JP2010202860A - Organic/inorganic composite - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic/inorganic composite, which is a polysiloxane-based organic/inorganic composite having high hardness that is higher in the surface than that of the interior and has both high surface hardness and anti-glare property or anti-Newton ring property. <P>SOLUTION: The organic/inorganic composite contains (a) a condensate of an organosilicon compound as a principal component, which is represented by formula (I) R<SB>n</SB>SiX<SB>4-n</SB>(wherein R represents an organic group wherein a carbon atom directly binds to Si, X represents a hydroxy group or the like, n represents 1 or 2, Rs may be the same or different when n represents 2, and Xs may be the same or different when (4-n) represents 2 or more), (b) at least one type of photosensitive compound that is sensitive to light with a wavelength of 350 nm or less selected from the group consisting of a metal chelate compound, a metal organic acid salt compound, and the like and/or a compound induced therefrom, (c) a cured product of a ultraviolet curing compound, and (d) a metal oxide particle. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、金属酸化物粒子を含有する有機無機複合体に関し、詳しくは、表面側における炭素含有率が内部における炭素含有率に比して少なく、表面が無機化した有機無機複合体であって、さらに金属酸化物粒子を含有することによって表面に凹凸のある有機無機複合体、また、それを形成するための組成物に関する。本発明の金属酸化物粒子含有有機無機複合体は、タッチパネルや各種表示画面におけるアンチグレア膜又はアンチニュートンリング膜として好適に用いられる。   The present invention relates to an organic-inorganic composite containing metal oxide particles. More specifically, the present invention relates to an organic-inorganic composite in which the carbon content on the surface side is smaller than the carbon content on the inside and the surface is mineralized. Further, the present invention relates to an organic-inorganic composite having irregularities on the surface by containing metal oxide particles, and a composition for forming the same. The metal oxide particle-containing organic-inorganic composite of the present invention is suitably used as an antiglare film or an anti-Newton ring film in touch panels and various display screens.

現在、市販品のシラン系コート剤の原料としては、主として3官能のシランが用いられており、かかる3官能シランにより、適度な硬さと柔軟性を持つポリシロキサンが形成される。しかしながら、3官能シランの膜ではハードコート性が充分ではない。そこで、3官能シランに、4官能シランやコロイダルシリカを混合することでハードコート性を補っているが、膜を硬くすれば、ヒビ割れやすくなり、密着性が悪くなるという問題がある。   Currently, trifunctional silanes are mainly used as raw materials for commercially available silane-based coating agents, and polysiloxanes having appropriate hardness and flexibility are formed by such trifunctional silanes. However, a trifunctional silane film does not have sufficient hard coat properties. Therefore, the trifunctional silane is mixed with tetrafunctional silane or colloidal silica to supplement the hard coat properties. However, if the film is hardened, there is a problem in that it becomes easy to crack and the adhesiveness deteriorates.

シラン系のコート剤としては、例えば、エポキシ基を有する3官能アルコキシシラン化合物を含有する防汚膜形成用組成物(例えば、特許文献1参照)がある。また、光触媒を含有したシラン系コート剤も提案されており、光酸発生剤、架橋剤、硬化触媒等を使用して、膜を硬化している(例えば、特許文献2,3参照)。さらに、材料中の金属系化合物の含有率が、材料の表面から深さ方向に連続的に変化する成分傾斜構造を有するシラン系の有機−無機複合傾斜材料も提案されている(例えば、特許文献4参照)。   Examples of the silane-based coating agent include a composition for forming an antifouling film containing a trifunctional alkoxysilane compound having an epoxy group (see, for example, Patent Document 1). A silane-based coating agent containing a photocatalyst has also been proposed, and a film is cured using a photoacid generator, a crosslinking agent, a curing catalyst, or the like (see, for example, Patent Documents 2 and 3). Furthermore, a silane-based organic-inorganic composite gradient material having a component gradient structure in which the content of the metal compound in the material continuously changes in the depth direction from the surface of the material has also been proposed (for example, Patent Documents). 4).

発明者らは、光感応性化合物の存在下に有機ケイ素化合物に紫外線を照射することにより、表面が非常に高い硬度を有すると共に、内部及び裏面側が適当な硬度を有しつつ、かつ基体との密着性に優れた有機無機複合体を提供した(特許文献5参照)。しかしながら、基材への密着性、耐湿性において、さらなる改善が望まれていた。   The inventors irradiate the organosilicon compound with ultraviolet light in the presence of the photosensitive compound, so that the surface has a very high hardness, the inside and the back side have appropriate hardness, and An organic-inorganic composite having excellent adhesion was provided (see Patent Document 5). However, further improvements have been desired in terms of adhesion to the substrate and moisture resistance.

一方、ハードコート膜としては、UV硬化樹脂としてアクリレート系樹脂等を用いることが知られている。たとえば、特許文献6には、(メタ)アクリル酸エステル混合物(A)、光重合開始剤(B)、エチレン性不飽和基含有ウレタンオリゴマー(C)、コロイダルシリカゾル(D)及び希釈剤(E)を含有するハードコートフィルムが記載されており、得られたフィルムは、鉛筆硬度、カール、基材への密着性が良好であることが記載されている。   On the other hand, as a hard coat film, it is known to use an acrylate resin or the like as a UV curable resin. For example, Patent Document 6 discloses (meth) acrylic acid ester mixture (A), photopolymerization initiator (B), ethylenically unsaturated group-containing urethane oligomer (C), colloidal silica sol (D), and diluent (E). It is described that the hard coat film containing is good, and the obtained film has good pencil hardness, curl, and adhesion to the substrate.

また、特許文献7には、(A)ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物粒子と、重合性不飽和基を含む有機化合物とを結合させてなる粒子、(B)分子内にウレタン結合及び2以上の重合性不飽和基を有する化合物、及び(C)光重合開始剤を含有する硬化性組成物を用いることが記載されており、優れた塗工性を有し、かつ各種基材の表面に、高硬度及び高屈折率を有するとともに耐擦傷性並びに基材及び低屈折率層との密着性に優れた塗膜(被膜)を形成し得ることが記載されている。   Patent Document 7 discloses (A) oxide particles of at least one element selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony and cerium, and polymerizable unsaturated. A curable composition containing particles formed by bonding an organic compound containing a group, (B) a compound having a urethane bond and two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule, and (C) a photopolymerization initiator. It has been described that it has excellent coating properties, and has high hardness and high refractive index on the surface of various base materials, as well as scratch resistance and adhesion between the base material and the low refractive index layer. It is described that an excellent coating film (film) can be formed.

さらに、特許文献8には、有機ケイ素化合物の加水分解物と金属酸化物微粒子の混合物、(B)多官能アクリレート又はメタクリレート、(C)光重合開始剤を配合してなることを特徴とする紫外線硬化性ハードコート樹脂組成物が記載されており、帯電防止剤の表面へのブリード、透明性の低下、耐湿性の劣化等を実用的に許容できる範囲内に収めることができ、かつハードコートとしての機能(耐擦傷性、表面硬度、耐湿性、耐溶剤・薬品性等)を満足することが記載されている。   Further, Patent Document 8 discloses an ultraviolet ray comprising a mixture of a hydrolyzate of an organosilicon compound and metal oxide fine particles, (B) a polyfunctional acrylate or methacrylate, and (C) a photopolymerization initiator. The curable hard coat resin composition is described, and can bleed the surface of the antistatic agent, decrease in transparency, deteriorate moisture resistance, etc. within a practically acceptable range, and as a hard coat Satisfying the above functions (abrasion resistance, surface hardness, moisture resistance, solvent resistance, chemical resistance, etc.).

しかしながら、これらのアクリレート系樹脂等を用いるハードコート膜は、耐摩耗性に関しては無機膜よりも劣るため、硬度の高い金属酸化物ゾルを添加することにより改善を図っている。しかし、この方法では金属酸化物粒子の表面が多くの樹脂で覆われており、必ずしも十分な効果は期待できなかった。特に、粒径の大きな金属酸化物粒子を含有させて、膜の表面に凹凸を形成させるアンチグレア膜、アンチニュートンリング膜の場合、金属酸化物粒子の表面を樹脂が覆っていないと、磨耗試験で粒径の大きな金属酸化物粒子が、脱落する問題があった。   However, hard coat films using these acrylate-based resins and the like are inferior to inorganic films in terms of wear resistance, and are therefore improved by adding a metal oxide sol with high hardness. However, in this method, the surface of the metal oxide particles is covered with a lot of resin, and a sufficient effect cannot be expected. In particular, in the case of an anti-glare film or an anti-Newton ring film that contains metal oxide particles having a large particle size to form irregularities on the surface of the film, if the surface of the metal oxide particles is not covered with a resin, There was a problem that metal oxide particles having a large particle size fall off.

これらの課題に対し、発明者らは既に、ポリシロキサン系の有機無機複合体に紫外線硬化性化合物を配合することにより、表面が非常に高い硬度を有すると共に、基体との密着性及び耐湿性に優れた有機無機複合体を製造することができることを見い出している(特許文献9)。しかしながら、前記有機無機複合体の光反射特性については検討されていなかった。   In response to these problems, the inventors have already blended a polysiloxane-based organic-inorganic composite with an ultraviolet curable compound, so that the surface has extremely high hardness, adhesion to the substrate, and moisture resistance. It has been found that an excellent organic-inorganic composite can be produced (Patent Document 9). However, the light reflection characteristics of the organic-inorganic composite have not been studied.

さらに、従来、金属酸化物の微粒子をハードコート用組成物に添加し、ハードコートの表面に凹凸を付与することで、アンチグレアハードコート膜とすることは知られていた(特許文献10)が、ハードコート膜の表面はいずれも樹脂等の有機成分で、表面が無機化したアンチグレアハードコート膜は知られていなかった。   Furthermore, conventionally, it has been known that an anti-glare hard coat film is formed by adding metal oxide fine particles to a hard coat composition and imparting irregularities to the surface of the hard coat (Patent Document 10). The surface of the hard coat film is an organic component such as a resin, and no anti-glare hard coat film having a mineralized surface has been known.

特開平10−195417号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-195417 特開2002−363494号公報JP 2002-363494 A 特開2000−169755号公報JP 2000-169755 A 特開2000−336281号公報JP 2000-336281 A WO2006/088079号公報WO 2006/088079 特開2002−235018号公報JP 2002-233501 A 特開2005−272702号公報JP 2005-272702 A 特開2001−214092号公報JP 2001-214092 A WO2008/069217号公報WO2008 / 069217 特開2008−158536号公報JP 2008-158536 A

本発明の課題は、表面が内部より高い硬度を有するポリシロキサン系の有機無機複合体にアンチグレア性やアンチニュートンリング性を付与し、高い表面硬度とアンチグレア性やアンチニュートンリング性とを両立する有機無機複合体を提供することである。   An object of the present invention is to provide an anti-glare property and an anti-Newton ring property to a polysiloxane-based organic-inorganic composite having a surface whose hardness is higher than that of the inside, and an organic material having both a high surface hardness and an anti-glare property and an anti-Newton ring property. It is to provide an inorganic composite.

本発明者らは、上記課題に取り組み鋭意研究した結果、ポリシロキサン系の有機無機複合体と紫外線硬化性化合物を配合した有機無機複合体に、さらに金属酸化物粒子を含有させることで、表面が非常に高い硬度を有すると同時に、アンチグレア性、アンチニュートンリング性を有する優れた有機無機複合体を製造することができることを見い出し、本発明を完成するに至った。   As a result of diligent research on the above problems, the present inventors have further added metal oxide particles to an organic-inorganic composite containing a polysiloxane-based organic-inorganic composite and an ultraviolet curable compound, so that the surface is improved. It has been found that an excellent organic-inorganic composite having an extremely high hardness and at the same time having an antiglare property and an anti-Newton ring property can be produced, and the present invention has been completed.

すなわち本発明は、
[1]
a)式(I)
SiX4−n・・・(I)
(式中、RはSiに炭素原子が直接結合する有機基を表し、Xは水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき各Rは同一でも異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき各Xは同一でも異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物、
b)金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物及び/又はそれから誘導される化合物、
c)紫外線硬化性化合物の硬化物、及び
d)金属酸化物粒子
を含有する有機無機複合体であって、該有機無機複合体表面の10点平均粗さが0.1μm〜5μmであることを特徴とする有機無機複合体や、
[2]
有機無機複合体表面の炭素含有量が、裏面側の炭素含有量の80%以下であることを特徴とする、[1]に記載の有機無機複合体や、
[3]
b)の化合物における金属が、Ti、Al、Zr又はSnであることを特徴とする[1]又は[2]に記載の有機無機複合体や、
[4]
c)の紫外線硬化性化合物が、(メタ)アクリレート系紫外線硬化性化合物であることを特徴とする[1]〜[3]に記載の有機無機複合体や、
[5]
d)の金属酸化物粒子が多孔質粉末であることを特徴とする、[1]〜[4]のいずれかに記載の有機無機複合体や、
[6]
d)の金属酸化物粒子の一次粒子径が0.05μm〜0.2μmであることを特徴とする、[1]〜[4]のいずれかに記載の有機無機複合体に関する。
That is, the present invention
[1]
a) Formula (I)
R n SiX 4-n (I)
(In the formula, R represents an organic group in which a carbon atom is directly bonded to Si, X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. N represents 1 or 2, and when n is 2, each R is the same or different. And each X may be the same or different when (4-n) is 2 or more.)
b) At least one 350 nm or less selected from the group consisting of metal chelate compounds, metal organic acid salt compounds, metal compounds having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups, hydrolysates thereof, and condensates thereof. A light-sensitive compound that is sensitive to light of a wavelength and / or a compound derived therefrom,
c) an organic-inorganic composite containing a cured product of an ultraviolet curable compound, and d) metal oxide particles, wherein the 10-point average roughness of the surface of the organic-inorganic composite is 0.1 μm to 5 μm. Organic-inorganic composites,
[2]
The organic-inorganic composite according to [1], wherein the carbon content on the surface of the organic-inorganic composite is 80% or less of the carbon content on the back side;
[3]
The organic-inorganic composite according to [1] or [2], wherein the metal in the compound of b) is Ti, Al, Zr or Sn,
[4]
The organic-inorganic composite according to [1] to [3], wherein the ultraviolet curable compound of c) is a (meth) acrylate ultraviolet curable compound,
[5]
The organic-inorganic composite according to any one of [1] to [4], wherein the metal oxide particles of d) are porous powders,
[6]
The primary particle diameter of the metal oxide particle of d) is 0.05 micrometer-0.2 micrometer, It is related with the organic-inorganic composite in any one of [1]-[4] characterized by the above-mentioned.

