JP2010170713A - Plasma display panel and method of manufacturing the same - Google Patents

Plasma display panel and method of manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2010170713A
JP2010170713A JP2009009825A JP2009009825A JP2010170713A JP 2010170713 A JP2010170713 A JP 2010170713A JP 2009009825 A JP2009009825 A JP 2009009825A JP 2009009825 A JP2009009825 A JP 2009009825A JP 2010170713 A JP2010170713 A JP 2010170713A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
protective film
display panel
plasma display
discharge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009009825A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tadayoshi Kosaka
忠義 小坂
Shinya Fukuda
晋也 福田
Minoru Hasegawa
実 長谷川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Plasma Display Ltd
Original Assignee
Hitachi Plasma Display Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Plasma Display Ltd filed Critical Hitachi Plasma Display Ltd
Priority to JP2009009825A priority Critical patent/JP2010170713A/en
Publication of JP2010170713A publication Critical patent/JP2010170713A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a PDP with improved bright-room contrast. <P>SOLUTION: The plasma display panel includes: a rear-face plate comprising a rear-face substrate, an address electrode formed on the rear-face substrate, barrier ribs zoning discharge cells, and phosphors each formed on an inside of each cell; and a front plate comprising a front substrate, display electrodes each consisting of a scanning electrode and a sustain electrode formed on the front substrate, a dielectric layer covering the display electrodes, a protective film protecting the dielectric layer from discharge, and a light-shielding layer covering the protective layer at an upper side as well as in the vicinity of the barrier ribs. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a plasma display panel and a manufacturing method thereof.

図１は、一般的なＰＤＰ２を分解した状態で、斜め上から見た拡大斜視図である。尚、図面が異なっても、対応する部分には同一の符号を付して、その説明を省略する。   FIG. 1 is an enlarged perspective view of a general PDP 2 as viewed from obliquely above in an exploded state. Note that, even if the drawings are different, corresponding portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

図１に示すように、ＰＤＰ２は、一対の前面板４と背面板６を有している。前面板４と背面板６は、対向した状態で重ね合わされ、外周部が封止剤（図示せず）よって気密接着されている。   As shown in FIG. 1, the PDP 2 has a pair of a front plate 4 and a back plate 6. The front plate 4 and the back plate 6 are overlapped in an opposed state, and the outer peripheral portion is hermetically bonded with a sealant (not shown).

前面板４と背面板６の間に形成された空間には、ＮｅとＸｅを主成分とする放電ガスが封入され、約５００Ｔｏｒｒの圧力に保たれている。   A space formed between the front plate 4 and the back plate 6 is filled with a discharge gas containing Ne and Xe as main components and is maintained at a pressure of about 500 Torr.

前面板４は、ガラス製の前面基板８と、前面基板８の上に形成された複数の表示電極１０と、表示電極１０を覆う誘電体層１２と、誘電体層１２の上に形成された保護膜１４を備えている。   The front plate 4 is formed on a glass front substrate 8, a plurality of display electrodes 10 formed on the front substrate 8, a dielectric layer 12 covering the display electrodes 10, and the dielectric layer 12. A protective film 14 is provided.

表示電極１０は、１テレビ走査線に相当する。表示電極１０は、１組のＸ電極（走査電極１６）及びＹ電極（維持電極１８）によって形成されている。そして、Ｘ電極（走査電極１６）及びＹ電極（維持電極１８）は、夫々、前面基板８の上に形成された透明電極２０と、この透明電極２０の上に形成されたバス電極２２からなっている。バス電極２２は、高導電率の金属によって形成され、帯状の透明電極２０の一辺に片寄って配置されている。   The display electrode 10 corresponds to one television scanning line. The display electrode 10 is formed by a set of X electrodes (scanning electrodes 16) and Y electrodes (sustaining electrodes 18). The X electrode (scanning electrode 16) and the Y electrode (sustaining electrode 18) each include a transparent electrode 20 formed on the front substrate 8 and a bus electrode 22 formed on the transparent electrode 20. ing. The bus electrode 22 is formed of a metal having a high conductivity, and is disposed so as to be offset from one side of the band-shaped transparent electrode 20.

表示電極１０を覆う誘電体層１２は、低融点ガラスによって形成されている。誘電体層１２の上に形成された保護膜１４は、放電耐性に優れた材料、例えばＭｇＯで形成され、誘電体層１２を放電から保護する。   The dielectric layer 12 covering the display electrode 10 is formed of low melting glass. The protective film 14 formed on the dielectric layer 12 is made of a material having excellent discharge resistance, such as MgO, and protects the dielectric layer 12 from discharge.

一方、背面板６は、ガラス製の背面基板２４と、背面基板２４の上に形成された複数のアドレス電極２６と、アドレス電極２６を覆う誘電体層２８と、誘電体層２８の上に格子状に形成された隔壁（リブ）３０を有している。この誘電体層２８は、低融点ガラスによって形成されている。   On the other hand, the back plate 6 includes a glass back substrate 24, a plurality of address electrodes 26 formed on the back substrate 24, a dielectric layer 28 covering the address electrodes 26, and a lattice on the dielectric layer 28. It has the partition (rib) 30 formed in the shape. The dielectric layer 28 is made of low-melting glass.

更に、背面板６は、隔壁３０の間に露出した誘電体層２８の表面と、隔壁３０の側壁とに形成された蛍光体３２を有している。蛍光体３２には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）で発光する３種類の蛍光体が用いられる。これら３種類の蛍光体が、表示電極１０の延在方向に沿って、周期的に配置されている。   Further, the back plate 6 has phosphors 32 formed on the surface of the dielectric layer 28 exposed between the barrier ribs 30 and the side walls of the barrier ribs 30. As the phosphor 32, three types of phosphors that emit light in red (R), green (G), and blue (B) are used. These three types of phosphors are periodically arranged along the extending direction of the display electrode 10.

図１に示すように、アドレス電極２６と表示電極１０は立体交差（直交）している。そして、アドレス電極２６と表示電極１０の交差点を含む空間が、格子状の隔壁３０によって囲われている。この隔壁３０によって仕切られた空間により、放電セル３４が形成されている。   As shown in FIG. 1, the address electrode 26 and the display electrode 10 are three-dimensionally crossed (orthogonal). A space including the intersection of the address electrode 26 and the display electrode 10 is surrounded by a lattice-shaped partition wall 30. A discharge cell 34 is formed by the space partitioned by the partition wall 30.

各放電セル３４で直交するアドレス電極２６と走査電極１６には、夫々、表示予定の画像情報に基づいて、書き込み信号パルス（データパルス）と書き込み走査パルス（走査パルス）が印加される。   A write signal pulse (data pulse) and a write scan pulse (scan pulse) are applied to the address electrode 26 and the scan electrode 16 orthogonal to each other in each discharge cell 34 based on the image information to be displayed.

