JP2010155219A

JP2010155219A - Spin coating apparatus

Info

Publication number: JP2010155219A
Application number: JP2008335488A
Authority: JP
Inventors: Takayo Kotani; 高代小谷; Hideki Kokuryo; 秀機國領
Original assignee: Yushin Precision Equipment Co Ltd; Yushin Seiki KK
Current assignee: Yushin Precision Equipment Co Ltd; Yushin Seiki KK
Priority date: 2008-12-27
Filing date: 2008-12-27
Publication date: 2010-07-15

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a spin coating apparatus which forms a coating film with high quality such as with uniform film thickness, without including foam and the like by the spin coating. <P>SOLUTION: The spin coating apparatus 1 is provided with a rotation part 2 which holds a disc substrate 5 having a central aperture 51 in an approximately horizontal state to rotatively drive and a nozzle part 3 which discharges a coating liquid d wherein the nozzle part 3 has a discharge mouth 31 to drop the coating liquid d to continual circles that are concentric with the central aperture 51 at the proximity of the central aperture 51 of the disc substrate 5. The discharge mouth 31 consists of a circular slit 32 or consists of many apertures 34 with a finely small diameter, which are formed annularly in an annexed state. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、中心孔を有するディスク基板に対する層形成プロセスにあたりスピンコート法により均一な膜厚の塗布膜を形成するためのスピンコート装置に関する。 The present invention relates to a spin coater for forming a coating film having a uniform thickness by a spin coat method in a layer forming process for a disk substrate having a central hole.

情報記録媒体として、ＣＤ（ＣｏｍｐａｃｔＤｉｓｃ）、ＤＶＤ（ＤｉｇｉｔａｌＶｅｒｓａｔｉｌｅＤｉｓｃ）等の光ディスクが広く利用されている。最近は、照射光として青色又は青紫色のレーザ光を用いることで、一層高密度で大容量の情報を記録可能としたＢＤ（Ｂｌｕｅ−ｌａｙＤｉｓｃ）が普及されつつある。 As information recording media, optical discs such as CD (Compact Disc) and DVD (Digital Versatile Disc) are widely used. Recently, a BD (Blue-ray Disc) capable of recording higher-density and large-capacity information by using blue or blue-violet laser light as irradiation light is becoming widespread.

ＢＤは、例えば、ディスク基板５上に、ベースコート層６１、ピットコート層６２、カバーコート層６３、ハードコート層６４等が積層された構造を有している（図４参照）。他の光ディスクも概ね同様の構造を有している。上記各層６１〜６４は、ディスク基板５の円形中心孔５１の周囲に環状に形成された凸状のスタックリング５２より外周側に積層形成される。これら各層６１〜６４を形成するには、スピンコート法やスパッタ法等が用いられる。 For example, the BD has a structure in which a base coat layer 61, a pit coat layer 62, a cover coat layer 63, a hard coat layer 64, and the like are laminated on the disk substrate 5 (see FIG. 4). Other optical discs have substantially the same structure. The layers 61 to 64 are stacked on the outer peripheral side of the convex stack ring 52 formed in an annular shape around the circular center hole 51 of the disk substrate 5. In order to form these layers 61 to 64, a spin coating method, a sputtering method, or the like is used.

例えば、上記ベースコート層６１等は、量産に最適なスピンコート法が用いられることがある。このスピンコート法を行うスピンコート装置は、図６、図７に示すように、ディスク基板５を略水平な状態で保持して回転駆動する回転部１０２と、塗布液ｄを点状に吐出する吐出口を有するノズル部１０３とを備えている。 For example, for the base coat layer 61 and the like, a spin coat method optimal for mass production may be used. As shown in FIGS. 6 and 7, the spin coater that performs this spin coat method discharges the coating liquid d in a dot-like manner and a rotating unit 102 that rotates and holds the disk substrate 5 in a substantially horizontal state. And a nozzle portion 103 having a discharge port.

