JP2010139397A - Leak check mechanism and vacuum equipment - Google Patents

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JP2010139397A JP2008316518A JP2008316518A JP2010139397A JP 2010139397 A JP2010139397 A JP 2010139397A JP 2008316518 A JP2008316518 A JP 2008316518A JP 2008316518 A JP2008316518 A JP 2008316518A JP 2010139397 A JP2010139397 A JP 2010139397A
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Katsunori Takahashi
克典 高橋
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To enable a leak to be detected exactly by combining a leak detector disposed at a vacuum chamber and a checking gas such as He gas or the like, in a leak check mechanism and a vacuum equipment. <P>SOLUTION: The leak check mechanism for checking the leak around an exhaust valve which is connected to the vacuum chamber and exhausts a vacuum pump, includes: a leak check section which can be switchably connected to one of the inside of the vacuum pump and a bypass line bypassing the inside of the vacuum pump and being connected to the vacuum chamber; and a control section which switchably controls the leak check section, such that the exhaust valve being in its opened state is communicated with the inside of the vacuum pump at an exhaust timing, and the exhaust valve being in its closed state is communicated with the bypass line at a leak check timing. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、リークチェック機構及び真空装置に係り、特に真空ポンプ部分のリークを検出するリークチェック機構及びそのようなリークチェック機構を備えた真空装置に関する。   The present invention relates to a leak check mechanism and a vacuum apparatus, and more particularly to a leak check mechanism for detecting a leak in a vacuum pump portion and a vacuum apparatus provided with such a leak check mechanism.

例えば磁気記録媒体を製造する際には、積層膜間の結晶整合性や良好な偏析構造を得るために、清浄な雰囲気の成膜環境が必要である。そこで、成膜装置等の真空装置では、クライオポンプやターボ分子ポンプ等の真空ポンプによる高い排気能力と、大気からのリーク排除が求められる。   For example, when manufacturing a magnetic recording medium, a film forming environment in a clean atmosphere is necessary to obtain crystal matching between laminated films and a good segregation structure. Therefore, a vacuum apparatus such as a film forming apparatus is required to have a high exhaust capability by a vacuum pump such as a cryopump or a turbo molecular pump and to eliminate leakage from the atmosphere.

クライオポンプは、例えば10K以下の極低温に冷却された冷却パネルに真空装置のチャンバ内部のガスを吸着させて溜め込んで排気する超高真空用のポンプである。クライオポンプのガス吸着量には限界があり、定期的に冷却パネルを加熱して排気(又は、再生)を行う必要がある。排気の際には、チャンバ側のバルブは閉じられ、吸着されたガスはクライオポンプ側の排気弁から排気ラインへ排気される。再生後に排気弁は閉じられるが、この排気弁の部分でリークが発生することがある。   The cryopump is an ultra-high vacuum pump that adsorbs gas inside a chamber of a vacuum apparatus to a cooling panel cooled to a cryogenic temperature of 10K or less, for example, and exhausts it. There is a limit to the amount of gas absorbed by the cryopump, and it is necessary to exhaust (or regenerate) by periodically heating the cooling panel. When exhausting, the valve on the chamber side is closed, and the adsorbed gas is exhausted from the exhaust valve on the cryopump side to the exhaust line. Although the exhaust valve is closed after regeneration, a leak may occur in the exhaust valve portion.

リークチェック(即ち、リークの確認)を行う方法としては、クライオポンプ内部に設置した圧力計を用いて、封止圧力上昇によるリークチェックを行う方法が一般的である。しかし、封止圧力上昇の計測は実用上、冷却パネルが有効になる前に行われ、計測が行われる圧力は真空室に接続された粗引きポンプによる粗引きにより10−3Pa程度である。 As a method for performing a leak check (that is, confirming a leak), a method of performing a leak check by increasing the sealing pressure using a pressure gauge installed inside a cryopump is generally used. However, the increase in the sealing pressure is practically performed before the cooling panel becomes effective, and the pressure at which the measurement is performed is about 10 −3 Pa due to roughing by a roughing pump connected to the vacuum chamber.

そこで、リークチェックを行う方法としては、Heガスをバルブや接続部に吹き付け、真空室に設置したリークディテクタによりHeガスを検出する方法も提案されている。バルブや接続部でリークが発生していると、吹き付けられたHeガスがチャンバまで達し、リークディテクタにより検出される。この場合、計測が行われる圧力は10−8Pa程度であり、リークディテクタを用いる方法の方が上記圧力計を用いる方法よりリーク検出能力が高く、測定精度及び測定時間の点でも上記圧力計を用いる方法より優れている。 Therefore, as a method for performing a leak check, a method has been proposed in which He gas is sprayed onto a valve or a connection portion, and the He gas is detected by a leak detector installed in a vacuum chamber. If a leak has occurred in the valve or the connection, the sprayed He gas reaches the chamber and is detected by the leak detector. In this case, the pressure at which the measurement is performed is about 10 −8 Pa, and the method using the leak detector has higher leak detection capability than the method using the pressure gauge, and the pressure gauge is also used in terms of measurement accuracy and measurement time. It is superior to the method used.

