ発振装置。 A laser gas flow path for circulating a laser gas, a chamber disposed in the laser gas flow path, discharge means disposed in the chamber, and a heat exchanger disposed in the laser gas flow path, and circulation of the laser gas in the laser gas flow path Second discharge means is provided at a position between the chamber and the heat exchanger in a direction, and second magnetic field generation means for applying a magnetic field in a direction perpendicular to the direction of current flow by the second discharge means. Gas laser oscillation device provided. 前記第2の磁界発生手段として電磁石を用い、前記電磁石に供給する電力を制御して磁界強度を可変する第2の磁界制御装置を設けた請求項4記載のガスレーザ発振装置。 The gas laser oscillation apparatus according to claim 4, wherein an electromagnet is used as the second magnetic field generating means, and a second magnetic field control device is provided that controls electric power supplied to the electromagnet to vary the magnetic field strength. 前記放電手段の近傍にガス温度検出手段と、前記ガス温度検出手段からの信号を入力して前記第2の磁界制御装置に信号を出力する第2の電磁力制御装置を設けた請求項5記載のガスレーザ発振装置。 6. A gas temperature detection means and a second electromagnetic force control device for inputting a signal from the gas temperature detection means and outputting a signal to the second magnetic field control device in the vicinity of the discharge means. Gas laser oscillation device. レーザガスを循環するレーザガス流路と、前記レーザガス流路に配置したチャンバーと、前記チャンバー内に配置した放電手段と、前記レーザガス流路に配置した熱交換器を備え、前記放電手段による電流の流れる方向と直行方向に磁界を印加するための磁界発生手段を設けたガスレーザ発振装置を用い、ワークを載置するテーブルと、前記ガスレーザ発振装置から出力したレーザビームを前記ワークの方向に進行方向を変更する光学手段と、前記レーザビームを高密度のエネルギビームに集光する集光手段を内部に配置したトーチと、前記ワークとトーチを相対移動させる駆動手段を備えたガスレーザ加工機。 A laser gas flow path for circulating a laser gas, a chamber disposed in the laser gas flow path, a discharge means disposed in the chamber, and a heat exchanger disposed in the laser gas flow path, and a direction of current flow by the discharge means And a gas laser oscillating device provided with a magnetic field generating means for applying a magnetic field in the orthogonal direction, and changing the traveling direction of the table on which the workpiece is placed and the laser beam output from the gas laser oscillating device in the direction of the workpiece A gas laser processing machine comprising: an optical means; a torch in which condensing means for condensing the laser beam into a high-density energy beam; and a driving means for moving the work and the torch relative to each other. 前記磁界発生手段として電磁石を用い、前記電磁石に供給する電力を制御して磁界強度を可変する磁界制御装置を設けた請求項7記載のガスレーザ加工機。 8. The gas laser processing machine according to claim 7, wherein an electromagnet is used as the magnetic field generating means, and a magnetic field control device is provided that controls electric power supplied to the electromagnet to vary the magnetic field strength. 前記放電手段の近傍にガス温度検出手段と、前記ガス温度検出手段からの信号を入力して前記磁界制御装置に信号を出力する電磁力制御装置を設けた請求項2記載のガスレーザ加工機。 3. A gas laser processing machine according to claim 2, further comprising: a gas temperature detecting means provided in the vicinity of the discharging means; and an electromagnetic force control device for inputting a signal from the gas temperature detecting means and outputting a signal to the magnetic field control device. レーザガスを循環するレーザガス流路と、前記レーザガス流路に配置したチャンバーと、前記チャンバー内に配置した放電手段と、前記レーザガス流路に配置した熱交換器を備え、前記レーザガス流路の前記チャンバー以外の位置に第2の放電手段を設け、前記第2の放電手段による電流の流れる方向と直行方向に磁界を印加するための第2の磁界発生手段を設けたガスレーザ発振装置を用い、ワークを載置するテーブルと、前記ガスレーザ発振装置から出力したレーザビームを前記ワークの方向に進行方向を変更する光学手段と、前記レーザビームを高密度のエネルギビームに集光する集光手段を内部に配置したトーチと、前記ワークとトーチを相対移動させる駆動手段を備えたガスレーザ加工機。 A laser gas flow path for circulating laser gas, a chamber disposed in the laser gas flow path, discharge means disposed in the chamber, and a heat exchanger disposed in the laser gas flow path, other than the chamber of the laser gas flow path A gas laser oscillation apparatus provided with a second discharge means at a position and a second magnetic field generation means for applying a magnetic field in a direction perpendicular to the direction of current flow by the second discharge means is mounted. A table to be placed, an optical means for changing the traveling direction of the laser beam output from the gas laser oscillation device to the direction of the workpiece, and a condensing means for condensing the laser beam into a high-density energy beam. A gas laser processing machine comprising a torch and a driving means for relatively moving the workpiece and the torch. 前記第2の磁界発生手段として電磁石を用い、前記電磁石に供給する電力を制御して磁界強度を可変する第2の磁界制御装置を設けた請求項10記載のガスレーザ加工機。 11. The gas laser processing machine according to claim 10, wherein an electromagnet is used as the second magnetic field generating means, and a second magnetic field control device is provided that controls electric power supplied to the electromagnet to vary the magnetic field strength. 前記放電手段の近傍にガス温度検出手段と、前記ガス温度検出手段からの信号を入力して前記第2の磁界制御装置に信号を出力する第2の電磁力制御装置を設けた請求項11記載のガスレーザ加工機。 12. A gas temperature detection means and a second electromagnetic force control device for inputting a signal from the gas temperature detection means and outputting a signal to the second magnetic field control device in the vicinity of the discharge means. Gas laser processing machine.
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