そして、図６のスピンコート装置では、ディスク基板５を回転しながらディスク基板５上のスタックリング５２の外周にディスペンス液等の塗布液ｄを吐出して円形状に塗布し、次いで遠心力によりディスク基板５の表面に塗布液ｄを塗り広げて塗布膜を形成している（特許文献１）。また、図７のスピンコート装置では、ディスク基板５の中心孔５１にセンターカバー１０７を装着してこのセンターカバー１０７上の中心部に塗布液ｄを吐出し、遠心力によりディスク基板５の表面に塗布液ｄを塗り広げて塗布膜を形成することも行われている（特許文献２、特許文献３、特許文献４）。
特開２００５−１９３１４９号公報特開２００７−２２６８５９号公報特開２００４−９５１０８号公報特開２００３−５９１３１号公報 In the spin coater shown in FIG. 6, while the disk substrate 5 is rotated, a coating liquid d such as a dispensing liquid is discharged onto the outer periphery of the stack ring 52 on the disk substrate 5 and applied in a circular shape. The coating liquid d is spread on the surface of the substrate 5 to form a coating film (Patent Document 1). In the spin coater shown in FIG. 7, the center cover 107 is attached to the center hole 51 of the disk substrate 5, and the coating liquid d is discharged to the center of the center cover 107, and is applied to the surface of the disk substrate 5 by centrifugal force. A coating film is also formed by spreading the coating liquid d (Patent Document 2, Patent Document 3, and Patent Document 4).
JP 2005-193149 A JP 2007-226859 A JP 2004-95108 A JP 2003-59131 A

上述の特許文献１では、ノズル部１０３から塗布液ｄを吐出する時、ディスク基板５には中心孔５１やスタックリング５２が設けられているため、スタックリング５２の外周に塗布液ｄを吐出しディスク基板５を回転させて円形に塗布せざるを得ない。そのため、図８に示すように、ディスク基板５が１周して円形に塗布された塗布液ｄが重なったところ（ｋ）で液量が多くなり、塗布液ｄをディスク基板面上に一様に広げるには限界があり、塗布膜を高度に均一な膜厚に形成するのが困難であった。また、円形の塗布液ｄが重なることにより空気が塗布液ｄ中に取り込まれて塗布膜中に気泡が発生する問題もあった。 In Patent Document 1 described above, when the coating liquid d is discharged from the nozzle portion 103, the disk substrate 5 is provided with the center hole 51 and the stack ring 52, so the coating liquid d is discharged to the outer periphery of the stack ring 52. The disk substrate 5 must be rotated and applied in a circular shape. Therefore, as shown in FIG. 8, when the coating liquid d applied in a circle around the disk substrate 5 is overlapped, the amount of the liquid increases in (k), and the coating liquid d is evenly distributed on the disk substrate surface. Therefore, it is difficult to form a coating film with a highly uniform film thickness. There is also a problem that air is taken into the coating liquid d due to the overlap of the circular coating liquid d and bubbles are generated in the coating film.

上述の特許文献２−４では、塗布膜を均一な膜厚に形成するのは比較的に容易であるが、塗布液ｄがセンターカバー１０７からディスク基板５上へ移動する際に空気が塗布液ｄ中に取り込まれて塗布膜中に気泡が発生し易いという問題があった。また、スピンコート終了後にセンターカバー１０７を取り外す際に、センターカバー１０７に付着する塗布液ｄがディスク基板５上に液だれしたり、ディスク基板５上の塗布膜が表面張力で引っ張られる等し、塗布膜を崩すという問題があった。 In Patent Documents 2 to 4 described above, it is relatively easy to form a coating film with a uniform film thickness. However, when the coating liquid d moves from the center cover 107 onto the disk substrate 5, air is applied to the coating liquid. There was a problem that air bubbles were easily generated in the coating film by being taken into d. Further, when the center cover 107 is removed after the spin coating is finished, the coating liquid d adhering to the center cover 107 drips onto the disk substrate 5, the coating film on the disk substrate 5 is pulled by surface tension, etc. There was a problem of breaking the coating film.