しかし、クライオポンプ側の排気弁でのリークチェックは、Heガスの検出感度が低く、リークを正しく検出できない場合がある。クライオポンプ側の排気弁でのリークチェックを行う場合、Heガスの検出感度が低い理由としては、(1)排気ラインを取り外す必要があること、(2)クライオポンプの冷却パネルは排気能力を高めるために複雑な配置を有し、Heガスの拡散が抑制されてしまうこと、(3)リークチェックを行なう際には既に冷却パネルが冷却されている場合が多く、Heガスの拡散が抑制されてしまうこと等が挙げられる。
特開2004−184207号公報 特開平9−324268号公報 特開平11−343973号公報 特開平5−223057号公報
However, in the leak check at the exhaust valve on the cryopump side, the detection sensitivity of He gas is low, and the leak may not be detected correctly. When performing a leak check at the exhaust valve on the cryopump side, the reason why the detection sensitivity of He gas is low is that (1) it is necessary to remove the exhaust line, and (2) the cooling panel of the cryopump increases the exhaust capacity. Therefore, it has a complicated arrangement and the diffusion of He gas is suppressed, and (3) when performing a leak check, the cooling panel is often already cooled, and the diffusion of He gas is suppressed. And so on.
JP 2004-184207 A JP-A-9-324268 Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-343973 Japanese Patent Laid-Open No. 5-223057

上記の如く、Heガスを使用したリークチェックの場合、クライオポンプの特性上、Heガスと真空室に設置したリークディテクタの組合せではリークを正確に検出できない場合があるという問題があった。   As described above, in the leak check using He gas, there is a problem that due to the characteristics of the cryopump, the combination of He gas and the leak detector installed in the vacuum chamber may not detect the leak accurately.

そこで、本発明は、Heガス等の検査用ガスと真空室に設置したリークディテクタの組み合わせでリークを正確に検出可能なリークチェック機構及び真空装置を提供することを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a leak check mechanism and a vacuum apparatus that can accurately detect a leak by a combination of a test gas such as He gas and a leak detector installed in a vacuum chamber.

本発明の一観点によれば、真空室に接続された真空ポンプの排気を行う排気弁の近傍のリークをチェックするリークチェック機構であって、前記真空ポンプ内部と前記真空ポンプ内部を迂回して前記真空室へ接続されたバイパスラインの一方に切り替え接続可能なリークチェック部と、排気時には前記真空ポンプ内部と開けられた前記排気弁が連通し、リークチェック時には閉められた前記排気弁と前記バイパスラインが連通するように前記リークチェック部を切り替え制御する制御部を備えたリークチェック機構が提供される。   According to one aspect of the present invention, there is provided a leak check mechanism for checking a leak in the vicinity of an exhaust valve that exhausts a vacuum pump connected to a vacuum chamber, and bypasses the inside of the vacuum pump and the inside of the vacuum pump. The leak check unit that can be switched to one of the bypass lines connected to the vacuum chamber communicates with the inside of the vacuum pump and the opened exhaust valve during exhaust, and the exhaust valve and the bypass closed during leak check There is provided a leak check mechanism including a control unit that switches and controls the leak check unit so that the lines communicate with each other.

本発明の一観点によれば、リークディテクタ及びリークチェック時にのみ開けられるバイパス弁を有する真空室と、前記真空室に接続され、排気弁を有する真空ポンプと、前記真空ポンプ内部と前記真空ポンプ内部を迂回して前記真空室へ前記バイパス弁を介して接続されたバイパスラインの一方に切り替え接続可能なリークチェック部と、排気時には前記真空ポンプ内部と開けられた前記排気弁が連通し、リークチェック時には閉められた前記排気弁と前記バイパスラインが連通するように前記リークチェック部を切り替え制御する制御部を備え、前記リークディテクタは、前記リークチェック時に前記排気弁の近傍に吹き付けられた検査用ガスが検出されるとリークを検出する真空装置が提供される。   According to one aspect of the present invention, a vacuum chamber having a leak detector and a bypass valve that can be opened only during a leak check, a vacuum pump connected to the vacuum chamber and having an exhaust valve, the vacuum pump, and the vacuum pump A leak check unit that can be switched to one of the bypass lines connected to the vacuum chamber via the bypass valve, and the exhaust valve that is opened and communicated with the inside of the vacuum pump at the time of evacuation. A control unit that switches and controls the leak check unit so that the exhaust valve that is sometimes closed and the bypass line communicates, and the leak detector is a gas for inspection that is blown in the vicinity of the exhaust valve during the leak check A vacuum device is provided that detects a leak when detected.

開示のリークチェック機構及び真空装置によれば、Heガス等の検査用ガスと真空室に設置したリークディテクタの組み合わせでリークを正確に検出可能となる。   According to the disclosed leak check mechanism and vacuum apparatus, a leak can be accurately detected by a combination of an inspection gas such as He gas and a leak detector installed in a vacuum chamber.

開示のリークチェック機構は、真空室に接続された真空ポンプの排気を行う排気弁の近傍のリークをチェックする。真空ポンプ内部と真空ポンプ内部を迂回して真空室へ接続されるバイパスラインの一方に切り替え接続可能なリークチェック部を設ける。又、排気時には真空ポンプ内部と開けられた排気弁が連通し、リークチェック時には閉められた排気弁とバイパスラインが連通するようにリークチェック部を切り替え制御する制御部を設ける。   The disclosed leak check mechanism checks a leak in the vicinity of an exhaust valve that exhausts a vacuum pump connected to a vacuum chamber. A leak check unit that can be switched and connected to one of the bypass line connected to the vacuum chamber bypassing the vacuum pump and the vacuum pump is provided. Further, a control unit is provided for switching and controlling the leak check unit so that the exhaust valve opened and the opened exhaust valve communicate with each other during exhaust, and the closed exhaust valve and the bypass line communicate with each other during leak check.

