JP2010201292A - ガス吸着剤、ガス分離用成形体及びガス分離法 - Google Patents
ガス吸着剤、ガス分離用成形体及びガス分離法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010201292A JP2010201292A JP2009046927A JP2009046927A JP2010201292A JP 2010201292 A JP2010201292 A JP 2010201292A JP 2009046927 A JP2009046927 A JP 2009046927A JP 2009046927 A JP2009046927 A JP 2009046927A JP 2010201292 A JP2010201292 A JP 2010201292A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- dicarboxylic acid
- group
- nitrogen
- complex
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 title claims abstract description 27
- 238000000926 separation method Methods 0.000 title claims description 21
- 238000000465 moulding Methods 0.000 title 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 90
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 33
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 25
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 18
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 15
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 13
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 9
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 8
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 6
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- -1 phenoxy, benzyl Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- OEUSNWDYXDEXDR-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrrole-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C=1C=CNC=1C(O)=O OEUSNWDYXDEXDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims description 4
- ZUCRGHABDDWQPY-UHFFFAOYSA-N pyrazine-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=NC=CN=C1C(O)=O ZUCRGHABDDWQPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GJAWHXHKYYXBSV-UHFFFAOYSA-N quinolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CN=C1C(O)=O GJAWHXHKYYXBSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- CQZDWYYGOZOTHY-UHFFFAOYSA-N quinoxaline-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2N=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=NC2=C1 CQZDWYYGOZOTHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 3
- VHTCWHUBWLWXSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-oxazole-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CON=C1C(O)=O VHTCWHUBWLWXSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DTOGINXCXXELIV-UHFFFAOYSA-N 1,2-thiazole-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CSN=C1C(O)=O DTOGINXCXXELIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HGLWXCCDDUTCPM-UHFFFAOYSA-N 1,3-oxazole-4,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C=1N=COC=1C(O)=O HGLWXCCDDUTCPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HFHARFNUBJTTGI-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazole-4,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C=1N=CSC=1C(O)=O HFHARFNUBJTTGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZEVWQFWTGHFIDH-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazole-4,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C=1N=CNC=1C(O)=O ZEVWQFWTGHFIDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MBNROFBGTNXXMX-UHFFFAOYSA-N 1h-indole-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(O)=O)=C(C(=O)O)NC2=C1 MBNROFBGTNXXMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IKTPUTARUKSCDG-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrazole-4,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C=1C=NNC=1C(O)=O IKTPUTARUKSCDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 2
