JP2010117076A - Hot isotropic pressure device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は,加工の対象となる処理品が収容される高圧容器内に高温高圧を加えてその処理品を加工処理する熱間等方圧加圧装置(HIP装置)に関し,特に,高圧容器内に充填するガス量を制御するための技術に関するものである。 The present invention relates to a hot isostatic pressing device (HIP device) that applies high temperature and pressure to a high pressure vessel in which a processed product to be processed is accommodated, and particularly processes the processed product. The present invention relates to a technique for controlling the amount of gas charged into the slab.
従来から,数100〜2000[℃]の高温と数10〜200[MPa]の等方的な圧力とを加えて処理品を加工処理するための熱間等方圧加圧装置(以下「HIP装置」という)が知られている(例えば,特許文献1,2参照)。
このHIP装置は,処理品を載置する高圧容器内にアルゴンなどのガスを供給するガス圧縮機や,その高圧容器内を加熱する加熱ヒータを有している。そして,HIP装置では,ガス圧縮機による強制的なガス供給と,加熱ヒータによる加熱で生じるガスの熱膨張とによって,高圧容器内を予め設定された目標圧力及び目標温度に到達させる。
このとき,HIP装置における運転手法としては,ガス圧縮機及び加熱ヒータの運転手順によって昇圧先行方式,昇温先行方式,昇圧昇温同時方式の3パターンが考えられる。
具体的に,昇圧先行方式では,まずガス圧縮機によって高圧容器内に所定量のガスを供給し,その後,加熱ヒータによる高圧容器内の加熱を開始してガスを膨張させることにより,高圧容器内を予め設定された目標圧力及び目標温度に到達させる。
一方,昇温先行方式では,まず加熱ヒータによる高圧容器内の加熱を開始し,その後でガス圧縮機によるガスの供給が開始される。そして,ガス圧縮機によるガスの供給は所定量の供給が終了した時点で停止され,加熱ヒータによる加熱だけが,高圧容器内を予め設定された目標圧力及び目標温度に到達させるまで継続される。
また,昇圧昇温同時方式では,ガス圧縮機によるガスの供給と加熱ヒータによる加熱とを同時に開始させ,ガス圧縮機によるガスの供給は所定量の供給が終了した時点で停止され,加熱ヒータによる加熱だけが,高圧容器内を予め設定された目標圧力及び目標温度に到達させるまで継続される。
This HIP apparatus has a gas compressor that supplies a gas such as argon into a high-pressure vessel on which a processed product is placed, and a heater that heats the inside of the high-pressure vessel. In the HIP device, the inside of the high-pressure vessel is made to reach a preset target pressure and target temperature by forced gas supply by the gas compressor and thermal expansion of gas generated by heating by the heater.
At this time, as an operation method in the HIP apparatus, there are three patterns of the pressure advance method, the temperature increase method, and the pressure increase / temperature increase method depending on the operation procedure of the gas compressor and heater.
Specifically, in the pressurization preceding method, first, a predetermined amount of gas is supplied into the high-pressure vessel by a gas compressor, and then the inside of the high-pressure vessel is started by heating the inside of the high-pressure vessel by a heater to expand the gas. To reach a preset target pressure and target temperature.
On the other hand, in the temperature rising precedence method, heating in the high-pressure vessel is first started by a heater, and then gas supply is started by a gas compressor. Then, the gas supply by the gas compressor is stopped when the supply of the predetermined amount is completed, and only the heating by the heater is continued until the inside of the high-pressure vessel reaches the preset target pressure and target temperature.
In the simultaneous boosting and heating method, the gas supply by the gas compressor and the heating by the heater are started simultaneously, and the gas supply by the gas compressor is stopped when a predetermined amount of supply is completed, and the heating heater Only heating is continued until the inside of the high-pressure vessel reaches a preset target pressure and target temperature.
しかしながら,ガス圧縮機によって高圧容器内に供給されたガスの量が不足していれば,その後,加熱ヒータによる加熱によって高圧容器内が目標温度に到達しても該高圧容器内の圧力を目標圧力に到達させることができないという問題が生じる。この場合には,その時点で高圧容器内にガスを補充する必要が生じる。例えば,このようにガスの供給を複数回行わなければならない構成では,そのガス供給を行うためのガスバルブの作動回数増加が該ガスバルブの寿命短縮の原因になるという問題がある。
また,逆にガス圧縮機によって高圧容器内に供給されたガスの量に余分があれば,加熱ヒータによる加熱によって高圧容器内が目標温度に到達するまでの間に,その熱膨張によって該高圧容器内の圧力が目標圧力を超えるため,該高圧容器内からガスを排出する必要が生じる。例えば,このように高圧容器内に一度供給したガスを放出する場合には,その放出する分のガスを高圧容器内に供給するために要した時間やエネルギーが無駄になるという問題がある。
そのため,加熱ヒータによる加熱が終了したときに高圧容器内の圧力を目標圧力にすることができるように,ガス圧縮機によるガスの供給を停止させるタイミングを適切に見極める必要があるが,ユーザが,温度センサや圧力センサなどの検出結果に基づいてその適切なタイミングを計る手間は非常に煩雑である。特に,前述した昇温先行方式や昇圧昇温同時方式などで運転を行う場合には,高圧容器内の圧力及び温度が同時に変化することになるため,ガス圧縮機によるガス供給の適切な停止タイミングの判断が困難である。
従って,本発明は前記事情に鑑みてなされたものであり,その目的とするところは,目標圧力及び目標温度を設定するだけで,高圧容器内へのガスの供給を適切な時点で自動停止させることのできる熱間等方圧加圧装置を提供することにある。
However, if the amount of gas supplied into the high-pressure vessel by the gas compressor is insufficient, the pressure in the high-pressure vessel is reduced to the target pressure even if the high-pressure vessel reaches the target temperature by heating with a heater. The problem arises that it cannot be reached. In this case, it is necessary to replenish the gas in the high-pressure vessel at that time. For example, in such a configuration in which the gas must be supplied a plurality of times, there is a problem that an increase in the number of operations of the gas valve for supplying the gas causes a shortening of the life of the gas valve.
Conversely, if there is an excess amount of gas supplied into the high-pressure vessel by the gas compressor, the high-pressure vessel is caused by thermal expansion until the inside of the high-pressure vessel reaches the target temperature due to heating by the heater. Since the internal pressure exceeds the target pressure, it is necessary to discharge gas from the high-pressure vessel. For example, when the gas once supplied into the high-pressure vessel is released in this way, there is a problem that the time and energy required to supply the released gas into the high-pressure vessel is wasted.
Therefore, it is necessary to properly determine the timing to stop the gas supply by the gas compressor so that the pressure in the high-pressure vessel can be set to the target pressure when the heating by the heater is finished. The trouble of measuring the appropriate timing based on the detection results of the temperature sensor, the pressure sensor, etc. is very complicated. In particular, when the operation is performed by the above-described temperature rising advance method or pressure rising / heating simultaneous method, the pressure and temperature in the high-pressure vessel change at the same time. It is difficult to judge.
Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and the object of the present invention is to automatically stop the supply of gas into the high-pressure vessel at an appropriate time just by setting the target pressure and the target temperature. An object of the present invention is to provide a hot isostatic pressing device that can perform the above operation.
前記目的を達成するために本発明は,高圧容器内にガスを供給する加圧手段と,前記高圧容器内を加熱する加熱手段と,前記加熱手段によって加熱される加熱領域と前記加熱領域から前記高圧容器の内壁までの非加熱領域とを断熱する断熱手段と,前記高圧容器内の圧力を検出する圧力検出手段と,前記高圧容器の加熱領域の温度を検出する加熱領域温度検出手段とを備えてなり,前記加圧手段及び前記加熱手段によって前記高圧容器内を昇圧することにより前記高圧容器内の処理品を等方的に加圧する熱間等方圧加圧装置に適用されるものである。
そして,本発明に係る熱間等方圧加圧装置は,前記加圧手段によるガスの供給を停止した後,前記加熱手段による加熱によって前記高圧容器の加熱領域の温度が予め設定された目標温度に到達したときに,前記高圧容器内が予め設定された目標圧力となるように,前記加圧手段によるガスの供給を停止させるときの圧力及び温度に関する条件を前記目標圧力及び前記目標温度に基づいて予め設定する停止条件設定手段を備えている。
また,少なくとも前記加圧手段によるガスの供給を開始させた後,前記圧力検出手段による検出圧力及び前記加熱領域温度検出手段による検出温度が,前記停止条件設定手段によって設定された停止条件を充足したことを条件に,前記加圧手段によるガスの供給を停止させ,前記加熱手段による加熱を前記加熱領域温度検出手段による検出温度が前記目標温度に到達するまで実行させる加圧加熱制御手段を備えている。
即ち,本発明に係る熱間等方圧加圧装置では,前記目標圧力及び前記目標温度を設定するだけで,前記加圧手段によるガスの供給を適切な時点で停止させることができる。
これにより,ユーザが前記圧力検出手段や前記加熱領域温度検出手段による検出結果を見て前記加圧手段によるガス供給を停止させるタイミングを計る必要がないため,ユーザの手間を著しく軽減することができる。
To achieve the above object, the present invention provides a pressurizing means for supplying a gas into a high-pressure vessel, a heating means for heating the inside of the high-pressure vessel, a heating area heated by the heating means, and the heating area. A heat insulating means for insulating the non-heated area to the inner wall of the high-pressure vessel; a pressure detecting means for detecting the pressure in the high-pressure vessel; and a heating area temperature detecting means for detecting the temperature of the heating area of the high-pressure vessel. The present invention is applied to a hot isostatic pressurizing device that isotropically pressurizes a processed product in the high pressure vessel by pressurizing the inside of the high pressure vessel by the pressurizing means and the heating means. .
