JP2010135386A - Semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、容量素子を有する半導体装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor device having a capacitor element.
半導体装置にアナログ回路を搭載する場合において、容量比があらかじめ定められた値を有する2つの容量素子を形成するときがある。一方、半導体の製造プロセスにおいて、ウェハの面内方向に分布が生じることはよくある。このため、2つの容量素子の容量が予め定められた比を有するように設計しても、製造された2つの容量素子の容量があらかじめ定められた比を有さない場合がある。 In the case where an analog circuit is mounted on a semiconductor device, two capacitor elements having a predetermined capacitance ratio may be formed. On the other hand, in the semiconductor manufacturing process, a distribution often occurs in the in-plane direction of the wafer. For this reason, even if it designs so that the capacity | capacitance of two capacitive elements may have a predetermined ratio, the capacity | capacitance of two manufactured capacitive elements may not have a predetermined ratio.
特許文献1には、第1の容量素子と第2の容量素子をアレイ状に配置し、かつ第1の容量素子と第2の容量素子を、行方向または列方向に対して交互かつ等間隔に配置することが開示されている。これにより、第1の容量素子と第2の容量素子が高い相対精度を有する、と記載されている。第1の部分容量素子と第2の部分容量素子の平面形状は、すべて同一である。
In
特許文献2には、比精度が要求されるすべてのキャパシタを複数個の単位キャパシタ(部分容量素子)の組み合わせで構成し、かつ周囲の領域から分離された同一の島に比精度が要求されるすべてのキャパシタを配置することが記載されている。また特許文献2には、単位キャパシタを島内で少なくとも線対称または点対称となるように配置することが記載されている。単位キャパシタの平面形状はすべて同一である。
In
特許文献3には、並列接続されたコンデンサが2系統構成される場合において、各系統のコンデンサを交互に配置することが記載されている。各コンデンサの平面形状は同一である。 Patent Document 3 describes that capacitors in each system are alternately arranged when two systems of capacitors connected in parallel are configured. The planar shape of each capacitor is the same.
特許文献4には、要領の相対精度が要求される2種類の部分容量素子を交互に配置することが記載されている。各部分容量素子の平面形状は同一である。
上記した各特許文献に記載の技術は、部分容量素子を配置するスペースが、矩形などのある程度形が整っていることを前提にしている。しかし、半導体装置を小型化することを考慮した場合、空いているスペースがどのような形状であっても、そのスペースに部分容量素子を配置できるようにするのが好ましい。しかし、空いているスペースの形状に合わせることのみを意識して部分容量素子を配置すると、部分容量素子を相互に接続する配線の設計が難しくなることがある。 The technology described in each of the above-mentioned patent documents is based on the premise that the space for arranging the partial capacitance elements is arranged to some extent such as a rectangle. However, in consideration of downsizing of the semiconductor device, it is preferable that the partial capacitance element can be arranged in any space that is available in any shape. However, if the partial capacitance elements are arranged only in consideration of matching the shape of the vacant space, it may be difficult to design a wiring that connects the partial capacitance elements to each other.
本発明によれば、互いに電気的に接続されている複数の第1部分容量素子からなる第1容量素子と、
互いに電気的に接続されている複数の第2部分容量素子からなる第2容量素子と、
を備え、
少なくとも一つの前記第1部分容量素子は、形状が他の前記第1部分容量素子と異なり、
前記複数の第1部分容量素子及び前記複数の第2部分容量素子は平面視においてマトリクス状に配置されており、
前記複数の第1部分容量素子及び前記複数の第2部分容量素子は、前記マトリクスの行方向及び列方向の少なくとも一つにおいて、互い違いに配置されており、
前記複数の第1部分容量素子及び前記複数の第2部分容量素子は、同一の行に属しているものについては少なくとも一点が同一の直線上に位置しており、かつ同一の列に属しているものについては少なくとも一点が同一の直線上に位置している半導体装置が提供される。
According to the present invention, a first capacitive element comprising a plurality of first partial capacitive elements electrically connected to each other;
A second capacitive element comprising a plurality of second partial capacitive elements electrically connected to each other;
With
At least one of the first partial capacitive elements is different in shape from the other first partial capacitive elements,
The plurality of first partial capacitive elements and the plurality of second partial capacitive elements are arranged in a matrix in a plan view,
The plurality of first partial capacitive elements and the plurality of second partial capacitive elements are alternately arranged in at least one of a row direction and a column direction of the matrix,
The plurality of first partial capacitive elements and the plurality of second partial capacitive elements belong to the same row, and at least one point is located on the same straight line and belongs to the same column. A semiconductor device in which at least one point is located on the same straight line is provided.