リークチェック時に排気弁の近傍にリークが発生していると、排気弁の近傍に吹き付けられた検査用ガスがバイパスラインを介して真空室へ到達するので、真空室に設けたリークディテクタにより検査用ガスを検出することで、リークを正確に検出することができる。   If there is a leak in the vicinity of the exhaust valve during the leak check, the inspection gas blown near the exhaust valve reaches the vacuum chamber via the bypass line. By detecting the gas, the leak can be detected accurately.

以下に、本発明のリークチェック機構及び真空装置の各実施例を、図面と共に説明する。   Embodiments of the leak check mechanism and the vacuum apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は、本発明の第1実施例における真空装置を示す図である。図1に示す真空装置1−1は、真空室(又は、チャンバ)2、真空室2に接続されたクライオポンプ3−1及びバルブ制御部4を有する。真空室2自体の基本構成は周知であるため、その詳細な説明は省略する。クライオポンプ3−1の基本構成のうち、後述するリークチェック機構以外の部分の構成は周知であるため、その詳細な説明は省略する。   FIG. 1 is a diagram showing a vacuum apparatus in a first embodiment of the present invention. A vacuum apparatus 1-1 shown in FIG. 1 includes a vacuum chamber (or chamber) 2, a cryopump 3-1 connected to the vacuum chamber 2, and a valve control unit 4. Since the basic configuration of the vacuum chamber 2 itself is well known, detailed description thereof is omitted. Of the basic configuration of the cryopump 3-1, the configuration of portions other than the later-described leak check mechanism is well known, and a detailed description thereof will be omitted.

真空室2には、チャンバ側バルブ21、リークディテクタ22、バイパス弁23及び粗引きポンプ24が設けられている。一方、クライオポンプ3−1には、真空計31、接続部32、冷却パネル33、コンプレッサ34、三方弁35、バイパスライン36、排気弁37、排気ライン38及び制御部39が設けられている。三方弁35及び排気弁37は、リークチェック部300を形成する。リークチェック部300は、バイパスライン36、バイパス弁23及びリークディテクタ22と共にリークチェック機構を形成する。バイパスライン36は、冷却パネル33と同じクライオポンプ3−1内の空間を通ってバイパス弁23を介して真空室2と接続されている。   The vacuum chamber 2 is provided with a chamber side valve 21, a leak detector 22, a bypass valve 23 and a roughing pump 24. On the other hand, the cryopump 3-1 is provided with a vacuum gauge 31, a connection part 32, a cooling panel 33, a compressor 34, a three-way valve 35, a bypass line 36, an exhaust valve 37, an exhaust line 38 and a control part 39. The three-way valve 35 and the exhaust valve 37 form a leak check unit 300. The leak check unit 300 forms a leak check mechanism together with the bypass line 36, the bypass valve 23 and the leak detector 22. The bypass line 36 is connected to the vacuum chamber 2 through the bypass valve 23 through the same space in the cryopump 3-1 as the cooling panel 33.

図2は、リークチェック機構の一部を制御部39と共に示す図である。三方弁35は、開閉可能な第1の開口がクライオポンプ3−1内部に連通する排気用ライン350に接続されており、開閉可能な第2の開口がクライオポンプ3−1内部を迂回してバイパス弁23を介して真空室2へ接続するバイパスライン36に接続されており、常時開いている第3の開口が排気弁37を介して排気ライン38に接続されている。排気弁37は、弁371、バネ372及びオーリング(Oリング)373を有する。制御部39は、ユーザからの指示、或いは、外部装置からの指示に基づいて、三方弁35の第1の開口を開けて第2の開口を閉じるか、或いは、第1の開口を閉じて第2の開口を開けるように切り替え制御する。排気(又は、再生)時には、クライオポンプ3−2内の圧力により排気弁37の弁371がバネ372に反して開くが、排気時以外には排気弁37は閉じている。   FIG. 2 is a diagram showing a part of the leak check mechanism together with the control unit 39. The three-way valve 35 has a first opening that can be opened and closed connected to an exhaust line 350 that communicates with the inside of the cryopump 3-1, and a second opening that can be opened and closed bypasses the inside of the cryopump 3-1. It is connected to a bypass line 36 connected to the vacuum chamber 2 via the bypass valve 23, and a third opening that is always open is connected to an exhaust line 38 via an exhaust valve 37. The exhaust valve 37 includes a valve 371, a spring 372, and an O-ring (O-ring) 373. Based on an instruction from the user or an instruction from an external device, the control unit 39 opens the first opening of the three-way valve 35 and closes the second opening, or closes the first opening and closes the first opening. Switching control is performed so as to open two openings. During exhaust (or regeneration), the valve 371 of the exhaust valve 37 opens against the spring 372 due to the pressure in the cryopump 3-2, but the exhaust valve 37 is closed except during exhaust.

排気時には、冷却パネル33は常温に戻されており、三方弁35の第1の開口を開いて排気用ライン350に連通させると共に第2の開口を閉じてバイパスライン36との連通を絶つことでクライオポンプ3−1内の吸着ガスを排気弁37を介して排気ライン38へ排気する。   At the time of exhaust, the cooling panel 33 is returned to room temperature, and the first opening of the three-way valve 35 is opened to communicate with the exhaust line 350 and the second opening is closed to disconnect the bypass line 36. The adsorbed gas in the cryopump 3-1 is exhausted to the exhaust line 38 via the exhaust valve 37.

