JP2010177343A - Device for manufacturing thin film laminate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、帯状可撓性基板上に複数の薄膜を形成して、薄膜光電変換素子などの薄膜積層体を製造する装置に関する。 The present invention relates to an apparatus for producing a thin film laminate such as a thin film photoelectric conversion element by forming a plurality of thin films on a strip-like flexible substrate.
半導体薄膜などの薄膜積層体の基板には、通常、剛性基板が用いられるが、軽量でロールを介した取り扱いの利便性による生産性向上やコスト低減を目的として、プラスチックフィルムなどの可撓性基板が用いられる場合がある。例えば、特許文献1には、巻出しロールから供給される帯状可撓性基板(ポリイミドフィルム)を所定のピッチで間欠的に搬送しながら、前記可撓性基板の搬送方向に配列された複数の成膜ユニットで、前記可撓性基板上に性質の異なる複数の薄膜を積層形成し、製品ロールとして巻取る薄膜積層体の製造装置が開示されている。
A rigid substrate is usually used as a substrate for a thin film laminate such as a semiconductor thin film. However, a flexible substrate such as a plastic film is used for the purpose of improving productivity and reducing costs due to the convenience of handling through a roll. May be used. For example,
このような薄膜積層体の製造装置には、帯状可撓性基板の幅方向を水平方向に一致させて搬送しつつ成膜を行なうタイプと、帯状可撓性基板の幅方向を鉛直方向に一致させて搬送しつつ成膜を行なうタイプがある。後者は前者に比べて設置面積が小さく、基板表面が汚染されにくい等の利点があるが、搬送スパンが長くなると、重力に抗して搬送高さを一定に維持するのが困難になり、可撓性基板の表面に皺が発生したり、可撓性基板が垂れ下がったりする傾向が顕著になる。 In such a thin film laminate manufacturing apparatus, the film forming type is performed while the width direction of the belt-like flexible substrate is made to coincide with the horizontal direction, and the width direction of the belt-like flexible substrate is made to coincide with the vertical direction. There is a type in which a film is formed while being conveyed. The latter has advantages such as a smaller installation area and less contamination of the substrate surface than the former. However, if the transport span is increased, it becomes difficult to keep the transport height constant against gravity. The tendency that wrinkles occur on the surface of the flexible substrate or the flexible substrate hangs down becomes significant.
特許文献1には、可撓性基板のステップ搬送における停止期間中に、可撓性基板の上下の側縁部を把持部材(パッド)で把持して幅方向に引張する装置が開示されている。しかし、この装置は、可撓性基板の把持と引張、解放を反復するため、可撓性基板の搬送高さを一定に維持することは困難であり、また、可撓性基板を連続的に搬送しつつ成膜を行なう連続成膜装置には実施できない。
そこで、可撓性基板の上下の側縁部を挟持する上側および下側挟持ローラを成膜部間に配設し、それぞれの挟持ローラの挟持部における回転方向を、可撓性基板の搬送方向に対して斜上方および斜下方に向かう偏角を有するようにして、可撓性基板の上下の側縁部に上方および下方に向かう持ち上げ力および引き下げ力を作用させ、可撓性基板の搬送高さを調整可能とした薄膜積層体の製造装置が開発されている。 Therefore, the upper and lower clamping rollers that sandwich the upper and lower side edges of the flexible substrate are disposed between the film forming units, and the rotation direction of the clamping unit of each clamping roller depends on the conveyance direction of the flexible substrate. The upper and lower side edges of the flexible substrate are subjected to upward and downward lifting and lowering forces so as to have an oblique angle upward and downward with respect to the height of the flexible substrate. An apparatus for manufacturing a thin film laminate that can adjust the thickness has been developed.