本発明によれば、少なくとも一つの第1部分容量素子は、形状が他の第1部分容量素子と異なっているため、上記した少なくとも一つの第1部分容量素子の形状を適宜変更することにより、空いているスペースの形状に合わせて第1部分容量素子を配置することができる。また、複数の第1部分容量素子及び複数の第2部分容量素子は、同一の行に属しているものについては少なくとも一点が同一の直線上に位置しており、かつ同一の列に属しているものについては少なくとも一点が同一の直線上に位置している。従って、複数の第1部分容量素子を相互に接続する配線の設計が容易になり、かつ複数の第2部分容量素子を相互に接続する配線の設計が容易になる。 According to the present invention, since at least one first partial capacitive element is different in shape from other first partial capacitive elements, by appropriately changing the shape of the at least one first partial capacitive element described above, The first partial capacitor element can be arranged according to the shape of the vacant space. In addition, the plurality of first partial capacitors and the plurality of second partial capacitors belong to the same row, and at least one point is located on the same straight line and belongs to the same column. As for things, at least one point is located on the same straight line. Therefore, it is easy to design a wiring that connects the plurality of first partial capacitive elements to each other, and it is easy to design a wiring that connects the plurality of second partial capacitive elements to each other.
本発明によれば、空いているスペースの形状に合わせて部分容量素子を配置することができ、かつ部分容量素子を相互に接続する配線の引き回しが難しくなることを抑制できる。 According to the present invention, it is possible to arrange the partial capacitive elements in accordance with the shape of the vacant space, and it is possible to suppress the difficulty in routing the wirings connecting the partial capacitive elements to each other.
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all the drawings, the same reference numerals are given to the same components, and the description will be omitted as appropriate.
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態に係る半導体装置の構成を示す平面図である。この半導体装置は第1容量素子と第2容量素子を有している。第1容量素子と第2容量素子は、例えば容量が同一である。第1容量素子は、互いに電気的に接続されている複数の第1部分容量素子220,240からなり、第2容量素子は、互いに電気的に接続されている複数の第2部分容量素子320,340からなる。少なくとも一つの第1部分容量素子220は、形状が他の第1部分容量素子240と異なっている。なお、ここでの形状には、2次元的な形状のほかに、3次元的な形状(例えば容量素子として用いる配線層の数)も含む。複数の第1部分容量素子220,240及び複数の第2部分容量素子320,340は平面視においてマトリクス状に配置されている。複数の第1部分容量素子220,240及び複数の第2部分容量素子320,340は、マトリクスの行方向及び列方向の少なくとも一つにおいて、互い違いに配置されている。複数の第1部分容量素子220,240及び複数の第2部分容量素子320,340は、同一の行に属しているものについては少なくとも一点が同一の直線上に位置しており、かつ同一の列に属しているものについては少なくとも一点が同一の直線上に位置している。
