JP2010170830A - Composition for bank insulating layer - Google Patents

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Akira Yahagi
公 矢作
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a material for bank insulating layer wherein, when used for forming a bank insulating layer, ink-repellent characteristics can be selectively given to the surface of the bank insulating layer, and to provide a method of manufacturing the bank insulating layer. <P>SOLUTION: A composition for bank insulating layer contains (A) a high polymer compound containing at least a kind of repeating unit selected from a group comprising a repeating unit represented by general formula (1) and a repeating unit represented by general formula (2), (B) a curing agent, and (C) an organic solvent. In the general formula (1), R<SB>1</SB>is a hydrogen atom or a methyl group, R<SB>2</SB>is the hydrogen atom or a univalent organic group whose carbon number is 1-20, Rf is a fluorine atom or a univalent organic group containing the fluorine atom whose carbon number is 1-20, Raa is a bivalent organic group whose carbon number is 1-20, the hydrogen atom in the bivalent organic group may be substituted with the fluorine atom, l is an integral number of 0-20 and m is an integral number of 1-5. In the general formula (2), R<SB>3</SB>represents the hydrogen atom or the methyl group, and Rf' represents a univalent organic group containing the fluorine atom whose carbon number is 1-20. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、バンク絶縁層用組成物及びバンク絶縁層の製造方法に関する。   The present invention relates to a bank insulating layer composition and a method for manufacturing a bank insulating layer.

ディスプレイとして用いられる画像表示パネルは、通常、発光素子及びトランジスタ素子を含む単位画素が多数配置された構成を有する。このような画像表示パネルでは、個々の画素においてトランジスタ素子により発光素子の発光が制御され、これにより画像が表示される。   An image display panel used as a display usually has a configuration in which a large number of unit pixels including light emitting elements and transistor elements are arranged. In such an image display panel, the light emission of the light emitting element is controlled by the transistor element in each pixel, thereby displaying an image.

従来、画像表示パネルには、トランジスタ素子として、a−Si(非晶質シリコン)やp−Si(多結晶シリコン)からなる無機半導体薄膜を用いた薄膜トランジスタ(TFT)が多く用いられてきた。しかしながら、無機半導体薄膜を用いたTFTの製造には、通常、大掛かりな真空処理設備や高温処理設備を備える装置が必要とされることから、製造コストが高くなる傾向にあった。特に、近年では、ディスプレイの大画面化が進められていることから、製造コストの増大は顕著となっていた。   Conventionally, in an image display panel, a thin film transistor (TFT) using an inorganic semiconductor thin film made of a-Si (amorphous silicon) or p-Si (polycrystalline silicon) has been often used as a transistor element. However, manufacturing of TFTs using an inorganic semiconductor thin film usually requires an apparatus equipped with large vacuum processing equipment and high-temperature processing equipment, so that the manufacturing cost tends to increase. In particular, in recent years, the increase in manufacturing cost has been remarkable due to the progress of the enlargement of displays.

そこで、近年では、画像表示パネルに対し、無機半導体薄膜に代えて有機半導体薄膜を用いた薄膜トランジスタ(有機薄膜トランジスタ)を適用することが検討されている。有機薄膜トランジスタは、比較的低温のプロセスで有機半導体薄膜を形成可能であることから製造工程を簡便化でき、製造コストの低減が図れる。また、低温プロセス化によって比較的熱に弱い樹脂基板の適用も可能となることから、画像表示パネル全体の軽量化等も図れる。さらに、柔軟性を有する樹脂基板を用いればフレキシブルなパネルを得ることもできる。また、有機半導体薄膜は、大気圧下、印刷や塗布といったウェットコーティングによる製造も可能であり、この場合は、極めて生産性良く低コストで画像表示パネルを製造することができる。   Therefore, in recent years, it has been studied to apply a thin film transistor (organic thin film transistor) using an organic semiconductor thin film instead of an inorganic semiconductor thin film to an image display panel. Since an organic semiconductor thin film can form an organic semiconductor thin film by a relatively low temperature process, the manufacturing process can be simplified and the manufacturing cost can be reduced. In addition, since a low-temperature process can be applied to a resin substrate that is relatively weak against heat, the overall weight of the image display panel can be reduced. Furthermore, if a resin substrate having flexibility is used, a flexible panel can be obtained. The organic semiconductor thin film can also be manufactured by wet coating such as printing or coating under atmospheric pressure. In this case, an image display panel can be manufactured with extremely high productivity and low cost.

上記のような画像表示パネルは、一般に、トランジスタ素子を形成した後に、発光素子を形成することによって製造される。このような製造方法の際、各画素においては、発光素子の形成領域の外周部にバンクと呼ばれる絶縁層が形成されることが多い。このバンクは、発光素子の有する電極間の短絡を防止するとともに、発光セルを仕切るために設けられる。また、高分子材料からなる発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、「有機EL素子」と略すことがある。)を発光素子として用いる場合、高分子材料からなる発光層をウェットコーティング法により形成する際に、高分子材料を含む溶液(以下、「インク」と呼ぶことがある。)を所定の領域内に留まらせる仕切りとしてもバンクが機能する。   The image display panel as described above is generally manufactured by forming a light emitting element after forming a transistor element. In such a manufacturing method, in each pixel, an insulating layer called a bank is often formed on the outer periphery of the light emitting element formation region. This bank is provided to prevent a short circuit between electrodes of the light emitting element and to partition the light emitting cells. When an organic electroluminescence element including a light emitting layer made of a polymer material (hereinafter sometimes abbreviated as “organic EL element”) is used as the light emitting element, the light emitting layer made of the polymer material is formed by a wet coating method. In doing so, the bank also functions as a partition that keeps the solution containing the polymer material (hereinafter sometimes referred to as “ink”) within a predetermined region.

該インクを所定の領域内に留まらせるために、バンク絶縁層には、表面が撥インク性を示すことが求められる。例えば、特許文献1にはフッ素系シランカップリング剤が記載されており、かかるシランカップリング剤で表面処理すれば、バンク絶縁層の表面に撥インク性が付与されると考えられる。   In order to keep the ink in a predetermined region, the surface of the bank insulating layer is required to exhibit ink repellency. For example, Patent Document 1 describes a fluorine-based silane coupling agent. If surface treatment is performed with such a silane coupling agent, it is considered that ink repellency is imparted to the surface of the bank insulating layer.

しかしながら、上述したバンク絶縁層の表面をフッ素系シランカップリング剤で処理することにより撥インク性を付与する方法は、電極上にバンク絶縁層を有する素子において、バンク絶縁層で覆われていない電極表面も同様に撥インク性となり、所定の領域内に高分子材料を含む有機膜を形成できないという問題がある。そのため、バンク絶縁層の表面に選択的に撥インク性を付与する手段が求められている。   However, the above-described method for imparting ink repellency by treating the surface of the bank insulating layer with a fluorine-based silane coupling agent is an electrode that is not covered with the bank insulating layer in an element having the bank insulating layer on the electrode. Similarly, the surface is also ink repellant, and there is a problem that an organic film containing a polymer material cannot be formed in a predetermined region. Therefore, there is a demand for means for selectively imparting ink repellency to the surface of the bank insulating layer.

特開2007−246417号公報JP 2007-246417 A

そこで、本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、バンク絶縁層の形成に用いた場合、バンク絶縁層の表面に選択的に撥インク性を付与しうるバンク絶縁層用材料ならびにバンク絶縁層の製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of such circumstances, and when used for forming a bank insulating layer, a material for a bank insulating layer capable of selectively imparting ink repellency to the surface of the bank insulating layer, and An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a bank insulating layer.

以上の事に鑑み、種々検討を行った結果、基板の上に特定のバンク絶縁層用組成物を用いてバンク絶縁層を形成し、その基板面をイオン性液体で表面処理することにより、バンク絶縁層を有する基板上において、バンク絶縁層の表面に選択的に撥インク性を付与しうることを見出し、本発明に至った。   In view of the above, as a result of various studies, a bank insulating layer is formed on a substrate using a specific bank insulating layer composition, and the surface of the substrate is surface-treated with an ionic liquid. The inventors have found that on the substrate having an insulating layer, ink repellency can be selectively imparted to the surface of the bank insulating layer, resulting in the present invention.

即ち、本発明は、(A)一般式(1)で表される繰り返し単位及び一般式(2)で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも一種の繰り返し単位を含有する高分子化合物、(B)硬化剤、及び(C)有機溶剤を含有するバンク絶縁層用組成物を提供する。   That is, the present invention provides (A) a polymer compound containing at least one repeating unit selected from the group consisting of a repeating unit represented by the general formula (1) and a repeating unit represented by the general formula (2), A bank insulating layer composition containing (B) a curing agent and (C) an organic solvent is provided.

Figure 2010170830
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(式中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。Rは、水素原子又は炭素数1〜20の一価の有機基を表す。Rfは、フッ素原子又はフッ素原子を有する炭素数1〜20の一価の有機基を表す。Raaは、炭素数1〜20の二価の有機基を表す。該二価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。lは、0〜20の整数を表し、mは、1〜5の整数を表す。Rが複数個ある場合、それらは同一でも相異なっていてもよい。Rfが複数個ある場合、それらは同一でも相異なっていてもよい。Raaが複数個ある場合、それらは同一でも相異なっていてもよい。) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms. Rf represents a fluorine atom or a carbon atom having 1 fluorine atom.) Represents a monovalent organic group of ~ 20. Raa represents a divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom in the divalent organic group may be substituted with a fluorine atom. l represents an integer of 0 to 20, and m represents an integer of 1 to 5. When there are a plurality of R 2 s , they may be the same or different. (It may be the same or different. When there are a plurality of Raa, they may be the same or different.)

Figure 2010170830
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(式中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。Rf’は、フッ素原子を有する炭素数1〜20の一価の有機基を表す。) (In the formula, R 3, .Rf 'is represents a hydrogen atom or a methyl group, a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms and having a fluorine atom.)

また、本発明は、基板上、基板に設置された電極上又は基板に設置された他の層上に、前記バンク絶縁層用組成物を用いて有機絶縁層を形成する工程、及び該有機絶縁層の表面をイオン性液体で表面処理する工程を包含するバンク絶縁層の製造方法を提供する。   The present invention also includes a step of forming an organic insulating layer on the substrate, an electrode provided on the substrate, or another layer provided on the substrate using the bank insulating layer composition, and the organic insulation Provided is a method for producing a bank insulating layer including a step of surface-treating a surface of a layer with an ionic liquid.

ある一形態においては、イオン性液体で表面処理を行う前に、前記基板面の少なくとも一部をUVオゾン処理する工程を更に包含する。   In one certain form, before performing surface treatment with an ionic liquid, it further includes the process of carrying out UV ozone treatment to at least one part of the said substrate surface.

ある一形態においては、前記イオン性液体が有するアニオンは、フッ素原子を含有するアニオンである。   In one certain form, the anion which the said ionic liquid has is an anion containing a fluorine atom.

ある一形態においては、前記イオン性液体が有するカチオンは、インダゾリウム系カチオン、ピロリジニウム系カチオン及びピペリジニウム系カチオンからなる群から選択される少なくとも一種のカチオンである。   In one certain form, the cation which the ionic liquid has is at least one cation selected from the group consisting of an indazolium cation, a pyrrolidinium cation and a piperidinium cation.

また、本発明は、前記製造方法を用いて製造したバンク絶縁層を含むディスプレイ用部材を提供する。   Moreover, this invention provides the member for a display containing the bank insulating layer manufactured using the said manufacturing method.

更に、本発明は、前記ディスプレイ用部材からなるディスプレイを提供する。   Furthermore, the present invention provides a display comprising the display member.

本発明のバンク絶縁層用組成物はフッ素原子を含み、イオン性液体の吸着性に優れている。そのため、バンク絶縁層の表面をイオン性液体で表面処理することにより、バンク絶縁層の表面に対して選択的に撥インク性を付与することができる。   The composition for a bank insulating layer of the present invention contains fluorine atoms and is excellent in ionic liquid adsorption. Therefore, by subjecting the surface of the bank insulating layer to surface treatment with an ionic liquid, ink repellency can be selectively imparted to the surface of the bank insulating layer.

