JP2010112391A - Pressure reducing exhaust valve, and pressure reducing device using pressure reducing exhaust mechanism including the same - Google Patents

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Norihiko Saito
紀彦 齊藤
Takeshi Iwasaki
武士 岩崎
Yutaka Hashimoto
裕 橋本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pressure reducing exhaust valve which is applicable to a pressure reducing device having only one exhaust passage (a main exhaust passage), fast in exhaust velocity and capable of suppressing the soaring of particles, and also to provide a pressure reducing device using a pressure reducing exhaust mechanism including the same. <P>SOLUTION: The pressure reducing exhaust valve 10 is attached in a portion of the exhaust passage 5 with one end communicated with a vacuum chamber 2, and the other end with a vacuum pump 4. The exhaust valve 10 also includes: a pipe part 11 connected to an exhaust passage 5; an on-off valve 12 accommodated in the pipe part to open and close the exhaust passage 5; a porous body 13 with vent pores provided in the on-off valve 12; and a screening amount regulation part 10B, which is provided in the exhaust passage at the upstream or downstream side of the on-off valve 12 to make the screening area of the exhaust passage 5 variable. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は減圧排気弁及びこの減圧排気弁を含む減圧排気機構を用いた減圧装置に関し、特に多孔質体部を有する開閉弁を備えた減圧排気弁、及びこの減圧排気弁を組み込んだ減圧排気機構を備える減圧装置に関する。   The present invention relates to a decompression exhaust valve and a decompression device using a decompression exhaust mechanism including the decompression exhaust valve, and in particular, a decompression exhaust valve provided with an opening / closing valve having a porous body, and a decompression exhaust mechanism incorporating the decompression exhaust valve. It is related with a decompression device provided with.

従来、半導体ウエハもしくは液晶材料の製造工程において、例えばドライエッチング装置、スパッタ装置、CVD装置等の減圧装置が用いられている。これら装置における排気機構には、真空チャンバ内を減圧状態になす際の圧力緩衝を目的として、主排気路と並列にスロー排気路が設けられている。   Conventionally, in a manufacturing process of a semiconductor wafer or a liquid crystal material, for example, a decompression device such as a dry etching device, a sputtering device, or a CVD device is used. The exhaust mechanisms in these apparatuses are provided with a slow exhaust passage in parallel with the main exhaust passage for the purpose of buffering the pressure when the vacuum chamber is decompressed.

従来の減圧装置を図9に基づいて説明する。図9に示すように、従来の減圧装置41には、真空チャンバ42内を減圧する排気機構43が設けられている。
この排気機構43は、一端が真空チャンバ42に設けられた排気口45に連通し、他端が真空ポンプ46に連通する主排気路47と、一端が主排気路47を介して真空チャンバ42に連通し、他端が主排気路47を介して真空ポンプ46に連通するスロー排気路49とを備えている。
A conventional decompression device will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 9, the conventional decompression device 41 is provided with an exhaust mechanism 43 that decompresses the inside of the vacuum chamber 42.
The exhaust mechanism 43 has one end communicating with the exhaust port 45 provided in the vacuum chamber 42 and the other end communicating with the vacuum pump 46, and one end communicating with the vacuum chamber 42 via the main exhaust path 47. A slow exhaust passage 49 that communicates with the other end and communicates with the vacuum pump 46 via the main exhaust passage 47 is provided.

また、前記排気機構43は、前記主排気路47に設けた第1の開閉弁(メインバルブ)48と、このスロー排気路49に第1の開閉弁と並列に第2の開閉弁(スロー排気バルブ)50とを備えている。
更に、前記排気機構43は、前記排気口45に設けられた、排気時の圧力を緩衝するフィルター44を備えている。
The exhaust mechanism 43 includes a first on-off valve (main valve) 48 provided in the main exhaust passage 47, and a second on-off valve (slow exhaust) in parallel with the first on-off valve in the slow exhaust passage 49. Valve) 50.
Further, the exhaust mechanism 43 includes a filter 44 provided at the exhaust port 45 for buffering pressure during exhaust.

このような従来の減圧装置41にあっては、排気初期はスロー排気路49で緩やかに排気し、その後、主排気路47で一気に排気する。
しかし、前記排気口45にフィルター44が設置されているため、主排気路47で一気に排気する際、フィルター44が抵抗となり、排気速度が大幅に遅くなるという課題があった。
In such a conventional pressure reducing device 41, the exhaust is gradually exhausted through the slow exhaust passage 49 at the initial stage of exhaust, and then exhausted at once through the main exhaust passage 47.
However, since the filter 44 is installed at the exhaust port 45, there is a problem that the filter 44 becomes a resistance when exhausting at a time through the main exhaust passage 47, and the exhaust speed is significantly reduced.

