JP2010195859A - Low-refractive index thin-film composition and low-refractive index cured thin film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、低屈折性のフッ素を含有する薄膜組成物及びそれを光硬化して得られる低屈折率硬化薄膜に関する。 The present invention relates to a thin film composition containing a low refractive index fluorine and a low refractive index cured thin film obtained by photocuring the same.
従来、低屈折率で耐久性に優れていることから、弗化マグネシウム（ＭｇＦ2）が低屈折薄膜材として一般的に用いられてきたが、ＭｇＦ2膜は付着力が弱く、かつ硬度や耐擦傷性が低いという難点があるためガラス製品には焼き付けなければならず、プラスチック製品には焼き付けできないため実用性が高い塗膜とは言えなかった。また、ＭｇＦ2 と同等の低屈折率の物質として、例えば、ポリテトラフルオロエチレンなどの含フッ素ポリマーがあるが、成形加工性に乏しく、一般の溶媒に不溶であるため、薄膜コーティングが出来なかったまた、溶剤に可溶あるいは分散可能な含フッ素ポリマーを用いた薄膜化には、低接着性や相分離などによる実用上の問題があった（例えば、特許文献１参照）。 Conventionally, magnesium fluoride (MgF 2 ) has been generally used as a low-refractive thin film material because of its low refractive index and excellent durability. However, the MgF 2 film has low adhesion and is resistant to hardness and resistance. Since it has a drawback of low scratch resistance, it must be baked on glass products and cannot be said to be a highly practical coating film because it cannot be baked on plastic products. Further, as a low refractive index substance equivalent to MgF 2 , for example, there is a fluorine-containing polymer such as polytetrafluoroethylene, but it has poor molding processability and is insoluble in a general solvent, so a thin film coating could not be performed. In addition, thinning using a fluorine-containing polymer that is soluble or dispersible in a solvent has practical problems due to low adhesion and phase separation (see, for example, Patent Document 1).
一方、メタクリル酸やアクリル酸のフルオロアルキルエステルが、ポリマーなどの有機材料の構成成分となる際に、材料に安価に低屈折性はもとより加工性や塗装性を付与しうるが（例えば、特許文献２参照）、実用には至っていない。 On the other hand, when a fluoroalkyl ester of methacrylic acid or acrylic acid becomes a constituent component of an organic material such as a polymer, the material can be imparted with low refraction as well as processability and paintability at low cost (for example, patent documents) 2), not practical.
本発明の課題は、簡便な手法で、低屈折性の薄膜組成物を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a thin film composition having a low refractive index by a simple technique.
上記課題を解決するための本発明は、以下の（１）〜（８）のとおりである。 The present invention for solving the above problems is as follows (1) to (8).
（１）炭素数１〜１０のフルオロアルキル基を含有するメタアクリレート化合物および／またはアクリレート化合物、フッ素を含まない１〜５個のアクリロイル基またはメタアクリロイル基を有するアクリル酸誘導体またはメタクリル酸誘導体、有機溶剤に溶解または分散させた含フッ素ポリマー及び光重合開始剤からなる低屈折率薄膜組成物。 (1) Methacrylate compounds and / or acrylate compounds containing a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, acrylic acid derivatives or methacrylic acid derivatives having 1 to 5 acryloyl groups or methacryloyl groups not containing fluorine, organic A low refractive index thin film composition comprising a fluorine-containing polymer dissolved in or dispersed in a solvent and a photopolymerization initiator.
（２）フッ素を含まない１〜５個のアクリロイル基またはメタアクリロイル基を有するアクリル酸誘導体および／またはメタクリル酸誘導体、有機溶剤に溶解または分散させた含フッ素ポリマー及び光重合開始剤からなる低屈折率薄膜組成物。 (2) Low refraction made of an acrylic acid derivative and / or methacrylic acid derivative having 1 to 5 acryloyl or methacryloyl groups not containing fluorine, a fluorine-containing polymer dissolved or dispersed in an organic solvent, and a photopolymerization initiator. Rate thin film composition.
（３）フュームドシリカを含む（１）項又は（２）項に記載の低屈折率薄膜組成物。 (3) The low refractive index thin film composition according to item (1) or (2), comprising fumed silica.
（４）含フッ素ポリマーが、
式（１）、
(4) The fluorine-containing polymer is
Formula (1),
式（２）、 Formula (2),
又は式（３）、 Or formula (3),
で示される環状構造を有する含フッ素ポリマーおよび／またはテトラフルオロエチレン１０〜５０モル部、ヘキサフルオロプロピレン０〜５０モル部、ビニリデンフルオライド９０〜１０モル部、およびビニルフルオライド１０〜１００モル部のモノマーの共重合体であることを特徴とする（１）項又は（２）項に記載の低屈折率薄膜組成物。 A fluoropolymer having a cyclic structure represented by formula (1) and / or tetrafluoroethylene (10-50 mol parts), hexafluoropropylene (0-50 mol parts), vinylidene fluoride (90-10 mol parts), and vinyl fluoride (10-100 mol parts). The low refractive index thin film composition according to item (1) or (2), which is a copolymer of monomers.
（５）含フッ素ポリマーが、炭素数１〜１０のフルオロアルキル基を含有するメタアクリレート化合物およびまたはアクリレート化合物からなるポリマーであることを特徴とする（１）項又は（２）項に記載の低屈折率薄膜組成物。 (5) The low fluorine-containing polymer according to (1) or (2), wherein the fluorine-containing polymer is a polymer comprising a methacrylate compound and / or an acrylate compound containing a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Refractive index thin film composition.
（６）炭素数１〜１０のフルオロアルキル基を含有するメタアクリレート化合物あるいはアクリレート化合物、フッ素を含まない１〜５個のアクリロイル基またはメタアクリロイル基を有するアクリル酸誘導体またはメタクリル酸誘導体、フュームドシリカ及び光重合開始剤からなる低屈折率薄膜組成物。 (6) Methacrylate compounds or acrylate compounds containing a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, acrylic acid derivatives or methacrylic acid derivatives having 1 to 5 acryloyl groups or methacryloyl groups not containing fluorine, fumed silica And a low refractive index thin film composition comprising a photopolymerization initiator.
（７）炭素数１〜１０のフルオロアルキル基を含有するメタアクリレート化合物あるいはアクリレート化合物が、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレートおよびまたは２，２，２−トリフルオロエチルアクリレートである、（１）項、（５）項または（６）項に記載の低屈折率薄膜組成物。 (7) The methacrylate compound or acrylate compound containing a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms is 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate and / or 2,2,2-trifluoroethyl acrylate (1 ), (5) or (6).
（８） （１）項ないし（７）項のいずれか１項に記載の低屈折率薄膜組成物を薄膜に形成し、光を照射して硬化させたことを特徴とする低屈折率硬化薄膜。 (8) A low refractive index cured thin film, characterized in that the low refractive index thin film composition according to any one of (1) to (7) is formed on a thin film and cured by irradiation with light. .
本発明によれば、簡便な手法で、低屈折性の薄膜を得ることができる。 According to the present invention, a low-refractive thin film can be obtained by a simple method.
本発明では、炭素数１〜１０のフルオロアルキル基を含有するメタアクリレート化合物およびまたはアクリレート化合物、フッ素を含まない１〜５個のアクリロイル基またはメタアクリロイル基を有するアクリル酸誘導体またはメタクリル酸誘導体、有機溶剤に溶解または分散させた含フッ素ポリマー、及び光重合開始剤からなる混合物に光を照射して硬化させて、目的とする低屈折率薄膜組成物を得ることができる。例えば、１〜９０重量部の炭素数１〜１０のフルオロアルキル基を含有するメタアクリレート化合物およびまたはアクリレート化合物と、１〜５０重量部のフッ素を含まない１〜５個のアクリロイル基またはメタアクリロイル基を有するアクリル酸誘導体またはメタクリル酸誘導体と、有機溶剤に溶解または分散させた０．１〜５０重量部の含フッ素ポリマー、および０.１〜２０重量部の光重合開始剤からなる混合物に光照射して薄膜状の低屈折組成物を得ることができる。 In the present invention, methacrylate compounds and / or acrylate compounds containing a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, acrylic acid derivatives or methacrylic acid derivatives having 1 to 5 acryloyl groups or methacryloyl groups not containing fluorine, organic A mixture of a fluorine-containing polymer dissolved or dispersed in a solvent and a photopolymerization initiator can be irradiated with light and cured to obtain a target low refractive index thin film composition. For example, a methacrylate compound and / or an acrylate compound containing 1 to 90 parts by weight of a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and 1 to 50 parts by weight of acryloyl group or methacryloyl group containing no fluorine. Irradiation of a mixture comprising an acrylic acid derivative or a methacrylic acid derivative having a salt of 0.1 to 50 parts by weight of a fluorine-containing polymer dissolved or dispersed in an organic solvent, and 0.1 to 20 parts by weight of a photopolymerization initiator Thus, a thin low refractive composition can be obtained.
