JP2010167322A - Resin coater - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin coater excellent in work efficiency for use in bonding electronic parts at low installation cost. <P>SOLUTION: The resin coater includes a measurement means for measuring the amount of the warping of a substrate 7 held on a substrate holding table 5a. A contact-type displacement sensor 42 of the measurement means is raised/lowered by a cylinder 43 between its height position for the time of transferring a substrate which position is set for the operation of transferring a substrate, and its stand-by height position set for its standing-by prior to carrying out a measuring operation with respect to the substrate 7. The lowering operation of lowering a probe 42a attached to the displacement sensor 42 from the stand-by height position to a measurement height position whereat the probe 42a contacts the substrate 7 to measure its displacement, is caused to proceed by advancing/retreating a plate cam member 41 relative to a member 47 for pushing down the displacement sensor 42 using a head-moving mechanism, to push down the probe 42a. Thus, a mechanism for raising/lowering the displacement sensor 42 can be made simpler, and the operation time for raising/lowering the displacement sensor 42 can be shortened. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板に電子部品接着用の樹脂を塗布する樹脂塗布装置に関するものである。   The present invention relates to a resin coating apparatus for coating a substrate with a resin for bonding electronic components.

半導体チップなどの部品はウェハシートが装着されたウェハテーブルなどの部品供給部から取り出され、リードフレームや樹脂基板などの基板に樹脂接着剤を介して実装される。このような部品実装作業を行う部品実装装置は、基板に樹脂接着剤を塗布する樹脂塗布装置と組み合わされて使用され、部品の搭載に先だって基板の部品実装位置には電子部品接着用の樹脂接着剤が樹脂塗布装置に装着されたディスペンサによって塗布される。   A component such as a semiconductor chip is taken out from a component supply unit such as a wafer table on which a wafer sheet is mounted and mounted on a substrate such as a lead frame or a resin substrate via a resin adhesive. A component mounting device that performs such component mounting work is used in combination with a resin coating device that applies a resin adhesive to a substrate, and a resin bonding for electronic component bonding is performed at the component mounting position on the substrate prior to component mounting. The agent is applied by a dispenser attached to the resin application device.

このような樹脂接着剤による部品実装においては、規定量の樹脂接着剤を規定の塗布形状で正しく塗布することが求められる。そしてディスペンサによる樹脂塗布においては、基板の表面に対してディスペンサの塗布ノズルを適正な高さまで下降させることが重要であるため、塗布対象となる基板の表面の高さを測定して基板の反り変形状態を検出することが行われる(特許文献1参照)。この特許文献例に示す先行技術においては、非接触式の光学検出手段を樹脂接着剤の塗布ヘッドに近接して設けるようにしている。
特開平3−91998号公報
In component mounting using such a resin adhesive, it is required to correctly apply a specified amount of resin adhesive in a specified application shape. In resin application with a dispenser, it is important to lower the dispenser application nozzle to an appropriate height with respect to the surface of the substrate. Therefore, the height of the surface of the substrate to be applied is measured to deform the warp of the substrate. The state is detected (see Patent Document 1). In the prior art shown in this patent document example, a non-contact type optical detection means is provided in the vicinity of the resin adhesive application head.
JP-A-3-91998

しかしながら上述の先行技術においては、非接触式の光学検出手段を用いることに起因して、設備費用が増大するという難点があった。すなわち非接触式の光学検出手段としては、レーザ変位計など高価格の変位計測器を用いる必要があるため、低コストの設備を実現することが困難であった。またこのような設備費用の増大を避けるため、接触式の変位計を用いる場合には、基板の表面を対象とした高さ測定動作の都度変位計を昇降させる必要があり、高さ測定に時間を要して作業タクトタイムの遅延を招く結果となっていた。   However, in the above-described prior art, there is a problem that the equipment cost increases due to the use of the non-contact type optical detection means. That is, as the non-contact type optical detection means, it is necessary to use a high-price displacement measuring instrument such as a laser displacement meter, so it is difficult to realize a low-cost facility. In order to avoid such an increase in equipment costs, when using a contact-type displacement meter, it is necessary to raise and lower the displacement meter every time the height measurement operation is performed on the surface of the substrate. Therefore, the work tact time was delayed.

そこで本発明は、低い設備コストで作業効率に優れた電子部品接着用の樹脂塗布装置を提供することを目的とする。   Then, an object of this invention is to provide the resin coating apparatus for electronic component adhesion | attachment which was excellent in work efficiency with low equipment cost.

本発明の電子部品接着用の樹脂塗布装置は、基板保持部に保持された基板に電子部品接着用の樹脂を塗布する樹脂塗布装置であって、前記樹脂を吐出する塗布ユニットが装着された塗布ヘッドと、この塗布ヘッドを昇降させる昇降機構と、前記塗布ヘッドを前記基板に対して水平移動させるヘッド移動機構と、前記基板保持部に保持された基板の反り変形量を測定する反り測定手段とを備え、前記反り測定手段は、測定対象に測定子を接触させることによりこの測定子が押し込まれて変位する変位量を測定する接触式の変位センサと、前記基板保持部を対象とした基板搬送動作のために設定された基板搬送時高さ位置と前記基板を対象とする測定動作の実行前に待機するために設定された待機高さ位置との間で前記変位センサを昇降させるセンサ昇降機構と、前記センサ昇降機構によって昇降し前記変位センサを上向きに付勢する付勢手段と、前記ヘッド移動機構による水平方向の移動動作によって駆動され、前記待機高さ位置から前記測定子が前記基板に接触して前記変位を測定する測定高さ位置まで、前記変位センサを前記付勢手段の上向きの付勢力に抗して押し下げるセンサ押し下げ機構とを有する。   An electronic component bonding resin coating apparatus according to the present invention is a resin coating device for applying an electronic component bonding resin to a substrate held by a substrate holding unit, and is applied with a coating unit for discharging the resin. A head, a lifting mechanism that moves the coating head up and down, a head moving mechanism that horizontally moves the coating head with respect to the substrate, and a warp measuring unit that measures the amount of warp deformation of the substrate held by the substrate holding unit; The warp measuring means includes a contact-type displacement sensor that measures the amount of displacement by which the measuring element is pushed by bringing the measuring element into contact with the measuring object, and a substrate transport for the substrate holding unit. A sensor that raises and lowers the displacement sensor between a height position during substrate transportation set for operation and a standby height position set for standby before performing a measurement operation on the substrate. Driven by a horizontal movement operation by the head moving mechanism, and the measuring element is moved from the standby height position. A sensor depressing mechanism for depressing the displacement sensor against an upward biasing force of the biasing means to a measurement height position where the displacement is measured by contacting the substrate;

