JP2010111656A - Method for producing thebaine derivative - Google Patents

Method for producing thebaine derivative Download PDF

Info

Publication number
JP2010111656A
JP2010111656A JP2009230355A JP2009230355A JP2010111656A JP 2010111656 A JP2010111656 A JP 2010111656A JP 2009230355 A JP2009230355 A JP 2009230355A JP 2009230355 A JP2009230355 A JP 2009230355A JP 2010111656 A JP2010111656 A JP 2010111656A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
producing
compound
general formula
thebaine
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009230355A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tadahiro Takeda
斉大 武田
Takashi Takita
崇 瀧田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daiichi Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Daiichi Sankyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daiichi Sankyo Co Ltd filed Critical Daiichi Sankyo Co Ltd
Priority to JP2009230355A priority Critical patent/JP2010111656A/en
Publication of JP2010111656A publication Critical patent/JP2010111656A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for efficiently producing a thebaine derivative which is important compound as an intermediate for synthesizing pharmaceuticals. <P>SOLUTION: The method for producing the thebaine derivative (I) is provided, including the following process: a codeinone derivative is subjected to (i) an acetalization step, (ii) a solvent-distilling-out step and (iii) a dealcoholization step. A thebaine/methanesulfonate salt crystal having characteristic(s) in peaks 10 or greater in relative intensity in the powder X-ray diffractometry (CuKα, λ=1.54 Å). In the formula (I), R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>are each independently 1-6C alkyl, 1-6C alkylcarbonyl or 7-11C aralkyl; and R<SP>3</SP>is 1-6C alkyl. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、医薬品の合成中間体として重要な化合物であるテバイン誘導体の効率的な製造方法に関する。   The present invention relates to an efficient method for producing a thebaine derivative, which is an important compound as a pharmaceutical intermediate.

オキシコドンは、オピオイド受容体にはたらき鎮痛作用を示すアルカロイド系の鎮痛剤の一種であり、アヘンに含まれる成分のテバインから合成される。オキシコドンは、臨床において中から高程度の疼痛を緩和するために用いられ、モルヒネに比べてμ2受容体への親和性が弱いとも言われており、便秘や吐き気などの副作用が少ないとされる。
また、麻薬性鎮咳薬として臨床に用いられているオキシメテバノールの合成は、以下に示すスキーム1によって合成されることが知られているが、この場合にも、テバインが重要な合成中間体となる。
以上のように、テバインは医薬品の重要な合成中間体であることから、工業的に利用可能な効率のよい製造方法の開発が望まれている。
Oxycodone is a kind of alkaloid-type analgesic that acts on opioid receptors and exhibits analgesic action, and is synthesized from thebaine, a component contained in opium. Oxycodone is used to relieve moderate to high pain in clinical practice, and is said to have less affinity for μ2 receptors than morphine, and is considered to have fewer side effects such as constipation and nausea.
In addition, it is known that oxymethebanol, which is clinically used as a narcotic antitussive, is synthesized according to Scheme 1 below. In this case, thebaine is an important synthetic intermediate. Become.
As described above, since thebaine is an important synthetic intermediate for pharmaceuticals, development of an efficient production method that can be used industrially is desired.

Figure 2010111656
Figure 2010111656

これまでに、テバインの製造方法についての研究が報告されており、例えば、米国特許第6,958,398号によれば以下のスキーム2に示すように、コデイノンをオルトギ酸トリメチル、メタンスルホン酸の存在下、加熱して製造する方法が報告されている(特許文献1参照)。   So far, research on the production method of thebaine has been reported. For example, according to US Pat. No. 6,958,398, codeinone is converted into trimethyl orthoformate, methanesulfonic acid as shown in Scheme 2 below. A method for producing by heating in the presence has been reported (see Patent Document 1).

Figure 2010111656
Figure 2010111656

米国特許第6,958,398号明細書US Pat. No. 6,958,398

医薬品の重要な合成中間体であるテバインを、工業的に利用可能で効率のよい製造方法を提供することが課題である。   The problem is to provide an efficient production method for industrially available thebaine, which is an important synthetic intermediate for pharmaceuticals.

本発明者は、一般式(I)を有する化合物

Figure 2010111656
The present inventor is a compound having the general formula (I)
Figure 2010111656

[式中、RおよびRは、それぞれ独立して、C1−C6アルキル基、C1−C6アルキルカルボニル基又はC7−C11アラルキル基を示し、Rは、C1−C6アルキル基を示す。]
であるテバイン誘導体の製造方法について長年に渡り鋭意研究を行ってきた。その結果、これまで問題となっていた欠点を克服して、工業的に利用可能な優れたテバイン誘導体の製造方法を見出して、本発明を完成した。すなわち、本発明によれば、通常90℃程度の高温の反応温度が必要とされるところ、より実用性が高いとされる温度でも反応を速やかに進行させることができる。また、本発明によれば、より低温かつ短時間で反応完結する事から、通常、高温条件で危惧される分解等を抑制し、収率を向上させることができる。また、以上のような改善点により、工業的生産時の加熱に要するエネルギーの削減、製造期間の短縮、収率向上による生産効率の向上が見込まれる。
[Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkylcarbonyl group or a C7-C11 aralkyl group, and R 3 represents a C1-C6 alkyl group. ]
We have conducted extensive research on the production methods of thebaine derivatives. As a result, the present inventors have completed the present invention by overcoming the drawbacks that have been problematic so far and finding a method for producing an excellent thebaine derivative that can be used industrially. That is, according to the present invention, a reaction temperature as high as about 90 ° C. is usually required, but the reaction can be rapidly advanced even at a temperature that is considered to be more practical. Further, according to the present invention, since the reaction is completed at a lower temperature and in a shorter time, it is possible to suppress decomposition or the like which is usually a concern under high temperature conditions and improve the yield. In addition, due to the above improvements, production efficiency can be expected to be reduced by reducing energy required for heating during industrial production, shortening the manufacturing period, and increasing yield.

