JP2010153816A - Photo coupler and its assembling method - Google Patents

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Kanako Horino
可苗子 堀野
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  • Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photo coupler and its manufacturing method for preventing misalignment and disconnection of wires and constituting it in a miniaturized size, together with prevention from occurrence of displacement on assembling. <P>SOLUTION: The assembling method of the photo coupler 100 includes steps: for forming a light-receiving element 101 on the upper side of a first lead frame 104; for forming a light-emitting element 102 on the lower side of a second lead frame 105 (i); and for forming an insulator 120 comprising an insulating film 103 and an insulating layer 108 on the upper side of the light-receiving element 101 in some space from the first lead frame 104, with the upper side of the insulator 120 higher than the maximal point of a bonding wire 110 and parallel to the upper side of the first lead frame 104 (ii). Further in the assembling method, the upper side of the first lead frame 104 and the lower side of the second lead frame 105 are fixed so that the upper side of the light-receiving element 101 is disposed in face to face with the lower side of the light-emitting element 102, with the insulator 120 comprising the insulating film and the insulating layer interposed between the two elements; and that the insulator is disposed in some space from the second lead frame 105 (iii). <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、フォトカプラおよびその組立方法に関する。   The present invention relates to a photocoupler and an assembling method thereof.

フォトカプラは、信号のやり取りを光で行い、入力側(発光側)と出力側(受光側)を電気的に絶縁する装置である。入力側と出力側の絶縁耐圧を上げるために、各種の技術が提案されているが、その中でも発光素子と受光素子が対向しており、その間に絶縁性のフィルムを挟んだ構造のものは、受光素子と発光素子の内部沿面距離を増大させ、絶縁耐圧の向上が図れるため、広く採用されている。   A photocoupler is a device that exchanges signals with light and electrically insulates an input side (light emitting side) and an output side (light receiving side). Various techniques have been proposed to increase the withstand voltage on the input side and output side. Among them, a light emitting element and a light receiving element are opposed to each other, and an insulating film is sandwiched between them. Since the internal creepage distance between the light receiving element and the light emitting element can be increased and the withstand voltage can be improved, it is widely used.

一般的な受光素子と発光素子との間に絶縁性フィルムを挟む構造の対向型フォトカプラの組立方法を図7〜図10を参照しつつ、説明する。図10は、図7〜図9に示された工程によれ得られたフォトカプラの構造を示すものである。   A method for assembling a facing photocoupler having a structure in which an insulating film is sandwiched between a general light receiving element and a light emitting element will be described with reference to FIGS. FIG. 10 shows the structure of the photocoupler obtained by the steps shown in FIGS.

まず、受光素子101および発光素子102のそれぞれの取り付け部としてリードフレーム104,105を準備する(図7(a)(a'))。その後、リードフレーム104の上面に受光素子101を搭載し、リードフレーム105の下面に発光素子102を搭載し、ワイヤボンディングによりボンディングワイヤ110をそれぞれのリード端子に配線する(図7(b)(b'))。   First, lead frames 104 and 105 are prepared as attachment portions of the light receiving element 101 and the light emitting element 102 (FIGS. 7A and 7A). Thereafter, the light receiving element 101 is mounted on the upper surface of the lead frame 104, the light emitting element 102 is mounted on the lower surface of the lead frame 105, and bonding wires 110 are wired to the respective lead terminals by wire bonding (FIGS. 7B and 7B). ')).

次に、少量の透明なシリコーン樹脂107を受光素子101の上面に塗布し、その上に絶縁性フィルム103を搭載し、シリコーン樹脂107を硬化する(図7(c'))。続いて、発光素子102に透明なシリコーン樹脂106を塗布する(図7(c))。その後、発光素子102と受光素子101とが絶縁性フィルム103を挟んで対向するように、リードフレーム104の上面とリードフレーム105の下面とを、シリコーン樹脂106,107を完全に硬化させ固定する(図8、図9(a))。これにより、受光素子101と発光素子102との光結合が形成される。   Next, a small amount of transparent silicone resin 107 is applied to the upper surface of the light receiving element 101, and the insulating film 103 is mounted thereon, and the silicone resin 107 is cured (FIG. 7 (c ′)). Subsequently, a transparent silicone resin 106 is applied to the light emitting element 102 (FIG. 7C). Thereafter, the upper surfaces of the lead frame 104 and the lower surface of the lead frame 105 are completely cured and fixed so that the light emitting element 102 and the light receiving element 101 face each other with the insulating film 103 interposed therebetween ( FIG. 8, FIG. 9 (a)). Thereby, the optical coupling between the light receiving element 101 and the light emitting element 102 is formed.

次に、封止材109を形成する(図9(b))。その後、リードフレームの不要な部分を除去し、図9(c)のような形状に整形する。   Next, the sealing material 109 is formed (FIG. 9B). Thereafter, unnecessary portions of the lead frame are removed and shaped into a shape as shown in FIG.

上述の組立工程のうち、受光側リードフレーム104に絶縁性フィルム103を搭載する過程を説明する。まず、図7(c)〜図8(b)に示すように、受光側リードフレーム104に、軟らかい透明なシリコーン樹脂107を塗布し、絶縁性フィルム103を搭載する。すると、図8(c)に示すように、絶縁性フィルム103は自重によって沈み込み、様々な方向に傾く。そのため、絶縁性フィルム103は、さまざまな方向に傾き、回転や位置ズレを起こす。
また、図10に示すように、絶縁性フィルム103は、ボンディングワイヤ110の最上点130で支えられている。このため、マウント時の衝撃や絶縁性フィルム103の自重によってボンディングワイヤ110が変形し、フォトカプラの組立不良の要因となる。
The process of mounting the insulating film 103 on the light receiving side lead frame 104 will be described in the above assembly process. First, as shown in FIGS. 7C to 8B, a soft transparent silicone resin 107 is applied to the light receiving side lead frame 104 and an insulating film 103 is mounted. Then, as shown in FIG.8 (c), the insulating film 103 sinks with dead weight, and inclines in various directions. Therefore, the insulating film 103 tilts in various directions, and causes rotation and positional deviation.
As shown in FIG. 10, the insulating film 103 is supported by the uppermost point 130 of the bonding wire 110. For this reason, the bonding wire 110 is deformed by an impact at the time of mounting or the dead weight of the insulating film 103, which causes an assembly failure of the photocoupler.