本発明によれば、基板保持部に保持された基板の反り変形量を測定する反り測定手段に
おいて、接触式の変位センサを基板搬送動作のために設定された基板搬送時高さ位置と基板を対象とする測定動作の実行前に待機するために設定された待機高さ位置との間でセンサ昇降機構によって昇降させ、待機高さ位置から測定子が基板に接触して変位を測定する測定高さ位置までの下降動作を、ヘッド移動機構による水平方向の移動動作によって駆動されるセンサ押し下げ機構によって行う構成とすることにより、変位センサの昇降のための機構を簡略化するとともに昇降のための動作時間を短縮して、低い設備コストで作業効率に優れた電子部品接着用の樹脂塗布装置を実現することができる。
According to the present invention, in the warp measuring means for measuring the warp deformation amount of the substrate held by the substrate holding part, the contact-type displacement sensor is set to the height position and the substrate at the time of substrate transport set for the substrate transport operation. Measurement height at which the probe touches the substrate from the standby height position and measures displacement by moving it up and down by the sensor lifting mechanism to the standby height position set to wait before performing the target measurement operation The mechanism for moving the displacement sensor up and down is simplified and the mechanism for raising and lowering the displacement sensor is simplified by using a sensor push-down mechanism driven by a horizontal movement operation by the head moving mechanism. By shortening the time, it is possible to realize a resin coating apparatus for adhering electronic components that is excellent in work efficiency at a low equipment cost.

次に本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。図1は本発明の一実施の形態の部品実装装置の全体斜視図、図2は本発明の一実施の形態の部品実装装置の正面図、図3は本発明の一実施の形態の部品実装装置に装着された樹脂塗布用の塗布ヘッドの構成説明図、図4は本発明の一実施の形態の部品実装装置の塗布ヘッドに用いられる反り測定ユニットの構成説明図、図5は本発明の一実施の形態の部品実装装置に用いられるセンサ押し下げ機構の構成説明図、図6は本発明の一実施の形態の部品実装装置における基板の反り測定方法の動作説明図である。   Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is an overall perspective view of a component mounting apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a front view of the component mounting apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a component mounting according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a diagram illustrating the configuration of a warp measuring unit used in the coating head of the component mounting apparatus according to the embodiment of the present invention. FIG. 5 is a diagram illustrating the configuration of the coating head for resin coating mounted on the apparatus. FIG. 6 is a diagram illustrating the operation of a method for measuring warpage of a substrate in the component mounting apparatus according to the embodiment of the present invention.

まず図1、図2を参照して、部品実装装置1の全体構成を説明する。部品実装装置1は基板に半導体チップなどの部品をボンディングによって実装する機能を有するものである。図1において基台2上には、部品供給ステージ3(部品供給部)、ユニット集合ステージ4および基板保持ステージ5(基板保持部)がY方向に配列されている。部品供給ステージ3に備えられたウェハ保持テーブル3aには、実装対象となる部品である複数の半導体チップ6aが配列された半導体ウェハ6が保持されている。基板保持ステージ5は、基板7を保持する基板保持テーブル5aをXYテーブル機構34(図2参照)によって水平駆動する構成となっており、基板7には半導体チップ6aが実装される。   First, the entire configuration of the component mounting apparatus 1 will be described with reference to FIGS. The component mounting apparatus 1 has a function of mounting a component such as a semiconductor chip on a substrate by bonding. In FIG. 1, a component supply stage 3 (component supply unit), a unit assembly stage 4 and a substrate holding stage 5 (substrate holding unit) are arranged in the Y direction on a base 2. The wafer holding table 3a provided in the component supply stage 3 holds a semiconductor wafer 6 on which a plurality of semiconductor chips 6a, which are components to be mounted, are arranged. The substrate holding stage 5 is configured to horizontally drive a substrate holding table 5 a that holds the substrate 7 by an XY table mechanism 34 (see FIG. 2), and a semiconductor chip 6 a is mounted on the substrate 7.

ユニット集合ステージ4は、直動機構(図2に示すX軸移動機構30)によってX方向に往復動する移動テーブル4aに、後述するツールストッカ15、中継ステージ16、部品回収箱17、部品認識カメラ18などの機能ユニットを集合的に配設した構成となっている。ツールストッカ15には、搭載ユニット19に装着される部品保持ツール19aなど、部品種に応じて交換されて使用される複数の作業ツールが各部品種毎に収納される。部品回収箱17は、部品供給ステージ3から取り出された後に、不良部品や混入した異種部品など基板7への実装が不適と判断された部品を廃棄回収する機能を有している。   The unit assembly stage 4 includes a tool stocker 15, a relay stage 16, a component collection box 17, and a component recognition camera, which will be described later, on a moving table 4a that reciprocates in the X direction by a linear motion mechanism (X-axis moving mechanism 30 shown in FIG. 2). In this configuration, functional units such as 18 are collectively arranged. In the tool stocker 15, a plurality of work tools, such as a component holding tool 19a to be mounted on the mounting unit 19, that are exchanged according to the component type are stored for each component type. The component collection box 17 has a function of discarding and collecting components that are determined to be unsuitable for mounting on the substrate 7 such as defective components or mixed different components after being taken out from the component supply stage 3.

部品供給ステージ3、ユニット集合ステージ4および基板保持ステージ5の上方には、基台2のX方向の端部に位置して、Y軸フレーム8が支持ポスト8aによって両端部を支持されてY方向に架設されている。Y軸フレーム8の前面には、以下に説明する第1ヘッド11、第2ヘッド12をリニアモータ駆動によりY方向に案内して駆動するY軸ガイド機構9が組み込まれている。第1ヘッド11には半導体チップ6aを保持して基板7に搭載する機能を有する搭載ユニット19が装着されている。第2ヘッド12には、基板7に電子部品接合用の接着剤を塗布する機能を有する塗布ユニット20、塗布ユニット20をX方向に移動させるためのX軸駆動機構22および基板7の反り変形を測定するための反り測定ユニット21が装着されている。   Above the component supply stage 3, the unit assembly stage 4, and the substrate holding stage 5, the Y-axis frame 8 is positioned at the end of the base 2 in the X direction, and both ends are supported by the support posts 8a in the Y direction. It is built in. On the front surface of the Y-axis frame 8 is incorporated a Y-axis guide mechanism 9 that guides and drives a first head 11 and a second head 12 described below in the Y direction by linear motor driving. A mounting unit 19 having a function of holding the semiconductor chip 6 a and mounting it on the substrate 7 is mounted on the first head 11. The second head 12 is subjected to warping deformation of the coating unit 20 having a function of applying an adhesive for bonding electronic components to the substrate 7, the X-axis drive mechanism 22 for moving the coating unit 20 in the X direction, and the substrate 7. A warpage measurement unit 21 for measurement is attached.