The hot isostatic pressure pressurizing apparatus according to the present invention stops the supply of the gas by the pressurizing means, and then sets the temperature of the heating region of the high-pressure vessel to a preset target temperature by heating by the heating means. When the gas supply by the pressurizing means is stopped so that the inside of the high-pressure vessel reaches a preset target pressure, the conditions regarding the pressure and temperature are based on the target pressure and the target temperature. Stop condition setting means for setting in advance.
In addition, at least after the gas supply by the pressurizing unit is started, the detected pressure by the pressure detecting unit and the detected temperature by the heating region temperature detecting unit satisfy the stop condition set by the stop condition setting unit. And a pressurizing and heating control means for stopping the gas supply by the pressurizing means and executing the heating by the heating means until the temperature detected by the heating region temperature detecting means reaches the target temperature. Yes.
In other words, in the hot isostatic pressurizing apparatus according to the present invention, the gas supply by the pressurizing means can be stopped at an appropriate point of time simply by setting the target pressure and the target temperature.
Thereby, since it is not necessary for the user to measure the timing for stopping the gas supply by the pressurizing means by looking at the detection result by the pressure detecting means or the heating region temperature detecting means, the labor of the user can be remarkably reduced. .
より具体的に,前記停止条件設定手段は,現在の前記高圧容器内全体の平均温度を推定する現在平均温度推定手段と,前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器内全体の平均温度を推定する目標平均温度推定手段とを有するものであることが考えられる。この場合,前記停止条件設定手段は,前記圧力検出手段によって検出される現在の前記高圧容器内の圧力をP1,前記目標圧力をP2,現在の前記高圧容器内全体の平均温度をT1ave,前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器内全体の平均温度をT2aveとし,温度の単位をケルビン〔k〕としたとき,(P1/T1ave)=(P2/T2ave)の関係が成立することを前記停止条件として設定することが考えられる。
このように,前記高圧容器内全体の平均温度に基づいて前記停止条件を設定することにより,前記高圧容器の加熱領域だけの温度に基づいて前記停止条件を設定する場合に比べて,前記高圧容器の加熱領域の温度が前記目標温度に到達したときに前記高圧容器内を高い精度で度前記目標圧力に一致させることができる。
More specifically, the stop condition setting means includes a current average temperature estimation means for estimating a current average temperature of the entire high-pressure vessel, and the high-pressure vessel when a heating region of the high-pressure vessel reaches the target temperature. It is conceivable to have a target average temperature estimating means for estimating the average temperature of the entire inside. In this case, the stop condition setting means sets the current pressure in the high pressure vessel detected by the pressure detection means to P1, the target pressure to P2, the current average temperature in the high pressure vessel to T1ave, and the high pressure vessel. The relationship of (P1 / T1ave) = (P2 / T2ave) when the average temperature of the entire high-pressure vessel when the heating area of the vessel reaches the target temperature is T2ave and the unit of temperature is Kelvin [k] It is conceivable to set that the above condition is satisfied as the stop condition.
Thus, by setting the stop condition based on the average temperature of the entire high-pressure vessel, the high-pressure vessel is compared with the case where the stop condition is set based on the temperature only in the heating region of the high-pressure vessel. When the temperature of the heating region reaches the target temperature, the inside of the high-pressure vessel can be matched with the target pressure with high accuracy.
ここで,前記現在平均温度推定手段は,現在の前記高圧容器の非加熱領域の平均温度を推定する現在非加熱領域温度推定手段を含んでなることが考えられる。この場合,前記現在平均温度推定手段は,現在の前記高圧容器の加熱領域の温度をT11,現在の前記高圧容器の非加熱領域の平均温度をT12,前記高圧容器内全体の容積をVv,前記加熱領域の容積をVh,前記非加熱領域の容積をVoとしたとき,下記の(1)式に従って現在の前記高圧容器内全体の平均温度T1aveを算出することが可能である。
T1ave=[(T11・Vh)+(T12・Vo)]/Vv …(1)
このとき,前記現在非加熱領域温度推定手段は,予め設定された前記加熱領域及び前記非加熱領域の温度の関係と前記加熱領域温度検出手段による検出温度とに基づいて前記非加熱領域の平均温度を推定するものであることも考えられる。これにより,前記非加熱領域に温度検出手段を設けることなく,現在の前記高圧容器内全体の平均温度T1aveを推定することができる。
Here, it is conceivable that the current average temperature estimation means includes current non-heating area temperature estimation means for estimating the current average temperature of the non-heating area of the high-pressure vessel. In this case, the current average temperature estimating means sets the current temperature of the heating region of the high-pressure vessel to T11, the current average temperature of the non-heating region of the high-pressure vessel to T12, the total volume in the high-pressure vessel to Vv, When the volume of the heating region is Vh and the volume of the non-heating region is Vo, it is possible to calculate the current average temperature T1ave in the entire high-pressure vessel according to the following equation (1).
T1ave = [(T11 ・ Vh) + (T12 ・ Vo)] / Vv (1)
At this time, the current non-heating region temperature estimation means is configured to determine the average temperature of the non-heating region based on the preset relationship between the heating region and the temperature of the non-heating region and the temperature detected by the heating region temperature detection means. It is also possible to estimate Thereby, the present average temperature T1ave of the entire inside of the high-pressure vessel can be estimated without providing a temperature detecting means in the non-heating region.
また,前記目標平均温度推定手段は,前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器の非加熱領域の平均温度を推定する目標非加熱領域温度推定手段を含んでなることが考えられる。この場合,前記目標温度推定手段は,前記目標温度をT21,前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器の非加熱領域の平均温度をT22,前記高圧容器内全体の容積をVv,前記加熱領域の容積をVh,前記非加熱領域の容積をVoとしたとき,下記の(2)式に従って前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器内全体の平均温度T2aveを算出することが可能である。
T2ave=[(T21・Vh)+(T22・Vo)]/Vv …(2)
このとき,前記目標非加熱領域温度推定手段は,予め設定された前記加熱領域及び前記非加熱領域の温度の関係と前記目標温度とに基づいて,前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記非加熱領域の平均温度を推定するものであることも考えられる。これにより,前記非加熱領域に温度検出手段を設けることなく,前記高圧容器内全体の平均温度T1aveを推定することができる。
The target average temperature estimating means includes target non-heating area temperature estimating means for estimating an average temperature of the non-heating area of the high-pressure vessel when the heating area of the high-pressure vessel reaches the target temperature. Can be considered. In this case, the target temperature estimating means sets the target temperature to T21, the average temperature of the non-heating region of the high-pressure vessel when the heating region of the high-pressure vessel reaches the target temperature, T22, When the volume is Vv, the volume of the heating region is Vh, and the volume of the non-heating region is Vo, the inside of the high-pressure vessel when the heating region of the high-pressure vessel reaches the target temperature according to the following equation (2) It is possible to calculate the overall average temperature T2ave.
T2ave = [(T21 ・ Vh) + (T22 ・ Vo)] / Vv (2)
At this time, the target non-heating region temperature estimation means is configured so that the heating region of the high-pressure vessel reaches the target temperature based on a preset relationship between the heating region and the temperature of the non-heating region and the target temperature. It is also conceivable that the average temperature of the non-heated region is estimated. Thereby, the average temperature T1ave of the whole high-pressure vessel can be estimated without providing a temperature detection means in the non-heating region.