上記課題に対して、特許文献1には、図12に示すように、リードフレーム16に支持部(22a、22b)を設けて絶縁性フィルム20を搭載し、絶縁性フィルム20を樹脂で固定した後、支持部(22a、22b)を除去する技術が開示されている。この技術によれば、絶縁性フィルム20が位置ズレを起こさず、また絶縁性フィルム20がボンディングワイヤ19に触れないため、ワイヤの変形を防止することができる。更に、絶縁性フィルム20はボンディングワイヤ19に接触していないので絶縁耐圧が維持される。   As shown in FIG. 12, in Patent Document 1, a support portion (22a, 22b) is provided on the lead frame 16, the insulating film 20 is mounted, and the insulating film 20 is fixed with a resin. A technique for removing the support portions (22a, 22b) is disclosed later. According to this technique, the insulating film 20 is not displaced, and the insulating film 20 does not touch the bonding wire 19, so that deformation of the wire can be prevented. Further, since the insulating film 20 is not in contact with the bonding wire 19, the dielectric strength is maintained.

また、特許文献2には、図11に示すように、上述のような対向型フォトカプラに対して、受光チップ24と発光チップ23とが透明絶縁層25を介して積層した構造のフォトカプラが提案されている。
このフォトカプラでは、透明絶縁層25は、上層側の発光チップ23の底面から外方向に突出して形成され、その一部は、下層側の受光チップ24のワイヤボンディングを妨げないよう折曲されている。
Further, as shown in FIG. 11, Patent Document 2 discloses a photocoupler having a structure in which a light receiving chip 24 and a light emitting chip 23 are stacked via a transparent insulating layer 25 with respect to the above-described facing photocoupler. Proposed.
In this photocoupler, the transparent insulating layer 25 is formed to protrude outward from the bottom surface of the upper light emitting chip 23, and a part thereof is bent so as not to interfere with the wire bonding of the lower light receiving chip 24. Yes.

特開2004−186297号公報JP 2004-186297 A 特開平06−045636号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-045636

特許文献1の製法では、支持部(22a、22b)がボンディングワイヤ19のボンディング時の障害物になってしまう。また、樹脂封止前に支持部を切断パンチ等で打ち抜く工程が追加されるが、樹脂封止前の状態では、切断機に固定するのが困難であり、打ち抜くときの衝撃でボンディングワイヤ切れが起こる懸念が大きい。また支持部分を形成する必要から、小型化が難しい。   In the manufacturing method of Patent Document 1, the support portions (22 a and 22 b) become an obstacle during bonding of the bonding wires 19. In addition, a process of punching the support part with a cutting punch or the like before the resin sealing is added, but in the state before the resin sealing, it is difficult to fix to the cutting machine, and the bonding wire breaks due to the impact when punching. There are great concerns. Further, since it is necessary to form a support portion, it is difficult to reduce the size.

本発明によれば、第1のリードフレームの上面に第1の光素子を設け、第2のリードフレームの下面に第2の光素子を設けるステップと、
前記第1の光素子の上面に、前記第1のリードフレームの上面と前記第1の光素子の上面とを接続するボンディングワイヤの最上点より高く、前記第1のリードフレームの上面と平行な上面を有する絶縁部を、前記第1のリードフレームから離間させて設けるステップと、
前記第1の光素子の上面と前記第2の光素子の下面とが前記絶縁部を挟んで対向し、前記絶縁部が前記第2のリードフレームから離間するように、前記第1のリードフレームの上面と、前記第2のリードフレームの下面とを固定するステップと、
を含むことを特徴とするフォトカプラの組立方法が提供される。
According to the present invention, providing a first optical element on the upper surface of the first lead frame and providing a second optical element on the lower surface of the second lead frame;
The upper surface of the first optical element is higher than the highest point of the bonding wire connecting the upper surface of the first lead frame and the upper surface of the first optical element, and is parallel to the upper surface of the first lead frame. Providing an insulating portion having an upper surface spaced apart from the first lead frame;
The first lead frame such that an upper surface of the first optical element and a lower surface of the second optical element are opposed to each other with the insulating portion interposed therebetween, and the insulating portion is separated from the second lead frame. Fixing the upper surface of the second lead frame and the lower surface of the second lead frame;
A method of assembling a photocoupler is provided.

また、本発明によれば、第1のリードフレームと、
前記第1のリードフレームの上面と対向するように設けられた第2のリードフレームと、
前記第2のリードフレームの下面と対向するように、前記第1のリードフレームの上面に設けられた第1の光素子と、
前記第1の光素子の上面と対向するように、前記第2のリードフレームの下面に設けられた第2の光素子と、
前記第1のリードフレームの上面と前記第1の光素子の上面とを接続するボンディングワイヤと、
前記ボンディングワイヤの最上点より高い上面を有し、前記第1のリードフレームおよび前記第2のリードフレームを離間させて、前記第1の光素子の上面に設けられた前記第1のリードフレームの上面と平行な上面を有する絶縁部と、
を備えることを特徴とするフォトカプラが提供される。
According to the present invention, the first lead frame;
A second lead frame provided to face the upper surface of the first lead frame;
A first optical element provided on the upper surface of the first lead frame so as to face the lower surface of the second lead frame;
A second optical element provided on the lower surface of the second lead frame so as to face the upper surface of the first optical element;
A bonding wire connecting the upper surface of the first lead frame and the upper surface of the first optical element;
The first lead frame provided on the upper surface of the first optical element has an upper surface higher than an uppermost point of the bonding wire, and the first lead frame and the second lead frame are separated from each other. An insulating part having an upper surface parallel to the upper surface;
A photocoupler is provided.

本発明によれば、組立時に絶縁性フィルムの回転や位置ズレが起こること防ぎつつ、ワイヤの変形や切れを防止し、サイズを小型化することが可能なフォトカプラおよびその組立方法が実現される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the photocoupler which can prevent the deformation | transformation and cutting | disconnection of a wire and can reduce a size, and its assembly method are implement | achieved, preventing rotation and position shift of an insulating film at the time of an assembly. .

