JP2010108758A - Phenoxy resin insulating varnish and insulation wire using it - Google Patents

Phenoxy resin insulating varnish and insulation wire using it Download PDF

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Kengo Yoshida
健吾 吉田
Masaaki Yamauchi
雅晃 山内
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Sumitomo Electric Wintec Inc
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an insulating varnish capable of forming an insulating film which is superior in adhesion property with a conductor even after heat treatment and has softening resistance even under a high load condition, and to provide an insulation wire using the insulating varnish. <P>SOLUTION: A phenoxy resin insulating varnish contains 100 pts.mass of a phenoxy resin comprising 80-30 wt.% of bisphenol A-type phenoxy resin and 20-70 wt.% of bisphenol S-type phenoxy resin and 5-50 pts.mass of block isocyanate. It is desirable that a glass transition point of the bisphenol A-type phenoxy resin is 60-90°C, and a glass transition point of the bisphenol S-type phenoxy resin is 100-150°C. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、含浸ワニス処理等の高温処理後も優れた導体との密着性を保持した絶縁被膜を形成することができる絶縁ワニス、及び当該ワニスでプライマー層を形成した絶縁電線に関する。   The present invention relates to an insulating varnish capable of forming an insulating coating that maintains excellent adhesion with a conductor even after high-temperature treatment such as impregnation varnish treatment, and an insulated wire in which a primer layer is formed from the varnish.

モータの巻線やトランスの巻線の絶縁電線で、耐熱性の要求が高い用途については、ポリエステルイミド樹脂を主成分とした絶縁ワニスが用いられている。   Insulation varnishes mainly composed of polyesterimide resin are used for insulated wires for motor windings and transformer windings that require high heat resistance.

巻線加工工程の自動化、高速化の発展に従い、巻線の絶縁被膜に対する耐摩耗性、耐熱性、可とう性の要求については年々厳しくなり、さらに、各種電気機器の高出力化、または小型化、省電力化への要請に伴う高占積率化も進み、巻線に加えられる加工負荷が厳しくなっている。このような事情下、ポリエスエルイミド樹脂絶縁被膜の耐摩耗性、可とう性、密着性を改善する提案が種々なされている。   With the development of automation and high-speed winding process, the requirements for wear resistance, heat resistance, and flexibility for the insulation film of windings are becoming stricter year by year, and further, the output of various electric devices is increased or downsized. As the demand for power saving increases, the space factor increases, and the processing load applied to the windings becomes severe. Under such circumstances, various proposals have been made to improve the abrasion resistance, flexibility and adhesion of the polyesterimide resin insulation coating.

例えば、特許第3766447号では、アセチレン類、アルキノール類、アルデヒド類、アミン類、メルカプタン類、およびチオ尿素類等の金属不活性剤と、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の硬化性樹脂を配合することにより、絶縁被膜の耐熱性、導体に対する密着性を改善することが提案されている。そして、実施例において、ポリエステルイミド系塗料に、5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−2−チオールとメラミン樹脂とを添加した絶縁被膜が、180°剥離試験による密着力、ヒートショック試験後の可とう性に優れていたことを開示している。   For example, in Japanese Patent No. 3766447, metal deactivators such as acetylenes, alkynols, aldehydes, amines, mercaptans, and thioureas, phenol resins, urea resins, melamine resins, epoxy resins, silicone resins, etc. It has been proposed to improve the heat resistance of the insulating coating and the adhesion to the conductor by blending the curable resin. And in an Example, the insulation film which added 5-amino- 1,3,4-thiadiazole-2-thiol and the melamine resin to the polyesterimide-type coating material is the adhesive force by a 180 degree peeling test, after a heat shock test It disclosed that it was excellent in flexibility.

特許第3766447号Japanese Patent No. 3766447

しかしながら、ワニス含浸処理などが行われれる仕様では、常温での密着性やヒートショック試験後の可とう性の改善だけでは十分でない。加熱処理後の密着性、高負荷条件下での耐軟化性なども充足する必要がある。   However, in specifications where varnish impregnation is performed, it is not sufficient to improve adhesion at room temperature or flexibility after a heat shock test. Adhesion after heat treatment, softening resistance under high load conditions, etc. must also be satisfied.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、加熱処理後であっても導体との密着性に優れ、高負荷条件下でも耐軟化性を有する絶縁被膜を形成できる絶縁ワニスを提供することにある。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide an insulating material that has excellent adhesion to a conductor even after heat treatment and has softening resistance even under high load conditions. The object is to provide an insulating varnish capable of forming a coating.

本発明者らは、加熱処理後も導体との密着性を保持できる絶縁被膜として、プライマー層にエポキシ樹脂、特にフェノキシ樹脂を用いた絶縁電線を提案している(特願2007−266405)。しかしながら、ポリエステルイミドワニスの代替えとして、さらに他の特性についても検討した結果、本発明に到達した。   The present inventors have proposed an insulated wire using an epoxy resin, in particular a phenoxy resin, as a primer layer as an insulating film that can maintain adhesion with a conductor even after heat treatment (Japanese Patent Application No. 2007-266405). However, as a substitute for the polyesterimide varnish, the present invention has been reached as a result of further investigations on other characteristics.