- HLLIGHFYGRNAQN-UHFFFAOYSA-N isoquinoline-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1=NC(=C(C2=CC=CC=C12)C(=O)O)C(=O)O HLLIGHFYGRNAQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 2
- RDQWJNPUOHXYCV-UHFFFAOYSA-N pyridazine-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=NN=C1C(O)=O RDQWJNPUOHXYCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HZMKWGOYWYBPRV-UHFFFAOYSA-N pyrimidine-4,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CN=CN=C1C(O)=O HZMKWGOYWYBPRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YHUVMHKAHWKQBI-UHFFFAOYSA-N quinoline-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2N=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 YHUVMHKAHWKQBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims 3
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 abstract 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 abstract 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 abstract 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 38
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 12
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 9
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 9
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 9
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFDVABAUFQJWEZ-UHFFFAOYSA-N 3-pyridin-3-ylpyridine Chemical group C1=CN=CC(C=2C=NC=CC=2)=C1 OFDVABAUFQJWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWVTWFVJZLCBMC-UHFFFAOYSA-N 4,4'-bipyridine Chemical group C1=NC=CC(C=2C=CN=CC=2)=C1 MWVTWFVJZLCBMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N but-1-yne Chemical compound CCC#C KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 229910001872 inorganic gas Inorganic materials 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLBAYUMRQUHISI-UHFFFAOYSA-N 1,8-naphthyridine Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CN=C21 FLBAYUMRQUHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropan-1-one Chemical group CC(C)(C)[C]=O YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQSMIIJCRWDMDL-UHFFFAOYSA-N 3,6-dipyridin-4-yl-1,2,4,5-tetrazine Chemical compound C1=NC=CC(C=2N=NC(=NN=2)C=2C=CN=CC=2)=C1 MQSMIIJCRWDMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005169 Debye-Scherrer Methods 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;molecular oxygen Chemical compound O=O.O=C=O UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000000155 in situ X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N isothiazole Chemical compound C=1C=NSC=1 ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N isoxazole Chemical compound C=1C=NOC=1 CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical compound C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N quinazoline Chemical compound N1=CN=CC2=CC=CC=C21 JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E50/00—Technologies for the production of fuel of non-fossil origin
- Y02E50/30—Fuel from waste, e.g. synthetic alcohol or diesel
Landscapes
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