ところで,前記のように前記高圧容器内全体の平均温度を基準にする場合に比べれば精度が劣るが,前記停止条件設定手段が,前記圧力検出手段によって検出される現在の前記高圧容器内の圧力をP1,前記加熱領域温度検出手段によって検出される現在の前記加熱領域の温度をT1,前記目標圧力をP2,前記目標温度をT2とし,温度の単位をケルビン〔k〕としたとき,(P1/T1)=(P2/T2)が成立することを前記停止条件として設定することも考えられる。
また,前記加圧加熱制御手段は,前記加圧手段によるガスの供給のみを開始させ,前記停止条件の充足を条件に前記加圧手段によるガスの供給を停止させた後,前記加熱手段による加熱を開始させ,該加熱手段による加熱を前記加熱領域温度検出手段による検出温度が前記目標温度に到達するまで継続させるものであることが考えられる。
さらに,前記加圧加熱制御手段が,前記加熱手段による加熱を開始させた後又は開始と同時に,前記加圧手段によるガスの供給を開始させ,前記加圧手段によるガスの供給は前記停止条件を充足したことを条件に停止させ,前記加熱手段による加熱は前記加熱領域温度検出手段による検出温度が前記目標温度に到達するまで継続させるものである場合にも本発明を適用し得る。
By the way, although the accuracy is inferior compared with the case where the average temperature in the entire high-pressure vessel is used as a reference as described above, the stop condition setting means detects the current pressure in the high-pressure vessel detected by the pressure detection means. P1, the current temperature of the heating region detected by the heating region temperature detecting means is T1, the target pressure is P2, the target temperature is T2, and the temperature unit is Kelvin [k], (P1 It is also conceivable to set the stop condition that / T1) = (P2 / T2) is satisfied.
The pressurization and heating control means starts only the gas supply by the pressurization means, stops the gas supply by the pressurization means on the condition that the stop condition is satisfied, and then heats by the heating means. It is conceivable that heating by the heating means is continued until the temperature detected by the heating region temperature detecting means reaches the target temperature.
Further, the pressurization and heating control means starts the gas supply by the pressurization means after or simultaneously with the start of the heating by the heating means, and the gas supply by the pressurization means satisfies the stop condition. The present invention can also be applied to a case where the condition is satisfied and the heating by the heating means is continued until the temperature detected by the heating region temperature detecting means reaches the target temperature.
本発明によれば,前記目標圧力及び前記目標温度を設定するだけで,前記加圧手段によるガスの供給を適切な時点で停止させることができるため,ユーザが前記圧力検出手段や前記加熱領域温度検出手段による検出結果を見て前記加圧手段によるガス供給を停止させるタイミングを計る必要がなく,ユーザの手間を著しく軽減することができる。
また,前記高圧容器内全体の平均温度に基づいて前記停止条件を設定する場合には,前記高圧容器の加熱領域だけの温度に基づいて前記停止条件を設定する場合に比べて,前記高圧容器の加熱領域の温度が前記目標温度に到達したときに前記高圧容器内を高い精度で前記目標圧力に一致させることができる。
According to the present invention, since the gas supply by the pressurizing means can be stopped at an appropriate time just by setting the target pressure and the target temperature, the user can select the pressure detecting means or the heating region temperature. It is not necessary to measure the timing for stopping the gas supply by the pressurizing means by looking at the detection result by the detecting means, and the labor of the user can be significantly reduced.
Further, when the stop condition is set based on the average temperature of the entire high-pressure vessel, the stop condition of the high-pressure vessel is set as compared with the case where the stop condition is set based on the temperature only in the heating region of the high-pressure vessel. When the temperature of the heating region reaches the target temperature, the inside of the high-pressure vessel can be matched with the target pressure with high accuracy.
以下添付図面を参照しながら,本発明の実施の形態について説明し,本発明の理解に供する。なお,以下の実施の形態は,本発明を具体化した一例であって,本発明の技術的範囲を限定する性格のものではない。
ここに,図1は本発明の実施の形態に係る熱間等方圧加圧装置Xの概略構成を示す模式断面図,図2は前記熱間等方圧加圧装置Xにおいて実行される熱間等方圧加圧処理の手順の一例を示すフローチャートである。
まず,図1を用いて,本発明の実施の形態に係る熱間等方圧加圧装置X(以下「HIP装置X」という)の概略構成について説明する。
図1に示すように,前記HIP装置Xは,高圧容器1,加熱ヒータ2(加熱手段の一例),ガス圧縮機3(加圧手段の一例),加圧加熱制御装置4,操作表示部5,圧力計6(圧力検出手段の一例),温度計7(加熱領域温度検出手段の一例)などを有して概略構成されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings so that the present invention can be understood. The following embodiment is an example embodying the present invention, and does not limit the technical scope of the present invention.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a schematic configuration of a hot isostatic pressurizing apparatus X according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows a heat executed in the hot isostatic pressurizing apparatus X. It is a flowchart which shows an example of the procedure of an isostatic pressure pressurization process.
First, a schematic configuration of a hot isostatic pressing apparatus X (hereinafter referred to as “HIP apparatus X”) according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 1, the HIP device X includes a high-
前記高圧容器1は,上蓋1a,底蓋1b,円筒側面1cを有する円筒状の密閉容器であって内部にはアルゴンなどのガスが充填される。前記底蓋1bの上面には,加工処理の対象となる処理品を載置する載置台11が設けられている。前記底蓋1bは,前記載置台11に処理品を載置するために着脱される。
ここで,前記載置台11は,前記加熱ヒータ2と前記高圧容器1の底蓋1bとを熱的に仕切っている。また,前記高圧容器1には,前記加熱ヒータ2と前記高圧容器1の上蓋1a,円筒側面1c(内壁)とを熱的に仕切るように,倒立配置された有底円筒状の断熱部材からなる断熱構造体12が設けられている。即ち,前記断熱構造体12は,前記加熱ヒータ2によって加熱される加熱領域R1と,前記加熱領域R1から前記高圧容器1の内壁までの非加熱領域R2を断熱する断熱手段の一例である。これにより,前記高圧容器1は,耐熱温度が低くても,前記加熱ヒータ2による高温加熱から保護される。ここに,前記非加熱領域R2とは,前記高圧容器1内における前記加熱領域R1を除く領域であって,前記断熱構造体12の外側から前記高圧容器1の円筒側面1cまでの間の空間だけでなく,前記断熱構造体12や前記載置台11の配置領域をも含む領域をいう。
The high-
Here, the mounting table 11 thermally partitions the
前記加熱ヒータ2は,前記載置台11の上方に配置され,前記高圧容器1内の前記加熱領域R1を加熱する加熱手段の一例である。前記HIP装置Xでは,前記加圧加熱制御装置4が前記加熱ヒータ2によってガスを加熱してそのガスを熱膨張させることにより前記加圧容器1内が昇圧される。
前記ガス圧縮機3は,前記高圧容器1の上蓋1aに挿通されたガス供給管から前記高圧容器1内にアルゴンや窒素などのガスを供給することにより該高圧容器1内を加圧する加圧手段の一例である。前記HIP装置Xでは,前記加圧加熱制御装置4が前記ガス圧縮機3によって前記加圧容器1内にガスを強制的に充填させることにより前記加圧容器1内が昇圧される。
このように,前記HIP装置Xでは,前記加圧加熱制御装置4が前記ガス圧縮機3及び前記加熱ヒータ2を制御して前記高圧容器1内を昇圧させることにより,前記高圧容器1内の処理品を等方的に加圧する加工処理が実行される。
The
The
As described above, in the HIP apparatus X, the pressurization and heating control device 4 controls the
前記加圧加熱制御装置4は,CPU(中央演算処理装置),RAM,ROMなどの制御機器を有しており,前記CPUによって,前記ROMに予め記憶された制御プログラムが前記RAM上に展開されて実行されることにより,当該HIP装置X全体を統括的に制御する。
具体的に,前記加圧加熱制御装置4は,後述の熱間等方圧加圧処理(図2のフローチャート参照)を実行して前記ガス圧縮機3及び前記加熱ヒータ2を制御することにより,前記高圧容器1内を予め設定される目標圧力及び目標温度に到達させる。ここに,前記熱間等方圧加圧処理を実行するときの前記加圧加熱制御装置4が加圧加熱制御手段に相当する。なお,本実施の形態では,一つの前記加圧加熱制御装置4が,前記ガス圧縮機3及び前記加熱ヒータ2を共に制御する構成を例に挙げて説明しているが,前記ガス圧縮機3及び前記加熱ヒータ2を個別に制御する加圧制御装置及び加熱制御装置が設けられ,該加圧制御装置及び加熱制御装置によって後述の熱間等方圧加圧処理(図2のフローチャート参照)が実行されることも他の実施例として考えられる。この場合,その加圧制御装置及び加熱制御装置が加圧加熱制御手段に相当する。
ここで,前記目標圧力及び前記目標温度は,ユーザによる前記操作表示部5への操作入力によって予め設定される。前記操作表示部5は,ユーザ操作に応じて各種の情報を前記加圧加熱制御装置4に入力するキーボードやマウスなどのユーザインターフェースと,前記加圧加熱制御装置4によって制御されることにより各種の情報を表示する液晶パネルなどの表示部とを有している。
The pressurization and heating control device 4 includes control devices such as a CPU (Central Processing Unit), RAM, and ROM, and a control program stored in advance in the ROM is developed on the RAM by the CPU. Are executed to control the entire HIP apparatus X in an integrated manner.