(First embodiment)
FIG. 1 is a plan view showing the configuration of the semiconductor device according to the first embodiment. This semiconductor device has a first capacitor element and a second capacitor element. The first capacitor element and the second capacitor element have the same capacity, for example. The first capacitive element includes a plurality of first partial
本図に示す例において、第2部分容量素子320は、平面形状が他の第2部分容量素子340と異なっている。また複数の第1部分容量素子220,240及び複数の第2部分容量素子320,340は、マトリクスの行方向及び列方向の双方において、互い違いに配置されている。そして、複数の第1部分容量素子220,240は、当該第1部分容量素子220,240の隣に位置する第2部分容量素子320,340と対を形成している。対を形成している第1部分容量素子220及び第2部分容量素子320は、形状が互いに同一である。なお第1部分容量素子220,240及び第2部分容量素子320,340は、例えば矩形であるが、6角形であっても良いし、他の多角形であってもよい。
In the example shown in the drawing, the second partial
本実施形態において、第1容量素子220,240及び第2容量素子320,340は、一つの配線層に形成されている。この配線層は、例えばゲート配線より上層の金属配線層であるが、ゲート配線が形成されている配線層であっても良い。そして第1部分容量素子220は、他の第1部分容量素子240と面積が異なる。本図に示す例において、第1部分容量素子220は一つであるが、複数であっても良い。
In the present embodiment, the
第1容量素子220,240及び第2容量素子320,340が配置されている領域110は矩形に近い形状を有しているが、矩形から突出した凸部112を有している。そしてこの凸部112にも有効に容量素子を配置するために、第1部分容量素子220及び第2部分容量素子320が、他の第1部分容量素子240及び他の第2部分容量素子340に対して大きくなっている。
The
詳細には、マトリクスの最も外側に位置する行又は列の少なくとも一つ(本図に示す例では最も上側の行)において、第1部分容量素子220及び第2部分容量素子320は、平面視で、他の複数の第1部分容量素子240及び複数の第2部分容量素子340に対して図中上側に凸になっている。逆に第1部分容量素子220及び第2部分容量素子320が、平面視で、他の複数の第1部分容量素子240及び複数の第2部分容量素子340に対して凹になっていることもある。なお第1部分容量素子220,320及び第2部分容量素子320,340は、行方向の幅はすべて等しい。
Specifically, in at least one of the outermost rows or columns of the matrix (the uppermost row in the example shown in this figure), the first partial
また本実施形態において、複数の第1部分容量素子220,240及び複数の第2部分容量素子320,340は、同一の行に属しているものについては中心又は互いに対応する角が同一の直線上に位置しており、かつ同一の列に属しているものについては中心又は互いに対応する角が同一の直線上に位置している。本図に示す例において、複数の第1部分容量素子220,240及び複数の第2部分容量素子320,340は、同一の行に属しているものについては図中左下の角が同一の直線上に位置しており、かつ同一の列に属しているものについては中心及び4つの角それぞれが同一の直線上に位置している。
In the present embodiment, the plurality of first
また第1部分容量素子220,240及び第2部分容量素子320,340が形成するマトリクスにおいて、行の幅L2は互いに等しく、かつ列の幅L1は互いに等しい。行の幅L2は、例えば同一の列に属していて上下に並んでいる2つの部分容量素子における、互いに対応する辺(又は角)の間隔として定義することができる。また列の幅L1は、例えば同一の行に属していて横に並んでいる2つの部分容量素子における、互いに対応する辺(または角)の間隔として定義することができる。