【課題】温度などの外的刺激によって細孔構造変化を誘起できる錯体を提供する。
【解決手段】多孔性有機金属錯体をガス吸着成分として含み、前記錯体が温度を上昇させたときにガスをより多く吸着する性質を有することを特徴とするガス吸着剤。
【選択図】図1
【解決手段】多孔性有機金属錯体をガス吸着成分として含み、前記錯体が温度を上昇させたときにガスをより多く吸着する性質を有することを特徴とするガス吸着剤。
【選択図】図1
Description
本発明はガス吸着剤に関し、詳しくは、温度に依存して動的構造変化可能なガス吸着剤に関する。また、本発明はガス吸着剤を用いたガス分離用成形体及びガス分離法に関する。
なお、本明細書において、CPL-11は[Cu2(pzdc)2bptz](pzdc=ピラジンジカルボン酸、bptz＝3,6-ビス(4-ピリジル)-1,2,4,5-テトラジン)を意味する。
金属イオンと有機架橋配位子で合成される多孔性金属錯体の中にはガス分子を吸着に応答して構造が変化する非常に柔らかなフレームワークを有するものが報告されている(特許文献１)
一方、ゲスト分子以外の外的環境に応答して構造が変化するものはほとんど知られていない。
一方、ゲスト分子以外の外的環境に応答して構造が変化するものはほとんど知られていない。
もし、温度や光などの外的刺激によって細孔構造変化を誘起することができれば、ゲスト分子吸着を自在に制御可能になる。
本発明は、細孔構造変化を外的刺激により変化可能であって、ゲスト分子吸着を自在に制御可能な多孔性錯体を提供することを目的とする。
また、本発明はこのような錯体を用いたガス分離用成形体及びガス分離法を提供することを目的とする。
本発明者は、上記課題に鑑み検討を重ねた結果、特定の錯体が温度に依存して優れたガス吸着性能を有し、その吸着に適した構造をとり得ることを見出し、本発明を完成した。
本発明は、以下のガス吸着剤、ガス分離用成形体及びガス分離法を提供するものである。
項１． 多孔性有機金属錯体をガス吸着成分として含み、前記錯体が温度を上昇させたときにガスをより多く吸着する性質を有することを特徴とするガス吸着剤。
項２． 前記錯体により吸着分離されるガスが希ガス以外のガスである項１に記載のガス吸着剤。
項３． 前記錯体により吸着分離されるガスがＣＯ２，ＣＣｌ４，Ｏ２またはＮ２である項１または２に記載のガス吸着剤。
項４． 前記温度依存性の多孔性有機金属錯体は、金属イオン、含窒素芳香族多価カルボン酸配位子及び含窒素又は含リン芳香族二価配位子から構成され、前記含窒素芳香族多価カルボン酸配位子の窒素原子と２つのカルボン酸基が前記金属イオンに平面で配位し、前記含窒素又は含リン芳香族二価配位子が前記金属イオンにアキシャル方向から配位し、かつ、前記錯体の孔の大きさが温度に依存して変化することを特徴とする、項１〜３のいずれかに記載のガス吸着剤。
項５． 前記含窒素芳香族多価カルボン酸配位子が、ピラジン−２，３-ジカルボン酸、ピリジン−２，３-ジカルボン酸、ピロール−２，３-ジカルボン酸、チアゾール−４，５-ジカルボン酸、イソチアゾール−３，４-ジカルボン酸、オキサゾール−４，５-ジカルボン酸、イソオキサゾール−３，４-ジカルボン酸、イミダゾール−４，５-ジカルボン酸、ピラゾール−３，４-ジカルボン酸、ピリミジン−４，５-ジカルボン酸、ピリダジン−３，４-ジカルボン酸、インドール−２，３-ジカルボン酸、キノリン−２，３-ジカルボン酸、イソキノリン−３，４-ジカルボン酸、キノキサリン−２，３-ジカルボン酸、ナフチリジン−２，３-ジカルボン酸からなる群から選ばれる、項１〜４のいずれかに記載のガス吸着剤。
項６． 前記含窒素又は含リン芳香族二価配位子が、下記式(7)〜(10)
項１． 多孔性有機金属錯体をガス吸着成分として含み、前記錯体が温度を上昇させたときにガスをより多く吸着する性質を有することを特徴とするガス吸着剤。
項２． 前記錯体により吸着分離されるガスが希ガス以外のガスである項１に記載のガス吸着剤。
項３． 前記錯体により吸着分離されるガスがＣＯ２，ＣＣｌ４，Ｏ２またはＮ２である項１または２に記載のガス吸着剤。
項４． 前記温度依存性の多孔性有機金属錯体は、金属イオン、含窒素芳香族多価カルボン酸配位子及び含窒素又は含リン芳香族二価配位子から構成され、前記含窒素芳香族多価カルボン酸配位子の窒素原子と２つのカルボン酸基が前記金属イオンに平面で配位し、前記含窒素又は含リン芳香族二価配位子が前記金属イオンにアキシャル方向から配位し、かつ、前記錯体の孔の大きさが温度に依存して変化することを特徴とする、項１〜３のいずれかに記載のガス吸着剤。
項５． 前記含窒素芳香族多価カルボン酸配位子が、ピラジン−２，３-ジカルボン酸、ピリジン−２，３-ジカルボン酸、ピロール−２，３-ジカルボン酸、チアゾール−４，５-ジカルボン酸、イソチアゾール−３，４-ジカルボン酸、オキサゾール−４，５-ジカルボン酸、イソオキサゾール−３，４-ジカルボン酸、イミダゾール−４，５-ジカルボン酸、ピラゾール−３，４-ジカルボン酸、ピリミジン−４，５-ジカルボン酸、ピリダジン−３，４-ジカルボン酸、インドール−２，３-ジカルボン酸、キノリン−２，３-ジカルボン酸、イソキノリン−３，４-ジカルボン酸、キノキサリン−２，３-ジカルボン酸、ナフチリジン−２，３-ジカルボン酸からなる群から選ばれる、項１〜４のいずれかに記載のガス吸着剤。
項６． 前記含窒素又は含リン芳香族二価配位子が、下記式(7)〜(10)
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ６同一又は異なってアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルカノイル基、ヒドロキシアルキル基、フェニル基、フェノキシ、ベンジル、フェネチル、ＣＯＯＨ，ＣＮまたはＮＯ２である。
Ｒ３、Ｒ５、Ｒ７は、２つの環をつなぐ結合を示すか、２つの結合が直線上に存在する基もしくは−CH=CH−、−CH=CH−CH=CH−または−CH=CH−CH=CH−CH=CH−(但し、二重結合はトランス型である)を示す。
ｑは１〜４，ｒは１〜４，ｓは１〜４、ｔは１〜４である。
Xは、NまたはP、N→OまたはP→Oを示す。)
で表されるいずれかの配位子である、項４または５に記載のガス吸着剤。
項７． 金属イオンが、銅、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、亜鉛、カドミウム、水銀、鉛及びマンガンからなる群から選択される金属イオンである項４〜６のいずれかに記載のガス吸着剤。
項８． 項１〜７のいずれかに記載のガス吸着剤を含むガス分離用成形体。
項９． 項８に記載のガス分離用成形体に分離対象のガスを含む気体を接触させることを特徴とするガス分離法。
で表されるいずれかの配位子である、項４または５に記載のガス吸着剤。
項７． 金属イオンが、銅、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、亜鉛、カドミウム、水銀、鉛及びマンガンからなる群から選択される金属イオンである項４〜６のいずれかに記載のガス吸着剤。
項８． 項１〜７のいずれかに記載のガス吸着剤を含むガス分離用成形体。
項９． 項８に記載のガス分離用成形体に分離対象のガスを含む気体を接触させることを特徴とするガス分離法。
本発明によれば、温度を低下させることなく特定のガスを高い分離能で選択的に吸着・分離することができる錯体が提供される。