以上の各問題が起こると、後工程のコーティング等でも高品質な層を形成することが出来ず、歩留まりを向上するのが困難となる。例えば、ＢＤのような薄く且つ高度に均一な膜厚の形成が要求される場合には、層形成プロセスの歩留まりを向上させるには、とりわけ最下層のベースコート層６１を高品質（均一な膜厚、気泡を含まない、塗布膜の崩れがない等）に形成することが極めて重要である。 When each of the above problems occurs, a high-quality layer cannot be formed even by subsequent coating or the like, and it becomes difficult to improve the yield. For example, when formation of a thin and highly uniform film thickness such as BD is required, in order to improve the yield of the layer formation process, the lowermost base coat layer 61 is particularly high quality (uniform film thickness). It is extremely important to form a film that does not contain bubbles, does not collapse the coating film, and the like.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、スピンコートによる塗布膜を均一な膜厚で且つ気泡を含む等しない高品質に形成できるスピンコート装置を提供することを課題とする。 This invention is made | formed in view of the said situation, and makes it a subject to provide the spin coat apparatus which can form the coating film by spin coat with the uniform film thickness and high quality which does not contain a bubble.

本発明に係るスピンコート装置は、
中心孔を有するディスク基板を略水平な状態で保持して回転駆動する回転部と、塗布液を吐出するノズル部とを備えるスピンコート装置であって、
上記ノズル部は、ディスク基板の中心孔近傍に、中心孔と同心円の連続した円環状に塗布液を滴下する吐出口を有するものである。 The spin coater according to the present invention is
A spin coater comprising a rotating unit that rotates and drives a disk substrate having a central hole in a substantially horizontal state, and a nozzle unit that discharges a coating liquid,
The nozzle part has a discharge port for dropping the coating liquid in a continuous annular shape concentric with the center hole in the vicinity of the center hole of the disk substrate.

これにより、ディスク基板の中心孔の近傍には、塗布液を重なりや途切れのない連続した円環状に滴下することができる。従って、この円環状に滴下した塗布液をディスク基板を回転させて塗り広げることにより、塗布液がディスク基板面上に一様に塗り広げられる。よって、塗布膜の膜厚を高度に均一に形成することができる。 As a result, the coating liquid can be dropped in a continuous annular shape without overlap or interruption in the vicinity of the center hole of the disk substrate. Therefore, the coating liquid dripped in the annular shape is spread by rotating the disk substrate, so that the coating liquid is uniformly spread on the disk substrate surface. Therefore, the coating film can be formed highly uniformly.

また、円環状に滴下された塗布液には重なりが生じないので、塗布液中に空気が取り込まれて塗布膜中に気泡が形成されることも防止され、また、塗布液の使用量を必要以上に消費することも防止できる。
さらに、ディスク基板の中心孔の近傍に一度に塗布液を円環状に滴下することができ、塗布液の塗布時間の短縮を図ることができる。 In addition, since there is no overlap in the annularly applied coating solution, air is prevented from being taken into the coating solution and bubbles are formed in the coating film, and the amount of coating solution used is required. It is possible to prevent further consumption.
Further, the coating liquid can be dropped in the vicinity of the center hole of the disk substrate at a time in an annular shape, so that the coating time of the coating liquid can be shortened.

上記吐出口は、円形スリットで構成するのが好ましい。
これにより、円形スリットの吐出口からは全周にわたってほぼ等しい液量の塗布液が円環状に吐出される。従って、ディスク基板の中心孔の近傍には、重なりや途切れのない一様に連続した円環状に塗布液を滴下することができる。 The discharge port is preferably formed by a circular slit.
As a result, a substantially equal amount of coating liquid is discharged in an annular shape from the discharge port of the circular slit over the entire circumference. Therefore, the coating solution can be dropped in the vicinity of the center hole of the disk substrate in a uniformly continuous annular shape without overlap or interruption.