両パルスが同時に印加された放電セルで書込み放電が発生し、保護膜１４に壁電荷が形成される。一旦壁電荷が形成されると、走査電極１６と維持電極１８に交互に印加される維持パルスによって、維持放電が継続的に発生する。   Address discharge occurs in the discharge cells to which both pulses are applied simultaneously, and wall charges are formed in the protective film 14. Once the wall charges are formed, the sustain discharge is continuously generated by the sustain pulses applied alternately to the scan electrodes 16 and the sustain electrodes 18.

この維持放電によるプラズマ中で発生する紫外線が、蛍光体３２を励起し発光させる。このようにして点灯した複数の放電セルによって、ＰＤＰの表面に画像が表示される。   The ultraviolet rays generated in the plasma due to the sustain discharge excite the phosphor 32 to emit light. An image is displayed on the surface of the PDP by the plurality of discharge cells lit in this manner.

ところで、保護膜１４は、誘電体層１２を保護するだけでなく、二次電子を放出して放電が起きやすくする。従って、保護膜１４は、放電耐性が高く且つ二次電子放出係数が高い材料で形成することが好ましい。このような、材料としては、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ等がある。   By the way, the protective film 14 not only protects the dielectric layer 12 but also emits secondary electrons to facilitate discharge. Therefore, the protective film 14 is preferably formed of a material having high discharge resistance and a high secondary electron emission coefficient. Such materials include MgO, CaO, SrO, BaO and the like.

しかし、これらの材料は、大気中の水分や炭酸化物と反応し、容易に劣化してしまう。このため、保護膜の形成後、前面板４と背面板６を気密接着するまでの間に、保護膜１４が劣化してしまうことがある。そこで、保護膜１４の表面を、ＳｉＮ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＭｇＦ２、ＣａＦ２等の一時保護膜で保護する技術が開発されている（特許文献１）。 However, these materials react with moisture and carbonates in the atmosphere and easily deteriorate. For this reason, the protective film 14 may deteriorate after the protective film is formed and before the front plate 4 and the rear plate 6 are hermetically bonded. Therefore, a technique for protecting the surface of the protective film 14 with a temporary protective film such as SiN, SiO 2 , TiO 2 , MgF 2 , or CaF 2 has been developed (Patent Document 1).

第３０７３４５１号No. 3073451

ＰＤＰと並ぶ大型及び薄型の画像表示装置（例えば、テレビジョン）としては、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）がある。ＰＤＰには、ＬＣＤと比較すると、周囲が明るい場合のコントラスト、すなわち明室コントラストが低いという問題がある。   An LCD (Liquid Crystal Display) is known as a large and thin image display device (for example, a television) aligned with the PDP. The PDP has a problem that the contrast when the surrounding is bright, that is, the contrast of the bright room is lower than that of the LCD.

そこで、本発明の目的は、明室コントラストが改善されたＰＤＰ及びその製造方法を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a PDP with improved bright room contrast and a method for manufacturing the PDP.

尚、隔壁としては、透明なものや黒く着色されたものも存在する。しかし、たとえ隔壁が透明であっても、外光は隔壁を透過して、隔壁側面に形成された蛍光体によって反射される。また、隔壁が黒く着色されていても、隔壁の上に食み出した蛍光体によって、外光は反射される。   In addition, as a partition, there exist a transparent thing and the thing colored black. However, even if the barrier ribs are transparent, external light passes through the barrier ribs and is reflected by the phosphor formed on the side walls of the barrier ribs. Further, even if the partition walls are colored black, the external light is reflected by the phosphors protruding on the partition walls.

上記の目的を達成するために、本発明の第１の側面は、背面基板と、前記背面基板上に形成されたアドレス電極と、放電セルを区画する隔壁と、前記放電セルの内側に形成された蛍光体とを有する背面板と、前面基板と、前記前面基板上に形成された、査電極と維持電極とからなる表示電極と、前記表示電極を覆う誘電体層と、前記誘電体層を放電から保護する保護膜と、前記隔壁の上側及び前記隔壁の近傍で前記保護膜を覆う遮光層とを有する前面板とを具備するプラズマディスプレイパネルである。   In order to achieve the above object, a first aspect of the present invention is formed on a back substrate, an address electrode formed on the back substrate, a partition wall defining a discharge cell, and an inside of the discharge cell. A back plate having a phosphor, a front substrate, a display electrode formed on the front substrate comprising a review electrode and a sustain electrode, a dielectric layer covering the display electrode, and the dielectric layer A plasma display panel comprising: a protective film that protects against discharge; and a front plate having a light shielding layer that covers the protective film above and in the vicinity of the barrier ribs.

本発明の第２の側面は、前面基板の上に、走査電極と維持電極からなる表示電極と、前記表示電極を覆う誘電体層と、前記誘電体層を放電から保護する保護膜と、前記保護膜の表面に可視光を遮る遮光膜を順次形成して、前面板を作製する第１の工程と、背面基板の上に、アドレス電極と、放電セルを区画する隔壁と、前記放電セルの内側に蛍光体層とを順次形成して、背面板を作製する第２の工程と、前記前面板と前記背面板を組み立てた後、前記走査電極と前記維持電極の間に交流電圧を印加して放電を起こして、前記遮光膜を除去する第３の工程を具備するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。   According to a second aspect of the present invention, on the front substrate, a display electrode composed of a scan electrode and a sustain electrode, a dielectric layer covering the display electrode, a protective film protecting the dielectric layer from discharge, A first step of forming a front plate by sequentially forming a light-shielding film that blocks visible light on the surface of the protective film, an address electrode, a partition wall for partitioning the discharge cell on the rear substrate, and the discharge cell A second step of sequentially forming phosphor layers on the inside to produce a back plate, and after assembling the front plate and the back plate, an AC voltage is applied between the scan electrode and the sustain electrode. A method of manufacturing a plasma display panel comprising a third step of causing discharge to remove the light shielding film.

本発明によれば、明室コントラストが改善されたＰＤＰを提供することができうる。   According to the present invention, it is possible to provide a PDP with improved bright room contrast.