本発明の錯体は、温度に応じて柔軟に構造を変えることができるので、1つの錯体で複数のガスを選択的に吸着することができる。
本発明の錯体は、ある一定の温度範囲において、温度を上昇させたときにガスをより多く吸着する性質を有するものである。一般に錯体がガスを吸着する場合、低温時の方がエンタルピー効果により吸着量は多く、高温時の方がガスの吸着量が多い錯体は、本発明により初めて見出されたものである。このように温度が上昇してガスの吸着量が増加する現象は、本発明の多孔性ガス吸着剤が温度の上昇に伴って孔の構造が変化して、特定のガスに対し、吸着に適した構造をとるためと考えられる。従来、ガスの存在により孔径が変化する錯体は知られていたが、温度の上昇に伴い吸着に適した構造に変化する錯体は知られていなかった。
本発明によれば図１に示すように、錯体の孔径は錯体を構成する平面配位子（含窒素芳香族多価カルボン酸配位子）とピラー配位子（含窒素又は含リン芳香族二価配位子）により基本的に決められるが、本発明の多孔性錯体は、同じ錯体の結晶であっても温度の上昇に従って、孔径が徐々に大きくなり、吸着される物質(ガス)の種類を制御することができる。例えば図２Bに示されるように、CPL-11上のN2吸着は、８０Kでは非常に低いが、90K、100K、110K、120Kと上昇して行くにつれて非常に増加する。これは、温度増加に伴い、孔径が増大し、窒素の吸着に適した孔径に変化したためである。
本発明において、ガスを選択的に吸着可能な多孔性有機金属錯体は、例えば金属イオン、含窒素芳香族多価カルボン酸配位子及び含窒素又は含リン芳香族二価配位子（錯体結晶のピラーに対応する）から構成される温度依存性錯体(孔径が温度に依存して変化する錯体)であってもよい。
金属イオンとしては、銅、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、亜鉛、カドミウム、水銀、鉛、マンガンが挙げられ、好ましくは銅、カドミウムが挙げられ、より好ましくは銅が挙げられる。
含窒素芳香族多価カルボン酸配位子は、好ましくは芳香環に２個以上、好ましくは２個のＣＯＯＨ基が隣接する位置(オルト位)に結合した化合物である。また、芳香環は、５員環又は６員環の単環、二環また三環系の骨格を有する。具体的には、ピラジン、ピリジン、ピロ-ル、チアゾール、イソチアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピリミジン、ピリダジン、インドール、キノリン、イソキノリン、アクリジン、キノキサリン、キナゾリン、フタラジン、ナフチリジンなどのように窒素原子を１〜３個有する単環、二環また三環系の骨格が例示される。２つのカルボキシル基は、含窒素芳香環基の隣接位置に、かつ、芳香環内の窒素原子に隣接する位置(窒素原子からみてオルト位とメタ位)に有するのが好ましい。好ましい芳香環はピラジン、ピリジン、キノキサリンが挙げられ、これら２以上の芳香環はＣＯ、Ｏ、ＣＨ２などの基で連結されてもよい。
芳香環に対する２個のＣＯＯＨ基の結合位置は、相互にオルト位(相互に隣接する位置)が好ましい。
例えば、芳香環がピラジンの場合には、２，３-ピラジンジカルボン酸であり、キノキサリンの場合には、２，３−キノキサリンジカルボン酸である。
含窒素芳香族多価カルボン酸配位子のＣＯＯＨ基は、芳香環に直接結合してもよく、ＣＨ２、ＣＯ，ＣＨＯＨ，ＣＨ２ＣＨ２などの適当なリンカー（スペーサー）を介して結合してもよい。好ましい含窒素芳香族多価カルボン酸配位子は、ＣＯＯＨ基が芳香環に直接結合している。
好ましい含窒素芳香族多価カルボン酸配位子を、以下の式（1）〜式（6）に示す。
(式中、Ｒは同一又は異なってアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルカノイル基、ヒドロキシアルキル基、フェニル基、フェノキシ、ベンジル、フェネチル、ＣＯＯＨ，ＣＮまたはＮＯ２である。
ｎ１は１〜２，ｎ２は１〜３，ｎ３は１〜４の整数を示す。)
含窒素又は含リン芳香族二価配位子（ピラー）としては、芳香環内の２個の窒素原子が一直線上に位置する含窒素又は含リン芳香環を有する配位子が挙げられ、例えば4,4’-ビピリジル、3,3’-ビピリジル、ピラジンなどが挙げられる。含窒素又は含リン芳香族二価配位子は、配位する芳香環の２個の窒素原子の向きが互いに１８０°の角度をなす限り、２つの基の間に任意のスペーサー基を挿入したものであってもよい。ピラーは、含窒素芳香族二価配位子が好ましい。
含窒素又は含リン芳香族二価配位子（ピラー）としては、芳香環内の２個の窒素原子が一直線上に位置する含窒素又は含リン芳香環を有する配位子が挙げられ、例えば4,4’-ビピリジル、3,3’-ビピリジル、ピラジンなどが挙げられる。含窒素又は含リン芳香族二価配位子は、配位する芳香環の２個の窒素原子の向きが互いに１８０°の角度をなす限り、２つの基の間に任意のスペーサー基を挿入したものであってもよい。ピラーは、含窒素芳香族二価配位子が好ましい。
好ましい含窒素または含リン芳香族二価配位子を、以下の式（7）〜式（10）に示す。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ６同一又は異なってアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルカノイル基、ヒドロキシアルキル基、フェニル基、フェノキシ、ベンジル、フェネチル、ＣＯＯＨ，ＣＮまたはＮＯ２である。
Ｒ３、Ｒ５、Ｒ７は、２つの環をつなぐ結合を示すか、２つの結合が直線上に存在する基もしくは−CH=CH−、−CH=CH−CH=CH−または−CH=CH−CH=CH−CH=CH−(但し、二重結合はトランス型である)を示す。
ｑは１〜４，ｒは１〜４，ｓは１〜４、ｔは１〜４である。
Xは、NまたはP、N→OまたはP→Oを示す)
なお、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ７が、２つのピリジン環又はピロール環をつなぐ結合を示す場合、式(５)、式(６)、式(7)の化合物は、各々置換されていてもよい４，４’-ビピリジル又は置換されていてもよい３，３‘-ビピリジル、または置換されていてもよいビピロールを表す。
なお、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ７が、２つのピリジン環又はピロール環をつなぐ結合を示す場合、式(５)、式(６)、式(7)の化合物は、各々置換されていてもよい４，４’-ビピリジル又は置換されていてもよい３，３‘-ビピリジル、または置換されていてもよいビピロールを表す。
Ｒ３、Ｒ５またはＲ７で表される２つの結合が直線上に存在する基としては、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｃ−などの三重結合を有する基、式（１１）、式(12)で表される基などが挙げられる。
(式中、ＺはＣＲ７またはＮを表す。Ｒ７はアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルカノイル基、ヒドロキシアルキル基、フェニル基、フェノキシ、ベンジル、フェネチル、ＣＯＯＨ，ＣＮまたはＮＯ２である。)
本明細書において、アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などのＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分枝を有するアルキル基が挙げられる。