すなわち、本発明の絶縁ワニスは、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂80〜30質量%及びビスフェノールS型フェノキシ樹脂20〜70質量%のフェノキシ樹脂100質量部、ならびにブロックイソシアネート5〜50質量部を含有する。前記ビスフェノールA型フェノキシ樹脂のガラス転移点は60〜90℃であり、前記ビスフェノールS型フェノキシ樹脂のガラス転移点は100〜150℃であることが好ましい。   That is, the insulating varnish of the present invention contains 100 to 30 parts by mass of phenoxy resin of 80 to 30% by mass of bisphenol A type phenoxy resin and 20 to 70% by mass of bisphenol S type phenoxy resin, and 5 to 50 parts by mass of blocked isocyanate. The glass transition point of the bisphenol A type phenoxy resin is preferably 60 to 90 ° C, and the glass transition point of the bisphenol S type phenoxy resin is preferably 100 to 150 ° C.

本発明の絶縁電線は、上記本発明のフェノキシ樹脂絶縁ワニスを、導体上に塗布、焼付けてなるプライマー層を有する。   The insulated wire of the present invention has a primer layer formed by applying and baking the phenoxy resin insulating varnish of the present invention on a conductor.

本発明の絶縁ワニスは、ガラス転移点が異なる2種類のフェノキシ樹脂をブレンドすることで、高温時、高負荷下における耐軟化性が向上する。   The insulating varnish of the present invention improves softening resistance under high load at high temperatures by blending two types of phenoxy resins having different glass transition points.

以下に本発明の実施の形態を説明するが、今回、開示された実施の形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   Although embodiments of the present invention will be described below, it should be considered that the embodiments disclosed herein are illustrative and non-restrictive in every respect. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

〔フェノキシ樹脂絶縁ワニス〕
本発明のフェノキシ樹脂絶縁ワニスは、塗膜構成樹脂として、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂80〜30質量%及びビスフェノールS型フェノキシ樹脂20〜70質量%のフェノキシ樹脂、および硬化剤としてブロックイソシアネートを使用することを特徴としている。
[Phenoxy resin insulation varnish]
The phenoxy resin insulating varnish of the present invention uses a phenoxy resin of 80 to 30% by mass of a bisphenol A type phenoxy resin and 20 to 70% by mass of a bisphenol S type phenoxy resin as a coating film constituting resin, and a blocked isocyanate as a curing agent. It is characterized by.

<フェノキシ樹脂>
本発明で用いられるフェノキシ樹脂とは、ビスフェノール系化合物とエピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂のうち、分子量が大きい樹脂をいう。
<Phenoxy resin>
The phenoxy resin used in the present invention refers to a resin having a large molecular weight among epoxy resins produced from a bisphenol compound and epihalohydrin.

ビスフェノールA型フェノキシ樹脂とは、ビスフェノール系化合物として、2,2−ビス(p−ヒドロキシフェニル)プロパン(以下、「ビスフェノールA」という)を用いたビスフェノールA骨格を有するフェノキシ樹脂(ビスフェノールA型フェノキシ樹脂)である。   The bisphenol A type phenoxy resin is a phenoxy resin having a bisphenol A skeleton using 2,2-bis (p-hydroxyphenyl) propane (hereinafter referred to as “bisphenol A”) as a bisphenol compound (bisphenol A type phenoxy resin). ).

ビスフェノールA型フェノキシ樹脂としては、市販のものを用いることができ、例えば、東都化成(株)製、品番YP−50、YP50S、YP−55、YP−70、ジャパンエポキシレジン株式会社製のエピコート、大日本インキ化学工業株式会社製のエピクロン、ユニオンカーバイト株式会社製のPKHC、PKHH、PKHJなどが挙げられる。   Commercially available products can be used as the bisphenol A type phenoxy resin, for example, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., part numbers YP-50, YP50S, YP-55, YP-70, Epicoat manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. Examples include Epicron produced by Dainippon Ink & Chemicals, PKHC, PKHH and PKHJ produced by Union Carbide.

ビスフェノールA型フェノキシ樹脂としては、重量分子量30000〜80000(GPCによる測定)、特に60000〜80000のものが好ましく用いられ、DSC法(10℃/分昇値)によるガラス転移点60〜90℃であることが好ましい。
また、エポキシ当量(JIS K7236)は、10000〜100000g/eqであることが好ましく、より好ましくは50000〜100000g/eqである。
As the bisphenol A-type phenoxy resin, those having a weight molecular weight of 30,000 to 80,000 (measured by GPC), particularly 60000 to 80,000 are preferably used, and the glass transition point is 60 to 90 ° C. by DSC method (10 ° C./min ascending value). It is preferable.
The epoxy equivalent (JIS K7236) is preferably 10,000 to 100,000 g / eq, more preferably 50,000 to 100,000 g / eq.