次に、本発明をさらに詳細に説明する。
なお、本明細書において、「高分子化合物」とは、分子中に同じ構造単位が複数繰り返された構造を含む化合物をいい、いわゆる2量体もこれに含まれる。一方、「低分子化合物」とは、分子中に同じ構造単位を繰り返し有していない化合物を意味する。
Next, the present invention will be described in more detail.
In the present specification, the “polymer compound” refers to a compound having a structure in which a plurality of the same structural units are repeated in the molecule, and includes a so-called dimer. On the other hand, the “low molecular compound” means a compound that does not have the same structural unit repeatedly in the molecule.

バンク絶縁層用組成物
本発明のバンク絶縁層用組成物は、(A)一般式(1)で表される繰り返し単位及び一般式(2)で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含有する高分子化合物、(B)硬化剤、及び(C)有機溶剤を含有する樹脂組成物である。
Bank Insulating Layer Composition The bank insulating layer composition of the present invention is at least selected from the group consisting of (A) a repeating unit represented by the general formula (1) and a repeating unit represented by the general formula (2). It is a resin composition containing a polymer compound containing one type of repeating unit, (B) a curing agent, and (C) an organic solvent.

高分子化合物(A)
本発明に用いられる高分子化合物において、一般式(1)又は(2)で表される繰り返し単位はフッ素原子を含有する側鎖を有する。樹脂構造中にフッ素原子が存在するとイオン性液体の吸着性が向上するからである。フッ素原子は、繰り返し単位の側鎖部分に、例えばフェニル基のような有機基の置換基として存在することが好ましい。
Polymer compound (A)
In the polymer compound used in the present invention, the repeating unit represented by the general formula (1) or (2) has a side chain containing a fluorine atom. This is because the presence of fluorine atoms in the resin structure improves the adsorptivity of the ionic liquid. The fluorine atom is preferably present in the side chain portion of the repeating unit as a substituent of an organic group such as a phenyl group.

高分子化合物(A)に含まれるフッ素の量は、高分子化合物の質量に対して1〜60質量%、好ましくは5〜50質量%、より好ましくは10〜40質量%である。フッ素の含有量が1質量%未満であるとイオン性液体の吸着性が不十分となることがあり、60質量%を超えると基板上にバンク絶縁層を形成できない場合がある。   The amount of fluorine contained in the polymer compound (A) is 1 to 60% by mass, preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 40% by mass with respect to the mass of the polymer compound. If the fluorine content is less than 1% by mass, the adsorptivity of the ionic liquid may be insufficient, and if it exceeds 60% by mass, the bank insulating layer may not be formed on the substrate.

前記一般式(1)〜(2)の式中、R及びRは、同一又は相異なり、水素原子又はメチル基を表し、Rは、水素原子又は炭素数1〜20の一価の有機基を表し、Rfは、フッ素原子又はフッ素原子を有する炭素数1〜20の一価の有機基を表し、Rf’は、フッ素原子を有する炭素数1〜20の一価の有機基を表し、Raaは、炭素数1〜20の二価の有機基を表す。該二価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。lは、0〜20の整数を表し、mは、1〜5の整数をあらわす。Rが複数個ある場合、それらは同一でも相異なっていてもよい。Rfが複数個ある場合、それらは同一でも相異なっていてもよい。Raaが複数個ある場合、それらは同一でも相異なっていてもよい。 In the general formulas (1) to (2), R 1 and R 3 are the same or different and represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is a hydrogen atom or a monovalent monovalent carbon atom having 1 to 20 carbon atoms. Represents an organic group, Rf represents a fluorine atom or a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms having a fluorine atom, and Rf ′ represents a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms having a fluorine atom. , Raa represents a divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms. A hydrogen atom in the divalent organic group may be substituted with a fluorine atom. l represents an integer of 0 to 20, and m represents an integer of 1 to 5. When there are a plurality of R 2 s , they may be the same or different. When there are a plurality of Rf, they may be the same or different. When there are a plurality of Raa, they may be the same or different.

ある一形態では、R及びRは水素原子であり、Rfはフルオロアルキル基、例えばトリフルオロメチル基であり、lは0であり、mは1である。 In one certain form, R < 1 > and R < 2 > are hydrogen atoms, Rf is a fluoroalkyl group, for example, a trifluoromethyl group, l is 0, and m is 1.

炭素数1〜20の一価の有機基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、飽和であっても不飽和であってもよい。
炭素数1〜20の一価の有機基としては、例えば、炭素数1〜20の直鎖状炭化水素基、炭素数3〜20の分岐状炭化水素基、炭素数3〜20の環状炭化水素基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素基が挙げられ、好ましくは、炭素数1〜6の直鎖状炭化水素基、炭素数3〜6の分岐状炭化水素基、炭素数3〜6の環状炭化水素基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素基などが挙げられる。
Rf又はRf’で表される炭素数1〜20の直鎖状炭化水素基、炭素数3〜20の分岐状炭化水素基、炭素数3〜20の環状炭化水素基は、これらの基に含まれる水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい。
Rf又はRf’で表される炭素数6〜20の芳香族炭化水素基は、基中の水素原子がアルキル基、ハロゲン原子などで置換されていてもよい。Rで表される炭素数6〜20の芳香族炭化水素基は、基中の水素原子がアルキル基、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などで置換されていてもよい。
The monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms may be linear, branched or cyclic, and may be saturated or unsaturated.
Examples of the monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms include a linear hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a branched hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, and a cyclic hydrocarbon having 3 to 20 carbon atoms. Group, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, preferably a linear hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a branched hydrocarbon group having 3 to 6 carbon atoms, or 3 to 6 carbon atoms. And an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms.
The linear hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, the branched hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, and the cyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms represented by Rf or Rf ′ are included in these groups. The hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom.
In the aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms represented by Rf or Rf ′, a hydrogen atom in the group may be substituted with an alkyl group, a halogen atom or the like. In the aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms represented by R 2 , a hydrogen atom in the group may be substituted with an alkyl group, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or the like.

炭素数1〜20の一価の有機基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチニル基、シクロヘキシニル基、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、トリル基、キシリル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル基、トリエチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、メチルナフチル基、ジメチルナフチル基、トリメチルナフチル基、ビニルナフチル基、エテニルナフチル基、メチルアンスリル基、エチルアンスリル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基などが挙げられる。   Specific examples of the monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, isopropyl group, isobutyl group, tertiary butyl group, cyclopropyl group, Cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclopentynyl group, cyclohexylinyl group, phenyl group, naphthyl group, anthryl group, tolyl group, xylyl group, dimethylphenyl group, trimethylphenyl group, ethylphenyl group, diethylphenyl group, triethyl Phenyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, methylnaphthyl group, dimethylnaphthyl group, trimethylnaphthyl group, vinylnaphthyl group, ethenylnaphthyl group, methylanthryl group, ethylanthryl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, etc. .

フッ素原子で置換された炭素数1〜20の一価の有機基の具体例としては、トリフルオロメチル基、2,2,2,−トリフルオロエチル基、2,2,3,3,3,−ペンタフルオロペンチル基などが挙げられる。   Specific examples of the monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a fluorine atom include trifluoromethyl group, 2,2,2, -trifluoroethyl group, 2,2,3,3,3, -A pentafluoropentyl group etc. are mentioned.

本発明に用いられる高分子化合物は、一般式(1)に対応する重合性モノマー及び/又は一般式(2)に対応する重合性モノマーを光重合開始剤もしくは熱重合開始剤を用いて重合させることにより製造することが出来る。   The polymer compound used in the present invention polymerizes a polymerizable monomer corresponding to the general formula (1) and / or a polymerizable monomer corresponding to the general formula (2) using a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator. Can be manufactured.

また、本発明に用いられる高分子化合物は、一般式(1)に対応する重合性モノマー及び/又は一般式(2)に対応する重合性モノマーと他の重合性モノマーとを光重合開始剤もしくは熱重合開始剤を用いて重合させることにより製造することが出来る。   Further, the polymer compound used in the present invention comprises a polymerizable monomer corresponding to the general formula (1) and / or a polymerizable monomer corresponding to the general formula (2) and another polymerizable monomer as a photopolymerization initiator or It can be produced by polymerization using a thermal polymerization initiator.

また、本発明に用いられる高分子化合物は、一般式(1)に対応する重合性モノマー及び/又は一般式(2)に対応する重合性モノマーと分子内に架橋性基を含有する重合性モノマーとを光重合開始剤もしくは熱重合開始剤を用いて重合させることにより製造することが出来る。   The polymer compound used in the present invention includes a polymerizable monomer corresponding to the general formula (1) and / or a polymerizable monomer corresponding to the general formula (2) and a polymerizable monomer containing a crosslinkable group in the molecule. Can be polymerized using a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator.

また、本発明に用いられる高分子化合物は、一般式(1)に対応する重合性モノマー及び/又は一般式(2)に対応する重合性モノマーと分子内に活性水素を含有する重合性モノマーとを光重合開始剤もしくは熱重合開始剤を用いて共重合させた後、架橋性基を含有する化合物であって活性水素と反応しうる官能基を有する化合物と反応させることにより製造することが出来る。一般式(1)に対応する重合性モノマー又は一般式(2)に対応する重合性モノマーはそれぞれ複数種類用いてよい。   The polymer compound used in the present invention includes a polymerizable monomer corresponding to the general formula (1) and / or a polymerizable monomer corresponding to the general formula (2) and a polymerizable monomer containing active hydrogen in the molecule. Can be prepared by reacting with a compound having a crosslinkable group and having a functional group capable of reacting with active hydrogen after being copolymerized using a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator. . A plurality of polymerizable monomers corresponding to the general formula (1) or polymerizable monomers corresponding to the general formula (2) may be used.

このように、高分子化合物が架橋性基を有すると、バンク絶縁層は架橋構造を有することができ、絶縁層としての電気特性が向上するため好ましい。特に架橋性基がエチレン性不飽和基であると、比較的低温で加熱することで架橋するため、架橋時の熱による基板への悪影響を低減することができ、より好ましい。   As described above, it is preferable that the polymer compound has a crosslinkable group because the bank insulating layer can have a cross-linked structure and electrical characteristics as the insulating layer are improved. In particular, it is more preferable that the crosslinkable group is an ethylenically unsaturated group, since crosslinking is performed by heating at a relatively low temperature, and thus adverse effects on the substrate due to heat during crosslinking can be reduced.

一般式(1)に対応する重合性モノマーとしては、2−フルオロスチレン、3−フルオロスチレン、4−フルオロスチレン、2,3,4,5,6−ペンタフルオロスチレン、2−トリフルオロメチルスチレン、3−トリフルオロメチルスチレン、4−トリフルオロメチルスチレン等が挙げられる。   Examples of the polymerizable monomer corresponding to the general formula (1) include 2-fluorostyrene, 3-fluorostyrene, 4-fluorostyrene, 2,3,4,5,6-pentafluorostyrene, 2-trifluoromethylstyrene, 3-trifluoromethyl styrene, 4-trifluoromethyl styrene, etc. are mentioned.