本明細書において、アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などのＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分枝を有するアルキル基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基などのＣ１〜Ｃ４の直鎖又は分枝を有するアルコキシ基が挙げられる。
ヒドロキシアルキル基は、アルキル基の１〜３個、好ましくは１〜２個、特に１個の水素原子がＯＨ基で置換された基を示す。
アルカノイル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ピバロイル基などのＣ１〜Ｃ５の直鎖又は分枝を有するアルカノイル基が挙げられる。
Ｘは、好ましくはＮ(窒素原子)である。
本発明で使用する好ましい含窒素芳香族多価カルボン酸配位子を以下に示す。
(式中、Ｒ、ｎ１、ｎ２、ｎ３は前記に定義されたとおりである。)
本発明の温度依存性錯体は、例えば、Chem. Mater. 1999, 11, 736記載の方法と同様にして、含窒素芳香族多価カルボン酸配位子またはその塩、金属イオンの無機塩及び含窒素又は含リン芳香族二価配位子を溶液中で反応させることにより合成できる。
本発明の温度依存性錯体は、例えば、Chem. Mater. 1999, 11, 736記載の方法と同様にして、含窒素芳香族多価カルボン酸配位子またはその塩、金属イオンの無機塩及び含窒素又は含リン芳香族二価配位子を溶液中で反応させることにより合成できる。
本発明の多孔性有機金属錯体の製造に使用する溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の飽和炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルイミダゾリジノン、スルホラン、アセトン等の有機溶媒、水等が挙げられ、これらを単独もしくは２種類以上を混合して使用することができる。
反応温度は、通常-20〜180℃程度であり、好ましくは0℃〜150℃で実施される。
本発明は、上記で製造された多孔性有機金属錯体にガス（単独ガス又は混合ガス）を接触させ、温度を制御して吸着対象物および吸着量を制御し、分離対象のガスを選択的に吸着し、分離することができる。
吸着分離可能な気体としては、無機気体、有機気体が好ましく例示され、無機気体としては、窒素、酸素、水素、オゾン、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、一酸化炭素、二酸化炭素、ＮＯ，ＮＯ２、Ｎ２Ｏ，ＳＯ２，ＳＯ３、Ｈ２Ｓ、Ｎ２Ｏ４などが挙げられる。有機気体としては、メタン、エタン、プロパン、アセチレン、エチレン、ブタン、ブテン、ブチンなどが挙げられる。
ガス吸着剤は、バインダーなどで固めた粒状物、ペレットなどの成形体とし、所定の容器に充填し、ガス吸着剤を含む充填物を通るように気体を通気することで、効率よく分離対象のガスを分離、回収できる。ガス吸着剤に吸着されたガスは、例えば該吸着錯体を減圧したり、加熱することで、容易に脱着させて回収することができる。
以下に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例１
多孔性有機金属錯体（CPL-11）の合成
H2pzdc (84.1 mg, 0.50 mmol)を含む水溶液(50 mL)をCu(ClO4)2・6H2O (135.3 mg, 0.37 mmol)とdptz (232.3 mg, 0.98 mmol)を水(500 mL)とEtOH (450 mL)に室温で溶かした溶液にゆっくりと加えた。1日撹拌後、紫色の微結晶粉末を濾過し、水及びメタノールで洗浄し、減圧下で乾燥して、CPL-11を得た。
吸着測定
図２Aに示した吸着等温線は日本ベル社製の定容量式BELSORP18吸着測定装置を用いて測定した。吸着ガスは純度99.9999%の窒素、酸素、二酸化炭素及び99.99 %の四塩化炭素を使用した。図２Bに示した異なる温度での窒素の吸着等温線は日本エム・ケー・エス社製Baratronキャパシタンスマノメーターを設置した吸着測定装置を用い、CPL-11を銅のセルホルダに充填し循環式冷凍装置のコールドヘッドに取り付け、半自動測定した。CPL-11は測定前に373 Kで10時間以上、超減圧下(< 10-2 Pa)で処理した。
粉末X-線回折(XRPD)測定
CPL-11の粉末サンプルを内径0.4 mmのシリカゲルキャピラリに封入した。Super Photon Ring (（財）高輝度光科学センター)でのビームライン上に、Debye-Scherrerカメラ及びイメージングプレートを検出器として設置し、入射光角度を0.01oづつ変化させXRPDパターンを得た。
結果
CPL-11結晶の[Cu(pzdc)]の二次元層は ac平面を形成し、dptzのピラー配位子により連結されて3次元ピラー構造を形成する。CPL-11結晶はa 軸に沿った10×6 A2の断面積の1Dチャンネルを有する(図1)。
実施例１
多孔性有機金属錯体（CPL-11）の合成
H2pzdc (84.1 mg, 0.50 mmol)を含む水溶液(50 mL)をCu(ClO4)2・6H2O (135.3 mg, 0.37 mmol)とdptz (232.3 mg, 0.98 mmol)を水(500 mL)とEtOH (450 mL)に室温で溶かした溶液にゆっくりと加えた。1日撹拌後、紫色の微結晶粉末を濾過し、水及びメタノールで洗浄し、減圧下で乾燥して、CPL-11を得た。
吸着測定
図２Aに示した吸着等温線は日本ベル社製の定容量式BELSORP18吸着測定装置を用いて測定した。吸着ガスは純度99.9999%の窒素、酸素、二酸化炭素及び99.99 %の四塩化炭素を使用した。図２Bに示した異なる温度での窒素の吸着等温線は日本エム・ケー・エス社製Baratronキャパシタンスマノメーターを設置した吸着測定装置を用い、CPL-11を銅のセルホルダに充填し循環式冷凍装置のコールドヘッドに取り付け、半自動測定した。CPL-11は測定前に373 Kで10時間以上、超減圧下(< 10-2 Pa)で処理した。
粉末X-線回折(XRPD)測定
CPL-11の粉末サンプルを内径0.4 mmのシリカゲルキャピラリに封入した。Super Photon Ring (（財）高輝度光科学センター)でのビームライン上に、Debye-Scherrerカメラ及びイメージングプレートを検出器として設置し、入射光角度を0.01oづつ変化させXRPDパターンを得た。
結果
CPL-11結晶の[Cu(pzdc)]の二次元層は ac平面を形成し、dptzのピラー配位子により連結されて3次元ピラー構造を形成する。CPL-11結晶はa 軸に沿った10×6 A2の断面積の1Dチャンネルを有する(図1)。
CPL-11の77 KでのN2 の吸着等温線から求められるN2、及びO2の吸着量（図２A）は前記CPL-11の孔サイズがN2、及びO2の動力学的直径3.64、3.46 Aより遙かに大きいにもかかわらず非常に小さい。チャンネル開口のサイズが吸着分子のサイズに匹敵する場合、孔ブロッキング効果によりガス分子は円滑にチャンネル内部に接近できず、吸着量は孔体積から予測されるよりも遙かに小さくなるが、CPL-11はN2分子の寸法よりも遙かに大きい開口サイズを有することからCPL-11の非多孔性挙動は単純に孔ブロッキング効果によるものではない。一方、CO2,CCl4の動力学的直径はそれぞれ3.3 A, 及び5.9 Aであるが、動力学的直径が孔サイズにほぼ等しいか大きいCO2及びCCl4は容易に吸着される。このようにCPL-11の吸着現象は従来の錯体に見られる孔サイズとゲスト分子の静的メトリクスによる吸着と全く異なる。