ビスフェノールS型フェノキシ樹脂とは、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂の耐熱性を高めるために、ビスフェノール系化合物の一部に、2,2−ビス(p−ヒドロキシフェニル)スルホン(以下、「ビスフェノールS」という)を用いたビスフェノールS骨格を有するフェノキシ樹脂である。すなわち、ビスフェノールS型フェノキシ樹脂は、通常、ビスフェノールS骨格とビスフェノールA型骨格を有している。   The bisphenol S-type phenoxy resin is a 2,2-bis (p-hydroxyphenyl) sulfone (hereinafter referred to as “bisphenol S”) as part of a bisphenol-based compound in order to increase the heat resistance of the bisphenol A-type phenoxy resin. Is a phenoxy resin having a bisphenol S skeleton. That is, the bisphenol S type phenoxy resin usually has a bisphenol S skeleton and a bisphenol A type skeleton.

本発明で用いられるビスフェノールS型フェノキシ樹脂としては、重量分子量20000〜60000(GPCによる測定)、特に30000〜50000のものが好ましく用いられ、DSC法(10℃/min昇値)によるガラス転移点100〜150℃であることが好ましい。   As the bisphenol S-type phenoxy resin used in the present invention, those having a weight molecular weight of 20,000 to 60,000 (measured by GPC), particularly 30,000 to 50,000 are preferably used, and a glass transition point of 100 by DSC method (10 ° C./min increase). It is preferable that it is -150 degreeC.

ビスフェノールS型フェノキシ樹脂としては、市販のものを用いてもよく、例えば、東都化成(株)製、品番YPS007A30Aなどが挙げられる。   A commercially available product may be used as the bisphenol S-type phenoxy resin, and examples thereof include product number YPS007A30A manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.

以上のようなビスフェノールA型フェノキシ樹脂とビスフェノールS型フェノキシ樹脂とは、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂:ビスフェノールS型フェノキシ樹脂(質量比)で、8:2〜3:7、好ましくは6:4〜4:6で混合したフェノキシ樹脂として用いられる。   The above bisphenol A type phenoxy resin and bisphenol S type phenoxy resin are bisphenol A type phenoxy resin: bisphenol S type phenoxy resin (mass ratio), and are 8: 2 to 3: 7, preferably 6: 4 to 4 : Used as a phenoxy resin mixed in 6.

上記のような割合で混合したブレンド型フェノキシ樹脂は、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂、ビスフェノールS型フェノキシ樹脂単独の場合よりも、耐軟化性が向上する。理由は明らかではないが、ガラス転移点、高温での粘弾性特性が異なる2種類のフェノキシ樹脂のブレンドにより、高温域では、ガラス転移点が高いビスフェノールS型フェノキシ樹脂が耐軟化樹脂として作用する一方、ガラス転移点が低いビスフェノールA型フェノキシ樹脂がエラストマーとして作用し、応力を吸収緩和することにより、高負荷、高温下での密着性、耐軟化性を保持しているのではないかと思われる。   The blend type phenoxy resin mixed in the above proportion has improved softening resistance as compared with the case of the bisphenol A type phenoxy resin and the bisphenol S type phenoxy resin alone. Although the reason is not clear, a blend of two types of phenoxy resins having different glass transition points and viscoelastic properties at high temperatures makes bisphenol S-type phenoxy resins having a high glass transition point act as softening-resistant resins at high temperatures. The bisphenol A-type phenoxy resin having a low glass transition point acts as an elastomer and absorbs and relaxes stress, so that it seems that the adhesion and softening resistance under high load and high temperature are maintained.

<硬化剤>
フェノキシ樹脂は、骨格中に、反応性に富むエポキシ基や水酸基を有しているので、これらと反応して架橋構造を形成できる硬化剤を共存させることが好ましい。
<Curing agent>
Since the phenoxy resin has a highly reactive epoxy group or hydroxyl group in the skeleton, it is preferable to coexist with a curing agent that can react with these to form a crosslinked structure.

本発明の絶縁ワニスには、硬化剤として、イソシアネート化合物のイソシアネート基をブロック剤で保護したブロックイソシアネートを用いている。ブロックイソシアネート化合物は、常温で安定であるが、その解離温度以上に加熱すると、遊離のイソシアネート基を再生するものである。イソシアネートの解離温度は、ブロック剤の種類によるが、好ましくは80〜160℃、より好ましくは90〜130℃である。   In the insulating varnish of the present invention, a blocked isocyanate obtained by protecting an isocyanate group of an isocyanate compound with a blocking agent is used as a curing agent. The blocked isocyanate compound is stable at room temperature, but regenerates a free isocyanate group when heated above its dissociation temperature. The dissociation temperature of isocyanate depends on the type of blocking agent, but is preferably 80 to 160 ° C, more preferably 90 to 130 ° C.