一般式(2)に対応する重合性モノマーとしては、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルアクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチルアクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチルアクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチルアクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチルアクリレート、2−(パーフルオロ−3−メチルブチル)エチルアクリレート、3−(パーフルオロ−3−メチルブチル)−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)エチルアクリレート、2−(パーフルオロ−3−メチルブチル)−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)エチルアクリレート、3−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、1H,1H,3H−テトラフルオロプロピルアクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルアクリレート、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチルアクリレート、1H,1H,9H−ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、1H−1−(トリフルオロメチル)トリフルオロエチルアクリレート、1H,1H,3H−ヘキサフルオロブチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタアクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタアクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチルメタアクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチルメタアクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチルメタアクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチルメタアクリレート、2−(パーフルオロ−3−メチルブチル)エチルメタアクリレート、3−(パーフルオロ−3−メチルブチル)−2−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)エチルメタアクリレート、2−(パーフルオロ−3−メチルブチル)−2−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、3−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)−2−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、2−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)エチルメタアクリレート、3−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)−2−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、1H,1H,3H−テトラフルオロプロピルメタアクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルメタアクリレート、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチルメタアクリレート、1H,1H,9H−ヘキサデカフルオロノニルメタアクリレート、1H−1−(トリフルオロメチル)トリフルオロエチルメタアクリレート、1H,1H,3H−ヘキサフルオロブチルメタアクリレート等が挙げられる。   Examples of the polymerizable monomer corresponding to the general formula (2) include 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate, 2- (perfluorobutyl) ethyl acrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl acrylate, 3-perfluorooctyl- 2-hydroxypropyl acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl acrylate, 2- (perfluoro-3-methylbutyl) ethyl acrylate, 3- (perfluoro-3-methylbutyl) -2-hydroxypropyl acrylate, 2- (perful (Ro-5-methylhexyl) ethyl acrylate, 2- (perfluoro-3-methylbutyl) -2-hydroxypropyl acrylate, 3- (perfluoro-5-methylhexyl) -2-hydroxypropyl acrylate, 2- (perfluoro) -7-methyloctyl) ethyl acrylate, 3- (perfluoro-7-methyloctyl) -2-hydroxypropyl acrylate, 1H, 1H, 3H-tetrafluoropropyl acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl acrylate, 1H , 1H, 7H-dodecafluoroheptyl acrylate, 1H, 1H, 9H-hexadecafluorononyl acrylate, 1H-1- (trifluoromethyl) trifluoroethyl acrylate, 1H, 1H, 3H-hexafluorobutyl acrylate 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate, 2- (perfluorobutyl) ethyl methacrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxy Propyl methacrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl methacrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl methacrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl methacrylate Acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl methacrylate, 2- (perfluoro-3-methylbutyl) ethyl methacrylate, 3- (perfluoro-3-methylbutyl) -2-hydroxypropyl methacrylate, 2- (Perf (Luoro-5-methylhexyl) ethyl methacrylate, 2- (perfluoro-3-methylbutyl) -2-hydroxypropyl methacrylate, 3- (perfluoro-5-methylhexyl) -2-hydroxypropyl methacrylate, 2- (Perfluoro-7-methyloctyl) ethyl methacrylate, 3- (perfluoro-7-methyloctyl) -2-hydroxypropyl methacrylate, 1H, 1H, 3H-tetrafluoropropyl methacrylate, 1H, 1H, 5H- Octafluoropentyl methacrylate, 1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyl methacrylate, 1H, 1H, 9H-hexadecafluorononyl methacrylate, 1H-1- (trifluoromethyl) trifluoroethyl methacrylate, 1H IH, 3H-hexafluoro-butyl methacrylate, and the like.

他の重合しうるモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル及びその誘導体、メタアクリル酸エステル及びその誘導体、スチレン及びその誘導体、酢酸ビニル及びその誘導体、アクリロニトリル及びその誘導体、メタアクリロニトリル及びその誘導体、有機カルボン酸のビニルエステル及びその誘導体、有機カルボン酸のアリルエステル及びその誘導体、フマル酸のジアルキルエステル及びその誘導体、マレイン酸のジアルキルエステル及びその誘導体、イタコン酸のジアルキルエステル及びその誘導体、有機カルボン酸のN−ビニルアミド誘導体、マレイミド及びその誘導体、末端不飽和炭化水素及びその誘導体、有機ゲルマニウム誘導体等が挙げられる。   Other polymerizable monomers include, for example, acrylic acid esters and derivatives thereof, methacrylic acid esters and derivatives thereof, styrene and derivatives thereof, vinyl acetate and derivatives thereof, acrylonitrile and derivatives thereof, methacrylonitrile and derivatives thereof, organic carbon Vinyl esters of acids and derivatives thereof, allyl esters of organic carboxylic acids and derivatives thereof, dialkyl esters of fumaric acid and derivatives thereof, dialkyl esters of maleic acid and derivatives thereof, dialkyl esters of itaconic acid and derivatives thereof, N of organic carboxylic acids -Vinylamide derivatives, maleimides and derivatives thereof, terminal unsaturated hydrocarbons and derivatives thereof, and organic germanium derivatives.

アクリル酸エステル類及びその誘導体としては、単官能のアクリレートや、使用量に制約は出てくるが多官能のアクリレートをも使用することができ、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−n−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸−n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸−sec−ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸デシル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、アクリル酸−3−ヒドロキシプロピル、アクリル酸−2−ヒドロキシブチル、アクリル酸−2−ヒドロキシフェニルエチル、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−アクリロイルモルフォリン等を挙げることができる。   As the acrylic esters and derivatives thereof, monofunctional acrylates and polyfunctional acrylates can be used although there are restrictions on the amount used, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid- n-propyl, isopropyl acrylate, acrylate-n-butyl, isobutyl acrylate, acrylate-sec-butyl, hexyl acrylate, octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, decyl acrylate, isobornyl acrylate, acrylic Cyclohexyl acid, phenyl acrylate, benzyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxyphenyl acrylate ethyl, Tylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol pentaacrylate, N, N- Examples thereof include dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, and N-acryloylmorpholine.

メタアクリル酸エステル類及びその誘導体としては、単官能のメタアクリレートや、使用量に制約は出てくるが多官能のメタアクリレートをも使用することができ、例えば、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸−n−プロピル、メタアクリル酸イソプロピル、メタアクリル酸−n−ブチル、メタアクリル酸イソブチル、メタアクリル酸−sec−ブチル、メタアクリル酸ヘキシル、メタアクリル酸オクチル、メタアクリル酸−2−エチルヘキシル、メタアクリル酸デシル、メタアクリル酸イソボルニル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸フェニル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸−2−ヒドロキシエチル、メタアクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸−3−ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸−2−ヒドロキシブチル、メタアクリル酸−2−ヒドロキシフェニルエチル、エチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、1,4−ブタンジオールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパンジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、N,N−ジメチルメタアクリルアミド、N,N−ジエチルメタアクリルアミド等を挙げることができる。   As the methacrylic acid esters and derivatives thereof, monofunctional methacrylates and polyfunctional methacrylates can be used although there are restrictions on the amount used, for example, methyl methacrylate, methacrylic acid Ethyl, methacrylate-n-propyl, isopropyl methacrylate, methacrylate-n-butyl, isobutyl methacrylate, methacrylate-sec-butyl, hexyl methacrylate, octyl methacrylate, methacrylate- 2-ethylhexyl, decyl methacrylate, isobornyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, methacrylic acid -3-hydroxy group Pill, 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxyphenylethyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, propylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene Examples thereof include glycol dimethacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol pentamethacrylate, N, N-dimethylmethacrylamide, N, N-diethylmethacrylamide and the like.

スチレン及びその誘導体としては、スチレン、2,4−ジメチル−α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、2,5−ジメチルスチレン、2,6−ジメチルスチレン、3,4−ジメチルスチレン、3,5−ジメチルスチレン、2,4,6−トリメチルスチレン、2,4,5−トリメチルスチレン、ペンタメチルスチレン、o−エチルスチレン、m−エチルスチレン、p−エチルスチレン、o−クロロスチレン、m−クロロスチレン、p−クロロスチレン、o−ブロモスチレン、m−ブロモスチレン、p−ブロモスチレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレン、p−メトキシスチレン、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、2−ビニルビフェニル、3−ビニルビフェニル、4−ビニルビフェニル、1−ビニルナフタレン、2−ビニルナフタレン、4−ビニル−p−ターフェニル、1−ビニルアントラセン、α−メチルスチレン、o−イソプロペニルトルエン、m−イソプロペニルトルエン、p−イソプロペニルトルエン、2,4−ジメチル−α−メチルスチレン、2,3−ジメチル−α−メチルスチレン、3,5−ジメチル−α−メチルスチレン、p−イソプロピル−α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−クロロスチレン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジイソプロピルベンゼン、4−アミノスチレン、4−トリフルオロメチルスチレン、2,3,4,5,6−ペンタフルオロスチレン等が挙げられる。   Examples of styrene and derivatives thereof include styrene, 2,4-dimethyl-α-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,5-dimethylstyrene, 2 , 6-dimethylstyrene, 3,4-dimethylstyrene, 3,5-dimethylstyrene, 2,4,6-trimethylstyrene, 2,4,5-trimethylstyrene, pentamethylstyrene, o-ethylstyrene, m-ethyl Styrene, p-ethylstyrene, o-chlorostyrene, m-chlorostyrene, p-chlorostyrene, o-bromostyrene, m-bromostyrene, p-bromostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxy Styrene, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxys Len, 2-vinylbiphenyl, 3-vinylbiphenyl, 4-vinylbiphenyl, 1-vinylnaphthalene, 2-vinylnaphthalene, 4-vinyl-p-terphenyl, 1-vinylanthracene, α-methylstyrene, o-isopropenyl Toluene, m-isopropenyltoluene, p-isopropenyltoluene, 2,4-dimethyl-α-methylstyrene, 2,3-dimethyl-α-methylstyrene, 3,5-dimethyl-α-methylstyrene, p-isopropyl -Α-methylstyrene, α-ethylstyrene, α-chlorostyrene, divinylbenzene, divinylbiphenyl, diisopropylbenzene, 4-aminostyrene, 4-trifluoromethylstyrene, 2,3,4,5,6-pentafluorostyrene Etc.

アクリルニトリル及びその誘導体としては、アクリロニトリル等が挙げられる。メタアクリルニトリル及びその誘導体としては、メタクリロニトリル等が挙げられる。   Examples of acrylonitrile and its derivatives include acrylonitrile. Examples of methacrylonitrile and derivatives thereof include methacrylonitrile.

有機カルボン酸のビニルエステル及びその誘導体としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル、アジピン酸ジビニル等が挙げられる。有機カルボン酸のビニルエステルを重合させると有機溶剤に対する耐性が高い傾向になるという利点が得られる。   Examples of vinyl esters of organic carboxylic acids and derivatives thereof include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl benzoate, and divinyl adipate. When the vinyl ester of organic carboxylic acid is polymerized, there is an advantage that resistance to organic solvents tends to be high.

有機カルボン酸のアリルエステル及びその誘導体としては、酢酸アリル、安息香酸アリル、アジピン酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、フタル酸ジアリル等が挙げられる。   Examples of allyl esters of organic carboxylic acids and derivatives thereof include allyl acetate, allyl benzoate, diallyl adipate, diallyl terephthalate, diallyl isophthalate, and diallyl phthalate.

フマル酸のジアルキルエステル及びその誘導体としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジ−sec−ブチル、フマル酸ジイソブチル、フマル酸ジ−n−ブチル、フマル酸ジ−2−エチルヘキシル、フマル酸ジベンジル等が挙げられる。   Dialkyl esters of fumaric acid and derivatives thereof include dimethyl fumarate, diethyl fumarate, diisopropyl fumarate, di-sec-butyl fumarate, diisobutyl fumarate, di-n-butyl fumarate, di-2-ethylhexyl fumarate And dibenzyl fumarate.

マレイン酸のジアルキルエステル及びその誘導体としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジイソプロピル、マレイン酸ジ−sec−ブチル、マレイン酸ジイソブチル、マレイン酸ジ−n−ブチル、マレイン酸ジ−2−エチルヘキシル、マレイン酸ジベンジル等が挙げられる。   Dialkyl esters of maleic acid and derivatives thereof include dimethyl maleate, diethyl maleate, diisopropyl maleate, di-sec-butyl maleate, diisobutyl maleate, di-n-butyl maleate, di-2-ethylhexyl maleate And dibenzyl maleate.