上記吐出口は、微小径孔を円形状に多数並設して構成するのが好ましい。
これにより、各微小径孔から吐出される塗布液の液量が等しくなるように設定することで上記吐出口から全周にわたってほぼ等しい液量の塗布液を吐出させることができる。従って、ディスク基板の中心孔の近傍には、重なりや途切れのない一様に連続した円環状に塗布液を滴下することができる。 The discharge port is preferably configured by arranging a large number of minute holes in a circular shape.
Accordingly, by setting the amount of the coating liquid discharged from each minute diameter hole to be equal, it is possible to discharge the coating liquid of substantially the same amount from the discharge port over the entire circumference. Therefore, the coating solution can be dropped in the vicinity of the center hole of the disk substrate in a uniformly continuous annular shape without overlap or interruption.

以上のように、本発明に係るスピンコート装置によれば、スピンコートによる塗布膜を均一な膜厚で且つ気泡を含む等しない高品質に形成することができる。しかも、塗布液を必要以上に使用することもなく、且つ塗布時間の短縮により層形成プロセス時間を短縮することができる。従って、ディスク基板の層形成プロセスの歩留まりが向上され、高品質の光ディスク等の生産効率を向上することができる。 As described above, according to the spin coater of the present invention, a coating film by spin coating can be formed with a uniform film thickness and high quality that does not include bubbles. In addition, the coating liquid is not used more than necessary, and the layer formation process time can be shortened by shortening the coating time. Therefore, the yield of the disk substrate layer forming process is improved, and the production efficiency of high quality optical disks and the like can be improved.

以下に、本発明の実施形態について説明する。
図１に示すように、スピンコート装置１は、円形の中心孔５１を有するディスク基板５を略水平な状態で保持して回転駆動する回転部２と、塗布液ｄを吐出するノズル部３と、このスピンコート装置１の動作を制御する制御部４とを備える。ここで、ディスク基板５は、円形の中心孔５１を設けた円板形のディスク基板５であればよく、例えば、ＣＤ（ＣｏｍｐａｃｔＤｉｓｃ）、ＤＶＤ（ＤｉｇｉｔａｌＶｅｒｓａｔｉｌｅＤｉｓｃ）、ＢＤ（Ｂｌｕｅ−ｌａｙＤｉｓｃ）等の光ディスクとなるディスク基板５が例示される。また、光ディスクは、例えば、図４に示すように、ディスク基板５上に、ベースコート層６１、ピットコート層６２、カバーコート層６３、ハードコート層６４等が積層された構造を有しており、これら各層６１〜６４の全部又は一部を上記スピンコート装置１により形成することができる。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
As shown in FIG. 1, the spin coater 1 includes a rotating unit 2 that rotates and holds a disk substrate 5 having a circular center hole 51 in a substantially horizontal state, and a nozzle unit 3 that discharges a coating liquid d. And a control unit 4 for controlling the operation of the spin coat apparatus 1. Here, the disk substrate 5 may be a disk-shaped disk substrate 5 provided with a circular center hole 51. For example, a CD (Compact Disc), a DVD (Digital Versatile Disc), a BD (Blue-ray Disc). A disk substrate 5 serving as an optical disk is exemplified. The optical disc has a structure in which, for example, as shown in FIG. 4, a base coat layer 61, a pit coat layer 62, a cover coat layer 63, a hard coat layer 64, and the like are laminated on the disc substrate 5. All or part of these layers 61 to 64 can be formed by the spin coater 1.