また、本発明は、
[7]
a)式(I)
SiX4−n・・・(I)
(式中、RはSiに炭素原子が直接結合する有機基を表し、Xは水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき各Rは同一でも異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき各Xは同一でも異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物、
b)金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物、
c)紫外線硬化性化合物、及び
d)粒径0.05μm〜5μmの金属酸化物粒子
を含有することを特徴とする、有機無機複合体形成用組成物や、
[8]
b)の化合物における金属が、Ti、Al、Zr又はSnであることを特徴とする[7]に記載の有機無機複合体形成用組成物や、
[9]
有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物、光感応性化合物、紫外線硬化性化合物及び金属酸化物粒子の全質量に対して、紫外線硬化性化合物が2〜98質量%であることを特徴とする[7]又は[8]に記載の有機無機複合体形成用組成物や、
[10]
d)の金属酸化物粒子が多孔質粉末であることを特徴とする、[7]〜[9]のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物や、
[11]
d)の金属酸化物粒子の一次粒子径が0.05μm〜0.2μmであることを特徴とする、[7]〜[9]のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物に関する。
The present invention also provides:
[7]
a) Formula (I)
R n SiX 4-n (I)
(In the formula, R represents an organic group in which a carbon atom is directly bonded to Si, X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. N represents 1 or 2, and when n is 2, each R is the same or different. And when the number of (4-n) is 2 or more, each X may be the same or different.)
b) At least one 350 nm or less selected from the group consisting of metal chelate compounds, metal organic acid salt compounds, metal compounds having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups, hydrolysates thereof, and condensates thereof. A light-sensitive compound that is sensitive to light of a wavelength;
an organic-inorganic composite-forming composition comprising: c) an ultraviolet curable compound; and d) metal oxide particles having a particle diameter of 0.05 μm to 5 μm,
[8]
The composition for forming an organic-inorganic composite according to [7], wherein the metal in the compound of b) is Ti, Al, Zr or Sn,
[9]
The ultraviolet curable compound is 2 to 98% by mass with respect to the total mass of the organosilicon compound and / or its condensate, photosensitive compound, ultraviolet curable compound and metal oxide particles [7 ] Or the composition for forming an organic-inorganic composite according to [8],
[10]
The composition for forming an organic-inorganic composite according to any one of [7] to [9], wherein the metal oxide particles of d) are porous powders,
[11]
The primary particle diameter of the metal oxide particle of d) is 0.05 micrometer-0.2 micrometer, It is related with the composition for organic-inorganic composite formation in any one of [7]-[9] characterized by the above-mentioned.

さらに、本発明は、
[12]
有機無機複合体が、アンチグレア膜又はアンチニュートンリング膜であることを特徴とする、[1]〜[6]のいずれかに記載の有機無機複合体や、
[13]
有機無機複合体形成用組成物が、アンチグレア膜又はアンチニュートンリング膜用組成物であることを特徴とする、[7]〜[11]のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物に関する。
Furthermore, the present invention provides
[12]
The organic-inorganic composite according to any one of [1] to [6], wherein the organic-inorganic composite is an antiglare film or an anti-Newton ring film,
[13]
The composition for forming an organic / inorganic composite according to any one of [7] to [11], wherein the composition for forming an organic / inorganic composite is a composition for an antiglare film or an anti-Newton ring film. .

本明細書において、「膜表面から深さ方向0.5μmまでの間における炭素含有量の最小値」とは、ESCA分析によって膜表面から深さ方向への炭素含有量を測定したときに得られる炭素含有量のグラフにおける、膜表面から深さ方向0.5μmまでの深さごとの炭素含有量の測定値の最小値を意味する。測定は、WO2008/069217号公報に記載された方法によることができる。   In this specification, “the minimum value of the carbon content between the film surface and the depth direction of 0.5 μm” is obtained when the carbon content in the depth direction from the film surface is measured by ESCA analysis. In the graph of carbon content, it means the minimum value of the measured value of carbon content for each depth from the film surface to the depth direction of 0.5 μm. The measurement can be performed by the method described in WO2008 / 069217.

また、有機無機複合体の裏面側における炭素含有量とは、膜表面から炭素含有量が漸次増加している深さよりさらに深部の、炭素含有量が一定に達している時の値であり、必ずしも裏面の値でなくてもよい。本発明のほとんどの膜は、炭素含有量が漸次増加している深さより内部では炭素の含有量が膜の厚さ方向で一定になっており、裏面の値と異ならない。   In addition, the carbon content on the back side of the organic-inorganic composite is a value when the carbon content reaches a constant depth even deeper than the depth at which the carbon content gradually increases from the film surface, and is not necessarily It may not be the value on the back side. In most films of the present invention, the carbon content is constant in the thickness direction of the film from the depth at which the carbon content is gradually increasing, and is not different from the value on the back surface.

本発明によれば、表面が非常に高い硬度を有すると共に、内部及び裏面側が適当な硬度を有しつつ、かつ基体との密着性、耐湿性に優れた有機無機複合体であって、アンチグレア性、アンチニュートンリング性を有する有機無機複合体を提供することができる。   According to the present invention, an organic-inorganic composite having an extremely high hardness on the front surface, an appropriate hardness on the inner and rear surfaces, and excellent adhesion to the substrate and moisture resistance, and having anti-glare properties An organic-inorganic composite having anti-Newton ring properties can be provided.

本発明の有機無機複合体は、表面が極性の高いSiO状の構造を有しているので、各種の膜を積層した時の層間密着性に優れている。シランカップリング処理による表面処理も可能で、表面を撥水撥油性に変えたり、アミノ基を導入し、メッキ密着性を付与したり、各種処理が容易である。また、金属酸化物粒子による表面凹凸のために表面の滑り性が良好であり、滑り性と撥水撥油性を両立することができるため、例えば、タッチパネル表面に好適に用いることができる。 Since the organic-inorganic composite of the present invention has a SiO 2 -like structure having a high polarity on the surface, it has excellent interlayer adhesion when various films are laminated. Surface treatment by silane coupling treatment is also possible, and various treatments are easy, such as changing the surface to water / oil repellency, introducing an amino group, and providing plating adhesion. Moreover, since the surface slipperiness by the metal oxide particles is good, and the slipperiness and water / oil repellency can be compatible, it can be suitably used for the touch panel surface, for example.

さらに、本発明の有機無機複合体は、耐湿性が良好である特性を有する。一般に、ハードコート膜に金属酸化物粒子を添加すると耐湿性は劣るものと考えられていたが、本発明の有機無機複合体は、金属酸化物粒子を含有するにも関わらず良好な耐湿性を示す。   Furthermore, the organic-inorganic composite of the present invention has a property of good moisture resistance. In general, it was thought that when metal oxide particles were added to the hard coat film, the moisture resistance was inferior, but the organic-inorganic composite of the present invention had good moisture resistance despite containing the metal oxide particles. Show.

(有機無機複合体)
本発明の有機無機複合体は、
a)式(I)
SiX4−n・・・(I)
(式中、RはSiに炭素原子が直接結合する有機基を表し、Xは水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき各Rは同一でも異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき各Xは同一でも異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物(以下、単に、有機ケイ素化合物ということがある。)の縮合物を主成分とし、
b)金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び/又はそれから誘導される化合物、
c)紫外線硬化性化合物の硬化物、及び
d)金属酸化物粒子
を含有する。本発明の有機無機複合体には、有機ケイ素化合物の縮合物に光感応性化合物及び/又はその誘導体が非結合状態で分散されてなるものや、有機ケイ素化合物の縮合物に光感応性化合物及び/又はその誘導体が結合してなるもの(例えば、Si−O−M結合を有するもの(Mは光感応性化合物中の金属原子を表す。))や、その混合状態からなるものが包含される。
(Organic inorganic composite)
The organic-inorganic composite of the present invention is
a) Formula (I)
R n SiX 4-n (I)
(In the formula, R represents an organic group in which a carbon atom is directly bonded to Si, X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. N represents 1 or 2, and when n is 2, each R is the same or different. And each X may be the same or different when (4-n) is 2 or more.) Condensates of organosilicon compounds (hereinafter sometimes simply referred to as organosilicon compounds) As the main component,
b) At least one 350 nm or less selected from the group consisting of metal chelate compounds, metal organic acid salt compounds, metal compounds having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups, hydrolysates thereof, and condensates thereof. A light-sensitive compound that is sensitive to light of a wavelength, and / or a compound derived therefrom,
c) A cured product of an ultraviolet curable compound, and d) metal oxide particles. The organic-inorganic composite of the present invention includes a photosensitizing compound and / or a derivative thereof dispersed in a non-bonded state in a condensate of an organosilicon compound, a photosensitizing compound and a condensate of an organosilicon compound, and And / or derivatives thereof (for example, those having a Si—OM bond (M represents a metal atom in the photosensitive compound)) and those having a mixed state thereof are included. .

本発明の有機無機複合体は、金属酸化物粒子を含有するために、その表面は平滑ではなく凹凸を有している。具体的には、表面の10点平均粗さが0.1〜5μmであり、より好ましくは0.5〜2μmである。表面の10点平均粗さとは、具体的には、JIS B
0601に示すように、断面曲線から基準長さだけ抜き取った部分において、平均線に平行、かつ、断面曲線を横切らない直線から縦倍率の方向に測定した最高から5番目までの山頂の標高の平均値と最深から5番目までの谷底の標高の平均値との差をμmで表したものをいう。10点の測定値の平均値を10点平均表面粗さとした。10点平均粗さの測定には、例えば、走査型プローブ顕微鏡や光干渉を用いた三次元非接触表面形状計測システムを用いることができる。具体的には走査型プローブ顕微鏡はセイコーインスツルメンツ社製「SPI3800N(SPA400)」、光干渉を用いた三次元非接触表面形状計測システムは菱化システム社製を使用できる。いずれの方法でも、測定値は変わらない。
Since the organic-inorganic composite of the present invention contains metal oxide particles, the surface thereof is not smooth but has irregularities. Specifically, the 10-point average roughness of the surface is 0.1 to 5 μm, and more preferably 0.5 to 2 μm. Specifically, the 10-point average roughness of the surface is JIS B
As shown in 0601, in the part extracted by the reference length from the cross-section curve, the average of the highest to the fifth highest peaks measured in the direction of the vertical magnification from the straight line parallel to the average line and not crossing the cross-section curve The difference between the value and the average value of the elevation of the bottom valley from the deepest to the fifth is expressed in μm. The average value of 10 measured values was defined as the 10-point average surface roughness. For the measurement of the 10-point average roughness, for example, a scanning probe microscope or a three-dimensional non-contact surface shape measurement system using optical interference can be used. Specifically, “SPI3800N (SPA400)” manufactured by Seiko Instruments Inc. can be used as a scanning probe microscope, and Ryoka System Co., Ltd. can be used as a three-dimensional non-contact surface shape measurement system using optical interference. Either method does not change the measured value.

(有機ケイ素化合物)
本発明の有機ケイ素化合物の式(I)中、R及びXは各々次のとおりである。
Rは、Siに炭素原子が直接結合する有機基を表す。かかる有機基としては、置換されていてもよい炭化水素基、置換されていてもよい炭化水素のポリマーからなる基等を挙げることができ、置換されていてもよい炭素数1〜30の炭化水素基でもよく、置換されていてもよい炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、炭素数10より長鎖のアルキル基、置換されていてもよい炭素数3〜8のシクロアルキル基、置換されていてもよい炭素数2〜10の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基又は置換されていてもよい炭素数3〜8のシクロアルケニル基が好ましく、芳香環を有していてもよい。
(Organic silicon compound)
In formula (I) of the organosilicon compound of the present invention, R and X are as follows.
R represents an organic group in which a carbon atom is directly bonded to Si. Examples of the organic group include an optionally substituted hydrocarbon group, an optionally substituted hydrocarbon polymer group, and the like, and an optionally substituted hydrocarbon having 1 to 30 carbon atoms. A linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted, an alkyl group having a longer chain than carbon number 10 or a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms which may be substituted An optionally substituted linear or branched alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms or an optionally substituted cycloalkenyl group having 3 to 8 carbon atoms may be preferable, and may have an aromatic ring.

また、かかる有機基は、酸素原子、窒素原子、又はケイ素原子を含んでいてもよく、ポリシロキサン、ポリビニルシラン、ポリアクリルシラン等のポリマーを含む基でもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン、メタクリロキシ基等を挙げることができ、ハロゲンとしてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。   Such an organic group may contain an oxygen atom, a nitrogen atom, or a silicon atom, or may be a group containing a polymer such as polysiloxane, polyvinyl silane, or polyacryl silane. Examples of the substituent include a halogen and a methacryloxy group. Examples of the halogen include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

炭素数1〜10のアルキル基としては、直鎖、又は分岐鎖の炭素数1〜10のアルキル基があり、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、2−メチルブチル基、2,2−ジメチルプロピル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基等が挙げられ、炭素数10より長鎖のアルキル基としては、ラウリル基、トリデシル基、ミリスチル基、ペンタデシル基、パルミチル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。   Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include linear or branched alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, and isobutyl. Group, t-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, 2-methylbutyl group, 2,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group, isohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, nonyl Group, isononyl group, decyl group and the like, and examples of the long chain alkyl group having 10 carbon atoms include lauryl group, tridecyl group, myristyl group, pentadecyl group, palmityl group, heptadecyl group, stearyl group and the like.

炭素数3〜8のシクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。   Examples of the cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group.

炭素数2〜10の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基とは、いずれか1カ所以上に炭素−炭素二重結合を有する炭素数2〜10の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を意味し、例えば、エテニル基、プロパ−1−エン−1−イル基、プロパ−2−エン−1−イル基、プロパ−1−エン−2−イル基、ブタ−1−エン−1−イル基、ブタ−2−エン−1−イル基、ブタ−3−エン−1−イル基、ブタ−1−エン−2−イル基、ブタ−3−エン−2−イル基、ペンタ−1−エン−1−イル基、ペンタ−4−エン−1−イル基、ペンタ−1−エン−2−イル基、ペンタ−4−エン−2−イル基、3−メチル−ブタ−1−エン−1−イル基、ヘキサ−1−エン−1−イル基、ヘキサ−5−エン−1−イル基、ヘプタ−1−エン−1−イル基、ヘプタ−6−エン−1−イル基、オクタ−1−エン−1−イル基、オクタ−7−エン−1−イル基等が挙げられる。   The straight chain or branched alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms means a straight chain or branched alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms having a carbon-carbon double bond at any one or more, for example, Ethenyl group, prop-1-en-1-yl group, prop-2-en-1-yl group, prop-1-en-2-yl group, but-1-en-1-yl group, but- 2-ene-1-yl group, but-3-en-1-yl group, but-1-en-2-yl group, but-3-en-2-yl group, penta-1-en-1- Yl group, penta-4-en-1-yl group, penta-1-en-2-yl group, penta-4-en-2-yl group, 3-methyl-but-1-en-1-yl group Hexa-1-en-1-yl group, hexa-5-en-1-yl group, hepta-1-en-1-yl group, hepta-6-ene 1-yl group, oct-1-en-1-yl group, oct-7-en-1-yl group.

炭素数3〜8のシクロアルケニル基とは、いずれか1カ所以上に炭素−炭素二重結合を有し、かつ環状部分を有する炭素数3〜8のアルケニル基を意味し、例えば、1−シクロペンテン−1−イル基、2−シクロペンテン−1−イル基、1−シクロヘキセン−1−イル基、2−シクロヘキセン−1−イル基、3−シクロヘキセン−1−イル基等が挙げられる。   A C3-C8 cycloalkenyl group means a C3-C8 alkenyl group which has a carbon-carbon double bond in any one or more places and has a cyclic part, for example, 1-cyclopentene. Examples include a -1-yl group, a 2-cyclopenten-1-yl group, a 1-cyclohexen-1-yl group, a 2-cyclohexen-1-yl group, and a 3-cyclohexen-1-yl group.