種々の温度におけるCPL-11のN2に対する吸着等温線を図２Bに示す。一般に吸着ポテンシャル理論とDubinin-Radushkevich式によると相対圧力(P0/P) を一定にして温度を上昇させると吸着量が低下するが、CPL-11では温度の増加につれてN2 吸着量は明らかに増加し、温度上昇により孔が閉鎖状態から開放状態へ構造変換する。
図3Aに300 Kの水和CPL-11と真空中で300Kから77Kに冷却した脱水CPL-11のシンクロトロンin situ X線回折(XRPD)パターンを示す。脱水および冷却の両方によりピーク線幅は大きく変化した。XRPDのピーク形状は 結晶ドメインサイズと格子ひずみによって決まり、結晶ドメインサイズが小さいか格子ひずみが大きい場合ピークの半値幅(FWHM)は大きくなる。結晶の破壊が起こるとXRPDパターンは不可逆的に変化するがCPL-11では各ピーク形状は可逆的であり、ピーク形状の変化は格子ひずみの変化のみによって決まる。
CPL-11結晶の（020）面および（011）面ピークのFWHMの降温時の変化を図3Bに示す。300 Kでの脱水CPL-11のFWHM値は水和CPL-11の値よりも大きく、300Kから77Kと連続的に増加し、CPL-11の格子ひずみは脱水と温度の低下に従って増大した。
降温時の80 kPaのO2雰囲気における脱水CPL-11のin situ XRPDパターン、及びFWHM値は170Kと140Kの間で大きく変化し（図４A、B）、この温度域で降温によりO2吸着量は大幅に増大した。
以上のようにCPL-11ではチャンネル内に充填されたゲスト分子が結晶を支持しチャンネルの均一性を増強する。一方、減圧条件下では格子ひずみは冷却により連続的に増加し、格子ひずみがゲスト分子の孔への接近を阻止するため、ガス分子吸着の減少をもたらした。また、ゲスト分子によっては特定の温度で吸着量が変化する。このようにCPL-11は従来にない選択的吸着現象を示し温度により吸着能を制御できる。CPL-11は、それを構成する有機分子の可撓性、及び金属との相互作用の可変性により柔軟なフレームワークを有するために、温度のような外部刺激の変化に対応して標的分子を認識し、分離することができる。
本発明の多孔性有機金属錯体ないしガス分離用成形体は、以下のような用途を有する。
(1)燃焼排ガスからの回収、除去
火力発電所、セメントプラント、鉄鋼プラント、化学プラント等の工場排ガス(例えば石油や石炭、天然ガス燃焼排ガス)において、酸性ガス（CO2, H2S, COS, SO2, SO3）,非酸性ガス(CH4, CO, N2）；非酸性ガスN2／酸性ガスCO2の分離、吸着、回収、除去などに用いることができる。
(2) 油田に注入したCO2除去；老朽化油田の採掘効率向上に有効である。
(3) 天然ガス、ランドフィルガス、バイオガスからの分離、除去
CO2のみを吸着することができる。天然ガスからのＣＯ２成分の分離により、パイプラインの腐食防止が可能である（S.Cavenati,et al., J. Chem. Eng. Data, 2004, 49, 1101）
ランドフィルガス（Methane-60%/CO2-40%/N2/H2O）、バイオガスにおいてもCO2、N2、H2Oなどを除去することができる。
(4)自動車の排気ガスからの除去
ディーゼル（軽油）用排ガスから窒素酸化物を吸着し、これを還元して酸素と窒素に変換することができる。また、一酸化炭素を吸着してこれを二酸化炭素に酸化して除去することができる。さらに炭化水素を吸着し、これを酸化分解することができる。
使用可能技術を以下に列挙する。
１）圧力スイング吸着法（ＰＳＡ）でCO2/N2を分離
現在使用されている材料であるゼオライト、活性炭よりも優れた吸着材の代替、カーボンモレキュラーシーブ（N2吸着）などに使用できる。
２）モレキュラーシーブとして
天然ガス（メタン・窒素・CO2）から、CO2分離後、N2などの除去を行うことができる。
３）医療用途
オゾン、高濃度酸素などの吸着・製造に用いることができる。
(1)燃焼排ガスからの回収、除去
火力発電所、セメントプラント、鉄鋼プラント、化学プラント等の工場排ガス(例えば石油や石炭、天然ガス燃焼排ガス)において、酸性ガス（CO2, H2S, COS, SO2, SO3）,非酸性ガス(CH4, CO, N2）；非酸性ガスN2／酸性ガスCO2の分離、吸着、回収、除去などに用いることができる。
(2) 油田に注入したCO2除去；老朽化油田の採掘効率向上に有効である。
(3) 天然ガス、ランドフィルガス、バイオガスからの分離、除去
CO2のみを吸着することができる。天然ガスからのＣＯ２成分の分離により、パイプラインの腐食防止が可能である（S.Cavenati,et al., J. Chem. Eng. Data, 2004, 49, 1101）
ランドフィルガス（Methane-60%/CO2-40%/N2/H2O）、バイオガスにおいてもCO2、N2、H2Oなどを除去することができる。
(4)自動車の排気ガスからの除去
ディーゼル（軽油）用排ガスから窒素酸化物を吸着し、これを還元して酸素と窒素に変換することができる。また、一酸化炭素を吸着してこれを二酸化炭素に酸化して除去することができる。さらに炭化水素を吸着し、これを酸化分解することができる。
使用可能技術を以下に列挙する。
１）圧力スイング吸着法（ＰＳＡ）でCO2/N2を分離
現在使用されている材料であるゼオライト、活性炭よりも優れた吸着材の代替、カーボンモレキュラーシーブ（N2吸着）などに使用できる。
２）モレキュラーシーブとして
天然ガス（メタン・窒素・CO2）から、CO2分離後、N2などの除去を行うことができる。
３）医療用途
オゾン、高濃度酸素などの吸着・製造に用いることができる。
Claims (9)
- 多孔性有機金属錯体をガス吸着成分として含み、前記錯体が温度を上昇させたときにガスをより多く吸着する性質を有することを特徴とするガス吸着剤。
- 前記錯体により吸着分離されるガスが希ガス以外のガスである請求項１に記載のガス吸着剤。
- 前記錯体により吸着分離されるガスがＣＯ２，ＣＣｌ４，Ｏ２またはＮ２である請求項１または２に記載のガス吸着剤。
- 前記温度依存性の多孔性有機金属錯体は、金属イオン、含窒素芳香族多価カルボン酸配位子及び含窒素又は含リン芳香族二価配位子から構成され、前記含窒素芳香族多価カルボン酸配位子の窒素原子と２つのカルボン酸基が前記金属イオンに平面で配位し、前記含窒素又は含リン芳香族二価配位子が前記金属イオンにアキシャル方向から配位し、かつ、前記錯体の孔の大きさが温度に依存して変化することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のガス吸着剤。