In addition matrix first
第1部分容量素子220,240は、ビア64及び配線54を介して電気的に並列に接続しており、第2部分容量素子320,340は、ビア62及び配線52を介して電気的に並列に接続している。配線52,54は、互いに異なる配線層に形成されている。ビア64は、例えば平面視で配線52と重ならないように配置されており、ビア62は、例えば平面視で配線54と重ならないように配置されている。なお配線52,54は、第1容量素子及び第2容量素子より上の配線層に形成されていても良いし、下の配線層に形成されていても良い。
The first
図2は、第1部分容量素子240の構成を示す平面図である。第1部分容量素子240は櫛歯型の容量素子であり、櫛歯状の第1導電パターン240aと櫛歯状第2導電パターン240bを互いにかみ合うように配置した構成である。
FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the first
第2部分容量素子340は、図2に示した第1部分容量素子240と同一形状であるが、第1部分容量素子220及び第2部分容量素子320は、図2に示した第1部分容量素子240と、櫛歯の長さ又は本数の少なくとも一方が異なる。
The second
なお、第1部分容量素子220,240及び第2部分容量素子320,340は、図2に示した構造に限定されず、平行平板MIM(Metal- Insulator-Metal)型の容量素子、すなわち下部電極の上面と上部電極下面の間で容量を形成する素子をであってもよいし、MOS型の容量素子であってもよい。
The first partial
次に、本実施形態の作用及び効果について説明する。本実施形態によれば、少なくとも一つの第1部分容量素子220は、形状が他の第1部分容量素子240と異なっている。このため、第1部分容量素子220の形状を適宜変更することにより、領域110の形状に合わせて第1部分容量素子220,240を配置することができる。また、複数の第1部分容量素子220,240及び複数の第2部分容量素子320,340は、同一の行に属しているものについては少なくとも一点が同一の直線上に位置しており、かつ同一の列に属しているものについては少なくとも一点が同一の直線上に位置している。従って、複数の第1部分容量素子220,240を相互に接続する配線54の設計が容易になり、かつ複数の第2部分容量素子320,340を相互に接続する配線52の設計が容易になる。
Next, the operation and effect of this embodiment will be described. According to the present embodiment, at least one first
また、複数の第1部分容量素子220,240が、当該第1部分容量素子220.240の隣に位置する第2部分容量素子320.340と対を形成しており、かつ対を形成している第1部分容量素子220,240及び第2部分容量素子320,340の形状が互いに同一である。このため、対を形成している第1部分容量素子220,240及び第2部分容量素子320,340の容量の比が設計値からずれることを抑制できる。従って、第1容量素子と第2容量素子の容量の比が設計値からずれることを抑制できる。
In addition, the plurality of first partial
また、第1部分容量素子220,240及び第2部分容量素子320,340が形成するマトリクスにおいて、行の幅が互いに等しく、かつ列の幅が互いに等しい場合、配線52,54を設計するときに配線52,54を等間隔で配置すればよくなり、配線52,54の設計がさらに容易になる。
In the matrix formed by the first
(第2の実施形態)
図3は、第2の実施形態に係る半導体装置の構成を示す平面図である。この半導体装置は、第1部分容量素子220が列方向の幅及び行方向の幅それぞれにおいて第1部分容量素子240と異なる点、及び第2部分容量素子320が列方向の幅及び行方向の幅それぞれにおいて第2部分容量素子340と異なる点を除いて、第1の実施形態と同様である。
この半導体装置においても、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
(Second Embodiment)
FIG. 3 is a plan view showing the configuration of the semiconductor device according to the second embodiment. In this semiconductor device, the first
Also in this semiconductor device, the same effect as in the first embodiment can be obtained.