芳香環を有する有機基としては、例えば、C6−10アリールC1−8アルキル基として、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニル−n−プロピル基、4−フェニル−n−ブチル基、5−フェニル−n−ペンチル基、8−フェニル−n−オクチル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。またC6−10アリールC2−6アルケニル基として、スチリル基、3−フェニル−プロパ−1−エン−1−イル基、3−フェニル−プロパ−2−エン−1−イル基、4−フェニル−ブタ−1−エン−1−イル基、4−フェニル−ブタ−3−エン−1−イル基、5−フェニル−ペンタ−1−エン−1−イル基、5−フェニル−ペンタ−4−エン−1−イル基、8−フェニル−オクタ−1−エン−1−イル基、8−フェニル−オクタ−7−エン−1−イル基、ナフチルエテニル基等が挙げられる。 Examples of the organic group having an aromatic ring include a C 6-10 aryl C 1-8 alkyl group such as a benzyl group, a phenethyl group, a 3-phenyl-n-propyl group, a 4-phenyl-n-butyl group, 5- Examples include a phenyl-n-pentyl group, an 8-phenyl-n-octyl group, and a naphthylmethyl group. Further, as C 6-10 aryl C 2-6 alkenyl group, styryl group, 3-phenyl-prop-1-en-1-yl group, 3-phenyl-prop-2-en-1-yl group, 4-phenyl -But-1-en-1-yl group, 4-phenyl-but-3-en-1-yl group, 5-phenyl-pent-1-en-1-yl group, 5-phenyl-pent-4- An en-1-yl group, an 8-phenyl-oct-1-en-1-yl group, an 8-phenyl-oct-7-en-1-yl group, a naphthylethenyl group, and the like can be given.

酸素原子を有する基としては、エポキシ基、エポキシアルキル基、グリシドキシプロピル基等のオキシラン環(エポキシ基)を有する基、アクリロキシメチル基、メタクリロキシメチル基などが挙げられる。   Examples of the group having an oxygen atom include a group having an oxirane ring (epoxy group) such as an epoxy group, an epoxyalkyl group and a glycidoxypropyl group, an acryloxymethyl group, and a methacryloxymethyl group.

酸素原子を有する基のうち、エポキシアルキル基としては炭素数3〜10の直鎖又は分岐鎖のエポキシアルキル基が好ましく、例えばエポキシメチル基、エポキシエチル基、エポキシ−n−プロピル基、エポキシイソプロピル基、エポキシ−n−ブチル基、エポキシイソブチル基、エポキシ−t−ブチル基、エポキシ−n−ペンチル基、エポキシイソペンチル基、エポキシネオペンチル基、エポキシ−2−メチルブチル基、エポキシ−2,2−ジメチルプロピル基、エポキシ−n−ヘキシル基等が挙げられる。オキシラン環以外にさらに酸素原子を有する基としては、グリシドキシプロピル基等が挙げられる。   Of the groups having an oxygen atom, the epoxyalkyl group is preferably a linear or branched epoxyalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, such as an epoxymethyl group, an epoxyethyl group, an epoxy-n-propyl group, or an epoxyisopropyl group. , Epoxy-n-butyl group, epoxy isobutyl group, epoxy-t-butyl group, epoxy-n-pentyl group, epoxy isopentyl group, epoxy neopentyl group, epoxy-2-methylbutyl group, epoxy-2,2-dimethyl A propyl group, an epoxy-n-hexyl group, etc. are mentioned. Examples of the group having an oxygen atom other than the oxirane ring include a glycidoxypropyl group.

窒素原子を有する基としては−NR’(式中、R’は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、各R’は互いに同一でも異なっていてもよい。)を有する基、又は−N=CR’’(式中、R’’は水素原子又はアルキル基を表し、各R’’は互いに同一でも異なっていてもよい。)を有する基が好ましく、アルキル基としては上記と同じものが挙げられ、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基、アントラセン−1−イル基、フェナントレン−1−イル基等が挙げられる。 As the group having a nitrogen atom, a group having —NR ′ 2 (wherein R ′ represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and each R ′ may be the same as or different from each other), or —N ═CR ″ 2 (wherein R ″ represents a hydrogen atom or an alkyl group, and each R ″ may be the same as or different from each other), and the alkyl group is the same as described above. Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthracen-1-yl group, and a phenanthren-1-yl group.

例えば、−NR’を有する基としては、―CH−NH基、−C−NH基、−CH−NH−CH基等が挙げられる。−N=CR’’を有する基としては、−CH−N=CH−CH基、−CH−N=C(CH基、−C−N=CH−CH基等が挙げられる。 For example, the group having —NR ′ 2 includes a —CH 2 —NH 2 group, a —C 3 H 6 —NH 2 group, a —CH 3 —NH—CH 3 group, and the like. -N = Examples of the group having a CR '' 2, -CH 2 -N = CH-CH 3 group, -CH 2 -N = C (CH 3) 2 group, -C 2 H 5 -N = CH -CH 3 groups etc. are mentioned.

上記のうち、350nm以下の波長の光の照射によって分解される基としては、ビニル基を有する基、オキシラン環を有する基、−NR’(式中、R’は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、各R’は互いに同一でも異なっていてもよい。)を有する基、又は−N=CR’’(式中、R’’は水素原子又はアルキル基を表し、各R’’は互いに同一でも異なっていてもよい。)を有する基が挙げられる。 Among the above groups, the group that is decomposed by irradiation with light having a wavelength of 350 nm or less includes a group having a vinyl group, a group having an oxirane ring, -NR ′ 2 (wherein R ′ is a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group). Each of R ′ may be the same as or different from each other, or —N═CR ″ 2 (wherein R ″ represents a hydrogen atom or an alkyl group, and each R ″ May be the same or different from each other).

ここで、ビニル基を有する基としては、エテニル基(ビニル基)、プロパ−2−エン−1−イル基、ブタ−3−エン−1−イル基、ペンタ−4−エン−1−イル基、ヘキサ−5−エン−1−イル基、ヘプタ−6−エン−1−イル基、オクタ−7−エン−1−イル基等のアルケニル基、メタクリルメチル基、アクリロキシメチル基、メタクリロキシメチル基等のビニルカルボニル基を有する基等を有する基が挙げられる。オキシラン環を有する基、−NR’を有する基、−N=CR’’を有する基は、上記のとおりである。 Here, as a group having a vinyl group, an ethenyl group (vinyl group), a prop-2-en-1-yl group, a but-3-en-1-yl group, a penta-4-en-1-yl group , Alkenyl groups such as hexa-5-en-1-yl group, hepta-6-en-1-yl group, octa-7-en-1-yl group, methacrylmethyl group, acryloxymethyl group, methacryloxymethyl And groups having a vinylcarbonyl group such as a group. Group having group having an oxirane ring, -NR 'group having 2, -N = CR' a '2 are as described above.

また、有機ケイ素化合物の式(I)中、nは、1又は2を表し、n=1のものが特に好ましい。nが2のとき、各Rは同一でも異なっていてもよい。また、これらは、1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   In the formula (I) of the organosilicon compound, n represents 1 or 2, and n = 1 is particularly preferable. When n is 2, each R may be the same or different. Moreover, these can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。式(I)の(4−n)が2以上のとき、各Xは同一でも異なっていてもよい。加水分解性基とは、例えば、無触媒、過剰の水の共存下、25℃〜100℃で加熱することにより、加水分解されてシラノール基を生成することができる基や、シロキサン縮合物を形成することができる基を意味し、具体的には、アルコキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン基、イソシアネート基等を挙げることができ、炭素数1〜4のアルコキシ基又は炭素数1〜6のアシルオキシ基が好ましい。   X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. When (4-n) of formula (I) is 2 or more, each X may be the same or different. A hydrolyzable group is, for example, a group that can be hydrolyzed to form a silanol group or a siloxane condensate by heating at 25 ° C. to 100 ° C. in the presence of no catalyst and excess water. Specifically, an alkoxy group, an acyloxy group, a halogen group, an isocyanate group and the like can be mentioned, and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or an acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms can be mentioned. preferable.

炭素数1〜4のアルコキシ基としては、メチルオキシ基、エチルオキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基等が挙げられ、炭素数1〜6のアシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。ハロゲンとしてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。イソシアネート基としては、例えば、アルキル基に結合したイソシアネート基、シクロアルキル基に結合したイソシアネート基、アリール基に結合したイソシアネート基、シクロアルキル基が置換したアルキル基に結合したイソシアネート基、アリール基が置換したアルキル基に結合したイソシアネート基等が挙げられる。   Examples of the alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms include a methyloxy group, an ethyloxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butyloxy group, an isobutyloxy group, a t-butyloxy group, and the like. Examples of the acyloxy group include an acetyloxy group and a benzoyloxy group. Examples of the halogen include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the isocyanate group include an isocyanate group bonded to an alkyl group, an isocyanate group bonded to a cycloalkyl group, an isocyanate group bonded to an aryl group, an isocyanate group bonded to an alkyl group substituted with a cycloalkyl group, and an aryl group. And an isocyanate group bonded to the alkyl group.

具体的に、有機ケイ素化合物としては、メチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ペンタフルオロフェニルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ノナフルオロブチルエチルジメトキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、ジメチルジアミノシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジブチルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(3−メチル−3−オキセタンメトキシ)プロピルトリメトキシシラン、オキサシクロヘキシルトリメトキシシラン、メチルトリ(メタ)アクリロキシシラン、メチル[2−(メタ)アクリロキシエトキシ]シラン、メチル−トリグリシジロキシシラン、メチルトリス(3−メチル−3−オキセタンメトキシ)シラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランをあげることができる。これらは、1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   Specifically, as the organosilicon compound, methyltrichlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltributoxysilane, butyltrimethoxysilane, Pentafluorophenyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, nonafluorobutylethyldimethoxysilane, trifluoromethyltrimethoxysilane, dimethyldiaminosilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldiacetoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, dibutyldimethoxysilane , Vinyltrimethoxysilane, (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (3-methyl-3-oxetanemethoxy ) Propyltrimethoxysilane, oxacyclohexyltrimethoxysilane, methyltri (meth) acryloxysilane, methyl [2- (meth) acryloxyethoxy] silane, methyl-triglycidyloxysilane, methyltris (3-methyl-3-oxetanemethoxy) ) Silane, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3- Glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldie Xysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyl Trimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3- And dimethyl-butylidene) propylamine and N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane. These can be used alone or in combination of two or more.

また、炭化水素のポリマーからなる基を有する有機ケイ素化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、シクロヘキシル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸、イタコン酸、フマル酸などのカルボン酸および無水マレイン酸などの酸無水物;グリシジル(メタ)アクリレートなどのエポキシ化合物;ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、アミノエチルビニルエーテルなどのアミノ化合物;(メタ)アクリルアミド、イタコン酸ジアミド、α−エチルアクリルアミド、クロトンアミド、フマル酸ジアミド、マレイン酸ジアミド、N−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミドなどのアミド化合物;アクリロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどから選ばれるビニル系化合物を共重合したビニル系ポリマーを式(I)のR成分とするものを挙げることができる。
なお、本発明の有機無機複合体における主成分となる有機ケイ素化合物の縮合物は、後述する本発明の有機無機複合体の製造方法及び有機無機複合体形成用組成物における有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物がさらに縮合したものを意味する。
Examples of the organosilicon compound having a hydrocarbon polymer group include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and cyclohexyl. (Meth) acrylate and other (meth) acrylic acid esters; (meth) acrylic acid, itaconic acid, fumaric acid and other carboxylic acids and maleic anhydride and other acid anhydrides; glycidyl (meth) acrylate and other epoxy compounds; diethylaminoethyl Amino compounds such as (meth) acrylate and aminoethyl vinyl ether; amino acids such as (meth) acrylamide, itaconic acid diamide, α-ethylacrylamide, crotonamide, fumaric acid diamide, maleic acid diamide, and N-butoxymethyl (meth) acrylamide Compound: A compound in which a vinyl polymer obtained by copolymerizing a vinyl compound selected from acrylonitrile, styrene, α-methylstyrene, vinyl chloride, vinyl acetate, vinyl propionate and the like is used as the R component of the formula (I) can be mentioned. .
In addition, the condensate of the organosilicon compound which is the main component in the organic-inorganic composite of the present invention is a method for producing the organic-inorganic composite of the present invention described later and / or the organosilicon compound in the composition for forming an organic-inorganic composite and / or It means that the condensate is further condensed.

(光感応性化合物)
本発明の光感応性化合物とは、そのメカニズムの如何によらず、表面側から照射される350nm以下の波長の光の作用によって、表面側の炭素成分を除去することができる化合物であり、好ましくは、膜表面から深さ方向0.5μmまでの間における炭素含有量の最小値が、膜裏面側における炭素含有量の80%以下、より好ましくは2〜60%、さらに好ましくは2〜40%とすることができる化合物であり、特に好ましくは、炭素成分を、その除去量が表面側から漸次減少するように所定深さまで除去することが可能な化合物、すなわち、表面から所定深さまで炭素含有量が漸次増加する膜を形成することができる化合物をいう。具体的には、例えば、350nm以下の波長の光を吸収して励起する化合物を挙げることができる。
ここで、350nm以下の波長の光とは、350nm以下のいずれかの波長の光を成分とする光源を用いてなる光、好ましくは、350nm以下のいずれかの波長の光を主成分とする光源を用いてなる光、すなわち、最も成分量の多い波長が350nm以下の光源を用いてなる光を意味する。
(Photosensitive compound)
The photosensitive compound of the present invention is a compound that can remove the carbon component on the surface side by the action of light with a wavelength of 350 nm or less irradiated from the surface side, regardless of the mechanism, and preferably The minimum value of the carbon content between the film surface and the depth direction of 0.5 μm is 80% or less, more preferably 2 to 60%, still more preferably 2 to 40% of the carbon content on the film back side. Particularly preferably, a compound capable of removing the carbon component to a predetermined depth so that the removal amount gradually decreases from the surface side, that is, the carbon content from the surface to the predetermined depth. Refers to a compound that can form a gradually increasing film. Specific examples include compounds that absorb and excite light having a wavelength of 350 nm or less.
Here, the light having a wavelength of 350 nm or less is light using a light source having light of any wavelength of 350 nm or less, preferably a light source having light of any wavelength of 350 nm or less as a main component. That is, light using a light source having a wavelength of 350 nm or less with the largest component amount.

本発明の有機無機複合体における光感応性化合物としては、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であり、加水分解物及び/又は縮合物であることが好ましく、特に、金属キレート化合物の加水分解物及び/又は縮合物が好ましい。これから誘導される化合物としては、例えば、金属キレート化合物の縮合物等がさらに縮合されたもの等を挙げることができる。かかる光感応性化合物及び/又はその誘導体は、上述のように、有機ケイ素化合物と化学結合していてもよく、非結合状態で分散していてもよく、その混合状態のものでもよい。   Examples of the photosensitive compound in the organic-inorganic composite of the present invention include metal chelate compounds, metal organic acid salt compounds, metal compounds having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups, hydrolysates thereof, and condensates thereof. It is preferably at least one compound selected from the group consisting of: a hydrolyzate and / or a condensate, and particularly a hydrolyzate and / or condensate of a metal chelate compound. Examples of the compound derived therefrom include those obtained by further condensing a condensate of a metal chelate compound. As described above, the photosensitive compound and / or derivative thereof may be chemically bonded to the organosilicon compound, dispersed in a non-bonded state, or a mixed state thereof.