部品供給ステージ3、中継ステージ16および基板保持ステージ5の上方には、位置認識のために第1カメラ23、第2カメラ24、第3カメラ25が配設されている。第1カメラ23は部品供給ステージ3において取り出し対象の半導体チップ6aを撮像する。第2カメラ24は部品供給ステージ3から取り出されて中継ステージ16に位置補正のために仮置きされた半導体チップ6aを撮像する。また第3カメラ25は、基板保持ステージ5に保持された基板7を撮像して部品実装点の位置を認識する。またユニット集合ステー
ジ4に配設された部品認識カメラ18は、部品供給ステージ3から取り出された半導体チップ6aを下方から撮像する。
Above the component supply stage 3, the relay stage 16, and the substrate holding stage 5, a first camera 23, a second camera 24, and a third camera 25 are disposed for position recognition. The first camera 23 images the semiconductor chip 6a to be taken out in the component supply stage 3. The second camera 24 images the semiconductor chip 6a taken out from the component supply stage 3 and temporarily placed on the relay stage 16 for position correction. The third camera 25 recognizes the position of the component mounting point by taking an image of the board 7 held on the board holding stage 5. The component recognition camera 18 disposed on the unit assembly stage 4 images the semiconductor chip 6a taken out from the component supply stage 3 from below.

図2に示すように、部品供給ステージ3はXYテーブル機構26を備えており、XYテーブル機構26の上面に装着された水平な移動プレート27には、複数の支持部材28が立設されている。支持部材28は、上面に半導体ウェハ6が装着保持されるウェハ保持テーブル3aを支持している。半導体ウェハ6はウェハシート6bに複数の半導体チップ6aを所定配列で貼着した構成となっており、半導体チップ6aはウェハシート6bに能動面を上向きにしたフェイスアップ姿勢で個片に分割された状態で貼着保持されている。   As shown in FIG. 2, the component supply stage 3 includes an XY table mechanism 26, and a plurality of support members 28 are erected on a horizontal moving plate 27 mounted on the upper surface of the XY table mechanism 26. . The support member 28 supports the wafer holding table 3a on which the semiconductor wafer 6 is mounted and held on the upper surface. The semiconductor wafer 6 has a configuration in which a plurality of semiconductor chips 6a are adhered to a wafer sheet 6b in a predetermined arrangement, and the semiconductor chip 6a is divided into pieces in a face-up posture with the active surface facing upward on the wafer sheet 6b. It is stuck and held in a state.

部品供給ステージ3には、半導体ウェハ6から半導体チップ6aをピックアップするためのピックアップ作業位置[P1]が設定されている。第1カメラ23の位置はピックアップ作業位置[P1]に対応しており、第1カメラ23によって半導体ウェハ6を撮像した撮像結果を認識処理することにより、ピックアップ対象の半導体チップ6aの位置が検出される。ウェハ保持テーブル3aの内部においてピックアップ作業位置[P1]に対応する位置には、エジェクタ機構29が配設されている。エジェクタ機構29は、ウェハシート6bの下面側から半導体チップ6aをピンで突き上げることにより、半導体チップ6aのウェハシート6bからの剥離を促進する機能を有している。半導体チップ6aの取り出し時にエジェクタ機構29を昇降させてウェハシート6bの下面に当接させることにより、後述するピックアップヘッド14による半導体チップ6aのウェハシート6bからの取り出しを容易に行うことができる。   In the component supply stage 3, a pick-up work position [P1] for picking up the semiconductor chip 6a from the semiconductor wafer 6 is set. The position of the first camera 23 corresponds to the pickup work position [P1], and the position of the semiconductor chip 6a to be picked up is detected by recognizing the imaging result obtained by imaging the semiconductor wafer 6 by the first camera 23. The An ejector mechanism 29 is disposed at a position corresponding to the pickup work position [P1] inside the wafer holding table 3a. The ejector mechanism 29 has a function of promoting the peeling of the semiconductor chip 6a from the wafer sheet 6b by pushing up the semiconductor chip 6a with a pin from the lower surface side of the wafer sheet 6b. When the semiconductor chip 6a is taken out, the ejector mechanism 29 is moved up and down and brought into contact with the lower surface of the wafer sheet 6b, whereby the semiconductor chip 6a can be easily taken out from the wafer sheet 6b by the pickup head 14 described later.

部品取り出し動作においては、XYテーブル機構26を駆動してウェハシート6bをXY方向に水平移動させることにより、ウェハシート6bに貼着された複数の半導体チップ6aのうち、取り出し対象となる所望の半導体チップ6aをピックアップ作業位置[P1]に位置させる。なおここでは、部品供給ステージ3として、ウェハシート6bに貼着されたウェハ状態の部品を供給する方式のウェハテーブルを用いる例を示したが、複数の部品を所定の平面配列で供給する部品トレイを、ウェハテーブルと交換自在に部品供給ステージ3に配置するようにしてもよい。   In the component take-out operation, by driving the XY table mechanism 26 and horizontally moving the wafer sheet 6b in the XY direction, a desired semiconductor to be taken out of the plurality of semiconductor chips 6a attached to the wafer sheet 6b is obtained. The chip 6a is positioned at the pickup work position [P1]. Here, an example is shown in which a wafer table of a system for supplying wafer-state components attached to the wafer sheet 6b is used as the component supply stage 3, but a component tray that supplies a plurality of components in a predetermined planar arrangement. May be arranged on the component supply stage 3 so as to be exchangeable with the wafer table.

部品供給ステージ3の上方には、半導体チップ6aを吸着して保持するピックアップノズル14aを備えたピックアップヘッド14が配設されている。ピックアップヘッド14はピックアップアーム13aによって保持されており、ピックアップアーム13aは、Y軸フレーム8の下面に縣吊して配置されたピックアップヘッド移動機構13から、部品供給ステージ3の上方に延出して設けられている。ピックアップヘッド移動機構13を駆動することにより、ピックアップアーム13aはXYZ方向に移動するとともに、X方向の軸廻りに回転する。   Above the component supply stage 3, a pickup head 14 having a pickup nozzle 14a for adsorbing and holding the semiconductor chip 6a is disposed. The pickup head 14 is held by a pickup arm 13a. The pickup arm 13a extends from the pickup head moving mechanism 13 suspended from the lower surface of the Y-axis frame 8 and extends above the component supply stage 3. It has been. By driving the pickup head moving mechanism 13, the pickup arm 13a moves in the XYZ directions and rotates around the axis in the X direction.