上記イソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート(TDI)、p−フェニレンジイソシアネート、ナフタリンジイソシアネートなどの芳香族ジイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、2,2,4−トリメチルへキサンジイソシアネート、リジンジイソシアネートなどの炭素数3〜12の脂肪族ジイソシアネート;1,4−シクロへキサンジイソシアネート(CDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(水添MDI)、メチルシクロへキサンジイソシアネート、イソプロピデンジシクロヘキシル−4,4’−ジイソシアネート、1,3−ジイソシアナトメリルシクロへキサン(水添XDI)、水添TDI、2,5−ビス(イソシナートメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,6−ビス(イソシナートメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタンなどの炭素数5〜18の脂環式ジイソシアネート;キシリレンジイソシアネート(XDI)、テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)などの芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート;これらのジイソシアネートの変性物などが挙げられる。   Examples of the isocyanate compound include aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate (TDI), p-phenylene diisocyanate, and naphthalene diisocyanate; carbon numbers such as hexamethylene diisocyanate (HDI), 2,2,4-trimethylhexane diisocyanate, and lysine diisocyanate. 3-12 aliphatic diisocyanates; 1,4-cyclohexane diisocyanate (CDI), isophorone diisocyanate (IPDI), 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate (hydrogenated MDI), methylcyclohexane diisocyanate, isopropylidene dicyclohexyl-4 , 4'-diisocyanate, 1,3-diisocyanatomelylcyclohexane (hydrogenated XDI), hydrogenated TDI, 2,5-bis (isocyanatome Alicyclic diisocyanates having 5 to 18 carbon atoms such as (l) -bicyclo [2.2.1] heptane, 2,6-bis (isocyanatomethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane; (XDI), aliphatic diisocyanates having an aromatic ring such as tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI), and modified products of these diisocyanates.

これらのイソシアネート化合物のイソシアネート基をブロックするブロック剤としては、アルコール類、フェノール類、ε−カプロラクタム、ブチルセロソルブ類などが挙げられる。   Examples of the blocking agent that blocks the isocyanate group of these isocyanate compounds include alcohols, phenols, ε-caprolactam, butyl cellosolves, and the like.

以上のようなブロックイソシアネートとして、市販品を用いてもよく、例えば、住友バイウレタン社のCT stable、BL−3175、TPLS−2759、BL−4165、日本ポリウレタン工業社製のMS−50などを用いることができる。   Commercially available products may be used as the blocked isocyanate as described above, for example, CT table, Sumitomo Biurethane Co., Ltd., BL-3175, TPLS-2759, BL-4165, Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. MS-50, etc. be able to.

ブロックイソシアネートは、フェノキシ樹脂100質量部あたり5〜50質量部、好ましくは10〜40質量部の割合で用いる。   The blocked isocyanate is used in a ratio of 5 to 50 parts by mass, preferably 10 to 40 parts by mass, per 100 parts by mass of the phenoxy resin.

<有機溶剤>
本発明の絶縁ワニスは、上記のようなフェノキシ樹脂およびブロックイソシアネートを、有機溶剤に溶解したものである。
本発明で用いられる有機溶剤としては、ベース樹脂を溶解できるものであればよく、例えば、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ヘキサエチルリン酸トリアミド、γ−ブチロラクトンなどの極性有機溶媒をはじめ、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロへキサノンなどのケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、シュウ酸ジエチルなどのエステル類;ジエチルエステル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、ジエチレングリコールメチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素化合物;ジクロロメタン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素化合物;クレゾール、クロルフェノールなどのフェノール類;ピリジンなどの第三級アミンなどが挙げられ、これらの有機溶媒は、それぞれ単独で又は2種以上混合して用いることができる。
<Organic solvent>
The insulating varnish of the present invention is obtained by dissolving the above phenoxy resin and blocked isocyanate in an organic solvent.
The organic solvent used in the present invention is not particularly limited as long as it can dissolve the base resin. For example, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, tetramethyl Polar organic solvents such as urea, hexaethyl phosphate triamide, and γ-butyrolactone, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, and diethyl oxalate Ethers such as diethyl ester, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether (butyl cellosolve), diethylene glycol methyl ether, tetrahydrofuran Hydrocarbon compounds such as hexane, heptane, benzene, toluene, xylene; halogenated hydrocarbon compounds such as dichloromethane and chlorobenzene; phenols such as cresol and chlorophenol; tertiary amines such as pyridine, and the like. A solvent can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

有機溶剤は、通常、ワニスにおける固形分含有率30〜60質量%程度となるように用いられる。   The organic solvent is usually used so that the solid content in the varnish is about 30 to 60% by mass.

<その他の成分>
本発明のフェノキシ樹脂系絶縁ワニスは、上記フェノキシ樹脂、硬化剤、有機溶剤の他に、下記成分が含まれ得る。
例えば、上記ブレンド型フェノキシ樹脂の特性に影響を与えない程度であれば、他の骨格を有するフェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂など、他の絶縁被膜に用いられる樹脂が含まれていてもよい。
<Other ingredients>
The phenoxy resin insulating varnish of the present invention may contain the following components in addition to the phenoxy resin, the curing agent, and the organic solvent.
For example, as long as it does not affect the properties of the blend type phenoxy resin, it includes resins used for other insulating coatings such as phenoxy resins having other skeletons, epoxy resins, polyesterimide resins, and polyamideimide resins. It may be.