金属キレート化合物としては、水酸基若しくは加水分解性基を有する金属キレート化合物であることが好ましく、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属キレート化合物であることがより好ましい。なお、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有するとは、加水分解性基及び水酸基の合計が2以上であることを意味する。また、前記金属キレート化合物としては、β−ケトカルボニル化合物、β−ケトエステル化合物、及びα−ヒドロキシエステル化合物が好ましく、具体的には、アセト酢酸メチル、アセト酢酸n−プロピル、アセト酢酸イソプロピル、アセト酢酸n−ブチル、アセト酢酸sec−ブチル、アセト酢酸t−ブチル等のβ−ケトエステル類;アセチルアセトン、へキサン−2,4−ジオン、ヘプタン−2,4−ジオン、ヘプタン−3,5−ジオン、オクタン−2,4−ジオン、ノナン−2,4−ジオン、5−メチル−へキサン−2,4−ジオン等のβ−ジケトン類;グリコール酸、乳酸等のヒドロキシカルボン酸;等が配位した化合物が挙げられる。   The metal chelate compound is preferably a metal chelate compound having a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and more preferably a metal chelate compound having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups. In addition, having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups means that the sum of hydrolyzable groups and hydroxyl groups is 2 or more. Further, as the metal chelate compound, β-ketocarbonyl compounds, β-ketoester compounds, and α-hydroxyester compounds are preferable. Specifically, methyl acetoacetate, n-propyl acetoacetate, isopropyl acetoacetate, acetoacetic acid β-ketoesters such as n-butyl, sec-butyl acetoacetate, t-butyl acetoacetate; acetylacetone, hexane-2,4-dione, heptane-2,4-dione, heptane-3,5-dione, octane Β-diketones such as -2,4-dione, nonane-2,4-dione and 5-methyl-hexane-2,4-dione; hydroxycarboxylic acids such as glycolic acid and lactic acid; Is mentioned.

金属有機酸塩化合物としては、金属イオンと有機酸から得られる塩からなる化合物であり、有機酸としては、酢酸、シュウ酸、酒石酸、安息香酸等のカルボン酸類;スルフォン酸、スルフィン酸、チオフェノール等の含硫黄有機酸;フェノール化合物;エノール化合物;オキシム化合物;イミド化合物;芳香族スルフォンアミド;等の酸性を呈する有機化合物が挙げられる。   The metal organic acid salt compound is a compound composed of a salt obtained from a metal ion and an organic acid. Examples of the organic acid include carboxylic acids such as acetic acid, oxalic acid, tartaric acid, benzoic acid; sulfonic acid, sulfinic acid, thiophenol. Organic compounds exhibiting acidity such as sulfur-containing organic acids such as phenol compounds, enol compounds, oxime compounds, imide compounds, aromatic sulfonamides, and the like.

また、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物は、上記金属キレート化合物及び金属有機酸塩化合物を除くものであり、例えば、金属の水酸化物や、金属アルコラート等を挙げることができる。   In addition, the metal compound having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups excludes the metal chelate compound and the metal organic acid salt compound, and examples thereof include metal hydroxides and metal alcoholates. .

金属化合物、金属キレート化合物又は金属有機酸塩化合物における加水分解性基としては、例えば、アルコキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン基、イソシアネート基が挙げられ、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4のアシルオキシ基が好ましい。なお、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有するとは、加水分解性基及び水酸基の合計が2以上であることを意味する。   Examples of the hydrolyzable group in the metal compound, metal chelate compound or metal organic acid salt compound include an alkoxy group, an acyloxy group, a halogen group, and an isocyanate group, and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms and 1 to 1 carbon atoms. An acyloxy group of 4 is preferred. In addition, having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups means that the sum of hydrolyzable groups and hydroxyl groups is 2 or more.

かかる金属化合物の加水分解物及び/又は縮合物としては、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物1モルに対して、0.5モル以上の水を用いて加水分解したものであることが好ましく、0.5〜2モルの水を用いて加水分解したものであることがより好ましい。   Such a hydrolyzate and / or condensate of a metal compound is obtained by hydrolyzing 0.5 mol or more of water with respect to 1 mol of a metal compound having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups. It is preferable that it is a thing hydrolyzed using 0.5-2 mol water.

また、金属キレート化合物の加水分解物及び/又は縮合物としては、金属キレート化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解したものであることが好ましく、5〜20モルの水を用いて加水分解したものであることがより好ましい。   Further, the hydrolyzate and / or condensate of the metal chelate compound is preferably hydrolyzed using 5 to 100 mol of water with respect to 1 mol of the metal chelate compound, More preferably, it is hydrolyzed with water.

また、金属有機酸塩化合物の加水分解物及び/又は縮合物としては、金属有機酸塩化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いて加水分解したものであることが好ましく、5〜20モルの水を用いて加水分解したものであることがより好ましい。   The hydrolyzate and / or condensate of the metal organic acid salt compound is preferably one hydrolyzed using 5 to 100 mol of water with respect to 1 mol of the metal organic acid salt compound. More preferably, it is hydrolyzed with ˜20 mol of water.

また、これら金属化合物、金属キレート化合物又は金属有機酸塩化合物における金属としては、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、アルミニウム(Al)、ケイ素(Si)、ゲルマニウム(Ge)、インジウム(In)、スズ(Sn)、タンタル(Ta)、亜鉛(Zn)、タングステン(W)、鉛(Pb)等が挙げられ、これらの中でもチタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、アルミニウム(Al)、スズ(Sn)が好ましく、特にチタン(Ti)が好ましい。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上用いることもできる。   Moreover, as a metal in these metal compounds, metal chelate compounds or metal organic acid salt compounds, titanium (Ti), zirconium (Zr), aluminum (Al), silicon (Si), germanium (Ge), indium (In), Examples include tin (Sn), tantalum (Ta), zinc (Zn), tungsten (W), lead (Pb), etc. Among these, titanium (Ti), zirconium (Zr), aluminum (Al), tin (Sn) ) Is preferred, and titanium (Ti) is particularly preferred. These may be used alone or in combination of two or more.

(紫外線硬化性化合物)
本発明の紫外線硬化性化合物とは、光重合開始剤の存在下で紫外線の照射により重合反応を起こす官能基を有する化合物あるいは樹脂のことであり、(メタ)アクリレート系化合物、エポキシ樹脂、アクリレート系化合物を除くビニル化合物などがある。官能基の数は、1個以上であれば特に限定はない。
(UV curable compound)
The ultraviolet curable compound of the present invention is a compound or resin having a functional group that undergoes a polymerization reaction upon irradiation with ultraviolet rays in the presence of a photopolymerization initiator, and is a (meth) acrylate compound, an epoxy resin, or an acrylate compound. There are vinyl compounds excluding compounds. The number of functional groups is not particularly limited as long as it is 1 or more.

アクリレート系化合物としては、ポリウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート 、エポキシ(メタ)アクリレート 、ポリアミド(メタ)アクリレート、ポリブタジエン(メタ)アクリレート 、ポリスチリル(メタ)アクリレート 、ポリカーボネートジアクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート 、ヘ
キサンジオールジ(メタ)アクリレート 、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシ基を有するシロキサンポリマー等が挙げられるが、好ましくはポリエステル(メタ)アクリレート、ポリウレタン(メタ)アクリレート、エポキシポリ(メタ)アクリレートであり、より好ましくは、ポリウレタン(メタ)アクリレートである。
分子量は、有機無機複合体形成用組成物に溶解する限り限度はないが、通常は質量平均分子量として500〜50,000、好ましくは1,000〜10,000である。
また、紫外線照射により重合反応を起こして生成した重合物が硬化物である。
As acrylate compounds, polyurethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyamide (meth) acrylate, polybutadiene (meth) acrylate, polystyryl (meth) acrylate, polycarbonate diacrylate, tripropylene glycol di (Meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, siloxane polymer having (meth) acryloyloxy group, and the like, preferably polyester ( (Meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, and epoxy poly (meth) acrylate, more preferably polyurethane Meth) acrylate.
The molecular weight is not limited as long as it dissolves in the organic-inorganic composite-forming composition, but is usually 500 to 50,000, preferably 1,000 to 10,000 as the weight average molecular weight.
Further, a polymer obtained by causing a polymerization reaction by ultraviolet irradiation is a cured product.

エポキシ(メタ)アクリレートは、例えば、低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラックエポキシ樹脂のオキシラン環とアクリル酸とのエステル化反応により得ることができる。
ポリエステル(メタ)アクリレートは、例えば、多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる、両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基をアクリル酸でエステル化することにより得られる。または、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基をアクリル酸でエステル化することにより得られる。
ウレタン(メタ)アクリレートは、ポリオールとジイソシアネートとを反応させて得られるイソシアネート化合物と、水酸基を有するアクリレートモノマーとの反応生成物であり、ポリオールとしては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートジオールが挙げられる。
The epoxy (meth) acrylate can be obtained, for example, by an esterification reaction between an oxirane ring of a low molecular weight bisphenol type epoxy resin or a novolak epoxy resin and acrylic acid.
The polyester (meth) acrylate is obtained, for example, by esterifying the hydroxyl group of a polyester oligomer having hydroxyl groups at both ends with acrylic acid, obtained by condensation of a polyvalent carboxylic acid and a polyhydric alcohol. Alternatively, it can be obtained by esterifying the terminal hydroxyl group of an oligomer obtained by adding an alkylene oxide to a polyvalent carboxylic acid with acrylic acid.
Urethane (meth) acrylate is a reaction product of an isocyanate compound obtained by reacting a polyol with diisocyanate and an acrylate monomer having a hydroxyl group, and examples of the polyol include polyester polyol, polyether polyol, and polycarbonate diol. .

本発明で用いるウレタン(メタ)アクリレートの市販品としては、例えば、荒川化学工業(株)製商品名:ビームセット102、502H、505A−6、510、550B、551B、575、575CB、EM−90、EM92、サンノプコ(株)製商品名:フォトマー6008、6210、新中村化学工業(株)製 商品名:NKオリゴU−2PPA、U−4HA、U−6HA、H−15HA、UA−32PA、U−324A、U−4H、U−6H、東亜合成(株)製商品名:アロニックスM−1100、M−1200、M−1210、M−1310、M−1600、M−1960、共栄社化学(株)製商品名:AH−600、AT606、UA−306H、日本化薬(株)製商品名:カヤラッドUX−2201、UX−2301、UX−3204、UX−3301、UX−4101、UX−6101、UX−7101、日本合成化学工業(株)製商品名:紫光UV−1700B、UV−3000B、UV−6100B、UV−6300B、UV−7000、UV−7600B、UV−2010B、根上工業(株)製商品名:アートレジンUN−1255、UN−5200、HDP−4T、HMP−2、UN−901T、UN−3320HA、UN−3320HB、UN−3320HC、UN−3320HS、H−61、HDP−M20、ダイセルユーシービー(株)製商品名:Ebecryl 6700、204、205、220、254、1259、1290K、1748、2002、2220、4833、4842、4866、5129、6602、8301等を挙げることができる。   As a commercial item of the urethane (meth) acrylate used by this invention, Arakawa Chemical Industries Co., Ltd. brand name: Beam set 102, 502H, 505A-6, 510, 550B, 551B, 575, 575CB, EM-90, for example. Product name: Photomer 6008, 6210, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Product name: NK Oligo U-2PPA, U-4HA, U-6HA, H-15HA, UA-32PA, U -324A, U-4H, U-6H, manufactured by Toagosei Co., Ltd .: Aronix M-1100, M-1200, M-1210, M-1310, M-1600, M-1960, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Product name: AH-600, AT606, UA-306H, Nippon Kayaku Co., Ltd. Product name: Kayarad UX-2201, UX-2301, UX -3204, UX-3301, UX-4101, UX-6101, UX-7101, trade names manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd .: Purple light UV-1700B, UV-3000B, UV-6100B, UV-6300B, UV-7000 , UV-7600B, UV-2010B, manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd .: Art Resin UN-1255, UN-5200, HDP-4T, HMP-2, UN-901T, UN-3320HA, UN-3320HB, UN- 3320HC, UN-3320HS, H-61, HDP-M20, Daicel UCB Co., Ltd. trade name: Ebecryl 6700, 204, 205, 220, 254, 1259, 1290K, 1748, 2002, 2220, 4833, 4842, 4866 , 5129, 6602, 8301 etc. You can.

また、アクリレート系化合物をのぞくビニル化合物としては、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、酢酸ビニル、スチレン、不飽和ポリエステルなどがあり、エポキシ樹脂としては、水素添加ビスフェノールAジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペートなどを挙げることができる。   Examples of vinyl compounds other than acrylate compounds include N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl caprolactam, vinyl acetate, styrene, and unsaturated polyester. Epoxy resins include hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, 3,4 -Epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexyl) And methyl) adipate.

(光重合開始剤)
本発明の光重合開始剤は、(a)光照射によりカチオン種を発生させる化合物及び(b)光照射により活性ラジカル種を発生させる化合物等を挙げることができる。
光照射によりカチオン種を発生させる化合物としては、例えば、下記式(II)に示す構造を有するオニウム塩を好適例として挙げることができる。
このオニウム塩は、光を受けることによりルイス酸を放出する化合物である。
[R W]+e[MLe+f−e (II)
(式(II)中、カチオンはオニウムイオンであり、Wは、S、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、I、Br、Cl、又はN≡N−であり、R、R、R及びRは同一又は異なる有機基であり、a、b、c、及びdは、それぞれ0〜3の整数であって、(a+b+c+d)はWの価数に等しい。Mは、ハロゲン化物錯体[MLe+f]の中心原子を構成する金属又はメタロイドであり、例えば、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co等である。Lは、例えば、F、Cl、Br等のハロゲン原子であり、eは、ハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷であり、fは、Mの原子価である。)
(Photopolymerization initiator)
Examples of the photopolymerization initiator of the present invention include (a) a compound that generates cationic species by light irradiation, and (b) a compound that generates active radical species by light irradiation.
As a compound that generates a cationic species by light irradiation, for example, an onium salt having a structure represented by the following formula (II) can be given as a preferred example.
This onium salt is a compound that releases a Lewis acid by receiving light.
[R 1 a R 2 b R 3 c R 4 d W] + e [ML e + f] -e (II)
(In the formula (II), the cation is an onium ion, W is S, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl, or N≡N—, and R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same or different organic groups, a, b, c and d are each an integer of 0 to 3, and (a + b + c + d) is equal to the valence of W. M is , A metal or metalloid constituting the central atom of the halide complex [ML e + f ], for example, B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co, etc. L is a halogen atom such as F, Cl, Br, etc., e is the net charge of the halide complex ion, and f is the valence of M. )

上記式(II)中における陰イオン(MLe+f)の具体例としては、テトラフルオロボレート(BF )、ヘキサフルオロホスフェート(PF )、ヘキサフルオロアンチモネート(SbF )、ヘキサフルオロアルセネート(AsF )、ヘキサクロロアンチモネート(SbCl )等を挙げることができる。
また、式〔ML(OH)〕に示す陰イオンを有するオニウム塩を用いることもできる。さらに、過塩素酸イオン(ClO )、トリフルオロメタンスルフォン酸イオン(CFSO )、フルオロスルフォン酸イオン(FSO )、トルエンスルフォン酸イオン、トリニトロベンゼンスルフォン酸陰イオン、トリニトロトルエンスルフォン酸陰イオン等の他の陰イオンを有するオニウム塩でもよい。これらは、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
Specific examples of the anion (ML e + f ) in the above formula (II) include tetrafluoroborate (BF 4 ), hexafluorophosphate (PF 6 ), hexafluoroantimonate (SbF 6 ), hexafluoroarce. Nate (AsF 6 ), hexachloroantimonate (SbCl 6 ) and the like.
An onium salt having an anion represented by the formula [ML f (OH) ] can also be used. Furthermore, perchlorate ion (ClO 4 ), trifluoromethane sulfonate ion (CF 3 SO 3 ), fluorosulfonate ion (FSO 3 ), toluene sulfonate ion, trinitrobenzene sulfonate anion, trinitrotoluene sulfonate The onium salt which has other anions, such as an acid anion, may be sufficient. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

光照射により活性ラジカル種を発生させる化合物としては、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2−ベンジルー2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1,4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)等を挙げることができる。   Examples of compounds that generate active radical species by light irradiation include acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, xanthone, fluorenone, and benzaldehyde. Fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, benzoinpropyl ether, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 1 -(4-Isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxa , Diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis- (2 , 6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone) and the like. .

