JP2010164442A - Analysis method by energy dispersive x-ray spectrometer, and x-ray analyzer - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、試料に電子線を照射して放出される特性X線を検出するためのエネルギー分散型X線分光器(EDS)を備える透過電子顕微鏡(TEM)、走査電子顕微鏡(SEM)、電子プローブマイクロアナライザ(EPMA)等のX線分析装置に係わり、特に測定経過時間とともに電子線損傷等により変化する試料の分析方法に関する。 The present invention relates to a transmission electron microscope (TEM), a scanning electron microscope (SEM), an electron equipped with an energy dispersive X-ray spectrometer (EDS) for detecting characteristic X-rays emitted by irradiating a sample with an electron beam. The present invention relates to an X-ray analyzer such as a probe microanalyzer (EPMA), and more particularly to a method for analyzing a sample that changes due to electron beam damage or the like with the measurement elapsed time.
試料に電子線を照射して放出される特性X線を分光検出し、試料の分析を行なう元素分析方法及び装置が広く普及している。試料の中には電子線を照射すると組成や形状の変化を起こすものがある。ソーダガラスなどに含まれるナトリウム(Na),カリウム(K)などのアルカリ元素は、試料に電子線を照射して分析中に特性X線強度が減衰してしまう代表的元素である。特許文献1の特許第3950626号公報には、Na,K等の電子線照射によるダメージに敏感な元素に関して、定性スペクトルの特性X線ピーク強度を用いて簡易定量分析を行なうとき、予め求めておいた電子線照射分析計測時間と検出X線強度との関係を表す分析計測時間影響曲線によって特性X線ピーク強度を補正することにより分析精度を向上させる技術が開示されている。
2. Description of the Related Art Elemental analysis methods and apparatuses for analyzing a sample by spectrally detecting characteristic X-rays emitted by irradiating the sample with an electron beam are widely used. Some samples cause changes in composition and shape when irradiated with an electron beam. Alkaline elements such as sodium (Na) and potassium (K) contained in soda glass are representative elements whose characteristic X-ray intensity is attenuated during analysis by irradiating a sample with an electron beam. In Japanese Patent No. 3950626 of
特許文献2の特開2007−198749号公報には、エネルギー分散型X線分光器(EDS)を装着した表面分析装置において、検出したX線信号のエネルギーデータの間に測定経過時間を表すタグと試料上の位置(座標)情報を表すタグを配置して全てのX線信号データを順次記憶装置に格納することにより、EDSスペクトルを一度測定するだけで任意の時間毎のスペクトルを再生することのできる技術が開示されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-198749 of
特許文献1の特許第3950626号公報に開示されている技術は、分析前に必ず分析計測時間影響曲線を作成しておかなければならない。しかし、電子線の照射電流値、電子線径等の分析条件が変わるとそれに応じた曲線が必要であるため準備に手間がかかるという問題がある。
In the technique disclosed in Japanese Patent No. 3950626 of
特許文献2の特開2007−198749号公報に開示されている技術は、一度データを取り込んでしまえば、測定開始後の任意の経過時間毎にX線スペクトルを再生できるので、測定中に試料の組成がどのように変化したかを知ることが出来る。また、その変化の様子から、所望するX線スペクトルのみを抽出し、定量分析等に用いることが出来る。しかし、データの測定中に、試料に対する電子線照射の影響が少ないうちに電子線照射(測定)を停止する技術は示されていない。また、線分析、面分析を行なっている間に、分析領域の一部が電子線照射による変化を起こしたときに、その変化を検知し、必要であれば測定を停止する技術も示されていない。
The technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-198749 of
本発明は上記した問題を解決するためになされたものであって、その目的は、エネルギー分散型X線分光器(EDS)を用いたX線分析装置を備える透過電子顕微鏡(TEM)、走査電子顕微鏡(SEM)、電子プローブマイクロアナライザ(EPMA)等の電子線装置において、試料が電子線照射により損傷を受ける前に測定を自動的に停止させることの出来るX線分析方法及び電子線装置を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a transmission electron microscope (TEM) equipped with an X-ray analyzer using an energy dispersive X-ray spectrometer (EDS), a scanning electron. Provided are an X-ray analysis method and an electron beam apparatus capable of automatically stopping measurement of a sample before it is damaged by electron beam irradiation in an electron beam apparatus such as a microscope (SEM) or an electron probe microanalyzer (EPMA). There is to do.
上記の問題を解決するために、
請求項1に記載の発明は、電子線を試料に照射して該試料から発生する特性X線をエネルギー分散型X線分光器により検出し該試料の分析を行なうX線分析方法であって、
電子線の試料照射位置を2次元的に制御して該試料から発生した特性X線を検出する検出工程と、
前記検出工程により検出された特性X線のエネルギーを分析する分析工程と、
前記分析工程で検出されたエネルギーのX線信号データの生成及び特性X線の測定経過時間情報データの生成及び前記電子線の位置情報データの生成を行なうデータ処理工程と、
前記データ処理工程により生成された各データを時系列的に組み合わせた時系列データとして記憶装置に格納するデータ格納工程と、
格納された前記測定経過時間の指定された測定経過時間範囲及び/又は前記位置情報データの指定された位置情報範囲に含まれるX線信号データを前記時系列データから抽出する抽出工程とを有するX線分析方法において、
前記抽出工程によって抽出された前記X線信号データの全て又は一部のデータの時間経過に伴う変動を検出する変動検出工程を備え、
前記変動検出工程において検出されたデータの変動に基づいて試料への電子線照射を停止するようにしたことを特徴とする。
To solve the above problem,
The invention according to
A detection step of detecting characteristic X-rays generated from the sample by two-dimensionally controlling the sample irradiation position of the electron beam;
An analysis step of analyzing the energy of the characteristic X-ray detected by the detection step;
A data processing step for generating X-ray signal data of energy detected in the analysis step, generating characteristic X-ray measurement elapsed time information data, and generating position information data of the electron beam;
A data storage step of storing in a storage device as time-series data in which each data generated by the data processing step is combined in time series;
An extraction step for extracting X-ray signal data included in the specified measurement elapsed time range of the stored measurement elapsed time and / or the specified position information range of the position information data from the time-series data. In the line analysis method,
A fluctuation detecting step of detecting fluctuations with time of all or part of the X-ray signal data extracted by the extracting step;
The electron beam irradiation to the sample is stopped based on the fluctuation of the data detected in the fluctuation detecting step.