これにより、ピックアップヘッド14は部品供給ステージ3の上方とユニット集合ステージ4の上方との間でY方向に移動するとともに、Z方向に昇降する。これによりピックアップヘッド14は、部品供給ステージ3から半導体チップ6aをピックアップして、ユニット集合ステージ4に設けられた中継ステージ16に移送する動作を行う。また必要時には、ピックアップヘッド14をピックアップ作業位置[P1]の上方からX方向に退避させることが可能となっており、さらにピックアップアーム13aを回転させてピックアップヘッド14を反転させることにより、ピックアップノズル14aに保持した半導体チップ6aの姿勢を表裏反転させることが可能となっている。   As a result, the pickup head 14 moves in the Y direction between the upper part of the component supply stage 3 and the upper part of the unit assembly stage 4 and moves up and down in the Z direction. Accordingly, the pickup head 14 performs an operation of picking up the semiconductor chip 6 a from the component supply stage 3 and transferring it to the relay stage 16 provided in the unit assembly stage 4. Further, when necessary, the pickup head 14 can be retracted in the X direction from above the pickup operation position [P1], and the pickup head 14 is reversed by rotating the pickup arm 13a, thereby picking up the pickup nozzle 14a. It is possible to reverse the orientation of the semiconductor chip 6a held on the front and back.

図2に示すように、ユニット集合ステージ4および基板保持ステージ5は、ベースプレート33の上面に設けられており、ベースプレート33は基台2の上面に立設された複数の支持ポスト32によって下方から支持されている。移動テーブル4aをX方向に移動さ
せるX軸移動機構30は、ベース部31上にモータを駆動源とする送りねじ直動機構30aと直動ガイド機構30bを配設して構成されている。
As shown in FIG. 2, the unit assembly stage 4 and the substrate holding stage 5 are provided on the upper surface of the base plate 33, and the base plate 33 is supported from below by a plurality of support posts 32 erected on the upper surface of the base 2. Has been. The X-axis moving mechanism 30 for moving the moving table 4a in the X direction is configured by arranging a feed screw linear motion mechanism 30a and a linear motion guide mechanism 30b using a motor as a drive source on a base portion 31.

中継ステージ16には、部品供給ステージ3からピックアップヘッド14によって取り出された半導体チップ6aが位置補正のために載置される(矢印a)。中継ステージ16には中継位置[P2]が設定されており、第2カメラ24は中継位置[P2]に対応して配置されている。X軸移動機構30によって中継ステージ16を移動させることにより、中継ステージ16に載置された半導体チップ6aを中継位置[P2]に位置させて第2カメラ24によって撮像することができ、これにより中継ステージ16に載置された半導体チップ6aの位置が検出される。部品認識カメラ18は中継ステージ16に隣接して配置されており、同様にX軸移動機構30を駆動することにより、部品認識位置[P3]に移動する。   A semiconductor chip 6a taken out from the component supply stage 3 by the pickup head 14 is placed on the relay stage 16 for position correction (arrow a). A relay position [P2] is set in the relay stage 16, and the second camera 24 is arranged corresponding to the relay position [P2]. By moving the relay stage 16 by the X-axis moving mechanism 30, the semiconductor chip 6a placed on the relay stage 16 can be positioned at the relay position [P2] and can be imaged by the second camera 24. The position of the semiconductor chip 6a placed on the stage 16 is detected. The component recognition camera 18 is disposed adjacent to the relay stage 16 and similarly moves the component recognition position [P3] by driving the X-axis moving mechanism 30.

基板保持ステージ5は、XYテーブル機構34上に基板7を保持する基板保持テーブル5aを設けた構成となっている。基板保持ステージ5には、半導体チップ6aを基板保持テーブル5aに保持された基板7に実装するための実装作業位置[P4]が設定されており、第3カメラ25は実装作業位置[P4]に対応して配置されている。第3カメラ25によって基板7を撮像することにより、基板7に設定された部品実装点7aの位置が検出される。そしてXYテーブル機構34を駆動することにより、基板保持テーブル5aは基板7とともにXY方向に水平移動し、基板7に設定された任意の部品実装点7aを実装作業位置[P4]に位置させることができる。   The substrate holding stage 5 has a configuration in which a substrate holding table 5 a for holding the substrate 7 is provided on the XY table mechanism 34. A mounting work position [P4] for mounting the semiconductor chip 6a on the substrate 7 held on the substrate holding table 5a is set on the substrate holding stage 5, and the third camera 25 is set at the mounting work position [P4]. Correspondingly arranged. By imaging the board 7 with the third camera 25, the position of the component mounting point 7 a set on the board 7 is detected. By driving the XY table mechanism 34, the board holding table 5a moves horizontally in the XY direction together with the board 7, and an arbitrary component mounting point 7a set on the board 7 can be positioned at the mounting work position [P4]. it can.

次に、第1ヘッド11、第2ヘッド12について説明する。図2においてY軸フレーム8に設けられたY軸ガイド機構9の前面には、第1ヘッド11および第2ヘッド12をY方向にガイドするための2条のガイドレール9aが設けられており、これらのガイドレール9aの間には以下に説明する第1ヘッド11および第2ヘッド12をY方向に駆動するためのリニアモータを構成する固定子9bが配設されている。ガイドレール9aには図示しないスライダがY方向にスライド自在に嵌合しており、このスライダは垂直な移動プレート11a,12aの背面に固着されている。   Next, the first head 11 and the second head 12 will be described. In FIG. 2, two guide rails 9a for guiding the first head 11 and the second head 12 in the Y direction are provided on the front surface of the Y-axis guide mechanism 9 provided on the Y-axis frame 8. Between these guide rails 9a, a stator 9b constituting a linear motor for driving the first head 11 and the second head 12 described below in the Y direction is disposed. A slider (not shown) is fitted to the guide rail 9a so as to be slidable in the Y direction, and the slider is fixed to the back of the vertical moving plates 11a and 12a.

移動プレート11a,12aの背面には、固定子9bに対向してリニアモータを構成するする可動子(図示省略)が配設されている。これらのリニアモータを駆動することにより、第1ヘッド11および第2ヘッド12はガイドレール9aによってガイドされて、それぞれY方向に移動する(矢印b)。移動プレート11a,12aの前面には、それぞれ昇降機構11b,12bが配設されており、昇降機構11b,12bの前面には昇降プレート11c,12cが、スライドガイド機構(図示省略)により垂直方向にスライド自在に配設されている。昇降機構11b,12bを駆動することにより、昇降プレート11c,12cはそれぞれ昇降する(矢印c)。昇降プレート11cには、下部に部品保持ツール19aを備えた搭載ユニット19が着脱自在に装着されている。昇降プレート12cにはX軸駆動機構22が装着されており、X軸駆動機構22は反り測定ユニット21を固定位置に保持するとともに、2基の塗布ユニット20をX方向に移動させる。   On the back surface of the movable plates 11a and 12a, a mover (not shown) constituting a linear motor is disposed facing the stator 9b. By driving these linear motors, the first head 11 and the second head 12 are guided by the guide rail 9a and each move in the Y direction (arrow b). Elevating mechanisms 11b and 12b are disposed on the front surfaces of the movable plates 11a and 12a, respectively. Elevating plates 11c and 12c are vertically disposed on the front surfaces of the elevating mechanisms 11b and 12b by a slide guide mechanism (not shown). It is slidably arranged. Driving the elevating mechanisms 11b and 12b raises and lowers the elevating plates 11c and 12c (arrow c). A mounting unit 19 having a component holding tool 19a at the bottom is detachably mounted on the lifting plate 11c. An X-axis drive mechanism 22 is mounted on the elevating plate 12c. The X-axis drive mechanism 22 holds the warp measurement unit 21 at a fixed position and moves the two coating units 20 in the X direction.