Specifically, the pressurization and heating control device 4 controls the
Here, the target pressure and the target temperature are set in advance by an operation input to the
また,前記HIP装置Xには,後述の熱間等方圧加圧処理(図2のフローチャート参照)における判断指標に用いられる前記高圧容器1内の圧力及び温度を測定する圧力計6及び温度計7が設けられている。
前記圧力計6は,前記高圧容器1からガスを放出する際に用いられるガス放出管に配置されており,該高圧容器1内のガス圧力を検出し,前記加圧加熱制御装置4に入力する。なお,前記圧力計6は,前記高圧容器1内の圧力を測定し得るものであればよく,その配置位置などは限定されない。
前記温度計7は,前記高圧容器1の前記加熱領域R1に設けられた熱電対などの温度センサであって,該加熱領域R1内のガス温度を検出し,前記加圧加熱制御装置4に入力する。前記温度計7の位置は,例えば図1に示すように前記高圧容器1における加熱領域R1の高さ(Hh)の中央近傍である。なお,前記温度計7は,前記加熱領域R1の温度を測定し得るものであればよく,その配置位置や検出手法などは限定されない。例えば熱電対に限られず,測定した光を温度に変換する構成(例えば,前記特許文献1参照)を採用してもよい。なお,前記加熱ヒータ2によって加熱される加熱領域R1における温度は略均一であると考えられるため,以下では前記温度計7によって検出される温度を前記加熱領域R1の温度(後述のT11)として用いるが,もちろん前記加熱領域R1内の複数箇所に温度計7を配置してその複数箇所の温度を検出し,その平均温度を前記加熱領域R1の温度(後述のT11)として用いてもよい。また,一つの前記温度計7の検出温度から前記加熱領域R1の平均温度を推定して用いてもよい。
Further, the HIP device X includes a pressure gauge 6 and a thermometer for measuring the pressure and temperature in the high-
The pressure gauge 6 is disposed in a gas discharge pipe used when discharging gas from the high-
The thermometer 7 is a temperature sensor such as a thermocouple provided in the
以下,図2のフローチャートに従って,前記HIP装置Xにおいて前記加圧加熱制御装置4によって実行される熱間等方圧加圧処理の一例について説明する。なお,図中のS1,S2,…は処理手順(ステップ)の番号を表している。また,ここでは,いわゆる昇圧先行方式で運転が行われる場合を例に挙げて説明する。
まずステップS1では,前記加圧加熱制御装置4は,当該HIP装置Xにおける加工処理の実行要求を待ち受ける(S1のNo側)。具体的に,前記加圧加熱制御装置4は,ユーザによる前記操作表示部5に対する実行要求操作の有無を判断する。ここで,当該熱間等方圧加圧処理の実行要求がなされたと判断すると(S1のYes側),処理はステップS2に移行する。
ステップS2では,前記加圧加熱制御装置4は,前記操作表示部5に対して,目標圧力及び目標温度を設定するための設定画面を表示させ,ステップS3において前記操作表示部5からの目標圧力及び目標温度の入力を待ち受ける(S3のNo側)。これにより,ユーザは,前記操作表示部5の設定画面に従って目標圧力及び目標温度を設定するための操作入力を行う。
そして,前記加圧加熱制御装置4は,前記ステップS3において,目標圧力及び目標温度が設定されたと判断すると(S3のYes側),処理をステップS4に移行させる。
Hereinafter, according to the flowchart of FIG. 2, an example of the hot isostatic pressing process executed by the pressurizing and heating control apparatus 4 in the HIP apparatus X will be described. In the figure, S1, S2,... Represent processing procedure (step) numbers. Here, a case where operation is performed by a so-called step-up advance method will be described as an example.
First, in step S1, the pressurization and heating control device 4 waits for a processing execution request in the HIP device X (No side of S1). Specifically, the pressurization and heating control device 4 determines whether or not an execution request operation is performed on the
In step S2, the pressurization and heating control device 4 causes the
And if the said pressurization heating control apparatus 4 judges that the target pressure and the target temperature were set in the said step S3 (Yes side of S3), it will transfer a process to step S4.
ステップS4では,前記加圧加熱制御装置4は,後述のステップS5において開始される前記ガス圧縮機3によるガスの供給を停止(S8)した後,前記加熱ヒータ2による加熱(S9)によって前記高圧容器1の加熱領域R1の温度が前記ステップS3で設定された目標温度に到達したときに(S11のYes側),前記高圧容器1内が前記ステップS3で設定された目標圧力となるように,前記ガス圧縮機3によるガスの供給を停止させるときの圧力及び温度に関する条件(以下,「停止条件」という)を,前記ステップS3で設定された目標圧力及び目標温度に基づいて設定する。
即ち,前記停止条件は,前記ガス圧縮機3によるガスの供給を停止してから前記加熱ヒータ2による加熱によって前記目標圧力及び前記目標温度を達成するまでの間に,前記高圧容器1内に供給されたガスを抜き出す必要や,前記高圧容器1内にガスを補充する必要がないように,前記高圧容器1内へのガスの充填量を定めるための条件である。ここに,係る停止条件の設定処理を実行するときの前記加圧加熱制御装置4が停止条件設定手段に相当する。
In step S4, the pressurization and heating control device 4 stops the supply of gas by the
That is, the stop condition is that the gas is supplied into the high-
ここで,前記ステップS4において前記加圧加熱制御装置4が実行する停止条件の設定処理の具体例について説明する。
本実施の形態では,前記加圧加熱制御装置4に設けられたROMなどの記憶メモリに,前記停止条件を設定するための関係式として下記の(3)〜(5)式が予め記憶されているものとする。
ここで,現在の前記高圧容器1の加熱領域R1の温度をT11,現在の前記高圧容器1の非加熱領域R2の平均温度をT12,現在の前記高圧容器1内全体の平均温度をT1ave,前記目標温度をT21,前記高圧容器1の加熱領域R1が前記目標温度T21に到達したときの前記高圧容器1の非加熱領域R2の平均温度をT22,前記高圧容器1の加熱領域R1が前記目標温度T21に到達したときの前記高圧容器1全体の平均温度をT2aveとする。ここに,これらの温度の単位はケルビン[k]であるとする。また,前記圧力計6によって検出される現在の前記高圧容器1内の圧力をP1[kgf/cm2],前記目標圧力をP2[kgf/cm2]とする。さらに,前記高圧容器1内全体の容積をVv,前記加熱領域R1の容積をVh,前記非加熱領域R2の容積をVoとする。
P1/T1ave=P2/T2ave …(3)
T1ave=[(T11・Vh)+(T12・Vo)]/Vv …(4)
T2ave=[(T21・Vh)+(T22・Vo)]/Vv …(5)
そして,前記加圧加熱制御装置4は,前記ROMから前記(3)式の関係を読み出し,前記ステップS3で設定された目標圧力及び目標温度を代入したときに,該(3)式が成立することを停止条件として設定する。このとき,前記加圧加熱制御装置4は,前記平均温度T1ave,前記平均温度T2aveを,前記(4)式,前記(5)式に従って算出する。
ここに,前記(4)式に従って,現在の前記高圧容器1全体の平均温度T1aveを算出するときの前記加圧加熱制御装置4が現在平均温度推定手段に相当する。また,前記(5)式に従って,前記高圧容器1の加熱領域R1が前記目標温度T21に到達したときの前記高圧容器1内全体の平均温度T2aveを算出するときの前記加圧加熱制御装置4が目標平均温度推定手段に相当する。
Here, a specific example of the stop condition setting process executed by the pressure heating control device 4 in step S4 will be described.
In the present embodiment, the following equations (3) to (5) are stored in advance in a storage memory such as a ROM provided in the pressurization and heating control device 4 as relational expressions for setting the stop condition. It shall be.