イタコン酸のジアルキルエステル及びその誘導体としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジイソプロピル、イタコン酸ジ−sec−ブチル、イタコン酸ジイソブチル、イタコン酸ジ−n−ブチル、イタコン酸ジ−2−エチルヘキシル、イタコン酸ジベンジル等が挙げられる。   Dialkyl esters of itaconic acid and its derivatives include dimethyl itaconate, diethyl itaconate, diisopropyl itaconate, di-sec-butyl itaconate, diisobutyl itaconate, di-n-butyl itaconate, di-2-ethylhexyl itaconate And dibenzyl itaconate.

有機カルボン酸のN−ビニルアミド誘導体としては、N−メチル−N−ビニルアセトアミド等が挙げられる。   Examples of N-vinylamide derivatives of organic carboxylic acids include N-methyl-N-vinylacetamide.

マレイミド及びその誘導体としては、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。   Examples of maleimide and derivatives thereof include N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide.

末端不飽和炭化水素及びその誘導体としては、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテン、ビニルシクロヘキサン、塩化ビニル、アリルアルコール等が挙げられる。   Examples of terminal unsaturated hydrocarbons and derivatives thereof include 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, vinylcyclohexane, vinyl chloride, and allyl alcohol.

有機ゲルマニウム誘導体としては、アリルトリメチルゲルマニウム、アリルトリエチルゲルマニウム、アリルトリブチルゲルマニウム、トリメチルビニルゲルマニウム、トリエチルビニルゲルマニウム等が挙げられる。   Examples of the organic germanium derivative include allyltrimethylgermanium, allyltriethylgermanium, allyltributylgermanium, trimethylvinylgermanium, triethylvinylgermanium, and the like.

架橋性基とは、自身が化学反応を起こして分子架橋する官能基、又は、架橋剤と反応することで分子架橋を起こす官能基のことである。   The crosslinkable group is a functional group that undergoes a chemical reaction to cause molecular crosslinking, or a functional group that causes molecular crosslinking by reacting with a crosslinking agent.

自身が化学反応を起こして分子架橋する官能基としては、カチオン開環重合性を有する官能基、不飽和結合を有する官能基、ブロック化剤でブロックされたイソシアネート基又はブロック化剤でブロックされたイソチオシアネート基が挙げられる。
本発明に用いるカチオン開環重合性を有する官能基としては、環状エーテル基、環状エステル基等が挙げられる。
Functional groups that themselves undergo a chemical reaction and undergo molecular crosslinking include functional groups having cationic ring-opening polymerizability, functional groups having unsaturated bonds, isocyanate groups blocked with blocking agents, or blocked with blocking agents. An isothiocyanate group is mentioned.
Examples of the functional group having cationic ring-opening polymerizability used in the present invention include a cyclic ether group and a cyclic ester group.

前記環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基等が挙げられ、例えば、グリシジル基、1,2−エポキシシクロヘキシル基、オキセタニルエチル基等が例示できる。
環状エーテル基を含有する重合性モノマーとしては、ポリエチレングリコールグリシジルビニルエーテル、ポリエチレングリコールオキセタニルエチルビニルエーテル等が挙げられる。
Examples of the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group, and examples thereof include a glycidyl group, a 1,2-epoxycyclohexyl group, and an oxetanylethyl group.
Examples of the polymerizable monomer containing a cyclic ether group include polyethylene glycol glycidyl vinyl ether and polyethylene glycol oxetanyl ethyl vinyl ether.

前記環状エステル基としては、ラクトニル基等が挙げられ、例えば、β−プロピオラクトニル基、β−ブチロラクトニル基、δ−バレロラクトニル基、ε−カプロラクトニル基等が例示できる。
環状エステル基を含有する重合性モノマーとしては、ポリエチレングリコールブチロラクトニルエチルビニルエーテル、ポリエチレングリコールジカプロラクトニルエチルビニルエーテル等が挙げられる。
Examples of the cyclic ester group include a lactonyl group, and examples thereof include a β-propiolactonyl group, a β-butyrolactonyl group, a δ-valerolactonyl group, and an ε-caprolactonyl group.
Examples of the polymerizable monomer containing a cyclic ester group include polyethylene glycol butyrolactonyl ethyl vinyl ether and polyethylene glycol dicaprolactonyl ethyl vinyl ether.

前記不飽和結合を有する官能基としては、炭素−炭素二重結合基が挙げられ、ビニル基、アリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、スチレニル基等が例示できる。   Examples of the functional group having an unsaturated bond include a carbon-carbon double bond group, and examples thereof include a vinyl group, an allyl group, a methacryloyl group, an acryloyl group, and a styryl group.

前記ブロック化剤でブロックされたイソシアネート基又はブロックされたイソチオシアネート基は、イソシアネート基又はイソチオシアネート基と反応しうる活性水素を1分子中に1個だけ有するブロック化剤とイソシアネート基又はイソチオシアネート基とを反応させることにより製造すること出来る。   The isocyanate group blocked with the blocking agent or the blocked isothiocyanate group is a blocking agent and isocyanate group or isothiocyanate group having only one active hydrogen per molecule capable of reacting with the isocyanate group or isothiocyanate group. Can be made to react.

前記ブロック剤としては、イソシアネート基又はイソチオシアネート基と反応してブロック化剤でブロックされたイソシアネート基又はブロック化剤でブロックされたイソチオシアネート基が生成した後でも、170℃以下の温度で解離するものが好ましい。   The blocking agent is dissociated at a temperature of 170 ° C. or lower even after an isocyanate group or an isothiocyanate group reacts with an isocyanate group or an isothiocyanate group to form an isocyanate group blocked with a blocking agent or an isothiocyanate group blocked with a blocking agent. Those are preferred.

前記ブロック化剤としては、例えば、アルコ−ル系化合物、フェノ−ル系化合物、活性メチレン系化合物、メルカプタン系化合物、酸アミド系化合物、酸イミド系化合物、イミダゾール系化合物、尿素系化合物、オキシム系化合物、アミン系化合物、イミン系化合物、重亜硫酸塩、ピリジン系化合物、ピラゾール系化合物等が挙げられる。これらを単独であるいは2種以上を混合して使用してもよい。好ましくは、オキシム系化合物、ピラゾール系化合物が挙げられる。   Examples of the blocking agent include alcohol compounds, phenol compounds, active methylene compounds, mercaptan compounds, acid amide compounds, acid imide compounds, imidazole compounds, urea compounds, and oxime compounds. Examples include compounds, amine compounds, imine compounds, bisulfites, pyridine compounds, pyrazole compounds, and the like. You may use these individually or in mixture of 2 or more types. Preferably, an oxime type compound and a pyrazole type compound are mentioned.

具体的なブロック化剤としては、アルコ−ル系化合物としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−エチルヘキサノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール等が挙げられる。フェノール系化合物としては、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール、ジノニルフェノール、スチレン化フェノール、ヒドロキシ安息香酸エステル等が挙げられる。活性メチレン系化合物としては、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセチルアセトン等、メルカプタン系化合物としてブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン等が挙げられる。酸アミド系化合物としては、アセトアニリド、酢酸アミド、ε−カプロラクタム、δ−バレロラクタム、γ−ブチロラクタム等が挙げられる。酸イミド系化合物としては、コハク酸イミド、マレイン酸イミド等が挙げられる。イミダゾール系化合物としては、イミダゾール、2−メチルイミダゾール等が挙げられる。尿素系化合物としては、尿素、チオ尿素、エチレン尿素等が挙げられる。アミン系化合物としては、ジフェニルアミン、アニリン、カルバゾール等が挙げられる。イミン系化合物としては、エチレンイミン、ポリエチレンイミン等が挙げられる。重亜硫酸塩としては、重亜硫酸ソーダ等が挙げられる。ピリジン系化合物としては、2−ヒドロキシピリジン、2−ヒドロキシキノリン等が挙げられる。オキシム系化合物としては、ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等が挙げられる。ピラゾール系化合物としては、3,5−ジメチルピラゾール、3,5−ジエチルピラゾール等が挙げられる。   Specific examples of the blocking agent include methanol, ethanol, propanol, butanol, 2-ethylhexanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carbitol, benzyl alcohol, cyclohexanol and the like. Examples of phenolic compounds include phenol, cresol, ethylphenol, butylphenol, nonylphenol, dinonylphenol, styrenated phenol, hydroxybenzoic acid ester, and the like. Examples of the active methylene compound include dimethyl malonate, diethyl malonate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, and acetylacetone. Examples of the mercaptan compound include butyl mercaptan and dodecyl mercaptan. Examples of the acid amide compounds include acetanilide, acetic acid amide, ε-caprolactam, δ-valerolactam, γ-butyrolactam and the like. Examples of the acid imide compound include succinimide and maleic imide. Examples of the imidazole compound include imidazole and 2-methylimidazole. Examples of urea compounds include urea, thiourea, and ethylene urea. Examples of the amine compound include diphenylamine, aniline, carbazole and the like. Examples of the imine compound include ethyleneimine and polyethyleneimine. Examples of the bisulfite include sodium bisulfite. Examples of pyridine-based compounds include 2-hydroxypyridine and 2-hydroxyquinoline. Examples of oxime compounds include formal oxime, acetal oxime, acetoxime, methyl ethyl ketoxime, cyclohexanone oxime, and the like. Examples of the pyrazole compound include 3,5-dimethylpyrazole, 3,5-diethylpyrazole and the like.

ブロック化剤でブロックされたイソシアネート基としては、例えば、O−(メチリデンアミノ)カルボキシアミノ基、O−(1−エチリデンアミノ)カルボキシアミノ基、O−(1−メチルエチリデンアミノ)カルボキシアミノ基、O−[1−メチルプロピリデンアミノ]カルボキシアミノ基、(N−3,5−ジメチルピラゾリルカルボニル)アミノ基、(N−3−エチル−5−メチルピラゾリルカルボニル)アミノ基、(N−3,5−ジエチルピラゾリルカルボニル)アミノ基、(N−3−プロピル−5−メチルピラゾリルカルボニル)アミノ基、(N−3−エチル−5−プロピルピラゾリルカルボニル)アミノ基等が挙げられる。   Examples of the isocyanate group blocked with a blocking agent include O- (methylideneamino) carboxyamino group, O- (1-ethylideneamino) carboxyamino group, O- (1-methylethylideneamino) carboxyamino group, O- [1-Methylpropylideneamino] carboxyamino group, (N-3,5-dimethylpyrazolylcarbonyl) amino group, (N-3-ethyl-5-methylpyrazolylcarbonyl) amino group, (N-3,5-diethyl) Pyrazolylcarbonyl) amino group, (N-3-propyl-5-methylpyrazolylcarbonyl) amino group, (N-3-ethyl-5-propylpyrazolylcarbonyl) amino group and the like.

ブロック化剤でブロックされたイソチオシアネート基としては、例えば、O−(メチリデンアミノ)チオカルボキシアミノ基、O−(1−エチリデンアミノ)チオカルボキシアミノ基、O−(1−メチルエチリデンアミノ)チオカルボキシアミノ基、O−[1−メチルプロピリデンアミノ]チオカルボキシアミノ基、(N−3,5−ジメチルピラゾリルチオカルボニル)アミノ基、(N−3−エチル−5−メチルピラゾリルチオカルボニル)アミノ基、(N−3,5−ジエチルピラゾリルチオカルボニル)アミノ基、(N−3−プロピル−5−メチルピラゾリルチオカルボニル)アミノ基、(N−3−エチル−5−プロピルピラゾリルチオカルボニル)アミノ基等が挙げられる。   Examples of the isothiocyanate group blocked with a blocking agent include O- (methylideneamino) thiocarboxyamino group, O- (1-ethylideneamino) thiocarboxyamino group, and O- (1-methylethylideneamino) thiocarboxyamino group. Group, O- [1-methylpropylideneamino] thiocarboxyamino group, (N-3,5-dimethylpyrazolylthiocarbonyl) amino group, (N-3-ethyl-5-methylpyrazolylthiocarbonyl) amino group, N-3,5-diethylpyrazolylthiocarbonyl) amino group, (N-3-propyl-5-methylpyrazolylthiocarbonyl) amino group, (N-3-ethyl-5-propylpyrazolylthiocarbonyl) amino group, and the like. It is done.