- 前記含窒素芳香族多価カルボン酸配位子が、ピラジン−２，３-ジカルボン酸、ピリジン−２，３-ジカルボン酸、ピロール−２，３-ジカルボン酸、チアゾール−４，５-ジカルボン酸、イソチアゾール−３，４-ジカルボン酸、オキサゾール−４，５-ジカルボン酸、イソオキサゾール−３，４-ジカルボン酸、イミダゾール−４，５-ジカルボン酸、ピラゾール−３，４-ジカルボン酸、ピリミジン−４，５-ジカルボン酸、ピリダジン−３，４-ジカルボン酸、インドール−２，３-ジカルボン酸、キノリン−２，３-ジカルボン酸、イソキノリン−３，４-ジカルボン酸、キノキサリン−２，３-ジカルボン酸、ナフチリジン−２，３-ジカルボン酸からなる群から選ばれる、請求項１〜４のいずれかに記載のガス吸着剤。
- 前記含窒素又は含リン芳香族二価配位子が、下記式(7)〜(10)
Ｒ３、Ｒ５、Ｒ７は、２つの環をつなぐ結合を示すか、２つの結合が直線上に存在する基もしくは−CH=CH−、−CH=CH−CH=CH−または−CH=CH−CH=CH−CH=CH−(但し、二重結合はトランス型である)を示す。
ｑは１〜４，ｒは１〜４，ｓは１〜４、ｔは１〜４である。
Xは、NまたはP、N→OまたはP→Oを示す。
で表されるいずれかの配位子である、請求項４または５に記載のガス吸着剤。 - 金属イオンが、銅、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、亜鉛、カドミウム、水銀、鉛及びマンガンからなる群から選択される金属イオンである請求項４〜６のいずれかに記載のガス吸着剤。
- 請求項１〜７のいずれかに記載のガス吸着剤を含むガス分離用成形体。
- 請求項８に記載のガス分離用成形体に分離対象のガスを含む気体を接触させることを特徴とするガス分離法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009046927A JP2010201292A (ja) | 2009-02-27 | 2009-02-27 | ガス吸着剤、ガス分離用成形体及びガス分離法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009046927A JP2010201292A (ja) | 2009-02-27 | 2009-02-27 | ガス吸着剤、ガス分離用成形体及びガス分離法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010201292A true JP2010201292A (ja) | 2010-09-16 |
Family
ID=42963334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009046927A Pending JP2010201292A (ja) | 2009-02-27 | 2009-02-27 | ガス吸着剤、ガス分離用成形体及びガス分離法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2010201292A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014166971A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Nippon Steel & Sumitomo Metal | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
| CN109320729A (zh) * | 2018-09-19 | 2019-02-12 | 常州大学 | 基于吡嗪多羧酸配体构筑金属锰有机框架化合物的方法及应用 |
| CN114920942A (zh) * | 2022-04-19 | 2022-08-19 | 陕西理工大学 | 一种镉（ii）离子配位聚合物及其制备方法与应用 |
| JP7464868B2 (ja) | 2020-03-31 | 2024-04-10 | ダイキン工業株式会社 | 空気質の調整システム |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09227572A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-02 | Osaka Gas Co Ltd | ガス貯蔵性有機金属錯体とその製造方法及びガス貯蔵装置並びにガス貯蔵装置を装備した自動車 |
| JP2000210559A (ja) * | 1999-01-22 | 2000-08-02 | Osaka Gas Co Ltd | ガス貯蔵性有機金属錯体、その製造方法およびガス貯蔵装置 |
| JP2005255651A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Kyoto Univ | 有機金属錯体構造体及びその製造方法、並びに、該有機金属錯体構造体を用いた機能性膜、機能性複合材料、機能性構造体及び吸脱着センサー |
-
2009
- 2009-02-27 JP JP2009046927A patent/JP2010201292A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09227572A (ja) * | 1996-02-28 | 1997-09-02 | Osaka Gas Co Ltd | ガス貯蔵性有機金属錯体とその製造方法及びガス貯蔵装置並びにガス貯蔵装置を装備した自動車 |
| JP2000210559A (ja) * | 1999-01-22 | 2000-08-02 | Osaka Gas Co Ltd | ガス貯蔵性有機金属錯体、その製造方法およびガス貯蔵装置 |
| JP2005255651A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Kyoto Univ | 有機金属錯体構造体及びその製造方法、並びに、該有機金属錯体構造体を用いた機能性膜、機能性複合材料、機能性構造体及び吸脱着センサー |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014166971A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Nippon Steel & Sumitomo Metal | 多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 |
| CN109320729A (zh) * | 2018-09-19 | 2019-02-12 | 常州大学 | 基于吡嗪多羧酸配体构筑金属锰有机框架化合物的方法及应用 |
| CN109320729B (zh) * | 2018-09-19 | 2021-04-30 | 常州大学 | 基于吡嗪多羧酸配体构筑金属锰有机框架化合物的方法及应用 |
| JP7464868B2 (ja) | 2020-03-31 | 2024-04-10 | ダイキン工業株式会社 | 空気質の調整システム |
| CN114920942A (zh) * | 2022-04-19 | 2022-08-19 | 陕西理工大学 | 一种镉（ii）离子配位聚合物及其制备方法与应用 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4994398B2 (ja) | 有機金属錯体、ガス分離用成形体及びガス分離法 | |
| Cui et al. | A porous metal–organic framework based on Zn 6 O 2 clusters: chemical stability, gas adsorption properties and solvatochromic behavior | |