また、図１を参照して、回転部２は、ディスク基板５を載置する回転テーブル２１と、回転テーブル２１の中心に設けられてディスク基板５の中心孔５１を嵌め込む嵌合凸部２２と、回転テーブル２１を回転駆動するモータ等の駆動部２３とを備えている。回転テーブル２１は、図示しない真空源に接続された吸引孔が多数設けられ、ディスク基板５の下面を負圧にすることによってディスク基板５を回転テーブル２１上に確実に固定させる。嵌合凸部２２の中心は、回転テーブル２１の回転中心と一致している。従って、ディスク基板５の中心孔５１を回転テーブル２１の嵌合凸部２２に挿入配置させることによりディスク基板５の中心が回転テーブル２１の回転中心と一致される。また、回転テーブル２１は、駆動部２３により回転テーブル２１の回転速度を任意に設定変更することができる。 Referring to FIG. 1, the rotating unit 2 includes a rotary table 21 on which the disk substrate 5 is placed, and a fitting convex portion 22 that is provided at the center of the rotary table 21 and that fits the center hole 51 of the disk substrate 5. And a drive unit 23 such as a motor for rotating the rotary table 21. The rotary table 21 is provided with a number of suction holes connected to a vacuum source (not shown), and the disk substrate 5 is securely fixed on the rotary table 21 by applying a negative pressure to the lower surface of the disk substrate 5. The center of the fitting convex portion 22 coincides with the rotation center of the turntable 21. Accordingly, the center hole 51 of the disk substrate 5 is inserted and arranged in the fitting convex portion 22 of the turntable 21 so that the center of the disk substrate 5 coincides with the rotation center of the turntable 21. Further, the rotation table 21 can arbitrarily set and change the rotation speed of the rotation table 21 by the drive unit 23.

ノズル部３は、ディスク基板５の中心孔５１より大径の円筒体３０に形成されており、ディスク基板５の中心孔５１近傍のスタックリング５２の外周囲に対して中心孔５１と同心円形状に塗布液ｄを吐出する吐出口３１を有する。図２に示すように、吐出口３１は、円筒体３０の側壁下端に設けられ、円形スリット３２により構成されている。ノズル部３には、吐出口３１の円形スリット３２と同形状の空間からなる円形管路３３が円筒体３０の側壁内に形成され、この円形管路３３は、図示しない塗布液ｄの貯留部と連通されている。ノズル部３は、図示しない移動機構が設けられており、ディスク基板５を回転テーブル２１上に取り付け取り外しするに際して上昇又は回転テーブル２１の横方へ退避させるようになっている。 The nozzle portion 3 is formed in a cylindrical body 30 having a larger diameter than the center hole 51 of the disk substrate 5, and is concentric with the center hole 51 with respect to the outer periphery of the stack ring 52 in the vicinity of the center hole 51 of the disk substrate 5. It has a discharge port 31 for discharging the coating liquid d. As shown in FIG. 2, the discharge port 31 is provided at the lower end of the side wall of the cylindrical body 30 and is configured by a circular slit 32. In the nozzle portion 3, a circular conduit 33 is formed in the side wall of the cylindrical body 30, and the circular conduit 33 is formed in a space having the same shape as the circular slit 32 of the discharge port 31. Communicated with. The nozzle unit 3 is provided with a moving mechanism (not shown) so that the disk substrate 5 is raised or retracted to the side of the rotary table 21 when the disk substrate 5 is attached to and detached from the rotary table 21.

次に、スピンコート装置１を用いた塗布膜形成について説明する。以下の動作制御は、制御部４の指令により行われる。
まず、ノズル部３を上方又は横方に退避させ、ディスク基板５を回転テーブル２１上に載置させる。このとき、ディスク基板５の中心孔５１を回転テーブル２１の嵌合凸部２２に挿入させる。これにより、ディスク基板５の中心が回転テーブル２１の回転中心と一致され、ディスク基板５が回転テーブル２１上に保持される。 Next, coating film formation using the spin coater 1 will be described. The following operation control is performed by a command from the control unit 4.
First, the nozzle unit 3 is retracted upward or sideways, and the disk substrate 5 is placed on the rotary table 21. At this time, the center hole 51 of the disk substrate 5 is inserted into the fitting convex portion 22 of the turntable 21. As a result, the center of the disk substrate 5 coincides with the rotation center of the turntable 21, and the disk substrate 5 is held on the turntable 21.