また、本発明では、フッ素を含まない１〜５個のアクリロイル基またはメタアクリロイル基を有するアクリル酸誘導体またはメタクリル酸誘導体、有機溶剤に溶解または分散させた含フッ素ポリマー、及び光重合開始剤からなる混合物に光を照射して低屈折率薄膜組成物を得ることができ、例えば、１〜５０重量％のフッ素を含まない１〜５個のアクリロイル基またはメタアクリロイル基を有するアクリル酸誘導体またはメタクリル酸誘導体と、有機溶剤に溶解または分散させた０．１〜５０重量％の含フッ素ポリマーと、０.１〜１０重量％の光重合開始剤の混合物に光照射して薄膜状の低屈折組成物を得ることもできる。 Further, the present invention comprises an acrylic acid derivative or methacrylic acid derivative having 1 to 5 acryloyl groups or methacryloyl groups not containing fluorine, a fluorine-containing polymer dissolved or dispersed in an organic solvent, and a photopolymerization initiator. The mixture can be irradiated with light to obtain a thin film composition having a low refractive index, for example, 1 to 5% by weight of an acrylic acid derivative or methacrylic acid having 1 to 5 acryloyl groups or methacryloyl groups not containing fluorine A thin refractive index composition in which a mixture of a derivative, 0.1 to 50% by weight of a fluorine-containing polymer dissolved or dispersed in an organic solvent, and 0.1 to 10% by weight of a photopolymerization initiator is irradiated with light. You can also get
ここで、炭素数１〜１０のフルオロアルキル基を含有するメタアクリレート化合物およびまたはアクリレート化合物とは、特に制限されるものではないが、ＣＦ3 (ＣＦ2)8ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)8ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、ＨＣＦ2(ＣＦ2)7(ＣＨ2)2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＨＣＦ2(ＣＦ2)7(ＣＨ2)2Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)7ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)7ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)6ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)6ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)5ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)5ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)4ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)4ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)3ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)3ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)2ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)2ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、（ＣＦ3）3ＣＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、（ＣＦ3 ）3ＣＣＨ2Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、（ＣＦ3 ）2ＣＦＣＨ2Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＦ2ＣＨ（ＣＦ3 ）Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＦ2ＣＨ（ＣＦ3 ）Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＦ2ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＦ2ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＦ3ＣＨＯ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3 ＣＦ3ＣＨＯ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、Ｈ2ＣＦＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、Ｈ2ＣＦＣＨ2Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、ＨＣＦ2ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＨＣＦ2ＣＨ2Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、などが例示され、単独あるいは二種以上混合して用いることができ、特に、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2の使用が好ましい。 Here, the methacrylate compound and / or acrylate compound containing a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms is not particularly limited, but CF 3 (CF 2 ) 8 CH 2 O 2 CCH═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 8 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) = CH 2 , HCF 2 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 O 2 CCH═CH 2 , HCF 2 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 O 2 CC (CH 3 ) = CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 O 2 CCH═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) ═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 6 CH 2 O 2 CCH═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 6 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) ═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 O 2 CCH═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) = CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 4 CH 2 O 2 CCH═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 4 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) = CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 O 2 CCH═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) = CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 2 CH 2 O 2 CCH═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 2 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) ═CH 2 , (CF 3 ) 3 CCH 2 O 2 CCH═CH 2 , (CF 3 ) 3 CCH 2 O 2 CC (CH 3 ) = CH 2, (CF 3) 2 CFCH 2 O 2 CCH = CH 2, (CF 3) 2 CFCH 2 O 2 CC (CH 3) = CH 2, CF 3 CF 2 CH (CF 3 ) O 2 CCH═CH 2 , CF 3 CF 2 CH (CF 3 ) O 2 CC (CH 3 ) ═CH 2 , CF 3 CF 2 CH 2 O 2 CCH═CH 2 , CF 3 CF 2 CH 2 O 2 CC (CH 3) = CH 2, CF 3 CF 3 CHO 2 CCH = CH 2, CF 3 CF 3 CHO 2 CC (CH 3) = CH 2, H 2 CFCH 2 O 2 CCH = CH 2, H 2 CFCH 2 O 2 CC (CH 3) = CH 2, HCF 2 CH 2 O 2 CCH = CH 2, HCF 2 CH 2 O 2 CC (CH 3) = CH 2, CF 3 CH 2 O 2 CCH═CH 2 , CF 3 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) = CH 2 , etc. are exemplified, and these can be used alone or in combination of two or more. In particular, CF 3 CH 2 O 2 CCH = CH 2, CF 3 CH 2 O 2 CC (CH 3) = use the CH 2 are preferred.
また、本発明におけるフッ素を含まない１〜５個のアクリロイル基またはメタアクリロイル基を有するアクリル酸誘導体またはメタクリル酸誘導体とは、ＣＨ2Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2や、新中村化学工業(株)や日本化薬(株)などで製造販売されている、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｏ2Ｃ（ＣＨ２Ｏ）ＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｏ2Ｃ（ＣＨ２Ｏ）２ＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｏ2Ｃ（ＣＨ２Ｏ）3ＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｏ2Ｃ（ＣＨ２Ｏ）4ＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＨ２＝ＣＨＯ2Ｃ（ＣＨ２Ｏ）4ＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＨ２＝ＣＨＯ2Ｃ（ＣＨ２Ｏ）6ＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＨ２＝ＣＨＯ2Ｃ（ＣＨ２Ｏ）9ＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＨ２＝ＣＨＯ2Ｃ（ＣＨ２Ｏ）10ＣＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｏ2Ｃ（ＣＨ２Ｏ）9ＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｏ2Ｃ（ＣＨ２Ｏ）14ＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｏ2Ｃ（ＣＨ２Ｏ）23ＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｏ2ＣＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＯ2Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＨ２＝ＣＨＯ2ＣＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＯ2ＣＨ＝ＣＨ２ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｏ2ＣＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＣＯ2Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｏ2Ｃ（ＣＨ２）9ＣＯ2Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｏ2Ｃ（ＣＨ２Ｏ）ｍ（Ｃ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ４）（ＣＨ２Ｏ）ｎＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２（ｍ+ｎ＝２〜３０）、ＣＨ２＝ＣＨＯ2Ｃ（ＣＨ２Ｏ）ｍ（Ｃ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ４）（ＣＨ２Ｏ）ｎＣＯＣＣＨ＝ＣＨ２（ｍ+ｎ＝２〜３０）、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）Ｏ2Ｃ（ＣＨ２Ｃ（Ｃ２Ｈ５）（ＣＨ２Ｏ２ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２）ＣＨ２）Ｏ２ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、ＣＨ２＝ＣＨＯ2Ｃ（ＣＨ２Ｃ（Ｃ２Ｈ５）（ＣＨ２Ｏ２ＣＣＨ＝ＣＨ２）ＣＨ２）Ｏ２ＣＣＨ＝ＣＨ２、ＣＨ２＝ＣＨＯ2Ｃ（ＣＨ２Ｃ（ＣＨ２Ｏ２ＣＣＨ＝ＣＨ２）２ＣＨ２）Ｏ２ＣＣＨ＝ＣＨ２、ＣＨ２＝ＣＨＯ2Ｃ（ＣＨ２Ｃ（ＣＨ２Ｏ２ＣＣＨ＝ＣＨ２）２ＣＨ２）ＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２（ＣＨ２Ｏ２ＣＣＨ＝ＣＨ２）２、や（株）トクシキ、新中村工業（株）あるいは日本化薬（株）で販売されているウレタン骨格を有するウレタンジメタクリレート化合物やウレタンジアクリレート化合物、あるいは昭和電工（株）で販売されているイソシアネートモノマーであるカレンズ・シリーズから誘導されるウレタンジメタクリレート化合物やウレタンジアクリレート化合物あるいは、ウレタンメタクリレートアクリレートなどなどが例示され、これらを単独あるいは二種以上混合して用いることができる。 Moreover, the acrylic acid derivative or methacrylic acid derivative having 1 to 5 acryloyl groups or methacryloyl groups not containing fluorine in the present invention is CH 2 O 2 CC (CH 3 ) ═CH 2 , CH 2 O 2 CCH. = CH 2 , manufactured and sold by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd., Nippon Kayaku Co., Ltd., etc., CH 2 ═C (CH 3 ) O 2 C (CH 2 O) COC (CH 3 ) = CH 2, CH 2 = C (CH 3) O 2 C (CH 2 O) 2 COC (CH 3) = CH 2, CH 2 = C (CH 3) O 2 C (CH 2 O) 3 COC (CH 3) = CH 2, CH 2 = C (CH 3) O 2 C (CH 2 O) 4 COC (CH 3) = CH 2, CH 2 = CHO 2 C (CH 2 O) 4 COCH = CH 2, CH 2 = CHO 2 C (CH 2 O) 6 COCH═CH 2 , CH 2 ═C HO 2 C (CH 2 O) 9 COCH═CH 2 , CH 2 ═CHO 2 C (CH 2 O) 10 COCH═CH 2 , CH 2 ═C (CH 3 ) O 2 C (CH 2 O) 9 COC ( CH 3) = CH 2, CH 2 = C (CH 3) O 2 C (CH 2 O) 14 COC (CH 3) = CH 2, CH 2 = C (CH 3) O 2 C (CH 2 O) 23 COC (CH 3) = CH 2 , CH 2 = C (CH 3) O 2 CCH 2 C (CH 3) 2 CH 2 CO 2 C (CH 3) = CH 2, CH 2 = CHO 2 CCH 2 C (CH 3) 2 CH 2 CO 2 CH = CH 2 CH 2 = C (CH 3) O 2 CCH 2 CH (OH) CH 2 CO 2 C (CH 3) = CH 2, CH 2 = C (CH 3) O 2 C (CH 2 ) 9 CO 2 C (CH 3 ) ═CH 2 , CH 2 ═C (CH 3 ) O 2 C ( CH 2 O) m (C 6 H 4 C (CH 3) 2 C 6 H 4) (CH 2 O) n COC (CH 3) = CH 2 (m + n = 2~30), CH 2 = CHO 2 C (CH 2 O) m ( C 6 H 4 C (CH 3) 2 C 6 H 4) (CH 2 O) n COCCH = CH 2 (m + n = 2~30), tricyclodecane dimethanol dimethacrylate , Tricyclodecane dimethanol diacrylate, CH 2 ═C (CH 3 ) O 2 C (CH 2 C (C 2 H 5 ) (CH 2 O 2 CC (CH 3 ) ═CH 2 ) CH 2 ) O 2 CC (CH 3) = CH 2, CH 2 = CHO 2 C (CH 2 C (C 2 H 5) (CH 2 O 2 CCH = CH 2) CH 2) O 2 CCH = CH 2, CH 2 = CHO 2 C (CH 2 C (CH 2 O 2 CCH = CH 2) 2 CH 2 O 2 CCH = CH 2, CH 2 = CHO 2 C (CH 2 C (CH 2 O 2 CCH = CH 2) 2 CH 2) OCH 2 C (CH 3) 2 (CH 2 O 2 CCH = CH 2) 2 Urethane dimethacrylate compounds and urethane diacrylate compounds with urethane skeletons sold by Tokushi Co., Ltd., Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd. or Nippon Kayaku Co., Ltd., or Showa Denko Co., Ltd. Examples thereof include urethane dimethacrylate compounds, urethane diacrylate compounds or urethane methacrylate acrylates derived from the Karenz series, which is an isocyanate monomer, and these can be used alone or in admixture of two or more.
更に、本発明では、当該低屈折率薄膜組成物に０．０１〜１０重量部のフュームドシリカが含まれることにより、得られる薄膜の性能が向上する。本発明で用いることができるフュームドシリカは、一次粒子の平均径が１〜１００ｎｍで、比評面積が１０〜１０００ｍ２／ｇのもので、特に好ましくは、一次粒子の平均径が３〜５０ｎｍで、比評面積が４０〜４００ｍ２／ｇである。例えば、エボニック社製のフュームドシリカであれば、Ｒ２０２、Ｒ８０５、Ｒ８１２、Ｒ８１２Ｓ、ＲＸ２００、ＲＹ２００，Ｒ９７２、Ｒ９７２ＣＦ，９０Ｇ、２００Ｖ，２００ＣＦ、２００ＦＡＤ、３００ＣＦ等を用いることが出来る。なお、本発明ではヒュームドシリカとともに、微粒子状のチタニア、ジルコニア、アルミナ、シリカ−アルミナなども単独あるいは二種以上を混合して用いることが出来る。 Furthermore, in this invention, the performance of the thin film obtained improves by containing 0.01-10 weight part fumed silica in the said low-refractive-index thin film composition. The fumed silica that can be used in the present invention has an average primary particle diameter of 1 to 100 nm and a specific evaluation area of 10 to 1000 m 2 / g, and particularly preferably an average primary particle diameter of 3 to 50 nm. The specific evaluation area is 40 to 400 m 2 / g. For example, in the case of fumed silica manufactured by Evonik, R202, R805, R812, R812S, RX200, RY200, R972, R972CF, 90G, 200V, 200CF, 200FAD, 300CF, and the like can be used. In the present invention, finely divided titania, zirconia, alumina, silica-alumina and the like can be used alone or in admixture of two or more with fumed silica.
本発明で用いられる、含フッ素ポリマーとは、式（１）、 The fluorine-containing polymer used in the present invention is represented by the formula (1),
式（２）、 Formula (2),
式（３）、 Formula (3),
で示される環状構造を有する含フッ素ポリマーおよび／またはテトラフルオロエチレン１０〜５０モル部、ヘキサフルオロプロピレン０〜５０モル部、ビニリデンフルオライド９０〜１０モル部、およびビニルフルオライド１０〜１００モル部のモノマーの共重合体である。本発明の含フッ素ポリマーは有機溶剤に可溶または分散可能である。 A fluoropolymer having a cyclic structure represented by formula (1) and / or tetrafluoroethylene (10-50 mol parts), hexafluoropropylene (0-50 mol parts), vinylidene fluoride (90-10 mol parts), and vinyl fluoride (10-100 mol parts). It is a copolymer of monomers. The fluoropolymer of the present invention is soluble or dispersible in an organic solvent.
本発明で用いられる含フッ素ポリマーとして、例えば、市販品のテフロンAFシリーズ（デュポン社製）、フルオンシリーズ（旭硝子社製）、ハイフロンシリーズ（ソルベイ・ソレクシス社製）、サイトップ（旭硝子社製）、ＴＨＶシリーズ（住友スリーエム社製）、ネオフロンシリーズ（ダイキン社製）、カイナーシリーズ（アルケマ社製）、テドラーシリーズ（デュポン社製）、ダイニオンシリーズ（ダイニオン社製）などを単独あるいは二種以上用いることができる。 As the fluorine-containing polymer used in the present invention, for example, commercially available Teflon AF series (manufactured by DuPont), full-on series (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Hyflon series (manufactured by Solvay Solexis), Cytop (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) , THV series (Sumitomo 3M), Neofron series (Daikin), Kyner series (Arkema), Tedlar series (DuPont), Dionion series (Dinion) etc. The above can be used.