一方、リークチェック時には、粗引きポンプ24により真空室2の粗引きを行い、冷却パネル33を高真空状態で冷却した状態で、三方弁35の第1の開口を閉じて排気用ライン350との連通を絶ち、第2の開口を開いてバイパスライン36に連通させる。バイパス弁23は、リークチェック時のみ開けられる。又、オペレータが、リークチェック用のHeガス等の検査用ガスを排気弁37の近傍に吹き付ける。これにより、排気後等の排気弁37の近傍でリークが発生している場合には、検査用ガスがクライオポンプ3−1内部を迂回して、バイパスライン36及びバイパス弁23を介して真空室2へ到達してリークディテクタ22により効率的に検出される。   On the other hand, at the time of leak check, roughing of the vacuum chamber 2 is performed by the roughing pump 24, and the cooling panel 33 is cooled in a high vacuum state, the first opening of the three-way valve 35 is closed and the exhaust line 350 is connected. The communication is cut off, and the second opening is opened to communicate with the bypass line 36. The bypass valve 23 is opened only at the time of leak check. Further, the operator blows an inspection gas such as a leak check He gas in the vicinity of the exhaust valve 37. Thereby, when a leak occurs in the vicinity of the exhaust valve 37 after exhausting or the like, the inspection gas bypasses the inside of the cryopump 3-1, and the vacuum chamber passes through the bypass line 36 and the bypass valve 23. 2 and is efficiently detected by the leak detector 22.

尚、本実施例では、リークチェック部300のうち、三方弁35がクライオポンプ3−1内部に設けられており、排気弁37はクライオポンプ3−1の外側に設けられているが、三方弁35及び排気弁37の両方をクライオポンプ3−1の内部に設けても良い。又、三方弁35と排気ライン38の接続は、バネ力を利用した排気弁37を介して行っているが、排気ライン38を三方弁35に直接接続して排気弁37を省略した構成としても良い。つまり、三方弁35が排気弁37の機能を兼ね備えた構成であっても良い。更に、三方弁35及び排気弁37の両方をクライオポンプ3−1の外側に設けても良い。   In this embodiment, in the leak check unit 300, the three-way valve 35 is provided inside the cryopump 3-1, and the exhaust valve 37 is provided outside the cryopump 3-1. Both 35 and the exhaust valve 37 may be provided inside the cryopump 3-1. The connection between the three-way valve 35 and the exhaust line 38 is made through the exhaust valve 37 using spring force. However, the exhaust line 37 may be directly connected to the three-way valve 35 and the exhaust valve 37 may be omitted. good. That is, the three-way valve 35 may have a function of the exhaust valve 37. Further, both the three-way valve 35 and the exhaust valve 37 may be provided outside the cryopump 3-1.

図3は、本発明の第2実施例における真空装置を示す図である。図3に示す真空装置1−2は、真空室(又は、チャンバ)2、クライオポンプ3−2及びバルブ制御部4を有する。図3中、図1と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略する。クライオポンプ3−2の基本構成のうち、リークチェック機構以外の部分の構成は周知であるため、その詳細な説明は省略する。   FIG. 3 is a view showing a vacuum apparatus in the second embodiment of the present invention. A vacuum apparatus 1-2 illustrated in FIG. 3 includes a vacuum chamber (or chamber) 2, a cryopump 3-2, and a valve control unit 4. In FIG. 3, the same parts as those in FIG. Of the basic configuration of the cryopump 3-2, the configuration of portions other than the leak check mechanism is well known, and thus detailed description thereof is omitted.

本実施例では、リークチェック部300、即ち、三方弁35及び排気弁37の両方がクライオポンプ3−2の外側に設けられている。このため、リークチェック部300のメインテナンス及び交換が容易に行える。   In the present embodiment, the leak check unit 300, that is, both the three-way valve 35 and the exhaust valve 37 are provided outside the cryopump 3-2. Therefore, maintenance and replacement of the leak check unit 300 can be easily performed.

図4は、本実施例のリークチェック動作を説明するフローチャートである。図4に示す処理は、真空装置1−2全体を制御する制御装置(図示せず)により実行される。図4において、ステップS1では、制御部39は制御装置の制御下で三方弁35を切り替え制御することで、三方弁35の第1の開口を開いて排気用ライン350に連通させると共に第2の開口を閉じてバイパスライン36との連通を絶つ。ステップS2では、制御装置の制御下で冷却パネル33を常温に戻し、ステップS3では制御装置の制御下でクライオポンプ3−2内の吸着ガスが排気弁37を介して排気ライン38へ排気されて排気が完了するまで待つ。   FIG. 4 is a flowchart for explaining the leak check operation of this embodiment. The process shown in FIG. 4 is executed by a control device (not shown) that controls the entire vacuum device 1-2. In FIG. 4, in step S <b> 1, the control unit 39 switches and controls the three-way valve 35 under the control of the control device, thereby opening the first opening of the three-way valve 35 to communicate with the exhaust line 350 and the second. The opening is closed and communication with the bypass line 36 is cut off. In step S2, the cooling panel 33 is returned to room temperature under the control of the control device. In step S3, the adsorbed gas in the cryopump 3-2 is exhausted to the exhaust line 38 via the exhaust valve 37 under the control of the control device. Wait until exhaust is complete.