これを解決する減圧装置として、図10に示す減圧装置51がある。この減圧装置51にあっては、一端が直接真空チャンバ42に連通し、他端が主排気路47を介して真空ポンプ46に連通するスロー排気路52を備えている。そして、スロー排気口53にはフィルター44が取付けられている。
このように構成された減圧装置51にあっては、フィルター44、スロー排気口53、スロー排気路52を介して緩やかに排気し、その後、第2の開閉弁50,第1の開閉弁48を切換えて、主排気路47から一気に排気する。
そのため、この減圧装置51にあっては、主排気路47における排気速度を上げることができるが、排気口45とは別にスロー排気口53を設ける必要があり、多額な装置改造費がかかるという課題があった。
As a decompression device for solving this, there is a decompression device 51 shown in FIG. The decompression device 51 includes a slow exhaust passage 52 having one end directly communicating with the vacuum chamber 42 and the other end communicating with the vacuum pump 46 via the main exhaust passage 47. A filter 44 is attached to the slow exhaust port 53.
In the pressure reducing device 51 configured as described above, the exhaust is gently exhausted through the filter 44, the slow exhaust port 53, and the slow exhaust passage 52, and then the second on-off valve 50 and the first on-off valve 48 are opened. It switches and exhausts from the main exhaust path 47 at a stretch.
For this reason, in the decompression device 51, the exhaust speed in the main exhaust passage 47 can be increased, but it is necessary to provide the slow exhaust port 53 separately from the exhaust port 45, which requires a large amount of equipment modification costs. was there.

なお、真空チャンバと真空ポンプを連通する主排気路と、この主排気路に並列にスロー排気路を設けたウエハ取扱システム(例えば、特許文献1参照)、さらに、スロー排気路に可変コンダクタンスバルブを設けた横型処理炉が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
特開昭61−228648号公報 特開平7−235497号公報
A main exhaust passage communicating the vacuum chamber and the vacuum pump, a wafer handling system provided with a slow exhaust passage in parallel with the main exhaust passage (see, for example, Patent Document 1), and a variable conductance valve in the slow exhaust passage. A provided horizontal processing furnace has been proposed (see, for example, Patent Document 2).
Japanese Patent Laid-Open No. 61-228648 JP 7-235497 A

ところで、本願出願人は、上記した課題を解決するために、図11に示すように、スロー排気路49に、円筒形状のシリカ多孔体からなるフィルター62を備える減圧装置61を提案している(特願2007−190462号)。
しかしながら、前記した従来の減圧装置及び本願出願人が提案した減圧装置は、主排気路とスロー排気路を前提としたものであった。
そのため、スロー排気路から主排気路に切換えた際、圧力変動が生じ、パーティクルが舞い上がることがあった。
By the way, in order to solve the above-described problem, the applicant of the present application has proposed a pressure reducing device 61 including a filter 62 made of a cylindrical porous silica material in a slow exhaust passage 49 as shown in FIG. Japanese Patent Application No. 2007-190462).
However, the conventional pressure reducing device and the pressure reducing device proposed by the applicant of the present application are based on the main exhaust passage and the slow exhaust passage.
For this reason, when switching from the slow exhaust path to the main exhaust path, pressure fluctuations may occur and particles may rise.

また、一つの排気路(主排気路)のみ有する減圧装置に適用した場合、一つの排気路(主排気路)の排気口にフィルターを設けなければならず、排気速度が大幅に小さくなり、所定の真空度に到達するまでに長時間かかるという課題があった。しかも、常に排気口にフィルターが存在するため、フィルターが抵抗となり所定の真空度に到達し難いという課題があった。
このように前記したフィルターにあっては、一つの排気路(主排気路)のみ有する減圧装置には適用することは困難であった。
In addition, when applied to a pressure reducing device having only one exhaust passage (main exhaust passage), a filter must be provided at the exhaust port of one exhaust passage (main exhaust passage), and the exhaust speed is greatly reduced. There is a problem that it takes a long time to reach the vacuum degree. In addition, since there is always a filter at the exhaust port, there is a problem that the filter becomes a resistance and it is difficult to reach a predetermined degree of vacuum.
Thus, it has been difficult to apply the above-described filter to a decompression device having only one exhaust passage (main exhaust passage).

本発明は上述した事情を考慮してなされたもので、一つの排気路(主排気路)のみ有する減圧装置にも適用でき、排気速度が速くパーティクルの舞い上がりを抑制できる減圧排気弁及びこの減圧排気弁を含む減圧排気機構を用いた減圧装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above-described circumstances, and can be applied to a decompression device having only one exhaust passage (main exhaust passage), and a decompression exhaust valve capable of suppressing the rising of particles with a high exhaust speed and the decompression exhaust. An object of the present invention is to provide a decompression device using a decompression exhaust mechanism including a valve.

上記した目的を達成するためになされた本発明にかかる減圧排気弁は、一端が真空チャンバに連通し、他端が真空ポンプに連通する排気路中に取付けられる減圧排気弁において、前記減圧排気弁が、前記排気路に接続される管部と、前記管部内に収容された、前記排気路を開閉する開閉弁と、前記開閉弁に設けられた、通気孔を有する多孔質体部と、前記開閉弁の上流側または下流側の排気路中に設けられ、排気路の遮蔽面積が可変となされた遮蔽量調整部とを備えることに特徴を有する。
ここで、前記遮蔽量調整部は、複数の遮蔽部材の組み合わせにより排気路の遮蔽面積を可変とすることが望ましい。
また、前記減圧排気弁の多孔質体部が、攪拌起泡によって形成されたセラミックス多孔質焼結体であることが望ましい。
The decompression exhaust valve according to the present invention made to achieve the above object is a decompression exhaust valve attached to an exhaust passage having one end communicating with a vacuum chamber and the other end communicating with a vacuum pump. A pipe part connected to the exhaust path, an open / close valve accommodated in the pipe part for opening and closing the exhaust path, a porous body part having a vent provided in the open / close valve, and And a shielding amount adjusting unit provided in an exhaust path on the upstream side or downstream side of the on-off valve and having a variable shielding area of the exhaust path.
Here, it is desirable that the shielding amount adjusting unit makes the shielding area of the exhaust passage variable by a combination of a plurality of shielding members.
Moreover, it is desirable that the porous body portion of the vacuum exhaust valve is a ceramic porous sintered body formed by stirring foaming.