本発明の実施の形態のフォトカプラを示す図である。It is a figure which shows the photocoupler of embodiment of this invention. 本発明の変形例のフォトカプラを示す図である。It is a figure which shows the photocoupler of the modification of this invention. 本発明の変形例のフォトカプラを示す図である。It is a figure which shows the photocoupler of the modification of this invention. 本発明の実施の形態のフォトカプラの組立方法を示す図である。It is a figure which shows the assembly method of the photocoupler of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態のフォトカプラの組立方法を示す図である。It is a figure which shows the assembly method of the photocoupler of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態のフォトカプラの組立方法を示す図である。It is a figure which shows the assembly method of the photocoupler of embodiment of this invention. 従来のフォトカプラの組立方法を示す図である。It is a figure which shows the assembly method of the conventional photocoupler. 従来のフォトカプラの組立方法を示す図である。It is a figure which shows the assembly method of the conventional photocoupler. 従来のフォトカプラの組立方法を示す図である。It is a figure which shows the assembly method of the conventional photocoupler. 従来のフォトカプラを示す図である。It is a figure which shows the conventional photocoupler. 従来のフォトカプラを示す図である。It is a figure which shows the conventional photocoupler. 従来のフォトカプラの組立方法を示す図である。It is a figure which shows the assembly method of the conventional photocoupler. 本発明の変形例のフォトカプラを示す図である。It is a figure which shows the photocoupler of the modification of this invention.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。なお、本実施の形態では図示するように前後左右上下の方向を規定して説明する。しかし、これは構成要素の相対関係を簡単に説明するために便宜的に規定するものである。従って、本発明を実施する製品の製造時や使用時の方向を限定するものではない。
図1は、本発明によるフォトカプラ100の一実施形態を示している。
本実施形態のフォトカプラ100は、第1のリードフレーム104と、第1のリードフレーム104の上面と対向するように設けられた第2のリードフレーム105と、第2のリードフレーム105の下面と対向するように、第1のリードフレーム104の上面に設けられた第1の光素子(受光素子101)と、受光素子101の上面と対向するように、第2のリードフレーム105の下面に設けられた第2の光素子(発光素子102)と、第1のリードフレーム104の上面と受光素子101の上面とを接続するボンディングワイヤ110と、ボンディングワイヤ110の最上点より高い上面を有し、第1のリードフレーム104および第2のリードフレーム105を離間させて、受光素子101の上面に設けられた第1のリードフレーム104の上面と平行な上面を有する絶縁部120を備える。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all the drawings, the same reference numerals are given to the same components, and the description will be omitted as appropriate. In the present embodiment, description will be made by defining the front-rear, left-right, up-down directions as shown. However, this is provided for the sake of convenience in order to briefly explain the relative relationship between the components. Therefore, the direction at the time of manufacture and use of the product which implements the present invention is not limited.
FIG. 1 shows an embodiment of a photocoupler 100 according to the present invention.
The photocoupler 100 of the present embodiment includes a first lead frame 104, a second lead frame 105 provided to face the upper surface of the first lead frame 104, and a lower surface of the second lead frame 105. The first optical element (light receiving element 101) provided on the upper surface of the first lead frame 104 so as to face the lower surface of the second lead frame 105 so as to face the upper surface of the light receiving element 101. The second optical element (light emitting element 102), a bonding wire 110 connecting the upper surface of the first lead frame 104 and the upper surface of the light receiving element 101, and an upper surface higher than the uppermost point of the bonding wire 110, A first lead frame provided on the upper surface of the light receiving element 101 by separating the first lead frame 104 and the second lead frame 105 from each other. An insulating portion 120 having a 04 parallel to an upper top surface.

絶縁部120は、光が透過する材料であれば特に限定されないが、本実施形態では全体が透明である材料で構成される。例えば絶縁部120は絶縁層108と絶縁性フィルム103で構成される。また絶縁部120は、複数の異なる材料の積層膜であってもよい。絶縁部120は、受光素子101の上面と発光素子102の下面との間に配置される。絶縁層108の上面に設けられた、平板の絶縁性フィルム103を備える。絶縁部120は第1のリードフレーム104と第2のリードフレーム105から離間させて配置される。絶縁層108は第1のリードフレーム104の上面と平行な上面を有する。絶縁層108は、ボンディングワイヤ110の最上点より高い上面を有し、絶縁性フィルム103は絶縁層108の上面より広い面積を有する。
ここで、「平行」とは、絶縁部120が受光素子101の上面に配置される際に、本実施形態の効果を奏する範囲の程度の誤差を許容することを意味する。さらに、「Aと離間させてBにCを配置する」とは、AとCとの間に、Cと異なるBを介してAにCを配置することを意味する。例えば、上述の「絶縁部120を離間させて配置する」とは、透明な樹脂(106,107)、受光素子101などの絶縁部120と異なる部材を介して、第1のリードフレーム104の上面と第2のリードフレーム105の下面とに絶縁部120を配置することを意味する。また絶縁性フィルム103を離間させて配置するには、絶縁性フィルム103と異なる絶縁層108などを介して、第1のリードフレーム104の上面と第2のリードフレーム105の下面とに絶縁性フィルム103を配置する。
The insulating portion 120 is not particularly limited as long as it is a material that transmits light, but in the present embodiment, the insulating portion 120 is made of a material that is entirely transparent. For example, the insulating unit 120 includes the insulating layer 108 and the insulating film 103. The insulating unit 120 may be a laminated film made of a plurality of different materials. The insulating unit 120 is disposed between the upper surface of the light receiving element 101 and the lower surface of the light emitting element 102. A flat insulating film 103 is provided on the upper surface of the insulating layer 108. The insulating unit 120 is disposed apart from the first lead frame 104 and the second lead frame 105. The insulating layer 108 has an upper surface parallel to the upper surface of the first lead frame 104. The insulating layer 108 has a top surface higher than the uppermost point of the bonding wire 110, and the insulating film 103 has a larger area than the top surface of the insulating layer 108.
Here, “parallel” means that, when the insulating unit 120 is disposed on the upper surface of the light receiving element 101, an error of a range within which the effect of the present embodiment is achieved is allowed. Further, “arrange C from B at a distance from A” means that C is arranged between A and C via B different from C. For example, the above-mentioned “place the insulating portion 120 apart from each other” means that the upper surface of the first lead frame 104 is interposed via a member different from the insulating portion 120 such as transparent resin (106, 107) and the light receiving element 101. And the insulating part 120 on the lower surface of the second lead frame 105. In order to dispose the insulating film 103 apart, the insulating film is formed on the upper surface of the first lead frame 104 and the lower surface of the second lead frame 105 through an insulating layer 108 different from the insulating film 103. 103 is arranged.