また、ブロックイソシアネート以外の硬化剤、例えば、メチレン化合物、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤などが、ブレンド型フェノキシ樹脂とブロックイソシアネートからなる硬化系に影響を及ぼさない程度の量であれば、含有されていてもよい。   In addition, if the curing agent other than the blocked isocyanate, for example, a methylene compound, a silane coupling agent, a titanate coupling agent, etc., is an amount that does not affect the curing system composed of the blend type phenoxy resin and the blocked isocyanate, It may be contained.

本発明の絶縁ワニスは、さらに必要に応じて、本発明の目的が阻害されない範囲で、顔料、染料、無機又は有機のフィラー、潤滑剤、酸化防止剤、レべリング剤等の各種添加剤が含有されていてもよい。   The insulating varnish of the present invention may further contain various additives such as pigments, dyes, inorganic or organic fillers, lubricants, antioxidants, leveling agents and the like, as long as the purpose of the present invention is not impaired. It may be contained.

以上のような組成を有する本発明の絶縁ワニスは、耐熱性、可とう性、耐摩耗性に優れた絶縁被膜を形成できるだけでなく、ストレスが負荷した状態でも導体に対する密着性が優れているので、絶縁電線のプライマー層用塗料として用いることもできる。   The insulating varnish of the present invention having the above composition not only forms an insulating film excellent in heat resistance, flexibility and wear resistance, but also has excellent adhesion to a conductor even under stress. It can also be used as a primer layer coating for insulated wires.

本発明の絶縁ワニスを、導体に直接塗布した後、焼付けて硬化することにより絶縁被膜を形成できる。焼付温度としては、フェノキシ樹脂がブロックイソシアネートと反応して熱硬化できる温度であることが好ましい。   The insulating varnish of the present invention can be applied directly to a conductor and then baked and cured to form an insulating coating. The baking temperature is preferably a temperature at which the phenoxy resin can be thermally cured by reacting with the blocked isocyanate.

〔絶縁電線〕
本発明の絶縁電線は、導体表面に、上記本発明の絶縁ワニスの硬化物で形成されるプライマー層を有するものである。
[Insulated wire]
The insulated wire of this invention has a primer layer formed with the hardened | cured material of the said insulating varnish of this invention on the conductor surface.

導体としては、通常、電線導体に用いられる公知の導体で、銅線、アルミニウム線などの金属導体が用いられる。   As a conductor, it is a well-known conductor normally used for an electric wire conductor, and metal conductors, such as a copper wire and an aluminum wire, are used.

本発明の絶縁ワニスを、350〜500℃程度の炉内を、1パスあたり10秒〜30秒間(10回引きなら100秒〜300秒間)、通過させることにより行うことが好ましい。   The insulating varnish of the present invention is preferably carried out by passing it through a furnace at about 350 to 500 ° C. for 10 seconds to 30 seconds per pass (100 seconds to 300 seconds for 10 pulls).

プライマー層の厚みは、特に限定しないが、1〜20μmが好ましく、より好ましくは1〜10μmである。プライマー層としては、この程度の厚みで十分だからである。   Although the thickness of a primer layer is not specifically limited, 1-20 micrometers is preferable, More preferably, it is 1-10 micrometers. This is because this thickness is sufficient for the primer layer.

本発明の絶縁電線は、上記のようなプライマー層上に、少なくとも1層以上の上塗り層を有している。
上塗り層の組成としては特に限定せず、従来より絶縁被膜に用いられているポリエステルイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、フェノキシ系樹脂などを用いることができる。上塗り層構成樹脂は、プライマー層構成樹脂と同じであってもよいし、異なっていてもよく、絶縁電線の用途に応じて適宜選択される。
The insulated wire of the present invention has at least one overcoat layer on the primer layer as described above.
The composition of the overcoat layer is not particularly limited, and polyesterimide resins, polyamideimide resins, polyimide resins, polyurethane resins, polyester resins, polyamide resins, phenoxy resins, and the like conventionally used for insulating coatings Can be used. The topcoat layer-constituting resin may be the same as or different from the primer layer-constituting resin, and is appropriately selected according to the use of the insulated wire.

上塗り層が2層以上で構成される場合、絶縁電線の最表層の上塗り層は、潤滑性を有する被膜、例えば、高潤滑ポリイミド、高潤滑アミドイミドなどで構成されることが好ましい。   When the topcoat layer is composed of two or more layers, the topcoat layer of the outermost layer of the insulated wire is preferably composed of a film having lubricity, for example, a highly lubricous polyimide, a highly lubricated amideimide, or the like.

本発明を実施するための最良の形態を実施例により説明する。実施例は、本発明の範囲を限定するものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described with reference to examples. The examples are not intended to limit the scope of the invention.