この装置において、可撓性基板の上側縁部(下側縁部)に対する持ち上げ力(引き下げ力)は、挟持ローラの偏角と挟持圧に関連しており、偏角が一定であれば、挟持圧を大きくすることで持ち上げ力(引き下げ力)が大きくなる。この際、挟持ローラ付近では、図3に示すように、可撓性基板1が挟持ローラ50を中心にねじられる傾向があるため、より広範囲で発生する皺や弛みを展張するために、挟持ローラを基板搬送方向に複数設置すると、個々の挟持ローラの展張作用が相互に干渉し、設備に見合った展張効果が得られないという新たな課題が生じた。
In this apparatus, the lifting force (lowering force) with respect to the upper edge (lower edge) of the flexible substrate is related to the deflection angle and clamping pressure of the clamping roller. Increasing the pressure increases the lifting force (lowering force). At this time, as shown in FIG. 3, the
本発明は、上記のような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、帯状可撓性基板を縦姿勢で搬送しつつも可撓性基板の下垂や皺の発生を広範囲に亘って抑制でき、高品質の製品を製造可能な薄膜積層体の製造装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and its purpose is to extend the occurrence of drooping and wrinkles on a flexible substrate while conveying the belt-like flexible substrate in a vertical position. An object of the present invention is to provide a manufacturing apparatus for a thin film laminate that can be suppressed and can manufacture a high-quality product.
上記目的を達成するために、本発明は、帯状の可撓性基板を、その幅方向を鉛直方向にして水平方向に搬送しながら、前記基板の搬送経路に設置された成膜部(2)にて、前記基板の表面に薄膜を積層形成する薄膜積層体の製造装置であって、前記基板の上側縁部を挟持する一対の挟持ローラ(51,52)、前記一対の挟持ローラを回転可能かつ相互に接離可能に支持する支持機構部(53,54,55)、および該支持機構部を介して前記一対の挟持ローラに加圧力を付与する付勢手段(56)を有する、複数の挟持ローラユニット(5)を備え、前記各挟持ローラユニットは、基板搬送方向に並設され、かつ、前記成膜部の固定電極枠部(20)に、それぞれ基板搬送面と交差する方向の軸回りに揺動可能に支持されるとともに、それぞれの挟持ローラの回転軸が互いに平行に維持されるようにリンク部材(6)で相互に連結されており、前記リンク部材を基板搬送方向に進退変位させる駆動手段(7)をさらに備えた、薄膜積層体の製造装置にある。 In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a film forming section (2) installed on a transport path of the substrate while transporting a strip-shaped flexible substrate in the horizontal direction with its width direction set to the vertical direction. The thin film laminate manufacturing apparatus for laminating and forming thin films on the surface of the substrate, wherein the pair of sandwiching rollers (51, 52) sandwiching the upper edge of the substrate and the pair of sandwiching rollers are rotatable And a plurality of support mechanism parts (53, 54, 55) that are detachably supported, and biasing means (56) that applies pressure to the pair of sandwiching rollers via the support mechanism parts. The sandwiching roller unit (5) is provided, and each of the sandwiching roller units is arranged in parallel in the substrate transport direction, and the axis of the fixed electrode frame (20) of the film forming unit intersects the substrate transport surface. Supported so that it can swing around Link members (6) are connected to each other so that the rotation shafts of the sandwiching rollers are maintained in parallel to each other, and further provided with drive means (7) for moving the link members forward and backward in the substrate transport direction. It exists in the manufacturing apparatus of a thin film laminated body.
本発明に係る薄膜積層体の製造装置は、上記の通り構成されているので、駆動手段とリンク部材により、帯状可撓性基板の搬送方向に並設された全ての挟持ローラ対に、等しい偏角を容易に設定でき、かつ同位相で調整可能となり、成膜部における可撓性基板の広範囲に亘って挟持ローラの展張力を安定的に作用させ、可撓性基板を縦姿勢で搬送しつつも該基板の下垂や皺の発生を成膜部の広範囲に亘って抑制でき、高品質の製品を製造する上で有利である。また、駆動手段とリンク部材により、全ての挟持ローラユニットを一斉に反転させることで、可撓性基板の逆方向への搬送を含む往復成膜プロセスに対応できる利点もある。 Since the apparatus for manufacturing a thin film laminate according to the present invention is configured as described above, the driving device and the link member are used to equalize all the sandwiching roller pairs arranged in parallel in the transport direction of the belt-like flexible substrate. The angle can be easily set and adjusted in the same phase, and the tension of the holding roller is stably applied over a wide range of the flexible substrate in the film forming section, and the flexible substrate is conveyed in a vertical posture. However, the occurrence of drooping or wrinkles on the substrate can be suppressed over a wide range of the film forming portion, which is advantageous in producing a high-quality product. Also, there is an advantage that it is possible to cope with a reciprocating film forming process including conveyance of the flexible substrate in the reverse direction by reversing all the nipping roller units simultaneously by the driving means and the link member.