次いで、ノズル部３を移動させ、回転テーブル２１の回転中心とノズル部３の円筒体３０の中心とが一致するようにノズル部３を回転テーブル２１上へ配置させる。これにより、回転テーブル２１上に保持するディスク基板５の中心とノズル部３の円筒体３０の中心とが一致され、同時にノズル部３の吐出口３１を構成する円形スリット３２がディスク基板５の中心孔５１近傍に設けるスタックリング５２の外周囲に対向される。 Next, the nozzle unit 3 is moved, and the nozzle unit 3 is arranged on the rotary table 21 so that the rotation center of the rotary table 21 and the center of the cylindrical body 30 of the nozzle unit 3 coincide with each other. As a result, the center of the disk substrate 5 held on the rotary table 21 and the center of the cylindrical body 30 of the nozzle unit 3 coincide with each other, and at the same time, the circular slit 32 constituting the discharge port 31 of the nozzle unit 3 forms the center of the disk substrate 5. It faces the outer periphery of the stack ring 52 provided in the vicinity of the hole 51.

そして、ディスク基板５を回転させない状態で、ノズル部３の円形スリット３２からなる吐出口３１から所定量の塗布液ｄを吐出する。すると、図３に示すように、ディスク基板５のスタックリング５２の外周部に、一度に塗布液ｄが円環状に滴下される。このとき、円形スリット３２の吐出口３１からは全周にわたってほぼ等しい液量の塗布液ｄが円環状に吐出される。これにより、ディスク基板５の中心孔５１の外周囲には、重なりや途切れのない一様に連続した円環状に塗布液ｄが滴下される。 Then, a predetermined amount of the coating liquid d is discharged from the discharge port 31 including the circular slit 32 of the nozzle unit 3 without rotating the disk substrate 5. Then, as shown in FIG. 3, the coating liquid d is dropped in an annular shape at a time onto the outer periphery of the stack ring 52 of the disk substrate 5. At this time, a substantially equal amount of the coating liquid d is discharged from the discharge port 31 of the circular slit 32 in an annular shape over the entire circumference. As a result, the coating liquid d is dripped around the outer periphery of the center hole 51 of the disk substrate 5 in a uniform and continuous annular shape without overlap or interruption.

次いで、駆動部２３により回転テーブル２１を所定の回転数で回転させてディスク基板５を回転させる。すると、円環状に滴下された塗布液ｄがディスク基板５の外側縁までディスク基板５面上に一様に塗り広げられる。これにより、ディスク基板５面上には塗布膜の膜厚を均一に形成することができる。しかも、ノズル部３から滴下された塗布液ｄは、重なりや途切れのない一様に連続した円環状となっているので、塗布液ｄ中に空気が取り込まれて塗布膜中に気泡が形成されることも防止される。さらには、ノズル部３からの滴下時に塗布液ｄの重なりを生じさせないので、塗布液ｄの使用量を必要以上に消費されることも防止できる。 Next, the disk substrate 5 is rotated by rotating the rotary table 21 at a predetermined rotational speed by the drive unit 23. Then, the coating liquid d dropped in an annular shape is uniformly spread on the surface of the disk substrate 5 up to the outer edge of the disk substrate 5. Thereby, the film thickness of the coating film can be formed uniformly on the surface of the disk substrate 5. Moreover, since the coating liquid d dropped from the nozzle portion 3 has a uniformly continuous annular shape without overlap or interruption, air is taken into the coating liquid d and bubbles are formed in the coating film. Is also prevented. Furthermore, since the coating liquid d does not overlap when dropped from the nozzle portion 3, it is possible to prevent the usage amount of the coating liquid d from being consumed more than necessary.

なお、上記回転テーブル２１の回転数、つまりディスク基板５の回転速度は、塗布する塗布液ｄの種類・性状・温度等や、形成する塗布膜の厚さ等の種々の設定条件により、任意に設定される。 The rotational speed of the rotary table 21, that is, the rotational speed of the disk substrate 5, can be arbitrarily determined according to various setting conditions such as the type, properties, temperature, etc. of the coating liquid d to be applied and the thickness of the coating film to be formed. Is set.

そして、ディスク基板５面上に塗布膜が形成されると、回転テーブル２１を回転停止し、ノズル部３を退避させた後、回転テーブル２１上からディス基板を取り除き、次の工程へ送る。 When the coating film is formed on the surface of the disk substrate 5, the rotation table 21 is stopped and the nozzle unit 3 is retracted, and then the disk substrate is removed from the rotation table 21 and sent to the next step.

以上の実施の形態によるスピンコート装置１によれば、円形スリット３２からなる吐出口３１を有するノズル部３を備えるので、円形スリット３２の吐出口３１からは全周にわたってほぼ等しい液量の塗布液ｄが円環状に吐出される。従って、ディスク基板５の中心孔５１の外周囲には、重なりや途切れのない一様に連続した円環状に塗布液ｄを滴下することができる。よって、この円環状に滴下した塗布液ｄをディスク基板５を回転させて塗り広げることにより、塗布液ｄがディスク基板５面上に一様に塗り広げられ、塗布膜の膜厚を高度に均一に形成することができる。 According to the spin coater 1 according to the above-described embodiment, since the nozzle unit 3 having the discharge port 31 including the circular slit 32 is provided, the coating liquid having substantially the same amount of liquid over the entire circumference from the discharge port 31 of the circular slit 32. d is discharged in an annular shape. Therefore, the coating liquid d can be dripped around the outer periphery of the center hole 51 of the disk substrate 5 in a uniformly continuous annular shape without overlapping or interruption. Therefore, the coating liquid d dropped in the annular shape is spread by rotating the disk substrate 5, so that the coating liquid d is uniformly spread on the surface of the disk substrate 5, and the coating film thickness is highly uniform. Can be formed.

しかも、円環状に滴下された塗布液ｄには重なりが生じないので、塗布液ｄ中に空気が取り込まれて塗布膜中に気泡が形成されることも防止される。さらには、塗布液ｄの重なりを生じさせないので、塗布液ｄの使用量を必要以上に消費することも防止できる。 In addition, since the coating liquid d dropped in an annular shape does not overlap, it is possible to prevent air from being taken into the coating liquid d and forming bubbles in the coating film. Furthermore, since the coating liquid d does not overlap, it is possible to prevent the consumption of the coating liquid d from being unnecessarily consumed.

また、ディスク基板５の中心孔５１の外周囲に一度に上記の円環状に塗布液ｄを滴下することができ、塗布液ｄの塗布時間の短縮を図ることができる。 In addition, the coating liquid d can be dropped into the above-mentioned annular shape at once around the outer periphery of the center hole 51 of the disk substrate 5, and the coating time of the coating liquid d can be shortened.

以上のように実施の形態のスピンコート装置１によれば、スピンコートによる塗布膜を均一な膜厚で且つ気泡を含んだり等しない高品質に形成することができる。従って、ディスク基板５の層形成プロセスの歩留まりが向上され、高品質の光ディスクの生産効率を向上することができる。しかも、塗布液ｄを必要以上に使用することもなく、且つ塗布時間の短縮により層形成プロセス時間を短縮することができる。 As described above, according to the spin coater 1 of the embodiment, it is possible to form a coating film by spin coating with a uniform film thickness and high quality that does not include bubbles or the like. Therefore, the yield of the layer formation process of the disk substrate 5 is improved, and the production efficiency of high quality optical disks can be improved. Moreover, the coating liquid d is not used more than necessary, and the layer formation process time can be shortened by shortening the coating time.