これらフッ素ポリマーを溶解あるいは分散させる有機溶媒としては、ＣＦ3ＣＨ2ＯＨ、Ｆ（ＣＦ2）2ＣＨ2ＯＨ、（ＣＦ3）2ＣＨＯＨ、Ｆ（ＣＦ2）3ＣＨ2ＯＨ、Ｆ（ＣＦ2）4Ｃ2Ｈ5ＯＨ、Ｈ（ＣＦ2）2ＣＨ2ＯＨ、Ｈ（ＣＦ2）3ＣＨ2ＯＨ、Ｈ（ＣＦ2）4ＣＨ2ＯＨなどのフッ素アルコール系溶剤、パーフルオロベンゼン、メタキシレンヘキサフルオライドなどの含フッ素芳香族系溶剤、ＣＦ4（ＨＦＣ−１４）、ＣＨＣｌＦ2（ＨＣＦＣ−２２）、ＣＨＦ3（ＨＦＣ−２３）、ＣＨ2ＣＦ2（ＨＦＣ−３２）、ＣＦ3ＣＦ3（ＰＦＣ−１１６）、ＣＦ2ＣｌＣＦＣｌ2（ＣＦＣ−１１３）、Ｃ3ＨＣｌＦ5（ＨＣＦＣ−２２５）、ＣＨ2ＦＣＦ3（ＨＦＣ−１３４ａ）、ＣＨ3ＣＦ3（ＨＦＣ−１４３ａ）、ＣＨ3ＣＨＦ2（ＨＦＣ−１５２ａ）、ＣＨ3ＣＣｌ2Ｆ（ＨＣＦＣ−１４１ｂ）、ＣＨ3ＣＣｌＦ2（ＨＣＦＣ−１４２ｂ）、Ｃ4Ｆ8（ＰＦＣ−Ｃ３１８）などのフルオロカーボン系溶剤などが例示され、更に、例えば、キシレン、トルエン、ソルベッソ１００、ソルベッソ１５０、ヘキサンなどの炭化水素系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコール、酢酸ジエチレングリコールなどのエステル系溶剤；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトンなどのケトン系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミドなどのアミド系溶剤、ジメチルスルホキシドなどのスルホン酸エステル系溶剤、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール（重合度３〜１００）などが例示され、単独あるいは二種以上混合して用いることができる。なお、これらのうち、溶解能、塗膜外観、貯蔵安定性の点から前記各種のフッ素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤が好ましく、特にメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、セロソルブアセテート、酢酸ブチル、酢酸エチル、パーフルオロベンゼン、メタキシレンヘキサフルオライド、ＨＣＦＣ−２２５、ＣＦＣ−１１３、ＨＦＣ−１３４ａ、ＨＦＣ−１４３ａ、ＨＦＣ−１４２ｂの単独あるいは二種以上混合した使用が好ましい。 As an organic solvent for dissolving or dispersing these fluoropolymers, CF 3 CH 2 OH, F (CF 2 ) 2 CH 2 OH, (CF 3 ) 2 CHOH, F (CF 2 ) 3 CH 2 OH, F (CF 2 ) Fluoric alcohol solvents such as 4 C 2 H 5 OH, H (CF 2 ) 2 CH 2 OH, H (CF 2 ) 3 CH 2 OH, H (CF 2 ) 4 CH 2 OH, perfluorobenzene, metaxylene Fluorine-containing aromatic solvents such as hexafluoride, CF 4 (HFC-14), CHClF 2 (HCFC-22), CHF 3 (HFC-23), CH 2 CF 2 (HFC-32), CF 3 CF 3 (PFC-116), CF 2 ClCFCl 2 (CFC-113), C 3 HClF 5 (HCFC-225), CH 2 FCF 3 (HFC-134a), CH 3 CF 3 (HFC-143a), CH 3 C F 2 (HFC-152a), CH 3 CCl 2 F (HCFC-141b), CH 3 CClF 2 (HCFC-142b), such as a fluorocarbon-based solvent such as C 4 F 8 (PFC-C318 ) and the like, further, For example, xylene, toluene, Solvesso 100, Solvesso 150, hydrocarbon solvents such as hexane, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol acetate Ester solvents such as monomethyl ether, diethylene glycol acetate monoethyl ether, diethylene glycol acetate monobutyl ether, ethylene glycol acetate, diethylene glycol acetate; dimethyl ether, die Ether, dibutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether Ether solvents such as diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether and tetrahydrofuran, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and acetone, N, N-dimethylacetamide, N-methylacetamide, acetamide, Amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, N-methylformamide, sulfonic acid ester solvents such as dimethylsulfoxide, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol ( The degree of polymerization is 3 to 100), and the like can be used alone or in admixture of two or more. Of these, the above-mentioned various fluorine-based solvents, ketone-based solvents, and ester-based solvents are preferable from the viewpoints of solubility, coating film appearance, and storage stability, and particularly methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, cellosolve acetate, and butyl acetate. , Ethyl acetate, perfluorobenzene, metaxylene hexafluoride, HCFC-225, CFC-113, HFC-134a, HFC-143a and HFC-142b are preferably used alone or in combination.
また更に、本発明で用いられる含フッ素ポリマーとして、炭素数１〜１０のフルオロアルキル基を含有するメタアクリレート化合物およびまたはアクリレート化合物からなるポリマーを用いる事ができ、ＣＦ3 (ＣＦ2)8ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)8ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、ＨＣＦ2(ＣＦ2)7(ＣＨ2)2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＨＣＦ2(ＣＦ2)7(ＣＨ2)2Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)7ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)7ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)6ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)6ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)5ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)5ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)4ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)4ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)3ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)3ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)2ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3(ＣＦ2)2ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、（ＣＦ3）3ＣＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、（ＣＦ3 ）3ＣＣＨ2Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、（ＣＦ3 ）2ＣＦＣＨ2Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＦ2ＣＨ（ＣＦ3 ）Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＦ2ＣＨ（ＣＦ3 ）Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＦ2ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＦ2ＣＨ2Ｏ2ＣＣ(ＣＨ３)＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＦ3ＣＨＯ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3 ＣＦ3ＣＨＯ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、Ｈ2ＣＦＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、Ｈ2ＣＦＣＨ2Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、ＨＣＦ2ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＨＣＦ2ＣＨ2Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ2ＣＣＨ＝ＣＨ2、ＣＦ3ＣＨ2Ｏ2ＣＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ2、などを一種または複数混合し、熱重合させて得られるポリマーが例示される。 Still further, as the fluorine-containing polymer used in the present invention, a polymer comprising a methacrylate compound and / or an acrylate compound containing a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms can be used. CF 3 (CF 2 ) 8 CH 2 O 2 CCH = CH 2, CF 3 (CF 2) 8 CH 2 O 2 CC (CH 3) = CH 2, HCF 2 (CF 2) 7 (CH 2) 2 O 2 CCH = CH 2, HCF 2 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 O 2 CC (CH 3 ) = CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 O 2 CCH═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 7 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) = CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 6 CH 2 O 2 CCH═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 6 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) = CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 O 2 CCH═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) ═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 4 CH 2 O 2 CCH = CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 4 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) = CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 O 2 CCH═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) ═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 2 CH 2 O 2 CCH═CH 2 , CF 3 (CF 2 ) 2 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) ═CH 2 , (CF 3 ) 3 CCH 2 O 2 CCH = CH 2, (CF 3) 3 CCH 2 O 2 CC (CH 3) = CH 2, (CF 3) 2 CFCH 2 O 2 CCH = CH 2, (CF 3) 2 CFCH 2 O 2 CC (CH 3) = CH 2, CF 3 CF 2 CH (CF 3) O 2 CCH = CH 2, CF 3 CF 2 CH (CF 3) O 2 CC (CH 3) = CH 2, CF 3 CF 2 CH 2 O 2 CCH = CH 2, CF 3 CF 2 CH 2 O 2 CC (CH 3) = CH 2, CF 3 CF 3 CHO 2 CCH = CH 2, CF 3 CF 3 CHO 2 C (CH 3) = CH 2 , H 2 CFCH 2 O 2 CCH = CH 2, H 2 CFCH 2 O 2 CC (CH 3) = CH 2, HCF 2 CH 2 O 2 CCH = CH 2, HCF 2 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) = CH 2 , CF 3 CH 2 O 2 CCH = CH 2 , CF 3 CH 2 O 2 CC (CH 3 ) = CH 2 , etc. Examples of such polymers are exemplified.
本発明で用いられる光重合開始剤は、特に制限されるものではないが、ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７、ＩＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＩＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ７８４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ７５４等のチバガイギー社製のものやＢＡＳＦ社製のＬｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ、Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ−Ｌを単独あるいは二種以上混合して使用できる。光硬化を促進するため、例えば、ベンゾフェノン等のケトン化合物、ローズベンガル等の色素や、フルオレン、ピレン、あるいはフラーレン等の共役系化合物を光増感剤として、光開始剤に対して重量比で０．０５〜３倍量を光開始剤と併用いることが可能である。 The photopolymerization initiator used in the present invention is not particularly limited. Such as those manufactured by Ciba Geigy, Inc., Lucirin TPO, Lucirin TPO-L manufactured by BASF, or a mixture of two or more thereof can be used. In order to accelerate photocuring, for example, a ketone compound such as benzophenone, a dye such as rose bengal, or a conjugated compound such as fluorene, pyrene, or fullerene is used as a photosensitizer, and the weight ratio to the photoinitiator is 0. 0.05 to 3 times the amount can be used in combination with the photoinitiator.