このように減圧排気弁を構成することにより、真空チャンバの減圧開始時において、チャンバ内のガスは開閉弁の多孔質体部を流れ、さらに遮蔽量調整部における段階的な流量増加調整(遮蔽面積の調整)により、緩やか且つ細かに減圧速度が調整される。また、その緩やかな減圧工程の後、開閉弁を開くことで排気速度を上げた排気を行うことができる。したがって、真空チャンバの減圧処理において、チャンバ内の急激な減圧を確実に回避することができ、パーティクルの舞い上がりを抑制することができる。   By configuring the pressure reducing exhaust valve in this way, when the vacuum chamber starts to be depressurized, the gas in the chamber flows through the porous body portion of the on-off valve, and further, a stepwise flow rate increase adjustment (shielding area) in the shielding amount adjusting portion. The pressure reduction speed is adjusted gently and finely. Further, after the gradual decompression step, exhaust at an increased exhaust speed can be performed by opening the on-off valve. Therefore, in the decompression process of the vacuum chamber, a sudden decompression in the chamber can be surely avoided, and the rise of particles can be suppressed.

また、上記した目的を達成するためになされた本発明にかかる減圧装置は、真空チャンバと、この真空チャンバ内を減圧する排気機構を備えた減圧装置において、前記排気機構は、一端が前記真空チャンバに連通し、他端が真空ポンプに連通する排気路と、前記排気路中に取付けられた減圧排気弁とを有し、前記減圧排気弁は、前記排気路に接続される管部と、前記管部内に収容された、前記排気路を開閉する開閉弁と、前記開閉弁に設けられた、通気孔を有する多孔質体部と、前記開閉弁の上流側または下流側の排気路中に設けられ、排気路の遮蔽面積が可変となされた遮蔽量調整部とを備えることに特徴を有する。
ここで、前記遮蔽量調整部は、複数の遮蔽部材の組み合わせにより排気路の遮蔽面積を可変とすることが望ましい。
また、前記減圧排気弁の多孔質体部が、攪拌起泡によって形成されたセラミックス多孔質焼結体であることが望ましい。
Further, a decompression device according to the present invention made to achieve the above object is a decompression device comprising a vacuum chamber and an exhaust mechanism for decompressing the inside of the vacuum chamber, wherein the exhaust mechanism has one end at the vacuum chamber. An exhaust passage that communicates with the vacuum pump, and a decompression exhaust valve attached to the exhaust passage, wherein the decompression exhaust valve includes a pipe portion connected to the exhaust passage, An open / close valve housed in a pipe portion for opening and closing the exhaust passage, a porous body portion having a vent provided in the open / close valve, and an exhaust passage upstream or downstream of the open / close valve And a shielding amount adjusting unit in which the shielding area of the exhaust passage is variable.
Here, it is desirable that the shielding amount adjusting unit makes the shielding area of the exhaust passage variable by a combination of a plurality of shielding members.
Moreover, it is desirable that the porous body portion of the vacuum exhaust valve is a ceramic porous sintered body formed by stirring foaming.

このように減圧装置を構成することにより、真空チャンバの減圧開始時において、チャンバ内のガスは開閉弁の多孔質体部を流れ、さらに遮蔽量調整部における段階的な流量増加調整(遮蔽面積の調整)により、緩やか且つ細かに減圧速度が調整される。また、その緩やかな減圧工程の後、開閉弁を開くことで排気速度を上げた排気を行うことができる。したがって、真空チャンバの減圧処理において、チャンバ内の急激な減圧を確実に回避することができ、パーティクルの舞い上がりを抑制することができる。   By configuring the decompression device in this way, when the vacuum chamber starts to be decompressed, the gas in the chamber flows through the porous body portion of the on-off valve and further adjusts the flow rate in a stepwise manner (the shielding area By adjusting), the pressure reduction speed is adjusted gently and finely. Further, after the gradual decompression step, exhaust at an increased exhaust speed can be performed by opening the on-off valve. Therefore, in the decompression process of the vacuum chamber, a sudden decompression in the chamber can be surely avoided, and the rise of particles can be suppressed.

本発明によれば、一つの排気路(主排気路)のみ有する減圧装置にも適用でき、排気速度が速くパーティクルの舞い上がりを抑制できる減圧排気弁及びこの減圧排気弁を含む減圧排気機構を用いた減圧装置を得ることができる。   According to the present invention, a decompression device that can be applied to a decompression device having only one exhaust passage (main exhaust passage), has a fast exhaust speed and can suppress the rise of particles, and a decompression exhaust mechanism including the decompression exhaust valve are used. A decompression device can be obtained.

本発明の実施形態にかかる減圧排気弁及びこの減圧排気弁を含む減圧排気機構を用いた減圧装置について、図に基づき説明する。
尚、図1は本発明にかかる減圧装置の概略構成図、図2は本発明にかかる減圧排気弁を示す側断面図である。また、図3は図2の減圧排気弁が備えるフィルター弁の正面図であって、開閉体が閉じた状態を示す図、図4は、その開閉弁が開いた状態を示す図である。さらに、図5は、図2の減圧排気弁が備える遮蔽調整部の平面図であって、シャッター板が閉じた状態を示す図、図6は、そのシャッター板が開いた状態を示す図である。
A pressure reducing exhaust valve according to an embodiment of the present invention and a pressure reducing device using a pressure reducing exhaust mechanism including the pressure reducing exhaust valve will be described with reference to the drawings.
1 is a schematic configuration diagram of a pressure reducing device according to the present invention, and FIG. 2 is a side sectional view showing a pressure reducing exhaust valve according to the present invention. 3 is a front view of the filter valve provided in the pressure reducing exhaust valve of FIG. 2, showing a state in which the opening / closing body is closed, and FIG. 4 is a view showing a state in which the opening / closing valve is opened. Further, FIG. 5 is a plan view of the shielding adjusting portion provided in the pressure reducing exhaust valve of FIG. 2, showing a state where the shutter plate is closed, and FIG. 6 is a diagram showing a state where the shutter plate is opened. .