発光素子102および受光素子101は、例えば、それぞれ発光ダイオードおよびフォトダイオードである。受光素子101およびリードフレーム104には、透明な樹脂107によって絶縁層108と平板の絶縁性フィルム103とが固定されている。また、平板の絶縁性フィルム103には、透明な樹脂106によって発光素子102およびリードフレーム105が固定されている。樹脂106,107は、例えばシリコーン樹脂である。さらに、これらの発光素子102、受光素子101、リードフレーム104、平板の絶縁性フィルム103、絶縁層108およびリードフレーム105を覆うように封止材109が形成されている。   The light emitting element 102 and the light receiving element 101 are, for example, a light emitting diode and a photodiode, respectively. An insulating layer 108 and a flat insulating film 103 are fixed to the light receiving element 101 and the lead frame 104 by a transparent resin 107. Further, the light emitting element 102 and the lead frame 105 are fixed to the flat insulating film 103 by a transparent resin 106. Resins 106 and 107 are, for example, silicone resins. Further, a sealing material 109 is formed so as to cover these light emitting element 102, light receiving element 101, lead frame 104, flat insulating film 103, insulating layer 108 and lead frame 105.

図1に示すように、絶縁層108は、第1のリードフレーム104の上面と受光素子101の上面とを接続するボンディングワイヤ110の最上点より高い上面を有する。この絶縁層108は透光性の絶縁体であればよい。また、絶縁層108は、例えば、ウェハプロセスで形成することによって得ることができる。   As shown in FIG. 1, the insulating layer 108 has an upper surface higher than the uppermost point of the bonding wire 110 that connects the upper surface of the first lead frame 104 and the upper surface of the light receiving element 101. The insulating layer 108 may be a light-transmitting insulator. The insulating layer 108 can be obtained, for example, by forming it by a wafer process.

続いて、このウェハプロセスについて説明する。このウェハプロセスは、以下のステップを含む。
受光素子101を有するウェハ上に樹脂層を形成するステップ。
この樹脂層を所定の形状にパターニングし、受光素子101上に絶縁層108を形成するステップ。
このウェハを分割して、絶縁層108が形成された受光素子101に個片化するステップ。
Next, the wafer process will be described. This wafer process includes the following steps.
Forming a resin layer on the wafer having the light receiving element 101;
Patterning the resin layer into a predetermined shape and forming an insulating layer on the light receiving element 101;
A step of dividing the wafer into individual light receiving elements 101 on which the insulating layer 108 is formed.

受光素子101上に絶縁層108を形成するステップでは、受光素子101上のボンディングパッドを除いた部分に、絶縁層108が形成される。また、ボンディングワイヤ110の最上点より絶縁層108の上面が高くなるように、この絶縁層108の厚みが決定される。この絶縁層108の材料としては、例えばポリイミド樹脂の固体の絶縁性材料など、組立工程で変形しない材料が挙げられる。   In the step of forming the insulating layer 108 on the light receiving element 101, the insulating layer 108 is formed in a portion excluding the bonding pad on the light receiving element 101. Further, the thickness of the insulating layer 108 is determined so that the upper surface of the insulating layer 108 is higher than the uppermost point of the bonding wire 110. Examples of the material of the insulating layer 108 include materials that do not deform in the assembly process, such as a solid insulating material of polyimide resin.

受光素子101に個片化するステップの後、受光側リードフレーム104に絶縁層108が形成された受光素子101を搭載する。さらに、受光素子101上のボンディングパッドにボンディングワイヤ110が接続される。   After the step of dividing into light receiving elements 101, the light receiving elements 101 in which the insulating layer 108 is formed are mounted on the light receiving side lead frame 104. Further, a bonding wire 110 is connected to a bonding pad on the light receiving element 101.

なお、樹脂層を形成するステップにおいて、ウェハ上に複数の受光素子101を有する場合には、一括して複数の、絶縁層108が形成された受光素子101を形成することができる。   Note that in the step of forming the resin layer, when a plurality of light receiving elements 101 are provided on the wafer, a plurality of light receiving elements 101 on which the insulating layers 108 are formed can be formed at a time.

また、組立時に絶縁層108を搭載する場合、絶縁層108は、金型などで型抜きすることによって得ることができる。したがって、絶縁層108の材料は、透明であり、金型などで簡単に切り抜くことができるような、素材、厚さのものが好ましい。この材料としては、例えばポリイミド樹脂などの固体の絶縁性材料が挙げられる。   Further, when the insulating layer 108 is mounted at the time of assembly, the insulating layer 108 can be obtained by die cutting with a mold or the like. Therefore, the material of the insulating layer 108 is preferably a material and a thickness that are transparent and can be easily cut out with a mold or the like. An example of this material is a solid insulating material such as a polyimide resin.

絶縁層108は、平板の絶縁性フィルム103を搭載する予定側の受光素子101の上面に設けられる。その後、この絶縁層108の上面に平板の絶縁性フィルム103が搭載される。絶縁性フィルム103は絶縁層108の上面より広い面積を有することが望ましい。
絶縁層108は平板の絶縁性フィルム103を支える観点から、より面積の広い受光素子側の上面に搭載される方が好ましい。
The insulating layer 108 is provided on the upper surface of the light receiving element 101 on the side on which the flat insulating film 103 is to be mounted. Thereafter, a flat insulating film 103 is mounted on the upper surface of the insulating layer 108. The insulating film 103 desirably has a larger area than the upper surface of the insulating layer 108.
From the viewpoint of supporting the flat insulating film 103, the insulating layer 108 is preferably mounted on the upper surface on the light receiving element side having a larger area.

図1に示すように、平板の絶縁性フィルム103は、受光素子101の上面と発光素子102の下面との間に、絶縁層108の上面に設けられている。この形状の絶縁性フィルム103は、例えば、金型などで型抜きすることによって得ることができる。したがって、絶縁性フィルム103の材料は、透明であり、金型などで簡単に切り抜くことができるような、素材、厚さのものが好ましい。この材料としては、例えばポリイミド樹脂が挙げられる。   As shown in FIG. 1, the flat insulating film 103 is provided on the upper surface of the insulating layer 108 between the upper surface of the light receiving element 101 and the lower surface of the light emitting element 102. The insulating film 103 having this shape can be obtained, for example, by die cutting with a mold or the like. Therefore, the material of the insulating film 103 is preferably a material and a thickness that are transparent and can be easily cut out with a mold or the like. An example of this material is polyimide resin.