本発明は、
(1):一般式(I)を有する化合物

Figure 2010111656
The present invention
(1): Compound having general formula (I)
Figure 2010111656

[式中、RおよびRは、それぞれ独立して、C1−C6アルキル基、C1−C6アルキルカルボニル基又はC7−C11アラルキル基を示し、Rは、C1−C6アルキル基を示す。]を製造する方法であって、 [Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkylcarbonyl group or a C7-C11 aralkyl group, and R 3 represents a C1-C6 alkyl group. A process for producing

一般式(II)を有する化合物

Figure 2010111656
Compound having general formula (II)
Figure 2010111656

[式中、RおよびRは、それぞれ独立して、C1−C6アルキル基、C1−C6アルキルカルボニル基又はC7−C11アラルキル基を示す。]を、
(i)オルトギ酸トリメチル、オルトギ酸トリエチル、ジメトキシプロパン又はジエトキシプロパンから選ばれる1種のアセタール化試薬とメタンスルホン酸の存在下、アルコール中加熱する工程であるアセタール化工程と、
(ii)溶媒を加えた後、濃縮する工程である溶媒留去工程と、
(iii)無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸又は無水トリフルオロ酢酸から選ばれる1種のカルボン酸無水物を加えた後、溶媒中加熱する工程である脱アルコール工程によって、
一般式(I)を有する化合物を製造する方法であり、
好適には、
(2):R、R及びRが、それぞれ独立して、メチル基又はエチル基である、(1)に記載の一般式(I)を有する化合物を製造する方法、
(3):R、R及びRが、メチル基である、(1)に記載の一般式(I)を有する化合物を製造する方法、
(4):アセタール化工程におけるアセタール化試薬がオルトギ酸トリメチルである、(1)に記載の一般式(I)を有する化合物を製造する方法、
(5):アセタール化工程におけるアルコールがメタノールである、(1)に記載の一般式(I)を有する化合物を製造する方法、
(6):溶媒留去工程及び脱アルコール工程における溶媒がアセトニトリルである、(1)に記載の一般式(I)を有する化合物を製造する方法、及び、
(7):脱アルコール工程におけるカルボン酸無水物が無水酢酸である、(1)に記載の一般式(I)を有する化合物を製造する方法、
(8):(iii)の脱アルコール工程において、さらにメタンスルホン酸を加えることを特徴とする、請求項1に記載の一般式(I)を有する化合物を製造する方法、
[Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkylcarbonyl group, or a C7-C11 aralkyl group. ]
(I) an acetalization step which is a step of heating in alcohol in the presence of one acetalization reagent selected from trimethyl orthoformate, triethyl orthoformate, dimethoxypropane or diethoxypropane and methanesulfonic acid;
(Ii) a solvent distillation step, which is a step of adding a solvent and then concentrating;
(Iii) by adding a carboxylic acid anhydride selected from acetic anhydride, propionic anhydride, benzoic anhydride or trifluoroacetic anhydride, followed by a dealcoholization step which is a step of heating in a solvent,
A process for producing a compound having the general formula (I)
Preferably,
(2): A method for producing a compound having the general formula (I) according to (1), wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently a methyl group or an ethyl group,
(3): A method for producing a compound having the general formula (I) according to (1), wherein R 1 , R 2 and R 3 are methyl groups,
(4): A method for producing a compound having the general formula (I) according to (1), wherein the acetalizing reagent in the acetalization step is trimethyl orthoformate,
(5): A method for producing a compound having the general formula (I) according to (1), wherein the alcohol in the acetalization step is methanol,
(6): A method for producing a compound having the general formula (I) according to (1), wherein the solvent in the solvent distillation step and the dealcoholization step is acetonitrile, and
(7): A method for producing a compound having the general formula (I) according to (1), wherein the carboxylic acid anhydride in the dealcoholization step is acetic anhydride,
(8): In the dealcoholization step of (iii), methanesulfonic acid is further added, The method for producing the compound having the general formula (I) according to claim 1,

(9):(1)に記載の一般式(I)を有する化合物

Figure 2010111656
(9): Compound having general formula (I) as described in (1)
Figure 2010111656