図1に示すように、本発明にかかる減圧装置1は、真空に減圧され処理室となる真空チャンバ2を備え、更にこの真空チャンバ2を真空に減圧する排気機構3を備えている。
前記排気機構3は、一端が真空チャンバ2の底部に設けられた排気口2aを介して真空チャンバ2に連通し、他端が真空ポンプ4に連通する排気路5と、前記排気路5中に取付けられる減圧排気弁10とを備えている。
この減圧排気弁10は、フィルター弁10Aと、排気路5の排気方向に沿って、このフィルター弁10Aの前方または後方のいずれか(本実施形態では後方)に設けられた遮蔽量調整部10Bとを備える。
As shown in FIG. 1, a decompression device 1 according to the present invention includes a vacuum chamber 2 that is decompressed to a vacuum and serves as a processing chamber, and further includes an exhaust mechanism 3 that decompresses the vacuum chamber 2 to a vacuum.
The exhaust mechanism 3 has one end communicating with the vacuum chamber 2 through an exhaust port 2 a provided at the bottom of the vacuum chamber 2 and the other end communicating with the vacuum pump 4. And a pressure reducing exhaust valve 10 attached thereto.
The decompression exhaust valve 10 includes a filter valve 10A, and a shielding amount adjusting unit 10B provided either in front of or behind the filter valve 10A along the exhaust direction of the exhaust passage 5 (rear in this embodiment). Is provided.

前記フィルター弁10Aは、図3、図4に示すように、排気路5に接続される管部11と、前記管部11の内部に回動可能に収容され、前記排気路5を開閉する円板状の開閉弁12と、前記開閉弁12に設けられた、円板状の通気孔を有する多孔質体部13とを備えている。即ち、前記多孔質体部13の外周部を、輪状のリング部12aの内周部が把持することによって、開閉弁12が構成されている。   As shown in FIGS. 3 and 4, the filter valve 10 </ b> A includes a pipe part 11 connected to the exhaust path 5, and a circle that is rotatably accommodated in the pipe part 11 and opens and closes the exhaust path 5. A plate-like on-off valve 12 and a porous body portion 13 provided on the on-off valve 12 and having a disc-like vent hole are provided. That is, the opening / closing valve 12 is configured by the outer peripheral portion of the porous body portion 13 being held by the inner peripheral portion of the ring-shaped ring portion 12a.

また、前記リング部12aの背面には、回動軸14が取付けられている。この回動軸14は、排気路5(管部11)の軸線に対して垂直に、かつ管部11に対して回動可能に取付けられている。
この回動軸14の端部にはギヤ部14aが形成され、管部11の外部において、駆動軸15の端部に形成されたギヤ部15aと噛合している。即ち、前記駆動軸15をモータ等の駆動手段(図示せず)によって、回転させることにより、前記回動軸24を回動させ、開閉弁12を回動させ、排気路5(管部11)の開閉を行うように構成されている。
尚、前記回動軸14のギヤ部14a及び駆動軸15のギヤ部15aは、ケーシング16内に収容されている。
A rotating shaft 14 is attached to the back surface of the ring portion 12a. The rotation shaft 14 is attached so as to be perpendicular to the axis of the exhaust passage 5 (pipe portion 11) and to be rotatable with respect to the tube portion 11.
A gear portion 14 a is formed at the end of the rotating shaft 14, and meshes with a gear portion 15 a formed at the end of the drive shaft 15 outside the tube portion 11. That is, by rotating the drive shaft 15 by a drive means (not shown) such as a motor, the rotation shaft 24 is rotated, the on-off valve 12 is rotated, and the exhaust passage 5 (pipe portion 11). Are configured to open and close.
The gear portion 14 a of the rotating shaft 14 and the gear portion 15 a of the drive shaft 15 are accommodated in the casing 16.

更に、多孔質体部13について説明する。
この多孔質体部13は、金属多孔質体、ガラス多孔質体、石英製多孔質体、通常の粉末焼結による多孔質焼結体、セラミックス繊維を焼結した多孔質焼結体、攪拌起泡によって形成され焼結した多孔質焼結体などを用いることができる。
特に、攪拌起泡によって形成されたセラミックス多孔質焼結体であることが望ましい。このようなセラミックス多孔質体の製造は、本出願人が先に出願した特開2000−264753号公報、特開2003−238267号公報に記載した方法により製造することができる。
ここで、前記多孔質体部を製造する原料としては、アルミナ、ジルコニア、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ムライト、コーディエライト、シリカ、水酸化アパタイトなどの他、金属製多孔体などの種々の材料を採用することができるが、これらの内、特に耐食性および機械的特性に優れている炭化ケイ素が好ましい。
Furthermore, the porous body portion 13 will be described.
The porous body portion 13 includes a metal porous body, a glass porous body, a quartz porous body, a porous sintered body obtained by ordinary powder sintering, a porous sintered body obtained by sintering ceramic fibers, A porous sintered body formed by foaming and sintered can be used.
In particular, a ceramic porous sintered body formed by stirring foaming is desirable. Such a porous ceramic body can be manufactured by the method described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2000-264753 and 2003-238267 filed earlier by the present applicant.
Here, as a raw material for producing the porous body portion, various materials such as a metal porous body as well as alumina, zirconia, silicon nitride, silicon carbide, mullite, cordierite, silica, hydroxide apatite, and the like are used. Among these, silicon carbide, which is particularly excellent in corrosion resistance and mechanical properties, is preferable.