また請求項2に記載の発明は、前記変動検出工程において、前記一定の時間間隔及び/又は一定の位置間隔毎の範囲に含まれるX線信号データを用いて、横軸を前記X線信号のエネルギー値、縦軸を前記X線信号の積算個数とするスペクトルを構築し、検出された前記スペクトルの変動に基づいて、試料への電子線照射を停止するようにしたことを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, in the fluctuation detecting step, the X-ray signal of the X-ray signal is plotted on the horizontal axis using the X-ray signal data included in the range of the fixed time interval and / or the fixed position interval. A spectrum having an energy value and a vertical axis representing the accumulated number of the X-ray signals is constructed, and the electron beam irradiation to the sample is stopped based on the detected fluctuation of the spectrum.
また請求項3に記載の発明は、前記スペクトルの変動は、予め指定されたエネルギー範囲に含まれる前記X線信号の積算個数の変化であることを特徴とする。
The invention according to
また請求項4に記載の発明は、前記測定経過時間の増加に伴う前記データの変動が予め指定された閾値を超えたとき、試料への電子線照射を停止する工程を更に備えたことを特徴とする。
The invention according to
また請求項5に記載の発明は、前記一定の位置間隔により決まる領域において繰り返し測定されたX線信号データを前記記憶装置から抽出し、
前記繰り返し測定された前記X線信号データの前記繰り返し測定回数の増加に伴う変動に基づいて試料への電子線照射を停止するようにしたことを特徴とする。
The invention according to claim 5 extracts, from the storage device, X-ray signal data repeatedly measured in a region determined by the fixed position interval,
The electron beam irradiation to the sample is stopped based on a variation accompanying an increase in the number of repeated measurements of the X-ray signal data that has been repeatedly measured.
また請求項6に記載の発明は、前記繰り返し測定された前記X線信号データの全て又は一部を用いて前記領域を構成する区画のX線強度を求め、前記領域に対応する前記X線強度の分布を表す画像を前記繰り返し測定毎に構築し、前記繰り返し測定回数の増加に伴う前記強度分布の変動に基づいて試料への電子線照射を停止するようにしたことを特徴とする。
In the invention according to
また請求項7に記載の発明は、前記強度分布の変動は、前記画像を構成する任意の区画について前記繰り返し測定毎に構築された画像のX線強度の平均値と前記繰り返し測定の最後の画像構築に使用した画像のX線強度との差分であることを特徴とする。 Further, in the invention according to claim 7, the fluctuation of the intensity distribution is determined by the average value of the X-ray intensity of the image constructed for each repeated measurement and the last image of the repeated measurement for an arbitrary section constituting the image. It is a difference from the X-ray intensity of the image used for construction.
また請求項8に記載の発明は、前記強度分布の変動は、前記繰り返し測定毎に構築された画像に使用した全てのX線強度の標準偏差であることを特徴とする。 The invention according to claim 8 is characterized in that the fluctuation of the intensity distribution is a standard deviation of all the X-ray intensities used for the image constructed for each repeated measurement.
また請求項9に記載の発明は、電子線を試料に照射して該試料から発生する特性X線を分光検出することにより該試料の分析を行なうエネルギー分散型X線分光器を装着したX線分析装置であって、
電子線の試料照射位置を2次元的に制御して該試料から発生した特性X線を検出する検出手段と、
前記検出手段により検出された特性X線のエネルギーを分析する分析手段と、
前記分析手段で検出されたエネルギーのX線信号データの生成及び特性X線の測定経過時間情報データの生成及び前記電子線の位置情報データの生成を行なうデータ処理手段と、
前記データ処理手段により生成された各データを時系列的に組み合わせた時系列データとして記憶装置に格納するデータ格納手段と、
格納された前記測定経過時間の指定された測定経過時間範囲及び/又は前記位置情報データの指定された位置情報範囲に含まれるX線信号データを前記時系列データから抽出する抽出手段とを有するX線分析装置において、
前記抽出手段によって抽出された前記X線信号データの全て又は一部のデータの時間経過に伴う変動を検出する変動検出手段を備え、
前記変動検出手段により検出されたデータの変動に基づいて試料への電子線照射を停止するようにしたことを特徴とする。
The invention described in claim 9 is an X-ray equipped with an energy dispersive X-ray spectrometer that analyzes the sample by irradiating the sample with an electron beam and spectrally detecting characteristic X-rays generated from the sample. An analyzer,
Detection means for two-dimensionally controlling the electron beam sample irradiation position to detect characteristic X-rays generated from the sample;
Analyzing means for analyzing energy of characteristic X-rays detected by the detecting means;
Data processing means for generating X-ray signal data of energy detected by the analyzing means, generating measurement elapsed time information data of characteristic X-rays, and generating position information data of the electron beam;
Data storage means for storing the data generated by the data processing means in a storage device as time-series data in a time-series combination;
X having extraction means for extracting X-ray signal data included in the specified measurement elapsed time range of the stored measurement elapsed time and / or the specified position information range of the position information data from the time series data In the line analyzer,
Fluctuation detecting means for detecting fluctuations with time of all or part of the X-ray signal data extracted by the extracting means,
The electron beam irradiation to the sample is stopped based on the fluctuation of the data detected by the fluctuation detecting means.
本発明によれば、
任意に指定された一定の時間間隔及び/又は一定の位置間隔の範囲に含まれるX線信号データを時系列データから抽出し、抽出された前記X線信号データの全て又は一部のデータの時間経過に伴う変動を検出する変動検出工程を備え、
前記変動検出工程において検出されたデータの変動に基づいて試料への電子線照射を停止するようにしたので、試料が電子線照射により損傷を受ける前に測定を自動的に停止させることができる。
According to the present invention,
X-ray signal data included in a range of arbitrarily specified fixed time intervals and / or fixed position intervals is extracted from time-series data, and the time of all or part of the extracted X-ray signal data is extracted. It has a fluctuation detection process that detects fluctuations with progress,
Since the electron beam irradiation to the sample is stopped based on the fluctuation of the data detected in the variation detection step, the measurement can be automatically stopped before the sample is damaged by the electron beam irradiation.