Here, the current temperature of the heating region R1 of the high-
P1 / T1ave = P2 / T2ave (3)
T1ave = [(T11 ・ Vh) + (T12 ・ Vo)] / Vv (4)
T2ave = [(T21 ・ Vh) + (T22 ・ Vo)] / Vv (5)
Then, the pressurization and heating control device 4 reads the relationship of the equation (3) from the ROM, and the equation (3) is established when the target pressure and the target temperature set in step S3 are substituted. Is set as a stop condition. At this time, the pressurization and heating control device 4 calculates the average temperature T1ave and the average temperature T2ave according to the formulas (4) and (5).
Here, the pressurization and heating control device 4 for calculating the current average temperature T1ave of the entire high-
また,前記(3)〜(5)式は,個別に記憶されたものではなく下記(6)式のように一つの関係式として記憶されたものであってもよい。
P1/(T1ave+273)=P2/(T2ave+273) …(7)
P1 / (T1ave + 273) = P2 / (T2ave + 273) (7)
ここに,前記容積Vv,Vh,Voは,図1に示すように前記高圧容器1内の高さをHv,半径をDvとし,加熱領域R1の高さをHh,半径をDhとしたとき,以下の(7)式〜(9)式で算出し得る。
Vv=(Dv2/4)・π・Hv …(7)
Vh=(Dh2/4)・π・Hh …(8)
Vo=Vv−Vh …(9)
なお,前記容積Vv,Vh,Voは,前記加圧加熱制御装置4に設けられたROM等に予め記憶されていることが考えられる。また,前記容積Vv,Vh,Voは,前記ステップS2における前記目標圧力や前記目標温度の設定時に,前記加圧容器1の各寸法が入力されることによって設定されてもよい。ここでは,前記非加熱領域R2の容積Vhについて,前記断熱構造体12及び前記載置台11などの体積は無視するものとするが,もちろんこれらの体積や空孔率(断熱構造体12がポーラス構造(多孔質体)である場合)を考慮して厳密に前記非加熱領域R2の容積Vhを算出しておいてもよい。
Here, the volumes Vv, Vh, Vo are as shown in FIG. 1 where the height in the high-
Vv = (Dv 2/4) · π · Hv ... (7)
Vh = (Dh 2/4) · π · Hh ... (8)
Vo = Vv−Vh (9)
Note that the volumes Vv, Vh, and Vo may be stored in advance in a ROM or the like provided in the pressure heating control device 4. Further, the volumes Vv, Vh, Vo may be set by inputting the dimensions of the
ところで,前記加圧加熱制御装置4が,現在の前記高圧容器1の非加熱領域R2の平均温度T12や,前記高圧容器1の加熱領域R1が前記目標温度T21に到達したときの前記高圧容器1の非加熱領域R2の平均温度T22を推定するための手法は多様に存在する。また,前記平均温度T12や前記平均温度T22を推定し得る手法であれば,ここで説明するものに限られず採用すればよい。
まず,前記平均温度T12は,前記温度計7によって検出された現在の前記加熱領域R1の温度T11に基づいて算出することが可能である。具体的には,予め実験によって得られた実績データやシミュレーションによって得られた推測データなどによって前記加熱領域R1と前記非加熱領域R2との温度の関係を定めておき,その関係に従って前記温度T11から前記平均温度T12を推定することが考えられる。
例えば,前記高圧容器1の非加熱領域R2にも温度計(以下「非加熱領域温度計」という)を設けておき,前記加圧加熱制御装置4が,その非加熱領域温度計の検出温度に基づいて前記非加熱領域R2の平均温度T12を推定することが考えられる。より具体的には,前記非加熱領域温度計を前記円筒側面1cにおける前記温度計7と同等の高さ(加熱領域R1の高さHhの中央部)の位置に配置しておき,該非加熱領域温度計の検出温度と前記温度計7による前記加熱領域R1の検出温度との合計温度の1/1.5〜1/3程度が前記平均温度T12であると推定することが考えられる。なお,前記合計温度と前記平均温度T12との関係は,前記高圧容器1の構造や該高圧容器1内に配置される各構成要素の構造,或いは予め実験によって得られた実績データやシミュレーションによって得られた推測データなどに基づいて適宜設定しておけばよい。また,前記非加熱領域温度計を前記非加熱領域R2の複数箇所に配置しておき,その複数の非加熱領域温度計の平均温度を算出し,その平均温度を用いて前記非加熱領域R2の平均温度T12を推定することも考えられる。
さらに,前記非加熱領域温度計を配置せずに,単純に前記加熱領域R1の検出温度の1/1.5〜1/3程度を前記非加熱領域R2の平均温度T12とする旨を設定しておくことにより,該平均温度T12を推定することも考えられる。
ここに,これらのような手法によって,現在の前記高圧容器1の非加熱領域R2の平均温度T12を推定するときの前記加圧加熱制御装置4が現在非加熱領域温度推定手段に相当する。
By the way, the pressurizing and heating control device 4 is configured so that the current average temperature T12 of the non-heating region R2 of the high-
First, the average temperature T12 can be calculated based on the current temperature T11 of the heating region R1 detected by the thermometer 7. Specifically, the temperature relationship between the heating region R1 and the non-heating region R2 is determined based on the actual data obtained through experiments or the estimated data obtained through simulation, and from the temperature T11 according to the relationship. It is conceivable to estimate the average temperature T12.
For example, a thermometer (hereinafter referred to as “non-heating region thermometer”) is also provided in the non-heating region R2 of the high-
Furthermore, without setting the non-heating region thermometer, it is simply set that the average temperature T12 of the non-heating region R2 is about 1 / 1.5 to 1/3 of the detected temperature of the heating region R1. It is also conceivable to estimate the average temperature T12 by setting it in advance.
Here, the pressurization heating control device 4 for estimating the current average temperature T12 of the non-heating region R2 of the high-
他方,前記平均温度T22は,前記目標温度T21に基づいて算出することが可能である。具体的には,予め実験によって得られた実績データやシミュレーションによって得られた推測データなどによって前記加熱領域R1と前記非加熱領域R2との温度の関係を定めておき,その関係に従って前記目標温度T21から前記平均温度T22を推定することも考えられる。
例えば,前記円筒側面1cにおける前記温度計7と同等の高さ(加熱領域R1の高さHhの中央部)の位置の温度(以下「側面温度」という)と前記温度計7による前記加熱領域R1の検出温度との関係を予め設定しておくことが考えられる。そして,その温度関係と前記目標温度T21とに基づいて前記側面温度を推定し,前記目標温度T21と前記側面温度との合計温度の1/1.5〜1/3程度が前記平均温度T22であると推定することが考えられる。なお,前記側面温度と前記温度計7による前記加熱領域R1の検出温度との関係や,前記合計温度と前記平均温度T22との関係は,前記高圧容器1の構造や該高圧容器1内に配置される各構成要素の構造,或いは予め実験によって得られた実績データやシミュレーションによって得られた推測データなどに基づいて適宜設定しておけばよい。
さらに,前記側面温度を推定することなく,単純に前記目標温度T21の1/1.5〜1/3程度を前記平均温度T22とする旨を設定しておくことにより,該平均温度T22を推定することも考えられる。
ここに,このような手法によって,前記高圧容器1の加熱領域R1が前記目標温度T21に到達したときの前記高圧容器1の非加熱領域R2の平均温度T22を推定するときの前記加圧加熱制御装置4が目標非加熱領域温度推定手段に相当する。
On the other hand, the average temperature T22 can be calculated based on the target temperature T21. Specifically, the relationship between the temperature of the heating region R1 and the non-heating region R2 is determined based on performance data obtained by experiments in advance or estimated data obtained by simulation, and the target temperature T21 is determined according to the relationship. It is also conceivable to estimate the average temperature T22 from the above.
For example, the temperature (hereinafter referred to as “side surface temperature”) at the same height as the thermometer 7 on the
Furthermore, the average temperature T22 is estimated by simply setting that the average temperature T22 is about 1 / 1.5 to 1/3 of the target temperature T21 without estimating the side surface temperature. It is also possible to do.