分子内にブロック化剤でブロックされたイソシアネート基又はブロック化剤でブロックされたイソチオシアネート基を含有する重合性モノマーとしては、2−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−(2'−メタクリロイルオキシエチル)オキシエチルイソシアネート、2−アクリロイルオキシエチルイソチオシアネート、2−メタクリロイルオキシエチルイソチオシアネート、2−(2'−メタクリロイルオキシエチル)オキシエチルイソチオシアネート等が挙げられる。   Examples of the polymerizable monomer containing an isocyanate group blocked with a blocking agent or an isothiocyanate group blocked with a blocking agent in the molecule include 2-acryloyloxyethyl isocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, 2- (2 '-Methacryloyloxyethyl) oxyethyl isocyanate, 2-acryloyloxyethyl isothiocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isothiocyanate, 2- (2'-methacryloyloxyethyl) oxyethyl isothiocyanate, and the like.

分子内に活性水素を有する重合性モノマーとしては、4−アミノスチレン、4−アリルアニリン、4−アミノフェニルビニルエーテル、4−(N−フェニルアミノ)フェニルアリルエーテル、4−(N−メチルアミノ)フェニルアリルエーテル、4−アミノフェニルアリルエーテル、アリルアミン、2−アミノエチルアクリレート、4−ヒドロキシスチレン、4−ヒドロキシアリルベンゼン、4−ヒドロキシフェニルビニルエーテル、4−ヒドロキシフェニルアリルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ビニルアルコール、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、アクリル酸−3−ヒドロキシプロピル、アクリル酸−2−ヒドロキシブチル、アクリル酸−4−ヒドロキシフェニル、アクリル酸−2−ヒドロキシフェニルエチル
2−アミノエチルメタアクリレート、メタアクリル酸−2−ヒドロキシエチル、メタアクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸−3−ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸−2−ヒドロキシブチル、メタアクリル酸−4−ヒドロキシフェニル、メタアクリル酸−2−ヒドロキシフェニルエチル等が挙げられる。
Examples of polymerizable monomers having active hydrogen in the molecule include 4-aminostyrene, 4-allylaniline, 4-aminophenyl vinyl ether, 4- (N-phenylamino) phenylallyl ether, 4- (N-methylamino) phenyl. Allyl ether, 4-aminophenyl allyl ether, allylamine, 2-aminoethyl acrylate, 4-hydroxystyrene, 4-hydroxyallylbenzene, 4-hydroxyphenyl vinyl ether, 4-hydroxyphenyl allyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, vinyl alcohol -2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxyphenyl acrylate, acrylic 2-hydroxyphenylethyl 2-aminoethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, methacrylate Examples include 4-hydroxyphenyl acrylate and 2-hydroxyphenyl ethyl methacrylate.

前記架橋性基を含有する化合物であって活性水素と反応しうる官能基を有する化合物としては、メタクリロイルクロライド、アクリロイルクロライド、2−イソシアナトエチルアクリレート、2−イソシアナトエチルメタクリレート等が挙げられる。   Examples of the compound containing a crosslinkable group and having a functional group capable of reacting with active hydrogen include methacryloyl chloride, acryloyl chloride, 2-isocyanatoethyl acrylate, and 2-isocyanatoethyl methacrylate.

前記光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、4−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、4,4'−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンゾフェノン、メチル(o−ベンゾイル)ベンゾエート、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインオクチルエーテル、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、ジアセチル等のカルボニル化合物、メチルアントラキノン、クロロアントラキノン、クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン等のアントラキノン又はチオキサントン誘導体、ジフェニルジスルフィド、ジチオカーバメート等の硫黄化合物等が挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 4-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-hydroxy- 2-methylpropiophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, benzophenone, methyl (o-benzoyl) benzoate, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1 -Phenyl-1,2-propanedione-2- (o-benzoyl) oxime, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin octyl ether, benzyl, benzyldimethyl Examples include carbonyl compounds such as ketal, benzyl diethyl ketal, and diacetyl, anthraquinones such as methyl anthraquinone, chloroanthraquinone, chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, and 2-isopropylthioxanthone, and sulfur compounds such as diphenyl disulfide and dithiocarbamate. .

前記熱重合開始剤としては、ラジカル重合の開始剤となるものであればよく、例えば、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル、2,2'−アゾビスイソバレロニトリル、2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、4,4'−アゾビス(4−シアノバレリックアシッド)、1、1'−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)、2,2'−アゾビス(2−メチルプロパン)、2,2'−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)2塩酸塩等のアゾ系化合物、メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、アセチルアセトンパーオキシド等のケトンパーオキシド類、イソブチルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキシド、o−メチルベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、p−クロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド類、2,4,4−トリメチルペンチル−2−ヒドロパーオキシド、ジイソプロピルベンゼンパーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、t−ブチルパーオキシド等のヒドロパーオキシド類、ジクミルパーオキシド、t−ブチルクミルパーオキシド、ジ−t−ブチルパーオキシド、トリス(t−ブチルパーオキシ)トリアジン等のジアルキルパーオキシド類、1,1−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキサン、2,2−ジ(t−ブチルパーオキシ)ブタン等のパーオキシケタール類、t−ブチルパーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、ジ−t−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ジ−t−ブチルパーオキシアゼレート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−t−ブチルパーオキシトリメチルアジペート等のアルキルパーエステル類、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート等のパーカーボネート類等が挙げられる。   The thermal polymerization initiator may be any radical polymerization initiator, such as 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobisisovaleronitrile, 2,2 ′. -Azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid), 1,1'-azobis (cyclohexanecarbonitrile), 2,2'-azobis (2-methylpropane) ), Azo compounds such as 2,2′-azobis (2-methylpropionamidine) dihydrochloride, ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, methyl isobutyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, isobutyl peroxide Oxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, o-me Diacyl peroxides such as tilbenzoyl peroxide, lauroyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, 2,4,4-trimethylpentyl-2-hydroperoxide, diisopropylbenzene peroxide, cumene hydroperoxide, t-butyl Hydroperoxides such as peroxides, dialkyl peroxides such as dicumyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, tris (t-butylperoxy) triazine, 1,1-di Peroxyketals such as t-butylperoxycyclohexane and 2,2-di (t-butylperoxy) butane, t-butylperoxypivalate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t -Butyl peroxyisobutyrate, di-t- Tilperoxyhexahydroterephthalate, di-t-butylperoxyazelate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate, di- Examples include alkyl peresters such as t-butylperoxytrimethyladipate, and percarbonates such as diisopropylperoxydicarbonate, di-sec-butylperoxydicarbonate, and t-butylperoxyisopropylcarbonate.

本発明に用いられる高分子化合物は、重量平均分子量が3000〜1000000であることが好ましく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。   The polymer compound used in the present invention preferably has a weight average molecular weight of 3000 to 1000000, and may be linear, branched or cyclic.