[式中、RおよびRは、それぞれ独立して、C1−C6アルキル基、C1−C6アルキルカルボニル基又はC7−C11アラルキル基を示し、Rは、C1−C6アルキル基を示す。]の製造方法において、加熱反応終了後、
(i)減圧下濃縮し、
(ii)残渣にC1−C6アルキルエステルを添加した後、
(iii)結晶を析出させることによって、
テバイン/メタンスルホン酸塩結晶を製造する方法、
(10):C1−C6アルキルエステルが、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブチル、ブタン酸メチル、ブタン酸エチル及びブタン酸プロピルからなるいずれかである、(9)に記載のテバイン/メタンスルホン酸塩結晶を製造する方法、
(11):C1−C6アルキルエステルが、酢酸メチル、酢酸エチル又は酢酸プロピルである、(9)に記載のテバイン/メタンスルホン酸塩結晶を製造する方法、
(12):(9)で得られたテバイン/メタンスルホン酸塩結晶を用いて、純度98%以上のテバインを製造する方法及び
(13):粉末X線回折(Cu Kα、λ=1.54オングストローム)での相対強度10以上のピークが以下の表で表されるテバイン/メタンスルホン酸塩結晶
[Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkylcarbonyl group or a C7-C11 aralkyl group, and R 3 represents a C1-C6 alkyl group. ] After the completion of the heating reaction,
(I) Concentrate under reduced pressure,
(Ii) After adding the C1-C6 alkyl ester to the residue,
(Iii) by precipitating crystals,
A method for producing thebaine / methanesulfonate crystals,
(10): C1-C6 alkyl ester is methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, propyl propionate, butyl propionate, methyl butanoate, ethyl butanoate and propyl butanoate A method for producing the thebaine / methanesulfonate crystals according to (9),
(11): The method for producing thebaine / methanesulfonate crystals according to (9), wherein the C1-C6 alkyl ester is methyl acetate, ethyl acetate or propyl acetate,
(12): A method for producing thebaine having a purity of 98% or more using the thebaine / methanesulfonate crystal obtained in (9), and (13): powder X-ray diffraction (Cu Kα, λ = 1.54 Å) Thebaine / methanesulfonate crystals with a relative intensity of 10 or higher

Figure 2010111656
である。
Figure 2010111656
It is.

本発明の「C1−C6アルキル基」は、直鎖又は分岐鎖の炭素数が1−6個であるアルキル基であり、好適には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基であり、さらに好適には、メチル基又はエチル基であり、さらに特に好適には、メチル基である。   The “C1-C6 alkyl group” of the present invention is a linear or branched alkyl group having 1-6 carbon atoms, preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group. , An isobutyl group, a sec-butyl group or a tert-butyl group, more preferably a methyl group or an ethyl group, and particularly preferably a methyl group.

本発明の「C1−C6アルキルカルボニル基」は、上述のC1−C6アルキル基にカルボニル基が結合した基又はホルミル基であり、好適には、ホルミル基又はアセチル基であり、さらに好適には、アセチル基である。   The “C1-C6 alkylcarbonyl group” of the present invention is a group in which a carbonyl group is bonded to the above-mentioned C1-C6 alkyl group or a formyl group, preferably a formyl group or an acetyl group, more preferably An acetyl group.

本発明の「C7−C11アラルキル基」は、フェニル基又はナフタレン基にメチル基が結合した基であり、好適には、ベンジル基である。   The “C7-C11 aralkyl group” of the present invention is a group in which a methyl group is bonded to a phenyl group or a naphthalene group, and is preferably a benzyl group.

本発明の「C1−C6アルキルエステル」は、C1−C6アルキル基とC1−C6アルキルカルボン酸のエステルであり、好適には、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブチル、ブタン酸メチル、ブタン酸エチル又はブタン酸プロピルであり、より好適には、酢酸メチル、酢酸エチル又は酢酸プロピルであり、特に好適には、酢酸エチルである。   The “C1-C6 alkyl ester” of the present invention is an ester of a C1-C6 alkyl group and a C1-C6 alkyl carboxylic acid, preferably methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, propion Ethyl acid, propyl propionate, butyl propionate, methyl butanoate, ethyl butanoate or propyl butanoate, more preferably methyl acetate, ethyl acetate or propyl acetate, particularly preferably ethyl acetate .

(1)本発明の(i)アセタール化工程について
使用する溶媒であるアルコールは、好適には、メタノール又はエタノールであり、さらに好適には、メタノールである。
使用するアルコールの量は、体積量で、原料化合物の1−10倍であり、好適には、1−5倍である。
使用するアセタール化試薬の使用量は、好適には、1−10当量であり、さらに好適には、2−4当量である。
使用するメタンスルホン酸の使用量は、好適には、1−5当量であり、さらに好適には、1.1−1.3当量である。
反応温度は、好適には、20−80℃であり、さらに好適には、40−50℃である。
反応時間は、通常、5時間程度であり、その反応の進行は、HPLCで確認することができる。
(1) About the (i) acetalization process of this invention The alcohol which is a solvent to be used is preferably methanol or ethanol, and more preferably methanol.
The amount of alcohol to be used is 1 to 10 times, preferably 1 to 5 times that of the raw material compound, by volume.
The amount of the acetalizing reagent used is preferably 1-10 equivalents, more preferably 2-4 equivalents.
The amount of methanesulfonic acid used is preferably 1-5 equivalents, and more preferably 1.1-1.3 equivalents.
The reaction temperature is preferably 20-80 ° C, more preferably 40-50 ° C.
The reaction time is usually about 5 hours, and the progress of the reaction can be confirmed by HPLC.