Here, by such a method, the pressurization heating control when estimating the average temperature T22 of the non-heating region R2 of the high-
そして,前記ステップS4において前記停止条件が設定されると,続くステップS5では,前記加圧加熱制御装置4は,前記ガス圧縮機3による前記高圧容器1内へのガスの供給を開始させる。これにより,前記高圧容器1内は,強制的にガスが充填されることにより昇圧される。
その後,ステップS6では,前記加圧加熱制御装置4は,前記圧力計6及び前記温度計7によって,現在の前記高圧容器1内の圧力及び前記加熱領域R1の温度を検出する。
続いて,ステップS7では,前記加圧加熱制御装置4は,前記ステップS6で検出された検出圧力及び検出温度の関係が,前記ステップS4で設定された停止条件を充足するか否かを判断する。即ち,前記(3)式(或いは前記(6)式)が成立するか否かを判断する。
ここで,前記加圧加熱制御装置4は,前記ステップS6で検出された検出圧力及び検出温度が前記停止条件を充足したと判断することを条件に(S7のYes側),処理をステップS8に移行する。一方,充足していないと判断した場合には(S7のNo側),処理を前記ステップS6に戻す。これにより,前記HIP装置Xでは,前記高圧容器1内の圧力及び温度の関係が前記停止条件を充足するまで,前記ガス圧縮機3によるガス供給が継続される。
When the stop condition is set in step S4, in the subsequent step S5, the pressurizing and heating control device 4 starts supplying gas into the high-
Thereafter, in step S6, the pressure heating control device 4 detects the current pressure in the high-
Subsequently, in step S7, the pressurization and heating control device 4 determines whether or not the relationship between the detected pressure and the detected temperature detected in step S6 satisfies the stop condition set in step S4. . That is, it is determined whether the expression (3) (or the expression (6)) is satisfied.
Here, the pressurization and heating control device 4 determines that the detected pressure and detected temperature detected in step S6 satisfy the stop condition (Yes side of S7), and the process proceeds to step S8. Transition. On the other hand, if it is determined that it is not satisfied (No side of S7), the process returns to step S6. Thereby, in the HIP device X, the gas supply by the
前記停止条件が充足されると,続いてステップS8では,前記加圧加熱制御装置4は,前記ガス圧縮機3によるガスの供給を停止させる。これにより,前記高圧容器1内には,前記加熱領域R1の温度が前記目標温度に到達したときに,同時に前記高圧容器1内の圧力を前記目標圧力にするために必要な量のガスが充填されたことになる。
次に,ステップS9では,前記加圧加熱制御装置4は,前記加熱ヒータ2による加熱を開始させる。これにより,前記高圧容器1内の温度が上昇すると共に,前記高圧容器1内の圧力もガスの温度上昇による熱膨張によって上昇することになる。このとき,前記高圧容器1内の温度及び圧力は,概ねボイルシャルルの法則に従って変化する。なお,前記高圧容器1内が高圧になると,該高圧容器1内の温度及び圧力の変化態様とボイルシャルルの法則とにズレが生じることも考えられるが,そのズレは圧力の上昇率が低下する方向にずれる。そこで,前記ステップS8で前記ガス圧縮機3によるガスの供給が停止された後も,前記加圧加熱制御装置4が,必要に応じて前記ガス圧縮機3によるガスの供給を行うことによりそのズレを補正することも他の実施例として考えられる。このとき,前記加圧加熱制御装置4は前記高圧容器1内のガス量を増加させる方向に補正制御するだけであるため,前記ステップS8で前記ガス圧縮機3によるガスの供給を停止した後で前記高圧容器1からガスを排出する必要は生じない。
When the stop condition is satisfied, subsequently, in step S8, the pressurization and heating control device 4 stops the gas supply by the
Next, in step S9, the pressure heating control device 4 starts heating by the
そして,ステップS10〜S11では,前記加圧加熱制御装置4は,前記温度計7によって前記加熱領域R1の温度を検出し(S10),その検出された現在の前記加熱領域R1の温度が前記目標温度に到達したか否かを判断する(S11)。
ここで,前記目標温度に到達したと判断されると(S11のYes側),処理はステップS12に移行する。一方,到達していないと判断された場合には(S11のNo側),処理は前記ステップS10に戻される。
ステップS12では,前記加圧加熱制御装置4は,前記加熱ヒータ2による加熱を停止させ,当該熱間等方圧加圧処理を終了する。
このようにして前記加熱ヒータ2の加熱が自動的に停止されると,前記高圧容器1内では,前記加熱領域R1において前記目標温度と共に前記目標圧力も実現される。従って,前記ガス圧縮機3によるガス供給を停止してから前記加熱ヒータ2による加熱によって前記加熱領域R1の温度が前記目標温度に到達するまでの間に,前記高圧容器1からのガスの放出や前記ガス圧縮機3によるガスの補充を行う必要がない。
以上説明したように,前記HIP装置Xでは,目標圧力及び目標温度を設定するだけで,前記高圧容器1内へのガスの供給を適切な時点で自動停止させることができる。これにより,前記HIP装置Xを操作するユーザの手間が著しく軽減される。
In steps S10 to S11, the pressure heating control device 4 detects the temperature of the heating region R1 with the thermometer 7 (S10), and the detected temperature of the heating region R1 is the target temperature. It is determined whether or not the temperature has been reached (S11).
If it is determined that the target temperature has been reached (Yes in S11), the process proceeds to step S12. On the other hand, if it is determined that it has not been reached (No in S11), the process returns to step S10.
In step S12, the pressurization and heating control device 4 stops the heating by the
When the heating of the
As described above, in the HIP device X, the gas supply into the high-
ところで,本実施の形態では,前記HIP装置Xにおいて,いわゆる昇圧先行方式で運転が行われる場合を例に挙げて説明した。具体的に,前記HIP装置Xでは,まず前記ガス圧縮機3によるガスの供給のみを開始させ,前記停止条件の充足を条件に前記ガス圧縮機3によるガスの供給を停止させた後,前記加熱ヒータ2による加熱を開始させ,該加熱ヒータ2による加熱を前記温度計7による検出温度が前記目標温度に到達するまで継続させている。即ち,前記ガス圧縮機3によるガス供給が停止されるまでの間は前記加熱ヒータ2による加熱が行われない。
そのため,予め前記ステップS4において,現在の前記高圧容器1内の平均温度(P1ave)が一定であるものとして,前記高圧容器1へのガス供給を停止させるべき圧力(P1)の値を算出することも可能である。
例えば,前記ステップS4が実行されるときの前記高圧容器1内の平均温度(T1ave)が仮に50[℃]であり,前記目標圧力(P2)が2,000[kgf/cm2],前記平均温度(T2ave)が750[℃]である場合には,現在の圧力(P1)が{2000/(750+273)}・(50+273)に到達することを停止条件として設定すればよい。これにより,前記ガス圧縮機3によるガス供給が停止された後,前記加熱ヒータ2による加熱によって前記目標温度に到達したとき,前記高圧容器1内において目標圧力及び目標温度を実現することができる。
By the way, in the present embodiment, the case where the HIP device X is operated by the so-called step-up advance method has been described as an example. Specifically, in the HIP apparatus X, first, only the gas supply by the
Therefore, in step S4, the value of the pressure (P1) at which the gas supply to the
For example, a the average temperature (T1ave) is assumed 50 [° C.] in the high-
さらに,本実施の形態では,前記ステップS4における停止条件の設定時や,前記ステップS7における停止条件の充足の判断時において,前記温度計7によって検出される現在の温度を用いる場合を説明したが,これに限られない。
例えば,前記HIP装置Xによる加工処理の開始時の温度が概ね同じとなるような運用を行う場合には,予め定められた所定温度を前記ROMに現在の加熱領域R1の温度として記憶させておき,前記加圧加熱制御装置4が,前記ステップS4における前記停止条件の設定時や,前記ステップS7における前記停止条件の充足の判断時において,そのROMに記憶された前記所定温度を現在の加熱領域R1の温度として読み出す構成も考えられる。係る所定温度は,前記加熱領域R1の温度として,或いは前記高圧容器1内全体の平均温度として用いればよい。このとき,前記所定値を読み出すときの前記加圧加熱制御装置4が加熱領域温度検出手段或いは現在平均温度推定手段に相当する。
この手法によれば,前記加圧加熱制御装置4によって実行される,前記温度計7により前記加熱領域R1の温度検出を行うための処理や,該検出温度に基づいて前記高圧容器1内全体の平均温度を算出するための処理などを省略することができる。
Furthermore, in the present embodiment, the case has been described in which the current temperature detected by the thermometer 7 is used when setting the stop condition in step S4 or when determining whether the stop condition is satisfied in step S7. , Not limited to this.