排気が完了すると、ステップS4では、制御部39は制御装置の制御下で三方弁35を切り替え制御することで、三方弁35の第1の開口を閉じて排気用ライン350との連通を絶ち、第2の開口を開いてバイパスライン36に連通させる。ステップS5では、制御装置の制御下で粗引きポンプ24を制御して真空室2の粗引きを行い、ステップS6では制御装置の制御下で冷却パネル33を高真空状態で冷却する。ステップS7では、制御部39は制御装置の制御下で三方弁35の第1の開口を閉じて排気用ライン350との連通を絶ち、第2の開口を開いてバイパスライン36に連通させると共に、バイパス弁23を開く。図3では、バイパス弁23の開閉は、制御装置により直接制御されるものとするが、制御装置の制御下で制御部39により制御しても良い。   When the exhaust is completed, in step S4, the control unit 39 switches and controls the three-way valve 35 under the control of the control device, thereby closing the first opening of the three-way valve 35 and disconnecting the exhaust line 350, The second opening is opened to communicate with the bypass line 36. In step S5, the roughing pump 24 is controlled to perform roughing of the vacuum chamber 2 under the control of the control device, and in step S6, the cooling panel 33 is cooled in a high vacuum state under the control of the control device. In step S7, the control unit 39 closes the first opening of the three-way valve 35 under the control of the control device to cut off the communication with the exhaust line 350, opens the second opening and connects to the bypass line 36, and Open the bypass valve 23. In FIG. 3, the opening and closing of the bypass valve 23 is directly controlled by the control device, but may be controlled by the control unit 39 under the control of the control device.

ステップS8では、オペレータがリークチェック用のHeガス等の検査用ガスを排気弁37の近傍に吹き付ける。これにより、排気後等の排気弁37の近傍でリークが発生している場合には、検査用ガスがクライオポンプ3−2内部を迂回して、バイパスライン36及びバイパス弁23を介して真空室2へ到達してリークディテクタ22により効率的に検出される。ステップS9では、制御装置がリークディテクタ22により検査用ガスが検出されたか否か、即ち、リークが検出されたか否かを判定する。   In step S <b> 8, the operator blows an inspection gas such as a leak check He gas in the vicinity of the exhaust valve 37. As a result, when a leak occurs in the vicinity of the exhaust valve 37 after exhaust, etc., the inspection gas bypasses the inside of the cryopump 3-2, and the vacuum chamber passes through the bypass line 36 and the bypass valve 23. 2 and is efficiently detected by the leak detector 22. In step S9, the control device determines whether or not inspection gas has been detected by the leak detector 22, that is, whether or not a leak has been detected.

ステップS9の判定結果がYESであると、ステップS10ではオペレータがリークに対する適切な対処を取る。一方、ステップS9の判定結果がNOであると、ステップS11では、制御装置の制御下でバイパス弁23を閉じると共に、三方弁35を切り替え制御することで、三方弁35の第1の開口を開いて排気用ライン350に連通させると共に第2の開口を閉じてバイパスライン36との連通を絶つ。ステップS12以降では、真空装置1−2の通常の使用が開始され、成膜処理等が行われる。   If the decision result in the step S9 is YES, the operator takes an appropriate countermeasure against the leak in a step S10. On the other hand, if the determination result in step S9 is NO, in step S11, the bypass valve 23 is closed under the control of the control device, and the three-way valve 35 is switched and controlled to open the first opening of the three-way valve 35. Thus, the exhaust line 350 is communicated and the second opening is closed to disconnect the bypass line 36. After step S12, normal use of the vacuum device 1-2 is started, and a film forming process or the like is performed.

図5は、本発明の第3実施例における真空装置を示す図である。図5に示す真空装置1−3は、真空室(又は、チャンバ)2、クライオポンプ3−3及びバルブ制御部4を有する。図5中、図3と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略する。クライオポンプ3−3の基本構成のうち、リークチェック機構以外の部分の構成は周知であるため、その詳細な説明は省略する。   FIG. 5 is a view showing a vacuum apparatus in the third embodiment of the present invention. A vacuum apparatus 1-3 illustrated in FIG. 5 includes a vacuum chamber (or chamber) 2, a cryopump 3-3, and a valve control unit 4. 5 that are the same as those in FIG. 3 are given the same reference numerals, and descriptions thereof are omitted. Of the basic configuration of the cryopump 3-3, the configuration of portions other than the leak check mechanism is well known, and thus detailed description thereof is omitted.

本実施例では、クライオポンプ3−3内にHe供給ライン41及びHe供給器42が設けられている。He供給器42は、検査用ガスとしてHeガスをHe供給ライン41に供給し、Heガスは排気弁37の近傍に吹き付けられる。He供給器42を用いたHeガスの吹き付けは、オペレータの指示、或いは、制御装置からの指示に基づいて自動的に行われる。He供給器42及びHe供給ライン41は、リークチェック機構に含まれる検査用ガス吹き付け部を形成する。   In the present embodiment, a He supply line 41 and a He supplier 42 are provided in the cryopump 3-3. The He supplier 42 supplies He gas as an inspection gas to the He supply line 41, and the He gas is blown near the exhaust valve 37. The He gas blowing using the He supplier 42 is automatically performed based on an instruction from the operator or an instruction from the control device. The He supplier 42 and the He supply line 41 form an inspection gas blowing part included in the leak check mechanism.

