JP2010136005A - Amplifying circuit, reference voltage generation circuit, integrated circuit device, electro-optical device, and electronic equipment - Google Patents

Amplifying circuit, reference voltage generation circuit, integrated circuit device, electro-optical device, and electronic equipment Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To output a highly accurate voltage after minimizing a harmful effect of a parasitic capacitance, or the like. <P>SOLUTION: This amplifying circuit includes an operational amplifier OP, a capacitor CA for charge storage provided between an input node NI and a first input terminal NEG of the operational amplifier OP, and a capacitor CC for phase compensation provided in an output terminal of the operational amplifier OP, wherein the capacitor CA for charge storage is configured by a first type of a capacitor Type 1 in which electrodes of both ends are formed of a metal layer or polysilicon layer, the capacitor CC for phase compensation is configured by a second type of a capacitor Type 2 in which one electrode is formed of a polysillicon layer and the other electrode is formed of an impurity layer, and the capacitor CC for phase compensation is arranged under the capacitor CA for charge storage in a planar view. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、増幅回路、基準電圧生成回路、集積回路装置、電気光学装置、及び電子機器等に関する。   The present invention relates to an amplifier circuit, a reference voltage generation circuit, an integrated circuit device, an electro-optical device, an electronic apparatus, and the like.

従来より、携帯電話機などの電子機器に用いられる液晶パネル(電気光学装置、表示パネル)として、単純マトリクス方式の液晶パネルと、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor)などのスイッチ素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶パネルとが知られている。   Conventionally, as a liquid crystal panel (electro-optical device, display panel) used in an electronic device such as a cellular phone, a liquid crystal panel of a simple matrix type and an active matrix type liquid crystal using a switching element such as a thin film transistor (Thin Film Transistor). The panel is known.

そして、近年、液晶パネルの画面サイズの拡大や画素数の増加により、液晶パネルのデータ線の本数が増大する一方、各データ線に与える電圧の高精度化が要求されている。更には、液晶パネルを搭載するバッテリ駆動の電子機器の軽量小型化の要求により、液晶パネルのデータ線を駆動する増幅回路の低消費電力化やチップサイズの縮小化も要求されている。このような液晶パネルのデータ線を駆動する増幅回路を含む集積回路装置としては、例えば、特許文献1、2に開示される従来技術がある。
特開2005−175811号公報 特開2005−175812号公報
In recent years, the number of data lines of the liquid crystal panel has increased due to the increase in the screen size of the liquid crystal panel and the increase in the number of pixels, while the accuracy of the voltage applied to each data line is required. Furthermore, due to the demand for lighter and smaller battery-powered electronic devices equipped with a liquid crystal panel, it is also required to reduce the power consumption and the chip size of the amplifier circuit that drives the data lines of the liquid crystal panel. As an integrated circuit device including an amplifier circuit for driving such a data line of a liquid crystal panel, there are conventional techniques disclosed in Patent Documents 1 and 2, for example.
JP 2005-175811 A JP 2005-175812 A

このような集積回路装置では、例えば液晶パネルのデータ線を駆動したり、階調電圧を生成するための増幅回路が設けられている。そして、これまでは、このような増幅回路として、いわゆるボルテージフォロワ接続の増幅回路が用いられていた。   In such an integrated circuit device, for example, an amplifier circuit for driving a data line of a liquid crystal panel and generating a gradation voltage is provided. So far, a so-called voltage follower-connected amplifier circuit has been used as such an amplifier circuit.

しかしながら、ボルテージフォロワ接続の増幅回路では、演算増幅器のオフセット電圧が原因で、データ線の出力電圧にバラツキが生じるという問題があった。   However, the voltage follower-connected amplifier circuit has a problem in that the output voltage of the data line varies due to the offset voltage of the operational amplifier.

このため、本出願人は、電荷蓄積用キャパシタを用いるタイプの増幅回路の開発を行っている。ところが、このような電荷蓄積用キャパシタを用いた増幅回路では、キャパシタの容量値に電圧依存性があると、出力電圧に誤差が生じてしまうという問題がある。一方、このような増幅回路では、その発振を防止するための位相補償用キャパシタを設けることが望ましく、このような電荷蓄積用キャパシタと位相補償用キャパシタを如何にして効率的にレイアウト配置するのかも課題になる。   For this reason, the present applicant has developed an amplifier circuit of a type using a charge storage capacitor. However, in an amplifier circuit using such a charge storage capacitor, there is a problem that an error occurs in the output voltage if the capacitance value of the capacitor has voltage dependency. On the other hand, in such an amplifier circuit, it is desirable to provide a phase compensation capacitor to prevent the oscillation, and how such a charge storage capacitor and a phase compensation capacitor can be efficiently laid out. It becomes a challenge.

本発明の幾つかの態様によれば、位相補償等と高精度な電圧出力とを両立できる増幅回路、基準電圧生成回路、集積回路装置、電気光学装置、及び電子機器を提供できる。   According to some aspects of the present invention, it is possible to provide an amplifier circuit, a reference voltage generation circuit, an integrated circuit device, an electro-optical device, and an electronic device that can achieve both phase compensation and high-accuracy voltage output.

本発明の一態様は、演算増幅器と、入力ノードと前記演算増幅器の第1の入力端子との間に設けられる電荷蓄積用キャパシタと、前記演算増幅器の出力端子に設けられる位相補償用キャパシタと、を含み、前記電荷蓄積用キャパシタは、両端の電極が金属層又はポリシリコン層で形成される第1タイプのキャパシタで構成され、前記位相補償用キャパシタは、一方の電極がポリシリコン層で、他方の電極が不純物層で形成される第2タイプのキャパシタで構成される増幅回路に関係する。   One aspect of the present invention is an operational amplifier, a charge storage capacitor provided between an input node and a first input terminal of the operational amplifier, a phase compensation capacitor provided at an output terminal of the operational amplifier, The charge storage capacitor is formed of a first type capacitor in which electrodes at both ends are formed of a metal layer or a polysilicon layer, and the phase compensation capacitor has one electrode of a polysilicon layer and the other of the other This is related to an amplifying circuit composed of a second type capacitor formed of an impurity layer.

本発明の一態様によれば、容量値に電圧依存性のない第1タイプのキャパシタを増幅回路の入力ノードに設けられる電荷蓄積用キャパシタに使用することによって、入力電圧に応じた適正な出力電圧を出力できるようになる。また、容量値に電圧依存性があるが
、同じ面積でより大きな容量が得られる第2タイプのキャパシタを、電圧依存性の影響をそれほど受けない位相補償用キャパシタとして使用することによって、演算増幅器の発振を防止した上で増幅回路のレイアウト効率を向上できる。
According to one aspect of the present invention, an appropriate output voltage corresponding to an input voltage can be obtained by using a first type capacitor having no voltage dependence on a capacitance value as a charge storage capacitor provided at an input node of an amplifier circuit. Can be output. In addition, by using the second type capacitor that has a voltage dependency in the capacitance value but can obtain a larger capacitance in the same area as a phase compensation capacitor that is not significantly affected by the voltage dependency, The layout efficiency of the amplifier circuit can be improved while preventing oscillation.

このとき、本発明の一態様では、前記位相補償用キャパシタは、平面視において前記電荷蓄積用キャパシタの下方に配置されることとしてもよい。   At this time, in one aspect of the present invention, the phase compensation capacitor may be disposed below the charge storage capacitor in plan view.

このようにすれば、電荷蓄積用キャパシタの下方に有するスペースを有効利用して、位相補償用キャパシタを配置することによって、少ない面積を利用して効率的に電荷蓄積用キャパシタと位相補償用キャパシタをレイアウト配置できる。   In this way, by effectively using the space below the charge storage capacitor and arranging the phase compensation capacitor, the charge storage capacitor and the phase compensation capacitor can be efficiently used using a small area. Layout can be arranged.

また、本発明の一態様では、前記増幅回路の入力ノードと第1のノードとの間に設けられる第1のスイッチ素子と、前記第1のノードと前記演算増幅器の第1の入力端子のノードであるサミングノードとの間に設けられる第1のキャパシタと、前記第1のノードとアナログ基準電源との間に設けられる第2のスイッチ素子と、第2のノードと前記サミングノードとの間に設けられる第2のキャパシタと、前記第2のノードと前記増幅回路の出力ノードとの間に設けられる第3のスイッチ素子と、前記第2のノードと前記アナログ基準電源との間に設けられた第4のスイッチ素子と、前記出力ノードと前記サミングノードとの間に設けられた第5のスイッチ素子と、を含み、前記第1のキャパシタ及び前記第2のキャパシタが、前記第1タイプのキャパシタで構成される前記電荷蓄積用キャパシタであることとしてもよい。   In one embodiment of the present invention, a first switch element provided between an input node of the amplifier circuit and a first node, a node of the first node and a first input terminal of the operational amplifier A first capacitor provided between the first node and the summing node, a second switch element provided between the first node and the analog reference power source, and a second node between the second node and the summing node. A second capacitor provided; a third switch element provided between the second node and an output node of the amplifier circuit; and provided between the second node and the analog reference power source. A fourth switch element; and a fifth switch element provided between the output node and the summing node, wherein the first capacitor and the second capacitor are the first type. It may be the charge storage capacitor composed of a capacitor.

このようにすれば、第1のキャパシタ、第2のキャパシタを用いることで出力電圧の連続的な出力が可能になるので、増幅回路にオフセットキャンセル機能を持たせることができる。   In this way, since the output voltage can be continuously output by using the first capacitor and the second capacitor, the amplifier circuit can have an offset cancel function.

また、本発明の一態様では、前記位相補償用キャパシタは、前記第1のキャパシタ及び前記第2のキャパシタの下方に配置されることとしてもよい。   In the aspect of the invention, the phase compensation capacitor may be disposed below the first capacitor and the second capacitor.

このようにすれば、第1のキャパシタ及び第2のキャパシタの下方に有するスペースを有効利用して、位相補償用キャパシタを配置することによって、少ない面積を利用して効率的に第1のキャパシタ及び第2のキャパシタと位相補償用キャパシタをレイアウト配置できる。   In this way, by effectively using the space below the first capacitor and the second capacitor and arranging the phase compensation capacitor, the first capacitor and the efficient use of a small area can be achieved. The second capacitor and the phase compensation capacitor can be laid out.

また、本発明の一態様では、前記第1のキャパシタが形成される第1のキャパシタ領域と、前記第2のキャパシタが形成される第2のキャパシタ領域が、第1の方向に沿って配置され、前記第1の方向の反対方向を第3の方向とした場合に、前記第1、第2のスイッチ素子が、前記第1、第2のキャパシタ領域の前記第3の方向側に配置され、前記第3、第4のスイッチ素子が、前記第1、第2のキャパシタ領域の前記第1の方向側に配置され、前記第1の方向に直交する方向を第2の方向とした場合に、前記サミングノードのラインであるサミングノードラインが、前記第1、第2、第3、第4のスイッチ素子の前記第2の方向側に配線されることとしてもよい。   In one embodiment of the present invention, a first capacitor region in which the first capacitor is formed and a second capacitor region in which the second capacitor is formed are arranged along a first direction. When the direction opposite to the first direction is the third direction, the first and second switch elements are disposed on the third direction side of the first and second capacitor regions, When the third and fourth switch elements are arranged on the first direction side of the first and second capacitor regions, and the direction orthogonal to the first direction is the second direction, A summing node line that is a line of the summing node may be wired on the second direction side of the first, second, third, and fourth switch elements.

このようにすれば、第1のキャパシタ領域の第3の方向側に第1、第2のスイッチ素子が配置されるため、前段の回路からの入力電圧をショートパスで第1、第2のスイッチ素子に供給できる。また第2のキャパシタ領域の第1の方向側に第3、第4のスイッチ素子が配置されるため、後段の回路と第3、第4のスイッチ素子との接続をショートパスで実現できる。従って、レイアウト効率を向上できると共に、性能に悪影響を与える寄生容量等を最小限に抑えることができる。また本発明によれば、第1〜第4のスイッチ素子の第2の方向側にサミングノードラインが配線される。従って、第1、第2のノードのラインと、サミングノードラインとの間の距離を離すことが可能になり、これらのノード間での寄生容量に起因する悪影響を最小限に抑えることができる。   According to this configuration, since the first and second switch elements are arranged on the third direction side of the first capacitor region, the first and second switches are connected to the input voltage from the previous circuit by a short path. Can be supplied to the element. In addition, since the third and fourth switch elements are disposed on the first direction side of the second capacitor region, the connection between the subsequent circuit and the third and fourth switch elements can be realized by a short path. Therefore, the layout efficiency can be improved, and the parasitic capacitance that adversely affects the performance can be minimized. According to the invention, the summing node line is wired on the second direction side of the first to fourth switch elements. Accordingly, the distance between the first and second node lines and the summing node line can be increased, and adverse effects caused by parasitic capacitance between these nodes can be minimized.

また、本発明の一態様では、前記第2のスイッチ素子に前記アナログ基準電源の電圧を供給するための第1のアナログ基準電源ラインが、前記第2の方向に沿って前記第1、第2のキャパシタ領域の前記第3の方向側に配線され、前記第4のスイッチ素子に前記アナログ基準電源の電圧を供給するための第2のアナログ基準電源ラインが、前記第2の方向に沿って前記第1、第2のキャパシタ領域の前記第1の方向側に配線されることとしてもよい。   In one aspect of the present invention, a first analog reference power supply line for supplying a voltage of the analog reference power supply to the second switch element is provided along the second direction. A second analog reference power line that is wired on the third direction side of the capacitor region and supplies the voltage of the analog reference power source to the fourth switch element along the second direction. Wiring may be performed on the first direction side of the first and second capacitor regions.

このようにすれば、第2、第4のスイッチ素子に例えばショートパスでアナログ基準電源を供給できると共に、第1、第2のアナログ基準電源ラインの内側の領域を、外側の領域からシールドできるようになる。従って外側の領域での電圧変動等が、寄生容量を介してサミングノードに伝達されて、回路特性に悪影響を与えてしまう事態を防止できる。   In this way, the analog reference power can be supplied to the second and fourth switch elements by, for example, a short path, and the inner area of the first and second analog reference power lines can be shielded from the outer area. become. Accordingly, it is possible to prevent a situation in which voltage fluctuation or the like in the outer region is transmitted to the summing node through the parasitic capacitance and adversely affects the circuit characteristics.

また、本発明の一態様では、その一端に前記サミングノードが電気的に接続される補助キャパシタを含み、前記補助キャパシタは、一方の電極がポリシリコン層で、他方の電極が不純物層で形成される第2タイプのキャパシタで構成されることとしてもよい。   In one embodiment of the present invention, the auxiliary capacitor includes an auxiliary capacitor that is electrically connected to one end of the auxiliary capacitor. The auxiliary capacitor includes one electrode formed of a polysilicon layer and the other electrode formed of an impurity layer. It may be configured by a second type capacitor.

このようにすれば、サミングノードの電圧変動を抑えることが可能になると共に、同じ面積でより大きな容量が得られる第2タイプのキャパシタを、電圧依存性の影響をそれほど受けない補助キャパシタとして使用することによって、サミングノードの電圧変動を抑制した上で増幅回路のレイアウト効率を向上できる。   In this way, the voltage variation of the summing node can be suppressed, and the second type capacitor that can obtain a larger capacity in the same area is used as an auxiliary capacitor that is not significantly affected by the voltage dependency. As a result, the layout efficiency of the amplifier circuit can be improved while suppressing the voltage fluctuation of the summing node.

また、本発明の一態様では、前記補助キャパシタは、前記第1のキャパシタ及び前記第2のキャパシタの下方に配置されることとしてもよい。   In the aspect of the invention, the auxiliary capacitor may be disposed below the first capacitor and the second capacitor.

このようにすれば、第1のキャパシタ及び第2のキャパシタの下方に有するスペースを有効利用して、補助キャパシタを配置することによって、少ない面積を利用して効率的に第1、第2のキャパシタと補助キャパシタをレイアウト配置できる。   In this way, the first and second capacitors can be efficiently utilized using a small area by arranging the auxiliary capacitor by effectively utilizing the space below the first capacitor and the second capacitor. And an auxiliary capacitor can be laid out.

また、本発明の一態様では、サンプリング期間において、前記電荷蓄積用キャパシタに入力電圧に応じた電荷を蓄積し、ホールド期間において、前記電荷蓄積用キャパシタのフリップアラウンド動作を行って、蓄積された電荷に応じた電圧を出力することとしてもよい。   In one embodiment of the present invention, charge corresponding to an input voltage is stored in the charge storage capacitor in a sampling period, and the charge storage capacitor performs a flip-around operation of the charge storage capacitor in a hold period. It is good also as outputting the voltage according to.

このようにすれば、増幅回路にフリップアラウンド動作を行う機能を備えることによって、いわゆるオフセットフリーを実現できる。   By so doing, so-called offset-free can be realized by providing the amplifier circuit with a function of performing a flip-around operation.

また、本発明の一態様では、入力ノードと、接続ノードとの間に設けられたサンプリング用スイッチ素子と、前記接続ノードと、前記演算増幅器の第1の入力端子のノードであるサミングノードとの間に設けられるサンプリング用キャパシタと、前記演算増幅器の出力端子と前記サミングノードとの間に設けられた帰還用スイッチ素子と、前記接続ノードと、前記演算増幅器の前記出力端子との間に設けられたフリップアラウンド用スイッチ素子と、その一端に前記サミングノードが電気的に接続される補助キャパシタと、を含み、前記サンプリング用キャパシタが、前記第1タイプのキャパシタで構成される前記電荷蓄積用キャパシタであることとしてもよい。   In one embodiment of the present invention, a sampling switch element provided between an input node and a connection node, the connection node, and a summing node that is a node of a first input terminal of the operational amplifier. A sampling capacitor provided in between; a feedback switch element provided between an output terminal of the operational amplifier and the summing node; and provided between the connection node and the output terminal of the operational amplifier. A flip-around switch element, and an auxiliary capacitor to which the summing node is electrically connected at one end thereof, wherein the sampling capacitor is the charge storage capacitor configured by the first type capacitor. It may be there.