従来のＰＤＰを分解した状態で、斜め上から見た拡大斜視図である。It is the expansion perspective view seen from diagonally in the state which decomposed | disassembled the conventional PDP. 実施例１のＰＤＰの平面図である。1 is a plan view of a PDP in Example 1. FIG. 図２で四角によって囲われた領域Ａの拡大平面図である。FIG. 3 is an enlarged plan view of a region A surrounded by a square in FIG. 2. 図３のIV-IV線における、実施例１のＰＤＰの断面図である。It is sectional drawing of PDP of Example 1 in the IV-IV line of FIG. 図３のV-V線における、実施例１のＰＤＰの断面図である。It is sectional drawing of PDP of Example 1 in the VV line | wire of FIG. 実施例１のＰＤＰの製造工程を説明する、図３のIV-IV線における断面図である（その１）。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. 3 for explaining the manufacturing process of the PDP of Example 1 (Part 1). 実施例１のＰＤＰの製造工程を説明する、図３のIV-IV線における断面図である（その２）。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. 3 for explaining the production process of the PDP of Example 1 (No. 2). 実施例１のＰＤＰの製造工程を説明する、図３のIV-IV線における断面図である（その３）。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. 3 for explaining the manufacturing process of the PDP of Example 1 (No. 3). 実施例１のＰＤＰの製造工程を説明する、図３のIV-IV線における断面図である（その４）。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. 3 for explaining the production process of the PDP of Example 1 (No. 4). 図３のIV-IV線における、実施例２のＰＤＰの断面図である。It is sectional drawing of PDP of Example 2 in the IV-IV line of FIG. 図３のV-V線における、実施例２のＰＤＰの断面図である。It is sectional drawing of PDP of Example 2 in the VV line | wire of FIG.

以下、図面にしたがって本発明の実施の形態について説明する。但し、本発明の技術的範囲はこれらの実施の形態に限定されず、特許請求の範囲に記載された事項とその均等物まで及ぶものである。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the technical scope of the present invention is not limited to these embodiments, but extends to the matters described in the claims and equivalents thereof.

ＰＤＰの低い明室コントラストは、白色の蛍光体や隔壁が、外光を反射することに起因している。   The low bright room contrast of PDP is due to the fact that white phosphors and barriers reflect outside light.

そこで、本実施の形態のＰＤＰでは、隔壁の上側及び隔壁の近傍（又は、周囲）で、保護膜の表面が、可視光を遮る遮光層によって覆われている。この遮光層が、隔壁による外光の反射を防止して、ＰＤＰの明室コントラストを改善する。尚、「上側」とは、基板（前面基板又は背面基板）とは反対側の方向を意味する。   Therefore, in the PDP of the present embodiment, the surface of the protective film is covered with a light shielding layer that blocks visible light above the partition and in the vicinity (or the periphery) of the partition. This light shielding layer prevents reflection of external light by the partition walls and improves the bright room contrast of the PDP. The “upper side” means the direction opposite to the substrate (front substrate or rear substrate).

ところで、隔壁は、その近傍（又は、周囲）に存在する放電ガスを冷却して、プラズマの接近を妨げる。このため、隔壁の近傍には、プラズマは拡がってこない。従って、隔壁の側壁及び近傍に形成された蛍光体は、発光しないか、或いは微弱にしか発光しない。   By the way, the barrier ribs cool the discharge gas existing in the vicinity (or the surrounding area) to prevent the plasma from approaching. For this reason, plasma does not spread near the partition. Therefore, the phosphors formed on the side walls and in the vicinity thereof do not emit light or emit light only weakly.

本ＰＤＰでは、このように発光体としての機能が低い蛍光体の上側（隔壁の近傍）も、遮光層によって覆われている。従って、発光体としての機能が低い蛍光体による外光の反射も、本ＰＤＰによれば、防止することもできる。このため、明室コントラストが、更に改善される。   In the present PDP, the upper side of the phosphor having a low function as a light emitter (in the vicinity of the partition wall) is also covered with a light shielding layer. Therefore, reflection of external light by a phosphor having a low function as a light emitter can also be prevented by this PDP. For this reason, the bright room contrast is further improved.

以上のように、本ＰＤＰでは、発光に寄与しない領域（又は、発光への寄与が小さい領域）による外光の反射が防止されている。由って、本ＰＤＰによれば、明室コントラストを改善することができる。   As described above, in this PDP, reflection of external light by a region that does not contribute to light emission (or a region that contributes little to light emission) is prevented. Therefore, according to this PDP, the bright room contrast can be improved.

上述した遮光層は、保護膜の表面全体に遮光膜を一様に形成し、その後走査電極と維持電極の間に交流電圧を印加して放電を起こせば、容易に形成することができる。   The light shielding layer described above can be easily formed by forming a light shielding film uniformly on the entire surface of the protective film and then applying an AC voltage between the scan electrode and the sustain electrode to cause discharge.

放電が起きるとプラズマが生成されて、遮光膜がプラズマに曝される。プラズマに曝されると、遮光膜はスパッタされ除去される。このため、プラズマが拡がらない隔壁近傍と隔壁の上側を残して、遮光膜が除去される。その結果、隔壁の上側及び隔壁の近傍で保護膜を覆う遮光層が、形成される。   When discharge occurs, plasma is generated and the light shielding film is exposed to the plasma. When exposed to plasma, the light shielding film is sputtered away. For this reason, the light shielding film is removed leaving the vicinity of the partition wall where the plasma does not spread and the upper side of the partition wall. As a result, a light shielding layer covering the protective film is formed on the upper side of the partition and in the vicinity of the partition.

なお、走査電極と維持電極の間に交流電圧を印加するためには、例えば、走査電極及び維持電極に交互に維持パルス（電圧パルス）を印加すればよい。   In order to apply an AC voltage between the scan electrode and the sustain electrode, for example, a sustain pulse (voltage pulse) may be applied alternately to the scan electrode and the sustain electrode.

以下図面に従って、本実施例のＰＤＰの構成、動作、及び製造方法を説明する。   The configuration, operation, and manufacturing method of the PDP according to this embodiment will be described below with reference to the drawings.

（１）構 成
図２は、本実施例のＰＤＰ３６の平面図である。 (1) Configuration FIG. 2 is a plan view of the PDP 36 of the present embodiment.

図２に示すように、本ＰＤＰ３６は、前面板４と背面板６を具備している。   As shown in FIG. 2, the PDP 36 includes a front plate 4 and a back plate 6.

前面板４には、水平方向に延在する走査電極１６と同じく水平方向に延在する維持電極１８からなる複数の表示電極が形成されている。   The front plate 4 is formed with a plurality of display electrodes including sustain electrodes 18 extending in the horizontal direction as well as scanning electrodes 16 extending in the horizontal direction.

走査電極１６には、画像データを書き込むための電圧パルス（書き込み走査パルス）が、上から順番に印加される。すなわち、走査電極１６には、矢印３８の指し示す方向（走査方向）に向かって、順番に書き込み走査パルスが印加される。   A voltage pulse (write scan pulse) for writing image data is applied to the scan electrode 16 in order from the top. That is, write scan pulses are sequentially applied to the scan electrodes 16 in the direction indicated by the arrow 38 (scan direction).