一方、図1に示すように、リードフレーム104,105は、それぞれの端部の上面と下面とが対向する形状を有する。さらにリードフレーム104,105は、基板などに実装するための端部を有する。この形状のリードフレーム104,105は、例えば、エッチングまたはプレスにより得ることができる。リードフレーム104,105の材料としては、銅材や鉄材等を用いることができる。   On the other hand, as shown in FIG. 1, the lead frames 104 and 105 have a shape in which the upper surface and the lower surface of each end face each other. Furthermore, the lead frames 104 and 105 have end portions for mounting on a substrate or the like. The lead frames 104 and 105 having this shape can be obtained by etching or pressing, for example. As a material of the lead frames 104 and 105, a copper material, an iron material, or the like can be used.

図4から図6を参照しつつ、本発明によるフォトカプラの組立方法の一実施形態として、図1に示したフォトカプラ100の組立方法の一例を説明する。
本実施形態のフォトカプラの組立方法は以下のステップを含むものである。
(i)第1のリードフレーム104の上面に第1の光素子(受光素子101)を設け、第2のリードフレーム105の下面に第2の光素子(発光素子102)を設けるステップ。
(ii)受光素子101の上面に、第1のリードフレーム104の上面と受光素子101の上面とを接続するボンディングワイヤ110の最上点より高く、第1のリードフレーム104の上面と平行な上面を有する絶縁部120(絶縁性フィルム103、絶縁層108)を、第1のリードフレーム104から離間させて設けるステップ。
(iii)受光素子101の上面と発光素子102の下面とが絶縁部120(絶縁性フィルム103、絶縁層108)を挟んで対向し、絶縁部120が第2のリードフレーム105から離間するように、第1のリードフレームの上面104と、第2のリードフレーム105の下面とを固定するステップ。
本実施形態のフォトカプラの組立方法の各ステップについて説明する。
An example of a method for assembling the photocoupler 100 shown in FIG. 1 will be described as an embodiment of the method for assembling a photocoupler according to the present invention with reference to FIGS.
The method of assembling the photocoupler of this embodiment includes the following steps.
(I) A step of providing a first optical element (light receiving element 101) on the upper surface of the first lead frame 104 and providing a second optical element (light emitting element 102) on the lower surface of the second lead frame 105.
(Ii) The upper surface of the light receiving element 101 is higher than the uppermost point of the bonding wire 110 connecting the upper surface of the first lead frame 104 and the upper surface of the light receiving element 101 and parallel to the upper surface of the first lead frame 104. And a step of providing the insulating portion 120 (the insulating film 103 and the insulating layer 108) having the insulating portion 120 having a distance from the first lead frame 104.
(Iii) The upper surface of the light receiving element 101 and the lower surface of the light emitting element 102 are opposed to each other with the insulating portion 120 (insulating film 103, insulating layer 108) interposed therebetween, and the insulating portion 120 is separated from the second lead frame 105. Fixing the upper surface 104 of the first lead frame and the lower surface of the second lead frame 105;
Each step of the photocoupler assembly method of this embodiment will be described.

[ステップ(i)]
まず、受光素子101および発光素子102のそれぞれの取り付け部としてリードフレーム104,105を準備する(図4(a))。その後、リードフレーム105の下面に発光素子102を搭載する。
[ステップ(ii)、(iii)]
また、上述のウェハプロセスで得られた絶縁層108が形成された受光素子101をリードフレーム104の上面に搭載する(図4(a'))。続いて、ワイヤボンディングによりボンディングワイヤ110をそれぞれのリード端子に配線する(図4(b)(b'))。このとき、リードフレーム104の上面と受光素子101の上面とを接続するボンディングワイヤ110の最上点より高くなるように、平坦な上面を有する絶縁層108が設けられる。
次に、少量の透明樹脂(透明なシリコーン樹脂107を絶縁層108の上面に塗布し、その上に絶縁性フィルム103を搭載し、シリコーン樹脂107を硬化する(図4(c'))。このように、絶縁層108の上面に透明なシリコーン樹脂107を介して、絶縁性フィルム103を設ける。続いて、発光素子102に透明なシリコーン樹脂106を塗布する(図4(c))。このときは、絶縁層108の上面より広い面積を有する透明な絶縁性フィルム103が用いられる。
その後、発光素子102と受光素子101とが絶縁性フィルム103を挟んで対向するように、リードフレーム104の上面とリードフレーム105の下面とをシリコーン樹脂106,107を完全に硬化させ固定する。このとき、絶縁性フィルム103はリードフレーム104とリードフレーム105とから離間させて、直接接触させないように配置する(図5、図6(a))。これにより、受光素子101と発光素子102との光結合が形成される。
[Step (i)]
First, lead frames 104 and 105 are prepared as attachment portions of the light receiving element 101 and the light emitting element 102 (FIG. 4A). Thereafter, the light emitting element 102 is mounted on the lower surface of the lead frame 105.
[Step (ii), (iii)]
In addition, the light receiving element 101 on which the insulating layer 108 obtained by the above-described wafer process is formed is mounted on the upper surface of the lead frame 104 (FIG. 4A ′). Subsequently, the bonding wires 110 are wired to the respective lead terminals by wire bonding (FIGS. 4B and 4B). At this time, the insulating layer 108 having a flat upper surface is provided so as to be higher than the uppermost point of the bonding wire 110 that connects the upper surface of the lead frame 104 and the upper surface of the light receiving element 101.
Next, a small amount of transparent resin (transparent silicone resin 107 is applied to the upper surface of the insulating layer 108, the insulating film 103 is mounted thereon, and the silicone resin 107 is cured (FIG. 4 (c ′)). Thus, the insulating film 103 is provided on the upper surface of the insulating layer 108 via the transparent silicone resin 107. Subsequently, the transparent silicone resin 106 is applied to the light emitting element 102 (FIG. 4C). The transparent insulating film 103 having a larger area than the upper surface of the insulating layer 108 is used.
Thereafter, the upper surfaces of the lead frame 104 and the lower surface of the lead frame 105 are completely cured and fixed so that the light emitting element 102 and the light receiving element 101 face each other with the insulating film 103 interposed therebetween. At this time, the insulating film 103 is separated from the lead frame 104 and the lead frame 105 so as not to be in direct contact (FIGS. 5 and 6A). Thereby, the optical coupling between the light receiving element 101 and the light emitting element 102 is formed.

次に、封止材109を形成する(図6(b))。その後、リードフレームの不要な部分を除去し、図6(c)のような形状に整形する。以上により、図1のフォトカプラ100が得られる。   Next, the sealing material 109 is formed (FIG. 6B). Thereafter, unnecessary portions of the lead frame are removed and shaped into a shape as shown in FIG. Thus, the photocoupler 100 of FIG. 1 is obtained.