〔測定評価方法〕
はじめに、本実施例で行なった評価方法について説明する。
[Measurement evaluation method]
First, the evaluation method performed in this example will be described.

(1)可とう性
絶縁電線を、初期長さに対して20%伸長し、伸長後、JIS C3003 7.1.1可とう性試験に準拠して試験した。具体的には、絶縁電線の自己径(1d)、2倍(2d)を有する丸棒に沿って電線を、電線と電線とが接触するように30回巻き付けた後、亀裂の有無を観察し、亀裂が発生しなかったときの丸棒の径(1d又は2d)を調べた。1dでも亀裂を生じない場合は、可とう性に優れているといえる。
(1) Flexibility The insulated wire was stretched by 20% with respect to the initial length, and after stretching, it was tested according to JIS C3003 7.1.1 flexibility test. Specifically, after winding the electric wire 30 times so that the electric wire and the electric wire are in contact with each other along a round bar having the self-diameter (1d) and double (2d) of the insulated electric wire, the presence or absence of cracks was observed. The diameter (1d or 2d) of the round bar when no crack occurred was examined. If no crack occurs even in 1d, it can be said that the flexibility is excellent.

(2)ヒートショック試験
絶縁電線を、初期長さに対して20%伸長し、伸長後、JIS C3003 20の耐衝撃試験に準拠して試験した。具体的には、200℃で30分間加熱した後、絶縁電線の自己径(1d)、2倍(2d)を有する丸棒に沿って電線を、電線と電線とが接触するように30回巻き付けた後、亀裂の有無を観察し、亀裂が発生しなかったときの丸棒の径を調べた。丸棒の径が小さいほど、可とう性が高温処理によっても保持できていることを意味し、耐熱性に優れているといえる。
(2) Heat shock test The insulated wire was stretched by 20% with respect to the initial length, and after stretching, it was tested according to the impact resistance test of JIS C3003-20. Specifically, after heating at 200 ° C. for 30 minutes, the electric wire is wound 30 times so that the electric wire and the electric wire are in contact with each other along a round bar having a self-diameter (1d) and twice (2d) of the insulated electric wire. After that, the presence or absence of cracks was observed, and the diameter of the round bar when no cracks occurred was examined. It means that the smaller the diameter of the round bar is, the higher the heat resistance is, the higher the heat resistance, and the better the heat resistance.

(3)耐摩耗性
JIS C3003−1999に記載の耐摩耗試験に準拠し、一方向摩耗値(g)を測定した。どの程度の力が加わったときに被膜が破損するかを調べるもので、捲線時のストレスに対する被膜強度の指標となる。
なお、各絶縁電線について、9本ずつ測定した結果の平均値を示す。
(3) Wear resistance The unidirectional wear value (g) was measured in accordance with the wear resistance test described in JIS C3003-1999. This is an investigation of how much force is applied to break the coating, and it is an index of coating strength against stress during shoreline.
In addition, about each insulated wire, the average value of the result of having measured 9 pieces is shown.

(4)密着性
JIS−C3003「8.1a)急激伸長」に準じて、膜浮(2箇所測定したときの平均値)を測定した。
測定は、室温、160℃で6時間放置後、180℃で6時間放置後、200℃で6時間放置後について行った。
(4) Adhesiveness According to JIS-C3003 “8.1a) rapid extension”, film floating (average value when measured at two locations) was measured.
The measurement was performed after standing at room temperature at 160 ° C. for 6 hours, standing at 180 ° C. for 6 hours, and then standing at 200 ° C. for 6 hours.

(5)耐軟化性
JIS C3003「エナメル銅線及びエナメルアルミニウム線試験方法」に準じて、軟化温度(℃)を測定した。JISに規定する荷重(700g)、及び2倍荷重(1400g)のそれぞれについて、電線が導通したときの温度(軟化温度)を測定した。
なお、各絶縁電線について、4本ずつ測定した結果の最大値と最小値の平均値を示す。
(5) Softening resistance The softening temperature (° C.) was measured according to JIS C3003 “Test method for enameled copper wire and enameled aluminum wire”. For each of a load (700 g) and a double load (1400 g) specified in JIS, the temperature (softening temperature) when the wire was conducted was measured.
In addition, about each insulated wire, the average value of the maximum value and the minimum value of the result of measuring four each is shown.

〔フェノキシ樹脂〕
(1)ビスフェノールA型フェノキシ樹脂
東都化成株式会社の「YP−50」(JIS K7236に基づくエポキシ当量87600g/eq、GPCによる重量平均分子量60000〜80000、DSC法(10℃/min昇値)によるガラス転移点84℃)を用いた。
[Phenoxy resin]
(1) Bisphenol A type phenoxy resin “YP-50” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd. (epoxy equivalent of 87600 g / eq based on JIS K7236, weight average molecular weight of 60000-80000 by GPC, glass by DSC method (10 ° C./min increase) Transition point 84 ° C.).