このようにすれば、増幅回路にフリップアラウンド動作を行う機能を備え、容量値に電圧依存性のない第1タイプのキャパシタを増幅回路の入力ノードに設けられる電荷蓄積用キャパシタに使用することによって、入力電圧に応じた適正な出力電圧を出力した上で、いわゆるオフセットフリーを実現できる。   In this case, the amplifier circuit has a function of performing a flip-around operation, and the capacitor of the first type having no voltage dependency on the capacitance value is used as the charge storage capacitor provided at the input node of the amplifier circuit. A so-called offset-free operation can be realized after outputting an appropriate output voltage corresponding to the input voltage.

また、本発明の一態様では、その一端に前記サミングノードが電気的に接続される補助キャパシタを含み、前記補助キャパシタは、一方の電極がポリシリコン層で、他方の電極が不純物層で形成される第2タイプのキャパシタで構成されることとしてもよい。   In one embodiment of the present invention, the auxiliary capacitor includes an auxiliary capacitor that is electrically connected to one end of the auxiliary capacitor. The auxiliary capacitor includes one electrode formed of a polysilicon layer and the other electrode formed of an impurity layer. It may be configured by a second type capacitor.

このようにすれば、容量値に電圧依存性があるが、同じ面積でより大きな容量が得られる第2タイプのキャパシタを、電圧依存性の影響をそれほど受けない補助キャパシタとして使用することによって、サミングノードの電圧変動を抑制した上で増幅回路のレイアウト効率を向上できる。   In this way, the second type capacitor, which has a voltage dependency on the capacitance value but can obtain a larger capacitance in the same area, is used as an auxiliary capacitor that is not significantly affected by the voltage dependency. The layout efficiency of the amplifier circuit can be improved while suppressing the voltage fluctuation of the node.

また、本発明の他の態様は、演算増幅器と、入力ノードと前記演算増幅器の第1の入力端子との間に設けられる電荷蓄積用キャパシタと、その一端に前記サミングノードが電気的に接続される補助キャパシタと、を含み、前記電荷蓄積用キャパシタは、両端の電極がポリシリコン層又は金属層で形成される第1タイプのキャパシタで構成され、前記補助キャパシタは、一方の電極がポリシリコン層で、他方の電極が不純物層で形成される第2タイプのキャパシタで構成される増幅回路に関係する。   According to another aspect of the present invention, an operational amplifier, a charge storage capacitor provided between an input node and a first input terminal of the operational amplifier, and the summing node are electrically connected to one end thereof. The charge storage capacitor is formed of a first type capacitor in which electrodes at both ends are formed of a polysilicon layer or a metal layer, and one electrode is a polysilicon layer. Thus, the present invention relates to an amplifier circuit composed of a second type capacitor in which the other electrode is formed of an impurity layer.

本発明の他の態様によれば、容量値に電圧依存性のない第1タイプのキャパシタを増幅回路の入力ノードに設けられる電荷蓄積用キャパシタに使用することによって、入力電圧に応じた適正な出力電圧を出力できるようになる。また、容量値に電圧依存性があるが
、同じ面積でより大きな容量が得られる第2タイプのキャパシタを、電圧依存性の影響をそれほど受けない補助キャパシタとして使用することによって、サミングノードの電圧変動を抑制した上で増幅回路のレイアウト効率を向上できる。
According to another aspect of the present invention, an appropriate output corresponding to an input voltage can be obtained by using a first type capacitor having no voltage dependence on a capacitance value as a charge storage capacitor provided at an input node of an amplifier circuit. The voltage can be output. Further, the voltage variation of the summing node can be obtained by using the second type capacitor, which has a voltage dependency on the capacitance value but can obtain a larger capacitance in the same area, as an auxiliary capacitor that is not significantly affected by the voltage dependency. In addition, the layout efficiency of the amplifier circuit can be improved.

また、本発明の一態様では、前記補助キャパシタは、前記電荷蓄積用キャパシタの下方に配置されることとしてもよい。   In the aspect of the invention, the auxiliary capacitor may be disposed below the charge storage capacitor.

このようにすれば、電荷蓄積用キャパシタの下方に有するスペースを有効利用して、補助キャパシタを配置することによって、少ない面積を利用して効率的に電荷蓄積用キャパシタと補助キャパシタをレイアウト配置できる。   In this way, by effectively using the space below the charge storage capacitor and arranging the auxiliary capacitor, the charge storage capacitor and the auxiliary capacitor can be efficiently laid out using a small area.

また、本発明の他の態様は、複数の基準電圧を生成する基準電圧生成回路であって、第1の電源と第2の電源を電圧分割して複数の電圧分割ノードに複数の分割電圧を出力する電圧生成回路と、上記のいずれかに記載の増幅回路を有し、前記電圧生成回路からの前記複数の分割電圧のインピーダンス変換を前記増幅回路で行って前記複数の基準電圧を出力するアンプ部と、を含む基準電圧生成回路に関係する。   According to another aspect of the present invention, there is provided a reference voltage generation circuit that generates a plurality of reference voltages. The first power supply and the second power supply are voltage-divided, and a plurality of divided voltages are applied to a plurality of voltage division nodes. An amplifier having a voltage generation circuit for output and the amplifier circuit according to any one of the above, wherein the amplifier circuit performs impedance conversion of the plurality of divided voltages from the voltage generation circuit and outputs the plurality of reference voltages And a reference voltage generation circuit.

また、本発明の他の態様は、電気光学パネルを駆動する集積回路装置であって、上記のいずれかに記載の基準電圧生成回路と、前記基準電圧生成回路からの前記複数の基準電圧である複数の階調電圧と、画像データとを受けて、前記電気光学パネルの複数のデータ線を駆動するデータドライバを含む集積回路装置に関係する。   According to another aspect of the present invention, there is provided an integrated circuit device for driving an electro-optical panel, the reference voltage generation circuit according to any one of the above, and the plurality of reference voltages from the reference voltage generation circuit. The present invention relates to an integrated circuit device including a data driver that receives a plurality of gradation voltages and image data and drives a plurality of data lines of the electro-optical panel.

また、本発明の他の態様は、上記のいずれかに記載の集積回路装置と電気光学パネルとを含む電気光学装置に関係する。   Another aspect of the invention relates to an electro-optical device including any of the integrated circuit devices described above and an electro-optical panel.

また、本発明の他の態様は、上記に記載の電気光学装置を含む電子機器に関係する。   Another aspect of the invention relates to an electronic apparatus including the electro-optical device described above.

以下、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、以下に説明する本実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではなく、本実施形態で説明される構成の全てが本発明の解決手段として必須であるとは限らない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. The present embodiment described below does not unduly limit the contents of the present invention described in the claims, and all the configurations described in the present embodiment are essential as means for solving the present invention. Not necessarily.

1.増幅回路
1.1.基本構成
図1に、本実施形態の増幅回路の基本構成を示す。なお、本実施形態の増幅回路は、図1の構成に限定されず、その構成要素の一部を省略したり、他の構成要素を追加するなどの種々の変形実施が可能である。
1. Amplifier circuit 1.1. Basic Configuration FIG. 1 shows the basic configuration of the amplifier circuit of this embodiment. Note that the amplifier circuit according to the present embodiment is not limited to the configuration shown in FIG. 1, and various modifications such as omitting some of the components or adding other components are possible.

本実施形態の増幅回路は、例えば、電気光学パネル(電気光学装置)を駆動する集積回路装置の階調電圧生成回路やデータドライバ等に設けられており、図1に示すように、入力電圧VINを受けて、出力電圧VQを出力し、駆動対象(例えばデータ線)を駆動する回路であり、電荷蓄積用キャパシタCAと、位相補償用キャパシタCCと、を含む。また演算増幅器OPを含むことができる。   The amplifier circuit of this embodiment is provided in, for example, a gradation voltage generation circuit or a data driver of an integrated circuit device that drives an electro-optical panel (electro-optical device). As shown in FIG. 1, the input voltage VIN In response to this, the output voltage VQ is output to drive a drive target (for example, a data line), and includes a charge storage capacitor CA and a phase compensation capacitor CC. An operational amplifier OP can also be included.

演算増幅器OPは、その反転入力端子(広義には第1の入力端子)にサミングノードNEGが接続され、その非反転入力端子(広義には第2の入力端子)にAGND(アナログ基準電源)が設定され、出力ノードNQ(出力端子)に出力電圧VQを出力する。   The operational amplifier OP has a summing node NEG connected to its inverting input terminal (first input terminal in a broad sense) and an AGND (analog reference power supply) to its non-inverting input terminal (second input terminal in a broad sense). The output voltage VQ is output to the output node NQ (output terminal).

電荷蓄積用キャパシタCAは、入力ノードNIと演算増幅器OPの第1の入力端子(サミングノードNEG)との間に設けられる。   The charge storage capacitor CA is provided between the input node NI and the first input terminal (summing node NEG) of the operational amplifier OP.

本実施形態では、電荷蓄積用キャパシタCAは、図2(A)に示すように第1タイプのキャパシタType1により構成される。この第1タイプのキャパシタType1は、両端の電極が金属層(或いはポリシリコン層)で形成されるキャパシタである。例えば、第1タイプのキャパシタType1は、その第1の電極(端子TMA)がアルミ層等の第1の金属層METAで形成され、その第2の電極(端子TMB)がアルミ層等の第2の金属層METBで形成され、第1、第2の金属層META、METBの間に層間絶縁層ISAを設けることによって構成されるMIM(Metal Insulator Metal)型のキャパシタである。なお、電荷蓄積用キャパシタCAの電極として金属層の代わりにポリシリコン層に代用することもできる。例えば、第1タイプのキャパシタType1の第1、第2の電極を第1、第2のポリシリコン層で形成することも可能である。   In the present embodiment, the charge storage capacitor CA is configured by a first type capacitor Type 1 as shown in FIG. The first type capacitor Type 1 is a capacitor in which electrodes at both ends are formed of a metal layer (or polysilicon layer). For example, in the first type capacitor Type1, the first electrode (terminal TMA) is formed of a first metal layer META such as an aluminum layer, and the second electrode (terminal TMB) is a second layer such as an aluminum layer. This is an MIM (Metal Insulator Metal) type capacitor formed by providing an interlayer insulating layer ISA between the first and second metal layers META and METB. Note that a polysilicon layer can be used instead of the metal layer as the electrode of the charge storage capacitor CA. For example, the first and second electrodes of the first type capacitor Type 1 can be formed of first and second polysilicon layers.

位相補償用キャパシタCCは、演算増幅器OPの出力端子に設けられる。本実施形態では、位相補償用キャパシタCCは、一方の電極(端子TMC1)がポリシリコン層で、他方の電極(端子TMC2)が不純物層(例えば拡散層)で形成される第2タイプのキャパシタで構成される。図2(B)の断面構造に示すように、位相補償用キャパシタCC(或いは後述する補助キャパシタ)は、トランジスタのゲート容量を利用して形成される。   The phase compensation capacitor CC is provided at the output terminal of the operational amplifier OP. In the present embodiment, the phase compensation capacitor CC is a second type capacitor in which one electrode (terminal TMC1) is a polysilicon layer and the other electrode (terminal TMC2) is an impurity layer (for example, a diffusion layer). Composed. As shown in the cross-sectional structure of FIG. 2B, the phase compensation capacitor CC (or an auxiliary capacitor described later) is formed using the gate capacitance of the transistor.

具体的には、図2(B)ではシリコン基板に高濃度のN型ウェルDNWL(ディープNウェル)が形成され、このN型ウェルDNWL上に、P型ウェルPWLが形成される。そしてP型ウェルPWLには、P+の不純物層(拡散層)を介して低電位側電源電圧が供給される。   Specifically, in FIG. 2B, a high-concentration N-type well DNWL (deep N-well) is formed on a silicon substrate, and a P-type well PWL is formed on the N-type well DNWL. The P-type well PWL is supplied with a low-potential-side power supply voltage via a P + impurity layer (diffusion layer).

また、P型ウェルPWL上には、N+のクロスアンダ不純物層であるNCUが形成される。また、NCUの上方にはトランジスタのゲートであるポリシリコン層が形成される。そして、このポリシリコン層がキャパシタの上側電極になり、NCUの不純物層が下側電極になる。このようにNCUを利用したキャパシタ構造にすれば、少ないレイアウト面積で大きな容量値を得ることが可能になる。   An NCU that is an N + cross under impurity layer is formed on the P-type well PWL. A polysilicon layer that is a gate of the transistor is formed above the NCU. The polysilicon layer becomes the upper electrode of the capacitor, and the impurity layer of the NCU becomes the lower electrode. If the capacitor structure using the NCU is used as described above, a large capacitance value can be obtained with a small layout area.

このような構成の第2タイプのキャパシタ(ゲート容量、NCU)では、容量値に電圧依存性があるので、印加される電圧に応じて容量値が変化してしまう。従って、仮に第2タイプのキャパシタType2を増幅回路の入力ノードNIに設けられる電荷蓄積用キャパシタCAに使用すると、電圧に応じて蓄積される電荷も変化してしまうため、増幅回路の出力電圧に誤差が生じてしまう。従って、入力電圧VIに応じた適正な出力電圧VQを出力できなくなる。これに対して、第1タイプのキャパシタType1を使用すれば、このような問題を防止でき、適正な出力電圧VQを出力できるようになる。   In the second type capacitor (gate capacitance, NCU) having such a configuration, since the capacitance value has voltage dependency, the capacitance value changes according to the applied voltage. Therefore, if the second type capacitor Type 2 is used for the charge storage capacitor CA provided at the input node NI of the amplifier circuit, the charge stored in accordance with the voltage also changes, so that an error occurs in the output voltage of the amplifier circuit. Will occur. Accordingly, it becomes impossible to output an appropriate output voltage VQ corresponding to the input voltage VI. On the other hand, if the first type capacitor Type 1 is used, such a problem can be prevented and an appropriate output voltage VQ can be output.

一方、位相補償用キャパシタCCでは、ある程度のマージンを持って位相補償を行うため、容量に電圧依存性があってもそれほど問題はない。従って、位相補償用キャパシタCCとして、第2タイプのキャパシタType2を用いても大きな問題は生じない。また、第2タイプのキャパシタType2は、例えば酸化膜の厚さを薄くすることで、第1タイプのキャパシタType1に比べて、同じ面積でより大きな容量を得ることも可能となり、レイアウト効率を向上できる。   On the other hand, since the phase compensation capacitor CC performs phase compensation with a certain margin, there is no problem even if the capacitance has voltage dependency. Therefore, even if the second type capacitor Type 2 is used as the phase compensation capacitor CC, no significant problem occurs. In addition, the second type capacitor Type 2 can obtain a larger capacitance in the same area than the first type capacitor Type 1 by reducing the thickness of the oxide film, for example, and can improve the layout efficiency. .

1.2.第1の構成例
図3に本実施形態の増幅回路の第1の構成例を示す。なお、本実施形態の増幅回路は、図3の構成に限定されず、その構成要素の一部(例えば演算増幅器)を省略したり、他の構成要素を追加するなどの種々の変形実施が可能である。
1.2. First Configuration Example FIG. 3 shows a first configuration example of the amplifier circuit of this embodiment. Note that the amplifier circuit of the present embodiment is not limited to the configuration shown in FIG. 3, and various modifications such as omitting some of the components (for example, operational amplifiers) or adding other components are possible. It is.

増幅回路は、図3に示すように、入力電圧VINを受けて、出力電圧VQを出力し、駆動対象(例えばデータ線)を駆動する回路であり、第1、第2のキャパシタC1、C2と、第1〜第5のスイッチ素子SW1〜SW5を含む。また演算増幅器OPを含むことができる。更に演算増幅器OPの位相を補償することで発振を防止する位相補償用のキャパシタCCを含む。   As shown in FIG. 3, the amplifier circuit is a circuit that receives an input voltage VIN, outputs an output voltage VQ, and drives a drive target (for example, a data line), and includes first and second capacitors C1 and C2. The first to fifth switch elements SW1 to SW5 are included. An operational amplifier OP can also be included. Furthermore, a phase compensation capacitor CC that prevents oscillation by compensating the phase of the operational amplifier OP is included.

第1のキャパシタC1は、サミングノードNEG(ネガティブノード、反転入力端子ノード、電荷蓄積ノード)と第1のノードN1との間に設けられる。第2のキャパシタC2は、サミングノードNEGと第2のノードN2との間に設けられる。これらのキャパシタC1、C2の各々は、電荷蓄積用キャパシタCAとして機能し、例えば複数のユニットキャパシタにより構成できる。そして、本実施形態では、この第1、第2のキャパシタC1、C2として、図1、図2(A)で説明した第1タイプのキャパシタ(Type1)を採用している。   The first capacitor C1 is provided between the summing node NEG (negative node, inverting input terminal node, charge storage node) and the first node N1. The second capacitor C2 is provided between the summing node NEG and the second node N2. Each of these capacitors C1 and C2 functions as a charge storage capacitor CA and can be constituted by a plurality of unit capacitors, for example. In the present embodiment, as the first and second capacitors C1 and C2, the first type capacitor (Type1) described with reference to FIGS. 1 and 2A is employed.