本実施形態の効果を説明する。本実施形態においては、組立時に平板の絶縁性フィルム103の下面を支持する支持機構として、第1のリードフレーム104の上面と平行な上面を有する絶縁層108が設けられている。この絶縁層108の上面に平板の絶縁性フィルム103が設けられるため、水平な面に平板の絶縁性フィルム103を搭載することができ絶縁性フィルム103の位置は安定する。このため、組立時に絶縁性フィルム103の回転や位置ズレが起こるのを防ぐことができる。   The effect of this embodiment will be described. In the present embodiment, an insulating layer 108 having an upper surface parallel to the upper surface of the first lead frame 104 is provided as a support mechanism for supporting the lower surface of the flat insulating film 103 during assembly. Since the flat insulating film 103 is provided on the upper surface of the insulating layer 108, the flat insulating film 103 can be mounted on a horizontal surface, and the position of the insulating film 103 is stabilized. For this reason, it is possible to prevent the insulating film 103 from rotating or misaligned during assembly.

また、絶縁性フィルム103は固体なので組立工程で変形しない。従って、組立時に絶縁性フィルム103は絶縁層108で支持されるので第1のリードフレーム104や第2のリードフレーム105と接触させなくても絶縁性フィルム103の位置を安定させることができる。また、絶縁層108はフォトカプラ100の構成要素としてそのまま組み込まれるだけである。従って、特許文献1の製造方法のように、一時的に絶縁性フィルムを支持するリードは必要としないのでサイズの小型化が図れ、樹脂封止前にリードを切断する工程を必要としないので、ワイヤ切れが起きる懸念はない。   Moreover, since the insulating film 103 is solid, it does not deform in the assembly process. Accordingly, since the insulating film 103 is supported by the insulating layer 108 during assembly, the position of the insulating film 103 can be stabilized without contacting the first lead frame 104 or the second lead frame 105. Further, the insulating layer 108 is simply incorporated as it is as a constituent element of the photocoupler 100. Therefore, unlike the manufacturing method of Patent Document 1, a lead that temporarily supports an insulating film is not required, so the size can be reduced, and a step of cutting the lead before resin sealing is not required. There is no concern about wire breakage.

また、絶縁層108の上面より広い面積を有する絶縁性フィルム103を絶縁層108の上に設け、リードフレーム104やリードフレーム105と離間させて配置されることで、内部沿面距離が十分に取れ絶縁耐圧が確保される。   In addition, an insulating film 103 having a larger area than the upper surface of the insulating layer 108 is provided on the insulating layer 108 and disposed away from the lead frame 104 and the lead frame 105, so that a sufficient internal creepage distance can be obtained for insulation. A breakdown voltage is secured.

更に、本実施形態においては、絶縁層108はボンディングワイヤ110の最上点より高い上面を有している。その場合、この絶縁性フィルム103の下面は、ボンディングワイヤ110の最上点よりも高い位置に形成される。このため、フィルム搭載時において、絶縁性フィルム103はボンディングワイヤ110に触れることがなくなるため、ワイヤの変形を防ぐことができる。   Furthermore, in this embodiment, the insulating layer 108 has an upper surface higher than the uppermost point of the bonding wire 110. In that case, the lower surface of the insulating film 103 is formed at a position higher than the uppermost point of the bonding wire 110. For this reason, since the insulating film 103 does not touch the bonding wire 110 when the film is mounted, deformation of the wire can be prevented.

以上の説明の通り、本実施形態においては、組立時に絶縁性フィルムの回転や位置ズレが起こるのを防ぎつつ、ワイヤの変形や切れを防止し、組立不良を防止するとともにサイズを小型化ことが可能である。   As described above, in this embodiment, while preventing rotation and displacement of the insulating film during assembly, it prevents deformation and breakage of the wire, prevents assembly failure, and reduces the size. Is possible.

ところで、上述した特許文献2のフォトカプラの場合、図11に示すように、このフォトカプラは、絶縁ケース基板11の上面に形成された受光チップ24と、受光チップ24の上面に形成された透明絶縁層25と、透明絶縁層25の上面に形成された発光チップ23とを備えるものである。
この透明絶縁層25は、上層側の発光チップ23の底面から外方向に突出して形成され、その一部は、下層側の受光チップ24のワイヤボンディングを妨げないよう折曲されている。
By the way, in the case of the above-described photocoupler of Patent Document 2, as shown in FIG. 11, this photocoupler includes a light receiving chip 24 formed on the upper surface of the insulating case substrate 11 and a transparent formed on the upper surface of the light receiving chip 24. The insulating layer 25 and the light emitting chip 23 formed on the upper surface of the transparent insulating layer 25 are provided.
The transparent insulating layer 25 is formed so as to protrude outward from the bottom surface of the light emitting chip 23 on the upper layer side, and a part thereof is bent so as not to interfere with the wire bonding of the light receiving chip 24 on the lower layer side.

このように、透明絶縁層25は、発光チップ23下面から上面にむかって折曲しているため、発光チップ23の上面がリードフレームの下面に形成された場合、この発光側リードフレームに透明絶縁層25の折曲部分が接触する可能性がある。
そのため、曲折した透明絶縁層25と発光側リードフレームとの接触による、絶縁耐圧の低下や組立の歩留まりの低下が懸念される。したがって、曲折した透明絶縁層25に接触しないように設計する必要があるが、その場合、発光チップ23、および発光側リードフレームのサイズを大きくすることができない問題があった。
Thus, since the transparent insulating layer 25 is bent from the lower surface of the light emitting chip 23 toward the upper surface, when the upper surface of the light emitting chip 23 is formed on the lower surface of the lead frame, the light emitting side lead frame is transparently insulated. There is a possibility that the bent portion of the layer 25 comes into contact.
For this reason, there is a concern that the dielectric breakdown voltage may decrease or the assembly yield may decrease due to the contact between the bent transparent insulating layer 25 and the light emitting side lead frame. Therefore, it is necessary to design so as not to contact the bent transparent insulating layer 25, but in this case, there is a problem that the size of the light emitting chip 23 and the light emitting side lead frame cannot be increased.