また、本発明における光硬化で、光開始剤に加熱によりラジカルを発生する熱開始剤を、光開始剤に対して重量比で０．０５〜３倍量を併用、あるいは光開始剤と光増感剤を併用することも出来る。熱開始剤としては、ＡＩＢＮ（アゾビスイソブチロニトリル）、ケトンパーオキサイドやパーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアリルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、パーオキシカーボネートなどの化合物またはその誘導体が好ましく、市販品では、日本油脂株式会社製パーロイルＯ、パーロイルＬ、パーロイルＳ、パーオクタＯ、パーロイルＳＡ、パーヘキサ２５０、パーヘキシルＯ、ナイパーＰＭＢ、パーブチルＯ、ナイパーＢＭＴ、ナイパーＢＷ、パーブチルＩＢ、パーヘキサＭＣ、パーヘキサＴＭＨ、パーヘキサＨＣ、パーヘキサＣ、パーテトラＡ、パーヘキシルＩ、パーブチルＭＡ、パーブチル３５５、パーブチルＬ、パーヘキサ２５ＭＴ、パーブチルＩ、パーブチルＥ、パーヘキシルＺ、パーヘキサＶ、パーブチルＰ、パークミルＤ、パーヘキシルＤ、パーヘキサ２５Ｂ、パーブチルＤ、パーメンタＨ、パーヘキシン２５Ｂなどが例示できる。 In addition, in the photocuring in the present invention, the thermal initiator that generates radicals by heating is used in the photoinitiator in an amount of 0.05 to 3 times by weight with respect to the photoinitiator, or the photoinitiator and the photointensifier. A sensitizer can also be used in combination. As thermal initiators, compounds such as AIBN (azobisisobutyronitrile), ketone peroxides, peroxyketals, hydroperoxides, diallyl peroxides, diacyl peroxides, peroxyesters, peroxycarbonates or their derivatives Among these, commercially available products are Parroyl O, Parroyl L, Parroyl S, Paroctyl O, Parroyl SA, Parhexyl 250, Perhexyl O, Nyper PMB, Perbutyl O, Nyper BMT, Nyper BW, Perbutyl IB, Perhexa MC, manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd. Perhexa TMH, Perhexa HC, Perhexa C, Pertetra A, Perhexyl I, Perbutyl MA, Perbutyl 355, Perbutyl L, Perhexa 25MT, Perbutyl I, Perbutyl E, Parge Sill Z, Perhexa V, Perbutyl P, Percumyl D, PERHEXYL D, Perhexa 25B, Perbutyl D, Pamenta H, etc. Pahekishin 25B can be exemplified.
また、本発明では、炭素数１〜１０のフルオロアルキル基を含有するメタアクリレート化合物あるいはアクリレート化合物、フッ素を含まない１〜５個のアクリロイル基またはメタアクリロイル基を有するアクリル酸誘導体またはメタクリル酸誘導体、フュームドシリカ、及び光重合開始剤に光を照射することにより、当該低屈折率薄膜組成物を得ることもできる。例えば、１〜９０重量部の炭素数１〜１０のフルオロアルキル基を含有するメタアクリレート化合物あるいはアクリレート化合物と、１〜５０重量部のフッ素を含まない１〜５個のアクリロイル基またはメタアクリロイル基を有するアクリル酸誘導体またはメタクリル酸誘導体と、０．０１〜１０重量部のフュームドシリカと、０.１〜１０重量部の光重合開始剤からなる組成物に光照射し、薄膜状の硬化組成物を得ることができる。 In the present invention, a methacrylate compound or acrylate compound containing a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acrylic acid derivative or a methacrylic acid derivative having 1 to 5 acryloyl groups or methacryloyl groups not containing fluorine, The said low refractive index thin film composition can also be obtained by irradiating light to fumed silica and a photoinitiator. For example, a methacrylate compound or acrylate compound containing 1 to 90 parts by weight of a C1-C10 fluoroalkyl group and 1 to 50 parts by weight of fluorine-free 1 to 5 acryloyl groups or methacryloyl groups A film-like cured composition is irradiated with light by irradiating a composition comprising acrylic acid derivative or methacrylic acid derivative having 0.01 to 10 parts by weight of fumed silica and 0.1 to 10 parts by weight of a photopolymerization initiator. Can be obtained.
本発明で用いられる炭素数１〜１０のフルオロアルキル基を含有するメタアクリレート化合物あるいはアクリレート化合物としては、特に、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレートおよびまたは２，２，２−トリフルオロエチルアクリレートが好適である。 Examples of the methacrylate compound or acrylate compound containing a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms used in the present invention include 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate and / or 2,2,2-trifluoroethyl acrylate. Is preferred.
本発明では、フルオロアルキル基を含有するメタアクリレート化合物あるいはアクリレート化合物や、含フッ素ポリマーなどの含フッ素化合物は、主に得られた薄膜組成物の屈折率を下げる。また、フッ素を含まない１〜５個のアクリロイル基またはメタアクリロイル基を有するアクリル酸誘導体またはメタクリル酸誘導体や、ヒュームドシリカなどのフッ素を含まない化合物は、得られた薄膜組成物の硬度や耐擦過性の向上あるいは基材への接着性を向上させる。 In the present invention, a fluorinated compound such as a methacrylate compound or acrylate compound containing a fluoroalkyl group or a fluorinated polymer mainly lowers the refractive index of the obtained thin film composition. In addition, fluorine-free compounds such as acrylic acid derivatives or methacrylic acid derivatives having 1 to 5 acryloyl groups or methacryloyl groups that do not contain fluorine, fumed silica, and the like are used for the hardness and resistance of the obtained thin film composition. Improves scratching or adhesion to the substrate.
本発明で得られる薄膜組成物の屈折率は、ナトリウムＤ線（５８９ｎｍ）の光に対し、１．３０以上１．４７未満であることも特徴としてあげられる。 The refractive index of the thin film composition obtained by the present invention is also characterized by being 1.30 or more and less than 1.47 with respect to the light of sodium D line (589 nm).
なお、本発明の光硬化では、高圧水銀灯、定圧水銀灯、タリウムランプ、インジウムランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、紫外線ＬＥＤ、青色ＬＥＤ，白色ＬＥＤ、ハリソン東芝ラィティング社製のエキシマランプ、フュージョン社製のＨバルブ、Ｈプラスバルブ、Ｄバルブ、Ｖバルブ、Ｑバルブ、Ｍバルブ等の発光光が挙げられるほか、太陽光の使用も可能である。光硬化反応が進みにくい場合は、光照射を酸素非存在下で実施することが望ましい。酸素存在下では酸素阻害のためフィルム表面のべたつきがなかなか取れず、開始剤の使用量を増やすことが必要となる。なお、酸素非存在下での硬化方法としては、窒素ガス、炭酸ガス、ヘリウムガス等の雰囲気で行うことが挙げられる。 In the photocuring of the present invention, a high-pressure mercury lamp, a constant-pressure mercury lamp, a thallium lamp, an indium lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, an ultraviolet LED, a blue LED, a white LED, an excimer lamp manufactured by Harrison Toshiba Lighting, an H manufactured by Fusion In addition to light emitted from bulbs, H plus bulbs, D bulbs, V bulbs, Q bulbs, M bulbs, etc., sunlight can also be used. If the photocuring reaction is difficult to proceed, it is desirable to carry out light irradiation in the absence of oxygen. In the presence of oxygen, the surface of the film is not sticky due to oxygen inhibition, and it is necessary to increase the amount of initiator used. In addition, as a curing method in the absence of oxygen, it may be performed in an atmosphere of nitrogen gas, carbon dioxide gas, helium gas, or the like.
以下に記載した実施例により、本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 The present invention will be described more specifically with reference to the examples described below, but the present invention is not limited thereto.
光硬化は、ハリソン東芝ライティング社製の高圧水銀灯またはフュージョン社製のＨバルブの光源を用いた。光量計は、ＥＩＴ社製のＵＶ ＰＯＷＥＲ ＰＵＣＫを用いた。屈折率は、２３℃で波長５８９nm（Ｄ線）にて日本分光社製のＭ−１５０で測定した。膜厚は、テクロック社製のＰＧ−２０で測定した。鉛筆硬度は、コーテック社製のＫＴ−ＶＦ２３９１で測定した。 For light curing, a high-pressure mercury lamp manufactured by Harrison Toshiba Lighting Co. or an H bulb light source manufactured by Fusion Co. was used. A UV POWER PUCK manufactured by EIT was used as the light meter. The refractive index was measured with M-150 manufactured by JASCO Corporation at 23 ° C. and a wavelength of 589 nm (D line). The film thickness was measured with PG-20 manufactured by Teclock. The pencil hardness was measured with KT-VF2391 manufactured by Cortec.