本発明の好適な態様では、前記成膜部における前記基板の上端位置を検出する上端位置センサ(8)と、前記上端位置センサの検出値に基づいて前記駆動手段を制御する制御手段と、をさらに備えている。 In a preferred aspect of the present invention, an upper end position sensor (8) for detecting an upper end position of the substrate in the film forming unit, and a control unit for controlling the driving unit based on a detection value of the upper end position sensor, It has more.
上述したように、本発明に係る装置構成では、成膜部における可撓性基板の広範囲に亘って挟持ローラの展張力を安定的に作用させることができるため、少ない検出地点、例えば1箇所の検出地点における上端位置の検出によっても、可撓性基板の上端位置を成膜部の広範囲に亘って一定に維持することができる。 As described above, in the apparatus configuration according to the present invention, the tension of the holding roller can be stably applied over a wide range of the flexible substrate in the film forming unit, and therefore, a small number of detection points, for example, one point Also by detecting the upper end position at the detection point, the upper end position of the flexible substrate can be kept constant over a wide range of the film forming unit.
本発明のさらに好適な態様では、前記基板の下側縁部を挟持する一対の下側挟持ローラ、前記一対の下側挟持ローラを回転可能かつ相互に接離可能に支持する支持機構部、および該支持機構部を介して前記一対の下側挟持ローラに加圧力を付与する付勢手段を有する、複数の下側挟持ローラユニットであって、基板搬送方向に並設され、かつ、前記成膜部の固定電極枠部に、それぞれ基板搬送面と交差する方向の軸回りに揺動可能に支持されるとともに、それぞれの下側挟持ローラの回転軸が互いに平行に維持されるように下側リンク部材で相互に連結されているような複数の下側挟持ローラユニット(5′)と、前記下側リンク部材を基板搬送方向に進退変位させる下側駆動手段(7′)と、前記成膜部における前記基板の上端位置を検出する上端位置センサ(8′)と、前記上端位置センサの検出値に基づいて前記駆動手段を制御する制御手段と、をさらに備えている。 In a further preferred aspect of the present invention, a pair of lower sandwiching rollers that sandwich the lower edge of the substrate, a support mechanism that supports the pair of lower sandwiching rollers in a rotatable manner and in contact with each other, and A plurality of lower clamping roller units having biasing means for applying pressure to the pair of lower clamping rollers via the support mechanism, and arranged in parallel in the substrate transport direction, and the film formation The lower link is supported by the fixed electrode frame portion of the portion so as to be swingable about an axis in a direction intersecting the substrate transport surface, and the rotation axes of the respective lower clamping rollers are maintained parallel to each other. A plurality of lower clamping roller units (5 ') connected to each other by members, a lower drive means (7') for moving the lower link member forward and backward in the substrate transport direction, and the film forming section Detect the top position of the board at That the upper end position sensor (8 '), and further comprising a control means for controlling said drive means based on a detection value of the upper end position sensor.
この構成により、成膜部における可撓性基板の広範囲に亘って、上下幅方向の両側から複数の挟持ローラの展張力を安定的に作用させることが可能となり、加熱皺が発生しやすい連続式成膜プロセスに特に有利である。特に、上端および下端位置を同時に検出し、それらの検出値を、上下の駆動手段に反映させることで、可撓性基板を成膜部の広範囲に亘って上下幅方向に展張しつつ搬送高さを一定に維持するうえで有利である。 With this configuration, it is possible to stably apply the tension of the plurality of sandwiching rollers from both sides in the vertical width direction over a wide range of the flexible substrate in the film forming unit, and a continuous type in which heating flaws are likely to occur. This is particularly advantageous for the film forming process. In particular, the upper and lower positions are detected at the same time, and the detected values are reflected in the upper and lower drive means, so that the flexible substrate can be extended in the vertical width direction over a wide area of the film forming unit. Is advantageous in maintaining a constant value.