また、平均気孔径が5〜90μm、気孔率は30〜65%であるのが好ましい。
特に、炭化ケイ素の場合、平均気孔径30〜90μm、気孔率55〜65%が好ましい。具体的には、水銀ポロシメーターを用いて測定(JIS R1634 1998に基づく)した気孔の平均気孔径が30μm以上90μm以下であって、前記気孔が10μm以上20μm以下(SEM観察に基づく)の連通孔で連通する三次元網目状の骨格構造を有しているのが好ましい。
The average pore diameter is preferably 5 to 90 μm, and the porosity is preferably 30 to 65%.
In particular, in the case of silicon carbide, an average pore diameter of 30 to 90 μm and a porosity of 55 to 65% are preferable. Specifically, the pores measured using a mercury porosimeter (based on JIS R1634 1998) have an average pore diameter of 30 μm or more and 90 μm or less, and the pores are communication holes of 10 μm or more and 20 μm or less (based on SEM observation). It preferably has a three-dimensional network skeletal structure in communication.

また、この気孔率(サンプルを特定体積に機械加工し、この重量を測定することで、前記体積、重量及びSiC密度:3.21g/cm3より算出)は55%以上、65%未満に形成されているのが好ましい。
尚、前記平均気孔径、気孔率は、製造工程における原料粉、攪拌起泡条件を調整することによって可変することができ、所望の平均気孔径、気孔率を有するセラミックス多孔質焼結体を得ることができる。
In addition, this porosity (machined to a specific volume and measuring this weight, the volume, weight and SiC density: calculated from 3.21 g / cm 3 ) is 55% or more and less than 65%. It is preferable.
The average pore diameter and porosity can be varied by adjusting raw material powder and stirring foaming conditions in the production process, and a ceramic porous sintered body having desired average pore diameter and porosity is obtained. be able to.

また、遮蔽量調整部10Bは、排気路5の遮蔽面積を可変に構成されており、図5に示すように、排気路5に接続される管部17と、前記管部17の内部でそれぞれ回動可能に収容された複数(図では6枚)のシャッター板18(遮蔽部材)とを備える。シャッター板18は、それぞれ図示するように長板状に形成され、その長手方向の側部が隣り合うシャッター板18と重なり合うように配列されている。また、全てのシャッター板18が閉じた状態(側部が重なり合った状態)で、全てのシャッター板18により排気路5の断面形状の遮蔽板が形成されるようになされている。
尚、シャッター板18において、隣り合うシャッター板18と重なり合う部分には、合成樹脂部材(図示せず)が設けられ、シャッター板18が閉じたときの密閉性を向上するようになされている。
Further, the shielding amount adjusting unit 10B is configured so that the shielding area of the exhaust passage 5 is variable, and as shown in FIG. 5, the pipe portion 17 connected to the exhaust passage 5 and the inside of the pipe portion 17 respectively. A plurality of (six in the figure) shutter plates 18 (shield members) accommodated so as to be rotatable. The shutter plates 18 are each formed in a long plate shape as shown in the drawing, and are arranged so that the side portions in the longitudinal direction overlap the adjacent shutter plates 18. Further, in a state in which all the shutter plates 18 are closed (side portions are overlapped), a shielding plate having a cross-sectional shape of the exhaust passage 5 is formed by all the shutter plates 18.
In the shutter plate 18, a synthetic resin member (not shown) is provided in a portion overlapping the adjacent shutter plate 18 so as to improve the sealing performance when the shutter plate 18 is closed.

また、各シャッター板18には、その長手方向に沿って回転軸19が設けられ、その回転軸19が管部17に回転自在に支持されることにより、シャッター板18が管部17内で回動可能に軸支されている。即ち、各シャッター板18の回動により、排気路5が閉状態(図5の状態)か、或いは開状態(図6の状態)のいずれかの状態になされる。
回転軸19の一端は外方へ突出しており、その端部に設けられた駆動軸20がモータ等の駆動手段(図示せず)により回転駆動して回転軸19を回転させ、シャッター板18が回動するようになされている。
Each shutter plate 18 is provided with a rotation shaft 19 along the longitudinal direction thereof, and the rotation shaft 19 is rotatably supported by the tube portion 17 so that the shutter plate 18 rotates in the tube portion 17. It is pivotally supported. That is, the exhaust passage 5 is brought into a closed state (state shown in FIG. 5) or an open state (state shown in FIG. 6) by the rotation of each shutter plate 18.
One end of the rotating shaft 19 protrudes outward. A driving shaft 20 provided at the end of the rotating shaft 19 is rotated by driving means (not shown) such as a motor to rotate the rotating shaft 19, and the shutter plate 18 is moved. It is designed to rotate.