一方、背面板６には、走査電極１６及び維持電極１８に直交（立体交差）する複数のアドレス電極２６が形成されている。このアドレス電極２６と、走査電極１６及び維持電極１８が交差する位置には、放電セル３４が形成されている。放電セル３４は、個別に放電するＰＤＰの最少単位領域である。   On the other hand, a plurality of address electrodes 26 that are orthogonal (three-dimensionally intersecting) with the scanning electrodes 16 and the sustaining electrodes 18 are formed on the back plate 6. A discharge cell 34 is formed at a position where the address electrode 26 intersects with the scan electrode 16 and the sustain electrode 18. The discharge cell 34 is a minimum unit region of the PDP that discharges individually.

図３は、図２で四角によって囲われた領域Ａを拡大した拡大平面図である。但し、図３は、ＰＤＰ３６を９０°回転した状態で描かれている。図４は、図３のIV-IV線における断面図である。図５は、図２のV-V線における断面図である。   FIG. 3 is an enlarged plan view in which a region A surrounded by a square in FIG. 2 is enlarged. However, FIG. 3 is drawn with the PDP 36 rotated by 90 °. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line VV in FIG.

図３乃至図５に示すように、前面板４は、ガラス製の前面基板８と、前面基板８の上に形成された複数の表示電極１０と、表示電極１０を覆う誘電体層１２と、誘電体層１２の上に形成された保護膜１４を備えている。更に、前面板４は、後述する背面板６を形成する隔壁３０の上側及び隔壁３０の近傍(又は、周囲)で保護膜１４を覆う遮光層４０を備えている。   As shown in FIG. 3 to FIG. 5, the front plate 4 includes a glass front substrate 8, a plurality of display electrodes 10 formed on the front substrate 8, a dielectric layer 12 covering the display electrodes 10, A protective film 14 is provided on the dielectric layer 12. Further, the front plate 4 includes a light shielding layer 40 that covers the protective film 14 on the upper side of the partition wall 30 that forms the back plate 6 described later and in the vicinity (or the periphery) of the partition wall 30.

表示電極１０は、１テレビ走査線に相当する。表示電極１０は、１組のＸ電極（走査電極１６）及びＹ電極（維持電極１８）によって形成されている。そして、Ｘ電極（走査電極１６）及びＹ電極（維持電極１８）は、夫々、前面基板８の上に形成された透明電極２０と、この透明電極２０の上に形成されたバス電極２２からなっている。バス電極２２は、高導電率の金属によって形成され、帯状の透明電極２０の一辺に片寄って配置されている。   The display electrode 10 corresponds to one television scanning line. The display electrode 10 is formed by a set of X electrodes (scanning electrodes 16) and Y electrodes (sustaining electrodes 18). The X electrode (scanning electrode 16) and the Y electrode (sustaining electrode 18) each include a transparent electrode 20 formed on the front substrate 8 and a bus electrode 22 formed on the transparent electrode 20. ing. The bus electrode 22 is formed of a metal having a high conductivity, and is disposed so as to be offset from one side of the band-shaped transparent electrode 20.

表示電極１０を覆う誘電体層１２は、低融点ガラスによって形成されている。誘電体層１２の上に形成された保護膜１４は、放電耐性に優れた材料、例えばＭｇＯで形成され、誘電体層１２を放電から保護する。   The dielectric layer 12 covering the display electrode 10 is formed of low melting glass. The protective film 14 formed on the dielectric layer 12 is made of a material having excellent discharge resistance, such as MgO, and protects the dielectric layer 12 from discharge.

遮光層４０は、隔壁３０の上側の領域と隔壁３０を囲む幅十数μｍの領域とからなる保護膜１４の表面に、形成されている。この遮光層４０は、厚さ０.１μｍのＣｕＯ膜によって形成されている。ＣｕＯは黒色なので、外光を吸収して遮断する。従って、遮光層４０を設けることによって、明室コントラストが改善される。尚、遮光層４０の厚さとしては、０.０５〜０.３μｍが好ましい。   The light shielding layer 40 is formed on the surface of the protective film 14 composed of a region above the partition wall 30 and a region having a width of several tens of μm surrounding the partition wall 30. This light shielding layer 40 is formed of a CuO film having a thickness of 0.1 μm. Since CuO is black, it absorbs and blocks external light. Therefore, the bright room contrast is improved by providing the light shielding layer 40. In addition, as thickness of the light shielding layer 40, 0.05-0.3 micrometer is preferable.

背面板６は、図４及び５に示すように、ガラス製の背面基板２４と、背面基板２４の上に形成された複数のアドレス電極２６と、アドレス電極２６を覆う誘電体層２８と、誘電体層２８の上に格子状に形成された隔壁３０を有している（図３には、遮光層４０を透視して見た隔壁３０が、破線によって示されている。）。誘電体層２８は、低融点ガラスによって形成されている。   As shown in FIGS. 4 and 5, the back plate 6 includes a glass back substrate 24, a plurality of address electrodes 26 formed on the back substrate 24, a dielectric layer 28 covering the address electrodes 26, and a dielectric. The barrier ribs 30 are formed in a lattice shape on the body layer 28 (in FIG. 3, the barrier ribs 30 seen through the light shielding layer 40 are indicated by broken lines). The dielectric layer 28 is made of low-melting glass.

更に、背面板６は、隔壁３０の間に露出した誘電体層２８の表面と、隔壁３０の側壁とに形成された蛍光体３２を有している。蛍光体３２には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）で発光する３種類の蛍光体が用いられている。これら３種類の蛍光体が、表示電極１０（走査電極１６及び維持電極１８）の延在方向に沿って、周期的に配置されている。   Further, the back plate 6 has phosphors 32 formed on the surface of the dielectric layer 28 exposed between the barrier ribs 30 and the side walls of the barrier ribs 30. As the phosphor 32, three types of phosphors that emit light in red (R), green (G), and blue (B) are used. These three types of phosphors are periodically arranged along the extending direction of the display electrode 10 (scanning electrode 16 and sustaining electrode 18).

図２に示すように、アドレス電極２６と表示電極１０（走査電極１６及び維持電極１８）は立体交差（直交）している。そして、アドレス電極２６と表示電極１０の交差点を含む空間が、格子状の隔壁３０によって囲われている。この隔壁３０によって仕切られた空間により、発光の最小単位となる放電セル３４が形成される。   As shown in FIG. 2, the address electrode 26 and the display electrode 10 (scanning electrode 16 and sustaining electrode 18) are three-dimensionally crossed (orthogonal). A space including the intersection of the address electrode 26 and the display electrode 10 is surrounded by a lattice-shaped partition wall 30. A discharge cell 34 serving as a minimum unit of light emission is formed by the space partitioned by the partition walls 30.

以上のように、本ＰＤＰ３６は、背面基板２４と、背面基板２４の上に形成されたアドレス電極２６と、放電セル３４を区画する隔壁３０と、放電セル３４の内側に形成された蛍光体３２とを有する背面板６を具備している（図４及び５参照）。   As described above, the PDP 36 includes the back substrate 24, the address electrodes 26 formed on the back substrate 24, the partition walls 30 that partition the discharge cells 34, and the phosphor 32 formed inside the discharge cells 34. (Refer to FIGS. 4 and 5).