第1のスイッチ素子SW1は、増幅回路への入力電圧VINの入力ノードNIと第1のノードN1との間に設けられる。第2のスイッチ素子SW2は、第1のノードN1とAGND(広義にはアナログ基準電源)との間に設けられる。第3のスイッチ素子SW3は、第2のノードN2と増幅回路の出力ノードNQとの間に設けられる。第4のスイッチ素子SW4は、第2のノードN2とAGND(AGNDノード)との間に設けられる。第5のスイッチ素子SW5は、サミングノードNEGと出力ノードNQとの間に設けられる。   The first switch element SW1 is provided between the input node NI of the input voltage VIN to the amplifier circuit and the first node N1. The second switch element SW2 is provided between the first node N1 and AGND (analog reference power supply in a broad sense). The third switch element SW3 is provided between the second node N2 and the output node NQ of the amplifier circuit. The fourth switch element SW4 is provided between the second node N2 and AGND (AGND node). The fifth switch element SW5 is provided between the summing node NEG and the output node NQ.

これらのスイッチ素子SW1〜SW5は、例えばCMOSのトランジスタにより構成できる。具体的には、P型トランジスタとN型トランジスタとからなるトランスファーゲートにより構成できる。そして、これらのトランジスタは、図示しないスイッチ制御信号生成回路からのスイッチ制御信号によりオン・オフされる。また、AGNDは、例えば高電位側電源VDD(第2の電源)と低電位側電源VSS(第1の電源)の中間の電圧(例えばAGND=(VDD+VSS)/2)である。   These switch elements SW1 to SW5 can be constituted by, for example, CMOS transistors. Specifically, it can be constituted by a transfer gate composed of a P-type transistor and an N-type transistor. These transistors are turned on / off by a switch control signal from a switch control signal generation circuit (not shown). AGND is, for example, an intermediate voltage (for example, AGND = (VDD + VSS) / 2) between the high potential side power source VDD (second power source) and the low potential side power source VSS (first power source).

位相補償用キャパシタCCは、演算増幅器OPの出力端子に設けられる。このような位相補償用キャパシタCCを設けることで、演算増幅器OPの発振を防止できる。そして、本実施形態では、この位相補償用キャパシタCCとして、図1、図2(B)で説明した第2タイプのキャパシタ(Type2)を採用している。   The phase compensation capacitor CC is provided at the output terminal of the operational amplifier OP. By providing such a phase compensation capacitor CC, it is possible to prevent oscillation of the operational amplifier OP. In the present embodiment, the second type capacitor (Type 2) described in FIGS. 1 and 2B is employed as the phase compensation capacitor CC.

演算増幅器OPは、その反転入力端子(広義には第1の入力端子)にサミングノードNEGが接続され、その非反転入力端子(広義には第2の入力端子)にAGND(アナログ基準電源)が設定され、出力ノードNQ(出力端子)に出力電圧VQを出力する。   The operational amplifier OP has a summing node NEG connected to its inverting input terminal (first input terminal in a broad sense) and an AGND (analog reference power supply) to its non-inverting input terminal (second input terminal in a broad sense). The output voltage VQ is output to the output node NQ (output terminal).

増幅回路は、図3に示すように、電荷保存用のキャパシタC1、C2に初期化用の電圧を設定する期間である初期化期間においては、スイッチ素子SW2、SW4、SW5がオンになる。   As shown in FIG. 3, in the amplifier circuit, the switch elements SW2, SW4, and SW5 are turned on in an initialization period, which is a period for setting an initialization voltage to the charge storage capacitors C1 and C2.

初期化期間においてスイッチ素子SW2がオンになることで、その一端がサミングノードNEGに電気的に接続されるキャパシタC1の他端が、AGND(アナログ基準電源電圧VA)に設定される。同様に、スイッチ素子SW4がオンになることで、その一端がサミングノードNEGに電気的に接続されるキャパシタC2の他端が、AGND(VA)に設定される。また帰還スイッチ素子であるスイッチ素子SW5がオンになることで、演算増幅器OPの出力が反転入力端子に帰還され、演算増幅器OPのイマジナリーショート機能により、ノードNEGがAGNDに設定される。   When the switch element SW2 is turned on in the initialization period, the other end of the capacitor C1 whose one end is electrically connected to the summing node NEG is set to AGND (analog reference power supply voltage VA). Similarly, when the switch element SW4 is turned on, the other end of the capacitor C2 whose one end is electrically connected to the summing node NEG is set to AGND (VA). When the switch element SW5, which is a feedback switch element, is turned on, the output of the operational amplifier OP is fed back to the inverting input terminal, and the node NEG is set to AGND by the imaginary short function of the operational amplifier OP.

また、増幅回路は、図4に示すように、出力電圧を出力して駆動対象を駆動する期間である出力期間においては、スイッチ素子SW1、SW3がオンになる。   Further, as shown in FIG. 4, in the amplifier circuit, the switch elements SW1 and SW3 are turned on in an output period in which an output voltage is output and a drive target is driven.

出力期間においてスイッチ素子SW1がオンになることで、一端がサミングノードNEGに接続されるキャパシタC1の他端が、入力電圧VINに設定される。またスイッチ素子SW3がオンになることで、一端がサミングノードNEGに接続されるキャパシタC2の他端が、出力電圧VQ(OPの出力)に設定される。   When the switch element SW1 is turned on in the output period, the other end of the capacitor C1 whose one end is connected to the summing node NEG is set to the input voltage VIN. Further, when the switch element SW3 is turned on, the other end of the capacitor C2 whose one end is connected to the summing node NEG is set to the output voltage VQ (output of OP).

図5に増幅回路の動作を説明するための信号波形例を示す。図5において、VAはAGNDの電圧であり、例えばVA=(VDD+VSS)/2である。但し、VAはVDDとVSSの間の電圧であればよく、(VDD+VSS)/2には限定されない。   FIG. 5 shows an example of signal waveforms for explaining the operation of the amplifier circuit. In FIG. 5, VA is an AGND voltage, for example, VA = (VDD + VSS) / 2. However, VA may be a voltage between VDD and VSS, and is not limited to (VDD + VSS) / 2.

図3の初期化期間においては、帰還用のスイッチ素子SW5がオンになるため、演算増幅器OPのイマジナリーショート機能により、OPの反転入力端子のノードNEGは、非反転入力端子のAGNDの電圧であるVAと等しくなる。但し、演算増幅器OPはプロセスバラツキ等に起因するオフセットを有するため、図5に示すようにノードNEGの電圧とVAにはオフセット電圧ΔVの電圧差が生じる。   In the initialization period of FIG. 3, since the feedback switch element SW5 is turned on, the node NEG of the inverting input terminal of OP is at the voltage of AGND of the non-inverting input terminal by the imaginary short function of the operational amplifier OP. It becomes equal to a certain VA. However, since the operational amplifier OP has an offset due to process variations and the like, a voltage difference of the offset voltage ΔV is generated between the voltage of the node NEG and VA as shown in FIG.

増幅回路では、図3の初期化期間においてこのオフセット電圧ΔVが記憶され、図4の出力期間において、このオフセット電圧ΔVがキャンセルされて、出力電圧VQが出力されるため、いわゆるオフセットフリーを実現できる。   In the amplifier circuit, the offset voltage ΔV is stored in the initialization period of FIG. 3, and the offset voltage ΔV is canceled and the output voltage VQ is output in the output period of FIG. .

なお、図5に示すように、出力期間では、入力電圧VINが高電位側(VDD側)に変化すると、出力電圧VQは低電位側(VSS側)に変化し、VINが低電位側に変化するとVQは高電位側に変化する。   As shown in FIG. 5, during the output period, when the input voltage VIN changes to the high potential side (VDD side), the output voltage VQ changes to the low potential side (VSS side), and VIN changes to the low potential side. Then, VQ changes to the high potential side.

図6(A)に増幅回路の原理的な構成を示す。図6(A)に示すように、増幅回路60は、その一端が、サミングノードNEGに接続され、その他端が、初期化期間においてはアナログ基準電圧VAに設定され、出力期間においては入力電圧VINに設定される第1のキャパシタC1を含めばよい。また、その一端がサミングノードNEGに接続され、その他端が初期化期間においてはアナログ基準電圧VAに設定され、出力期間においては出力電圧VQに設定される第2のキャパシタC2を含めばよい。   FIG. 6A shows a basic configuration of the amplifier circuit. As shown in FIG. 6A, the amplifier circuit 60 has one end connected to the summing node NEG, the other end set to the analog reference voltage VA in the initialization period, and the input voltage VIN in the output period. The first capacitor C1 set to be included. Further, it is only necessary to include a second capacitor C2 whose one end is connected to the summing node NEG, the other end is set to the analog reference voltage VA in the initialization period, and set to the output voltage VQ in the output period.

なお、サミングノードNEG(C1とC2の接続ノード)は、初期化期間において所与の電圧(例えばVA、VA−ΔV)に設定され、出力期間においてハイインピーダンス状態(フローティング状態)で、初期化期間と同電位に設定されるノードであればよい。このようなサミングノードNEGの機能を実現するために、図3、図4では、演算増幅器OPを利用しているが、演算増幅器OP以外の回路によりこのような機能を実現してもよい。   Note that the summing node NEG (the connection node between C1 and C2) is set to a given voltage (for example, VA, VA−ΔV) in the initialization period, and in the high impedance state (floating state) in the output period, the initialization period Any node may be used as long as it is set to the same potential as that. In order to realize such a function of the summing node NEG, the operational amplifier OP is used in FIGS. 3 and 4, but such a function may be realized by a circuit other than the operational amplifier OP.

次に、図6(B)、図6(C)を用いて、増幅回路における入力電圧VINと出力電圧VQの関係について説明する。   Next, the relationship between the input voltage VIN and the output voltage VQ in the amplifier circuit is described with reference to FIGS. 6B and 6C.

図6(B)に示すように、初期化期間では、キャパシタC1、C2の一端にはVA、他端にはVA−ΔVが設定される。ここでΔVは演算増幅器OPのオフセット電圧である。   As shown in FIG. 6B, in the initialization period, VA is set at one end of the capacitors C1 and C2, and VA−ΔV is set at the other end. Here, ΔV is an offset voltage of the operational amplifier OP.

一方、図6(C)に示すように、出力期間では、キャパシタC1の一端にはVIN、他端にはVA−ΔVが設定され、キャパシタC2の一端にはVQ、他端にはVA−ΔVが設定される。従って、電荷保存の法則により下式が成立する。
C1×{(VA−(VA−ΔV)}+C2×{(VA−(VA−ΔV)}
=C1×{VIN−(VA−ΔV)}+C2×{VQ−(VA−ΔV)} (1)
On the other hand, as shown in FIG. 6C, in the output period, VIN is set at one end of the capacitor C1, and VA−ΔV is set at the other end, VQ is set at one end of the capacitor C2, and VA−ΔV is set at the other end. Is set. Therefore, the following equation is established by the law of charge conservation.
C1 × {(VA− (VA−ΔV)} + C2 × {(VA− (VA−ΔV)}
= C1 × {VIN− (VA−ΔV)} + C2 × {VQ− (VA−ΔV)} (1)

従って下式が成立する。
VQ=VA−(C1/C2)×(VIN−VA) (2)
Therefore, the following formula is established.
VQ = VA− (C1 / C2) × (VIN−VA) (2)

上式(2)から明らかなように、出力電圧VQにはオフセット電圧ΔVが現れないため、いわゆるオフセットフリーを実現できる。   As apparent from the above equation (2), since the offset voltage ΔV does not appear in the output voltage VQ, so-called offset free can be realized.

例えば、増幅回路として、サンプリング期間においてサンプリング用キャパシタに入力電圧に応じた電荷を蓄積し、ホールド期間において、このサンプリング用キャパシタのフリップアラウンド動作を行って、蓄積された電荷に応じた電圧を出力する増幅回路が考えられる。   For example, as an amplifier circuit, charge corresponding to the input voltage is accumulated in the sampling capacitor during the sampling period, and a flip-around operation of the sampling capacitor is performed during the hold period to output a voltage corresponding to the accumulated charge. An amplifier circuit is conceivable.

しかしながら、このフリップアラウンド型の増幅回路では、サンプリング期間においては増幅回路の出力がハイインピーダンス状態になってしまうので、駆動時間にロスが生じる。   However, in this flip-around amplifier circuit, the output of the amplifier circuit is in a high-impedance state during the sampling period, resulting in a loss in driving time.

これに対して、図3、4に示す増幅回路では、キャパシタC1、C2を2つ用いることで、出力電圧VQの連続的な出力が可能になる。即ち初期化期間の後の出力期間では、サンプリング期間は存在せず、入力電圧VINに応じた出力電圧VQが上式(2)にしたがって出力されるため、駆動対象の連続的な駆動が可能になる。   On the other hand, in the amplifier circuit shown in FIGS. 3 and 4, by using two capacitors C1 and C2, the output voltage VQ can be continuously output. That is, in the output period after the initialization period, there is no sampling period, and the output voltage VQ corresponding to the input voltage VIN is output according to the above equation (2), so that the drive target can be continuously driven. Become.

以上説明したように、図3、図4の本実施形態の増幅回路では、初期化期間においてキャパシタC1、C2に演算増幅器OPのオフセット電圧に対応する電荷が記憶される。これにより出力期間では、演算増幅器OPのオフセット電圧をキャンセルして出力できる。   As described above, in the amplifier circuit of this embodiment shown in FIGS. 3 and 4, charges corresponding to the offset voltage of the operational amplifier OP are stored in the capacitors C1 and C2 in the initialization period. Thereby, in the output period, the offset voltage of the operational amplifier OP can be canceled and output.

また、本実施形態の増幅回路は、1回初期化期間を経た後は、出力期間においてボルテージフォロワ接続の演算増幅器のように、入力電圧に対応する出力電圧が常時出力される。具体的には、入力電圧を反転してオフセットがキャンセルされた出力電圧が出力されるようになる。従って、サンプルホールド回路のようなサンプリング期間とホールド期間が存在しないため、出力期間においては、増幅回路の出力がハイインピーダンス状態にならない。このため、比較例となるサンプルホールド回路に比べて、タイミング制御が容易になると共に、長い駆動時間を確保できるようになる。   Further, after passing through the initializing period once, the amplifier circuit of this embodiment always outputs an output voltage corresponding to the input voltage in the output period like an operational amplifier having a voltage follower connection. Specifically, an output voltage in which the input voltage is inverted and the offset is canceled is output. Therefore, since there is no sampling period and hold period unlike the sample hold circuit, the output of the amplifier circuit does not enter a high impedance state during the output period. For this reason, timing control becomes easier and a longer driving time can be secured as compared with the sample hold circuit as the comparative example.

また、本実施形態では、図3、図4の増幅回路を、例えば後述する階調電圧生成回路に適用することで、演算増幅器のオフセット電圧のばらつきを要因とする階調電圧のばらつきを低減できる。また、この増幅回路を後述するデータドライバに適用することで、オフセット電圧のばらつきを要因とするデータ電圧のばらつきを低減でき、表示ムラの発生等を防止できる。また、階調電圧生成回路で入力電圧が反転され、データドライバで再度反転されるため、結局は正転のデータ電圧をデータ線に供給できるようになる。さらに、出力電圧VQの連続的な出力を可能とした本実施形態の増幅回路を階調電圧生成回路及びデータドライバの双方に適用することによって、タイミング制御の容易化と長い駆動時間の確保とを両立して実現できる。   Further, in the present embodiment, by applying the amplifier circuit of FIGS. 3 and 4 to, for example, a gradation voltage generation circuit to be described later, it is possible to reduce variations in gradation voltage caused by variations in offset voltage of the operational amplifier. . Further, by applying this amplifier circuit to a data driver described later, it is possible to reduce variations in data voltage caused by variations in offset voltage, and to prevent occurrence of display unevenness. Further, the input voltage is inverted by the gradation voltage generation circuit and is inverted again by the data driver, so that a normal data voltage can be supplied to the data line after all. Furthermore, by applying the amplifier circuit of this embodiment that enables continuous output of the output voltage VQ to both the gradation voltage generation circuit and the data driver, it is possible to facilitate timing control and ensure a long driving time. It can be realized at the same time.

そして本実施形態では、電荷蓄積用のキャパシタC1、C2として図2(A)の第1タイプのキャパシタ(Type1)を用いている。従って、キャパシタの容量値の電圧依存性を無視できるため、上述した式(2)のVQ=VA−(C1/C2)×(VIN−VA)が正確に成り立つようになり、出力電圧VQに誤差が生じるのを防止できる。   In the present embodiment, the first type capacitors (Type 1) shown in FIG. 2A are used as the charge storage capacitors C1 and C2. Accordingly, since the voltage dependency of the capacitance value of the capacitor can be ignored, VQ = VA− (C1 / C2) × (VIN−VA) in the above equation (2) is accurately established, and the output voltage VQ has an error. Can be prevented.

一方、本実施形態では位相補償用のキャパシタCCとして図2(B)の第2タイプのキャパシタ(Type2)を用いている。この第2タイプのキャパシタは、容量値の電圧依存性はあるものの、少ないレイアウト面積で大きな容量値を得ることができるという利点がある。従って、このようにキャパシタC1、C2として第1タイプを用い、キャパシタCCとして第2タイプを用いるといように使い分けることで、高精度な出力電圧と、少ないレイアウト面積での位相補償を両立して実現できるようになる。   On the other hand, in the present embodiment, the second type capacitor (Type 2) of FIG. 2B is used as the phase compensation capacitor CC. This second type capacitor has an advantage that a large capacitance value can be obtained with a small layout area, although the capacitance value has voltage dependency. Therefore, by using the first type as the capacitors C1 and C2 and using the second type as the capacitor CC in this way, both high-accuracy output voltage and phase compensation with a small layout area can be realized. become able to.