光硬化の判定は、タックフリーテスト（指触テスト）に基づいて行った。すなわち、光照射によりフィルム表面の光硬化性組成物のタック（べたつき）が取れるまでの時間を硬化時間とした。 Determination of photocuring was performed based on a tack-free test (finger touch test). That is, the time until the photocuring composition on the film surface was tacky by light irradiation was taken as the curing time.
（実施例１）
東ソー・エフテック社製の２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレートを９．０ｇ、新中村工業社製のＡ−ＤＣＰ（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート）を１．０ｇ、チバガイギー社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を２００ｍｇ、エボニック社製のＲ２０２（ジメチルシリコンオイル処理のフュームドシリカ）を５ｍｇ混合し、目視にて均一になるまで攪拌した。その溶液の一部を松浪硝子工業社製のガラス板（５０ｍｍｘ４０ｍｍｘ０．１ｍｍ）上にスポイトで５４．３ｍｇ移し、ハリソン東芝ライティング社の高圧水銀ランプで約１秒間（３２０ｎｍ〜３９０ｎｍ、５００ｍＪ／ｃｍ２）、そのガラス板上の組成物を照射したところ、べたつきのない透明な薄膜が得られた。その薄膜の膜厚は８μｍで、鉛筆硬度は、５Ｈで、屈折率は、１．４４であった。
Example 1
9.0 g of 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate manufactured by Tosoh F-Tech, 1.0 g of A-DCP (tricyclodecane dimethanol diacrylate) manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd., IRGACURE 184 manufactured by Ciba-Geigy 200 mg, 5 mg of R202 (fumed silica treated with dimethyl silicone oil) manufactured by Evonik Co., Ltd. were mixed, and stirred until visually uniform. A part of the solution was transferred onto a glass plate (50 mm × 40 mm × 0.1 mm) manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd. with a dropper, and about 1 second (320 nm to 390 nm, 500 mJ / cm 2 ) with a high-pressure mercury lamp manufactured by Harrison Toshiba Lighting. When the composition on the glass plate was irradiated, a transparent thin film without stickiness was obtained. The thin film had a thickness of 8 μm, a pencil hardness of 5H, and a refractive index of 1.44.
（実施例２）
大阪有機工業社製の２，２，２−トリフルオロエチルアクリレートを９．０ｇ、日本化薬社製のＫＡＹＡ−Ｒ６８４（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート）を１．０ｇ、チバガイギー社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を２００ｍｇ、エボニック社製のＲ２０２（ジメチルシリコンオイル処理のフュームドシリカ）を５ｍｇ混合し、目視にて均一になるまで攪拌した。その溶液の一部を松浪硝子工業社製のガラス板（５０ｍｍｘ４０ｍｍｘ０．１ｍｍ）上にスポイトで４０．４ｍｇ移し、ハリソン東芝ライティング社の高圧水銀ランプで約１秒間（３２０ｎｍ〜３９０ｎｍ、５００ｍＪ／ｃｍ２）、そのガラス板上の組成物を照射したところ、べたつきのない透明な薄膜が得られた。その薄膜の膜厚は９μｍで、鉛筆硬度は、５Ｈで、屈折率は、１．４３であった。
(Example 2)
9.0 g of 2,2,2-trifluoroethyl acrylate manufactured by Osaka Organic Industry Co., Ltd., 1.0 g of KAYA-R684 (tricyclodecane dimethanol diacrylate) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., IRGACURE 184 manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd. 200 mg, 5 mg of R202 (fumed silica treated with dimethyl silicone oil) manufactured by Evonik Co., Ltd. were mixed, and stirred until visually uniform. Transfer 40.4 mg of a part of the solution onto a glass plate (50 mm × 40 mm × 0.1 mm) manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd. with a dropper and use a high-pressure mercury lamp manufactured by Harrison Toshiba Lighting Co. for about 1 second (320 nm to 390 nm, 500 mJ / cm 2 ). When the composition on the glass plate was irradiated, a transparent thin film without stickiness was obtained. The thin film had a thickness of 9 μm, a pencil hardness of 5H, and a refractive index of 1.43.
（実施例３）
東ソー・エフテック社製の２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレートを９．０ｇ、新中村工業社製のＮＫ−ＮＯＤ（１，９−ノナンジオールジメタクリレート）を１．０ｇ、チバガイギー社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を２００ｍｇ、エボニック社製のＲ２０２（ジメチルシリコンオイル処理のフュームドシリカ）を５ｍｇ混合し、目視にて均一になるまで攪拌した。その溶液の一部を松浪硝子工業社製のガラス板（５０ｍｍｘ４０ｍｍｘ０．１ｍｍ）上にスポイトで５４．３ｍｇ移し、ハリソン東芝ライティング社の高圧水銀ランプで約１秒間（３２０ｎｍ〜３９０ｎｍ、５００ｍＪ／ｃｍ２）、そのガラス板上の組成物を照射したところ、べたつきのない透明な薄膜が得られた。その薄膜の膜厚は８μｍで、鉛筆硬度は、Ｈで、屈折率は、１．４４であった。
(Example 3)
9.0 g of 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate manufactured by Tosoh F-Tech, 1.0 g of NK-NOD (1,9-nonanediol dimethacrylate) manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd., IRGACURE 184 manufactured by Ciba Geigy 200 mg and 5 mg of R202 (fumed silica treated with dimethyl silicone oil) manufactured by Evonik Co. were mixed and stirred until visually uniform. A part of the solution was transferred onto a glass plate (50 mm × 40 mm × 0.1 mm) manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd. with a dropper, and about 1 second (320 nm to 390 nm, 500 mJ / cm 2 ) with a high-pressure mercury lamp manufactured by Harrison Toshiba Lighting. When the composition on the glass plate was irradiated, a transparent thin film without stickiness was obtained. The thin film had a thickness of 8 μm, a pencil hardness of H, and a refractive index of 1.44.
（実施例４）
東ソー・エフテック社製の２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレートを９．０ｇ、新中村工業社製のＡ−ＤＣＰ（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート）を１．０ｇ、新中村工業社製のＮＫ−７０１（２−ヒドロキシ−１，３−ジメタクリロイルプロパン）を１００ｍｇ、チバガイギー社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７を２００ｍｇ、エボニック社製のＲ２０２（ジメチルシリコンオイル処理のフュームドシリカ）を５ｍｇ混合し、目視にて均一になるまで攪拌した。その溶液の一部を松浪硝子工業社製のガラス板（５０ｍｍｘ４０ｍｍｘ０．１ｍｍ）上にスポイトで４７．５ｍｇ移し、フュージョン社のＨバルブで約１秒間（３２０ｎｍ〜３９０ｎｍ、５００ｍＪ／ｃｍ２）、そのガラス板上の組成物を照射したところ、べたつきのない透明な薄膜が得られた。その薄膜の膜厚は９μｍで、鉛筆硬度は、４Ｈで、屈折率は、１．４２であった。
Example 4
9.0 g of 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate manufactured by Tosoh F-Tech, 1.0 g of A-DCP (tricyclodecane dimethanol diacrylate) manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd. NK-701 (2-hydroxy-1,3-dimethacryloylpropane) 100 mg, Ciba-Geigy IRGACURE127 200 mg, Evonik R202 (dimethyl silicon oil-treated fumed silica) were mixed and visually observed. Stir until uniform. Part of the solution was transferred onto a glass plate (50 mm × 40 mm × 0.1 mm) manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd. with a dropper, and the glass was moved for about 1 second (320 nm to 390 nm, 500 mJ / cm 2 ) using a Fusion H valve. When the composition on the plate was irradiated, a transparent thin film without stickiness was obtained. The thin film had a thickness of 9 μm, a pencil hardness of 4H, and a refractive index of 1.42.