これに対して、本実施形態においては、図1に示すように、平板の絶縁性フィルム103が、受光素子101の上面と発光素子102の下面との間に、絶縁層108の上面に設けられている。
この絶縁性フィルム103は平板のため、絶縁性フィルム103の上面と対向するように形成された発光側のリードフレーム105と接触する可能性は低い。このため、この接触による組立の歩留まりの低下を防ぐことができる。さらに、本実施形態においては、発光素子、および発光側リードフレームのサイズを大きくすることも可能である。
In contrast, in the present embodiment, as shown in FIG. 1, a flat insulating film 103 is provided on the upper surface of the insulating layer 108 between the upper surface of the light receiving element 101 and the lower surface of the light emitting element 102. ing.
Since this insulating film 103 is a flat plate, it is unlikely to come into contact with the light-emitting side lead frame 105 formed to face the upper surface of the insulating film 103. For this reason, a decrease in assembly yield due to this contact can be prevented. Furthermore, in this embodiment, it is possible to increase the size of the light emitting element and the light emitting side lead frame.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。例えば、図2に示すように、本実施形態の変形例のフォトカプラ100は、絶縁部120を構成する絶縁性フィルム103および絶縁層108が一体に形成されていてもよい。この絶縁部120は受光素子101の上面に形成されている。この場合、本実施形態の効果が得られる。   The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made. For example, as shown in FIG. 2, in the photocoupler 100 according to the modification of the present embodiment, the insulating film 103 and the insulating layer 108 that constitute the insulating portion 120 may be integrally formed. The insulating part 120 is formed on the upper surface of the light receiving element 101. In this case, the effect of this embodiment can be obtained.

また、図3に示すように、本実施形態の変形例に係る絶縁層108は、発光素子102の下面と対向するように設けられた、光が通過する開口部140を有してもよい。上述の実施形態では、絶縁部120は、全体が透明である。これに対して、この変形例では、絶縁層108が不透明な材料で形成されていても、受光素子101上に受光面として開口部140が形成されているため、本実施形態の効果が得られる。   As illustrated in FIG. 3, the insulating layer 108 according to the modification of the present embodiment may include an opening 140 that is provided so as to face the lower surface of the light emitting element 102 and through which light passes. In the above-described embodiment, the insulating part 120 is entirely transparent. On the other hand, in this modification, even if the insulating layer 108 is formed of an opaque material, the opening 140 is formed as the light receiving surface on the light receiving element 101, and thus the effect of the present embodiment can be obtained. .

また、絶縁層108の形状は、上面視において、例えば矩形、円形状とすることができる。開口部140の形状は、上面視において、例えば矩形、円形状とすることができる。本変形例においては、開口部140は、絶縁層108の角部に設けられている。   The shape of the insulating layer 108 can be, for example, a rectangle or a circle when viewed from above. The shape of the opening 140 can be, for example, a rectangle or a circle when viewed from above. In the present modification, the opening 140 is provided at the corner of the insulating layer 108.

また、図13に示すように、本実施形態の変形例のフォトカプラ100においては、絶縁層161は筒状とすることができる。また、絶縁層161の形状は、上面視において、例えば矩形、円形状とすることができる。筒内部の形状は、上面視において、例えば矩形、円形状とすることができる。この絶縁層161(絶縁膜)の周辺部は遮光性部材で構成され、一方、筒内部は透明部材で構成されている。絶縁層161は、遮光性の筒部材の内部に透明樹脂を充填することで形成されている。
変形例のフォトカプラ100においては、受光素子101(受光IC)の上部に、筒状の絶縁層161を設けている。このとき、受光素子101中のPD163(photodiode)の上部に、絶縁層161の筒内部の透明領域の位置が合うように設けられている。
Moreover, as shown in FIG. 13, in the photocoupler 100 of the modification of this embodiment, the insulating layer 161 can be made into a cylindrical shape. The shape of the insulating layer 161 can be, for example, a rectangle or a circle when viewed from above. The shape inside the cylinder may be, for example, a rectangle or a circle when viewed from above. The peripheral portion of the insulating layer 161 (insulating film) is made of a light shielding member, while the inside of the tube is made of a transparent member. The insulating layer 161 is formed by filling a transparent resin inside the light shielding cylindrical member.
In the photocoupler 100 of the modified example, a cylindrical insulating layer 161 is provided on the light receiving element 101 (light receiving IC). At this time, the transparent region inside the cylinder of the insulating layer 161 is provided above the PD 163 (photodiode) in the light receiving element 101.

以上の構成により、発光素子102側から、透明樹脂107、絶縁フィルム162、筒の内側の透明樹脂および受光素子101側までを光結合路とする、フォトカプラ100の構造が得られる(図13)。このため、本変形例においては、実施例1と同様の効果が得られるとともに、さらに安定で形状のバラツキの少ない光結合を形成でき、光感度のバラツキを抑えられる。   With the above configuration, the structure of the photocoupler 100 is obtained in which the optical coupling path extends from the light emitting element 102 side to the transparent resin 107, the insulating film 162, the transparent resin inside the cylinder, and the light receiving element 101 side (FIG. 13). . For this reason, in this modified example, the same effects as those of the first embodiment can be obtained, and more stable optical coupling with less variation in shape can be formed, and variation in photosensitivity can be suppressed.

また、上記実施形態においては、リードフレーム104に受光素子101が搭載され、リードフレーム105に発光素子102が搭載される例を示した。しかし、リードフレーム104に発光素子102が搭載され、リードフレーム105に受光素子101が搭載されてもよい。   In the above embodiment, the light receiving element 101 is mounted on the lead frame 104 and the light emitting element 102 is mounted on the lead frame 105. However, the light emitting element 102 may be mounted on the lead frame 104 and the light receiving element 101 may be mounted on the lead frame 105.