搭載ユニット19は部品保持ツール19aによって実装対象の部品である半導体チップ6aを保持する機能を有しており、第1ヘッド11をY方向に水平移動させて昇降プレート11cが昇降することにより、搭載ユニット19は部品供給ステージ3から供給された半導体チップ6aを、基板保持ステージ5に保持された基板7に搭載する(矢印d)。ここでは、搭載ユニット19が装着された第1ヘッド11による実装形態として、ピックアップヘッド14によって部品供給ステージ3から取り出され中継ステージ16上に載置された半導体チップ6aを搭載ユニット19によって保持して基板7に搭載するプリセンタ実装形態と、部品供給ステージ3の半導体チップ6aを直接搭載ユニット19によって保
持して基板7に搭載するダイレクト実装形態と、ピックアップヘッド14によって部品供給ステージ3から取り出され表裏反転状態でピックアップヘッド14に保持された半導体チップ6aを搭載ユニット19によって保持して基板7に搭載するフェイスダウン実装形態とを選択的に実行できるようになっている。すなわち搭載ユニット19が装着された第1ヘッド11は、部品供給ステージ3によって供給された半導体チップ6aを吸着保持して、基板保持ステージ5に保持された基板7に実装する実装ヘッドとなっている。
The mounting unit 19 has a function of holding the semiconductor chip 6a that is a component to be mounted by the component holding tool 19a. The mounting unit 19 is mounted by moving the first head 11 horizontally in the Y direction and moving the lifting plate 11c up and down. The unit 19 mounts the semiconductor chip 6a supplied from the component supply stage 3 on the substrate 7 held by the substrate holding stage 5 (arrow d). Here, as a mounting form by the first head 11 to which the mounting unit 19 is mounted, the semiconductor chip 6 a taken out from the component supply stage 3 by the pickup head 14 and placed on the relay stage 16 is held by the mounting unit 19. A pre-center mounting form to be mounted on the substrate 7, a direct mounting form in which the semiconductor chip 6a of the component supply stage 3 is directly held by the mounting unit 19 and mounted on the substrate 7, and a pick-up head 14 taken out from the component supply stage 3 and turned upside down The face-down mounting configuration in which the semiconductor chip 6a held in the pickup head 14 in the state is held by the mounting unit 19 and mounted on the substrate 7 can be selectively executed. That is, the first head 11 on which the mounting unit 19 is mounted is a mounting head that sucks and holds the semiconductor chip 6 a supplied by the component supply stage 3 and mounts it on the substrate 7 held on the substrate holding stage 5. .

次に図3を参照して、第2ヘッド12の構成を説明する。図3において昇降プレート12cには、X軸駆動機構22が結合されている。X軸駆動機構22を駆動することにより、X軸駆動機構22の側面に設けられた移動プレート22aはX方向(矢印f方向)に往復移動する。移動プレート22aには結合部材40aを介して2つの塗布ユニット20を備えた塗布ヘッド40が装着されている。Y軸ガイド機構9およびX軸駆動機構22を駆動することにより塗布ヘッド40は基板保持テーブル5aに保持された基板7に対してXY方向に水平移動し、昇降機構12bを駆動することによりこれらの塗布ユニット20は昇降する。したがって、Y軸ガイド機構9、X軸駆動機構22は、塗布ヘッド40を基板7に対して水平移動するヘッド移動機構となっており、昇降機構12bは塗布ヘッド40を昇降させる昇降機構となっている。   Next, the configuration of the second head 12 will be described with reference to FIG. In FIG. 3, an X-axis drive mechanism 22 is coupled to the elevating plate 12c. By driving the X-axis drive mechanism 22, the moving plate 22a provided on the side surface of the X-axis drive mechanism 22 reciprocates in the X direction (arrow f direction). An application head 40 including two application units 20 is mounted on the moving plate 22a via a coupling member 40a. By driving the Y-axis guide mechanism 9 and the X-axis drive mechanism 22, the coating head 40 moves horizontally in the XY direction with respect to the substrate 7 held on the substrate holding table 5a, and by driving the lifting mechanism 12b, these coating heads The application unit 20 moves up and down. Therefore, the Y-axis guide mechanism 9 and the X-axis drive mechanism 22 are head moving mechanisms that horizontally move the coating head 40 with respect to the substrate 7, and the lifting mechanism 12 b is a lifting mechanism that lifts and lowers the coating head 40. Yes.

塗布ヘッド40を構成する塗布ユニット20は、部品接着用の樹脂接着剤であるペーストを収納したシリンジ20aおよびペーストを吐出する塗布ノズル20bを備えている。塗布ヘッド40を基板保持ステージ5に保持された基板7の上方に移動させて、塗布ユニット20による塗布動作を行わせることにより(矢印e)、塗布ノズル20bから吐出したペーストを基板7の部品実装点7aに塗布する。このとき、Y軸ガイド機構9、X軸駆動機構22を駆動することにより、塗布ノズル20bを基板7に対して任意の描画パターンで水平移動させ、電子部品接着用の樹脂を描画塗布することができる。すなわち、部品実装装置1において第2ヘッド12に塗布ヘッド40が装着された構成は、基板保持ステージ5に保持された基板7に電子部品接着用の樹脂を塗布する樹脂塗布装置に相当する。   The coating unit 20 constituting the coating head 40 includes a syringe 20a that contains a paste, which is a resin adhesive for component bonding, and a coating nozzle 20b that discharges the paste. The coating head 40 is moved above the substrate 7 held by the substrate holding stage 5 to perform the coating operation by the coating unit 20 (arrow e), whereby the paste discharged from the coating nozzle 20b is mounted on the component of the substrate 7 Apply to point 7a. At this time, by driving the Y-axis guide mechanism 9 and the X-axis drive mechanism 22, the coating nozzle 20 b can be moved horizontally with an arbitrary drawing pattern with respect to the substrate 7 to draw and apply the resin for bonding electronic components. it can. That is, the configuration in which the coating head 40 is mounted on the second head 12 in the component mounting apparatus 1 corresponds to a resin coating apparatus that applies a resin for bonding electronic components to the substrate 7 held on the substrate holding stage 5.