（実施例５）
東ソー・エフテック社製の２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレートを９．０ｇ、新中村工業社製のＡ−ＤＣＰ（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート）を１．０ｇ、チバガイギー社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ１１７３を２００ｍｇ、和光純薬社製のＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）４０ｍｇに溶解したアルケマ社製のカイナーＳＬを１０ｍｇ、エボニック社製のＲ２０２（ジメチルシリコンオイル処理のフュームドシリカ）を５ｍｇ混合し、目視にて均一になるまで攪拌した。その溶液の一部を松浪硝子工業社製のガラス板（５０ｍｍｘ４０ｍｍｘ０．１ｍｍ）上にスポイトで３２．７ｍｇ移し、ハリソン東芝ライティング社の高圧水銀ランプで約５秒間（３２０ｎｍ〜３９０ｎｍ、２０００ｍＪ／ｃｍ２）、そのガラス板上の組成物を照射したところ、べたつきのない薄膜が得られた。その薄膜の膜厚は８μｍで、鉛筆硬度は、Ｈで、屈折率は、１．４５であった。
(Example 5)
9.0 g of 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate manufactured by Tosoh F-Tech, 1.0 g of A-DCP (tricyclodecane dimethanol diacrylate) manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd., IRGACURE 1173 manufactured by Ciba Geigy 200 mg, 10 mg of Arkema's Kyner SL dissolved in 40 mg of MIBK (methyl isobutyl ketone) manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., and 5 mg of R202 (dimethyl silicon oil-treated fumed silica) manufactured by Evonik, were mixed. Stir until uniform. A portion of the solution was transferred onto a glass plate (50 mm × 40 mm × 0.1 mm) manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd. using a dropper, and about 5 seconds (320 nm to 390 nm, 2000 mJ / cm 2 ) using a high-pressure mercury lamp manufactured by Harrison Toshiba Lighting. When the composition on the glass plate was irradiated, a non-sticky thin film was obtained. The thin film had a thickness of 8 μm, a pencil hardness of H, and a refractive index of 1.45.
（実施例６）
東ソー・エフテック社製の２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレートを９．０ｇ、新中村工業社製のＡ−ＤＣＰ（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート）を１．０ｇ、チバガイギー社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を２００ｍｇ、和光純薬社製のＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）４０ｍｇに溶解したアルケマ社製のカイナーＳＬを１０ｍｇ、混合し、目視にて均一になるまで攪拌した。その溶液の一部を松浪硝子工業社製のガラス板（５０ｍｍｘ４０ｍｍｘ０．１ｍｍ）上にスポイトで４９．５ｍｇ移し、ハリソン東芝ライティング社の高圧水銀ランプで約５秒間（３２０ｎｍ〜３９０ｎｍ、２０００ｍＪ／ｃｍ２）、そのガラス板上の組成物を照射したところ、べたつきのない薄膜が得られた。その薄膜の膜厚は８μｍで、鉛筆硬度は、Ｈで、屈折率は、１．４５であった。
(Example 6)
9.0 g of 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate manufactured by Tosoh F-Tech, 1.0 g of A-DCP (tricyclodecane dimethanol diacrylate) manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd., IRGACURE 184 manufactured by Ciba-Geigy 10 mg of Kyner SL manufactured by Arkema Corp. dissolved in 200 mg MIBK (methyl isobutyl ketone) 40 mg manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was mixed and stirred until it became uniform visually. A part of the solution was transferred onto a glass plate (50 mm × 40 mm × 0.1 mm) manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd. with a dropper, and about 5 seconds (320 nm to 390 nm, 2000 mJ / cm 2 ) using a high-pressure mercury lamp manufactured by Harrison Toshiba Lighting. When the composition on the glass plate was irradiated, a non-sticky thin film was obtained. The thin film had a thickness of 8 μm, a pencil hardness of H, and a refractive index of 1.45.
（実施例７）
新中村工業社製のＮＫ−１Ｇ（エチレングリコールジメタクリレート）を１．０ｇ、チバガイギー社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１を２０ｍｇ、和光純薬社製のＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）４．０ｇに溶解したアルケマ社製のカイナーＳＬを１．０ｇ、エボニック社製のＲ２０２（ジメチルシリコンオイル処理のフュームドシリカ）を５ｍｇ混合し、目視にて均一になるまで攪拌した。その溶液の一部を松浪硝子工業社製のガラス板（５０ｍｍｘ４０ｍｍｘ０．１ｍｍ）上にスポイトで３９．５ｍｇ移し、ハリソン東芝ライティング社の高圧水銀ランプで約５秒間（３２０ｎｍ〜３９０ｎｍ、２０００ｍＪ／ｃｍ２）、そのガラス板上の組成物を照射したところ、べたつきのない薄膜が得られた。その薄膜の膜厚は８μｍで、鉛筆硬度は、Ｂで、屈折率は、１．４５であった。
(Example 7)
NK-1G (ethylene glycol dimethacrylate) manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd. 1.0 g, IRGACURE 651 manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd., 20 mg, MIBK (methyl isobutyl ketone) 4.0 g manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. 1.0 g of Kyner SL and 5 mg of R202 (fumed silica treated with dimethyl silicone oil) manufactured by Evonik were mixed and stirred until visually uniform. A portion of the solution was transferred to a glass plate (50 mm × 40 mm × 0.1 mm) manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd. with a dropper, and about 5 seconds (320 nm to 390 nm, 2000 mJ / cm 2 ) using a high-pressure mercury lamp manufactured by Harrison Toshiba Lighting. When the composition on the glass plate was irradiated, a non-sticky thin film was obtained. The thin film had a thickness of 8 μm, a pencil hardness of B, and a refractive index of 1.45.
（実施例８）
新中村工業社製のＢＰＥ−１００（エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート）を１．０ｇ、チバガイギー社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１を２０ｍｇ、和光純薬社製のＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）４．０ｇに溶解したアルケマ社製のカイナーＳＬを１．０ｇ、混合し、目視にて均一になるまで攪拌した。その溶液の一部を松浪硝子工業社製のガラス板（５０ｍｍｘ４０ｍｍｘ０．１ｍｍ）上にスポイトで３５．５ｍｇ移し、ハリソン東芝ライティング社の高圧水銀ランプで約５秒間（３２０ｎｍ〜３９０ｎｍ、２０００ｍＪ／ｃｍ２）、そのガラス板上の組成物を照射したところ、べたつきのない薄膜が得られた。その薄膜の膜厚は８μｍで、鉛筆硬度は、２Ｂで、屈折率は、１．４５であった。
(Example 8)
Arkema Co., Ltd. dissolved in 1.0 g of BPE-100 (ethoxylated bisphenol A dimethacrylate) manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd., 20 mg of IRGACURE651 manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd. and 4.0 g of MIBK (methyl isobutyl ketone) manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. 1.0 g of manufactured Kyner SL was mixed and stirred until it became uniform visually. A part of the solution was transferred to a glass plate (50 mm × 40 mm × 0.1 mm) manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd. with a dropper, and about 5 seconds (320 nm to 390 nm, 2000 mJ / cm 2 ) using a high-pressure mercury lamp manufactured by Harrison Toshiba Lighting. When the composition on the glass plate was irradiated, a non-sticky thin film was obtained. The thin film had a thickness of 8 μm, a pencil hardness of 2B, and a refractive index of 1.45.
（実施例９）
東ソー・エフテック社製の２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレートをＰｏｌｙｍｅｒ Ｊｏｕｒｎａｌ誌の１９９４年、１０巻、１１１８〜１１２３ページに記載の合成法により得たポリ２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレートを９．０ｇ、新中村工業社製のＡ−ＤＣＰ（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート）を１．０ｇ、チバガイギー社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を２００ｍｇ、エボニック社製のＲ２０２（ジメチルシリコンオイル処理のフュームドシリカ）を５ｍｇ混合し、目視にて均一になるまで攪拌した。その溶液の一部を松浪硝子工業社製のガラス板（５０ｍｍｘ４０ｍｍｘ０．１ｍｍ）上にスポイトで５４．３ｍｇ移し、ハリソン東芝ライティング社の高圧水銀ランプで約１秒間（３２０ｎｍ〜３９０ｎｍ、５００ｍＪ／ｃｍ２）、そのガラス板上の組成物を照射したところ、べたつきのない透明な薄膜が得られた。その薄膜の膜厚は８μｍで、鉛筆硬度は、５Ｈで、屈折率は、１．４３であった。
Example 9
Poly 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate obtained by a synthesis method described in Tosoh F-Tech Co., 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate described in Polymer Journal, 1994, Vol. 10, pages 1118 to 1123 9.0 g, 1.0 g of A-DCP (tricyclodecanedimethanol diacrylate) manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd., 200 mg of IRGACURE 184 manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd., R202 (fumed silica treated with dimethyl silicone oil) manufactured by Evonik ) Was mixed and stirred until visually uniform. A part of the solution was transferred onto a glass plate (50 mm × 40 mm × 0.1 mm) manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd. with a dropper, and about 1 second (320 nm to 390 nm, 500 mJ / cm 2 ) with a high-pressure mercury lamp manufactured by Harrison Toshiba Lighting. When the composition on the glass plate was irradiated, a transparent thin film without stickiness was obtained. The thin film had a thickness of 8 μm, a pencil hardness of 5H, and a refractive index of 1.43.