本発明に用いられる高分子化合物としては、例えば、ポリ{ペンタフルオロスチレン−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{4−ビニルピリジン−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−アクリロニトリル−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{4−ビニルピリジン−コ−ビニルベンゾエート−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{4−ビニルピリジン−コ−ビニルベンゾエート−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−アクリロニトリル−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{4−ビニルピリジン−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−メチルメタクリレート−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{4−ビニルピリジン−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}、ポリ{4−ビニルピリジン−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−アクリロニトリル−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}、ポリ{4−ビニルピリジン−コ−ビニルベンゾエート−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}、ポリ{4−ビニルピリジン−コ−ビニルベンゾエート−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−アクリロニトリル−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}、ポリ{4−ビニルピリジン−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−メチルメタクリレート−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}、ポリ{1−ビニルイミダゾール−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{1−ビニルイミダゾール−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{1−ビニルイミダゾール−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−アクリロニトリル−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{1−ビニルイミダゾール−コ−ビニルベンゾエート−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{1−ビニルイミダゾール−コ−ビニルベンゾエート−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−アクリロニトリル−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{1−ビニルイミダゾール−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−メチルメタクリレート−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{1−ビニルイミダゾール−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}、ポリ{1−ビニルイミダゾール−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−アクリロニトリル−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}、ポリ{1−ビニルイミダゾール−コ−ビニルベンゾエート−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}、ポリ{1−ビニルイミダゾール−コ−ビニルベンゾエート−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−アクリロニトリル−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}、ポリ{1−ビニルイミダゾール−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−メチルメタクリレート−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}、ポリ{4−ジメチルアミノスチレン−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{4−ジメチルアミノスチレン−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{4−ジメチルアミノスチレン−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−アクリロニトリル−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{4−ジメチルアミノスチレン−コ−ビニルベンゾエート−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{4−ジメチルアミノスチレン−コ−ビニルベンゾエート−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−アクリロニトリル−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{4−ジメチルアミノスチレン−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−メチルメタクリレート−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルアミノ〕−スチレン]}、ポリ{4−ジメチルアミノスチレン−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}、ポリ{4−ジメチルアミノスチレン−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−アクリロニトリル−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}、ポリ{4−ジメチルアミノスチレン−コ−ビニルベンゾエート−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}、ポリ{4−ジメチルアミノスチレン−コ−ビニルベンゾエート−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−アクリロニトリル−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}、ポリ{4−ジメチルアミノスチレン−コ−ペンタフルオロスチレン−コ−メチルメタクリレート−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}、ポリ{4−ビニルピリジン−コ−グリシジルメタクリレート−コ−2−トリフルオロメチルスチレン}、ポリ{1−ビニルイミダゾール−コ−グリシジルメタクリレート−コ−2−トリフルオロメチルスチレン}、ポリ{1−メチル−2−ビニルイミダゾール−コ−グリシジルメタクリレート−コ−2−トリフルオロメチルスチレン}、ポリ{4−ジメチルアミノスチレン−コ−グリシジルメタクリレート−コ−2−トリフルオロメチルスチレン}、ポリ{4−ビニルピリジン−コ−〔(1−エチル−3−オキセタニル)メチルメタクリレート〕−コ−2−トリフルオロメチルスチレン}、ポリ{1−ビニルイミダゾール−コ−〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メチルメタクリレート〕−コ−2−トリフルオロメチルスチレン}、ポリ{1−メチル−2−ビニルイミダゾール−コ−〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メチルメタクリレート〕−コ−2−トリフルオロメチルスチレン}、ポリ{4−ジメチルアミノスチレン−コ−〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メチルメタクリレート〕−コ−2−トリフルオロメチルスチレン}、ポリ{ビニルベンゾエート−コ−2−トリフルオロメチルスチレン−コ−4−トリフルオロメチルスチレン−コ−[4−〔(2’−メタクリロイルオキシエチル)アミノカルボニルオキシ〕−スチレン]}等が挙げられる。   Examples of the polymer compound used in the present invention include poly {pentafluorostyrene-co- [4-[(2′-methacryloyloxyethyl) aminocarbonylamino] -styrene]}, poly {4-vinylpyridine-co -Pentafluorostyrene-co-acrylonitrile-co- [4-[(2'-methacryloyloxyethyl) aminocarbonylamino] -styrene]}, poly {4-vinylpyridine-co-vinylbenzoate-co-pentafluorostyrene- Co- [4-[(2′-methacryloyloxyethyl) aminocarbonylamino] -styrene]}, poly {4-vinylpyridine-co-vinylbenzoate-co-pentafluorostyrene-co-acrylonitrile-co- [4- [(2′-methacryloyloxyethyl) aminocarbonylamino] -styre ]}, Poly {4-vinylpyridine-co-pentafluorostyrene-co-methyl methacrylate-co- [4-[(2′-methacryloyloxyethyl) aminocarbonylamino] -styrene]}, poly {4-vinyl Pyridine-co-pentafluorostyrene-co- [4-[(2′-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyloxy] -styrene]}, poly {4-vinylpyridine-co-pentafluorostyrene-co-acrylonitrile-co- [4-[(2′-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyloxy] -styrene]}, poly {4-vinylpyridine-co-vinylbenzoate-co-pentafluorostyrene-co- [4-[(2′-methacryloyl Oxyethyl) aminocarbonyloxy] -styrene]}, poly {4-vinylpyridine-co- Nylbenzoate-co-pentafluorostyrene-co-acrylonitrile-co- [4-[(2'-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyloxy] -styrene]}, poly {4-vinylpyridine-co-pentafluorostyrene-co -Methyl methacrylate-co- [4-[(2'-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyloxy] -styrene]}, poly {1-vinylimidazole-co- [4-[(2'-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyl Amino] -styrene]}, poly {1-vinylimidazole-co-pentafluorostyrene-co- [4-[(2'-methacryloyloxyethyl) aminocarbonylamino] -styrene]}, poly {1-vinylimidazole- Co-pentafluorostyrene-co-acrylonitrile-co- [4 [(2′-methacryloyloxyethyl) aminocarbonylamino] -styrene]}, poly {1-vinylimidazole-co-vinylbenzoate-co-pentafluorostyrene-co- [4-[(2′-methacryloyloxyethyl) Aminocarbonylamino] -styrene]}, poly {1-vinylimidazole-co-vinylbenzoate-co-pentafluorostyrene-co-acrylonitrile-co- [4-[(2'-methacryloyloxyethyl) aminocarbonylamino]- Styrene]}, poly {1-vinylimidazole-co-pentafluorostyrene-co-methyl methacrylate-co- [4-[(2′-methacryloyloxyethyl) aminocarbonylamino] -styrene]}, poly {1-vinyl Imidazole-co-pentafluorostyrene-co- [ -[(2'-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyloxy] -styrene]}, poly {1-vinylimidazole-co-pentafluorostyrene-co-acrylonitrile-co- [4-[(2'-methacryloyloxyethyl) Aminocarbonyloxy] -styrene]}, poly {1-vinylimidazole-co-vinylbenzoate-co-pentafluorostyrene-co- [4-[(2′-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyloxy] -styrene]}, Poly {1-vinylimidazole-co-vinylbenzoate-co-pentafluorostyrene-co-acrylonitrile-co- [4-[(2'-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyloxy] -styrene]}, poly {1-vinyl Imidazole-co-pentafluorostyrene-come Methacrylate-co- [4-[(2′-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyloxy] -styrene]}, poly {4-dimethylaminostyrene-co- [4-[(2′-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyl Amino] -styrene]}, poly {4-dimethylaminostyrene-co-pentafluorostyrene-co- [4-[(2′-methacryloyloxyethyl) aminocarbonylamino] -styrene]}, poly {4-dimethylamino Styrene-co-pentafluorostyrene-co-acrylonitrile-co- [4-[(2'-methacryloyloxyethyl) aminocarbonylamino] -styrene]}, poly {4-dimethylaminostyrene-co-vinylbenzoate-co- Pentafluorostyrene-co- [4-[(2'-methacryloyloxy Til) aminocarbonylamino] -styrene]}, poly {4-dimethylaminostyrene-co-vinylbenzoate-co-pentafluorostyrene-co-acrylonitrile-co- [4-[(2'-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyl Amino] -styrene]}, poly {4-dimethylaminostyrene-co-pentafluorostyrene-co-methyl methacrylate-co- [4-[(2′-methacryloyloxyethyl) aminocarbonylamino] -styrene]}, poly {4-dimethylaminostyrene-co-pentafluorostyrene-co- [4-[(2'-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyloxy] -styrene]}, poly {4-dimethylaminostyrene-co-pentafluorostyrene- Co-acrylonitrile-co- [4-[(2'-meta Liloyloxyethyl) aminocarbonyloxy] -styrene]}, poly {4-dimethylaminostyrene-co-vinylbenzoate-co-pentafluorostyrene-co- [4-[(2'-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyloxy ] -Styrene]}, poly {4-dimethylaminostyrene-co-vinylbenzoate-co-pentafluorostyrene-co-acrylonitrile-co- [4-[(2'-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyloxy] -styrene] }, Poly {4-dimethylaminostyrene-co-pentafluorostyrene-co-methyl methacrylate-co- [4-[(2′-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyloxy] -styrene]}, poly {4-vinylpyridine -Co-glycidyl methacrylate-co-2-to Fluoromethylstyrene}, poly {1-vinylimidazole-co-glycidylmethacrylate-co-2-trifluoromethylstyrene}, poly {1-methyl-2-vinylimidazole-co-glycidylmethacrylate-co-2-trifluoromethyl Styrene}, poly {4-dimethylaminostyrene-co-glycidyl methacrylate-co-2-trifluoromethylstyrene}, poly {4-vinylpyridine-co-[(1-ethyl-3-oxetanyl) methyl methacrylate] -co -2-trifluoromethylstyrene}, poly {1-vinylimidazole-co-[(3-ethyloxetane-3-yl) methyl methacrylate] -co-2-trifluoromethylstyrene}, poly {1-methyl-2 -Vinylimidazole-co-[(3-ethyloxetane-3 -Yl) methyl methacrylate] -co-2-trifluoromethylstyrene}, poly {4-dimethylaminostyrene-co-[(3-ethyloxetane-3-yl) methyl methacrylate] -co-2-trifluoromethylstyrene }, Poly {vinylbenzoate-co-2-trifluoromethylstyrene-co-4-trifluoromethylstyrene-co- [4-[(2′-methacryloyloxyethyl) aminocarbonyloxy] -styrene]} and the like It is done.

硬化剤(B)
本発明に用いられる(B)硬化剤は、高分子化合物中に官能基が複数存在する場合に、その官能基を相互に反応させて高分子化合物を架橋及び樹脂組成物を硬化させる化合物であればよい。例えば、高分子化合物中の官能基がエチレン性不飽和基である場合、硬化剤としては重合開始剤が適当であり、具体的には、有機アゾ化合物、有機過酸化物、光カチオン重合開始剤ならびに熱カチオン重合開始剤等が挙げられる。
Curing agent (B)
The (B) curing agent used in the present invention is a compound that crosslinks the polymer compound and cures the resin composition by reacting the functional groups with each other when a plurality of functional groups are present in the polymer compound. That's fine. For example, when the functional group in the polymer compound is an ethylenically unsaturated group, a polymerization initiator is suitable as the curing agent, specifically, an organic azo compound, an organic peroxide, a photocationic polymerization initiator. And thermal cationic polymerization initiators.

前記有機アゾ化合物としては、例えば、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル、2,2'−アゾビスイソバレロニトリル、2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、4,4’−アゾビス(4−シアノバレリックアシッド)、1、1’−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルプロパン)、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)2塩酸塩、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。   Examples of the organic azo compound include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobisisovaleronitrile, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 4, 4′-azobis (4-cyanovaleric acid), 1,1′-azobis (cyclohexanecarbonitrile), 2,2′-azobis (2-methylpropane), 2,2′-azobis (2-methylpropionamidine) ) Dihydrochloride, azobisisobutyronitrile and the like.

前記有機過酸化物としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、アセチルアセトンパーオキシド等のケトンパーオキシド類、イソブチルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキシド、o−メチルベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、p−クロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド類、2,4,4−トリメチルペンチル−2−ヒドロパーオキシド、ジイソプロピルベンゼンパーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、t−ブチルパーオキシド等のヒドロパーオキシド類、ジクミルパーオキシド、t−ブチルクミルパーオキシド、ジ−t−ブチルパーオキシド、トリス(t−ブチルパーオキシ)トリアジン等のジアルキルパーオキシド類、1,1−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキサン、2,2−ジ(t−ブチルパーオキシ)ブタン等のパーオキシケタール類、t−ブチルパーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、ジ−t−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ジ−t−ブチルパーオキシアゼレート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−t−ブチルパーオキシトリメチルアジペート等のアルキルパーエステル類、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、1,1−ジメチルプロピルパーオキシイソプロピルカーボネート等のパーカーボネート類が挙げられる。   Examples of the organic peroxide include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, methyl isobutyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, and acetylacetone peroxide, isobutyl peroxide, benzoyl peroxide, and 2,4-dichlorobenzoyl peroxide. Diacyl peroxides such as o-methylbenzoyl peroxide, lauroyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, 2,4,4-trimethylpentyl-2-hydroperoxide, diisopropylbenzene peroxide, cumene hydroperoxide, Hydroperoxides such as t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, tris (t-butylperoxy Dialkyl peroxides such as triazine, peroxyketals such as 1,1-di-t-butylperoxycyclohexane, 2,2-di (t-butylperoxy) butane, t-butylperoxypivalate, t -Butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxyisobutyrate, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, di-t-butylperoxyazelate, t-butylperoxy-3, Alkyl peresters such as 5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate, di-t-butylperoxytrimethyladipate, diisopropylperoxydicarbonate, di-sec-butyl Peroxydicarbonate, t-butyl peroxyiso B pills carbonate, percarbonates such as 1,1-dimethyl propyl peroxy isopropyl carbonate.

前記光カチオン重合開始剤、熱カチオン重合開始剤としては、例えば、ヨードニウム塩、スルフォニウム塩、ホスフェート塩、アンチモネート塩などを挙げることができる。具体的には、ロードシル2074、アデカオプトマ-SP-150、アデカオプトマ-SP-152、アデカオプトマ-SP-170、アデカオプトマ-SP-172、アデカオプトンCPシリーズなどが挙げられる。また、前記のもののほかに、特開平9−118663号公報記載の化合物も使用することができる。   Examples of the cationic photopolymerization initiator and the thermal cationic polymerization initiator include iodonium salts, sulfonium salts, phosphate salts, and antimonate salts. Specific examples include Rhodosyl 2074, Adekaoptoma-SP-150, Adekaoptoma-SP-152, Adekaoptoma-SP-170, Adekaoptoma-SP-172, and Adeka Opton CP series. In addition to the above compounds, compounds described in JP-A-9-118663 can also be used.

本発明に用いることができる有機アゾ化合物及び有機過酸化物は、好ましくは、10時間半減期温度が30℃〜200℃であり、より好ましくは、10時間半減期温度が40℃〜150℃であり、更に好ましくは、10時間半減期温度が40℃〜100℃である。
10時間半減期温度が30℃より低い場合、保存安定性が悪く、ゲル化することがあり、200℃より高い場合、硬化時に有機半導体に悪影響を及ぼすことがある。
The organic azo compound and organic peroxide that can be used in the present invention preferably have a 10-hour half-life temperature of 30 ° C. to 200 ° C., more preferably a 10-hour half-life temperature of 40 ° C. to 150 ° C. More preferably, the 10-hour half-life temperature is 40 ° C to 100 ° C.
When the 10-hour half-life temperature is lower than 30 ° C, the storage stability is poor and gelation may occur. When the temperature is higher than 200 ° C, the organic semiconductor may be adversely affected during curing.

有機溶剤(C)
本発明に用いられる有機溶剤としては、(A)一般式(1)で表される繰り返し単位及び一般式(2)で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含有する高分子化合物、ならびに(B)硬化剤に対して良溶媒であれば特に制限はなく、例えば、酢酸ブチル、2−ヘプタノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられる。
Organic solvent (C)
The organic solvent used in the present invention contains (A) at least one repeating unit selected from the group consisting of the repeating unit represented by the general formula (1) and the repeating unit represented by the general formula (2). There is no particular limitation as long as it is a good solvent for the polymer compound and the (B) curing agent, and examples thereof include butyl acetate, 2-heptanone, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclopentanone, and cyclohexanone.