本発明において用いられる光重合開始剤の配合量は、(メタ)アクリレート系紫外線硬化性化合物の固形分に対して、0.01〜20質量%配合することが好ましく、0.1〜10質量%が、さらに好ましい。   The blending amount of the photopolymerization initiator used in the present invention is preferably 0.01 to 20% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass, based on the solid content of the (meth) acrylate-based ultraviolet curable compound. Is more preferable.

なお、本発明においては、必要に応じて増感剤を添加することができる。例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、N,N−ジメチルベンジルアミン及び4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等が使用できる。   In the present invention, a sensitizer can be added as necessary. For example, trimethylamine, methyldimethanolamine, triethanolamine, p-dimethylaminoacetophenone, ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, N, N-dimethylbenzylamine and 4,4′-bis ( Diethylamino) benzophenone and the like can be used.

(金属酸化物粒子)
本発明の金属酸化物粒子としては、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化コバルトの粒子等が挙げられる。粒子の形状としては、球状、多孔質粉末、鱗片状、繊維状等が挙げられるが、多孔質粉末状であることがより好ましい。多孔質であることにより凝集粒径が1μm以上でもコート液中にある間は均一に分散することができる。多孔質の粒子としては、富士シリシア化学社製のサイリシア等が挙げられる。アドマテックス社製の、アドマファインSQ表面処理シリーズ等のシランカップリング処理された粒子も使用できる。粒子の大きさは、アンチグレア性及びアンチニュートンリング性が得られる限り特に制限されるものではないが、凝集粒子径が1μm〜5μmであることが好ましく、2μm〜3μmであることがより好ましい。添加量は、組成物の固形分として、2wt%〜10wt%であることが好ましく、3wt%〜5wt%であることがより好ましい。
また、本発明の金属酸化物粒子としては、1次粒子径が0.05〜0.2μmであるコロイド状金属酸化物粒子も使用できる。ここでの1次粒子とは電子顕微鏡で観察できる粒子のことである。この粒子として、コロイダルシリカなどが良く知られており、日産化学工業社製IPA−ST−ZLなどが挙げられる。添加量は、10wt%〜40wt%であることが好ましく、15wt%〜30wt%であることがより好ましい。本粒子はコロイド状の分散液であるので、コート液に単に混合することで均一な分散液が簡便にでき、また、沈降などによる不均一になる問題も少ない。また、本粒子は粒子径が可視光以下の大きさなので、塗膜中に均一に分散されるとアンチグレア性やアンチニュートンリング性は得られないが、本塗料組成においては、この効果が認められ、特異的な現象である。比較例に示したが、UV硬化樹脂だけに混合しても、クリアーな塗膜しか得られなかった。
(Metal oxide particles)
Examples of the metal oxide particles of the present invention include silicon dioxide, titanium oxide, aluminum oxide, chromium oxide, manganese oxide, iron oxide, zirconium oxide, and cobalt oxide particles. Examples of the shape of the particles include a spherical shape, a porous powder, a scale shape, and a fiber shape, and a porous powder shape is more preferable. By being porous, even if the aggregate particle diameter is 1 μm or more, it can be uniformly dispersed while in the coating liquid. Examples of the porous particles include silicia manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd. Silane-coupled particles such as Admafine SQ surface treatment series manufactured by Admatechs can also be used. The size of the particles is not particularly limited as long as the antiglare property and the anti-Newton ring property are obtained, but the aggregated particle diameter is preferably 1 μm to 5 μm, and more preferably 2 μm to 3 μm. The addition amount is preferably 2 wt% to 10 wt%, and more preferably 3 wt% to 5 wt% as the solid content of the composition.
As the metal oxide particles of the present invention, colloidal metal oxide particles having a primary particle size of 0.05 to 0.2 μm can also be used. The primary particles here are particles that can be observed with an electron microscope. Colloidal silica and the like are well known as the particles, and include IPA-ST-ZL manufactured by Nissan Chemical Industries. The addition amount is preferably 10 wt% to 40 wt%, and more preferably 15 wt% to 30 wt%. Since this particle is a colloidal dispersion, a uniform dispersion can be easily obtained by simply mixing it with the coating liquid, and there are few problems of non-uniformity due to sedimentation. In addition, since this particle has a particle size of less than visible light, anti-glare property and anti-Newton ring property cannot be obtained if it is uniformly dispersed in the coating film, but this effect is recognized in this coating composition. It is a unique phenomenon. As shown in the comparative example, only a clear coating film was obtained even when mixed only with the UV curable resin.

本発明の金属酸化物粒子含有有機無機複合体は、金属酸化物粒子を含有することで、有機無機複合体の表面に凹凸が生じて光の乱反射が起こるためにアンチグレア性が発現し、また、表面の滑り性が良好である。さらに、膜の表面に金属酸化物粒子が表出しており、有機樹脂に被覆されていない表面があることにより撥水・撥油製のシランカップリング処理が可能で、このことより、手垢付着防止機能や、さらに滑り性が向上する。さらに、表面の凹凸によってフィルムを重ね合わせた場合の膜間距離を制御することができ、ニュートンリング(光干渉縞)の発生を抑制することもできる(アンチニュートンリング性)。   The metal-inorganic particle-containing organic-inorganic composite of the present invention contains metal oxide particles, so that irregularities occur on the surface of the organic-inorganic composite, resulting in irregular reflection of light, and the antiglare property is expressed. Good surface slipperiness. In addition, metal oxide particles are exposed on the surface of the film, and because there is a surface that is not coated with organic resin, silane coupling treatment made of water and oil repellent is possible. Function and slipperiness are improved. Furthermore, it is possible to control the distance between the films when the films are overlapped by the unevenness of the surface, and to suppress the generation of Newton rings (light interference fringes) (anti-Newton ring property).

(有機無機複合体形成用組成物の塗布)
本発明の有機無機複合体が形成可能な基体としては、金属、セラミックス、ガラス、プラスチック等が挙げられる。これらのうちでは、プラスチックが好適に挙げられ、具体的には、タッチパネル用のプラスチック基板等が挙げられる。従来、薄膜のプラスチック基体への形成は困難であり、ガラス等の無機基体に限定されていたが、本発明の薄膜は、形成の難しいプラスチック基体であっても、容易に皮膜形成でき、プラスチック製光学部品に対しても適している。かかるプラスチックとしては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、液晶ポリマー樹脂、ポリエーテルスルフォンが挙げられる。
(Application of composition for forming organic-inorganic composite)
Examples of the substrate on which the organic-inorganic composite of the present invention can be formed include metals, ceramics, glass, and plastics. Among these, plastic is preferably used, and specifically, a plastic substrate for a touch panel can be used. Conventionally, it has been difficult to form a thin film on a plastic substrate, and it has been limited to inorganic substrates such as glass. However, the thin film of the present invention can easily form a film even if it is difficult to form a plastic substrate. Suitable for optical components. Examples of such plastic include polycarbonate resin, acrylic resin, polyimide resin, polyester resin, epoxy resin, liquid crystal polymer resin, and polyether sulfone.

また、有機無機複合体形成用組成物の塗布方法としては、公知の塗布方法を用いることができ、例えば、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、インクジェット法等を挙げることができる。また、形成する膜厚としては、特に制限されるものではなく、例えば、0.05〜200μm程度である。   Moreover, as a coating method of the composition for forming an organic / inorganic composite, a known coating method can be used. For example, a dipping method, a spray method, a bar coating method, a roll coating method, a spin coating method, a curtain coating method, A gravure printing method, a silk screen method, an inkjet method, etc. can be mentioned. Moreover, it does not restrict | limit especially as a film thickness to form, For example, it is about 0.05-200 micrometers.

有機無機複合体形成用組成物を塗布して形成した膜の乾燥処理としては、例えば、40〜200℃で、1〜120分程度行うことが好ましく、60〜120℃で、10〜60分程度行うことがより好ましい。   As a drying process of the film | membrane formed by apply | coating the composition for organic-inorganic composite formation, it is preferable to carry out for about 1 to 120 minutes at 40-200 degreeC, for example, for 60 to 120 degreeC, about 10 to 60 minutes. More preferably.

(有機無機複合体の製造方法)
本発明の有機無機複合体の製造方法としては、光感応性化合物、紫外線硬化性化合物、金属酸化物粒子、及び、光重合開始剤の存在下、有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物に、350nm以下の波長を含む光を照射する方法を挙げることができ、後述する有機無機複合体形成用組成物を用いることができる。
(Method for producing organic-inorganic composite)
As a method for producing the organic-inorganic composite of the present invention, an organic silicon compound and / or a condensate thereof is 350 nm in the presence of a photosensitive compound, an ultraviolet curable compound, metal oxide particles, and a photopolymerization initiator. The method of irradiating the light containing the following wavelengths can be mentioned, The organic-inorganic composite formation composition mentioned later can be used.

350nm以下の波長を含む光の照射は、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマーランプ等の公知の装置を用いて行うことができ、照射する光としては、150〜350nmの範囲のいずれかの波長の光を主成分とする光であることが好ましく、250〜310nmの範囲のいずれかの波長の光を主成分とする光であることがより好ましい。かかる範囲の波長に感応し、350nm、好ましくは310nmを超える光に反応しないものであれば、太陽光によりほとんど影響を受けることはない。また、照射する光の照射光量としては、例えば、0.1〜100J/cm程度が挙げられ、膜硬化効率(照射エネルギーと膜硬化程度の関係)を考慮すると、0.2〜20J/cm程度であることが好ましく、0.5〜10J/cm程度であることがより好ましい。
なお、350nm以下の波長の光の照射とは、350nm以下のいずれかの波長の光を成分とする光源を用いる照射、好ましくは、350nm以下のいずれかの波長の光を主成分とする光源を用いる照射、すなわち、最も成分量の多い波長が350nm以下の光源を用いる照射をいう。
Irradiation with light having a wavelength of 350 nm or less can be performed using a known apparatus such as a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or an excimer lamp, and the irradiation light is in the range of 150 to 350 nm. It is preferable that it is the light which has the light of any one of these wavelengths as a main component, and it is more preferable that it is the light which has the light of any wavelength in the range of 250-310 nm as a main component. As long as it is sensitive to wavelengths in this range and does not react to light exceeding 350 nm, preferably 310 nm, it is hardly affected by sunlight. Moreover, as an irradiation light quantity of the light to irradiate, about 0.1-100 J / cm < 2 > is mentioned, for example, When film hardening efficiency (relation between irradiation energy and a film hardening degree) is considered, 0.2-20 J / cm preferably 2 mm, and more preferably about 0.5~10J / cm 2.
Note that irradiation with light having a wavelength of 350 nm or less is irradiation using a light source having light of any wavelength of 350 nm or less, preferably a light source having light of any wavelength of 350 nm or less as a main component. Irradiation used, that is, irradiation using a light source having a wavelength of 350 nm or less with the largest component amount.

本発明の製造方法に用いる有機ケイ素化合物としては、縮合物であることが好ましく、その平均粒径が、50nm以下であることが好ましく、20nm以下であることがより好ましい。また、本発明の製造方法において用いる光感応性化合物としては、加水分解物及び/又は縮合物であることが好ましく、特に、金属キレート化合物の加水分解物及び/又は縮合物が好ましく、その平均粒径としては、20nm以下であることが好ましく、10nm以下であることがより好ましい。これにより、有機無機複合体(有機無機複合系薄膜)の透明性を向上させることができる。これらの平均粒子径は、例えば、Malvern Instruments Ltd製 HPPSを用いて測定することができる。   The organosilicon compound used in the production method of the present invention is preferably a condensate, and the average particle diameter is preferably 50 nm or less, and more preferably 20 nm or less. The photosensitive compound used in the production method of the present invention is preferably a hydrolyzate and / or condensate, particularly preferably a hydrolyzate and / or condensate of a metal chelate compound, and its average particle size The diameter is preferably 20 nm or less, and more preferably 10 nm or less. Thereby, the transparency of the organic-inorganic composite (organic-inorganic composite-based thin film) can be improved. These average particle diameters can be measured using, for example, HPPS manufactured by Malvern Instruments Ltd.

(有機無機複合体形成用組成物)
本発明の有機無機複合体形成用組成物は、
a)式(I)
SiX4−n・・・(I)
(式中、RはSiに炭素原子が直接結合する有機基を表し、Xは水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき各Rは同一でも異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき各Xは同一でも異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物、
b)金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の光感応性化合物、
c)紫外線硬化性化合物、及び
d)粒径0.05μm〜5μmの金属酸化物粒子
を含有する組成物であれば特に制限されるものではなく、さらに、水及び/又は溶媒を含有することが好ましい。式(I)で表される有機ケイ素化合物及び光感応性化合物としては、上述したものと同様である。紫外線硬化性化合物及び金属酸化物粒子も上述したものと同様であるが、金属酸化物粒子としては、粒径が0.05μm〜5μmのものが好ましい。
(Composition for forming organic-inorganic composite)
The organic-inorganic composite-forming composition of the present invention is
a) Formula (I)
R n SiX 4-n (I)
(In the formula, R represents an organic group in which a carbon atom is directly bonded to Si, X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. N represents 1 or 2, and when n is 2, each R is the same or different. And when the number of (4-n) is 2 or more, each X may be the same or different.)
b) At least one photosensitivity selected from the group consisting of metal chelate compounds, metal organic acid salt compounds, metal compounds having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups, hydrolysates thereof, and condensates thereof. Compound,
The composition is not particularly limited as long as it is a composition containing c) an ultraviolet curable compound and d) metal oxide particles having a particle diameter of 0.05 μm to 5 μm, and may further contain water and / or a solvent. preferable. The organosilicon compound and the photosensitive compound represented by the formula (I) are the same as those described above. The ultraviolet curable compound and the metal oxide particles are the same as those described above, but the metal oxide particles preferably have a particle size of 0.05 μm to 5 μm.

用いる溶媒としては、特に制限されるものではなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類;シクロヘキサン、シクロペンタン等の脂環族炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;メタノール、エタノール等のアルコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多価アルコール誘導体類;等が挙げられる。これらの溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。   The solvent to be used is not particularly limited. For example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as hexane and octane; alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and cyclopentane. Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; dimethyl sulfoxide And the like; alcohols such as methanol and ethanol; polyhydric alcohol derivatives such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monomethyl ether acetate; and the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

本発明の有機無機複合体形成用組成物中の固形分(有機ケイ素成分、光感応性化合物成分、紫外線硬化性化合物及び金属酸化物粒子)としては、1〜75質量%であることが好ましく、10〜60質量%であることがより好ましい。有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物、光感応性化合物、紫外線硬化性化合物及び金属酸化物粒子の全質量に対して、紫外線硬化性化合物は2〜98質量%、好ましくは5〜95質量%である。   The solid content (organosilicon component, photosensitive compound component, ultraviolet curable compound and metal oxide particles) in the organic-inorganic composite-forming composition of the present invention is preferably 1 to 75% by mass, More preferably, it is 10-60 mass%. The ultraviolet curable compound is 2 to 98% by mass, preferably 5 to 95% by mass with respect to the total mass of the organosilicon compound and / or its condensate, photosensitive compound, ultraviolet curable compound and metal oxide particles. is there.