また、本ＰＤＰ３６は、前面基板８と、前面基板８の上に形成された、走査電極１６と維持電極１８とからなる表示電極１０と、表示電極１０を覆う誘電体１２と、誘電体層１２を放電から保護する保護膜１４と、隔壁３０の上側及び隔壁３０の近傍（又は、周囲）で保護膜１４を覆う遮光層４０とを有する前面板４を具備している（図４及び５参照）。   The PDP 36 includes a front substrate 8, a display electrode 10 formed on the front substrate 8, which includes the scan electrodes 16 and the sustain electrodes 18, a dielectric 12 that covers the display electrodes 10, and a dielectric layer 12. The front plate 4 has a protective film 14 that protects the protective film 14 from discharge and a light shielding layer 40 that covers the protective film 14 on the upper side of the partition wall 30 and in the vicinity of (or around) the partition wall 30 (see FIGS. 4 and 5). ).

（２）動 作
次に、ＰＤＰ３６の動作を説明する。 (2) Operation Next, the operation of the PDP 36 will be described.

まず、各放電セル３４で直交するアドレス電極２６と走査電極１６に、夫々、表示予定の画像情報に基づいて、書き込み信号パルス（データパルス）と書き込み走査パルス（走査パルス）が印加される。   First, a write signal pulse (data pulse) and a write scan pulse (scan pulse) are applied to the address electrode 26 and the scan electrode 16 orthogonal to each other in each discharge cell 34 based on image information to be displayed.

すると、両パルスが同時に印加された放電セル３４で書込み放電が発生し、保護膜１４に壁電荷が形成される。一旦壁電荷が形成されると、走査電極１６と維持電極１８に交互に印加される維持パルスによって、維持放電が継続的に発生する。   Then, an address discharge is generated in the discharge cell 34 to which both pulses are applied simultaneously, and wall charges are formed in the protective film 14. Once the wall charges are formed, the sustain discharge is continuously generated by the sustain pulses applied alternately to the scan electrodes 16 and the sustain electrodes 18.

この維持放電によってプラズマが発生し、紫外線を生成する。この紫外線が、蛍光体３２を励起し発光させる。但し、隔壁３０は、その近傍に存在する放電ガスは冷却して、プラズマの接近を妨げる。このため、隔壁３０の近傍（又は、周囲）には、プラズマは拡がらない。従って、隔壁の側壁及び近傍（又は、周囲）に形成された蛍光体は、発光しないか、或いは微弱にしか発光しない。   Plasma is generated by this sustain discharge, and ultraviolet rays are generated. This ultraviolet light excites the phosphor 32 to emit light. However, the barrier rib 30 cools the discharge gas existing in the vicinity thereof and prevents the plasma from approaching. For this reason, plasma does not spread near (or around) the partition wall 30. Accordingly, the phosphor formed on the side wall and the vicinity (or the periphery) of the partition wall does not emit light or emits light only weakly.

以上にように維持放電によって蛍光体が発光して放電セルが点灯し、ＰＤＰ３６の表面に画像が表示される。この時、隔壁３０の側壁及び近傍に形成された蛍光体及び隔壁３０の頂上に向かって入射する外光が、遮光層４０によって吸収される。このため、発光体として殆ど機能しないこれらの領域では、外光が反射されなくなる。その結果、本ＰＤＰ３６の明室コントラストが、改善される。   As described above, the phosphor emits light by the sustain discharge, the discharge cell is turned on, and an image is displayed on the surface of the PDP 36. At this time, the phosphor formed in the side wall and the vicinity of the barrier rib 30 and the external light incident on the top of the barrier rib 30 are absorbed by the light shielding layer 40. For this reason, outside light is not reflected in these regions that hardly function as a light emitter. As a result, the bright room contrast of the PDP 36 is improved.

（３）製造方法
図６乃至９は、本ＰＤＰ３６の製造工程を説明する、図３のIV-IV線における断面図である。 (3) Manufacturing Method FIGS. 6 to 9 are cross-sectional views taken along the line IV-IV in FIG. 3 for explaining the manufacturing process of the present PDP 36.

（ａ）前面板製造工程（図６参照）
まず、ガラスからなる前面基板８の表面に、スパッタリングにより透明導電膜を形成し、フォトリソグラフィにより帯状の透明電極２０に加工する。透明導電膜の材料は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）である。この透明電極２０の上に、スパッタリングより金属導電膜を形成する。金属導電膜は、例えば、Ｃｒ−Ｃｕ−Ｃｒの三層金属膜である。 (A) Front plate manufacturing process (see FIG. 6)
First, a transparent conductive film is formed on the surface of the front substrate 8 made of glass by sputtering, and processed into a strip-shaped transparent electrode 20 by photolithography. The material of the transparent conductive film is, for example, ITO (Indium Tin Oxide). A metal conductive film is formed on the transparent electrode 20 by sputtering. The metal conductive film is, for example, a three-layer metal film of Cr—Cu—Cr.

次に、この金属導電膜を、フォトリソグラフィにより加工して、帯状の透明電極２０の上辺又は下辺に片寄った位置に、バス電極２２を形成する。このバス電極２２と上記透明電極２０が一体となって、走査電極１６及び維持電極１８を形成する。   Next, this metal conductive film is processed by photolithography to form a bus electrode 22 at a position offset from the upper side or the lower side of the strip-shaped transparent electrode 20. The bus electrode 22 and the transparent electrode 20 are integrated to form the scan electrode 16 and the sustain electrode 18.

次に、この走査電極１６及び維持電極１８からなる表示電極１０の上に、誘電体層１２を形成する。誘電体層１２の材料は、低融点ガラスである。   Next, the dielectric layer 12 is formed on the display electrode 10 including the scan electrode 16 and the sustain electrode 18. The material of the dielectric layer 12 is a low melting point glass.

次に、ＰＤＰ３６の放電特性を改善し且つ誘電体層１２を保護するため、誘電体層１２の上に保護膜１４を形成する。保護膜１４の材料は、２次電子放出効率が高く、且つ放電によってスパッタされにくい酸化マグネシウム（ＭｇＯ）である。保護膜１４は、真空中で蒸着法によって形成する。   Next, a protective film 14 is formed on the dielectric layer 12 in order to improve the discharge characteristics of the PDP 36 and protect the dielectric layer 12. The material of the protective film 14 is magnesium oxide (MgO) that has high secondary electron emission efficiency and is difficult to be sputtered by discharge. The protective film 14 is formed by a vapor deposition method in vacuum.