1.3.第2の構成例
図7、図8に本実施形態の増幅回路の第2の構成例を示す。図7、図8では、図3、図4に対して、演算増幅器OPの出力ノードNQと位相補償用キャパシタCCとの間にスイッチ素子SW7や抵抗R1が更に設けられている。また、図7、図8では、初期化期間における出力電圧が後段の回路に伝達されるのを防止するためのスイッチ素子SW6が、増幅回路の出力ノードNQ(NQ’)に設けられている。このスイッチ素子SW6は、図7の初期化期間ではオフになり、図8の出力期間においてオンになる。
1.3. Second Configuration Example FIGS. 7 and 8 show a second configuration example of the amplifier circuit of this embodiment. 7 and 8, a switch element SW7 and a resistor R1 are further provided between the output node NQ of the operational amplifier OP and the phase compensation capacitor CC as compared with FIGS. 7 and 8, a switch element SW6 for preventing the output voltage during the initialization period from being transmitted to the subsequent circuit is provided at the output node NQ (NQ ') of the amplifier circuit. The switch element SW6 is turned off in the initialization period of FIG. 7, and is turned on in the output period of FIG.

更に図7、図8では、その一端がサミングノードNEGに接続される補助キャパシタCAXが設けられている。このような補助キャパシタCAXを設ければ、演算増幅器OPの反転入力端子のノードであるサミングノードNEGの電圧変動を抑えることができ、出力電圧VQの一層の安定化を実現できる。   Further, in FIGS. 7 and 8, an auxiliary capacitor CAX having one end connected to the summing node NEG is provided. Providing such an auxiliary capacitor CAX can suppress voltage fluctuations at the summing node NEG, which is a node of the inverting input terminal of the operational amplifier OP, and can further stabilize the output voltage VQ.

具体的には、図7の初期化期間から図8の出力期間に移行する瞬間に、図5に示すように、サミングノードNEGの電圧は変動する。この場合に補助キャパシタCAXが設けられていないと、初期化期間が終了した時点でのノードN2とノードNQ(NQ’)との電位差の分だけサミングノードNEGの電圧が瞬間的に変動する。そして、この時のサミングノードNEGの電圧が、スイッチ素子SW5の基板電圧であるVDD又はVSSを超えてしまうと、キャパシタC1、C2に蓄積されていた電荷が抜けてしまう。これを防止するために、図7、図8では、補助キャパシタCAXを設けている。このようにすれば、ノードNQとAGNDのノードの間に、直列接続されたキャパシタC2とキャパシタCAXとが設けられるようになり、サミングノードNEGの電圧変動をVDD〜VSSの範囲に抑え、C1、C2の蓄積電荷が抜けてしまう事態を防止できる。   Specifically, at the moment of transition from the initialization period of FIG. 7 to the output period of FIG. 8, the voltage of the summing node NEG varies as shown in FIG. In this case, if the auxiliary capacitor CAX is not provided, the voltage of the summing node NEG varies instantaneously by the potential difference between the node N2 and the node NQ (NQ ') at the end of the initialization period. If the voltage of the summing node NEG at this time exceeds VDD or VSS, which is the substrate voltage of the switch element SW5, the charges accumulated in the capacitors C1 and C2 are lost. In order to prevent this, an auxiliary capacitor CAX is provided in FIGS. In this way, the capacitor C2 and the capacitor CAX connected in series are provided between the nodes NQ and AGND, and the voltage variation of the summing node NEG is suppressed to the range of VDD to VSS, and C1, The situation where the accumulated charge of C2 is lost can be prevented.

本実施形態では、この補助キャパシタCAXとして、図2(B)の第2タイプのキャパシタを用いている。このようにすることで、少ないレイアウト面積で、高い容量値の補助キャパシタCAXを得ることができ、出力電圧VQの安定化を実現できる。   In the present embodiment, the second type capacitor shown in FIG. 2B is used as the auxiliary capacitor CAX. In this way, the auxiliary capacitor CAX having a high capacitance value can be obtained with a small layout area, and the output voltage VQ can be stabilized.

また本実施形態では、演算増幅器OPとして、例えば位相補償用キャパシタを内蔵しないタイプの増幅器を用いている。即ち出力期間においては、図8に示すように、スイッチ素子SW6がオンになるため、演算増幅器OPの出力は、負荷となるデータ線等の駆動対象が接続される。従って、この負荷(例えば20pF)が位相補償キャパシタとして機能して、演算増幅器OPの発振を防止できる。   In the present embodiment, as the operational amplifier OP, for example, an amplifier of a type that does not include a phase compensation capacitor is used. That is, in the output period, as shown in FIG. 8, since the switch element SW6 is turned on, the output of the operational amplifier OP is connected to a drive target such as a data line serving as a load. Therefore, this load (for example, 20 pF) functions as a phase compensation capacitor and can prevent oscillation of the operational amplifier OP.

しかしながら、図7の初期化期間においては、スイッチ素子SW6がオフになるため、演算増幅器OPには、データ線等の負荷が接続されず、演算増幅器OPの負荷は、キャパシタC1、C2と補助キャパシタCAXだけになる(例えば1pFの負荷)。従って、演算増幅器OPの負荷が減少してしまい、演算増幅器OPが発振してしまうおそれがある。   However, since the switch element SW6 is turned off in the initialization period of FIG. 7, a load such as a data line is not connected to the operational amplifier OP, and the loads of the operational amplifier OP are capacitors C1 and C2 and auxiliary capacitors. Only CAX (for example, 1 pF load). Therefore, the load on the operational amplifier OP decreases, and the operational amplifier OP may oscillate.

そこで図7、図8では、初期化期間において、その一端が出力ノードNQ’に電気的に接続され、演算増幅器OPの位相を補償することで発振を防止する位相補償用キャパシタCCを設けている。具体的には、ノードNQ’と低電位側電源との間に、位相補償用キャパシタCCと位相補償用のスイッチ素子SW7を設ける。そして図7の初期化期間では、スイッチ素子SW7をオンにして、位相補償用キャパシタCCの一端を出力ノードNQ’に接続する一方で、図8の出力期間では、スイッチ素子SW7をオフにして接続を遮断する。   Therefore, in FIG. 7 and FIG. 8, in the initialization period, one end is electrically connected to the output node NQ ′, and a phase compensation capacitor CC is provided to prevent oscillation by compensating the phase of the operational amplifier OP. . Specifically, a phase compensation capacitor CC and a phase compensation switch element SW7 are provided between the node NQ 'and the low potential side power supply. In the initialization period of FIG. 7, the switch element SW7 is turned on and one end of the phase compensation capacitor CC is connected to the output node NQ ′, while in the output period of FIG. 8, the switch element SW7 is turned off and connected. Shut off.

このような位相補償用キャパシタCC及び位相補償用スイッチ素子SW7を設ければ、演算増幅器OPの負荷が軽くなる初期化期間において、位相補償用キャパシタCCが演算増幅器OPの位相を補償することで発振を防止するように機能して、演算増幅器OPの発振を効果的に防止できる。なお図7では位相補償用(発振防止用)の抵抗R1、R2を更に設けている。   If the phase compensation capacitor CC and the phase compensation switch element SW7 are provided, the phase compensation capacitor CC compensates for the phase of the operational amplifier OP during the initialization period in which the load of the operational amplifier OP is reduced. It is possible to effectively prevent oscillation of the operational amplifier OP. In FIG. 7, resistors R1 and R2 for phase compensation (for preventing oscillation) are further provided.

以上説明したように、図7、図8の本実施形態の第2の構成例では、初期化期間においては、増幅回路の出力ノードNQ(NQ’)に設けられるスイッチ素子SW6がオフになるため、演算増幅器OPの出力に付加されるキャパシタの容量が少なくなる。そこで、当該初期化期間では、位相補償用スイッチ素子SW7をオンにして、演算増幅器OPの出力に位相補償用キャパシタCCが接続されるようにする。   As described above, in the second configuration example of the present embodiment shown in FIGS. 7 and 8, the switch element SW6 provided at the output node NQ (NQ ′) of the amplifier circuit is turned off during the initialization period. The capacity of the capacitor added to the output of the operational amplifier OP is reduced. Therefore, in the initialization period, the phase compensation switch element SW7 is turned on so that the phase compensation capacitor CC is connected to the output of the operational amplifier OP.

一方、出力期間においては、階調電圧生成回路の演算増幅器OPには、階調電圧出力線の寄生容量が付加されるため、この寄生容量により位相補償が可能になる。また、データドライバの演算増幅器OPの出力には、電気光学パネルのデータ線の寄生容量が付加されるため、この寄生容量により位相補償が可能になる。   On the other hand, in the output period, since the parasitic capacitance of the gradation voltage output line is added to the operational amplifier OP of the gradation voltage generation circuit, phase compensation can be performed by this parasitic capacitance. Further, since the parasitic capacitance of the data line of the electro-optical panel is added to the output of the operational amplifier OP of the data driver, phase compensation can be performed by this parasitic capacitance.

図9に本実施形態の増幅回路に含まれる演算増幅器OPの回路構成例を示す。図3、4、7、8に示す演算増幅器OPは、AB級の増幅動作を行う増幅器である。図9では、トランジスタTA1〜TA4及び電流源IS1により増幅器の差動段が構成される。また、出力段を構成するP型トランジスタTA17とN型トランジスタTA18のゲートは、トランジスタTA7〜TA14により構成される補助回路により制御され、これによりAB級の増幅動作が可能になる。   FIG. 9 shows a circuit configuration example of the operational amplifier OP included in the amplifier circuit of the present embodiment. The operational amplifier OP shown in FIGS. 3, 4, 7, and 8 is an amplifier that performs class AB amplification. In FIG. 9, the transistors TA1 to TA4 and the current source IS1 constitute an amplifier differential stage. Further, the gates of the P-type transistor TA17 and the N-type transistor TA18 constituting the output stage are controlled by an auxiliary circuit constituted by the transistors TA7 to TA14, thereby enabling a class AB amplification operation.

1.4.レイアウト配置例
図10に本実施形態の増幅回路のレイアウト配置例を示す。図10において、第1の方向D1の反対方向が第3の方向D3になり、第1の方向D1に直交(交差)する方向が第2の方向D2になり、第2の方向D2の反対方向が第4の方向D4になっている。
1.4. Layout Layout Example FIG. 10 shows a layout layout example of the amplifier circuit of this embodiment. In FIG. 10, the direction opposite to the first direction D1 is the third direction D3, the direction orthogonal (crossing) to the first direction D1 is the second direction D2, and the direction opposite to the second direction D2 Is the fourth direction D4.

図10では、図7、図8のキャパシタC1が形成される第1のキャパシタ領域C1Rと、キャパシタC2が形成される第2のキャパシタ領域C2Rが、D1方向に沿って配置される。なおキャパシタ領域C1R、C2RをD2方向に沿って配置する変形実施も可能である。   In FIG. 10, the first capacitor region C1R in which the capacitor C1 of FIGS. 7 and 8 is formed and the second capacitor region C2R in which the capacitor C2 is formed are arranged along the direction D1. A modification in which the capacitor regions C1R and C2R are arranged along the direction D2 is also possible.

また、本実施形態では、位相補償用キャパシタCCは、平面視において電荷蓄積用キャパシタCAである第1のキャパシタC1、第2のキャパシタC2が形成される第1のキャパシタ領域C1R、第2のキャパシタ領域C2Rの下方に配置される。すなわち、第1のキャパシタ領域C1R、第2のキャパシタ領域C2Rの下方に有するスペースを有効利用して、位相補償用キャパシタCCが形成される位相補償用キャパシタ領域CCRとしている。   In the present embodiment, the phase compensation capacitor CC includes the first capacitor region C1R and the second capacitor in which the first capacitor C1 and the second capacitor C2 that are the charge storage capacitors CA are formed in plan view. Arranged below region C2R. In other words, the phase compensation capacitor region CCR in which the phase compensation capacitor CC is formed is formed by effectively using the space below the first capacitor region C1R and the second capacitor region C2R.

またスイッチ素子SW1、SW2は、キャパシタ領域C1R、C2RのD3方向側に配置される。またスイッチ素子SW3、SW4は、キャパシタ領域C1R、C2RのD1方向側に配置される。なおスイッチ素子SW5は、スイッチ素子SW3、SW4のD2方向側に配置される。   The switch elements SW1 and SW2 are arranged on the D3 direction side of the capacitor regions C1R and C2R. The switch elements SW3 and SW4 are disposed on the D1 direction side of the capacitor regions C1R and C2R. The switch element SW5 is disposed on the D2 direction side of the switch elements SW3 and SW4.

またサミングノードNEGのラインLNEGは、スイッチ素子SW1、SW2、SW3、SW4のD2方向側に配線される。具体的には、ラインLNEG(少なくともその一部の配線。キャパシタを構成する配線層の上層の接続配線)は、SW1、SW2、SW3、SW4のD2方向側においてD1方向に沿って配線される。   The line LNEG of the summing node NEG is wired on the D2 direction side of the switch elements SW1, SW2, SW3, and SW4. Specifically, the line LNEG (at least a part of the wirings; the connection wiring in the upper layer of the wiring layer constituting the capacitor) is wired along the D1 direction on the D2 direction side of SW1, SW2, SW3, and SW4.

図10のレイアウト配置によれば、キャパシタ領域C1RのD3方向側にスイッチ素子SW1、SW2が配置されるため、前段の回路からの入力電圧VINをショートパスでスイッチ素子SW1、SW2(キャパシタC1)に供給できる。またキャパシタ領域C2RのD1方向側にスイッチ素子SW3、SW4が配置されるため、後段の回路(例えば演算増幅器)とスイッチ素子SW3、SW4(キャパシタC2)との接続をショートパスで実現できる。従って、レイアウト効率を向上できると共に、性能に悪影響を与える寄生容量や寄生抵抗を最小限にすることができる。   According to the layout arrangement of FIG. 10, since the switch elements SW1 and SW2 are arranged on the D3 direction side of the capacitor region C1R, the input voltage VIN from the previous stage circuit is transferred to the switch elements SW1 and SW2 (capacitor C1) through a short path. Can supply. Further, since the switch elements SW3 and SW4 are arranged on the D1 direction side of the capacitor region C2R, the connection between the subsequent circuit (for example, operational amplifier) and the switch elements SW3 and SW4 (capacitor C2) can be realized by a short path. Therefore, layout efficiency can be improved, and parasitic capacitance and parasitic resistance that adversely affect performance can be minimized.

また図10では、スイッチ素子SW1〜SW4のD2方向側にサミングノードラインLNEGが配線される。従って、ノードN1、N2のラインと、サミングノードラインLNEGとの間の距離を離すことが可能になる。従って、ノードN1とNEGとの間の寄生容量値をCP1、ノードN2とNEGとの間の寄生容量値をCP2とした場合に、寄生容量値CP1とCP2の差分値CPDを最小限に抑えることが可能になる。   In FIG. 10, a summing node line LNEG is wired on the D2 direction side of the switch elements SW1 to SW4. Therefore, the distance between the lines of the nodes N1 and N2 and the summing node line LNEG can be increased. Therefore, when the parasitic capacitance value between the nodes N1 and NEG is CP1, and the parasitic capacitance value between the nodes N2 and NEG is CP2, the difference value CPD between the parasitic capacitance values CP1 and CP2 is minimized. Is possible.

即ち、寄生容量の差分値CPDが大きくなると、上式(2)で説明したVQ=VA−(C1/C2)×(VIN−VA)において、C1/C2が変化してしまい、出力電圧VQが変動してしまう。また、後述するように複数のデータ線を複数の駆動回路で駆動した場合に、プロセスの加工バラツキにより駆動回路間で出力電圧VQもばらついてしまい、表示品質が劣化するなどの問題が生じる。   That is, when the difference value CPD of the parasitic capacitance increases, C1 / C2 changes in VQ = VA− (C1 / C2) × (VIN−VA) described in the above equation (2), and the output voltage VQ is It will fluctuate. Further, when a plurality of data lines are driven by a plurality of drive circuits as will be described later, the output voltage VQ varies between the drive circuits due to process variations, resulting in a problem that display quality deteriorates.

この場合に、配線の形状を対称に形成すれば、差分値CPDの悪影響を無くすことができるが、例えば図10のA1に示すような対称ではない配線部分が存在すると、対称性が崩れて、差分値CPDの影響を無視できなくなる。   In this case, if the wiring shape is formed symmetrically, the adverse effect of the difference value CPD can be eliminated. However, for example, if there is a wiring portion that is not symmetrical as shown by A1 in FIG. The influence of the difference value CPD cannot be ignored.

この点、図10では、ノードN1、N2のラインと、サミングノードラインLNEGの距離を離して配線できるため、ノードN1、N2とNEGとの間の寄生容量値CP1、CP2の絶対値を小さくできる。従って、A1に示すように対称性が崩れた部分が存在しても、差分値CPDの絶対値が小さいため、差分値CPDの悪影響を最小限に抑えることできる。   In this regard, in FIG. 10, since the distance between the lines of the nodes N1 and N2 and the summing node line LNEG can be separated, the absolute values of the parasitic capacitance values CP1 and CP2 between the nodes N1 and N2 and NEG can be reduced. . Therefore, even if there is a portion where the symmetry is broken as shown by A1, since the absolute value of the difference value CPD is small, the adverse effect of the difference value CPD can be minimized.

また図10のレイアウト配置では、キャパシタ領域C1R、C2Rの間を通るD2方向に沿った線を対称軸とした場合に、この対称軸に線対称なレイアウト配置が可能になる。従って、差分値CPD等の悪影響を更に低減できる。   Further, in the layout arrangement of FIG. 10, when a line along the direction D2 passing between the capacitor regions C1R and C2R is used as a symmetry axis, a layout arrangement that is line-symmetric with respect to this symmetry axis is possible. Therefore, adverse effects such as the difference value CPD can be further reduced.