（実施例１０）
東ソー・エフテック社製の２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレートをＰｏｌｙｍｅｒ Ｊｏｕｒｎａｌ誌の１９９４年、１０巻、１１１８〜１１２３ページに記載の合成法により得たポリ２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレートを９．０ｇ、新中村工業社製のＡ−ＴＭＭ−３Ｌ（ペンタエリスリトールトリアクリレート）を１．０ｇ、チバガイギー社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を２００ｍｇ、エボニック社製のＲ２０２（ジメチルシリコンオイル処理のフュームドシリカ）を５ｍｇ混合し、目視にて均一になるまで攪拌した。その溶液の一部を松浪硝子工業社製のガラス板（５０ｍｍｘ４０ｍｍｘ０．１ｍｍ）上にスポイトで５４．３ｍｇ移し、ハリソン東芝ライティング社の高圧水銀ランプで約１秒間（３２０ｎｍ〜３９０ｎｍ、５００ｍＪ／ｃｍ２）、そのガラス板上の組成物を照射したところ、べたつきのない透明な薄膜が得られた。その薄膜の膜厚は８μｍで、鉛筆硬度は、３Ｈで、屈折率は、１．４３であった。
(Example 10)
Poly 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate obtained by a synthesis method described in Tosoh F-Tech Co., 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate described in Polymer Journal, 1994, Vol. 10, pages 1118 to 1123 9.0 g, 1.0 g of A-TMM-3L (pentaerythritol triacrylate) manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd., 200 mg of IRGACURE 184 manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd., R202 (fumed silica treated with dimethyl silicone oil) manufactured by Evonik 5 mg was mixed and stirred until visually uniform. A part of the solution was transferred onto a glass plate (50 mm × 40 mm × 0.1 mm) manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd. with a dropper, and about 1 second (320 nm to 390 nm, 500 mJ / cm 2 ) with a high-pressure mercury lamp manufactured by Harrison Toshiba Lighting. When the composition on the glass plate was irradiated, a transparent thin film without stickiness was obtained. The thin film had a thickness of 8 μm, a pencil hardness of 3H, and a refractive index of 1.43.
（実施例１１）
東ソー・エフテック社製の２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレートをＰｏｌｙｍｅｒ Ｊｏｕｒｎａｌ誌の１９９４年、１０巻、１１１８〜１１２３ページに記載の合成法により得たポリ２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレートを４．５ｇ、東ソー・エフテック社製の２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレートを４．５ｇ、新中村工業社製のＡ−ＤＣＰ（トリシクロデカンジメタノールジアクリレート）を１．０ｇ、チバガイギー社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４とＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４を各々１００ｍｇ、エボニック社製のＲ２０２（ジメチルシリコンオイル処理のフュームドシリカ）を５ｍｇ混合し、目視にて均一になるまで攪拌した。その溶液の一部を松浪硝子工業社製のガラス板（５０ｍｍｘ４０ｍｍｘ０．１ｍｍ）上にスポイトで５４．３ｍｇ移し、ハリソン東芝ライティング社の高圧水銀ランプで約１秒間（３２０ｎｍ〜３９０ｎｍ、５００ｍＪ／ｃｍ２）、そのガラス板上の組成物を照射したところ、べたつきのない透明な薄膜が得られた。その薄膜の膜厚は８μｍで、鉛筆硬度は、５Ｈで、屈折率は、１．４３であった。
(Example 11)
Poly 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate obtained by a synthesis method described in Tosoh F-Tech Co., 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate described in Polymer Journal, 1994, Vol. 10, pages 1118 to 1123 4.5 g, 4.5 g of 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate manufactured by Tosoh F-Tech, 1.0 g of A-DCP (tricyclodecane dimethanol diacrylate) manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd., Ciba-Geigy 100 mg each of IRGACURE 184 and IRGACURE 184 manufactured by KK and 5 mg of R202 (fumed silica treated with dimethyl silicone oil) manufactured by Evonik were mixed and stirred until visually uniform. A part of the solution was transferred onto a glass plate (50 mm × 40 mm × 0.1 mm) manufactured by Matsunami Glass Industrial Co., Ltd. with a dropper, and about 1 second (320 nm to 390 nm, 500 mJ / cm 2 ) with a high-pressure mercury lamp manufactured by Harrison Toshiba Lighting. When the composition on the glass plate was irradiated, a transparent thin film without stickiness was obtained. The thin film had a thickness of 8 μm, a pencil hardness of 5H, and a refractive index of 1.43.
光硬化により得られる当該薄膜は、ワープロ、コンピュータ、テレビ等の各種ディスプレイ、太陽電池、各種光学レンズ、光学部品、自動車や電車の窓ガラス表面等の光反射防止膜として用いることが出来る。 The thin film obtained by photocuring can be used as an antireflection film for various displays such as word processors, computers, and televisions, solar cells, various optical lenses, optical components, automobile and train window glass surfaces, and the like.
Claims (8)
式（１）、
Formula (1),
A low-refractive-index cured thin film, wherein the low-refractive-index thin film composition according to any one of claims 1 to 7 is formed into a thin film and cured by irradiation with light.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009039453A JP2010195859A (en) | 2009-02-23 | 2009-02-23 | Low-refractive index thin-film composition and low-refractive index cured thin film |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010195859A true JP2010195859A (en) | 2010-09-09 |
Family
ID=42820908
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009039453A Pending JP2010195859A (en) | 2009-02-23 | 2009-02-23 | Low-refractive index thin-film composition and low-refractive index cured thin film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2010195859A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9310527B2 (en) | 2011-03-09 | 2016-04-12 | 3M Innovative Properties Company | Antireflective film comprising large particle size fumed silica |
| WO2020105671A1 (en) * | 2018-11-22 | 2020-05-28 | 東レ・ファインケミカル株式会社 | Fluorine-containing polymer particles |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63248807A (en) * | 1987-04-03 | 1988-10-17 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Photosetting composition |
| JPH02129146A (en) * | 1988-11-08 | 1990-05-17 | Central Glass Co Ltd | 1,3-bis(2-hydroxyhexafluoroisopropyl)-4-fluorobenzene diacrylate or dimethacrylate, polymer material and photo-setting dental resin composition containing the same as component |
| JPH08100136A (en) * | 1994-09-28 | 1996-04-16 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Fluorine-based coating material |
| JP2001151970A (en) * | 1999-09-13 | 2001-06-05 | Daikin Ind Ltd | Fluororesin composition capable of film-forming at low temperature |
| WO2007146509A1 (en) * | 2006-06-13 | 2007-12-21 | 3M Innovative Properties Company | Fluoro(meth)acrylate polymer composition suitable for low index layer of antireflective film |
| JP2009096990A (en) * | 2007-09-26 | 2009-05-07 | Fujifilm Corp | Photocurable coating composition, overprint, and method for producing it |
-
2009
- 2009-02-23 JP JP2009039453A patent/JP2010195859A/en active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63248807A (en) * | 1987-04-03 | 1988-10-17 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Photosetting composition |
| JPH02129146A (en) * | 1988-11-08 | 1990-05-17 | Central Glass Co Ltd | 1,3-bis(2-hydroxyhexafluoroisopropyl)-4-fluorobenzene diacrylate or dimethacrylate, polymer material and photo-setting dental resin composition containing the same as component |
| JPH08100136A (en) * | 1994-09-28 | 1996-04-16 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Fluorine-based coating material |
| JP2001151970A (en) * | 1999-09-13 | 2001-06-05 | Daikin Ind Ltd | Fluororesin composition capable of film-forming at low temperature |
| WO2007146509A1 (en) * | 2006-06-13 | 2007-12-21 | 3M Innovative Properties Company | Fluoro(meth)acrylate polymer composition suitable for low index layer of antireflective film |
| JP2009096990A (en) * | 2007-09-26 | 2009-05-07 | Fujifilm Corp | Photocurable coating composition, overprint, and method for producing it |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9310527B2 (en) | 2011-03-09 | 2016-04-12 | 3M Innovative Properties Company | Antireflective film comprising large particle size fumed silica |
| WO2020105671A1 (en) * | 2018-11-22 | 2020-05-28 | 東レ・ファインケミカル株式会社 | Fluorine-containing polymer particles |
| JP6773922B1 (en) * | 2018-11-22 | 2020-10-21 | 東レ・ファインケミカル株式会社 | Fluorine-containing polymer particles |
| CN112839970A (en) * | 2018-11-22 | 2021-05-25 | 东丽株式会社 | Fluoropolymer particles |
| CN112839970B (en) * | 2018-11-22 | 2022-08-30 | 东丽株式会社 | Fluoropolymer particles |
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| A977 | Report on retrieval |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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