(2)本発明の(ii)溶媒留去工程について
使用する溶媒は、プロトン性溶媒でなければ特に限定はないが、好適には、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、アセトン、酢酸エチル、トルエン、ジメチルホルムアミド又はジメチルスルホキシド、さらに好適には、アセトニトリルである。
濃縮は、体積量で、原料化合物の7倍以下であり、好適には、5倍以下である。
(2) (ii) Solvent distillation step of the present invention The solvent used is not particularly limited as long as it is not a protic solvent, but is preferably acetonitrile, tetrahydrofuran, acetone, ethyl acetate, toluene, dimethylformamide or dimethyl. Sulfoxide, more preferably acetonitrile.
Concentration is 7 times or less, preferably 5 times or less, of the raw material compound by volume.

(3)本発明の(iii)脱アルコール工程について
使用する溶媒は、プロトン性溶媒でなければ特に限定はないが、好適には、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、アセトン、酢酸エチル、トルエン、ジメチルホルムアミド又はジメチルスルホキシド、さらに好適には、アセトニトリルである。
(3) Regarding the (iii) dealcoholization step of the present invention, the solvent used is not particularly limited as long as it is not a protic solvent, but is preferably acetonitrile, tetrahydrofuran, acetone, ethyl acetate, toluene, dimethylformamide or dimethyl sulfoxide. More preferably, it is acetonitrile.

使用する溶媒の量は、体積量で、原料化合物の1−5倍であり、好適には、1−3倍である。
使用する無水酢酸の量は、好適には、1−10当量であり、さらに好適には、3−5当量である。
反応温度は、好適には、40−100℃であり、さらに好適には、60−70℃である。
反応時間は、通常、3時間程度であり、その反応の進行は、HPLCで確認することができる。
The amount of the solvent to be used is 1-5 times, preferably 1-3 times that of the raw material compound by volume.
The amount of acetic anhydride used is preferably 1-10 equivalents, more preferably 3-5 equivalents.
The reaction temperature is preferably 40-100 ° C, more preferably 60-70 ° C.
The reaction time is usually about 3 hours, and the progress of the reaction can be confirmed by HPLC.

本発明によれば、通常90℃程度の高温の反応温度が必要とされるところ、より実用性が高いとされる温度でも反応を速やかに進行させることができる。また、本発明によれば、より低温かつ短時間で反応完結する事から、通常、高温条件で危惧される分解等を抑制し、収率を向上させることができる。また、以上のような改善点により、工業的生産時の加熱に要するエネルギーの削減、製造期間の短縮、収率向上による生産効率の向上が見込まれることから、本発明は有用である。
また、コデイノンからテバインを製造する場合に、テバインをメタンスルホン酸の塩の結晶としてから、テバインに変換することによって、高純度のテバインが得られることから有用である。
According to the present invention, a reaction temperature as high as about 90 ° C. is usually required, but the reaction can proceed rapidly even at a temperature that is considered to be more practical. Further, according to the present invention, since the reaction is completed at a lower temperature and in a shorter time, it is possible to suppress decomposition or the like which is usually a concern under high temperature conditions and improve the yield. In addition, the present invention is useful because the above-described improvements are expected to reduce the energy required for heating during industrial production, shorten the production period, and improve production efficiency by increasing yield.
Further, when thebaine is produced from codeinone, it is useful since thebaine is converted into thebaine after the thebaine is converted into a crystal of a salt of methanesulfonic acid to obtain a high-purity thebaine.

以下に参考例及び実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The present invention will be specifically described below with reference examples and examples, but the present invention is not limited thereto.

(参考例1)コデインからコデイノンの合成
コデイン(50.0g,167mmol)に酢酸エチル(600mL)、シクロヘキサノン(150mL)を加え濃縮した後、アルミニウムイソプロポキシド(8.5g,42mmol)を加え還流するまで加熱した。2時間撹拌後、水(200mL)と濃塩酸(20.3g)を加えて水層を分離し、乳酸(19.5g)とクロロホルム(250mL)を加えた後、水酸化ナトリウム水溶液を加え、pHを7〜9に調整した。有機層を分離後、イソプロピルアルコール(250mL)を加え、減圧下濃縮し、0〜5℃に冷却した。懸濁液をろ別し、イソプロピルアルコール(100mL)で洗浄した後、得られた結晶を減圧下40℃で乾燥し、コデイノン(38.4g)を得た(収率77%)。
(Reference Example 1) Synthesis of codeine from codeine Ethyl acetate (600 mL) and cyclohexanone (150 mL) were added to codeine (50.0 g, 167 mmol) and concentrated, and then aluminum isopropoxide (8.5 g, 42 mmol) was added and heated to reflux. did. After stirring for 2 hours, water (200 mL) and concentrated hydrochloric acid (20.3 g) were added to separate the aqueous layer, lactic acid (19.5 g) and chloroform (250 mL) were added, and then an aqueous sodium hydroxide solution was added to adjust the pH to 7 Adjusted to ~ 9. After separating the organic layer, isopropyl alcohol (250 mL) was added, concentrated under reduced pressure, and cooled to 0-5 ° C. The suspension was filtered and washed with isopropyl alcohol (100 mL), and the obtained crystals were dried at 40 ° C. under reduced pressure to obtain codeinone (38.4 g) (yield 77%).