また、任意に指定された一定の時間間隔及び/又は一定の位置間隔の範囲に含まれるX線信号データを時系列データから抽出し、抽出された前記X線信号データの全て又は一部のデータの時間経過に伴う変動を検出する変動検出手段を備え、
前記変動検出手段により検出されたデータの変動に基づいて試料への電子線照射を停止するようにしたので、試料が電子線照射により損傷を受ける前に測定を自動的に停止させることのできるX線分析装置を提供できる。
Further, X-ray signal data included in a range of an arbitrarily specified constant time interval and / or a fixed position interval is extracted from time-series data, and all or a part of the extracted X-ray signal data is extracted. It is provided with a fluctuation detecting means for detecting fluctuation with the passage of time,
Since the electron beam irradiation to the sample is stopped based on the fluctuation of the data detected by the fluctuation detecting means, the measurement can be automatically stopped before the sample is damaged by the electron beam irradiation. A line analyzer can be provided.
以下図面を参照しながら、本発明の実施の形態について説明する。但し、この例示によって本発明の技術範囲が制限されるものでは無い。各図において、同一または類似の動作を行なうものには共通の符号を付し、詳しい説明の重複を避ける。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the technical scope of the present invention is not limited by this illustration. In each figure, the same reference numerals are given to those performing the same or similar operations, and detailed description is not repeated.
図1は本発明を実施するSEMの概略構成例を示す図である。鏡筒10の内部には、電子線12を発生する電子銃11、電子線12を細く絞る集束レンズ13と対物レンズ15、電子線12偏向する偏向器14からなる電子光学系が配置されている。電子光学系制御部16は電子銃11に印加される加速電圧、集束レンズ13と対物レンズ15の励磁電流、偏向器14の印加電圧などの制御を行なう。電子線12が試料21を照射する位置は偏向器14の印加電圧により決まる。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration example of an SEM implementing the present invention. An electron optical system including an
試料室20の内部には、試料21を移動するための試料ステージ22、電子線照射によって試料から発生する電子(二次電子、反射電子等)検出するための電子検出器23及びX線を検出するためのエネルギー分散型のX線検出器24が配置されている。
Inside the
25はX線検出器24により検出されたX線信号のパルス波高値に基づいてマルチチャンネルアナライザによりエネルギー値を解析し対応するチャンネルを割り当てるためのX線信号処理部である。26は試料21を移動して電子線12の照射位置を変えるための試料ステージ制御部である。27は電子検出器23で検出した電子信号強度をデジタル信号としてコンピュータ31に送るための電子信号処理部である。電子信号処理部27からの電子信号強度データは、
偏向器14により決められた電子線12の照射位置と関連付けられてコンピュータ31に送られる。
It is sent to the
電子光学系制御部16、X線信号処理部25、試料ステージ制御部26、電子信号処理部27はバス30を介してコンピュータ31に接続されている。コンピュータ31には電子線画像、X線画像、操作画面等を表示する液晶ディスプレイ等の表示部32、マウスやキーボード等の入力部33、分析データを格納するハードディスク等の記憶部34がバス30を介して接続されている。
The electron optical
鏡筒10内の電子線12の通路や試料室20の内部は、図示しない真空排気ポンプにより10−3Pa程度の真空が保たれるようになっている。なお、実際の装置では上記した以外にも、電子線シャッタ、絞り、非点収差補正コイル等が配置されているが説明を省略している。
The passage of the
次に本発明を実行するために用いられる分析データの構造について説明する。本発明においては、電子線12の照射位置を変えるための偏向器14を電子光学系制御部16により制御し、試料21の所定の座標位置に電子線12を照射する。電子線照射により発生したX線をX線検出器24で検出してX線信号処理部25でX線信号に変換し、二次電子等を電子検出器23で検出して電子信号処理部27で電子信号に変換する。これらの信号のデータを測定の経過時間情報、座標位置とともに時系列的に組み合わせた時系列データとして記憶部34に格納する。
Next, the structure of analysis data used for carrying out the present invention will be described. In the present invention, the
なお、X線信号の取得とともに電子信号を取得することはX線分析にとって必須ではない。しかし、電子信号により形成される画像は、分析場所を知る上で重要な知見をもたらすため、X線信号と同時に取り込むことは大きなメリットがある。 It is not essential for X-ray analysis to acquire an electronic signal together with acquisition of an X-ray signal. However, since the image formed by the electronic signal brings important knowledge for knowing the analysis location, it is greatly advantageous to capture it simultaneously with the X-ray signal.
記憶部34に格納される時系列データの構造は、例えば位置情報データをP、X線信号データをD、電子検出器からの電子信号データをI、経過時間情報データをTとすると、
P,I,D,D,D,D,T,D,・・・,D,P,I,D,D・・・T,D,D・・・D,P,I,D,・・・,D,D,T,D,D,・・・のように表される。このデータ列は、それぞれのデータを紙面左側から右側に向かって測定経過時間軸に沿って直列に並べた時系列データとなっている。
The structure of the time-series data stored in the
P, I, D, D, D, D, T, D, ..., D, P, I, D, D ... T, D, D ... D, P, I, D, ...・ It is expressed as D, D, T, D, D,. This data string is time-series data in which the respective data are arranged in series along the measurement elapsed time axis from the left side to the right side of the page.
位置情報(P)は、試料上の分析位置を表す座標値で、電子線に直角なX,Y軸、電子線に平行なZ軸、試料傾斜のT軸、試料回転のR軸などの一部若しくは全てのデータを意味する。 The position information (P) is a coordinate value representing the analysis position on the sample, and is one of the X and Y axes perpendicular to the electron beam, the Z axis parallel to the electron beam, the T axis of the sample tilt, the R axis of the sample rotation, and the like. Part or all data.