For example, when an operation is performed in which the temperature at the start of processing by the HIP device X is substantially the same, a predetermined temperature is stored in the ROM as the current temperature of the heating region R1. When the pressurization heating control device 4 sets the stop condition in step S4 or determines whether the stop condition is satisfied in step S7, the predetermined heating temperature stored in the ROM is set to the current heating area. A configuration for reading out the temperature of R1 is also conceivable. The predetermined temperature may be used as the temperature of the heating region R1 or as the average temperature of the entire high-
According to this technique, the process for detecting the temperature of the heating region R1 by the thermometer 7 executed by the pressurization and heating control device 4, and the entire inside of the high-
一方,本発明は,前記昇圧先行方式に限られず,昇温先行方式や昇圧昇温同時方式などのように前記高圧容器1内の圧力及び温度が同時に変化する場合にも適用可能である。なお,前記昇温先行方式は,前記加熱ヒータ2による加熱を開始させた後,前記ガス圧縮機3によるガスの供給を開始させ,前記ガス圧縮機3によるガスの供給は前記停止条件を充足したことを条件に停止させ,前記加熱ヒータ2による加熱は前記温度計7による検出温度が前記目標温度に到達するまで継続させるものである。また,前記昇圧昇温同時方式は,前記加熱ヒータ2による加熱及び前記ガス圧縮機3によるガスの供給を同時に開始させ,前記ガス圧縮機3によるガスの供給は前記停止条件を充足したことを条件に停止させ,前記加熱ヒータ2による加熱は前記温度計7による検出温度が前記目標温度に到達するまで継続させるものである。
これらの方式で運転を行う場合には,前記ガス圧縮機3によるガス供給が行われている間に,前記加熱ヒータ2による加熱によって前記高圧容器1内の平均温度が変化する。そのため,予め前記ステップS4において前記高圧容器1へのガス供給を停止させるべき圧力の値を特定することはできない。
従って,前記昇温先行方式や前記昇圧昇温同時方式などで運転する場合には,前記加圧加熱制御装置4は,前記ガス圧縮機3によるガス供給及び前記加熱ヒータ2による加熱を実行させつつ,前記ステップS4で用いられた前記(3)式(或いは(6)式)で表される停止条件が充足されたか否かを随時判断し,その停止条件が充足された時点で前記ガス圧縮機3によるガス供給を先に停止させる。これにより,前記昇温先行方式や昇圧昇温同時方式などで運転する場合にも,前記停止条件に従って前記ガス圧縮機3によるガス供給を適切なタイミングで自動停止させることができる。
On the other hand, the present invention is not limited to the preceding pressure increase method, and can also be applied to the case where the pressure and temperature in the high-
When the operation is performed by these methods, the average temperature in the high-
Accordingly, when the operation is performed by the temperature rise preceding method or the pressure increase / temperature rise simultaneous method, the pressurization and heating control device 4 performs the gas supply by the
以下,本実施例1,2では,前記加圧加熱制御装置4によって実行される熱間等方圧加圧処理(図2のフローチャート参照)における停止条件の設定処理(ステップS4)の他の例について説明する。なお,前記実施の形態で説明した前記HIP装置Xと同様の構成要素には同じ符号を付して本実施例1,2の説明のために用いる。
前記実施の形態では,前記高圧容器1内における前記加熱領域R1及び前記非加熱領域R2の温度分布が異なることを考慮して,前記高圧容器1内全体の平均温度に基づいて前記停止条件を設定していた。
一方,前記実施の形態に係る構成に比べれば精度は劣るが,簡易的に前記停止条件を設定するためには,前記高圧容器1内における前記非加熱領域R2の影響を無視して,前記加熱領域R1だけを考慮してボイルシャルルの法則を適用した関係式に基づいて停止条件を設定することが考えられる。
具体的に,前記加圧加熱制御装置4が,以下の(10)式が成立することを停止条件として設定し(S4),該停止条件が充足されることを条件(S7のYes側)に前記ガス圧縮機3によるガス供給を停止させる(S8)ことが考えられる。ここに,現在の前記高圧容器1内の圧力をP1,現在の前記加熱領域R1の温度をT1,目標圧力をP2,目標温度をT2とする。また,これらの温度の単位はケルビン[k]である。
(P1/T1)=(P2/T2) …(10)
なお,温度の単位が[℃]である場合には,下記(11)式とすればよい。
P1/(T1+273)=P2/(T2+273) …(11)
これにより,前記実施の形態に係る手法に比べて,前記加熱領域R1の温度が目標温度T2に到達したときの前記高圧容器1内の圧力の前記目標圧力P2との一致度は低くなるが,なるべく前記ガス圧縮機3によるガスの補充や前記高圧容器1からのガスの放出などを必要としないように,前記ガス圧縮機3によるガス供給を自動的に停止させることができる。
Hereinafter, in the first and second embodiments, another example of the stop condition setting process (step S4) in the hot isostatic pressurization process (see the flowchart of FIG. 2) executed by the pressurization and heating control device 4 will be described. Will be described. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component similar to the said HIP apparatus X demonstrated in the said embodiment, and it uses for description of the present Examples 1,2.
In the embodiment, the stop condition is set based on the average temperature of the entire high-
On the other hand, although the accuracy is inferior compared with the configuration according to the embodiment, in order to easily set the stop condition, the influence of the non-heating region R2 in the high-
Specifically, the pressurization and heating control device 4 sets that the following equation (10) is satisfied as a stop condition (S4), and satisfies that the stop condition is satisfied (Yes side of S7). It is conceivable to stop the gas supply by the gas compressor 3 (S8). Here, the current pressure in the high-
(P1 / T1) = (P2 / T2) (10)
When the temperature unit is [° C.], the following equation (11) may be used.
P1 / (T1 + 273) = P2 / (T2 + 273) (11)
Thereby, compared with the method according to the embodiment, the degree of coincidence of the pressure in the high-
本実施例2では,前記加圧加熱制御装置4が,予め実験によって得られた実績データやシミュレーションによって得られた推測データなどに基づいて停止条件を設定する場合について説明する。
ここに,図3は前記熱間等方圧加圧処理における停止条件の設定処理の他の例を説明するためのグラフを示している。図3のグラフにおける横軸tは加熱領域R1の温度,縦軸pは高圧容器1内の圧力を示している。
図3に示すように,前記HIP装置Xにおいて,任意の温度t1,圧力p1の点A1から前記加熱ヒータ2による加熱のみを開始した後,温度t2に到達した点A2の圧力がp2であるという実績データ(或いは推測データ)が得られたとする。
このとき,前記加圧加熱制御装置4は,前記点A1と前記点A2との間を結んだ直線L1を延長して圧力pが0になる点A0を導出し,その点A0の座標を前記加圧加熱制御装置4のROMなどに記憶させておく。なお,前記点A0のときの温度t0は,前記HIP装置Xの構造や前記HIP装置Xの稼働環境などによって異なる。
そして,前記加圧加熱制御装置4は,前記ステップS4において,前記点A0の座標と前記ステップS3で設定された目標圧力及び目標温度とに基づいて停止条件を設定する。
In the second embodiment, a case will be described in which the pressurization and heating control device 4 sets a stop condition based on performance data obtained in advance by experiments, estimated data obtained by simulation, or the like.
FIG. 3 is a graph for explaining another example of the stop condition setting process in the hot isostatic pressing process. In the graph of FIG. 3, the horizontal axis t indicates the temperature of the heating region R <b> 1, and the vertical axis p indicates the pressure in the high-
As shown in FIG. 3, in the HIP apparatus X, after starting only heating by the
At this time, the pressurizing and heating control device 4 derives a point A0 where the pressure p becomes 0 by extending the straight line L1 connecting the point A1 and the point A2, and the coordinates of the point A0 are obtained as described above. It is stored in the ROM of the pressure heating control device 4 or the like. The temperature t0 at the point A0 varies depending on the structure of the HIP device X, the operating environment of the HIP device X, and the like.
In step S4, the pressurization and heating control device 4 sets a stop condition based on the coordinates of the point A0 and the target pressure and target temperature set in step S3.
例えば,図3に示すように,目標圧力及び目標温度が圧力p3,温度t3の点B2に設定されると,前記加圧加熱制御装置4は,その点B2から前記点A0までの直線L2を想定し,前記圧力計6及び前記温度計7による検出結果が前記直線L2上に乗ることを停止条件として設定する。
これにより,例えば昇圧先行方式によって温度t1の点B0から前記点B2を目標とする運転を行う場合には,前記ガス圧縮機3によるガス供給によって前記高圧容器1内が昇圧され,前記直線L2上の圧力p4の点B1に達した時点で,前記ガス圧縮機3によるガス供給が停止される。そして,その後は前記加熱ヒータ2による加熱が開始されることによって,前記直線L2に沿って圧力及び温度が前記点B2に到達する。
一方,昇圧昇温同時方式によって温度t1の点B0から前記点B2を目標とする運転を行う場合には,前記ガス圧縮機3によるガス供給及び前記加熱ヒータ2による加熱が同時に行われ,図3に示す曲線L3のように,圧力及び温度が共に上昇する。そして,圧力及び温度が,前記曲線L3と前記直線L2との交点C1に到達した時点で,前記ガス圧縮機3によるガス供給が停止される。その後,前記加熱ヒータ2による加熱だけが継続されることによって,前記直線L2に沿って圧力及び温度が前記点B2に到達する。同様に,昇圧昇温同時方式によって温度t4の点D0から前記点B2を目標とする運転を行う場合にも,圧力及び温度が曲線L4に沿って上昇し,前記直線L2との交点D1に到達した時点で,前記ガス圧縮機3によるガス供給が停止される。その後,前記加熱ヒータ2による加熱だけが継続されることによって,前記直線L2に沿って圧力及び温度が前記点B2に到達する。
For example, as shown in FIG. 3, when the target pressure and the target temperature are set at a point B2 of the pressure p3 and the temperature t3, the pressurization and heating control device 4 draws a straight line L2 from the point B2 to the point A0. Assuming that the detection results of the pressure gauge 6 and the thermometer 7 are on the straight line L2, the stop condition is set.