図6は、本実施例のリークチェック動作を説明するフローチャートである。図6に示す処理は、真空装置1−3全体を制御する制御装置により実行される。図6において、ステップS21では、制御部39は制御装置の制御下で三方弁35を切り替え制御することで、三方弁35の第1の開口を開いて排気用ライン350に連通させると共に第2の開口を閉じてバイパスライン36との連通を絶つ。ステップS22では、制御装置の制御下で冷却パネル33を常温に戻し、ステップS23では制御装置の制御下でクライオポンプ3−3内の吸着ガスが排気弁37を介して排気ライン38へ排気されて排気が完了するまで待つ。   FIG. 6 is a flowchart for explaining the leak check operation of this embodiment. The process shown in FIG. 6 is executed by a control device that controls the entire vacuum device 1-3. In FIG. 6, in step S21, the control unit 39 switches and controls the three-way valve 35 under the control of the control device, thereby opening the first opening of the three-way valve 35 to communicate with the exhaust line 350 and the second. The opening is closed and communication with the bypass line 36 is cut off. In step S22, the cooling panel 33 is returned to room temperature under the control of the control device. In step S23, the adsorbed gas in the cryopump 3-3 is exhausted to the exhaust line 38 via the exhaust valve 37 under the control of the control device. Wait until exhaust is complete.

排気が完了すると、ステップS24では、制御部39は制御装置の制御下で三方弁35を切り替え制御することで、三方弁35の第1の開口を閉じて排気用ライン350との連通を絶ち、第2の開口を開いてバイパスライン36に連通させる。ステップS25では、制御装置の制御下で粗引きポンプ24を制御して真空室2の粗引きを行い、ステップS26では制御装置の制御下で冷却パネル33を高真空状態で冷却する。ステップS27では、制御部39は制御装置の制御下で三方弁35の第1の開口を閉じて排気用ライン350との連通を絶ち、第2の開口を開いてバイパスライン36に連通させると共に、バイパス弁23を開く。図5では、バイパス弁23の開閉は、制御装置の制御下で制御部39により制御されるものとするが、制御装置により直接制御しても良い。   When exhaust is completed, in step S24, the control unit 39 switches and controls the three-way valve 35 under the control of the control device, thereby closing the first opening of the three-way valve 35 and disconnecting the exhaust line 350, The second opening is opened to communicate with the bypass line 36. In step S25, the roughing pump 24 is controlled to perform roughing of the vacuum chamber 2 under the control of the control device, and in step S26, the cooling panel 33 is cooled in a high vacuum state under the control of the control device. In step S27, the control unit 39 closes the first opening of the three-way valve 35 under the control of the control device to cut off the communication with the exhaust line 350, opens the second opening to connect to the bypass line 36, and Open the bypass valve 23. In FIG. 5, the opening and closing of the bypass valve 23 is controlled by the control unit 39 under the control of the control device, but may be directly controlled by the control device.

ステップS28では、制御装置の制御下でHe供給器42がリークチェック用のHeガスをHe供給ライン41を介して排気弁37の近傍に吹き付ける。これにより、排気後等の排気弁37の近傍でリークが発生している場合には、Heガスがクライオポンプ3−3内部を迂回して、バイパスライン36及びバイパス弁23を介して真空室2へ到達してリークディテクタ22により効率的に検出される。ステップS29では、制御装置がリークディテクタ22により検査用ガスが検出されたか否か、即ち、リークが検出されたか否かを判定する。   In step S <b> 28, the He supplier 42 blows a leak check He gas to the vicinity of the exhaust valve 37 via the He supply line 41 under the control of the control device. Thereby, when a leak has occurred in the vicinity of the exhaust valve 37 after exhaust, etc., the He gas bypasses the inside of the cryopump 3-3, and the vacuum chamber 2 passes through the bypass line 36 and the bypass valve 23. And is efficiently detected by the leak detector 22. In step S29, the control device determines whether or not the inspection gas is detected by the leak detector 22, that is, whether or not a leak is detected.

ステップS29の判定結果がYESであると、ステップS30ではオペレータがリークに対する適切な対処を取る。一方、ステップS29の判定結果がNOであると、ステップS31では、制御装置の制御下でバイパス弁23を閉じると共に、三方弁35を切り替え制御することで、三方弁35の第1の開口を開いて排気用ライン350に連通させると共に第2の開口を閉じてバイパスライン36との連通を絶つ。ステップS32以降では、真空装置1−3の通常の使用が開始され、成膜処理等が行われる。   If the decision result in the step S29 is YES, the operator takes an appropriate countermeasure against the leak in a step S30. On the other hand, if the determination result in step S29 is NO, in step S31, the bypass valve 23 is closed and the three-way valve 35 is switched and controlled to open the first opening of the three-way valve 35 in step S31. Thus, the exhaust line 350 is communicated and the second opening is closed to disconnect the bypass line 36. In step S32 and subsequent steps, normal use of the vacuum device 1-3 is started, and film formation processing and the like are performed.

上記各実施例において、真空装置は、例えば磁気記録媒体や半導体装置等を製造する際に用いる成膜装置として使用可能である。Heガス等の検査用ガスと真空室に設置したリークディテクタの組み合わせでリークを正確に検出することができるので、リークに対する適切な対処により磁気記録媒体や半導体装置等の生産性を向上することが可能となる。   In each of the above embodiments, the vacuum apparatus can be used as a film forming apparatus used when manufacturing a magnetic recording medium, a semiconductor device, or the like. Since a leak can be accurately detected by a combination of an inspection gas such as He gas and a leak detector installed in a vacuum chamber, it is possible to improve the productivity of magnetic recording media, semiconductor devices, etc. by appropriate measures against the leak. It becomes possible.