X線信号(D)は、X線検出器24に入射するX線量子のひとつひとつを解析したエネルギー値(又は対応するチャンネル)のデータを表しており、例えば13bit程度の深さを持つことが望ましい。
The X-ray signal (D) represents energy value data (or a corresponding channel) obtained by analyzing each X-ray quantum incident on the
電子信号(I)は、1つ以上の電子信号(二次電子、反射電子、透過電子等)のデータを意味する。 The electronic signal (I) means data of one or more electronic signals (secondary electrons, reflected electrons, transmitted electrons, etc.).
経過時間情報(T)は、実経過時間(Real Time)又は有効時間(Live Time)の一部又は全てを意味するデータである。ここで、実経過時間とは測定開始から実際に経過した時間であり、有効時間とはEDSの不感時間(Dead Time)を除いた正味の測定時間である。 The elapsed time information (T) is data indicating a part or all of the actual elapsed time (Real Time) or the effective time (Live Time). Here, the actual elapsed time is the time actually elapsed from the start of measurement, and the effective time is the net measurement time excluding the EDS dead time.
なお、本発明におけるデータ構造は各種のデータを個々に積み重ねて順番に格納していくように作られているので、上記以外の例えば試料吸収電流、カソードルミネッセンスといった信号データを追加することも可能である。
(実施の形態1)
図2は、測定開始から所望の経過時間aから所望の時間bが経過した間に含まれるX線信号(D)データを記憶部34に格納された時系列データから抽出する方法を説明するための図である。図2(a)において、経過時間aのデータを持つ経過時間情報をTa、経過時間情報Taから時間bが経過したときの経過時間情報をTa+bで表すと、TaとTa+bとの間に含まれるX線信号(D)データを全て抽出すれば、ある時間内に収集されたX線のスペクトルを得ることが出来る。経過時間a及び時間範囲bは、データ列に測定時の経過時間情報Tを入れる最小時間間隔をtminとすればtminの倍数で任意に指定できる。
Since the data structure in the present invention is created so that various data are individually stacked and stored in order, it is possible to add signal data such as sample absorption current and cathode luminescence other than the above. is there.
(Embodiment 1)
FIG. 2 is a diagram for explaining a method of extracting X-ray signal (D) data included during a lapse of a desired time b from a desired elapsed time a from the start of measurement from time-series data stored in the
格納されているデータから抽出したX線信号(D)データにより得られたX線スペクトルの例を図3に示す。図3において、横軸はX線のエネルギーを表し、マルチチャンネルアナライザの0.01KeV間隔に区切られた各チャンネルに対応している。縦軸はX線信号(D)の個数をチャンネル毎に積算した値である。この積算値は通常X線強度と呼称される。 An example of the X-ray spectrum obtained from the X-ray signal (D) data extracted from the stored data is shown in FIG. In FIG. 3, the horizontal axis represents the energy of X-rays, and corresponds to each channel divided by 0.01 KeV intervals of the multichannel analyzer. The vertical axis represents the value obtained by integrating the number of X-ray signals (D) for each channel. This integrated value is usually called X-ray intensity.
ROI(Region of Interest)は、所望のエネルギーを持つX線信号のみを選択するために設けられたエネルギー範囲を意味している。ROIの範囲は操作者が任意に設定できるが、操作者が元素を指定すると適当な範囲を自動的に設定する機能を備える装置もある。 ROI (Region of Interest) means an energy range provided for selecting only an X-ray signal having a desired energy. The ROI range can be arbitrarily set by the operator, but there is also a device having a function of automatically setting an appropriate range when the operator designates an element.
図3では、シリコン(Si−Kα)とカルシウム(Ca−Kα、Ca−Kβ)の特性X線を含むようにそれぞれROI(Si)とROI(Ca)を設定している。ROI(Ca)の設定範囲をCa−Kαのみが含まれるように設定しても良い。 In FIG. 3, ROI (Si) and ROI (Ca) are set so as to include characteristic X-rays of silicon (Si-Kα) and calcium (Ca-Kα, Ca-Kβ), respectively. The setting range of ROI (Ca) may be set so that only Ca-Kα is included.
表1にX線エネルギーとD値とチャンネルの関係を示す。ROI(Si)は1.6KeV〜1.9KeV、ROI(Ca)は3.55KeV〜4.15KeVの範囲に設定されている。TaとTa+bとの間に含まれるX線信号(D)データの全ての個数を積算すれば、スペクトル全体のX線強度を知ることが出来る。また、ROI(Si)、ROI(Ca)の間の値を持つDの個数を積算すれば、SiとCaのX線強度を別々に知ることができる。 Table 1 shows the relationship among X-ray energy, D value and channel. ROI (Si) is set in the range of 1.6 KeV to 1.9 KeV, and ROI (Ca) is set in the range of 3.55 KeV to 4.15 KeV. By integrating all the numbers of X-ray signal (D) data included between Ta and Ta + b, the X-ray intensity of the entire spectrum can be known. Moreover, if the number of D having a value between ROI (Si) and ROI (Ca) is integrated, the X-ray intensities of Si and Ca can be known separately.
なお、表1においては、D値がチャンネル番号に対応するようにX線のエネルギーをD値に変換しているが、これに限るわけではない。例えば、X線エネルギーを1eV単位で格納(1.6KeVのX線は「D=1600」)しておき、データを抽出してスペクトルを得るときにチャンネルのエネルギー幅に合わせて変換しても良い。 In Table 1, the X-ray energy is converted into the D value so that the D value corresponds to the channel number, but the present invention is not limited to this. For example, X-ray energy may be stored in units of 1 eV (1.6 KeV X-ray is “D = 1600”), and data may be extracted and converted according to the energy width of the channel when obtaining a spectrum. .
図2(b)は、格納されているデータ列から経過時間情報を読み取り、任意の時間間隔でX線信号(D)データを抽出して、時系列的にX線スペクトルを得る場合を示している。図2(b)において、経過時間情報Ta+2b及びTa+nbは、経過時間aからそれぞれbの2倍及びbのn倍の時間が経過した時の経過時間データを持つTを意味している。 FIG. 2B shows a case where the elapsed time information is read from the stored data string, the X-ray signal (D) data is extracted at arbitrary time intervals, and the X-ray spectrum is obtained in time series. Yes. In FIG. 2 (b), the elapsed time information Ta + 2b and Ta + nb means T having elapsed time data when the times of 2 times b and n times b have elapsed from the elapsed time a, respectively. Yes.