Thus, for example, when an operation from the point B0 at the temperature t1 to the point B2 is performed by the pressure advance method, the pressure in the
On the other hand, in the case of performing the operation from the point B0 of the temperature t1 to the point B2 by the simultaneous boosting and temperature raising method, the gas supply by the
1…高圧容器
1a…上蓋
1b…底蓋
1c…円筒側面
2…加熱ヒータ(加熱手段の一例)
3…ガス圧縮機(加圧手段の一例)
4…加圧加熱制御装置
5…操作表示部
6…圧力計(圧力検出手段の一例)
7…温度計(加熱領域温度検出手段の一例)
11…載置台
12…断熱構造体(断熱手段の一例)
S1,S2,…,…処理手順(ステップ)番号
DESCRIPTION OF
3. Gas compressor (an example of pressurizing means)
4 ... Pressurization
7. Thermometer (an example of heating area temperature detection means)
11 ... mounting table 12 ... heat insulating structure (an example of heat insulating means)
S1, S2, ..., processing procedure (step) number
Claims (9)
前記加圧手段によるガスの供給を停止した後,前記加熱手段による加熱によって前記高圧容器の加熱領域の温度が予め設定された目標温度に到達したときに,前記高圧容器内が予め設定された目標圧力となるように,前記加圧手段によるガスの供給を停止させるときの圧力及び温度に関する条件を前記目標圧力及び前記目標温度に基づいて予め設定する停止条件設定手段と,
少なくとも前記加圧手段によるガスの供給を開始させた後,前記圧力検出手段による検出圧力及び前記加熱領域温度検出手段による検出温度が,前記停止条件設定手段によって設定された停止条件を充足したことを条件に,前記加圧手段によるガスの供給を停止させ,前記加熱手段による加熱を前記加熱領域温度検出手段による検出温度が前記目標温度に到達するまで実行させる加圧加熱制御手段と,
を備えてなることを特徴とする熱間等方圧加圧装置。 A pressurizing means for supplying a gas into the high-pressure vessel, a heating means for heating the inside of the high-pressure vessel, a heating region heated by the heating means, and a non-heating region from the heating region to the inner wall of the high-pressure vessel. Insulating means for insulating, pressure detecting means for detecting the pressure in the high pressure vessel, and heating area temperature detecting means for detecting the temperature of the heating area of the high pressure vessel, the pressurizing means and the heating means A hot isostatic pressurizing device for isotropically pressurizing the processed product in the high-pressure vessel by pressurizing the inside of the high-pressure vessel by:
After stopping the gas supply by the pressurizing means, when the temperature of the heating region of the high-pressure vessel reaches a preset target temperature by heating by the heating means, the inside of the high-pressure vessel is set to a preset target. Stop condition setting means for preliminarily setting conditions relating to pressure and temperature when stopping gas supply by the pressurizing means so as to be a pressure based on the target pressure and the target temperature;
After at least gas supply by the pressurizing means is started, the detected pressure by the pressure detecting means and the detected temperature by the heating region temperature detecting means satisfy the stop condition set by the stop condition setting means. Pressure heating control means for stopping the supply of gas by the pressurizing means and executing the heating by the heating means until the temperature detected by the heating region temperature detecting means reaches the target temperature,
A hot isostatic pressing device characterized by comprising:
現在の前記高圧容器内全体の平均温度を推定する現在平均温度推定手段と,前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器内全体の平均温度を推定する目標平均温度推定手段とを有してなり,
前記圧力検出手段によって検出される現在の前記高圧容器内の圧力をP1,前記目標圧力をP2,現在の前記高圧容器内全体の平均温度をT1ave,前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器内全体の平均温度をT2aveとし,温度の単位をケルビン〔k〕としたとき,(P1/T1ave)=(P2/T2ave)の関係が成立することを前記停止条件として設定するものである請求項1に記載の熱間等方圧加圧装置。 The stop condition setting means is
Current average temperature estimating means for estimating the current average temperature of the entire high pressure vessel, and target average temperature estimation for estimating the average temperature of the entire high pressure vessel when the heating region of the high pressure vessel reaches the target temperature Means,
The current pressure in the high-pressure vessel detected by the pressure detection means is P1, the target pressure is P2, the current average temperature in the entire high-pressure vessel is T1ave, and the heating region of the high-pressure vessel reaches the target temperature. When the average temperature of the whole high-pressure vessel is T2ave and the unit of temperature is Kelvin [k], the condition that (P1 / T1ave) = (P2 / T2ave) is satisfied is set as the stop condition. The apparatus for hot isostatic pressing according to claim 1.
現在の前記高圧容器の非加熱領域の平均温度を推定する現在非加熱領域温度推定手段を含んでなり,
現在の前記高圧容器の加熱領域の温度をT11,現在の前記高圧容器の非加熱領域の平均温度をT12,前記高圧容器内全体の容積をVv,前記加熱領域の容積をVh,前記非加熱領域の容積をVoとしたとき,下記の(1)式に従って現在の前記高圧容器内全体の平均温度T1aveを算出するものである請求項2に記載の熱間等方圧加圧装置。
T1ave=[(T11・Vh)+(T12・Vo)]/Vv …(1) The current average temperature estimating means is
A current non-heating region temperature estimating means for estimating an average temperature of the non-heating region of the current high-pressure vessel;
The current temperature of the heating area of the high-pressure vessel is T11, the current average temperature of the non-heating area of the high-pressure vessel is T12, the entire volume in the high-pressure vessel is Vv, the volume of the heating area is Vh, and the non-heating area The hot isostatic pressurization device according to claim 2, wherein the average temperature T1ave of the entire inside of the high-pressure vessel is calculated according to the following formula (1), where V
T1ave = [(T11 ・ Vh) + (T12 ・ Vo)] / Vv (1)
前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器の非加熱領域の平均温度を推定する目標非加熱領域温度推定手段を含んでなり,
前記目標温度をT21,前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器の非加熱領域の平均温度をT22,前記高圧容器内全体の容積をVv,前記加熱領域の容積をVh,前記非加熱領域の容積をVoとしたとき,下記の(2)式に従って前記高圧容器の加熱領域が前記目標温度に到達したときの前記高圧容器内全体の平均温度T2aveを算出するものである請求項2〜4のいずれかに記載の熱間等方圧加圧装置。
T2ave=[(T21・Vh)+(T22・Vo)]/Vv …(2) The target average temperature estimating means is
A target non-heating region temperature estimating means for estimating an average temperature of the non-heating region of the high-pressure vessel when the heating region of the high-pressure vessel reaches the target temperature,
T21 is the target temperature, T22 is the average temperature of the non-heating region of the high-pressure vessel when the heating region of the high-pressure vessel reaches the target temperature, Vv is the total volume in the high-pressure vessel, and the volume of the heating region is Vh, where the volume of the non-heated region is Vo, the average temperature T2ave of the entire high-pressure vessel when the heated region of the high-pressure vessel reaches the target temperature is calculated according to the following equation (2). The hot isostatic pressing apparatus according to any one of claims 2 to 4.
T2ave = [(T21 ・ Vh) + (T22 ・ Vo)] / Vv (2)
前記停止条件設定手段は,(P1/T1)=(P2/T2)が成立することを前記停止条件として設定するものである請求項1に記載の熱間等方圧加圧装置。 The current pressure in the high-pressure vessel detected by the pressure detection means is P1, the current temperature of the heating area detected by the heating area temperature detection means is T1, the target pressure is P2, and the target temperature is T2. And when the temperature unit is Kelvin [k],
The hot isostatic pressing device according to claim 1, wherein the stop condition setting means sets that (P1 / T1) = (P2 / T2) is satisfied as the stop condition.
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