光感応性化合物の含有量としては、その種類にもよるが、一般的に、有機ケイ素化合物中のSiに対して、光感応性化合物中の金属原子が0.01〜0.5モル当量、好ましくは0.05〜0.2モル当量であることが好ましい。   As the content of the photosensitive compound, although depending on the type, generally 0.01 to 0.5 molar equivalent of a metal atom in the photosensitive compound with respect to Si in the organosilicon compound, Preferably it is 0.05-0.2 molar equivalent.

本発明の有機無機複合体形成用組成物には、得られる塗膜の硬度向上を目的として4官能シランやコロイド状シリカを添加することもできる。4官能シランとしては、例えば、テトラアミノシラン、テトラクロロシラン、テトラアセトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラベンジロキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラ(メタ)アクリロキシシラン、テトラキス[2−(メタ)アクリロキシエトキシ]シラン、テトラキス(2−ビニロキシエトキシ)シラン、テトラグリシジロキシシラン、テトラキス(2−ビニロキシブトキシ)シラン、テトラキス(3−メチル−3−オキセタンメトキシ)シランを挙げることができる。また、コロイド状シリカとしては、水分散コロイド状シリカ、メタノールもしくはイソプロピルアルコールなどの有機溶媒分散コロイド状シリカを挙げることができる。   A tetrafunctional silane or colloidal silica can be added to the composition for forming an organic-inorganic composite of the present invention for the purpose of improving the hardness of the resulting coating film. Examples of the tetrafunctional silane include tetraaminosilane, tetrachlorosilane, tetraacetoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, tetrabenzyloxysilane, tetraphenoxysilane, tetra (meth) acryloxysilane, tetrakis [2 -(Meth) acryloxyethoxy] silane, tetrakis (2-vinyloxyethoxy) silane, tetraglycidyloxysilane, tetrakis (2-vinyloxybutoxy) silane, tetrakis (3-methyl-3-oxetanemethoxy) silane be able to. Examples of the colloidal silica include water-dispersed colloidal silica and organic solvent-dispersed colloidal silica such as methanol or isopropyl alcohol.

また、本発明の有機無機複合体形成用組成物には、得られる塗膜の着色、厚膜化、下地への紫外線透過防止、防蝕性の付与、耐熱性などの諸特性を発現させるために、別途、充填材を添加・分散させることも可能である。
この充填材としては、例えば有機顔料、無機顔料などの非水溶性の顔料または顔料以外の粒子状、繊維状もしくは鱗片状の金属および合金ならびにこれらの酸化物、水酸化物、炭化物、窒化物、硫化物などが挙げられる。この充填材の具体例としては、粒子状、繊維状もしくは鱗片状の鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、銀、亜鉛、フェライト、カーボンブラック、ステンレス鋼、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化コバルト、合成ムライト、水酸化アルミニウム、水酸化鉄、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、クレー、ケイソウ土、消石灰、石膏、タルク、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、ベントナイト、雲母、亜鉛緑、クロム緑、コバルト緑、ビリジアン、ギネー緑、コバルトクロム緑、シェーレ緑、緑土、マンガン緑、ピグメントグリーン、群青、紺青、岩群青、コバルト青、セルリアンブルー、ホウ酸銅、モリブデン青、硫化銅、コバルト紫、マルス紫、マンガン紫、ピグメントバイオレット、亜酸化鉛、鉛酸カルシウム、ジンクエロー、硫化鉛、クロム黄、黄土、カドミウム黄、ストロンチウム黄、チタン黄、リサージ、ピグメントエロー、亜酸化銅、カドミウム赤、セレン赤、クロムバーミリオン、ベンガラ、亜鉛白、アンチモン白、塩基性硫酸鉛、チタン白、リトポン、ケイ酸鉛、酸化ジルコン、タングステン白、鉛亜鉛華、バンチソン白、フタル酸鉛、マンガン白、硫酸鉛、黒鉛、ボーンブラック、ダイヤモンドブラック、サーマトミック黒、植物性黒、チタン酸カリウムウィスカー、二硫化モリブデンなどを挙げることができる。
In addition, in the composition for forming an organic-inorganic composite of the present invention, in order to express various properties such as coloring of the obtained coating film, thickening of the coating film, prevention of UV transmission to the base, imparting corrosion resistance, and heat resistance. It is also possible to add and disperse the filler separately.
Examples of the filler include water-insoluble pigments such as organic pigments and inorganic pigments, and particulate and fibrous or scale-like metals and alloys other than pigments, and oxides, hydroxides, carbides, nitrides thereof, and the like. Examples thereof include sulfides. Specific examples of this filler include particulate, fibrous or scale-like iron, copper, aluminum, nickel, silver, zinc, ferrite, carbon black, stainless steel, silicon dioxide, titanium oxide, aluminum oxide, chromium oxide, Manganese oxide, iron oxide, zirconium oxide, cobalt oxide, synthetic mullite, aluminum hydroxide, iron hydroxide, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, clay, diatomaceous earth, slaked lime, gypsum, talc, barium carbonate, calcium carbonate, carbonic acid Magnesium, Barium sulfate, Bentonite, Mica, Zinc green, Chromium green, Cobalt green, Viridian, Guinea green, Cobalt chrome green, Shale green, Green earth, Manganese green, Pigment green, Ultramarine, Bitumen, Rock ultramarine, Cobalt blue, Cerulean Blue, copper borate, molybdenum blue, copper sulfide, koval Purple, Mars Purple, Manganese Purple, Pigment Violet, Lead Oxide, Calcium Leadate, Zinc Yellow, Lead Sulfide, Chrome Yellow, Ocher, Cadmium Yellow, Strontium Yellow, Titanium Yellow, Resurge, Pigment Yellow, Cuprous Oxide, Cadmium Red, Selenium red, chrome vermilion, bengara, zinc white, antimony white, basic lead sulfate, titanium white, lithopone, lead silicate, zircon oxide, tungsten white, lead zinc white, bunchison white, lead phthalate, manganese white, sulfuric acid Examples thereof include lead, graphite, bone black, diamond black, thermostatic black, vegetable black, potassium titanate whisker, and molybdenum disulfide.

なお、本発明の有機無機複合体形成用組成物には、その他、オルトギ酸メチル、オルト酢酸メチル、テトラエトキシシランなどの公知の脱水剤、各種界面活性剤、前記以外のシランカップリング剤、チタンカップリング剤、染料、分散剤、増粘剤、レベリング剤などの添加剤を添加することもできる。   The composition for forming an organic-inorganic composite of the present invention includes other known dehydrating agents such as methyl orthoformate, methyl orthoacetate, tetraethoxysilane, various surfactants, silane coupling agents other than the above, titanium Additives such as coupling agents, dyes, dispersants, thickeners and leveling agents can also be added.

(有機無機複合体形成用組成物の調製方法)
本発明の有機無機複合体形成用組成物の調製方法としては、必要に応じて水及び/又は溶媒を加え、有機ケイ素化合物、光感応性化合物、紫外線硬化性化合物及び金属酸化物粒子を混合する。
(Method for preparing composition for forming organic-inorganic composite)
As a method for preparing the composition for forming an organic-inorganic composite of the present invention, water and / or a solvent are added as necessary, and an organic silicon compound, a photosensitive compound, an ultraviolet curable compound, and metal oxide particles are mixed. .

具体的には例えば、光感応性化合物を溶媒に混合し、所定量の水を加え、(部分)加水分解を行い、続いて、有機ケイ素化合物を添加して(部分)加水分解させる。一方、紫外線硬化性化合物を溶媒に溶解して光重合開始剤を添加し、その後、両溶液を混合する。
これら4成分は、同時に混合することもでき、また、有機ケイ素化合物と光感応性化合物の混合方法については、有機ケイ素化合物と光感応性化合物を混合した後に、水を加えて(部分)加水分解する方法や、有機ケイ素化合物及び光感応性化合物を別々に(部分)加水分解したものを混合する方法を挙げることができる。水や溶媒を加える必要は必ずしもないが、水を加えて(部分)加水分解物としておくことが好ましい。所定量の水の量としては、光感応性化合物の種類にもよるが、例えば、光感応性化合物が2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物の場合、金属化合物1モルに対して、0.5モル以上の水を用いることが好ましく、0.5〜2モルの水を用いることがより好ましい。また、光感応性化合物が金属キレート化合物又は金属有機酸塩化合物の場合、金属キレート化合物又は金属有機酸塩化合物1モルに対して、5〜100モルの水を用いることが好ましく、5〜20モルの水を用いることがより好ましい。
金属酸化物粒子の添加は、上記工程の最後に行うことができる。具体的には例えば、上記工程で調製された溶液に、直接粒子を添加しても、アルコール等の有機溶媒に分散させた後に添加してもよい。添加後、攪拌することで本発明の有機無機複合体形成用組成物とすることができる。
Specifically, for example, a photosensitive compound is mixed with a solvent, a predetermined amount of water is added, (partial) hydrolysis is performed, and then an organosilicon compound is added (partial) to hydrolyze. On the other hand, an ultraviolet curable compound is dissolved in a solvent, a photopolymerization initiator is added, and then both solutions are mixed.
These four components can be mixed at the same time. Also, regarding the method of mixing the organosilicon compound and the photosensitive compound, after mixing the organosilicon compound and the photosensitive compound, water is added (partial) hydrolysis. And a method of separately (partially) hydrolyzing an organosilicon compound and a photosensitive compound. It is not always necessary to add water or a solvent, but it is preferable to add (partly) a hydrolyzate by adding water. The amount of the predetermined amount of water depends on the type of the photosensitive compound. For example, when the photosensitive compound is a metal compound having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups, the amount of water is 1 mol of the metal compound. It is preferable to use 0.5 mol or more of water, and more preferably 0.5 to 2 mol of water. Further, when the photosensitive compound is a metal chelate compound or metal organic acid salt compound, it is preferable to use 5 to 100 mol of water with respect to 1 mol of the metal chelate compound or metal organic acid salt compound, and 5 to 20 mol. More preferably, the water is used.
The addition of metal oxide particles can be performed at the end of the above process. Specifically, for example, the particles may be added directly to the solution prepared in the above step or may be added after being dispersed in an organic solvent such as alcohol. It can be set as the composition for organic-inorganic composite formation of this invention by stirring after addition.

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明の技術的範囲はこれらの例示に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention more concretely, the technical scope of this invention is not limited to these illustrations.

[実施例1]
1.光感応性化合物の合成
ジイソプロポキシビスアセチルアセトナートチタン(日本曹達製、T−50、酸化チタン換算固形分量:16.5重量%)303.03gをエタノール/酢酸エチル(=50/50:重量%)の混合溶媒584.21gに溶解した後、攪拌しながらイオン交換水112.76g(10倍モル/酸化チタンのモル)を加えた。この溶液を40℃に加温しながら2時間攪拌し加水分解させた。次に溶液をろ過し、黄色透明な酸化チタン換算濃度5重量%の酸化チタンナノ分散液[A−1]を得た。酸化チタンの平均粒径は4.1nmで単分散性であった。
[Example 1]
1. Synthesis of Photosensitive Compound Diisopropoxybisacetylacetonate titanium (manufactured by Nippon Soda, T-50, solid content in terms of titanium oxide: 16.5% by weight) 303.03 g was ethanol / ethyl acetate (= 50/50: weight) %) Was dissolved in 584.21 g of mixed solvent, and 112.76 g of ion-exchanged water (10 times mol / mol of titanium oxide) was added with stirring. This solution was stirred for 2 hours while being heated to 40 ° C. to be hydrolyzed. Next, the solution was filtered to obtain a yellow transparent titanium oxide nano-dispersion [A-1] having a titanium oxide equivalent concentration of 5% by weight. The average particle size of titanium oxide was 4.1 nm and was monodispersed.

2.有機ケイ素化合物の調整
有機ケイ素化合物として、ビニルトリメトキシシラン179.91g[B−1](信越化学工業株式会社製、KBM−1003)と3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン301.55g[B−2](信越化学工業株式会社製、KBM−503)を(ビニルトリメトキシシラン/3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン=50/50:モル比)混合させた液[C−1]を使用した。
次に、元素比(Ti/Si=1/9)となるように[A−1]431.05gと[C−1]481.47gを混合し、さらに、イオン交換水を87.48g(2倍モル/有機ケイ素化合物のモル)を加え、70℃に加温し3時間攪拌した液[D−1]を作製した。
2. Preparation of organosilicon compound As an organosilicon compound, 179.91 g [B-1] of vinyltrimethoxysilane (KBE-1003, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 301.55 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane [B-2 ] Liquid [C-1] in which (vinyltrimethoxysilane / 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane = 50/50: molar ratio) (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-503) was mixed was used.
Next, 431.05 g of [A-1] and 481.47 g of [C-1] were mixed so that the element ratio (Ti / Si = 1/9) was obtained, and 87.48 g (2 2 mol / mol of organosilicon compound) was added, and the mixture was heated to 70 ° C. and stirred for 3 hours to prepare a liquid [D-1].

3.紫外線硬化性化合物溶液の調整
紫外線硬化性化合物として、ウレタンアクリレートオリゴマー(日本合成化学工業製、紫光UV7600B)を40重量%となるように、エタノール/酢酸エチル(=50/50:重量%)の混合溶媒に溶解させた。この溶液に光重合開始剤として、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン(チバ・スペシャリティケミカル製、Irgacure127)をウレタンアクリレートオリゴマーの固形分に対して4部加え、溶液[E−1]を作製した。
3. Preparation of UV curable compound solution Mixing ethanol / ethyl acetate (= 50/50: wt%) as UV curable compound, urethane acrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry, purple light UV7600B) to be 40 wt% Dissolved in solvent. As a photopolymerization initiator, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -phenyl} -2-methyl-propan-1-one (Ciba -4 parts of Irgacure 127) manufactured by Specialty Chemicals was added to the solid content of the urethane acrylate oligomer to prepare a solution [E-1].

4.有機無機複合体形成用組成物の調整
固形分の割合が70重量%/30重量%=[D−1]/[E−1]となるように上記[D−1]液732.57gと[E−1]液267.43gを混合させ、塗膜形成用溶液[F−1]を作製した。
4). Preparation of the composition for forming an organic-inorganic composite The above-mentioned [D-1] solution 732.57 g and [[D-1] / [E-1] so that the solid content ratio is 70% by weight / 30% by weight = [D-1] / [E-1]. The E-1] liquid 267.43g was mixed and the coating-film formation solution [F-1] was produced.

5.金属酸化物の添加
金属酸化物として、富士シリシア化学製SYLYSIA310P(平均粒径2.7μm凝集シリカ粉末)を、[F−1]の固形分に対して4重量%の割合で添加し分散させ[G−1]を作製した。
5). Addition of Metal Oxide As a metal oxide, SYLYSIA310P (average particle diameter of 2.7 μm agglomerated silica powder) manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd. was added and dispersed at a ratio of 4% by weight to the solid content of [F-1]. G-1] was produced.