また図10では、スイッチ素子SW2にAGND(アナログ基準電源)の電圧を供給するための第1のアナログ基準電源ラインLA1が、キャパシタ領域C1R、C2RのD3方向側においてD2方向に沿って配線される。一方、スイッチ素子SW4にAGNDの電圧を供給するための第2のアナログ基準電源ラインLA2が、キャパシタ領域C1R、C2RのD1方向側においてD2方向に沿って配線される。   In FIG. 10, a first analog reference power supply line LA1 for supplying a voltage of AGND (analog reference power supply) to the switch element SW2 is wired along the D2 direction on the D3 direction side of the capacitor regions C1R and C2R. . On the other hand, a second analog reference power line LA2 for supplying the voltage AGND to the switch element SW4 is wired along the D2 direction on the D1 direction side of the capacitor regions C1R and C2R.

図10のように、AGNDのラインLA1、LA2を配線すれば、スイッチ素子SW2、SW4にショートパスでAGNDを供給できると共に、ラインLA1、LA2の内側の領域を、外側の領域からAGNDによりシールドできるようになる。従って、例えば入力ノードNIでの入力電圧VINの変動や出力電圧の変動が、寄生容量を介してノードNEGに伝達されて、回路特性に悪影響を与えてしまう事態を効果的に防止できる。また、上述した対称軸に対して、ラインLA1、LA2についても線対称に配線することができるため、線対称なレイアウトが可能になり、差分値CPD等の悪影響を低減できる。   As shown in FIG. 10, if the AGND lines LA1 and LA2 are wired, AGND can be supplied to the switch elements SW2 and SW4 through a short path, and the area inside the lines LA1 and LA2 can be shielded from the outside area by AGND. It becomes like this. Therefore, for example, it is possible to effectively prevent a situation in which fluctuations in the input voltage VIN and output voltage at the input node NI are transmitted to the node NEG via the parasitic capacitance and adversely affect circuit characteristics. In addition, since the lines LA1 and LA2 can be line-symmetrically arranged with respect to the above-described symmetry axis, a line-symmetric layout is possible, and adverse effects such as the difference value CPD can be reduced.

なお、サミングノードNEGのラインLNEGについては、その左側や右側、或いは上側や下側に、AGNDの電位等に設定されたシールド線を更に配線することが望ましい。   For the line LNEG of the summing node NEG, it is desirable to further wire a shield line set to the potential of AGND on the left side, the right side, or the upper side or the lower side.

図11に図7、8に示す増幅回路のレイアウト配置例を説明するための断面図を示す。図11に示すように、N+のクロスアンダ不純物層であるNCUの上方には、ゲート絶縁膜層IS0を介してトランジスタのゲートであるポリシリコン層PLYが形成される。そして、このポリシリコン層PLYが位相補償用キャパシタCCの上側電極になり、NCUの不純物層が下側電極になる。   FIG. 11 is a cross-sectional view for explaining an example layout layout of the amplifier circuit shown in FIGS. As shown in FIG. 11, a polysilicon layer PLY that is a gate of the transistor is formed above the NCU that is an N + cross under impurity layer via a gate insulating film layer IS0. The polysilicon layer PLY serves as the upper electrode of the phase compensation capacitor CC, and the NCU impurity layer serves as the lower electrode.

ポリシリコン層PLYの上方には、第1の層間絶縁層IS1を介して金属層METAが形成され、当該金属層METAの上方に第2の層間絶縁層IS2を介して金属層METB1及び金属層METB2が形成される。金属層METAと金属層METB1と第2の層間絶縁層IS2により、第1のキャパシタC1が形成される。金属層METAと金属層METB2と第2の層間絶縁層IS2により、第2のキャパシタC2が形成される。このようにして、位相補償用キャパシタCCは、電荷蓄積用キャパシタとなる第1のキャパシタC1及び第2のキャパシタC2の下方に配置される。   A metal layer META is formed above the polysilicon layer PLY via a first interlayer insulating layer IS1, and above the metal layer META, a metal layer METB1 and a metal layer METB2 via a second interlayer insulating layer IS2. Is formed. The first capacitor C1 is formed by the metal layer META, the metal layer METB1, and the second interlayer insulating layer IS2. The second capacitor C2 is formed by the metal layer META, the metal layer METB2, and the second interlayer insulating layer IS2. In this way, the phase compensation capacitor CC is disposed below the first capacitor C1 and the second capacitor C2 that serve as charge storage capacitors.

このように、第2タイプのキャパシタType2である位相補償用キャパシタCCを下方に形成し、その第2タイプのキャパシタType2の上方に第1タイプのキャパシタType1を形成するようにレイアウトすれば、少ない面積を利用して効率的に電荷蓄積用キャパシタとなる第1のキャパシタC1及び第2のキャパシタC2と位相補償用キャパシタCCをレイアウト配置できる。   Thus, if the layout is made such that the phase compensation capacitor CC that is the second type capacitor Type2 is formed below and the first type capacitor Type1 is formed above the second type capacitor Type2, a small area is obtained. The first capacitor C1 and the second capacitor C2 and the phase compensation capacitor CC, which are efficient charge storage capacitors, can be laid out.

1.5.第3の構成例
図12、図13に本実施形態の増幅回路の第3の構成例を示す。第3の構成例の増幅回路は、階調電圧生成回路の階調アンプ部に含まれる階調電圧生成用増幅回路に使用され(図18参照)、図12、図13に示すように、図7、図8に示す本実施形態の第2の構成例に比べて、その一端に増幅回路の出力ノードNQが抵抗R3を介して電気的に接続される第3のキャパシタC3が更に設けられている。そして、増幅回路の出力ノードNQと、第7のスイッチ素子SW7と位相補償用キャパシタCCとの間の接続ノードNCCとの間に、第8のスイッチ素子SW8が設けられている。ここで第3のキャパシタC3は増幅回路の位相補償用(出力安定化用)のキャパシタである。
1.5. Third Configuration Example FIGS. 12 and 13 show a third configuration example of the amplifier circuit of this embodiment. The amplifier circuit of the third configuration example is used in a gradation voltage generation amplifier circuit included in the gradation amplifier section of the gradation voltage generation circuit (see FIG. 18), as shown in FIGS. 7. Compared to the second configuration example of the present embodiment shown in FIG. 8, a third capacitor C3 is further provided at one end of which an output node NQ of the amplifier circuit is electrically connected via a resistor R3. Yes. An eighth switch element SW8 is provided between the output node NQ of the amplifier circuit and the connection node NCC between the seventh switch element SW7 and the phase compensation capacitor CC. Here, the third capacitor C3 is a capacitor for phase compensation (output stabilization) of the amplifier circuit.

初期化期間の時は、図12に示すように、出力ノードNQ側に設けられるスイッチ素子SW6及び当該第8のスイッチ素子SW8がオフになり、位相補償用スイッチ素子SW7がオンになっている。このように、初期化期間においては、増幅回路の出力スイッチとなるスイッチ素子SW6がオフになっているため、演算増幅器OPの出力ノードNQに付加されるキャパシタの容量が少なくなる。このため、位相補償用スイッチSW7をオンにすることによって、演算増幅器OPの出力端子側の出力ノードNQ’に位相補償用キャパシタCCが接続されて、演算増幅器OPの位相補償が行われる。   In the initialization period, as shown in FIG. 12, the switch element SW6 and the eighth switch element SW8 provided on the output node NQ side are turned off, and the phase compensation switch element SW7 is turned on. As described above, in the initialization period, the switch element SW6 serving as the output switch of the amplifier circuit is turned off, so that the capacitance of the capacitor added to the output node NQ of the operational amplifier OP is reduced. Therefore, by turning on the phase compensation switch SW7, the phase compensation capacitor CC is connected to the output node NQ 'on the output terminal side of the operational amplifier OP, and the phase compensation of the operational amplifier OP is performed.

一方、出力期間の時には、図13に示すように、スイッチ素子SW6及び当該第8のスイッチ素子SW8がオンになり、位相補償用スイッチ素子SW7がオフになっている。すなわち、出力期間においては、演算増幅器OPに付加される寄生容量に加えて、第3のキャパシタC3及び位相補償用キャパシタCCも有効活用することによって、これらの寄生容量及びキャパシタC3、CCにより位相補償(出力安定化)が可能になる。例えば、増幅回路を、後述するデータドライバや階調電圧生成回路に活用した場合には、データドライバや階調電圧生成回路の演算増幅器OPの出力に付加される寄生容量(例えばデータ線や階調電圧線の寄生容量)に加えて、第3のキャパシタC3及び位相補償用キャパシタCCも有効活用することによって、これらの寄生容量及びキャパシタC3、CCにより位相補償が可能になる。また、例えば、階調電圧生成回路の階調アンプ部の演算増幅器OPが出力した階調電圧をデータドライバのD/A変換回路で当該階調電圧が全く選択されなかった場合には、出力ノードNQに付加される負荷が1番小さくなってしまい、階調アンプ部の演算増幅器OPが出力時に最小の負荷となってしまうことがある。このような事態に備えて、第3の構成例では、前述したように、出力時の位相補償を行っている。   On the other hand, during the output period, as shown in FIG. 13, the switch element SW6 and the eighth switch element SW8 are turned on, and the phase compensation switch element SW7 is turned off. In other words, in the output period, in addition to the parasitic capacitance added to the operational amplifier OP, the third capacitor C3 and the phase compensation capacitor CC are also effectively used, so that the phase compensation is performed by the parasitic capacitance and the capacitors C3 and CC. (Output stabilization) becomes possible. For example, when the amplifier circuit is used for a data driver or a gradation voltage generation circuit to be described later, a parasitic capacitance (for example, a data line or gradation) added to the output of the operational amplifier OP of the data driver or the gradation voltage generation circuit. By effectively utilizing the third capacitor C3 and the phase compensation capacitor CC in addition to the parasitic capacitance of the voltage line, phase compensation can be performed by the parasitic capacitance and the capacitors C3 and CC. Further, for example, when the gradation voltage output from the operational amplifier OP of the gradation amplifier section of the gradation voltage generation circuit is not selected at all by the D / A conversion circuit of the data driver, the output node In some cases, the load applied to NQ becomes the smallest, and the operational amplifier OP of the gradation amplifier unit becomes the minimum load during output. In preparation for such a situation, in the third configuration example, as described above, phase compensation at the time of output is performed.

なお、本実施形態では、第3のキャパシタC3は、位相補償用のキャパシタCCと同様に、電圧依存性の影響をそれほど受けないので、図2(B)の第2タイプのキャパシタ(Type2)を用いている。このように、位相補償用キャパシタCCと同様に、第3のキャパシタC3として、容量値に電圧依存性があるが、同じ面積でより大きな容量が得られる第2タイプのキャパシタ(Type2)を使用することによって、演算増幅器OPの発振を防止した上で増幅回路のレイアウト効率を向上できる。   In the present embodiment, the third capacitor C3 is not affected so much by the voltage dependence as the phase compensation capacitor CC, so the second type capacitor (Type2) in FIG. Used. Thus, like the phase compensation capacitor CC, as the third capacitor C3, the second type capacitor (Type 2) that has a voltage dependency on the capacitance value but can obtain a larger capacitance in the same area is used. Thus, the layout efficiency of the amplifier circuit can be improved while preventing the operational amplifier OP from oscillating.

図14(A)に本実施形態の増幅回路の第3の構成例の全体的なレイアウト配置例を示す。図14(A)において、第1の方向D1の反対方向が第3の方向D3になり、第1の方向D1に直交(交差)する方向が第2の方向D2になり、第2の方向D2の反対方向が第4の方向D4になっている。   FIG. 14A shows an overall layout arrangement example of the third configuration example of the amplifier circuit of the present embodiment. In FIG. 14A, the direction opposite to the first direction D1 is the third direction D3, the direction orthogonal (crossing) to the first direction D1 is the second direction D2, and the second direction D2 The opposite direction is the fourth direction D4.

図14では、図12、図13のキャパシタC1が形成される第1のキャパシタ領域C1Rと、キャパシタC2が形成される第2のキャパシタ領域C2Rが、D1方向に沿って配置される。なおキャパシタ領域C1R、C2RをD2方向に沿って配置する変形実施も可能である。   In FIG. 14, the first capacitor region C1R where the capacitor C1 of FIGS. 12 and 13 is formed and the second capacitor region C2R where the capacitor C2 is formed are arranged along the direction D1. A modification in which the capacitor regions C1R and C2R are arranged along the direction D2 is also possible.

また、本実施形態では、位相補償用キャパシタCCが形成される位相補償用キャパシタ領域CCRは、平面視において電荷蓄積用キャパシタCAである第1のキャパシタC1、第2のキャパシタC2が形成される第1のキャパシタ領域C1R、第2のキャパシタ領域C2Rの下方に配置される。すなわち、第1のキャパシタ領域C1R、第2のキャパシタ領域C2Rの下方に有するスペースを有効利用して、位相補償用キャパシタCCが形成される位相補償用キャパシタ領域CCRとしている。   In the present embodiment, the phase compensation capacitor region CCR in which the phase compensation capacitor CC is formed has a first capacitor C1 and a second capacitor C2 that are charge storage capacitors CA in plan view. The first capacitor region C1R and the second capacitor region C2R are disposed below. In other words, the phase compensation capacitor region CCR in which the phase compensation capacitor CC is formed is formed by effectively using the space below the first capacitor region C1R and the second capacitor region C2R.

スイッチ素子SW1、SW2が形成される第1のスイッチ素子領域SWR1は、キャパシタ領域C1R、C2RのD3方向側に配置される。またスイッチ素子SW3、SW4、SW5が形成される第2のスイッチ素子領域SWR2は、キャパシタ領域C1R、C2RのD1方向側に配置される。   The first switch element region SWR1 in which the switch elements SW1 and SW2 are formed is disposed on the D3 direction side of the capacitor regions C1R and C2R. The second switch element region SWR2 in which the switch elements SW3, SW4, and SW5 are formed is arranged on the D1 direction side of the capacitor regions C1R and C2R.

補助キャパシタCAXが形成される補助キャパシタ領域CAXRは、第1のスイッチ素子領域SWR1のD1方向側に配置される。   The auxiliary capacitor region CAXR in which the auxiliary capacitor CAX is formed is disposed on the D1 direction side of the first switch element region SWR1.

演算増幅器OPが形成される演算増幅器領域OPRは、補助キャパシタ領域CAXRのD1方向側に配置される。   The operational amplifier region OPR in which the operational amplifier OP is formed is disposed on the D1 direction side of the auxiliary capacitor region CAXR.

そして、第3のキャパシタC3が形成される第3のキャパシタ領域C3Rは、演算増幅器領域OPRのD1方向側に配置される。   The third capacitor region C3R in which the third capacitor C3 is formed is disposed on the D1 direction side of the operational amplifier region OPR.

なお、キャパシタ領域CAXRやC3Rでは、少ないレイアウト面積で大きな容量値を得るために、第1タイプ及び第2タイプの両方のタイプで補助キャパシタCAXや第3のキャパシタC3を形成することが望ましい。   In the capacitor regions CAXR and C3R, in order to obtain a large capacitance value with a small layout area, it is desirable to form the auxiliary capacitor CAX and the third capacitor C3 in both the first type and the second type.

図14(A)のレイアウト配置によれば、キャパシタ領域C1RのD3方向側にスイッチ素子SW1、SW2が配置されるため、前段の回路からの入力電圧VINをショートパスでスイッチ素子SW1、SW2(キャパシタC1)に供給できる。また、キャパシタ領域C2RのD1方向側にスイッチ素子SW3、SW4が配置されるため、後段の回路(例えば演算増幅器)とスイッチ素子SW3、SW4(キャパシタC2)との接続をショートパスで実現できる。従って、レイアウト効率を向上できると共に、性能に悪影響を与える寄生容量や寄生抵抗を最小限にすることができる。   According to the layout arrangement of FIG. 14A, the switch elements SW1 and SW2 are arranged on the D3 direction side of the capacitor region C1R. C1). In addition, since the switch elements SW3 and SW4 are arranged on the D1 direction side of the capacitor region C2R, the connection between the subsequent circuit (for example, an operational amplifier) and the switch elements SW3 and SW4 (capacitor C2) can be realized by a short path. Therefore, layout efficiency can be improved, and parasitic capacitance and parasitic resistance that adversely affect performance can be minimized.

また、本実施形態の変形例として、図14(B)に示すように、補助キャパシタCAXが形成される補助キャパシタ領域CAXRが、平面視において第1のキャパシタC1、第2のキャパシタC2が形成される第1のキャパシタ領域C1R、第2のキャパシタ領域C2Rの下方に配置されるようにしてもよい。すなわち、第1のキャパシタ領域C1R、第2のキャパシタ領域C2Rの下方に有するスペースを有効利用して、補助キャパシタCAXが形成される補助キャパシタ領域CAXRとするレイアウトにしてもよい。   As a modification of the present embodiment, as shown in FIG. 14B, the auxiliary capacitor region CAXR in which the auxiliary capacitor CAX is formed includes the first capacitor C1 and the second capacitor C2 in plan view. It may be arranged below the first capacitor region C1R and the second capacitor region C2R. In other words, a layout having the auxiliary capacitor region CAXR in which the auxiliary capacitor CAX is formed may be used by effectively utilizing the space below the first capacitor region C1R and the second capacitor region C2R.