X軸駆動機構22の側面には、反り測定ユニット21が配設されている。反り測定ユニット21は、基板保持ステージ5に保持された基板7の反り変形量を測定する機能を有しており、接触式の変位センサ42を内蔵している。変位センサ42は、測定対象に測定子であるプローブ42aを接触させることによりプローブ42aが押し込まれて変位する変位量を測定する機能を有している。すなわち測定対象の基板7に対して変位センサ42を規定高さまで下降させて基板7の上面にプローブ42aを接触させ、このときのプローブ42aが押し込まれる変位量を測定することにより基板7の上面の高さ位置を測定し、この測定結果から当該基板7の反り変形を求めるようにしている。   A warpage measurement unit 21 is disposed on a side surface of the X-axis drive mechanism 22. The warpage measurement unit 21 has a function of measuring the amount of warpage deformation of the substrate 7 held on the substrate holding stage 5 and incorporates a contact-type displacement sensor 42. The displacement sensor 42 has a function of measuring the amount of displacement by which the probe 42a is pushed and displaced by bringing the probe 42a as a measuring element into contact with the measurement object. That is, the displacement sensor 42 is lowered to a specified height with respect to the substrate 7 to be measured, the probe 42a is brought into contact with the upper surface of the substrate 7, and the amount of displacement at which the probe 42a is pushed at this time is measured, thereby measuring the upper surface of the substrate 7. The height position is measured, and the warp deformation of the substrate 7 is obtained from the measurement result.

本実施の形態においては、X軸駆動機構22によるX方向の水平移動を駆動源として、測定動作時において変位センサ42を規定高さまで下降させる機構を採用している。図3のA−A矢視に示すように、移動プレート22aには板カム部材41が結合されており、X軸駆動機構22を駆動して板カム部材41がX方向(矢印g方向)に移動することにより、反り測定ユニット21に内蔵された変位センサ42を押し下げるようにしている。   In the present embodiment, a mechanism that lowers the displacement sensor 42 to a specified height during a measurement operation is adopted using horizontal movement in the X direction by the X-axis drive mechanism 22 as a drive source. As shown by arrows AA in FIG. 3, a plate cam member 41 is coupled to the moving plate 22a, and the plate cam member 41 is driven in the X direction (arrow g direction) by driving the X-axis drive mechanism 22. By moving, the displacement sensor 42 built in the warp measurement unit 21 is pushed down.

以下、図4を参照して反り測定ユニット21の構造を説明する。反り測定ユニット21はX軸駆動機構22のフレーム部に固定的に配設されており、図4において駆動方向を下向きにした垂直で配設されたシリンダ43のロッド43aには、昇降部材44が結合されている。昇降部材44は垂直に配置されたガイドレール46およびスライダ45より成るガイド機構によって上下方向にガイドされており、昇降部材44の一方側の端部44aにはセンサ押し下げ部47が固着されている。センサ押し下げ部47には変位センサ42がプローブ42aを下向きにした姿勢で保持されており、シリンダ43を駆動してロッド4
3aを突出させることにより、昇降部材44はセンサ押し下げ部47とともに実線位置から鎖線位置まで下降する。図4に示す実線位置は、基板保持ステージ5を対象とした基板搬送動作のために設定された基板搬送時高さ位置に相当し、鎖線位置は、変位センサ42が基板7を対象とする測定動作の実行前に待機するために設定された待機高さ位置に相当する。そしてシリンダ43、スライダ45、ガイドレール46は、基板搬送時高さ位置と待機高さ位置との間で変位センサ42を昇降させるセンサ昇降機構を構成する。
Hereinafter, the structure of the warp measurement unit 21 will be described with reference to FIG. The warp measurement unit 21 is fixedly disposed on the frame portion of the X-axis drive mechanism 22, and an elevating member 44 is disposed on a rod 43 a of the cylinder 43 that is vertically disposed with the drive direction downward in FIG. 4. Are combined. The elevating member 44 is guided in the vertical direction by a guide mechanism including a guide rail 46 and a slider 45 arranged vertically, and a sensor push-down portion 47 is fixed to one end 44 a of the elevating member 44. A displacement sensor 42 is held by the sensor push-down portion 47 in a posture with the probe 42a facing downward, and the cylinder 43 is driven to drive the rod 4
By projecting 3 a, the elevating member 44 moves down from the solid line position to the chain line position together with the sensor push-down portion 47. The solid line position shown in FIG. 4 corresponds to the height position during substrate transfer set for the substrate transfer operation for the substrate holding stage 5, and the chain line position is measured by the displacement sensor 42 for the substrate 7. This corresponds to the standby height position set for waiting before the operation is executed. The cylinder 43, the slider 45, and the guide rail 46 constitute a sensor raising / lowering mechanism that raises and lowers the displacement sensor 42 between the substrate transport height position and the standby height position.

センサ押し下げ部47が下降した状態における停止位置の側方には、図3に示す板カム部材41が位置する。板カム部材41には、センサ押し下げ部47に近接した側の先端部41aに、下向き斜め方向のテーパカム面41bが設けられている。X軸駆動機構22を駆動することにより、板カム部材41は鎖線位置まで下降したセンサ押し下げ部47に対して側方から進退する(矢印h)。   A plate cam member 41 shown in FIG. 3 is located on the side of the stop position in a state where the sensor push-down portion 47 is lowered. The plate cam member 41 is provided with a taper cam surface 41 b in an obliquely downward direction at a tip portion 41 a on the side close to the sensor push-down portion 47. By driving the X-axis drive mechanism 22, the plate cam member 41 advances and retreats from the side with respect to the sensor push-down portion 47 lowered to the chain line position (arrow h).

次に図5を参照してセンサ押し下げ部47の構成および機能を説明する。図5(a)において、ベース部47aには上下方向にガイドレール48が配設されており、ガイドレール48に上下方向にスライド自在に嵌合したスライダ49には、変位センサ42が保持されたセンサホルダ50が結合されている。変位センサ42はセンサホルダ50を介して引張りバネ部材51によって上方に付勢されており(矢印i)、通常時にはこの付勢力によって変位センサ42はセンサホルダ50とともに上昇した位置にある。センサ押し下げ部47に設けられた引張りバネ部材51は、前述構成のセンサ昇降機構によって昇降し変位センサ42を上向きに付勢する付勢手段となっている。   Next, the configuration and function of the sensor push-down unit 47 will be described with reference to FIG. In FIG. 5A, a guide rail 48 is provided in the base portion 47a in the vertical direction, and a displacement sensor 42 is held in a slider 49 that is slidably fitted in the guide rail 48 in the vertical direction. A sensor holder 50 is coupled. The displacement sensor 42 is urged upward by the tension spring member 51 via the sensor holder 50 (arrow i), and the displacement sensor 42 is in a position raised together with the sensor holder 50 by this urging force in normal times. The tension spring member 51 provided in the sensor push-down portion 47 is an urging means that urges the displacement sensor 42 upward by moving up and down by the sensor lifting mechanism having the above-described configuration.