更に、保護膜１４の上に、厚さ０.１μｍのＣｕＯ膜４４を、蒸着法によって形成する。原料は、ＣｕＯである。尚、ＣｕＯ膜４４は、ＣｕＯをターゲットとするスパッタ法によって形成してもよい。   Further, a 0.1 μm thick CuO film 44 is formed on the protective film 14 by vapor deposition. The raw material is CuO. The CuO film 44 may be formed by sputtering using CuO as a target.

このように、本工程では、前面基板８の上に、走査電極１６と維持電極１８からなる表示電極１０と、表示電極１０を覆う誘電体層１２と、誘電体層１２を放電から保護する保護膜１４と、保護膜１４の表面に可視光（外光）を吸収して遮る遮光膜４２を順次形成する。   As described above, in this step, the display electrode 10 including the scan electrode 16 and the sustain electrode 18, the dielectric layer 12 covering the display electrode 10, and the protection for protecting the dielectric layer 12 from discharge are formed on the front substrate 8. A film 14 and a light shielding film 42 that absorbs and blocks visible light (external light) are sequentially formed on the surface of the protective film 14.

（ｂ）背面板製造工程（図７参照）
まず、ガラスからなる背面基板２４の表面に、スパッタリングにより金属導電膜を形成し、フォトリソグラフィによりアドレス電極２６を形成する。金属導電膜としては、Ｃｒ−Ｃｕ−Ｃｒ三層金属膜を用いる。 (B) Back plate manufacturing process (see FIG. 7)
First, a metal conductive film is formed on the surface of the rear substrate 24 made of glass by sputtering, and the address electrode 26 is formed by photolithography. A Cr—Cu—Cr three-layer metal film is used as the metal conductive film.

次に、アドレス電極２６の上に誘電体層２８を形成する。誘電体層２８の材料は、低融点ガラスである。   Next, a dielectric layer 28 is formed on the address electrode 26. The material of the dielectric layer 28 is a low melting point glass.

次に、誘電体層２８の全面に隔壁用の材料層を形成し、サンドブラスト加工により隔壁３０を形成する。隔壁３０の材料は、低融点ガラスである。そして、隔壁３０中に蛍光体ペースト（蛍光体３２）を、スクリーン印刷によって塗布する。   Next, a partition wall material layer is formed on the entire surface of the dielectric layer 28, and the partition wall 30 is formed by sandblasting. The material of the partition wall 30 is low melting point glass. Then, a phosphor paste (phosphor 32) is applied in the partition wall 30 by screen printing.

このように、本工程では、背面基板２４の上に、アドレス電極２６と、放電セル３４を区画する隔壁３０と、放電セル３４の内側に蛍光体３２を順次形成する。   As described above, in this step, the address electrodes 26, the partition walls 30 that partition the discharge cells 34, and the phosphors 32 are sequentially formed inside the discharge cells 34 on the back substrate 24.

（ｃ）パネル組立て排気工程（図８参照）
以上のようにして形成した前面板４と背面板６とを、アドレス電極２６と表示電極１０とが交差するように対向させて、重ね合わせる。この状態で昇温し、両パネルの外周部に塗布した封止材（図示せず）を溶かして、前面板４と背面板６を接着する。同時に排気のためのチップ管（図示せず）を、背面板６に接着する。 (C) Panel assembly exhaust process (see Fig. 8)
The front plate 4 and the back plate 6 formed as described above are overlapped with each other so that the address electrodes 26 and the display electrodes 10 cross each other. In this state, the temperature is raised, the sealing material (not shown) applied to the outer peripheral portions of both panels is melted, and the front plate 4 and the back plate 6 are bonded. At the same time, a chip tube (not shown) for exhaust is bonded to the back plate 6.

次に、このチップ管を通してパネルの内部を排気し、その後、ＮｅとＸｅを主成分とする放電ガスを、パネル内部に形成された放電空間に充填する。充填圧力は、５００Ｔｏｒｒである。   Next, the inside of the panel is evacuated through the chip tube, and then a discharge gas mainly composed of Ne and Xe is filled in a discharge space formed in the panel. The filling pressure is 500 Torr.

次に、チップ管を封じて、放電ガスをパネル内部に封止する。   Next, the chip tube is sealed and the discharge gas is sealed inside the panel.

以上のように、本工程では、前面板４と背面板６を組み立てる。   As described above, in this step, the front plate 4 and the back plate 6 are assembled.

（ｄ）遮光膜除去工程（図９参照）
次に、走査電極１６と維持電極１８に交流電圧を印加して、両電極間にプラズマ４６（面放電）を発生させ、走査電極１６と維持電極１８の間のＣｕＯ膜４４（遮光膜）をプラズマエッチングにより除去する。この時、ＣｕＯ膜４４（遮光膜）は、走査電極１６と維持電極１８の下側で除去される。但し、走査電極１６と維持電極１８の下側であっても、プラズマ４６が広がっていかない隔壁３０の近傍では、ＣｕＯ膜４４（遮光膜）は除去されない。 (D) Shading film removal step (see FIG. 9)
Next, an AC voltage is applied to scan electrode 16 and sustain electrode 18 to generate plasma 46 (surface discharge) between both electrodes, and CuO film 44 (light-shielding film) between scan electrode 16 and sustain electrode 18 is formed. It is removed by plasma etching. At this time, the CuO film 44 (light-shielding film) is removed below the scan electrode 16 and the sustain electrode 18. However, even below the scan electrode 16 and the sustain electrode 18, the CuO film 44 (light-shielding film) is not removed in the vicinity of the partition wall 30 where the plasma 46 does not spread.

このプラズマエッチングの結果、隔壁３０の上側及び隔壁３０の近傍（又は、周囲）で保護膜１４を覆う遮光層４０が形成される。   As a result of this plasma etching, a light shielding layer 40 that covers the protective film 14 is formed on the upper side of the partition wall 30 and in the vicinity of (or around) the partition wall 30.

このように、本工程では、走査電極１６と維持電極１８の間に数百Ｖの交流電圧を印加して放電を起こして、遮光膜を除去する。   Thus, in this step, an AC voltage of several hundred volts is applied between the scan electrode 16 and the sustain electrode 18 to cause a discharge, thereby removing the light shielding film.

以上の工程により、本ＰＤＰ３６が完成する。   The PDP 36 is completed through the above steps.

本実施例のＰＤＰ４８の平面図及び拡大平面図は、実施例１の平面図（図２）及び拡大平面図（図３）と同じである。従って、図２及び図３を参照して、本ＰＤＰ４８を説明する。   A plan view and an enlarged plan view of the PDP 48 of the present embodiment are the same as the plan view (FIG. 2) and the enlarged plan view (FIG. 3) of the first embodiment. Therefore, the PDP 48 will be described with reference to FIGS.

図１０は、図３のIV-IV線における本ＰＤＰ４８の断面図である。図１１は、図３のV-V線における本ＰＤＰ４８の断面図である。   FIG. 10 is a cross-sectional view of the PDP 48 taken along the line IV-IV in FIG. FIG. 11 is a cross-sectional view of the PDP 48 taken along the line VV in FIG.