(第3の実施形態)
図4は、第3の実施形態に係る半導体装置の構成を示す平面図であり、図5は図4のA−A´断面図である。この半導体装置は、複数の配線層を有している。そして少なくとも第1容量素子は、複数の配線層を用いて形成されており、かつ少なくとも一つの第1部分容量素子220は、用いられている配線層の数が他の第1部分容量素子240と異なる。
(Third embodiment)
FIG. 4 is a plan view showing the configuration of the semiconductor device according to the third embodiment, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. This semiconductor device has a plurality of wiring layers. At least the first capacitive element is formed using a plurality of wiring layers, and at least one first
また本図に示す例では、第2容量素子も複数の配線層を用いて形成されており、かつ少なくとも一つの第2部分容量素子320は、用いられている配線層の数が他の第2部分容量素子340と異なる。
Further, in the example shown in this drawing, the second capacitor element is also formed using a plurality of wiring layers, and at least one second
具体的には、図5に示すように、第1部分容量素子220は、複数の配線層それぞれに形成された櫛歯型容量素子222を並列に接続した構成を有している。櫛歯型容量素子222は、平面視で互いに重なるように配置されている。また、第1部分容量素子240は、複数の配線層それぞれに形成された櫛歯型容量素子242を並列に接続した構成を有している。櫛歯型容量素子242は、平面視で互いに重なるように配置されている。そして櫛歯型容量素子222の数は、櫛歯型容量素子242の数より多い。なお櫛歯型容量素子222が形成されていて櫛歯型容量素子242が形成されていない配線層には、第1部分容量素子240と平面視で重なる配線400が設けられている。
Specifically, as shown in FIG. 5, the first
同様に、第2部分容量素子320は、複数の配線層それぞれに形成された櫛歯型容量素子322を並列に接続した構成を有している。櫛歯型容量素子322の形状は互いに同一であり、平面視で互いに重なるように配置されている。第2部分容量素子340は、複数の配線層それぞれに形成された櫛歯型容量素子342を並列に接続した構成を有している。櫛歯型容量素子342の形状は互いに同一であり、平面視で互いに重なるように配置されている。そして櫛歯型容量素子322の数は、櫛歯型容量素子342の数より多い。なお櫛歯型容量素子322が形成されていて櫛歯型容量素子342が形成されていない配線層には、第1部分容量素子240と平面視で重なる配線402が設けられている。
Similarly, the second
櫛歯型容量素子222の形状は櫛歯型容量素子322の形状と同様であり、櫛歯型容量素子242の形状は櫛歯型容量素子342の形状と同様である。本図に示す例では、櫛歯型容量素子222の形状と櫛歯型容量素子242の形状は互いに同一であるが、第1の実施形態における第1部分容量素子220,240と同様に互いに異なっていても良い。また櫛歯型容量素子222の数は櫛歯型容量素子322の数と同数であり、櫛歯型容量素子242の数は櫛歯型容量素子342の数と同数である。これにより、第1容量素子と第2容量素子の容量は等しくなる。
The shape of the comb-shaped
なお、櫛歯型容量素子222,242,322,342の形状又は数の少なくとも一方を相互に異ならせる事により、第1容量素子と第2容量素子の容量の比率を調整することができる。
Note that the ratio of the capacitances of the first capacitor element and the second capacitor element can be adjusted by making at least one of the shapes or the numbers of the comb-shaped
また複数の櫛歯型容量素子222は、たとえばビア(図示せず)によって相互に並列に接続することができる。複数の櫛歯型容量素子242、複数の櫛歯型容量素子322、及び複数の櫛歯型容量素子342も同様に、ビア(図示せず)によって相互に並列に接続することができる。また第1部分容量素子220,240を相互に接続する配線54及びビア64(図5では図示せず)の構成は、第1の実施形態と同様であり、第1部分容量素子220,240を相互に接続する配線52及びビア62(図5では図示せず)の構成も、第1の実施形態と同様である。なお配線52,54は、第1容量素子及び第2容量素子より上の配線層に形成されていても良いし、下の配線層に形成されていても良い。
The plurality of comb-shaped
本実施形態によれば、平面方向のみではなく、3次元的に空いているスペース(図5に示す例では、配線400,402が形成されている配線層における、配線400,402の横のスペース)を埋めるように櫛歯型容量素子222,322を配置することができる。このため、第1部分容量素子220及び第2部分容量素子320の容量を増加させることができ、その結果、第1容量素子及び第2容量素子の容量を増加させることができる。また、第1の実施形態と同様の効果に、複数の第1部分容量素子220,240を相互に接続する配線54の設計が容易になり、かつ複数の第2部分容量素子320,340を相互に接続する配線52の設計が容易になる。
According to the present embodiment, not only in the plane direction, but also in a three-dimensional space (in the example shown in FIG. 5, the space beside the
以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。例えば第1容量素子及び第2容量素子は、容量が同一である必要は無く、回路上必要な比率になっていればよい。例えば必要な比率に応じて、第1部分容量素子220,240と第2部分容量素子320,340の数の比率を変えても良い。
As mentioned above, although embodiment of this invention was described with reference to drawings, these are the illustrations of this invention, Various structures other than the above are also employable. For example, the first capacitor element and the second capacitor element do not need to have the same capacitance, and may have a ratio required in the circuit. For example, the ratio of the numbers of the first partial