本発明のさらに好適な態様では、前記基板の薄膜形成領域と前記複数対の上側挟持ローラとの間および前記複数対の下側挟持ローラとの間に基板搬送方向に沿ってそれぞれ延設され、前記基板を前記薄膜形成領域の上下両側で張支する一対のガイド部材(23,23)をさらに備えている。 In a further preferred aspect of the present invention, the thin film forming region of the substrate and the plurality of pairs of upper sandwiching rollers and the plurality of pairs of lower sandwiching rollers are respectively extended along the substrate transport direction, A pair of guide members (23, 23) for supporting the substrate on both upper and lower sides of the thin film forming region is further provided.
この構成により、薄膜形成領域の上下各側に比較的狭いピッチで複数の挟持ローラ(ユニット)を並設した場合にも、上下両側のガイド部材によって、個々の挟持ローラの展張力で発生する干渉皺が緩和され、薄膜形成領域への伝搬が抑制されるとともに、各ガイド部材で可撓性基板が支承されることによる位置決め効果も期待できる。 With this configuration, even when a plurality of sandwiching rollers (units) are arranged at a relatively narrow pitch on each of the upper and lower sides of the thin film formation region, interference generated by the tension of each sandwiching roller by the upper and lower guide members. The wrinkles are alleviated, the propagation to the thin film formation region is suppressed, and a positioning effect due to the flexible substrate being supported by each guide member can be expected.
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1は、本発明を、連続成膜方式の薄膜積層体製造装置に適用した実施形態における1つの成膜部2を示している。薄膜積層体の製造装置は、帯状の可撓性基板1(フレキシブルフィルム)を、その幅方向を鉛直方向にして水平方向に搬送しつつ、その搬送経路に沿って並設された少なくとも1つの成膜部2において可撓性基板1の表面に薄膜を積層形成するものである。
FIG. 1 shows one
成膜部2の搬送方向上流側および下流側には、可撓性基板1を成膜部2に案内するガイドロール3,4が配設され、それらの搬送方向上流側および下流側には、搬送手段を構成するフィードローラやテンションローラを介して可撓性基板1の巻出し/巻取りロールが配設されている。フィードローラや巻出し/巻取りロールなどの駆動系は、往復成膜プロセスに対応すべく正逆両方向に駆動可能な駆動系が採用される。成膜部2および搬送手段は、所定の真空度に維持された真空室内に配置され、その基本構成は従来と同様であるため図示を省略する。
成膜部2は、プラズマCVDなどの化学蒸着や、スパッタなどの物理蒸着を行なうための蒸着装置で構成され、図2に示すように、可撓性基板1を挟んでその両側に対向配置された電極21(高周波電極またはターゲット)と、ヒータを内蔵した接地電極22とを備えている。これら電極21および接地電極22は、可撓性基板1に対して所定のギャップを有して固定的に配置され、非接触で連続成膜を行なうように構成されている。
The
可撓性基板1は、搬送手段により所定の搬送張力を付与されて上記ガイドロール3,4間に張架され、かつ前記ヒータで加熱されつつ成膜部2を搬送されるため、上下幅方向中央付近で張力皺や加熱皺が生じ易いこと、自重による垂下が生じうることは既に述べた通りである。そこで、成膜部2における可撓性基板1の上下方向の位置を制御して搬送高さを一定に維持しつつ上下幅方向に展張するために、可撓性基板1の搬送経路の上下各側に、搬送方向Fに沿って各4つの挟持ローラユニット5,5′が並設されている。
The
上下の挟持ローラユニット5,5′は、基本的に同構造であり、図2に示すように、それぞれ、可撓性基板1の上下各側縁部を挟持する各一対の挟持ローラ(51,52)を備えている。挟持ローラの一方は固定ローラ51、他方は可動ローラ52であり、固定側および可動側支持部材53,54の下端部(ローラ支軸)に、スラスト荷重を受圧できるようにベアリングを介して回転自在に支持されている。
The upper and lower
固定側支持部材53の中間部には、搬送面と交差する方向に延出するブラケット55が固着され、該ブラケット55の先端部に、可動側支持部材54が、軸54aを介して固定側支持部材53に接離する方向に揺動可能に支持されている。ブラケット55から上方に延出した固定側支持部材53および可動側支持部材54の上端部53b,54b間には、スプリング56(圧縮スプリング)が介装されており、該スプリング56の弾発力により可動側支持部材54が図2中時計方向に付勢され、可動ローラ52が固定ローラ51に圧接されるように構成されている。
A