11 絶縁ケース基板
16 リードフレーム
19 ボンディングワイヤ
20 絶縁性フィルム
22a 支持部
22b 支持部
23 発光チップ
24 受光チップ
25 透明絶縁層
100 フォトカプラ
101 受光素子
102 発光素子
103 絶縁性フィルム
104 リードフレーム
105 リードフレーム
106 樹脂
107 樹脂
108 絶縁層
109 封止材
110 ボンディングワイヤ
120 絶縁部
130 最上点
140 開口部
161 絶縁層
162 絶縁フィルム
163 PD(photodiode)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Insulation case board | substrate 16 Lead frame 19 Bonding wire 20 Insulating film 22a Support part 22b Support part 23 Light emitting chip 24 Light receiving chip 25 Transparent insulating layer 100 Photocoupler 101 Light receiving element 102 Light emitting element 103 Insulating film 104 Lead frame 105 Lead frame 106 Resin 107 Resin 108 Insulating layer 109 Sealing material 110 Bonding wire 120 Insulating part 130 Top point 140 Opening part 161 Insulating layer 162 Insulating film 163 PD (photodiode)

Claims (12)

第1のリードフレームの上面に第1の光素子を設け、第2のリードフレームの下面に第2の光素子を設けるステップと、
前記第1の光素子の上面に、前記第1のリードフレームの上面と前記第1の光素子の上面とを接続するボンディングワイヤの最上点より高く、前記第1のリードフレームの上面と平行な上面を有する絶縁部を、前記第1のリードフレームから離間させて設けるステップと、
前記第1の光素子の上面と前記第2の光素子の下面とが前記絶縁部を挟んで対向し、前記絶縁部が前記第2のリードフレームから離間するように、前記第1のリードフレームの上面と、前記第2のリードフレームの下面とを固定するステップと、
を含むことを特徴とするフォトカプラの組立方法。
Providing a first optical element on the top surface of the first lead frame and providing a second optical element on the bottom surface of the second lead frame;
The upper surface of the first optical element is higher than the highest point of the bonding wire connecting the upper surface of the first lead frame and the upper surface of the first optical element, and is parallel to the upper surface of the first lead frame. Providing an insulating portion having an upper surface spaced apart from the first lead frame;
The first lead frame such that an upper surface of the first optical element and a lower surface of the second optical element are opposed to each other with the insulating portion interposed therebetween, and the insulating portion is separated from the second lead frame. Fixing the upper surface of the second lead frame and the lower surface of the second lead frame;
A method of assembling a photocoupler.
前記絶縁部は、前記第1のリードフレームの上面と前記第1の光素子の上面とを接続する前記ボンディングワイヤの最上点より高い平坦な上面を有する絶縁層と、前記絶縁層の上面より広い面積を有する透明な絶縁性フィルムを備える請求項1に記載のフォトカプラの組立方法。   The insulating portion has an insulating layer having a flat upper surface higher than the uppermost point of the bonding wire connecting the upper surface of the first lead frame and the upper surface of the first optical element, and wider than the upper surface of the insulating layer The method for assembling a photocoupler according to claim 1, comprising a transparent insulating film having an area. 前記絶縁部を設けるステップにおいて、さらに前記絶縁層の上面に透明樹脂を塗布するステップと、
前記絶縁層の上面に前記透明樹脂を介して、前記絶縁性フィルムを設けるステップを含むことを特徴とする請求項2に記載のフォトカプラの組立方法。
In the step of providing the insulating part, further applying a transparent resin on the upper surface of the insulating layer;
3. The method of assembling a photocoupler according to claim 2, further comprising the step of providing the insulating film on the upper surface of the insulating layer via the transparent resin.
前記絶縁部は透明であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のフォトカプラの組立方法。   4. The method of assembling a photocoupler according to claim 1, wherein the insulating portion is transparent. 前記絶縁層と前記絶縁性フィルムとが一体的に形成されていることを特徴とする請求項2または3に記載のフォトカプラの組立方法。   4. The method of assembling a photocoupler according to claim 2, wherein the insulating layer and the insulating film are integrally formed. 前記第1の光素子が受光素子であることを特徴とする、請求項1から5のいずれかに記載のフォトカプラの組立方法。   6. The method of assembling a photocoupler according to claim 1, wherein the first optical element is a light receiving element. 第1のリードフレームと、
前記第1のリードフレームの上面と対向するように設けられた第2のリードフレームと、
前記第2のリードフレームの下面と対向するように、前記第1のリードフレームの上面に設けられた第1の光素子と、
前記第1の光素子の上面と対向するように、前記第2のリードフレームの下面に設けられた第2の光素子と、
前記第1のリードフレームの上面と前記第1の光素子の上面とを接続するボンディングワイヤと、
前記ボンディングワイヤの最上点より高い上面を有し、前記第1のリードフレームおよび前記第2のリードフレームを離間させて、前記第1の光素子の上面に設けられた前記第1のリードフレームの上面と平行な上面を有する絶縁部と、
を備えることを特徴とするフォトカプラ。
A first lead frame;
A second lead frame provided to face the upper surface of the first lead frame;
A first optical element provided on the upper surface of the first lead frame so as to face the lower surface of the second lead frame;
A second optical element provided on the lower surface of the second lead frame so as to face the upper surface of the first optical element;
A bonding wire connecting the upper surface of the first lead frame and the upper surface of the first optical element;
The first lead frame provided on the upper surface of the first optical element has an upper surface higher than an uppermost point of the bonding wire, and the first lead frame and the second lead frame are separated from each other. An insulating part having an upper surface parallel to the upper surface;
A photocoupler comprising:
前記絶縁部は、前記第1のリードフレームの上面と前記第1の光素子の上面とを接続するボンディングワイヤの最上点より高い平坦な上面を有する絶縁層と、前記絶縁層の上面より広い面積を有する透明な絶縁性フィルムを備えることを特徴とする請求項7に記載のフォトカプラ。   The insulating portion includes an insulating layer having a flat upper surface higher than the highest point of a bonding wire connecting the upper surface of the first lead frame and the upper surface of the first optical element, and an area wider than the upper surface of the insulating layer The photocoupler according to claim 7, further comprising a transparent insulating film having the following characteristics. 前記絶縁性フィルムおよび前記絶縁層は、一体に形成されていることを特徴とする請求項8に記載のフォトカプラ。   The photocoupler according to claim 8, wherein the insulating film and the insulating layer are integrally formed. 前記絶縁層は、前記第2の光素子の下面と対向するように設けられた、光が通過する開口部を有することを特徴とする請求項8または9に記載のフォトカプラ。   10. The photocoupler according to claim 8, wherein the insulating layer has an opening through which light passes and is provided so as to face a lower surface of the second optical element. 前記第1の光素子および前記第2の光素子の、一方は発光素子であり、他方は受光素子であることを特徴とする請求項7から10のいずれかに記載のフォトカプラ。   11. The photocoupler according to claim 7, wherein one of the first optical element and the second optical element is a light emitting element and the other is a light receiving element. 前記第1の光素子が前記受光素子であることを特徴とする、請求項11に記載のフォトカプラ。   The photocoupler according to claim 11, wherein the first optical element is the light receiving element.
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WO2022264981A1 (en) * 2021-06-14 2022-12-22 ローム株式会社 Insulation module

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