次に、上記のようにして時系列的に得られるX線スペクトルを用いて、分析中に装置や試料に問題が生じていないかをモニタする方法について説明する。 Next, a method for monitoring whether there is a problem in the apparatus or the sample during analysis using the X-ray spectrum obtained in time series as described above will be described.
分析中にはいろいろな要因で測定データに異常が発生することがある。例えば、電子銃のフィラメントが切れそうになって輝度が大幅に変動することがある。また、電子線照射により試料が熱損傷を受けて変形したり、組成変化を起こすことがある。測定時に異常が発生したとき、測定を続けることは時間が無駄なばかりでなく、特に試料損傷が発生した場合は、速やかに電子線照射を停止する必要がある。 During analysis, abnormalities may occur in measurement data due to various factors. For example, the brightness of the electron gun filament may fluctuate due to the filament breaking. In addition, the sample may be deformed due to heat damage due to electron beam irradiation, or the composition may change. When an abnormality occurs during measurement, not only is it time consuming to continue the measurement, but particularly when the sample is damaged, it is necessary to quickly stop the electron beam irradiation.
図4は、図2(b)に示すような方法で測定開始から一定の時間間隔で抽出したX線信号により作成したX線スペクトルを用いて、全体又は任意に指定したエネルギー範囲のX線強度の変動をプロットしたグラフである。横軸は経過時間、縦軸は一定の時間間隔内に含まれるX線信号(D)の積算値を表す。例えば、電子線照射により試料表面が窪むと、試料表面から放出されるX線が余分な吸収を受けて減少することがある。その場合は、X線スペクトル全体のX線強度変化をモニタすることにより、試料損傷の進行度合いを知ることができる。図4に示すようなグラフを測定中にリアルタイムで表示させれば、変動の様子を操作者が確認して、測定を中止(電子線照射を停止)することができる。或いは、予め閾値を設定(図2のグラフでは開始時の95%)しておいて、X線強度が閾値に達したら測定を自動的に中止するようにしても良い。 FIG. 4 shows the X-ray intensity in the whole or arbitrarily specified energy range using the X-ray spectrum created by the X-ray signal extracted at a certain time interval from the start of measurement by the method shown in FIG. It is the graph which plotted the fluctuation | variation of. The horizontal axis represents the elapsed time, and the vertical axis represents the integrated value of the X-ray signal (D) included in a certain time interval. For example, when the sample surface is depressed by electron beam irradiation, X-rays emitted from the sample surface may be reduced due to excessive absorption. In that case, the progress of the sample damage can be known by monitoring the change in the X-ray intensity of the entire X-ray spectrum. If a graph as shown in FIG. 4 is displayed in real time during measurement, the operator can confirm the state of fluctuation and stop the measurement (stop the electron beam irradiation). Alternatively, a threshold value may be set in advance (95% of the start in the graph of FIG. 2), and the measurement may be automatically stopped when the X-ray intensity reaches the threshold value.
前述したように、ソーダガラスなどに含まれるナトリウム(Na),カリウム(K)などのアルカリ元素は特に電子線照射に弱いため、図3に示すようなROIをNa,Kに合わせて設定し、これらの元素のX線強度変化をモニタするようにしても良い。 As described above, since alkali elements such as sodium (Na) and potassium (K) contained in soda glass are particularly vulnerable to electron beam irradiation, ROI as shown in FIG. You may make it monitor the X-ray intensity change of these elements.
さらに、測定終了後にX線強度の変動の状況を確認して、分析に使用可能な範囲のデータのみを取り出すようにしても良い。 Furthermore, after the measurement is completed, the state of fluctuation of the X-ray intensity may be confirmed, and only data in a range usable for analysis may be extracted.
(実施の形態2)
従来から、任意の線状若しくは帯状に電子線と試料を相対移動し、試料から得られる各種信号の強度変化のプロファイルを描く分析手法がある(以下の説明では、これを「線分析」と称す)。電子線と試料との相対移動は、偏向器14又は試料ステージ22又はこれら両方を使用して行われる。
(Embodiment 2)
Conventionally, there has been an analysis method in which an electron beam and a sample are moved relative to each other in an arbitrary line shape or strip shape, and profiles of intensity changes of various signals obtained from the sample are drawn (in the following explanation, this is referred to as “line analysis”). ). The relative movement between the electron beam and the sample is performed using the
図5は、試料上に設定された区画(Section)を試料位置情報の単位として線分析を行なう場合を説明するための図である。電子線による試料照射は区画P1から開始され、Peで終了する。図6は、本発明による線分析データの格納と抽出方法を示す図である。図6(a)において、P1とPeはそれぞれライン上の先頭と終わりの位置情報を持つデータであることを示している。位置情報(P)に挟まれるX線信号(D)を抽出すれば、ライン上の任意の区間について、指定する元素のX線強度変化をプロファイルとして得ることが出来る。 FIG. 5 is a diagram for explaining a case where line analysis is performed using a section set on a sample as a unit of sample position information. Sample irradiation with an electron beam starts from the section P1 and ends at Pe. FIG. 6 is a diagram showing a method for storing and extracting line analysis data according to the present invention. In FIG. 6A, P1 and Pe indicate data having position information on the beginning and end on the line, respectively. By extracting the X-ray signal (D) sandwiched between the position information (P), the X-ray intensity change of the specified element can be obtained as a profile for an arbitrary section on the line.
図6(b)は、ライン上を繰り返して測定したときの測定データを抽出する方法を示している。繰り返しの回数は、ラインエンドの位置情報Peをカウントすることにより知ることが出来る。ライン毎にX線強度積算を行ないながらLine_1から順にX線信号(D)の積算を行ない、図4に示すようなグラフを作成すれば、試料が熱損傷を受けたような場合でも、測定データの異常をいち早く発見し、電子線照射の停止等の操作を行なうことが可能である。 FIG. 6B shows a method of extracting measurement data when repeatedly measuring on the line. The number of repetitions can be determined by counting the line end position information Pe. If X-ray signal (D) is integrated in order from Line_1 while performing X-ray intensity integration for each line, and a graph as shown in FIG. 4 is created, measurement data can be obtained even when the sample is thermally damaged. It is possible to quickly detect such abnormalities and to perform operations such as stopping electron beam irradiation.