本ＰＤＰ４８は、実施例１のＰＤＰ３６において、遮光層４０の表面に、ＳｉＮからなる一時保護膜５０が形成されているＰＤＰである（図１０及び１１参照）。一時保護膜５０は、前面板４と背面板６を組み立てるまでの間、一時的に保護層１４を保護するための保護膜である。   The PDP 48 is a PDP in which a temporary protective film 50 made of SiN is formed on the surface of the light shielding layer 40 in the PDP 36 of Example 1 (see FIGS. 10 and 11). The temporary protective film 50 is a protective film for temporarily protecting the protective layer 14 until the front plate 4 and the back plate 6 are assembled.

本ＰＤＰ４８を製造するためには、実施例１で説明したＰＤＰ３６の製造方法において、ＣｕＯ膜４４（遮光膜）の形成後、その上に連続的に一時保護膜５０を形成すればよい。   In order to manufacture the PDP 48, the temporary protective film 50 may be continuously formed on the CuO film 44 (light-shielding film) after the formation of the CuO film 44 in the method for manufacturing the PDP 36 described in the first embodiment.

一時保護膜（ＳｉＮ膜）５０は、ＳｉＨ４とＮＨ３を原料ガスとする化学気相成長法によって形成する。又は、一時保護膜５０は、ＳｉＮをターゲットとするスパッタ法によって形成することもできる。 The temporary protective film (SiN film) 50 is formed by chemical vapor deposition using SiH 4 and NH 3 as source gases. Alternatively, the temporary protective film 50 can be formed by sputtering using SiN as a target.

本実施例では、保護膜１４の形成後、その上に連続的に一時保護膜５０を形成するので、保護膜１４の表面に変質層が形成されず、保護膜５０の放電特性を良好にすることができる。   In this embodiment, after the protective film 14 is formed, the temporary protective film 50 is continuously formed on the protective film 14, so that a deteriorated layer is not formed on the surface of the protective film 14 and the discharge characteristics of the protective film 50 are improved. be able to.

尚、ＳｉＮの代わりに、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＭｇＦ２、及びＣａＦ２の何れかで、一時保護膜５０を形成してもよい。 The temporary protective film 50 may be formed of any one of SiO 2 , TiO 2 , MgF 2 , and CaF 2 instead of SiN.

図１０及び１１に示した例では、遮光層４０の上に一時保護膜５０が形成されている。   In the example shown in FIGS. 10 and 11, a temporary protective film 50 is formed on the light shielding layer 40.

このようにすると、遮光層４０と一時保護膜５０からなる２層構造をプラズマエッチングする際、その終了時点を的確に把握することができる。これは、保護膜１４に接している黒色の遮光層４０が除去されると、前面板４が透明になるからである。   In this way, when plasma etching a two-layer structure composed of the light shielding layer 40 and the temporary protective film 50, the end point can be accurately grasped. This is because the front plate 4 becomes transparent when the black light shielding layer 40 in contact with the protective film 14 is removed.

但し、遮光層４０と保護膜１４の間に、一時保護膜５０を形成してもよい。保護膜１４を外気から保護する機能は、一時保護膜５０を、保護膜１４の上に直接形成しても十分に発揮されるからである。   However, the temporary protective film 50 may be formed between the light shielding layer 40 and the protective film 14. This is because the function of protecting the protective film 14 from the outside air is sufficiently exerted even if the temporary protective film 50 is formed directly on the protective film 14.

（変形例）
実施例１及び２では、保護膜１４は、ＭｇＯで形成されている。しかし、保護膜１４は、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＳｒＣｕＯ等で形成してもよい。 (Modification)
In Examples 1 and 2, the protective film 14 is made of MgO. However, the protective film 14 may be formed of CaO, SrO, BaO, SrCuO or the like.

また、実施例１及び２では、遮光層４０は、ＳｉＮで形成されている。しかし、遮光層４０を、ＦｅＯやＣｒＯなどの金属酸化物や、Ｔｉ粒子、Ｚｒ粒子、Ａｌ粒子等をベースとする黒色顔料で形成しても良い。   In Examples 1 and 2, the light shielding layer 40 is made of SiN. However, the light shielding layer 40 may be formed of a metal oxide such as FeO or CrO, or a black pigment based on Ti particles, Zr particles, Al particles, or the like.

また、遮光層４０を、Ｃｕ２Ｏ、Ｆｅ３Ｏ４、Ｆｅ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３等で形成しても良い。但し、これらの材料は黒色ではない。 Further, the light shielding layer 40, Cu 2 O, Fe 3 O 4, Fe 2 O 3, may be formed with Cr 2 O 3 or the like. However, these materials are not black.

また、実施例１及び２のＰＤＰは、格子状の隔壁を有する、所謂ボックス構造のＰＤＰである。しかし、隔壁３０は、必ずしも格子状である必要はない。例えば、表示電極に沿って延在するリッジ状の隔壁を用いて、本ＰＤＰを形成してもよい。   The PDPs of Examples 1 and 2 are so-called box-structured PDPs having grid-like partition walls. However, the partition walls 30 do not necessarily have a lattice shape. For example, the PDP may be formed by using a ridge-shaped partition wall extending along the display electrode.

２・・・従来のＰＤＰ ４・・・前面板 ６・・・背面板
８・・・前面基板 １０・・・表示電極 １２・・・誘電体層
１４・・・保護膜 １６・・・走査電極 １８・・・維持電極
２０・・・透明電極 ２２・・・バス電極
２４・・・背面基板 ２６・・・アドレス電極
２８・・・誘電体層 ３０・・・隔壁 ３２・・・蛍光体
３４・・・放電セル ３６・・・実施例１のＰＤＰ
３８・・・矢印（走査方向） ４０・・・遮光層
４２・・・（走査電極と維持電極の間に形成された）遮光膜
４４・・・ＣｕＯ膜 ４６・・・プラズマ
４８・・・実施例２のＰＤＰ ５０・・・一時保護膜 2 ... Conventional PDP 4 ... Front plate 6 ... Back plate 8 ... Front substrate 10 ... Display electrode 12 ... Dielectric layer 14 ... Protective film 16 ... Scan electrode 18 ... sustain electrode 20 ... transparent electrode 22 ... bus electrode 24 ... back substrate 26 ... address electrode 28 ... dielectric layer 30 ... partition 32 ... phosphor 34 ..Discharge cell 36: PDP of Example 1
38 ... Arrow (scanning direction) 40 ... Light shielding layer 42 ... Light shielding film 44 (formed between scanning electrode and sustain electrode) ... CuO film 46 ... Plasma 48 ... Implementation PDP 50 of Example 2 ... Temporary protective film

Claims (6)