(2)ビスフェノールS型フェノキシ樹脂
東都化成株式会社の「YPS−007A30」(GPCによる重量分子量35000〜45000、DSC法(10℃/min昇値)によるガラス転移点130℃)を用いた。
(2) Bisphenol S-type phenoxy resin “YPS-007A30” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd. (weight molecular weight 35000-45000 by GPC, glass transition point 130 ° C. by DSC method (10 ° C./min increase)) was used.

〔絶縁ワニスの調製及び絶縁電線の作製〕
(1)絶縁電線No.1〜7
ビスフェノールA型フェノキシ樹脂とビスフェノールS型フェノキシ樹脂とを、表1に示す割合でブレンドし、クレゾール/シクロヘキサノンに溶解させた。これに、硬化剤としてブロックイソシアネート(日本ポリウレタン工業社製のMS−50)を、フェノキシ樹脂100質量部あたり20質量部となるように添加して、固形分量30質量%の絶縁ワニスを調製した。
[Preparation of insulated varnish and production of insulated wire]
(1) Insulated wire No. 1-7
Bisphenol A type phenoxy resin and bisphenol S type phenoxy resin were blended in the proportions shown in Table 1 and dissolved in cresol / cyclohexanone. To this, blocked isocyanate (MS-50 manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) was added as a curing agent so as to be 20 parts by mass per 100 parts by mass of the phenoxy resin to prepare an insulating varnish having a solid content of 30% by mass.

調製した絶縁ワニスを、径1.0mmの銅線に塗布し、3μmのプライマー層(1層目)を形成した。
ついで、汎用エステルイミドワニス(日立化成製のエステルイミドワニスである「Isomid40SM45」)、汎用ポリアミドイミドワニス(日立化成工業製の「HI−406E−34」)、自己潤滑ポリアミドイミドワニス(住友電工ウインテック社製)を順次塗布し、2層目(25μm)、3層目(5μm)、4層目(2μm)からなる4層構造の膜厚35μmの絶縁被膜を形成した。
The prepared insulating varnish was applied to a copper wire having a diameter of 1.0 mm to form a 3 μm primer layer (first layer).
Next, general-purpose ester imide varnish (“Isomid40SM45”, an ester imide varnish manufactured by Hitachi Chemical), general-purpose polyamide-imide varnish (“HI-406E-34” manufactured by Hitachi Chemical), self-lubricating polyamide-imide varnish (Sumitomo Electric Wintech) Co., Ltd.) were sequentially applied to form an insulating film having a thickness of 35 μm having a four-layer structure composed of a second layer (25 μm), a third layer (5 μm), and a fourth layer (2 μm).

作製した絶縁電線について、上記評価方法に基づいて、可とう性、ヒートショック試験、耐摩耗性、密着性、耐軟化性を測定した。結果を表1に示す。   About the produced insulated wire, flexibility, a heat shock test, abrasion resistance, adhesion, and softening resistance were measured based on the said evaluation method. The results are shown in Table 1.

また、No.1、4、7で使用したプライマー層について、セイコーインスツルメンツ製のDynamic Mechanical Spectorscopy DMS6100(窒素雰囲気下、昇温速度:10℃/min、1Hz)を用いて、動的粘弾性を測定した。結果を図1に示す。図1において、横軸は温度(℃)であり、縦軸は動的弾性率(MPa)である。   No. About the primer layer used by 1, 4, and 7, the dynamic viscoelasticity was measured using Seiko Instruments Dynamic Mechanical Spectorscopy DMS6100 (Natural atmosphere, temperature rising rate: 10 degree-C / min, 1Hz). The results are shown in FIG. In FIG. 1, the horizontal axis is temperature (° C.), and the vertical axis is dynamic elastic modulus (MPa).

(2)絶縁電線No.8、9
参考例として、市販の高密着エステルイミドワニス(大日精化製の「EH402−45」)、汎用エステルイミドワニス(日立化成製の「Isomid40SM45」)を用いてプライマー層を形成した以外は、絶縁電線No.1と同様にして作製し、上記評価方法に基づいて、可とう性、ヒートショック試験、耐摩耗性、密着性、耐軟化性を測定した。結果を表1に示す。
(2) Insulated wire No. 8, 9
As a reference example, an insulated wire was used except that a primer layer was formed using a commercially available highly adhesive ester imide varnish (“EH402-45” manufactured by Dainichi Seika) and a general-purpose ester imide varnish (“Isomid 40SM45” manufactured by Hitachi Chemical). No. 1 and the flexibility, heat shock test, wear resistance, adhesion, and softening resistance were measured based on the above evaluation methods. The results are shown in Table 1.