(実施例1)コデイノンからテバイン/メタンスルホン酸塩結晶の合成

Figure 2010111656
Example 1 Synthesis of Thebaine / Methanesulfonate Crystal from Codeinone
Figure 2010111656

コデイノン(32.0g,108mmol)のメタノール(32mL)、オルトギ酸トリメチル(22.8g,215mmol)の懸濁液にメタンスルホン酸(12.4g,129mmol)を加え、40〜50℃に加熱した。6時間撹拌後、トルエン(96mL)を加え、減圧下濃縮した。残渣にアセトニトリル(160mL)、メタンスルホン酸(1.0g,10mmol)、無水酢酸(8.2g,80mmol)を加え、70〜75℃に加熱した。4時間撹拌後、減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチル(320mL)を加えた。更に減圧下濃縮した後、残渣に酢酸エチル(320mL)を加え35〜45℃に加熱し30分撹拌した。懸濁液を0〜5℃に冷却してろ別し、酢酸エチル(64mL)で洗浄後、得られた結晶を減圧下40℃で乾燥し、テバイン/メタンスルホン酸塩結晶(38.6g)を得た(収率88%)。 Methanesulfonic acid (12.4 g, 129 mmol) was added to a suspension of codeinone (32.0 g, 108 mmol) in methanol (32 mL) and trimethyl orthoformate (22.8 g, 215 mmol) and heated to 40-50 ° C. After stirring for 6 hours, toluene (96 mL) was added, and the mixture was concentrated under reduced pressure. Acetonitrile (160 mL), methanesulfonic acid (1.0 g, 10 mmol) and acetic anhydride (8.2 g, 80 mmol) were added to the residue and heated to 70-75 ° C. After stirring for 4 hours, the mixture was concentrated under reduced pressure, and ethyl acetate (320 mL) was added to the residue. After further concentration under reduced pressure, ethyl acetate (320 mL) was added to the residue, and the mixture was heated to 35 to 45 ° C. and stirred for 30 minutes. The suspension was cooled to 0-5 ° C., filtered and washed with ethyl acetate (64 mL). The obtained crystals were dried at 40 ° C. under reduced pressure to give thebaine / methanesulfonate crystals (38.6 g). (Yield 88%).

(1-1)実施例1で得られたテバイン/メタンスルホン酸塩結晶の粉末X線回折測定
粉末X線回折(Cu Kα、λ=1.54オングストローム)での相対強度10以上のピークを表2に示す。
(1-1) Powder X-ray diffraction measurement of thebaine / methanesulfonate crystals obtained in Example 1 Table 2 shows peaks with relative intensities of 10 or more in powder X-ray diffraction (Cu Kα, λ = 1.54 Å). Show.

Figure 2010111656
Figure 2010111656

(1-2)実施例1で得られたテバイン/メタンスルホン酸塩結晶のNMR測定
1H-NMR (CDCl3, 500MHz) δ: 1.97 (1H, dd, J = 14.0, 3.1 Hz), 2.30-2.35 (1H, m), 2.85 (3H, s), 3.00 (3H, s), 3.16-3.21 (1H, m), 3.31 (1H, dd, J = 19.5, 7.1 Hz), 3.64-3.76 (5H, m), 3.87 (3H, s), 4.30 (1H, d, J = 7.4 Hz), 5.11 (1H, d, J = 6.7 Hz), 5.35 (1H, s), 5.91 (1H, d, J = 6.7 Hz), 6.73 (2H, dd, J= 23.3, 8.2 Hz), 11.40 (1H, s).
(1-2) NMR measurement of thebaine / methanesulfonate crystals obtained in Example 1
1 H-NMR (CDCl 3 , 500 MHz) δ: 1.97 (1H, dd, J = 14.0, 3.1 Hz), 2.30-2.35 (1H, m), 2.85 (3H, s), 3.00 (3H, s), 3.16 -3.21 (1H, m), 3.31 (1H, dd, J = 19.5, 7.1 Hz), 3.64-3.76 (5H, m), 3.87 (3H, s), 4.30 (1H, d, J = 7.4 Hz), 5.11 (1H, d, J = 6.7 Hz), 5.35 (1H, s), 5.91 (1H, d, J = 6.7 Hz), 6.73 (2H, dd, J = 23.3, 8.2 Hz), 11.40 (1H, s ).