1.6.第4の構成例
図15(A)、図15(B)、図16に本実施形態の増幅回路の第4の構成例を示す。第4の構成例の増幅回路は、サンプリング期間中に入力電圧(入力信号)に応じた電荷をサンプリング用キャパシタにサンプリングし、ホールド期間中に当該サンプリング用キャパシタのフリップアラウンド動作を行って、蓄積された電荷に対応する電圧をその出力ノードに出力するフリップアラウンド型のサンプルホールド回路に適用したものである。このフリップアラウンド型のサンプルホールド回路は、例えば集積回路装置に含まれる階調生成アンプや駆動アンプなどに用いることができる。図15(A)に示すように、第4の構成例の増幅回路は、サンプリング期間において、サンプリング用キャパシタCSに入力電圧VIに応じた電荷を蓄積し、図15(B)に示すように、ホールド期間において、サンプリング用キャパシタCSのフリップアラウンド動作を行って、蓄積された電荷に応じた電圧VQを出力する。
1.6. Fourth Configuration Example FIGS. 15A, 15B, and 16 show a fourth configuration example of the amplifier circuit of this embodiment. The amplifying circuit of the fourth configuration example stores the charge according to the input voltage (input signal) in the sampling capacitor during the sampling period, and performs the flip-around operation of the sampling capacitor during the hold period and accumulates it. This is applied to a flip-around type sample-and-hold circuit that outputs a voltage corresponding to the charged charges to its output node. This flip-around sample-and-hold circuit can be used, for example, for a gradation generation amplifier and a drive amplifier included in an integrated circuit device. As shown in FIG. 15A, the amplifier circuit of the fourth configuration example accumulates electric charge according to the input voltage VI in the sampling capacitor CS in the sampling period, and as shown in FIG. In the hold period, a flip-around operation of the sampling capacitor CS is performed to output a voltage VQ corresponding to the accumulated charge.

図16に示すように第4の構成例の増幅回路は、演算増幅器OPと、サンプリング用スイッチ素子SSと、サンプリング用キャパシタCSと、帰還用スイッチ素子SFと、フリップアラウンド用スイッチ素子SAと、補助キャパシタCAXと、位相補償用キャパシタCCとを含む。なお、これらの一部の構成要素を省略したり、他の構成要素を追加するなどの変形実施も可能である。また、スイッチ素子SS、SA、SFは、例えばトランスファーゲートなどのCMOSトランジスタにより構成できる。   As shown in FIG. 16, the amplifier circuit of the fourth configuration example includes an operational amplifier OP, a sampling switch element SS, a sampling capacitor CS, a feedback switch element SF, a flip-around switch element SA, and an auxiliary circuit. A capacitor CAX and a phase compensation capacitor CC are included. It should be noted that modifications such as omitting some of these components or adding other components are possible. In addition, the switch elements SS, SA, and SF can be configured by CMOS transistors such as transfer gates, for example.

演算増幅器OP1の非反転入力端子(第2の入力端子)には、アナログ基準電源電圧AGNDが設定される。   An analog reference power supply voltage AGND is set to the non-inverting input terminal (second input terminal) of the operational amplifier OP1.

サンプリング用スイッチ素子SSは、サンプルホールド回路の入力ノードNIと、接続ノードNSとの間に設けられる。サンプリング用キャパシタCSは、接続ノードNSとサミングノードNEGとの間に設けられる本実施形態の第1タイプのキャパシタで構成される電荷蓄積用キャパシタである。帰還用スイッチ素子SFは、演算増幅器OPの出力端子のノードNQとサミングノードNEGとの間に設けられる。フリップアラウンド用スイッチ素子SAは、接続ノードNSと、演算増幅器OPの出力端子のノードNQとの間に設けられる。   The sampling switch element SS is provided between the input node NI of the sample hold circuit and the connection node NS. The sampling capacitor CS is a charge storage capacitor configured by the first type capacitor of the present embodiment provided between the connection node NS and the summing node NEG. The feedback switch element SF is provided between the node NQ of the output terminal of the operational amplifier OP and the summing node NEG. The flip-around switch element SA is provided between the connection node NS and the node NQ of the output terminal of the operational amplifier OP.

第4の構成例では、その一端にサミングノードNEGが電気的に接続されるように補助キャパシタCAXが設けられている。本実施形態では、補助キャパシタCAXは、一方の電極がポリシリコン層で、他方の電極が不純物層で形成される第2タイプのキャパシタType2で構成される。   In the fourth configuration example, an auxiliary capacitor CAX is provided at one end so that the summing node NEG is electrically connected. In the present embodiment, the auxiliary capacitor CAX is composed of a second type capacitor Type 2 in which one electrode is a polysilicon layer and the other electrode is an impurity layer.

そして、サンプリング期間においては、サンプリング用スイッチ素子SS及び帰還用スイッチ素子SFがオンになると共に、フリップアラウンド用スイッチ素子SAがオフになる。これにより、図15(A)で説明したフリップアラウンド型サンプルホールド回路として、増幅回路のサンプリング動作を実現できる。   In the sampling period, the sampling switch element SS and the feedback switch element SF are turned on, and the flip-around switch element SA is turned off. Accordingly, the sampling operation of the amplifier circuit can be realized as the flip-around sample-and-hold circuit described with reference to FIG.

一方、ホールド期間においては、サンプリング用スイッチ素子SS及び帰還用スイッチ素子SFがオフになると共に、フリップアラウンド用スイッチ素子SAがオンになる。これにより、図15(B)で説明したフリップアラウンド型サンプルホールド回路として、増幅回路のホールド動作を実現できる。   On the other hand, in the hold period, the sampling switch element SS and the feedback switch element SF are turned off, and the flip-around switch element SA is turned on. Accordingly, the hold operation of the amplifier circuit can be realized as the flip-around type sample-and-hold circuit described with reference to FIG.

このようなフリップアラウンド型のサンプルホールド回路を用いれば、いわゆるオフセットフリーを実現できる。従って、例えば本実施形態の増幅回路を適用したサンプルホールド回路を例えばデータ線駆動回路に適用した場合には、データ線間での出力電圧のバラツキを最小限に抑えることができる。これにより、バラツキの少ない高精度の電圧をデータ線に供給でき、表示品質を向上できる。また、D/A変換回路によりデータ線を直接駆動するDAC駆動が不要になるため、高速駆動や制御の簡素化を実現できる。   If such a flip-around sample-and-hold circuit is used, so-called offset free can be realized. Therefore, for example, when a sample and hold circuit to which the amplifier circuit of the present embodiment is applied is applied to, for example, a data line driving circuit, variations in output voltage between data lines can be minimized. Thereby, a highly accurate voltage with little variation can be supplied to the data line, and display quality can be improved. In addition, since DAC driving for directly driving the data line by the D / A conversion circuit is not necessary, high-speed driving and simplification of control can be realized.

2.基準電圧生成回路
図17に、本実施形態の増幅回路が含まれる基準電圧生成回路の構成例を示す。なお、本実施形態の基準電圧生成回路は、図17の構成に限定されず、その構成要素の一部を省略したり、他の構成要素を追加するなどの種々の変形実施が可能である。
2. Reference Voltage Generation Circuit FIG. 17 shows a configuration example of a reference voltage generation circuit including the amplifier circuit of this embodiment. Note that the reference voltage generation circuit of the present embodiment is not limited to the configuration of FIG. 17, and various modifications such as omitting some of the components or adding other components are possible.

本実施形態の基準電圧生成回路11は、複数の基準電圧V1〜Vnを生成する回路である。具体的には、基準電圧生成回路11は、高電位側電圧VGMHと低電位側電圧VGMLの間を抵抗分割し、分割ノードN1〜Nn(nは2以上の整数)に分割電圧VD1〜VDnを出力するラダー抵抗回路(広義には電圧生成回路)12と、当該分割ノードN1〜Nnにおける分割電圧VD1〜VDnをインピーダンス変換して基準電圧V1〜Vnを出力するアンプ部14を含むことができる。   The reference voltage generation circuit 11 of the present embodiment is a circuit that generates a plurality of reference voltages V1 to Vn. Specifically, the reference voltage generation circuit 11 performs resistance division between the high potential side voltage VGMH and the low potential side voltage VGML, and supplies the divided voltages VD1 to VDn to the divided nodes N1 to Nn (n is an integer of 2 or more). A ladder resistor circuit (voltage generation circuit in a broad sense) 12 that outputs and an amplifier unit 14 that impedance-converts divided voltages VD1 to VDn at the divided nodes N1 to Nn and outputs reference voltages V1 to Vn can be included.

ラダー抵抗回路12は、基準電圧となる高電位側電源VGMH(広義には、第1の電源)と、低電位側電源VGML(広義には、第2の電源)との間に設けられる電圧生成回路である。ラダー抵抗回路12は、直列に接続された複数の抵抗回路(可変抵抗)R0〜Rnを有し、これらの複数の抵抗回路R0〜Rnで抵抗分割された複数の電圧分割ノードN1〜Nnにおける各電圧が、分割電圧VD1〜VDnとして出力される。   The ladder resistor circuit 12 generates a voltage provided between a high potential side power source VGMH (first power source in a broad sense) serving as a reference voltage and a low potential side power source VGML (second power source in a broad sense). Circuit. The ladder resistor circuit 12 includes a plurality of resistor circuits (variable resistors) R0 to Rn connected in series, and each of the voltage dividing nodes N1 to Nn divided by the plurality of resistor circuits R0 to Rn. The voltage is output as divided voltages VD1 to VDn.

アンプ部14は、電圧生成回路となるラダー抵抗回路12の分割ノードN1〜Nnにおける分割電圧VD1〜VDnをインピーダンス変換する。本実施形態では、アンプ部14は、ラダー抵抗回路12から複数の分割電圧出力線VDL1〜VDLnを介して入力される分割電圧VD1〜VDnに対応した基準電圧生成用増幅回路GAM1〜GAMnを備え、当該基準電圧生成用増幅回路GAM1〜GAMnが分割電圧VD1〜VDnのインピーダンス変換を行う。そして、これらの基準電圧生成用増幅回路GAM1〜GAMnでインピーダンス変換された複数の分割電圧VD1〜VDnは、複数の基準電圧V1〜Vnとして、複数の基準電圧出力線(階調電圧出力線)VL1〜VLnを介して出力される。   The amplifier unit 14 performs impedance conversion on the divided voltages VD1 to VDn at the divided nodes N1 to Nn of the ladder resistor circuit 12 serving as a voltage generation circuit. In the present embodiment, the amplifier unit 14 includes reference voltage generating amplifier circuits GAM1 to GAMn corresponding to the divided voltages VD1 to VDn input from the ladder resistor circuit 12 via the plurality of divided voltage output lines VDL1 to VDLn, The reference voltage generating amplifier circuits GAM1 to GAMn perform impedance conversion of the divided voltages VD1 to VDn. The plurality of divided voltages VD1 to VDn impedance-converted by the reference voltage generating amplifier circuits GAM1 to GAMn are used as a plurality of reference voltages V1 to Vn as a plurality of reference voltage output lines (grayscale voltage output lines) VL1. To VLn.

3.集積回路装置
図18に、本実施形態の集積回路装置10の構成例を示し、特に当該集積回路装置10に含まれる階調電圧生成回路及びデータドライバの構成例を示す。なお、本実施形態の集積回路装置10は、図18の構成に限定されず、その構成要素の一部を省略したり、他の構成要素を追加するなどの種々の変形実施が可能である。
3. Integrated Circuit Device FIG. 18 shows a configuration example of the integrated circuit device 10 of the present embodiment, and particularly shows a configuration example of a gradation voltage generation circuit and a data driver included in the integrated circuit device 10. Note that the integrated circuit device 10 of the present embodiment is not limited to the configuration of FIG. 18, and various modifications may be made such as omitting some of the components or adding other components.

本実施形態の集積回路装置10は、電気光学パネル400(電気光学装置)を駆動する機能を有し、複数の階調電圧(広義には基準電圧)V1〜Vnを出力する階調電圧生成回路(広義には基準電圧生成回路)110と、複数の階調電圧V1〜Vnと、外部から供給される画像データ(階調データ、表示データ)GDとを受けて電気光学パネル400を駆動するデータドライバ50と、を含む。   The integrated circuit device 10 of the present embodiment has a function of driving the electro-optical panel 400 (electro-optical device) and outputs a plurality of gradation voltages (reference voltages in a broad sense) V1 to Vn. (Reference voltage generation circuit in a broad sense) 110, data for driving the electro-optical panel 400 in response to a plurality of gradation voltages V1 to Vn and image data (gradation data, display data) GD supplied from the outside. And a driver 50.

電気光学パネル400(電気光学装置)は、複数のデータ線(例えばソース線)と、複数の走査線(例えばゲート線)と、データ線及び走査線により特定される複数の画素を有する。そして、各画素領域における電気光学素子(狭義には、液晶素子、EL素子)の光学特性を変化させることによって表示動作を実現する。この電気光学パネル400(狭義には、表示パネル)は、例えば、TFT、TFDなどのスイッチ素子を用いたアクティブマトリクス方式のパネルにより構成できる。なお、電気光学パネルは、アクティブマトリクス方式以外のパネルであってもよいし、液晶パネル以外の例えば有機EL(Electro Luminescence)や無機ELなどの発光素子を用いたパネルであってもよい。   The electro-optical panel 400 (electro-optical device) includes a plurality of data lines (for example, source lines), a plurality of scanning lines (for example, gate lines), and a plurality of pixels specified by the data lines and the scanning lines. Then, the display operation is realized by changing the optical characteristics of the electro-optical element (in a narrow sense, a liquid crystal element or an EL element) in each pixel region. The electro-optical panel 400 (display panel in a narrow sense) can be constituted by, for example, an active matrix type panel using a switching element such as a TFT or a TFD. The electro-optical panel may be a panel other than the active matrix system, or may be a panel using a light emitting element such as an organic EL (Electro Luminescence) or inorganic EL other than the liquid crystal panel.

階調電圧生成回路110は、データドライバ50に供給する複数の階調電圧V1〜Vnを生成して供給する回路である。具体的には、階調電圧生成回路110は、ラダー抵抗回路(広義には電圧生成回路)112と、階調アンプ部114を含むことができる。   The gradation voltage generation circuit 110 is a circuit that generates and supplies a plurality of gradation voltages V1 to Vn to be supplied to the data driver 50. Specifically, the gradation voltage generation circuit 110 can include a ladder resistor circuit (voltage generation circuit in a broad sense) 112 and a gradation amplifier unit 114.

ラダー抵抗回路112は、階調電圧生成用の高電位側電源VGMH(広義には、第1の電源)と、階調電圧生成用の低電位側電源VGML(広義には、第2の電源)との間に設けられる。ラダー抵抗回路112は、直列に接続された複数の抵抗回路(可変抵抗)R0〜Rnを有し、これらの複数の抵抗回路R0〜Rnで抵抗分割された複数の電圧分割ノードN1〜Nnにおける各電圧が、分割電圧VD1〜VDnとして出力される。   The ladder resistor circuit 112 includes a high potential side power source VGMH (first power source in a broad sense) for generating gradation voltages and a low potential side power source VGML (second power source in a broad sense) for generating gradation voltages. Between. The ladder resistor circuit 112 has a plurality of resistor circuits (variable resistors) R0 to Rn connected in series, and each of the voltage dividing nodes N1 to Nn divided by the plurality of resistor circuits R0 to Rn. The voltage is output as divided voltages VD1 to VDn.

階調アンプ部114は、電圧生成回路となるラダー抵抗回路112の分割ノードN1〜Nnにおける分割電圧VD1〜VDnをインピーダンス変換する。本実施形態では、階調アンプ部114は、ラダー抵抗回路112から入力される分割電圧VD1〜VDnに対応した階調電圧生成用増幅回路GAM1〜GAMnを備え、当該階調電圧生成用増幅回路GAM1〜GAMnが分割電圧VD1〜VDnのインピーダンス変換を行う。そして、これらの階調電圧生成用増幅回路GAM1〜GAMnでインピーダンス変換された複数の分割電圧VD1〜VDnは、複数の階調電圧V1〜Vnとして複数の階調電圧出力線VL1〜VLnを介して出力される。   The gradation amplifier unit 114 performs impedance conversion on the divided voltages VD1 to VDn at the divided nodes N1 to Nn of the ladder resistor circuit 112 serving as a voltage generation circuit. In the present embodiment, the gradation amplifier unit 114 includes gradation voltage generation amplification circuits GAM1 to GAMn corresponding to the divided voltages VD1 to VDn input from the ladder resistor circuit 112, and the gradation voltage generation amplification circuit GAM1. ˜GAMn performs impedance conversion of the divided voltages VD1 to VDn. The plurality of divided voltages VD1 to VDn impedance-converted by the gradation voltage generation amplifiers GAM1 to GAMn are supplied as the plurality of gradation voltages V1 to Vn via the plurality of gradation voltage output lines VL1 to VLn. Is output.

データドライバ50は、液晶パネルなどの電気光学パネル400(電気光学装置)のデータ線SL1〜SLm(mは2以上の整数)を駆動するためのデータ信号(電圧、電流)を供給する回路である。具体的にはデータドライバ50は、複数(例えば、256段階)の階調電圧(基準電圧)V1〜Vnと画像データ(階調データ、表示データ)GDに基づいて、これらの複数の階調電圧V1〜Vnの中から、画像データGDに対応する電圧(データ電圧)を選択して、電気光学パネル400のデータ線SL1〜SLmに出力する。例えばメモリ内蔵の集積回路装置10の場合には、表示メモリから画像データGDを受ける。一方、メモリ非内蔵の集積回路装置10の場合には、外部(例えば表示コントローラ)から画像データGDが供給される。なお、本実施形態における階調数は任意である。   The data driver 50 is a circuit that supplies data signals (voltage, current) for driving the data lines SL1 to SLm (m is an integer of 2 or more) of an electro-optical panel 400 (electro-optical device) such as a liquid crystal panel. . Specifically, the data driver 50 determines a plurality of gradation voltages (for example, 256 levels) based on a plurality of gradation voltages (reference voltages) V1 to Vn and image data (gradation data, display data) GD. A voltage (data voltage) corresponding to the image data GD is selected from V1 to Vn and output to the data lines SL1 to SLm of the electro-optical panel 400. For example, in the case of the integrated circuit device 10 with a built-in memory, the image data GD is received from the display memory. On the other hand, in the case of the integrated circuit device 10 without a memory, the image data GD is supplied from the outside (for example, a display controller). Note that the number of gradations in this embodiment is arbitrary.