[比較例1]
紫外線硬化性化合物として、ウレタンアクリレートオリゴマー(日本合成化学工業製、紫光UV7600B)を40重量%となるように、エタノール/酢酸エチル/2−ブタノール(=60/20/20:重量%)の混合溶媒に溶解させた。この溶液に光重合開始剤として、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、Darocure1173)をウレタンアクリレートオリゴマーの固形分に対して4重量%となるように溶解させ、溶液[E−2]を作製した。これに、金属酸化物として富士シリシア化学製SYLYSIA310P(平均粒径2.7μm凝集シリカ粉末)を、[E−2]の固形分に対して4重量%の割合で添加し分散させ[G−2]を作製した。
[Comparative Example 1]
As an ultraviolet curable compound, a mixed solvent of ethanol / ethyl acetate / 2-butanol (= 60/20/20:% by weight) of urethane acrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry, purple light UV7600B) so as to be 40% by weight. Dissolved in. As a photopolymerization initiator, 4-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (Darocure 1173, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) was added to this solution as a photopolymerization initiator in an amount of 4% by weight based on the solid content of the urethane acrylate oligomer. To obtain a solution [E-2]. SYLYSIA310P (average particle size: 2.7 μm agglomerated silica powder) manufactured by Fuji Silysia Chemical Co., Ltd. was added as a metal oxide in a proportion of 4% by weight with respect to the solid content of [E-2] and dispersed [G-2 ] Was produced.

[比較例2]
元素比(Ti/Si=1/9)となるように[A−1]453.09gと[C−1]454.95gを混合し、さらに、イオン交換水を91.96g(2倍モル/有機ケイ素化合物のモル)を加え、70℃に加温し3時間攪拌した液[D−1]を作製した。これに金属酸化物として、富士シリシア化学製SYLYSIA310P(平均粒径2.7μm凝集シリカ粉末)を、[D−1]の固形分に対して4重量%の割合で添加し分散させ[G−3]を作製した。
[Comparative Example 2]
[A-1] 453.09 g and [C-1] 454.95 g were mixed so that the element ratio (Ti / Si = 1/9) was obtained, and 91.96 g of ion-exchanged water (2 times mol / mol) was added. Mole of organosilicon compound) was added, and the solution [D-1] was heated to 70 ° C. and stirred for 3 hours. As a metal oxide, SYLYSIA310P (average particle size of 2.7 μm agglomerated silica powder) manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd. was added and dispersed at a ratio of 4% by weight to the solid content of [D-1] [G-3 ] Was produced.

(試験例A)
A−1.塗膜形成
塗膜形成用組成物[G−1〜3]をガラス基板にディップ製膜し、温風循環型乾燥器にて150℃、5分間加熱した。続いて、集光型高圧水銀灯(365nm、313nm、254nmの波長の光を主成分とするUV光、アイグラフィックス社製、1灯型、120W/cm、ランプ高9.8cm、コンベア速度5m/分)により、積算照射量2000mJ/cmの紫外線を照射して薄膜を得た。
(Test Example A)
A-1. Coating Film Formation A coating film forming composition [G-1 to 3] was dip-formed on a glass substrate and heated at 150 ° C. for 5 minutes in a hot air circulation dryer. Subsequently, a condensing type high-pressure mercury lamp (UV light mainly composed of 365 nm, 313 nm, and 254 nm wavelengths, manufactured by Eye Graphics, one lamp type, 120 W / cm, lamp height 9.8 cm, conveyor speed 5 m / Minutes), an ultraviolet ray with an integrated irradiation amount of 2000 mJ / cm 2 was irradiated to obtain a thin film.

A−2.鉛筆硬度
JIS K5600−5−4の鉛筆法に準拠して鉛筆硬度試験を行った。
A-2. Pencil hardness A pencil hardness test was performed in accordance with the pencil method of JIS K5600-5-4.

A−3.密着性
JIS K5600−5−6のクロスカット法に準拠して密着性試験を行った。剥離が見られないものを○、剥離が見られるものを×とした。
A-3. Adhesiveness An adhesiveness test was performed in accordance with the cross-cut method of JIS K5600-5-6. The case where peeling was not observed was marked with ◯, and the case where peeling was seen was marked with x.

A−4.アンチグレア性能
塗膜表面に反射した蛍光灯の輪郭が鮮明に見えるものを×、塗膜のアンチグレア効果により蛍光灯の輪郭がぼやけて見えるものを○とした。
A-4. Anti-glare performance The case where the outline of the fluorescent lamp reflected on the surface of the coating film was clearly visible was rated as x, and the case where the outline of the fluorescent lamp was blurred due to the anti-glare effect of the coating film was rated as ◯.

A−5.耐湿性
恒温恒湿槽(ナガノ科学機械製作所製LH−30)を温度60℃、湿度95%RHに設定し、槽内にて塗膜を1000時間静置させた。○:外観異常なし、×:剥離発生
A-5. Humidity resistance A constant temperature and humidity chamber (LH-30 manufactured by Nagano Kagaku Kikai Seisakusho) was set to a temperature of 60 ° C. and a humidity of 95% RH, and the coating film was allowed to stand for 1000 hours in the bath. ○: No abnormal appearance, ×: Peeling occurred

試験結果を下記表1に示す。   The test results are shown in Table 1 below.

Figure 2010202860
Figure 2010202860

[実施例2]
1.光感応性化合物の合成
ジイソプロポキシビスアセチルアセトナートチタン(日本曹達製、T−50、酸化チタン換算固形分量:16.5重量%)303.03gをエタノール/酢酸エチル/2−ブタノール(=60/20/20:重量%)の混合溶媒584.21gに溶解した後、攪拌しながらイオン交換水112.76g(10倍モル/酸化チタンのモル)を加えた。この溶液を40℃に加温しながら2時間攪拌し加水分解させた。次に溶液をろ過し、黄色透明な酸化チタン換算濃度5重量%の酸化チタンナノ分散液[A−1]を得た。酸化チタンの平均粒径は4.1nmで単分散性であった。
[Example 2]
1. Synthesis of Photosensitive Compound Diisopropoxybisacetylacetonatotitanium (manufactured by Nippon Soda, T-50, solid content in terms of titanium oxide: 16.5% by weight) 303.03 g was added to ethanol / ethyl acetate / 2-butanol (= 60 / 20/20: wt%) was dissolved in 584.21 g of mixed solvent, and 112.76 g of ion-exchanged water (10-fold mol / mol of titanium oxide) was added with stirring. This solution was stirred for 2 hours while being heated to 40 ° C. to be hydrolyzed. Next, the solution was filtered to obtain a yellow transparent titanium oxide nano-dispersion [A-1] having a titanium oxide equivalent concentration of 5% by weight. The average particle size of titanium oxide was 4.1 nm and was monodispersed.

2.有機ケイ素化合物の調整
有機ケイ素化合物として、ビニルトリメトキシシラン264.76g[B−1](信越化学工業株式会社製、KBM−1003)と3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン190.19g[B−2](信越化学工業株式会社製、KBM−503)を(ビニルトリメトキシシラン/3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン=70/30:モル比)混合させた液[C−2]を使用した。
次に、元素比(Ti/Si=1/9)となるように[A−1]453.09gと[C−2]454.95gを混合し、さらに、イオン交換水を91.96g(2倍モル/有機ケイ素化合物のモル)を加え、70℃に加温し3時間攪拌した液[D−2]を作製した。
2. Preparation of organosilicon compound As an organosilicon compound, 264.76 g [B-1] vinyltrimethoxysilane (KBE-1003, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 190.19 g 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane [B-2 The liquid [C-2] obtained by mixing (KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) (vinyltrimethoxysilane / 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane = 70/30: molar ratio) was used.
Next, [A-1] 453.09 g and [C-2] 454.95 g were mixed so that the element ratio (Ti / Si = 1/9) was obtained, and ion-exchanged water was further added to 91.96 g (2 2 mol / mol of organosilicon compound) was added, and the solution [D-2] was heated to 70 ° C. and stirred for 3 hours.

3.紫外線硬化性化合物溶液の調整
紫外線硬化性化合物として、ウレタンアクリレートオリゴマー(日本合成化学工業製、紫光UV7630B)を40重量%となるように、エタノール/酢酸エチル/2−ブタノール(=60/20/20:重量%)の混合溶媒に溶解させた。この溶液に光重合開始剤として、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、Darocure1173)をウレタンアクリレートオリゴマーの固形分に対して4重量%となるように溶解させ、溶液[E−3]を作製した。
3. Preparation of ultraviolet curable compound solution As an ultraviolet curable compound, ethanol / ethyl acetate / 2-butanol (= 60/20/20) was used so that urethane acrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry, purple light UV7630B) would be 40% by weight. : Wt%) mixed solvent. As a photopolymerization initiator, 4-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (Darocure 1173, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) was added to this solution as a photopolymerization initiator in an amount of 4% by weight based on the solid content of the urethane acrylate oligomer. To obtain a solution [E-3].

4.有機無機複合体形成用組成物の調整
固形分の割合が10重量%/90重量%=[D−2]/[E−3]となるように上記[D−2]液と[E−3]液を混合させ、塗膜形成用溶液[F−2]を作製した。
4). Preparation of composition for forming organic-inorganic composite [D-2] solution and [E-3] so that the solid content ratio is 10% by weight / 90% by weight = [D-2] / [E-3] ] Solution was mixed to prepare a coating film forming solution [F-2].

5.金属酸化物の添加
金属酸化物として、富士シリシア化学製SYLYSIA310P(平均粒径2.7μm凝集シリカ粉末)を、[F−2]の固形分に対して4重量%の割合で添加し分散させ[G−4]を作製した。
5). Addition of Metal Oxide As a metal oxide, SYLYSIA310P (average particle diameter of 2.7 μm agglomerated silica powder) manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd. was added and dispersed at a ratio of 4% by weight to the solid content of [F-2]. G-4] was produced.

[比較例3]
金属酸化物として、富士シリシア化学製SYLYSIA310P(平均粒径2.7μm凝集シリカ粉末)を、[F−2]の固形分に対して1重量%の割合で添加し分散させ[G−5]を作製した。
[Comparative Example 3]
As a metal oxide, SYLYSIA310P (average particle size of 2.7 μm agglomerated silica powder) manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd. was added and dispersed at a ratio of 1% by weight with respect to the solid content of [F-2], and [G-5] was dispersed. Produced.

(試験例B)
B−1.塗膜形成
塗膜形成用組成物[G−4]を厚さ188μmのPETフィルム(東洋紡製コスモシャインA4300)にバーコータにて製膜し、温風循環型乾燥器にて60℃、3分間加熱した。続いて、集光型高圧水銀灯(365nm、313nm、254nmの波長の光を主成分とするUV光、アイグラフィックス社製、1灯型、120W/cm、ランプ高9.8cm、コンベア速度5m/分)により、積算照射量300mJ/cmの紫外線を照射して薄膜を得た。
(Test Example B)
B-1. Coating Film Formation The coating film forming composition [G-4] was formed on a 188 μm thick PET film (Toyobo Cosmo Shine A4300) with a bar coater and heated at 60 ° C. for 3 minutes in a hot air circulation dryer. did. Subsequently, a condensing type high-pressure mercury lamp (UV light mainly composed of 365 nm, 313 nm, and 254 nm wavelengths, manufactured by Eye Graphics, one lamp type, 120 W / cm, lamp height 9.8 cm, conveyor speed 5 m / Min), a thin film was obtained by irradiating ultraviolet rays with an integrated dose of 300 mJ / cm 2 .

B−2.密着性
JIS K5600−5−6のクロスカット法に準拠して密着性試験を行った。剥離が見られないものを○、剥離が見られるものを×とした。
B-2. Adhesiveness An adhesiveness test was performed in accordance with the cross-cut method of JIS K5600-5-6. The case where peeling was not observed was marked with ◯, and the case where peeling was seen was marked with x.

B−3.アンチニュートンリング性能
製膜したPETフィルムを、塗工面がガラス基板と向き合うように貼り合わせ、身塗工面側からPETフィルムを指で押し、密着させた。この部分を3波長型蛍光灯の下で観察し、ニュートンリングが発生したものを×、ニュートンリングが見えないものを○とした。
B-3. Anti-Newton ring performance The formed PET film was bonded so that the coated surface faced the glass substrate, and the PET film was pressed from the body coated surface side with a finger to be in close contact. This portion was observed under a three-wavelength fluorescent lamp. The case where Newton's ring was generated was indicated as x, and the case where Newton's ring was not visible was indicated as ○.

試験結果を下記表2に示す。   The test results are shown in Table 2 below.

Figure 2010202860
Figure 2010202860

[実施例3]
金属酸化物として、富士シリシア化学製SYLYSIA310P(平均粒径2.7μm凝集シリカ粉末)を[F−2]の固形分に対して2重量%の割合で添加した以外は実施例2と同様にしてコーティング剤[G−6]を得た。
[Example 3]
As a metal oxide, SYLYSIA310P (average particle size: 2.7 μm agglomerated silica powder) manufactured by Fuji Silysia Chemical Co. was added in the same manner as in Example 2 except that it was added at a ratio of 2% by weight to the solid content of [F-2]. Coating agent [G-6] was obtained.

[実施例4]
金属酸化物として、富士シリシア化学製SYLYSIA310P(平均粒径2.7μm凝集シリカ粉末)を[F−2]の固形分に対して5重量%の割合で添加した以外は実施例2と同様にしてコーティング剤[G−7]を得た。
[Example 4]
As a metal oxide, SYLYSIA310P (average particle size of 2.7 μm agglomerated silica powder) manufactured by Fuji Silysia Chemical Co. was added in the same manner as in Example 2 except that it was added at a ratio of 5% by weight to the solid content of [F-2]. Coating agent [G-7] was obtained.

[比較例4]
金属酸化物として、富士シリシア化学製SYLYSIA310P(平均粒径2.7μm凝集シリカ粉末)を[F−2]の固形分に対して1重量%の割合で添加した以外は実施例2と同様にしてコーティング剤[G−8]を得た。
[Comparative Example 4]
As a metal oxide, SYLYSIA310P (average particle size of 2.7 μm agglomerated silica powder) manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd. was added in the same manner as in Example 2 except that it was added at a ratio of 1% by weight to the solid content of [F-2]. Coating agent [G-8] was obtained.

(試験例C)
C−1.塗膜形成
塗膜形成用組成物[G−4]を厚さ188μmのPETフィルム(東洋紡製コスモシャインA4300)にバーコータにて製膜し、温風循環型乾燥器にて60℃、3分間加熱した。続いて、集光型高圧水銀灯(365nm、313nm、254nmの波長の光を主成分とするUV光、アイグラフィックス社製、1灯型、120W/cm、ランプ高9.8cm、コンベア速度5m/分)により、積算照射量300mJ/cmの紫外線を照射して薄膜を得た。
(Test Example C)
C-1. Coating Film Formation The coating film forming composition [G-4] was formed on a 188 μm thick PET film (Toyobo Cosmo Shine A4300) with a bar coater and heated at 60 ° C. for 3 minutes in a hot air circulation dryer. did. Subsequently, a condensing type high-pressure mercury lamp (UV light mainly composed of 365 nm, 313 nm, and 254 nm wavelengths, manufactured by Eye Graphics, one lamp type, 120 W / cm, lamp height 9.8 cm, conveyor speed 5 m / Min), a thin film was obtained by irradiating ultraviolet rays with an integrated dose of 300 mJ / cm 2 .

C−2.10点平均粗さの測定
セイコーインスツルメンツ社製走査型プローブ顕微鏡「SPI3800N(SPA400)」を用いて、得られた塗膜の表面形状を観察した。
C-2. Measurement of 10-point Average Roughness The surface shape of the obtained coating film was observed using a scanning probe microscope “SPI3800N (SPA400)” manufactured by Seiko Instruments Inc.