本発明のバンク絶縁層用組成物において、一般式(1)で表される繰り返し単位及び一般式(2)で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含有する高分子化合物の重量と硬化剤の重量を100重量部とした場合、有機溶剤の重量は50〜1000重量部であることが好ましい。また、一般式(1)で表される繰り返し単位及び一般式(2)で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含有する高分子化合物の重量部を100重量部とした場合、硬化剤の重量は0.1〜10重量部であることが好ましい。   In the composition for a bank insulating layer of the present invention, a high content containing at least one repeating unit selected from the group consisting of the repeating unit represented by the general formula (1) and the repeating unit represented by the general formula (2). When the weight of the molecular compound and the weight of the curing agent are 100 parts by weight, the weight of the organic solvent is preferably 50 to 1000 parts by weight. Further, 100 parts by weight of the polymer compound containing at least one type of repeating unit selected from the group consisting of the repeating unit represented by the general formula (1) and the repeating unit represented by the general formula (2) The weight of the curing agent is preferably 0.1 to 10 parts by weight.

その他の成分
本発明のバンク絶縁層用組成物は、必要に応じ、架橋剤、レベリング剤、界面活性剤等を添加することが出来る。
Other Components The composition for a bank insulating layer of the present invention can contain a crosslinking agent, a leveling agent, a surfactant and the like as necessary.

架橋剤としては、分子内に不飽和二重結合を二つ以上含有する低分子化合物、アクリル樹脂用架橋剤、分子内にエポキシ基を二つ以上含有する低分子化合物、分子内にオキセタニル基を二つ以上含有する低分子化合物、分子内に活性水素を二つ以上含有する低分子化合物、分子内に活性水素を二つ以上含有する高分子化合物等が挙げられる。
該分子内に不飽和二重結合を二つ以上含有する低分子化合物としては、例えば、ジビニルベンゼン、トリメチロールプロパントリメタクリレート等が挙げられる。
該アクリル樹脂用架橋剤としては、ジキュミルパーオキサイド、4,4−ジ−ターシャリーブチルパーオキシ−n−ブチルバレレート等が挙げられる。
該分子内にエポキシ基を二つ以上含有する低分子化合物としては、ビスフェノール−A−ジグリシジルエーテル、フェノールノボラックエポキシ樹脂等が挙げられる。
該分子内にオキセタニル基を二つ以上含有する低分子化合物としては、1,4−ビス{〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕メチル}ベンゼン、3−エチル−3−{〔(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ〕メチル}オキセタン、フェノールノボラックオキセタン樹脂等が挙げられる。
該分子内に活性水素を二つ以上含有する低分子化合物としては、1、2−ジヒドロキシベンゼン、1、3−ジヒドロキシベンゼン、1、4−ジヒドロキシベンゼン、1、2−フェニレンジアミン、1、3−フェニレンジアミン、1、4−フェニレンジアミン、1、2−ジヒドロキシナフタレン、1、3−ビス(3’−アミノフェノキシ)ベンゼン等が挙げられる。
該分子内に活性水素を二つ以上含有する高分子化合物としては、ポリアニリン、ポリビニルフェノール、ポリアニリン共重合体、ポリビニルフェノール共重合体等が挙げられる。
As a crosslinking agent, a low molecular compound containing two or more unsaturated double bonds in the molecule, a crosslinking agent for acrylic resin, a low molecular compound containing two or more epoxy groups in the molecule, and an oxetanyl group in the molecule. Examples thereof include a low molecular compound containing two or more, a low molecular compound containing two or more active hydrogens in the molecule, and a polymer compound containing two or more active hydrogens in the molecule.
Examples of the low molecular weight compound containing two or more unsaturated double bonds in the molecule include divinylbenzene and trimethylolpropane trimethacrylate.
Examples of the acrylic resin crosslinking agent include dicumyl peroxide and 4,4-di-tertiary butyl peroxy-n-butyl valerate.
Examples of the low molecular weight compound containing two or more epoxy groups in the molecule include bisphenol-A-diglycidyl ether and phenol novolac epoxy resin.
Examples of the low molecular weight compound containing two or more oxetanyl groups in the molecule include 1,4-bis {[(3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl} benzene, 3-ethyl-3-{[( 3-ethyloxetane-3-yl) methoxy] methyl} oxetane, phenol novolac oxetane resin and the like.
Examples of the low molecular weight compound containing two or more active hydrogens in the molecule include 1,2-dihydroxybenzene, 1,3-dihydroxybenzene, 1,4-dihydroxybenzene, 1,2-phenylenediamine, 1,3- Examples include phenylenediamine, 1,4-phenylenediamine, 1,2-dihydroxynaphthalene, 1,3-bis (3′-aminophenoxy) benzene, and the like.
Examples of the polymer compound containing two or more active hydrogens in the molecule include polyaniline, polyvinylphenol, polyaniline copolymer, polyvinylphenol copolymer and the like.

バンク絶縁層の製造方法
本発明のバンク絶縁層は、前記バンク絶縁層用組成物を用いて有機絶縁層を形成する工程と、該有機絶縁層の表面をイオン性液体で表面処理する工程とを有する方法によって製造することができる。
Method for Producing Bank Insulating Layer The bank insulating layer of the present invention comprises a step of forming an organic insulating layer using the bank insulating layer composition and a step of surface-treating the surface of the organic insulating layer with an ionic liquid. It can be manufactured by the method of having.

有機絶縁層の形成は、バンク絶縁層用組成物を基板上、基板に設置された電極上又はゲート絶縁層のような基板に設置された他の層上に、所望のパターン状に塗布し、硬化させて行なえばよい。バンク絶縁層用組成物の塗布法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法、ノズルコート法、キャピラリコート法等が挙げられる。   The organic insulating layer is formed by applying the bank insulating layer composition on a substrate, on an electrode placed on the substrate, or on another layer placed on the substrate such as a gate insulating layer, in a desired pattern. What is necessary is just to harden. Examples of the coating method for the bank insulating layer include spin coating, casting, micro gravure coating, gravure coating, bar coating, roll coating, wire bar coating, dip coating, spray coating, and screen. Examples thereof include a printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, an ink jet printing method, a nozzle coating method, and a capillary coating method.

有機絶縁層の硬化方法は、公知のホットプレート、オーブン、遠赤外線ベーク炉等を用いることができ、大気中もしくは不活性ガス雰囲気中特に制限はないが、好ましくは、不活性ガス雰囲気中で行われる。硬化温度は、好ましくは、50℃〜250℃であり、より好ましくは、60℃〜230℃であり、更に好ましくは、80℃〜200℃である。硬化時間は、硬化温度に合わせ適宜選択することが出来る。硬化温度が50℃より低いと、硬化が不充分である場合があり、250℃より高いと、高分子化合物が熱分解する場合がある。   As a method for curing the organic insulating layer, a known hot plate, oven, far-infrared baking furnace, or the like can be used, and there is no particular limitation in the atmosphere or in an inert gas atmosphere, but preferably in an inert gas atmosphere. Is called. The curing temperature is preferably 50 ° C to 250 ° C, more preferably 60 ° C to 230 ° C, and still more preferably 80 ° C to 200 ° C. The curing time can be appropriately selected according to the curing temperature. When the curing temperature is lower than 50 ° C., curing may be insufficient, and when it is higher than 250 ° C., the polymer compound may be thermally decomposed.

有機絶縁層を形成した後、要すれば基板面の少なくとも一部をUVオゾン処理する。ここでいう基板面とは有機絶縁層が形成された状態における基板の全面をいう。つまり、UVオゾン処理は、一般に、基板の露出面、電極の露出面、他の絶縁層の露出面及び有機絶縁層の表面に対して行われる。UVオゾン処理を行うことにより、電極上に存在する有機物が除去されて、その上に形成される素子の性能が向上する。   After forming the organic insulating layer, if necessary, at least a part of the substrate surface is subjected to UV ozone treatment. The substrate surface here means the entire surface of the substrate in a state where the organic insulating layer is formed. That is, the UV ozone treatment is generally performed on the exposed surface of the substrate, the exposed surface of the electrode, the exposed surface of another insulating layer, and the surface of the organic insulating layer. By performing the UV ozone treatment, organic substances present on the electrode are removed, and the performance of the element formed thereon is improved.

有機絶縁層の表面処理は、バンク絶縁層をイオン性液体中、もしくは、イオン性液体を含有する溶液中に浸漬した後、イオン性液体を洗い流すことで行うことが出来る。また、イオン性液体もしくはイオン性液体を含有する溶液をバンク絶縁層上にスピンコーターもしくはダイコーターで塗布した後、イオン性液体を洗い流すことでも表面処理することが出来る。   The surface treatment of the organic insulating layer can be performed by rinsing the bank insulating layer after immersing the bank insulating layer in the ionic liquid or a solution containing the ionic liquid. Alternatively, the ionic liquid or a solution containing the ionic liquid is applied on the bank insulating layer with a spin coater or a die coater, and then the surface treatment can be performed by washing away the ionic liquid.

イオン性液体とはカチオンとアニオンとを組み合わせた常温溶融塩をいう。イオン性液体のカチオン部は本発明のバンク絶縁層用組成物に対して親和性を示す。それゆえ、イオン性液体を基板面に接触させると、イオン性液体は上記有機絶縁層の表面に選択的に吸着する。そして、基板面の有機絶縁層以外の表面に単に付着したイオン性液体は洗浄することにより除去されるのに対し、有機絶縁層の表面に吸着したイオン性液体は洗浄しても除去されず、その結果、基板面のうち有機絶縁層の表面に選択的に撥インク性が付与される。このようにして表面に撥インク性が付与された有機絶縁層をバンク絶縁層と呼ぶ。   The ionic liquid refers to a room temperature molten salt in which a cation and an anion are combined. The cation portion of the ionic liquid has an affinity for the bank insulating layer composition of the present invention. Therefore, when the ionic liquid is brought into contact with the substrate surface, the ionic liquid is selectively adsorbed on the surface of the organic insulating layer. And, the ionic liquid simply adhered to the surface other than the organic insulating layer on the substrate surface is removed by washing, whereas the ionic liquid adsorbed on the surface of the organic insulating layer is not removed by washing, As a result, ink repellency is selectively imparted to the surface of the organic insulating layer in the substrate surface. The organic insulating layer having the surface provided with ink repellency in this way is referred to as a bank insulating layer.

イオン性液体のカチオン部としては、イミダゾリウム系カチオン、ピロリジニウム系カチオン、ピペリジニウム系カチオンが挙げられる。
イミダゾリウム系カチオンとしては、例えば、3−エチル−1−メチルイミダゾリウム、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム等が例示できる。
ピロリジニウム系カチオンとしては、例えば、N−メチル−N−プロピルピロリジニウム、N−ブチル−N−メチルピロリジニウム等が例示できる。
ピペリジニウム系カチオンとしては、例えば、N−メチル−N−プロピルピペリジニウム、N−ブチル−N−メチルピペリジニウム等が例示できる。
Examples of the cation portion of the ionic liquid include an imidazolium cation, a pyrrolidinium cation, and a piperidinium cation.
Examples of the imidazolium cation include 3-ethyl-1-methylimidazolium and 1-butyl-3-methylimidazolium.
Examples of the pyrrolidinium cation include N-methyl-N-propylpyrrolidinium and N-butyl-N-methylpyrrolidinium.
Examples of piperidinium-based cations include N-methyl-N-propylpiperidinium and N-butyl-N-methylpiperidinium.

前記イオン性液体のアニオン部としては、フッ素を含有するものが好ましく、テトラフルオロボレート、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、ヘキサフルオロホスフェート等が例示できる。   The anionic portion of the ionic liquid is preferably one containing fluorine, and examples thereof include tetrafluoroborate, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, hexafluorophosphate and the like.