以上の実施例を含む実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。
(付記1)
真空室に接続された真空ポンプの排気を行う排気弁の近傍のリークをチェックするリークチェック機構であって、
前記真空ポンプ内部と前記真空ポンプ内部を迂回して前記真空室へ接続されたバイパスラインの一方に切り替え接続可能なリークチェック部と、
排気時には前記真空ポンプ内部と開けられた前記排気弁が連通し、リークチェック時には閉められた前記排気弁と前記バイパスラインが連通するように前記リークチェック部を切り替え制御する制御部を備えた、リークチェック機構。
(付記2)
前記バイパスラインと前記真空室を接続すると共に、リークチェック時のみに開けられるバイパス弁を更に備えた、付記1記載のリークチェック機構。
(付記3)
前記リークチェック部は、前記排気弁の機能を備えた三方弁を有する、付記1又は2記載のリークチェック機構。
(付記4)
前記リークチェック部は、前記真空ポンプ内部と前記バイパスラインに接続された三方弁と、前記三方弁と接続された前記排気弁を有する、付記1又は2記載のリークチェック機構。
(付記5)
前記排気弁は、前記真空ポンプ内の圧力に応じて前記排気時に開けられ、前記リークチェック時に閉じる、付記3又は4記載のリークチェック機構。
(付記6)
検査用ガスを前記排気弁の近傍に吹き付ける検査用ガス吹き付け部を更に備えた、付記1〜5のいずれか1項記載のリークチェック機構。
(付記7)
リークディテクタ及びリークチェック時にのみ開けられるバイパス弁を有する真空室と、
前記真空室に接続され、排気弁を有する真空ポンプと、
前記真空ポンプ内部と前記真空ポンプ内部を迂回して前記真空室へ前記バイパス弁を介して接続されたバイパスラインの一方に切り替え接続可能なリークチェック部と、
排気時には前記真空ポンプ内部と開けられた前記排気弁が連通し、リークチェック時には閉められた前記排気弁と前記バイパスラインが連通するように前記リークチェック部を切り替え制御する制御部を備え、
前記リークディテクタは、前記リークチェック時に前記排気弁の近傍に吹き付けられた検査用ガスが検出されるとリークを検出する、真空装置。
(付記8)
前記リークチェック部は、前記排気弁の機能を備えた三方弁を有する、付記7記載の真空装置。
(付記9)
前記リークチェック部は、前記真空ポンプ内部と前記バイパスラインに接続された三方弁と、前記三方弁と接続された前記排気弁を有する、付記7記載の真空装置。
(付記10)
前記排気弁は、前記真空ポンプ内の圧力に応じて前記排気時に開けられ、前記リークチェック時に閉じる、付記8又は9記載の真空装置。
(付記11)
検査用ガスを前記排気弁の近傍に吹き付ける検査用ガス吹き付け部を更に備えた、付記7〜10のいずれか1項記載の真空装置。
The following additional notes are further disclosed with respect to the embodiment including the above examples.
(Appendix 1)
A leak check mechanism for checking a leak in the vicinity of an exhaust valve for exhausting a vacuum pump connected to a vacuum chamber,
A leak check unit that can be switched and connected to one of bypass lines connected to the vacuum chamber by bypassing the vacuum pump and the vacuum pump,
A leak unit comprising a control unit that switches and controls the leak check unit so that the exhaust valve opened and the opened exhaust valve communicate with each other during exhaust, and the exhaust valve closed and the bypass line communicate with each other during leak check Check mechanism.
(Appendix 2)
The leak check mechanism according to claim 1, further comprising a bypass valve that connects the bypass line and the vacuum chamber and is opened only at the time of leak check.
(Appendix 3)
The leak check mechanism according to appendix 1 or 2, wherein the leak check unit includes a three-way valve having a function of the exhaust valve.
(Appendix 4)
The leak check mechanism according to claim 1 or 2, wherein the leak check unit includes a three-way valve connected to the inside of the vacuum pump and the bypass line, and the exhaust valve connected to the three-way valve.
(Appendix 5)
The leak check mechanism according to appendix 3 or 4, wherein the exhaust valve is opened during the exhaust according to the pressure in the vacuum pump and closed during the leak check.
(Appendix 6)
The leak check mechanism according to any one of appendices 1 to 5, further comprising an inspection gas spraying section for spraying an inspection gas in the vicinity of the exhaust valve.
(Appendix 7)
A vacuum chamber having a leak detector and a bypass valve that can only be opened during a leak check;
A vacuum pump connected to the vacuum chamber and having an exhaust valve;
A leak check unit that can be switched and connected to one of bypass lines connected to the vacuum chamber via the bypass valve, bypassing the vacuum pump and the vacuum pump;
A control unit that switches and controls the leak check unit so that the exhaust valve opened and the opened exhaust valve communicate with each other during exhaust, and the exhaust valve closed and the bypass line communicate with each other during leak check,
The said leak detector is a vacuum device which detects a leak, if the test gas sprayed in the vicinity of the said exhaust valve at the time of the said leak check is detected.
(Appendix 8)
The vacuum apparatus according to appendix 7, wherein the leak check unit includes a three-way valve having a function of the exhaust valve.
(Appendix 9)
The vacuum apparatus according to appendix 7, wherein the leak check unit includes a three-way valve connected to the inside of the vacuum pump and the bypass line, and the exhaust valve connected to the three-way valve.
(Appendix 10)
The vacuum apparatus according to appendix 8 or 9, wherein the exhaust valve is opened during the exhaust according to the pressure in the vacuum pump and closed during the leak check.
(Appendix 11)
The vacuum apparatus according to any one of appendices 7 to 10, further comprising an inspection gas spraying section for spraying an inspection gas in the vicinity of the exhaust valve.