試験結果を下記表3に示す。   The test results are shown in Table 3 below.

Figure 2010202860
Figure 2010202860

[参考例]
塗膜の形成:塗膜形成用組成物[G−3]を厚さ1.1mmのソーダライムガラス基板にディップコートを用いて製膜した。この時、ディップ引上速度は10〜100cm/minの間で設定した。この塗膜を温風循環型乾燥器にて150℃、3分間加熱した。続いて、集光型高圧水銀灯(365nm、313nm、254nmの波長の光を主成分とするUV光、アイグラフィックス社製、1灯型、120W/cm、ランプ高9.8cm、コンベア速度5m/分)により、積算照射量2000mJ/cmの紫外線を照射して薄膜を得た。
10点平均粗さの測定:セイコーインスツルメンツ社製走査型プローブ顕微鏡「SPI3800N(SPA400)」を用いて、得られた塗膜の表面形状を観察した。
[Reference example]
Formation of coating film: The coating film forming composition [G-3] was formed on a soda-lime glass substrate having a thickness of 1.1 mm by using dip coating. At this time, the dip pulling speed was set between 10 and 100 cm / min. This coating film was heated at 150 ° C. for 3 minutes in a hot air circulation dryer. Subsequently, a condensing type high-pressure mercury lamp (UV light mainly composed of 365 nm, 313 nm, and 254 nm wavelengths, manufactured by Eye Graphics, one lamp type, 120 W / cm, lamp height 9.8 cm, conveyor speed 5 m / Minutes), an ultraviolet ray with an integrated irradiation amount of 2000 mJ / cm 2 was irradiated to obtain a thin film.
Measurement of 10-point average roughness: The surface shape of the obtained coating film was observed using a scanning probe microscope “SPI3800N (SPA400)” manufactured by Seiko Instruments Inc.

試験結果を下記表4に示す。   The test results are shown in Table 4 below.

Figure 2010202860
Figure 2010202860

[実施例5]
1.光感応性化合物の合成
ジイソプロポキシビスアセチルアセトナートチタン(日本曹達製、T−50、酸化チタン換算固形分量:16.5重量%)303.03gをエタノール584.21gに溶解した後、攪拌しながらイオン交換水112.76g(10倍モル/酸化チタンのモル)を加えた。この溶液を40℃に加温しながら2時間攪拌し加水分解させた。次に溶液をろ過し、黄色透明な酸化チタン換算濃度5重量%の酸化チタンナノ分散液[A−2]を得た。酸化チタンの平均粒径は4.1nmで単分散性であった。
[Example 5]
1. Synthesis of Photosensitive Compound Diisopropoxybisacetylacetonate titanium (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., T-50, solid content in terms of titanium oxide: 16.5% by weight) was dissolved in 304.23 g of ethanol and then stirred. Then, 112.76 g of ion-exchanged water (10-fold mol / mol of titanium oxide) was added. This solution was stirred for 2 hours while being heated to 40 ° C. to be hydrolyzed. Next, the solution was filtered to obtain a yellow transparent titanium oxide nano-dispersion [A-2] having a titanium oxide equivalent concentration of 5% by weight. The average particle size of titanium oxide was 4.1 nm and was monodispersed.

2.有機ケイ素化合物の調整
有機ケイ素化合物として、ビニルトリメトキシシラン264.76g[B−1](信越化学工業株式会社製、KBM−1003)と3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン190.19g[B−2](信越化学工業株式会社製、KBM−503)を(ビニルトリメトキシシラン/3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン=70/30:モル比)混合させた液[C−2]を使用した。
次に、元素比(Ti/Si=1/9)となるように[A−2]453.09gと[C−2]454.95gを混合し、さらに、イオン交換水を91.96g(2倍モル/有機ケイ素化合物のモル)を加え、24時間攪拌した液[D−3]を作製した。
2. Preparation of organosilicon compound As an organosilicon compound, 264.76 g [B-1] vinyltrimethoxysilane (KBE-1003, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 190.19 g 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane [B-2 The liquid [C-2] obtained by mixing (KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) (vinyltrimethoxysilane / 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane = 70/30: molar ratio) was used.
Next, [A-2] 453.09 g and [C-2] 454.95 g were mixed so that the element ratio (Ti / Si = 1/9) was obtained, and ion-exchanged water was further added to 91.96 g (2 The liquid [D-3] was prepared by adding 24 moles / mole of the organosilicon compound and stirring for 24 hours.

3.紫外線硬化性化合物溶液の調整
紫外線硬化性化合物として、ウレタンアクリレートオリゴマー(日本合成化学工業製、紫光UV7600B)を40重量%となるように、メチルイソブチルケトンに溶解させた。この溶液に光重合開始剤として、チバ・スペシャリティケミカル製Irgacure907をウレタンアクリレートオリゴマーの固形分に対して4部加え、溶液[E−1]を作製した。
3. Preparation of UV curable compound solution As an UV curable compound, urethane acrylate oligomer (manufactured by Nippon Gosei Kagaku Kogyo, purple light UV7600B) was dissolved in methyl isobutyl ketone so as to be 40% by weight. As a photopolymerization initiator, 4 parts of Irgacure 907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals was added to this solution based on the solid content of the urethane acrylate oligomer to prepare a solution [E-1].

4.有機無機複合体形成用組成物の調整
固形分の割合が10重量%/90重量%=[D−3]/[E−1]となるように上記[D−3]液と[E−1]液を混合させ、塗膜形成用溶液[F−3]を作製した。
4). Preparation of composition for forming organic-inorganic composite [D-3] and [E-1] so that the solid content ratio is 10% by weight / 90% by weight = [D-3] / [E-1] ] Solution was mixed to prepare a coating film forming solution [F-3].

5.金属酸化物の添加
金属酸化物として、日産化学工業製SiO分散ゾルIPA−ST−ZL(平均粒径0.07μm−0.1μm)を、[F−3]の固形分に対して20重量%の割合で添加し分散させ[G−9]を作製した。
5). Addition of Metal Oxide As a metal oxide, SiO 2 dispersion sol IPA-ST-ZL (average particle size 0.07 μm-0.1 μm) manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., 20 wt.% Relative to the solid content of [F-3] % Was added and dispersed to prepare [G-9].

[比較例5]
紫外線硬化性化合物として、ウレタンアクリレートオリゴマー(日本合成化学工業製、紫光UV7600B)を40重量%となるように、メチルイソブチルケトンに溶解させた。この溶液に光重合開始剤として、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製、Darocure907をウレタンアクリレートオリゴマーの固形分に対して4部加え、溶液[E−1]を作製した。これに、金属酸化物として、日産化学工業製SiO分散ゾルIPA−ST−ZL(平均粒径0.07μm−0.1μm)を、[F−3]の固形分に対して30重量%の割合で添加し分散させ[G−10]を作製した。
[Comparative Example 5]
As an ultraviolet curable compound, urethane acrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry, purple light UV7600B) was dissolved in methyl isobutyl ketone so as to be 40% by weight. As a photopolymerization initiator, 4 parts of Darocure 907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals was added to the solid content of the urethane acrylate oligomer as a photopolymerization initiator to prepare a solution [E-1]. To this, as a metal oxide, SiO 2 dispersion sol IPA-ST-ZL (average particle size 0.07 μm-0.1 μm) manufactured by Nissan Chemical Industries, 30 wt% relative to the solid content of [F-3] [G-10] was prepared by adding and dispersing at a ratio.

(試験例D)
D−1.塗膜形成
塗膜形成用組成物[G−9]を厚さ188μmのPETフィルム(東洋紡製コスモシャインA4300)にバーコーターにて成膜し、温風循環型乾燥器にて100℃、3分間加熱した。続いて、集光型高圧水銀灯(365nm、313nm、254nmの波長の光を主成分とするUV光、アイグラフィックス社製、120W/cm、ランプ高9.8cm、コンベア速度5m/分)により、積算照射量350mJ/cmの紫外線を照射して薄膜を得た。
D−2.鉛筆硬度
JIS K5600−5−4の鉛筆法に準拠して鉛筆硬度試験を行った。
D−3.耐擦傷性
スチールウール♯0000(商品名:ボンスター 日本スチールウール製)を用い、荷重200gをかけ、塗膜表面を20回擦過した後の傷を評価した。
D−4.ヘイズ率
塗膜のヘイズ率を、ヘイズメーター(日本電色工業製)を用いて測定した。
D−5.平面粗さ
光干渉方式を用いた三次元非接触表面形状計測システム(菱化システム製)を用いて塗膜表面を観察し、算出された10点平均粗さRZJISを使用した。
(Test Example D)
D-1. Coating Film Formation The coating film forming composition [G-9] was formed on a PET film (Toyobo Cosmo Shine A4300) having a thickness of 188 μm with a bar coater, and heated at 100 ° C. for 3 minutes with a hot air circulation dryer. Heated. Subsequently, by a condensing high-pressure mercury lamp (UV light mainly composed of light of 365 nm, 313 nm, and 254 nm, manufactured by Eye Graphics, 120 W / cm, lamp height 9.8 cm, conveyor speed 5 m / min), A thin film was obtained by irradiating with an ultraviolet ray having an integrated irradiation amount of 350 mJ / cm 2 .
D-2. Pencil hardness A pencil hardness test was performed in accordance with the pencil method of JIS K5600-5-4.
D-3. Scratch resistance Steel wool # 0000 (trade name: Bonstar Nippon Steel Wool) was used, and a load of 200 g was applied, and the scratches after rubbing the surface of the coating film 20 times were evaluated.
D-4. Haze rate The haze rate of the coating film was measured using a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
D-5. Planar roughness The surface of the coating film was observed using a three-dimensional non-contact surface shape measurement system (manufactured by Ryoka System) using an optical interference method, and the calculated 10-point average roughness R ZJIS was used.

試験結果を下記表5に示す。   The test results are shown in Table 5 below.

Figure 2010202860
Figure 2010202860

Claims (13)

a)式(I)
SiX4−n・・・(I)
(式中、RはSiに炭素原子が直接結合する有機基を表し、Xは水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき各Rは同一でも異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき各Xは同一でも異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物、
b)金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物及び/又はそれから誘導される化合物、
c)紫外線硬化性化合物の硬化物、及び
d)金属酸化物粒子
を含有する有機無機複合体であって、該有機無機複合体表面の10点平均粗さが0.1μm〜5μmであることを特徴とする有機無機複合体。
a) Formula (I)
R n SiX 4-n (I)
(In the formula, R represents an organic group in which a carbon atom is directly bonded to Si, X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. N represents 1 or 2, and when n is 2, each R is the same or different. And each X may be the same or different when (4-n) is 2 or more.)
b) At least one 350 nm or less selected from the group consisting of metal chelate compounds, metal organic acid salt compounds, metal compounds having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups, hydrolysates thereof, and condensates thereof. A light-sensitive compound that is sensitive to light of a wavelength and / or a compound derived therefrom,
c) an organic-inorganic composite containing a cured product of an ultraviolet curable compound, and d) metal oxide particles, wherein the 10-point average roughness of the surface of the organic-inorganic composite is 0.1 μm to 5 μm. A characteristic organic-inorganic composite.
有機無機複合体表面の炭素含有量が、裏面側の炭素含有量の80%以下であることを特徴とする、請求項1に記載の有機無機複合体。 The organic-inorganic composite according to claim 1, wherein the carbon content on the surface of the organic-inorganic composite is 80% or less of the carbon content on the back surface side. b)の化合物における金属が、Ti、Al、Zr又はSnであることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機無機複合体。 The organic-inorganic composite according to claim 1 or 2, wherein the metal in the compound of b) is Ti, Al, Zr or Sn. c)の紫外線硬化性化合物が、(メタ)アクリレート系紫外線硬化性化合物であることを特徴とする請求項1〜3に記載の有機無機複合体。 The organic-inorganic composite according to claim 1, wherein the ultraviolet curable compound of c) is a (meth) acrylate-based ultraviolet curable compound. d)の金属酸化物粒子が多孔質粉末であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の有機無機複合体。 The organic-inorganic composite according to any one of claims 1 to 4, wherein the metal oxide particles of d) are porous powders. d)の金属酸化物粒子の一次粒子径が0.05μm〜0.2μmであることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の有機無機複合体。 The organic-inorganic composite according to any one of claims 1 to 4, wherein the primary particle diameter of the metal oxide particles of d) is 0.05 µm to 0.2 µm. a)式(I)
SiX4−n・・・(I)
(式中、RはSiに炭素原子が直接結合する有機基を表し、Xは水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表し、nが2のとき各Rは同一でも異なっていてもよく、(4−n)が2以上のとき各Xは同一でも異なっていてもよい。)で表される有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物、
b)金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物、
c)紫外線硬化性化合物、及び
d)粒径0.05μm〜5μmの金属酸化物粒子
を含有することを特徴とする、有機無機複合体形成用組成物。
a) Formula (I)
R n SiX 4-n (I)
(In the formula, R represents an organic group in which a carbon atom is directly bonded to Si, X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. N represents 1 or 2, and when n is 2, each R is the same or different. And when the number of (4-n) is 2 or more, each X may be the same or different.)
b) At least one 350 nm or less selected from the group consisting of metal chelate compounds, metal organic acid salt compounds, metal compounds having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups, hydrolysates thereof, and condensates thereof. A light-sensitive compound that is sensitive to light of a wavelength;
An organic-inorganic composite-forming composition comprising: c) an ultraviolet curable compound; and d) metal oxide particles having a particle size of 0.05 μm to 5 μm.
b)の化合物における金属が、Ti、Al、Zr又はSnであることを特徴とする請求項7に記載の有機無機複合体形成用組成物。 The composition for forming an organic-inorganic composite according to claim 7, wherein the metal in the compound of b) is Ti, Al, Zr or Sn. 有機ケイ素化合物及び/又はその縮合物、光感応性化合物、紫外線硬化性化合物及び金属酸化物粒子の全質量に対して、紫外線硬化性化合物が2〜98質量%であることを特徴とする請求項7又は8に記載の有機無機複合体形成用組成物。 The ultraviolet curable compound is 2 to 98% by mass with respect to the total mass of the organosilicon compound and / or condensate thereof, the photosensitive compound, the ultraviolet curable compound and the metal oxide particles. The composition for forming an organic-inorganic composite according to 7 or 8. d)の金属酸化物粒子が多孔質粉末であることを特徴とする、請求項7〜9のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物。 The composition for forming an organic-inorganic composite according to any one of claims 7 to 9, wherein the metal oxide particles of d) are porous powders. d)の金属酸化物粒子の一次粒子径が0.05μm〜0.2μmであることを特徴とする、請求項7〜9のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物。
The composition for forming an organic-inorganic composite according to any one of claims 7 to 9, wherein the primary particle diameter of the metal oxide particles of d) is 0.05 µm to 0.2 µm.
有機無機複合体が、アンチグレア膜又はアンチニュートンリング膜であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の有機無機複合体。 The organic-inorganic composite according to any one of claims 1 to 6, wherein the organic-inorganic composite is an antiglare film or an anti-Newton ring film. 有機無機複合体形成用組成物が、アンチグレア膜又はアンチニュートンリング膜用組成物であることを特徴とする、請求項7〜11のいずれかに記載の有機無機複合体形成用組成物。 The composition for forming an organic-inorganic complex according to any one of claims 7 to 11, wherein the composition for forming an organic-inorganic complex is a composition for an antiglare film or an anti-Newton ring film.
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