また、スプリング56の一端と、固定側支持部材53の上端部53bとの間には、調整ネジ56aが設けられており、該調整ネジ56aを回動してスプリング56の初期変位を調整することにより、挟持ローラ(51,52)の加圧力すなわち可撓性基板1に対する挟持力を調整可能である。
An
上記のように構成された各挟持ローラユニット5,5′は、電極21の固定枠部20に突設された軸53aに固定側支持部材53が回動可能に支持され、それぞれが搬送面と平行な面内で揺動可能に支持されるとともに、それぞれの固定側支持部材53の上端部53bが、平行リンク機構を構成するリンク部材6,6′で相互に連結され、各リンク部材6,6′の一端は、サーボモータなどのアクチュエータ7,7′に連結されている。
In each of the sandwiching
この構成により、アクチュエータ7,7′を作動させ、上下のリンク部材6,6′を搬送方向F(R)に進退変位させることにより、各挟持ローラ(51,52)の回転軸方向を互いに平行に維持した状態で、各挟持ローラユニット5,5′の挟持ローラ(51,52)挟持面における偏角(±θ)、すなわち挟持面におけるローラ回転方向の搬送方向F(R)に対する角度を、正逆両方の角度範囲で一斉に調整可能である。
With this configuration, the
さらに、成膜部2の搬送方向F(R)中央の上下各側には、可撓性基板1の上端位置および下端位置を検出するセンサ8,8′が配設され、センサ8,8′は、図示しない制御装置に接続されている。該制御装置は、各センサ8,8′の検出値に基づいてアクチュエータ7,7′を制御し、上下のリンク部材6,6′の変位を制御するように設定されている。
Further,
また、成膜部2は、電極21の薄膜形性領域と、その上下両側に搬送方向F(R)に沿って並設された各挟持ローラ(51,52)の挟持部との間で、可撓性基板1を張支する上下一対のガイド部材23,23を備えている。ガイド部材23,23は、電極21の上下両側の縁部に沿って延在し、可撓性基板1を少ない摺動抵抗で案内可能な平滑かつ低摩擦な案内面を有している。ガイド部材23,23は、挟持ローラ(51,52)の挟持面に対して搬送面側に突出しており、可撓性基板1を僅かに屈曲させた状態で張支可能である。
Further, the
次に、上記実施形態に基づく作用について図面を参照しながら説明する。 Next, the operation based on the above embodiment will be described with reference to the drawings.
連続成膜プロセスでは、可撓性基板1は、ガイドロール3,4で案内され、幅方向を鉛直方向にして図1中左に向かう搬送方向Fに連続的に搬送され、成膜部2において、電極21と接地電極22との間を通過することで、可撓性基板1の表面に所定の薄膜が形成される。この際、可撓性基板1の上下各側の縁部は、搬送方向Fに並設された各挟持ローラユニット5,5′の挟持ローラ(51,52)で挟持されつつ送出され、かつ、各挟持ローラの挟持面における回転方向が、それぞれ搬送方向Fに対して斜上方(5)/斜下方(5′)に向かう所定の偏角(±θ)を有することによって、可撓性基板1の上下各側の縁部に持ち上げ力/引き下げ力が作用し、これにより、可撓性基板1は上下幅方向に展張される。
In the continuous film formation process, the
上記持ち上げ力/引き下げ力は、各挟持ローラの接圧が一定の場合、それぞれの偏角(±θ)に依存するので、センサ8,8′による可撓性基板1の上端位置/下端位置の検出値に基づいてアクチュエータ7,7′を制御し、上下のリンク部材6,6′を進退変位させて、各挟持ローラユニット5,5′の偏角(±θ)を上下各側で一斉に調整することで、ガイドロール3,4間の広範囲に亘って持ち上げ力/引き下げ力が調整され、可撓性基板1の展張度および上端位置/下端位置が一定の範囲内に維持される。
The lifting force / lowering force depends on the deflection angle (± θ) when the contact pressure of each clamping roller is constant, and therefore the upper end position / lower end position of the
上記各挟持ローラユニット5,5′の偏角(±θ)は、±0.1°〜6°の比較的小さい角度範囲で調整される。可撓性基板1および挟持ローラ(51,52)の表面性状や接圧にも依るが、偏角(±θ)が大きくなると動摩擦が主体的になり、持ち上げ力や引き下げ力は増加しなくなる。
The deflection angle (± θ) of each of the sandwiching
また、上記角度範囲内で偏角(±θ)が相対的に大きい角度に調整される場合に、搬送方向Fに隣接する個々の挟持ローラユニット5,5′の展張力が相互に干渉しても、各挟持ローラユニット5,5′の挟持面と薄膜形成領域との間に配置されたガイド部材23,23で可撓性基板1が支承されることによって、可撓性基板1の上下縁部における干渉皺が緩和され、かつ薄膜形成領域への伝搬が抑制されるとともに、各ガイド部材23,23による位置決め効果で、成膜プロセスを安定的に実施可能である。
Further, when the declination (± θ) is adjusted to a relatively large angle within the above angle range, the developing tensions of the individual
このようにして連続的に搬送される可撓性基板1に対する所定長の成膜プロセスが終了した後、巻出し側/巻取り側双方のフィードローラおよび巻出し/巻取りロールを逆転させるとともに、アクチュエータ7,7′により上下のリンク部材6,6′を図1中左方向に変位させて各挟持ローラユニット5,5′の偏角(±θ)を上下各側で一斉に反転させ、可撓性基板1を逆方向Rに連続的に搬送しながら既に形成された薄膜上に成膜プロセスを実施することにより、正方向(F)への搬送時と同様に、可撓性基板1の展張度および上端位置/下端位置の制御を行なうことができる。