| Liu et al. | The effect of methyl functionalization on microporous metal‐organic frameworks' capacity and binding energy for carbon dioxide adsorption | |
| Xiao et al. | Crystalline structural intermediates of a breathing metal-organic framework that functions as a luminescent sensor and gas reservoir. | |
| Song et al. | The accessibility of nitrogen sites makes a difference in selective CO 2 adsorption of a family of isostructural metal–organic frameworks | |
| Demessence et al. | Selective Gas adsorption in the flexible metal–organic frameworks Cu (BDTri) L (L= DMF, DEF) | |
| Choi et al. | Reversible interpenetration in a metal–organic framework triggered by ligand removal and addition | |
| Song et al. | Enhanced CO 2 sorption and selectivity by functionalization of a NbO-type metal–organic framework with polarized benzothiadiazole moieties | |
| Panella et al. | Hydrogen adsorption in metal–organic frameworks: Cu‐MOFs and Zn‐MOFs compared | |
| Hu et al. | A new MOF-505 analog exhibiting high acetylene storage | |
| Schneemann et al. | Targeted manipulation of metal–organic frameworks to direct sorption properties | |
| Wang et al. | Open diamondoid amino-functionalized MOFs for CO 2 capture | |
| Chand et al. | A new set of Cd (ii)-coordination polymers with mixed ligands of dicarboxylate and pyridyl substituted diaminotriazine: selective sorption towards CO 2 and cationic dyes | |
| Wang et al. | A ligand conformation preorganization approach to construct a copper–hexacarboxylate framework with a novel topology for selective gas adsorption | |
| Zhang et al. | Highly selective sorption of CO 2 and N 2 O and strong gas-framework interactions in a nickel (ii) organic material | |
| Lou et al. | Adsorption and separation of CO2 on Fe (II)-MOF-74: Effect of the open metal coordination site | |
| Fu et al. | The photoluminescence and gas sorption properties of three Cd (ii) MOFs based on 1, 3, 5-benzenetribenzoate with–NH 2 or–OH groups | |
| Grünker et al. | Topological Diversity, Adsorption and fluorescence properties of MOFs based on a tetracarboxylate ligand | |
| Polunin et al. | Coordination polymers based on trinuclear heterometallic pivalates and polypyridines: Synthesis, structure, sorption and magnetic properties | |
| Wang et al. | A metal–organic framework based on a custom-designed diisophthalate ligand exhibiting excellent hydrostability and highly selective adsorption of C 2 H 2 and CO 2 over CH 4 | |
| Lin et al. | A microporous metal–organic framework for selective C2H2 and CO2 separation | |
| Ren et al. | A 9-connected metal–organic framework with gas adsorption properties | |
| JP2010201292A (ja) | ガス吸着剤、ガス分離用成形体及びガス分離法 | |
| Li et al. | Porous Lanthanide Metal–Organic Frameworks for Gas Storage and Separation | |
| Hashemi et al. | Reversible crystal-to-crystal transformation in nano-porous three-dimensional lead (II) MOFs; study of solvent attendance on iodide adsorption affinity |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120224 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121005 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121016 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130305 |