(実施例2)テバイン/メタンスルホン酸塩結晶からテバインの合成

Figure 2010111656
(Example 2) Synthesis of thebaine from thebaine / methanesulfonate crystals
Figure 2010111656

テバイン/メタンスルホン酸塩結晶(36.2g)に水(224mL)、メタノール(96mL)を加え溶解した後、アンモニア水溶液を加えpH7.5〜8.5に調整した。室温で1.5時間撹拌後、懸濁液をろ別し、30%メタノール水溶液(64mL)で洗浄後、得られた結晶を減圧下40℃で乾燥し、テバイン(27.4g)を得た(収率99%)。 Water (224 mL) and methanol (96 mL) were added and dissolved in thebaine / methanesulfonate crystals (36.2 g), and then an aqueous ammonia solution was added to adjust the pH to 7.5 to 8.5. After stirring at room temperature for 1.5 hours, the suspension was filtered and washed with 30% aqueous methanol (64 mL), and the resulting crystals were dried at 40 ° C. under reduced pressure to give thebaine (27.4 g) (yield) 99%).

(2-1)実施例2で得られたテバインの不純物定性分析
実施例2で得られたテバインを下記の条件で分析した。テバイン/メタンスルホン酸塩結晶を経由して得られたテバインの面積%は98.2%であった。0.1%以上のピークについて、メタンスルホン酸塩結晶を経由しないテバインとの品質比較を表3に示す。
試料溶解液:リン酸緩衝液(pH3.0)/テトラヒドロフラン (240/70)
テバイン約0.050gを試料希釈液で溶解して正確に50mLとした。この液を正確に5mL量り取り、試料溶解液を加え正確に50mLとした。これを試料溶液として5μL用い、高速液体クロマトグラフィー分析を下記の条件で実施した。(この条件でテバインは10〜11分の保持時間を示す)
カラム:L-Column ODS 3.0mmI.D.×100mm 3μm
移動相:ラウリル硫酸ナトリウム(1.0g)に薄めたリン酸(1/1000, 500mL)を加えて溶かした後、水酸化ナトリウム試液でpH3.0に調整し、この液(240mL)にテトラヒドロフラン(70mL)を加えて混和したもの
流量:約0.5mL/分の一定流量(テバインが10.5分になるよう調整)
検出器:紫外吸光光度計(測定波長210nm)
カラム温度:40℃付近の一定温度
計算方法:各ピーク面積/全ピーク面積×100%
(2-1) Impurity qualitative analysis of thebaine obtained in Example 2 Thebaine obtained in Example 2 was analyzed under the following conditions. The area percent of thebaine obtained via thebaine / methanesulfonate crystals was 98.2%. Table 3 shows a comparison of the quality of the peak of 0.1% or more with thebaine that does not pass through the methanesulfonate crystal.
Sample solution: phosphate buffer (pH 3.0) / tetrahydrofuran (240/70)
About 0.050 g of thebaine was dissolved in the sample diluent to make exactly 50 mL. This solution was accurately weighed in 5 mL, and a sample solution was added to make exactly 50 mL. Using 5 μL of this as a sample solution, high performance liquid chromatography analysis was performed under the following conditions. (Thebaine shows a retention time of 10-11 minutes under these conditions)
Column: L-Column ODS 3.0mmI.D. × 100mm 3μm
Mobile phase: Dissolved by adding diluted phosphoric acid (1/1000, 500 mL) to sodium lauryl sulfate (1.0 g), adjusted to pH 3.0 with sodium hydroxide test solution, and then adding tetrahydrofuran (70 mL) to this solution (240 mL) ) Added and mixed Flow rate: Constant flow rate of about 0.5 mL / min (adjusted so that thebaine is 10.5 minutes)
Detector: UV absorptiometer (measurement wavelength 210nm)
Column temperature: Constant temperature around 40 ° C Calculation method: Each peak area / total peak area x 100%

Figure 2010111656
Figure 2010111656

(比較例1)コデイノンからテバインの合成
J. Am. Chem. Soc. 1951, 73, 4001.に記載されている公知の方法にて合成できるコデイノン(1.0g, 3.4mmol)に、アセトニトリル(9mL)、メタノール(1mL)、オルトギ酸トリメチル(714mg, 6.7mmol)を加え、最後にメタンスルホン酸(423mL, 4.4mmol)を加えた。この溶液を加熱し2時間還流した。メタノール(2mL)を加え2時間還流し、さらにメタノール(2mL)を加え2時間還流した。オルトギ酸トリメチル(361mg, 3.4mmol)を加えさらに1時間還流した。濃縮してメタノールを留去した後、断続的に3時間還流した。メタンスルホン酸(0.066ml, 1.0mmol)を加えさらに3時間還流した後、N,N−ジメチルホルムアミド(0.25mL)を加え1時間還流した。室温に冷却し水(10mL)を加え、25%水酸化ナトリウム水溶液をpH11以上になるまで加え30分間撹拌した。析出した結晶を濾過し、濾別した結晶を水(2mL)で洗浄した。得られた結晶を減圧下40℃で乾燥し、淡黄色結晶のテバイン(0.59g, 収率56%)を得た。
(Comparative Example 1) Synthesis of thebaine from codeinone
J. Am. Chem. Soc. 1951, 73, 4001. To codeinone (1.0 g, 3.4 mmol) synthesized by a known method, acetonitrile (9 mL), methanol (1 mL), trimethyl orthoformate ( 714 mg, 6.7 mmol) was added, and finally methanesulfonic acid (423 mL, 4.4 mmol) was added. The solution was heated to reflux for 2 hours. Methanol (2 mL) was added and refluxed for 2 hours, and methanol (2 mL) was further added and refluxed for 2 hours. Trimethyl orthoformate (361 mg, 3.4 mmol) was added, and the mixture was further refluxed for 1 hour. After concentration and evaporation of methanol, the mixture was refluxed intermittently for 3 hours. Methanesulfonic acid (0.066 ml, 1.0 mmol) was added and the mixture was further refluxed for 3 hours, and then N, N-dimethylformamide (0.25 mL) was added and refluxed for 1 hour. After cooling to room temperature, water (10 mL) was added, and a 25% aqueous sodium hydroxide solution was added until the pH was 11 or more, followed by stirring for 30 minutes. The precipitated crystals were filtered, and the separated crystals were washed with water (2 mL). The obtained crystals were dried at 40 ° C. under reduced pressure to obtain pale yellow thebaine (0.59 g, yield 56%).