各シャッター板18に対応する駆動軸20は、それぞれ独立して駆動制御される。これにより、所定のシャッター板18のみを開いた状態とし、シャッター板18の組み合わせにより排気路5の遮蔽面積を所望の状態として、減圧排気弁10を通過するガス流量を細かに調整することが可能となる。
尚、各シャッター板18は、その回転角度を微調整可能に駆動されることが好ましく、そのような構成であれば、ガス流量をより細かに調整することができる。
また、そのように遮蔽量調整部10Bにおいて、排気路5の遮蔽面積が可変な構成であるため、真空チャンバ2の容量に応じた最適な排気量(排気速度)に調整することが可能となる。
The drive shafts 20 corresponding to the shutter plates 18 are independently driven and controlled. As a result, only the predetermined shutter plate 18 is opened, the shielding area of the exhaust passage 5 is set to a desired state by the combination of the shutter plates 18, and the gas flow rate passing through the pressure reducing exhaust valve 10 can be finely adjusted. It becomes.
Each shutter plate 18 is preferably driven so that the rotation angle thereof can be finely adjusted. With such a configuration, the gas flow rate can be adjusted more finely.
Further, since the shielding area of the exhaust passage 5 is variable in the shielding amount adjusting unit 10B as described above, it is possible to adjust the optimum exhaust amount (exhaust speed) according to the capacity of the vacuum chamber 2. .

次に減圧装置の作用について説明する。処理室となる真空チャンバ2を減圧する場合、減圧開始時は、排気路5に設けた減圧排気弁10において、先ず、図7(a)に示すように遮蔽量調整部10Bの全てのシャッター板18が閉じられた状態から、図7(b)に示すように例えば中央のシャッター板18のみを回動させて開く。
さらに図7(b)に示すように、減圧排気弁10Aの開閉弁12を閉じた状態となし、真空ポンプ4を運転する。真空チャンバ2中のガスは、排気口2a、排気路5、減圧排気弁10Aの多孔質体部13、さらに流量調整機構10Bの開いたシャッター板18を介して真空ポンプ4に流れ、真空チャンバ2内は緩やかに減圧開始される。
Next, the operation of the decompression device will be described. When depressurizing the vacuum chamber 2 serving as a processing chamber, at the start of depressurization, first, in the depressurization exhaust valve 10 provided in the exhaust passage 5, as shown in FIG. From the closed state, as shown in FIG. 7B, for example, only the central shutter plate 18 is rotated and opened.
Further, as shown in FIG. 7B, the open / close valve 12 of the pressure reducing exhaust valve 10A is closed, and the vacuum pump 4 is operated. The gas in the vacuum chamber 2 flows to the vacuum pump 4 via the exhaust port 2a, the exhaust path 5, the porous body portion 13 of the pressure reducing exhaust valve 10A, and the shutter plate 18 opened by the flow rate adjusting mechanism 10B. The inside begins to be gradually decompressed.

所定時間経過後、或いは真空チャンバ2内が所定気圧に達すると、順次、他のシャッター板18を開き(図7(c)参照)、徐々にガス流量を増加させて、最後に図7(d)に示すように全てのシャッター板18を開いた状態とする。
このとき、フィルター弁10Aの多孔質体部13の外径が25mm、平均気孔径が5〜90μm、気孔率は30〜65%と適度なガス通気抵抗に設定されているので、真空チャンバ2内の急激な減圧が避けられて、パーティクルの舞い上がりが抑制され、緩やかに減圧を行うことができる。また、複数のシャッター板18を順次開くことによりガス流量を徐々に増加させ、減圧速度をより細かく調整することができる。
After a predetermined time has elapsed or when the inside of the vacuum chamber 2 reaches a predetermined atmospheric pressure, the other shutter plates 18 are opened sequentially (see FIG. 7C), the gas flow rate is gradually increased, and finally FIG. ) All the shutter plates 18 are opened as shown in FIG.
At this time, the outer diameter of the porous body portion 13 of the filter valve 10A is set to 25 mm, the average pore diameter is 5 to 90 μm, and the porosity is 30 to 65%. Thus, the sudden pressure reduction is avoided, the rise of particles is suppressed, and the pressure can be reduced gradually. Further, by sequentially opening the plurality of shutter plates 18, the gas flow rate can be gradually increased, and the decompression speed can be adjusted more finely.

そして、この緩やかな減圧工程の後、駆動軸15を回転させ、前記回動軸14を回動させることにより、開閉弁12を回動させて、開閉弁12を開く。
そして、この開閉弁12の開放により、減圧排気弁10の多孔質体部13の緩衝作用が弱められ、排気速度の速い状態での排気が行なわれる。
Then, after this gradual decompression step, the drive shaft 15 is rotated and the rotary shaft 14 is rotated, thereby rotating the on-off valve 12 and opening the on-off valve 12.
By opening the on-off valve 12, the buffering action of the porous body portion 13 of the decompression exhaust valve 10 is weakened, and the exhaust is performed at a high exhaust speed.

以上のように本発明に係る実施の形態によれば、真空チャンバ2の減圧開始時において、真空チャンバ2内のガスはフィルター弁10A(開閉弁12)の多孔質体部13を流れ、さらに遮蔽量調整部10Bにおける段階的な流量増加調整(遮蔽面積の調整)により、緩やか且つ細かに減圧速度が調整される。また、その緩やかな減圧工程の後、開閉弁12を開くことで排気速度を上げた排気を行うことができる。
したがって、真空チャンバ2の減圧処理において、チャンバ内の急激な減圧を確実に回避することができ、パーティクルの舞い上がりを抑制することができる。
As described above, according to the embodiment of the present invention, when the vacuum chamber 2 starts to be depressurized, the gas in the vacuum chamber 2 flows through the porous body portion 13 of the filter valve 10A (open / close valve 12) and is further shielded. The pressure reduction speed is adjusted gently and finely by the stepwise flow rate increase adjustment (adjustment of the shielding area) in the amount adjustment unit 10B. Further, after the gradual decompression step, exhaust at an increased exhaust speed can be performed by opening the on-off valve 12.
Therefore, in the decompression process of the vacuum chamber 2, sudden decompression in the chamber can be reliably avoided, and the rise of particles can be suppressed.