センサホルダ50の端部50aには、カムフォロア52が配設されている。図5(b)に示すように、昇降部材44を図4に示す鎖線位置まで下降させて、変位センサ42は前述の待機高さ位置に下降させると、センサ押し下げ部47は板カム部材41の側方に位置する。そしてこの状態でX軸駆動機構22を駆動して板カム部材41を進出させることにより(矢印j)、板カム部材41のテーパカム面41bがカムフォロア52に当接し、センサホルダ50は変位センサ42とともに引張りバネ部材51の付勢力に抗して下方に押し下げられる(矢印k)。   A cam follower 52 is disposed at the end 50 a of the sensor holder 50. As shown in FIG. 5 (b), when the elevating member 44 is lowered to the chain line position shown in FIG. 4 and the displacement sensor 42 is lowered to the standby height position described above, the sensor push-down portion 47 is moved to the plate cam member 41. Located on the side. In this state, when the X-axis drive mechanism 22 is driven to advance the plate cam member 41 (arrow j), the taper cam surface 41b of the plate cam member 41 comes into contact with the cam follower 52, and the sensor holder 50 together with the displacement sensor 42 It is pushed downward against the urging force of the tension spring member 51 (arrow k).

これにより変位センサ42が下降して、プローブ42aが基板保持テーブル5aに保持された基板7の部品実装点7aに当接し、上面7bの高さ状態に応じた変位量だけ押し込まれる。これにより変位センサ42はその変位量に応じた測定信号を測定部53に対して出力し、測定部53がこの測定信号に基づいて所定の演算を行うことにより、測定対象の基板7の上面7bの高さ位置Zを求めることができる。そしてこの高さ位置Zを本来の基板7の上面7bの高さ位置と比較することにより、基板7の反り変形量が測定される。すなわち変位センサ42が押し下げられた位置は、プローブ42aが基板7に接触して変位を測定する測定高さ位置に相当する。そして板カム部材41が反対方向に退避することにより、変位センサ42は引張りバネ部材51の付勢力によってセンサホルダ50とともに上昇し、測定高さ位置から待機高さ位置に復帰する。   As a result, the displacement sensor 42 is lowered, the probe 42a comes into contact with the component mounting point 7a of the substrate 7 held on the substrate holding table 5a, and is pushed in by a displacement amount corresponding to the height state of the upper surface 7b. Thereby, the displacement sensor 42 outputs a measurement signal corresponding to the amount of displacement to the measurement unit 53, and the measurement unit 53 performs a predetermined calculation based on the measurement signal, whereby the upper surface 7b of the substrate 7 to be measured. Can be obtained. Then, by comparing this height position Z with the original height position of the upper surface 7b of the substrate 7, the amount of warp deformation of the substrate 7 is measured. That is, the position where the displacement sensor 42 is pressed down corresponds to the measurement height position where the probe 42a contacts the substrate 7 and measures the displacement. When the plate cam member 41 is retracted in the opposite direction, the displacement sensor 42 is lifted together with the sensor holder 50 by the urging force of the tension spring member 51, and returns from the measurement height position to the standby height position.

したがって板カム部材41、センサ押し下げ部47は、ヘッド移動機構を構成するX軸駆動機構22による水平方向の移動動作によって駆動され、待機高さ位置からプローブ42aが基板7に接触して変位を測定する測定高さ位置まで、変位センサ42を引張りバネ部材51の上向きの付勢力に抗して押し下げるセンサ押し下げ機構となっている。そして変位センサ42,前述構成のセンサ昇降機構、センサ押し下げ機構、付勢手段は、基板保持ステージ5に保持された基板7の反り変形量を測定する反り測定手段を構成する。このように、X軸駆動機構22による水平方向の移動動作によって変位センサ42を押し下げる構成を採用することにより、別途駆動機構を設ける場合と比較して、設備コストを低減させることが可能となっている。   Therefore, the plate cam member 41 and the sensor push-down portion 47 are driven by a horizontal movement operation by the X-axis drive mechanism 22 constituting the head movement mechanism, and the probe 42a contacts the substrate 7 from the standby height position to measure the displacement. The sensor push-down mechanism pushes down the displacement sensor 42 against the upward biasing force of the tension spring member 51 to the measurement height position. The displacement sensor 42, the sensor raising / lowering mechanism, the sensor push-down mechanism, and the biasing means configured as described above constitute a warp measuring means that measures the amount of warp deformation of the substrate 7 held on the substrate holding stage 5. As described above, by adopting a configuration in which the displacement sensor 42 is pushed down by the horizontal movement operation by the X-axis drive mechanism 22, it is possible to reduce the equipment cost compared to a case where a separate drive mechanism is provided. Yes.

次に図6を参照して、反り測定ユニット21によって、基板保持テーブル5aに保持された基板7の反り変形量を測定する反り測定方法について説明する。図6(a)は、シリンダ43のロッド43aが没入して、変位センサ42が基板搬送動作のために設定された基板搬送時高さ位置にある状態を示している。この状態では、変位センサ42と基板保持テーブル5aとの間には十分なクリアランスが確保され、基板保持テーブル5a上への基板7の搬入・搬出動作が妨げられることなく実行できるようになっている。   Next, with reference to FIG. 6, a warp measurement method for measuring the warp deformation amount of the substrate 7 held on the substrate holding table 5a by the warp measurement unit 21 will be described. FIG. 6A shows a state in which the rod 43a of the cylinder 43 is immersed and the displacement sensor 42 is at the substrate transfer height position set for the substrate transfer operation. In this state, a sufficient clearance is secured between the displacement sensor 42 and the substrate holding table 5a, so that the loading / unloading operation of the substrate 7 on the substrate holding table 5a can be performed without being hindered. .

図6(b)は、シリンダ43のロッド43aを突出させてセンサ押し下げ部47を下降させ(矢印l)、基板7を対象とする測定動作の実行前に待機するために設定された待機高さ位置に、変位センサ42を位置させた状態を示している。これにより、プローブ42aは基板保持テーブル5aに保持された基板7の上方の直近に位置する。   FIG. 6B shows a stand-by height set for projecting the rod 43a of the cylinder 43 and lowering the sensor push-down portion 47 (arrow l), and waiting before the measurement operation for the substrate 7 is performed. A state in which the displacement sensor 42 is positioned at the position is shown. As a result, the probe 42a is positioned immediately above the substrate 7 held by the substrate holding table 5a.