After the film formation process of a predetermined length for the
以上、本発明の実施の形態につき述べたが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、上記以外にも本発明の技術的思想に基づいてさらに各種の変形および変更が可能である。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said embodiment, In addition to the above, various deformation | transformation and a change are further possible based on the technical idea of this invention. .
例えば、上記各実施形態では、付勢手段として圧縮スプリング(56)を用いる場合を示したが、固定側および可動側支持部材(53,54)に対する連結点を適宜変更することで、引張スプリングとして構成することもできる。また、スプリング(56)は、コイルスプリング以外の、スパイラルスプリング、トーションスプリング、リーフスプリング等、各種スプリングに変更されても良い。さらに固定側および可動側支持部材(53,54)が相互に接離する形態を、直線的な摺動で代替することもできるが、効率的には揺動(枢回動)が有利である。 For example, in each of the above embodiments, the case where the compression spring (56) is used as the urging means has been shown. However, by appropriately changing the connection point for the fixed side and movable side support members (53, 54), the tension spring can be used. It can also be configured. Further, the spring (56) may be changed to various springs such as a spiral spring, a torsion spring, and a leaf spring other than the coil spring. Further, the form in which the fixed side and movable side support members (53, 54) contact and separate from each other can be replaced by linear sliding, but efficient swinging (pivot rotation) is advantageous. .
また、上記各実施形態では、各挟持ローラユニットにおける挟持ローラの一方が固定ローラである場合を示したが、挟持ローラの両方を可動ローラとすることもできる。その場合、例えば、各支持部材(53,54)が共にブラケット(55)に揺動可能に支持され、該ブラケット(55)が、軸(53a)で固定枠部(20)に揺動可能に支持されるとともに、リンク部材(6)に連結される形態で実施できる。 In each of the above embodiments, the case where one of the nipping rollers in each nipping roller unit is a fixed roller has been described, but both of the nipping rollers may be movable rollers. In this case, for example, the support members (53, 54) are both supported by the bracket (55) so as to be swingable, and the bracket (55) is swingable by the shaft (53a) on the fixed frame portion (20). It can be implemented in the form of being supported and connected to the link member (6).
また、上記実施形態では、挟持ローラユニットを基板搬送経路の上下両側に設置する場合を示したが、装置の仕様により、例えば、可撓性基板の張力皺や加熱皺の展張よりも、可撓性基板の垂下に対する搬送高さの制御が優先される場合には、搬送経路の上側にのみ挟持ローラユニットやセンサ、アクチュエータを設置することもできる。 Further, in the above embodiment, the case where the clamping roller units are installed on both the upper and lower sides of the substrate transport path has been described. In the case where priority is given to the control of the conveyance height with respect to the drooping of the conductive substrate, a clamping roller unit, a sensor, and an actuator can be installed only on the upper side of the conveyance path.