尚、前記実施の形態においては、遮蔽量調整部10Bで用いる遮蔽部材として、それぞれ開閉自在なシャッター板18の開閉状態を組み合わせて、排気路5の遮蔽量を調整するものとしたが、本発明にあっては、それに限定されるものではない。   In the embodiment described above, the shielding amount of the exhaust passage 5 is adjusted by combining the open / close state of the shutter plate 18 that can be opened and closed as the shielding member used in the shielding amount adjusting unit 10B. However, it is not limited to that.

例えば、遮蔽量調整部10Bに代え、図8(a)乃至図8(c)に模式的に示すようなカメラの絞り構造に近い構造を有する遮蔽量調整部10Cを排気路5中に設け、減圧排気弁10における遮蔽量調整部として用いてもよい。
図8(a)は、遮蔽量調整部10Cの平面図であって、閉じた状態を示し、図8(b)は、少し開いた状態を示す図、図8(c)は完全に開いた状態を示す図である。
For example, instead of the shielding amount adjusting unit 10B, a shielding amount adjusting unit 10C having a structure close to the diaphragm structure of the camera as schematically shown in FIGS. 8A to 8C is provided in the exhaust passage 5, You may use as a shielding amount adjustment part in the pressure reduction exhaust valve 10.
8A is a plan view of the shielding amount adjusting unit 10C, showing a closed state, FIG. 8B is a diagram showing a slightly opened state, and FIG. 8C is completely opened. It is a figure which shows a state.

図示するように、この遮蔽量調整部10Cは、複数(図では6枚)の羽根部材21(遮蔽部材)と、各羽根部材21に形成された細長いカム穴21aにそれぞれ係合する複数のピン23とを有する。各羽根部材21は回転軸22を軸に回動自在に設けられ、ピン23は図8(a)に一点鎖線で示す軌道に沿って移動可能となされている。   As shown in the figure, the shielding amount adjusting unit 10C includes a plurality of (six in the figure) blade members 21 (shielding members) and a plurality of pins that engage with elongated cam holes 21a formed in each blade member 21, respectively. 23. Each blade member 21 is provided so as to be rotatable about a rotation shaft 22, and the pin 23 is movable along a track indicated by a one-dot chain line in FIG.

この構成により、例えば図8(a)に示す閉状態から、ピン23が駆動手段(図示せず)により前記軌道に沿って移動すると、羽根部材21がカム穴21aに沿って回動して図8(b)に示すように開口部25が生じる。この開口部25は、前記ピン23の移動に伴い徐々に大きくなり、最後には図8(c)に示す完全な開状態となる。
即ち、ピン23の移動量を制御することにより、羽根部材21の組み合わせ状態が変化し、その開口部25の大きさが決定されるため、開排気路5の遮蔽量を調整することが可能となる。
With this configuration, for example, when the pin 23 is moved along the track by the driving means (not shown) from the closed state shown in FIG. 8A, the blade member 21 is rotated along the cam hole 21a. As shown in FIG. 8B, the opening 25 is generated. The opening 25 gradually increases with the movement of the pin 23 and finally becomes a complete open state as shown in FIG.
That is, by controlling the movement amount of the pin 23, the combination state of the blade member 21 is changed, and the size of the opening 25 is determined. Therefore, the shielding amount of the open exhaust path 5 can be adjusted. Become.

尚、上記実施形態にあっては、減圧排気弁を、排気路を一つしか有しない減圧装置に搭載した場合を例にとって説明したが、従来のように二つの排気路を備える減圧装置にも、当然に搭載することができる。   In the above embodiment, the case where the pressure reducing exhaust valve is mounted on a pressure reducing device having only one exhaust passage has been described as an example, but a pressure reducing device having two exhaust passages as in the prior art is also described. Of course, it can be installed.

図1は本発明にかかる減圧装置の概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a decompression device according to the present invention. 図2は本発明にかかる減圧排気弁を示す側断面図である。FIG. 2 is a side sectional view showing a pressure reducing exhaust valve according to the present invention. 図3は図2の減圧排気弁が備えるフィルター弁の正面図であって、開閉体が閉じた状態を示す図である。FIG. 3 is a front view of the filter valve provided in the pressure reducing exhaust valve of FIG. 2 and shows a state in which the opening / closing body is closed. 図4は図3のフィルター弁において開閉弁が開いた状態を示す図である。4 is a view showing a state in which the on-off valve is opened in the filter valve of FIG. 図5は図2の減圧排気弁が備える遮蔽調整部の平面図であって、シャッター板が閉じた状態を示す図である。FIG. 5 is a plan view of the shielding adjusting portion provided in the pressure reducing exhaust valve of FIG. 2 and shows a state in which the shutter plate is closed. 図6は図5の遮蔽量調整部が有するシャッター板が開いた状態を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a state in which the shutter plate included in the shielding amount adjusting unit in FIG. 5 is opened. 図7は本発明にかかる減圧排気弁の動作例を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing an operation example of the pressure reducing exhaust valve according to the present invention. 図8は、遮蔽調整部の他の形態を模式的に示す図である。FIG. 8 is a diagram schematically illustrating another form of the shielding adjustment unit. 図9は、従来の減圧装置を示す概略構成図である。FIG. 9 is a schematic configuration diagram showing a conventional decompression device. 図10は、他の従来の減圧装置を示す概略構成図である。FIG. 10 is a schematic configuration diagram showing another conventional decompression device. 図11は、本願出願人が先に提案した減圧装置を示す概略構成図である。FIG. 11 is a schematic configuration diagram showing the decompression device previously proposed by the applicant of the present application.