以上、本発明を実施例により説明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変形及び改良が可能であることは言うまでもない。   While the present invention has been described with reference to the embodiments, it is needless to say that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications and improvements can be made within the scope of the present invention.

本発明の第1実施例における真空装置を示す図である。It is a figure which shows the vacuum apparatus in 1st Example of this invention. リークチェック機構の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of leak check mechanism. 本発明の第2実施例における真空装置を示す図である。It is a figure which shows the vacuum apparatus in 2nd Example of this invention. 第2実施例のリークチェック動作を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the leak check operation | movement of 2nd Example. 本発明の第3実施例における真空装置を示す図である。It is a figure which shows the vacuum apparatus in 3rd Example of this invention. 第3実施例のリークチェック動作を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the leak check operation | movement of 3rd Example.

符号の説明Explanation of symbols

1−1,1−2,1−3 真空装置
2 真空室
3−1,3−2,3−3 クライオポンプ
22 リークディテクタ
23 バイパス弁
35 三方弁
36 バイパスライン
37 排気弁
39 制御部
300 リークチェック部
1-1, 1-2, 1-3 Vacuum device 2 Vacuum chamber 3-1, 3-2, 3-3 Cryopump 22 Leak detector 23 Bypass valve 35 Three-way valve 36 Bypass line 37 Exhaust valve 39 Control unit 300 Leak check Part

Claims (6)

真空室に接続された真空ポンプの排気を行う排気弁の近傍のリークをチェックするリークチェック機構であって、
前記真空ポンプ内部と前記真空ポンプ内部を迂回して前記真空室へ接続されたバイパスラインの一方に切り替え接続可能なリークチェック部と、
排気時には前記真空ポンプ内部と開けられた前記排気弁が連通し、リークチェック時には閉められた前記排気弁と前記バイパスラインが連通するように前記リークチェック部を切り替え制御する制御部を備えた、リークチェック機構。
A leak check mechanism for checking a leak in the vicinity of an exhaust valve for exhausting a vacuum pump connected to a vacuum chamber,
A leak check unit that can be switched and connected to one of bypass lines connected to the vacuum chamber by bypassing the vacuum pump and the vacuum pump,
A leak unit comprising a control unit that switches and controls the leak check unit so that the exhaust valve opened and the opened exhaust valve communicate with each other during exhaust, and the exhaust valve closed and the bypass line communicate with each other during leak check Check mechanism.
リークディテクタ及びリークチェック時にのみ開けられるバイパス弁を有する真空室と、
前記真空室に接続され、排気弁を有する真空ポンプと、
前記真空ポンプ内部と前記真空ポンプ内部を迂回して前記真空室へ前記バイパス弁を介して接続されたバイパスラインの一方に切り替え接続可能なリークチェック部と、
排気時には前記真空ポンプ内部と開けられた前記排気弁が連通し、リークチェック時には閉められた前記排気弁と前記バイパスラインが連通するように前記リークチェック部を切り替え制御する制御部を備え、
前記リークディテクタは、前記リークチェック時に前記排気弁の近傍に吹き付けられた検査用ガスが検出されるとリークを検出する、真空装置。
A vacuum chamber having a leak detector and a bypass valve that can only be opened during a leak check;
A vacuum pump connected to the vacuum chamber and having an exhaust valve;
A leak check unit that can be switched and connected to one of bypass lines connected to the vacuum chamber via the bypass valve, bypassing the vacuum pump and the vacuum pump;
A control unit that switches and controls the leak check unit so that the exhaust valve opened and the opened exhaust valve communicate with each other during exhaust, and the exhaust valve closed and the bypass line communicate with each other during leak check,
The said leak detector is a vacuum device which detects a leak, if the test gas sprayed in the vicinity of the said exhaust valve at the time of the said leak check is detected.
前記リークチェック部は、前記排気弁の機能を備えた三方弁を有する、請求項2記載の真空装置。   The vacuum apparatus according to claim 2, wherein the leak check unit includes a three-way valve having a function of the exhaust valve. 前記リークチェック部は、前記真空ポンプ内部と前記バイパスラインに接続された三方弁と、前記三方弁と接続された前記排気弁を有する、請求項3記載の真空装置。   The vacuum apparatus according to claim 3, wherein the leak check unit includes a three-way valve connected to the inside of the vacuum pump and the bypass line, and the exhaust valve connected to the three-way valve. 前記排気弁は、前記真空ポンプ内の圧力に応じて前記排気時に開けられ、前記リークチェック時に閉じる、請求項3又は4記載の真空装置。   The vacuum apparatus according to claim 3 or 4, wherein the exhaust valve is opened during the exhaust according to the pressure in the vacuum pump and closed during the leak check. 検査用ガスを前記排気弁の近傍に吹き付ける検査用ガス吹き付け部を更に備えた、請求項2〜5のいずれか1項記載の真空装置。   The vacuum apparatus according to any one of claims 2 to 5, further comprising an inspection gas spraying section for spraying an inspection gas in the vicinity of the exhaust valve.
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