また上記した各実施形態において、マトリクスの行及び列の双方において、第1部分容量素子220,240及び複数の第2部分容量素子320,340を交互に配置したが、マトリクスの行及び列のいずれか一方においてのみ、第1部分容量素子220,240及び複数の第2部分容量素子320,340を交互に配置してもよい。
In each of the embodiments described above, the first
また図4及び図5によれば、以下の半導体装置も開示されている。
複数の配線層と、
互いに電気的に接続されている複数の第1部分容量素子からなる第1容量素子と、
互いに電気的に接続されている複数の第2部分容量素子からなる第2容量素子と、
を備え、
少なくとも前記第1容量素子は、複数の配線層を用いて形成されており、
前記少なくとも一つの第1部分容量素子は、用いられている前記配線層の数が他の前記第1部分容量素子と異なっており、
前記複数の第1部分容量素子及び前記複数の第2部分容量素子は平面視においてマトリクス状に配置されており、
前記複数の第1部分容量素子及び前記複数の第2部分容量素子は、前記マトリクスの行方向及び列方向の少なくとも一つにおいて、互い違いに配置されている半導体装置。
4 and FIG. 5, the following semiconductor devices are also disclosed.
Multiple wiring layers;
A first capacitive element comprising a plurality of first partial capacitive elements electrically connected to each other;
A second capacitive element comprising a plurality of second partial capacitive elements electrically connected to each other;
With
At least the first capacitor element is formed using a plurality of wiring layers,
The at least one first partial capacitive element is different from the other first partial capacitive elements in the number of wiring layers used;
The plurality of first partial capacitive elements and the plurality of second partial capacitive elements are arranged in a matrix in a plan view,
The semiconductor device in which the plurality of first partial capacitors and the plurality of second partial capacitors are alternately arranged in at least one of a row direction and a column direction of the matrix.
52 配線
54 配線
62 ビア
64 ビア
110 領域
112 凸部
220 第1部分容量素子
222 櫛歯型容量素子
240 第1部分容量素子
240a 第1導電パターン
240b 櫛歯状第2導電パターン
242 櫛歯型容量素子
320 第2部分容量素子
322 櫛歯型容量素子
340 第2部分容量素子
342 櫛歯型容量素子
400 配線
402 配線
52
Claims (8)
互いに電気的に接続されている複数の第2部分容量素子からなる第2容量素子と、
を備え、
少なくとも一つの前記第1部分容量素子は、形状が他の前記第1部分容量素子と異なり、
前記複数の第1部分容量素子及び前記複数の第2部分容量素子は平面視においてマトリクス状に配置されており、
前記複数の第1部分容量素子及び前記複数の第2部分容量素子は、前記マトリクスの行方向及び列方向の少なくとも一つにおいて、互い違いに配置されており、
前記複数の第1部分容量素子及び前記複数の第2部分容量素子は、同一の行に属しているものについては少なくとも一点が同一の直線上に位置しており、かつ同一の列に属しているものについては少なくとも一点が同一の直線上に位置している半導体装置。 A first capacitive element comprising a plurality of first partial capacitive elements electrically connected to each other;
A second capacitive element comprising a plurality of second partial capacitive elements electrically connected to each other;
With
At least one of the first partial capacitive elements is different in shape from the other first partial capacitive elements,
The plurality of first partial capacitive elements and the plurality of second partial capacitive elements are arranged in a matrix in a plan view,
The plurality of first partial capacitive elements and the plurality of second partial capacitive elements are alternately arranged in at least one of a row direction and a column direction of the matrix,
The plurality of first partial capacitive elements and the plurality of second partial capacitive elements belong to the same row, and at least one point is located on the same straight line and belongs to the same column. A semiconductor device in which at least one point is located on the same straight line.