Claims (13)

一般式(I)を有する化合物
Figure 2010111656

[式中、RおよびRは、それぞれ独立して、C1−C6アルキル基、C1−C6アルキルカルボニル基又はC7−C11アラルキル基を示し、Rは、C1−C6アルキル基を示す。]を製造する方法であって、
一般式(II)を有する化合物
Figure 2010111656

[式中、RおよびRは、それぞれ独立して、C1−C6アルキル基、C1−C6アルキルカルボニル基又はC7−C11アラルキル基を示す。]を、
(i)オルトギ酸トリメチル、オルトギ酸トリエチル、ジメトキシプロパン又はジエトキシプロパンから選ばれる1種のアセタール化試薬とメタンスルホン酸の存在下、アルコール中加熱する工程であるアセタール化工程と、
(ii)溶媒を加えた後、濃縮する工程である溶媒留去工程と、
(iii)無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸又は無水トリフルオロ酢酸から選ばれる1種のカルボン酸無水物を加えた後、溶媒中加熱する工程である脱アルコール工程によって、
一般式(I)を有する化合物を製造する方法。
Compound having general formula (I)
Figure 2010111656

[Wherein, R 1 and R 2 each independently represents a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkylcarbonyl group or a C7-C11 aralkyl group, and R 3 represents a C1-C6 alkyl group. A process for producing
Compound having general formula (II)
Figure 2010111656

[Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkylcarbonyl group, or a C7-C11 aralkyl group. ]
(I) an acetalization step which is a step of heating in alcohol in the presence of one kind of acetalization reagent selected from trimethyl orthoformate, triethyl orthoformate, dimethoxypropane or diethoxypropane and methanesulfonic acid;
(Ii) a solvent distillation step, which is a step of adding a solvent and then concentrating;
(Iii) by adding a carboxylic acid anhydride selected from acetic anhydride, propionic anhydride, benzoic anhydride or trifluoroacetic anhydride, followed by a dealcoholization step, which is a step of heating in a solvent,
A process for producing a compound having the general formula (I).
、R及びRが、それぞれ独立して、メチル基又はエチル基である、請求項1に記載の一般式(I)を有する化合物を製造する方法。 The method for producing a compound having the general formula (I) according to claim 1 , wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently a methyl group or an ethyl group. 、R及びRが、メチル基である、請求項1に記載の一般式(I)を有する化合物を製造する方法。 The method for producing a compound having the general formula (I) according to claim 1 , wherein R 1 , R 2 and R 3 are methyl groups. アセタール化工程におけるアセタール化試薬がオルトギ酸トリメチルである、請求項1に記載の一般式(I)を有する化合物を製造する方法。 The method for producing a compound having the general formula (I) according to claim 1, wherein the acetalizing reagent in the acetalization step is trimethyl orthoformate. アセタール化工程におけるアルコールがメタノールである、請求項1に記載の一般式(I)を有する化合物を製造する方法。 The method for producing a compound having the general formula (I) according to claim 1, wherein the alcohol in the acetalization step is methanol. 溶媒留去工程及び脱アルコール工程における溶媒がアセトニトリルである、請求項1に記載の一般式(I)を有する化合物を製造する方法。 The method for producing a compound having the general formula (I) according to claim 1, wherein the solvent in the solvent distillation step and the dealcoholization step is acetonitrile. 脱アルコール工程におけるカルボン酸無水物が無水酢酸である、請求項1に記載の一般式(I)を有する化合物を製造する方法。 The method for producing a compound having the general formula (I) according to claim 1, wherein the carboxylic acid anhydride in the dealcoholization step is acetic anhydride. (iii)の脱アルコール工程において、さらにメタンスルホン酸を加えることを特徴とする、請求項1に記載の一般式(I)を有する化合物を製造する方法。 The method for producing a compound having the general formula (I) according to claim 1, wherein methanesulfonic acid is further added in the dealcoholization step of (iii). 請求項1に記載の一般式(I)を有する化合物
Figure 2010111656