なお、線分析により取得されたデータでも、測定経過時間情報をデータ列に加えておくことにより、位置情報とは独立して若しくは位置情報と関連付けて任意の時間範囲の測定データを抽出することが可能である。 Even for data acquired by line analysis, measurement data in an arbitrary time range can be extracted independently of position information or in association with position information by adding measurement elapsed time information to the data string. Is possible.
(実施の形態3)
従来から、任意の領域で二次元的に電子線と試料を相対移動し、試料から得られるX線強度変化をカラー等の画像で表示する分析手法がある(以下の説明では、これを「面分析」と称す)。電子線と試料との相対移動は、偏向器14又は試料ステージ22又はこれら両方を同時に使用して行われる。
(Embodiment 3)
Conventionally, there is an analysis method in which an electron beam and a sample are relatively moved two-dimensionally in an arbitrary region, and an X-ray intensity change obtained from the sample is displayed as a color image or the like (in the following explanation, this is referred to as “surface”). Analysis "). The relative movement between the electron beam and the sample is performed using the
図7は、試料上に設定された区画(Section)を試料位置情報の単位として面分析を行なう場合を説明するための図である。電子線による試料照射は区画P11から開始され、Pxyで終了する。 FIG. 7 is a diagram for explaining a case where surface analysis is performed using a section set on a sample as a unit of sample position information. Sample irradiation with an electron beam starts from the section P11 and ends at Pxy.
図8は、本発明による面分析データの格納と抽出方法を示す図である。図8(a)において、P11とPxyはそれぞれ面分析領域の先頭と終わりの位置情報を持つデータを意味している。図8(a)に示すデータ列は、電子線と試料との相対移動が、先ず紙面左上から始まって右方向に線状に移動して行なわれ、順次下方に1段下がって紙面左から再び線状に移動するように行なわれた場合に格納されるデータ例である。 FIG. 8 is a diagram showing a method for storing and extracting surface analysis data according to the present invention. In FIG. 8A, P11 and Pxy mean data having position information at the beginning and end of the surface analysis area, respectively. In the data string shown in FIG. 8 (a), the relative movement between the electron beam and the sample starts from the upper left side of the paper and moves linearly in the right direction. It is an example of data stored when it is performed so that it may move linearly.
位置情報(P)に挟まれるX線信号(D)を抽出し積算すれば、面分析領域内に含まれる任意の区画について、指定する元素のX線強度を得ることが出来る。従って面分析領域のX線強度の変動を例えばカラー等の分布像として得ることが出来る。例えば、先頭と終わりの位置情報がそれぞれP27とP39であるブロック(Block)、先頭と終わりの位置情報がそれぞれP61とP612であるライン(Line)の変動を知りたければ、図8(a)に示すように範囲を指定することにより注目する領域を抽出することが出来る。このとき必要な元素についてROIを設定しておけば、各々の元素の分布像を得ることが出来る。 If the X-ray signal (D) sandwiched between the position information (P) is extracted and integrated, the X-ray intensity of the specified element can be obtained for any section included in the surface analysis region. Therefore, the variation in the X-ray intensity in the surface analysis region can be obtained as a distribution image such as a color. For example, if you want to know the fluctuations in the block (Block) whose head and end position information is P27 and P39, respectively, and the line (Line) whose head and end position information is P61 and P612, respectively, see FIG. As shown, a region of interest can be extracted by specifying a range. If an ROI is set for a necessary element at this time, a distribution image of each element can be obtained.
図8(b)は、面分析領域を繰り返して測定したときの測定データからフレーム(Frame)毎のデータを抽出する方法を示している。P11からPxyまでのデータをFrame_1とし、Pxyが表れる毎に各Frameのデータを抽出すればよい。繰り返しの回数は、面分析領域の終わりの位置情報Pxyをカウントすれば知ることが出来る。 FIG. 8B shows a method of extracting data for each frame from the measurement data when the surface analysis region is repeatedly measured. Data from P11 to Pxy may be Frame_1, and each frame data may be extracted every time Pxy appears. The number of repetitions can be known by counting the position information Pxy at the end of the surface analysis area.
図9は、同じ面分析領域で測定を繰り返したデータから、図8(b)に示すような方法で抽出されたX線信号(D)に基づいて得られた画像である。各フレームの先頭と終わりの位置情報に挟まれる全X線信号(D)もしくは特定の元素に設定されたROIに含まれるX線信号(D)の積算値を抽出すれば、X線強度の分布像を得ることができる。 FIG. 9 is an image obtained based on the X-ray signal (D) extracted by the method shown in FIG. 8B from data obtained by repeating measurement in the same surface analysis region. If an integrated value of all X-ray signals (D) sandwiched between position information at the beginning and end of each frame or an X-ray signal (D) included in the ROI set for a specific element is extracted, the distribution of X-ray intensity An image can be obtained.
フレーム毎に面分析を繰り返しながら、Frame_1から順にX線信号(D)の抽出を行ない、図4に示すようなグラフを作成すれば、試料が熱損傷を受けたような場合でも、測定データの異常をいち早く発見し、電子線照射の停止等の操作を行なうことができる。 Extracting the X-ray signal (D) in order from Frame_1 while repeating the surface analysis for each frame, and creating a graph as shown in FIG. 4, even if the sample is damaged by heat, Abnormalities can be detected quickly, and operations such as stopping electron beam irradiation can be performed.
なお、面分析により取得されたデータの場合でも、測定経過時間情報をデータ列に加えておくことにより、位置情報とは独立して若しくは位置情報と関連付けて任意の時間範囲の測定データを抽出することができる。 Even in the case of data acquired by surface analysis, by adding measurement elapsed time information to a data string, measurement data in an arbitrary time range is extracted independently of position information or in association with position information. be able to.