前記複数の第1部分容量素子及び前記複数の第2部分容量素子は、同一の行に属しているものについては中心又は互いに対応する角が同一の直線上に位置しており、かつ同一の列に属しているものについては中心又は互いに対応する角が同一の直線上に位置している半導体装置。 The semiconductor device according to claim 1,
The plurality of first partial capacitive elements and the plurality of second partial capacitive elements are located on the same straight line at the center or in the corners corresponding to each other for those belonging to the same row. Semiconductor devices in which the centers or the angles corresponding to each other are located on the same straight line.
前記第1容量素子及び前記第2容量素子は、一つの配線層に形成されており、
少なくとも一つの前記第1部分容量素子は、他の前記第1部分容量素子と面積が異なる半導体装置。 The semiconductor device according to claim 1 or 2,
The first capacitor element and the second capacitor element are formed in one wiring layer,
At least one of the first partial capacitive elements is a semiconductor device having an area different from that of the other first partial capacitive elements.
前記マトリクスの最も外側に位置する行又は列の少なくとも一つにおいて、前記複数の第1部分容量素子及び前記複数の第2部分容量素子の少なくとも一つは、平面視で、他の前記複数の第1部分容量素子及び前記複数の第2部分容量素子に対して凸又は凹になっている半導体装置。 The semiconductor device according to claim 3.
In at least one of the outermost rows or columns of the matrix, at least one of the plurality of first partial capacitive elements and the plurality of second partial capacitive elements is the other plurality of second partial capacitors in plan view. A semiconductor device that is convex or concave with respect to one partial capacitive element and the plurality of second partial capacitive elements.
複数の配線層を有しており、
少なくとも前記第1容量素子は、前記複数の配線層を用いて形成されており、
前記少なくとも一つの第1部分容量素子は、用いられている前記配線層の数が他の前記第1部分容量素子と異なる半導体装置。 The semiconductor device according to claim 1 or 2,
Has multiple wiring layers,
At least the first capacitor element is formed using the plurality of wiring layers,
The at least one first partial capacitive element is a semiconductor device in which the number of wiring layers used is different from that of the other first partial capacitive elements.
前記複数の第1部分容量素子は、当該第1部分容量素子の隣に位置する前記第2部分容量素子と対を形成しており、
前記対を形成している前記第1部分容量素子及び第2部分容量素子は、形状が互いに同一である半導体装置。 In the semiconductor device according to any one of claims 1 to 5,
The plurality of first partial capacitive elements form a pair with the second partial capacitive element located next to the first partial capacitive element,
The first partial capacitive element and the second partial capacitive element forming the pair are semiconductor devices having the same shape.
前記第1容量素子は、前記第2容量素子と容量が同一である半導体装置。 In the semiconductor device according to claim 1,
The first capacitive element is a semiconductor device having the same capacitance as the second capacitive element.
前記マトリクスにおいて、行の幅は互いに等しく、かつ列の幅は互いに等しい半導体装置。 In the semiconductor device as described in any one of Claims 1-7,
In the matrix, the semiconductor devices have the same row width and the same column width.
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WO2011030618A1 (en) | 2009-09-10 | 2011-03-17 | 新東工業株式会社 | Molten metal pouring machine control system, molten metal pouring equipment, and molten metal pouring method |
JP2012015270A (en) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Fujitsu Semiconductor Ltd | Semiconductor device |
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