背面基板と、前記背面基板上に形成されたアドレス電極と、放電セルを区画する隔壁と、前記放電セルの内側に形成された蛍光体とを有する背面板と、
前面基板と、前記前面基板上に形成された、走査電極と維持電極とからなる表示電極と、前記表示電極を覆う誘電体層と、前記誘電体層を放電から保護する保護膜と、前記隔壁の上側及び前記隔壁の近傍で前記保護膜を覆う遮光層とを有する前面板とを、
具備するプラズマディスプレイパネル。 A back plate having a back substrate, an address electrode formed on the back substrate, a partition wall defining a discharge cell, and a phosphor formed inside the discharge cell;
A front substrate, a display electrode made of a scan electrode and a sustain electrode, formed on the front substrate, a dielectric layer covering the display electrode, a protective film protecting the dielectric layer from discharge, and the partition wall A front plate having a light-shielding layer covering the protective film on the upper side and in the vicinity of the partition wall,
A plasma display panel provided. 請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記遮光層の表面又は前記遮光層と前記保護層の間に、前記前面板と前記背面板を組み立てるまでの間一時的に前記保護層を保護する一時保護膜が残存していることを、
特徴とするプラズマディスプレイパネル。 The plasma display panel according to claim 1, wherein
A temporary protective film that temporarily protects the protective layer remains between the surface of the light shielding layer or between the light shielding layer and the protective layer until the front plate and the back plate are assembled.
A characteristic plasma display panel. 請求項１又は２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記遮光膜が、ＣｕＯ、ＣｒＯ、及びＦｅＯからなる群から選ばれる何れかの金属酸化膜であることを、
特徴とするプラズマディスプレイパネル。 The plasma display panel according to claim 1 or 2,
The light shielding film is any metal oxide film selected from the group consisting of CuO, CrO, and FeO;
A characteristic plasma display panel. 請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記一時保護膜が、ＳｉＮ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＭｇＦ２、及びＣａＦ２からなる群から選ばれる何れかの絶縁膜であることを、
特徴とするプラズマディスプレイパネル。 The plasma display panel according to claim 2,
The temporary protective film is any insulating film selected from the group consisting of SiN, SiO 2 , TiO 2 , MgF 2 , and CaF 2 ;
A characteristic plasma display panel. 前面基板の上に、走査電極と維持電極からなる表示電極と、前記表示電極を覆う誘電体層と、前記誘電体層を放電から保護する保護膜と、前記保護膜の表面に可視光を遮る遮光膜を順次形成して、前面板を作製する第１の工程と、
背面基板の上に、アドレス電極と、放電セルを区画する隔壁と、前記放電セルの内側に蛍光体層とを順次形成して、背面板を作製する第２の工程と、
前記前面板と前記背面板を組み立てた後、前記走査電極と前記維持電極の間に交流電圧を印加して放電を起こして、前記遮光膜を除去する第３の工程を、
具備するプラズマディスプレイパネルの製造方法。 On the front substrate, a display electrode composed of a scan electrode and a sustain electrode, a dielectric layer covering the display electrode, a protective film for protecting the dielectric layer from discharge, and a surface of the protective film blocking visible light A first step of sequentially forming a light-shielding film to produce a front plate;
A second step of forming a back plate by sequentially forming an address electrode, a partition wall defining a discharge cell, and a phosphor layer inside the discharge cell on the back substrate;
After assembling the front plate and the back plate, a third step of removing the light shielding film by applying an AC voltage between the scan electrode and the sustain electrode to cause discharge,
A method for manufacturing a plasma display panel. 請求項５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
前記第２の工程で、前記遮光層の表面又は前記遮光層と前記保護膜の間に、前記前面板と前記背面板を組み立てるまでの間一時的に前記保護層を保護する一時保護膜を形成することを、
特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。 In the manufacturing method of the plasma display panel of Claim 5,
In the second step, a temporary protective film for temporarily protecting the protective layer is formed until the front plate and the rear plate are assembled between the surface of the light shielding layer or between the light shielding layer and the protective film. To do the
A method for manufacturing a plasma display panel.
JP2009009825A 2009-01-20 2009-01-20 Plasma display panel and method of manufacturing the same Pending JP2010170713A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009009825A JP2010170713A (en) 2009-01-20 2009-01-20 Plasma display panel and method of manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009009825A JP2010170713A (en) 2009-01-20 2009-01-20 Plasma display panel and method of manufacturing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010170713A true JP2010170713A (en) 2010-08-05

Family

ID=42702672

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009009825A Pending JP2010170713A (en) 2009-01-20 2009-01-20 Plasma display panel and method of manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010170713A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2412432A1 (en) 2010-07-29 2012-02-01 Sony Corporation Nicotine Absorbent, Quinoline Absorbent, Benzopyrene Absorbent, Toluidine Absorbent, and Carcinogen Absorbent
KR20150037375A (en) * 2013-09-30 2015-04-08 삼성디스플레이 주식회사 Display apparatus

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2412432A1 (en) 2010-07-29 2012-02-01 Sony Corporation Nicotine Absorbent, Quinoline Absorbent, Benzopyrene Absorbent, Toluidine Absorbent, and Carcinogen Absorbent
KR20150037375A (en) * 2013-09-30 2015-04-08 삼성디스플레이 주식회사 Display apparatus
KR102167046B1 (en) * 2013-09-30 2020-10-19 삼성디스플레이 주식회사 Display apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003132805A (en) Plasma display device
JP4894234B2 (en) Plasma display panel
JP2007095436A (en) Plasma display panel
JP2004273265A (en) Plasma display panel
JP2010170713A (en) Plasma display panel and method of manufacturing the same
JP2006120601A (en) Plasma display panel
KR20010093695A (en) Alternating current driven type plasma display
JP2002231146A (en) Plasma display panel and plasma display device
US7521868B2 (en) Plasma display panel
JP2003068215A (en) Plasma display device and a manufacturing method of the same
JP2007141483A (en) Plasma display panel
JP4788304B2 (en) Plasma display panel
US20090058298A1 (en) Plasma display panel and method of fabricating the same
JPWO2006112419A1 (en) Plasma display panel
US20070152591A1 (en) Plasma display panel
KR100681037B1 (en) Plasma display panel
JP2004311274A (en) Plasma display panel
JP2006269412A (en) Plasma display panel and its manufacturing method
US7629747B2 (en) Plasma display panel having specific electrode structure
KR20090052281A (en) Plasma display panel and manufacturing method of the same
US20060043896A1 (en) Plasma display apparatus including barrier rib and method of manufacturing the same
KR100520834B1 (en) Plasma display panel and method of fabricating the same
US7872419B2 (en) Plasma display panel capable of reducing the defect rate of a dielectric layer and method of manufacturing the same
KR100737597B1 (en) Front Plate And Plasma Display Panel Having The Same
KR100670336B1 (en) Plasma display panel