(実施の形態4)
図9において、注目するセクションAm又はAmを含むブロックのX線強度の変動をモニタすることにより、測定データの異常を検出することが可能である。図10は、注目するセクションAmを含むブロックの変動Cを求め、変動Cの分布図を表示した例である。Frame_nまではAmを含むブロックに何も表示されていないが、Frame_n+1には変動Cが表示されている。すなわち、Frame_n+1の測定中にAmを含むブロックに含まれるデータの変動Cが一定の大きさを超えたことを意味している。
(Embodiment 4)
In FIG. 9, it is possible to detect an abnormality in the measurement data by monitoring the fluctuation of the X-ray intensity of the block including the section Am or Am of interest. FIG. 10 is an example in which the variation C of the block including the section Am of interest is obtained and the distribution diagram of the variation C is displayed. Nothing is displayed in the block including Am until Frame_n, but the variation C is displayed in
変動Cとして、例えば、Frame_iのAmを含むブロックの積算値をfiとすると、下式(1)で算出されるFrame_nまでの平均値との偏差をとることができる。 As the variation C, for example, if the integrated value of a block including Am of Frame_i is fi, a deviation from the average value up to Frame_n calculated by the following equation (1) can be taken.
また例えば、下式(2)で算出されるようなFrame_nまでの標準偏差を表示しても良い。 Further, for example, a standard deviation up to Frame_n as calculated by the following expression (2) may be displayed.
上記の説明において、格納されているデータから任意の時間間隔若しくは位置間隔で抽出するデータはX線信号(D)としているが、電子情報(I)であっても、又はカソードルミネッセンス等の他のデータであっても良い。 In the above description, the data extracted from the stored data at an arbitrary time interval or position interval is the X-ray signal (D). However, even the electronic information (I) or other such as cathodoluminescence It may be data.
以上述べたように、本発明によれば、測定開始から一定の時間間隔で抽出したX線信号により作成したX線スペクトルを用いて、全体又は任意に指定したエネルギー範囲のX線強度の変化をモニタすることにより、試料が電子線照射により損傷を受ける前に測定を停止させることができる。
As described above, according to the present invention, by using an X-ray spectrum created from an X-ray signal extracted at a certain time interval from the start of measurement, a change in the X-ray intensity in the whole or arbitrarily designated energy range can be detected. By monitoring, the measurement can be stopped before the sample is damaged by the electron beam irradiation.
(同一または類似の動作を行なうものには共通の符号を付す。)
10…鏡筒
11…電子銃
12…電子線
13…集束レンズ
14…偏向器
15…対物レンズ
16…電子銃制御部
17…電子光学系制御部
20…試料室
21…試料
22…試料ステージ
23…電子検出器
24…X線検出器
25…X線信号処理部
26…試料ステージ制御部
27…電子信号処理部
30…バス
31…コンピュータ
32…表示部
33…入力部
34…記憶部
(Common reference numerals are used for the same or similar operations.)
DESCRIPTION OF
Claims (9)
電子線の試料照射位置を2次元的に制御して該試料から発生した特性X線を検出する検出工程と、
前記検出工程により検出された特性X線のエネルギーを分析する分析工程と、
前記分析工程で検出されたエネルギーのX線信号データの生成及び特性X線の測定経過時間情報データの生成及び前記電子線の位置情報データの生成を行なうデータ処理工程と、
前記データ処理工程により生成された各データを時系列的に組み合わせた時系列データとして記憶装置に格納するデータ格納工程と、
格納された前記測定経過時間の指定された測定経過時間範囲及び/又は前記位置情報データの指定された位置情報範囲に含まれるX線信号データを前記時系列データから抽出する抽出工程とを有するX線分析方法において、
前記抽出工程によって抽出された前記X線信号データの全て又は一部のデータの時間経過に伴う変動を検出する変動検出工程を備え、
前記変動検出工程において検出されたデータの変動に基づいて試料への電子線照射を停止するようにしたことを特徴とするX線分析方法。 An X-ray analysis method for analyzing a sample by irradiating a sample with an electron beam and detecting characteristic X-rays generated from the sample with an energy dispersive X-ray spectrometer,
A detection step of detecting characteristic X-rays generated from the sample by two-dimensionally controlling the sample irradiation position of the electron beam;
An analysis step of analyzing the energy of the characteristic X-ray detected by the detection step;
A data processing step for generating X-ray signal data of energy detected in the analysis step, generating characteristic X-ray measurement elapsed time information data, and generating position information data of the electron beam;
A data storage step of storing in a storage device as time-series data in which each data generated by the data processing step is combined in time series;
An extraction step for extracting X-ray signal data included in the specified measurement elapsed time range of the stored measurement elapsed time and / or the specified position information range of the position information data from the time-series data. In the line analysis method,
A fluctuation detecting step of detecting fluctuations with time of all or part of the X-ray signal data extracted by the extracting step;
An X-ray analysis method characterized in that irradiation of an electron beam to a sample is stopped based on a variation in data detected in the variation detection step.
前記繰り返し測定された前記X線信号データの前記繰り返し測定回数の増加に伴う変動に基づいて試料への電子線照射を停止するようにしたことを特徴とする請求項1に記載のX線分析方法。 Extracting X-ray signal data repeatedly measured in the region determined by the fixed position interval from the storage device;
2. The X-ray analysis method according to claim 1, wherein irradiation of the electron beam to the sample is stopped based on a variation accompanying an increase in the number of times of the repeated measurement of the X-ray signal data measured repeatedly. .