また、上記実施形態では、本発明を、可撓性基板を連続的に搬送しながら成膜処理を行なう連続成膜プロセスに実施する場合を示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、可撓性基板を間欠的に搬送しその停止期間中に各成膜部で成膜処理を行なうステップ成膜プロセスに実施することも可能である。 Moreover, although the case where the present invention is implemented in a continuous film forming process in which the film forming process is performed while continuously conveying a flexible substrate has been described in the above embodiment, the present invention is not limited to this. Alternatively, it is possible to carry out a step film formation process in which the flexible substrate is intermittently conveyed and the film formation process is performed in each film formation unit during the stop period.
本発明は、太陽電池用の薄膜積層体の製造装置の他に、有機EL等の半導体薄膜など、可撓性基板を用いた各種薄膜積層体の製造装置や処理装置に適用できる。 The present invention can be applied to a manufacturing apparatus and a processing apparatus for various thin film stacks using a flexible substrate, such as a semiconductor thin film such as an organic EL, in addition to a thin film stack manufacturing apparatus for solar cells.
1 可撓性基板
2 成膜部
3,4 ガイドロール
5、5′ 挟持ローラユニット
6、6′ リンク部材
7,7′ アクチュエータ(駆動手段)
8,8′ センサ
20 固定枠部
21 電極
22 接地電極
51 固定ローラ
52 可動ローラ
53 固定側支持部材
53a,53a′ 軸
54 可動側支持部材
55 ブラケット
56 スプリング
56a 調整ネジ
DESCRIPTION OF
8, 8 '
Claims (4)
前記基板の上側縁部を挟持する一対の挟持ローラ、前記一対の挟持ローラを回転可能かつ相互に接離可能に支持する支持機構部、および該支持機構部を介して前記一対の挟持ローラに加圧力を付与する付勢手段を有する、複数の挟持ローラユニットを備え、
前記各挟持ローラユニットは、基板搬送方向に並設され、かつ、前記成膜部の固定電極枠部に、それぞれ基板搬送面と交差する方向の軸回りに揺動可能に支持されるとともに、それぞれの挟持ローラの回転軸が互いに平行に維持されるようにリンク部材で相互に連結されており、前記リンク部材を基板搬送方向に進退変位させる駆動手段をさらに備えた、薄膜積層体の製造装置。 A thin film stack in which a thin film is stacked on the surface of the substrate in a film forming section installed in the substrate transport path while transporting a strip-shaped flexible substrate in the horizontal direction with the width direction set to the vertical direction A body manufacturing device,
A pair of sandwiching rollers that sandwich the upper edge of the substrate, a support mechanism that supports the pair of sandwiching rollers so as to be rotatable and capable of contacting and separating from each other, and the pair of sandwiching rollers via the support mechanism A plurality of clamping roller units having biasing means for applying pressure;
Each of the clamping roller units is arranged in parallel in the substrate transport direction, and is supported by the fixed electrode frame portion of the film forming unit so as to be swingable about an axis in a direction intersecting the substrate transport surface, respectively. An apparatus for manufacturing a thin film laminate, further comprising drive means connected to each other by a link member so that the rotation shafts of the sandwiching rollers are maintained in parallel with each other and moving the link member forward and backward in the substrate transport direction.
The thin film forming region of the substrate and the plurality of pairs of upper sandwiching rollers and the plurality of pairs of lower sandwiching rollers are respectively extended along the substrate transport direction, and the substrate is placed above and below the thin film forming region. The thin film laminate manufacturing apparatus according to claim 3, further comprising a pair of guide members that are supported on both sides.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009016682A JP2010177343A (en) | 2009-01-28 | 2009-01-28 | Device for manufacturing thin film laminate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010177343A true JP2010177343A (en) | 2010-08-12 |
Family
ID=42708010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009016682A Pending JP2010177343A (en) | 2009-01-28 | 2009-01-28 | Device for manufacturing thin film laminate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010177343A (en) |
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