次いで図6(c)は、測定状態を示している。すなわち、X軸駆動機構22を駆動して板カム部材41をセンサ押し下げ部47に対して進出させる(矢印m)。これによりカムフォロア52が所定の押し下げ量だけ押し下げられて、変位センサ42が測定高さ位置まで下降する(矢印n)。これによりプローブ42aが基板7に当接し、基板7の反り変形量が測定される。このとき、プローブ42aは予め基板7の上方の直近位置に位置しているため、測定時の昇降ストロークは短くて済み、短い動作時間で速やかに作業効率よく測定を実行することができる。   Next, FIG. 6C shows a measurement state. That is, the X-axis drive mechanism 22 is driven to advance the plate cam member 41 relative to the sensor push-down portion 47 (arrow m). As a result, the cam follower 52 is pushed down by a predetermined depression amount, and the displacement sensor 42 is lowered to the measurement height position (arrow n). As a result, the probe 42a comes into contact with the substrate 7 and the amount of warp deformation of the substrate 7 is measured. At this time, since the probe 42a is located in the immediate vicinity above the substrate 7 in advance, the up / down stroke at the time of measurement is short, and the measurement can be performed quickly and efficiently in a short operation time.

上記説明したように、本発明は、基板保持ステージ5に保持された基板7の反り変形量を測定する反り測定手段において、接触式の変位センサ42を基板搬送動作のために設定された基板搬送時高さ位置と、基板7を対象とする測定動作の実行前に待機するために設定された待機高さ位置との間でセンサ昇降機構によって昇降させ、待機高さ位置からプローブ42aが基板7に接触して変位を測定する測定高さ位置までの下降動作を、X軸移動機構22による水平方向の移動動作によって駆動されるセンサ押し下げ機構によって行うように構成している。   As described above, according to the present invention, in the warp measuring means for measuring the warp deformation amount of the substrate 7 held on the substrate holding stage 5, the contact-type displacement sensor 42 is set for substrate transport operation. The probe 42a is moved up and down by the sensor elevating mechanism between the time height position and the standby height position set for standby before the measurement operation for the substrate 7 is performed. The lowering operation to the measurement height position for measuring the displacement in contact with the sensor is performed by a sensor push-down mechanism driven by a horizontal movement operation by the X-axis movement mechanism 22.

これにより、変位センサ42の昇降のための機構を簡略化するとともに、昇降のための動作時間を短縮して、低い設備コストで作業効率に優れた電子部品接着用の樹脂塗布装置を実現することができる。   As a result, the mechanism for raising and lowering the displacement sensor 42 is simplified, the operation time for raising and lowering is shortened, and a resin coating apparatus for adhering electronic components with excellent work efficiency is realized at low equipment cost. Can do.

本発明の電子部品接着用の樹脂塗布装置は、低い設備コストで作業効率に優れるという効果を有し、リードフレームや樹脂基板などに部品を接着するための樹脂塗布を行う分野に利用可能である。   The resin coating apparatus for bonding electronic parts according to the present invention has the effect of being excellent in work efficiency at a low equipment cost, and can be used in the field of performing resin coating for bonding parts to a lead frame, a resin substrate, and the like. .

本発明の一実施の形態の部品実装装置の全体斜視図1 is an overall perspective view of a component mounting apparatus according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態の部品実装装置の正面図The front view of the component mounting apparatus of one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態の部品実装装置に装着された樹脂塗布用の塗布ヘッドの構成説明図Structure explanatory drawing of the application head for resin application with which the component mounting device of one embodiment of the present invention was equipped 本発明の一実施の形態の部品実装装置の塗布ヘッドに用いられる反り測定ユニットの構成説明図Structure explanatory drawing of the curvature measurement unit used for the coating head of the component mounting apparatus of one embodiment of this invention 本発明の一実施の形態の部品実装装置に用いられるセンサ押し下げ機構の構成説明図Configuration explanatory diagram of a sensor push-down mechanism used in the component mounting apparatus of one embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態の部品実装装置における基板の反り測定方法の動作説明図Explanatory drawing of operation | movement of the curvature measurement method of the board | substrate in the component mounting apparatus of one embodiment of this invention

1 部品実装装置
3 部品供給ステージ
4 ユニット集合ステージ
5 基板保持ステージ
6 半導体ウェハ
6a 半導体チップ
7 基板
9 Y軸ガイド機構
11 第1ヘッド
12 第2ヘッド
19 搭載ユニット
20 塗布ユニット
21 反り測定ユニット
22 X軸駆動機構
41 板カム部材
42 変位センサ
42a プローブ
47 センサ押し下げ部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Component mounting apparatus 3 Component supply stage 4 Unit assembly stage 5 Substrate holding stage 6 Semiconductor wafer 6a Semiconductor chip 7 Substrate 9 Y axis guide mechanism 11 1st head 12 2nd head 19 Mounting unit 20 Coating unit 21 Warp measurement unit 22 X axis Drive mechanism 41 Plate cam member 42 Displacement sensor 42a Probe 47 Sensor push-down part

Claims (1)

基板保持部に保持された基板に電子部品接着用の樹脂を塗布する樹脂塗布装置であって、
前記樹脂を吐出する塗布ユニットが装着された塗布ヘッドと、この塗布ヘッドを昇降させる昇降機構と、前記塗布ヘッドを前記基板に対して水平移動させるヘッド移動機構と、前記基板保持部に保持された基板の反り変形量を測定する反り測定手段とを備え、
前記反り測定手段は、測定対象に測定子を接触させることによりこの測定子が押し込まれて変位する変位量を測定する接触式の変位センサと、前記基板保持部を対象とした基板搬送動作のために設定された基板搬送時高さ位置と前記基板を対象とする測定動作の実行前に待機するために設定された待機高さ位置との間で前記変位センサを昇降させるセンサ昇降機構と、前記センサ昇降機構によって昇降し前記変位センサを上向きに付勢する付勢手段と、
前記ヘッド移動機構による水平方向の移動動作によって駆動され、前記待機高さ位置から前記測定子が前記基板に接触して前記変位を測定する測定高さ位置まで、前記変位センサを前記付勢手段の上向きの付勢力に抗して押し下げるセンサ押し下げ機構とを有することを特徴とする樹脂塗布装置。
A resin coating apparatus that applies a resin for bonding electronic components to a substrate held by a substrate holding unit,
A coating head mounted with a coating unit for discharging the resin, a lifting mechanism for lifting and lowering the coating head, a head moving mechanism for horizontally moving the coating head with respect to the substrate, and held by the substrate holder A warp measuring means for measuring a warp deformation amount of the substrate,
The warp measuring means is a contact-type displacement sensor that measures a displacement amount by which the measuring element is pushed and displaced by bringing the measuring element into contact with the measuring object, and a substrate transfer operation for the substrate holding unit. A sensor raising / lowering mechanism for raising and lowering the displacement sensor between a height position at the time of substrate transfer set to a standby height position set to wait before performing a measurement operation on the substrate, and A biasing means that lifts and lowers the displacement sensor by a sensor lifting mechanism;
The displacement sensor is driven by a horizontal movement operation by the head moving mechanism, and the displacement sensor is moved from the standby height position to a measurement height position where the probe contacts the substrate and measures the displacement. A resin coating apparatus comprising a sensor push-down mechanism that pushes down against an upward biasing force.
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