符号の説明Explanation of symbols

1 減圧装置
2 真空チャンバ
2a 排気口
3 排気機構
4 真空ポンプ
5 排気路
10 減圧排気弁
10A フィルター弁
10B 遮蔽量調整部
11 管部
12 開閉弁
12a リング部
13 多孔質体部
14 回動軸
14a ギヤ部
15 駆動軸
15a ギヤ部
16 ケーシング
17 管部
18 シャッター板(遮蔽部材)
19 回転軸
20 駆動軸
21 羽根部材(遮蔽部材)
21a カム穴
22 回転軸
23 ピン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pressure reducing device 2 Vacuum chamber 2a Exhaust port 3 Exhaust mechanism 4 Vacuum pump 5 Exhaust passage 10 Pressure reducing exhaust valve 10A Filter valve 10B Shielding amount adjusting part 11 Pipe part 12 On-off valve 12a Ring part 13 Porous body part 14 Rotating shaft 14a Gear Part 15 Drive shaft 15a Gear part 16 Casing 17 Pipe part 18 Shutter plate (shielding member)
19 Rotating shaft 20 Drive shaft 21 Blade member (shielding member)
21a Cam hole 22 Rotating shaft 23 Pin

Claims (6)

一端が真空チャンバに連通し、他端が真空ポンプに連通する排気路中に取付けられる減圧排気弁において、
前記減圧排気弁が、前記排気路に接続される管部と、前記管部内に収容された、前記排気路を開閉する開閉弁と、前記開閉弁に設けられた、通気孔を有する多孔質体部と、前記開閉弁の上流側または下流側の排気路中に設けられ、排気路の遮蔽面積が可変となされた遮蔽量調整部とを備えることを特徴とする減圧排気弁。
In a pressure reducing exhaust valve attached to an exhaust path having one end communicating with a vacuum chamber and the other end communicating with a vacuum pump,
The pressure reducing exhaust valve is a porous body having a pipe part connected to the exhaust path, an open / close valve that opens and closes the exhaust path, and a vent hole provided in the open / close valve. And a shielding amount adjusting unit provided in an exhaust path upstream or downstream of the on-off valve and having a variable shielding area of the exhaust path.
前記遮蔽量調整部は、複数の遮蔽部材の組み合わせにより排気路の遮蔽面積を可変とすることを特徴とする請求項1に記載された減圧排気弁。   The pressure reducing exhaust valve according to claim 1, wherein the shielding amount adjusting unit makes the shielding area of the exhaust passage variable by a combination of a plurality of shielding members. 前記減圧排気弁の多孔質体部が、攪拌起泡によって形成されたセラミックス多孔質焼結体であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の減圧排気弁。   The reduced pressure exhaust valve according to claim 1 or 2, wherein the porous body portion of the reduced pressure exhaust valve is a ceramic porous sintered body formed by stirring foaming. 真空チャンバと、この真空チャンバ内を減圧する排気機構を備えた減圧装置において、
前記排気機構は、一端が前記真空チャンバに連通し、他端が真空ポンプに連通する排気路と、前記排気路中に取付けられた減圧排気弁とを有し、
前記減圧排気弁は、前記排気路に接続される管部と、前記管部内に収容された、前記排気路を開閉する開閉弁と、前記開閉弁に設けられた、通気孔を有する多孔質体部と、前記開閉弁の上流側または下流側の排気路中に設けられ、排気路の遮蔽面積が可変となされた遮蔽量調整部とを備えることを特徴とする減圧装置。
In a decompression device including a vacuum chamber and an exhaust mechanism for decompressing the inside of the vacuum chamber,
The exhaust mechanism has an exhaust passage having one end communicating with the vacuum chamber and the other end communicating with a vacuum pump, and a pressure reducing exhaust valve attached in the exhaust passage,
The decompression exhaust valve includes a pipe portion connected to the exhaust passage, an on-off valve that opens and closes the exhaust passage, and a porous body that is provided in the on-off valve and has a vent hole. And a shielding amount adjusting unit provided in an exhaust passage upstream or downstream of the on-off valve and having a variable shielding area of the exhaust passage.
前記遮蔽量調整部は、複数の遮蔽部材の組み合わせにより排気路の遮蔽面積を可変とすることを特徴とする請求項4に記載された減圧装置。   The decompression device according to claim 4, wherein the shielding amount adjusting unit makes the shielding area of the exhaust passage variable by a combination of a plurality of shielding members. 前記減圧排気弁の多孔質体部が、攪拌起泡によって形成されたセラミックス多孔質焼結体であることを特徴とする請求項4または請求項5に記載の減圧装置。   6. The decompression apparatus according to claim 4, wherein the porous body portion of the decompression exhaust valve is a ceramic porous sintered body formed by stirring foaming.
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