前記イオン性液体としては、3−ブチル−1−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、3−ブチル−1−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、3−ブチル−1−メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,3−ジアリルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、1,3−ジアリルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、N−ブチル−N−メチルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、N−ブチル−N−メチルピペリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、N−ブチルピリジニウムテトラフルオロボレート、N−ブチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド等を例示できる。   Examples of the ionic liquid include 3-butyl-1-methylimidazolium hexafluorophosphate, 3-butyl-1-methylimidazolium tetrafluoroborate, 3-butyl-1-methylimidazolium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1,3-diallylimidazolium hexafluorophosphate, 1,3-diallylimidazolium tetrafluoroborate, N-butyl-N-methylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, N-butyl-N-methylpiperidinium Examples thereof include bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, N-butylpyridinium tetrafluoroborate, N-butylpyridinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, and the like.

本発明の製造方法により得られたバンク絶縁層は、撥インク性を有する。本発明において、撥インク性とは、イオン交換水の接触角が50〜120°であること意味する。   The bank insulating layer obtained by the production method of the present invention has ink repellency. In the present invention, ink repellency means that the contact angle of ion-exchanged water is 50 to 120 °.

本発明のバンク絶縁層用組成物を用いて製造したバンク絶縁層は、有機トランジスタ素子に含まれるバンク絶縁層、有機エレクトロルミネッセンス素子に含まれるバンク絶縁層等に用いることができる。   The bank insulating layer produced using the composition for a bank insulating layer of the present invention can be used for a bank insulating layer included in an organic transistor element, a bank insulating layer included in an organic electroluminescence element, and the like.

本発明のバンク絶縁層用組成物を用いて、好適にバンク絶縁層を有するディスプレイ用部材を作製できる。該バンク絶縁層を有するディスプレイ用部材を用いて、ディスプレイ用部材を備えるディスプレイを好適に作製できる。   Using the bank insulating layer composition of the present invention, a display member having a bank insulating layer can be suitably produced. Using the display member having the bank insulating layer, a display including the display member can be suitably manufactured.

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明が実施例により限定されるものではないことは言うまでもない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, it cannot be overemphasized that this invention is not limited by an Example.

(合成例1)
ビニルベンゾエート(アルドリッチ製)8.47g、2−トリフルオロメチルスチレン(ヒドラス化学製)6.15g、4−トリフルオロメチルスチレン(ヒドラス化学製)6.15g、4−アミノスチレン(アルドリッチ製)1.70g、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)0.22g、2−ヘプタノン(和光純薬製)52.93gを、125ml耐圧容器(エース製)に入れ、窒素をバブリングした後、密栓し、60℃のオイルバス中で48時間重合させて、粘稠な2−ヘプタノン溶液を得た。
得られた粘調な2−ヘプタノン溶液に2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(昭和電工製、カレンズMOI)2.21gを加え、室温で24時間反応させ高分子化合物1の2−ヘプタノン溶液を得た。
(Synthesis Example 1)
8.47 g of vinyl benzoate (manufactured by Aldrich), 6.15 g of 2-trifluoromethylstyrene (manufactured by Hydras Chemical), 6.15 g of 4-trifluoromethylstyrene (manufactured by Hydras Chemical), 4-aminostyrene (manufactured by Aldrich) 70 g, 0.22 g of 2,2′-azobis (isobutyronitrile), 52.93 g of 2-heptanone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) are put in a 125 ml pressure vessel (manufactured by Ace), bubbled with nitrogen, and then sealed. The mixture was polymerized in an oil bath at 60 ° C. for 48 hours to obtain a viscous 2-heptanone solution.
To the resulting viscous 2-heptanone solution, 2.21 g of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (produced by Showa Denko, Karenz MOI) was added and reacted at room temperature for 24 hours to obtain a 2-heptanone solution of polymer compound 1.

(実施例1)
高分子化合物1の2−ヘプタノン溶液 3.00g、硬化剤である1,1−ジメチルプロピルパーオキシイソプロピルカーボネート(カヤカルボンAIC-75、化薬アクゾ(株)製)0.045gを10mlのサンプル瓶に入れ、攪拌溶解して均一な塗布溶液を調製した。得られた塗布溶液を孔径0.2μmのメンブレンフィルターを用いてろ過し、高分子化合物1の塗布溶液を調整した。高分子化合物1は式(A)〜式(D)で表される繰り返し単位を有する。
Example 1
In a 10 ml sample bottle, 3.00 g of a 2-heptanone solution of polymer compound 1 and 0.045 g of 1,1-dimethylpropylperoxyisopropyl carbonate (Kaya-Carbon AIC-75, manufactured by Kayaku Akzo Co., Ltd.) as a curing agent. The mixture was stirred and dissolved to prepare a uniform coating solution. The obtained coating solution was filtered using a membrane filter having a pore size of 0.2 μm to prepare a coating solution of polymer compound 1. The high molecular compound 1 has a repeating unit represented by Formula (A)-Formula (D).

Figure 2010170830
Figure 2010170830

ガラス基板上に高分子化合物1の塗布溶液をスピンコートし、窒素雰囲気中で200℃で1分間焼成し、有機絶縁層を得た。   A coating solution of polymer compound 1 was spin-coated on a glass substrate and baked at 200 ° C. for 1 minute in a nitrogen atmosphere to obtain an organic insulating layer.

有機絶縁層を形成した基板上に親インク性を付与するためにUVオゾンドライストリッパー(サムコ製、UV−1)を用いて2分間UVオゾン処理し、次いで、有機絶縁層に撥インク性を付与するために、イオン性液体である1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート(東洋合成(株)製)の10重量%アセトン溶液に該有機絶縁層が形成された基板を30秒間浸漬し、取り出した後アセトン洗浄してバンク絶縁層を製造した。得られたバンク絶縁層のイオン交換水の接触角をコンタクトアングルメーター CA−A(KYOWA KAIMENKAGAKU社製)を用いて測定した。結果を表1に示す。   In order to impart ink affinity to the substrate on which the organic insulating layer is formed, UV ozone treatment is performed for 2 minutes using a UV ozone dry stripper (manufactured by Samco, UV-1), and then ink repellency is imparted to the organic insulating layer. In order to achieve this, the substrate on which the organic insulating layer was formed was immersed for 30 seconds in a 10 wt% acetone solution of 1-butyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate (Toyo Gosei Co., Ltd.), which is an ionic liquid. After taking out, the bank insulating layer was manufactured by washing with acetone. The contact angle of ion-exchanged water of the obtained bank insulating layer was measured using a contact angle meter CA-A (manufactured by KYOWA KAIMENKAGAKU). The results are shown in Table 1.

(比較例1)
高分子化合物1の塗布溶液をスピンコートしていないガラス基板を、実施例1と同様にしてイオン交換水の接触角を測定した。結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
The contact angle of ion-exchanged water was measured in the same manner as in Example 1 on a glass substrate on which the coating solution of the polymer compound 1 was not spin-coated. The results are shown in Table 1.

(比較例2)
イオン性液体のアセトン溶液のかわりに、アセトンを用いたほかは、比較例1と同様にしてイオン交換水の接触角を測定した。
(Comparative Example 2)
The contact angle of ion-exchanged water was measured in the same manner as in Comparative Example 1 except that acetone was used instead of the ionic liquid acetone solution.

(比較例3)
ポリビニルフェノール−コ−ポリメチルメタクリレート(アルドリッチ(株)製)1.00g、ヘキサメトキシメチルメラミン(住友化学(株)製)0.089g、硬化触媒であるTAZ-108(みどり化学製)0.062g、2−ヘプタノン7.00gを10mlのサンプル瓶に入れ、攪拌溶解して均一な塗布溶液を調製した。
(Comparative Example 3)
1.00 g of polyvinylphenol-co-polymethyl methacrylate (manufactured by Aldrich Co.), 0.089 g of hexamethoxymethylmelamine (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), 0.062 g of TAZ-108 (manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.) which is a curing catalyst Then, 7.00 g of 2-heptanone was placed in a 10 ml sample bottle and dissolved by stirring to prepare a uniform coating solution.

得られた塗布溶液を孔径0.2μmのメンブレンフィルターを用いてろ過し、ガラス基板上にスピンコートし、大気中で220℃で30分間焼成し、有機絶縁層を得た。得られた硬化膜を実施例1と同様にしてイオン交換水の接触角を測定した。結果を表1に示す。   The obtained coating solution was filtered using a membrane filter having a pore size of 0.2 μm, spin-coated on a glass substrate, and baked at 220 ° C. for 30 minutes in the air to obtain an organic insulating layer. The contact angle of ion exchange water was measured for the obtained cured film in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[表1]

Figure 2010170830
[Table 1]
Figure 2010170830

Claims (7)

(A)一般式(1)で表される繰り返し単位及び一般式(2)で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも一種の繰り返し単位を含有する高分子化合物、(B)硬化剤、及び(C)有機溶剤を含有するバンク絶縁層用組成物。
Figure 2010170830
(式中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。Rは、水素原子又は炭素数1〜20の一価の有機基を表す。Rfは、フッ素原子又はフッ素原子を有する炭素数1〜20の一価の有機基を表す。Raaは、炭素数1〜20の二価の有機基を表す。該二価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。lは、0〜20の整数を表し、mは、1〜5の整数を表す。Rが複数個ある場合、それらは同一でも相異なっていてもよい。Rfが複数個ある場合、それらは同一でも相異なっていてもよい。Raaが複数個ある場合、それらは同一でも相異なっていてもよい。)
Figure 2010170830
(A) a polymer compound containing at least one repeating unit selected from the group consisting of the repeating unit represented by formula (1) and the repeating unit represented by formula (2), (B) a curing agent, And (C) A composition for a bank insulating layer containing an organic solvent.
Figure 2010170830
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 2 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms. Rf represents a fluorine atom or a carbon atom having 1 fluorine atom.) Represents a monovalent organic group of ~ 20. Raa represents a divalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom in the divalent organic group may be substituted with a fluorine atom. l represents an integer of 0 to 20, and m represents an integer of 1 to 5. When there are a plurality of R 2 s , they may be the same or different. (It may be the same or different. When there are a plurality of Raa, they may be the same or different.)
Figure 2010170830
基板上、基板に設置された電極上又は基板に設置された他の層上に、請求項1記載のバンク絶縁層用組成物を用いて有機絶縁層を形成する工程、及び
該有機絶縁層の表面をイオン性液体で表面処理する工程
を包含するバンク絶縁層の製造方法。
A step of forming an organic insulating layer on the substrate, an electrode provided on the substrate, or another layer provided on the substrate using the composition for a bank insulating layer according to claim 1, and A method for producing a bank insulating layer comprising a step of surface-treating a surface with an ionic liquid.
イオン性液体で表面処理を行う前に、前記基板面の少なくとも一部をUVオゾン処理する工程を更に包含する請求項2記載のバンク絶縁層の製造方法。   The method for producing a bank insulating layer according to claim 2, further comprising a step of performing UV ozone treatment on at least a part of the substrate surface before performing the surface treatment with the ionic liquid. 前記イオン性液体が有するアニオンが、フッ素原子を含有するアニオンである請求項2又は3記載のバンク絶縁層の製造方法。   The method for producing a bank insulating layer according to claim 2 or 3, wherein the anion contained in the ionic liquid is an anion containing a fluorine atom. 前記イオン性液体が有するカチオンが、インダゾリウム系カチオン、ピロリジニウム系カチオン及びピペリジニウム系カチオンからなる群から選択される少なくとも一種のカチオンである請求項2〜4のいずれか記載のバンク絶縁層の製造方法。   The method for producing a bank insulating layer according to any one of claims 2 to 4, wherein the cation of the ionic liquid is at least one cation selected from the group consisting of an indazolium cation, a pyrrolidinium cation, and a piperidinium cation. 請求項2〜5のいずれか記載の製造方法を用いて製造したバンク絶縁層を含むディスプレイ用部材。   The display member containing the bank insulating layer manufactured using the manufacturing method in any one of Claims 2-5. 請求項6に記載のディスプレイ用部材からなるディスプレイ。   A display comprising the display member according to claim 6.
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