[式中、RおよびRは、それぞれ独立して、C1−C6アルキル基、C1−C6アルキルカルボニル基又はC7−C11アラルキル基を示し、Rは、C1−C6アルキル基を示す。]の製造方法において、加熱反応終了後、
(i)減圧下濃縮し、
(ii)残渣にC1−C6アルキルエステルを添加した後、
(iii)結晶を析出させることによって、
テバイン/メタンスルホン酸塩結晶を製造する方法。
Compound having general formula (I) according to claim 1
Figure 2010111656

[Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkylcarbonyl group or a C7-C11 aralkyl group, and R 3 represents a C1-C6 alkyl group. ] After the completion of the heating reaction,
(I) Concentrate under reduced pressure,
(Ii) After adding the C1-C6 alkyl ester to the residue,
(Iii) by precipitating crystals,
A method for producing thebaine / methanesulfonate crystals.
C1−C6アルキルエステルが、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブチル、ブタン酸メチル、ブタン酸エチル及びブタン酸プロピルからなるいずれかである、請求項9に記載のテバイン/メタンスルホン酸塩結晶を製造する方法。 Any of C1-C6 alkyl ester consisting of methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, propyl propionate, butyl propionate, methyl butanoate, ethyl butanoate and propyl butanoate The method for producing thebaine / methanesulfonate crystals according to claim 9. C1−C6アルキルエステルが、酢酸メチル、酢酸エチル又は酢酸プロピルである、請求項9に記載のテバイン/メタンスルホン酸塩結晶を製造する方法。 The method for producing thebaine / methanesulfonate crystals according to claim 9, wherein the C1-C6 alkyl ester is methyl acetate, ethyl acetate or propyl acetate. 請求項9で得られたテバイン/メタンスルホン酸塩結晶を用いて、純度98%以上のテバインを製造する方法。 A method for producing thebaine having a purity of 98% or more, using the thebaine / methanesulfonate crystals obtained in claim 9. 粉末X線回折(Cu Kα、λ=1.54オングストローム)での相対強度10以上のピークが以下の表で表されるテバイン/メタンスルホン酸塩結晶。
Figure 2010111656
A thebaine / methanesulfonate crystal in which a peak of relative intensity 10 or more in powder X-ray diffraction (Cu Kα, λ = 1.54 Å) is represented by the following table.
Figure 2010111656
JP2009230355A 2008-10-06 2009-10-02 Method for producing thebaine derivative Pending JP2010111656A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009230355A JP2010111656A (en) 2008-10-06 2009-10-02 Method for producing thebaine derivative

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008259411 2008-10-06
JP2009230355A JP2010111656A (en) 2008-10-06 2009-10-02 Method for producing thebaine derivative

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010111656A true JP2010111656A (en) 2010-05-20

Family

ID=42300509

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009230355A Pending JP2010111656A (en) 2008-10-06 2009-10-02 Method for producing thebaine derivative

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010111656A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN114057627B (en) Preparation method of hepatitis C and neocorolla drug intermediate and salt thereof
CN111170855B (en) Compound and method for synthesizing 8-hydroxy-2,2,14,14-tetramethylpentadecanedioic acid by using same
EP1671937A1 (en) Method for producing nitrile compound, carboxylic acid compound or carboxylate compound
KR101787789B1 (en) Process for producing pyripyropene derivatives
WO2010131676A1 (en) Process for producing pyripyropene derivative
EP2480555B1 (en) Methods for producing hydrocodone, hydromorphone or a derivative thereof
US9771317B2 (en) Process for preparing lacosamide and related compounds
TW200831478A (en) Chromane derivatives, synthesis thereof, and intermediates thereto
JP2019532075A (en) Process for preparing deuterated imidazolidinedione compounds
JP2010111656A (en) Method for producing thebaine derivative
JP2013537534A (en) Process for the preparation of compound OSI-906
WO2021020998A1 (en) Method for producing roxadustat
CN108409561B (en) Preparation method of 5-aminolevulinic acid hydrochloride and intermediate
CN104513189B (en) A kind of oxiracetam intermediate and its preparation method and application
CN111808040B (en) Synthesis method of multi-configuration 2-oxo-oxazolidine-4-carboxylic acid compounds
CN102453033B (en) Method for producing hydantoin derivative
KR20170123132A (en) Process for Preparing Treprostinil
US6121459A (en) Single pot process for producing (Z)-azabicyclo oxime ethers
TW200909434A (en) Production process of coumarin dimer compound
CN110885315A (en) Preparation method of important intermediate of levosimendan
CN117659018A (en) Chiral C1 symmetrical imidazole-pyridine-imidazolidinone tridentate nitrogen ligand, synthesis and application thereof
US20070037854A1 (en) Process for preparing sulfonamide-containing indole compounds
JP2000281653A (en) Separation of quinoline derivative
CN114105862A (en) Donepezil hydrochloride impurity and preparation method thereof
ITMI20111467A1 (en) PROCEDURE FOR THE PREPARATION OF IVABRADINA AND ITS INTERMEDIATES OF SYNTHESIS