データドライバ50は、D/A変換回路52−1〜52−m、データ線駆動回路54−1〜54−mを含む。なお、図18のように各データ線に対応して1つのD/A変換回路及び1つのデータ線駆動回路を設けてもよいし、1つのD/A変換回路を複数のデータ線駆動回路(例えば、1または複数ピクセル分のデータ線駆動回路)で共用する構成にしてもよい。また、データ線駆動回路が複数のデータ線を時分割に駆動するようにしてもよい。さらに、データドライバ50の一部または全部を電気光学パネル上に一体に形成してもよい。   The data driver 50 includes D / A conversion circuits 52-1 to 52-m and data line driving circuits 54-1 to 54-m. As shown in FIG. 18, one D / A conversion circuit and one data line driving circuit may be provided corresponding to each data line, and one D / A conversion circuit is provided with a plurality of data line driving circuits ( For example, the data line driving circuit for one or a plurality of pixels may be shared. Further, the data line driving circuit may drive a plurality of data lines in a time division manner. Further, part or all of the data driver 50 may be integrally formed on the electro-optical panel.

D/A変換回路52−1〜52−mは、データドライバ50に少なくとも1つ設けられ、階調電圧生成回路110から供給される複数の階調電圧V1〜Vnと画像データGD(階調データ)が入力され、D/A変換後の電圧を出力する。本実施形態では、例えば、画像データGDを受けて、階調電圧V1〜Vnの中から画像データGDに対応した階調電圧を選択して、選択階調電圧VSL1〜VSLmとしてデータ線駆動回路54−1〜54−mに出力する。   At least one D / A conversion circuit 52-1 to 52-m is provided in the data driver 50, and a plurality of gradation voltages V1 to Vn supplied from the gradation voltage generation circuit 110 and image data GD (gradation data). ) Is input and the voltage after D / A conversion is output. In the present embodiment, for example, the image data GD is received, the gradation voltage corresponding to the image data GD is selected from the gradation voltages V1 to Vn, and the data line driving circuit 54 is selected as the selected gradation voltages VSL1 to VSLm. Output to -1 to 54-m.

データ線駆動回路54−1〜54−mは、データドライバ50に少なくとも1つ設けられ、D/A変換回路52−1〜52−mから供給されるD/A変換後の選択階調電圧VSL1〜VSLmのインピーダンス変換を行って、電気光学パネル400のデータ線SL1〜SLmを駆動するデータ電圧VS1〜VSmとして出力する。本実施形態では、データ線駆動回路54−1〜54−mは、データドライバ用増幅回路DAM1〜DAMmを含み、これらのデータドライバ用増幅回路DAM1〜DAMmがD/A変換回路52−1〜52−mからの選択階調電圧VSL1〜VSLmのインピーダンス変換を行う。そして、インピーダンス変換後の選択階調電圧VSL1〜VSLmをデータ電圧VS1〜VSmとして電気光学パネル400のデータ線SL1〜SLmに供給することによって、当該データ線SL1〜SLmを駆動する。   At least one data line driving circuit 54-1 to 54-m is provided in the data driver 50, and the selected gradation voltage VSL1 after D / A conversion supplied from the D / A conversion circuits 52-1 to 52-m is provided. Are converted into data voltages VS1 to VSm for driving the data lines SL1 to SLm of the electro-optical panel 400. In the present embodiment, the data line driving circuits 54-1 to 54-m include data driver amplification circuits DAM1 to DAMm, and these data driver amplification circuits DAM1 to DAMm are D / A conversion circuits 52-1 to 52-52. Impedance conversion of the selected gradation voltages VSL1 to VSLm from −m is performed. Then, the selected gradation voltages VSL1 to VSLm after impedance conversion are supplied to the data lines SL1 to SLm of the electro-optical panel 400 as the data voltages VS1 to VSm, thereby driving the data lines SL1 to SLm.

本実施形態では、階調電圧生成回路110の階調アンプ部114に含まれる階調電圧生成用増幅回路GAM1〜GAMn、及びデータ線駆動回路54−1〜54−mに含まれるデータドライバ用増幅回路DAM1〜DAMmとして、入力電圧に対応する出力電圧(例えば入力電圧の反転電圧)が常時出力されるタイプの増幅回路を使用できる。例えば、階調電圧生成回路110やデータドライバ50に含まれる増幅回路として、サンプルホールド型の増幅回路を用いる手法も考えられるが、この手法では、サンプリング期間において増幅回路の出力がハイインピーダンス状態になってしまうため、タイミング制御が煩雑になる。これに対して本実施形態では、出力期間においては増幅回路の出力がハイインピーダンス状態にならないため、タイミング制御を簡素化できる。また、増幅回路にオフセットキャンセル機能を持たせることで、オフセット電圧のばらつきを要因とするデータ電圧のばらつきを低減でき、電気光学パネル400の表示ムラの発生等を防止できる。   In the present embodiment, the gradation voltage generation amplification circuits GAM1 to GAMn included in the gradation amplifier unit 114 of the gradation voltage generation circuit 110 and the data driver amplification included in the data line driving circuits 54-1 to 54-m. As the circuits DAM1 to DAMm, an amplifier circuit of a type that always outputs an output voltage (for example, an inverted voltage of the input voltage) corresponding to the input voltage can be used. For example, a method using a sample-and-hold type amplifier circuit as an amplifier circuit included in the gradation voltage generation circuit 110 or the data driver 50 can be considered. However, in this method, the output of the amplifier circuit is in a high impedance state during the sampling period. Therefore, timing control becomes complicated. On the other hand, in this embodiment, since the output of the amplifier circuit does not enter a high impedance state during the output period, timing control can be simplified. Further, by providing the amplifier circuit with an offset cancel function, variation in data voltage caused by variation in offset voltage can be reduced, and occurrence of display unevenness of the electro-optical panel 400 can be prevented.

なお、本実施形態では、階調電圧生成回路110の階調アンプ部114とデータ線駆動回路54−1〜54−mに含まれる増幅回路として、入力電圧に対応する出力電圧が常時出力されるタイプの増幅回路を使用しているが、例えば、階調アンプ部114のみに本実施形態の増幅回路を適用してもよい。   In the present embodiment, an output voltage corresponding to the input voltage is always output as the amplifier circuit included in the gradation amplifier unit 114 and the data line driving circuits 54-1 to 54-m of the gradation voltage generation circuit 110. For example, the amplifier circuit of this embodiment may be applied only to the gradation amplifier unit 114.

4.電気光学装置
図19に、本実施形態における電気光学装置の構成の概要を示す。電気光学装置300(液晶装置。広義には表示装置)は、電気光学パネル400(狭義には液晶パネル、LCD(Liquid Crystal Display)パネル)、データドライバ50、走査ドライバ70、表示コントローラ40、電源回路90を含む。なお、電気光学装置300にこれらの全ての回路ブロックを含める必要はなく、その一部の回路ブロックを省略する構成にしてもよい。
4). Electro-Optical Device FIG. 19 shows an outline of the configuration of the electro-optical device according to this embodiment. The electro-optical device 300 (liquid crystal device; display device in a broad sense) includes an electro-optical panel 400 (liquid crystal panel or LCD (Liquid Crystal Display) panel in a narrow sense), a data driver 50, a scan driver 70, a display controller 40, and a power supply circuit. 90 is included. Note that it is not necessary to include all these circuit blocks in the electro-optical device 300, and some of the circuit blocks may be omitted.

ここで電気光学パネル400(電気光学装置)は、複数の走査線と、複数のデータ線と、走査線及びデータ線により特定される画素電極を含む。この場合、データ線に薄膜トランジスタTFT(Thin Film Transistor、広義にはスイッチング素子)を接続し、このTFTに画素電極を接続することで、アクティブマトリクス型の液晶装置を構成できる。   Here, the electro-optical panel 400 (electro-optical device) includes a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, and pixel electrodes specified by the scanning lines and the data lines. In this case, an active matrix liquid crystal device can be formed by connecting a thin film transistor TFT (Thin Film Transistor, switching element in a broad sense) to a data line and connecting a pixel electrode to the TFT.

より具体的には、電気光学パネル400は、アクティブマトリクス基板(例えばガラス基板)上に形成された液晶パネルである。アクティブマトリクス基板には、図14のY方向に複数配列されそれぞれX方向に伸びる走査線G1〜GM(Mは2以上の自然数)と、X方向に複数配列されそれぞれY方向に伸びるデータ線S1〜SN(Nは2以上の自然数)とが配置されている。   More specifically, the electro-optical panel 400 is a liquid crystal panel formed on an active matrix substrate (for example, a glass substrate). In the active matrix substrate, a plurality of scanning lines G1 to GM (M is a natural number of 2 or more) arranged in the Y direction and extending in the X direction and data lines S1 to S1 arranged in the X direction and extending in the Y direction, respectively. SN (N is a natural number of 2 or more) is arranged.

表示コントローラ40は、図示しない中央演算処理装置(Central Processing Unit:
CPU)等のホストにより設定された内容に従って、データドライバ50、走査ドライバ70及び電源回路90を制御する。より具体的には、表示コントローラ40は、データドライバ50及び走査ドライバ70に対しては、例えば動作モードの設定や内部で生成した垂直同期信号や水平同期信号の供給を行い、電源回路90に対しては、対向電極CEに印加する対向電極電圧VCOMの電圧レベルの極性反転タイミングの制御を行う。
The display controller 40 has a central processing unit (not shown).
The data driver 50, the scan driver 70, and the power supply circuit 90 are controlled according to the contents set by a host such as a CPU. More specifically, the display controller 40 sets, for example, the operation mode and internally generated vertical synchronization signals and horizontal synchronization signals to the data driver 50 and the scan driver 70, and supplies the power supply circuit 90 with the power supply circuit 90. Thus, the polarity inversion timing of the voltage level of the common electrode voltage VCOM applied to the common electrode CE is controlled.

電源回路90は、外部から供給される基準電圧に基づいて、電気光学パネル400の駆動に必要な各種の電圧レベル(階調電圧)や、対向電極CEの対向電極電圧VCOMの電圧レベルを生成する。   The power supply circuit 90 generates various voltage levels (gradation voltages) necessary for driving the electro-optical panel 400 and the voltage level of the counter electrode voltage VCOM of the counter electrode CE based on a reference voltage supplied from the outside. .

このような構成の電気光学装置300は、表示コントローラ40の制御の下、外部から供給される階調データに基づいて、データドライバ50、走査ドライバ70及び電源回路90が協調して電気光学パネル400を駆動する。   In the electro-optical device 300 having such a configuration, the data driver 50, the scan driver 70, and the power supply circuit 90 cooperate with each other based on the gradation data supplied from the outside under the control of the display controller 40. Drive.

図19では、RGBの各色成分を表示するために1画素が3ドットで構成され、各色成分毎にデータ線が設けられているものとして説明したが、1画素が2ドット、4ドット以上のドット数で構成されていてもよい。   In FIG. 19, one pixel is composed of 3 dots to display each RGB color component, and a data line is provided for each color component. However, one pixel is a dot of 2 dots, 4 dots or more. It may consist of numbers.

なお、図19では、電気光学装置300が表示コントローラ40を含む構成になっているが、表示コントローラ40を電気光学装置300の外部に設けてもよい。或いは、表示コントローラ40と共に、ホストを電気光学装置300に含めるようにしてもよい。また、データドライバ50、走査ドライバ70、表示コントローラ40、電源回路90の一部又は全部を電気光学パネル400上に形成してもよい。   In FIG. 19, the electro-optical device 300 includes the display controller 40, but the display controller 40 may be provided outside the electro-optical device 300. Alternatively, the host may be included in the electro-optical device 300 together with the display controller 40. Further, some or all of the data driver 50, the scan driver 70, the display controller 40, and the power supply circuit 90 may be formed on the electro-optical panel 400.

また、図19において、データドライバ50、走査ドライバ70及び電源回路90を集積化して、半導体装置(集積回路、IC)として集積回路装置10を構成してもよい。   In FIG. 19, the data driver 50, the scan driver 70, and the power supply circuit 90 may be integrated to constitute the integrated circuit device 10 as a semiconductor device (integrated circuit, IC).

5.電子機器
次に、上述の電気光学装置(集積回路装置、増幅回路、データドライバ、電源回路等)が適用される電子機器について説明する。
5). Next, an electronic apparatus to which the above-described electro-optical device (an integrated circuit device, an amplifier circuit, a data driver, a power circuit, etc.) is applied will be described.

5.1.投写型表示装置
上述の電気光学装置を用いて構成される電子機器として、投写型表示装置がある。図20に、上述の実施形態における電気光学装置が適用された投写型表示装置の構成例のブロック図を示す。
5.1. Projection Display Device As an electronic apparatus configured using the above electro-optical device, there is a projection display device. FIG. 20 is a block diagram illustrating a configuration example of a projection display device to which the electro-optical device according to the above-described embodiment is applied.

投写型表示装置700は、表示情報出力源710、表示情報処理回路720、表示駆動回路730(表示ドライバ)、液晶パネル740(広義には電気光学パネル)、クロック発生回路750及び電源回路760を含んで構成される。表示情報出力源710は、ROM(Read Only Memory)及びRAM(Random Access Memory)、光ディスク装置等のメモリ、画像信号を同調して出力する同調回路等を含み、クロック発生回路750からのクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の表示情報を表示情報処理回路720に出力する。表示情報処理回路720は、増幅・極性反転回路、相展開回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、或いはクランプ回路等を含むことができる。表示駆動回路730は、ゲートドライバ及びソースドライバを含んで構成され、液晶パネル740を駆動する。電源回路760は、上述の各回路に電力を供給する。   The projection display device 700 includes a display information output source 710, a display information processing circuit 720, a display drive circuit 730 (display driver), a liquid crystal panel 740 (electro-optical panel in a broad sense), a clock generation circuit 750, and a power supply circuit 760. Consists of. The display information output source 710 includes a ROM (Read Only Memory) and a RAM (Random Access Memory), a memory such as an optical disk device, a tuning circuit that tunes and outputs an image signal, and the like. Based on this, display information such as an image signal in a predetermined format is output to the display information processing circuit 720. The display information processing circuit 720 can include an amplification / polarity inversion circuit, a phase expansion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, a clamp circuit, and the like. The display driving circuit 730 includes a gate driver and a source driver, and drives the liquid crystal panel 740. The power supply circuit 760 supplies power to each circuit described above.

5.2.携帯電話機
また上述の電気光学装置を用いて構成される電子機器として、携帯電話機がある。図21に、上述の実施形態における電気光学装置が適用された携帯電話機の構成例のブロック図を示す。図21において、図19又は図20と同一部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。
5.2. Cellular phone There is a cellular phone as an electronic apparatus configured using the above-described electro-optical device. FIG. 21 is a block diagram illustrating a configuration example of a mobile phone to which the electro-optical device according to the above-described embodiment is applied. In FIG. 21, the same parts as those in FIG. 19 or FIG.

携帯電話機900は、カメラモジュール910を含む。カメラモジュール910は、CCDカメラを含み、CCDカメラで撮像した画像のデータを、YUVフォーマットで表示コントローラ40に供給する。   The mobile phone 900 includes a camera module 910. The camera module 910 includes a CCD camera, and supplies image data captured by the CCD camera to the display controller 40 in the YUV format.

携帯電話機900は、電気光学パネル400を含む。電気光学パネル400は、データドライバ50及び走査ドライバ70によって駆動される。電気光学パネル400は、複数の走査線、複数のデータ線、複数の画素を含む。   The mobile phone 900 includes an electro-optical panel 400. The electro-optical panel 400 is driven by the data driver 50 and the scan driver 70. The electro-optical panel 400 includes a plurality of scanning lines, a plurality of data lines, and a plurality of pixels.

表示コントローラ40は、データドライバ50及び走査ドライバ70に接続され、データドライバ50に対してRGBフォーマットの階調データを供給する。   The display controller 40 is connected to the data driver 50 and the scanning driver 70, and supplies RGB data gradation data to the data driver 50.

電源回路90は、データドライバ50及び走査ドライバ70に接続され、各ドライバに対して、駆動用の電源電圧を供給する。また電気光学パネル400の対向電極に、対向電極電圧VCOMを供給する。   The power supply circuit 90 is connected to the data driver 50 and the scan driver 70 and supplies a driving power supply voltage to each driver. The counter electrode voltage VCOM is supplied to the counter electrode of the electro-optical panel 400.

ホスト940は、表示コントローラ40に接続される。ホスト940は、表示コントローラ40を制御する。またホスト940は、アンテナ960を介して受信された階調データを、変復調部950で復調した後、表示コントローラ40に供給できる。表示コントローラ40は、この階調データに基づき、データドライバ50及び走査ドライバ70により電気光学パネル400に表示させる。   The host 940 is connected to the display controller 40. The host 940 controls the display controller 40. Further, the host 940 can supply the gradation data received via the antenna 960 to the display controller 40 after demodulating by the modem 950. The display controller 40 causes the data driver 50 and the scan driver 70 to display on the electro-optical panel 400 based on the gradation data.

ホスト940は、カメラモジュール910で生成された階調データを変復調部950で変調した後、アンテナ960を介して他の通信装置への送信を指示できる。   The host 940 can instruct transmission to another communication device via the antenna 960 after the modulation / demodulation unit 950 modulates the gradation data generated by the camera module 910.