Figure 2010108758
Figure 2010108758

塗膜形成樹脂として、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂のみを用いた場合(No.1)、可とう性、ヒートショック試験、耐摩耗性、常温及び高温処理後の密着性のすべてにおいて、従来より耐熱用途に用いられているポリエステルイミド樹脂ワニスを用いた場合(No.8、9)に匹敵あるいは優れた結果を示したが、JIS2倍荷重での耐軟化性で劣っていた。
ビスフェノールS型フェノキシ樹脂を、25〜60質量%ブレンドしたフェノキシ樹脂を用いることにより(No.2〜5)、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂のみの場合(No.1)の可とう性、ヒートショック試験、耐摩耗性、常温及び高温処理後の密着性に影響を及ぼすことなく、JIS2倍荷重下での耐軟化温度を向上できることがわかった。一方、ビスフェノールS型フェノキシ樹脂のみを用いた場合(No.7)、ビスフェノールS型フェノキシ樹脂の塗膜形成樹脂における含有率が75質量%の場合(No.6)では、JIS2倍荷重下での耐軟化性の向上が認められないばかりか、高温処理後の密着性についても、大幅な低下が認められた。ビスフェノールS型フェノキシ樹脂とビスフェノールA型フェノキシ樹脂を特定割合でブレンドした塗膜形成樹脂を用いることが有用であることがわかる。
When only a bisphenol A type phenoxy resin is used as the coating film forming resin (No. 1), all of the flexibility, heat shock test, wear resistance, adhesion at normal temperature and high temperature treatment, and heat resistance than before When the polyesterimide resin varnish used in No. 8 or 9 was used, the results were comparable or excellent, but the softening resistance at JIS double load was poor.
By using a phenoxy resin blended with 25 to 60% by mass of bisphenol S-type phenoxy resin (No. 2 to 5), flexibility in the case of only bisphenol A-type phenoxy resin (No. 1), heat shock test, It was found that the softening temperature under JIS double load can be improved without affecting the wear resistance, adhesion at normal temperature and after high temperature treatment. On the other hand, when only the bisphenol S-type phenoxy resin is used (No. 7), when the content of the bisphenol S-type phenoxy resin in the coating film-forming resin is 75% by mass (No. 6), In addition to the improvement in softening resistance, a significant decrease was observed in the adhesion after high-temperature treatment. It can be seen that it is useful to use a film-forming resin obtained by blending a bisphenol S-type phenoxy resin and a bisphenol A-type phenoxy resin at a specific ratio.

また、図1から、ビスフェノールA型とビスフェノールS型とのブレンドフェノキシ樹脂(No.4:三角印)では、No.1(菱形印)、No.7(四角印)と比べて、高温時の動的弾性率の低下が緩やかなことがわかる。ブレンドタイプの高温動的弾性率の低下が緩やかなことが、JIS2倍荷重での耐軟化性の向上に寄与していると推察される。   From FIG. 1, the blend phenoxy resin (No. 4: triangle mark) of bisphenol A type and bisphenol S type is No. 1 (diamond mark), No. 1 Compared to 7 (square mark), it can be seen that the decrease in dynamic elastic modulus at a high temperature is moderate. It is inferred that the gradual decrease in the high temperature dynamic modulus of the blend type contributes to the improvement of the softening resistance under JIS double load.

ポリエステルイミド樹脂ワニスの代替として、さらには、従来のポリエステルイミド樹脂ワニスでは不十分であった用途として、高温処理、ワニス含浸処理される巻線用絶縁電線として有用である。   As an alternative to a polyesterimide resin varnish, it is also useful as an insulated wire for winding that is subjected to high temperature treatment and varnish impregnation treatment as a use that has been insufficient with conventional polyesterimide resin varnishes.

No.1、4、7のプライマー層(1層目被膜)の動的粘弾性特性の測定結果を示すグラフである。No. It is a graph which shows the measurement result of the dynamic viscoelastic property of the primer layer (1st layer film) of 1, 4, and 7.

Claims (3)

ビスフェノールA型フェノキシ樹脂80〜30質量%及びビスフェノールS型フェノキシ樹脂20〜70質量%のフェノキシ樹脂100質量部、ならびにブロックイソシアネート5〜50質量部を含有するフェノキシ樹脂絶縁ワニス。 A phenoxy resin insulating varnish containing 100 to 30 parts by mass of phenoxy resin of 80 to 30% by mass of bisphenol A type phenoxy resin and 20 to 70% by mass of bisphenol S type phenoxy resin, and 5 to 50 parts by mass of blocked isocyanate. 前記ビスフェノールA型フェノキシ樹脂のガラス転移点は60〜90℃であり、前記ビスフェノールS型フェノキシ樹脂のガラス転移点は100〜150℃である請求項1に記載のフェノキシ樹脂絶縁ワニス。 2. The phenoxy resin insulating varnish according to claim 1, wherein the bisphenol A type phenoxy resin has a glass transition point of 60 to 90 ° C., and the bisphenol S type phenoxy resin has a glass transition point of 100 to 150 ° C. 3. 請求項1または2に記載のフェノキシ樹脂絶縁ワニスを、導体上に塗布、焼付けてなるプライマー層を有する絶縁電線。 The insulated wire which has a primer layer formed by apply | coating and baking the phenoxy resin insulation varnish of Claim 1 or 2 on a conductor.
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