電子線の試料照射位置を2次元的に制御して該試料から発生した特性X線を検出する検出手段と、
前記検出手段により検出された特性X線のエネルギーを分析する分析手段と、
前記分析手段で検出されたエネルギーのX線信号データの生成及び特性X線の測定経過時間情報データの生成及び前記電子線の位置情報データの生成を行なうデータ処理手段と、
前記データ処理手段により生成された各データを時系列的に組み合わせた時系列データとして記憶装置に格納するデータ格納手段と、
格納された前記測定経過時間の指定された測定経過時間範囲及び/又は前記位置情報データの指定された位置情報範囲に含まれるX線信号データを前記時系列データから抽出する抽出手段とを有するX線分析装置において、
前記抽出手段によって抽出された前記X線信号データの全て又は一部のデータの時間経過に伴う変動を検出する変動検出手段を備え、
前記変動検出手段により検出されたデータの変動に基づいて試料への電子線照射を停止するようにしたことを特徴とするX線分析装置。 An X-ray analyzer equipped with an energy dispersive X-ray spectrometer that analyzes a sample by irradiating the sample with an electron beam and spectrally detecting characteristic X-rays generated from the sample,
Detection means for two-dimensionally controlling the electron beam sample irradiation position to detect characteristic X-rays generated from the sample;
Analyzing means for analyzing energy of characteristic X-rays detected by the detecting means;
Data processing means for generating X-ray signal data of energy detected by the analyzing means, generating measurement elapsed time information data of characteristic X-rays, and generating position information data of the electron beam;
Data storage means for storing the data generated by the data processing means in a storage device as time-series data in a time-series combination;
X having extraction means for extracting X-ray signal data included in the specified measurement elapsed time range of the stored measurement elapsed time and / or the specified position information range of the position information data from the time series data In the line analyzer,
Fluctuation detecting means for detecting fluctuations with time of all or part of the X-ray signal data extracted by the extracting means,
An X-ray analyzer characterized in that the electron beam irradiation to the sample is stopped based on the fluctuation of the data detected by the fluctuation detecting means.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009007278A JP5425482B2 (en) | 2009-01-16 | 2009-01-16 | Analysis method and X-ray analyzer using energy dispersive X-ray spectrometer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010164442A true JP2010164442A (en) | 2010-07-29 |
JP5425482B2 JP5425482B2 (en) | 2014-02-26 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009007278A Active JP5425482B2 (en) | 2009-01-16 | 2009-01-16 | Analysis method and X-ray analyzer using energy dispersive X-ray spectrometer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5425482B2 (en) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CZ303228B6 (en) * | 2011-03-23 | 2012-06-06 | Tescan A.S. | Method of analyzing material by a focused electron beam by making use of characteristic X-ray radiation and knocked-on electrons and apparatus for making the same |
CN102955164A (en) * | 2011-08-09 | 2013-03-06 | 西门子公司 | Method for homogenization of threshold levels of multichannel quantum counting radiation detector |
WO2013084905A1 (en) * | 2011-12-09 | 2013-06-13 | 株式会社堀場製作所 | X-ray analysis device |
WO2013084904A1 (en) * | 2011-12-09 | 2013-06-13 | 株式会社堀場製作所 | X-ray analysis device |
JP2014513804A (en) * | 2011-05-17 | 2014-06-05 | ザッチ システム エス.ピー.エー. | Method for detecting polymorphs using synchrotron radiation |
EP3627530A1 (en) | 2018-09-19 | 2020-03-25 | Jeol Ltd. | Primary beam scanning apparatus and signal processing method |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5970948A (en) * | 1982-10-15 | 1984-04-21 | Jeol Ltd | Observation of change of electron beam damage with elapse of time |
JP2000214111A (en) * | 1999-01-21 | 2000-08-04 | Jeol Ltd | Electronic probe microanalyzer |
JP2003254920A (en) * | 2002-03-07 | 2003-09-10 | Toshiba Corp | X-ray analytical method and x-ray analytical system using the same |
JP2007178445A (en) * | 2007-03-05 | 2007-07-12 | Jeol Ltd | Quantitative analysis method in sample analyzer |
JP2009047450A (en) * | 2007-08-14 | 2009-03-05 | Jeol Ltd | Sample analyzing method and sample analyzer |
-
2009
- 2009-01-16 JP JP2009007278A patent/JP5425482B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5970948A (en) * | 1982-10-15 | 1984-04-21 | Jeol Ltd | Observation of change of electron beam damage with elapse of time |
JP2000214111A (en) * | 1999-01-21 | 2000-08-04 | Jeol Ltd | Electronic probe microanalyzer |
JP2003254920A (en) * | 2002-03-07 | 2003-09-10 | Toshiba Corp | X-ray analytical method and x-ray analytical system using the same |
JP2007178445A (en) * | 2007-03-05 | 2007-07-12 | Jeol Ltd | Quantitative analysis method in sample analyzer |
JP2009047450A (en) * | 2007-08-14 | 2009-03-05 | Jeol Ltd | Sample analyzing method and sample analyzer |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CZ303228B6 (en) * | 2011-03-23 | 2012-06-06 | Tescan A.S. | Method of analyzing material by a focused electron beam by making use of characteristic X-ray radiation and knocked-on electrons and apparatus for making the same |
JP2014513804A (en) * | 2011-05-17 | 2014-06-05 | ザッチ システム エス.ピー.エー. | Method for detecting polymorphs using synchrotron radiation |
CN102955164A (en) * | 2011-08-09 | 2013-03-06 | 西门子公司 | Method for homogenization of threshold levels of multichannel quantum counting radiation detector |
JPWO2013084904A1 (en) * | 2011-12-09 | 2015-04-27 | 株式会社堀場製作所 | X-ray analyzer |
WO2013084904A1 (en) * | 2011-12-09 | 2013-06-13 | 株式会社堀場製作所 | X-ray analysis device |
JPWO2013084905A1 (en) * | 2011-12-09 | 2015-04-27 | 株式会社堀場製作所 | X-ray analyzer |
WO2013084905A1 (en) * | 2011-12-09 | 2013-06-13 | 株式会社堀場製作所 | X-ray analysis device |
EP2790015A4 (en) * | 2011-12-09 | 2015-07-15 | Horiba Ltd | X-ray analysis device |
EP2790016A4 (en) * | 2011-12-09 | 2015-08-05 | Horiba Ltd | X-ray analysis device |
US9170220B2 (en) | 2011-12-09 | 2015-10-27 | Horiba, Ltd | X-ray analyzer |
US9250201B2 (en) | 2011-12-09 | 2016-02-02 | Horiba, Ltd. | X-ray analyzer |
JP2017201313A (en) * | 2011-12-09 | 2017-11-09 | 株式会社堀場製作所 | X-ray analyzer |
EP3627530A1 (en) | 2018-09-19 | 2020-03-25 | Jeol Ltd. | Primary beam scanning apparatus and signal processing method |
US10923316B2 (en) | 2018-09-19 | 2021-02-16 | Jeol Ltd. | Primary beam scanning apparatus and signal processing method |
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