ホスト940は、操作入力部970からの操作情報に基づいて階調データの送受信処理、カメラモジュール910の撮像、電気光学パネル400の表示処理を行う。   The host 940 performs gradation data transmission / reception processing, imaging of the camera module 910, and display processing of the electro-optical panel 400 based on operation information from the operation input unit 970.

なお、上記のように本実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるであろう。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。   Although the present embodiment has been described in detail as described above, it will be easily understood by those skilled in the art that many modifications can be made without departing from the novel matters and effects of the present invention. Accordingly, all such modifications are intended to be included in the scope of the present invention.

例えば、明細書または図面において、少なくとも一度、より広義または同義な異なる用語(第1の入力端子、第2の入力端子、アナログ基準電源電圧、第1の電源、第2の電源等)と共に記載された用語(反転入力端子、非反転入力端子、AGND、VSS、VDD等)は、明細書または図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えることができる。また、増幅回路、基準電圧生成回路、集積回路装置、電気光学蔵置、電子機器等の構成、動作も本実施形態で説明したものに限定されず、種々の変形実施が可能である。さらに、本発明は上述の液晶の電気光学パネルの駆動に適用されるものに限らず、エレクトロルミネッセンス、プラズマディスプレイ装置の駆動にも適用可能である。   For example, in the specification or the drawings, it is described at least once together with different terms having a broader meaning or the same meaning (first input terminal, second input terminal, analog reference power supply voltage, first power supply, second power supply, etc.). The terms (inverted input terminal, non-inverted input terminal, AGND, VSS, VDD, etc.) can be replaced with the different terms anywhere in the specification or the drawings. Further, the configurations and operations of the amplifier circuit, the reference voltage generation circuit, the integrated circuit device, the electro-optic storage, the electronic device, and the like are not limited to those described in this embodiment, and various modifications can be made. Furthermore, the present invention is not limited to the above-described driving of the liquid crystal electro-optical panel, but can also be applied to driving of electroluminescence and plasma display devices.

本実施形態の増幅回路の基本構成。The basic structure of the amplifier circuit of this embodiment. 図2(A)は増幅回路に含まれる第1のタイプのキャパシタの断面図、図2(B)は増幅回路に含まれる第2のタイプのキャパシタの断面図。2A is a cross-sectional view of a first type capacitor included in the amplifier circuit, and FIG. 2B is a cross-sectional view of a second type capacitor included in the amplifier circuit. 本実施形態の増幅回路の第1の構成例。1 is a first configuration example of an amplifier circuit according to an embodiment. 本実施形態の増幅回路の第1の構成例。1 is a first configuration example of an amplifier circuit according to an embodiment. 増幅回路の動作を説明するための信号波形例。The signal waveform example for demonstrating operation | movement of an amplifier circuit. 図6(A)は、本実施形態の増幅回路の原理的な構成図、図6(B)、図6(C)は、本実施形態の増幅回路における入力電圧と出力電圧の関係を示す図。6A is a principle configuration diagram of the amplifier circuit of the present embodiment, and FIGS. 6B and 6C are diagrams showing the relationship between the input voltage and the output voltage in the amplifier circuit of the present embodiment. . 本実施形態の増幅回路の第2の構成例。2 shows a second configuration example of an amplifier circuit according to the present embodiment. 本実施形態の増幅回路の第2の構成例。2 shows a second configuration example of an amplifier circuit according to the present embodiment. 演算増幅器の構成例。An example of the configuration of an operational amplifier. 本実施形態の増幅回路の第2の構成例のレイアウト配置例。10 is a layout example of a second configuration example of the amplifier circuit according to the present embodiment. 本実施形態の増幅回路の第2の構成例のレイアウト配置例を説明するための断面図。Sectional drawing for demonstrating the layout example of a 2nd structural example of the amplifier circuit of this embodiment. 本実施形態の増幅回路の第3の構成例。The 3rd structural example of the amplifier circuit of this embodiment. 本実施形態の増幅回路の第3の構成例。The 3rd structural example of the amplifier circuit of this embodiment. 図14(A)、図14(B)は、本実施形態の増幅回路の第3の構成例のレイアウト配置例。FIG. 14A and FIG. 14B are layout arrangement examples of the third configuration example of the amplifier circuit of this embodiment. 図15(A)、図15(B)は、本実施形態の増幅回路の第4の構成例の動作説明図。FIG. 15A and FIG. 15B are operation explanatory diagrams of a fourth configuration example of the amplifier circuit of the present embodiment. 本実施形態の増幅回路の第4の構成例。4 shows a fourth configuration example of an amplifier circuit according to the present embodiment. 本実施形態の増幅回路を含む基準電圧生成回路の構成例。2 is a configuration example of a reference voltage generation circuit including an amplifier circuit according to the present embodiment. 本実施形態の増幅回路を含む集積回路装置の構成例。1 is a configuration example of an integrated circuit device including an amplifier circuit according to the present embodiment. 本実施形態における電気光学装置の構成の概要を示す図。1 is a diagram illustrating an outline of a configuration of an electro-optical device according to an embodiment. 本実施形態における電気光学装置が適用された投写型表示装置の構成例のブロック図。1 is a block diagram of a configuration example of a projection display device to which an electro-optical device according to an embodiment is applied. 本実施形態における電気光学装置が適用された携帯電話機の構成例のブロック図。1 is a block diagram of a configuration example of a mobile phone to which an electro-optical device according to an embodiment is applied.

符号の説明Explanation of symbols

SW1〜SW7 第1〜第7のスイッチ素子、C1、C2 第1、第2のキャパシタ、
CA 電荷蓄積用キャパシタ、CAX 補助キャパシタ、CC 位相補償用キャパシタ、CS サンプリング用キャパシタ、NEG サミングノード、OP 演算増幅器、
10 集積回路装置、40 表示コントローラ、42 制御回路、
50 データドライバ、52 D/A変換回路、54 データ線駆動回路、
60 増幅回路、70 走査ドライバ、90 電源回路、110 階調電圧生成回路、
112 電圧生成回路(ラダー抵抗回路)、114 階調アンプ部、
300 電気光学装置、400 電気光学パネル、
700 電子機器(投写型表示装置)、900 電子機器(携帯電話機)
SW1 to SW7, first to seventh switch elements, C1, C2, first and second capacitors,
CA charge storage capacitor, CAX auxiliary capacitor, CC phase compensation capacitor, CS sampling capacitor, NEG summing node, OP operational amplifier,
10 integrated circuit device, 40 display controller, 42 control circuit,
50 data drivers, 52 D / A conversion circuits, 54 data line drive circuits,
60 amplifier circuit, 70 scan driver, 90 power supply circuit, 110 gradation voltage generation circuit,
112 voltage generation circuit (ladder resistance circuit), 114 gradation amplifier section,
300 electro-optic device, 400 electro-optic panel,
700 Electronic equipment (projection display device), 900 Electronic equipment (mobile phone)

Claims (17)

演算増幅器と、
入力ノードと前記演算増幅器の第1の入力端子との間に設けられる電荷蓄積用キャパシタと、
前記演算増幅器の出力端子に設けられる位相補償用キャパシタと、を含み、
前記電荷蓄積用キャパシタは、両端の電極が金属層又はポリシリコン層で形成される第1タイプのキャパシタで構成され、
前記位相補償用キャパシタは、一方の電極がポリシリコン層で、他方の電極が不純物層で形成される第2タイプのキャパシタで構成されることを特徴とする増幅回路。
An operational amplifier;
A charge storage capacitor provided between an input node and a first input terminal of the operational amplifier;
A phase compensation capacitor provided at an output terminal of the operational amplifier,
The charge storage capacitor is composed of a first type capacitor in which electrodes at both ends are formed of a metal layer or a polysilicon layer,
The phase compensation capacitor is constituted of a second type capacitor in which one electrode is a polysilicon layer and the other electrode is an impurity layer.
請求項1において、
前記位相補償用キャパシタは、
平面視において前記電荷蓄積用キャパシタの下方に配置されることを特徴とする増幅回路。
In claim 1,
The phase compensation capacitor is:
An amplifier circuit arranged below the charge storage capacitor in a plan view.
請求項1又は2において、
前記増幅回路の入力ノードと第1のノードとの間に設けられる第1のスイッチ素子と、
前記第1のノードと前記演算増幅器の第1の入力端子のノードであるサミングノードとの間に設けられる第1のキャパシタと、
前記第1のノードとアナログ基準電源との間に設けられる第2のスイッチ素子と、
第2のノードと前記サミングノードとの間に設けられる第2のキャパシタと、
前記第2のノードと前記増幅回路の出力ノードとの間に設けられる第3のスイッチ素子と、
前記第2のノードと前記アナログ基準電源との間に設けられた第4のスイッチ素子と、
前記出力ノードと前記サミングノードとの間に設けられた第5のスイッチ素子と、
を含み、
前記第1のキャパシタ及び前記第2のキャパシタが、前記第1タイプのキャパシタで構成される前記電荷蓄積用キャパシタであることを特徴とする増幅回路。
In claim 1 or 2,
A first switch element provided between an input node and a first node of the amplifier circuit;
A first capacitor provided between the first node and a summing node which is a node of a first input terminal of the operational amplifier;
A second switch element provided between the first node and an analog reference power supply;
A second capacitor provided between a second node and the summing node;
A third switch element provided between the second node and an output node of the amplifier circuit;
A fourth switch element provided between the second node and the analog reference power supply;
A fifth switch element provided between the output node and the summing node;
Including
The amplifier circuit according to claim 1, wherein the first capacitor and the second capacitor are the charge storage capacitors formed of the first type capacitors.
請求項3において、
前記位相補償用キャパシタは、
前記第1のキャパシタ及び前記第2のキャパシタの下方に配置されることを特徴とする増幅回路。
In claim 3,
The phase compensation capacitor is:
An amplifier circuit arranged below the first capacitor and the second capacitor.
請求項3又は4において、
前記第1のキャパシタが形成される第1のキャパシタ領域と、前記第2のキャパシタが形成される第2のキャパシタ領域が、第1の方向に沿って配置され、
前記第1の方向の反対方向を第3の方向とした場合に、前記第1、第2のスイッチ素子が、前記第1、第2のキャパシタ領域の前記第3の方向側に配置され、
前記第3、第4のスイッチ素子が、前記第1、第2のキャパシタ領域の前記第1の方向側に配置され、
前記第1の方向に直交する方向を第2の方向とした場合に、前記サミングノードのラインであるサミングノードラインが、前記第1、第2、第3、第4のスイッチ素子の前記第2の方向側に配線されることを特徴とする増幅回路。
In claim 3 or 4,
A first capacitor region in which the first capacitor is formed and a second capacitor region in which the second capacitor is formed are disposed along a first direction;
When the direction opposite to the first direction is the third direction, the first and second switch elements are disposed on the third direction side of the first and second capacitor regions,
The third and fourth switch elements are disposed on the first direction side of the first and second capacitor regions;
When the direction orthogonal to the first direction is the second direction, the summing node line that is the summing node line is the second of the first, second, third, and fourth switching elements. An amplifier circuit, characterized in that it is wired on the direction side.
請求項5において、
前記第2のスイッチ素子に前記アナログ基準電源の電圧を供給するための第1のアナログ基準電源ラインが、前記第2の方向に沿って前記第1、第2のキャパシタ領域の前記第3の方向側に配線され、
前記第4のスイッチ素子に前記アナログ基準電源の電圧を供給するための第2のアナログ基準電源ラインが、前記第2の方向に沿って前記第1、第2のキャパシタ領域の前記第1の方向側に配線されることを特徴とする増幅回路。
In claim 5,
A first analog reference power supply line for supplying a voltage of the analog reference power supply to the second switch element is provided in the third direction of the first and second capacitor regions along the second direction. Wired to the side,
A second analog reference power supply line for supplying a voltage of the analog reference power supply to the fourth switch element is in the first direction of the first and second capacitor regions along the second direction. An amplifier circuit characterized by being wired on the side.
請求項3乃至6のいずれかにおいて、
その一端に前記サミングノードが電気的に接続される補助キャパシタを含み、
前記補助キャパシタは、
一方の電極がポリシリコン層で、他方の電極が不純物層で形成される前記第2タイプのキャパシタで構成されることを特徴とする増幅回路。
In any one of Claims 3 thru | or 6.
An auxiliary capacitor to which the summing node is electrically connected at one end;
The auxiliary capacitor is
An amplifier circuit comprising the second type capacitor, wherein one electrode is a polysilicon layer and the other electrode is an impurity layer.
請求項7において、
前記補助キャパシタは、
前記第1のキャパシタ及び前記第2のキャパシタの下方に配置されることを特徴とする増幅回路。
In claim 7,
The auxiliary capacitor is
An amplifier circuit arranged below the first capacitor and the second capacitor.
請求項1又は2において、
サンプリング期間において、
前記電荷蓄積用キャパシタに入力電圧に応じた電荷を蓄積し、
ホールド期間において、
前記電荷蓄積用キャパシタのフリップアラウンド動作を行って、蓄積された電荷に応じた電圧を出力することを特徴とする増幅回路。
In claim 1 or 2,
In the sampling period,
Accumulate charges according to the input voltage in the charge storage capacitor,
In the hold period,
An amplifier circuit that performs a flip-around operation of the charge storage capacitor and outputs a voltage corresponding to the stored charge.
請求項9において、
入力ノードと接続ノードとの間に設けられたサンプリング用スイッチ素子と、
前記接続ノードと、前記演算増幅器の第1の入力端子のノードであるサミングノードとの間に設けられるサンプリング用キャパシタと、
前記演算増幅器の出力端子と前記サミングノードとの間に設けられた帰還用スイッチ素子と、
前記接続ノードと、前記演算増幅器の前記出力端子との間に設けられたフリップアラウンド用スイッチ素子とを含み、
前記サンプリング用キャパシタが、前記第1タイプのキャパシタで構成される前記電荷蓄積用キャパシタであることを特徴とする増幅回路。
In claim 9,
A sampling switch element provided between the input node and the connection node;
A sampling capacitor provided between the connection node and a summing node which is a node of a first input terminal of the operational amplifier;
A feedback switch element provided between the output terminal of the operational amplifier and the summing node;
A flip-around switch element provided between the connection node and the output terminal of the operational amplifier;
The amplifier circuit according to claim 1, wherein the sampling capacitor is the charge storage capacitor including the first type capacitor.
請求項10において、
その一端に前記サミングノードが電気的に接続される補助キャパシタを含み、
前記補助キャパシタは、
一方の電極がポリシリコン層で、他方の電極が不純物層で形成される前記第2タイプのキャパシタで構成されることを特徴とする増幅回路。
In claim 10,
An auxiliary capacitor to which the summing node is electrically connected at one end;
The auxiliary capacitor is
An amplifier circuit comprising the second type capacitor, wherein one electrode is a polysilicon layer and the other electrode is an impurity layer.
演算増幅器と、
入力ノードと前記演算増幅器の第1の入力端子との間に設けられる電荷蓄積用キャパシタと、
その一端に前記サミングノードが電気的に接続される補助キャパシタと、を含み、
前記電荷蓄積用キャパシタは、両端の電極がポリシリコン層又は金属層で形成される第1タイプのキャパシタで構成され、
前記補助キャパシタは、一方の電極がポリシリコン層で、他方の電極が不純物層で形成される第2タイプのキャパシタで構成されることを特徴とする増幅回路。
An operational amplifier;
A charge storage capacitor provided between an input node and a first input terminal of the operational amplifier;
An auxiliary capacitor to which the summing node is electrically connected at one end thereof,
The charge storage capacitor is composed of a first type capacitor in which electrodes at both ends are formed of a polysilicon layer or a metal layer,
The auxiliary capacitor is composed of a second type capacitor in which one electrode is a polysilicon layer and the other electrode is an impurity layer.
請求項12において、
前記補助キャパシタは、
前記電荷蓄積用キャパシタの下方に配置されることを特徴とする増幅回路。
In claim 12,
The auxiliary capacitor is
An amplifier circuit disposed below the charge storage capacitor.
複数の基準電圧を生成する基準電圧生成回路であって、
第1の電源と第2の電源を電圧分割して複数の電圧分割ノードに複数の分割電圧を出力する電圧生成回路と、
請求項1乃至13のいずれかに記載の増幅回路を有し、前記電圧生成回路からの前記複数の分割電圧のインピーダンス変換を前記増幅回路で行って前記複数の基準電圧を出力するアンプ部と、
を含むことを特徴とする基準電圧生成回路。
A reference voltage generation circuit for generating a plurality of reference voltages,
A voltage generating circuit that voltage-divides the first power supply and the second power supply and outputs a plurality of divided voltages to a plurality of voltage dividing nodes;
An amplifier having the amplifier circuit according to any one of claims 1 to 13, wherein the amplifier circuit performs impedance conversion of the plurality of divided voltages from the voltage generation circuit and outputs the plurality of reference voltages;
A reference voltage generation circuit comprising:
電気光学パネルを駆動する集積回路装置であって、
請求項14に記載の基準電圧生成回路と、
前記基準電圧生成回路からの前記複数の基準電圧である複数の階調電圧と、画像データとを受けて、前記電気光学パネルの複数のデータ線を駆動するデータドライバを含むことを特徴とする集積回路装置。
An integrated circuit device for driving an electro-optic panel,
A reference voltage generation circuit according to claim 14,
An integrated circuit including a data driver that receives a plurality of gradation voltages as the plurality of reference voltages from the reference voltage generation circuit and image data and drives a plurality of data lines of the electro-optical panel. Circuit device.
請求項15に記載の集積回路装置を含むことを特徴とする電気光学装置。   An electro-optical device comprising the integrated circuit device according to claim 15. 請求項16に記載の電気光学装置を含むことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 16.
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