例えば、ＢＤのような薄く且つ高度に均一な膜厚の形成が要求されるディスク基板５においては、その最下層のベースコート層６１を高品質（均一な膜厚、気泡を含まない、塗布膜の崩れがない等）に形成することができ、後工程の層形成プロセスの歩留まりを向上させるができる。 For example, in a disk substrate 5 that requires a thin and highly uniform film thickness such as BD, the lowermost base coat layer 61 has a high quality (uniform film thickness, free of bubbles, coating film And the yield of the subsequent layer formation process can be improved.

なお、本発明は、上記実施の形態のみに限定されない。
例えば、図５に示すように、ノズル部３’の吐出口３１は、微小径孔３４を円形状に多数並設して構成することができる。これにより、各微小径孔３４から吐出される塗布液ｄの液量が等しくなるように設定することで上記吐出口３１から全周にわたってほぼ等しい液量の塗布液ｄを吐出させることができる。従って、ディスク基板５の中心孔５１の外周囲には、重なりや途切れのない一様に連続した円環状に塗布液ｄを滴下することができる。
また、回転部２は、ディスク基板５を回転テーブル２１に載置して保持するのではなく、嵌合凸部２２を備えたスピンドルによりディスク基板５を浮かした状態で保持するものでもよい。 In addition, this invention is not limited only to the said embodiment.
For example, as shown in FIG. 5, the discharge port 31 of the nozzle portion 3 ′ can be configured by arranging a large number of minute diameter holes 34 side by side in a circular shape. Accordingly, by setting the liquid volume of the coating liquid d discharged from each minute diameter hole 34 to be equal, it is possible to discharge the coating liquid d having substantially the same volume from the discharge port 31 over the entire circumference. Therefore, the coating liquid d can be dripped around the outer periphery of the center hole 51 of the disk substrate 5 in a uniformly continuous annular shape without overlapping or interruption.
Further, the rotating unit 2 may hold the disk substrate 5 in a state where it is floated by a spindle provided with the fitting convex portion 22 instead of placing the disk substrate 5 on the rotary table 21 and holding it.

実施の形態によるスピンコート装置の全体構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the whole structure of the spin coater by embodiment. ノズル部の円形スリットからなる吐出口を示す平面図である。It is a top view which shows the discharge outlet consisting of the circular slit of a nozzle part. ノズル部より塗布液をディスク基板上に円環状に滴下した状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state which dripped the coating liquid on the disk board | substrate from the nozzle part in the annular | circular shape. 光ディスクの層構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the layer structure of an optical disk. 吐出口が多数の微小径孔からなるノズル部の例を示す平面図である。It is a top view which shows the example of the nozzle part from which a discharge outlet consists of many micro diameter holes. 従来のスピンコート装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the conventional spin coater. 従来の他のスピンコート装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the other conventional spin coater. 従来のスピンコート装置により塗布液をディスク基板上に滴下した状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which dripped the coating liquid on the disc substrate with the conventional spin coater.

Explanation of symbols

１スピンコート装置
２回転部
３ノズル部
４制御部
５ディスク基板
２３駆動部
３０円筒体
３１吐出口
３２円形スリット
３３円形管路
３４微小径孔
５１中心孔
５２スタックリング
ｄ塗布液 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Spin coater 2 Rotating part 3 Nozzle part 4 Control part 5 Disk substrate 23 Drive part 30 Cylindrical body 31 Discharge port 32 Circular slit 33 Circular pipe line 34 Small diameter hole 51 Center hole 52 Stack ring d Coating liquid

Claims

A spin coater comprising a rotating unit that rotates and drives a disk substrate having a central hole in a substantially horizontal state, and a nozzle unit that discharges a coating liquid,
The nozzle unit has a spin coater having a discharge port for dropping the coating liquid in a continuous annular shape concentric with the center hole in the vicinity of the center hole of the disk substrate.

The spin coat apparatus according to claim 1,
The ejection port is a spin coater configured with a circular slit.

The spin coat apparatus according to claim 1,
The discharge port is a spin coater configured by arranging a large number of minute holes in a circular shape.